JP2010103110A - 画像センサーを位置合わせする装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】撮像デバイス内において画像センサーを正確に位置合わせできる撮像デバイス及び位置合わせ方法を提供すること。
【解決手段】画像センサーを位置決合わせする撮像デバイス及び撮像デバイス内で画像センサーを位置決合わせする方法が開示される。撮像デバイスは、ハウジングと、ヘッダーを含む画像センサーアセンブリと、ヘッダーにマウントした画像センサーを含む。画像センサーアセンブリのヘッダーは、ハウジングに連結される。ヘッダーに対して画像センサーを位置合わせする手段を備えている。撮像デバイスのハウジングに対してヘッダーを位置合わせする手段も備えている。画像センサーと撮像デバイスのハウジングとの間の距離が予め決められるように、画像センサーアライメント手段とヘッダーアライメント手段との隔離距離が予め決められる。
【選択図】図1
【解決手段】画像センサーを位置決合わせする撮像デバイス及び撮像デバイス内で画像センサーを位置決合わせする方法が開示される。撮像デバイスは、ハウジングと、ヘッダーを含む画像センサーアセンブリと、ヘッダーにマウントした画像センサーを含む。画像センサーアセンブリのヘッダーは、ハウジングに連結される。ヘッダーに対して画像センサーを位置合わせする手段を備えている。撮像デバイスのハウジングに対してヘッダーを位置合わせする手段も備えている。画像センサーと撮像デバイスのハウジングとの間の距離が予め決められるように、画像センサーアライメント手段とヘッダーアライメント手段との隔離距離が予め決められる。
【選択図】図1
Description
画像増強デバイスは、暗い環境を、見る人が感知できる明るい環境に変換するための暗視装置に使用される。暗視装置は、工業的、商業的及び軍事的に応用される。画像増強デバイスは、暗い環境で、その環境に存在しているが人間の目では感知できない、赤外光スペクトルの低周波成分を含んだ微量の光を集める。デバイスは、人間の目が画像を感知できるようにその光を増幅する。画像増強デバイスからの出力光は、カメラ、外部モニター又は見る人の目に直接供給できる。
画像増強デバイスは、一般に、真空ハウジング内に備え付けた3つの基本的構成部品、即ち、光電陰極(一般的に陰極と呼ばれる)、マイクロチャネルプレート(MCP)及び陽極を含む。光電陰極は、光が当ると電子を放出できる感光性プレートである。MCPは、ガラスプレートの一端(入力)と他端(出力)との間に伸びるチャネルのアレイを備えた薄いガラスプレートである。MCPは、光電陰極と陽極の間に配置される。
MCPの外側表面は、イオン障壁膜で被覆できる。MCPの外側表面を薄い膜で被覆することにより、膜のないMCPと比較して、画像増強管の性能と耐用年数で相当の改善が得られる。膜のあるMCPを画像増強管に組み込むことで、新たな課題が発生した。それらの課題にかなう解決策は以下に説明される。
作動中に、光電陰極からの入射電子は、MCPの入力側に入り、チャネル壁に突き当たる。電圧がMCPを横切って印加されると、入射電子及び一次電子が増幅され、二次電子が生成される。二次電子はMCPの出力側のチャネルから出てゆく。MCPチャネルから出て行く二次電子は、負に帯電しており、したがって、正に帯電した陽極に引きつけられる。陽極は、蛍光スクリーン又は、シリコン撮像装置、例えば、相補型金属酸化物半導体(CMOS)又は電荷結合素子(CCD)とすることができる。
画像増強デバイスの3つの基本的構成部品は、真空ハウジング又は真空外囲器の中に配置される。真空は、MCPを通る光電陰極から陽極への電子の流れを促進する。非蒸発性のゲッターは、ガス分子を収集することにより真空状態を維持するために真空ハウジングの中に配置される。非蒸発性のゲッターデバイスは周知であるが、真空電子管から不要なガスを排出するために使われる。ゲッター材料の使用は、周知であって、遊離ガスを吸着、吸収及び吸蔵により収集する、ある固体の能力に基づいている。画像増強デバイスハウジング内で真空を促進し、維持することは、画像増強デバイスメーカーの目標である。その目標を考慮して、以下の説明される画像増強デバイスは、ゲッター材料を最大限利用し、ハウジング内の真空状態を維持するための封止構造を具体化する。
性能、信頼性、製造容易性、価格及び組み立て容易性のために、画像増強デバイスの構成要素と、画像増強デバイスの組み立て方法を更に発展させ、洗練させるための継続した要求がある。
以下の米国特許は、参照によりここに全てが組み込まれる。ウィラーらの5,493,111特許、スマヤらの6,586,877特許、ヴレエスカクらの6,040,657特許、ベンズらの6,747,258特許、イノウエの6,331,753特許、ウィマーらの4,039,877特許、オデスキらの5,510,673特許、イオスエらの6,483,231特許、トーマスの5,994,824特許、イノスエの6,847,027特許、トーマスの5,994,824特許である。以下の米国特許出願も参照によりここに全てが組み込まれる。コステロの11/193,065出願、トーマスの11/194,865出願、ヤマウチらの10/482,767出願、シモイらの10/973、336出願である。
本発明の1態様によれば、画像デバイスが開示される。画像デバイスは、ハウジングと、ヘッダーとヘッダーにマウントされた画像センサーとを含む画像センサーアセンブリとを包含する。画像センサーアセンブリのヘッダーはハウジングに連結される。ヘッダーに対して画像センサーを位置合わせする手段を備えている。画像デバイスのハウジングに対してヘッダーを位置合わせする手段も備えている。画像センサーと画像デバイスのハウジングとの間の距離が予め決められるように、画像センサーアライメント手段とヘッダーアライメント手段との分離距離が予め決められている。
本発明の他の態様によれば、画像センサーアセンブリは、ハウジングに連結されたヘッダーと、ヘッダー中に規定されたリセスのあるマウント表面内にマウントされた画像センサーを包含している。リセスはヘッダーの表面に形成される。その中で、ヘッダーがハウジング上に位置するように、ハウジングの突起部が、リセス内に位置合わせされる。画像センサーと撮像デバイスのハウジングの距離が予め決められるように、ヘッダーのリセスと、ヘッダーのリセスのあるマウント表面との距離が予め決められている。
本発明の他の態様によれば、撮像デバイスのハウジングに対して画像センサーを位置合わせする方法が開示されている。この方法は、ヘッダーのマウント表面上に画像センサーを位置合わせするステップを含む。画像センサーは、ヘッダーのマウント表面に規定されたか、または、位置合わせされた第1の位置合わせ要素に位置合わせされる。ヘッダーはハウジングの中に位置合わせされる。ヘッダーの第2の位置合わせ要素は、撮像デバイスのハウジングの表面に規定されたか、または、位置合わせされた位置合わせ要素に位置合わせされる。
本発明は、添付の図面と関係付けて読むと、以下の詳細な説明から良く理解される。図面は、説明のために選択された本発明の典型的な実施形態を示す。そのような図面は、限定するためというより、説明のためであり、本発明の説明を容易にするためにここに含まれる。本発明は、示した詳細な点に限定することを意図するものではない。本発明は、具体的な実施形態に関連してここに図示され、説明されるが、請求の範囲と均等物の範囲内、及び本発明から外れることなく、詳細な点で、様々な実施形態ができる。
図1は、本発明の典型的な1実施形態による画像増強管10(以後「管10」という)の側断面図を示す。管10は、裏面カバー13にマウントされた前面カバー11を含む真空ハウジング12を含む。ハウジング12内に、位置合わせされた光電陰極14と、マイクロチャネルプレート(MCP)16と、陽極20(画像センサー20ともいう)がある。
光電陰極14には、傾斜部分15Aと、真空ハウジング12の一端で導電支持リング22上に載っている平面部24を備えた、ファイスプレート15が備え付けられている。一般的にはクロムから成る金属化層25は、支持リング22を導電的に係合するために、平面部24上に堆積される。金属化層25は、光電陰極14とファイスプレート15とを導電的に係合するために、傾斜部分15Aに沿って連続的に延在する。支持リング22に対する、光電陰極ファイスプレート15の隣接部は、真空ハウジング12の一端に近接した封止を形成する。支持リング22は、光電陰極14のフェースプレート15の金属化層25に接触する。金属化層25は、光応答性の層26に連結している。そして、電気的なバイアスは、真空ハウジング12の外部の支持リング22に電気的なバイアスを印加することにより、真空環境内で光電陰極14の光応答性の層26に印加できる。
第1環状セラミックスペーサ28は、支持リング22の下に位置している。第1環状セラミックスペーサ28は、ろう付け工程の間に、第1環状セラミックスペーサ28と支持リング22とに連結される第1銅ろう付けリング(図示しない)により、支持リング22に連結される。ろう付け工程は、支持リング22と第1セラミックスペーサ28との間に空気不浸透性の封止を形成する。金属接続リング状の上部MCP端子32は、支持リング22と反対側で、第1セラミックスペーサ28に連結される。第2ろう付けリング(図示しない)は、上部MCP端子32と第1セラミックスペーサ28との間に置かれる。上部MCP端子32も、ろう付け工程で第1セラミックスペーサ28に連結される。上部MCP端子32は、金属スナップリング38との導電的に係合する真空ハウジング12まで伸びている。金属スナップリング38はMCP16の導電性上部表面42と係合する。金属スナップリング38とMCP16との間の係合は、図6を参照して、より詳細に説明されている。真空ハウジング12の外側の上部MCP端子32に電気的バイアスを印加することにより、電気的バイアスは、MCP16の導電性上部表面42に印加される。
第2セラミックスペーサ46は、上部MCP端子32の下に位置し、下部MCP端子48から上部MCP端子32を隔離している。第3ろう付けリング(図示しない)が、上部MCP端子32と第2セラミックスペーサ46との間に置かれ、第4ろう付けリング(図示しない)が、第2セラミックスペーサ46と下部MCP端子48との間に置かれて、第2セラミックスペーサ46は、上部MCP端子32と下部MCP端子48の双方にろう付けされる。下部MCPスペーサ48は、真空ハウジング12まで伸び、MCP16の下部導電性表面44と係合する。そして、MCP16の下部導電性表面44は、下部MCP端子48を真空ハウジング12の外部の接地電位に接続することにより、接地電位に接続できる。
第3セラミックスペーサ56は、ゲッター支持58から下部MCP端子48を隔離している。第3セラミックスペーサ56は、下部MCP端子48とゲッター支持58とにろう付けされる。そのようにして、第5ろう付けリング(図示しない)は、下部MCP端子48と第3セラミックスペーサ56との間に置かれる。同様にして、第6ろう付けリング(図示しない)は、第3セラミックスペーサ56とゲッター支持58との間に置かれる。外側封止部材64は、ゲッターシールド58の下に置かれる。外側封止部材64は、ゲッターシールド58にろう付けされる。そのようにして、第7ろう付けリング(図示しない)は、外側封止部材64の上に置かれる。
下部MCP端子48の部分69は、MCP16とセラミックヘッダー68との間に置く。陽極20は、CMOS撮像装置のダイ43の形状でヘッダー68の表面に埋め込まれる。CMOS撮像装置の作用は、当業者には理解されるであろう。陽極20は、蛍光スクリーンまたは、例えば、電荷結合素子(CCD)のようなシリコン撮像装置の他のタイプのものにできる。セラミックヘッダー68上へのCMOSダイのマウントは、図2A及び図2Bを参照してより詳細に説明される。下部MCP端子48の部分69は、CMOSダイ43の上部表面から、所定の正確な距離だけ、MCP16の下部導電性表面44を隔離する。
内側封止部材66は、セラミックヘッダー68のすぐ下に置かれる。内側封止部材66は、セラミックヘッダー68にろう付けされる。そうして、8つのろう付けリング(図示しない)は、セラミックヘッダー68と内側封止部材66との間に置かれる。真空ハウジング12の下端は、外側封止部材64と内側封止部材66があることにより、真空封止される。封止部材64と66はいずれも、封止カップ70に対して封止される。封止部材64、66と封止カップ70とのマウント封止は、図5を参照してより詳細に説明される。前述のろう付け接触面、埋め込み材料63と封止の組み合わせにより、真空ハウジング12で規定された気密外囲器が形成される。
複数の電気的なピン45は、CMOSダイ43から延びている電気的リード(図示しない)との導電的電気接続のために、セラミックヘッダー68のボディを貫通して位置する。入力電圧、接地電位及び/又は信号は、ピン45を通して分配される。裏面カバー13は、係合コネクタ(図示しない)が、CMOSダイ43に入力電圧を供給でき、及び/又はCMOSダイ43から信号を受け取るためのピン45に接続できるように、ピン45を収容するためのアパーチャー47を含む。
管10を組み立てる工程では、画像増幅管の組み立てにおける重要なステップは、管の真空封止の前に管の内部から有害な有機ガスを除去することである。有機ガスは、陽極及び/又は管の他の要素から生じる。管の真空封止に先立つ有機ガスの除去は、画像増強管の性能及び耐用年数を改善する。膜なしのMCPを備えた画像増強管にとって、有機ガスは、膜なしのMCPで規定された小さいチャネルを通して真空に引かれ、部分的に組み立てられた管の上端部を通して排気される。その後、光電陰極が埋め込まれ、管の上端部で真空封止される。
従来の画像増強管とは異なり、管10のMCP16の表面は、イオン障壁膜で被覆される。イオン障壁膜は、膜なしのMCPを組み込んだ従来の画像増強管と比較して、画像増強管10の性能と耐用年数を改善することに有効である。膜を備えたMCPは、様々な性能の利点を提供するが、膜を備えたMCPは、後記するように、画像増強装置の組み立てにおいて様々な課題を提起する。CMOSダイ(又は管の他の部材)から生ずる有機ガスは、MCPに用いられたイオン障壁膜のために、膜を備えたMCPでの通過を制限される。有機ガスは、MCPとCMOSダイの間の空間内に捕捉される。MCPとCMOSダイの間の空間内に捕捉された有機ガスは管の性能及び耐用年数を劣化させる可能性があるから、それらのガスは排気、即ち、除去することが望ましい。
図2は、図1の管の一部を組み立てた側断面図を示す。図2は、管10を組み立てる過程の特定の組み立てステップを図解したものである。図2に示される組み立てステップは、サブアセンブリ77を組み立てた直後で、サブアセンブリ77に光電陰極14及び環状封止カップ70を組み立てる前に現れる。
本発明の典型的な1実施形態によれば、管10は、図2に矢印で示すように、管10の下端を通して、CMOSダイ43(及び/又は管10の他の部材)から生じた有機ガスを除去するための設備を含んでいる。図2に示された組み立てプロセスにおいて、光電陰極14は、サブアセンブリ77の上端から分離され、環状封止カップ70は、サブアセンブリ77の下端から分離される。
MCP16の上に捕捉された有機ガスを排気するために、図2に矢印で示したように、真空源(図示しない)は、光電陰極14とサブアセンブリ77の上端との間に備わったギャップ「H」を通して真空に引く。光電陰極14は、管10の上端を封止するために、サブアセンブリ77の上端に、ろう付けされるか、又はそうでなければマウントされる。真空源(図示しない)は、環状封止カップ70とサブアセンブリ77の下端との間に備わったギャップ「G」を通して真空に引く。CMOSダイ43から生じた有機ガスは、ヘッダー68とMCPスペーサ48とで規定された通路80を通して排気される。その結果、MCP16とCMOSダイ43との間の空間内に捕捉された有機ガスを取り除くことができる。その後、環状封止カップ70は、管10の下端を封止するために、サブアセンブリ77の下端にマウントされる。ヘッダー68とMCPスペーサ48との間で規定された通路80を通しての有機ガスの除去は、(MCP16のような)膜を備えたMCPを備えた、(管10のような)画像増強管については、類のないものであるかもしれない。有機ガスが、膜なしのMCPで規定された微小チャネルを通して漏れることがありうるので、膜なしのMCPを利用した画像増強管は、シリコン撮像装置ヘッダーとMCPスペーサとの間で規定された通路を必ずしも必要としない。
図3Aは、図1の画像増強管の上平面図であって、その中で、光電陰極を省略し、マイクロチャネルプレート(MCP)の一部分はCMOS撮像装置が現れるように切り取られたものである。図3Bは、図3Aの画像増強管の3B−3B線に沿った部分側断面図である。図3Aと図3Bは、ヘッダー68とMCPスペーサ48との間で規定された通路80を図示している。通路80は、ヘッダー68とMCPスペーサ48との環状の共通部分において、ヘッダー68とMCPスペーサ48の一方又は両方により形成されるリセスにより規定される。
図3Aと図3Bに図示される典型的な実施形態によれば、MCPスペーサ48の下表面73は、ヘッダー68の表面75に面するように位置している。ろう付けリング(図示しない)は、MCPスペーサ48をヘッダー68にマウントできるように、MCPスペーサ48とヘッダー68との間に挟持される。通路80は、ヘッダー68に形成され、ヘッダー68の周辺に沿って配置された一連の階段状の表面82により規定されたリセスにより形成される。個々の階段状表面82は、ヘッダー68の上表面75から、ヘッダー68の下表面84まで伸びている。図4Bに最も良く示されるように、ヘッダー68は、ヘッダー68の周辺に沿って相隔たっている、8つの階段状表面82を含む。個々の階段状表面82の段の大きさ、形状及び数は、ここに図示し、説明したものから変更できる。
ゲッター材料は、ヘッダー68の階段状表面82上に蒸着される。背景技術の項で説明したように、ゲッター材料は、管10の動作中と組み立て中に発生した有害な有機ガスを吸収する。管10内でのゲッター材料の量を最大化することは、管10のハウジング12内を真空状態に維持するために有益である。交互に直交する表面は、ゲッター材料の蒸着に利用可能な表面を最大化できるから、階段は、他の幾何学的な形状よりも望ましい。したがって、一連の階段状表面82は、ゲッター材料を蒸着できる通路80の表面領域を最大化するために望ましい。
図示しないが、他の代替的な実施形態において、通路80は、スペーサ48に形成された一連の階段状表面で規定されるリセスにより形成される。さらに、他の代替的な実施形態において、ヘッダー68とスペーサ48との間に通路80を形成するために、階段は、ヘッダー68とスペーサ48の両者により形成される。さらに、階段の形状を交互に直交する表面が望ましいとは言え、表面82は、図示のものから変更することもできる。本発明の1態様によれば、表面82は、ヘッダー68のマウント表面75に対して所定の任意の角度で広がるようにもできる。
本発明の1態様によれば、管10のような、画像増強デバイスを製造する方法が、提供される。製造する方法は、陽極アセンブリのヘッダー68の上にCMOSのダイ43のような、画像センサーをマウントするステップを含む。通路80がMCPスペーサ48とヘッダー68の間の接合部分で規定されるように、MCPスペーサ48の表面73は、陽極アセンブリのヘッダー68の表面75に位置合わせする。スペーサ48が膜を備えたMCP16とCMOSダイ43との間に位置合わせされ、空間「S」が膜を備えたMCP16とCMOSダイ43との間で規定されるように、膜を備えたMCP16は、MCPスペーサ48の上表面に位置合わせされる。スペーサ48とヘッダー68の間の接合部分で規定された通路80を通して、膜を備えたMCP16とCMOSダイ43との間の空間「S」から有機ガスを吸い出すように、真空を働かせる。ゲッター材料は、有機ガスを吸収するように通路80の表面に蒸着される。
図4Aと図4Bは、それぞれ、図1の、CMOSヘッダー68、MCPスペーサ48と、内側封止部材66を備えた、画像増強管10のサブアセンブリの透視図及び上平面図を示す。これらの要素の更なる詳細は、以下に説明する。MCPスペーサ48の下側表面73(図3B参照)は、ヘッダー68の表面75に面するように位置合わせされる。ろう付けリング(図示しない)は、MCPスペーサ48とヘッダー68とがお互いに密封するように、MCPスペーサ48とヘッダー68との間に挟まれる。他のろう付けリング(図示しない)は、CMOSヘッダー68と内側封止部材66とがお互いに密封するように、CMOSヘッダー68と内側封止部材66との間に挟持される。
前述したように、CMOSダイ43(図1〜図3B参照)は、ヘッダー68の表面にマウントされる。ヘッダー68は、CMOSダイ43の方形ボディが収容できるように、方形のリセスのある表面90を備えている。当業者は、CMOSダイ43とリセスのある面90の形状は図示された形状から変更できることが分かるであろう。CMOSダイ43は、リセスのある表面90の中に、例えばエポキシのような接着剤によりマウントすることができる。一連のチャネル94は、CMOSダイ43の下面に供給された過剰の接着剤を収集できるように、リセスのある表面90の隅部に備えられる。MCPスペーサ48は、それぞれのチャネル94に対応するリセス95を含む。チャネル94がリセスのある表面90より深くなるように、それぞれのチャネル94が、リセスのある表面90の高さより低い高さまで伸びている。言い換えると、表面75とチャネル94との分離された距離は、表面75とリセスのある表面90との分離された距離よりも大きい。組み立てにおいて、CMOSダイ43の底面側に供給された過剰な接着剤は、チャネル94へ集められる。
一連の表面マウントパッド98は、CMOSダイ43(図示しない)から伸びるリードに接続するために、ヘッダーの表面75に備えられる。個々の表面マウントパッド98は、ヘッダー68のボディを経由する内部配線(図示しない)により、シリコン撮像装置アセンブリのピン45(図示しない)に接続される。
ここで、図1、図4A、図4Bを参照すると、MCPのような画像増強管の他の構成要素、例えば、光電陰極又は管ハウジング、に対するシリコン撮像装置のアライメントは、管の適切な機能を保証するために望ましい。シリコン撮像装置のアライメントは、しばしば、面倒で時間を要する工程である。標準的な画像増強管アセンブリ手順において、シリコン撮像装置は、セラミックヘッダーの表面にマウントされる。管の他の構成要素、例えば、MCP、光電陰極又は管ハウジングは、シリコン撮像装置に対して位置合わせされなければならない。画像増強管の適正な機能を保証するためにシリコン撮像装置の位置に関して、管の他の構成要素を部分的に位置合わせするためのアセンブリ要員により特別な注意が払われなければならない。迅速かつ正確なアセンブリを円滑にするために、画像増強デバイスにアライメント機能を組み込むことが望ましいであろう。
シリコン撮像装置20と、管10の他の構成要素、例えば、ハウジング10、MCP16、光電陰極14との間での迅速かつ正確な空間的アライメントを円滑にするために、管10は、特有のアライメント機能を内蔵している。より具体的には、本発明の1態様に従い、図1によく示されたように、管10は、ヘッダー68に対して、画像センサー20を位置合わせするための手段100を含んでいる。この典型的な実施の形態によれば、画像センサー20がリセスのある表面90の中に少なくとも部分的に保持されるように、画像センサーアライメント手段100は、画像センサー20の縁部を収容できる大きさのヘッダー68のリセスのある表面90の形状の中に備えられる。画像センサー20の境界線とリセスのある表面90との間の極小のギャップは、比較的厳しい許容度に維持されるので、ヘッダー68の位置に対する、画像センサー20の位置は極めて正確に知られている。このように、ヘッダー68に対する画像センサー20の位置は、予め決まっており、即ち、知られている。画像センサー20は、リセスのある表面90内における水平移動と回転について制限されることを理解すべきである。
更に、図1を参照して、管10は、管10のハウジング12に対してヘッダー68を位置合わせするための手段102を更に含む。この典型的な実施形態によれば、ヘッダーアライメント手段102は、ハウジング12の裏面カバー13から伸びる突起部51を収容できる大きさで、ヘッダー68の表面に形成されたリセス49の形状の中に備えられる。突起部51は、例えば、平面、ピン又は留め具、その他当業者に周知のアライメント機構の形状として備えられる。ハウジング12の位置に対してヘッダー68の位置は極めて正確に知られているように、突起部51とリセス49の境界の間の極小のギャップは、比較的厳しい許容度に維持される。このようにして、ハウジング12に対してヘッダー68の位置は、予め決まっており、即ち、知られている。ヘッダー68のリセス49とハウジング12の突起部51の間の係合は、ハウジング12に対するヘッダー68の水平移動と回転を制限すると理解されるべきである。
リセスのある表面90とリセス49との間の水平距離は予め決まっているので、シリコン撮像装置20とハウジング12の間の水平距離も予め決まっているということになる。したがって、手段100と手段102を管10の設計に組み込むことにより、管10を組み立てる複雑さは大幅に減少する。ハウジング12に対するシリコン撮像装置20の水平方向の位置は予め決まるので、結果として、MCP16と光電陰極14のような、管10の他の構成要素に対してシリコン撮像装置20の迅速で正確な位置合わせができる。
MCP16と光電陰極14は、ハウジング12に間接的又は直接的のいずれかでマウントされる。ハウジング12に対するMCP16と光電陰極14との位置合わせも、予め決めることができる。したがって、ハウジング12に対する画像センサー20の水平方向の位置は予め決まり、ハウジング12に対するMCP16と光電陰極14の水平方向の位置は予め決まるので、画像センサー20に対するMCP16と光電陰極14の相対的な水平方向の位置は、予め決まる。
図4Aに最もよく示されているように、リセス49とリセスのある表面90はいずれも、ヘッダー68の表面75から伸びている。ヘッダー68と同一平面上にリセス49とリセスのある表面90の両者を形成することにより、リセス49とリセスのある表面90との相対的な水平方向の位置は、ヘッダー68の異なる表面上にリセス49とリセスのある表面90を形成するよりも、より一層正確に維持することができるが、結果として許容度は低くなる。その代わり、図1に示されるように、リセス49とリセスのある表面90とは、ヘッダー68の対向する平面で決めることができる。
画像センサーアライメント手段100は、本発明の範囲と精神から逸脱することなく、ここに示し、説明したものから変更することができる。制限するためでない実施例として、画像センサーアライメント手段100は、画像センサー20の表面が位置合わせされる、ヘッダー68に形成された突起部を含むことができる。更に、ヘッダーアライメント手段102は、本発明の範囲と精神から逸脱することなく、ここに示し、説明したものから変更することができる。制限するためでない実施例として、ヘッダーアライメント手段102は、ハウジング12に形成されたリセス内に位置合わせされる大きさのヘッダー68から伸びる突起を含むことができる。
アライメント手段100と102は、長波又は短波の赤外センサーデバイスのようなセンサーを内蔵する、いかなる電子デバイスに組み込むこともできるので、アライメント手段100と102は、画像増強デバイスに組み込まれることに限定されない。さらに、センサーは、相補型金属酸化物半導体(CMOS)、電荷転送素子(CCD)又は、当業者に知られた他のいかなる種類のセンサーのような画像センサーとすることができる。
本発明の1態様によれば、管10のハウジング12に対する画像センサー20の位置合わせ方法が提供される。その方法は、ヘッダー68のリセスのある表面90上に画像センサー20を位置合わせするステップを含む。ヘッダー68は、ハウジング12内に位置合わせされる。ヘッダー68のリセス49のような、第2のアライメント要素は、ハウジング12の表面で規定されるか、又は、位置合わせされる突起部51のような、アライメント要素に位置合わせされる。先行するステップは、特定の順序では、実行されない。
更に、図1を参照すると、CMOSダイ43の上部表面からMCP16の下部導電性表面44までの垂直分離距離は、厳しい許容度に、即ち、(+/−)2.54×10-2mm(0.001インチ)、に保持される。そのような厳しい許容度を達成するために、管10の組み立ては、以下の順序で実行される。スペーサ48がヘッダー68にろう付けされる(又はマウントされる);スペーサ48の上部表面の空間位置が決定される;リセスのある表面90が、スペーサ48の上部表面の位置に関してヘッダー68内に形成される。各ステップをこの順序で実行することにより、リセスのある表面90からスペーサ48の上部表面までの垂直分離距離は、厳しい許容度で維持できる。したがって、CMOSダイ43の上部表面からMCP16の下部導電性表面44までの垂直分離距離もまた厳しい許容度に維持できる。
図5は、図1の管10の環状封止部材64と66の詳細図を示す。真空ハウジング12の下端は、外側封止部材64と内側封止部材66により真空封止される。内側封止部材66は、ろう付けリング(図示しない)によりセラミックヘッダー68の下部表面にろう付けされ、そこから下方に伸びる。外側封止部材64は、ろう付けリング110によりゲッターシールド58にろう付けされ、そこから下方に伸びる。外側封止部材64は、ギャップ「E」が封止部材64と66の間で規定されるように、内側封止部材66に近接し、実質的に平行となるように伸びて位置合わせされる。
外側封止部材64と内側封止部材66は、ハウジング12内の真空状態を維持するように、環状封止カップ70と接触して封止する位置に合わせられる。封止部材64と66は、例えば、コバール(Kovar:登録商標)又は、当業者に知られた他の適切な材料から形成される。第1の封止74は、外側封止部材64と封止カップ70の間の接触面で生ずる。第1の封止74は、外側封止部材64と、封止カップ70の外側面112及び/又は中間表面114との間で生ずる。第2の封止76は、内側封止部材66と封止カップ70の間の接触面で生ずる。第2の封止76は、内側封止部材66と、封止カップ70の内側面116及び/又は中間表面114との間に生ずる。外側封止部材64と内側封止部材66との組み合わせは、それぞれの封止部材64と66が、短剣(dagger)のような形状を包含するので、二重短剣(double−dagger)封止部材と呼ぶことができる。
注入材料63は、ハウジング12と管10の内部要素との間で規定された環状空間内に位置している。ハウジング12の前面カバー11と裏面カバー13は、注入材料63を実質的に封止できるように位置合わせされる。溝118は、注入材料63が内部に位置する、外側封止部材64の外側回転表面に沿って形成される。溝118は、管10の性能を最適化するために光電陰極14の内部の間隔の設定を助ける。注入材料63、封止74、封止76と、図1に関して説明されたろう付け接触面の組み合わせは、真空ハウジング12により規定された気密の容器を形成する。
図5に示された構成要素の配置は、ここに図示され、説明されたものに限定されない。封止部材74と76は、管10のいかなる構成要素からでも延長できる。例えば、外側封止部材64は、光電陰極14から間接又は直接に延長できる。更に、封止部材74及び76は、互いに異なる高さに延長できるし、異なる角度に位置合わせすることもできる。封止部材74と76の全体の形状は、直線又は環状(図示のとおり)でもよく、管10の形状に適合する他の形状としてもよい。
図6は、図1のMCP16の詳細図を示す。金属接触リングの形状をした、上部MCP端子32は、ろう付けリングにより第1セラミックスペーサ28に連結される。上部MCP端子32は、真空ハウジング12まで伸び、金属スナップリング38と導電的に係合する。金属スナップリング38は、MCP16の導電性上部表面42に係合する。真空ハウジング12の外側の上部MCP端子32に電気バイアスを印加することにより、電気バイアスは、MCP16の上部導電性表面に印加できる。
スペーサ46は、上部MCP端子32を下部MCP端子48から隔離するため、上部MCP端子32より低い高さに位置している。スペーサ46は、例えばセラミックのような絶縁材料から形成できる。スペーサ46は、上部MCP端子32と下部MCP端子48の両方にろう付けされる。下部MCP端子48は、真空ハウジング12まで伸びており、MCP16の下部導電性表面に係合される。MCP16の下部導電性表面44は、真空ハウジング12の外部の接地電位に下部MCP端子48を接続することにより、接地電位に接続できる。明確には図示されていないが、下部MCP端子48は、MCP16の下部導電性表面44を接地電位に接続するための導電領域を含む。下部MCP端子48もまた、以下MCPスペーサということがある。
スペーサ46は、下部MCP端子48の上部表面に面するように位置合わせされた底部表面117を含む。スペーサ46の上部表面119は、上部MCP端子32の底部表面に面するように位置合わせされている。スペーサ46の傾斜した表面120は、スペーサ46の上部表面119に対して所定の角度で、スペーサ46の上部表面119と底部表面117の間まで、少なくとも一部は伸びている。表面120の角度は、スペーサ46の構造の完全性に影響を及ぼす。上部表面119に対する表面120の角度は、例えば、約30度から約60度の間にできる。その代わりに、表面119に対する表面120の角度は、約45度にできる。
傾斜した表面120は、スペーサ46の上部表面119から伸び、スペーサ46の上部表面119と底部表面117の間の高さで規定される、中間の表面122に交わる。スペーサ46の中間の表面122、上部表面119と底部表面117は、実質的に平面で、相互に平行である。スペーサ46の中間の表面122と底部表面117の間で計測されるスペーサ46の厚さは、図6に最も良く示されるように、MCP16の厚さと実質的に等しい。つまり、MCP16の中間の表面122と上部導電性表面42は、実質的に同じ高さに位置している。MCP16の中間の表面122と上部導電性表面42を同じ高さに維持することにより、金属スナップリング38の下部表面は、単一平面に沿う、MCP16とスペーサ46の両方の上部表面を係合する位置に合わせる。
本明細書では、本発明を実施するベストモードを示し、請求項に記載した構成要素の実例を示すことにより、当業者が本発明を利用できるように、本発明を説明している。本発明の特許性のある範囲は、請求項により規定され、当業者が思いつく他の例も含みうる。
本発明の典型的な実施形態は、本明細書に示され、説明されたが、単なる例を示すための実施形態であることが理解されるであろう。様々な変形、変更及び置き換えを、本発明の精神から逸脱することなく、当業者は、思いつくであろう。例えば、本発明の態様は、画像増強デバイスに限定されず、これらの態様は、他の光学デバイス又は電子デバイスにも適用できる。したがって、添付の請求項は、本発明の精神と範囲に含まれるような全ての変形に及ぶ。
Claims (20)
- 撮像デバイスであって、
ハウジングと、
ヘッダーと前記ヘッダーにマウントされた画像センサーを含む画像センサーアセンブリであって、前記ヘッダーが前記ハウジングに連結された、画像センサーアセンブリと、
前記ヘッダーに対して前記画像センサーを位置合わせする手段と、
前記撮像デバイスの前記ハウジングに対して前記ヘッダーを位置合わせする手段と、
を有し、
前記画像センサーと前記撮像デバイスの前記ハウジングとの間の距離が予め決められるように、前記画像センサーアライメント手段と前記ヘッダーアライメント手段との隔離距離が予め決められている、
撮像デバイス。 - 前記画像センサーが少なくとも部分的にリセス内に保持されるように、前記画像センサーアライメント手段が、前記画像センサーのボディを収容するための前記ヘッダーに形成された前記リセスのある表面を含む、請求項1に記載の撮像デバイス。
- 前記画像センサーアライメント手段が、前記画像センサーの表面が位置合わせされる、前記ヘッダーの前記マウント表面に形成された突起部を含む、請求項1に記載の撮像デバイス。
- 前記突起部が、表面、ピン及び、留め具の群の中から選択されたものである、請求項3に記載の撮像デバイス。
- 前記ヘッダーアライメント手段が、前記ハウジングに形成された突起部を収容するような大きさの前記ヘッダー内に規定されるリセスを含む、請求項1に記載の撮像デバイス。
- 前記突起部は、表面、ピン及び、留め具の群の中から選択されたものである、請求項5に記載の撮像デバイス。
- 前記ヘッダーアライメント手段が、前記ハウジングに形成されたリセスの中に位置するような大きさの前記ヘッダーに形成された突起部を含む、請求項1に記載の撮像デバイス。
- 前記突起部は、表面、ピン及び、留め具の群の中から選択されたものである、請求項7に記載の撮像デバイス。
- 前記画像センサーが少なくとも部分的にはリセス内に保持されるように、前記画像センサーアライメント手段が、前記画像センサーのボディを収容するための前記ヘッダーに形成された前記リセスのある表面を含み、そして、
前記ヘッダーアライメント手段が、前記ハウジングに形成された突起部を収容するような大きさの前記ヘッダー内に規定されるリセスを含む、請求項1に記載の撮像デバイス。 - 前記画像センサーが、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)又は電荷結合素子(CCD)のいずれかである、請求項1に記載の撮像デバイス。
- 前記撮像デバイスが、画像増強デバイスである、請求項1に記載の撮像デバイス。
- 撮像デバイスであって、
ハウジングと、
前記ハウジングに連結したヘッダーと、前記ヘッダーのリセスのあるマウント表面内にマウントされた画像センサーを含む画像センサーアセンブリと、
前記ヘッダーの表面に形成されたリセスであって、前記ヘッダーが前記ハウジングに位置合わせされるように、前記リセス内に前記ハウジングの突起部が位置合わせされる、リセスとを有し、
前記画像センサーと前記撮像デバイスの前記ハウジングの間の距離が予め決められるように、前記ヘッダーの前記リセスと前記ヘッダーの前記リセスのあるマウント表面との間の距離が予め決められる、
撮像デバイス。 - 前記ヘッダーの前記リセスと前記ヘッダーの前記リセスのあるマウント表面は、前記ヘッダーの異なる表面で規定される、請求項12に記載の撮像デバイス。
- 前記ヘッダーの前記リセスと前記ヘッダーの前記リセスのあるマウント表面は、前記ヘッダーの同一の表面で規定される、請求項13に記載の撮像デバイス。
- 前記画像センサーが、相補型金属酸化膜半導体(CMOS)又は電荷結合素子(CCD)のいずれかである、請求項12に記載の撮像デバイス。
- 前記撮像デバイスが、画像増強デバイスである、請求項12に記載の撮像デバイス。
- 前記ハウジングに直接又は間接にマウントされたマイクロチャネルプレート(MCP)であって、前記画像センサーの位置に対して前記マイクロチャネルプレートの位置が予め決められている、マイクロチャネルプレートを、
さらに有する請求項16に記載の撮像デバイス。 - 前記MCPと前記ヘッダーの間に挟持されたMCPスペーサであって、前記MCPスペーサは前記MCPがマウントされたMCPマウント表面を含むとともに、前記ヘッダーの前記リセスのあるマウント表面が前記MCPスペーサの前記MCPマウント表面から隔離される垂直距離が予め決められている、MCPスペーサを、
更に有する請求項17に記載の撮像デバイス。 - 前記ハウジングに直接的または間接的にマウントされた光電陰極であって、前記画像センサーの前記位置に対して前記光電陰極の位置が予め決められている、光電陰極を、
更に有する請求項16に記載の撮像デバイス。 - 撮像デバイスのハウジングに対して画像センサーを位置合わせする方法であって、
ヘッダーのマウント表面上に画像センサーを位置合わせするステップと、
前記ヘッダーの前記マウント表面で規定されるか、又は位置決めされる第1のアライメント要素に、前記画像センサーを位置決めするステップと、
前記ハウジング内で前記ヘッダーを位置決めするステップと、
前記撮像デバイスの前記ハウジングの表面で規定されるか又は位置決めされるアライメント要素に、前記ヘッダーの第2のアライメント要素を位置決めするステップと、
を有する位置合わせする方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/259,008 US7880127B2 (en) | 2008-10-27 | 2008-10-27 | Apparatus and method for aligning an image sensor including a header alignment means |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010103110A true JP2010103110A (ja) | 2010-05-06 |
Family
ID=41478972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009241287A Withdrawn JP2010103110A (ja) | 2008-10-27 | 2009-10-20 | 画像センサーを位置合わせする装置及び方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7880127B2 (ja) |
EP (1) | EP2187424A3 (ja) |
JP (1) | JP2010103110A (ja) |
CN (1) | CN101728199A (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5324890B2 (ja) * | 2008-11-11 | 2013-10-23 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | カメラモジュールおよびその製造方法 |
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US7973272B2 (en) | 2009-03-09 | 2011-07-05 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration, Inc. | Interface techniques for coupling a microchannel plate to a readout circuit |
US10197501B2 (en) * | 2011-12-12 | 2019-02-05 | Kla-Tencor Corporation | Electron-bombarded charge-coupled device and inspection systems using EBCCD detectors |
US9496425B2 (en) | 2012-04-10 | 2016-11-15 | Kla-Tencor Corporation | Back-illuminated sensor with boron layer |
US9601299B2 (en) | 2012-08-03 | 2017-03-21 | Kla-Tencor Corporation | Photocathode including silicon substrate with boron layer |
US9426400B2 (en) | 2012-12-10 | 2016-08-23 | Kla-Tencor Corporation | Method and apparatus for high speed acquisition of moving images using pulsed illumination |
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US10748730B2 (en) | 2015-05-21 | 2020-08-18 | Kla-Tencor Corporation | Photocathode including field emitter array on a silicon substrate with boron layer |
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US10943760B2 (en) | 2018-10-12 | 2021-03-09 | Kla Corporation | Electron gun and electron microscope |
US11114491B2 (en) | 2018-12-12 | 2021-09-07 | Kla Corporation | Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor |
US11848350B2 (en) | 2020-04-08 | 2023-12-19 | Kla Corporation | Back-illuminated sensor and a method of manufacturing a sensor using a silicon on insulator wafer |
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-
2008
- 2008-10-27 US US12/259,008 patent/US7880127B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-10-20 JP JP2009241287A patent/JP2010103110A/ja not_active Withdrawn
- 2009-10-26 EP EP09174008A patent/EP2187424A3/en not_active Withdrawn
- 2009-10-27 CN CN200910209114A patent/CN101728199A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100102213A1 (en) | 2010-04-29 |
EP2187424A3 (en) | 2010-09-01 |
EP2187424A2 (en) | 2010-05-19 |
US7880127B2 (en) | 2011-02-01 |
CN101728199A (zh) | 2010-06-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20130108 |