JP2010099882A - Embossing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、エンボス加工装置に関する。 The present invention relates to an embossing apparatus.
従来、紙、金属薄板、プラスチックフィルム等の被加工材料に立体形状を形成するエンボス加工装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
この特許文献1に記載のエンボス加工装置は、基材ロールの外周表面にエンボスパターンが形成されたエンボスロールと、エンボスロールと対向して配置される受けロールとを有している。被加工材料が、エンボスロールと受けロールとに押圧されることで、エンボスパターンが被加工材料に転写される。
2. Description of the Related Art Conventionally, an embossing apparatus that forms a three-dimensional shape on a work material such as paper, a metal thin plate, or a plastic film is known (see, for example, Patent Document 1).
The embossing apparatus described in
ところで、エンボスロールには、被加工材料のサイズに応じて、径の大きいものや、小さいものがあり、被加工材料のサイズが大きくなるに伴って、円柱状のエンボスロールは径方向に大きくなる。そのため、径の大きくなったエンボスロールは、エンボス加工装置において隣接して配置される部材と干渉しやすくなり、エンボス加工装置を改造する必要がある。すなわち、エンボス加工装置が大型化するとともに、コストがかかるという問題がある。 By the way, there are embossing rolls having a large diameter or a small diameter depending on the size of the material to be processed. As the size of the material to be processed increases, the cylindrical embossing roll increases in the radial direction. . Therefore, the embossing roll having a larger diameter is likely to interfere with a member disposed adjacent to the embossing apparatus, and the embossing apparatus needs to be modified. That is, there is a problem that the embossing apparatus is increased in size and cost.
本発明の目的は、大型化することなく、低コストでエンボス加工できるエンボス加工装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an embossing apparatus capable of embossing at a low cost without increasing the size.
本発明のエンボス加工装置は、被加工材料をエンボス加工するエンボス加工装置であって、エンボスパターンが形成されて、前記被加工材料に前記エンボスパターンを転写する転写シートと、前記転写シートが巻回された一対の回転ロールと、前記一対の回転ロールの一方の第1回転ロールに対向して配置される支持部材とを備え、前記転写シートは、前記一対の回転ロールの外周を周回運動し、前記支持部材に支持された前記被加工材料に前記エンボスパターンを転写することを特徴とする。 The embossing apparatus of the present invention is an embossing apparatus for embossing a workpiece material, wherein the embossing pattern is formed, the transfer sheet for transferring the embossing pattern to the workpiece material, and the transfer sheet being wound. A pair of rotating rolls and a support member arranged to face one first rotating roll of the pair of rotating rolls, and the transfer sheet orbits around the outer periphery of the pair of rotating rolls, The emboss pattern is transferred to the work material supported by the support member.
本発明によれば、エンボスパターンが形成された転写シートが一対の回転ロールに巻回され、転写シートは、一対の回転ロールの外周を周回運動し、支持部材に支持された被加工材料にエンボスパターンを転写する。このことにより、従来の径方向に大きくなったエンボスロールを用いることなく、所定方向のみのサイズを大きくした一対の回転ロールを用いることで、この一対の回転ロールをエンボス加工装置の隙間に配設することができる。すなわち、エンボス加工装置を改造する必要がないため、大型化することなく、低コストで被加工材料にエンボス加工できる。 According to the present invention, a transfer sheet on which an emboss pattern is formed is wound around a pair of rotating rolls, and the transfer sheet orbits around the outer periphery of the pair of rotating rolls to emboss the work material supported by the support member. Transfer the pattern. As a result, a pair of rotating rolls whose size is increased only in a predetermined direction can be used in the gap of the embossing device without using a conventional embossing roll enlarged in the radial direction. can do. That is, since it is not necessary to modify the embossing apparatus, the material to be processed can be embossed at a low cost without increasing the size.
例えば、被加工材料としてスクリーンが採用され、このスクリーンにフレネル形状をエンボス加工する場合には、スクリーンの長辺または短辺寸法と同一の円周寸法を有するエンボスロールが必要となる。近年のスクリーンサイズの大型化に伴ってエンボスロールの円周寸法も大型化するが、この大口径のエンボスロールの代わりに前述した一対の回転ロールに、スクリーンの長辺または短辺寸法と同一の円周寸法を有する転写シートを巻回すれば、大きな径を有するエンボスロールを用いる必要がない。すなわち、当該エンボスロールよりも径の小さい回転ロールを使用するので、従来よりも大型化することなく、低コストで大型のスクリーンにエンボス加工することができる。 For example, when a screen is employed as the material to be processed and the Fresnel shape is embossed on the screen, an embossing roll having the same circumferential dimension as the long or short side dimension of the screen is required. As the screen size increases in recent years, the circumferential dimension of the embossing roll also increases, but instead of this large-diameter embossing roll, the pair of rotating rolls described above have the same size as the long or short side of the screen. If a transfer sheet having a circumferential dimension is wound, it is not necessary to use an embossing roll having a large diameter. That is, since a rotating roll having a smaller diameter than that of the embossing roll is used, it is possible to emboss a large screen at a low cost without increasing the size of the rotating roll.
本発明では、前記一対の回転ロールの他方の第2回転ロールを前記第1回転ロールに対して近接離間させる駆動機構を備えることが好ましい。
本発明によれば、第2回転ロールは、第1回転ロールに対して近接離間するので、被加工材料の大きさに応じた転写シートを一対の回転ロールに巻回して、第2回転ロールを第1回転ロールに近接離間させればよい。従って、被加工材料の大きさを変更する場合に、当該被加工材料の大きさに応じた転写シートを一対の回転ロールに巻回して、第2回転ロールを第1回転ロールに近接離間させるのみの容易な作業で被加工材料をエンボス加工することができる。
In this invention, it is preferable to provide the drive mechanism which adjoins and separates the other 2nd rotation roll of a pair of said rotation roll with respect to the said 1st rotation roll.
According to the present invention, since the second rotating roll is close to and separated from the first rotating roll, the transfer sheet corresponding to the size of the material to be processed is wound around the pair of rotating rolls, and the second rotating roll is What is necessary is just to make it adjoin and space apart to a 1st rotation roll. Therefore, when changing the size of the material to be processed, the transfer sheet corresponding to the size of the material to be processed is wound around a pair of rotating rolls, and the second rotating roll is only moved close to and away from the first rotating roll. The work material can be embossed with an easy operation.
以下、本発明に係る一実施形態を図面に基づいて説明する。
[エンボス加工装置の構成]
図1は、本実施形態に係るエンボス加工装置1を示す概略図であり、具体的には、図1(A)、(B)は、後述する駆動機構としての第2油圧シリンダ37を駆動させた場合をそれぞれ示す概略図である。図2は、エンボス加工装置1の要部を示す概略図、図3は、本実施形態に係るエンボス加工装置1にて加工される被加工材料としてのスクリーン10を示す平面図である。
エンボス加工装置1は、ポリ塩化ビニル製のスクリーン10に対して、エンボス加工によりスクリーン10の表面に凹凸を形成するものである。このエンボス加工装置1は、図1に示すように、搬送装置2と、転写装置3とを備える。
本実施形態で加工されるスクリーン10には、図3に示すように、円弧状に凹凸が形成される。このスクリーン10は、画像光を斜め下方から近接投射するプロジェクタ(図示略)に用いられる反射型スクリーンである。
Hereinafter, an embodiment according to the present invention will be described with reference to the drawings.
[Configuration of embossing equipment]
FIG. 1 is a schematic view showing an
The
As shown in FIG. 3, the
搬送装置2は、図1に示すように、送り出しロール21と、ヒータ22と、加熱ロール23と、支持部材としての支持ロール24と、複数のガイドロール25と、巻き取りロール26とを備え、スクリーン10を送り出しロール21から巻き取りロール26に送るものである。各ロール21,23〜26は、軸方向に沿って回転軸27を備える。送り出しロール21及び巻き取りロール26の回転軸27は、モータ(図示略)で駆動される。
As shown in FIG. 1, the
送り出しロール21は、スクリーン10(二点鎖線で図示)を予め巻回しておくものである。送り出しロール21の回転軸27は、モータによって、時計回りに回転駆動される。
ヒータ22は、加熱ロール23の外周表面に対向した位置に配置されて、送り出しロール21から供給されたスクリーン10を約200℃で加熱する。
加熱ロール23は、ヒータ22にて加熱されたスクリーン10を支持ロール24に向けて送り出す。スクリーン10は、加熱されることで、転写装置3にてエンボスパターンが良好に転写される。なお、加熱ロール23には、熱伝導性の高い材質が用いられることが好ましい。
The
The
The
支持ロール24は、回転軸27により、エンボス加工装置1に固定して配置され、エンボス加工中は、転写装置3に当接している。また、エンボス加工前後では、スクリーン10を支持ロール24と転写装置3との間に着脱する必要があるため、転写装置3が支持ロール24に対して近接離間する。なお、支持ロール24は、具体的には、ゴムロールである。
ガイドロール25は、送り出しロール21から加熱ロール23、及び支持ロール24から巻き取りロール26に向けて、スクリーン10を案内(ガイド)して送るものである。
巻き取りロール26は、エンボス加工されたスクリーン10を巻回するものである。この巻き取りロール26の回転軸27は、送り出しロール21と同様に、モータによって、時計回りに回転駆動される。
The
The guide roll 25 guides and sends the
The take-
転写装置3は、図1に示すように、エンボスパターンが形成された転写シートとしての電鋳型31と、回転ロールとしての第1回転ロール32と、回転ロールとしての第2回転ロール33とを備える。この転写装置3は、支持ロール24に当接することでスクリーン10を押圧し、電鋳型31が第1、第2回転ロール32,33の外周を周回運動して、電鋳型31のエンボスパターンをスクリーン10に転写するものである。
As shown in FIG. 1, the
電鋳型31は、電鋳母型を金属塩からなる電解溶液に漬けて電解により金属塩を母型表面に析出させ、その析出した金属層を母型から剥離して得られたシート材であり、電鋳型31には、当該母型表面の凹凸が複写される。この電鋳型31には、図2に示すように、両端縁の長手方向に沿って矩形状の複数の切り欠き311が形成される。この切り欠き311には、各回転ロール32,33の両端縁の外周面に形成された突起部(図示略)が係合されて、電鋳型31が各回転ロール32,33に巻回される。電鋳型31のサイズは、スクリーン10のサイズに応じて決定される。そして、電鋳型31は、各回転ロール32,33の回転により、反時計周りに回転し、電鋳型31と支持ロール24とにより押圧されたスクリーン10には、図3に示すように、円弧状のエンボスパターンが転写される。
The
第1回転ロール32は、軸方向に沿って第1回転軸34を備え、第1回転軸34は、モータによって反時計周りに回転駆動される。この第1回転ロール32は、電鋳型31及びスクリーン10を介して、支持ロール24に当接する。また、第1回転ロール32は、図2に示すように、第1回転軸34の両端にそれぞれ、第1油圧シリンダ36を備える。この第1油圧シリンダ36は、第1回転軸34を径方向に進退させることで、第1回転ロール32を支持ロール24に対して近接離間させるものである。
エンボス加工前後では、第1回転ロール32を支持ロール24から離間させて、スクリーン10を支持ロール24と第1回転ロール32との間に配置する。また、エンボス加工中では、第1油圧シリンダ36は、第1回転軸34を径方向に押圧して、第1回転ロール32が支持ロール24に当接することで、一定の圧力が第1回転ロール32から支持ロール24に対して加えられる。このことにより、電鋳型31と支持ロール24とにスクリーン10が押圧されて、スクリーン10に電鋳型31のエンボスパターンが転写される。
The first rotating
Before and after embossing, the
第2回転ロール33は、第1回転ロール32と同様に、軸方向に沿って第2回転軸35を備え、第2回転軸35は、モータによって反時計周りに回転駆動される。また、第2回転ロール33は、図2に示すように、第2回転軸35の両端にそれぞれ、第2油圧シリンダ37を備える。この第2油圧シリンダ37は、図1(A)、(B)に示すように、第2回転軸35を径方向に進退させることで、第2回転ロール33を第1回転ロール32に対して近接離間させる。近接離間させる寸法は、電鋳型31のサイズに応じて決定する。例えば、スクリーン10のサイズが大きくなるに伴って電鋳型31のサイズが大きくなった場合でも、第2油圧シリンダ37を駆動し、第2回転ロール33と第1回転ロール32とを離間させて、第2回転ロール33を位置調整するだけでよい。
Similar to the
[エンボス加工装置の動作]
使用者は、スクリーン10を予め送り出しロール21に巻回する。エンボス加工作業の前に、図1に示すように、送り出しロール21に巻回されたスクリーン10をガイドロール25、加熱ロール23、支持ロール24、及びガイドロール25に沿って、巻き取りロール26にスクリーン10の一端を取り付けておく。この際、第1油圧シリンダ36を駆動することにより、第1回転ロール32を支持ロール24に対して離間させて、スクリーン10を支持ロール24と転写装置3との間に配置する。
[Operation of embossing device]
The user winds the
一方、スクリーン10のサイズに応じた電鋳型31を各回転ロール32,33に巻回し、第2油圧シリンダ37を駆動することにより、第2回転ロール33を第1回転ロール32に対して近接離間させ、所望の位置に配置する。そして、第1油圧シリンダ36は、第1回転ロール32の第1回転軸34を径方向に押圧して、第1回転ロール32を支持ロール24に当接させる。これにより、スクリーン10は、支持ロール24及び第1回転ロール32に押圧された状態となる。
On the other hand, the
次に、エンボス加工装置1を稼働させると、搬送装置2及び転写装置3の各ロール21,26,32,33がモータにて駆動されて、スクリーン10は、ヒータ22にて加熱され、加熱ロール23は、加熱されたスクリーン10を支持ロール24に向けて供給する。そして、スクリーン10は、支持ロール24と第1回転ロール32とに押圧され、スクリーン10には、電鋳型31のエンボスパターンが転写される。エンボスパターンが転写されたスクリーン10は、巻き取りロール26に巻き取られていく。
Next, when the
上述した本実施形態のエンボス加工装置1によれば、以下の効果がある。
電鋳型31が一対の回転ロール32,33に巻回されて、第1回転ロール32が電鋳型31及びスクリーン10を介して支持ロール24に対向配置するので、大型化したスクリーン10の長辺または短辺寸法に応じた円周寸法を有する大口径のエンボスロールを用いることなく、当該スクリーン10に電鋳型31のエンボスパターンを転写できる。すなわち、大口径のエンボスロールを用いる必要がなく、径の小さい回転ロール32,33を用いるので、大型化することなく、軽量で、かつ低コストでスクリーン10にエンボス加工できる。
According to the
Since the
また、第2油圧シリンダ37が第2回転ロール33の第2回転軸35に取り付けられるので、第2油圧シリンダ37を駆動させることで、第2回転ロール33を第1回転ロール32に対して近接離間できる。すなわち、スクリーン10が大型化するに伴って、大型化する電鋳型31を回転ロール32,33に巻回して、第2油圧シリンダ37を駆動するのみの容易な作業で、所望の位置に第2回転ロール33を第1回転ロール32に対して近接離間させて、エンボス加工作業をすることができる。
Further, since the second
[実施形態の変形]
なお、本発明を実施するための最良の構成、方法などは、以上の記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
例えば、前記実施形態では、第1回転ロール32が、第1油圧シリンダ36により支持ロール24に対して押圧されていたが、支持ロール24が第1回転ロール32を押圧する構成としてもよい。
前記実施形態では、電鋳型31を各回転ロール32,33に直接、巻回していたが、各回転ロール32,33にベルト部材を巻回させて、このベルト部材の表面に電鋳型31を覆うように取り付けてもよい。
[Modification of Embodiment]
The best configuration, method, and the like for carrying out the present invention have been disclosed above, but the present invention is not limited to this.
For example, in the embodiment, the first
In the above embodiment, the
また、前記実施形態では、エンボス加工装置1によりスクリーン10が加工されていたが、加工対象はスクリーン10に限定されず、紙、金属薄板、プラスチックフィルム等であってもよい。
前記実施形態で加工されるスクリーン10は、反射型スクリーンであったが、これに限定されず、透過型スクリーンであってもよい。
Moreover, in the said embodiment, although the
The
前記実施形態では、第2回転ロール33を第1回転ロール32に対して近接離間させていたが、第1回転ロール32を第2回転ロール33に対して近接離間させてもよい。
前記実施形態では、支持ロール24は、円柱状に形成されたが、これに限定されず、電鋳型31を支持できればよく、例えば、角柱状であってもよい。
In the embodiment, the second
In the said embodiment, although the
本発明は、被加工材料に凹凸を形成するエンボス加工装置に利用できる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for an embossing apparatus that forms irregularities on a work material.
1…エンボス加工装置、10…スクリーン(被加工部材)、24…支持ロール(支持部材)、31…電鋳型(転写シート)、32…第1回転ロール(回転ロール)、33…第2回転ロール(回転ロール)、37…第2油圧シリンダ(駆動機構)。
DESCRIPTION OF
Claims (2)
エンボスパターンが形成されて、前記被加工材料に前記エンボスパターンを転写する転写シートと、
前記転写シートが巻回された一対の回転ロールと、
前記一対の回転ロールの一方の第1回転ロールに対向して配置される支持部材とを備え、
前記転写シートは、前記一対の回転ロールの外周を周回運動し、前記支持部材に支持された前記被加工材料に前記エンボスパターンを転写する
ことを特徴とするエンボス加工装置。 An embossing device for embossing a work material,
An embossing pattern is formed, and a transfer sheet for transferring the embossing pattern to the work material;
A pair of rotating rolls around which the transfer sheet is wound;
A support member disposed to face one first rotating roll of the pair of rotating rolls,
The embossing apparatus, wherein the transfer sheet orbits the outer periphery of the pair of rotating rolls and transfers the emboss pattern to the material to be processed supported by the support member.
前記一対の回転ロールの他方の第2回転ロールを前記第1回転ロールに対して近接離間させる駆動機構を備える
ことを特徴とするエンボス加工装置。 In the embossing apparatus of Claim 1,
An embossing apparatus comprising: a drive mechanism that moves the second rotary roll of the pair of rotary rolls closer to and away from the first rotary roll.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008271854A JP2010099882A (en) | 2008-10-22 | 2008-10-22 | Embossing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008271854A JP2010099882A (en) | 2008-10-22 | 2008-10-22 | Embossing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2010099882A true JP2010099882A (en) | 2010-05-06 |
Family
ID=42290962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008271854A Pending JP2010099882A (en) | 2008-10-22 | 2008-10-22 | Embossing device |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2010099882A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105082626A (en) * | 2014-05-09 | 2015-11-25 | 金红叶纸业集团有限公司 | Layered thin material, as well as manufacturing equipment and manufacturing method of manufacturing layered thin material |
US9604402B2 (en) | 2012-08-23 | 2017-03-28 | Toshiba Kikai Kabushiki Kaisha | Transfer device and molded material |
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2008
- 2008-10-22 JP JP2008271854A patent/JP2010099882A/en active Pending
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CN105082626A (en) * | 2014-05-09 | 2015-11-25 | 金红叶纸业集团有限公司 | Layered thin material, as well as manufacturing equipment and manufacturing method of manufacturing layered thin material |
CN105082626B (en) * | 2014-05-09 | 2018-12-18 | 金红叶纸业集团有限公司 | Stratiform thin material, the manufacturing equipment and manufacturing method for manufacturing the stratiform thin material |
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