JP2010092914A - Surface treatment apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、被処理物の表面に処理ガスを接触させ、被処理物の表面を処理する装置に関し、特に環境負荷性、有毒性、又は腐食性を有する処理ガスを用いた処理に適した表面処理装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for treating a surface of a workpiece by bringing the treatment gas into contact with the surface of the workpiece, and in particular, a surface suitable for treatment using a treatment gas having environmental impact, toxicity, or corrosivity. The present invention relates to a processing apparatus.
ガラス基板や半導体ウェハ等の被処理物に処理ガスを吹き付け、エッチング、洗浄、表面改質、成膜等の表面処理を行なう装置は公知である。この種の表面処理に用いる処理ガスには、外部に漏れると安全上又は環境上好ましくない成分が含まれていることが少なくない。そこで、一般に、処理空間を処理槽(チャンバー)で囲み、処理ガスが外部に漏れるのを防止している。
処理槽には、処理ガスを供給するノズルが設けられる。ノズルは、汚れが付着したり傷みが生じたりしやすく、ある程度の頻度でメンテナンスを行なう必要がある。そのため、ノズルを処理槽から容易に分離又は移動できる構造にすることが好ましい。例えば、処理槽に設置口を設け、この設置口にノズルを取り外し可能に設置することが考えられる。しかし、設置口の周縁部とノズルの間に隙間が開いていると、処理槽内のガスが、上記隙間から外部に漏れるおそれがある。 A nozzle for supplying a processing gas is provided in the processing tank. Nozzles are likely to be contaminated or damaged, and need to be maintained at a certain frequency. Therefore, it is preferable to have a structure in which the nozzle can be easily separated or moved from the processing tank. For example, it is conceivable that an installation port is provided in the treatment tank and the nozzle is detachably installed in the installation port. However, if there is a gap between the peripheral edge of the installation port and the nozzle, the gas in the processing tank may leak outside through the gap.
上記課題を解決するため、本発明は、処理空間に配置された被処理物の表面に処理ガスを接触させ、前記表面を処理する装置において、
設置口を有して前記処理空間を囲む処理槽と、
前記設置口を介して前記処理空間に臨み、前記処理空間に処理ガスを供給し、かつ処理槽に対し分離可能又は移動可能なノズルと、
前記処理槽の前記設置口の周縁部と前記ノズルとの間を気密に塞ぐ環状のシール部材と、
を備えたことを特徴とする。
この特徴構成によれば、シール部材によって設置口の周縁部とノズルとの間をシールでき、処理槽内のガスが、設置口の周縁部とノズルとの間を通って外部に漏れるのを防止できる。ノズルのメンテナンスの際は、ノズルを処理槽から分離したり移動させたりすることで、メンテナンスを容易化できる。
In order to solve the above problems, the present invention provides an apparatus for processing a surface by bringing a processing gas into contact with the surface of an object to be processed disposed in a processing space.
A treatment tank having an installation port and surrounding the treatment space;
A nozzle that faces the processing space through the installation port, supplies a processing gas to the processing space, and is separable or movable with respect to the processing tank;
An annular seal member that hermetically seals between the nozzle and the peripheral edge of the installation port of the treatment tank;
It is provided with.
According to this characteristic configuration, the seal member can seal between the peripheral edge of the installation port and the nozzle, and the gas in the processing tank is prevented from leaking outside through the space between the peripheral edge of the installation port and the nozzle. it can. In the maintenance of the nozzle, the maintenance can be facilitated by separating or moving the nozzle from the processing tank.
前記シール部材が、柔軟性及び伸縮性を有するシート状であることが好ましい。
前記シール部材が、前記設置口の周縁部と前記ノズルとで作る環状の空間に張り渡され、前記シール部材の周方向と直交する幅方向の一端側の周縁部が前記処理槽の前記設置口の周縁部に接し、前記シール部材の前記幅方向の他端側の周縁部が前記ノズルに接していることが好ましい。
設置口の周縁部とノズルとが多少離れていたとしても、シール部材を設置口の周縁部とノズルの間に張り渡し、処理槽とノズルの間を確実にシールできる。設置口の周縁部とノズルを離すことで、ノズルの処理槽への設置や処理槽からの分離を容易化できる。さらに、ノズルの処理槽に対する位置調節を容易に行なうことができる。ノズルを位置調節しても、シール部材が伸縮することで、設置口の周縁部とノズルとの間のシール状態を維持できる。
The sealing member is preferably in the form of a sheet having flexibility and stretchability.
The seal member is stretched over an annular space formed by the peripheral portion of the installation port and the nozzle, and the peripheral portion on one end side in the width direction orthogonal to the circumferential direction of the seal member is the installation port of the treatment tank It is preferable that the peripheral edge of the other end side in the width direction of the seal member is in contact with the nozzle.
Even if the peripheral edge of the installation port and the nozzle are somewhat apart, the seal member can be stretched between the peripheral edge of the installation port and the nozzle, and the space between the treatment tank and the nozzle can be reliably sealed. By separating the peripheral edge of the installation port from the nozzle, it is possible to facilitate the installation of the nozzle in the processing tank and the separation from the processing tank. Furthermore, it is possible to easily adjust the position of the nozzle with respect to the treatment tank. Even if the position of the nozzle is adjusted, the sealing state between the peripheral edge of the installation port and the nozzle can be maintained by the expansion and contraction of the seal member.
前記シール部材が、前記処理槽及びノズルのうち何れか一方(以下「第1要素」と称す)に支持され、かつ前記処理槽及びノズルのうち他方(以下「第2要素」と称す)と分離可能になっていることが好ましい。前記シール部材の前記第2要素側の周縁部を前記第2要素に押し当てる(第1の)付勢手段を、更に備えるのが好ましい。
これにより、シール部材の第2要素側の周縁部と第2要素との間のシールを十分に確保でき、処理槽内のガスが、シール部材の第2要素側の周縁部と第2要素との間から外部に漏れるのを防止できる。ノズルのメンテナンスの際は、シール部材を第2要素から分離すれば、シール部材が、ノズルの処理槽からの分離や移動の妨げになることはない。シール部材は第1要素にて支持できる。第1付勢手段は、第1要素に設けてもよく、第2要素に設けてもよい。
The seal member is supported by one of the treatment tank and the nozzle (hereinafter referred to as “first element”) and separated from the other of the treatment tank and the nozzle (hereinafter referred to as “second element”). Preferably it is possible. It is preferable to further include (first) urging means that presses a peripheral edge of the seal member on the second element side against the second element.
Thereby, the seal | sticker between the peripheral part by the side of the 2nd element of a sealing member and a 2nd element can fully be ensured, and the gas in a processing tank is the peripheral part by the side of the 2nd element of a sealing member, and a 2nd element. It is possible to prevent leakage from between the outside. In the maintenance of the nozzle, if the sealing member is separated from the second element, the sealing member does not hinder the separation or movement of the nozzle from the processing tank. The seal member can be supported by the first element. The first urging means may be provided in the first element or in the second element.
前記シール部材の前記第2要素側の周縁部が、保持枠で保持されていることが好ましい。
これにより、柔軟なシート状のシール部材の第2要素側の周縁部の形状を保持でき、ノズルが処理槽から分離又は移動した状態でもシール部材が垂れるのを防止できる。
It is preferable that a peripheral edge of the seal member on the second element side is held by a holding frame.
Thereby, the shape of the peripheral part by the side of the 2nd element of a flexible sheet-like sealing member can be hold | maintained, and it can prevent that a sealing member droops even in the state which isolate | separated or moved the nozzle from the processing tank.
前記第1要素に、前記保持枠を前記第1付勢手段の付勢方向に変位可能に連結する連結部が設けられていることが好ましい。
連結部が保持枠の変位を許容することにより、シール部材の第2要素側の周縁部が第2要素に確実に押し当てられるようにすることができる。ノズルが処理槽から分離又は移動した状態では、シール部材の第2要素側の端部が垂れるのを確実に防止できる。
Preferably, the first element is provided with a connecting portion that connects the holding frame so as to be displaceable in an urging direction of the first urging means.
By allowing the connecting portion to displace the holding frame, the peripheral portion of the seal member on the second element side can be surely pressed against the second element. In a state where the nozzle is separated or moved from the processing tank, it is possible to reliably prevent the end portion on the second element side of the seal member from drooping.
前記第1付勢手段が、前記連結部と保持枠との間に設けられた弾性部材を含むことが好ましい。
これにより、弾性部材の弾性力でシール部材の第2要素側の周縁部を第2要素に確実に押し当てることができ、シール部材の第2要素側の周縁部と第2要素との間を確実にシールできる。弾性部材として、コイルバネや板バネ等のバネ、弾性ゴム等が挙げられる。第1付勢手段は、前記連結部と保持枠との間に設けられるのに限られず、第1要素に設けられていてもよく、第2要素に設けられていてもよい。
It is preferable that the first urging means includes an elastic member provided between the connecting portion and the holding frame.
Thereby, the peripheral part on the second element side of the seal member can be reliably pressed against the second element by the elastic force of the elastic member, and the gap between the peripheral part on the second element side of the seal member and the second element can be Can be sealed reliably. Examples of the elastic member include a spring such as a coil spring and a leaf spring, and elastic rubber. The first biasing means is not limited to being provided between the connecting portion and the holding frame, and may be provided in the first element or may be provided in the second element.
前記第1要素がノズルであり、前記第2要素が処理槽であってもよい。この場合、シール部材が、ノズルに連結又は支持される。ノズルを処理槽から分離又は移動させる際は、シール部材がノズルと共に処理槽から分離される。
前記第1要素が処理槽であり、前記第2要素がノズルであってもよい。この場合、シール部材が、処理槽に連結又は支持される。ノズルを処理槽から分離又は移動させる際は、シール部材が処理槽と共に残置される。
The first element may be a nozzle and the second element may be a treatment tank. In this case, the seal member is connected to or supported by the nozzle. When the nozzle is separated or moved from the processing tank, the seal member is separated from the processing tank together with the nozzle.
The first element may be a treatment tank and the second element may be a nozzle. In this case, the seal member is connected to or supported by the treatment tank. When the nozzle is separated or moved from the processing tank, the seal member is left together with the processing tank.
被処理物を前記処理槽内に搬入して前記処理空間に配置した後、前記処理槽から搬出するローラーコンベアを、更に備え、前記ローラーコンベアの少なくとも一部のローラーシャフトが、前記処理槽の内部に収容され、かつ該ローラーシャフトの端部が前記処理槽の外部に配置された駆動系に連結されていることが好ましい。前記処理槽の前記ローラーシャフトと交差する壁には、前記設置口の周縁部に達する切欠凹部が形成され、前記切欠凹部に第1閉塞部材が切欠凹部の深さ方向に変位可能に嵌め込まれ、前記第1閉塞部材に前記ローラーシャフトを挿通する第1挿通孔が形成され、更に前記第1閉塞部材を前記設置口の周縁部から突出する方向に付勢する第2の付勢手段を備えたことが好ましい。
駆動系によってローラーシャフトを回転させることで、被処理物を搬送できる。駆動系は、処理槽の外部に配置されるため、処理ガスに対する耐性の高い材料で構成しなくても済む。処理槽の壁にローラーシャフトを通すために設けた切欠凹部には第1閉塞部材を嵌め込むことで切欠凹部をある程度塞ぐことができる。さらには、第2付勢手段によって第1閉塞部材を設置口の周縁部から突出する方向に付勢することにより、設置口の周縁部に被さるシール部材に第1閉塞部材を押し当てることができる。これにより、第1閉塞部材とシール部材との間を確実にシールでき、処理槽内のガスが第1閉塞部材とシール部材との間から外部に漏れるのを防止できる。
The apparatus further includes a roller conveyor that carries an object to be processed into the processing tank and places it in the processing space, and then unloads it from the processing tank, wherein at least a part of the roller shaft of the roller conveyor is inside the processing tank. And the end of the roller shaft is preferably connected to a drive system disposed outside the processing tank. On the wall intersecting with the roller shaft of the treatment tank, a notch recess reaching the peripheral edge of the installation port is formed, and the first closing member is fitted into the notch recess so as to be displaceable in the depth direction of the notch recess, A first insertion hole through which the roller shaft is inserted is formed in the first closing member, and further, a second urging means for urging the first closing member in a direction protruding from a peripheral edge portion of the installation port is provided. It is preferable.
An object to be processed can be conveyed by rotating the roller shaft by the drive system. Since the drive system is disposed outside the processing tank, it need not be made of a material having high resistance to the processing gas. The notch recess can be closed to some extent by fitting the first closing member into the notch recess provided for passing the roller shaft through the wall of the treatment tank. Furthermore, the first closing member can be pressed against the seal member covering the peripheral edge of the installation port by urging the first closing member in a direction protruding from the peripheral edge of the installation port by the second urging means. . Thereby, between the 1st closure member and a sealing member can be sealed reliably, and it can prevent that the gas in a processing tank leaks outside from between the 1st closure member and a sealing member.
前記第1閉塞部材又は前記ローラーシャフトには、第2閉塞部材が設けられ、前記第2閉塞部材に前記ローラーシャフトを挿通する第2挿通孔が形成され、前記第2挿通孔が、前記第1挿通孔より小さく、前記第2閉塞部材の前記第2挿通孔の周辺の部分が、前記第1挿通孔の内周面と前記ローラーシャフトの外周面との間をほぼ塞いでいることが好ましい。
これにより、処理槽の内部のガスが第2挿通孔の内周面とローラーシャフトの外周面との間から漏れるのを防止又は抑制できる。第1挿通孔を大きくすることで、第1閉塞部材が切欠凹部の深さ方向に変位しても第1閉塞部材とローラーシャフトが干渉するのを回避できる。第2閉塞部材は、第1閉塞部材の外面に配置されることが好ましい。これにより、第2閉塞部材が処理槽の内部のガスに触れるのを防止でき、第2閉塞部材を処理ガスに対する耐性材料にて構成する必要がなく、第2閉塞部材の材料選択の自由度を確保できる。「ほぼ塞いでいる」とは、前記第2挿通孔の内周面と前記ローラーシャフトの外周面との間にローラーシャフトを第2挿通孔に挿通できる程度、又はローラーシャフトの回転を許容する程度のクリアランスが必要であり、このクリアランスの分だけ前記第1挿通孔の内周面と前記ローラーシャフトの外周面との間が開いていることを意味する。
The first closing member or the roller shaft is provided with a second closing member, a second insertion hole for inserting the roller shaft into the second closing member is formed, and the second insertion hole is defined as the first insertion hole. It is preferable that a portion smaller than the insertion hole and the periphery of the second insertion hole of the second closing member substantially block between the inner peripheral surface of the first insertion hole and the outer peripheral surface of the roller shaft.
Thereby, it can prevent or suppress that the gas inside a processing tank leaks from between the internal peripheral surface of a 2nd penetration hole, and the outer peripheral surface of a roller shaft. By enlarging the first insertion hole, it is possible to avoid interference between the first closing member and the roller shaft even if the first closing member is displaced in the depth direction of the notch recess. The second closing member is preferably disposed on the outer surface of the first closing member. Thereby, it is possible to prevent the second closing member from coming into contact with the gas inside the processing tank, and it is not necessary to configure the second closing member with a material resistant to the processing gas, and the degree of freedom of material selection of the second closing member is increased. It can be secured. “Substantially blocked” means that the roller shaft can be inserted into the second insertion hole between the inner peripheral surface of the second insertion hole and the outer peripheral surface of the roller shaft, or the rotation of the roller shaft is allowed. This clearance is necessary, and the clearance between the inner peripheral surface of the first insertion hole and the outer peripheral surface of the roller shaft is open by this clearance.
前記ローラーシャフトには、前記第2閉塞部材をローラーシャフトの回転から縁切りし、かつ前記第2挿通孔の軸線がローラーシャフトの軸線と一致するようにして、前記第2閉塞部材を支持する軸受けが設けられていることが好ましい。
前記軸受けによって、第2挿通孔をローラーシャフトの軸線に対し高精度に芯出しできる。したがって、回転時のローラーシャフトが第2挿通孔の内周面に摺擦するのを回避しつつ、第2挿通孔の内周面とローラーシャフトの外周面との間のクリアランスを極めて小さく設定でき、処理槽内のガスが、第2挿通孔の内周面とローラーシャフトの外周面との間から漏れるのを十分に防止することができる。第2閉塞部材は軸受けを介しローラーシャフトに支持されるため、第1閉塞部材が変位しても、第2閉塞部材についてはローラーシャフトに対し芯出しされた状態に維持できる。したがって、第1閉塞部材の変位に合わせて第2閉塞部材の位置を調節する必要がない。「縁切り」とは、ローラーシャフトの回転力が第2閉塞部材に伝達されないことを言う。縁切りにより、第2閉塞部材を安定的に設置できる。
The roller shaft has a bearing that supports the second closing member by cutting the second closing member from the rotation of the roller shaft and aligning the axis of the second insertion hole with the axis of the roller shaft. It is preferable to be provided.
By the bearing, the second insertion hole can be centered with high accuracy with respect to the axis of the roller shaft. Accordingly, the clearance between the inner peripheral surface of the second insertion hole and the outer peripheral surface of the roller shaft can be set to be extremely small while avoiding the roller shaft during rotation from rubbing against the inner peripheral surface of the second insertion hole. The gas in the treatment tank can be sufficiently prevented from leaking between the inner peripheral surface of the second insertion hole and the outer peripheral surface of the roller shaft. Since the second closing member is supported by the roller shaft via the bearing, even if the first closing member is displaced, the second closing member can be kept centered with respect to the roller shaft. Therefore, it is not necessary to adjust the position of the second closing member in accordance with the displacement of the first closing member. “Edge cutting” means that the rotational force of the roller shaft is not transmitted to the second closing member. The second closing member can be stably installed by the edge cutting.
前記第1閉塞部材と第2閉塞部材を互いに押し合うように付勢する第3の付勢手段を、更に備えることが好ましい。
第3付勢手段の付勢によって、第1、第2閉塞部材どうしを密着させ、両閉塞部材どうしの間のシール性を確保できる。第3付勢手段は、ローラーコンベアに設けてもよく、第1閉塞部材に設けてもよく、第2閉塞部材に設けてもよく、処理槽に設けてもよい。
It is preferable to further include third urging means for urging the first closing member and the second closing member so as to press each other.
By the urging of the third urging means, the first and second closing members can be brought into close contact with each other, and the sealing performance between the both closing members can be ensured. The third urging means may be provided on the roller conveyor, may be provided on the first closing member, may be provided on the second closing member, or may be provided on the processing tank.
前記ノズルを、前記処理空間に臨むように前記処理槽に設置された設置位置と、前記処理槽から離れた離間位置との間で移動させるノズル移動手段を、更に備えることが好ましい。
これにより、ノズルを処理槽から容易に分離又は移動でき、かつ処理槽に容易に設置できる。
It is preferable that the apparatus further includes nozzle moving means for moving the nozzle between an installation position installed in the processing tank so as to face the processing space and a separated position away from the processing tank.
Thereby, a nozzle can be easily separated or moved from a processing tank, and can be easily installed in a processing tank.
前記ノズルが、前記処理槽とは別のノズル支持手段にて支持されていることが好ましい。
これにより、ノズルを処理槽から容易に分離又は移動できる。処理槽は、ノズルを支持する必要がないため、所要強度を低減できる。
It is preferable that the nozzle is supported by nozzle support means different from the processing tank.
Thereby, a nozzle can be easily separated or moved from a processing tank. Since the treatment tank does not need to support the nozzle, the required strength can be reduced.
本発明によれば、ノズルを処理槽から分離したり移動させたりすることで、ノズルのメンテナンスを容易に行なうことができる。表面処理の際は、処理槽内のガスが、処理槽の設置口の周縁部とノズルとの間を通って外部に漏れるのを防止できる。 According to the present invention, the nozzle can be easily maintained by separating or moving the nozzle from the processing tank. In the surface treatment, it is possible to prevent the gas in the processing tank from leaking outside through the gap between the peripheral edge of the processing tank installation port and the nozzle.
以下、本発明の実施形態を説明する。
図1及び図2は、本発明の第1実施形態を示したものである。この実施形態の被処理物9は、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板で構成されている。表面処理内容は、ガラス基板9の表面に被膜されたシリコン(図示省略)のエッチングである。なお、本発明の被処理物9は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に限定されるものではなく、例えば半導体ウェハ、連続シート状の樹脂フィルム等、種々の被処理物に適用できる。本発明の表面処理内容は、シリコンのエッチングに限定されるものではなく、酸化シリコンや窒化シリコンのエッチングにも適用でき、エッチングに限られず、成膜、洗浄、撥水化、親水化等、種々の表面処理に適用できる。
Embodiments of the present invention will be described below.
1 and 2 show a first embodiment of the present invention. The to-be-processed object 9 of this embodiment is comprised with the glass substrate for flat panel displays. The content of the surface treatment is etching of silicon (not shown) coated on the surface of the glass substrate 9. In addition, the to-be-processed object 9 of this invention is not limited to the glass substrate for flat panel displays, For example, it can apply to various to-be-processed objects, such as a semiconductor wafer and a continuous sheet-like resin film. The surface treatment content of the present invention is not limited to etching of silicon, but can be applied to etching of silicon oxide and silicon nitride, and is not limited to etching, but includes various film formation, cleaning, water repellency, hydrophilization, and the like. It can be applied to surface treatment.
図1及び図2に示すように、表面処理装置1は、処理槽10と、ノズル20を備えている。
処理槽10は、内部に被処理物9を配置できる大きさの容器状になっている。処理槽10は、処理ガスに対する耐性の高い材料で構成されている。この実施形態では、処理槽10の材料として、テフロン(登録商標)等の耐フッ素性の樹脂が用いられている。なお、処理槽10の材質は、樹脂に限られず、金属でもよい。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
The
図1に示すように、処理槽10の前壁(図1において左側)に搬入開口11が設けられている。処理槽10の後壁(図1において右側)に搬出開口12が設けられている。処理槽10の内部の略中央部に処理空間19が形成されている。言い換えると、処理槽10は、処理空間19を囲んでいる。処理空間19は、ノズル20と、該ノズル20の下方に配置されるべき被処理物9との間に画成される。
As shown in FIG. 1, a carry-in opening 11 is provided on the front wall (left side in FIG. 1) of the
図1及び図2に示すように、処理槽10の内部に、被処理物9の搬送手段としてローラーコンベア60の一部が収容されている。ローラーコンベア60は、複数のローラーシャフト61を有している。各ローラーシャフト61は、軸線を左右(図1の紙面と直交する方向)に向けて延びている。ローラーシャフト61にローラ62が設けられている。複数のローラーシャフト61は、互いに前後に間隔を置いて並べられている。ローラーコンベア60の駆動系63は、処理槽10の外部に配置されている。ローラーシャフト61の端部が処理槽10の左右の側壁15を貫通し外部に突出している。ローラーシャフト61が側壁15を貫通する箇所の構造については追って詳述する。ローラーシャフト61の突出端には駆動系63が接続されている。被処理物9が、ローラーコンベア60に載せられ、図1の白抜き矢印方向aに搬送される。被処理物9は、搬入開口11を通して処理槽10内に搬入されて処理空間19に配置され、その後、搬出開口12を通して処理槽10から搬出される。
As shown in FIGS. 1 and 2, a part of a
処理槽10の上面に設置口13が設けられている。設置口13は、平面視で四角形になっている。
An
図1及び図2に示すように、処理槽10の上側にノズル20が配置されている。ノズル20は、長手方向を左右(図1の紙面と直交する方向)に向け、短手方向を前後(図1において左右)に向けて配置されている。ノズル20の下部のノズル先端部21が設置口13を介して処理槽10の内部に挿し入れられている。ノズル先端部21の周側部には、該周側部を囲む枠状のシール止着部22が設けられている。シール止着部22ひいてはノズル先端部21の周側部は、処理槽10の設置口13の周縁部14より内側に離れている。設置口周縁部14とシール止着部22との間に環状の空間13aが形成されている。ノズル先端部21の下面(ガス吹き出し面)が処理空間19に臨んでいる。
As shown in FIGS. 1 and 2, a
図示は省略するが、表面処理装置1には処理ガス供給源が設けられている。処理ガス供給源は、処理内容に応じた反応成分を含む処理ガスを処理ガス供給路2を介してノズル20に導入する。この処理ガスをノズル先端部21の下面の吹き出し口から処理空間19に吹き出す。
Although illustration is omitted, the
処理ガス中の反応成分は、環境負荷性、有毒性、又は腐食性を有していることが少なくない。シリコンのエッチングに係る本実施形態の処理ガスには、反応成分として、フッ素系反応成分と酸化性反応成分が含まれている。フッ素系反応成分として、HF、COF2、フッ素ラジカル等が挙げられる。フッ素系反応成分は、例えばフッ素系原料を水(H2O)で加湿した後、プラズマ化(分解、励起、活性化、イオン化等を含む)することにより生成できる。この実施形態では、フッ素系原料として、CF4が用いられている。フッ素系原料としてCF4に代えて、C2F6、C3F8、C3F8等の他のPFC(パーフルオロカーボン)を用いてもよく、CHF3、CH2F2、CH3F等のHFC(ハイドロフルオロカーボン)を用いてもよく、SF6、NF3、XeF2等のPFC及びHFC以外のフッ素含有化合物を用いてもよい。 The reaction components in the processing gas often have environmental impact, toxicity, or corrosivity. The processing gas according to the present embodiment relating to silicon etching includes a fluorine-based reaction component and an oxidizing reaction component as reaction components. Examples of the fluorine-based reaction component include HF, COF 2 and fluorine radicals. The fluorine-based reaction component can be generated, for example, by humidifying a fluorine-based raw material with water (H 2 O) and then plasmatizing (including decomposition, excitation, activation, ionization, etc.). In this embodiment, CF 4 is used as the fluorine-based material. Instead of CF 4 as the fluorine-based raw material, other PFC (perfluorocarbon) such as C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 3 F 8 may be used, and CHF 3 , CH 2 F 2 , CH 3 F may be used HFC (hydrofluorocarbon) etc., may be used SF 6, NF 3, XeF fluorine-containing compounds other than PFC and HFC, such as 2.
フッ素系原料は、希釈ガスで希釈してもよい。希釈ガスとして、例えばAr、He等の希ガスや、N2が用いられる。フッ素系原料への添加剤として水(H2O)に代えて、アルコール等のOH基含有化合物を用いてもよい。 The fluorine-based raw material may be diluted with a diluent gas. As the dilution gas, for example, a rare gas such as Ar or He or N 2 is used. Instead of water (H 2 O), an OH group-containing compound such as alcohol may be used as an additive to the fluorine-based raw material.
酸化性反応成分として、O3、Oラジカル等が挙げられる。この実施形態では、酸化性反応成分としてO3が用いられている。O3は、酸素(O2)を原料としオゾナイザーで生成できる。O2等の酸素系原料をプラズマ化することによって酸化性反応成分を生成することにしてもよい。 Examples of the oxidizing reaction component include O 3 and O radicals. In this embodiment, O 3 is used as the oxidizing reaction component. O 3 can be generated by an ozonizer using oxygen (O 2 ) as a raw material. The oxidizing reaction component may be generated by converting oxygen-based raw material such as O 2 into plasma.
上記フッ素系原料や酸素系原料のプラズマ化は、プラズマ生成装置の一対の電極どうし間のプラズマ空間に上記原料を含むガスを導入することで実行できる。上記プラズマ化は、大気圧近傍で実行するのが好ましい。ここで、大気圧近傍とは、1.013×104〜50.663×104Paの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、1.333×104〜10.664×104Paが好ましく、9.331×104〜10.397×104Paがより好ましい。上記一対の電極を含むプラズマ生成装置は、上記図示しない処理ガス供給源に組み込まれていてもよく、ノズル20に組み込まれていてもよい。
Plasma conversion of the fluorine-based material or oxygen-based material can be performed by introducing a gas containing the material into a plasma space between a pair of electrodes of a plasma generation apparatus. The plasmification is preferably performed near atmospheric pressure. Here, the vicinity of the atmospheric pressure refers to a range of 1.013 × 10 4 to 50.663 × 10 4 Pa, and considering the ease of pressure adjustment and the simplification of the apparatus configuration, 1.333 × 10 4 to 10.664 × 10 4 Pa is preferable, and 9.331 × 10 4 to 10.9797 × 10 4 Pa is more preferable. The plasma generation apparatus including the pair of electrodes may be incorporated in the processing gas supply source (not shown) or may be incorporated in the
ノズル20から吹き出された処理ガスが処理空間19の被処理物9に吹き付けられ、被処理物9が表面処理される。シリコンのエッチングにおいては、処理ガス中の酸化性成分(O3等)によりシリコンが酸化され、酸化シリコンと処理ガス中のフッ素系反応成分(HF等)とが反応し、揮発成分のSiF4が生成される。これにより、被処理物9の表面のシリコン層を除去できる。
The processing gas blown from the
図示は省略するが、ノズル先端部21の下面の処理ガス吹き出し口の近傍には局所吸引口が形成されている。この吸引口から処理済みガスが吸引され排出される。また、処理槽10には、排気系が接続されている。この排気系で処理槽10内のガスが排出される。排気に伴ない、外部の雰囲気ガス(空気)が搬入出開口11,12から処理槽10の内部に流入する。
Although illustration is omitted, a local suction port is formed in the vicinity of the processing gas blowing port on the lower surface of the
ノズル20は、次のようにして支持されている。図1に示すように、ノズル20の短手方向の両側には、第1の支持梁23Aがそれぞれ設けられている。支持梁23Aは、左右方向すなわちノズル20の長手方向(図1の紙面と直交する方向)に延びている。図2に示すように、ノズル20の長手方向の両側には、第2の支持梁23Bがそれぞれ設けられている。支持梁23Bは、前後方向すなわちノズル20の短手方向(図2の紙面と直交する方向)に延びている。各支持梁23Bにノズル20の長手方向の端部が連結されて支持されている。また、支持梁23Bの端部の上面に支持梁23Aの端部が載せられ、支持梁23A,23Bどうしが連結されている。
The
なお、図示は省略するが、支持梁23Bとノズル20との間には、ノズル20の高さや水平度を調節するための調節手段(例えばボルト)が設けられている。
In addition, although illustration is abbreviate | omitted, between the
図2に示すように、処理槽10の左右の外側には、台座3がそれぞれ設けられている。台座3に支持梁23Bが支持されている。ひいては、ノズル20が台座3に支持されている。したがって、ノズル20の荷重は、処理槽10には作用していない。台座3は、特許請求の範囲の「処理槽とは別のノズル支持手段」を構成する。
As shown in FIG. 2, pedestals 3 are respectively provided on the left and right outer sides of the
ノズル20は、処理槽10に対し、分離可能又は移動可能になっている。詳述すると、図2に示すように、右側の支持梁23Bには、回転軸線を前後(図2の紙面直交方向)に向けたヒンジ4が設けられている。左側の支持梁23Bにはノズル移動手段5が接続されている。ノズル移動手段5は、伸縮式の油圧シリンダで構成されている。ノズル移動手段5の伸縮によって、ノズル20が、ヒンジ4を回転支点にして、図2に示す設置位置と、図3に示す離間位置との間で回転移動できるようになっている。上述したように、ノズル20は、設置位置では水平姿勢になり、下側部が設置口13から処理槽10の内部に挿入され、処理槽10に臨む。図3に示すように、ノズル20は、離間位置では処理槽10から上側に離れ、傾斜した姿勢になり、ノズル先端部21が処理槽10の上に露出する。
The
図1及び図2に示すように、更に、表面処理装置1は、処理槽10とノズル20との間をシールするシール部材30を備えている。シール部材30は、四角形の平面環状になっており、かつ柔軟性及び伸縮性を有するシート状になっている。シール部材30は、例えばテフロン(登録商標)等の耐フッ素性の樹脂で構成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
シール部材30は、設置口周縁部14とノズル20との間を気密に塞いでいる。シール部材30は、処理槽10の設置口周縁部14とノズル先端部21との間の環状空間13aに張り渡されている。シール部材30の外縁部(周方向と直交する幅方向の一端側の周縁部)は、処理槽10の設置口周縁部14に接している。シール部材30の内縁部(上記幅方向の他端側の周縁部)は、ノズル20に接している。
The
シール部材30の取り付け構造を更に詳述する。
シール部材30の内縁部は、ノズル20のシール止着部22に全周にわたって止着されて支持されている。(ノズル20が、特許請求の範囲の「第1要素」になっている。シール部材30の内縁部は、「第1要素側の周縁部」になっている。)
The attachment structure of the
The inner edge portion of the
シール部材30の外縁部は、設置口周縁部14に沿って配置されている。シール部材30の外縁部は、処理槽10に対し分離可能になっている。(処理槽10が、特許請求の範囲の「第2要素」になっている。シール部材30の外縁部は、「第2要素側の周縁部」になっている。)
The outer edge portion of the
図1及び図2に示すように、シール部材30の外縁部(第2要素側の周縁部)は、保持枠31にて保持されている。保持枠31は、一対の長枠部31aと、一対の短枠部31bを有し、シール部材30の外縁部に沿う四角形の環状になっている。図1に示すように、長枠部31aは、シール部材30の前後の縁部に沿い、左右(図1の紙面と直交する方向)に延びている。図2に示すように、短枠部31bは、シール部材30の左右の縁部に沿い、前後(図2の紙面と直交する方向)に延びている。保持枠31の下面にシール部材30の外縁部が全周にわたって止着されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the outer edge portion (peripheral edge portion on the second element side) of the
さらに、保持枠31は、ノズル20に昇降可能に連結されている。詳述すると、図1に示すように、支持梁23Aの外側面には、連結部24が設けられている。詳細な図示は省略するが、連結部24は、支持梁23Aの延び方向(図1の紙面と直交する方向)に間隔を置いて複数設けられている。長枠部31aの上面には、被支持ピン32が垂直に設けられている。被支持ピン32は、長枠部31aの延び方向(図1の紙面と直交する方向)に間隔を置いて複数、しかも連結部24と一対一に対応するように設けられている。各被支持ピン32が、対応する連結部24を上下にスライド可能に貫通している。これにより、保持枠31が、被支持ピン32を介して連結部24に上下に変位可能に支持されている。被支持ピン32の上端部には大径の抜け止め部32aが設けられ、被支持ピン32が連結部24から抜け落ちないようになっている。ひいては、保持枠31が、ノズル20から離脱しないようになっている。
Furthermore, the holding
連結部24と長枠部31aの間に、圧縮コイルバネ33(弾性部材、付勢手段)が圧縮状態で介在されている。圧縮コイルバネ33の内部に被支持ピン32が通されている。圧縮コイルバネ33によって長枠部31aが下方へ押されている。これにより、シール部材30の外縁部の前後の縁部分が、設置口周縁部14の前後の縁部分に弾性を持って押し当てられている。
A compression coil spring 33 (elastic member, biasing means) is interposed between the connecting
図示は省略するが、同様に、短枠部31bと支持梁23Bとの間にも、短枠部31bを上下に変位可能に連結する連結部24、及び短枠部31bを下方に付勢する圧縮コイルバネ33が設けられ、シール部材30の外縁部の左右の縁部分が、設置口周縁部14の左右の縁部分に弾性を持って押し当てられている。
Although illustration is omitted, similarly, between the
さらに、図1及び図2においては図示が省略されているが、処理槽10におけるローラーシャフト61と交差する箇所には、次のようなシール構造が設けられている。
図4及び図5に示すように、処理槽10の左右の側壁15には、ローラーシャフト61と対応する箇所に、切欠凹部16が形成されている。切欠凹部16は、側壁15の上端縁(設置口周縁部14)から下に延び、平面視でU字状になっている。図6に示すように、切欠凹部16の内周面には段差16dが形成されている。
Furthermore, although illustration is abbreviate | omitted in FIG.1 and FIG.2, the following seal structures are provided in the location which cross | intersects the
As shown in FIGS. 4 and 5, the left and
図4に示すように、切欠凹部16に第1閉塞部材51が上下(切欠凹部16の深さ方向)にスライド可能に嵌め込まれている。第1閉塞部材51は、大略平板状になっている。図6に示すように、第1閉塞部材51の側端面には段差51dが形成されている。第1閉塞部材51の段差51dが、切欠凹部16の段差16dと嵌め合わされている。
As shown in FIG. 4, the
図4に示すように、第1閉塞部材51の外面にはバネ受け部55が一体に設けられている。バネ受け部55の両端部は、第1閉塞部材51の両側面より突出している。側壁15の外面の切欠凹部16を挟んで両側には、バネ座56が設けられている。バネ座56は、バネ受け部55より下に位置している。バネ受け部55とバネ座56の間に、圧縮コイルバネ53(第2の付勢手段)が設けられている。バネ受け部55の下面には、圧縮コイルバネ53の上端部を収容する収容凹部55cが形成されている。バネ座56の上面には、圧縮コイルバネ53の下端部を収容する収容凹部56cが形成されている。圧縮コイルバネ53によって、バネ受け部55ひいては第1閉塞部材51に、上方向(設置口周縁部14から突出する方向)への変位力が作用している。これにより、第1閉塞部材51の上端部がシール部材30の外縁部に弾性を持って押し当てられている。
As shown in FIG. 4, a
図5に示すように、第1閉塞部材51には第1挿通孔51cが形成されている。第1挿通孔51cの内直径は、ローラーシャフト61の外直径より十分に大きい。第1挿通孔51cにローラーシャフト61が挿通されている。
As shown in FIG. 5, a
図4及び図5に示すように、第1閉塞部材51の外面には第2閉塞部材52が設けられている。第2閉塞部材52は、円板形状の閉塞板52aと、閉塞板52aの周縁部から外方向へ突出する周壁52bとを有している。図5に示すように、閉塞板52aの中央には、第2挿通孔52cが形成されている。第2挿通孔52cは、第1挿通孔51cより小径になっている。第2挿通孔52cにローラーシャフト61が挿通されている。第2挿通孔52cの内周面とローラーシャフト61の外周面との間には、ローラーシャフト61の回転を許容し得る程度の僅かなクリアランス(例えば0.1mm程度)が形成されている。閉塞板52aの第2挿通孔52cの周辺の部分が、第1挿通孔51cの内周面より径方向の内側に突出し、第1挿通孔51cの内周面とローラーシャフト61との間の環状空間を外側からほぼ塞いでいる。
As shown in FIGS. 4 and 5, a
周壁52bの内部には軸受け54が収容されている。軸受け54の内輪は、ローラーシャフト61に接している。軸受け54の外輪は、周壁52bに接している。軸受け54を介して第2閉塞部材52がローラーシャフト61に支持されている。かつ、第2閉塞部材52が、軸受け54によってローラーシャフト61の回転から縁切りされている。しかも、軸受け54によって、第2挿通孔52cの軸線がローラーシャフト61の軸線と一致するように、第2閉塞部材52が芯出しされている。
A
ローラーシャフト61の外端に設けた軸受け64と、軸受け54との間には、圧縮コイルバネ57(第3の付勢手段)が設けられている。圧縮コイルバネ57にローラーシャフト61が挿通されている。圧縮コイルバネ57の両端部は軸受け54,64の内輪にそれぞれ突き当てられている。圧縮コイルバネ57によって、軸受け54が、外端の軸受け64から離れる方向へ押されている。ひいては、軸受け54を介して第2閉塞部材52が第1閉塞部材51の方向へ押されている。これにより、第2閉塞部材52が第1閉塞部材51の外面に押し当てられている。(閉塞部材51,52どうしが互いに押し合うように付勢されている)。さらには、第1閉塞部材51の段差51dが切欠凹部16の段差16dに押し当てられている。
なお、圧縮コイルバネ57の両端部が、軸受け54,64の内輪ではなく外輪に突き当てられていてもよい。圧縮コイルバネ73の一端部が、軸受け54を介さずに第2閉塞部材52に直接的に突き当てられていてもよい。
A compression coil spring 57 (third urging means) is provided between a bearing 64 provided at the outer end of the
Note that both end portions of the
上記構成の表面処理装置1によれば、ローラーコンベア60によって被処理物9を搬入開口11から処理槽10の内部に搬入し、処理空間19に導入する。また、処理ガスをノズル20から処理空間19に供給する。この処理ガスが、被処理物9に接触し、エッチング等の表面処理が実行される。処理後の被処理物9を搬出開口12に通して処理槽10から搬出する。複数の被処理物9をローラーコンベア60上に間隔を置いて一列に並べ、順次、処理槽10内に搬入して表面処理した後、処理槽10から搬出する。
According to the
シール部材30によって設置口周縁部14とノズル20との間の環状空間13aを気密に塞ぐことにより、処理槽10内のガスが、環状空間13aを通って外部に漏れるのを防止できる。シール部材30がシート状であるため、設置口周縁部14とノズル20とが大きく離れていたとしても、シール部材30を設置口周縁部14とノズル20の間に張り渡し、処理槽10とノズル20の間を確実にシールできる。シート状シール部材30の外縁部(第2要素側の周縁部)は、保持枠31によって保持できる。したがって、シール部材30の外縁部を容易に設置口周縁部14に沿うよう配置できる。シール部材30の外縁部(第2要素側の周縁部)と設置口周縁部14との間は、圧縮コイルバネ33の押し当てによってシール性を十分に確保でき、処理槽10内のガスが、シール部材30の外縁部と設置口周縁部14との間から外部に漏れるのを防止できる。
By sealing the
側壁15におけるローラーシャフト貫通用の切欠凹部16には第1閉塞部材51が設けられ、この第1閉塞部材51が圧縮コイルバネ53によって上へ付勢され、シール部材30の外縁部の左右の縁部分に押し当てられている。したがって、第1閉塞部材51の上端部とシール部材30との間をシールでき、処理槽10内のガスが第1閉塞部材51とシール部材30との間から外部に漏れるのを防止できる。
A
切欠凹部16は、第1閉塞部材51である程度塞ぐことができる。さらに、第1閉塞部材51の挿通孔51cの内周面とローラーシャフト61の外周面との間の環状空間は、第2閉塞部材52で十分に塞ぐことができる。これによって、処理槽10の内部のガスが第1挿通孔51cから漏れるのを防止できる。さらには、第2閉塞部材52の第2挿通孔52cの内周面とローラーシャフト61の外周面との間のクリアランスは、極めて小さい(0.1mm程度)。これによって、処理槽10の内部のガスが挿通孔51c,52cから漏れるのを十分に防止できる。しかも、圧縮コイルバネ57によって、第2閉塞部材52が第1閉塞部材51に押し当てられるため、処理槽10の内部のガスが第1閉塞部材51の外面と閉塞板52aとの間から漏れるのを確実に防止できる。さらに、上記圧縮コイルバネ57のバネ力によって、第1閉塞部材51の段差51dが切欠凹部16の段差16dに押し当てられるため、処理槽10の内部のガスが、第1閉塞部材51及び切欠凹部16の周縁どうし間から漏れるのを確実に防止できる。この結果、側壁15におけるローラーシャフト61が貫通する箇所のシール性を十分に確保できる。
The
第1挿通孔51cの開口面積は、第2挿通孔52cの開口面積より大きくでき、ひいてはローラーシャフト61の断面積より十分に大きくできる。これによって、第1閉塞部材51とローラーシャフト61の干渉を十分に回避でき、第1閉塞部材51の上下変位を十分に許容できる。したがって、第1閉塞部材51の上端部とシール部材30との間のシール性を十分に確保できる。
The opening area of the
この結果、処理ガスが、処理槽10から外部に漏れるのを十分に防止できる。したがって、処理ガスが有毒成分を含む場合でも作業の安全性を確保できる。また、処理ガスが腐食性成分を含んでいても周辺装置の腐食を防止できる。或いは、処理ガスが温暖化係数の大きい成分を含んでいても、環境負荷が増大するのを防止できる。
As a result, it is possible to sufficiently prevent the processing gas from leaking from the
軸受け54によって、第2挿通孔52cをローラーシャフト61の軸線に対し高精度に芯出しできる。したがって、第2挿通孔52cの内周面とローラーシャフト61の外周面との間のクリアランスが極小(0.1mm程度)であっても、回転時のローラーシャフト61が第2挿通孔52cの内周面に摺擦するのを回避できる。逆に言うと、上記クリアランスを極めて小さく設定でき、処理槽10内のガスが、第2挿通孔52cの内周面とローラーシャフト61の外周面との間から漏れるのを十分に防止することができる。
By the
第2閉塞部材52は軸受け54を介しローラーシャフト61に支持されるため、第1閉塞部材51が変位しても、第2閉塞部材52についてはローラーシャフト61に対し芯出しされた状態に維持できる。したがって、第1閉塞部材51の変位に合わせて第2閉塞部材52の位置を調節する必要がない。
Since the
シール部材30が柔軟性及び伸縮性を有しているため、ノズル20の高さ(上下方向の位置)を調節したり、ノズル20の水平度を調節したりしても、シール部材30が伸縮することで、設置口周縁部14とノズル20との間のシール状態を維持できる。
Since the
図2に示すように、設置位置のノズル20は、支持梁23を介し台座3に支持されている。したがって、ノズル20の荷重が処理槽10に作用することはない。これにより、処理槽10の所要強度を低減できる。また、処理槽10の設置口周縁部14とノズル20を離すことができ、ノズル20の処理槽10への設置や処理槽10からの分離を容易化できる。さらに、ノズル20の処理槽10に対する位置調節を容易に行なうことができる。
As shown in FIG. 2, the
ノズル20は、表面処理による汚れが付着したり傷みが生じたりしやすく、ある程度の頻度でメンテナンスを行なう必要がある。図3に示すように、ノズル20のメンテナンスの際は、伸縮式油圧シリンダからなるノズル移動手段5を伸長させる。これによって、ノズル20が、ヒンジ4を回転支点にして設置口13から上へ離れるように回転する。これにより、ノズル20を図3に示す離間位置に簡単に移動させることができる。ノズル20の移動に伴ない、シール部材30がノズル20と一体的に移動し、シール部材30の外縁部が設置口周縁部14から離れる。保持枠31によってシール部材30の外縁部の形状を維持できる。さらに、シール部材30の外縁部は、保持枠31及び被支持ピン32を介し連結部24に連結されて支持されているため、柔軟であっても垂れることはない。
なお、図4の仮想線に示すように、ノズル20を10から上に離すと、圧縮コイルバネ33のバネ力によって第1閉塞部材51の上端部が設置口周縁部14より上に突出する。
The
As shown by the phantom line in FIG. 4, when the
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において、既述の形態と重複する構成に関しては、図面に同一符号を付して説明を省略する。
図7は、本発明の第2実施形態を示したものである。この実施形態では、シール部材30の外縁部が、シール止着部17によって設置口周縁部14に固定されている。シール部材30の内縁部は、ノズル20から分離可能になっている。圧縮コイルバネ等の付勢手段33が、シール部材30の内縁部をノズル先端部21の外周のシール接触部21aに押し当てている。これによって、シール部材30の内縁部とノズル先端部21との間のシール性が十分に確保されている。
Next, another embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, the same reference numerals are given to the drawings for the same configurations as those already described, and the description thereof is omitted.
FIG. 7 shows a second embodiment of the present invention. In this embodiment, the outer edge portion of the
ノズル20をメンテナンス等のために設置位置から離間位置(図3参照)に移動させる際は、付勢手段33によるシール部材30の押し当てを解除し、シール部材30の内縁部をノズル20から解放する。そのうえで、ノズル20を移動させる。シール部材30は、処理槽10に連結された状態で残置され、ノズル20から分離される。第2実施形態では、処理槽10が、特許請求の範囲の「第1要素」を構成する。ノズル20が、特許請求の範囲の「第2要素」を構成する。シール部材30の外縁部が、「第1要素側の周縁部」を構成する。シール部材30の内縁部が、「第2要素側の周縁部」を構成する。
When the
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変をなすことができる。
例えば、シール部材30は、環状であり、かつ設置口周縁部14とノズル20との間を気密に塞ぐものであればよく、シート状に限られず、例えばOリングやガスケットで構成されていてもよい。
処理槽10の設置口周縁部14とノズル20のシール接触部22,21aとが上下方向に離れ、シール部材30が軸線を上下に向けた筒状のシート状になり、この筒状シート部材30の上側の周縁部が、設置口周縁部14とノズル20のうち一方に接し、筒状シート部材30の下側の周縁部が、設置口周縁部14とノズル20のうち他方に接していてもよい。
保持枠31を、シール部材30の第2要素側の周縁部を挟んで第2要素に連結手段で分離可能に連結してもよい。保持枠31を第2要素に分離可能に連結する連結手段として、例えばボルトやフックが挙げられる。この場合、ノズル20を処理槽10から分離又は移動させる際は、保持枠31から上記連結手段を解除したうえで、ノズル20の分離又は移動を行なう。
被処理物9の搬送手段は、ローラーコンベア60に限られず、移動式ステージ、浮上ステージ、ロボットアーム等で構成されていてもよい。表面処理装置1が、被処理物9の搬送を有していなくてもよい。処理槽10内に被処理物9を静止させて支持する支持部(例えばステージ)が設けられていてもよい。
ノズル移動手段5は、ノズル20を処理槽10に対して移動させるものであればよく、ノズル20を回転移動させるのに限られず、例えばノズル20を水平状態を維持しながら平行移動させるものであってもよく、回転移動と平行移動を組み合わせた動作をするようになっていてもよい。
ノズル20は、ノズル移動手段5ではなく、人手で処理槽10から分離又は移動されるようになっていてもよい。
ノズル20は、処理槽10の上部に設置されるのに限られず、処理槽10の側部又は底部に設置されるようになっていてもよい。
第2閉塞部材52が、ローラーシャフト61に支持されるのに代えて第1閉塞部材51に支持されてもよい。
付勢手段33,53,57は、それぞれ圧縮コイルバネに限られず、引っ張りコイルバネでもよく、板バネでもよく、弾性ゴムでもよく、エアアクチュエータ又は油圧アクチュエータでもよい。付勢手段33,53,57は、対応する付勢対象30,51,52を押すだけではなく、押し付ける相手側から吸引する吸引手段でもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.
For example, the
The installation port
The holding
The means for conveying the workpiece 9 is not limited to the
The nozzle moving means 5 is not limited to rotating the
The
The
The
The biasing means 33, 53, 57 are not limited to compression coil springs, but may be tension coil springs, leaf springs, elastic rubbers, air actuators or hydraulic actuators. The urging means 33, 53, and 57 may be suction means that not only push the corresponding urging objects 30, 51, and 52 but also suck from the other side to be pressed.
本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ(FPD)や半導体ウェハの製造に適用可能である。 The present invention is applicable, for example, to the manufacture of flat panel displays (FPD) and semiconductor wafers.
1 表面処理装置
2 処理ガス供給路
3 台座(ノズル支持手段)
4 ヒンジ(ノズル回転軸)
5 ノズル移動手段
9 被処理物
10 処理槽
11 搬入開口
12 搬出開口
13 設置口
13a 環状空間
14 設置口周縁部(シール接触部)
15 処理槽のローラーシャフトと交差する壁
16 切欠凹部
16d 段差
17 シール止着部
19 処理空間
20 ノズル
21 ノズル先端部
21a シール接触部
22 シール止着部(シール接触部)
23 支持梁
24 連結部
30 シール部材
31 保持枠
32 被支持ピン
32a 抜け止め部
33 圧縮コイルバネ(弾性部材、(第1の)付勢手段)
51 第1閉塞部材
51c 第1挿通孔
51d 段差
52 第2閉塞部材
52a 閉塞板
52b 周壁
52c 第2挿通孔
53 圧縮コイルバネ(第2の付勢手段)
54 軸受け
55 バネ受け部
56 バネ座
57 圧縮コイルバネ(第3の付勢手段)
60 ローラーコンベア
61 ローラーシャフト
62 ローラ
63 駆動系
64 軸受け
DESCRIPTION OF
4 Hinge (nozzle rotation axis)
5 Nozzle moving means 9 Processed
15
23
51
54
60
Claims (14)
設置口を有して前記処理空間を囲む処理槽と、
前記設置口を介して前記処理空間に臨み、前記処理空間に処理ガスを供給し、かつ処理槽に対し分離可能又は移動可能なノズルと、
前記処理槽の前記設置口の周縁部と前記ノズルとの間を気密に塞ぐ環状のシール部材と、
を備えたことを特徴とする表面処理装置。 In an apparatus for treating the surface by bringing a treatment gas into contact with the surface of an object to be treated disposed in the treatment space,
A treatment tank having an installation port and surrounding the treatment space;
A nozzle that faces the processing space through the installation port, supplies a processing gas to the processing space, and is separable or movable with respect to the processing tank;
An annular seal member that hermetically seals between the nozzle and the peripheral edge of the installation port of the treatment tank;
A surface treatment apparatus comprising:
前記シール部材の前記第2要素側の周縁部を前記第2要素に押し当てる付勢手段を、更に備えたことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の表面処理装置。 The seal member is supported by one of the treatment tank and the nozzle (hereinafter referred to as “first element”) and separated from the other of the treatment tank and the nozzle (hereinafter referred to as “second element”). Is possible,
The surface treatment apparatus according to claim 1, further comprising an urging unit that presses a peripheral portion of the seal member on the second element side against the second element.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008258529A JP2010092914A (en) | 2008-10-03 | 2008-10-03 | Surface treatment apparatus |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110718238A (en) * | 2018-07-12 | 2020-01-21 | 阿里巴巴集团控股有限公司 | Crosstalk data detection method, client and electronic equipment |
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2008
- 2008-10-03 JP JP2008258529A patent/JP2010092914A/en not_active Withdrawn
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