JP2010092674A - Organic electroluminescent display and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a solid sealing method of an organic EL display for efficiently preventing permeation of moisture and suppressing a production cost as well. <P>SOLUTION: A positioning mark 32 is formed on a mother adhesive material sheet 30 simultaneously with such a process as an outer shape punching or the like. The mother adhesive material sheet 30 is adhered on a mother sealing substrate 400 on an outer shape basis. The mother sealing substrate 400 and a mother element substrate 100 are positioned and adhered on a basis of the positioning mark 32 of the mother adhesive material sheet 30 adhered to the mother sealing substrate 400 and the positioning mark 33 of the mother element substrate 100. Since it is not necessary to form the positioning mark 32 on the mother sealing substrate 400 in a separate process, a production cost is reduced. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は有機EL表示装置に係り、特に水分によるダークスポット等の発生を抑えた、信頼性の高い有機EL表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL display device, and more particularly to a method for manufacturing a highly reliable organic EL display device that suppresses generation of dark spots due to moisture.

有機EL表示装置では画素電極(下部電極)と上部電極との間に有機EL層を挟持し、上部電極に一定電圧を印加し、下部電極にデータ信号電圧を印加して有機EL層の発光を制御することによって画像を形成する。下部電極へのデータ信号電圧の供給は薄膜トランジスタ(TFT)を介して行われる。有機EL表示装置には、有機EL層から発光した光を、有機EL層等が形成されたガラス基板方向に取り出すボトムエミッション型と、有機EL層等が形成されたガラス基板と逆の方向に取り出すトップエミッション型とがある。   In an organic EL display device, an organic EL layer is sandwiched between a pixel electrode (lower electrode) and an upper electrode, a constant voltage is applied to the upper electrode, and a data signal voltage is applied to the lower electrode to emit light from the organic EL layer. An image is formed by controlling. The data signal voltage is supplied to the lower electrode through a thin film transistor (TFT). In the organic EL display device, light emitted from the organic EL layer is extracted in the direction opposite to the glass substrate on which the organic EL layer is formed, and the bottom emission type in which the light is emitted toward the glass substrate on which the organic EL layer is formed. There is a top emission type.

有機EL表示装置に使用される有機EL材料は水分が存在すると発光特性が劣化し、長時間動作をさせると、水分によって劣化した場所が発光しなくなる。これは表示領域のダークスポットとして現れる。このダークスポットは時間の経過とともに成長し、画像の欠陥となる。なお、画素の周辺で発光しない領域が増加するエッジグロースという現象も水分の影響によって生ずる。   The organic EL material used in the organic EL display device has a light emitting characteristic that deteriorates when moisture is present. When the organic EL material is operated for a long time, the place where the moisture is deteriorated does not emit light. This appears as a dark spot in the display area. This dark spot grows with time and becomes an image defect. Note that the phenomenon of edge growth in which the area that does not emit light around the pixel increases is also caused by the influence of moisture.

ダークスポット等の発生、あるいは成長を防止するためには、有機EL表示装置内への水分の浸入の防止、あるいは、浸入した水分を除去する必要がある。このために、有機EL層が形成された素子基板を周囲に設置したシールを介して、封止基板によって封止し、外部から有機EL表示装置内への水分の浸入を防止する。封止された内部の空間にはN等の不活性ガスを充填する。一方、有機EL表示装置内に進入した水分を除去するために、有機EL表示装置内に乾燥剤を設置する。これを中空封止型有機EL表示装置という。 In order to prevent the occurrence or growth of dark spots or the like, it is necessary to prevent moisture from entering the organic EL display device or to remove the moisture that has entered. For this purpose, the element substrate on which the organic EL layer is formed is sealed by a sealing substrate through a seal placed around the device substrate, and moisture can be prevented from entering the organic EL display device from the outside. The sealed internal space is filled with an inert gas such as N 2 . On the other hand, in order to remove moisture that has entered the organic EL display device, a desiccant is placed in the organic EL display device. This is called a hollow sealed organic EL display device.

中空封止型有機EL表示装置では、素子基板と封止基板のギャップ調整が難しい、封止内部の調整が難しい、封止剤によって封止するときの、封止剤から放出されたガスによる有機EL材料の汚染、スループットが低い等の問題がある。   In the hollow sealing type organic EL display device, it is difficult to adjust the gap between the element substrate and the sealing substrate, it is difficult to adjust the inside of the sealing, and the organic due to the gas released from the sealing agent when sealing with the sealing agent There are problems such as contamination of EL material and low throughput.

中空封止の問題を対策するものとして、膜厚が決まっている樹脂シートを素子基板と封止基板の間に挟み、この樹脂シートによって有機EL材料を水分から保護する技術が存在する。これを固体封止と称する。   As a countermeasure against the problem of hollow sealing, there is a technique in which a resin sheet having a predetermined thickness is sandwiched between an element substrate and a sealing substrate, and the organic EL material is protected from moisture by this resin sheet. This is called solid sealing.

「特許文献1」には、固体封止の例が記載されており、図18は「特許文献1」に記載されている構成である。図16において、光透過性フィルム101上に形成した光硬化性樹脂102を、有機EL層22を設けた素子基板10の上に80℃に加熱した圧着ローラ105を用いて貼り付ける。ついで、紫外線を照射して光硬化性樹脂102を硬化させ、光透過性フィルム101を剥がすことによって光硬化性樹脂で封止した有機EL表示装置を得る。また、必要に応じて有機EL素子を窒化シリコン膜で被覆する構成が記載されている。   “Patent Document 1” describes an example of solid sealing, and FIG. 18 shows a configuration described in “Patent Document 1”. In FIG. 16, the photocurable resin 102 formed on the light transmissive film 101 is pasted onto the element substrate 10 provided with the organic EL layer 22 using a pressure roller 105 heated to 80 ° C. Next, an organic EL display device sealed with a photocurable resin is obtained by irradiating ultraviolet rays to cure the photocurable resin 102 and peeling off the light transmissive film 101. Moreover, the structure which coat | covers an organic EL element with a silicon nitride film as needed is described.

「非特許文献1」には、有機EL表示装置の封止として図19に示すように、次のような技術が記載されている。すなわち、封止基板40の、有機EL素子103に対応する場所に、樹脂フィルム107を貼り付け、ついでシール剤108を樹脂フィルム107の周辺に描画する。樹脂フィルム107をシール剤108を形成した封止基板40と有機EL素子103が形成されている素子基板10と張り合わせる。ついで、封止基板40から紫外線を照射し、80℃〜100℃の熱処理を行うことによってシール剤108の硬化を行い、同時に、流動性が出てきた樹脂フィルム107が封止基板40、素子基板10、および、シール剤108で形成される空間に広がって、この空間を埋める。最後に、個々の有機EL表示パネルに分断して完成する。   "Non-patent document 1" describes the following technique as shown in FIG. 19 for sealing an organic EL display device. That is, the resin film 107 is pasted on the sealing substrate 40 at a location corresponding to the organic EL element 103, and then the sealing agent 108 is drawn around the resin film 107. The resin film 107 is bonded to the sealing substrate 40 on which the sealing agent 108 is formed and the element substrate 10 on which the organic EL element 103 is formed. Next, the sealing agent 108 is cured by irradiating ultraviolet rays from the sealing substrate 40 and performing a heat treatment at 80 ° C. to 100 ° C. At the same time, the resin film 107 having fluidity is formed into the sealing substrate 40 and the element substrate. 10 and the space formed by the sealant 108 is spread to fill this space. Finally, it is divided into individual organic EL display panels and completed.

「特許文献2」には、マザー基板に複数の表示素子を形成し、複数の表示素子に対して一括して封止膜を形成し、その後、端子部から保護膜をレーザアブレージョンによって保護膜を除去する構成が記載されている。図20は「特許文献2」に記載の構成であり、マザー基板206に発光部207と端子部209を有する表示素子が複数形成されており、保護膜208によって被覆されている。そして、端子部209の一部210からレーザアブレージョンによって保護膜208を除去し、開口部210を形成している。   In “Patent Document 2”, a plurality of display elements are formed on a mother substrate, a sealing film is formed collectively on the plurality of display elements, and then a protective film is formed from the terminal portion by laser abrasion. The configuration to be removed is described. FIG. 20 shows a configuration described in “Patent Document 2”. A plurality of display elements each having a light emitting portion 207 and a terminal portion 209 are formed on a mother substrate 206 and covered with a protective film 208. Then, the protective film 208 is removed from the part 210 of the terminal portion 209 by laser abrasion to form the opening 210.

特開2004−139977号公報JP 2004-139777 A 特開2006−66364号公報JP 2006-66364 A 佐々木信也 日経エレクトリニクス2007年9月10非No.960 PP10−11Shinya Sasaki Nikkei Electronics September 10, 2007 Non-No. 960 PP10-11

固体封止型有機EL表示装置では、複数の素子基板が形成されたマザー素子基板と、接着材シートが貼り付けられたマザー封止基板を負圧雰囲気中で接着し、その後。個々の有機EL表示パネルに分離する製造方法が用いられる。有機EL表示装置では、素子基板に有機EL層、スイッチングのための薄膜トラジススタ(TFT)等を形成し、封止基板は外部からの水分を遮断するために使用されるので、単なるガラス基板を用いることも出来る。   In a solid-sealed organic EL display device, a mother element substrate on which a plurality of element substrates are formed and a mother sealing substrate on which an adhesive sheet is attached are bonded in a negative pressure atmosphere. A manufacturing method for separating into individual organic EL display panels is used. In an organic EL display device, an organic EL layer, a thin film transistor (TFT) for switching, etc. are formed on an element substrate, and a sealing substrate is used to block moisture from the outside, so a simple glass substrate is used. You can also

一方、有機EL表示装置を外部からの水分から保護するためには、素子基板と封止基板との接着精度が必要である。一般に2枚のガラス基板を精度良く重ね合わせるためには、双方の基板に形成された目合わせマークを基準に重ねあわせが行われる。   On the other hand, in order to protect the organic EL display device from moisture from the outside, the bonding accuracy between the element substrate and the sealing substrate is required. In general, in order to superimpose two glass substrates with high accuracy, superposition is performed based on alignment marks formed on both substrates.

ガラス基板に種々のパターンが形成される場合は、パターン形成と同時に目合わせマークが形成される。しかし、封止基板の場合は、パターンが形成されないので、目合わせのためだけにパターンを形成するか、ガラスに傷をつけて目合わせマークとするというような方法がとられていた。これは、製造コストを押し上げることになる。   When various patterns are formed on the glass substrate, alignment marks are formed simultaneously with the pattern formation. However, in the case of a sealing substrate, since a pattern is not formed, a method is employed in which a pattern is formed only for alignment or a glass is scratched to form alignment marks. This will increase the manufacturing cost.

本発明の課題は、以上のような問題点を解決するものであり、封止基板に目合わせのためのパターンを別途形成しなくとも、封止基板と素子基板を精度良く目合わせすることが出来る構成を実現することである。   An object of the present invention is to solve the above-described problems, and it is possible to accurately align the sealing substrate and the element substrate without separately forming a pattern for alignment on the sealing substrate. It is to realize a possible configuration.

本発明は上記課題を解決するものであり、封止基板と素子基板を接着する接着材シートに目合わせマークを形成し、この目合わせマークと素子基板に形成された目合わせマークを基準に素子基板および封止基板を重ね合わせる。具体的な手段は次のとおりである。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-described problem, and forms a registration mark on an adhesive sheet that bonds the sealing substrate and the element substrate, and the element is based on the alignment mark and the alignment mark formed on the element substrate. The substrate and the sealing substrate are overlaid. Specific means are as follows.

(1)表示領域と端子部を有する素子基板に、前記表示領域を覆って接着材シートが形成され、前記接着剤シートに封止基板が接着している有機EL表示装置の製造方法において、前記有機EL表示装置は、前記封止基板が複数形成されるマザー封止基板と、前記素子基板が複数形成されるマザー素子基板と前記マザー封止基板と前記マザー素子基板を接着するマザー接着材シートとから形成されるマザーパネルから分離されて形成され、前記マザー接着材シートは、目合わせマークおよび接着材除去部を有し、前記マザー接着材シートを前記マザー封止基板に接着し、前記マザー封止基板を前記マザー接着材シートに形成された目合わせマークを基準に前記マザー素子基板に接着し、前記接着材除去部は前記マザー素子基板に形成された複数の端子部に配置されるように前記マザー封止基板および前記マザー素子基板を接着することを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。   (1) In the manufacturing method of an organic EL display device in which an adhesive sheet is formed on an element substrate having a display region and a terminal portion so as to cover the display region, and a sealing substrate is bonded to the adhesive sheet. The organic EL display device includes a mother sealing substrate on which a plurality of the sealing substrates are formed, a mother element substrate on which the plurality of element substrates are formed, and a mother adhesive sheet that bonds the mother sealing substrate and the mother element substrate. The mother adhesive sheet has an alignment mark and an adhesive removing part, and adheres the mother adhesive sheet to the mother sealing substrate. The sealing substrate is bonded to the mother element substrate with reference to the alignment mark formed on the mother adhesive sheet, and the adhesive removing portion is a composite formed on the mother element substrate. A method of manufacturing an organic EL display device characterized by bonding the mother sealing substrate and the mother element substrate so as to be arranged in the terminal portion of the.

(2)前記マザー封止基板に接着されるマザー接着材シートは一枚であり、前記マザー素子基板に形成される複数の素子基板の端子部に対応する部分からは、マザー接着材シートが除去されていることを特徴とする(1)に記載の有機EL表示装置の製造方法。   (2) The mother adhesive sheet bonded to the mother sealing substrate is a single sheet, and the mother adhesive sheet is removed from the portions corresponding to the terminal portions of the plurality of element substrates formed on the mother element substrate. (1) The manufacturing method of the organic EL display device according to (1).

(3)前記素子基板に形成される複数の表示領域を被覆するように前記マザー封止基板に接着したマザー接着材シートが複数接着され、前記複数のマザー接着材シートは目合わせマークを有し、前記マザー接着材シートは前記マザー素子基板に形成される複数の素子基板の端子部に対応する部分を被覆しないことを特徴とする(1)に記載の有機EL表示装置の製造方法。   (3) A plurality of mother adhesive sheets adhered to the mother sealing substrate are bonded so as to cover a plurality of display areas formed on the element substrate, and the plurality of mother adhesive sheets have alignment marks. The method for producing an organic EL display device according to (1), wherein the mother adhesive sheet does not cover portions corresponding to terminal portions of a plurality of element substrates formed on the mother element substrate.

(4)前記マザー接着材シートはロール状フィルムとなった保護フィルムに貼りつけられていることを特徴とする(1)〜(3)に記載の有機EL表示装置の製造方法。   (4) The method for producing an organic EL display device according to any one of (1) to (3), wherein the mother adhesive sheet is attached to a protective film that is a roll film.

(5)表示領域と端子部を有する素子基板に、前記表示領域を覆って接着材が形成され、前記接着剤に封止基板が接着している有機EL表示装置の製造方法において、前記有機EL表示装置は、前記封止基板が複数形成されるマザー封止基板と、前記素子基板が複数形成されるマザー素子基板と前記マザー封止基板と前記マザー素子基板を接着する接着材とから形成されるマザーパネルから分離されて形成され、前記接着材は、前記マザー素子基板に形成される複数の表示領域を覆うが、前記マザー素子基板に形成される複数の端子部は覆わないように、かつ、目合わせマークが形成されるように前記マザー封止基板に塗付することを特長とする有機EL表示装置の製造方法。   (5) In the method of manufacturing an organic EL display device in which an adhesive is formed on an element substrate having a display region and a terminal portion so as to cover the display region, and a sealing substrate is bonded to the adhesive. The display device is formed of a mother sealing substrate on which a plurality of the sealing substrates are formed, a mother element substrate on which the plurality of element substrates are formed, and an adhesive that bonds the mother sealing substrate and the mother element substrate. And the adhesive material covers a plurality of display areas formed on the mother element substrate, but does not cover a plurality of terminal portions formed on the mother element substrate, and A method of manufacturing an organic EL display device, wherein the mother sealing substrate is applied so that alignment marks are formed.

(6)前記塗付はスクリーン印刷によって行なわれることを特徴とする(5)に記載の有機EL表示装置の製造方法。   (6) The method for manufacturing an organic EL display device according to (5), wherein the application is performed by screen printing.

(7)表示領域と端子部を有する素子基板に、前記表示領域を覆って接着材シートが形成され、前記接着剤シートに封止基板が接着している有機EL表示装置であって、前記接着材シートは目合わせマークを有しており、前記素子基板は目合わせマークを有していることを特徴とする有機EL表示装置。   (7) An organic EL display device in which an adhesive sheet is formed on an element substrate having a display region and a terminal portion so as to cover the display region, and a sealing substrate is bonded to the adhesive sheet, the bonding The material sheet has alignment marks, and the element substrate has alignment marks.

(8)表示領域と端子部を有する素子基板に、前記表示領域を覆って接着材が塗付によって形成され、前記接着剤に封止基板が接着している有機EL表示装置であって、前記接着材には目合わせマークが形成されており、前記素子基板には目合わせマークが形成されていることを特徴とする有機EL表示装置。   (8) An organic EL display device in which an adhesive material is formed by coating an element substrate having a display region and a terminal portion so as to cover the display region, and a sealing substrate is bonded to the adhesive. An organic EL display device, wherein an alignment mark is formed on the adhesive, and an alignment mark is formed on the element substrate.

本発明によれば、素子基板と封止基板の位置合わせのための目合わせマークを封止基板に形成する必要が無い。つまり、封止基板に目合わせマークを形成するための加工を行う必要がなく、封止ガラスとしては、単なるガラス板を用いることが出来る。したがって、有機EL表示装置の製造コストを低減させることが出来る。   According to the present invention, it is not necessary to form alignment marks on the sealing substrate for alignment between the element substrate and the sealing substrate. That is, it is not necessary to perform processing for forming alignment marks on the sealing substrate, and a simple glass plate can be used as the sealing glass. Therefore, the manufacturing cost of the organic EL display device can be reduced.

本発明の具体的な実施例を説明する前に、本発明が適用される有機EL表示装置の構成について説明する。図1は本発明の有機EL表示装置を構成する有機EL表示パネル300の断面図である。図1において、素子基板10には画像を常時するための有機EL層や駆動のための薄膜トランジスタ(TFT)等がマトリクス状に形成された表示領域101が形成されている。   Before describing specific embodiments of the present invention, the configuration of an organic EL display device to which the present invention is applied will be described. FIG. 1 is a cross-sectional view of an organic EL display panel 300 constituting the organic EL display device of the present invention. In FIG. 1, an element substrate 10 is formed with a display region 101 in which an organic EL layer for constantly displaying an image, a thin film transistor (TFT) for driving, and the like are formed in a matrix.

表示領域101を覆って、封止の役割を兼ねる接着材シート30が設置されている。この接着材シートによってガラスで形成される封止基板が素子基板に接着している。接着材シート30としては、熱硬化性のエポキシ樹脂が使用される。接着材の厚さは10μm〜20μmである。なお、接着材シート30としてはエポキシ樹脂に限らずアクリル樹脂あるいはシリコン樹脂でも良い。   An adhesive sheet 30 that covers the display area 101 and also serves as a seal is provided. A sealing substrate made of glass is bonded to the element substrate by the adhesive sheet. As the adhesive sheet 30, a thermosetting epoxy resin is used. The thickness of the adhesive is 10 μm to 20 μm. The adhesive sheet 30 is not limited to an epoxy resin but may be an acrylic resin or a silicon resin.

接着材シート30は非透湿のものが好ましいが、必ずしも、水分に対するバリアが強力なものでなくとも良い。水分に対するバリアは主としてガラスで形成された封止基板40が担うからである。すなわち、図1のような構成であれば、上方からの水分の浸入はガラスである封止基板40によってブロックされるが、側部からの水分が有機EL層に到達するには長い距離を通過する必要があるということである。   The adhesive sheet 30 is preferably non-moisture permeable, but does not necessarily have a strong barrier against moisture. This is because the sealing substrate 40 formed mainly of glass serves as a barrier against moisture. That is, in the configuration as shown in FIG. 1, the intrusion of moisture from above is blocked by the sealing substrate 40 made of glass, but it takes a long distance for moisture from the side to reach the organic EL layer. It is necessary to do.

素子基板10の端部には表示領域101に有機EL層への電力、映像信号等を供給するための端子部102が延在している。端子部102は接着材によって覆われていないが、配線は無機パッシベーション膜、あるいは、有機パッシベーション膜によって被覆されているので、端子部102の導電膜が腐食することは無い。また、導電膜は有機EL層ほど水分には影響を受けない。   A terminal portion 102 for supplying power to the organic EL layer, a video signal, and the like extends to the display region 101 at an end portion of the element substrate 10. Although the terminal portion 102 is not covered with the adhesive, the conductive film of the terminal portion 102 is not corroded because the wiring is covered with the inorganic passivation film or the organic passivation film. Further, the conductive film is not affected by moisture as much as the organic EL layer.

図1はいわゆる固体封止であり、封止基板40と素子基板10の間に空間が形成されていない。したがって、中空封止の場合のように、封止基板40が押された場合に素子基板10に接触して黒点が生ずるというような問題は生じない。また、封止のときの、封止ガスの内部圧力による種々の問題点も生じない。   FIG. 1 shows so-called solid sealing, and no space is formed between the sealing substrate 40 and the element substrate 10. Therefore, as in the case of hollow sealing, there is no problem that black spots are generated by contacting the element substrate 10 when the sealing substrate 40 is pressed. In addition, various problems due to the internal pressure of the sealing gas during sealing do not occur.

本発明は図1のような有機EL表示パネル300をマザーパネル200に複数形成する。そして、マザー素子基板100とマザー封止基板400を接着するための大判の接着材シート30をマザー封止基板に貼り付けた後、マザー封止基板400とマザー素子基板100とを接着する。本発明は表示領域101に接着材シート30を設置し、端子部102に接着材シート30を設置しない方法に特徴がある。   In the present invention, a plurality of organic EL display panels 300 as shown in FIG. Then, after the large-sized adhesive sheet 30 for bonding the mother element substrate 100 and the mother sealing substrate 400 is attached to the mother sealing substrate, the mother sealing substrate 400 and the mother element substrate 100 are bonded. The present invention is characterized in that the adhesive sheet 30 is installed in the display area 101 and the adhesive sheet 30 is not installed in the terminal portion 102.

図2は本発明を適用したトップエミッション型の有機EL表示装置の表示領域の断面図である。本実施例はトップエミッション型の有機EL表示装置を例にとって説明するが、ボトムエミッション型の有機EL表示装置についても同様に本発明を適用することが出来る。トップエミッション型有機EL表示装置は、有機EL層の上にアノードが存在するトップアノード型と、有機EL層の上にカソードが存在するトップカソード型とが存在する。図1はトップアノード型の場合であるが、トップカソードの場合も本発明を同様に適用することが出来る。   FIG. 2 is a cross-sectional view of a display region of a top emission type organic EL display device to which the present invention is applied. In this embodiment, a top emission type organic EL display device will be described as an example. However, the present invention can be similarly applied to a bottom emission type organic EL display device. The top emission type organic EL display device includes a top anode type in which an anode is present on an organic EL layer and a top cathode type in which a cathode is present on an organic EL layer. Although FIG. 1 shows a case of a top anode type, the present invention can be similarly applied to a case of a top cathode.

図2において、素子基板10の上にはSiNからなる第1下地膜11と、SiOからなる第2下地膜12が形成されている。ガラス基板からの不純物が半導体層13を汚染することを防止するためである。第2下地膜12の上には半導体層13が形成される。半導体層13はCVDによってa−Si膜が形成されたあと、レーザ照射によってpoly−Si膜に変換する。 In FIG. 2, a first base film 11 made of SiN and a second base film 12 made of SiO 2 are formed on the element substrate 10. This is to prevent impurities from the glass substrate from contaminating the semiconductor layer 13. A semiconductor layer 13 is formed on the second base film 12. The semiconductor layer 13 is converted into a poly-Si film by laser irradiation after an a-Si film is formed by CVD.

半導体層13を覆って、SiOからなるゲート絶縁膜14が形成される。ゲート絶縁膜14を挟んで、半導体層13と対向する部分にゲート電極15が形成される。ゲート電極15をマスクにして、半導体層13にリンあるいはボロン等の不純物をイオンインプランテーションによって打ち込み、導電性を付与して、半導体層13にソース部あるいはドレイン部を形成する。 A gate insulating film 14 made of SiO 2 is formed so as to cover the semiconductor layer 13. A gate electrode 15 is formed in a portion facing the semiconductor layer 13 with the gate insulating film 14 interposed therebetween. Using the gate electrode 15 as a mask, an impurity such as phosphorus or boron is implanted into the semiconductor layer 13 by ion implantation to impart conductivity, thereby forming a source portion or a drain portion in the semiconductor layer 13.

ゲート電極15を覆って層間絶縁膜16がSiOによって形成される。ゲート配線とドレイン配線171を絶縁するためである。層間絶縁膜16の上にはドレイン配線171が形成される。ドレイン配線171は層間絶縁膜16およびゲート絶縁膜14にスルーホールを介して半導体層13のドレインと接続する。 An interlayer insulating film 16 is formed of SiO 2 so as to cover the gate electrode 15. This is because the gate wiring and the drain wiring 171 are insulated. A drain wiring 171 is formed on the interlayer insulating film 16. The drain wiring 171 is connected to the drain of the semiconductor layer 13 through the through hole in the interlayer insulating film 16 and the gate insulating film 14.

その後、以上のようにして製作された薄膜トランジスタ(TFT)を保護するために、SiNからなる無機パッシベーション膜18が被着される。無機パッシベーション膜18の上には、有機パッシベーション膜19が形成される。有機パッシベーション膜19は無機パッシベーション膜18とともに、TFTをより完全に保護する役割を有するとともに、有機EL層22が形成される面を平坦にする役割を有する。したがって、有機パッシベーション膜19は1〜4μmと、厚く形成される。   Thereafter, in order to protect the thin film transistor (TFT) manufactured as described above, an inorganic passivation film 18 made of SiN is deposited. An organic passivation film 19 is formed on the inorganic passivation film 18. The organic passivation film 19 has a role of protecting the TFT more completely together with the inorganic passivation film 18 and a function of flattening the surface on which the organic EL layer 22 is formed. Therefore, the organic passivation film 19 is formed as thick as 1 to 4 μm.

有機パッシベーション膜19の上には反射電極24がAlまたはAl合金によって形成される。AlまたはAl合金は反射率が高いので、反射電極24として好適である。反射電極24は有機パッシベーション膜19および無機パッシベーション膜18に形成されたスルーホールを介してドレイン配線171と接続する。   A reflective electrode 24 is formed of Al or an Al alloy on the organic passivation film 19. Since Al or Al alloy has a high reflectance, it is suitable as the reflective electrode 24. The reflective electrode 24 is connected to the drain wiring 171 through a through hole formed in the organic passivation film 19 and the inorganic passivation film 18.

本実施例はトップアノード型の有機EL表示装置なので、有機EL層22の下部電極21はカソードとなる。したがって、反射電極24として使用されるAlあるいはAl合金が有機EL層22の下部電極21を兼用することが出来る。AlあるいはAl合金は仕事関数が比較的小さいので、カソードとして機能することが出来るからである。   Since this embodiment is a top anode type organic EL display device, the lower electrode 21 of the organic EL layer 22 serves as a cathode. Therefore, Al or Al alloy used as the reflective electrode 24 can also serve as the lower electrode 21 of the organic EL layer 22. This is because Al or an Al alloy has a relatively small work function and can function as a cathode.

下部電極21の上には有機EL層22が形成される。有機EL層22は、下層から電子輸送層、発光層、ホール輸送層である。なお、電子輸送層と下部電極21との間に電子注入層を設ける場合もある。また、ホール輸送層と上部電極23の間にホール注入層を設ける場合もある。有機EL層22の上にはアノードとなる上部電極23が形成される。本実施例では上部電極23としてはIZOを用いている。IZOはマスクを用いず、表示領域全体に蒸着される。IZOの厚さは光の透過率を維持するために、30nm程度に形成される。IZOの代わりにITOを用いることも出来る。   An organic EL layer 22 is formed on the lower electrode 21. The organic EL layer 22 is an electron transport layer, a light emitting layer, and a hole transport layer from the lower layer. In some cases, an electron injection layer is provided between the electron transport layer and the lower electrode 21. In some cases, a hole injection layer is provided between the hole transport layer and the upper electrode 23. An upper electrode 23 serving as an anode is formed on the organic EL layer 22. In this embodiment, IZO is used as the upper electrode 23. IZO is deposited on the entire display area without using a mask. The thickness of IZO is formed to be about 30 nm in order to maintain the light transmittance. ITO can also be used instead of IZO.

電子輸送層としては電子輸送性を示し、アルカリ金属と共蒸着することにより電荷移動錯体化しやすいものであれば特に限定は無く、例えばトリス(8−キノリノラート)アルミニウム、トリス(4-メチル-8-キノリノラート)アルミニウム、ビス(2-メチル−8−キノリノラート)−4−フェニルフェノラート−アルミニウム、ビス[2-[2-ヒドロキシフェニル]ベンゾオキサゾラート]亜鉛などの金属錯体や2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン等を用いることができる。   The electron transporting layer is not particularly limited as long as it exhibits electron transporting properties and can be easily formed into a charge transfer complex by co-evaporation with an alkali metal. Quinolinolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) -4-phenylphenolate-aluminum, bis [2- [2-hydroxyphenyl] benzoxazolate] zinc and other metal complexes and 2- (4-biphenylyl) ) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 1,3-bis [5- (p-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole- 2-yl] benzene or the like can be used.

発光層材料としては電子、ホールの輸送能力を有するホスト材料に、それらの再結合により蛍光もしくはりん光を発するドーパントを添加したもので共蒸着により発光層として形成できるものであれば特に限定は無く、例えば、ホストとしてはトリス(8−キノリノラト)アルミニウム、ビス(8−キノリノラト)マグネシウム、ビス(ベンゾ{f}−8−キノリノラト)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウムオキシド、トリス(8−キノリノラト)インジウム、トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム、8−キノリノラトリチウム、トリス(5−クロロ−8−キノリノラト)ガリウム、ビス(5−クロロ−8−キノリノラト)カルシウム、5,7−ジクロル−8−キノリノラトアルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−ヒドロキシキノリノラト)アルミニウム、ポリ[亜鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−キノリニル)メタン]のような錯体、アントラセン誘導体、カルバゾール誘導体、等であっても良い。   The light emitting layer material is not particularly limited as long as it can be formed as a light emitting layer by co-evaporation by adding a dopant that emits fluorescence or phosphorescence by recombination to a host material having electron and hole transport capability. For example, tris (8-quinolinolato) aluminum, bis (8-quinolinolato) magnesium, bis (benzo {f} -8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum oxide, tris ( 8-quinolinolato) indium, tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum, 8-quinolinolatolithium, tris (5-chloro-8-quinolinolato) gallium, bis (5-chloro-8-quinolinolato) calcium, 5 , 7-dichloro-8-quinolinolato aluminum, tris ( , 7-dibromo-8-hydroxyquinolinolato) aluminum, poly [zinc (II) -bis (8-hydroxy-5-quinolinyl) methane] -like complexes, anthracene derivatives, carbazole derivatives, and the like. .

また、ドーパントとしてはホスト中で電子とホールを捉えて再結合させ、発光するものであって、例えば赤ではピラン誘導体、緑ではクマリン誘導体、青ではアントラセン誘導体などの蛍光を発光する物質やもしくはイリジウム錯体、ピリジナート誘導体などりん光を発する物質であっても良い。   In addition, the dopant captures electrons and holes in the host and recombines them to emit light. For example, a red light emitting substance such as a pyran derivative, a green coumarin derivative, and a blue anthracene derivative, or iridium. It may be a phosphorescent substance such as a complex or a pyridinate derivative.

ホール輸送層は、例えば、テトラアリールベンジシン化合物(トリフェニルジアミン:TPD)、芳香族三級アミン、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有するオキサジアゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体、銅フタロシアニン誘導体等を用いることができる。   The hole transport layer includes, for example, a tetraarylbenzidine compound (triphenyldiamine: TPD), an aromatic tertiary amine, a hydrazone derivative, a carbazole derivative, a triazole derivative, an imidazole derivative, an oxadiazole derivative having an amino group, a polythiophene derivative, Copper phthalocyanine derivatives and the like can be used.

なお、有機EL層22が端部において段切れによって破壊することを防止するために、画素と画素の間にバンク20が形成される。バンク20は有機材料で形成する場合もあるし、SiNのような無機材料で形成する場合もある。有機材料を使用する場合は、一般にはアクリル樹脂によって形成される。   In addition, in order to prevent the organic EL layer 22 from being broken at the end portion due to disconnection, the bank 20 is formed between the pixels. The bank 20 may be formed of an organic material or an inorganic material such as SiN. When using an organic material, it is generally formed of an acrylic resin.

バンク20上の上部電極23の上には導通を補助するために補助電極が用いられる場合もある。上部電極23の抵抗が大きい場合は輝度むらが生ずる場合があるからである。本実施例では補助電極を使用していないが、補助電極を使用した有機EL表示装置においても、本発明を適用できることは言うまでも無い。   An auxiliary electrode may be used on the upper electrode 23 on the bank 20 to assist conduction. This is because luminance unevenness may occur when the resistance of the upper electrode 23 is large. Although the auxiliary electrode is not used in this embodiment, it goes without saying that the present invention can be applied to an organic EL display device using the auxiliary electrode.

上部電極の上には接着材シート30が形成されている。この接着材シート30は熱硬化性のエポキシ樹脂で、素子基板10、具体的には、上部電極とガラスで形成された封止基板40を接着している。接着材シート30の厚さは10μm〜20μmである。接着材シート30には封止基板40が接着されており、封止基板40によって有機EL層が水分から保護されている。   An adhesive sheet 30 is formed on the upper electrode. The adhesive sheet 30 is a thermosetting epoxy resin, and bonds the element substrate 10, specifically, the upper electrode and the sealing substrate 40 formed of glass. The thickness of the adhesive sheet 30 is 10 μm to 20 μm. A sealing substrate 40 is bonded to the adhesive sheet 30, and the organic EL layer is protected from moisture by the sealing substrate 40.

以下に、実施例を用いて、本発明の内容を詳細に説明する。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail using examples.

図3および図4は、本発明で使用されるシート状の接着材30が保護フィルム36によって保護された状態の接着材フィルム35である。本明細書では、図3あるいは図4に示すような、マザーパネルに存在する大判のいわばマザー接着材シート30も、個々の有機EL表示パネルに存在する接着材シート30も、いずれも、接着材シート30と呼ぶ。   3 and 4 show the adhesive film 35 in a state where the sheet-like adhesive 30 used in the present invention is protected by the protective film 36. FIG. In this specification, as shown in FIG. 3 or FIG. 4, the large-sized mother adhesive sheet 30 existing in the mother panel and the adhesive sheet 30 existing in each organic EL display panel are both adhesives. This is called a sheet 30.

図3は一枚の大判の接着材フィルム35の状態を示している。図3において、PETで形成された大判の保護フィルム36に大判の接着材シート30がサンドイッチされている。図3の接着材フィルム35に対して、図3(b)の矢印で示すように、カッターで切り込みを入れるか、あるいは、プレスで打ち抜いて、接着材フィルム35の一部を除去する。除去する部分は、素子基板10の端子部102に相当する接着材除去部31、および、目合わせマーク32である。   FIG. 3 shows a state of one large-sized adhesive film 35. In FIG. 3, a large-sized adhesive sheet 30 is sandwiched between large-sized protective films 36 formed of PET. As shown by the arrow in FIG. 3B, the adhesive film 35 in FIG. 3 is cut with a cutter or punched out with a press to remove a part of the adhesive film 35. The parts to be removed are the adhesive removal part 31 corresponding to the terminal part 102 of the element substrate 10 and the alignment mark 32.

図4は接着材フィルム35の一部が除去された状態を示す。図4(a)は平面図であり、図4(b)は、図4(a)のA−A断面図である。図4(a)において、保護フィルム36が表面に見えており、保護フィルム36の裏側に接着した接着材シート30の一部が長尺状に除去されている。接着材除去部31及び目合わせマークが形成されている部分の保護フィルム35の断面図が図4(b)である。   FIG. 4 shows a state in which a part of the adhesive film 35 has been removed. 4A is a plan view, and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 4A. In FIG. 4A, the protective film 36 is visible on the surface, and a part of the adhesive sheet 30 adhered to the back side of the protective film 36 is removed in a long shape. FIG. 4B is a cross-sectional view of the protective film 35 at a portion where the adhesive removing portion 31 and the alignment mark are formed.

図4(a)において、接着材シート除去部31は接着材シート30の左端にまで達している。接着材シート30をマザー封止基板400に接着し、その後、接着材シート30が接着したマザー封止基板400をマザー素子基板100と減圧雰囲気中で接着したあと、大気中に戻した際、接着材シート除去部31が変形して、端子部周辺の接着材シート30の形状が不規則になることを防止するためである。   In FIG. 4A, the adhesive sheet removing unit 31 reaches the left end of the adhesive sheet 30. The adhesive sheet 30 is bonded to the mother sealing substrate 400, and then the mother sealing substrate 400 to which the adhesive sheet 30 is bonded is bonded to the mother element substrate 100 in a reduced-pressure atmosphere, and then returned to the atmosphere. This is to prevent the material sheet removing portion 31 from being deformed and the shape of the adhesive sheet 30 around the terminal portion from becoming irregular.

また、図4(a)において、目合わせマークがコーナー部に形成されている。この目合わせマークは接着材除去部31を打ち抜く際、同時に打ち抜かれる、したがって、接着材シート30に目合わせマークを形成するために新たな工程が発生することは無い。図4(a)における目合わせマークの形状は丸であるが、これはこの位置付近に目合わせマークが形成されるという程度の意味であり、目合わせマークは丸に限らず、十字のような形状である場合が多い。   In FIG. 4A, alignment marks are formed at the corners. This alignment mark is punched at the same time when the adhesive removing portion 31 is punched. Therefore, no new process is required to form the alignment mark on the adhesive sheet 30. The shape of the alignment mark in FIG. 4A is a circle, which means that the alignment mark is formed in the vicinity of this position. The alignment mark is not limited to a circle, and is like a cross. Often in shape.

図4(b)における裏側保護フィルム36を除去して、図5に示すように、接着材シート30を封止基板40に貼り付ける。この貼り付けは気泡を含まないように、減圧下で、80℃程度の温度を加えて行う。80℃程度であれば、接着材シート30は十分に固化しないが、ある程度の接着性を持つので、封止基板40と接着材シート30をある程度の強度で接着することが出来る。   The back side protective film 36 in FIG. 4B is removed, and the adhesive sheet 30 is attached to the sealing substrate 40 as shown in FIG. This pasting is performed by applying a temperature of about 80 ° C. under reduced pressure so as not to include bubbles. If it is about 80 degreeC, although the adhesive material sheet 30 will not fully solidify, since it has a certain amount of adhesiveness, the sealing substrate 40 and the adhesive material sheet 30 can be adhere | attached with a certain amount of intensity | strength.

図5(a)は図4の接着材シート30が封止基板40に接着された状態を示している。図5(a)において、接着材シート30の保護フィルム36が表面に見えている。図5(a)における点線は、接着材シート30の長尺状除去部31である。   FIG. 5A shows a state where the adhesive sheet 30 of FIG. 4 is bonded to the sealing substrate 40. In FIG. 5A, the protective film 36 of the adhesive sheet 30 is visible on the surface. The dotted line in FIG. 5A is the long removal part 31 of the adhesive sheet 30.

図5(a)のコーナー部には、目合わせマークが形成されている。本発明では、封止基板40自体には目合わせマーク等のパターンは形成されておらず、単なるガラス板である。したがって、封止ガラスの製造コストは低い。接着材シート30には、図4に示すように、目合わせマークが形成されており、接着材シート30が封止基板40に接着すると、封止基板40が目合わせマークを有することになる。   An alignment mark is formed in the corner portion of FIG. In the present invention, the sealing substrate 40 itself is not formed with a pattern such as alignment marks, but is merely a glass plate. Therefore, the manufacturing cost of the sealing glass is low. As shown in FIG. 4, alignment marks are formed on the adhesive sheet 30, and when the adhesive sheet 30 adheres to the sealing substrate 40, the sealing substrate 40 has the alignment marks.

本発明における接着材シート30は端子部102に該当する部分において接着材シート除去部を設けているが、この接着材シート除去部を形成すると同時に、目合わせマークを形成することが出来るので、目合わせマークを形成するための製造コストはほとんど上昇しない。   The adhesive sheet 30 in the present invention is provided with an adhesive sheet removing portion in a portion corresponding to the terminal portion 102. Since the adhesive mark removing portion can be formed at the same time as the adhesive sheet removing portion, the alignment mark can be formed. The manufacturing cost for forming the alignment mark hardly increases.

なお、接着材シート30と封止基板40を接着するときは、目合わせマークは使用できないが、この接着は外形基準で十分である。素子基板10に形成された有機EL層を水分から保護するための平面方向の位置精度は、接着材シート30と素子基板10との関係が重要である。したがって、接着材シート30が接着した後の、封止基板40と素子基板10の平面方法の位置精度を確保できれば良い。   In addition, when bonding the adhesive sheet 30 and the sealing substrate 40, the alignment mark cannot be used, but this bonding is sufficient on the basis of the outer shape. For the positional accuracy in the planar direction for protecting the organic EL layer formed on the element substrate 10 from moisture, the relationship between the adhesive sheet 30 and the element substrate 10 is important. Therefore, it is only necessary to ensure the positional accuracy of the planar method of the sealing substrate 40 and the element substrate 10 after the adhesive sheet 30 is bonded.

図5(b)は図5(a)のA−A断面図であり、接着材シート30が除去された部分の断面図である。この部分は片側のみ接着材シート30が保護基板と封止基板40との間にサンドイッチされている。図5(c)は図5(a)のB−B断面図であり、接着材シート30が保護フィルム36と封止基板40によってサンドイッチされている状態を示している。   FIG.5 (b) is AA sectional drawing of Fig.5 (a), and is sectional drawing of the part from which the adhesive material sheet 30 was removed. In this part, the adhesive sheet 30 is sandwiched between the protective substrate and the sealing substrate 40 only on one side. FIG. 5C is a cross-sectional view taken along the line B-B in FIG. 5A, and shows a state where the adhesive sheet 30 is sandwiched between the protective film 36 and the sealing substrate 40.

図6は図5における保護フルムを剥離した状態で、封止基板40に接着材シート30が貼り付けられている状態を示している。図6(a)は複数の封止基板40が形成されるマザー封止基板400の上に保護フィルムが接着した状態を示す平面図である。図6(a)において、コーナー部に目合わせマークが形成されている。すなわち、この状態の封止基板40には、接着材シート30による目合わせマークが形成されている。   FIG. 6 shows a state where the adhesive sheet 30 is attached to the sealing substrate 40 with the protective film in FIG. 5 peeled off. FIG. 6A is a plan view showing a state in which a protective film is bonded onto a mother sealing substrate 400 on which a plurality of sealing substrates 40 are formed. In FIG. 6A, alignment marks are formed at the corners. That is, the alignment mark by the adhesive sheet 30 is formed on the sealing substrate 40 in this state.

図6(b)は、図6(a)のA−A断面図である。マザー封止基板400は、素子基板10に形成される端子部102に対応することになる、長尺状の除去部31を除いて全面、接着材シート30によって覆われている。長尺状の除去部31は、左側においては、端部にまで達している。   FIG.6 (b) is AA sectional drawing of Fig.6 (a). The mother sealing substrate 400 is covered with the adhesive sheet 30 over the entire surface except for the elongated removal portion 31 that corresponds to the terminal portion 102 formed on the element substrate 10. The elongated removal portion 31 reaches the end on the left side.

図7はマザー素子基板100の平面図であり、8個の素子基板10が形成されている。各々の素子基板10には表示領域101と端子部102とが形成されている。図7におけるマザー素子基板100の端子部102が図6におけるマザー封止基板400の接着材シート除去部31と対応している。   FIG. 7 is a plan view of the mother element substrate 100 in which eight element substrates 10 are formed. Each element substrate 10 is provided with a display region 101 and a terminal portion 102. The terminal portion 102 of the mother element substrate 100 in FIG. 7 corresponds to the adhesive sheet removing portion 31 of the mother sealing substrate 400 in FIG.

図7のコーナー部には、目合わせマーク33が形成されている。素子基板10には、有機EL層の他、TFT、走査線、映像信号線、電源線等、種々のパターンが形成されている。したがって、素子基板10に形成する目合わせマーク33はこれらのパターンを形成するときに同時に形成すれば良い。   The alignment mark 33 is formed in the corner part of FIG. In the element substrate 10, various patterns such as TFTs, scanning lines, video signal lines, power supply lines and the like are formed in addition to the organic EL layer. Therefore, the alignment mark 33 formed on the element substrate 10 may be formed simultaneously when these patterns are formed.

図8は、マザー素子基板100とマザー封止基板400を接着材シート30を介して接着するプロセスを示す図である。図8(a)は封止基板40と目合わせマークを有する接着材シート30を接着する図である。図8(a)において、マザー封止基板400と接着材シート30は外形基準で接着される。なお、図8において、接着材シート30のハッチング部は素子基板10に形成される個別の表示領域101に対応する部分を示すものであり、接着材シート30のその他の部分は省略されている。   FIG. 8 is a diagram showing a process of bonding the mother element substrate 100 and the mother sealing substrate 400 via the adhesive sheet 30. FIG. 8A is a diagram for bonding the sealing substrate 40 and the adhesive sheet 30 having alignment marks. In FIG. 8A, the mother sealing substrate 400 and the adhesive sheet 30 are bonded on the basis of the external shape. In FIG. 8, the hatched portion of the adhesive sheet 30 indicates a portion corresponding to the individual display area 101 formed on the element substrate 10, and other portions of the adhesive sheet 30 are omitted.

図8(b)はマザー封止基板400と接着材シート30が接着した状態を示すものである。この状態において、マザー封止基板400は目合わせマーク32を有することになる。図8(c)は、接着材シート30が貼り付けられたマザー封止基板400に、別途形成されたマザー素子基板100を接着する図である。マザー封止基板400には接着材シート30に形成された目合わせマーク32が存在し、この目合わせマークとマザー素子基板100に形成された目合わせマーク33を基準にマザー封止基板400とマザー素子基板100が接着される。図8(d)は、このようにして、マザー素子基板100をマザー封止基板400が接着してマザーパネルが形成された状態を示す斜視図である。   FIG. 8B shows a state where the mother sealing substrate 400 and the adhesive sheet 30 are bonded. In this state, the mother sealing substrate 400 has the alignment mark 32. FIG. 8C is a diagram in which the separately formed mother element substrate 100 is bonded to the mother sealing substrate 400 to which the adhesive sheet 30 is attached. The mother sealing substrate 400 includes the alignment mark 32 formed on the adhesive sheet 30, and the mother sealing substrate 400 and the mother are based on the alignment mark and the alignment mark 33 formed on the mother element substrate 100. The element substrate 100 is bonded. FIG. 8D is a perspective view showing a state in which a mother panel is formed by bonding the mother sealing substrate 400 to the mother element substrate 100 in this way.

マザー封止基板400とマザー素子基板100の接着は減圧雰囲気中でマザー封止基板400をマザー素子基板100に圧力を加えながら、かつ、加熱しながらおこなう。加熱条件は例えば、100℃であれば2時間、120℃であれば30分程度の加熱である。この加熱によって、接着材シート30は硬化し、マザー封止基板400とマザー素子基板100は強固に接着される。また、界面からの湿度の浸入も防止することが出来る。   Bonding of the mother sealing substrate 400 and the mother element substrate 100 is performed in a reduced pressure atmosphere while applying pressure to the mother element substrate 100 and heating. The heating condition is, for example, heating for 2 hours at 100 ° C. and for about 30 minutes at 120 ° C. By this heating, the adhesive sheet 30 is cured, and the mother sealing substrate 400 and the mother element substrate 100 are firmly bonded. Further, it is possible to prevent moisture from entering from the interface.

図6のマザー封止基板400と図7のマザー素子基板100を接着材シート30を介して接着させたマザーパネル200が図9である。図9(a)はマザーパネル200を封止基板40側から見た平面図であり、図9(b)は図9(a)のA−A断面図であり、図9(b)は図9(a)のE−E断面図である。   FIG. 9 shows a mother panel 200 in which the mother sealing substrate 400 of FIG. 6 and the mother element substrate 100 of FIG. 7 are bonded via the adhesive sheet 30. 9A is a plan view of the mother panel 200 viewed from the sealing substrate 40 side, FIG. 9B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 9A, and FIG. It is EE sectional drawing of 9 (a).

図9(a)および図9(c)に示すように、マザーパネル200の左側においては接着材シート除去部31が端部にまで達している。したがって、接着材シート除去部31の内側は、負圧雰囲気中でも、大気圧中でも外側と同じ圧力となっている。仮に、接着材シート除去部31が図9(a)の右側に示すように、両側において、閉じていた場合は次のような問題を生ずる。減圧雰囲気中において、マザー素子基板100とマザー封止基板400を接着材シート30によって接着する。接着後大気中に戻すと、接着材シート除去部31の部分は負圧のままとなっているので、接着材シート30が大気圧によって圧力を受け、その結果、接着材シート除去部31が変形する。接着材シート除去部31は端子部102を露出させるものであるから、端子部周辺を覆う接着材シート30が変形して、端子部102の導通に影響を与える事態を生ずる。また、接着材シート30が変形した部分から接着材シート30の剥離が生ずる場合もある。   As shown in FIGS. 9A and 9C, the adhesive sheet removing portion 31 reaches the end on the left side of the mother panel 200. Therefore, the inside of the adhesive sheet removing portion 31 is at the same pressure as the outside even in a negative pressure atmosphere or atmospheric pressure. If the adhesive sheet removing unit 31 is closed on both sides as shown on the right side of FIG. 9A, the following problem occurs. In the reduced pressure atmosphere, the mother element substrate 100 and the mother sealing substrate 400 are bonded together by the adhesive sheet 30. When returning to the atmosphere after bonding, the adhesive sheet removing portion 31 remains at a negative pressure, so that the adhesive sheet 30 receives pressure due to atmospheric pressure, and as a result, the adhesive sheet removing portion 31 is deformed. To do. Since the adhesive sheet removing portion 31 exposes the terminal portion 102, the adhesive sheet 30 covering the periphery of the terminal portion is deformed, resulting in a situation that affects the conduction of the terminal portion 102. Moreover, peeling of the adhesive material sheet 30 may occur from a portion where the adhesive material sheet 30 is deformed.

これに対して、本発明のように、接着材シート30における接着材シート除去部31を接着材シート30の端部にまで形成しておけば、マザー封止基板400とマザー素子基板100を接着後、大気圧に戻しても、接着材シート除去部31に大気が入り込むので、圧力がバランスし、接着材シート除去部31が変形することを免れることが出来る。   On the other hand, if the adhesive sheet removing portion 31 in the adhesive sheet 30 is formed up to the end of the adhesive sheet 30 as in the present invention, the mother sealing substrate 400 and the mother element substrate 100 are bonded. After that, even if the pressure is returned to the atmospheric pressure, the air enters the adhesive sheet removing unit 31, so that the pressure is balanced and the adhesive sheet removing unit 31 can be prevented from being deformed.

図9(a)において、ハッチングがほどこされている部分が接着材シート30が設置されている部分である。図9(b)において、マザー素子基板100に形成されている表示領域101の上には接着材シート30が形成されており、その上にはマザー封止基板400が接着している。一方、マザー素子基板100の端子部102には接着材シート30は存在していない。したがって、マザーパネル200から個々の有機EL表示装置に分離した場合は、端子部102の上には接着材シート30も封止基板40も存在しないことになる。   In FIG. 9A, the hatched portion is the portion where the adhesive sheet 30 is installed. In FIG. 9B, the adhesive sheet 30 is formed on the display area 101 formed on the mother element substrate 100, and the mother sealing substrate 400 is adhered thereon. On the other hand, the adhesive sheet 30 does not exist in the terminal portion 102 of the mother element substrate 100. Therefore, when the mother panel 200 is separated into individual organic EL display devices, neither the adhesive sheet 30 nor the sealing substrate 40 exists on the terminal portion 102.

マザー素子基板100をマザー封止基板400と接着後、図9(a)において、点線yおよび点線xに沿ってマザー素子基板100側からスクライビングをいれる。また、点線xtに沿ってマザー封止基板400側からスクライビングを入れておく。その後、マザー素子基板100側からガラスに衝撃を加えると、点線xおよび点線yに沿ってマザーパネル200は破断し、個々の有機EL表示装置に分離する。有機EL表示パネル300が個々に分離された後、スクライビングxtに沿って、封止基板40側からガラスに衝撃を加えると端子部102上の封止基板40が破断して、除去され、素子基板10の端子部102が露出することになる。   After the mother element substrate 100 is bonded to the mother sealing substrate 400, scribing is performed from the mother element substrate 100 side along the dotted line y and the dotted line x in FIG. 9A. In addition, scribing is performed from the mother sealing substrate 400 side along the dotted line xt. Thereafter, when an impact is applied to the glass from the mother element substrate 100 side, the mother panel 200 is broken along the dotted lines x and y, and separated into individual organic EL display devices. After the organic EL display panel 300 is individually separated, when the glass is impacted along the scribing xt from the sealing substrate 40 side, the sealing substrate 40 on the terminal portion 102 is broken and removed, and the element substrate is removed. Ten terminal portions 102 are exposed.

個々の有機EL表示パネル300は以上のような方法によってマザーパネル200から分離されるので、分離された場所によって断面が異なる。図10は以上のようにして形成された有機EL表示パネル300の切り取られた場所による断面の差を示す。図10(a)は切り取られた有機EL表示パネル(1)のB−B断面図である。図10(a)において、接着材シート30は封止基板40の端部よりもd1だけ内側に後退している。   Since the individual organic EL display panel 300 is separated from the mother panel 200 by the method as described above, the cross section differs depending on the separated location. FIG. 10 shows the difference in cross section depending on the location where the organic EL display panel 300 formed as described above is cut off. FIG. 10A is a cross-sectional view taken along the line B-B of the cut-out organic EL display panel (1). In FIG. 10A, the adhesive sheet 30 is retracted inward from the end of the sealing substrate 40 by d1.

B−B断面においては、接着材シート30はあらかじめ形成された除去部31によって区画されているために、図10におけるd1はあらかじめ設計することが出来る。すなわち、接着材シート30が封止基板40あるいは素子基板10の破断面よりも常に内側に来るように制御することが出来る。つまり、図10(a)において、d1はゼロかゼロよりも大きくすることが出来る。一般には、接着材シート30は接着時に組成変形を起こすので、これを考慮し、d1は0.5mm程度に設定する。   In the BB cross section, since the adhesive sheet 30 is partitioned by a previously formed removal portion 31, d1 in FIG. 10 can be designed in advance. In other words, it can be controlled so that the adhesive sheet 30 is always inside the fracture surface of the sealing substrate 40 or the element substrate 10. That is, in FIG. 10A, d1 can be zero or larger than zero. In general, since the adhesive sheet 30 undergoes compositional deformation at the time of bonding, d1 is set to about 0.5 mm in consideration of this.

図10(b)は切り取られた有機EL表示パネル(2)のC−C断面図である。図10(b)において、有機EL表示パネル(2)の端部は封止基板40、接着材シート30、および素子基板10が破断をした面である。素子基板10および封止基板40はガラスであるのに対し、接着材シート30は樹脂であるから破断の仕方が異なる。したがって、図10(b)に示すように、ガラスの端部と接着材シート30の端部とが不規則な形状となる。   FIG. 10B is a cross-sectional view taken along the line C-C of the cut-out organic EL display panel (2). In FIG. 10B, the end of the organic EL display panel (2) is a surface where the sealing substrate 40, the adhesive sheet 30, and the element substrate 10 are broken. The element substrate 10 and the sealing substrate 40 are made of glass, whereas the adhesive sheet 30 is made of resin, so that the method of breaking is different. Therefore, as shown in FIG.10 (b), the edge part of glass and the edge part of the adhesive material sheet 30 become an irregular shape.

図10(b)において、右側の端部は接着材シート30がガラス端部よりもd2だけはみ出した状態を示している。このはみ出し量は例えば0.2mm程度である。一方、図10の左側端部は接着材シート30がガラス端部よりも0.2mm内側に入り込んでいる。これは、接着材シート30が破断したときに、接着材シート30の端部が隣の有機EL表示パネルにもっていかれた状態を示している。図10(b)では、たまたま、接着材シート30は右側で出っ張り、左側で引っ込んだ状態となっているが、これは一例であって、例えば、この逆もありうるし、あるいは、両側で出っ張る場合もありうる。このような製作方法であると、d2が0.2mm程度のプラスまたはマイナスがありうる。   In FIG.10 (b), the edge part of the right side has shown the state which the adhesive material sheet 30 protruded only d2 rather than the glass edge part. The amount of protrusion is, for example, about 0.2 mm. On the other hand, the adhesive sheet 30 enters 0.2 mm inside from the glass end at the left end in FIG. This shows a state in which the end portion of the adhesive sheet 30 is brought to the adjacent organic EL display panel when the adhesive sheet 30 is broken. In FIG. 10B, the adhesive sheet 30 happens to be protruded on the right side and retracted on the left side, but this is an example. For example, the reverse is also possible, or the adhesive sheet 30 protrudes on both sides. There is also a possibility. With such a manufacturing method, there can be a plus or minus d2 of about 0.2 mm.

図10(c)は有機EL表示パネル(3)のD−D断面図である。図10(c)において、左側、すなわち、端子側端面は接着材シート30が封止基板40の端部よりも内側に存在している。この部分は図10(a)で説明したように、制御することが出来る。一方、右側すなわち、端子部102と逆側では、接着材シート30が封止基板40よりも外側に出っ張っている。この部分は図10(b)で説明したように、接着材シート30の破断面は予測が出来ず、d2は、0.2mm程度のプラスマイナスがありうる。このように、本発明における製造方法によれば、有機EL表示パネルの断面によって、接着材シート30の端部と封止基板40あるいは素子基板10の端部との位置関係が異なるという特徴を持つ。   FIG.10 (c) is DD sectional drawing of an organic electroluminescent display panel (3). In FIG. 10C, the adhesive sheet 30 exists on the left side, that is, the terminal side end surface, inside the end portion of the sealing substrate 40. This portion can be controlled as described with reference to FIG. On the other hand, on the right side, that is, on the side opposite to the terminal portion 102, the adhesive sheet 30 protrudes outside the sealing substrate 40. As described with reference to FIG. 10B, this portion cannot predict the fracture surface of the adhesive sheet 30, and d2 may have a plus or minus of about 0.2 mm. Thus, according to the manufacturing method of the present invention, the positional relationship between the end of the adhesive sheet 30 and the end of the sealing substrate 40 or the element substrate 10 differs depending on the cross section of the organic EL display panel. .

図11は本発明の第2の実施例に使用される接着材フィルム35である。図11(a)は接着材フィルム35の平面図であり、図11(b)はそのA−A断面図である。図11(a)の接着材フィルム35も、当初は保護フィルム36全面に接着材シート30が形成され、これを他の保護フィルム36によってサンドイッチした形であることは実施例1の図3と同様である。その後、一方の保護フィルム36と接着材シート30を必要な部分を残して除去した状態が図11である。   FIG. 11 shows an adhesive film 35 used in the second embodiment of the present invention. Fig.11 (a) is a top view of the adhesive film 35, FIG.11 (b) is the AA sectional drawing. The adhesive film 35 in FIG. 11 (a) is also formed in such a manner that the adhesive sheet 30 is initially formed on the entire surface of the protective film 36 and sandwiched between the other protective films 36, as in FIG. It is. Then, the state which removed the one protective film 36 and the adhesive material sheet 30 leaving the required part is FIG.

図11(a)において、各接着材シート30のコーナーには、目合わせマーク32が形成されている。この目合わせマーク32は各接着材シート30を所定の形に成形するときに同時に形成される。   In FIG. 11A, alignment marks 32 are formed at the corners of each adhesive sheet 30. This alignment mark 32 is formed simultaneously when each adhesive sheet 30 is formed into a predetermined shape.

本実施例の接着材シート30は実施例1とは逆の関係になっている。すなわち、実施例1では、接着材シート30から不要な部分、すなわち、端子部102に対応する部分を除去しているのに対し、本実施例では接着材シート30が必要な部分のみに接着材シート30を設置している。   The adhesive sheet 30 of the present embodiment has a reverse relationship to that of the first embodiment. That is, in Example 1, an unnecessary portion, that is, a portion corresponding to the terminal portion 102 is removed from the adhesive sheet 30, whereas in this embodiment, the adhesive material is applied only to a portion where the adhesive sheet 30 is necessary. A seat 30 is installed.

図11における、一方の保護フィルム36を剥離して、マザー封止基板400に接着材シート30を接着し、その後、他方の保護フィルム36を除去した状態が図12である。接着材シート30は減圧雰囲気下で加熱することによって封止基板40に接着することは実施例1と同様である。図12(a)は平面図であり、図12(b)は図12(a)のA−A断面図である。図12の状態においては、封止基板40は目合わせマーク32を有することになる。   FIG. 12 shows a state where one protective film 36 in FIG. 11 is peeled off, the adhesive sheet 30 is adhered to the mother sealing substrate 400, and then the other protective film 36 is removed. The adhesive sheet 30 is bonded to the sealing substrate 40 by heating in a reduced pressure atmosphere as in the first embodiment. Fig.12 (a) is a top view, FIG.12 (b) is AA sectional drawing of Fig.12 (a). In the state of FIG. 12, the sealing substrate 40 has the alignment mark 32.

図13はこのようにして形成されたマザー封止基板400を別途形成されたマザー素子基板100と接着して形成されたマザーパネル200である。別途形成された素子基板10は図7と同様である。また、マザー素子基板100とマザー封止基板400の接着の方法は実施例1で説明したのと同様である。図13(a)はマザーパネル200の平面図であり、図13(b)は図13(a)のA−A断面図である。   FIG. 13 shows a mother panel 200 formed by bonding the mother sealing substrate 400 formed as described above to a separately formed mother element substrate 100. The separately formed element substrate 10 is the same as FIG. The method for bonding the mother element substrate 100 and the mother sealing substrate 400 is the same as that described in the first embodiment. Fig.13 (a) is a top view of the mother panel 200, FIG.13 (b) is AA sectional drawing of Fig.13 (a).

図13(a)において、ハッチングが施された部分が接着材シート30が設置された部分である。図13(a)の点線xおよび点線yに沿ってマザー素子基板100側からスクライビングを入れ、図13(a)の点線xtに沿ってマザー封止基板400側からスクライビングを入れる。その後、マザー封止基板400側からガラスに衝撃を加えて有機EL表示パネル毎に分離する。さらに、分離された有機EL表示パネル300に封止基板40側から衝撃を加えて封止基板40の一部を除去して端子部102を露出させる。   In FIG. 13A, the hatched portion is a portion where the adhesive sheet 30 is installed. Scribing is performed from the mother element substrate 100 side along dotted lines x and y in FIG. 13A, and scribing is performed from the mother sealing substrate 400 side along dotted line xt in FIG. Thereafter, an impact is applied to the glass from the mother sealing substrate 400 side to separate each organic EL display panel. Further, an impact is applied to the separated organic EL display panel 300 from the sealing substrate 40 side to remove a part of the sealing substrate 40 to expose the terminal portion 102.

本実施例では、接着材シート30の形状が実施例1とは異なるために、有機EL表示パネル300の断面が実施例1とは異なる場合がある。図13(a)に示すマザーパネル200から分離された有機EL表示パネル(4)のE−E断面は、実施例1の図10(a)と同様である。この部分の接着材シート30はあらかじめ設計できるので、接着材シート30の端部を制御することが出来る。   In this embodiment, since the shape of the adhesive sheet 30 is different from that in the first embodiment, the cross section of the organic EL display panel 300 may be different from that in the first embodiment. The EE cross section of the organic EL display panel (4) separated from the mother panel 200 shown in FIG. 13 (a) is the same as FIG. 10 (a) of the first embodiment. Since this part of the adhesive sheet 30 can be designed in advance, the end of the adhesive sheet 30 can be controlled.

マザーパネル200から分離された有機EL表示パネル(5)のF−F断面は実施例1と同様に、図10(b)に示す形状となる。すなわち、接着材シート30の不規則な端部が現れる。一方、マザーパネル200から分離された有機EL表示パネル(6)のG−G断面は実施例1の図10(a)と同様である。本実施例においては、この部分の断面は、有機EL表示パネル(4)のE−E断面と同じになるからである。   The FF cross section of the organic EL display panel (5) separated from the mother panel 200 has the shape shown in FIG. That is, irregular ends of the adhesive sheet 30 appear. On the other hand, the GG cross section of the organic EL display panel (6) separated from the mother panel 200 is the same as that of FIG. This is because in this embodiment, the cross section of this portion is the same as the EE cross section of the organic EL display panel (4).

実施例1および実施例2では、目合わせマーク32を有する接着材シート30をマザー封止基板400に貼り付け、このマザー封止基板400を目合わせマーク33が形成されたマザー素子基板100と重ね合わせる。マザー封止基板400とマザー素子基板100を重ね合わせたあと、個々の有機EL表示パネルにおいて、素子基板10と接着材シート30あるいは素子基板10と封止基板40が精度よく貼り合わせられているか否かを確認したい場合がある。   In Example 1 and Example 2, the adhesive sheet 30 having the alignment mark 32 is attached to the mother sealing substrate 400, and this mother sealing substrate 400 is overlapped with the mother element substrate 100 on which the alignment mark 33 is formed. Match. Whether or not the element substrate 10 and the adhesive sheet 30 or the element substrate 10 and the sealing substrate 40 are bonded with high precision in each organic EL display panel after the mother sealing substrate 400 and the mother element substrate 100 are overlaid. You may want to check.

本実施例を示す図14は、この要請に応えるものである。図14(a)は本実施例におけるマザー素子基板100とマザー封止基板400が接着材シート30を介して接着した状態を示す平面図である。マザー素子基板100とマザー封止基板400は接着材シート30目合わせマーク32とマザー素子基板100目合わせマーク33とによって位置合わせされて接着している。図14(b)は図14(a)のA−A断面図である。   FIG. 14 showing this embodiment responds to this request. FIG. 14A is a plan view showing a state in which the mother element substrate 100 and the mother sealing substrate 400 are bonded via the adhesive sheet 30 in this embodiment. The mother element substrate 100 and the mother sealing substrate 400 are aligned and bonded by the adhesive sheet 30 alignment mark 32 and the mother element substrate 100 alignment mark 33. FIG.14 (b) is AA sectional drawing of Fig.14 (a).

本実施例は、図14(a)に示すように、接着材シート30に目合わせマーク32を形成すると同時に、個々の有機EL表示パネルに対応する部分においても個別目合わせマーク34を形成している。接着材シート30における個別目合わせマーク34は、接着材シート30を成形するときに同時に成形することが出来るので、このための追加工程は不要である。一方、マザー素子基板100における個別の有機EL表示パネル内の個別目合わせマークも素子基板10のパターニング時に同時に行えるので、このための工程が追加になることはない。   In this embodiment, as shown in FIG. 14 (a), the alignment mark 32 is formed on the adhesive sheet 30, and at the same time, the individual alignment mark 34 is formed in the portion corresponding to each organic EL display panel. Yes. Since the individual alignment mark 34 in the adhesive sheet 30 can be formed at the same time as the adhesive sheet 30 is formed, an additional process for this purpose is unnecessary. On the other hand, since the individual alignment marks in the individual organic EL display panels in the mother element substrate 100 can be performed simultaneously with the patterning of the element substrate 10, a process for this purpose is not added.

このように、本実施例によれば、マザー封止基板400とマザー素子基板100を接着した後、素子基板10と封止基板40あるいは、素子基板10と接着材シート30との合わせ精度を、個別目合わせマーク34によって、個々の有機EL表示パネルについて確認できるので、有機EL表示装置の信頼性を向上させることが出来る。図14は実施例1の構成について本実施例を適用したものであるが、本実施例は実施例2の構成についても適用することが出来る。   Thus, according to the present embodiment, after bonding the mother sealing substrate 400 and the mother element substrate 100, the alignment accuracy between the element substrate 10 and the sealing substrate 40 or the element substrate 10 and the adhesive sheet 30 is increased. Since the individual alignment marks 34 can be used to confirm individual organic EL display panels, the reliability of the organic EL display device can be improved. FIG. 14 shows the application of the present embodiment to the configuration of the first embodiment, but this embodiment can also be applied to the configuration of the second embodiment.

実施例1および実施例2で説明したように、マザー封止基板400毎に接着材シート30を貼り付けてもよいが、接着材シート30が大面積化した場合は、製造場所等の面から、必ずしも能率的ではない場合もある。図15および図16はこの問題を解決する1例である。   As described in Example 1 and Example 2, the adhesive sheet 30 may be attached to each mother sealing substrate 400. However, in the case where the adhesive sheet 30 has a large area, from the standpoint of a manufacturing place or the like. In some cases, it is not always efficient. 15 and 16 show an example for solving this problem.

図15は実施例1に示す接着材シート30を多数、保護フィルム36に貼り付けて、ロール状フィルム361にした場合である。図15において、点線はマザー封止基板400の想定外形である。図15における左側からロール状フィルム361が供給され、接着材シート30をマザー封止基板400に転写する。そして転写が終わった保護シートを右側で巻き取る。   FIG. 15 shows a case where a large number of adhesive sheets 30 shown in Example 1 are attached to the protective film 36 to form a roll film 361. In FIG. 15, the dotted line is the assumed outer shape of the mother sealing substrate 400. A roll film 361 is supplied from the left side in FIG. 15 to transfer the adhesive sheet 30 to the mother sealing substrate 400. Then, the protective sheet after the transfer is wound on the right side.

図15の接着材シート30には、接着材除去部31と目合わせマーク32が形成されている。接着材除去部31と目合わせマーク32は接着材シート30の外形を整形するときに同時に形成される。接着材シート30のマザー封止基板400への貼り付けおよび、マザー封止基板400とマザー素子基板100の貼り付けは実施例1で説明したのと同様である。   In the adhesive sheet 30 of FIG. 15, an adhesive removal part 31 and alignment marks 32 are formed. The adhesive removing part 31 and the alignment mark 32 are formed at the same time when shaping the outer shape of the adhesive sheet 30. The bonding of the adhesive sheet 30 to the mother sealing substrate 400 and the bonding of the mother sealing substrate 400 and the mother element substrate 100 are the same as described in the first embodiment.

図16は実施例2で使用する接着材シート30をロール状接着材フィルム361に形成する例である。図16において、点線はマザー保護シートの想定外形である。図16の場合も図15と同様、左側からロール状フィルム361が供給され、接着材シート30をマザー封止基板400に転写後、右側で保護フィルム36を巻き取る。   FIG. 16 shows an example in which the adhesive sheet 30 used in Example 2 is formed on a roll adhesive film 361. In FIG. 16, the dotted line is the assumed outer shape of the mother protection sheet. In the case of FIG. 16 as well, as in FIG. 15, the roll film 361 is supplied from the left side, and after transferring the adhesive sheet 30 to the mother sealing substrate 400, the protective film 36 is wound up on the right side.

図16の各接着材シート30には、接着材除去部31と目合わせマーク32が形成されている。接着材除去部31と目合わせマーク32は接着材シート30の外形を整形するときに同時に形成される。接着材シート30のマザー封止基板400への貼り付けおよび、マザー封止基板400とマザー素子基板100の貼り付けは実施例2で説明したのと同様である。   Each adhesive sheet 30 in FIG. 16 is formed with an adhesive removing portion 31 and alignment marks 32. The adhesive removing part 31 and the alignment mark 32 are formed at the same time when shaping the outer shape of the adhesive sheet 30. The bonding of the adhesive sheet 30 to the mother sealing substrate 400 and the bonding of the mother sealing substrate 400 and the mother element substrate 100 are the same as described in the second embodiment.

図15または図16のような構成をとることによって、多くのマザー基板に効率良く接着材シート30を貼り付けることが出来る。また、ロールで巻き取るために製造の場所を大きくとるということも無い。   By taking the configuration as shown in FIG. 15 or FIG. 16, the adhesive sheet 30 can be efficiently attached to many mother boards. Also, there is no need to make a large manufacturing site for winding with a roll.

実施例1〜実施例4は素子基板10と封止基板40とは接着材シート30を用いて接着し、同時に接着材シート30に防湿効果を持たせている。本実施例は接着材として、接着材シート30を用いるのではなく、接着材38を塗布によってマザー封止基板400に直接印刷する。   In Example 1 to Example 4, the element substrate 10 and the sealing substrate 40 are bonded using the adhesive sheet 30, and at the same time, the adhesive sheet 30 has a moisture-proof effect. In this embodiment, instead of using the adhesive sheet 30 as an adhesive, the adhesive 38 is directly printed on the mother sealing substrate 400 by application.

図17(a)は実施例1の接着材シート30と同様な形状の接着材38を塗布膜によって形成した状況を示している。図17(b)は実施例2の接着材シート30と同様な形状の接着材38を塗布膜によって形成した状況を示している。塗布膜は精細度を必要としないので、例えば、スクリーン印刷で形成することが出来る。   FIG. 17A shows a situation in which an adhesive 38 having the same shape as the adhesive sheet 30 of Example 1 is formed by a coating film. FIG. 17B shows a situation where an adhesive 38 having the same shape as the adhesive sheet 30 of Example 2 is formed by a coating film. Since the coating film does not require fineness, it can be formed, for example, by screen printing.

印刷による接着材38の材料は例えば、エポキシ樹脂、あるいは、アクリル樹脂を用いることが出来る。印刷の膜厚は例えば、10μm〜20μmである。印刷の膜厚は素子基板10と封止基板40の十分な接着が確保できれば、もっと薄くても良い。   For example, an epoxy resin or an acrylic resin can be used as the material of the adhesive 38 by printing. The film thickness for printing is, for example, 10 μm to 20 μm. The film thickness of printing may be made thinner as long as sufficient adhesion between the element substrate 10 and the sealing substrate 40 can be secured.

図17(a)において、ハッチング部がスクリーン印刷によって接着材が形成されている領域である。接着材38は、接着材除去部31と目合わせマーク部には形成されていない。接着材除去部31は素子基板10において、端子部102が形成される領域である。接着材除去部31および目合わせマーク32はスクリーン印刷の印刷パターンによって任意に形成することが出来る。   In FIG. 17A, the hatched area is an area where an adhesive is formed by screen printing. The adhesive 38 is not formed on the adhesive removing portion 31 and the alignment mark portion. The adhesive removing part 31 is an area where the terminal part 102 is formed in the element substrate 10. The adhesive removing part 31 and the alignment mark 32 can be arbitrarily formed by a screen printing pattern.

図17(b)において、実施例2に対応する接着材シート30をスクリーン印刷による接着材38で形成したものである。図17において、個々の接着材領域のコーナーには目合わせマーク32が形成されている。この目合わせマークもスクリーン印刷時に同時に形成することが出来る。   In FIG. 17B, an adhesive sheet 30 corresponding to Example 2 is formed with an adhesive 38 by screen printing. In FIG. 17, alignment marks 32 are formed at the corners of the individual adhesive material regions. This alignment mark can also be formed simultaneously with screen printing.

このようにして、封止基板40に図17(a)または図17(b)で示されるような、接着材38を印刷で形成したあと、80℃程度でプリベークを行い、接着材38を半硬化させる。半硬化された接着材38はある程度の粘着力を有するようになる。その後、素子基板10と封止基板40を半硬化した接着材38によって張り合わせ、マザーパネル200を製作する。その後100℃、2時間あるいは、120℃、30分で最終ベーキングを行う。最終ベーキング後は、素子基板10と封止基板40は強固に接着し、かつ、接着材38の耐湿効果も生ずる。   In this way, after forming the adhesive 38 as shown in FIG. 17A or 17B on the sealing substrate 40 by printing, pre-baking is performed at about 80 ° C., and the adhesive 38 is half-finished. Harden. The semi-cured adhesive 38 has a certain level of adhesive strength. Thereafter, the element substrate 10 and the sealing substrate 40 are bonded to each other with a semi-cured adhesive 38 to manufacture the mother panel 200. Then, final baking is performed at 100 ° C. for 2 hours or 120 ° C. for 30 minutes. After the final baking, the element substrate 10 and the sealing substrate 40 are firmly bonded, and the moisture resistance effect of the adhesive 38 is also produced.

その後、マザーパネル200を個々の有機EL表示パネル300に分離する。分離の方法は実施例1に記載の通りである。また、個々の分離した有機EL表示パネル300の破断面は実施例1あるいは実施例2で説明したのと同様である。すなわち、図17(a)で形成した有機EL表示パネル300は実施例1で説明したような断面となり、図17(b)で形成した有機EL表示パネル300は実施例2で説明したような断面となる。   Thereafter, the mother panel 200 is separated into individual organic EL display panels 300. The separation method is as described in Example 1. Further, the fracture surface of each separated organic EL display panel 300 is the same as that described in the first or second embodiment. That is, the organic EL display panel 300 formed in FIG. 17A has a cross section as described in the first embodiment, and the organic EL display panel 300 formed in FIG. 17B has a cross section as described in the second embodiment. It becomes.

このように、接着材38を直接マザー封止基板400に形成したときに、目合わせマーク32を同時に形成するので、マザー封止基板400に目合わせマーク形成のためのプロセスを別途設ける必要が無い。したがって、その分の製造コストを低減することが出来る。   Thus, when the adhesive 38 is directly formed on the mother sealing substrate 400, the alignment mark 32 is formed at the same time, so that it is not necessary to separately provide a process for forming the alignment mark on the mother sealing substrate 400. . Therefore, the manufacturing cost can be reduced accordingly.

以上の説明では、接着材38をスクリーン印刷によって塗布するとしたが、接着材38の塗付は、スクリーン印刷に限らず、インクジェット方式、あるいはディスペンサ方式によって形成することも出来る。   In the above description, the adhesive 38 is applied by screen printing. However, the application of the adhesive 38 is not limited to screen printing, and can be formed by an inkjet method or a dispenser method.

本発明の有機EL表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the organic electroluminescence display of this invention. 本発明の有機EL表示パネルの表示領域の断面図である。It is sectional drawing of the display area of the organic electroluminescence display panel of this invention. 加工前の接着材フィルムである。It is an adhesive film before processing. 実施例1の接着材フィルムである。2 is an adhesive film of Example 1. FIG. 実施例1の保護フィルム付接着材シートがマザー封止基板に接着した図である。It is the figure which the adhesive material sheet with a protective film of Example 1 adhere | attached on the mother sealing substrate. 実施例1の接着材シートがマザー封止基板に接着した図である。It is the figure which the adhesive material sheet of Example 1 adhere | attached on the mother sealing substrate. マザー素子基板の平面図である。It is a top view of a mother element substrate. マザー封止基板とマザー素子基板の接着プロセスを示す図である。It is a figure which shows the adhesion process of a mother sealing substrate and a mother element substrate. 実施例1のマザーパネルである。2 is a mother panel of Example 1. FIG. 実施例1で形成された有機EL表示パネルの断面図である。1 is a cross-sectional view of an organic EL display panel formed in Example 1. FIG. 実施例2の接着材フィルムである。2 is an adhesive film of Example 2. 実施例2の接着材シートがマザー封止基板に接着した図である。It is the figure which the adhesive material sheet of Example 2 adhere | attached on the mother sealing substrate. 実施例2のマザーパネルである。6 is a mother panel of Example 2. FIG. 実施例3のマザーパネルである。10 is a mother panel of Example 3. 実施例4のロール式接着材フィルムの例である。3 is an example of a roll adhesive film of Example 4. FIG. 実施例4のロール式接着材フィルムの他の例である。6 is another example of the roll adhesive film of Example 4. FIG. 印刷でマザー封止基板に接着材を形成した例である。This is an example in which an adhesive is formed on a mother sealing substrate by printing. 「特許文献1」に記載の技術である。This is the technique described in “Patent Document 1”. 「非特許文献1」に記載の技術である。This is a technique described in “Non-Patent Document 1”. 「特許文献2」に記載の技術である。This is the technique described in “Patent Document 2”.

符号の説明Explanation of symbols

10…素子基板、 11…第1下地膜、 12…第2下地膜、 13…半導体層、 14…ゲート絶縁膜、 15…ゲート電極、 16…層間絶縁膜、 17…SD電極、 18…無機パッシベーション膜、 19…有機パッシベーション膜、 20…バンク、 21…下部電極、 22…有機EL層、 23…上部電極、 30…接着材シート、 31…接着材シート除去部、 32…接着材シート目合わせマーク、 33…マザー素子基板目合わせマーク、 34…個別目合わせマーク、 35…接着材フィルム、 36…保護フィルム、 38…印刷接着材、 40…封止基板、 100…マザー素子基板、 101…表示領域、 102…端子部、 200…マザーパネル、 300…有機EL表示パネル、 361…ロール状フィルム、 400…マザー封止基板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Element substrate, 11 ... 1st base film, 12 ... 2nd base film, 13 ... Semiconductor layer, 14 ... Gate insulating film, 15 ... Gate electrode, 16 ... Interlayer insulating film, 17 ... SD electrode, 18 ... Inorganic passivation Membrane, 19 ... Organic passivation film, 20 ... Bank, 21 ... Lower electrode, 22 ... Organic EL layer, 23 ... Upper electrode, 30 ... Adhesive sheet, 31 ... Adhesive sheet removing part, 32 ... Adhesive sheet alignment mark 33 ... Mother element substrate alignment mark, 34 ... Individual alignment mark, 35 ... Adhesive film, 36 ... Protective film, 38 ... Printing adhesive, 40 ... Sealing substrate, 100 ... Mother element substrate, 101 ... Display area 102 ... Terminal part 200 ... Mother panel 300 ... Organic EL display panel 361 ... Rolled film 400 ... Mother -Sealing substrate.

Claims (8)

表示領域と端子部を有する素子基板に、前記表示領域を覆って接着材シートが形成され、前記接着剤シートに封止基板が接着している有機EL表示装置の製造方法において、
前記有機EL表示装置は、前記封止基板が複数形成されるマザー封止基板と、前記素子基板が複数形成されるマザー素子基板と前記マザー封止基板と前記マザー素子基板を接着するマザー接着材シートとから形成されるマザーパネルから分離されて形成され、
前記マザー接着材シートは、目合わせマークおよび接着材除去部を有し、
前記マザー接着材シートを前記マザー封止基板に接着し、
前記マザー封止基板を前記マザー接着材シートに形成された目合わせマークを基準に前記マザー素子基板に接着し、
前記接着材除去部は前記マザー素子基板に形成された複数の端子部に配置されるように前記マザー封止基板および前記マザー素子基板を接着することを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
In an element substrate having a display region and a terminal portion, an adhesive sheet is formed so as to cover the display region, and a sealing substrate is bonded to the adhesive sheet.
The organic EL display device includes a mother sealing substrate on which a plurality of the sealing substrates are formed, a mother element substrate on which the plurality of element substrates are formed, and a mother adhesive that bonds the mother sealing substrate and the mother element substrate Formed separately from the mother panel formed from the sheet,
The mother adhesive sheet has alignment marks and an adhesive removal part,
Adhering the mother adhesive sheet to the mother sealing substrate,
Adhering the mother sealing substrate to the mother element substrate based on the alignment mark formed on the mother adhesive sheet,
A method for manufacturing an organic EL display device, comprising: bonding the mother sealing substrate and the mother element substrate so that the adhesive removing portion is disposed at a plurality of terminal portions formed on the mother element substrate.
前記マザー封止基板に接着されるマザー接着材シートは一枚であり、前記マザー素子基板に形成される複数の素子基板の端子部に対応する部分からは、マザー接着材シートが除去されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置の製造方法。   The mother adhesive sheet adhered to the mother sealing substrate is a single sheet, and the mother adhesive sheet is removed from the portions corresponding to the terminal portions of the plurality of element substrates formed on the mother element substrate. The method for producing an organic EL display device according to claim 1. 前記素子基板に形成される複数の表示領域を被覆するように前記マザー封止基板に接着したマザー接着材シートが複数接着され、前記複数のマザー接着材シートは目合わせマークを有し、前記マザー接着材シートは前記マザー素子基板に形成される複数の素子基板の端子部に対応する部分を被覆しないことを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置の製造方法。   A plurality of mother adhesive sheets adhered to the mother sealing substrate are bonded so as to cover a plurality of display areas formed on the element substrate, and the plurality of mother adhesive sheets have alignment marks, and the mother 2. The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 1, wherein the adhesive sheet does not cover portions corresponding to terminal portions of a plurality of element substrates formed on the mother element substrate. 前記マザー接着材シートはロール状フィルムとなった保護フィルムに貼りつけられていることを特徴とする請求項1〜請求項3に記載の有機EL表示装置の製造方法。   The said mother adhesive material sheet is affixed on the protective film used as the roll-shaped film, The manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 表示領域と端子部を有する素子基板に、前記表示領域を覆って接着材が形成され、前記接着剤に封止基板が接着している有機EL表示装置の製造方法において、
前記有機EL表示装置は、前記封止基板が複数形成されるマザー封止基板と、前記素子基板が複数形成されるマザー素子基板と前記マザー封止基板と前記マザー素子基板を接着する接着材とから形成されるマザーパネルから分離されて形成され、
前記接着材は、前記マザー素子基板に形成される複数の表示領域を覆うが、前記マザー素子基板に形成される複数の端子部は覆わないように、かつ、目合わせマークが形成されるように前記マザー封止基板に塗付することを特長とする有機EL表示装置の製造方法。
In an element substrate having a display region and a terminal portion, an adhesive is formed so as to cover the display region, and a sealing substrate is bonded to the adhesive.
The organic EL display device includes a mother sealing substrate on which a plurality of the sealing substrates are formed, a mother element substrate on which the plurality of element substrates are formed, and an adhesive that bonds the mother sealing substrate and the mother element substrate. Formed separately from the mother panel formed from
The adhesive covers a plurality of display areas formed on the mother element substrate, but does not cover a plurality of terminal portions formed on the mother element substrate, and an alignment mark is formed. A method for producing an organic EL display device, characterized by being applied to the mother sealing substrate.
前記塗付はスクリーン印刷によって行なわれることを特徴とする請求項5に記載の有機EL表示装置の製造方法。   6. The method of manufacturing an organic EL display device according to claim 5, wherein the application is performed by screen printing. 表示領域と端子部を有する素子基板に、前記表示領域を覆って接着材シートが形成され、前記接着剤シートに封止基板が接着している有機EL表示装置であって、
前記接着材シートは目合わせマークを有しており、前記素子基板は目合わせマークを有していることを特徴とする有機EL表示装置。
An organic EL display device in which an adhesive sheet is formed on an element substrate having a display region and a terminal portion so as to cover the display region, and a sealing substrate is bonded to the adhesive sheet,
The organic EL display device, wherein the adhesive sheet has alignment marks, and the element substrate has alignment marks.
表示領域と端子部を有する素子基板に、前記表示領域を覆って接着材が塗付によって形成され、前記接着剤に封止基板が接着している有機EL表示装置であって、
前記接着材には目合わせマークが形成されており、前記素子基板には目合わせマークが形成されていることを特徴とする有機EL表示装置。
An organic EL display device in which an adhesive material is formed by coating an element substrate having a display region and a terminal portion so as to cover the display region, and a sealing substrate is bonded to the adhesive.
An alignment mark is formed on the adhesive, and an alignment mark is formed on the element substrate.
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