JP2010092594A

JP2010092594A - Heating device

Info

Publication number: JP2010092594A
Application number: JP2008258252A
Authority: JP
Inventors: Masashi Yoshida; 正四吉田
Original assignee: NISSEI OOBARU KK
Current assignee: NISSEI OOBARU KK
Priority date: 2008-10-03
Filing date: 2008-10-03
Publication date: 2010-04-22

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heating device capable of applying all the infrared rays radiated from a heater tube onto a target, and capable of efficiently heating the target in a short time. SOLUTION: The heating device 10A is formed with: a heater tube 13 elongate in the fore-and-aft direction, radiating infrared rays; and a reflective structure 12 having a circumferential wall 16 having an inner surface 15 formed in an oval cross sectional shape and an oval space 19 formed inside the circumferential wall 16. In the heating device 10A, the heater tube 13 is arranged on a first focal point f1 present on the long axis of the oval shape in the oval space 19, a target 24 is arranged on a second focal point f2 present on the long axis of the oval shape in the oval space 19, and infrared rays radiated from the heater tube 13 to be reflected on the inner surface 15 of the circumferential wall 16 are converged on the second focal point f2. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、熱源から放射された赤外線によって所定のターゲットを加熱する加熱装置に関する。 The present invention relates to a heating device that heats a predetermined target with infrared rays emitted from a heat source.

凹状の楕円鏡面を有する半楕円反射鏡と、その半楕円反射鏡の内側に存在する第１焦点に配置された赤外線点熱源とを備え、半楕円反射鏡から所定寸法離間した位置に配置されたターゲットを点熱源から放射された赤外線によって加熱する赤外線加熱装置がある（特許文献１参照）。この赤外線加熱装置では、半楕円反射鏡の第１焦点に対向する第２焦点にターゲットが配置され、点熱源から直接照射される赤外線と半楕円反射鏡によって反射されて第２焦点に集光する赤外線とによってターゲットが加熱される。
特開２００５−２９４２４３号公報 A semi-elliptical reflecting mirror having a concave elliptical mirror surface, and an infrared point heat source arranged at the first focal point existing inside the semi-elliptical reflecting mirror, and arranged at a position spaced by a predetermined dimension from the semi-elliptical reflecting mirror There is an infrared heating device that heats a target with infrared rays emitted from a point heat source (see Patent Document 1). In this infrared heating apparatus, a target is disposed at a second focal point opposite to the first focal point of the semi-elliptical reflecting mirror, and is reflected by the infrared ray directly irradiated from the point heat source and the semi-elliptical reflecting mirror to be condensed at the second focal point. The target is heated by the infrared rays.
JP-A-2005-294243

前記特許文献１に開示の赤外線加熱装置は、赤外線点熱源から放射されて半楕円反射鏡において反射した赤外線が第２焦点に集束するが、反射鏡はその断面形状が半楕円形に成形されているから、点熱源からターゲットに向かって放射された赤外線は第２焦点に集光せず、さらに、点熱源からターゲットに向かって放射された赤外線のうちの一部が反射鏡の周縁から周り方向外方へ拡散する。したがって、点熱源から放射される赤外線のすべてをターゲットに照射することができず、ターゲットに対する赤外線の照射効率が低下し、ターゲットを短時間に効率よく加熱することができない。 In the infrared heating device disclosed in Patent Document 1, the infrared ray radiated from the infrared point heat source and reflected by the semi-elliptical reflector is focused on the second focus. The reflector has a semi-elliptical cross-sectional shape. Therefore, the infrared rays radiated from the point heat source toward the target are not collected at the second focal point, and a part of the infrared rays radiated from the point heat source toward the target is directed around the reflector. Spread outward. Therefore, it is impossible to irradiate the target with all the infrared rays emitted from the point heat source, the irradiation efficiency of the infrared rays with respect to the target is lowered, and the target cannot be efficiently heated in a short time.

本発明の目的は、熱源から放射される赤外線のすべてをターゲットに照射することができ、ターゲットを短時間に効率よく加熱することができる加熱装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a heating apparatus that can irradiate a target with all of infrared rays emitted from a heat source and can efficiently heat the target in a short time.

前記課題を解決するための本発明の前提は、赤外線を放射する一方向へ長い熱源と、熱源から放射された赤外線を反射する反射構造物とを備え、熱源から放射される赤外線によって所定のターゲットを加熱する加熱装置である。 The premise of the present invention for solving the above-mentioned problem is that a heat source that radiates infrared rays in one direction and a reflecting structure that reflects infrared rays emitted from the heat sources are provided, and a predetermined target is formed by infrared rays emitted from the heat sources. It is a heating apparatus which heats.

前記前提における本発明の特徴は、反射構造物が、一方向と交差する方向の内周面の断面形状が楕円形に成形されて該一方向へ延びる周壁と、周壁の内側に画成されて一方向へ延びる楕円スペースとを有し、熱源が楕円スペースにおける楕円形の長軸上に存する第１焦点に配置され、ターゲットが楕円スペースにおける楕円形の長軸上に存して第１焦点に対向する第２焦点に配置され、熱源から放射されて周壁の内周面に反射された赤外線が第２焦点に集束することにある。 The feature of the present invention in the above premise is that the reflecting structure is defined on the inner side of the peripheral wall and the peripheral wall extending in the one direction in which the cross-sectional shape of the inner peripheral surface in the direction intersecting with the one direction is formed into an elliptical shape. An elliptical space extending in one direction, wherein the heat source is located at a first focal point located on the major axis of the ellipse in the elliptical space, and the target is located on the major axis of the ellipse in the elliptical space and located at the first focal point. Infrared rays arranged at the second focal point facing each other, radiated from the heat source and reflected on the inner peripheral surface of the peripheral wall are focused on the second focal point.

本発明の一例として、反射構造物では、第２焦点が第１焦点よりも上方に位置し、ターゲットがその下方に位置する熱源から放射された赤外線によって加熱される。 As an example of the present invention, in the reflective structure, the second focal point is located above the first focal point, and the target is heated by infrared rays emitted from a heat source located below the second focal point.

本発明の他の一例としては、反射構造物が、第２焦点を中心としてその周り方向へ並ぶ複数の周壁と、それら周壁の内側に画成された複数の楕円スペースとを有し、反射構造物では、第２焦点近傍においてそれら周壁どうしが互いに連結され、かつ、それら周壁のうちの連結部位から互いに重なり合う部分が存在しないことで、第２焦点を共有しつつ第２焦点から離間する第１焦点を別々に有する。 As another example of the present invention, the reflective structure has a plurality of peripheral walls arranged in the direction around the second focal point, and a plurality of elliptical spaces defined inside the peripheral walls. In the object, since the peripheral walls are connected to each other in the vicinity of the second focal point, and there is no overlapping portion from the connection part of the peripheral walls, the first focal point is separated from the second focal point while sharing the second focal point. Have separate focal points.

本発明の他の一例としては、加熱装置がターゲットを第２焦点において一方向一方から他方に向かって移動させる移動手段を有する。 As another example of the present invention, the heating device has moving means for moving the target from one direction to the other in the second focus.

本発明にかかる加熱装置によれば、反射構造物が楕円形に成形された内周面を備えた周壁とその周壁の内側に画成された楕円スペースとを有し、熱源が周壁に囲繞された楕円スペースの第１焦点に配置され、ターゲットが楕円スペースの第２焦点に配置されており、熱源から放射される赤外線が周壁の内周面において反射して第２焦点に集束する。この加熱装置は、熱源から直接ターゲットに赤外線が放射されるのみならず、直接ターゲットに放射されない赤外線が周壁の内周面において反射して第２焦点に集束し、その赤外線が第２焦点に配置されたターゲットに照射されるから、熱源から放射される赤外線のすべてをターゲットに照射させることができ、ターゲットを短時間に効率よく加熱することができるとともに、ターゲットを短時間に効率よく乾燥させることができる。この加熱装置は、熱源が一方向へ延びる熱ラインを形成し、その熱ラインから放射された赤外線が一方向へ連続する第２焦点に集束するから、第２焦点において赤外線の集束ラインが形成され、赤外線が一点に集束することがなく、ターゲットをスポット加熱することができる他、所定の長さを有するターゲットを満遍なく加熱することができるとともに、そのターゲットを満遍なく乾燥させることができる。 According to the heating device of the present invention, the reflective structure has a peripheral wall having an inner peripheral surface formed in an elliptical shape and an elliptical space defined inside the peripheral wall, and the heat source is surrounded by the peripheral wall. The target is disposed at the second focal point of the elliptical space, and the infrared rays emitted from the heat source are reflected on the inner peripheral surface of the peripheral wall and focused on the second focal point. This heating device not only emits infrared rays directly from the heat source to the target, but also reflects infrared rays not directly emitted to the target to the second focal point by reflecting on the inner peripheral surface of the peripheral wall. Since the target is irradiated, all infrared rays emitted from the heat source can be irradiated to the target, the target can be efficiently heated in a short time, and the target can be efficiently dried in a short time. Can do. In this heating device, a heat source forms a heat line extending in one direction, and infrared rays emitted from the heat line are focused on a second focal point that is continuous in one direction. Therefore, an infrared focusing line is formed at the second focal point. In addition, the infrared rays are not focused on one point, the target can be spot-heated, the target having a predetermined length can be uniformly heated, and the target can be uniformly dried.

第２焦点が第１焦点よりも上方に位置し、ターゲットがその下方に位置する熱源から放射された赤外線によって加熱される加熱装置は、熱源から発生する熱の熱対流を利用することができ、ターゲットに直接照射される赤外線や周壁の内周面において反射して第２焦点に集束する赤外線に加え、熱対流を利用することでターゲットを短時間に効率よく加熱することができるとともに、ターゲットを短時間に効率よく乾燥させることができる。この加熱装置は、熱源から直接ターゲットに赤外線が放射されるのみならず、直接ターゲットに放射されない赤外線が周壁の内周面において反射して第２焦点に集束し、その赤外線が第２焦点に配置されたターゲットに照射されるから、熱源から放射される赤外線のすべてをターゲットに照射させることができる。 A heating device in which the second focal point is located above the first focal point and the target is heated by infrared rays emitted from a heat source located below the first focal point can use thermal convection of heat generated from the heat source, In addition to infrared rays that are directly irradiated to the target and infrared rays that are reflected by the inner peripheral surface of the peripheral wall and focused on the second focal point, the target can be efficiently heated in a short time by using thermal convection. It can be efficiently dried in a short time. This heating device not only emits infrared rays directly from the heat source to the target, but also reflects infrared rays not directly emitted to the target to the second focal point by reflecting on the inner peripheral surface of the peripheral wall. Since the target is irradiated, all the infrared rays emitted from the heat source can be irradiated to the target.

反射構造物が複数の周壁と複数の楕円スペースとを有し、第２焦点を共有しつつ第２焦点から離間する第１焦点を別々に有する加熱装置は、それら第１焦点に配置された熱源から放射されて周壁の内周面において反射された赤外線が１つの第２焦点に集束するから、複数の熱源から放射された赤外線をまとめてターゲットに照射させることができ、１つの熱源から赤外線をターゲットに照射する場合と比較し、ターゲットに照射し得る赤外線の強度を増加させることができる。この加熱装置は、各第１焦点に配置された熱源から放射されて周壁の内周面において反射された赤外線が１つの第２焦点にその周り方向から集束するから、熱源から放射される赤外線のすべてをターゲットの表面全域に照射させることができ、ターゲットを一層短時間に効率よく加熱することができるとともに、ターゲットを一層短時間に効率よく乾燥させることができる。この加熱装置は、それら第１焦点に配置された各熱源が一方向へ延びる熱ラインを形成し、それら熱ラインから放射された赤外線が一方向へ連続する１つの第２焦点に集束するから、第２焦点において赤外線の集束ラインが形成され、赤外線が一点に集束することがなく、ターゲットをスポット加熱することができる他、所定の長さを有するターゲットの全域を満遍なく加熱することができるとともに、そのターゲットを満遍なく乾燥させることができる。 A heating device in which the reflecting structure has a plurality of peripheral walls and a plurality of elliptical spaces, and has a first focal point that is separated from the second focal point while sharing the second focal point, is a heat source disposed at the first focal point. The infrared rays emitted from the inner wall and reflected by the inner peripheral surface of the peripheral wall are focused on one second focal point, so that the infrared rays emitted from a plurality of heat sources can be collectively irradiated onto the target, and the infrared rays can be emitted from one heat source. Compared with the case of irradiating the target, the intensity of infrared rays that can be irradiated to the target can be increased. In this heating apparatus, infrared rays emitted from the heat sources arranged at the respective first focal points and reflected on the inner peripheral surface of the peripheral wall are focused on one second focal point from the surrounding direction. All can be irradiated to the entire surface of the target, the target can be efficiently heated in a shorter time, and the target can be efficiently dried in a shorter time. In this heating device, each heat source arranged at the first focus forms a heat line extending in one direction, and infrared rays emitted from the heat lines are focused on one second focus continuous in one direction. An infrared focusing line is formed at the second focal point, the infrared rays are not focused at one point, the target can be spot-heated, and the entire target having a predetermined length can be uniformly heated, The target can be dried evenly.

ターゲットを第２焦点において一方向一方から他方に向かって移動させる移動手段を有する加熱装置は、ターゲットの赤外線の集束ライン上における移動時間や集束ラインの長さを調節することで、ターゲットの加熱・乾燥時間を容易に調整することができる。この加熱装置は、それを連続して運転しつつ、複数のターゲットの連続的な加熱・乾燥を可能にすることができる。 A heating device having moving means for moving the target from one direction to the other in the second focal point adjusts the moving time of the target on the infrared focusing line and the length of the focusing line, thereby heating the target. The drying time can be easily adjusted. This heating device can enable continuous heating and drying of a plurality of targets while operating it continuously.

添付の図面を参照し、本発明にかかる加熱装置の詳細を説明すると、以下のとおりである。図１は、一例として示す加熱装置１０Ａの斜視図であり、図２は、周壁１６および保護壁１７の一部を破断して示す図１と同様の斜視図である。図３は、図１の３−３線端面図であり、図４は、周壁１６の内周面１５と楕円スペース１９とを模式的に示す図である。図５は、周壁１６の内周面１５における赤外線の反射状態を示す図４と同様の図である。図１では、前後方向（一方向）を矢印Ｌ１で示し、上下方向を矢印Ｌ２で示す。図４，５には、原点（Ｏ）およびｘ軸、ｙ軸が表示された二次元直交座標、長軸（Ａ）および短軸（Ｂ）（図４のみ）、円（Ｅ）、第１焦点（ｆ１）、第２焦点（ｆ２）が図示されている。図４，５では、ｘ軸と楕円との交点を（ａ，−ａ）とし、ｙ軸と楕円との交点を（ｂ，−ｂ）とする。 The details of the heating apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a heating device 10A shown as an example, and FIG. 2 is a perspective view similar to FIG. 1 showing a part of the peripheral wall 16 and the protective wall 17 broken. 3 is an end view taken along line 3-3 in FIG. 1, and FIG. 4 is a diagram schematically showing the inner peripheral surface 15 and the elliptical space 19 of the peripheral wall 16. As shown in FIG. FIG. 5 is a view similar to FIG. 4 showing the state of infrared reflection on the inner peripheral surface 15 of the peripheral wall 16. In FIG. 1, the front-rear direction (one direction) is indicated by an arrow L1, and the up-down direction is indicated by an arrow L2. 4 and 5, the origin (O), the x-axis, and the y-axis are displayed as two-dimensional orthogonal coordinates, the long axis (A) and the short axis (B) (only in FIG. 4), the circle (E), the first A focal point (f1) and a second focal point (f2) are shown. 4 and 5, the intersection of the x axis and the ellipse is (a, -a), and the intersection of the y axis and the ellipse is (b, -b).

加熱装置１０Ａは、電気ヒーター１１と反射構造物１２とから構成されている。電気ヒーター１１には、ハロゲンヒーター、カーボンヒーター、シーズヒーター、フィンヒーターのいずれかを使用することができる。電気ヒーター１１は、前後方向へ直状に延びるヒーター管１３（熱源）と、ヒーター管１３の温度を制御するコントローラ（図示せず）とから形成されている。ヒーター管１３の一例としては、中空円筒状の耐熱鋼の内部にニクロム線を収容し、そのニクロム線を絶縁物（酸化マグネシウム等）で包被した赤外線発生管を例示することができる。しかし、ヒーター管１３を例示のそれに限定するものではなく、前記電気ヒーター１１の種類に応じた他のあらゆる構造のヒーター管１３を使用することができる。ヒーター管１３の温度は、コントローラによって設定温度に保持される。 The heating device 10 A includes an electric heater 11 and a reflective structure 12. As the electric heater 11, any one of a halogen heater, a carbon heater, a sheathed heater, and a fin heater can be used. The electric heater 11 is formed of a heater tube 13 (heat source) that extends straight in the front-rear direction and a controller (not shown) that controls the temperature of the heater tube 13. As an example of the heater tube 13, an infrared ray generation tube in which a nichrome wire is housed in a hollow cylindrical heat-resistant steel and the nichrome wire is covered with an insulator (magnesium oxide or the like) can be exemplified. However, the heater tube 13 is not limited to that illustrated, and any other structure of the heater tube 13 according to the type of the electric heater 11 can be used. The temperature of the heater tube 13 is maintained at a set temperature by the controller.

反射構造物１２は、前後方向と交差する方向（一方向と交差する方向）の断面形状が楕円形に成形された内外周面１４，１５を有する周壁１６と、周壁１６の外周面１４全域を被覆保護する保護壁１７とから作られている。周壁１６と保護壁１７とは、互いに並行して前後方向へ延びている。反射構造物１２では、周壁１６の外周面１４と保護壁１７の内周面１８とがそれらの当接部位において互いに接合されている。周壁１６と保護壁１７とは、アルミやステンレス等の金属から作られている。周壁１６の内周面１５には、鏡面加工が施されている。周壁１６の内側には、周壁１６の内周面１５に囲繞された楕円スペース１９が画成されている。周壁１６の前後方向両端には、内周面１５の端縁に囲繞された開口２０，２１が画成されている。 The reflecting structure 12 includes a peripheral wall 16 having inner and outer peripheral surfaces 14 and 15 in which a cross-sectional shape in a direction intersecting the front-rear direction (a direction intersecting one direction) is formed into an elliptical shape, and the entire outer peripheral surface 14 of the peripheral wall 16. It is made of a protective wall 17 that protects the coating. The peripheral wall 16 and the protective wall 17 extend in the front-rear direction in parallel with each other. In the reflective structure 12, the outer peripheral surface 14 of the peripheral wall 16 and the inner peripheral surface 18 of the protective wall 17 are joined to each other at their contact portions. The peripheral wall 16 and the protective wall 17 are made of a metal such as aluminum or stainless steel. The inner peripheral surface 15 of the peripheral wall 16 is mirror-finished. On the inner side of the peripheral wall 16, an elliptical space 19 surrounded by the inner peripheral surface 15 of the peripheral wall 16 is defined. At both ends in the front-rear direction of the peripheral wall 16, openings 20 and 21 surrounded by the edge of the inner peripheral surface 15 are defined.

楕円スペース１９は、図１に示すように、周壁１６の内周面１５が形作る前後方向へ長い空間である。楕円スペース１９の断面形状は、図３，４に示すように、原点（Ｏ）を中心として長径（Ｏａ）の長軸（Ａ）、短径（Ｏｂ）の短軸（Ｂ）を有する楕円である。原点（Ｏ）は、楕円の中心（Ｏ）となる。長軸（Ａ）上には、第１焦点（ｆ１）と第２焦点（ｆ２）とが存在する。第１焦点（ｆ１）と第２焦点（ｆ２）とは、前後方向へ連続している。任意の楕円は、図４，５に示すように、長軸長さ（２Ｏａ）、焦点長さ（２Ｏｃ）とし、ｘ軸上の第１焦点（ｆ１）を中心とする半径（ａ）の円（Ｅ）を画き、円（Ｅ）の円周とｙ軸との交点（ｂ，−ｂ）とすると、ｘ^２／ａ^２＋ｙ^２／ｂ^２＝１で表される。 As shown in FIG. 1, the elliptical space 19 is a space that is long in the front-rear direction formed by the inner peripheral surface 15 of the peripheral wall 16. 3 and 4, the cross-sectional shape of the elliptical space 19 is an ellipse having a major axis (A) having a major axis (Oa) and a minor axis (B) having a minor axis (Ob) with the origin (O) as the center. is there. The origin (O) is the center (O) of the ellipse. A first focal point (f1) and a second focal point (f2) exist on the long axis (A). The first focal point (f1) and the second focal point (f2) are continuous in the front-rear direction. 4 and 5, an arbitrary ellipse has a major axis length (2Oa) and a focal length (2Oc), and a circle having a radius (a) centered on the first focal point (f1) on the x-axis. If (E) is drawn and the intersection (b, -b) between the circumference of the circle (E) and the y-axis, x ² / a ² + y ² / b ² = 1.

楕円スペース１９では、たとえば、楕円の中心（Ｏ）からの長半径（Ｏａ）の長さを７００ｍｍとし、中心（Ｏ）からの短半径（Ｏｂ）の長さを４８９．９ｍｍとすると、中心（Ｏ）から第１焦点（ｆ１）までの長さ（Ｏｆ１）および中心（Ｏ）から第２焦点（ｆ２）までの長さ（Ｏｆ２）が５００ｍｍとなる。楕円スペース１９では、長半径（Ｏａ）の長さと短半径（Ｏｂ）の長さとを定めると、中心（Ｏ）から第１焦点（ｆ１）までの長さ（Ｏｆ１）および中心（Ｏ）から第２焦点（ｆ２）までの長さ（Ｏｆ２）が決まる。なお、長半径（Ｏａ）の長さや短半径（Ｏｂ）の長さ、中心（Ｏ）から第１焦点（ｆ１）までの長さ（Ｏｆ１）、中心（Ｏ）から第２焦点（ｆ２）までの長さ（Ｏｆ２）に特に限定はなく、それらを任意に設定することができる。 In the ellipse space 19, for example, when the length of the major radius (Oa) from the center (O) of the ellipse is 700 mm and the length of the minor radius (Ob) from the center (O) is 489.9 mm, the center ( The length (Of1) from O) to the first focal point (f1) and the length (Of2) from the center (O) to the second focal point (f2) are 500 mm. In the elliptical space 19, when the length of the major radius (Oa) and the length of the minor radius (Ob) are determined, the length (Of1) from the center (O) to the first focal point (f1) and the first from the center (O). The length (Of2) up to two focal points (f2) is determined. Note that the length of the long radius (Oa), the length of the short radius (Ob), the length from the center (O) to the first focus (f1) (Of1), and from the center (O) to the second focus (f2). There is no particular limitation on the length of (Of 2), and they can be set arbitrarily.

楕円スペース１９における第１焦点（ｆ１）には、ヒーター管１３が配置されている。ヒーター管１３の軸方向中心は、第１焦点（ｆ１）に位置している。ヒーター管１３は、第１焦点（ｆ１）において前後方向へ延びる熱ライン２２を形成している。楕円スペース１９における第２焦点（ｆ２）には、前後方向へ延びる集束ライン２３（ターゲットゾーン）が形成されている。第２焦点（ｆ２）には、加熱対象のターゲット２４（被加熱物）が挿脱可能に配置される。 A heater tube 13 is disposed at the first focal point (f1) in the elliptical space 19. The axial center of the heater tube 13 is located at the first focal point (f1). The heater tube 13 forms a heat line 22 extending in the front-rear direction at the first focal point (f1). A focusing line 23 (target zone) extending in the front-rear direction is formed at the second focal point (f2) in the elliptical space 19. At the second focal point (f2), a target 24 (object to be heated) to be heated is detachably arranged.

この加熱装置１０Ａでは、楕円スペース１９における楕円の長軸（Ａ）が上下方向へ垂直に延び、かつ、第２焦点が第１焦点よりも上方に位置している。ゆえに、ヒーター管１３が下方に位置し、ターゲット２４がヒーター管１３の上方に位置する。ヒーター管１３の外周面から放射された赤外線は、直接ターゲット２４に向かうそれの他に、図５に示すように、周壁１６の内周面１５に向かった後、内周面１５において反射されるそれに分けることができる。周壁１６の内周面１５において反射された赤外線は、第２焦点（ｆ２）（集束ライン２３）に集束する。 In this heating apparatus 10A, the major axis (A) of the ellipse in the ellipse space 19 extends vertically in the vertical direction, and the second focal point is located above the first focal point. Therefore, the heater tube 13 is positioned below and the target 24 is positioned above the heater tube 13. The infrared rays radiated from the outer peripheral surface of the heater tube 13 are reflected on the inner peripheral surface 15 after going toward the inner peripheral surface 15 of the peripheral wall 16 as shown in FIG. It can be divided into it. The infrared rays reflected by the inner peripheral surface 15 of the peripheral wall 16 are focused on the second focal point (f2) (focusing line 23).

図６は、ターゲット２４の移動手段の一例を示す図である。この加熱装置１０Ａでは、第２焦点（ｆ２）に配置されるターゲット２４を移動手段を介して前後方向一方（一方向一方）から他方へ向かって移動させることができる。なお、加熱装置１０Ａでは、必ずしも移動手段を設ける必要はなく、ターゲット２４を第２焦点（ｆ２）に固定した状態で装置１０Ａを稼動させることもできる。移動手段は、金属製の線材２５（たとえば、チェーン）と、その線材２５を前後方向一方から他方へ向かって移動させる駆動装置２６とから形成されている。線材２５は、第２焦点（ｆ２）に緊張状態で設置される。 FIG. 6 is a diagram illustrating an example of a moving unit for the target 24. In this heating apparatus 10A, the target 24 arranged at the second focal point (f2) can be moved from one side in the front-rear direction (one direction) to the other via the moving means. In the heating apparatus 10A, it is not always necessary to provide a moving means, and the apparatus 10A can be operated with the target 24 fixed to the second focal point (f2). The moving means is formed of a metal wire 25 (for example, a chain) and a driving device 26 that moves the wire 25 from one side to the other in the front-rear direction. The wire 25 is installed in a tension state at the second focal point (f2).

ターゲット２４は、線材２５に取り付けられた金属製のフックやクリップ、挟み等の保持部材（図示せず）に保持される。駆動装置２６は、モータを利用して線材２５を周壁１６の一方の開口２０から他方の開口２１へ向かって所定の速度で移動させる。線材２５の移動にともなってターゲット２４が周壁１６の一方の開口２０から他方の開口２１へ向かって所定の速度で移動する。線材２５の移動速度は、駆動装置２６によって任意に設定することができる。 The target 24 is held by a holding member (not shown) such as a metal hook, clip, or clip attached to the wire 25. The driving device 26 uses a motor to move the wire 25 from the one opening 20 of the peripheral wall 16 toward the other opening 21 at a predetermined speed. As the wire 25 moves, the target 24 moves from the one opening 20 of the peripheral wall 16 toward the other opening 21 at a predetermined speed. The moving speed of the wire 25 can be arbitrarily set by the driving device 26.

この加熱装置１０Ａにおけるターゲット２４の加熱手順の一例を説明すると、以下のとおりである。保持部材を介して複数のターゲット２４を線材２５に取り付けた後、電気ヒーター１１や駆動装置２６を稼動させ、加熱の準備をする。加熱準備段階では、先頭のターゲット２４が周壁１６の一方の開口２０に位置している。電気ヒーター１１が稼動し、電気ヒーター１１のヒーター管１３が設定温度になると、駆動装置２６のモータが稼動し、モータによって線材２５が前後方向前方へ引っ張られる。 An example of the procedure for heating the target 24 in the heating apparatus 10A will be described as follows. After the plurality of targets 24 are attached to the wire rod 25 via the holding member, the electric heater 11 and the driving device 26 are operated to prepare for heating. In the heating preparation stage, the leading target 24 is located in one opening 20 of the peripheral wall 16. When the electric heater 11 is operated and the heater tube 13 of the electric heater 11 reaches the set temperature, the motor of the driving device 26 is operated, and the wire 25 is pulled forward in the front-rear direction by the motor.

各ターゲット２４は、線材２５の移動にともなって周壁１６の一方の開口２０から楕円スペース１９の第２焦点（ｆ２）（集束ライン２３）に進入し、他方の開口２１へ向かって第２焦点（ｆ２）を所定の速度で移動する。ヒーター管１３の外周面から周り方向外方に向かって放射された赤外線は、直接ターゲット２４に照射される他、周壁１６の内周面１５において反射して第２焦点（ｆ２）に集束し、ターゲット２４に照射される。ターゲット２４は、楕円スペース１９の第２焦点（ｆ２）を移動する過程においてその外周面が赤外線に曝露され、赤外線によって加熱される。それらターゲット２４が他方の開口２１から楕円スペース１９の外側に搬送されると、ターゲット２４の加熱が完了する。 Each target 24 enters the second focal point (f2) (the converging line 23) of the elliptical space 19 from one opening 20 of the peripheral wall 16 with the movement of the wire 25, and the second focal point (to the other opening 21). f2) is moved at a predetermined speed. Infrared radiation radiated outward from the outer peripheral surface of the heater tube 13 is directly applied to the target 24, and is reflected by the inner peripheral surface 15 of the peripheral wall 16 to be focused on the second focal point (f2). The target 24 is irradiated. In the process of moving the second focal point (f2) of the elliptical space 19, the outer surface of the target 24 is exposed to infrared rays and heated by the infrared rays. When these targets 24 are conveyed to the outside of the elliptical space 19 from the other opening 21, the heating of the target 24 is completed.

なお、移動手段は、図示のそれに限定されず、たとえば、ベルトコンベアを第２焦点（ｆ２）（集束ライン２３）に設置し、ターゲット２４をコンベア上に着脱可能に固定し、コンベアの駆動を利用してターゲット２４を第２焦点（ｆ２）において前後方向へ移動させることもできる。また、レールを第２焦点（ｆ２）に設置し、そのレールに台座を取り付け、台座に嵌合するチェーンの駆動によって台座をレールにおいて移動可能にすることもできる。この場合、ターゲット２４が台座に着脱可能に固定され、台座の移動によって第２焦点（ｆ２）を前後方向へ移動する。 The moving means is not limited to that shown in the figure. For example, a belt conveyor is installed at the second focal point (f2) (the converging line 23), the target 24 is detachably fixed on the conveyor, and the conveyor is driven. Thus, the target 24 can be moved in the front-rear direction at the second focal point (f2). It is also possible to install a rail at the second focal point (f2), attach a pedestal to the rail, and make the pedestal moveable on the rail by driving a chain fitted to the pedestal. In this case, the target 24 is detachably fixed to the pedestal, and the second focal point (f2) is moved in the front-rear direction by the movement of the pedestal.

加熱装置１０Ａは、ヒーター管１３（熱源）から直接ターゲット２４に赤外線が照射されるのみならず、周壁１６の内周面１５において反射した赤外線が第２焦点（ｆ２）に集束し、その赤外線が第２焦点（ｆ２）に配置されたターゲット２４に照射されるから、ヒーター管１３から放射される赤外線のすべてをターゲット２４に照射させることができ、ターゲット２４を短時間に効率よく加熱することができるとともに、ターゲット２４を短時間に効率よく乾燥させることができる。加熱装置１０Ａは、ヒーター管１３が前後方向（一方向）へ延びる熱ライン２２を形成し、その熱ライン２２から放射された赤外線が前後方向へ連続する第２焦点（ｆ２）に集束するから、第２焦点（ｆ２）において赤外線の集束ライン２３が形成され、所定の長さを有するターゲット２４を満遍なく加熱することができるとともに、そのターゲット２４を満遍なく乾燥させることができる。 In the heating apparatus 10A, not only the target 24 is directly irradiated with infrared rays from the heater tube 13 (heat source), but also the infrared rays reflected on the inner peripheral surface 15 of the peripheral wall 16 are focused on the second focal point (f2). Since the target 24 arranged at the second focal point (f2) is irradiated, the target 24 can be irradiated with all of the infrared rays emitted from the heater tube 13, and the target 24 can be efficiently heated in a short time. In addition, the target 24 can be efficiently dried in a short time. In the heating apparatus 10A, the heater tube 13 forms a heat line 22 extending in the front-rear direction (one direction), and infrared rays emitted from the heat line 22 are focused on a second focal point (f2) continuous in the front-rear direction. An infrared focusing line 23 is formed at the second focal point (f2), and the target 24 having a predetermined length can be uniformly heated, and the target 24 can be uniformly dried.

加熱装置１０Ａは、第２焦点（ｆ２）が第１焦点（ｆ１）よりも上方に位置し、ターゲット２４がその下方に位置するヒーター管１３から放射された赤外線によって加熱されるから、ヒーター管１３から発生する熱の熱対流を利用することができ、ターゲット２４に直接照射される赤外線や周壁１６の内周面１５において反射して第２焦点に集束する赤外線に加え、熱対流を利用することでターゲット２４を短時間に効率よく加熱することができるとともに、ターゲット２４を短時間に効率よく乾燥させることができる。加熱装置１０Ａは、ターゲット２４を第２焦点（ｆ２）において前後方向一方から他方に向かって移動させる移動手段を有するから、ターゲット２４の赤外線の集束ライン２３上における移動時間や集束ライン２３の長さを調節することで、ターゲット２４の加熱・乾燥時間を容易に調整することができる。また、加熱装置１０Ａを連続して運転しつつ、複数のターゲット２４の連続的な加熱・乾燥を可能にすることができる。 In the heating apparatus 10A, the second focal point (f2) is located above the first focal point (f1), and the target 24 is heated by infrared rays emitted from the heater tube 13 located below the first focal point (f1). In addition to the infrared rays directly radiated to the target 24 and the infrared rays reflected by the inner peripheral surface 15 of the peripheral wall 16 and focused on the second focal point, the thermal convection can be used. Thus, the target 24 can be efficiently heated in a short time, and the target 24 can be efficiently dried in a short time. Since the heating device 10A has moving means for moving the target 24 from one side to the other in the front-rear direction at the second focal point (f2), the moving time of the target 24 on the infrared focusing line 23 and the length of the focusing line 23 are included. By adjusting the value, the heating / drying time of the target 24 can be easily adjusted. Further, it is possible to continuously heat and dry the plurality of targets 24 while operating the heating device 10A continuously.

図１の加熱装置１０Ａでは、第２焦点が第１焦点よりも上方に位置し、ヒーター管１３がターゲット２４の下方に位置するが、第１焦点が第２焦点よりも上方（斜め上方を含む）に位置し、ターゲット２４がヒーター管１３の下方（斜め下方を含む）に位置してもよい。また、楕円スペース１９における楕円の長軸（Ａ）が横方向へ水平に延び、第１焦点と第２焦点とが横方向へ対向位置し、ターゲット２４とヒーター管１３とが横方向へ対向位置してもよい。 In the heating apparatus 10A of FIG. 1, the second focal point is located above the first focal point, and the heater tube 13 is located below the target 24, but the first focal point is above the second focal point (including an obliquely upper part). ) And the target 24 may be located below the heater tube 13 (including an obliquely lower side). Further, the long axis (A) of the ellipse in the elliptical space 19 extends horizontally in the lateral direction, the first focal point and the second focal point are opposed to each other in the lateral direction, and the target 24 and the heater tube 13 are opposed to each other in the lateral direction. May be.

図７は、他の一例として示す加熱装置１０Ｂの斜視図であり、図８は、図７の８−８線端面図である。図９は、周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５と楕円スペース１８Ａ，１９Ｂとを模式的に示す図であり、図１０は、周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５における赤外線の反射状態を示す図９と同様の図である。図１１は、図７とは異なる態様の内周面１５と楕円スペース１８Ａ，１９Ｂとを模式的に示す図である。図７，８では、前後方向（一方向）を矢印Ｌ１（図７のみ）、上下方向を矢印Ｌ２で示し（図８のみ）、横方向を矢印Ｌ３で示す（図７のみ）。図８では、それら周壁１６Ａ，１６Ｂのうちの連結部位２７から一方の周壁１６Ｂの内側に延びる部分２８と他方の周壁１６Ａの内側に延びる部分２９とを一点鎖線で示す。図９には、原点（Ｏ）およびｘ軸、ｙ軸が表示された二次元直交座標、長軸（Ａ）および短軸（Ｂ）、２つの円（Ｅ）、２つの第１焦点（ｆ１）、１つの第２焦点（ｆ２）が図示されている。 7 is a perspective view of a heating apparatus 10B shown as another example, and FIG. 8 is an end view taken along line 8-8 of FIG. 9 is a diagram schematically showing the inner peripheral surface 15 of the peripheral walls 16A and 16B and the elliptic spaces 18A and 19B, and FIG. 10 is a diagram showing the state of infrared reflection on the inner peripheral surface 15 of the peripheral walls 16A and 16B. 9 is a diagram similar to FIG. FIG. 11 is a diagram schematically showing the inner peripheral surface 15 and the elliptical spaces 18A and 19B, which are different from those in FIG. 7 and 8, the front-rear direction (one direction) is indicated by an arrow L1 (only in FIG. 7), the vertical direction is indicated by an arrow L2 (only in FIG. 8), and the lateral direction is indicated by an arrow L3 (only in FIG. 7). In FIG. 8, a portion 28 extending from the connecting portion 27 of the peripheral walls 16A and 16B to the inside of one peripheral wall 16B and a portion 29 extending to the inside of the other peripheral wall 16A are indicated by a one-dot chain line. In FIG. 9, the origin (O), the x-axis, and the y-axis are displayed as two-dimensional orthogonal coordinates, the major axis (A) and the minor axis (B), two circles (E), and two first focal points (f1). ) One second focus (f2) is shown.

この加熱装置１０Ｂが図１のそれと異なるところは、反射構造物１２が横方向（長軸方向）へ並ぶ２つの第１および第２周壁１６Ａ，１６Ｂを有するとともに、それら周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５に囲繞された２つの第１および第２楕円スペース１９Ａ，１９Ｂを有する点にあり、その他の構成は図１の加熱装置１０Ａと同一であるから、図１と同一の符号を付すことで、この加熱装置１０Ｂにおけるその他の構成の説明は省略する。 This heating device 10B is different from that of FIG. 1 in that the reflecting structure 12 has two first and second peripheral walls 16A, 16B arranged in the lateral direction (long axis direction), and the inner periphery of these peripheral walls 16A, 16B. Since it has two first and second elliptical spaces 19A and 19B surrounded by the surface 15, and the other configuration is the same as the heating device 10A in FIG. 1, the same reference numerals as those in FIG. Description of other components in the heating device 10B is omitted.

反射構造物１２は、前後方向と交差する方向（一方向と交差する方向）の断面形状が楕円形に成形された内外周面１４，１５を有して横方向へ対称形に配置された第１周壁１６Ａおよび第２周壁１６Ｂと、それら周壁１６Ａ，１６Ｂの外周面１４全域を被覆保護する保護壁１７とから作られている。それら周壁１６Ａ，１６Ｂと保護壁１７とは、互いに並行して前後方向へ延びている。反射構造物１２では、それら周壁１６Ａ，１６Ｂの外周面１４と保護壁１７の内周面１８とがそれらの当接部位において互いに接合されている。周壁１６Ａ，１６Ｂと保護壁１７との材質は、図１のそれらと同一である。周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５には、鏡面加工が施されている。周壁１６Ａ，１６Ｂの内側には、それら周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５に囲繞された第１楕円スペース１９Ａと第２楕円スペース１９Ｂとが画成されている。周壁１６Ａ，１６Ｂの前後方向両端には、内周面１５の端縁に囲繞された開口２０，２１が画成されている。 The reflective structure 12 has inner and outer peripheral surfaces 14 and 15 in which the cross-sectional shape in the direction intersecting the front-rear direction (direction intersecting one direction) is formed in an elliptical shape, and is arranged symmetrically in the lateral direction. It is made up of a first peripheral wall 16A and a second peripheral wall 16B, and a protective wall 17 that covers and protects the entire outer peripheral surface 14 of the peripheral walls 16A and 16B. The peripheral walls 16A and 16B and the protective wall 17 extend in the front-rear direction in parallel with each other. In the reflective structure 12, the outer peripheral surface 14 of the peripheral walls 16 A and 16 B and the inner peripheral surface 18 of the protective wall 17 are joined to each other at their contact portions. The materials of the peripheral walls 16A and 16B and the protective wall 17 are the same as those in FIG. The inner peripheral surface 15 of the peripheral walls 16A and 16B is mirror-finished. A first ellipse space 19A and a second ellipse space 19B surrounded by the inner peripheral surface 15 of the peripheral walls 16A and 16B are defined inside the peripheral walls 16A and 16B. Openings 20 and 21 surrounded by the edge of the inner peripheral surface 15 are defined at both ends in the front-rear direction of the peripheral walls 16A and 16B.

第１楕円スペース１９Ａは、図７に示すように、第１周壁１６Ａの内周面１５が形作る前後方向へ長い空間であり、第２楕円スペース１９Ｂは、第２周壁１６Ｂの内周面１５が形作る前後方向へ長い空間である。なお、第１および第２楕円スペース１９Ａ，１９Ｂは、第２焦点（ｆ２）近傍の空間を共有している。それら楕円スペース１９Ａ，１９Ｂの断面形状は、図９に示すように、原点（Ｏ）を中心として長径（Ｏａ）の長軸（Ａ）、短径（Ｏｂ）の短軸（Ｂ）を有する楕円である。それら楕円スペース１９Ａ，１９Ｂの長軸（Ａ）上には、２つの第１焦点（ｆ１）と１つの第２焦点（ｆ２）とが存在する。それら第１焦点（ｆ１）と第２焦点（ｆ２）とは、前後方向へ連続している。なお、図１の加熱装置１０Ａと同様に、長半径（Ｏａ）の長さや短半径（Ｏｂ）の長さ、中心（Ｏ）から第１焦点（ｆ１）までの長さ（Ｏｆ１）、中心（Ｏ）から第２焦点（ｆ２）までの長さ（Ｏｆ２）に特に限定はなく、それらを任意に設定することができる。 As shown in FIG. 7, the first elliptical space 19A is a space that is long in the front-rear direction formed by the inner peripheral surface 15 of the first peripheral wall 16A, and the second elliptical space 19B is an inner peripheral surface 15 of the second peripheral wall 16B. It is a long space in the front-rear direction. The first and second elliptical spaces 19A and 19B share a space near the second focal point (f2). As shown in FIG. 9, the elliptical spaces 19A and 19B have an elliptical shape having a major axis (A) having a major axis (Oa) and a minor axis (B) having a minor axis (Ob) with the origin (O) as the center. It is. There are two first focal points (f1) and one second focal point (f2) on the major axis (A) of the elliptical spaces 19A and 19B. The first focus (f1) and the second focus (f2) are continuous in the front-rear direction. As in the heating apparatus 10A of FIG. 1, the length of the long radius (Oa), the length of the short radius (Ob), the length (Of1) from the center (O) to the first focal point (f1), the center ( There is no particular limitation on the length (Of2) from O) to the second focal point (f2), and they can be set arbitrarily.

第１周壁１６Ａと第２周壁１６Ｂとは、それら周壁１６Ａ，１６Ｂの内側に画成された楕円スペース１９Ａ，１９Ｂにおける楕円形の第２焦点（ｆ２）を中心として横方向（長軸方向）へ離間対向し、それら楕円スペース１９Ａ，１９Ｂにおける楕円形の長軸（Ａ）どうしが直線をなすように並んでいる。第１周壁１６Ａと第２周壁１６Ｂとは、第２焦点（ｆ２）から楕円形の短軸（Ｂ）方向へ延ばした仮想線３０（図８参照）と交差する部位（連結部位２７）において互いに連結されている。第１および第２周壁１６Ａ，１６Ｂでは、それら周壁１６Ａ，１６Ｂのうちの連結部位２７から一方の周壁１６Ｂの内側に延びる部分２８（図８に一点鎖線で示す部分）と他方の周壁１６Ａの内側に延びる部分２９（図８に一点鎖線で示す部分）とが存在せず、第２焦点（ｆ２）から離間する２つの第１焦点（ｆ１）どうしが第２焦点（ｆ２）を中心として一直線上に位置している。 The first peripheral wall 16A and the second peripheral wall 16B are laterally (major axis direction) centered on the elliptical second focal point (f2) in the elliptical spaces 19A and 19B defined inside the peripheral walls 16A and 16B. The elliptical long axes (A) in the elliptical spaces 19A and 19B are arranged so as to form a straight line. 16A of 1st surrounding walls and the 2nd surrounding wall 16B mutually mutually in the site | part (connection part 27) which cross | intersects the virtual line 30 (refer FIG. 8) extended from the 2nd focus (f2) to the elliptical short-axis (B) direction. It is connected. In the first and second peripheral walls 16A and 16B, a portion 28 (a portion indicated by a one-dot chain line in FIG. 8) extending from the connecting portion 27 of the peripheral walls 16A and 16B to the inside of one peripheral wall 16B and the inside of the other peripheral wall 16A There is no portion 29 (portion indicated by a one-dot chain line in FIG. 8), and the two first focal points (f1) separated from the second focal point (f2) are in a straight line with the second focal point (f2) as the center. Is located.

第１および第２楕円スペース１９Ａ，１９Ｂにおけるそれら第１焦点（ｆ１）には、第１ヒーター管１３Ａと第２ヒーター管１３Ｂとが配置されている。それらヒーター管１３Ａ，１３Ｂの軸方向中心は、第１焦点（ｆ１）に位置している。ヒーター管１３Ａ，１３Ｂは、第１焦点（ｆ１）において前後方向へ延びる熱ライン２２を形成している。楕円スペース１９Ａ，１９Ｂにおける第２焦点（ｆ２）には、前後方向へ延びる集束ライン２３（ターゲットゾーン）が形成されている。第２焦点（ｆ２）には、加熱対象のターゲット２４が挿脱可能に配置される。ヒーター管１３Ａ，１３Ｂの外周面から放射された赤外線は、直接ターゲット２４に向かうそれの他に、図１０に示すように、周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５に向かった後、内周面１５において反射されるそれに分けることができる。周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５において反射された赤外線は、第２焦点（ｆ２）にその周り方向から集束する。 A first heater tube 13A and a second heater tube 13B are disposed at the first focal points (f1) in the first and second elliptical spaces 19A and 19B. The axial centers of the heater tubes 13A and 13B are located at the first focal point (f1). The heater tubes 13A and 13B form a heat line 22 extending in the front-rear direction at the first focal point (f1). A focusing line 23 (target zone) extending in the front-rear direction is formed at the second focal point (f2) in the elliptical spaces 19A and 19B. At the second focal point (f2), the target 24 to be heated is detachably disposed. Infrared rays radiated from the outer peripheral surfaces of the heater tubes 13A and 13B are directed to the inner peripheral surface 15 of the peripheral walls 16A and 16B, as shown in FIG. Can be divided into that reflected in. The infrared rays reflected on the inner peripheral surface 15 of the peripheral walls 16A and 16B are focused on the second focal point (f2) from the surrounding direction.

この加熱装置１０Ｂにおけるターゲット２４の加熱手順の一例を説明すると、以下のとおりである。なお、加熱装置１０Ｂには、図６に示す移動手段が設置されているものとする（ただし、ターゲット２４を第２焦点（ｆ２）に固定した状態で装置１０Ｂを稼動させることもできる。）。保持部材を介して複数のターゲット２４を線材２５に取り付けた後、電気ヒーター１１や駆動装置２６を稼動させ、加熱の準備をする。加熱準備段階では、先頭のターゲット２４が周壁１６Ａ，１６Ｂの一方の開口２０に位置している。電気ヒーター１１が稼動し、電気ヒーター１１のヒーター管１１３Ａ，１３Ｂが設定温度になると、駆動装置２６のモータが稼動し、モータによって線材２５が前後方向前方へ引っ張られる。 An example of the procedure for heating the target 24 in the heating apparatus 10B will be described as follows. It is assumed that the moving device shown in FIG. 6 is installed in the heating device 10B (however, the device 10B can be operated with the target 24 fixed to the second focal point (f2)). After the plurality of targets 24 are attached to the wire rod 25 via the holding member, the electric heater 11 and the driving device 26 are operated to prepare for heating. In the heating preparation stage, the leading target 24 is located in one opening 20 of the peripheral walls 16A and 16B. When the electric heater 11 is operated and the heater tubes 113A and 13B of the electric heater 11 reach the set temperature, the motor of the driving device 26 is operated, and the wire 25 is pulled forward in the front-rear direction by the motor.

各ターゲット２４は、線材２５の移動にともなって周壁１６Ａ，１６Ｂの一方の開口２０から楕円スペース１９Ａ，１９Ｂの第２焦点（ｆ２）に進入し、他方の開口２１へ向かって第２焦点（ｆ２）（集束ライン２３）を所定の速度で移動する。ヒーター管１３Ａ，１３Ｂの外周面から周り方向外方に向かって放射された赤外線は、直接ターゲット２４に照射される他、第１および第２周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５において反射して第２焦点（ｆ２）に集束し、ターゲット２４の外周面全域に照射される。ターゲット２４は、楕円スペース１９Ａ，１９Ｂの第２焦点（ｆ２）を移動する過程においてその外周面全域が赤外線に曝露され、赤外線によって加熱される。それらターゲット２４が他方の開口２１から楕円スペース１９Ａ，１９Ｂの外側に搬送されると、ターゲット２４の加熱が完了する。 Each target 24 enters the second focal point (f2) of the elliptical spaces 19A and 19B from one opening 20 of the peripheral walls 16A and 16B as the wire 25 moves, and the second focal point (f2) toward the other opening 21. ) (Focusing line 23) is moved at a predetermined speed. Infrared rays radiated from the outer peripheral surfaces of the heater tubes 13A and 13B outward in the circumferential direction are directly applied to the target 24, and are reflected by the inner peripheral surfaces 15 of the first and second peripheral walls 16A and 16B. The light is focused on two focal points (f2) and irradiated to the entire outer peripheral surface of the target 24. In the process of moving the second focal point (f2) of the elliptical spaces 19A and 19B, the entire outer peripheral surface of the target 24 is exposed to infrared rays and heated by the infrared rays. When these targets 24 are conveyed from the other opening 21 to the outside of the elliptical spaces 19A and 19B, the heating of the targets 24 is completed.

加熱装置１０Ｂは、反射構造物１２が互いに対向する２つの周壁１６Ａ，１６Ｂとそれら周壁１６Ａ，１６Ｂの内側に画成された２つの楕円スペース１９Ａ，１９Ｂとを有し、第２焦点（ｆ２）から離間する２つの第１焦点（ｆ１）どうしがその第２焦点（ｆ２）を中心として一直線上に対向位置するから、それら第１焦点（ｆ１）に配置されたヒーター管１３Ａ，１３Ｂから放射された赤外線がそれら周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５において乱反射し難く、それらヒーター管１３Ａ，１３Ｂから放射された赤外線が１つの第２焦点（ｆ２）に確実に集束する。加熱装置１０Ｂは、それら第１焦点（ｆ１）に配置された２つのヒーター管１３Ａ，１３Ｂから直接ターゲット２４に赤外線が照射されるのみならず、それらヒーター管１３Ａ，１３Ｂから放射された赤外線が周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５において反射して１つの第２焦点（ｆ２）にその周り方向から集束し、その赤外線が第２焦点（ｆ２）に配置されたターゲット２４に照射されるから、ヒーター管１３Ａ，１３Ｂから放射される赤外線のすべてをターゲット２４の表面全域に照射させることができる。 The heating device 10B has two peripheral walls 16A and 16B with which the reflecting structure 12 faces each other, and two elliptical spaces 19A and 19B defined inside the peripheral walls 16A and 16B, and has a second focal point (f2). The two first focal points (f1) that are separated from each other are positioned opposite to each other in a straight line with the second focal point (f2) as the center, and are thus emitted from the heater tubes 13A and 13B arranged at the first focal point (f1). Infrared rays are less likely to diffusely reflect on the inner peripheral surface 15 of the peripheral walls 16A and 16B, and the infrared rays emitted from the heater tubes 13A and 13B are reliably focused on one second focal point (f2). The heating device 10B not only directly irradiates the target 24 with infrared rays from the two heater tubes 13A and 13B arranged at the first focal point (f1), but also transmits infrared rays emitted from the heater tubes 13A and 13B to the peripheral wall. Since the light is reflected on the inner peripheral surface 15 of 16A and 16B and focused on one second focal point (f2) from the surrounding direction, the infrared rays are irradiated to the target 24 arranged at the second focal point (f2). All of the infrared rays emitted from the tubes 13A and 13B can be irradiated to the entire surface of the target 24.

加熱装置１０Ｂは、２つのヒーター管１３Ａ，１３Ｂから放射された赤外線をまとめてターゲット２４に照射させることができ、１つのヒーター管１３から赤外線をターゲット２４に照射する場合と比較し、ターゲット２４に照射し得る赤外線の強度を増加させることができ、ターゲット２４を一層短時間に効率よく加熱することができるとともに、ターゲット２４を一層短時間に効率よく乾燥させることができる。加熱装置１０Ｂは、ターゲット２４を第２焦点（ｆ２）において前後方向一方から他方に向かって移動させる移動手段を有するから、ターゲット２４の赤外線の集束ライン２３上における移動時間や集束ライン２３の長さを調節することで、ターゲット２４の加熱時間を容易に調整することができる。また、加熱装置１０Ｂを連続して運転しつつ、複数のターゲット２４の連続的な加熱、乾燥を可能にすることができる。 The heating apparatus 10B can collectively irradiate the target 24 with infrared rays emitted from the two heater tubes 13A and 13B. Compared to the case where the target 24 is irradiated with infrared rays from one heater tube 13, the heating device 10B The intensity of infrared rays that can be irradiated can be increased, the target 24 can be efficiently heated in a shorter time, and the target 24 can be efficiently dried in a shorter time. Since the heating device 10B has moving means for moving the target 24 from one side to the other in the front-rear direction at the second focal point (f2), the moving time of the target 24 on the infrared focusing line 23 and the length of the focusing line 23 are included. By adjusting, the heating time of the target 24 can be easily adjusted. Further, it is possible to continuously heat and dry the plurality of targets 24 while operating the heating device 10B continuously.

加熱装置１０Ｂでは、反射構造物１２が２つの周壁１６Ａ，１６Ｂを備えているが、反射構造物１２が３つ以上の周壁を備えていてもよい。この場合、反射構造物１２は、第２焦点（ｆ２）を中心としてその周り方向へ並ぶ３つ以上の周壁と、それら周壁の外周面全域を被覆保護する保護壁とから作られる。それら周壁は、前後方向と交差する方向（一方向と交差する方向）の断面形状が楕円形に成形された内外周面を有する。それら周壁の内側には、それら周壁の内周面に囲繞された３つ以上の楕円スペースが画成される。３つ以上の周壁を備えた反射構造物１２では、第２焦点（ｆ２）近傍においてそれら周壁どうしが互いに連結され、かつ、それら周壁のうちの連結部位から互いに重なり合う部分が存在せず、各楕円スペースが第２焦点（ｆ２）を共有しつつ第２焦点（ｆ２）から離間する第１焦点（ｆ１）を別々に有する。反射構造物１２が３つ以上の周壁を備えている場合、それら周壁の内周面において反射された赤外線は第２焦点（ｆ２）にその周り方向から集束する。 In the heating device 10B, the reflective structure 12 includes two peripheral walls 16A and 16B, but the reflective structure 12 may include three or more peripheral walls. In this case, the reflecting structure 12 is made of three or more peripheral walls arranged in the direction around the second focal point (f2) and a protective wall that covers and protects the entire outer peripheral surface of the peripheral wall. These peripheral walls have inner and outer peripheral surfaces in which a cross-sectional shape in a direction intersecting the front-rear direction (a direction intersecting one direction) is formed in an elliptical shape. Inside these peripheral walls, three or more elliptical spaces surrounded by the inner peripheral surfaces of the peripheral walls are defined. In the reflecting structure 12 having three or more peripheral walls, the peripheral walls are connected to each other in the vicinity of the second focal point (f2), and there is no overlapping portion from the connection portion of the peripheral walls, The space has a first focus (f1) separately from the second focus (f2) while sharing the second focus (f2). When the reflecting structure 12 includes three or more peripheral walls, the infrared rays reflected on the inner peripheral surfaces of the peripheral walls are focused on the second focal point (f2) from the surrounding direction.

加熱装置１０Ｂでは、図１１に示すように、２つの楕円周壁１６Ａ，１６Ｂが第２焦点（ｆ２）を中心として任意の角度で連結されていてもよい。なお、それら周壁１６Ａ，１６Ｂの連結角度は、自由に設定することができる。この場合でも、周壁１６Ａ，１６Ｂの内周面１５において反射された赤外線は第２焦点（ｆ２）にその周り方向から集束する。また、図１および図７の加熱装置１０Ａ，１０Ｂでは、楕円周壁１６Ａ，１６Ｂが曲線によって形作られているが、周壁１６Ａ，１６Ｂにおける楕円形状を形作る線は曲線に限定されず、たとえば、複数の短い直線の連結によって周壁１６Ａ，１６Ｂの実質的な楕円が形成されていてもよい。 In the heating apparatus 10B, as shown in FIG. 11, the two elliptical peripheral walls 16A and 16B may be connected at an arbitrary angle with the second focal point (f2) as the center. In addition, the connection angle of these surrounding walls 16A and 16B can be set freely. Even in this case, the infrared rays reflected on the inner peripheral surface 15 of the peripheral walls 16A and 16B are focused on the second focal point (f2) from the surrounding direction. In addition, in the heating devices 10A and 10B of FIGS. 1 and 7, the elliptical peripheral walls 16A and 16B are formed by curves, but the lines forming the elliptical shape in the peripheral walls 16A and 16B are not limited to curves, and for example, a plurality of A substantial ellipse of the peripheral walls 16A and 16B may be formed by a short straight line connection.

それら加熱装置１０Ａ，１０Ｂでは、電気ヒーター１１に替えて、バーナー燃焼ユニットを熱源として利用することができる。バーナー燃焼ユニットは、バーナーと、長手方向へ直状に延びるヒーター管１３，１３Ａ，１３Ｂ（熱源）と、燃焼ガスをバーナーからヒーター管１３，１３Ａ，１３Ｂに向かって給気する送風機と、バーナーにオイルまたはガスを供給する供給器と、燃焼をコントロールするコントローラとから形成されている。ヒーター管１３，１３Ａ，１３Ｂは、その断面形状が円形の円筒状に成形され、その外周面全域に放射物質が塗布されている。 In these heating devices 10A and 10B, the burner combustion unit can be used as a heat source instead of the electric heater 11. The burner combustion unit includes a burner, heater pipes 13, 13A, 13B (heat sources) extending straight in the longitudinal direction, a blower for supplying combustion gas from the burner toward the heater pipes 13, 13A, 13B, and a burner. It is formed from a supply device for supplying oil or gas and a controller for controlling combustion. The heater tubes 13, 13 A, and 13 B are formed in a circular cylindrical shape with a cross-sectional shape, and a radioactive substance is applied to the entire outer peripheral surface.

バーナー燃焼ユニットでは、供給器からバーナーにオイルまたはガスが供給され、バーナーにおいてオイルやガスを燃焼させて所定温度の燃焼ガスを発生させる。燃焼ガスは、送風機によってバーナーからヒーター管１３，１３Ａ，１３Ｂに流入し、ヒーター管１３，１３Ａ，１３Ｂを通って排気管に排気される。ヒーター管１３，１３Ａ，１３Ｂは、燃焼ガスの流入によって加熱され、その外周面全域から周り方向外方へ赤外線を放射（発生）する。バーナー燃焼ユニットでは、バーナーへのオイルやガスの供給量や空気の給気量、送風機の出力等がコントローラによって調節され、燃焼ガスの燃焼温度が設定温度に保持される。 In the burner combustion unit, oil or gas is supplied from a feeder to the burner, and the oil or gas is burned in the burner to generate combustion gas at a predetermined temperature. The combustion gas flows from the burner into the heater pipes 13, 13A, 13B by the blower, and is exhausted to the exhaust pipe through the heater pipes 13, 13A, 13B. The heater tubes 13, 13 A, 13 B are heated by the inflow of combustion gas, and radiate (generate) infrared rays from the entire outer peripheral surface outward in the circumferential direction. In the burner combustion unit, the amount of oil and gas supplied to the burner, the amount of air supplied, the output of the blower, and the like are adjusted by the controller, and the combustion temperature of the combustion gas is maintained at the set temperature.

一例として示す加熱装置の斜視図。The perspective view of the heating apparatus shown as an example. 周壁および保護壁の一部を破断して示す図１と同様の斜視図。The perspective view similar to FIG. 1 which fractures | ruptures and shows a part of surrounding wall and protective wall. 図１の３−３線端面図。FIG. 3 is an end view taken along line 3-3 in FIG. 1. 周壁の内周面と楕円スペースとを模式的に示す図。The figure which shows typically the internal peripheral surface and elliptical space of a surrounding wall. 周壁の内周面における赤外線の反射状態を示す図４と同様の図。The figure similar to FIG. 4 which shows the reflective state of the infrared rays in the internal peripheral surface of a surrounding wall. ターゲットの移動手段の一例を示す図。The figure which shows an example of the moving means of a target. 他の一例として示す加熱装置の斜視図。The perspective view of the heating apparatus shown as another example. 図７の８−８線端面図。FIG. 8 is an end view taken along line 8-8 in FIG. 7. 周壁の内周面と楕円スペースとを模式的に示す図。The figure which shows typically the internal peripheral surface and elliptical space of a surrounding wall. 周壁の内周面における赤外線の反射状態を示す図９と同様の図。The figure similar to FIG. 9 which shows the reflective state of the infrared rays in the internal peripheral surface of a surrounding wall. 図７とは異なる態様の内周面と楕円スペースとを模式的に示す図。The figure which shows typically the internal peripheral surface and elliptical space of a different aspect from FIG.

Explanation of symbols

１０Ａ加熱装置
１０Ｂ加熱装置
１２反射構造物
１３ヒーター管（熱源）
１３Ａ第１ヒーター管（熱源）
１３Ｂ第２ヒーター管（熱源）
１５内周面
１６周壁
１６Ａ第１周壁
１６Ｂ第２周壁
１９楕円スペース
１９Ａ第１楕円スペース
１９Ｂ第２楕円スペース
２４ターゲット
ｆ１第１焦点
ｆ２第２焦点 10A Heating device 10B Heating device 12 Reflecting structure 13 Heater tube (heat source)
13A 1st heater tube (heat source)
13B Second heater tube (heat source)
15 inner peripheral surface 16 peripheral wall 16A first peripheral wall 16B second peripheral wall 19 elliptical space 19A first elliptical space 19B second elliptical space 24 target f1 first focal point f2 second focal point

Claims

In a heating apparatus that includes a heat source that emits infrared light in one direction and a reflective structure that reflects infrared light emitted from the heat source, and heats a predetermined target with infrared light emitted from the heat source,
The reflecting structure has an elliptical cross-sectional shape formed on an inner peripheral surface in a direction intersecting the one direction, and an ellipse extending in the one direction by being defined inside the peripheral wall. The heat source is disposed at a first focal point that resides on an elliptical long axis in the elliptical space, and the target resides on an elliptical long axis in the elliptical space. An infrared ray disposed at a second focal point opposite to the focal point, and radiated from the heat source and reflected on the inner peripheral surface of the peripheral wall is focused on the second focal point.

2. The heating device according to claim 1, wherein in the reflective structure, the second focal point is located above the first focal point, and the target is heated by infrared rays emitted from the heat source located below the second focal point.

The reflective structure has a plurality of the peripheral walls arranged in the direction around the second focal point, and a plurality of the elliptic spaces defined inside the peripheral walls. In the reflective structure, In the vicinity of the second focal point, the peripheral walls are connected to each other, and the first focal point that is separated from the second focal point while sharing the second focal point because there is no overlapping portion from the connection part of the peripheral walls. The heating device according to claim 1 or 2, wherein the heating device is separately provided.

The heating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the heating apparatus includes a moving unit that moves the target from one direction to the other in the second focus.