JP2010086565A - Perpendicular magnetic recording medium and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、垂直磁気記録方式のHDD(ハードディスクドライブ)などに搭載される垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a perpendicular magnetic recording medium mounted on a perpendicular magnetic recording type HDD (hard disk drive) or the like and a method of manufacturing the perpendicular magnetic recording medium.
近年の情報処理の大容量化に伴い、各種の情報記録技術が開発されている。特に磁気記録技術を用いたHDDの面記録密度は年率100%程度の割合で増加し続けている。最近では、HDD等に用いられる2.5インチ径の磁気記録媒体にして、1枚あたり200GBを超える情報記録容量が求められるようになってきており、このような要請にこたえるためには1平方インチあたり400GBを超える情報記録密度を実現することが求められる。 Various information recording techniques have been developed with the recent increase in information processing capacity. In particular, the surface recording density of HDDs using magnetic recording technology continues to increase at an annual rate of about 100%. Recently, an information recording capacity exceeding 200 GB has been required for a 2.5-inch diameter magnetic recording medium used for HDDs and the like. In order to meet such a demand, one square is required. It is required to realize an information recording density exceeding 400 GB per inch.
HDD等に用いられる垂直磁気記録ディスクにおいて高記録密度を達成するためには、情報信号の記録を担う磁気記録層を構成する磁性結晶粒子を微細化すると共に、その層厚を低減していく必要があった。具体的には、保磁力の向上とSNR(Signal to Noise Ratio:シグナルノイズ比)などの電磁変換特性の向上が必要である。ところが、従来から商業化されている面内磁気記録方式(長手磁気記録方式、水平磁気記録方式とも呼称される)の磁気ディスクの場合、磁性結晶粒子の微細化が進展した結果、超常磁性現象により記録信号の熱的安定性が損なわれ、記録信号が消失してしまう、いわゆる熱揺らぎ現象が発生するようになり、面内磁気ディスクの高記録密度化への阻害要因となっていた。この阻害要因を解決するために、近年、垂直磁気記録方式の垂直磁気記録ディスクが提案されている。 In order to achieve a high recording density in a perpendicular magnetic recording disk used for an HDD or the like, it is necessary to refine the magnetic crystal grains constituting the magnetic recording layer for recording information signals and reduce the layer thickness. was there. Specifically, it is necessary to improve coercive force and electromagnetic conversion characteristics such as SNR (Signal to Noise Ratio). However, in the case of a magnetic disk of the in-plane magnetic recording method (also called longitudinal magnetic recording method or horizontal magnetic recording method) that has been commercialized conventionally, as a result of the progress of miniaturization of magnetic crystal grains, superparamagnetic phenomenon The thermal stability of the recording signal is lost, and the so-called thermal fluctuation phenomenon that the recording signal disappears has occurred, which has been an obstacle to increasing the recording density of the in-plane magnetic disk. In order to solve this hindrance factor, a perpendicular magnetic recording disk of a perpendicular magnetic recording system has recently been proposed.
垂直磁気記録方式は、磁気記録層の磁化容易軸が基板面に対して垂直方向に配向するよう調整されている。垂直磁気記録方式は従来の面内記録方式に比べて、超常磁性現象により記録信号の熱的安定性が損なわれ、記録信号が消失してしまう、いわゆる熱揺らぎ現象を抑制することができるので、高記録密度化に対して好適である。 The perpendicular magnetic recording system is adjusted so that the easy axis of magnetization of the magnetic recording layer is oriented in the direction perpendicular to the substrate surface. Compared to the conventional in-plane recording method, the perpendicular magnetic recording method can suppress the so-called thermal fluctuation phenomenon in which the thermal stability of the recording signal is lost due to the superparamagnetic phenomenon, and the recording signal disappears. Suitable for higher recording density.
熱的安定性の問題が解決されたこともあり、近年では従来では使用されることのない環境下でもHDDドライブが使用されるようになってきた。例えば、自動車に搭載されるカーナビゲーションシステムなどをはじめとして、シビアコンディション下での安定した動作がHDDに対して求められるようになってきた。 The problem of thermal stability has been solved, and in recent years, HDD drives have come to be used even in environments that are not conventionally used. For example, a stable operation under severe conditions has been demanded for HDDs, such as a car navigation system mounted on an automobile.
シビアコンディション下で安定稼働させるためには、熱的安定性と共に保磁力の向上が必要である。保磁力とは磁化されている磁性体を逆向きに磁化するための力のことをいい、保磁力が弱いとHDDに記憶されている情報が消失しやすくなってしまう。現状では、従来品に比べ高い保磁力を実現したHDDが開発されてきている。保磁力を高める方法はいくつか知られているが例えば、磁気記録層の膜厚を厚くする、磁気記録層の結晶配向性を向上させる(垂直磁気異方性を高める)などの方法が知られている。 In order to operate stably under severe conditions, it is necessary to improve the coercive force as well as the thermal stability. The coercive force is a force for magnetizing a magnetized magnetic body in the reverse direction. If the coercive force is weak, information stored in the HDD is easily lost. Currently, HDDs have been developed that have higher coercivity than conventional products. Several methods for increasing the coercive force are known. For example, methods such as increasing the thickness of the magnetic recording layer and improving the crystal orientation of the magnetic recording layer (increasing the perpendicular magnetic anisotropy) are known. ing.
そして従来から、磁気記録層の結晶配向性を高めるためにRu下地層を設けたり、さらにRu下地層の結晶配向性を高めるために前下地層(シード層)を設けたりすることが行われている。特許文献1には、シード層(前下地層)にNiWを含む合金を用いる垂直磁気記録媒体が提案されている。特許文献1には、シード層はNiを含むスパッタターゲットを用いて成膜され、シード層に続いて付着される下地層または粒状磁気層の粒径を微細化し、格子不整合を低減すると記載されている。また特許文献1には、Wを添加量が多くなるに従って結晶サイズが小さくなって記録再生特性が向上するが、加えすぎるとRu下地層のΔθ50が悪化して結晶配向性が低下すると記載されている(段落0028)。
上記の如く高記録密度化している磁気記録媒体であるが、今後さらなる記録密度の向上が要請されている。高記録密度化のために重要な要素としては、保磁力Hcや逆磁区核形成磁界Hnなどの静磁気特性の向上と、オーバーライト特性(OW特性)やSNR、トラック幅の狭小化などの電磁変換特性の向上が挙げられる。保磁力Hcがあがると、磁化された磁場が外部磁場からの影響を受けにくくなり、記録された信号を保持し続ける力が強くなる。また、高いSNRは、面積の小さな記録ビットにおいても正確に且つ高速に読み書きするために重要である。 Although the magnetic recording medium has a higher recording density as described above, further improvement in the recording density is required in the future. Important factors for increasing the recording density include improvements in magnetostatic characteristics such as coercive force Hc and reverse domain nucleation magnetic field Hn, and electromagnetic properties such as overwriting characteristics (OW characteristics), SNR, and narrowing of track width. Improvement of conversion characteristics can be mentioned. When the coercive force Hc is increased, the magnetized magnetic field is not easily affected by the external magnetic field, and the force to keep the recorded signal is increased. Further, a high SNR is important for reading and writing accurately and at high speed even in a recording bit having a small area.
上記のうちOW特性は、磁気ディスクの信号の書き換えやすさを示す特性である。OW特性と保磁力Hcは基本的にトレードオフの関係にあり、保磁力が強いことは磁化方向が反転しにくいことを意味するため、意図的にも書き換えにくいことになる。高い保磁力を有しつつ書き換えを行うためには、磁気ヘッドの性能を向上させるか、または別の手段でOW特性を向上させることが考えられる。 Among the above, the OW characteristic is a characteristic indicating the ease of rewriting the signal of the magnetic disk. The OW characteristic and the coercive force Hc are basically in a trade-off relationship, and a strong coercive force means that the magnetization direction is difficult to reverse, so that it is difficult to rewrite intentionally. In order to perform rewriting while having a high coercive force, it is conceivable to improve the performance of the magnetic head or improve the OW characteristics by another means.
しかし、磁気ヘッド自体の性能は、徐々に進化しつつあるものの、急激な保磁力の向上に対して円滑に追従できていない。また磁気ヘッド側においては低消費電力も大きな課題の一つであるから、大きな出力をかけずに書き換えを行いたいという要請がある。 However, although the performance of the magnetic head itself is gradually evolving, it cannot smoothly follow the rapid improvement in coercive force. On the magnetic head side, low power consumption is one of the major issues, and there is a demand for rewriting without applying a large output.
また、逆説的ではあるが、高いOW特性を得ることができれば、保磁力Hcを高くしても書き換えを行うことができるため、磁気ヘッドの性能を変えずに保磁力を高くすることが許容される。そして保磁力の高い膜を使えば、磁気記録層の膜厚を薄くすることができる。すると磁気ヘッドから軟磁性層までのスペーシングロスを低減(狭く)することができるため、磁束の拡散を防止してその密度を高めることができ、記録ビットの微少化を図ることができ、高記録密度化を図ることができる。そのため、高記録密度化を達成するためには、保磁力Hcの高い膜の開発やSNRの向上と同様に、OW特性の向上が非常に重要な課題となっている。 Although paradoxically, if high OW characteristics can be obtained, rewriting can be performed even if the coercive force Hc is increased. Therefore, it is allowed to increase the coercive force without changing the performance of the magnetic head. The If a film having a high coercive force is used, the thickness of the magnetic recording layer can be reduced. As a result, the spacing loss from the magnetic head to the soft magnetic layer can be reduced (narrowed), so that the diffusion of magnetic flux can be prevented and the density thereof can be increased, and the recording bits can be miniaturized. Recording density can be increased. Therefore, in order to achieve high recording density, improvement of OW characteristics has become a very important issue as well as development of a film having a high coercive force Hc and improvement of SNR.
本発明は、このような課題に鑑み、保磁力HcとSNRを維持しつつOW特性を向上させ、更なる高記録密度化を達成することが可能な垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。 In view of these problems, the present invention improves the OW characteristics while maintaining the coercive force Hc and SNR, and manufactures a perpendicular magnetic recording medium and a perpendicular magnetic recording medium that can achieve higher recording density. It aims to provide a method.
上記課題を解決するために発明者らが鋭意検討したところ、前下地層の構成する物質を見直した。そして実験を重ね、NiW合金で構成されている前下地層に別の金属元素を添加することで保磁力Hcの低下を抑えつつOW特性が変化する点に着目した。そして、さらに研究を重ねることにより、かかる層はPdを含有させることで、所望の状態が導き出されることを見出し、本発明を完成するに到った。 In order to solve the above problems, the inventors have intensively studied, and have reviewed the substances constituting the previous underlayer. The experiment was repeated and attention was paid to the fact that the addition of another metal element to the pre-underlayer composed of the NiW alloy changes the OW characteristics while suppressing the decrease in the coercive force Hc. As a result of further research, it has been found that the desired state can be derived by adding Pd to such a layer, and the present invention has been completed.
すなわち、上記課題を解決するために、本発明にかかる垂直磁気記録媒体の代表的な構成は、ディスク基体上に、少なくともNi、W、Pdを含む前下地層と、前下地層上に成膜されたRuを含む下地層と、下地層上に成膜されたCo系合金からなり結晶粒子が柱状に成長したグラニュラー構造を有するグラニュラー層と、をこの順に備えることを特徴とする。 That is, in order to solve the above problems, a typical configuration of the perpendicular magnetic recording medium according to the present invention is formed on a disk substrate on a front base layer containing at least Ni, W, and Pd, and on the front base layer. And a granular layer having a granular structure in which crystal grains are grown in a columnar shape made of a Co-based alloy formed on the underlying layer.
上記構成の如く、前下地層にPdを含有することで、従来のPdを含有しない前下地層と比較してOW特性の向上を図ることができる。 As described above, by including Pd in the pre-underlayer, it is possible to improve the OW characteristics as compared with the conventional pre-underlayer containing no Pd.
上記の前下地層は、Pdの含有量が3at%〜15at%であってもよい。3at%以下では、OW特性の向上という所望の効果が得られないためである。一方、15at%以上とすると、Niの含有量が少なくなって結晶配向性が低下してしまうためである。 The pre-underlayer may have a Pd content of 3 at% to 15 at%. This is because if it is 3 at% or less, the desired effect of improving the OW characteristics cannot be obtained. On the other hand, if it is 15 at% or more, the Ni content decreases and the crystal orientation deteriorates.
上記の前下地層は、WとPdの含有量の合計が5at%〜25at%であってもよい。5at%以下とすると、Niが磁性を帯びてしまい(軟磁性)、ノイズ源となってしまうためである。一方、25at%以上とすると、Niがアモルファスになってしまい、それより上の層の結晶配向性を向上させられなくなってしまうためである。 The pre-underlayer may have a total content of W and Pd of 5 at% to 25 at%. If it is 5 at% or less, Ni becomes magnetized (soft magnetism) and becomes a noise source. On the other hand, if it is 25 at% or more, Ni becomes amorphous and the crystal orientation of the layer above it cannot be improved.
上記の下地層とグラニュラー層のΔθ50が4度以下であってもよい。配向分散角であるΔθ50を望ましい範囲に納めることにより、垂直磁気記録媒体のSNRが良好になり、記録密度の向上を図ることができる。 Δθ50 between the underlayer and the granular layer may be 4 degrees or less. By keeping the orientation dispersion angle Δθ50 within a desired range, the SNR of the perpendicular magnetic recording medium is improved and the recording density can be improved.
上記の課題を解決するために、基体上に少なくとも前下地層と、Ru下地層と、磁気記録層とを順に備える垂直磁気記録媒体の製造方法であって、前下地層の成膜時において、Ni、W、Pdを含むターゲットを用いて、基体に直流バイアスを印加しながらスパッタリングをしてもよい。 In order to solve the above problems, a method for manufacturing a perpendicular magnetic recording medium comprising at least a front underlayer, a Ru underlayer, and a magnetic recording layer on a substrate in order, Sputtering may be performed using a target containing Ni, W, and Pd while applying a DC bias to the substrate.
かかる構成により、保磁力HcとSNRを維持しつつOW特性を向上させ、高記録密度化に資することができる磁気記録媒体が得られる。 With this configuration, it is possible to obtain a magnetic recording medium that can improve the OW characteristics while maintaining the coercive force Hc and SNR, and contribute to a higher recording density.
直流バイアスの電圧が、(−300V〜−500V)の範囲内であってもよい。この構成により、より軟磁性層と前下地層と磁気記録層の成膜が円滑に行われる。 The DC bias voltage may be within a range of (-300V to -500V). With this configuration, the soft magnetic layer, the pre-underlayer, and the magnetic recording layer can be formed more smoothly.
本発明にかかる構成よれば、前下地層に含有する金属であるNi、W、Pの割合を所定の範囲に設定することにより、保磁力HcとSNRを維持しつつOW特性を促進させ、更なる高記録密度化を達成することが可能な垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することができる。 According to the configuration of the present invention, by setting the ratio of Ni, W, and P, which are metals contained in the previous underlayer, within a predetermined range, the OW characteristics can be promoted while maintaining the coercive force Hc and SNR. It is possible to provide a perpendicular magnetic recording medium and a method of manufacturing the perpendicular magnetic recording medium that can achieve the higher recording density.
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値などは、発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, and other specific numerical values shown in the embodiments are merely examples for facilitating understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. In the present specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted, and elements not directly related to the present invention are not illustrated. To do.
(実施形態)
本実施形態では、まず本発明にかかる垂直磁気記録媒体およびその製造方法の実施形態について説明した後に、本発明の特徴である少なくともNi、W、Pdを含む前下地層、Ruを含む下地層、グラニュラー層、および磁気記録層に含まれる酸素の含有量の関係について説明する。
(Embodiment)
In the present embodiment, first, after describing an embodiment of the perpendicular magnetic recording medium according to the present invention and the manufacturing method thereof, a pre-underlayer containing at least Ni, W, and Pd, which is a feature of the present invention, an underlayer containing Ru, The relationship between the content of oxygen contained in the granular layer and the magnetic recording layer will be described.
図1は、本実施形態にかかる垂直磁気記録媒体100の構成を説明する図である。図1に示す垂直磁気記録媒体100は、ディスク基体110、付着層112、第1軟磁性層114a、スペーサ層114b、第2軟磁性層114c、前下地層116、第1下地層118a、第2下地層118b、非磁性グラニュラー層120、第1磁気記録層122a、第2磁気記録層122b、補助記録層124、媒体保護層126、潤滑層128で構成されている。なお第1軟磁性層114a、スペーサ層114b、第2軟磁性層114cは、あわせて軟磁性層114を構成する。第1下地層118aと第2下地層118bはあわせて下地層118を構成する。第1磁気記録層122aと第2磁気記録層122bとはあわせて磁気記録層122を構成する。
FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of a perpendicular
ディスク基体110は、アモルファスのアルミノシリケートガラスをダイレクトプレスで円板状に成型したガラスディスクを用いることができる。なおガラスディスクの種類、サイズ、厚さ等は特に制限されない。ガラスディスクの材質としては、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、又は、結晶化ガラス等のガラスセラミックなどが挙げられる。このガラスディスクに研削、研磨、化学強化を順次施し、化学強化ガラスディスクからなる平滑な非磁性のディスク基体110を得ることができる。
As the
ディスク基体110上に、DCマグネトロンスパッタリング法にて付着層112から補助記録層124まで順次成膜を行い、媒体保護層126はCVD(Chemical Vapor Deposition)法により成膜することができる。この後、潤滑層128をディップコート法により形成することができる。なお、生産性が高いという点で、インライン型成膜方法を用いることも好ましい。以下、各層の構成および製造方法について説明する。
On the
付着層112はディスク基体110に接して形成することで、この上に成膜される軟磁性層114とディスク基体110と軟磁性層114との間の付着性を向上させることができ、軟磁性層114の剥離を防止することができる。この上に成膜される各層の結晶グレインを微細化および均一化させる機能を備えている。付着層112は、ディスク基体110がアモルファスガラスからなる場合、そのアモルファスガラス表面に対応させる為にアモルファス(非晶質)の合金膜とすることが好ましい。
By forming the
付着層112としては、例えばCrTi系非晶質層、CoW系非晶質層、CrW系非晶質層、CrTa系非晶質層、CrNb系非晶質層から選択することができる。中でもCoW系合金膜は、微結晶を含むアモルファス金属膜を形成するので特に好ましい。付着層112は単一材料からなる単層でも良いが、複数層を積層して形成してもよい。例えばCrTi層の上にCoW層またはCrW層を形成してもよい。またこれらの付着層112は、二酸化炭素、一酸化炭素、窒素、又は酸素を含む材料によってスパッタを行うか、もしくは表面層をこれらのガスで暴露したものであることが好ましい。
The
軟磁性層114は、垂直磁気記録方式において記録層に垂直方向に磁束を通過させるために、記録時に一時的に磁路を形成する層である。軟磁性層114は第1軟磁性層114aと第2軟磁性層114cの間に非磁性のスペーサ層114bを介在させることによって、AFC(Antiferro-magnetic exchange coupling:反強磁性交換結合)を備えるように構成することができる。これにより軟磁性層114の磁化方向を高い精度で磁路(磁気回路)に沿って整列させることができ、磁化方向の垂直成分が極めて少なくなるため、軟磁性層114から生じるノイズを低減することができる。第1軟磁性層114a、第2軟磁性層114cの組成としては、CoTaZrなどのコバルト系合金、CoCrFeB、CoFeTaZrなどのCo−Fe系合金、[Ni−Fe/Sn]n多層構造のようなNi−Fe系合金などを用いることができる。
The soft magnetic layer 114 is a layer that temporarily forms a magnetic path during recording in order to pass magnetic flux in a direction perpendicular to the recording layer in the perpendicular magnetic recording method. The soft magnetic layer 114 is provided with AFC (Antiferro-magnetic exchange coupling) by interposing a
前下地層116は非磁性の合金層であり、軟磁性層114を防護する作用と、この上に成膜される下地層118に含まれる六方最密充填構造(hcp構造)の磁化容易軸をディスク垂直方向に配向させる機能を備える。前下地層116は面心立方構造(fcc構造)の(111)面がディスク基体110の主表面と平行となっていることが好ましい。また前下地層116は、これらの結晶構造とアモルファスとが混在した構成としてもよい。
The pre-underlayer 116 is a non-magnetic alloy layer, and has an effect of protecting the soft magnetic layer 114 and the easy axis of the hexagonal close-packed structure (hcp structure) included in the underlayer 118 formed thereon. It has a function of orienting the disk in the vertical direction. The pre-underlayer 116 preferably has a (111) plane of a face-centered cubic structure (fcc structure) parallel to the main surface of the
前下地層116の材質としては、Ni、W、Pdからなる合金を用いる。このように前下地層116にPdを含有することで、従来のPdを含有しない前下地層116と比較してOW特性の向上を図ることができる。
As the material of the pre-underlayer 116, an alloy made of Ni, W, Pd is used. By including Pd in the pre-underlayer 116 as described above, it is possible to improve the OW characteristics as compared with the
前下地層116において、NiW合金のNiの含有量を多くすることで保磁力Hcが向上する。これは、Niのfcc構造(面心立方格子構造)の(111)面がRu下地層のhcp構造の(0001)と対応することにより、それより上の膜の結晶配向性が向上し、全体として保磁力Hcが向上するものと考えられる。一方、Niの比率が少なくなった場合、所定の割合を超えるとNiを含む合金の結晶構造がアモルファスとなる。
In the
すなわち、前下地層116においてNiが多いほどその上の層の結晶配向性がよく、Wを加えると結晶の微細化が促進される。そして、さらにPdを加えると、OW特性が改善される。これは、Pdを加えることによって飽和磁界Hsが小さくなるためと考えられる。またPd自体がfcc構造を取ることから結晶配向性も維持することができ、さらにPdもWと同様にNiの微細化を促進すると考えられる。 That is, the more Ni in the pre-underlayer 116, the better the crystal orientation of the layer above it, and the addition of W promotes the refinement of crystals. If Pd is further added, the OW characteristics are improved. This is presumably because the saturation magnetic field Hs is reduced by adding Pd. In addition, since Pd itself has an fcc structure, crystal orientation can be maintained, and Pd is considered to promote the refinement of Ni similarly to W.
上記の前下地層116は、Pdの含有量が3at%〜15at%であってもよい。前述の通りNiWにPdを含有させることで、OW特性を向上させることができる。3at%以下では、OW特性の向上という所望の効果が得られないためである。一方、15at%以上とすると、Niの含有量が少なくなって結晶配向性が低下してしまうためである。 The pre-underlayer 116 may have a Pd content of 3 at% to 15 at%. As described above, OW characteristics can be improved by adding Pd to NiW. This is because if it is 3 at% or less, the desired effect of improving the OW characteristics cannot be obtained. On the other hand, if it is 15 at% or more, the Ni content decreases and the crystal orientation deteriorates.
WとPdをあわせてNiに含有する割合は、OW特性のピークとなる5at%〜25at%の間であることが好ましい。かかる構成により、求められる性能を実現することができる。なお5at%以下とすると、Niが磁性を帯びてしまい(軟磁性)、前下地層116がノイズ源となってしまう。一方、25at%以上とすると、Niがアモルファスになってしまい、それより上の層の結晶配向性を向上させられなくなってしまう。
The ratio of W and Pd combined in Ni is preferably between 5 at% and 25 at%, which is the peak of OW characteristics. With this configuration, the required performance can be realized. If it is 5 at% or less, Ni becomes magnetic (soft magnetism), and the
上記の下地層とグラニュラー層のΔθ50が4度以下であってもよい。Δθ50は結晶の配向のばらつきの大きさを表すもので、小さいほど配向性が優れている。Δθ50を望ましい範囲に結晶方位制御を改善することで、前下地層の膜質が改善される。Δθ50の改善された前下地層116は結晶の構造が整然と並んでおり、結果として結晶配向性が向上する。Δθ50の測定法としては、また、磁気異方性が高くなり、磁気的相互作用が高まる。故に保磁力Hcも向上する。ひいては、垂直磁気記録媒体100のSNRが良好になり、記録密度の向上を図ることができる。
Δθ50 between the underlayer and the granular layer may be 4 degrees or less. Δθ50 represents the degree of variation in crystal orientation, and the smaller the value, the better the orientation. By improving the crystal orientation control within a desired range of Δθ50, the film quality of the previous underlayer is improved. The pre-underlayer 116 having an improved Δθ50 has an ordered crystal structure, and as a result, the crystal orientation is improved. As a measuring method of Δθ50, the magnetic anisotropy is increased and the magnetic interaction is increased. Therefore, the coercive force Hc is also improved. As a result, the SNR of the perpendicular
前下地層の成膜については、直流バイアスを印加することが望ましい。直流バイアス電圧は、(−300V〜−500V)の範囲内であってもよい。この構成により、より前下地層116の成膜が円滑に行われる。 For the formation of the pre-underlayer, it is desirable to apply a DC bias. The DC bias voltage may be within a range of (−300V to −500V). With this configuration, the pre-underlayer 116 can be formed more smoothly.
下地層118はhcp構造であって、磁気記録層122のCoのhcp構造の結晶をグラニュラー構造として成長させる作用を有している。したがって、下地層118の結晶配向性が高いほど、すなわち下地層118の結晶の(0001)面がディスク基体110の主表面と平行になっているほど、磁気記録層122の配向性を向上させることができる。下地層118の材質としてはRuが代表的であるが、その他に、RuCr、RuCoから選択することができる。Ruはhcp構造をとり、また結晶の格子間隔がCoと近いため、Coを主成分とする磁気記録層122を良好に配向させることができる。
The underlayer 118 has an hcp structure, and has a function of growing a Co hcp crystal of the magnetic recording layer 122 as a granular structure. Therefore, the higher the crystal orientation of the underlayer 118, that is, the more the (0001) plane of the crystal of the underlayer 118 is parallel to the main surface of the
更に本実施形態においては、第2下地層118bを成膜する際のスパッタリングに、後述するグラニュラー層を構成する元素の酸化物が含まれているターゲットを用いる。これにより、第2下地層118bに酸素を含有させ、Ruの結晶粒子の微細化を促進することができる。その結果、下地層118の表面には微細な凹凸が生じ、グラニュラー層の結晶粒子の孤立化および微細化が促進され、SNRを向上することができる。
Furthermore, in this embodiment, a target containing an oxide of an element constituting a granular layer described later is used for sputtering when forming the
また、かかる酸化物に含まれている元素、すなわち第2下地層118bに酸素を含有させるための担体となる元素はグラニュラー層を構成する元素である。これにより、グラニュラー層の結晶配向性の低下を防止することができる。
Further, an element contained in the oxide, that is, an element serving as a carrier for allowing the
更に、上記の如くグラニュラー層を構成する元素の酸化物が含まれているターゲットを用いることで、リアクティブスパッタ法を用いた場合よりも容易且つ均一に所望する量の酸素を第2下地層118bに含有させることが可能となる。また、リアクティブスパッタ法を用いることによる磁気記録層122の酸化等の不具合が生じることもない。
Furthermore, by using a target containing an oxide of an element constituting the granular layer as described above, a desired amount of oxygen can be more easily and uniformly applied to the
非磁性グラニュラー層120はグラニュラー構造を有する非磁性の層である。下地層118のhcp結晶構造の上に非磁性のグラニュラー層を形成し、この上に第1磁気記録層122a(または磁気記録層122)のグラニュラー層を成長させることにより、磁性のグラニュラー層を初期成長の段階(立ち上がり)から分離させる作用を有している。これにより、磁気記録層122の磁性粒子の孤立化を促進することができる。非磁性グラニュラー層120の組成は、Co系合金からなる非磁性の結晶粒子の間に、非磁性物質を偏析させて粒界を形成することにより、グラニュラー構造とすることができる。
The nonmagnetic
本実施形態においては、かかる非磁性グラニュラー層120にCoCr−SiO2を用いる。これにより、Co系合金(非磁性の結晶粒子)の間にSiO2(非磁性物質)が偏析して粒界を形成し、非磁性グラニュラー層120がグラニュラー構造となる。なお、CoCr−SiO2は一例であり、これに限定されるものではない。他には、CoCrRu−SiO2を好適に用いることができ、さらにRuに代えてRh(ロジウム)、Pd(パラジウム)、Ag(銀)、Os(オスミウム)、Ir(イリジウム)、Au(金)も利用することができる。また非磁性物質とは、磁性粒子(磁性グレイン)間の交換相互作用が抑制、または、遮断されるように、磁性粒子の周囲に粒界部を形成しうる物質であって、コバルト(Co)と固溶しない非磁性物質であればよい。例えば酸化珪素(SiOx)、クロム(Cr)、酸化クロム(Cr2O3)、酸化チタン(TiO2)、酸化ジルコン(ZrO2)、酸化タンタル(Ta2O5)を例示できる。
In the present embodiment, CoCr—SiO 2 is used for the nonmagnetic
なお本実施形態では、下地層188(第2下地層188b)の上に非磁性グラニュラー層120を設けているが、これに限定されるものではなく、非磁性グラニュラー層120を設けずに垂直磁気記録媒体100を構成することも可能である。
In this embodiment, the nonmagnetic
磁気記録層122は、Co系合金、Fe系合金、Ni系合金から選択される硬磁性体の磁性粒子の周囲に非磁性物質を偏析させて粒界を形成した柱状のグラニュラー構造を有している。この磁性粒子は、非磁性グラニュラー層120を設けることにより、そのグラニュラー構造から継続してエピタキシャル成長することができる。磁気記録層122は単層でもよいが、本実施形態では組成および膜厚の異なる第1磁気記録層122aと、第2磁気記録層122bとから構成されている。これにより、第1磁気記録層122aの結晶粒子から継続して第2磁気記録層122bの小さな結晶粒子が成長し、主記録層たる第2磁気記録層122bの微細化を図ることができ、SNRの向上が可能となる。
The magnetic recording layer 122 has a columnar granular structure in which a nonmagnetic substance is segregated around a magnetic particle of a hard magnetic material selected from a Co-based alloy, an Fe-based alloy, and a Ni-based alloy to form a grain boundary. Yes. By providing the nonmagnetic
本実施形態では、第1磁気記録層122aにCoCrPt−Cr2O3を用いる。CoCrPt−Cr2O3は、CoCrPtからなる磁性粒(グレイン)の周囲に、非磁性物質であるCrおよびCr2O3(酸化物)が偏析して粒界を形成し、磁性粒が柱状に成長したグラニュラー構造を形成した。この磁性粒子は、非磁性グラニュラー層のグラニュラー構造から継続してエピタキシャル成長した。
In this embodiment, CoCrPt—Cr 2 O 3 is used for the first
また第2磁気記録層122bには、CoCrPt−SiO2−TiO2を用いる。第2磁気記録層122bにおいても、CoCrPtからなる磁性粒(グレイン)の周囲に非磁性物質であるCrおよびSiO2、TiO2(複合酸化物)が偏析して粒界を形成し、磁性粒子が柱状に成長したグラニュラー構造を形成した。
Also, CoCrPt—SiO 2 —TiO 2 is used for the second
なお、上記に示した第1磁気記録層122aおよび第2磁気記録層122bに用いた物質は一例であり、これに限定されるものではない。また、本実施形態では、第1磁気記録層122aと第2磁気記録層122bで異なる材料(ターゲット)であるが、これに限定されず組成や種類が同じ材料であってもよい。非磁性領域を形成するための非磁性物質としては、例えば酸化珪素(SiOx)、クロム(Cr)、酸化クロム(CrXOY)、酸化チタン(TiO2)、酸化ジルコン(ZrO2)、酸化タンタル(Ta2O5)、酸化鉄(Fe2O3)、酸化ボロン(B2O3)等の酸化物を例示できる。また、BN等の窒化物、B4C3等の炭化物も好適に用いることができる。
The materials used for the first
さらに本実施形態では、第1磁気記録層122aにおいて1種類の、第2磁気記録層122bにおいて2種類の非磁性物質(酸化物)を用いているが、これに限定されるものではなく、第1磁気記録層122aまたは第2磁気記録層122bのいずれかまたは両方において2種類以上の非磁性物質を複合して用いることも可能である。このとき含有する非磁性物質の種類には限定がないが、本実施形態の如く特にSiO2およびTiO2を含むことが好ましい。したがって、本実施形態とは異なり、磁気記録層122が1層のみで構成される場合、かかる磁気記録層122はCoCrPt−SiO2−TiO2からなることが好ましい。
Furthermore, in this embodiment, one type of nonmagnetic material (oxide) is used in the first
補助記録層124は基体主表面の面内方向に磁気的にほぼ連続した磁性層である。補助記録層124は磁気記録層122に対して磁気的相互作用を有するように、隣接または近接している必要がある。補助記録層124の材質としては、例えばCoCrPt、CoCrPtB、またはこれらに微少量の酸化物を含有させて構成することができる。補助記録層124は逆磁区核形成磁界Hnの調整、保磁力Hcの調整を行い、これにより耐熱揺らぎ特性、OW特性、およびSNRの改善を図ることを目的としている。この目的を達成するために、補助記録層は垂直磁気異方性Kuおよび飽和磁化Msが高いことが望ましい。なお本実施形態において補助記録層124は磁気記録層122の上方に設けているが、下方に設けてもよい。
The
なお、「磁気的に連続している」とは磁性が連続していることを意味している。「ほぼ連続している」とは、補助記録層124全体で観察すれば一つの磁石ではなく、結晶粒子の粒界などによって磁性が不連続となっていてもよいことを意味している。粒界は結晶の不連続のみではなく、Crが偏析していてもよく、さらに微少量の酸化物を含有させて偏析させても良い。ただし補助記録層124に酸化物を含有する粒界を形成した場合であっても、磁気記録層122の粒界よりも面積が小さい(酸化物の含有量が少ない)ことが好ましい。補助記録層124の機能と作用については必ずしも明確ではないが、磁気記録層122のグラニュラ磁性粒と磁気的相互作用を有する(交換結合を行う)ことによってHnおよびHcを調整することができ、耐熱揺らぎ特性およびSNRを向上させていると考えられる。またグラニュラ磁性粒と接続する結晶粒子(磁気的相互作用を有する結晶粒子)がグラニュラ磁性粒の断面よりも広面積となるため磁気ヘッドから多くの磁束を受けて磁化反転しやすくなり、全体のOW特性を向上させるものと考えられる。
Note that “magnetically continuous” means that magnetism is continuous. “Substantially continuous” means that the magnetism may be discontinuous not by a single magnet but by grain boundaries of crystal grains when observed in the entire
媒体保護層126は、真空を保ったままカーボンをCVD法により成膜して形成することができる。媒体保護層126は、磁気ヘッドの衝撃から垂直磁気記録媒体100を防護するための層である。一般にCVD法によって成膜されたカーボンはスパッタ法によって成膜したものと比べて膜硬度が向上するので、磁気ヘッドからの衝撃に対してより有効に垂直磁気記録媒体100を防護することができる。
The medium
潤滑層128は、PFPE(パーフロロポリエーテル)をディップコート法により成膜することができる。PFPEは長い鎖状の分子構造を有し、媒体保護層126表面のN原子と高い親和性をもって結合する。この潤滑層128の作用により、垂直磁気記録媒体100の表面に磁気ヘッドが接触しても、媒体保護層126の損傷や欠損を防止することができる。潤滑層128の製造法としては他にスプレイ法などがあり、ディップコート法以外の手法で成膜してもよい。
The
(実施例)
ディスク基体110上に、真空引きを行った成膜装置を用いて、DCマグネトロンスパッタリング法にてAr雰囲気中で、付着層112から補助記録層124まで順次成膜を行った。付着層112は、CrTiとした。軟磁性層114は、第1軟磁性層114a、第2軟磁性層114cの組成はCoFeTaZrとし、スペーサ層114bの組成はRuとした。前下地層116の組成はNi、W、Pdを用いた合金とした。第1下地層118aは所定圧力(低圧:例えば0.6〜0.7Pa)のAr雰囲気下でRu膜を成膜した。第2下地層118bは、非磁性グラニュラー層120を構成する元素の酸化物が含まれているターゲットを用いて所定圧力より高い圧力(高圧:例えば4.5〜7Pa)のAr雰囲気下で、酸素および非磁性グラニュラー層120を構成する元素を含有するRu膜を成膜した。非磁性グラニュラー層120の組成は非磁性のCoCr−SiO2とした。第1磁気記録層122aは粒界部に酸化物の例としてCr2O3を含有し、CoCrPt−Cr2O3のhcp結晶構造を形成した。第2磁気記録層122bは、粒界部に複合酸化物(複数の種類の酸化物)の例としてSiO2とTiO2を含有し、CoCrPt−SiO2−TiO2のhcp結晶構造を形成した。補助記録層124の組成はCoCrPtBとした。媒体保護層126はCVD法によりC2H4およびCNを用いて成膜し、潤滑層128はディップコート法によりPFPEを用いて形成した。
(Example)
On the
以下に、上記製造方法により得た垂直磁気記録媒体100を用いて、本実施形態の有効性を評価する。実施例1は前下地層116をNi92W5Pd3とし、比較例1はNi95W5、比較例2はPdとした。前下地層116以外は上記説明した構成とした。
Hereinafter, the effectiveness of the present embodiment will be evaluated using the perpendicular
図2は、前下地層116を成膜した際の膜厚とOW特性の関係を示している。図2によれば、全体的に前下地層116の膜厚が厚くなるとOW特性は低下する傾向にある。これは、前下地層116を厚くすることによって保磁力Hcが向上し、その代わりにOW特定が低下するためである。しかし、実施例1のOW特性は、同じ膜厚であっても比較例1や比較例2と比べて高い値を示しており、良好な結果を示していることがわかる。
FIG. 2 shows the relationship between the film thickness and the OW characteristics when the pre-underlayer 116 is formed. According to FIG. 2, the OW characteristics tend to decrease as the thickness of the
図3は、前下地層116を成膜した際の膜厚とSNR特性の関係を示している。実施例1は膜厚により特性に多少の差異が認められるが、比較例1と比べてほぼ同じまたは良好な結果を示していることがわかる。なお比較例2は、実施例1および比較例1に比べて大幅に低い値を示している。 FIG. 3 shows the relationship between the film thickness and SNR characteristics when the pre-underlayer 116 is formed. Although Example 1 has some differences in characteristics depending on the film thickness, it can be seen that the results are almost the same or better than Comparative Example 1. Note that Comparative Example 2 shows a significantly lower value than that of Example 1 and Comparative Example 1.
図4は、前下地層116を成膜した際の膜厚と保磁力の関係を示している。図4によれば、全体的に前下地層116の膜厚が厚くなると保磁力Hcが向上する傾向にある。中でも保磁力について最も優れた特性を示しているのは比較例2であり、続いて比較例1、最後に実施例1という順序となっている。このように、実施例1の保磁力は、比較例1、比較例2それぞれと比べて良好とは言えない特性を示している。しかし、垂直磁気記録媒体として成立するための保磁力は備えており、著しい特性の劣化とまでは言えない特性である。 FIG. 4 shows the relationship between the film thickness and the coercive force when the pre-underlayer 116 is formed. According to FIG. 4, the coercive force Hc tends to be improved as the thickness of the pre-underlayer 116 increases as a whole. Among them, the comparative example 2 shows the most excellent characteristics with respect to the coercive force, followed by the comparative example 1 and finally the example 1. Thus, the coercive force of Example 1 shows characteristics that cannot be said to be good compared to Comparative Example 1 and Comparative Example 2, respectively. However, it has a coercive force to be established as a perpendicular magnetic recording medium, and cannot be said to be a significant deterioration in characteristics.
図5は、保磁力に対するΔθ50の値を説明する図である。図5に示されるように、保磁力に対してΔθ50は概ね安定しており、一貫して上下する傾向は見られない。そして図5を参照すれば、実施例1は膜厚にかかわらず、比較例1、比較例2と比べ良好な値を示していることがわかる。このことから実施例1は、理想的なΔθ50の値に近づいていることを示しており、配向性が高まり磁気異方性が高い結晶が形成されているものと推測される。 FIG. 5 is a diagram illustrating the value of Δθ50 with respect to the coercive force. As shown in FIG. 5, Δθ50 is generally stable with respect to the coercive force, and there is no tendency to consistently go up and down. Referring to FIG. 5, it can be seen that Example 1 shows a better value than Comparative Example 1 and Comparative Example 2 regardless of the film thickness. From this, Example 1 shows that it is close to the ideal value of Δθ50, and it is presumed that a crystal with high orientation and high magnetic anisotropy is formed.
図6はヒステリシス曲線を説明する図である。実施例1は、比較例1と比べて飽和磁界Hsが低いことが読み取れる。これは弱い外部磁界でも飽和磁化Msに到達できることを意味しており、OW特性が向上していることの裏付けとなる。 FIG. 6 is a diagram illustrating a hysteresis curve. It can be read that Example 1 has a lower saturation magnetic field Hs than Comparative Example 1. This means that the saturation magnetization Ms can be reached even with a weak external magnetic field, which supports the improvement of the OW characteristics.
図7は上述の各実験結果を総括した評価を説明する図である。OW特性は、実施例1は比較例1や比較例2と比較して顕著に向上している。SNRの特性は、実施例1は比較例1とほぼ同等であり、比較例2と比較すれば良好な特性を示している。保磁力は、実施例1は比較例1、比較例2と比べて若干低下しているが、磁気記録媒体としては問題のない範囲である。Δθ50は、実施例1は比較例1、比較例2と比べ顕著に向上している。 FIG. 7 is a diagram for explaining an evaluation summarizing the above-described experimental results. The OW characteristics of Example 1 are remarkably improved as compared with Comparative Example 1 and Comparative Example 2. As for the SNR characteristics, Example 1 is almost equivalent to Comparative Example 1, and shows better characteristics than Comparative Example 2. The coercive force is slightly lower in Example 1 than in Comparative Example 1 and Comparative Example 2, but is in a range that does not cause a problem as a magnetic recording medium. Δθ50 is significantly improved in Example 1 compared to Comparative Example 1 and Comparative Example 2.
これらのことから、磁気的相互作用が向上し保磁力Hcが維持されているにもかかわらず、OW特性は向上しているということがわかる。これは、Pdを添加したことによって前下地層116を構成するNi92W5Pd3と、第1下地層118aを構成するRuとの格子定数のミスマッチが低減することによりし、下地層118および非磁性グラニュラー層120、磁気記録層122の結晶配向性が向上することにより、OW特性が向上したものと考えられる。
From these facts, it can be seen that the OW characteristics are improved even though the magnetic interaction is improved and the coercive force Hc is maintained. This is because the addition of Pd reduces the lattice constant mismatch between Ni 92 W 5 Pd 3 constituting the pre-underlayer 116 and Ru constituting the
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施例について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 As mentioned above, although the suitable Example of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to this embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.
本発明は、垂直磁気記録方式のHDD(ハードディスクドライブ)などに搭載される垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法に利用することができる。 The present invention can be used in a perpendicular magnetic recording medium mounted on a perpendicular magnetic recording type HDD (hard disk drive) or the like and a method of manufacturing the perpendicular magnetic recording medium.
100…垂直磁気記録媒体、110…ディスク基体、112…付着層、114…軟磁性層、114a…第1軟磁性層、114b…スペーサ層、114c…第2軟磁性層、116…前下地層、118…下地層、118a…第1下地層、118b…第2下地層、120…非磁性グラニュラー層、122…磁気記録層、122a…第1磁気記録層、122b…第2磁気記録層、124…補助記録層、126…媒体保護層、128…潤滑層
DESCRIPTION OF
Claims (6)
該前下地層上に成膜されたRuを含む下地層と、
該下地層上に成膜されたCo系合金からなり結晶粒子が柱状に成長したグラニュラー構造を有するグラニュラー層と、をこの順に備えることを特徴とする垂直磁気記録媒体。 A pre-underlayer comprising at least Ni, W, Pd on the disk substrate;
An underlayer containing Ru formed on the previous underlayer;
A perpendicular magnetic recording medium comprising: a granular layer made of a Co-based alloy formed on the underlayer and having a granular structure in which crystal grains are grown in a columnar shape in this order.
前記前下地層の成膜時において、Ni、W、Pdを含むターゲットを用いて、基体に直流バイアスを印加しながらスパッタリングをすることを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 A method for manufacturing a perpendicular magnetic recording medium comprising at least a front underlayer, a Ru underlayer, and a magnetic recording layer in this order on a substrate,
A method of manufacturing a perpendicular magnetic recording medium, wherein sputtering is performed while applying a direct current bias to a substrate using a target containing Ni, W, and Pd when forming the pre-underlayer.
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