JP2010082858A - Film for multilayered printed circuit board and multilayered printed circuit board - Google Patents

Film for multilayered printed circuit board and multilayered printed circuit board Download PDF

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Kiyoka Yonehara
清佳 米原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film for a multilayered printed circuit board showing excellent fire retardant properties even in a case that a polymer containing a chlorine atom and a bromine atom or a curable resin composition not containing a fire retardant or the like is used and excellent even in electric characteristics or wiring embedding properties. <P>SOLUTION: The film for the multilayered printed circuit board is composed of an intermediate layer comprising a fire retardant organic polymer material film and the first and second outer layers laminated on both sides of the intermediate layer and formed of the curable resin composition containing an alicyclic olefin polymer having a functional group and a curing agent. The thickness (t<SB>M</SB>) of the intermediate layer is 3-24 μm, the thickness (t<SB>O1</SB>) of the first outer layer is 1-20 μm, the thickness (t<SB>O2</SB>) of the second outer layer is 6-20 μm and the ratio [(t<SB>O1</SB>+t<SB>O2</SB>)/t<SB>M</SB>] of the sum of the thicknesses of the first and second outer layers and the thickness of the intermediate layer is 0.5-3. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板に関し、さらに詳しくは、塩素原子・臭素原子を含有する重合体や難燃剤などを含まない硬化性樹脂組成物を用いた場合であっても、優れた難燃性を示し、しかも、電気特性や配線の埋め込み性にも優れる多層プリント回路基板用フィルムと、それを用いてなる多層プリント回路基板に関する。   The present invention relates to a multilayer printed circuit board film and a multilayer printed circuit board, and more specifically, in the case of using a curable resin composition that does not contain a polymer containing a chlorine atom or a bromine atom or a flame retardant. In particular, the present invention relates to a multilayer printed circuit board film that exhibits excellent flame retardancy and also has excellent electrical characteristics and wiring embedding properties, and a multilayer printed circuit board using the same.

電子機器の小型化、多機能化、通信高速化等の追求に伴い、近年、多層プリント回路基板には、さらなる薄型化、フレキシブル化が求められている。そのため、多層プリント回路基板の製造方法として、樹脂フィルムを積層して多層プリント回路基板を構成する技術が注目されている。樹脂フィルムを積層してなる多層プリント回路基板は、ガラスクロス等を用いて製造されるプリプレグを用いる場合に比して、機械的強度や耐熱性、難燃性に弱点を有することが知られており、近年、この弱点を改良する技術が報告されている。   In recent years, with the pursuit of downsizing, multi-functionality, high-speed communication, etc. of electronic devices, multilayer printed circuit boards have been required to be thinner and more flexible. Therefore, as a method for producing a multilayer printed circuit board, a technique for forming a multilayer printed circuit board by laminating resin films has attracted attention. Multilayer printed circuit boards made by laminating resin films are known to have weaknesses in mechanical strength, heat resistance, and flame retardancy compared to the case of using prepregs manufactured using glass cloth or the like. In recent years, techniques for improving this weakness have been reported.

例えば、特許文献1〜3には、ポリイミドなどの耐熱性や機械的強度に優れた樹脂からなる層と、官能基を含有する樹脂と硬化剤とを含んでなる熱硬化性の樹脂組成物からなる層とを積層してなるフィルムが、機械的強度や耐熱性に優れ、また、積層が容易であることから、多層プリント回路基板などの製造に好適に用いられることが開示されている。   For example, Patent Documents 1 to 3 include a layer made of a resin having excellent heat resistance and mechanical strength such as polyimide, a thermosetting resin composition containing a resin containing a functional group and a curing agent. It is disclosed that a film formed by laminating a layer is preferably used for manufacturing a multilayer printed circuit board and the like because it is excellent in mechanical strength and heat resistance and is easily laminated.

ここで、特許文献1には、導電層付き複合フィルムがUL規格でV−0の難燃性を有することが開示されているが、この難燃性は、複合フィルム上に厚さが18μmもある導電層を設けた後に測定されたものであり、導電層が無ければそのような高い難燃性を示すことができるものではない。近年の多層プリント回路基板に対する薄型化の要請から、配線の高密度化が進み、配線からの発熱量が増大していることから、多層プリント回路基板用フィルムには、導電層を設けない状態であっても高い難燃性を示すような、高度な難燃性が求められるようになっている。したがって、特許文献1に記載された複合フィルムには、更なる難燃性の改良が望まれていた。   Here, Patent Document 1 discloses that the composite film with a conductive layer has V-0 flame retardancy according to the UL standard. This flame retardancy is as much as 18 μm on the composite film. It is measured after providing a certain conductive layer, and without such a conductive layer, such high flame retardancy cannot be exhibited. Due to the recent demand for thinner multilayer printed circuit boards, the density of wiring has increased and the amount of heat generated from the wiring has increased, so the multilayer printed circuit board film has no conductive layer. Even if it exists, the high flame retardance which shows high flame retardance is calculated | required. Therefore, further improvement in flame retardancy has been desired for the composite film described in Patent Document 1.

ところで、多層プリント回路基板の製造に用いる樹脂フィルムの難燃性を改良する技術としては、前述の特許文献2に開示されるように、熱硬化性の樹脂組成物を臭素化エポキシ樹脂などの臭素原子(あるいは塩素原子)を含有する樹脂を用いて熱硬化性の樹脂層を構成する技術や、熱硬化性の樹脂組成物に難燃剤を配合する技術が知られている。   By the way, as a technique for improving the flame retardancy of a resin film used for the production of a multilayer printed circuit board, as disclosed in Patent Document 2 mentioned above, a thermosetting resin composition is brominated with a brominated epoxy resin or the like. A technique for forming a thermosetting resin layer using a resin containing atoms (or chlorine atoms) and a technique for blending a flame retardant into a thermosetting resin composition are known.

しかしながら、使用済みの多層プリント回路基板は、通常、焼却処理されることから、特許文献2に開示されるような臭素原子を含有する樹脂を用いた場合や難燃剤として一般に用いられる塩素原子や臭素原子を含むハロゲン系難燃剤を用いた場合では、焼却時に発生するハロゲン系有害物質が問題となる。そのため、塩素原子や臭素原子を含まない多層プリント回路基板用フィルムが望まれている。   However, since the used multilayer printed circuit board is usually incinerated, the chlorine atom or bromine generally used as a flame retardant or a resin containing a bromine atom as disclosed in Patent Document 2 is used. When halogen-based flame retardants containing atoms are used, halogen-based harmful substances generated during incineration become a problem. Therefore, a multilayer printed circuit board film containing no chlorine atom or bromine atom is desired.

このように多層プリント回路基板用フィルムが塩素原子や臭素原子を含有することに起因する問題を解決する手法として、例えば特許文献4に開示されているような、ハロゲン原子を含まない、いわゆるノンハロ系難燃剤を用いる技術が知られている。しかしながら、このようなノンハロ系難燃剤を多層プリント回路基板用フィルムの熱硬化性樹脂層に配合すると、耐環境性や熱硬化性樹脂層と導電性回路との密着性が悪化するという問題が生じることがあった。そのため、塩素原子や臭素原子を含有する重合体や難燃剤などを含んだ熱硬化性樹脂組成物を必要とすることなく、難燃性に優れた多層プリント回路基板用フィルムが渇望されていた。   Thus, as a technique for solving the problem caused by the multilayer printed circuit board film containing chlorine atoms and bromine atoms, as disclosed in Patent Document 4, for example, a so-called non-halogen system that does not contain halogen atoms. A technique using a flame retardant is known. However, when such a non-halogen flame retardant is added to the thermosetting resin layer of the multilayer printed circuit board film, there arises a problem that the environmental resistance and the adhesion between the thermosetting resin layer and the conductive circuit deteriorate. There was a thing. Therefore, a multilayer printed circuit board film excellent in flame retardancy has been eagerly desired without requiring a thermosetting resin composition containing a polymer containing a chlorine atom or a bromine atom, a flame retardant, or the like.

特開平11−129399号公報JP 11-129399 A 国際公開第01/097582号パンフレットInternational Publication No. 01/097582 Pamphlet 国際公開第05/025857号パンフレットInternational Publication No. 05/025857 Pamphlet 特開2007−9169号公報JP 2007-9169 A

本発明の目的は、塩素原子・臭素原子を含有する重合体や難燃剤などを含まない硬化性樹脂組成物を用いた場合であっても、優れた難燃性を示し、しかも、電気特性や配線の埋め込み性にも優れる多層プリント回路基板用フィルムを提供することにある。   The object of the present invention is to provide excellent flame retardancy even when a curable resin composition containing no chlorine or bromine atom-containing polymer or flame retardant is used, An object of the present invention is to provide a multilayer printed circuit board film having excellent wiring embedding properties.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、多層プリント回路基板用フィルムを、難燃性有機高分子材料フィルムからなる中間層の両面側に、官能基を有する脂環式オレフィン重合体および硬化剤を含んでなる硬化性樹脂組成物からなる層を積層してなる構成とし、さらに、それぞれの層の厚さが特定の関係となるようにすることにより、塩素原子や臭素原子を含む重合体や難燃剤などを含まない硬化性樹脂組成物を用いた場合であっても、優れた難燃性を有し、しかも、電気特性や配線の埋め込み性にも優れる多層プリント回路基板用フィルムが得られることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成するに至ったものである。   As a result of diligent research to achieve the above object, the present inventor has found that a multilayer printed circuit board film has an alicyclic olefin having a functional group on both sides of an intermediate layer made of a flame retardant organic polymer material film. A layer composed of a curable resin composition containing a polymer and a curing agent is laminated, and the thickness of each layer has a specific relationship so that chlorine atoms and bromine atoms Multilayer printed circuit board having excellent flame retardancy and excellent electrical characteristics and wiring embedding even when a curable resin composition containing no polymer or flame retardant is used. It was found that a film for use was obtained. The present invention has been completed based on these findings.

かくして、本発明によれば、UL94規格に準拠する試験でV−0、V−1、VTM−0またはVTM−1である難燃性有機高分子材料フィルムからなる中間層と、この中間層の両面側に積層され、官能基を有する脂環式オレフィン重合体および硬化剤を含んでなる硬化性樹脂組成物により形成された第1外層および第2外層と、からなる多層プリント回路基板用フィルムであって、中間層の厚さ(t)が3〜24μmであり、第1外層の厚さ(tO1)が1〜20μmであり、第2外層の厚さ(tO2)が6〜20μmであり、第1外層および第2外層の厚さの和と中間層の厚さとの比((tO1+tO2)/t)が0.5〜3であることを特徴とする多層プリント回路基板用フィルムが提供される。 Thus, according to the present invention, an intermediate layer composed of a flame retardant organic polymer material film that is V-0, V-1, VTM-0, or VTM-1 in a test compliant with the UL94 standard, A multilayer printed circuit board film comprising a first outer layer and a second outer layer, each of which is formed of a curable resin composition comprising an alicyclic olefin polymer having a functional group and a curing agent, laminated on both sides. The intermediate layer thickness (t M ) is 3 to 24 μm, the first outer layer thickness (t O1 ) is 1 to 20 μm, and the second outer layer thickness (t O2 ) is 6 to 20 μm. And the ratio of the sum of the thicknesses of the first outer layer and the second outer layer to the thickness of the intermediate layer ((t O1 + t O2 ) / t M ) is 0.5 to 3. A film for a substrate is provided.

この多層プリント回路基板用フィルムでは、官能基を有する脂環式オレフィン重合体が、塩素原子および臭素原子を含まないものであることが好ましい。また、硬化性樹脂組成物が、難燃剤を含まないものであることが好ましい。   In this multilayer printed circuit board film, the alicyclic olefin polymer having a functional group preferably does not contain chlorine atoms and bromine atoms. Moreover, it is preferable that curable resin composition is a thing which does not contain a flame retardant.

また、本発明によれば、厚さが5〜10μmである導電性回路を表面に有する基板に、上記の多層プリント回路基板用フィルムを、基板の導電性回路を有する表面と多層プリント回路基板用フィルムの第2外層とが接するように積層してなり、さらに、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層を硬化し、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層上に導電性回路を形成して得られる構造を有してなる多層プリント回路基板が提供される。   Further, according to the present invention, the above-mentioned multilayer printed circuit board film is applied to a substrate having a conductive circuit having a thickness of 5 to 10 μm on the surface, the surface of the substrate having the conductive circuit and the multilayer printed circuit board. The film is laminated so as to be in contact with the second outer layer of the film, and further, the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film are cured, and the conductive circuit is formed on the first outer layer of the multilayer printed circuit board film. A multilayer printed circuit board having a structure obtained by forming the substrate is provided.

さらに、本発明によれば、厚さが5〜10μmである導電性回路を表面に有する基板に、上記の多層プリント回路基板用フィルムを、基板の導電性回路を有する表面と多層プリント回路基板用フィルムの第2外層が接するように積層する工程と、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層を硬化する工程と、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層上に導電性回路を形成する工程とを含む、多層プリント回路基板の製造方法が提供される。   Furthermore, according to the present invention, the above-mentioned multilayer printed circuit board film is applied to a substrate having a conductive circuit having a thickness of 5 to 10 μm on the surface, the surface of the substrate having the conductive circuit and the multilayer printed circuit board. A step of laminating the second outer layer of the film in contact, a step of curing the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film, and a conductive circuit on the first outer layer of the multilayer printed circuit board film. A method of manufacturing a multilayer printed circuit board.

本発明によれば、塩素原子・臭素原子を含有する重合体や難燃剤などを含まない硬化性樹脂組成物を用いた場合であっても、優れた難燃性を示し、しかも、電気特性や配線の埋め込み性にも優れる多層プリント回路基板用フィルムを得ることができる。   According to the present invention, even when a curable resin composition containing no chlorine or bromine atom-containing polymer or flame retardant is used, excellent flame retardancy is exhibited, and A multilayer printed circuit board film having excellent wiring embedding properties can be obtained.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムは、多層プリント回路基板を構成するために用いられるフィルムであって、少なくとも、中間層、第1外層および第2外層の三層からならなるフィルムである。このフィルムを構成する中間層は、UL94規格に準拠する試験でV−0、V−1、VTM−0またはVTM−1である難燃性有機高分子材料フィルムからなる。中間層を構成する難燃性有機高分子材料フィルムを形成するための難燃性有機高分子材料としては、難燃性に優れ、フィルムにした場合の難燃性がUL94規格に準拠する試験でV−0、V−1、VTM−0またはVTM−1となる有機高分子材料であれば特に限定されないが、ポリイミド、アラミド樹脂、液晶ポリマーが例示される。なお、市販の難燃性有機高分子材料フィルムは、本発明の多層プリント回路基板用フィルムの中間層を形成するために好適に用いることができ、例えば、宇部興産社製のポリイミドフィルム(商品名ユーピレックス)、東レ・デュポン社製のポリイミドフィルム(商品名カプトン)、カネカ社製のポリイミドフィルム(商品名アピカル)、東レ社製のアラミド樹脂フィルム(商品名ミクトロン)、ジャパンゴアテックス社製の液晶ポリマーフィルム(商品名バイアック)などを好適に用いることができる。これらの難燃性有機高分子材料フィルムは、本発明の多層プリント回路基板用フィルムの中間層となるものであるから、後述する中間層の厚さに対応する厚さのものを選択して用いれば良い。   The multilayer printed circuit board film of the present invention is a film used for constituting a multilayer printed circuit board, and is a film comprising at least three layers of an intermediate layer, a first outer layer and a second outer layer. The intermediate layer constituting this film is composed of a flame retardant organic polymer material film which is V-0, V-1, VTM-0 or VTM-1 in a test based on the UL94 standard. As a flame retardant organic polymer material for forming the flame retardant organic polymer material film constituting the intermediate layer, the flame retardant organic polymer material is excellent in flame retardancy, and the flame retardancy when made into a film is a test conforming to the UL94 standard. Although it will not specifically limit if it is an organic polymer material used as V-0, V-1, VTM-0, or VTM-1, A polyimide, an aramid resin, and a liquid crystal polymer are illustrated. In addition, a commercially available flame-retardant organic polymer material film can be suitably used for forming an intermediate layer of the multilayer printed circuit board film of the present invention. For example, a polyimide film manufactured by Ube Industries, Ltd. (trade name) Upilex), Toray DuPont polyimide film (trade name Kapton), Kaneka polyimide film (trade name Apical), Toray Aramid resin film (trade name Mikutron), Japan Gore-Tex liquid crystal polymer A film (trade name BIAC) or the like can be suitably used. Since these flame retardant organic polymer material films serve as the intermediate layer of the multilayer printed circuit board film of the present invention, a film having a thickness corresponding to the thickness of the intermediate layer described later is selected and used. It ’s fine.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムは、中間層の両面側に第1外層および第2外層が積層されて(すなわち、中間層の片面側に第1外層が積層され、中間層のもう一方の面側に第2外層が積層されて)構成される。この第1外層および第2外層は、それぞれ、官能基を有する脂環式オレフィン重合体および硬化剤を含んでなる硬化性樹脂組成物により形成される。ここで、本発明で用いられる官能基を有する脂環式オレフィン重合体は、脂環式構造を有するオレフィン(脂環式オレフィン)由来の繰返し単位を含有し、かつ、官能基を有する重合体である。   In the multilayer printed circuit board film of the present invention, the first outer layer and the second outer layer are laminated on both sides of the intermediate layer (that is, the first outer layer is laminated on one side of the intermediate layer, and the other outer layer of the intermediate layer is laminated). A second outer layer is laminated on the surface side). The first outer layer and the second outer layer are formed of a curable resin composition containing an alicyclic olefin polymer having a functional group and a curing agent, respectively. Here, the alicyclic olefin polymer having a functional group used in the present invention is a polymer having a repeating unit derived from an olefin having an alicyclic structure (alicyclic olefin) and having a functional group. is there.

本発明で用いられる官能基を有する脂環式オレフィン重合体が含有しうる脂環式構造としては、シクロアルカン構造やシクロアルケン構造などが挙げられるが、機械的強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造が好ましく、特にノルボルナン構造が好ましい。また、脂環式構造としては、単環、多環、縮合多環、橋架け環や、これらを組み合わせてなる多環などが挙げられる。脂環式構造を構成する炭素原子数は、格別な制限はないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個の範囲であるときに、機械的強度、耐熱性、及び成形性の諸特性が高度にバランスされ好適である。また、本発明で使用される官能基を有する脂環式オレフィン重合体は、通常、熱可塑性のものである。   Examples of the alicyclic structure that can be contained in the alicyclic olefin polymer having a functional group used in the present invention include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure. From the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, and the like, A cycloalkane structure is preferable, and a norbornane structure is particularly preferable. Examples of the alicyclic structure include monocycles, polycycles, condensed polycycles, bridged rings, and polycycles formed by combining these. The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is not particularly limited, but is usually 4 to 30, preferably 5 to 20, more preferably 5 to 15 in the mechanical strength, Various characteristics of heat resistance and moldability are highly balanced and suitable. In addition, the alicyclic olefin polymer having a functional group used in the present invention is usually thermoplastic.

官能基を有する脂環式オレフィン重合体中の脂環式オレフィン由来の繰り返し単位の割合は、特に限定されないが、通常30〜100重量%、好ましくは50〜100重量%、より好ましくは70〜100重量%である。脂環式オレフィン由来の繰り返し単位の割合が過度に少ないと、耐熱性に劣り好ましくない。脂環式オレフィン由来の繰り返し単位以外の繰り返し単位としては、格別な限定はなく、目的に応じて適宜選択される。   The ratio of the repeating unit derived from the alicyclic olefin in the alicyclic olefin polymer having a functional group is not particularly limited, but is usually 30 to 100% by weight, preferably 50 to 100% by weight, more preferably 70 to 100%. % By weight. When the ratio of the repeating unit derived from the alicyclic olefin is excessively small, the heat resistance is inferior, which is not preferable. The repeating unit other than the repeating unit derived from the alicyclic olefin is not particularly limited and is appropriately selected depending on the purpose.

官能基を有する脂環式オレフィン重合体が有する官能基は、特に限定されないが、用いる硬化剤が有する官能基と反応して結合を形成することができる官能基であることが好ましい。脂環式オレフィン重合体が有する官能基の具体例としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、特に、カルボキシル基またはカルボン酸無水物基が好適である。なお、官能基を有する脂環式オレフィン重合体は、2種以上の官能基を有するものであっても良い。また、脂環式オレフィン重合体の官能基は、重合体の主鎖を構成する原子に直接結合していても、メチレン基、オキシ基、オキシカルボニルオキシアルキレン基、フェニレン基などの他の二価の基を介して結合していてもよい。官能基を有する脂環式オレフィン重合体中の官能基の量は、特に制限されないが、脂環式オレフィン重合体を構成する全繰り返し単位のモル数に対して、通常5〜60モル%、好ましくは10〜50モル%である。   Although the functional group which the alicyclic olefin polymer which has a functional group has is not specifically limited, It is preferable that it is a functional group which can react with the functional group which the hardening | curing agent to use and can form a bond. Specific examples of functional groups possessed by the alicyclic olefin polymer include hydroxyl group, carboxyl group, alkoxyl group, epoxy group, glycidyl group, oxycarbonyl group, carbonyl group, amino group, ester group, carboxylic anhydride group, etc. In particular, a carboxyl group or a carboxylic anhydride group is preferable. In addition, the alicyclic olefin polymer having a functional group may have two or more kinds of functional groups. In addition, the functional group of the alicyclic olefin polymer may be directly bonded to an atom constituting the main chain of the polymer, but other divalent groups such as a methylene group, an oxy group, an oxycarbonyloxyalkylene group, and a phenylene group. It may be bonded via the group. The amount of the functional group in the alicyclic olefin polymer having a functional group is not particularly limited, but is usually 5 to 60 mol%, preferably based on the number of moles of all repeating units constituting the alicyclic olefin polymer. Is 10 to 50 mol%.

本発明で用いる官能基を有する脂環式オレフィン重合体は、塩素原子および臭素原子を含まないものであることが好ましい。本発明の多層プリント回路基板用フィルムは、その構成に基づき充分な難燃性を発揮するので、塩素原子や臭素原子を含まない重合体を用いても、充分な難燃性を確保することができる。したがって、塩素原子および臭素原子を含まない重合体を用いることにより、多層プリント回路基板用フィルムを焼却処理しても、ハロゲン系有害物質を発生しないという特長を有することとなる。   The alicyclic olefin polymer having a functional group used in the present invention preferably does not contain a chlorine atom and a bromine atom. Since the multilayer printed circuit board film of the present invention exhibits sufficient flame retardancy based on its configuration, sufficient flame retardancy can be ensured even when a polymer containing no chlorine or bromine atoms is used. it can. Therefore, by using a polymer that does not contain chlorine atoms and bromine atoms, even if the multilayer printed circuit board film is incinerated, it has a feature that no halogen-based harmful substances are generated.

一般に、脂環式オレフィン重合体は、脂環式オレフィンを付加重合または開環重合し、そして必要に応じて不飽和結合部分を水素化することによって、あるいは芳香族オレフィンを付加重合または開環重合し、そして該重合体の芳香環部分を水素化することによって得られる。そして、本発明で用いる官能基を有する脂環式オレフィン重合体は、例えば、(1)官能基を有する脂環式オレフィンを、必要に応じて他の単量体を加えて、重合することによって、(2)官能基を有しない脂環式オレフィンを、官能基を有する単量体と共重合することによって、(3)官能基を有する芳香族オレフィンを、必要に応じて他の単量体を加えて、重合し、これにより得られる重合体の芳香環部分を水素化することによって、(4)官能基を有しない芳香族オレフィンを、官能基を有する単量体と共重合し、これにより得られる重合体の芳香環部分を水素化することによって、または(5)官能基を有しない脂環式オレフィン重合体に官能基を有する化合物を変性反応により導入することによって、もしくは(6)前述の(1)〜(5)のようにして得られる官能基(例えばカルボン酸エステル基など)を有する脂環式オレフィン重合体の官能基を、例えば加水分解することなどにより他の官能基(例えばカルボキシル基)に変換することによって得ることができる。本発明では、前述の(1)の方法によって得られる重合体が特に好適に用いられる。   In general, alicyclic olefin polymers are obtained by addition polymerization or ring-opening polymerization of alicyclic olefins, and hydrogenation of unsaturated bond portions as necessary, or addition polymerization or ring-opening polymerization of aromatic olefins. And hydrogenating the aromatic ring portion of the polymer. And the alicyclic olefin polymer which has a functional group used by this invention, for example, adds another monomer as needed and polymerizes the alicyclic olefin which has a functional group as needed. (2) By copolymerizing an alicyclic olefin having no functional group with a monomer having a functional group, (3) an aromatic olefin having a functional group may be converted to another monomer as required. (4) copolymerizing an aromatic olefin having no functional group with a monomer having a functional group, by hydrogenating the aromatic ring portion of the resulting polymer. By hydrogenating the aromatic ring portion of the polymer obtained by (5), or (5) introducing a functional group-containing compound into the alicyclic olefin polymer having no functional group, or (6) (1) above The functional group of the alicyclic olefin polymer having a functional group (for example, a carboxylic acid ester group) obtained as in (5) is converted into another functional group (for example, a carboxyl group) by, for example, hydrolysis. Can be obtained. In the present invention, the polymer obtained by the method (1) is particularly preferably used.

官能基を有する脂環式オレフィンの具体例としては、8−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、5−ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチル−5−ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−カルボキシメチル−5−ヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、8−メチル−8−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−カルボキシメチル−8−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、5−エキソ−6−エンド−ジヒドロキシカルボニルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、8−エキソ−9−エンド−ジヒドロキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エンなどのカルボキシル基を有する脂環式オレフィン;ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−5,6−ジカルボン酸無水物、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン−8,9−ジカルボン酸無水物、ヘキサシクロ[6.6.1.13,6.110,13.02,7.09,14]ヘプタデカ−4−エン−11,12−ジカルボン酸無水物などのカルボン酸無水物基を有する脂環式オレフィン;8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチル−5−メトキシカルボニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エンなどのカルボン酸エステル基を有する脂環式オレフィン;などが挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。 Specific examples of the alicyclic olefin having a functional group include 8-hydroxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 17, 10 ] dodec-3-ene, 5-hydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl-5-hydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene , 5-carboxymethyl-5-hydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 8-methyl-8-hydroxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene, 8-carboxymethyl-8-hydroxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene, 5-exo-6-endo-dihydroxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 8-exo-9-endo-dihydroxycarbonyltetracyclo [4. 4.0.1 2,5 . Alicyclic olefins having a carboxyl group such as 17, 10 ] dodec-3-ene; bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5,6-dicarboxylic anhydride, tetracyclo [4.4. 0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec- 3 -ene-8,9-dicarboxylic anhydride, hexacyclo [6.6.1.1 3,6 . 1 10,13 . 0 2,7 . 0 9,14] heptadec-4-ene-11,12 alicyclic olefin having a carboxylic acid anhydride group, such as a dicarboxylic acid anhydride; 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0. 1 2,5 . 17, 10 ] dodec-3-ene, 5-methoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methyl-5-methoxycarbonyl-bicyclo [2.2.1] hept-2 -An alicyclic olefin having a carboxylic acid ester group such as ene; and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

官能基を有しない脂環式オレフィンの具体例としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、5−エチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ブチル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−エチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−メチリデン−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、5−ビニル−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、テトラシクロ[8.4.0.111,14.02,8]テトラデカ−3,5,7,12,11−テトラエン、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]デカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、8−メチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−エチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−メチリデン−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−エチリデン−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−ビニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、8−プロペニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカ−3,10−ジエン、ペンタシクロ[7.4.0.13,6.110,13.02,7]ペンタデカ−4,11−ジエン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、1,4−メタノ−1,4,4a,5,10,10a−ヘキサヒドロアントラセン、8−フェニル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン、7,10−メタノ−6b,7,10,10a−テトラヒドロフルオランセンなどが挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。 Specific examples of the alicyclic olefin having no functional group include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), 5-ethyl-bicyclo [2.2.1] hept-2. -Ene, 5-butyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylidene-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-methylidene-bicyclo [2.2.1] ] Hept-2-ene, 5-vinyl-bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7-diene (common name: di cyclopentadiene), tetracyclo [8.4.0.1 11,14. 0 2,8 ] tetradeca-3,5,7,12,11-tetraene, tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dec-3-ene (common name: tetracyclododecene), 8-methyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene, 8-ethyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene, 8-methylidene-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene, 8-ethylidene-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene, 8-vinyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene, 8-propenyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene, pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13] pentadeca-3,10-diene, pentacyclo [7.4.0.1 3,6. 1 10,13 . 0 2,7 ] pentadeca-4,11-diene, cyclopentene, cyclopentadiene, 1,4-methano-1,4,4a, 5,10,10a-hexahydroanthracene, 8-phenyl-tetracyclo [4.4. 0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene, 7,10-methano-6b, 7,10,10a-tetrahydrofluoranthene, etc., and these may be used alone or in combination of two or more. You may use together.

(官能基を有しない)芳香族オレフィンの例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼンなどが挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。   Examples of aromatic olefins (having no functional group) include styrene, α-methylstyrene, divinylbenzene, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. .

脂環式シクロオレフィンや芳香族オレフィンと共重合することができる、官能基を有する脂環式オレフィン以外の、官能基を有する単量体としては、官能基を有するエチレン性不飽和化合物が挙げられ、その具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、α−エチルアクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、エンドシス−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン酸、メチル−エンドシス−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン酸などの不飽和カルボン酸化合物;無水マレイン酸、ブテニル無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水シトラコン酸などの不飽和カルボン酸無水物;などが挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。   Examples of the monomer having a functional group other than the alicyclic olefin having a functional group that can be copolymerized with an alicyclic cycloolefin or an aromatic olefin include an ethylenically unsaturated compound having a functional group. Specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, α-ethylacrylic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, endocis-bicyclo [2.2.1] hept- Unsaturated carboxylic acid compounds such as 5-ene-2,3-dicarboxylic acid and methyl-endocis-bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid; maleic anhydride, butenyl succinic anhydride Unsaturated carboxylic acid anhydrides such as acid, tetrahydrophthalic anhydride, citraconic anhydride, etc., and these may be used alone. And it may be used in combination of two or more thereof.

脂環式シクロオレフィンや芳香族オレフィンと共重合することができる、脂環式オレフィン以外の、官能基を有しない単量体としては、官能基を有しないエチレン性不飽和化合物が挙げられ、その具体例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エイコセンなどの炭素数2〜20のエチレンまたはα−オレフィン;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、1,7−オクタジエンなどの非共役ジエン;などが挙げられる。これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。   Examples of the monomer having no functional group other than the alicyclic olefin that can be copolymerized with the alicyclic cycloolefin or the aromatic olefin include ethylenically unsaturated compounds having no functional group. Specific examples include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, 3-ethyl-1-pentene, and 4-methyl-1. -Pentene, 4-methyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 4-ethyl-1-hexene, 3-ethyl-1-hexene, 1-octene , 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicocene, etc., ethylene or α-olefin having 2 to 20 carbon atoms; 1,4- And the like; hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 1,7-octadiene nonconjugated dienes such. These may be used alone or in combination of two or more.

脂環式オレフィンや芳香族オレフィンの重合方法、および必要に応じて行われる水素添加の方法は、格別な制限はなく、公知の方法に従って行うことができる。   The polymerization method of alicyclic olefin and aromatic olefin, and the hydrogenation method performed as necessary are not particularly limited, and can be performed according to a known method.

本発明で用いられる官能基を有する脂環式オレフィン重合体の分子量は、特に限定されないが、シクロヘキサンまたはトルエンを溶媒とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常1,000〜1,000,000、好ましくは5,000〜500,000、より好ましくは10,000〜250,000の範囲である。官能基を有する脂環式オレフィン重合体の重量平均分子量(Mw)がこの範囲にあると、得られる多層プリント回路基板用フィルムの耐熱性、成形物表面の平滑性などがバランスされ好適である。なお、官能基を有する脂環式オレフィン重合体の重量平均分子量(Mw)を調整する方法は常法に従えば良く、例えば、脂環式オレフィンの開環重合をルテニウム系、チタン系、タングステン系などのメタセシス重合触媒を用いて行うに際して、ビニル化合物、ジエン化合物などの分子量調整剤を単量体全量に対して0.1〜10モル%程度添加する方法が挙げられる。分子量調整剤を多量に用いるとMwの低い重合体が得られる。かかる分子量調整剤の例としては、ビニル化合物では、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−オクテンなどのα−オレフィン化合物;スチレン、ビニルトルエンなどのスチレン化合物;エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどのエーテル化合物;アリルクロライドなどのハロゲン含有ビニル化合物;酢酸アリル、アリルアルコール、グリシジルメタクリレート、アクリルアミドなどのその他のビニル化合物;などが挙げられる。また、ジエン化合物では、1,4−ペンタジエン、1,5−ヘキサジエン、1,6−ヘプタジエン、2−メチル−1,4−ペンタジエン、2,5−ジメチル−1,5−ヘキサジエンなどの非共役ジエン化合物;1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなどの共役ジエン化合物;などが挙げられる。これらの分子量調整剤は1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。   The molecular weight of the alicyclic olefin polymer having a functional group used in the present invention is not particularly limited, but is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) using cyclohexane or toluene as a solvent ( Mw), usually in the range of 1,000 to 1,000,000, preferably 5,000 to 500,000, more preferably 10,000 to 250,000. When the weight average molecular weight (Mw) of the alicyclic olefin polymer having a functional group is in this range, the heat resistance of the resulting multilayer printed circuit board film, the smoothness of the surface of the molded product, and the like are preferably balanced. In addition, the method of adjusting the weight average molecular weight (Mw) of the alicyclic olefin polymer having a functional group may be in accordance with a conventional method. For example, the ring-opening polymerization of the alicyclic olefin is ruthenium-based, titanium-based, tungsten-based. For example, a method of adding about 0.1 to 10 mol% of a molecular weight regulator such as a vinyl compound or a diene compound with respect to the total amount of the monomer may be used. When a large amount of the molecular weight modifier is used, a polymer having a low Mw is obtained. Examples of such molecular weight modifiers include vinyl compounds such as α-olefin compounds such as 1-butene, 1-pentene, 1-hexene and 1-octene; styrene compounds such as styrene and vinyltoluene; ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, Ether compounds such as allyl glycidyl ether; halogen-containing vinyl compounds such as allyl chloride; other vinyl compounds such as allyl acetate, allyl alcohol, glycidyl methacrylate, and acrylamide; In the diene compound, non-conjugated dienes such as 1,4-pentadiene, 1,5-hexadiene, 1,6-heptadiene, 2-methyl-1,4-pentadiene, 2,5-dimethyl-1,5-hexadiene, etc. Compounds; conjugated diene compounds such as 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene; It is done. These molecular weight regulators may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いられる官能基を有する脂環式オレフィン重合体の分子量分布は、特に限定されないが、シクロヘキサンまたはトルエンを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)で測定される重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)で、通常5以下、好ましくは4以下、より好ましくは3以下である。なお、前述の方法で重量平均分子量や分子量分布が測定できない官能基を有する脂環式オレフィン重合体を用いる場合には、通常の溶融加工法により樹脂層を形成し得る程度の溶融粘度や重合度を有するものを使用することができる。   The molecular weight distribution of the alicyclic olefin polymer having a functional group used in the present invention is not particularly limited, but is a weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) using cyclohexane or toluene as a solvent ( The ratio (Mw / Mn) of Mw) to the number average molecular weight (Mn) is usually 5 or less, preferably 4 or less, more preferably 3 or less. In the case of using an alicyclic olefin polymer having a functional group whose weight average molecular weight or molecular weight distribution cannot be measured by the above-described method, the melt viscosity and the degree of polymerization are such that a resin layer can be formed by an ordinary melt processing method. Can be used.

本発明で用いられる官能基を有する脂環式オレフィン重合体のガラス転移温度(Tg)は、特に限定されないが、120〜300℃であることが好ましい。Tgが低すぎると高温下において充分な電気絶縁性を維持できず、Tgが高すぎると多層プリント回路基板が強い衝撃を受けた際にクラックを生じて導電性回路が破損する可能性がある。   Although the glass transition temperature (Tg) of the alicyclic olefin polymer which has a functional group used by this invention is not specifically limited, It is preferable that it is 120-300 degreeC. If the Tg is too low, sufficient electrical insulation cannot be maintained at a high temperature, and if the Tg is too high, the multilayer printed circuit board may be cracked to break the conductive circuit when subjected to a strong impact.

本発明で用いられる官能基を有する脂環式オレフィン重合体を含有してなる硬化性樹脂組成物は、後述するように、有機溶剤に溶解させてワニスの形態とした上で、難燃性有機高分子材料フィルム(中間層)に塗布して、第1外層および第2外層を形成させることが好ましい。したがって、本発明で用いられる官能基を有する脂環式オレフィン重合体は、後述するような有機溶剤に常温で溶解するものであることが好ましい。   The curable resin composition containing the alicyclic olefin polymer having a functional group used in the present invention is dissolved in an organic solvent to form a varnish as described later. It is preferable to apply the polymer material film (intermediate layer) to form the first outer layer and the second outer layer. Therefore, the alicyclic olefin polymer having a functional group used in the present invention is preferably one that dissolves in an organic solvent as described later at room temperature.

本発明で用いられる硬化剤は、加熱により官能基を有する脂環式オレフィン重合体に架橋構造を形成させるものであれば特に限定されず、一般の電気絶縁膜形成用の硬化性樹脂組成物に配合される硬化剤を用いることができるが、用いる官能基を有する脂環式オレフィン重合体の官能基と反応して結合を形成することができる官能基を2個以上有する化合物を硬化剤として用いることが好ましい。例えば、官能基を有する脂環式オレフィン重合体として、カルボキシル基やカルボン酸無水物基を有する脂環式オレフィン重合体を用いる場合に好適に用いられる硬化剤としては、多価エポキシ化合物、多価イソシアナート化合物、多価アミン化合物、多価ヒドラジド化合物、アジリジン化合物、塩基性金属酸化物、有機金属ハロゲン化物などが挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。また、これらの化合物と過酸化物とを併用して硬化剤として用いても良い。   The curing agent used in the present invention is not particularly limited as long as it forms a cross-linked structure on the alicyclic olefin polymer having a functional group by heating, and it is not limited to a general curable resin composition for forming an electric insulating film. Although the compounding hardening | curing agent can be used, the compound which has two or more functional groups which can react with the functional group of the alicyclic olefin polymer which has a functional group to be used, and can form a bond is used as a hardening | curing agent. It is preferable. For example, as an alicyclic olefin polymer having a carboxyl group or a carboxylic acid anhydride group as the alicyclic olefin polymer having a functional group, the curing agent preferably used includes a polyvalent epoxy compound, a polyvalent olefin polymer Examples include isocyanate compounds, polyvalent amine compounds, polyhydric hydrazide compounds, aziridine compounds, basic metal oxides, and organometallic halides. These may be used alone or in combination of two or more. May be. These compounds and peroxides may be used in combination as a curing agent.

硬化剤として用いられ得る多価エポキシ化合物としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、クレゾール型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、水素添加ビスフェノールA型エポキシ化合物などのグリシジルエーテル型エポキシ化合物;脂環式エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、イソシアヌレート型エポキシ化合物、リン含有エポキシ化合物などの多価エポキシ化合物;などの分子内に2以上のエポキシ基を有する化合物が挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。   Examples of the polyvalent epoxy compound that can be used as a curing agent include a phenol novolac epoxy compound, a cresol novolac epoxy compound, a cresol epoxy compound, a bisphenol A epoxy compound, a bisphenol F epoxy compound, and a hydrogenated bisphenol A epoxy. Glycidyl ether type epoxy compounds such as compounds; polycyclic epoxy compounds such as alicyclic epoxy compounds, glycidyl ester type epoxy compounds, glycidyl amine type epoxy compounds, isocyanurate type epoxy compounds, phosphorus-containing epoxy compounds; The compound which has the above epoxy groups is mentioned, These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

硬化剤として用いられ得る多価イソシアナート化合物としては、炭素数6〜24の、ジイソシアナート類およびトリイソシアナート類が好ましい。ジイソシアナート類の例としては、2,4−トリレンジイソシアナート、2,6−トリレンジイソシアナート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、p−フェニレンジイソシアナートなどが挙げられる。トリイソシアナート類の例としては、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアナート、1,6,11−ウンデカントリイソシアナート、ビシクロヘプタントリイソシアナートなどが挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。   As the polyvalent isocyanate compound that can be used as a curing agent, diisocyanates and triisocyanates having 6 to 24 carbon atoms are preferable. Examples of diisocyanates include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, etc. Is mentioned. Examples of triisocyanates include 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, bicycloheptane triisocyanate, etc., and these are used alone. It may also be used in combination of two or more.

硬化剤として用いられ得る多価アミン化合物としては、2個以上のアミノ基を有する炭素数4〜30の脂肪族多価アミン化合物、芳香族多価アミン化合物などが挙げられ、グアニジン化合物のように非共役の窒素−炭素二重結合を有するものは含まれない。脂肪族多価アミン化合物としては、ヘキサメチレンジアミン、N,N’−ジシンナミリデン−1,6−ヘキサンジアミンなどが挙げられる。芳香族多価アミン化合物としては、4,4’−メチレンジアニリン、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ジアニリン、4,4’−(p−フェニレンジイソプロピリデン)ジアニリン、2,2’−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3,5−ベンゼントリアミンなどが挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。   Examples of the polyvalent amine compound that can be used as a curing agent include aliphatic polyamine compounds having 4 to 30 carbon atoms having two or more amino groups, and aromatic polyamine compounds, such as guanidine compounds. Those having non-conjugated nitrogen-carbon double bonds are not included. Examples of the aliphatic polyvalent amine compound include hexamethylene diamine, N, N′-dicinnamylidene-1,6-hexane diamine, and the like. Examples of aromatic polyvalent amine compounds include 4,4′-methylenedianiline, m-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) dianiline, 4,4 ′-( p-phenylenediisopropylidene) dianiline, 2,2′-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,3,5-benzenetriamine, and the like. These may be used alone. Or two or more of them may be used in combination.

硬化剤として用いられ得る多価ヒドラジド化合物の例としては、イソフタル酸ジヒドラジド、テレフタル酸ジヒドラジド、2,6−ナフタレンジカルボン酸ジヒドラジド、マレイン酸ジヒドラジド、イタコン酸ジヒドラジド、トリメリット酸ジヒドラジド、1,3,5−ベンゼントリカルボン酸ジヒドラジド、ピロメリット酸ジヒドラジドなどが挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。   Examples of polyhydric hydrazide compounds that can be used as curing agents include isophthalic acid dihydrazide, terephthalic acid dihydrazide, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dihydrazide, maleic acid dihydrazide, itaconic acid dihydrazide, trimellitic acid dihydrazide, 1,3,5 -Benzenetricarboxylic acid dihydrazide, pyromellitic acid dihydrazide, etc. are mentioned, These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

硬化剤として用いられ得るアジリジン化合物としては、トリス−2,4,6−(1−アジリジニル)−1,3,5−トリアジン、トリス[1−(2−メチル)アジリジニル]ホスフィノキシド、ヘキサ[1−(2−メチル)アジリジニル]トリホスファトリアジンなどが挙げられ、これらは1種を単独で用いても良いし2種以上を併用しても良い。   Examples of aziridine compounds that can be used as the curing agent include tris-2,4,6- (1-aziridinyl) -1,3,5-triazine, tris [1- (2-methyl) aziridinyl] phosphinoxide, hexa [1- (2-Methyl) aziridinyl] triphosphatriazine and the like may be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more.

官能基を有する脂環式オレフィン重合体として、カルボキシル基やカルボン酸無水物基を有する脂環式オレフィン重合体を用いる場合においては、前述の硬化剤の中でも、官能基との反応性が緩やかであり、硬化性樹脂組成物の扱いが容易となる観点から多価エポキシ化合物が好ましく用いられ、グリシジルエーテル型エポキシ化合物や脂環式の多価エポキシ化合物が特に好ましく用いられる。   In the case of using an alicyclic olefin polymer having a carboxyl group or a carboxylic anhydride group as the alicyclic olefin polymer having a functional group, the reactivity with the functional group is moderate among the aforementioned curing agents. From the viewpoint of easy handling of the curable resin composition, polyvalent epoxy compounds are preferably used, and glycidyl ether type epoxy compounds and alicyclic polyvalent epoxy compounds are particularly preferably used.

硬化性樹脂組成物における硬化剤の使用量は、官能基を有する脂環式オレフィン重合体100重量部に対して、通常1〜100重量部、好ましくは5〜80重量部、より好ましくは10〜50重量部の範囲である。このような範囲の使用量で硬化剤を用いることにより、硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物の機械的強度および電気特性が良好となる。   The amount of the curing agent used in the curable resin composition is usually 1 to 100 parts by weight, preferably 5 to 80 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer having a functional group. The range is 50 parts by weight. By using a hardening | curing agent with the usage-amount of such a range, the mechanical strength and electrical property of the hardened | cured material obtained by hardening | curing curable resin composition will become favorable.

硬化性樹脂組成物の硬化を促進させるために、硬化性樹脂組成物には、硬化促進剤や硬化助剤を配合しても良い。硬化促進剤としては、一般の電気絶縁膜形成用の硬化性樹脂組成物に配合される硬化促進剤を用いれば良いが、硬化剤として多価エポキシ化合物を用いる場合には、第3級アミン系化合物や三弗化ホウ素錯化合物などが硬化促進剤として好適に用いられる。なかでも、第3級アミン系化合物を使用すると、得られる多層プリント回路基板用フィルムの積層容易性、絶縁抵抗性、耐熱性、耐薬品性が向上する。   In order to accelerate the curing of the curable resin composition, the curable resin composition may contain a curing accelerator or a curing aid. As the curing accelerator, a curing accelerator blended in a general curable resin composition for forming an electrical insulating film may be used. When a polyvalent epoxy compound is used as the curing agent, a tertiary amine type is used. A compound, a boron trifluoride complex compound, or the like is preferably used as the curing accelerator. Among these, when a tertiary amine compound is used, the ease of lamination, insulation resistance, heat resistance, and chemical resistance of the resulting multilayer printed circuit board film are improved.

第3級アミン系化合物の具体例としては、例えば、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリベンジルアミン、ジメチルホルムアミドなどの鎖状3級アミン化合物;ピラゾール類、ピリジン類、ピラジン類、ピリミジン類、インダゾール類、キノリン類、イソキノリン類、イミダゾール類、トリアゾール類などの化合物が挙げられる。これらの中でも、イミダゾール類、特に置換基を有する置換イミダゾール化合物が好ましい。   Specific examples of the tertiary amine compound include, for example, chain tertiary amine compounds such as benzyldimethylamine, triethanolamine, triethylamine, tributylamine, tribenzylamine, dimethylformamide; pyrazoles, pyridines, pyrazines , Pyrimidines, indazoles, quinolines, isoquinolines, imidazoles, triazoles and the like. Among these, imidazoles, particularly substituted imidazole compounds having a substituent are preferable.

置換イミダゾール化合物の具体例としては、例えば、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、ビス−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−メチル−2−エチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾールなどのアルキル置換イミダゾール化合物;2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール,1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−エチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、ベンズイミダゾール、2−エチル−4−メチル−1−(2’−シアノエチル)イミダゾール、2−エチル−4−メチル−1−[2’−(3”,5”−ジアミノトリアジニル)エチル]イミダゾールなどのアリール基やアラルキル基などの環構造を含有する炭化水素基で置換されたイミダゾール化合物などが挙げられる。これらの中でも、環構造含有の置換基を有するイミダゾールが官能基を有する脂環式オレフィン重合体との相溶性の観点から好ましく、特に、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾールが好ましい。   Specific examples of the substituted imidazole compound include, for example, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, bis-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-methyl-2-ethylimidazole, 2-isopropylimidazole, Alkyl-substituted imidazole compounds such as 2,4-dimethylimidazole and 2-heptadecylimidazole; 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-ethylimidazole 1-benzyl-2-phenylimidazole, benzimidazole, 2-ethyl-4-methyl-1- (2′-cyanoethyl) imidazole, 2-ethyl-4-methyl-1- [2 ′-(3 ″, 5 "-Diaminotriazinyl) ethyl] imidazo Like imidazole compounds substituted with a hydrocarbon group containing a ring structure, such as an aryl group or an aralkyl group such as. Among these, imidazole having a substituent containing a ring structure is preferable from the viewpoint of compatibility with an alicyclic olefin polymer having a functional group, and 1-benzyl-2-phenylimidazole is particularly preferable.

これらの硬化促進剤は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。硬化促進剤の配合量は、使用目的に応じて適宜選択すれば良いが、官能基を有する脂環式オレフィン重合体100重量部に対して、通常0.001〜30重量部、好ましくは0.01〜10重量部、より好ましくは0.03〜5重量部である。   These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more. The blending amount of the curing accelerator may be appropriately selected depending on the purpose of use, but is usually 0.001 to 30 parts by weight, preferably 0. 0 to 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer having a functional group. It is 01-10 weight part, More preferably, it is 0.03-5 weight part.

硬化助剤としては、一般の電気絶縁膜形成用の硬化性樹脂組成物に配合される硬化助剤を用いれば良いが、その具体例としては、キノンジオキシム、ベンゾキノンジオキシム、p−ニトロソフェノールなどのオキシム・ニトロソ系硬化助剤;N,N−m−フェニレンビスマレイミドなどのマレイミド系硬化助剤;ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートなどのアリル系硬化助剤;エチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートなどのメタクリレート系硬化助剤;ビニルトルエン、エチルビニルベンゼン、ジビニルベンゼンなどのビニル系硬化助剤などが挙げられる。これらの硬化助剤は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合割合は、用いる硬化剤100重量部に対して、通常1〜1000重量部、好ましくは10〜500重量部の範囲である。   As the curing aid, a curing aid blended in a general curable resin composition for forming an electric insulating film may be used. Specific examples thereof include quinone dioxime, benzoquinone dioxime, and p-nitrosophenol. Oxime / nitroso curing aids such as: N, Nm-phenylene bismaleimide and other maleimide curing aids; diallyl phthalate, triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate and other allyl curing aids; ethylene glycol di Examples thereof include methacrylate-based curing aids such as methacrylate and trimethylolpropane trimethacrylate; vinyl-based curing aids such as vinyltoluene, ethylvinylbenzene, and divinylbenzene. These curing aids can be used alone or in combination of two or more, and the blending ratio thereof is usually 1 to 1000 parts by weight, preferably 10 to 500 parts per 100 parts by weight of the curing agent used. The range is parts by weight.

硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、ゴム質重合体や(前述したもの以外の)その他の熱可塑性樹脂を配合することができる。ゴム質重合体は、常温(25℃)以下のガラス転移温度を持つ重合体であって、通常のゴム状重合体および熱可塑性エラストマーが含まれる。硬化性樹脂組成物にゴム質重合体や熱可塑性樹脂を配合することにより、得られる多層プリント回路基板用フィルムの柔軟性を改良することができる。用いるゴム質重合体のムーニー粘度(ML1+4,100℃)は、適宜選択すれば良いが、通常5〜200である。ゴム状重合体の具体例としては、エチレン−α−オレフィン系ゴム状重合体;エチレン−α−オレフィン−ポリエン共重合体ゴム;エチレン−メチルメタクリレート、エテレン−ブチルアクリレートなどのエチレンと不飽和カルボン酸エステルとの共重合体;エチレン−酢酸ビニルなどのエチレンと脂肪酸ビニルとの共重合体;アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリルなどのアクリル酸アルキルエステルの重合体;ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエンまたはスチレン−イソプレンのランダム共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ブタジエン−イソプレン共重合体、ブタジエン−(メタ)アクリル酸アルキルエステル共重合体、ブタジエン−(メタ)アクリル酸アルキルエステル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−(メタ)アクリル酸アルキルエステル−アクリロニトリル−スチレン共重合体などのジエン系ゴム;エポキシ化ポリブタジエンなどの変性ジエン系ゴム;ブチレン−イソプレン共重合体などが挙げられる。熱可塑性エラストマーの具体例としては、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、水素化スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、水素化スチレン−イソプレンブロック共重合体などの芳香族ビニル−共役ジエン系ブロック共重合体、低結晶性ポリブタジエン樹脂、エチレン−プロピレンエラストマー、スチレングラフトエチレン−プロピレンエラストマー、熱可塑性ポリエステルエラストマー、エチレン系アイオノマー樹脂などを挙げることができる。これらの熱可塑性エラストマーのうち、好ましくは、水素化スチレン−ブタジエンブロック共重合体、水素化スチレン−イソプレンブロック共重合体などであり、具体的には、特開平2−133406号公報、特開平2−305814号公報、特開平3−72512号公報、特開平3−74409号公報などに記載されているものを挙げることができる。 If necessary, the curable resin composition may contain a rubbery polymer and other thermoplastic resins (other than those described above). The rubbery polymer is a polymer having a glass transition temperature of room temperature (25 ° C.) or lower, and includes a normal rubbery polymer and a thermoplastic elastomer. By adding a rubbery polymer or a thermoplastic resin to the curable resin composition, the flexibility of the resulting multilayer printed circuit board film can be improved. The Mooney viscosity (ML 1 + 4 , 100 ° C.) of the rubbery polymer to be used may be appropriately selected, but is usually 5 to 200. Specific examples of rubber-like polymers include ethylene-α-olefin rubber-like polymers; ethylene-α-olefin-polyene copolymer rubbers; ethylene and unsaturated carboxylic acids such as ethylene-methyl methacrylate and etherene-butyl acrylate. Copolymers with esters; copolymers of ethylene and fatty acid vinyl such as ethylene-vinyl acetate; alkyl acrylates such as ethyl acrylate, butyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and lauryl acrylate Polybutadiene, polyisoprene, styrene-butadiene or styrene-isoprene random copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, butadiene-isoprene copolymer, butadiene- (meth) acrylic acid alkyl ester copolymer, pig Diene rubber such as diene- (meth) acrylic acid alkyl ester-acrylonitrile copolymer, butadiene- (meth) acrylic acid alkyl ester-acrylonitrile-styrene copolymer; modified diene rubber such as epoxidized polybutadiene; butylene-isoprene A copolymer etc. are mentioned. Specific examples of the thermoplastic elastomer include aromatic vinyl such as styrene-butadiene block copolymer, hydrogenated styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, hydrogenated styrene-isoprene block copolymer, etc. Examples thereof include a conjugated diene block copolymer, a low crystalline polybutadiene resin, an ethylene-propylene elastomer, a styrene-grafted ethylene-propylene elastomer, a thermoplastic polyester elastomer, and an ethylene ionomer resin. Of these thermoplastic elastomers, hydrogenated styrene-butadiene block copolymers, hydrogenated styrene-isoprene block copolymers, and the like are preferable. Specifically, JP-A-2-133406 and JP-A-2 Examples described in JP-A-3-305814, JP-A-3-72512, JP-A-3-74409, and the like.

硬化性樹脂組成物に配合しうるその他の熱可塑性樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネート、セルローストリアセテートなどが挙げられる。   Examples of other thermoplastic resins that can be blended in the curable resin composition include, for example, low density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, ultra low density polyethylene, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acetic acid. Examples include vinyl copolymer, polystyrene, polyphenylene sulfide, polyphenylene ether, polyamide, polyester, polycarbonate, and cellulose triacetate.

ゴム状重合体やその他の熱可塑性樹脂は、それぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、多層プリント回路基板用フィルムの絶縁材料としての特性を損なわせないためには、官能基を有する脂環式オレフィン重合体100重量部に対して、30重量部以下の配合量とすることが好ましい。   The rubber-like polymer and other thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more, and the blending amount is appropriately selected within a range not impairing the object of the present invention. In order not to impair the properties of the circuit board film as an insulating material, the blending amount is preferably 30 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer having a functional group.

本発明で用いられる硬化性樹脂組成物には、多層プリント回路基板用フィルムの難燃性をより向上させる目的で、例えば、ハロゲン系難燃剤やリン酸エステル系難燃剤などの一般の電気絶縁膜形成用の硬化性樹脂組成物に配合される難燃剤を配合しても良い。ただし、本発明で用いる硬化性樹脂組成物は、難燃剤を含まないものであることが好ましい。本発明の多層プリント回路基板用フィルムは、その構成に基づき充分な難燃性を発揮するので、硬化性樹脂組成物に難燃剤を配合しなくても、充分な難燃性を確保することができる。したがって、難燃剤を含まない硬化性樹脂組成物を用いることにより、ハロゲン系難燃剤によって引き起こされうる多層プリント回路基板用フィルム焼却処理時のハロゲン系有害物質発生の問題やリン酸エステル系難燃剤によって引き起こされうる多層プリント回路基板用フィルムの耐環境性悪化や硬化性樹脂組成物の層と導電性回路との密着性悪化の問題がないという利点が得られる。硬化性樹脂組成物に難燃剤を配合する場合の配合量は、脂環式オレフィン重合体100重量部に対して、30重量部以下であることが好ましく、15重量部以下であることがより好ましい。   In the curable resin composition used in the present invention, for the purpose of further improving the flame retardancy of the multilayer printed circuit board film, for example, a general electrical insulating film such as a halogen flame retardant or a phosphate ester flame retardant You may mix | blend the flame retardant mix | blended with the curable resin composition for formation. However, it is preferable that the curable resin composition used in the present invention does not contain a flame retardant. The multilayer printed circuit board film of the present invention exhibits sufficient flame retardancy based on its configuration, so that sufficient flame retardancy can be ensured without blending a flame retardant into the curable resin composition. it can. Therefore, by using a curable resin composition that does not contain a flame retardant, it may be caused by halogen-based hazardous substance generation problems during the incineration processing of multilayer printed circuit board films that may be caused by the halogen-based flame retardant, and phosphate ester-based flame retardants. There can be obtained the advantage that there is no problem of deterioration of the environmental resistance of the multilayer printed circuit board film and deterioration of the adhesion between the layer of the curable resin composition and the conductive circuit. When the flame retardant is blended in the curable resin composition, the blending amount is preferably 30 parts by weight or less, more preferably 15 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the alicyclic olefin polymer. .

本発明で用いられる硬化性樹脂組成物には、さらに必要に応じて、無機充填剤、難燃助剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、老化防止剤、紫外線吸収剤(レーザー加工性向上剤)、レベリング剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、天然油、合成油、ワックス、乳剤、磁性体、誘電特性調整剤、靭性剤などの任意成分が配合される。任意成分の配合割合は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択すれば良い。   The curable resin composition used in the present invention may further include an inorganic filler, a flame retardant aid, a heat resistance stabilizer, a weather resistance stabilizer, an anti-aging agent, an ultraviolet absorber (laser processability improver) as necessary. Optional ingredients such as leveling agents, antistatic agents, slip agents, anti-blocking agents, anti-fogging agents, lubricants, dyes, natural oils, synthetic oils, waxes, emulsions, magnetic substances, dielectric property modifiers, toughening agents, etc. The What is necessary is just to select suitably the mixture ratio of an arbitrary component in the range which does not impair the objective of this invention.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムを得るにあたり、難燃性有機高分子材料フィルムからなる中間層と、硬化性樹脂組成物により形成される第1外層および第2外層とを積層させる方法は特に限定されないが、硬化性樹脂組成物を有機溶剤と混合してワニスとして、そのワニスを難燃性有機高分子材料フィルムの両面に塗布し、それを乾燥することにより有機溶剤を揮発させて、第1外層および第2外層を得る方法が好適である。   In obtaining the multilayer printed circuit board film of the present invention, the method of laminating the intermediate layer composed of the flame retardant organic polymer material film and the first outer layer and the second outer layer formed of the curable resin composition is particularly preferable. Although not limited, the curable resin composition is mixed with an organic solvent as a varnish, the varnish is applied to both sides of the flame retardant organic polymer material film, and the organic solvent is volatilized by drying it. A method of obtaining one outer layer and a second outer layer is preferred.

硬化性樹脂組成物をワニスとする場合に用いる有機溶剤としては、後に加熱して揮発させる便宜から、沸点が好ましくは30〜250℃、より好ましくは50〜200℃のものである。かかる有機溶剤の例としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素;シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素;アニソールなどのエーテル化合物;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどを挙げることができる。   The organic solvent used when the curable resin composition is used as a varnish has a boiling point of preferably 30 to 250 ° C., more preferably 50 to 200 ° C. for convenience of later heating and volatilization. Examples of such organic solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene and trimethylbenzene; aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-hexane and n-heptane; alicyclics such as cyclopentane and cyclohexane Hydrocarbons; halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene; ether compounds such as anisole; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, and cyclohexanone.

ワニスの調製法に格別な制限はなく、例えば、硬化性樹脂組成物を構成する各成分と有機溶剤とを常法に従って混合すればよく、例えば、マグネチックスターラー、高速ホモジナイザー、ディスパージョン、遊星攪拌機、二軸攪拌機、ボールミル、三本ロールなどを使用して混合することができる。混合温度は、官能基を有する脂環式オレフィン重合体と硬化剤との反応が起こる温度以下であり、かつ、有機溶剤の沸点以下であることが好ましい。有機溶剤の使用量は、目的とする第1外層および第2外層の厚さや、第1外層および第2外層の表面平坦度に応じて適宜選択されるが、ワニスの固形分濃度が、通常5〜70重量%、好ましくは10〜65重量%、より好ましくは20〜60重量%になる範囲である。   There is no particular limitation on the preparation method of the varnish, and for example, each component constituting the curable resin composition and the organic solvent may be mixed according to a conventional method. For example, a magnetic stirrer, high-speed homogenizer, dispersion, planetary stirrer They can be mixed using a twin-screw stirrer, a ball mill, a triple roll or the like. The mixing temperature is preferably not higher than the temperature at which the reaction between the alicyclic olefin polymer having a functional group and the curing agent occurs and not higher than the boiling point of the organic solvent. The amount of the organic solvent used is appropriately selected according to the intended thickness of the first outer layer and the second outer layer and the surface flatness of the first outer layer and the second outer layer, but the solid content concentration of the varnish is usually 5 It is the range which becomes -70 weight%, Preferably it is 10-65 weight%, More preferably, it is 20-60 weight%.

難燃性有機高分子材料フィルムに、硬化性樹脂組成物のワニスを塗布する方法は、常法に従えばよく、例えば、ディップコート、バーコート、ロールコート、カーテンコート、ダイコート、スリットコート、ドクターブレード法などの方法が挙げられる。塗布される硬化性樹脂組成物のワニスは、有機溶剤が揮発されて、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層を形成するものであるから、有機溶剤が揮発された後の第1外層および第2外層の厚さが後述のようになるように塗布膜厚を設定して、硬化性樹脂組成物のワニスの塗布を行なえばよい。   The method of applying the varnish of the curable resin composition to the flame retardant organic polymer material film may be in accordance with conventional methods, for example, dip coating, bar coating, roll coating, curtain coating, die coating, slit coating, doctor Examples thereof include a blade method. Since the varnish of the curable resin composition to be applied is one in which the organic solvent is volatilized to form the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film, the first after the organic solvent is volatilized. What is necessary is just to apply | coat the varnish of a curable resin composition, setting a coating film thickness so that the thickness of 1 outer layer and 2nd outer layer may become the below-mentioned.

難燃性有機高分子材料フィルムに塗布された硬化性樹脂組成物のワニスから有機溶剤を揮発させるための乾燥の条件は、有機溶剤の種類により適宜選択される。加熱温度は、通常20〜300℃、好ましくは30〜200℃であり、加熱時間は、通常30秒間〜1時間、好ましくは1分間〜30分間である。このように硬化性樹脂組成物のワニスから有機溶剤を揮発させることにより、硬化性樹脂組成物により形成された第1外層および第2外層を形成することができる。   The drying conditions for volatilizing the organic solvent from the varnish of the curable resin composition applied to the flame retardant organic polymer material film are appropriately selected depending on the type of the organic solvent. The heating temperature is usually 20 to 300 ° C., preferably 30 to 200 ° C., and the heating time is usually 30 seconds to 1 hour, preferably 1 minute to 30 minutes. Thus, by volatilizing the organic solvent from the varnish of the curable resin composition, the first outer layer and the second outer layer formed of the curable resin composition can be formed.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムは、以上のようにして得られる中間層と、この中間層の両面側に積層される第1外層および第2外層とからなる多層プリント回路基板用フィルムであって、中間層の厚さ(t)が3〜24μmであり、第1外層の厚さ(tO1)が1〜20μmであり、第2外層の厚さ(tO2)が6〜20μmであり、第1外層および第2外層の厚さの和と中間層の厚さとの比((tO1+tO2)/t)が0.5〜3であるものである。多層プリント回路基板用フィルムのそれぞれの層の厚さがこのような関係を有することにより、多層プリント回路基板用フィルムが優れた難燃性を示し、しかも、電気特性や配線の埋め込み性にも優れるものとなる。 The multilayer printed circuit board film of the present invention is a multilayer printed circuit board film comprising the intermediate layer obtained as described above, and a first outer layer and a second outer layer laminated on both sides of the intermediate layer. The thickness (t M ) of the intermediate layer is 3 to 24 μm, the thickness (t O1 ) of the first outer layer is 1 to 20 μm, and the thickness (t O2 ) of the second outer layer is 6 to 20 μm. The ratio of the sum of the thicknesses of the first outer layer and the second outer layer to the thickness of the intermediate layer ((t O1 + t O2 ) / t M ) is 0.5 to 3. Since the thickness of each layer of the multilayer printed circuit board film has such a relationship, the multilayer printed circuit board film exhibits excellent flame retardancy, and also has excellent electrical characteristics and wiring embedding properties. It will be a thing.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムにおける難燃性有機高分子材料フィルムからなる中間層の厚さ(t)は、3〜24μmであり、好ましくは5〜20μmであり、より好ましくは7〜15μmである。中間層が薄すぎると、多層プリント回路基板用フィルム全体としての難燃性が不十分となるおそれがあり、厚すぎると多層プリント回路基板用フィルムが吸水し易いものとなり、また、電気特性に劣るものとなるおそれがある。 The thickness (t M ) of the intermediate layer composed of the flame-retardant organic polymer material film in the multilayer printed circuit board film of the present invention is 3 to 24 μm, preferably 5 to 20 μm, more preferably 7 to 15 μm. If the intermediate layer is too thin, the flame retardancy of the multilayer printed circuit board film as a whole may be insufficient. If it is too thick, the multilayer printed circuit board film will easily absorb water, and the electrical properties will be poor. There is a risk of becoming something.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムにおける硬化性樹脂組成物からなる第1外層の厚さ(tO1)は、1〜20μmであり、好ましくは5〜20μmであり、より好ましくは7〜15μmである。第1外層が存在しない場合や薄すぎる場合は、多層プリント回路基板を得るにあたり難燃性有機高分子材料フィルムからなる中間層上に直接導電性回路を形成することとなり、多層プリント回路基板用フィルムと導電性回路との密着性が不十分となるおそれがある。また、第1外層が厚すぎると、多層プリント回路基板用フィルムの難燃性が不十分となるおそれがある。 The thickness (t O1 ) of the first outer layer made of the curable resin composition in the multilayer printed circuit board film of the present invention is 1 to 20 μm, preferably 5 to 20 μm, more preferably 7 to 15 μm. is there. When the first outer layer is not present or is too thin, a conductive circuit is directly formed on the intermediate layer made of a flame-retardant organic polymer material film to obtain a multilayer printed circuit board. There is a risk that the adhesion between and the conductive circuit will be insufficient. Moreover, when the first outer layer is too thick, the flame retardancy of the multilayer printed circuit board film may be insufficient.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムにおける硬化性樹脂組成物からなる第2外層の厚さ(tO2)は、6〜20μmであり、好ましくは7〜18μmであり、より好ましくは8〜15μmである。第2外層が存在しない場合や、第2外層が薄すぎる場合は、導体回路に多層プリント回路基板用フィルムを積層させる場合に、フィルム(第2外層)による配線埋め込み性に劣るおそれがある。また、第2外層が厚すぎると、多層プリント回路基板用フィルムの難燃性が不十分となるおそれがある。 The thickness (t O2 ) of the second outer layer made of the curable resin composition in the multilayer printed circuit board film of the present invention is 6 to 20 μm, preferably 7 to 18 μm, more preferably 8 to 15 μm. is there. When the second outer layer is not present or when the second outer layer is too thin, the wiring embedding by the film (second outer layer) may be inferior when the multilayer printed circuit board film is laminated on the conductor circuit. Moreover, if the second outer layer is too thick, the flame retardancy of the multilayer printed circuit board film may be insufficient.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムにおいて、第1外層の厚さ(tO1)と第2外層の厚さ(tO2)との関係は、それぞれの層の厚さが前述の範囲であれば特に限定されないが、難燃性有機高分子材料フィルムへのワニスの塗布方法としてディップコートなどのフィルムの両面に同時に塗布する方法を採用する場合においては、多層プリント回路基板用フィルムの生産性を良好にするために、第1外層の厚さと第2外層の厚さとが、実質的に等しいことが好ましい。この場合、第1外層の厚さ(tO1)および第2外層の厚さ(tO2)は、6〜20μmであり、好ましくは7〜15μmであり、より好ましくは8〜12μmである。 In the multilayer printed circuit board film of the present invention, the relationship between the thickness of the first outer layer (t O1 ) and the thickness of the second outer layer (t O2 ) is as long as the thickness of each layer is in the above-mentioned range. Although not particularly limited, when a method of applying varnish to a flame retardant organic polymer material film at the same time on both sides of the film such as dip coating is adopted, the productivity of the multilayer printed circuit board film is good Therefore, it is preferable that the thickness of the first outer layer and the thickness of the second outer layer are substantially equal. In this case, the thickness (t O1 ) of the first outer layer and the thickness (t O2 ) of the second outer layer are 6 to 20 μm, preferably 7 to 15 μm, and more preferably 8 to 12 μm.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムにおける、第1外層および第2外層の厚さの和と中間層の厚さとの比((tO1+tO2)/t)は、0.5〜3であり、好ましくは0.8〜2.9であり、より好ましくは1.0〜2.8である。この比((tO1+tO2)/t)が、小さすぎると、得られる多層プリント回路基板用フィルムの電気特性が不十分となるおそれがあり、大きすぎると、多層プリント回路基板用フィルムの難燃性が不十分となるおそれがある。 In the multilayer printed circuit board film of the present invention, the ratio ((t O1 + t O2 ) / t M ) between the sum of the thicknesses of the first outer layer and the second outer layer and the thickness of the intermediate layer is 0.5-3. Yes, preferably 0.8 to 2.9, more preferably 1.0 to 2.8. If this ratio ((t O1 + t O2 ) / t M ) is too small, the electrical properties of the resulting multilayer printed circuit board film may be insufficient. If it is too large, the multilayer printed circuit board film Flame retardancy may be insufficient.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムの厚さ(tO1+t+tO2)は、特に限定されないが、通常10〜64μmであり、好ましくは12〜50μmであり、より好ましくは15〜35μmである。多層プリント回路基板用フィルムが全体として薄すぎると、多層プリント回路基板用フィルムにより形成される電気絶縁膜の絶縁性が不足するおそれがあり、厚すぎると得られる多層プリント回路基板が厚くなりすぎて電子機器等への収容が困難とおそれがある。 The thickness (t O1 + t M + t O2 ) of the multilayer printed circuit board film of the present invention is not particularly limited, but is usually 10 to 64 μm, preferably 12 to 50 μm, more preferably 15 to 35 μm. . If the multilayer printed circuit board film is too thin as a whole, the insulating property of the electrical insulating film formed by the multilayer printed circuit board film may be insufficient, and if it is too thick, the resulting multilayer printed circuit board will be too thick. There is a risk that it may be difficult to accommodate in electronic equipment.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムは、このフィルムを用いて多層プリント回路基板を製造する際に、その取り扱いを容易にするために、支持体上に本発明の多層プリント回路基板用フィルムを設けた構成としても良い。支持体は、特に限定されないが、樹脂フィルムや金属箔が好適に用いられる。支持体として用いられうる樹脂フィルムは、通常、熱可塑性樹脂フィルムであり、具体的には、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム、およびナイロンフィルム;などが挙げられる。これら樹脂フィルムのうち、耐熱性や耐薬品性、積層後の剥離性などの観点からポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムが好ましい。支持体として用いられうる金属箔としては、例えば、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、クロム箔、金箔、および銀箔;などが挙げられる。導電性が良好である点から、銅箔、特に電解銅箔や圧延銅箔が好適である。支持体の厚さは特に制限されないが、作業性等の観点から、通常1μm〜200μm、好ましくは2μm〜150μm、より好ましくは3〜100μmである。なお、支持体は、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層側に設けても良いし、第2外層側に設けても良いが、第1外層側に設けることが好ましい。   The multilayer printed circuit board film of the present invention is provided with the multilayer printed circuit board film of the present invention on a support in order to facilitate the handling of the multilayer printed circuit board using the film. It is good also as a composition. Although a support body is not specifically limited, A resin film and metal foil are used suitably. The resin film that can be used as the support is usually a thermoplastic resin film, specifically, a polyethylene terephthalate film, a polypropylene film, a polyethylene film, a polycarbonate film, a polyethylene naphthalate film, a polyarylate film, and a nylon film; Etc. Among these resin films, a polyethylene terephthalate film and a polyethylene naphthalate film are preferable from the viewpoints of heat resistance, chemical resistance, peelability after lamination, and the like. Examples of the metal foil that can be used as the support include copper foil, aluminum foil, nickel foil, chrome foil, gold foil, and silver foil. From the viewpoint of good conductivity, a copper foil, particularly an electrolytic copper foil or a rolled copper foil is preferred. The thickness of the support is not particularly limited, but is usually 1 μm to 200 μm, preferably 2 μm to 150 μm, more preferably 3 to 100 μm from the viewpoint of workability and the like. The support may be provided on the first outer layer side or the second outer layer side of the multilayer printed circuit board film, but is preferably provided on the first outer layer side.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムは、多層プリント回路基板の電気絶縁膜を形成するために用いられるものである。本発明の多層プリント回路基板用フィルムを用いて多層プリント回路基板を構成する方法は、特に限定されず、例えば、従来の多層プリント回路基板用フィルムを用いる場合と同様の方法により、導電性回路を表面に有する基板と多層プリント回路基板用フィルムとを積層した後、多層プリント回路基板用フィルムの硬化性樹脂組成物により形成された層(第1外層および第2外層)を硬化し、さらに多層プリント回路基板用フィルムの表面に導電性回路を形成すれば良い。   The film for multilayer printed circuit boards of the present invention is used for forming an electrical insulating film of a multilayer printed circuit board. The method of constructing a multilayer printed circuit board using the multilayer printed circuit board film of the present invention is not particularly limited. For example, the conductive circuit is formed by the same method as in the case of using a conventional multilayer printed circuit board film. After laminating the substrate on the surface and the multilayer printed circuit board film, the layers (first outer layer and second outer layer) formed of the curable resin composition of the multilayer printed circuit board film are cured, and further multilayer printing is performed. A conductive circuit may be formed on the surface of the circuit board film.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムを用いて得られる多層プリント回路基板のうち、特に好ましいものである、本発明の多層プリント回路基板は、厚さが5〜10μmである導電性回路を表面に有する基板に、本発明の多層プリント回路基板用フィルムを、基板の導電性回路を有する表面と多層プリント回路基板用フィルムの第2外層とが接するように積層してなり、さらに、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層を硬化し、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層上に導電性回路を形成して得られる構造を有してなるものである。   Among the multilayer printed circuit boards obtained by using the multilayer printed circuit board film of the present invention, the multilayer printed circuit board of the present invention, which is particularly preferable, has a conductive circuit having a thickness of 5 to 10 μm on the surface. The multilayer printed circuit board film of the present invention is laminated on a substrate having the multilayer printed circuit board so that the surface having the conductive circuit of the substrate and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film are in contact with each other. The first outer layer and the second outer layer of the film for use are cured, and a conductive circuit is formed on the first outer layer of the film for a multilayer printed circuit board.

また、本発明の多層プリント回路基板用フィルムを用いて多層プリント回路基板を製造する方法として、特に好ましいものである、本発明の多層プリント回路基板の製造方法は、厚さが5〜10μmである導電性回路を表面に有する基板に、本発明の多層プリント回路基板用フィルムを、基板の導電性回路を有する表面と多層プリント回路基板用フィルムの第2外層が接するように積層する工程と、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層を硬化する工程と、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層上に導電性回路を形成する工程とを含むものである。   Further, the method for producing a multilayer printed circuit board of the present invention, which is particularly preferable as a method for producing a multilayer printed circuit board using the multilayer printed circuit board film of the present invention, has a thickness of 5 to 10 μm. Laminating a multilayer printed circuit board film of the present invention on a substrate having a conductive circuit on its surface so that the surface having the conductive circuit of the substrate is in contact with the second outer layer of the multilayer printed circuit board film; The method includes a step of curing the first outer layer and the second outer layer of the printed circuit board film, and a step of forming a conductive circuit on the first outer layer of the multilayer printed circuit board film.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムと積層して、多層プリント回路基板を構成するために用いられる基板は、特に限定されず、例えば市販の銅張り基板に所望の回路を形成して得た基板などを用いることができるし、後述するように導電性回路を形成した多層プリント回路基板用フィルム自体を基板として用いることもできる。ただし、本発明の多層プリント回路基板用フィルムは、厚さが5〜10μmである導電性回路を表面に有する基板と積層する場合に、基板の導電性回路をフィルムの硬化性樹脂組成物の層(第2外層)で特に良好に埋め込むことができるので、そのような基板と組み合わせて用いることが好ましい。   The substrate used for forming the multilayer printed circuit board by laminating with the multilayer printed circuit board film of the present invention is not particularly limited. For example, a substrate obtained by forming a desired circuit on a commercially available copper-clad substrate As described later, a multilayer printed circuit board film itself having a conductive circuit formed thereon can be used as a substrate. However, when the multilayer printed circuit board film of the present invention is laminated with a substrate having a conductive circuit having a thickness of 5 to 10 μm on the surface, the conductive circuit of the substrate is a layer of the curable resin composition of the film. Since it can be embedded particularly well in the (second outer layer), it is preferably used in combination with such a substrate.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムと導電性回路を表面に有する基板とを積層する方法は、特に限定されないが、基板の導電性回路を有する表面と多層プリント回路基板用フィルムの第2外層とが接するように重ね合わせ、加圧ラミネータ、プレス、真空ラミネータ、真空プレス、ロールラミネータなどの加圧機を使用して加熱圧着(ラミネーション)することにより、基板の導電性回路とフィルムの第2外層との界面に空隙が実質的に存在しないように結合させる方法が挙げられる。加熱圧着は、配線の埋め込み性を向上させ、気泡の発生を抑えるために真空下で行うのが好ましい。加熱圧着操作の温度は、通常30〜250℃、好ましくは70〜200℃であり、加える圧力は、通常10kPa〜20MPa、好ましくは100kPa〜10MPaであり、時間は、通常30秒〜5時間、好ましくは1分〜3時間である。また、雰囲気の気圧を、通常100kPa〜1Pa、好ましくは40kPa〜10Paに減圧下で行う。   The method for laminating the multilayer printed circuit board film of the present invention and the substrate having the conductive circuit on the surface is not particularly limited, but the surface of the substrate having the conductive circuit and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film Are laminated so that they are in contact with each other, and are heated and pressure-bonded (lamination) using a pressure machine such as a pressure laminator, press, vacuum laminator, vacuum press, roll laminator, etc., so that the conductive circuit of the substrate and the second outer layer of the film And a method of bonding so that there is substantially no void at the interface. The thermocompression bonding is preferably performed under vacuum in order to improve the embedding property of the wiring and suppress the generation of bubbles. The temperature of the thermocompression bonding operation is usually 30 to 250 ° C., preferably 70 to 200 ° C., the applied pressure is usually 10 kPa to 20 MPa, preferably 100 kPa to 10 MPa, and the time is usually 30 seconds to 5 hours, preferably Is 1 minute to 3 hours. The atmospheric pressure is usually 100 kPa to 1 Pa, preferably 40 kPa to 10 Pa under reduced pressure.

また、多層プリント回路基板用フィルムと導電性回路を表面に有する基板とを積層するにあたり、これらの密着性を改良するために、予め基板の導電性回路に対して表面粗化のための前処理を施すことが好ましい。前処理の方法としては、公知の技術が特に限定されず使用できる。例えば、基板の導電性回路が銅からなるものであれば、強アルカリ酸化性溶液を導電性回路表面に接触させて、その表面に房状の酸化銅の層を形成して粗化する酸化処理方法、導電性回路表面を先の方法で酸化した後に水素化ホウ素ナトリウム、ホルマリンなどで還元する方法、導電性回路にめっきを析出させて粗化する方法、導電性回路に有機酸を接触させて銅の粒界を溶出して粗化する方法、導電性回路にチオール化合物やシラン化合物などによりプライマー層を形成する方法などが挙げられる。これらのなかでも、微細な回路パターンの形状維持の容易性の観点から、導電性回路に有機酸を接触させて銅の粒界を溶出して粗化する方法、およびチオール化合物やシラン化合物などによりプライマー層を形成する方法が好ましい。   In addition, when laminating a film for a multilayer printed circuit board and a substrate having a conductive circuit on its surface, pretreatment for roughening the surface of the conductive circuit on the substrate in advance in order to improve the adhesion between them. It is preferable to apply. As a pretreatment method, a known technique is not particularly limited and can be used. For example, if the conductive circuit of the substrate is made of copper, an oxidation treatment in which a strong alkaline oxidizing solution is brought into contact with the surface of the conductive circuit to form a tufted copper oxide layer on the surface to roughen the surface. Method, method of oxidizing conductive circuit surface with sodium borohydride, formalin, etc. after oxidation by the previous method, method of depositing and roughening plating on conductive circuit, contacting organic circuit with conductive circuit Examples include a method in which copper grain boundaries are eluted and roughened, and a method in which a primer layer is formed on a conductive circuit with a thiol compound or a silane compound. Among these, from the viewpoint of easy maintenance of the shape of a fine circuit pattern, a method in which an organic acid is brought into contact with a conductive circuit to elute and roughen the grain boundaries of copper, and a thiol compound or a silane compound are used. A method of forming a primer layer is preferred.

多層プリント回路基板用フィルムと基板とを積層した後、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層を硬化する方法は、特に限定されないが、多層プリント回路基板用フィルムを積層された基板ごと加熱する方法が挙げられる。第1外層および第2外層を硬化させるための加熱条件は、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化剤の種類などに応じて適宜選択されるが、通常、加熱温度は、30〜400℃、好ましくは70〜300℃、より好ましくは100〜200℃であり、加熱時間は、0.1〜5時間、好ましくは0.5〜3時間である。加熱手段は特に制限されず、例えば電気オーブンを用いることができる。このように第1外層および第2外層を硬化することにより、本発明の多層プリント回路基板用フィルムは、一体として多層プリント回路基板の電気絶縁膜を形成するものとなる。   The method of curing the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film after laminating the multilayer printed circuit board film and the substrate is not particularly limited, but the substrate on which the multilayer printed circuit board film is laminated The method of heating the whole is mentioned. The heating conditions for curing the first outer layer and the second outer layer are appropriately selected depending on the type of curing agent contained in the curable resin composition, but the heating temperature is usually 30 to 400 ° C., preferably Is 70 to 300 ° C., more preferably 100 to 200 ° C., and the heating time is 0.1 to 5 hours, preferably 0.5 to 3 hours. The heating means is not particularly limited, and for example, an electric oven can be used. By curing the first outer layer and the second outer layer in this manner, the multilayer printed circuit board film of the present invention integrally forms the electrical insulating film of the multilayer printed circuit board.

多層プリント回路基板の第1外層および第2外層を硬化させた後は、その硬化させた層上(第1外層上)に導電性回路を形成するが、通常は、導電性回路を形成する前に、基板上に形成された導電性回路と電気絶縁膜(多層プリント回路基板用フィルム)上に形成される導電性回路とを電気的に接続するために用いる、積層された基板と電気絶縁膜とを貫通するビアホールを設ける。このビアホールは、フォトリソグラフィ法のような化学的処理により、またはドリル、レーザ、プラズマエッチングなどの物理的処理などにより形成することができる。これらの方法の中でもレーザによる方法(炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ、UV−YAGレーザなど)が、電気絶縁膜の特性を低下させずにより微細なビアホールが形成できるので好ましい。   After the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board are cured, a conductive circuit is formed on the cured layer (on the first outer layer). Usually, however, before the conductive circuit is formed. And a conductive substrate formed on the substrate and an electrically insulating film (film for a multilayer printed circuit board), and a laminated substrate and an electrically insulating film used for electrically connecting the conductive circuit formed on the substrate. A via hole penetrating through is provided. This via hole can be formed by chemical processing such as photolithography or physical processing such as drilling, laser, or plasma etching. Among these methods, a laser method (a carbon dioxide laser, an excimer laser, a UV-YAG laser, or the like) is preferable because a fine via hole can be formed without degrading the characteristics of the electrical insulating film.

また、電気絶縁膜(多層プリント回路基板用フィルムの第1外層)上に導電性回路を形成する前には、電気絶縁膜と形成される導電性回路との密着性を高めるために、電気絶縁膜の表面を粗化処理することが好ましい。粗化処理の方法は特に限定されないが、例えば、過マンガン酸塩などの酸化性化合物を用いて、酸化処理して粗化を行なう方法が挙げられる。   In addition, before forming the conductive circuit on the electric insulating film (the first outer layer of the multilayer printed circuit board film), in order to improve the adhesion between the electric insulating film and the formed conductive circuit, electric insulation It is preferable to roughen the surface of the film. The method of the roughening treatment is not particularly limited, and examples thereof include a method of roughening by oxidizing using an oxidizing compound such as permanganate.

多層プリント回路基板用フィルムと基板とを積層し、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層を硬化した後、さらに必要に応じて、ビアホールを設けたり、酸化処理を行ったりした後は、電気絶縁膜(多層プリント回路基板用フィルムの第1外層)上に導電性回路を形成する。この導電性回路の材料は、導電性を有する材料であれば特に限定されず、一般に導電性回路の材料として用いられる材料を用いることができる。好適な材料としては、銅、銀、金、ニッケル、アルミニウム、タングステンなどの金属材料が挙げられ、なかでも銅が特に好適に用いられる。   After laminating the multilayer printed circuit board film and the substrate and curing the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film, after providing via holes or performing oxidation treatment as necessary Forms a conductive circuit on the electrical insulating film (the first outer layer of the multilayer printed circuit board film). The material for the conductive circuit is not particularly limited as long as it is a conductive material, and a material generally used as a material for the conductive circuit can be used. Suitable materials include metal materials such as copper, silver, gold, nickel, aluminum, and tungsten, and copper is particularly preferably used.

電気絶縁膜(多層プリント回路基板用フィルムの第1外層)上に導電性回路を形成する方法は、特に限定されず、一般に用いられている方法を採用することができる。導電性回路を形成するために、電気絶縁膜上に導電性材料の層を形成する方法としては、いわゆる乾式成膜法や湿式成膜法を用いることができる。乾式成膜法の具体例としては、真空蒸着(通常の真空蒸着、フラッシュ蒸着、ガス散乱蒸着、電界蒸着、反応性蒸着など)、イオンプレーティング蒸着(DCイオンプレーティング、高周波イオンプレーティング、イオンビーム蒸着、HCD法、アーク放電型イオンプレーティングなど)、スパッタリング(DCスパッタリング、高周波スパッタリング、マグネトロンスパッタリング、イオンビームスパッタリングなど)などの物理蒸着法や、熱CVD(熱CVD、MOCVDなど)、プラズマCVD(直流プラズマCVD、高周波CVD、マイクロ波プラズマCVDなど)、光CVD(エキシマレーザー励起、水銀ランプ励起、COレーザー励起など)、プラズマ重合(直流放電励起,マイクロ波励起,高周波励起など)などの化学蒸着法が挙げられる。また、湿式成膜法の具体例としては、電解めっき法や無電解めっき法が挙げられる。これらの方法のなかでも、安価で安定的に高い密着性を有する層が得られる点から、無電解めっき法により導電性材料の層を形成することが好ましく、また、無電解めっき法により形成した導電性材料の層上に電解めっき法を適用してその導電性材料の層を成長させることも好ましい。なお、ビアホールを設けた場合には、通常、その内壁面にも、導電性材料の層を形成する。 The method for forming the conductive circuit on the electrical insulating film (the first outer layer of the multilayer printed circuit board film) is not particularly limited, and a generally used method can be employed. In order to form a conductive circuit, as a method for forming a layer of a conductive material over an electrical insulating film, a so-called dry film formation method or a wet film formation method can be used. Specific examples of the dry deposition method include vacuum deposition (normal vacuum deposition, flash deposition, gas scattering deposition, electric field deposition, reactive deposition, etc.), ion plating deposition (DC ion plating, high-frequency ion plating, ion Physical vapor deposition methods such as beam evaporation, HCD method, arc discharge ion plating), sputtering (DC sputtering, high frequency sputtering, magnetron sputtering, ion beam sputtering, etc.), thermal CVD (thermal CVD, MOCVD, etc.), plasma CVD, etc. (DC plasma CVD, high frequency CVD, microwave plasma CVD, etc.), photo CVD (excimer laser excitation, mercury lamp excitation, CO 2 laser excitation, etc.), plasma polymerization (DC discharge excitation, microwave excitation, high frequency excitation, etc.), etc. Chemical vapor deposition Law. Specific examples of the wet film forming method include an electrolytic plating method and an electroless plating method. Among these methods, it is preferable to form a layer of a conductive material by an electroless plating method from the viewpoint that a stable and highly adhesive layer can be obtained, and also formed by an electroless plating method. It is also preferred to apply an electroplating method on the layer of conductive material to grow the layer of conductive material. When a via hole is provided, a conductive material layer is usually formed also on the inner wall surface.

無電解めっき法を採用する場合は、通常、電気絶縁膜(多層プリント回路基板用フィルムの第1外層)上に、還元触媒として働く銀、パラジウム、亜鉛、コバルト、金、白金、イリジウム、ルテニウム、オスミニウムなどの触媒核を吸着させる。また、無電解めっき法に用いる無電解めっき液としては、例えば公知の自己触媒型の無電解めっき液を用いれば良く、めっき液中に含まれる金属種、還元剤種、錯化剤種、水素イオン濃度、溶存酸素濃度などは適宜選択すれば良い。無電解めっき液の例としては、次亜リン酸アンモニウムまたは次亜リン酸、水素化ホウ素アンモニウムやヒドラジン、ホルマリンなどを還元剤とする無電解銅めっき液、次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解ニッケル−リンめっき液、ジメチルアミンボランを還元剤とする無電解ニッケル−ホウ素めっき液、無電解パラジウムめっき液、次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解パラジウム−リンめっき液、無電解金めっき液、無電解銀めっき液、次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解ニッケル−コバルト−リンめっき液などが挙げられる。なお、無電解めっき法により形成した導電性材料の層には、防錆剤と接触させるなどの防錆処理を行うことが好ましい。   When the electroless plating method is adopted, usually, silver, palladium, zinc, cobalt, gold, platinum, iridium, ruthenium, which acts as a reduction catalyst on the electrical insulating film (the first outer layer of the multilayer printed circuit board film) Adsorb catalyst nuclei such as osmium. Further, as the electroless plating solution used in the electroless plating method, for example, a known autocatalytic electroless plating solution may be used. The metal species, reducing agent species, complexing agent species, hydrogen contained in the plating solution may be used. What is necessary is just to select an ion concentration, a dissolved oxygen concentration, etc. suitably. Examples of electroless plating solutions include electroless copper plating solutions containing ammonium hypophosphite or hypophosphorous acid, ammonium borohydride, hydrazine, formalin, etc. as reducing agents, and sodium hypophosphite as reducing agents. Electroless nickel-phosphorous plating solution, electroless nickel-boron plating solution using dimethylamine borane as reducing agent, electroless palladium plating solution, electroless palladium-phosphorous plating solution using sodium hypophosphite as reducing agent, electroless Examples thereof include a gold plating solution, an electroless silver plating solution, and an electroless nickel-cobalt-phosphorus plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent. In addition, it is preferable to perform the rust prevention process of making the layer of the electroconductive material formed by the electroless-plating method contact a rust preventive agent.

また、無電解めっき法により形成した導電性材料の層上に電解めっき法を適用して導電性材料の層を成長させる場合に用いる電解めっき液としては、公知の電解めっき液を用いれば良く、例えば、硫酸銅めっき液、ピロリン酸銅めっき液、電解ニッケルめっき液などを用いることができる。また、電解めっき液には、必要に応じて錯化剤、光沢剤、安定剤、緩衝剤などの添加剤を含むことができる。   Moreover, as an electroplating solution used in the case of growing a conductive material layer by applying an electroplating method on a conductive material layer formed by an electroless plating method, a known electroplating solution may be used. For example, a copper sulfate plating solution, a copper pyrophosphate plating solution, an electrolytic nickel plating solution, or the like can be used. In addition, the electrolytic plating solution may contain additives such as a complexing agent, a brightening agent, a stabilizer, and a buffering agent as necessary.

導電性材料を用いて導電性回路を形成する方法は、導電性回路を形成する範囲に一面に導電性材料の層を形成してから、回路パターンを形成するために不要な導電性材料を除去する方法(サブトラクティブ法)と、回路パターンを有するように導電性材料の層を形成する方法(アディティブ法)とに大別されるが、本発明では、いずれの方法も採用することができる。   A method for forming a conductive circuit using a conductive material is to form a layer of a conductive material over the entire surface where the conductive circuit is to be formed, and then remove the unnecessary conductive material to form a circuit pattern. The method (subtractive method) and the method of forming a layer of a conductive material so as to have a circuit pattern (additive method) can be broadly classified, and any method can be adopted in the present invention.

サブトラクティブ法を適用する場合の例としては、電気絶縁膜(多層プリント回路基板用フィルムの第1外層)の全面に前述の手法により導電性材料の層を形成し、次いで、その導電性材料の層の回路パターンとして残したい部分にエッチングレジスト液を塗布してレジスト膜を形成した後、エッチング液に浸漬することにより不要な導電性材料を除去し、その後、レジスト膜を剥離する方法が挙げられる。また、アディティブ法を適用する場合の例としては、電気絶縁膜(多層プリント回路基板用フィルムの第1外層)の回路パターンを形成するにあたり導電性材料が不要な部分にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、次いで、部分的にレジスト膜が形成された電気絶縁膜上に前述の手法により導電性材料の層を形成し、その後、レジスト膜を剥離する方法が挙げられる。   As an example of applying the subtractive method, a conductive material layer is formed on the entire surface of the electrical insulating film (first outer layer of the multilayer printed circuit board film) by the above-described method, and then the conductive material An example is a method in which an etching resist solution is applied to a portion of a layer to be left as a circuit pattern to form a resist film, and then an unnecessary conductive material is removed by immersion in the etching solution, and then the resist film is peeled off. . In addition, as an example of applying the additive method, a resist solution is applied to a portion where a conductive material is not necessary for forming a circuit pattern of an electrical insulating film (first outer layer of a multilayer printed circuit board film). There is a method in which a film is formed, and then a layer of a conductive material is formed on the electrical insulating film partially formed with a resist film by the above-described method, and then the resist film is peeled off.

電気絶縁膜(多層プリント回路基板用フィルムの第1外層)上に導電性回路を形成した後は、電気絶縁膜と導電性回路との密着性を向上させる観点から、アニール処理を行うことが好ましい。アニール処理の手法は特に限定されないが、電気絶縁膜を基板ごとオーブンに入れて加熱する手法や、プレス板や加熱ロールなどを用いて電気絶縁膜と基板とを加圧しながら加熱する手法が挙げられる。アニール処理における加熱温度および加熱時間は、特に限定されないが、加熱温度は、通常50〜350℃、好ましくは80〜250℃であり、加熱時間は、通常0.1〜10時間、好ましくは0.1〜5時間である。   After forming the conductive circuit on the electrical insulating film (first outer layer of the multilayer printed circuit board film), it is preferable to perform an annealing treatment from the viewpoint of improving the adhesion between the electrical insulating film and the conductive circuit. . The method of annealing treatment is not particularly limited, and examples thereof include a method of heating the electrical insulating film together with the substrate in an oven, and a method of heating while pressing the electrical insulating film and the substrate using a press plate or a heating roll. . The heating temperature and heating time in the annealing treatment are not particularly limited, but the heating temperature is usually 50 to 350 ° C., preferably 80 to 250 ° C., and the heating time is usually 0.1 to 10 hours, preferably 0. 1 to 5 hours.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムを用いて得られる多層プリント回路基板は、基板の片面のみに本発明の多層プリント回路基板用フィルムを積層したものであっても良いし、基板の両面に本発明の多層プリント回路基板用フィルムを積層したものであっても良い。また、基板に積層され、導電性回路が形成された多層プリント回路基板用フィルムよりなる電気絶縁膜上に、さらに、多層プリント回路基板用フィルムを積層したものであっても良い。   The multilayer printed circuit board obtained by using the multilayer printed circuit board film of the present invention may be obtained by laminating the multilayer printed circuit board film of the present invention only on one side of the board, or on both sides of the board. It may be a laminate of the multilayer printed circuit board film of the invention. Further, a multilayer printed circuit board film may be further laminated on an electric insulating film made of a multilayer printed circuit board film laminated on a substrate and having a conductive circuit formed thereon.

このようにして得られる多層プリント回路基板は、塩素原子・臭素原子を含有する重合体や難燃剤などを含まない硬化性樹脂組成物を用いた場合であっても、優れた難燃性を示し、しかも、電気特性や配線の埋め込み性にも優れる本発明の多層プリント回路基板用フィルムを用いてなるものであるので、優れた難燃性を示し、しかも、信号の伝播速度や絶縁信頼性にも優れるものである。   The multilayer printed circuit board thus obtained exhibits excellent flame retardancy even when a curable resin composition containing no chlorine or bromine atom-containing polymer or flame retardant is used. In addition, because it is made of the multilayer printed circuit board film of the present invention, which has excellent electrical characteristics and wiring embedding properties, it exhibits excellent flame retardancy, and further, in terms of signal propagation speed and insulation reliability. Is also excellent.

本発明の多層プリント回路基板用フィルムを用いて得られる多層プリント回路基板の用途は特に限定されないが、例えば、コンピューターや携帯電話などの電子機器における、CPUやメモリなどの半導体素子、その他の実装部品用基板として好適に使用できる。   The use of the multilayer printed circuit board obtained using the multilayer printed circuit board film of the present invention is not particularly limited. For example, in electronic devices such as computers and mobile phones, semiconductor elements such as CPUs and memories, and other mounting parts It can be suitably used as a substrate for use.

以下に実施例および比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。なお、各例中の部および%は、特に断りのない限り、重量基準である。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In addition, unless otherwise indicated, the part and% in each example are a basis of weight.

各種の物性については、以下の方法に従って評価した。
(1)重合体の数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)および分子量分布(Mw/Mn):トルエンまたはテトラヒドロフランを展開溶媒として、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により測定し、ポリスチレン換算値として求めた。
(2)重合体の水素化率:水素化率は、水素化前における重合体中の不飽和結合のモル数に対する水素添加された不飽和結合のモル数の比率をいい、H−NMRスペクトル測定により求めた。
(3)重合体のカルボン酸無水物基含有率:重合体中の総単量体単位数に対するカルボン酸無水物基のモル数の割合をいい、H−NMRスペクトル測定により求めた。
(4)重合体のガラス移転温度(Tg):示差走査熱量法(DSC法)により昇温速度10℃/分で測定した。
(5)フィルムを構成する各層の厚さ:硬化性樹脂組成物により形成された層を硬化する前の多層プリント回路基板用フィルムを切断して、その断面を研磨した後、その断面を光学顕微鏡で観察して測定した。
(6)難燃性:支持体付きの多層プリント回路基板用フィルムを、両面の銅をエッチングした厚さ0.6mm×縦11cm×横16cmのハロゲンフリー基板両面に積層した後、支持体だけを剥がしとり、窒素雰囲気下60℃で30分間、次いで160℃で30分間、さらに170℃で60分間加熱して、硬化性樹脂組成物により形成された層を硬化させた。これを、幅13mm、長さ100mmの短冊状に切断して難燃性評価基板を作成した。この難燃性評価基板について、UL94V垂直難燃試験方法に準じて測定を行った。評価基準は下記の通りである。
○:UL94 V−1以上
×:UL94 V−1未満
(7)導電性回路の密着性:無電解めっきにより銅の皮膜が形成された積層体を、硫酸100g/リットルの水溶液に25℃で1分間浸漬させ防錆剤を除去し、その銅の皮膜上に電解銅めっきを施し厚さ12μmの電解銅めっき膜を形成させ、その後170℃で60分間アニール処理をした。得られた試料について電気絶縁膜(硬化した硬化性樹脂組成物の層)と回路パターンを形成する前の銅の層との引き剥がし強さをJIS C6481−1996に準拠して測定し、その結果に基づいて下記の基準で判定した。
○:引き剥がし強さの平均が8N/cm以上
△:引き剥がし強さの平均が5N/cm以上8N/cm未満
×:引き剥がし強さの平均が5N/cm未満
(8)配線埋め込み性:試料を切断して、その断面を研磨した後、その断面を光学顕微鏡で観察した。評価基準は下記の通りである。
○:埋め込み不良無し
×:埋め込み不良有り
(9)吸水性:支持体付きの多層プリント回路基板用フィルムを、多層プリント回路基板用フィルムと圧延銅箔とが接するように、厚さ75μmの圧延銅箔の片面に積層した。次に、その積層物の多層プリント回路基板用フィルムから支持体を剥がし取った後、積層物を160℃で30分間加熱し、さらに170℃で60分間加熱して多層プリント回路基板用フィルムの硬化性樹脂組成物により形成された層を硬化させた。そして、この積層体を塩化第二銅/塩酸混合溶液に浸漬させることにより、積層体から圧延銅箔を完全に除去し、硬化性樹脂組成物により形成された層が硬化されたフィルムを得た。このフィルムの吸水率をJIS K 6911により測定し、その結果に基づいて下記の基準で判定した。
○:吸水率が0.5%未満
△:吸水率が0.5%以上1.0%未満
×:吸水率が1.0%以上
(10)耐環境性:環境試験をJPCA−ET08−2007に準拠して行い、その結果に基づいて下記の基準で判定した。
○:絶縁抵抗値が10Ω以上
×:絶縁抵抗値が10Ω未満
(11)電気特性: 上記(9)と同様にして得られた硬化性樹脂組成物により形成された層が硬化されたフィルムから幅2.0mm、長さ50mmの試験片を切り出し、空洞共振器摂動法誘電率測定装置を用いて10GHzにおける比誘電率及び誘電正接の測定を行い、下記の基準で判定した。
○:誘電正接が0.01未満で比誘電率が2.8未満のもの
△:誘電正接が0.01未満で比誘電率が2.8以上のもの
×:誘電正接が0.01以上のもの
Various physical properties were evaluated according to the following methods.
(1) Number average molecular weight (Mn), weight average molecular weight (Mw) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer: measured by gel permeation chromatography (GPC) using toluene or tetrahydrofuran as a developing solvent, It calculated | required as a polystyrene conversion value.
(2) Hydrogenation rate of polymer: The hydrogenation rate means the ratio of the number of moles of unsaturated bonds hydrogenated to the number of moles of unsaturated bonds in the polymer before hydrogenation, and a 1 H-NMR spectrum. Obtained by measurement.
(3) Carboxylic anhydride group content of polymer: The ratio of the number of moles of carboxylic anhydride groups to the total number of monomer units in the polymer, and was determined by 1 H-NMR spectrum measurement.
(4) Glass transition temperature (Tg) of polymer: Measured by a differential scanning calorimetry method (DSC method) at a heating rate of 10 ° C./min.
(5) Thickness of each layer constituting the film: After cutting the multilayer printed circuit board film before curing the layer formed of the curable resin composition, and polishing the cross section, the cross section is subjected to an optical microscope. Measured by observation.
(6) Flame retardancy: After laminating a multilayer printed circuit board film with a support on both sides of a halogen-free board having a thickness of 0.6 mm, a length of 11 cm, and a width of 16 cm obtained by etching copper on both sides, only the support is attached. The layer was peeled off and heated at 60 ° C. for 30 minutes, then at 160 ° C. for 30 minutes, and further at 170 ° C. for 60 minutes to cure the layer formed of the curable resin composition. This was cut into strips having a width of 13 mm and a length of 100 mm to prepare a flame-retardant evaluation substrate. About this flame-retardant evaluation board | substrate, it measured according to UL94V vertical flame-retardant test method. The evaluation criteria are as follows.
○: UL94 V-1 or more ×: Less than UL94 V-1 (7) Adhesiveness of conductive circuit: A laminate in which a copper film is formed by electroless plating is added to an aqueous solution of 100 g / liter sulfuric acid at 25 ° C. The rust preventive agent was removed by immersion for a minute, and an electrolytic copper plating film was formed on the copper film to form a 12 μm thick electrolytic copper plating film, followed by annealing at 170 ° C. for 60 minutes. For the obtained sample, the peel strength between the electrical insulating film (cured curable resin composition layer) and the copper layer before forming the circuit pattern was measured according to JIS C6481-1996, and the result Based on the following criteria.
○: Average peel strength is 8 N / cm or more
Δ: The average peel strength is 5 N / cm or more and less than 8 N / cm ×: The average peel strength is less than 5 N / cm (8) Wiring embedding property: After cutting the sample and polishing its cross section, The cross section was observed with an optical microscope. The evaluation criteria are as follows.
○: No embedding defect x: Embedding defect present (9) Water absorption: Rolled copper with a thickness of 75 μm so that the multilayer printed circuit board film with support is in contact with the multilayer printed circuit board film and the rolled copper foil Laminated on one side of the foil. Next, after peeling off the support from the multilayer printed circuit board film of the laminate, the laminate is heated at 160 ° C. for 30 minutes and further heated at 170 ° C. for 60 minutes to cure the multilayer printed circuit board film. The layer formed with the conductive resin composition was cured. And by immersing this laminated body in a cupric chloride / hydrochloric acid mixed solution, the rolled copper foil was completely removed from the laminated body, and the film in which the layer formed with the curable resin composition was cured was obtained. . The water absorption of this film was measured according to JIS K 6911, and based on the results, the following criteria were used.
○: Water absorption rate is less than 0.5% Δ: Water absorption rate is 0.5% or more and less than 1.0% ×: Water absorption rate is 1.0% or more (10) Environmental resistance: Environmental test conducted by JPCA-ET08-2007 It was performed according to the following criteria based on the results.
○: Insulation resistance value is 10 7 Ω or more ×: Insulation resistance value is less than 10 7 Ω (11) Electrical characteristics: A layer formed of the curable resin composition obtained in the same manner as in the above (9) is cured. A test piece having a width of 2.0 mm and a length of 50 mm was cut out from the obtained film, and the relative dielectric constant and dielectric loss tangent at 10 GHz were measured using a cavity resonator perturbation method dielectric constant measuring apparatus, and judged according to the following criteria.
○: Dielectric tangent is less than 0.01 and relative dielectric constant is less than 2.8 Δ: Dielectric tangent is less than 0.01 and relative dielectric constant is 2.8 or more ×: Dielectric tangent is 0.01 or more thing

〔合成例1〕
8−エチル−テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン70部、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−5,6−ジカルボン酸無水物30部、1−ヘキセン1.1部、キシレン300部およびルテニウム系重合触媒(C1063、和光純薬社製)0.009部を、窒素置換した耐圧ガラス反応器に仕込み、攪拌下に80℃で2時間の重合反応を行って開環メタセシス重合体の溶液を得た。この溶液について、ガスクロマトグラフィーを測定したところ、実質的に単量体が残留していないことが確認され、重合転化率は99.9%以上であった。次いで、窒素置換した攪拌機付きオートクレーブに、得られた開環メタセシス重合体の溶液100部を仕込み、150℃、水素圧7MPaで、5時間攪拌させて水素化反応を行って、脂環式オレフィン重合体(1)の溶液を得た。得られた脂環式オレフィン重合体(1)の重量平均分子量は、63,000、数平均分子量は28,000、分子量分布は2.3であった。また、水素添加率は99.9%であり、カルボン酸無水物基含有率は30モル%であった。脂環式オレフィン重合体(1)の溶液の固形分濃度は25%であった。
[Synthesis Example 1]
8-ethyl-tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene 70 parts, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5,6-dicarboxylic anhydride 30 parts, 1-hexene 1.1 parts, xylene 300 parts and A ruthenium-based polymerization catalyst (C1063, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (0.009 parts) was charged into a nitrogen-substituted pressure-resistant glass reactor and subjected to a polymerization reaction at 80 ° C. for 2 hours with stirring to obtain a solution of a ring-opening metathesis polymer. Got. When this solution was measured by gas chromatography, it was confirmed that substantially no monomer remained, and the polymerization conversion rate was 99.9% or more. Next, 100 parts of the obtained ring-opening metathesis polymer solution was charged into a nitrogen-substituted autoclave and stirred at 150 ° C. and a hydrogen pressure of 7 MPa for 5 hours to carry out a hydrogenation reaction. A solution of coalescence (1) was obtained. The resulting alicyclic olefin polymer (1) had a weight average molecular weight of 63,000, a number average molecular weight of 28,000, and a molecular weight distribution of 2.3. The hydrogenation rate was 99.9%, and the carboxylic acid anhydride group content was 30 mol%. The solid content concentration of the alicyclic olefin polymer (1) solution was 25%.

〔合成例2〕
7,10−メタノ−6b,7,10,10a−テトラヒドロフルオランセン70部、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン−5,6−ジカルボン酸無水物30部、1−ヘキセン1.1部、アニソール300部およびルテニウム系重合触媒(C1063、和光純薬社製)0.009部を窒素置換した耐圧ガラス反応器に仕込み、攪拌下に80℃で2時間の重合反応を行って開環メタセシス重合体の溶液を得た。この溶液について、ガスクロマトグラフィーを測定したところ、実質的に単量体が残留していないことが確認され、重合転化率は99.9%以上であった。次いで、窒素置換した攪拌機付きオートクレーブに、得られた開環メタセシス重合体の溶液100部を仕込み、150℃、水素圧7MPaで、5時間攪拌させて水素化反応を行って、脂環式オレフィン重合体(2)の溶液を得た。得られた脂環式オレフィン重合体(2)の重量平均分子量は、50,000、数平均分子量は26,000、分子量分布は1.9であった。また、水素添加率は99.9%であり、カルボン酸無水物基含有率は30モル%であった。脂環式オレフィン重合体(2)の溶液の固形分濃度は25%であった。
[Synthesis Example 2]
7,10-methano-6b, 7,10,10a-tetrahydrofluoranthene 70 parts, bicyclo [2.2.1] hept-2-ene-5,6-dicarboxylic anhydride 30 parts, 1-hexene 1 .1 part, 300 parts of anisole and 0.009 part of ruthenium-based polymerization catalyst (C1063, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were charged into a pressure-resistant glass reactor substituted with nitrogen, and the polymerization reaction was carried out at 80 ° C. for 2 hours with stirring. A solution of ring-opening metathesis polymer was obtained. When this solution was measured by gas chromatography, it was confirmed that substantially no monomer remained, and the polymerization conversion rate was 99.9% or more. Next, 100 parts of the obtained ring-opening metathesis polymer solution was charged into a nitrogen-substituted autoclave and stirred at 150 ° C. and a hydrogen pressure of 7 MPa for 5 hours to carry out a hydrogenation reaction. A solution of coalescence (2) was obtained. The resulting alicyclic olefin polymer (2) had a weight average molecular weight of 50,000, a number average molecular weight of 26,000, and a molecular weight distribution of 1.9. The hydrogenation rate was 99.9%, and the carboxylic acid anhydride group content was 30 mol%. The solid content concentration of the alicyclic olefin polymer (2) solution was 25%.

〔実施例1〕
合成例1で得た脂環式オレフィン重合体(1)の溶液400部(脂環式オレフィン重合体(1)の量として100部)、硬化剤として水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテル(商品名YX8000、ジャパンエポキシレジン社製)36部、紫外線吸収剤として2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール1部、老化防止剤として1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリオン1部、硬化促進剤として1−べンジル−2−フェニルイミダゾール0.5部、および柔軟性改良のための成分として液状ポリブタジエン(商品名Ricon152、サートマージャパン社製)10部を、固形分濃度が28%になるように、遊星攪拌機を用いてキシレンと混合させて硬化性樹脂組成物のワニスを得た。縦300mm×横300mmの大きさで厚さが100μm、表面平均粗さRaが0.08μmのポリエチレンナフタレートフィルム(支持体)上に、縦250mm×横250mmの大きさで厚さが8μmのポリイミドフィルム(商品名ユーピレックス:宇部興産社製,UL94規格に準拠する試験でVTM−0)を設置し、次いで上記で得られたワニスを、YD型のドクターブレード(隙間寸法130μm)を用いてポリイミドフィルムに塗工した。次いで、ワニスが塗工されたポリイミドフィルムを、窒素雰囲気下、80℃で5分間乾燥することにより、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層となる硬化性樹脂組成物の層を形成させた。得られたポリイミドフィルムと硬化性樹脂組成物層との積層体から支持体を剥がし、ポリイミドフィルムの先の塗工面とは逆側に同様の手法でワニスを塗工し、乾燥させることにより、多層プリント回路基板用フィルムの第2外層となる硬化性樹脂組成物の層を形成させて、支持体付きの実施例1の多層プリント回路基板用フィルムを得た。この多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層の厚さは、それぞれ10μmであった。また、この多層プリント回路基板用フィルムを用いて、難燃性、吸水性および電気特性の評価を行なった。その結果を表1に示す。
[Example 1]
400 parts of the solution of the alicyclic olefin polymer (1) obtained in Synthesis Example 1 (100 parts as the amount of the alicyclic olefin polymer (1)), hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether (trade name YX8000) as the curing agent 36 parts, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., 1 part of 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol as an ultraviolet absorber, an anti-aging agent 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6-trione, 1-benzyl as a curing accelerator As a component for improving flexibility, 0.5 part of 2-phenylimidazole and 10 parts of liquid polybutadiene (trade name Ricon 152, manufactured by Sartomer Japan) were fixed. So that the partial concentration of 28% to obtain a varnish of a curable resin composition by mixing xylene using a planetary stirrer. Polyimide having a size of 250 mm x 250 mm and a thickness of 8 µm on a polyethylene naphthalate film (support) having a size of 300 mm x 300 mm and a thickness of 100 µm and an average surface roughness Ra of 0.08 µm A film (trade name Upilex: manufactured by Ube Industries, Ltd., VTM-0 in a test conforming to UL94 standard) was installed, and then the varnish obtained above was polyimide film using a YD type doctor blade (gap size 130 μm) Coated. Next, the polyimide film coated with the varnish was dried at 80 ° C. for 5 minutes in a nitrogen atmosphere, thereby forming a layer of a curable resin composition serving as the first outer layer of the multilayer printed circuit board film. By removing the support from the laminate of the obtained polyimide film and the curable resin composition layer, applying a varnish by the same method on the opposite side to the previous coating surface of the polyimide film, and drying, a multilayer A layer of a curable resin composition to be the second outer layer of the printed circuit board film was formed to obtain a multilayer printed circuit board film of Example 1 with a support. The thicknesses of the first outer layer and the second outer layer of this multilayer printed circuit board film were each 10 μm. Moreover, flame retardance, water absorption, and electrical characteristics were evaluated using this multilayer printed circuit board film. The results are shown in Table 1.

Figure 2010082858
Figure 2010082858

一方、ガラスフィラーおよびハロゲン不含エポキシ樹脂を含有するワニスをガラス繊維に含浸させて得られたコア材の表面に、厚さが18μmの銅が貼られた、厚さ0.8mm、縦150mm×横150mmの両面銅張り基板の表面に、有機酸を用いてマイクロエッチング処理を行い、配線幅および配線間距離が10μmで、厚さが10μmである導電性回路を形成し、表面に導電性回路を有する基板を得た。   On the other hand, on the surface of the core material obtained by impregnating glass fiber with a varnish containing a glass filler and a halogen-free epoxy resin, copper having a thickness of 18 μm was stuck, thickness 0.8 mm, length 150 mm × The surface of a double-sided copper-clad substrate with a width of 150 mm is microetched using an organic acid to form a conductive circuit with a wiring width and distance between wirings of 10 μm and a thickness of 10 μm. A substrate having

実施例1の多層プリント回路基板用フィルム2枚を支持体ごと縦150mm×横150mmの大きさに切断し、これらのフィルムを、フィルムの第2外層と基板とが直接接するように、基板の両面に重ね合わせた。これを、耐熱ゴム製プレス板を上下に備えた真空ラミネータを用いて、200Paに減圧して、温度120℃、圧力1.0MPaで120秒間加熱圧着した(一次プレス)。さらに、金属製プレス板で覆われた耐熱ゴム製プレス板を上下に備えた真空ラミネータを用いて、200Paに減圧して、温度120℃、1.0MPaで300秒間、加熱圧着した(二次プレス)。次いで支持体を剥がすことにより、多層プリント回路基板用フィルムと基板との積層体を得た。   The two multilayer printed circuit board films of Example 1 were cut together with the support into a size of 150 mm length × 150 mm width, and these films were placed on both sides of the substrate so that the second outer layer of the film and the substrate were in direct contact with each other. Superimposed. This was depressurized to 200 Pa using a vacuum laminator provided with heat-resistant rubber press plates at the top and bottom, and heat-pressed for 120 seconds at a temperature of 120 ° C. and a pressure of 1.0 MPa (primary press). Furthermore, using a vacuum laminator provided with heat-resistant rubber press plates covered with metal press plates at the top and bottom, the pressure was reduced to 200 Pa and thermocompression bonded at a temperature of 120 ° C. and 1.0 MPa for 300 seconds (secondary press ). Subsequently, the support was peeled off to obtain a laminate of the multilayer printed circuit board film and the substrate.

この積層体を、1−(2−アミノエチル)−2−メチルイミダゾールの1.0%水溶液に30℃にて10分間浸漬し、次いで25℃の水に1分間浸漬した後、エアーナイフにて余分な溶液を除去した。これを窒素雰囲気下、160℃で30分間放置し、多層プリント回路基板用フィルムの硬化性樹脂組成物の層を硬化させた。この積層体を、過マンガン酸濃度60g/リットル、水酸化ナトリウム濃度28g/リットルになるように調整した70℃の水溶液に10分間揺動浸漬した。次いで、この積層体を水槽に1分間揺動浸漬し、更に別の水槽に1分間揺動浸漬することにより水洗した。続いて硫酸ヒドロキシルアミン濃度170g/リットル、硫酸80g/リットルになるように調整した25℃の水溶液に、積層体を5分間浸漬し、中和還元処理をした後、水洗した。   This laminate was immersed in a 1.0% aqueous solution of 1- (2-aminoethyl) -2-methylimidazole at 30 ° C. for 10 minutes, then immersed in water at 25 ° C. for 1 minute, and then with an air knife. Excess solution was removed. This was left to stand at 160 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere to cure the layer of the curable resin composition of the multilayer printed circuit board film. This laminate was rock-immersed for 10 minutes in an aqueous solution at 70 ° C. adjusted to have a permanganic acid concentration of 60 g / liter and a sodium hydroxide concentration of 28 g / liter. Next, this laminate was rock-immersed in a water tank for 1 minute, and further washed in water by immersion in another water tank for 1 minute. Subsequently, the laminate was immersed in an aqueous solution at 25 ° C. adjusted to have a hydroxylamine sulfate concentration of 170 g / liter and sulfuric acid of 80 g / liter for 5 minutes, neutralized and reduced, and then washed with water.

次いで、めっき前処理として、水洗後の積層体をアルカップアクチベータMAT−1−A(上村工業社製)が200ml/リットル、アルカップアクチベータMAT−1−B(上村工業社製)が30ml/リットル、水酸化ナトリウムが0.35g/リットルになるように調整した60℃のPd塩含有めっき触媒水溶液に5分間浸漬した。次いで、この積層体を水槽に1分間揺動浸漬し、更に別の水槽に1分間揺動浸漬することにより水洗した後、アルカップレデユーサーMAB−4−A(上村工業社製)が20ml/リットル、アルカップレデユーサーMAB−4−B(上村工業社製)が200ml/リットルになるように調整した溶液に35℃で、3分間浸漬し、めっき触媒を還元処理した。このようにしてめっき触媒を吸着させ、めっき前処理を施した積層体を得た。   Next, as a pretreatment for plating, the laminate after washing with water is 200 ml / liter of Alcup Activator MAT-1-A (manufactured by Uemura Kogyo) and 30 ml / liter of Alcup Activator MAT-1-B (manufactured by Uemura Kogyo). Then, it was immersed in a 60 ° C. Pd salt-containing plating catalyst aqueous solution adjusted so that sodium hydroxide was 0.35 g / liter for 5 minutes. Next, the laminate was immersed in a water tank for 1 minute and further immersed in another water tank for 1 minute to be washed with water, and then Alcup Reuters MAB-4-A (manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) was 20 ml / The plating catalyst was reduced by immersing it in a solution adjusted to 200 ml / liter of liter, Alcap Reducer MAB-4-B (manufactured by Uemura Kogyo Co., Ltd.) at 35 ° C. for 3 minutes. In this way, a plating catalyst was adsorbed to obtain a laminate subjected to pretreatment for plating.

次いで、めっき前処理を施した積層体を、スルカップPSY−1A(上村工業社製)100ml/リットル、スルカップPSY−1B(上村工業社製)40ml/リットル、ホルマリン0.2モル/リットルとなるように調整した水溶液に空気を吹き込みながら、温度36℃で、5分間浸漬して無電解銅めっき処理を行った。この積層体を、更に水槽に1分間揺動浸漬し、更に別の水槽に1分間揺動浸漬することにより水洗した後、乾燥し、防錆処理を施し、無電解めっきにより銅の皮膜が形成された積層体を得た。この積層体は、導電性回路との密着性を評価するための試験に用いた。その結果を表1に示す。   Then, the laminate subjected to the plating pretreatment is 100 ml / liter of Sulcup PSY-1A (manufactured by Uemura Kogyo), 40 ml / liter of Sulcup PSY-1B (manufactured by Uemura Kogyo), and 0.2 mol / liter of formalin. Electroless copper plating treatment was performed by dipping for 5 minutes at a temperature of 36 ° C. while air was blown into the aqueous solution prepared. The laminate is further immersed in a water tank for 1 minute and further immersed in another water tank for 1 minute, washed with water, dried, subjected to rust prevention treatment, and a copper film is formed by electroless plating. A laminated body was obtained. This laminated body was used for the test for evaluating adhesiveness with a conductive circuit. The results are shown in Table 1.

また、以上のようにして得られた積層体の表面(多層プリント回路基板用フィルムの第1外層)に、市販の感光性レジストをスピンコートさせ、このレジストを熱硬化させた。次いで、このレジスト層上に所定のパターンのマスクを密着させ露光した後、現像してレジストパターンを得た。そして、そのレジストパターンが形成されていない銅の皮膜上に電解銅めっきを施し厚さ12μmの電解銅メッキ膜を形成させ、次いで、レジストパターンを剥離液にて剥離除去し、さらに、レジスト層の下に存在していた無電解銅めっきに形成された銅の皮膜を塩化第二銅と塩酸混合溶液により除去して、導電性回路のパターンを形成した。最後に、この積層体を170℃で30分間アニール処理することにより、実施例1の多層プリント回路基板を得た。得られた多層プリント回路基板について、配線埋め込み性および耐環境性の評価を行った。結果を表1に示す。   Further, a commercially available photosensitive resist was spin-coated on the surface of the laminate obtained as described above (the first outer layer of the multilayer printed circuit board film), and the resist was thermally cured. Next, a mask having a predetermined pattern was brought into close contact with the resist layer and exposed, and then developed to obtain a resist pattern. Then, electrolytic copper plating is performed on the copper film on which the resist pattern is not formed to form an electrolytic copper plating film having a thickness of 12 μm, and then the resist pattern is stripped and removed with a stripping solution. The copper film formed on the electroless copper plating existing underneath was removed with a cupric chloride / hydrochloric acid mixed solution to form a conductive circuit pattern. Finally, the multilayer body was annealed at 170 ° C. for 30 minutes to obtain the multilayer printed circuit board of Example 1. The obtained multilayer printed circuit board was evaluated for wiring embedding property and environmental resistance. The results are shown in Table 1.

〔実施例2〕
合成例1で得た脂環式オレフィン重合体(1)の溶液400部に代えて合成例2で得た脂環式オレフィン重合体(2)の溶液400部(脂環式オレフィン重合体(2)の量として100部)を用いたこと、用いた水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテルの量を44部に変更したこと、および液状ポリブタジエン10部に代えてエポキシ化液状ポリブタジエン(商品名Ricon654、サートマージャパン社製)10部を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例2の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
[Example 2]
Instead of 400 parts of the alicyclic olefin polymer (1) obtained in Synthesis Example 1, 400 parts of the alicyclic olefin polymer (2) obtained in Synthesis Example 2 (alicyclic olefin polymer (2 ) Was used, and the amount of hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether used was changed to 44 parts, and epoxidized liquid polybutadiene (trade name Ricon 654, Sartomer in place of 10 parts of liquid polybutadiene) A film for a multilayer printed circuit board and a multilayer printed circuit board of Example 2 were obtained in the same manner as in Example 1 except that 10 parts (made by Japan) were used. These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔実施例3〕
ポリイミドフィルムの代わりに厚さ9μmのアラミドフィルム(東レ社製,UL94規格に準拠する試験でVTM−0)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例3の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
Example 3
A multilayer printed circuit board of Example 3 in the same manner as in Example 1 except that a 9 μm thick aramid film (manufactured by Toray Industries, Inc., VTM-0 in a test conforming to UL94 standard) was used instead of the polyimide film. Films and multilayer printed circuit boards were obtained. These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔実施例4〕
ポリイミドフィルムの代わりに厚さ12μmの液晶ポリマーフィルム(商品名バイアック、ジャパンゴアテックス社製、UL94規格に準拠する試験でVTM−0)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例4の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
Example 4
Implemented in the same manner as in Example 1 except that a liquid crystal polymer film having a thickness of 12 μm (trade name Biac, manufactured by Japan Gore-Tex Co., Ltd., VTM-0 in a test based on UL94 standard) was used instead of the polyimide film. The film for multilayer printed circuit boards of Example 4 and the multilayer printed circuit board were obtained. These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔実施例5〕
用いるポリイミドフィルムの厚さを13μmに変更したこと、および多層プリント回路基板用フィルムの第1外層の塗工をバーコーター(番線:No.22)で行ったこと以外は、実施例1と同様にして、実施例5の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
Example 5
The same as in Example 1 except that the thickness of the polyimide film used was changed to 13 μm and the coating of the first outer layer of the multilayer printed circuit board film was performed with a bar coater (number: No. 22). Thus, a multilayer printed circuit board film and a multilayer printed circuit board of Example 5 were obtained. These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔実施例6〕
多層プリント回路基板用フィルムの第1外層の塗工をバーコーター(番線:No.22)で行ったこと、および多層プリント回路基板用フィルムの第2外層の塗工をYD型のドクターブレード(隙間寸法180μm)で行なったこと以外は、実施例1と同様にして、実施例6の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
Example 6
The coating of the first outer layer of the multilayer printed circuit board film was performed with a bar coater (number: No. 22), and the coating of the second outer layer of the multilayer printed circuit board film was performed with a YD type doctor blade (gap A film for a multilayer printed circuit board and a multilayer printed circuit board of Example 6 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the measurement was performed with a dimension of 180 μm. These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔実施例7〕
ワニスに、リン酸エステル系難燃剤(PX200、大八工業社製)10部をさらに添加したこと以外は、実施例1と同様にして、実施例7の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
Example 7
Film for multilayer printed circuit board and multilayer printed circuit of Example 7 in the same manner as in Example 1 except that 10 parts of phosphate ester flame retardant (PX200, manufactured by Daihachi Kogyo Co., Ltd.) was further added to the varnish. A substrate was obtained. These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔比較例1〕
用いるポリイミドフィルムの厚さを25μmに変更したこと、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層の塗工をYD型のドクターブレード(隙間寸法200μm)で行なったこと、および多層プリント回路基板用フィルムの第2外層の塗工をバーコーター(番線:No.10)で行ったこと以外は、実施例1と同様にして、比較例1の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
The thickness of the polyimide film used was changed to 25 μm, the first outer layer of the multilayer printed circuit board film was coated with a YD doctor blade (gap size 200 μm), and the multilayer printed circuit board film A multilayer printed circuit board film and a multilayer printed circuit board of Comparative Example 1 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating of the second outer layer was performed with a bar coater (number: No. 10). These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔比較例2〕
用いるポリイミドフィルムの厚さを25μmに変更したこと、および多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層の塗工をバーコーター(番線:No.22)で行ったこと以外は、実施例1と同様にして、比較例2の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
Example except that the thickness of the polyimide film used was changed to 25 μm, and the coating of the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film was performed with a bar coater (number line: No. 22) In the same manner as in Example 1, a multilayer printed circuit board film and a multilayer printed circuit board of Comparative Example 2 were obtained. These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔比較例3〕
多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層の塗工をバーコーター(番線:No.20)で行ったこと以外は、実施例1と同様にして、比較例3の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
[Comparative Example 3]
The multilayer printed circuit board of Comparative Example 3 was the same as Example 1 except that the coating of the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film was performed with a bar coater (numbered line: No. 20). Films and multilayer printed circuit boards were obtained. These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

〔比較例4〕
ポリイミドフィルムに第1外層を形成するための塗工を行なわなかったこと以外は、実施例1と同様にして、比較例4の多層プリント回路基板用フィルムおよび多層プリント回路基板を得た。これらについて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
[Comparative Example 4]
A multilayer printed circuit board film and a multilayer printed circuit board of Comparative Example 4 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating for forming the first outer layer was not performed on the polyimide film. These were evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

表1からわかるように、本発明の多層プリント回路基板用フィルムを用いてなる多層プリント回路基板は、優れた難燃性を示し、しかも、電気特性や配線の埋め込み性にも優れ、さらには、設けられる導電性回路との密着性にも優れている。一方、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層の厚さの和と中間層の厚さとの比((tO1+tO2)/t)が大きすぎる場合には、得られる多層プリント回路基板が難燃性に劣るものとなり(比較例1)、また、この比が小さすぎる場合には、得られる多層プリント回路基板が、吸水し易いものとなり、耐環境性や電気特性にも劣るものとなる(比較例2)。さらに、多層プリント回路基板用フィルムの第2外層が薄すぎる場合には、配線の埋め込み性に劣る(比較例1〜3)。また、多層プリント回路基板用フィルムに第1外層を設けず、多層プリント回路基板を得るにあたり、難燃性材料からなる中間層に直接導電性材料の層(導電性回路)を設けた場合には、導電性材料の層の剥離強度が極めて小さいものとなった(比較例4)。 As can be seen from Table 1, the multilayer printed circuit board using the multilayer printed circuit board film of the present invention exhibits excellent flame retardancy, and is excellent in electrical characteristics and wiring embeddability. It also has excellent adhesion with the conductive circuit provided. On the other hand, when the ratio ((t O1 + t O2 ) / t M ) of the sum of the thicknesses of the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film and the thickness of the intermediate layer is too large, the resulting multilayer The printed circuit board is inferior in flame retardancy (Comparative Example 1), and if this ratio is too small, the resulting multilayer printed circuit board is easy to absorb water, and the environmental resistance and electrical characteristics are also improved. It becomes inferior (Comparative Example 2). Furthermore, when the 2nd outer layer of the film for multilayer printed circuit boards is too thin, it is inferior to the embedding property of wiring (Comparative Examples 1-3). Also, when a multilayer printed circuit board film is not provided with a first outer layer, and a multilayer printed circuit board is obtained, a layer of conductive material (conductive circuit) is provided directly on the intermediate layer made of a flame retardant material. The peel strength of the conductive material layer was extremely small (Comparative Example 4).

Claims (5)

UL94規格に準拠する試験でV−0、V−1、VTM−0またはVTM−1である難燃性有機高分子材料フィルムからなる中間層と、この中間層の両面側に積層され、官能基を有する脂環式オレフィン重合体および硬化剤を含んでなる硬化性樹脂組成物により形成された第1外層および第2外層と、からなる多層プリント回路基板用フィルムであって、
中間層の厚さ(t)が3〜24μmであり、第1外層の厚さ(tO1)が1〜20μmであり、第2外層の厚さ(tO2)が6〜20μmであり、第1外層および第2外層の厚さの和と中間層の厚さとの比((tO1+tO2)/t)が0.5〜3であることを特徴とする多層プリント回路基板用フィルム。
An intermediate layer composed of a flame retardant organic polymer material film that is V-0, V-1, VTM-0 or VTM-1 in a test based on the UL94 standard, and laminated on both sides of this intermediate layer, A film for a multilayer printed circuit board comprising a first outer layer and a second outer layer formed by a curable resin composition comprising an alicyclic olefin polymer having a curing agent and a curing agent,
The thickness (t M ) of the intermediate layer is 3 to 24 μm, the thickness (t O1 ) of the first outer layer is 1 to 20 μm, and the thickness (t O2 ) of the second outer layer is 6 to 20 μm, A multilayer printed circuit board film, wherein a ratio ((t O1 + t O2 ) / t M ) of the sum of the thicknesses of the first outer layer and the second outer layer to the thickness of the intermediate layer is 0.5 to 3 .
官能基を有する脂環式オレフィン重合体が、塩素原子および臭素原子を含まないものである請求項1に記載の多層プリント回路基板用フィルム。   The multilayer printed circuit board film according to claim 1, wherein the alicyclic olefin polymer having a functional group does not contain a chlorine atom and a bromine atom. 硬化性樹脂組成物が、難燃剤を含まないものである請求項1または2に記載の多層プリント回路基板用フィルム。   The multilayer printed circuit board film according to claim 1, wherein the curable resin composition does not contain a flame retardant. 厚さが5〜10μmである導電性回路を表面に有する基板に、請求項1〜3のいずれかに記載の多層プリント回路基板用フィルムを、基板の導電性回路を有する表面と多層プリント回路基板用フィルムの第2外層とが接するように積層してなり、さらに、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層を硬化し、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層上に導電性回路を形成して得られる構造を有してなる多層プリント回路基板。   A multilayer printed circuit board film according to any one of claims 1 to 3, wherein the multilayer printed circuit board film according to any one of claims 1 to 3 is applied to a substrate having a conductive circuit having a thickness of 5 to 10 µm on the surface, and the multilayer printed circuit board. The film is laminated so as to be in contact with the second outer layer of the film for film, and further, the first outer layer and the second outer layer of the film for multilayer printed circuit board are cured, and conductive on the first outer layer of the film for multilayer printed circuit board. A multilayer printed circuit board having a structure obtained by forming a circuit. 厚さが5〜10μmである導電性回路を表面に有する基板に、請求項1〜3のいずれかに記載の多層プリント回路基板用フィルムを、基板の導電性回路を有する表面と多層プリント回路基板用フィルムの第2外層が接するように積層する工程と、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層および第2外層を硬化する工程と、多層プリント回路基板用フィルムの第1外層上に導電性回路を形成する工程とを含む、多層プリント回路基板の製造方法。   A multilayer printed circuit board film according to any one of claims 1 to 3, wherein the multilayer printed circuit board film according to any one of claims 1 to 3 is applied to a substrate having a conductive circuit having a thickness of 5 to 10 µm on the surface, and the multilayer printed circuit board. A step of laminating the second outer layer of the film for contact, a step of curing the first outer layer and the second outer layer of the multilayer printed circuit board film, and a conductive circuit on the first outer layer of the multilayer printed circuit board film Forming a multilayer printed circuit board.
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