JP2010080159A - Product removing device, exhaust system, ion implanting device, and method of removing product - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、生成物除去装置、排気装置、イオン注入装置、および生成物除去方法に関する。 The present invention relates to a product removal device, an exhaust device, an ion implantation device, and a product removal method.
半導体基板にヒ素等の不純物イオンを注入する際には、イオン注入装置が用いられる。イオン注入装置でイオンを発生させるイオンソース室の排気装置として、油拡散ポンプとロータリポンプ218との組み合わせが用いられることがある。
An ion implantation apparatus is used when implanting impurity ions such as arsenic into a semiconductor substrate. A combination of an oil diffusion pump and a
図8は、イオン注入装置の排気装置300の一例を示す模式図である。排気装置300は、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218とを含む。油拡散ポンプ204は排気管204aを有しており、排気管204aおよび排気管220を介してロータリポンプ218と連通されている。油拡散ポンプ204とロータリポンプ218との間にはバルブ222が設けられている。バルブ222を開くことにより、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218とが連通し、バルブ222を閉じることにより、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218とが遮断される。ここで、排気管204aは、先端が上方向に延在するL字形状を有する。また、排気管204aには、バッフル(不図示)が設けられた構成とすることができる。
FIG. 8 is a schematic diagram showing an example of the
このような構成の排気装置300において、排気管204aは冷却されており、排気ガスに含まれるヒ素等の不純物イオンの凝固温度(ヒ素の場合320℃程度)より温度が低くなる。そのため、排気管204aに不純物イオンの固体等の生成物が蓄積していき、排気能力が低下するという問題があった。
In the
特許文献1(特開平9−219172号公報)には、固体ヒ素ないしアルシン等の気体状ヒ素化合物をソース物質として被処理基板にヒ素を注入するイオン注入装置のイオンソース室の排気系にターボ分子ポンプとドライポンプを用いる排気装置が記載されている。当該排気装置において、ターボ分子ポンプとドライポンプの間に冷却トラップを設けることにより、排気中のヒ素を固体として捕捉し、さらにはドライポンプおよびその大気排出管に不活性ガスを導入し、固体状ヒ素の付着を軽減する構成となっている。 Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 9-219172) discloses a turbo molecule in an exhaust system of an ion source chamber of an ion implantation apparatus that implants arsenic into a substrate to be processed using a gaseous arsenic compound such as solid arsenic or arsine as a source material. An exhaust system using a pump and a dry pump is described. In this exhaust system, by providing a cooling trap between the turbo molecular pump and the dry pump, arsenic in the exhaust is captured as a solid, and further, an inert gas is introduced into the dry pump and its atmospheric discharge pipe, so that the solid state It is configured to reduce arsenic adhesion.
特許文献2(特開平10−317147号公報)には、主排気ラインと、主排気ラインに設けられたドラッグポンプおよびドライポンプと、主排気ラインからドラッグポンプをバイパスするバイパスラインと、バイパスラインに設けられたトラップと、バイパスラインのトラップに至るまでの部分を加熱する加熱装置と、主排気ライン側とバイパスライン側とで排気経路を切り換える切り換えバルブとを有する排気系が記載されている。
しかし、従来、以下に説明するように、蓄積した生成物を除去する際に時間がかかるという問題があった。 However, as described below, there has been a problem that it takes time to remove accumulated products.
図8を参照して説明すると、このような生成物は、とくに、排気管204aのコーナ部に蓄積する。そのため、排気管204aに生成物が蓄積した場合、生成物の除去を行わなければならない。除去を行う際には、まず油拡散ポンプ204を停止して冷却を行い、次いでロータリポンプ218を停止する。つづいて、油拡散ポンプ204および排気管220を大気解放して、排気管220等の配管を取り外し、排気管204aから生成物を除去する。その後、装置を再稼働させるために、排気管220等の配管を取り付け、油拡散ポンプ204および排気管220の排気を行い排気完了後、油拡散ポンプ204のヒータを入れる。そのため、装置の立ち下げ、立ち上げに多大な時間を要していた。
Referring to FIG. 8, such products accumulate particularly in the corners of the
特許文献1や特許文献2に記載の技術では、生成物等の蓄積を低減させたり、生成物等がバイパスライン側で生成されるようにしている。しかし、生成物を除去する際に時間がかかるという問題は解消されていない。 In the techniques described in Patent Document 1 and Patent Document 2, accumulation of products or the like is reduced, or products or the like are generated on the bypass line side. However, the problem that it takes time to remove the product has not been solved.
本発明によれば、
第1の真空ポンプと、前記第1の真空ポンプに接続され、前記第1の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第2の真空ポンプと、を含む排気装置から生成物を除去する生成物除去装置であって、
前記排気ラインから分岐して、前記第1の真空ポンプから排出されるガスを前記第2の真空ポンプに移動させるバイパスラインと、
前記排気ライン中の前記バイパスラインとの分岐点よりも前記第1の真空ポンプに近い側に配置されて前記ガス中の生成物を付着するとともに、前記バイパスラインに移動可能に設けられた生成物付着治具と、
前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する遮断手段と、
を含む生成物除去装置が提供される。
According to the present invention,
A first vacuum pump; an exhaust line connected to the first vacuum pump for exhausting exhaust gas of the first vacuum pump; and a second connected to the exhaust line for evacuating the exhaust line. A product removal device for removing product from an exhaust device comprising a vacuum pump,
A bypass line branched from the exhaust line and moving the gas discharged from the first vacuum pump to the second vacuum pump;
A product that is disposed closer to the first vacuum pump than a branch point with the bypass line in the exhaust line, adheres a product in the gas, and is movably provided in the bypass line An attachment jig;
Blocking means for blocking from the exhaust line the place where the product adhering jig of the bypass line is moved;
A product removal device is provided.
また、本発明によれば、
第1の真空ポンプと、
前記第1の真空ポンプに接続され、前記第1の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、
前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第2の真空ポンプと、
上記の生成物除去装置と、
を含む排気装置が提供される。
Moreover, according to the present invention,
A first vacuum pump;
An exhaust line connected to the first vacuum pump and exhausting exhaust gas of the first vacuum pump;
A second vacuum pump connected to the exhaust line and evacuating the exhaust line;
A product removal device as described above;
An exhaust device is provided.
また、本発明によれば、
不純物イオンを発生させ、被処理基板に当該不純物イオンを注入するイオン注入装置であって、
前記不純物イオンを発生させるイオン発生源が設けられたイオンソース室と、
上記排気装置であって、前記イオンソース室の排気ガスを排出する排気装置と、
を含むイオン注入装置が提供される。
Moreover, according to the present invention,
An ion implantation apparatus for generating impurity ions and implanting the impurity ions into a substrate to be processed,
An ion source chamber provided with an ion generation source for generating the impurity ions;
An exhaust apparatus for exhausting exhaust gas from the ion source chamber,
Is provided.
さらに、本発明によれば、
上記生成物除去装置を用いて、
前記第1の真空ポンプおよび前記第2の真空ポンプを稼働させて前記排気ラインおよび前記バイパスライン内を真空とする工程と、
前記排気ラインから前記生成物付着治具を前記バイパスラインに移動させる工程と、
前記排気ラインを真空にしたまま、前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する工程と、
前記バイパスラインを大気に解放する工程と、
前記バイパスラインから前記生成物付着治具を取り出す工程と、
を含む生成物除去方法が提供される。
Furthermore, according to the present invention,
Using the product removal device,
Operating the first vacuum pump and the second vacuum pump to evacuate the exhaust line and the bypass line; and
Moving the product attachment jig from the exhaust line to the bypass line;
Shutting off the place where the product adhering jig of the bypass line is moved from the exhaust line by the shut-off means while keeping the exhaust line in a vacuum;
Releasing the bypass line to the atmosphere;
Removing the product attachment jig from the bypass line;
A product removal method is provided.
上記の構成によれば、第1の真空ポンプと第2の真空ポンプとを停止することなく、排気ラインを真空に保ったままで、排気ライン内の生成物が付着された生成物付着治具を排気ラインからバイパスラインに取り出すことができる。次いで、手動バルブ等の遮断状態により、バイパスラインの生成物付着治具が移動された箇所を排気ラインから遮断して、バイパスラインのみを大気に解放することができる。これにより、バイパスラインから生成物付着治具を取り出し、生成物の除去等を行うことができる。この間、排気ライン内は真空に保てるので、第1の真空ポンプと第2の真空ポンプとを停止する必要がなく、ポンプの立ち下げ、立ち上げに要していた時間を削減することができる。 According to the above configuration, the product adhering jig to which the product in the exhaust line is adhered while keeping the exhaust line in a vacuum without stopping the first vacuum pump and the second vacuum pump. It can be taken out from the exhaust line to the bypass line. Next, the location where the product adhering jig of the bypass line has been moved can be blocked from the exhaust line by the shut-off state of the manual valve or the like, and only the bypass line can be released to the atmosphere. Thereby, a product adhesion jig | tool can be taken out from a bypass line, and a product etc. can be removed. During this time, since the inside of the exhaust line can be kept in vacuum, it is not necessary to stop the first vacuum pump and the second vacuum pump, and the time required for the pump to be lowered and started can be reduced.
なお、以上の構成要素の任意の組合せ、本発明の表現を方法、装置などの間で変換したものもまた、本発明の態様として有効である。 It should be noted that any combination of the above-described constituent elements and a conversion of the expression of the present invention between methods, apparatuses, and the like are also effective as an aspect of the present invention.
本発明によれば、イオン注入装置の排気装置で生成する生成物を簡便に迅速に除去することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the product produced | generated with the exhaust apparatus of an ion implantation apparatus can be removed simply and rapidly.
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.
図1は、本実施の形態におけるイオン注入装置の構成を示す模式図である。図2は、図1の一点破線で示した箇所を詳細に示すブロック図である。本実施の形態において、生成物除去装置100が設けられている点で、従来のイオン注入装置と異なる。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of an ion implantation apparatus according to the present embodiment. FIG. 2 is a block diagram showing in detail the location indicated by the dashed line in FIG. In this Embodiment, it differs from the conventional ion implantation apparatus by the point by which the
イオン注入装置250は、たとえば固体ソース金属ヒ素等を使用し、被処理基板のシリコン基板にヒ素等の不純物イオンを注入する。図1に示すように、イオン注入装置250は、イオン発生源202が設けられたイオンソース室と、油拡散ポンプ204(第1の真空ポンプ)と、ビームライン206と、処理室208と、ウェハ立替部210とを含む。イオン発生源202は、不純物イオンを発生させる。処理室208には、被処理基板が配置される。イオン発生源202で発生された不純物イオンはビームライン206を通って処理室208に配置された被処理基板に注入される。ウェハ立替部210では、被処理基板の位置あわせ等が行われる。
The
図2に示すように、イオン注入装置250は、さらに、クライオポンプ212、クライオポンプ214、ロータリポンプ216、ロータリポンプ218(第2の真空ポンプ)、排気ライン219、バルブ222(FOREバルブ(エアーバルブ))、および生成物除去装置100を含む。油拡散ポンプ204とロータリポンプ218とにより、イオン発生源202が設けられたイオンソース室の排気系である排気装置200が構成される。生成物除去装置100は、排気装置200に蓄積される生成物を除去する。
As shown in FIG. 2, the
排気ライン219は、油拡散ポンプ204に接続され、油拡散ポンプ204の排気ガスを排出する。排気ライン219は、ロータリポンプ218にも接続され、ロータリポンプ218により真空にされる。排気ライン219中の排気ガスは、ロータリポンプ218により外部に放出される。
The
生成物除去装置100は、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218との間に設けられる。生成物除去装置100は、排気ライン219から分岐するとともに、ロータリポンプ218に接続されて真空にされるバイパスライン113を含む。
The
図3および図4は、生成物除去装置100の構成を詳細に示す図である。図3および図4は、同じ構成を示すが、図4においては、油拡散ポンプ204を模式的に示している。
3 and 4 are diagrams showing the configuration of the
図3に示すように、油拡散ポンプ204は、排気管204aを含む。排気管204aは、先端が上方向に延在するL字形状を有する構成とすることができる。また、排気管204aには、バッフル(不図示)が設けられた構成とすることができる。排気装置200は、さらに、排気管204aとロータリポンプ218とを接続する排気管220を含む。本実施の形態において、排気管204aと排気管220とにより排気ライン219が構成される。
As shown in FIG. 3, the
生成物除去装置100は、生成物付着治具102、チャンバ110、キャップ110a、バイパス管114、バルブ104(第1のバルブ、手動バルブ)、バルブ106(第2のバルブ、ラフ引きバルブ)、バルブ108(第3のバルブ、ベントバルブ)、および引上げシャフト112(シャフト)をさらに含む。本実施の形態において、チャンバ110とバイパス管114とによりバイパスライン113が構成される。チャンバ110は、排気管204aに接続して設けられる。バイパス管114は、チャンバ110に接続して設けられる。また、チャンバ110の上部には、キャップ110aが設けられている。チャンバ110は、キャップ110aにより密封される。キャップ110aには、引上げシャフト112が貫通されており、引上げシャフト112はチャンバ110内を上下に移動する。キャップ110aは、たとえばゴム等の弾性材料により構成することができる。
The
生成物付着治具102は、排気ライン219を移動するガス中の生成物を付着する。生成物付着治具102は、排気ライン219中のバイパスライン113の分岐点よりも油拡散ポンプ204に近い側に配置される。本実施の形態において、生成物付着治具102は、排気管204a内に配置される。また、生成物付着治具102は、バイパスライン113に移動可能に設けられる。本実施の形態において、生成物付着治具102は、バイパスライン113のチャンバ110に移動可能に構成される。つまり、チャンバ110は、生成物付着治具102を収容できる大きさに形成される。生成物除去装置100がイオン注入装置250の排気装置200に用いられる場合、生成物120は、粘土状の軟い物質となる。図7は、生成物付着治具102の構成の一例を示す拡大図である。生成物付着治具102は、中心軸130と、中心軸130に取り付けられた複数のトラップ132と、引上げシャフト112と係合する係合部134とを含む。トラップ132は、板状とすることができる。また、生成物120を効率よく付着するように、トラップ132は、違いに距離を隔てて互い違いの方向に設けられる。係合部134は、引上げシャフト112をライナーとすることができる。
The
図3では、生成物付着治具102に生成物120が付着する前の状態、図4では、生成物付着治具102に生成物120が付着した後の状態をそれぞれ示す。引上げシャフト112は、チャンバ110と排気管204aとの間で移動可能に設けられている。生成物付着治具102は、引上げシャフト112と係合可能に構成される。引上げシャフト112を生成物付着治具102の係合部134であるライナーに引っ掛けて引上げシャフト112を上下に移動させることにより、生成物付着治具102が排気管204aとチャンバ110との間を移動する。
FIG. 3 shows a state before the
バルブ104は、排気管204aとチャンバ110との間に設けられ、排気管204aとチャンバ110との間を解放および遮蔽する。バルブ106は、バイパス管114に設けられ、バイパス管114と排気管220との間を解放および遮蔽する。本実施の形態において、遮断手段は、バルブ104とバルブ106とにより構成される。つまり、バルブ104およびバルブ106により、バイパスライン113において、生成物付着治具102が移動される箇所であるチャンバ110が排気ライン219から遮断される。
The
バルブ108は、バイパス管114において、バルブ106よりもチャンバ110側に設けられる。バルブ108は、チャンバ110を大気に解放および大気から遮断する。
The
バルブ222は、排気管220のバイパス管114との再接続点よりも、排気管204a側に設けられる。バルブ222は、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218との間に設けられ、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218との間を解放および遮蔽する。
The
図5および図6は、排気管204aから生成物付着治具102を取り出し、再び排気管204aに生成物付着治具102をセットする手順を示す図である。
本実施の形態において、油拡散ポンプ204およびロータリポンプ218の稼働時には、バルブ222が解放されており、バルブ108は閉められている。バルブ104およびバルブ106も閉じられている。このような状態で、油拡散ポンプ204およびロータリポンプ218を稼働させ、油拡散ポンプ204から排出されるガスをロータリポンプ218に移動させると、生成物付着治具102に生成物120が付着してくる(図5(a))。このとき、排気管204aおよび排気管220は真空となっている。
FIG. 5 and FIG. 6 are diagrams showing a procedure for taking out the
In the present embodiment, when the
生成物付着治具102に生成物120がある程度付着した場合、以下の手順で生成物付着治具102を取り出す。まず、バルブ222を閉める。次いで、バルブ106を開ける。これにより、チャンバ110およびバイパス管114内が真空となる。つづいて、バルブ104を開ける。その後、引上げシャフト112を下方に移動させ、引上げシャフト112に生成物付着治具102のライナーを引っ掛ける(図5(b))。
When the
つづいて、引上げシャフト112を上方に移動させる。これにより、生成物付着治具102がチャンバ110内に移動する。次いで、バルブ104およびバルブ106を順に閉める(図5(c))。
Subsequently, the pulling
その後、バルブ222を開ける。次いで、バルブ108を開ける。これにより、チャンバ110が大気に解放される。そして、チャンバ110からキャップ110aを取り、引上げシャフト112および生成物付着治具102を取り出す(図6(a))。つづいて、生成物付着治具102を清掃して生成物120を除去する。次いで、再度引上げシャフト112に生成物付着治具102を取付けて、チャンバ110内に導入し、チャンバ110にキャップ110aを取り付ける。なお、ここでは、生成物付着治具102を清掃済の他の生成物付着治具102に取り替えてもよい。
Thereafter, the
つづいて、バルブ108を閉める。次いで、バルブ222も閉める。その後、バルブ106を開ける。これにより、チャンバ110およびバイパス管114が真空になる。つづいて、バルブ104を開ける(図6(b))。次いで、引上げシャフト112を下方に移動させ、排気管204aに生成物付着治具102をセットする(図6(c))。
Subsequently, the
この後、引上げシャフト112を生成物付着治具102のライナーから外して、引上げシャフト112を上方に移動させる。次いで、バルブ104を閉じる。つづいて、バルブ106も閉め、その後バルブ222を開ける。これにより、図5(a)に示した状態に戻り、生成物付着治具102に生成物120が付着するまで、油拡散ポンプ204およびロータリポンプ218を稼働させる。
Thereafter, the pulling
本実施の形態における生成物除去装置100によれば、真空ポンプ間の排気ライン219に生成物付着治具102を配置するとともに、排気ライン219にバイパスライン113を設け、生成物付着治具102をバイパスライン113に移動させて、排気ライン219排気管を真空に保ったままバイパスライン113だけを大気に解放して生成物付着治具102を外部に取り出せるようにした。排気管204aおよび排気管220の真空状態を保ったままで排気管204aから生成物付着治具102を取り出せるので、生成物を除去するために、油拡散ポンプ204やロータリポンプ218の稼働を止める必要がない。そのため、生成物を除去する際の時間を大幅に短縮することができる。
According to the
とくに、排気管204aが油拡散ポンプ204と一体型で形成されている場合、排気管204aに付着した生成物を除去するのは困難である。また、排気管204aがL字形状を有している場合、排気管204aのコーナ部に生成物が付着しやすい。本実施の形態においては、生成物が最も蓄積しやすい排気管204aに生成物付着治具102を配置している。これにより、生成物が生成物付着治具102に付着するようにすることができる。さらに、排気管204aからそのまままっすぐ鉛直方向に延在するチャンバ110を排気管204aの先端に取り付け、生成物付着治具102がチャンバ110に移動可能となるようにしている。さらに、排気管204aおよび排気管220を真空状態にしたまま、チャンバ110のみを大気に解放可能な構成とした。これにより、油拡散ポンプ204およびロータリポンプ218を稼働させたままで、生成物付着治具102を排気管204aから取り外して、清掃後、再び排気管204aに戻せるようにした。
In particular, when the
これにより、生成物を除去する際に従来必要だった、油拡散ポンプ204のヒータの停止、冷却、立ち上げ時のヒータの温度上昇待ちの時間が不要となった。そのため、迅速かつ簡易に排気装置200から生成物を除去することができる。たとえば、従来、生成物を除去するために、油拡散ポンプ204の立ち下げ、立ち上げに約2.5時間かかっていたが、本実施の形態における生成物除去装置100を用いることにより、15分程度で行えるようになった。これにより、排気装置200の稼動率向上が可能になる。
This eliminates the need for waiting for the heater temperature to rise when the heater of the
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described with reference to drawings, these are the illustrations of this invention, Various structures other than the above are also employable.
以上の実施の形態では、排気管204aが油拡散ポンプ204と一体に構成された例を示したが、本発明の生成物除去装置100は、排気管204aが、油拡散ポンプ204に取り付けられたような構成に適用することもできる。
In the above embodiment, an example in which the
100 生成物除去装置
102 生成物付着治具
104 バルブ
106 バルブ
108 バルブ
110 チャンバ
110a キャップ
112 シャフト
113 バイパスライン
114 バイパス管
120 生成物
130 中心軸
132 トラップ
134 係合部
200 排気装置
202 イオン発生源
204 油拡散ポンプ
204a 排気管
206 ビームライン
208 処理室
210 ウェハ立替部
212 クライオポンプ
214 クライオポンプ
216 ロータリポンプ
218 ロータリポンプ
219 排気ライン
220 排気管
222 バルブ
250 イオン注入装置
300 排気装置
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記排気ラインから分岐するとともに、前記第2の真空ポンプに接続されて真空にされるバイパスラインと、
前記排気ライン中の前記バイパスラインとの分岐点よりも前記第1の真空ポンプに近い側に配置されて前記ガス中の生成物を付着するとともに、前記バイパスラインに移動可能に設けられた生成物付着治具と、
前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する遮断手段と、
を含む生成物除去装置。 A first vacuum pump; an exhaust line connected to the first vacuum pump for exhausting exhaust gas of the first vacuum pump; and a second connected to the exhaust line for evacuating the exhaust line. A product removal device for removing product from an exhaust device comprising a vacuum pump,
A bypass line branched from the exhaust line and connected to the second vacuum pump to be evacuated;
A product that is disposed closer to the first vacuum pump than a branch point with the bypass line in the exhaust line, adheres a product in the gas, and is movably provided in the bypass line An attachment jig;
Blocking means for blocking from the exhaust line the place where the product adhering jig of the bypass line is moved;
A product removal device comprising:
前記バイパスラインは、前記第2の真空ポンプに近い側で、前記排気ラインに再接続するように構成され、
前記遮断手段は、前記分岐点に設けられ、前記排気ラインと前記バイパスラインとの間を解放および遮断する第1のバルブと、前記バイパスラインの前記排気ラインとの再接続点よりも前記第2の真空ポンプから遠い箇所に設けられ、前記排気ラインと前記バイパスラインとの間を解放および遮断する第2のバルブと、とを含む生成物除去装置。 The product removal apparatus according to claim 1, wherein
The bypass line is configured to reconnect to the exhaust line on a side near the second vacuum pump;
The shut-off means is provided at the branch point, and the first valve that releases and shuts off between the exhaust line and the bypass line, and the second connection point than the reconnection point of the bypass line to the exhaust line. And a second valve provided at a location far from the vacuum pump for releasing and blocking between the exhaust line and the bypass line.
前記バイパスラインを大気に解放および大気から遮断する第3のバルブをさらに含む生成物除去装置。 The product removal apparatus according to claim 1 or 2,
A product removal apparatus further comprising a third valve that opens the bypass line to the atmosphere and blocks the atmosphere from the atmosphere.
前記バイパスラインは、前記分岐点に設けられ、前記生成物付着治具を収容可能に設けられたチャンバと、当該チャンバと前記排気ラインとを前記第2の真空ポンプに近い側で再接続するバイパス管と、を含む生成物除去装置。 In the product removal apparatus in any one of Claim 1 to 3,
The bypass line is provided at the branch point, and is a bypass for reconnecting the chamber provided to be able to accommodate the product attachment jig, and the chamber and the exhaust line on the side close to the second vacuum pump. A product removal device comprising: a tube;
前記排気ライン中の前記生成物付着治具が配置される箇所と、前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所との間で移動可能に設けられたシャフトをさらに含み、
前記生成物付着治具は、前記シャフトと係合可能に構成され、
前記シャフトを前記生成物付着治に係合させて前記シャフトを移動させることにより前記生成物付着治具を前記排気ラインと前記バイパスラインとの間で移動させる生成物除去装置。 In the product removal apparatus in any one of Claim 1 to 4,
A shaft further movably provided between a location where the product adhesion jig in the exhaust line is disposed and a location where the product adhesion jig of the bypass line is moved;
The product attachment jig is configured to be engageable with the shaft,
A product removal device for moving the product attachment jig between the exhaust line and the bypass line by moving the shaft by engaging the shaft with the product attachment treatment.
前記第1の真空ポンプは、油拡散ポンプで、前記第2の真空ポンプは、ロータリポンプである生成物除去装置。 In the product removal apparatus in any one of Claim 1 to 5,
The first vacuum pump is an oil diffusion pump, and the second vacuum pump is a rotary pump.
前記第1の真空ポンプに接続され、前記第1の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、
前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第2の真空ポンプと、
前記請求項1から6いずれかに記載の生成物除去装置と、
を含む排気装置。 A first vacuum pump;
An exhaust line connected to the first vacuum pump and exhausting exhaust gas of the first vacuum pump;
A second vacuum pump connected to the exhaust line and evacuating the exhaust line;
The product removal device according to any one of claims 1 to 6;
Including exhaust system.
前記不純物イオンを発生させるイオン発生源が設けられたイオンソース室と、
請求項7に記載の排気装置であって、前記イオンソース室の排気ガスを排出する排気装置と、
を含むイオン注入装置。 An ion implantation apparatus for generating impurity ions and implanting the impurity ions into a substrate to be processed,
An ion source chamber provided with an ion generation source for generating the impurity ions;
The exhaust device according to claim 7, wherein the exhaust device exhausts exhaust gas from the ion source chamber;
An ion implanter.
前記第1の真空ポンプおよび前記第2の真空ポンプを稼働させて前記排気ラインおよび前記バイパスライン内を真空とする工程と、
前記排気ラインから前記生成物付着治具を前記バイパスラインに移動させる工程と、
前記排気ラインを真空にしたまま、前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する工程と、
前記バイパスラインを大気に解放する工程と、
前記バイパスラインから前記生成物付着治具を取り出す工程と、
を含む生成物除去方法。 Using the product removing device according to any one of claims 1 to 6,
Operating the first vacuum pump and the second vacuum pump to evacuate the exhaust line and the bypass line; and
Moving the product attachment jig from the exhaust line to the bypass line;
Shutting off the place where the product adhering jig of the bypass line is moved from the exhaust line by the shut-off means while keeping the exhaust line in a vacuum;
Releasing the bypass line to the atmosphere;
Removing the product attachment jig from the bypass line;
A product removal method comprising:
前記排気ラインを真空にしたままで、かつ前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断した状態で、前記バイパスラインに前記生成物付着治具を導入する工程と、
前記バイパスラインを大気から遮断する工程と、
前記バイパスライン内を真空とする工程と、
前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所と前記排気ラインとの間を解放する工程と、
前記生成物付着治具を前記バイパスラインから前記排気ラインに移動させる工程と、
を含む生成物除去方法。 The product removal method according to claim 9.
The product adhesion jig is connected to the bypass line in a state where the exhaust line is kept in a vacuum and the location where the product adhesion jig of the bypass line is moved by the blocking means is blocked from the exhaust line. A process of introducing
Shutting off the bypass line from the atmosphere;
Vacuuming the bypass line;
Releasing the space between the exhaust line and the place where the product adhering jig of the bypass line is moved by the blocking means;
Moving the product attachment jig from the bypass line to the exhaust line;
A product removal method comprising:
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CN105275893A (en) * | 2015-11-27 | 2016-01-27 | 辽宁真龙真空设备制造有限公司 | High-pumping-speed oil diffusion ejector pump |
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- 2008-09-25 JP JP2008245309A patent/JP2010080159A/en active Pending
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