JP2010080159A - Product removing device, exhaust system, ion implanting device, and method of removing product - Google Patents

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JP2010080159A JP2008245309A JP2008245309A JP2010080159A JP 2010080159 A JP2010080159 A JP 2010080159A JP 2008245309 A JP2008245309 A JP 2008245309A JP 2008245309 A JP2008245309 A JP 2008245309A JP 2010080159 A JP2010080159 A JP 2010080159A
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Naoyuki Uemura
直幸 植村
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily and quickly remove products produced in an exhaust system of an ion implanting device. <P>SOLUTION: This exhaust system 200 includes: a first vacuum pump 204; an exhaust line 219 for discharging exhaust of the first vacuum pump; and a second vacuum pump 218 for making the exhaust line 219 vacuum. A product removing device 100 includes: a bypass line 113 divided from the exhaust line 219 to move the gas, which is discharged from the first vacuum pump, to the second vacuum pump; a product sticking fitting 102 arranged in the exhaust line 219 on a side 204a closer to the first vacuum pump than a branch point of the bypass line 113 to stick the product in the gas, and provided freely to move to the bypass line 113; and shut-off means 104 and 106 for shutting off a position, to which the product sticking fitting 102 positioning in the bypass line 113 is moved, from the exhaust line 219. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、生成物除去装置、排気装置、イオン注入装置、および生成物除去方法に関する。   The present invention relates to a product removal device, an exhaust device, an ion implantation device, and a product removal method.

半導体基板にヒ素等の不純物イオンを注入する際には、イオン注入装置が用いられる。イオン注入装置でイオンを発生させるイオンソース室の排気装置として、油拡散ポンプとロータリポンプ218との組み合わせが用いられることがある。   An ion implantation apparatus is used when implanting impurity ions such as arsenic into a semiconductor substrate. A combination of an oil diffusion pump and a rotary pump 218 may be used as an exhaust device for an ion source chamber that generates ions with an ion implantation apparatus.

図8は、イオン注入装置の排気装置300の一例を示す模式図である。排気装置300は、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218とを含む。油拡散ポンプ204は排気管204aを有しており、排気管204aおよび排気管220を介してロータリポンプ218と連通されている。油拡散ポンプ204とロータリポンプ218との間にはバルブ222が設けられている。バルブ222を開くことにより、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218とが連通し、バルブ222を閉じることにより、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218とが遮断される。ここで、排気管204aは、先端が上方向に延在するL字形状を有する。また、排気管204aには、バッフル(不図示)が設けられた構成とすることができる。   FIG. 8 is a schematic diagram showing an example of the exhaust device 300 of the ion implantation apparatus. The exhaust device 300 includes an oil diffusion pump 204 and a rotary pump 218. The oil diffusion pump 204 has an exhaust pipe 204 a and communicates with the rotary pump 218 via the exhaust pipe 204 a and the exhaust pipe 220. A valve 222 is provided between the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218. By opening the valve 222, the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218 communicate with each other, and by closing the valve 222, the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218 are shut off. Here, the exhaust pipe 204a has an L shape with a tip extending upward. Further, the exhaust pipe 204a may be provided with a baffle (not shown).

このような構成の排気装置300において、排気管204aは冷却されており、排気ガスに含まれるヒ素等の不純物イオンの凝固温度(ヒ素の場合320℃程度)より温度が低くなる。そのため、排気管204aに不純物イオンの固体等の生成物が蓄積していき、排気能力が低下するという問題があった。   In the exhaust device 300 having such a configuration, the exhaust pipe 204a is cooled and has a temperature lower than the solidification temperature of impurity ions such as arsenic contained in the exhaust gas (about 320 ° C. in the case of arsenic). For this reason, a product such as a solid of impurity ions accumulates in the exhaust pipe 204a, and there is a problem that the exhaust capacity is reduced.

特許文献1(特開平9−219172号公報)には、固体ヒ素ないしアルシン等の気体状ヒ素化合物をソース物質として被処理基板にヒ素を注入するイオン注入装置のイオンソース室の排気系にターボ分子ポンプとドライポンプを用いる排気装置が記載されている。当該排気装置において、ターボ分子ポンプとドライポンプの間に冷却トラップを設けることにより、排気中のヒ素を固体として捕捉し、さらにはドライポンプおよびその大気排出管に不活性ガスを導入し、固体状ヒ素の付着を軽減する構成となっている。   Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 9-219172) discloses a turbo molecule in an exhaust system of an ion source chamber of an ion implantation apparatus that implants arsenic into a substrate to be processed using a gaseous arsenic compound such as solid arsenic or arsine as a source material. An exhaust system using a pump and a dry pump is described. In this exhaust system, by providing a cooling trap between the turbo molecular pump and the dry pump, arsenic in the exhaust is captured as a solid, and further, an inert gas is introduced into the dry pump and its atmospheric discharge pipe, so that the solid state It is configured to reduce arsenic adhesion.

特許文献2(特開平10−317147号公報)には、主排気ラインと、主排気ラインに設けられたドラッグポンプおよびドライポンプと、主排気ラインからドラッグポンプをバイパスするバイパスラインと、バイパスラインに設けられたトラップと、バイパスラインのトラップに至るまでの部分を加熱する加熱装置と、主排気ライン側とバイパスライン側とで排気経路を切り換える切り換えバルブとを有する排気系が記載されている。
特開平9−219172号公報 特開平10−317147号公報
Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 10-317147) includes a main exhaust line, a drag pump and a dry pump provided in the main exhaust line, a bypass line that bypasses the drug pump from the main exhaust line, and a bypass line. An exhaust system is described that includes a trap provided, a heating device that heats a portion up to the trap of the bypass line, and a switching valve that switches an exhaust path between the main exhaust line side and the bypass line side.
JP-A-9-219172 JP 10-317147 A

しかし、従来、以下に説明するように、蓄積した生成物を除去する際に時間がかかるという問題があった。   However, as described below, there has been a problem that it takes time to remove accumulated products.

図8を参照して説明すると、このような生成物は、とくに、排気管204aのコーナ部に蓄積する。そのため、排気管204aに生成物が蓄積した場合、生成物の除去を行わなければならない。除去を行う際には、まず油拡散ポンプ204を停止して冷却を行い、次いでロータリポンプ218を停止する。つづいて、油拡散ポンプ204および排気管220を大気解放して、排気管220等の配管を取り外し、排気管204aから生成物を除去する。その後、装置を再稼働させるために、排気管220等の配管を取り付け、油拡散ポンプ204および排気管220の排気を行い排気完了後、油拡散ポンプ204のヒータを入れる。そのため、装置の立ち下げ、立ち上げに多大な時間を要していた。   Referring to FIG. 8, such products accumulate particularly in the corners of the exhaust pipe 204a. Therefore, when a product accumulates in the exhaust pipe 204a, the product must be removed. When performing the removal, the oil diffusion pump 204 is first stopped to perform cooling, and then the rotary pump 218 is stopped. Subsequently, the oil diffusion pump 204 and the exhaust pipe 220 are released to the atmosphere, piping such as the exhaust pipe 220 is removed, and the product is removed from the exhaust pipe 204a. Thereafter, in order to restart the apparatus, piping such as the exhaust pipe 220 is attached, the oil diffusion pump 204 and the exhaust pipe 220 are exhausted, and after the exhaust is completed, the heater of the oil diffusion pump 204 is turned on. For this reason, it takes a lot of time to shut down and start up the apparatus.

特許文献1や特許文献2に記載の技術では、生成物等の蓄積を低減させたり、生成物等がバイパスライン側で生成されるようにしている。しかし、生成物を除去する際に時間がかかるという問題は解消されていない。   In the techniques described in Patent Document 1 and Patent Document 2, accumulation of products or the like is reduced, or products or the like are generated on the bypass line side. However, the problem that it takes time to remove the product has not been solved.

本発明によれば、
第1の真空ポンプと、前記第1の真空ポンプに接続され、前記第1の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第2の真空ポンプと、を含む排気装置から生成物を除去する生成物除去装置であって、
前記排気ラインから分岐して、前記第1の真空ポンプから排出されるガスを前記第2の真空ポンプに移動させるバイパスラインと、
前記排気ライン中の前記バイパスラインとの分岐点よりも前記第1の真空ポンプに近い側に配置されて前記ガス中の生成物を付着するとともに、前記バイパスラインに移動可能に設けられた生成物付着治具と、
前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する遮断手段と、
を含む生成物除去装置が提供される。
According to the present invention,
A first vacuum pump; an exhaust line connected to the first vacuum pump for exhausting exhaust gas of the first vacuum pump; and a second connected to the exhaust line for evacuating the exhaust line. A product removal device for removing product from an exhaust device comprising a vacuum pump,
A bypass line branched from the exhaust line and moving the gas discharged from the first vacuum pump to the second vacuum pump;
A product that is disposed closer to the first vacuum pump than a branch point with the bypass line in the exhaust line, adheres a product in the gas, and is movably provided in the bypass line An attachment jig;
Blocking means for blocking from the exhaust line the place where the product adhering jig of the bypass line is moved;
A product removal device is provided.

また、本発明によれば、
第1の真空ポンプと、
前記第1の真空ポンプに接続され、前記第1の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、
前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第2の真空ポンプと、
上記の生成物除去装置と、
を含む排気装置が提供される。
Moreover, according to the present invention,
A first vacuum pump;
An exhaust line connected to the first vacuum pump and exhausting exhaust gas of the first vacuum pump;
A second vacuum pump connected to the exhaust line and evacuating the exhaust line;
A product removal device as described above;
An exhaust device is provided.

また、本発明によれば、
不純物イオンを発生させ、被処理基板に当該不純物イオンを注入するイオン注入装置であって、
前記不純物イオンを発生させるイオン発生源が設けられたイオンソース室と、
上記排気装置であって、前記イオンソース室の排気ガスを排出する排気装置と、
を含むイオン注入装置が提供される。
Moreover, according to the present invention,
An ion implantation apparatus for generating impurity ions and implanting the impurity ions into a substrate to be processed,
An ion source chamber provided with an ion generation source for generating the impurity ions;
An exhaust apparatus for exhausting exhaust gas from the ion source chamber,
Is provided.

さらに、本発明によれば、
上記生成物除去装置を用いて、
前記第1の真空ポンプおよび前記第2の真空ポンプを稼働させて前記排気ラインおよび前記バイパスライン内を真空とする工程と、
前記排気ラインから前記生成物付着治具を前記バイパスラインに移動させる工程と、
前記排気ラインを真空にしたまま、前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する工程と、
前記バイパスラインを大気に解放する工程と、
前記バイパスラインから前記生成物付着治具を取り出す工程と、
を含む生成物除去方法が提供される。
Furthermore, according to the present invention,
Using the product removal device,
Operating the first vacuum pump and the second vacuum pump to evacuate the exhaust line and the bypass line; and
Moving the product attachment jig from the exhaust line to the bypass line;
Shutting off the place where the product adhering jig of the bypass line is moved from the exhaust line by the shut-off means while keeping the exhaust line in a vacuum;
Releasing the bypass line to the atmosphere;
Removing the product attachment jig from the bypass line;
A product removal method is provided.

上記の構成によれば、第1の真空ポンプと第2の真空ポンプとを停止することなく、排気ラインを真空に保ったままで、排気ライン内の生成物が付着された生成物付着治具を排気ラインからバイパスラインに取り出すことができる。次いで、手動バルブ等の遮断状態により、バイパスラインの生成物付着治具が移動された箇所を排気ラインから遮断して、バイパスラインのみを大気に解放することができる。これにより、バイパスラインから生成物付着治具を取り出し、生成物の除去等を行うことができる。この間、排気ライン内は真空に保てるので、第1の真空ポンプと第2の真空ポンプとを停止する必要がなく、ポンプの立ち下げ、立ち上げに要していた時間を削減することができる。   According to the above configuration, the product adhering jig to which the product in the exhaust line is adhered while keeping the exhaust line in a vacuum without stopping the first vacuum pump and the second vacuum pump. It can be taken out from the exhaust line to the bypass line. Next, the location where the product adhering jig of the bypass line has been moved can be blocked from the exhaust line by the shut-off state of the manual valve or the like, and only the bypass line can be released to the atmosphere. Thereby, a product adhesion jig | tool can be taken out from a bypass line, and a product etc. can be removed. During this time, since the inside of the exhaust line can be kept in vacuum, it is not necessary to stop the first vacuum pump and the second vacuum pump, and the time required for the pump to be lowered and started can be reduced.

なお、以上の構成要素の任意の組合せ、本発明の表現を方法、装置などの間で変換したものもまた、本発明の態様として有効である。   It should be noted that any combination of the above-described constituent elements and a conversion of the expression of the present invention between methods, apparatuses, and the like are also effective as an aspect of the present invention.

本発明によれば、イオン注入装置の排気装置で生成する生成物を簡便に迅速に除去することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the product produced | generated with the exhaust apparatus of an ion implantation apparatus can be removed simply and rapidly.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.

図1は、本実施の形態におけるイオン注入装置の構成を示す模式図である。図2は、図1の一点破線で示した箇所を詳細に示すブロック図である。本実施の形態において、生成物除去装置100が設けられている点で、従来のイオン注入装置と異なる。   FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of an ion implantation apparatus according to the present embodiment. FIG. 2 is a block diagram showing in detail the location indicated by the dashed line in FIG. In this Embodiment, it differs from the conventional ion implantation apparatus by the point by which the product removal apparatus 100 is provided.

イオン注入装置250は、たとえば固体ソース金属ヒ素等を使用し、被処理基板のシリコン基板にヒ素等の不純物イオンを注入する。図1に示すように、イオン注入装置250は、イオン発生源202が設けられたイオンソース室と、油拡散ポンプ204(第1の真空ポンプ)と、ビームライン206と、処理室208と、ウェハ立替部210とを含む。イオン発生源202は、不純物イオンを発生させる。処理室208には、被処理基板が配置される。イオン発生源202で発生された不純物イオンはビームライン206を通って処理室208に配置された被処理基板に注入される。ウェハ立替部210では、被処理基板の位置あわせ等が行われる。   The ion implantation apparatus 250 uses, for example, solid source metal arsenic and the like, and implants impurity ions such as arsenic into a silicon substrate to be processed. As shown in FIG. 1, an ion implantation apparatus 250 includes an ion source chamber in which an ion generation source 202 is provided, an oil diffusion pump 204 (first vacuum pump), a beam line 206, a processing chamber 208, a wafer. A replacement unit 210. The ion generation source 202 generates impurity ions. A substrate to be processed is placed in the processing chamber 208. Impurity ions generated by the ion generation source 202 are implanted into a substrate to be processed disposed in the processing chamber 208 through the beam line 206. The wafer replacement unit 210 aligns the substrate to be processed.

図2に示すように、イオン注入装置250は、さらに、クライオポンプ212、クライオポンプ214、ロータリポンプ216、ロータリポンプ218(第2の真空ポンプ)、排気ライン219、バルブ222(FOREバルブ(エアーバルブ))、および生成物除去装置100を含む。油拡散ポンプ204とロータリポンプ218とにより、イオン発生源202が設けられたイオンソース室の排気系である排気装置200が構成される。生成物除去装置100は、排気装置200に蓄積される生成物を除去する。   As shown in FIG. 2, the ion implantation apparatus 250 further includes a cryopump 212, a cryopump 214, a rotary pump 216, a rotary pump 218 (second vacuum pump), an exhaust line 219, a valve 222 (FORE valve (air valve)). )), And a product removal device 100. The oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218 constitute an exhaust device 200 that is an exhaust system of an ion source chamber in which the ion generation source 202 is provided. The product removal device 100 removes the product accumulated in the exhaust device 200.

排気ライン219は、油拡散ポンプ204に接続され、油拡散ポンプ204の排気ガスを排出する。排気ライン219は、ロータリポンプ218にも接続され、ロータリポンプ218により真空にされる。排気ライン219中の排気ガスは、ロータリポンプ218により外部に放出される。   The exhaust line 219 is connected to the oil diffusion pump 204 and discharges the exhaust gas from the oil diffusion pump 204. The exhaust line 219 is also connected to the rotary pump 218 and is evacuated by the rotary pump 218. Exhaust gas in the exhaust line 219 is discharged to the outside by a rotary pump 218.

生成物除去装置100は、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218との間に設けられる。生成物除去装置100は、排気ライン219から分岐するとともに、ロータリポンプ218に接続されて真空にされるバイパスライン113を含む。   The product removal apparatus 100 is provided between the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218. The product removal apparatus 100 includes a bypass line 113 that branches from the exhaust line 219 and is connected to the rotary pump 218 to be evacuated.

図3および図4は、生成物除去装置100の構成を詳細に示す図である。図3および図4は、同じ構成を示すが、図4においては、油拡散ポンプ204を模式的に示している。   3 and 4 are diagrams showing the configuration of the product removing apparatus 100 in detail. 3 and 4 show the same configuration, but FIG. 4 schematically shows the oil diffusion pump 204.

図3に示すように、油拡散ポンプ204は、排気管204aを含む。排気管204aは、先端が上方向に延在するL字形状を有する構成とすることができる。また、排気管204aには、バッフル(不図示)が設けられた構成とすることができる。排気装置200は、さらに、排気管204aとロータリポンプ218とを接続する排気管220を含む。本実施の形態において、排気管204aと排気管220とにより排気ライン219が構成される。   As shown in FIG. 3, the oil diffusion pump 204 includes an exhaust pipe 204a. The exhaust pipe 204a can be configured to have an L shape with the tip extending upward. Further, the exhaust pipe 204a may be provided with a baffle (not shown). The exhaust device 200 further includes an exhaust pipe 220 that connects the exhaust pipe 204 a and the rotary pump 218. In this embodiment, the exhaust pipe 204a and the exhaust pipe 220 constitute an exhaust line 219.

生成物除去装置100は、生成物付着治具102、チャンバ110、キャップ110a、バイパス管114、バルブ104(第1のバルブ、手動バルブ)、バルブ106(第2のバルブ、ラフ引きバルブ)、バルブ108(第3のバルブ、ベントバルブ)、および引上げシャフト112(シャフト)をさらに含む。本実施の形態において、チャンバ110とバイパス管114とによりバイパスライン113が構成される。チャンバ110は、排気管204aに接続して設けられる。バイパス管114は、チャンバ110に接続して設けられる。また、チャンバ110の上部には、キャップ110aが設けられている。チャンバ110は、キャップ110aにより密封される。キャップ110aには、引上げシャフト112が貫通されており、引上げシャフト112はチャンバ110内を上下に移動する。キャップ110aは、たとえばゴム等の弾性材料により構成することができる。   The product removal apparatus 100 includes a product attachment jig 102, a chamber 110, a cap 110a, a bypass pipe 114, a valve 104 (first valve, manual valve), a valve 106 (second valve, roughing valve), a valve. 108 (third valve, vent valve), and pulling shaft 112 (shaft). In the present embodiment, the bypass line 113 is configured by the chamber 110 and the bypass pipe 114. The chamber 110 is provided in connection with the exhaust pipe 204a. The bypass pipe 114 is provided in connection with the chamber 110. Further, a cap 110 a is provided on the upper portion of the chamber 110. The chamber 110 is sealed with a cap 110a. A pulling shaft 112 passes through the cap 110a, and the pulling shaft 112 moves up and down in the chamber 110. The cap 110a can be made of an elastic material such as rubber.

生成物付着治具102は、排気ライン219を移動するガス中の生成物を付着する。生成物付着治具102は、排気ライン219中のバイパスライン113の分岐点よりも油拡散ポンプ204に近い側に配置される。本実施の形態において、生成物付着治具102は、排気管204a内に配置される。また、生成物付着治具102は、バイパスライン113に移動可能に設けられる。本実施の形態において、生成物付着治具102は、バイパスライン113のチャンバ110に移動可能に構成される。つまり、チャンバ110は、生成物付着治具102を収容できる大きさに形成される。生成物除去装置100がイオン注入装置250の排気装置200に用いられる場合、生成物120は、粘土状の軟い物質となる。図7は、生成物付着治具102の構成の一例を示す拡大図である。生成物付着治具102は、中心軸130と、中心軸130に取り付けられた複数のトラップ132と、引上げシャフト112と係合する係合部134とを含む。トラップ132は、板状とすることができる。また、生成物120を効率よく付着するように、トラップ132は、違いに距離を隔てて互い違いの方向に設けられる。係合部134は、引上げシャフト112をライナーとすることができる。   The product attachment jig 102 attaches a product in the gas moving through the exhaust line 219. The product attachment jig 102 is disposed closer to the oil diffusion pump 204 than the branch point of the bypass line 113 in the exhaust line 219. In the present embodiment, the product attachment jig 102 is disposed in the exhaust pipe 204a. The product attachment jig 102 is movably provided on the bypass line 113. In the present embodiment, the product attachment jig 102 is configured to be movable to the chamber 110 of the bypass line 113. That is, the chamber 110 is formed in a size that can accommodate the product attachment jig 102. When the product removal apparatus 100 is used for the exhaust apparatus 200 of the ion implantation apparatus 250, the product 120 is a clay-like soft substance. FIG. 7 is an enlarged view showing an example of the configuration of the product attachment jig 102. The product attachment jig 102 includes a central shaft 130, a plurality of traps 132 attached to the central shaft 130, and an engaging portion 134 that engages with the pulling shaft 112. The trap 132 can be plate-shaped. In addition, the traps 132 are provided in different directions at different distances so that the product 120 is efficiently attached. The engaging part 134 can use the pulling shaft 112 as a liner.

図3では、生成物付着治具102に生成物120が付着する前の状態、図4では、生成物付着治具102に生成物120が付着した後の状態をそれぞれ示す。引上げシャフト112は、チャンバ110と排気管204aとの間で移動可能に設けられている。生成物付着治具102は、引上げシャフト112と係合可能に構成される。引上げシャフト112を生成物付着治具102の係合部134であるライナーに引っ掛けて引上げシャフト112を上下に移動させることにより、生成物付着治具102が排気管204aとチャンバ110との間を移動する。   FIG. 3 shows a state before the product 120 adheres to the product attachment jig 102, and FIG. 4 shows a state after the product 120 adheres to the product attachment jig 102. The pulling shaft 112 is movably provided between the chamber 110 and the exhaust pipe 204a. The product attachment jig 102 is configured to be engageable with the pulling shaft 112. The product attaching jig 102 moves between the exhaust pipe 204a and the chamber 110 by hooking the pulling shaft 112 on the liner which is the engaging portion 134 of the product attaching jig 102 and moving the pulling shaft 112 up and down. To do.

バルブ104は、排気管204aとチャンバ110との間に設けられ、排気管204aとチャンバ110との間を解放および遮蔽する。バルブ106は、バイパス管114に設けられ、バイパス管114と排気管220との間を解放および遮蔽する。本実施の形態において、遮断手段は、バルブ104とバルブ106とにより構成される。つまり、バルブ104およびバルブ106により、バイパスライン113において、生成物付着治具102が移動される箇所であるチャンバ110が排気ライン219から遮断される。   The valve 104 is provided between the exhaust pipe 204 a and the chamber 110, and releases and shields between the exhaust pipe 204 a and the chamber 110. The valve 106 is provided in the bypass pipe 114 and opens and shields between the bypass pipe 114 and the exhaust pipe 220. In the present embodiment, the blocking means includes a valve 104 and a valve 106. In other words, the valve 110 and the valve 106 block the chamber 110, which is the location where the product attachment jig 102 is moved, in the bypass line 113 from the exhaust line 219.

バルブ108は、バイパス管114において、バルブ106よりもチャンバ110側に設けられる。バルブ108は、チャンバ110を大気に解放および大気から遮断する。   The valve 108 is provided in the bypass pipe 114 closer to the chamber 110 than the valve 106. The valve 108 opens the chamber 110 to the atmosphere and blocks it from the atmosphere.

バルブ222は、排気管220のバイパス管114との再接続点よりも、排気管204a側に設けられる。バルブ222は、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218との間に設けられ、油拡散ポンプ204とロータリポンプ218との間を解放および遮蔽する。   The valve 222 is provided closer to the exhaust pipe 204a than the reconnection point of the exhaust pipe 220 with the bypass pipe 114. The valve 222 is provided between the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218, and releases and shields between the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218.

図5および図6は、排気管204aから生成物付着治具102を取り出し、再び排気管204aに生成物付着治具102をセットする手順を示す図である。
本実施の形態において、油拡散ポンプ204およびロータリポンプ218の稼働時には、バルブ222が解放されており、バルブ108は閉められている。バルブ104およびバルブ106も閉じられている。このような状態で、油拡散ポンプ204およびロータリポンプ218を稼働させ、油拡散ポンプ204から排出されるガスをロータリポンプ218に移動させると、生成物付着治具102に生成物120が付着してくる(図5(a))。このとき、排気管204aおよび排気管220は真空となっている。
FIG. 5 and FIG. 6 are diagrams showing a procedure for taking out the product attachment jig 102 from the exhaust pipe 204a and setting the product attachment jig 102 in the exhaust pipe 204a again.
In the present embodiment, when the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218 are in operation, the valve 222 is opened and the valve 108 is closed. Valve 104 and valve 106 are also closed. In such a state, when the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218 are operated and the gas discharged from the oil diffusion pump 204 is moved to the rotary pump 218, the product 120 adheres to the product adhesion jig 102. Come (Fig. 5 (a)). At this time, the exhaust pipe 204a and the exhaust pipe 220 are in a vacuum.

生成物付着治具102に生成物120がある程度付着した場合、以下の手順で生成物付着治具102を取り出す。まず、バルブ222を閉める。次いで、バルブ106を開ける。これにより、チャンバ110およびバイパス管114内が真空となる。つづいて、バルブ104を開ける。その後、引上げシャフト112を下方に移動させ、引上げシャフト112に生成物付着治具102のライナーを引っ掛ける(図5(b))。   When the product 120 adheres to the product attachment jig 102 to some extent, the product attachment jig 102 is taken out in the following procedure. First, the valve 222 is closed. Next, the valve 106 is opened. As a result, the chamber 110 and the bypass pipe 114 are evacuated. Subsequently, the valve 104 is opened. Thereafter, the pulling shaft 112 is moved downward, and the liner of the product attachment jig 102 is hooked on the pulling shaft 112 (FIG. 5B).

つづいて、引上げシャフト112を上方に移動させる。これにより、生成物付着治具102がチャンバ110内に移動する。次いで、バルブ104およびバルブ106を順に閉める(図5(c))。   Subsequently, the pulling shaft 112 is moved upward. As a result, the product attachment jig 102 moves into the chamber 110. Next, the valve 104 and the valve 106 are closed in order (FIG. 5C).

その後、バルブ222を開ける。次いで、バルブ108を開ける。これにより、チャンバ110が大気に解放される。そして、チャンバ110からキャップ110aを取り、引上げシャフト112および生成物付着治具102を取り出す(図6(a))。つづいて、生成物付着治具102を清掃して生成物120を除去する。次いで、再度引上げシャフト112に生成物付着治具102を取付けて、チャンバ110内に導入し、チャンバ110にキャップ110aを取り付ける。なお、ここでは、生成物付着治具102を清掃済の他の生成物付着治具102に取り替えてもよい。   Thereafter, the valve 222 is opened. Next, the valve 108 is opened. Thereby, the chamber 110 is released to the atmosphere. Then, the cap 110a is removed from the chamber 110, and the pulling shaft 112 and the product attachment jig 102 are taken out (FIG. 6A). Subsequently, the product attachment jig 102 is cleaned to remove the product 120. Next, the product attachment jig 102 is attached to the pulling shaft 112 again, introduced into the chamber 110, and the cap 110 a is attached to the chamber 110. Here, the product attachment jig 102 may be replaced with another product attachment jig 102 that has been cleaned.

つづいて、バルブ108を閉める。次いで、バルブ222も閉める。その後、バルブ106を開ける。これにより、チャンバ110およびバイパス管114が真空になる。つづいて、バルブ104を開ける(図6(b))。次いで、引上げシャフト112を下方に移動させ、排気管204aに生成物付着治具102をセットする(図6(c))。   Subsequently, the valve 108 is closed. Next, the valve 222 is also closed. Thereafter, the valve 106 is opened. Thereby, the chamber 110 and the bypass pipe 114 are evacuated. Subsequently, the valve 104 is opened (FIG. 6B). Next, the pulling shaft 112 is moved downward, and the product attachment jig 102 is set in the exhaust pipe 204a (FIG. 6C).

この後、引上げシャフト112を生成物付着治具102のライナーから外して、引上げシャフト112を上方に移動させる。次いで、バルブ104を閉じる。つづいて、バルブ106も閉め、その後バルブ222を開ける。これにより、図5(a)に示した状態に戻り、生成物付着治具102に生成物120が付着するまで、油拡散ポンプ204およびロータリポンプ218を稼働させる。   Thereafter, the pulling shaft 112 is removed from the liner of the product attachment jig 102, and the pulling shaft 112 is moved upward. Next, the valve 104 is closed. Subsequently, the valve 106 is also closed, and then the valve 222 is opened. Accordingly, the state returns to the state shown in FIG. 5A and the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218 are operated until the product 120 adheres to the product attachment jig 102.

本実施の形態における生成物除去装置100によれば、真空ポンプ間の排気ライン219に生成物付着治具102を配置するとともに、排気ライン219にバイパスライン113を設け、生成物付着治具102をバイパスライン113に移動させて、排気ライン219排気管を真空に保ったままバイパスライン113だけを大気に解放して生成物付着治具102を外部に取り出せるようにした。排気管204aおよび排気管220の真空状態を保ったままで排気管204aから生成物付着治具102を取り出せるので、生成物を除去するために、油拡散ポンプ204やロータリポンプ218の稼働を止める必要がない。そのため、生成物を除去する際の時間を大幅に短縮することができる。   According to the product removal apparatus 100 in the present embodiment, the product attachment jig 102 is disposed in the exhaust line 219 between the vacuum pumps, and the bypass line 113 is provided in the exhaust line 219, so that the product attachment jig 102 is The product was moved to the bypass line 113, and only the bypass line 113 was released to the atmosphere while keeping the exhaust line 219 exhaust pipe in a vacuum so that the product adhesion jig 102 could be taken out. Since the product adhering jig 102 can be taken out from the exhaust pipe 204a while maintaining the vacuum state of the exhaust pipe 204a and the exhaust pipe 220, it is necessary to stop the operation of the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218 in order to remove the product. Absent. Therefore, the time for removing the product can be greatly shortened.

とくに、排気管204aが油拡散ポンプ204と一体型で形成されている場合、排気管204aに付着した生成物を除去するのは困難である。また、排気管204aがL字形状を有している場合、排気管204aのコーナ部に生成物が付着しやすい。本実施の形態においては、生成物が最も蓄積しやすい排気管204aに生成物付着治具102を配置している。これにより、生成物が生成物付着治具102に付着するようにすることができる。さらに、排気管204aからそのまままっすぐ鉛直方向に延在するチャンバ110を排気管204aの先端に取り付け、生成物付着治具102がチャンバ110に移動可能となるようにしている。さらに、排気管204aおよび排気管220を真空状態にしたまま、チャンバ110のみを大気に解放可能な構成とした。これにより、油拡散ポンプ204およびロータリポンプ218を稼働させたままで、生成物付着治具102を排気管204aから取り外して、清掃後、再び排気管204aに戻せるようにした。   In particular, when the exhaust pipe 204a is formed integrally with the oil diffusion pump 204, it is difficult to remove the product attached to the exhaust pipe 204a. In addition, when the exhaust pipe 204a has an L shape, the product tends to adhere to the corner portion of the exhaust pipe 204a. In the present embodiment, the product attachment jig 102 is disposed in the exhaust pipe 204a where the product is most likely to accumulate. As a result, the product can adhere to the product attachment jig 102. Further, a chamber 110 that extends straight from the exhaust pipe 204 a in the vertical direction is attached to the tip of the exhaust pipe 204 a so that the product attachment jig 102 can move to the chamber 110. Further, only the chamber 110 can be released to the atmosphere while the exhaust pipe 204a and the exhaust pipe 220 are kept in a vacuum state. As a result, the product adhering jig 102 was removed from the exhaust pipe 204a while the oil diffusion pump 204 and the rotary pump 218 were operating, and after cleaning, the product could be returned to the exhaust pipe 204a again.

これにより、生成物を除去する際に従来必要だった、油拡散ポンプ204のヒータの停止、冷却、立ち上げ時のヒータの温度上昇待ちの時間が不要となった。そのため、迅速かつ簡易に排気装置200から生成物を除去することができる。たとえば、従来、生成物を除去するために、油拡散ポンプ204の立ち下げ、立ち上げに約2.5時間かかっていたが、本実施の形態における生成物除去装置100を用いることにより、15分程度で行えるようになった。これにより、排気装置200の稼動率向上が可能になる。   This eliminates the need for waiting for the heater temperature to rise when the heater of the oil diffusion pump 204 is stopped, cooled, and started up, which was conventionally required when removing the product. Therefore, the product can be removed from the exhaust device 200 quickly and easily. For example, conventionally, in order to remove the product, it took about 2.5 hours for the oil diffusion pump 204 to be lowered and started. However, by using the product removing apparatus 100 according to the present embodiment, 15 minutes are required. It became possible to do with degree. Thereby, the operating rate of the exhaust device 200 can be improved.

以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described with reference to drawings, these are the illustrations of this invention, Various structures other than the above are also employable.

以上の実施の形態では、排気管204aが油拡散ポンプ204と一体に構成された例を示したが、本発明の生成物除去装置100は、排気管204aが、油拡散ポンプ204に取り付けられたような構成に適用することもできる。   In the above embodiment, an example in which the exhaust pipe 204a is configured integrally with the oil diffusion pump 204 is shown. However, in the product removal apparatus 100 of the present invention, the exhaust pipe 204a is attached to the oil diffusion pump 204. It is also possible to apply to such a configuration.

本発明の実施の形態におけるイオン注入装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the ion implantation apparatus in embodiment of this invention. 図1の一点破線で示した箇所を詳細に示すブロック図である。It is a block diagram which shows the location shown with the dashed-dotted line of FIG. 1 in detail. 本発明の実施の形態における生成物除去装置の構成を詳細に示す図である。It is a figure which shows the structure of the product removal apparatus in embodiment of this invention in detail. 本発明の実施の形態における生成物除去装置の構成を詳細に示す図である。It is a figure which shows the structure of the product removal apparatus in embodiment of this invention in detail. 排気管から生成物付着治具を取り出し、再び排気管に生成物付着治具をセットする手順を示す図である。It is a figure which shows the procedure which takes out a product adhesion jig | tool from an exhaust pipe, and sets a product adhesion jig | tool in an exhaust pipe again. 排気管から生成物付着治具を取り出し、再び排気管に生成物付着治具をセットする手順を示す図である。It is a figure which shows the procedure which takes out a product adhesion jig | tool from an exhaust pipe, and sets a product adhesion jig | tool in an exhaust pipe again. 生成物付着治具の構成の一例を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows an example of a structure of a product adhesion jig | tool. 従来の排気装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the conventional exhaust apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

100 生成物除去装置
102 生成物付着治具
104 バルブ
106 バルブ
108 バルブ
110 チャンバ
110a キャップ
112 シャフト
113 バイパスライン
114 バイパス管
120 生成物
130 中心軸
132 トラップ
134 係合部
200 排気装置
202 イオン発生源
204 油拡散ポンプ
204a 排気管
206 ビームライン
208 処理室
210 ウェハ立替部
212 クライオポンプ
214 クライオポンプ
216 ロータリポンプ
218 ロータリポンプ
219 排気ライン
220 排気管
222 バルブ
250 イオン注入装置
300 排気装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Product removal apparatus 102 Product attachment jig | tool 104 Valve 106 Valve 108 Valve 110 Chamber 110a Cap 112 Shaft 113 Bypass line 114 Bypass pipe 120 Product 130 Center axis 132 Trap 134 Engagement unit 200 Exhaust device 202 Ion generation source 204 Oil Diffusion pump 204a Exhaust pipe 206 Beam line 208 Processing chamber 210 Wafer replacement part 212 Cryo pump 214 Cryo pump 216 Rotary pump 218 Rotary pump 219 Exhaust line 220 Exhaust pipe 222 Valve 250 Ion implantation apparatus 300 Exhaust apparatus

Claims (10)

第1の真空ポンプと、前記第1の真空ポンプに接続され、前記第1の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第2の真空ポンプと、を含む排気装置から生成物を除去する生成物除去装置であって、
前記排気ラインから分岐するとともに、前記第2の真空ポンプに接続されて真空にされるバイパスラインと、
前記排気ライン中の前記バイパスラインとの分岐点よりも前記第1の真空ポンプに近い側に配置されて前記ガス中の生成物を付着するとともに、前記バイパスラインに移動可能に設けられた生成物付着治具と、
前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する遮断手段と、
を含む生成物除去装置。
A first vacuum pump; an exhaust line connected to the first vacuum pump for exhausting exhaust gas of the first vacuum pump; and a second connected to the exhaust line for evacuating the exhaust line. A product removal device for removing product from an exhaust device comprising a vacuum pump,
A bypass line branched from the exhaust line and connected to the second vacuum pump to be evacuated;
A product that is disposed closer to the first vacuum pump than a branch point with the bypass line in the exhaust line, adheres a product in the gas, and is movably provided in the bypass line An attachment jig;
Blocking means for blocking from the exhaust line the place where the product adhering jig of the bypass line is moved;
A product removal device comprising:
請求項1に記載の生成物除去装置において、
前記バイパスラインは、前記第2の真空ポンプに近い側で、前記排気ラインに再接続するように構成され、
前記遮断手段は、前記分岐点に設けられ、前記排気ラインと前記バイパスラインとの間を解放および遮断する第1のバルブと、前記バイパスラインの前記排気ラインとの再接続点よりも前記第2の真空ポンプから遠い箇所に設けられ、前記排気ラインと前記バイパスラインとの間を解放および遮断する第2のバルブと、とを含む生成物除去装置。
The product removal apparatus according to claim 1, wherein
The bypass line is configured to reconnect to the exhaust line on a side near the second vacuum pump;
The shut-off means is provided at the branch point, and the first valve that releases and shuts off between the exhaust line and the bypass line, and the second connection point than the reconnection point of the bypass line to the exhaust line. And a second valve provided at a location far from the vacuum pump for releasing and blocking between the exhaust line and the bypass line.
請求項1または2に記載の生成物除去装置において、
前記バイパスラインを大気に解放および大気から遮断する第3のバルブをさらに含む生成物除去装置。
The product removal apparatus according to claim 1 or 2,
A product removal apparatus further comprising a third valve that opens the bypass line to the atmosphere and blocks the atmosphere from the atmosphere.
請求項1から3いずれかに記載の生成物除去装置において、
前記バイパスラインは、前記分岐点に設けられ、前記生成物付着治具を収容可能に設けられたチャンバと、当該チャンバと前記排気ラインとを前記第2の真空ポンプに近い側で再接続するバイパス管と、を含む生成物除去装置。
In the product removal apparatus in any one of Claim 1 to 3,
The bypass line is provided at the branch point, and is a bypass for reconnecting the chamber provided to be able to accommodate the product attachment jig, and the chamber and the exhaust line on the side close to the second vacuum pump. A product removal device comprising: a tube;
請求項1から4いずれかに記載の生成物除去装置において、
前記排気ライン中の前記生成物付着治具が配置される箇所と、前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所との間で移動可能に設けられたシャフトをさらに含み、
前記生成物付着治具は、前記シャフトと係合可能に構成され、
前記シャフトを前記生成物付着治に係合させて前記シャフトを移動させることにより前記生成物付着治具を前記排気ラインと前記バイパスラインとの間で移動させる生成物除去装置。
In the product removal apparatus in any one of Claim 1 to 4,
A shaft further movably provided between a location where the product adhesion jig in the exhaust line is disposed and a location where the product adhesion jig of the bypass line is moved;
The product attachment jig is configured to be engageable with the shaft,
A product removal device for moving the product attachment jig between the exhaust line and the bypass line by moving the shaft by engaging the shaft with the product attachment treatment.
請求項1から5いずれかに記載の生成物除去装置において、
前記第1の真空ポンプは、油拡散ポンプで、前記第2の真空ポンプは、ロータリポンプである生成物除去装置。
In the product removal apparatus in any one of Claim 1 to 5,
The first vacuum pump is an oil diffusion pump, and the second vacuum pump is a rotary pump.
第1の真空ポンプと、
前記第1の真空ポンプに接続され、前記第1の真空ポンプの排気ガスを排出する排気ラインと、
前記排気ラインに接続され、前記排気ラインを真空にする第2の真空ポンプと、
前記請求項1から6いずれかに記載の生成物除去装置と、
を含む排気装置。
A first vacuum pump;
An exhaust line connected to the first vacuum pump and exhausting exhaust gas of the first vacuum pump;
A second vacuum pump connected to the exhaust line and evacuating the exhaust line;
The product removal device according to any one of claims 1 to 6;
Including exhaust system.
不純物イオンを発生させ、被処理基板に当該不純物イオンを注入するイオン注入装置であって、
前記不純物イオンを発生させるイオン発生源が設けられたイオンソース室と、
請求項7に記載の排気装置であって、前記イオンソース室の排気ガスを排出する排気装置と、
を含むイオン注入装置。
An ion implantation apparatus for generating impurity ions and implanting the impurity ions into a substrate to be processed,
An ion source chamber provided with an ion generation source for generating the impurity ions;
The exhaust device according to claim 7, wherein the exhaust device exhausts exhaust gas from the ion source chamber;
An ion implanter.
請求項1から6いずれかに記載の生成物除去装置を用いて、
前記第1の真空ポンプおよび前記第2の真空ポンプを稼働させて前記排気ラインおよび前記バイパスライン内を真空とする工程と、
前記排気ラインから前記生成物付着治具を前記バイパスラインに移動させる工程と、
前記排気ラインを真空にしたまま、前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断する工程と、
前記バイパスラインを大気に解放する工程と、
前記バイパスラインから前記生成物付着治具を取り出す工程と、
を含む生成物除去方法。
Using the product removing device according to any one of claims 1 to 6,
Operating the first vacuum pump and the second vacuum pump to evacuate the exhaust line and the bypass line; and
Moving the product attachment jig from the exhaust line to the bypass line;
Shutting off the place where the product adhering jig of the bypass line is moved from the exhaust line by the shut-off means while keeping the exhaust line in a vacuum;
Releasing the bypass line to the atmosphere;
Removing the product attachment jig from the bypass line;
A product removal method comprising:
請求項9に記載の生成物除去方法において、
前記排気ラインを真空にしたままで、かつ前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所を前記排気ラインから遮断した状態で、前記バイパスラインに前記生成物付着治具を導入する工程と、
前記バイパスラインを大気から遮断する工程と、
前記バイパスライン内を真空とする工程と、
前記遮断手段により前記バイパスラインの前記生成物付着治具が移動される箇所と前記排気ラインとの間を解放する工程と、
前記生成物付着治具を前記バイパスラインから前記排気ラインに移動させる工程と、
を含む生成物除去方法。
The product removal method according to claim 9.
The product adhesion jig is connected to the bypass line in a state where the exhaust line is kept in a vacuum and the location where the product adhesion jig of the bypass line is moved by the blocking means is blocked from the exhaust line. A process of introducing
Shutting off the bypass line from the atmosphere;
Vacuuming the bypass line;
Releasing the space between the exhaust line and the place where the product adhering jig of the bypass line is moved by the blocking means;
Moving the product attachment jig from the bypass line to the exhaust line;
A product removal method comprising:
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