JP2010062412A - Electronic component - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、携帯電話等に用いられる電子部品に関するものである。 The present invention relates to an electronic component used for a mobile phone or the like.
従来この種の電子部品は、図2に示すように、素体1と、前記素体1に埋設された導電パターン2と、前記導電パターン2に電気的に接続されると共に前記素体1外へ引き出された外部電極3とを備え、前記外部電極3が実装基板4と半田フィレット5により接合される構成をしていた。 Conventionally, as shown in FIG. 2, this type of electronic component includes an element body 1, a conductive pattern 2 embedded in the element body 1, an electric connection to the conductive pattern 2, and an outside of the element body 1. And the external electrode 3 is joined to the mounting substrate 4 and the solder fillet 5.
なお、この出願に関する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。
このような従来の電子部品は、電気的接続信頼性が低いことが問題となっていた。 Such a conventional electronic component has a problem of low electrical connection reliability.
すなわち、上記従来の構成においては、前記実装基板4の線膨張係数と前記素体1の線膨張係数とが異なるため、当該電子部品を取り巻く温度状態の変化により前記半田フィレットが剥離し、電気的接続信頼性が低くなってしまっていた。 That is, in the above-described conventional configuration, the linear expansion coefficient of the mounting substrate 4 and the linear expansion coefficient of the element body 1 are different, so that the solder fillet is peeled off due to a change in the temperature state surrounding the electronic component, and the electrical Connection reliability was low.
そこで本発明は、電子部品の電気的接続信頼性を向上させることを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to improve electrical connection reliability of electronic components.
そして、この目的を達成するために本発明は、素体と、前記素体における導電体形成層内に埋設された導電パターンと、前記導電パターンに電気的に接続されると共に前記素体外へ引き出された外部電極とを備え、前記素体は前記導電体形成層と導電体非形成層とを有し、前記導電体非形成層の内少なくとも一層のフィラー含有率を前記導電体形成層の内少なくとも一層のフィラー含有率よりも高くした電子部品としたものである。 In order to achieve this object, the present invention provides an element body, a conductive pattern embedded in a conductor formation layer in the element body, and an electrical connection to the conductive pattern and the outside of the element body. An external electrode, and the element body includes the conductor formation layer and a conductor non-formation layer, and the filler content of at least one layer of the conductor non-formation layer is determined in the conductor formation layer. The electronic component is higher than the filler content of at least one layer.
この構成により、前記素体における前記導電体非形成層の線膨張係数を低くし、前記素体全体としての線膨張係数を低下させることができるため、前記素体と実装基板との線膨張係数の差を減少させ、半田フィレットの剥離を抑制することができ、その結果として電気的接続信頼性を向上させることができるのである。 With this configuration, since the linear expansion coefficient of the conductor non-forming layer in the element body can be lowered and the linear expansion coefficient as the entire element body can be reduced, the linear expansion coefficient between the element body and the mounting substrate can be reduced. Thus, the solder fillet peeling can be suppressed, and as a result, the electrical connection reliability can be improved.
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1における電子部品について図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, the electronic component according to Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings.
本実施の形態に示す電子部品は、図1に示すごとく、素体11と、前記素体11における導電体形成層12内に埋設された導電パターン13と、前記導電パターン13に電気的に接続されると共に前記素体11外へ引き出された外部電極14とを備え、前記素体11は前記導電体形成層12と導電体非形成層15とを有し、前記導電体非形成層15の内少なくとも一層のフィラー含有率を前記導電体形成層12の内少なくとも一層のフィラー含有率よりも高くした構成としている。
As shown in FIG. 1, the electronic component shown in the present embodiment is electrically connected to the element body 11, the
具体的には、エポキシ、ポリイミド等の樹脂からなる素体11における導電体形成層12内に、銅、銀等の導電率の高い導電材料からなるコイル、ビア等の導電パターン12が埋設され、この導電パターン12に同じく銅、銀等の導電率の高い導電材料からなる外部電極14が電気的に接続され、前記素体11外に引き出されており、前記素体11における導電体非形成層15のフィラー含有率を前記導電体形成層12の内少なくとも一層のフィラー含有率よりも高くした構成としている。
Specifically, a
このような構成により、前記素体11における前記導電体非形成層15の線膨張係数を低くし、前記素体11全体としての線膨張係数を低下させることができるため、前記素体11と実装基板16との線膨張係数の差を減少させ、前記外部電極14と前記実装基板16とを電気的に接続する半田フィレット17の剥離を抑制することができ、その結果として電気的接続信頼性を向上させることができるのである。 With such a configuration, the linear expansion coefficient of the conductor non-forming layer 15 in the element body 11 can be lowered, and the linear expansion coefficient of the element body 11 as a whole can be reduced. The difference in linear expansion coefficient with the substrate 16 can be reduced, and the peeling of the solder fillet 17 that electrically connects the external electrode 14 and the mounting substrate 16 can be suppressed. As a result, the electrical connection reliability is improved. It can be improved.
さらに、前記導電体形成層12の内少なくとも一層のフィラー含有率を前記導電体非形成層15の内少なくとも一層のフィラー含有率よりも低くしているため、前記導電パターン13の形成精度を担保することができ、上述した電気的接続信頼性の向上と導電パターン13の形成精度の担保との両立を図ることができるのである。
Furthermore, since the filler content of at least one layer of the
さらに、前記導電体非形成層15の内少なくとも一層のフィラー含有率を前記導電体形成層12の内少なくとも一層のフィラー含有率よりも高くした構成としているため、前記導電体非形成層15のヤング率を及びガラス転移点を高くすることができ、その結果として前記素体11全体としての強度を向上させることができるのである。
Furthermore, since the filler content of at least one layer of the conductor non-forming layer 15 is set higher than the filler content of at least one layer of the
さらに、前記導電体形成層12の内少なくとも一層のフィラー含有率を前記導電体非形成層15の内少なくとも一層のフィラー含有率よりも低くしているため、前記導電パターン13と前記素体11との線膨張係数の違いから生まれる内部応力を緩和させることができ、より一層、電気的接続信頼性を向上させることができるのである。
Furthermore, since the filler content of at least one layer of the
なお、前記フィラーとしては、球形状で、且つその粒系が0.2μm以下であることが望ましい。球形状とすることによりペーストとしての塗布性を向上させることができ、当該電子部品の生産性を向上させることができるのである。また、粒系を0.2μm以下とすることにより、当該電子部品をフォトリソ工程により形成する場合においても、露光する光の波長よりも十分小さい粒形となるため、露光に対する悪影響を抑制することができるのである。 In addition, as said filler, it is desirable that it is spherical shape and the particle system is 0.2 micrometer or less. By making it spherical, the applicability as a paste can be improved, and the productivity of the electronic component can be improved. In addition, by setting the grain system to 0.2 μm or less, even when the electronic component is formed by a photolithography process, the grain shape is sufficiently smaller than the wavelength of light to be exposed, so that adverse effects on exposure can be suppressed. It can be done.
本発明の電子部品は、電気的接続信頼性を向上させることができるという効果を有し、携帯電話等の各種電子機器において有用である。 The electronic component of the present invention has an effect of improving electrical connection reliability, and is useful in various electronic devices such as mobile phones.
11 素体
12 導電体形成層
13 導電パターン
14 外部電極
15 導電体非形成層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11
Claims (2)
前記素体における導電体形成層内に埋設された導電パターンと、
前記導電パターンに電気的に接続されると共に
前記素体外へ引き出された外部電極とを備え、
前記素体は前記導電体形成層と導電体非形成層とを有し、
前記導電体非形成層の内少なくとも一層のフィラー含有率を
前記導電体形成層の内少なくとも一層のフィラー含有率よりも高くした
電子部品。 With the body,
A conductive pattern embedded in a conductor forming layer in the element body;
An external electrode electrically connected to the conductive pattern and drawn out of the element body,
The element body includes the conductor forming layer and a conductor non-forming layer,
The electronic component which made the filler content rate of at least one layer in the said conductor non-formation layer higher than the filler content rate of at least one layer in the said conductor formation layer.
請求項1に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 1, wherein a particle system of the filler is 0.2 μm or less.
Priority Applications (1)
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JP2008227945A JP2010062412A (en) | 2008-09-05 | 2008-09-05 | Electronic component |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013115421A (en) * | 2011-11-25 | 2013-06-10 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Inductor and manufacturing method therefor |
JP2014140249A (en) * | 2010-12-16 | 2014-07-31 | Panasonic Corp | Acoustic wave device |
-
2008
- 2008-09-05 JP JP2008227945A patent/JP2010062412A/en active Pending
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