JP2010048916A - 液晶表示装置、および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】光の利用効率の優れた液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】表示装置１００は、照明装置５と半透過反射型の表示パネル３との間に、レンズユニット４を備えている。レンズユニット４には、照明装置５から反射領域に向かう光のうち、少なくとも一部の光を透過領域に導くための複数の凹レンズが形成されている。凹レンズは、画素行に沿って連続する反射領域に重なって配置されたシリンドリカルレンズである。これにより、透過領域に導かれる光の分、光の利用効率を高めることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶表示装置、および当該液晶表示装置を備えた電子機器に関する。

特許文献１（例えば、図１）には、液晶パネルと、当該液晶パネルを背面から照射する照明装置（バックライト）とを備えた液晶表示装置が示されている。照明装置には、複数のＬＥＤ（Light Emitting Diode）と、各ＬＥＤが放射する光を液晶パネル側に向かう光として集光する凸レンズを含む光学系とがＬＥＤごとに形成されていた。
この照明装置によれば、ＬＥＤが放射する光を効率良く液晶パネルを照明する照明光とすることが可能であるとしている。

また、特許文献２には、複数の画素を備えた半透過反射型の液晶パネルが示されている。当該液晶パネルにおける１つの画素（例えば、図２）内には、透過表示を行う透過表示領域（透過領域：Ｔ）と、反射表示を行う反射表示領域（反射領域：Ｒ）とが設けられていた。透過領域では照明装置から入射される光を利用した透過表示が行われ、反射領域では外光を利用した反射表示が行われる。
ここで、特許文献２の液晶パネルのバックライトとして、特許文献１の照明装置を用いることによって、光の利用効率良く、液晶パネルを照明することが考えられる。

特開２００６−２２７１１７号公報 特開２００８−１５２２９号公報

しかしながら、この構成では、半透過反射型の液晶パネルを照明する光のうち、反射領域を照明する光は、透過表示に寄与しない無駄な光となってしまっていた。
つまり、光の利用効率が高い照明装置を用いたとしても、透過表示に寄与するのは、透過領域に入射する光のみであり、光を透過しない反射層などが形成された反射領域に入射した光は、熱として浪費されてしまい、有効活用されていなかったという課題があった。
換言すれば、反射領域に入射する光を生成する分の消費電力は、無駄に費やされていることになり、エネルギー効率が良くないという課題があった。

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。

《適用例》
第１基板と、第１基板に対向する第２基板と、第１基板及び第２基板の間に介在する液晶と、第１基板の液晶側とは反対側に配置され、第１基板に向けて光を照射する照明装置と、照明装置からの光を透過させることで透過表示を行う透過領域と、第２基板を介して液晶に入射された光を反射させることで反射表示を行う反射領域と、を各々が有する複数の画素と、第１基板と照明装置との間に配置され、照明装置から反射領域に向かう光のうち、少なくとも一部を透過領域に導く凹レンズと、を備えることを特徴とする液晶表示装置。

この液晶表示装置によれば、第１基板と照明装置との間に、凹レンズを備えているため、照明装置から反射領域に向かう光のうち、少なくとも一部の光を透過領域に導くことができる。
よって、反射領域に向かう光を無駄に費やしていた従来の液晶表示装置と比べて、透過領域に導かれる光の分、光の利用効率に優れた液晶表示装置を提供することができる。
従って、無駄に費やされる光が低減されるため、エネルギー効率に優れた液晶表示装置を提供することができる。

また、画素内において、透過領域と反射領域とは、隣り合って配置され、凹レンズは、反射領域に重なって配置されるとともに、照明装置から入射される光の一部を屈折し、隣り合うの透過領域に入射させることが好ましい。
また、各々の画素における透過領域と反射領域とは、隣り合う画素間において、画素行または画素列のいずれかの配列方向において、連続して形成され、凹レンズは、配列方向における複数の画素の反射領域に跨って連続したシリンドカルレンズとして形成されていることが好ましい。

また、画素行および画素列に沿ってそれぞれの画素を区画する光吸収層からなるブラックマトリックスを備え、第１基板と照明装置との間には、配列方向に連続する透過領域において、ブラックマトリックスと重なる部分に、照明装置からブラックマトリックスに向かう光のうち、少なくとも一部を隣りの透過領域に導くための凹レンズであるＢＭ凹レンズが、さらに設けられていることが好ましい。
また、第１基板の対角関係にある２対の端部のうち、少なくともいずれか１対には、第１の合わせマークが設けられ、複数の凹レンズは、レンズ基板上に形成され、レンズ基板には、第１の合わせマークと平面的に重なる位置に第２の合わせマークが設けられ、第１基板とレンズ基板とは、第１の合わせマークと第２の合わせマークとが平面的に重ねられた状態で組立てられていることが好ましい。
また、第１偏光板と第２偏光板とをさらに備え、照明装置から、第１偏光板、レンズ基板、第１基板、液晶、第２基板、第２偏光板の順番に積層されていることが好ましい。

上記のいずれかに記載の液晶表示装置を表示部として備えたことを特徴とする電子機器。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。

（実施形態１）
《表示装置の概略構成》
図１は、本実施形態に係る表示装置の概略構成を示した斜視図である。図２は、表示装置の概略断面図である。
まず、本発明の実施形態１に係る液晶表示装置である表示装置１００の概要構成について、図１および図２を用いて説明する。

表示装置１００は、表示パネル３と、レンズユニット４と、照明装置５とを含んで構成されている。
表示パネル３は、半透過反射型の液晶パネルであり、その背面側には、透過表示におけるバックライトとして照明装置５が設けられている。照明装置５から出射した光は、レンズユニット４を介して表示パネル３に入射し、透過表示が行われる。
表示パネル３には、複数の画素７が設けられている。複数の画素７は、表示領域８内で、図中のＸ軸方向及びＹ軸方向に配列しており、Ｘ軸方向を行方向とし、Ｙ軸方向を列方向とするマトリックスＭを構成している。なお、表示領域８とは、複数の画素７から構成された画像が表示される領域である。また、Ｚ軸方向は、表示装置１００の厚さ方向、換言すると、各部の積層方向を示している。
また、図１では、構成をわかりやすく示すため、画素７が誇張され、且つ画素７の個数が減じられている。

図２は、図１中のＡ−Ａ線における断面図である。
表示パネル３は、液晶パネル１０と、第１偏光板としての偏光板１１ａと、第２偏光板としての偏光板１１ｂとを有している。なお、本明細書においては、表裏の偏光板が設けられていない状態のパネルのことを「液晶パネル」と呼ぶ。また、偏光板１１ｂの表面を表示面９という。
液晶パネル１０は、第１基板としての素子基板１３と、第２基板としての対向基板１５と、液晶１９と、シール材２１とを含んで構成されている。
素子基板１３と対向基板１５とは、周縁部に配置されたシール材２１によって間隙を持って向い合って配置されている。また、当該間隙には、液晶１９が封入されている。
素子基板１３には、表示面９側すなわち液晶１９側に、複数の画素７のそれぞれに対応して、後述するスイッチング素子などが設けられている。
対向基板１５は表示面９側に位置し、当該基板の液晶１９側には後述する位相差膜などが設けられている。

偏光板１１ａ，１１ｂは、液晶パネル１０の表裏面に設けられており、照明装置５が出射する照明光の入射方向から、偏光板１１ａ、液晶パネル１０、偏光板１１ｂの順番で配置されている。また、吸収型偏光板である偏光板１１ａ及び１１ｂは、偏光板１１ａにおける光の透過軸の方向と、偏光板１１ｂにおける光の透過軸の方向とが、互いに直交する方向に設定されている。
また、液晶パネル１０において、素子基板１３の一辺が対向基板１５から張出した領域が設けられており、当該領域には、液晶パネル１０を駆動するための駆動ＩＣ（Integrated Circuit）２５が実装されている。駆動ＩＣ２５は、画素ごとに設けられたスイッチング素子を走査駆動するためのドライバである。なお、本実施形態では、液晶１９の駆動方式として、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型の駆動方式が採用されている。

なお、偏光板１１ａと素子基板１３との間や、偏光板１１ｂと対向基板１５との間に、さらに光学補償フィルムを設けても良い。光学補償フィルムを設けることで、液晶１９を表示面９の法線方向から見たときや、法線方向から傾斜した方向から見たときなどの液晶１９の位相差を補償することができる。これにより、光漏れを低減することができ、コントラストの向上が図られる。
レンズユニット４は、図２に示すように、表示パネル３と、照明装置５（光射出面３５ｂ）とに密着した状態で挟持されている。
レンズユニット４には、照明装置５から出射した光のうち、後述する反射領域に向かう光の一部を透過領域に差し向ける光学作用を有する複数の凹レンズが形成されている。なお、レンズユニット４の詳細については後述する。

照明装置５は、導光板３１と、光源３３とを有しており、導光板３１の光射出面３５ｂがレンズユニット４の底面に面して配置されている。
導光板３１は、透明な板状部材であり、アクリルや、ポリカーボネートなどの透明樹脂、またはガラスなどから構成されている。
光源３３は、例えば、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）や冷陰極管などが採用され、図２において導光板３１の左側の一端面に対向して設けられている。なお、図１における光源３３は、導光板３１の一端面に沿った棒状に描かれているが、複数のＬＥＤを一端面に沿って配置する構成であっても良い。
また、光源としては、導光板３１の一端面に沿って光を出射することができる構成であれば良く、例えば、無機または有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子を光源として用いても良い。

光源３３から出射された光は、導光板３１の一端面から入射し、導光板３１の中で反射を繰り返しながら光射出面３５ｂから出射される。光射出面３５ｂから出射された光は、レンズユニット４を介して、表示パネル３に入射される。
なお、導光板３１の光射出面３５ｂ側には拡散板を設け、また、底面３５ｃ側には反射板を設けても良い。これにより、より光の利用効率を高めるとともに、より均一な光分布の照明光を出射することができる。

《画素配置および画素構成》
図３は、表示パネルの画素配置を示した平面図である。図４は、画素の拡大図である。
続いて、表示パネルの画素配置および画素構成について、図３および図４を用いて説明する。
図３に示すように、表示パネル３の表示領域８（図１）には、複数の画素７がＸ軸方向に連続する画素行と、当該画素行がＹ軸方向に並んだ画素列とからなるマトリックスＭが構成されている。
また、マトリックスＭを構成する複数の画素７は、赤色系（Ｒ）、緑色系（Ｇ）、青色系（Ｂ）の画素を含んで構成されている。
なお、以下の説明においては、画素７という表記と、画素７ｒ、７ｇ及び７ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。
また、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑等を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。

マトリックスＭでは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７が、１つの画素列４１を構成している。１つの画素列４１内の各画素７は、光の色がＲ、Ｇ及びＢのうちの１つに設定されている。
つまり、マトリックスＭは、複数の画素７ｒがＹ方向に配列した画素列４１ｒと、複数の画素７ｇがＹ方向に配列した画素列４１ｇと、複数の画素７ｂがＹ方向に配列した画素列４１ｂとを有している。
そして、マトリックスＭでは、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂが、この順でＸ方向に沿って反復して並んでいる。なお、以下においては、画素列４１という表記と、画素列４１ｒ、画素列４１ｇ及び画素列４１ｂという表記とが、適宜、使いわけられる。

図４は、図３におけるＣ部の拡大図である。
図４に示すように、画素７は、透過領域Ｔと、反射領域Ｈとを有している。なお、図４では、構成をわかりやすく示すため、反射領域Ｈにハッチングを施している。
透過領域Ｔでは、照明装置５（図１）から入射された光を表示面９側に透過させることによって、透過表示が行われる。
反射領域Ｈでは、表示面９を介して表示パネル３に入射した外光を、後述する反射膜で反射させて、その反射光を表示面９側に出射することによって、反射表示が行われる。なお、外光とは、表示パネル３の表示面９から入射されるあらゆる光である。外光には、例えば、屋内外の照明光や、太陽光などが含まれる。

《液晶パネルの構成》
図５は、液晶パネルの１画素における断面図である。図６は、同画素の詳細な平面図である。
続いて、液晶パネル１０の具体的な構成について、図５および図６を用いて説明する。
図５は、図４におけるＤ−Ｄ線の断面図であり、素子基板１３は、第１基板５１と、素子層５２とを有している。
第１基板５１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた対向面５４ａと、その反対（底面）側に向けられた外向面５４ｂとを有している。なお、以降の説明において底面側とは、外向面５４ｂ側のことを指す。
素子層５２は、第１基板５１の対向面５４ａに設けられている。素子層５２には、ゲート絶縁膜５７と、絶縁膜５９と、配向膜６１と、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子６３と、反射膜６５と、共通電極６７と、画素電極６９とが含まれている。

ゲート絶縁膜５７は、第１基板５１の対向面５４ａに設けられている。絶縁膜５９は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられている。配向膜６１は、絶縁膜５９の表示面９側に設けられている。
ＴＦＴ素子６３と、反射膜６５と、共通電極６７と、画素電極６９とは、それぞれ、各画素７に対応して設けられている。
ＴＦＴ素子６３は、ゲート電極７１と、半導体層７２と、ソース電極７３と、ドレイン電極７４とを有している。ゲート電極７１は、第１基板５１の対向面５４ａに設けられており、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。
なお、ゲート電極７１の材料としては、例えば、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。また、ゲート絶縁膜５７の材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの光透過性を有する材料が採用され得る。半導体層７２は、例えばアモルファスシリコンで構成されており、ゲート絶縁膜５７を挟んでゲート電極７１に対向する位置に設けられている。

ソース電極７３は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられており、一部が半導体層７２に重なっている。ドレイン電極７４は、ゲート絶縁膜５７の表示面９側に設けられており、一部が半導体層７２に重なっている。上記の構成を有するＴＦＴ素子６３は、半導体層７２がゲート電極７１と、ソース電極７３及びドレイン電極７４との間に位置する所謂ボトムゲート型である。
上記の構成を有するＴＦＴ素子６３は、絶縁膜５９によって表示面９側から覆われている。なお、絶縁膜５９の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。

反射膜６５は、第１基板５１の対向面５４ａに設けられており、平面視で反射領域Ｈに重なっている。反射膜６５の材料としては、例えばアルミニウムなどの光反射性を有する材料が採用され得る。なお、反射膜６５を対向基板１５側に設ける構成であっても良い。
共通電極６７は、第１基板５１の対向面５４ａ側に設けられており、平面視で透過領域Ｔ及び反射領域Ｈに重なっている。共通電極６７とゲート電極７１とは、互いにＹ方向に間隔をあけた状態で設けられている。共通電極６７の材料としては、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの光透過性を有する材料が採用され得る。また、共通電極６７は、ゲート絶縁膜５７によって表示面９側から覆われている。

画素電極６９は、絶縁膜５９の表示面９側に設けられている。画素電極６９は、絶縁膜５９に設けられたコンタクトホール７５を介して、ドレイン電極７４につながっている。画素電極６９の材料としては、例えばＩＴＯなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
配向膜６１は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、絶縁膜５９及び画素電極６９を表示面９側から覆っている。なお、配向膜６１には、配向処理が施されている。

対向基板１５は、第２基板８１と、対向層８２とを有している。第２基板８１は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面９側に向けられた外向面８３ａと、底面側に向けられた対向面８３ｂとを有している。
対向層８２は、第２基板８１の対向面８３ｂに設けられている。対向層８２には、光吸収層８５と、カラーフィルタ８７と、オーバーコート層９１と、配向膜９２と、配向膜９３と、位相差板９５とが含まれている。

光吸収層８５は、ブラックマトリックス（ＢＭ）であり第２基板８１の対向面８３ｂに設けられており、領域８６にわたっている。光吸収層８５は、平面視で格子状に設けられており、各画素７を区画している。表示装置１００では、各画素７は、光吸収層８５によって囲まれた領域であると定義され得る。光吸収層８５の材料としては、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有する樹脂などが採用され得る。
なお、光吸収層８５が素子基板１３側に形成される構成であっても良い。

カラーフィルタ８７は、各画素７に対応して設けられている。カラーフィルタ８７は、第２基板８１の対向面８３ｂ側に設けられており、光吸収層８５によって囲まれた各領域、すなわち各画素７の領域を底面側から覆っている。
カラーフィルタ８７は、入射された光のうち所定の波長域の光を透過させることができる。カラーフィルタ８７は、画素７ｒ、画素７ｇ及び画素７ｂごとに異なる色に着色された樹脂などで構成されている。画素７ｒに対応するカラーフィルタ８７は、Ｒの光を透過させることができる。画素７ｇに対応するカラーフィルタ８７はＧの光を透過させ、画素７ｂに対応するカラーフィルタ８７はＢの光を透過させることができる。なお、以下において、各カラーフィルタ８７に対してＲ、Ｇ及びＢが識別される場合に、カラーフィルタ８７ｒ、８７ｇ及び８７ｂという表記が用いられる。

オーバーコート層９１は、光吸収層８５及びカラーフィルタ８７の底面側に設けられている。オーバーコート層９１は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、光吸収層８５及びカラーフィルタ８７を底面側から覆っている。
配向膜９２は、オーバーコート層９１の底面側に設けられている。配向膜９２は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、オーバーコート層９１を底面側から覆っている。配向膜９２には、底面側に配向処理が施されている。

位相差板９５は、例えば液晶化合物を含む材料で構成されており、オーバーコート層９１の底面側に設けられている。位相差板９５は、平面視で反射領域Ｈに重なる領域に設けられている。位相差板９５は、この位相差板９５に入射された光に、１／２波長の位相差を与える。
位相差板９５は、液晶化合物を含む液状の材料を硬化させることによって設けられ得る。液晶化合物を含む液状の材料を硬化させるときに、液晶化合物の配向状態が配向膜９２によって規制される。
配向膜９３は、配向膜９２及び位相差板９５の底面側に設けられている。配向膜９３は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、配向膜９２及び位相差板９５を底面側から覆っている。配向膜９３には、底面側に配向処理が施されている。

素子基板１３及び対向基板１５の間に介在する液晶１９は、配向膜６１と配向膜９３との間に介在している。
液晶パネル１０では、各画素７において、透過領域Ｔと反射領域Ｈとで液晶１９の厚みが異なる所謂マルチギャップ構造が採用されている。
透過領域Ｔにおいて、液晶１９は、Ｌ１なる厚みを有している。これに対し、反射領域Ｈでは、液晶１９の厚みＬ２が、Ｌ１＞Ｌ２となるように、位相差板９５の厚みが設定されている。なお、液晶パネル１０では、Ｌ１は、Ｌ２の約２倍に設定されている。
位相差板９５は、Ｘ方向に並ぶ複数の画素７間にわたって一連している。つまり、位相差板９５は、Ｘ方向に並ぶ複数の反射領域Ｈにおいて、画素行４２（図３）単位で重なっている。

図６は、図４をより詳細に示した平面図である。
ここで、各画素７におけるＴＦＴ素子６３、共通電極６７及び画素電極６９の平面的な配置について、説明する。
図６に示すように、画素電極６９は、画素７の略全領域にわたって設けられており、複数のスリット部１１１を有している。なお、図６では、構成をわかりやすく示すため、画素電極６９にハッチングを施している。
複数のスリット部１１１は、Ｙ方向に所定間隔で並んでいる。各スリット部１１１は、Ｙ方向とは交差する方向に沿って延びている。なお、各スリット部１１１が延びる方向は、Ｘ方向から傾斜している。

共通電極６７は、画素電極６９を覆う領域に設けられている。Ｘ方向に隣り合う画素７間において、共通電極６７同士は、共通線１１３によって接続されている。また、各画素７において、共通電極６７及び画素電極６９は、それぞれの周縁部が領域８６に重なっている。
なお、図５で説明した反射膜６５及び位相差板９５は、図６に示す境界部１１５よりも反射領域Ｈ側で、共通電極６７に重なっている。
従って、反射領域Ｈは、各画素７と反射膜６５と位相差板９５とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。また、透過領域Ｔは、各画素７から反射領域Ｈを除いた領域と、共通電極６７とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。

ＴＦＴ素子６３は、図６において透過領域Ｔの左側の領域８６内に設けられている。
画素電極６９は、透過領域Ｔ内から領域８６内に及んでおり、領域８６内に設けられたコンタクトホール７５を介してドレイン電極７４につながっている。Ｘ方向に隣り合う画素７間において、ゲート電極７１同士は、ゲート線１１７によって接続されている。また、Ｙ方向に隣り合う画素７間において、ソース電極７３同士は、データ線１１９によって接続されている。
なお、図５におけるＴＦＴ素子６３、共通電極６７及び画素電極６９の断面は、図６中のＪ−Ｊ線による断面に相当している。

共通電極６７と画素電極６９との間に電圧を印加すると、共通電極６７と画素電極６９との間に電界が発生する。液晶パネル１０では、ＴＦＴ素子６３がＯＦＦ状態からＯＮ状態に変化すると、共通電極６７と画素電極６９との間に電界が発生する。この電界によって液晶１９の配向状態を変化させることができる。
表示装置１００では、照明装置５から表示パネル３に光を照射した状態で、液晶１９の配向状態を画素７ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶１９の配向状態は、ＴＦＴ素子６３のＯＦＦ状態及びＯＮ状態を切り替えることによって変化し得る。

なお、ここまで、半透過反射型の液晶パネル１０の一例として、ＦＦＳ型の液晶パネルについて説明したが、この構成に限定するものではなく、１画素内に反射領域と透過領域とを有する半透過反射型の液晶パネルであれば良い。例えば、素子基板１３側には画素ごとに画素電極が形成され、対向基板１５側には液晶層を介して共通電極が形成される構成の液晶パネルであっても良い。
同様に、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＶＡ（Vertical Alignment）方式、またはＩＰＳ（In-Place-Switching）方式による液晶パネルであっても良い。

《レンズユニットの構成》
図７は、レンズユニットの概要を示す斜視図である。図８は、レンズユニットの光学作用を説明するための断面図である。
ここでは、レンズユニット４の構成および光学作用について、図７および図８を用いて説明する。
図７において、表示パネル３には、前述したように、光吸収層８５によって区画された複数の画素７がマトリックス状に形成されている。なお、図７においては、素子基板や、対向基板などの図示は省略している。複数の画素７の各々は、反射領域Ｈと透過領域Ｔとを備えている。

レンズユニット４は、レンズ基板４６、および複数の凹レンズ４５などから構成されている。レンズ基板４６は、透明樹脂、または無機ガラスから構成されている。
凹レンズ４５は、透明樹脂、または無機ガラスなどから構成されている。透明樹脂としては、エチピオ系、ウレタン系、アリル系などの熱硬化性樹脂、またはアクリル系や、ポリカーボネートなどの熱可塑性樹脂、若しくは紫外線硬化性樹脂や、可視光線硬化性樹脂などの光硬化性樹脂を用いることができる。
凹レンズ４５は、表示パネル３と向い合う側の面が凹形状のレンズ面に形成されたシリンドリカルレンズである。凹レンズ４５は、Ｘ軸方向に沿って延在し、画素７の反射領域Ｈと重なるように、画素行に沿ってストライプ状に配置されている。
具体的には、例えば、画素７ｉと重なる凹レンズ４５は、当該画素の反射領域Ｈと平面的に重なるように配置され、画素７ｉのＸ軸方向に連続する各画素からなる画素行に沿って延在している。

また、凹レンズ４５の凹レンズ面は、Ｙ軸方向に沿って凹状に湾曲しており、背面の照明装置５（図１）から入射され、反射領域Ｈに向かう光の一部を屈折させ、画素７ｉの透過領域Ｔ、またはＹ軸方向に隣り合う画素７ｊの透過領域Ｔに入射する光とするための光学作用を有している。
換言すれば、凹レンズ４５は、背面（Ｚ軸（−））側から入射してくる光を表示パネル３側におけるＹ軸方向に拡散させる光学作用を有している。

図８は、図７の斜視図をＸ軸方向から観察したときの画素７ｉ，７ｊにおける表示パネル３およびレンズユニット４の断面形状を示しており、図４のＤ−Ｄ断面に相当する。また、図１における照明装置５から出射される照明光は、導光板３１の光射出面３５ｂから略垂直（Ｚ軸方向）に出射されるものとして説明する。
図８において、一点鎖線で示された中心線Ｃａは、反射領域ＨのＹ軸方向の長さにおける略中心を通り、Ｚ軸に平行な線分である。
凹レンズ４５は、素子基板１３の反射膜６５の下側に配置され、凹レンズ面の最深部を中心線Ｃａが貫いている。また、凹レンズ４５の焦点Ｆは、中心線Ｃａ上におけるレンズ基板４６の下方側にある。
つまり、凹レンズ４５の最深部および焦点Ｆは、共に、中心線Ｃａ上に設けられている。

凹レンズ４５は、照明装置５から出射され、反射領域Ｈに向かう光Ｌのうち、その一部の光を凹レンズ面の界面において屈折させ、隣り合う透過領域Ｔに入射させる。
具体的には、画素７ｉの反射膜６５の下に配置された凹レンズ４５の場合、換言すれば、画素７ｉの反射領域Ｈと平面的に重なって配置された凹レンズ４５の場合、照明装置５から入射し、反射膜６５に向かう光Ｌｉのうち、凹レンズ４５のＹ軸方向における２つの端部近傍を通過する光Ｌｉ１，Ｌｉ２を屈折させ、画素７ｉの透過領域Ｔと、画素７ｊの透過領域Ｔとに、それぞれ入射させる。
より詳しくは、凹レンズ４５と表示パネル３との間には空気層が形成されているため、レンズ材料と空気との屈折率の差、および凹レンズの曲率に応じて、屈折の法則に従い、凹レンズ面の界面において光Ｌｉ１，Ｌｉ２が屈折し、最寄りの透過領域Ｔにそれぞれ入射することになる。
なお、図８に示したように、光Ｌｉ１，Ｌｉ２の屈折後の進行方向は、焦点Ｆから放射状に広がる点線の延長方向に一致している。換言すれば、屈折後の光Ｌｉ１，Ｌｉ２の進行方向を直線で遡ると、焦点Ｆで交差する。

同様に、画素７ｊの反射領域Ｈと平面的に重なって配置された凹レンズ４５の場合も、反射領域Ｈに向かう光Ｌｊのうち、凹レンズ４５のＹ軸方向における２つの端部近傍を通過する光Ｌｊ１，Ｌｊ２を屈折させ、画素７ｊの透過領域Ｔと、画素７ｋの透過領域Ｔとに、それぞれ入射させる。
上述したように凹レンズ４５は、反射膜６５に向かう光の一部を屈折させて透過領域Ｔに入射させるように設定されている。

《レンズユニットの光学設定》
図９は、レンズユニットの光学設定の説明図である。図９は、図８の断面図から１画素分の構成を抜粋した図面である。
ここでは、凹レンズ４５を含むレンズユニット４の好適な光学配置、および光学設計について説明する。

図９（ａ）において、１つの画素における透過領域Ｔの長さをｄ_T、反射領域Ｈの長さをｄ_R、凹レンズ４５の凹レンズ面におけるＹ軸方向の端部をＡ、端部Ａから対向基板１５までの距離をＭとする。また、凹レンズ４５の凹レンズ面の曲率をＲ、凹レンズ４５の屈折率をｎとする。
図９（ｂ）は、（ａ）における端部Ａ近傍の拡大図であり、一点鎖線で示された基準線Ｃｂは、凹レンズ面の曲率中心と端部Ａとを通る直線である。基準線Ｃｂは、凹レンズ面における端部Ａを通る接線に対して垂直な線分である。
ここで、基準線Ｃｂと凹レンズ４５に入射した光Ｌｘとがなす角度を入射角θ、基準線Ｃｂと凹レンズ４５から出射する光Ｌｘとがなす角度を出射角φとして、以下説明する。なお、凹レンズ４５と、表示パネル３との間には空気層が介在しているものとする。

まず、透過領域Ｔの長さｄ_Tと、端部Ａから対向基板１５までの距離Ｍまでの関係は、下記数式（１）によって表される。
Ｍｔａｎ（φ−θ）＜ｄ_T…（１）
また、屈折の法則から、下記数式（２）が導出される。なお、空気の屈折率は１としている。
ｎｓｉｎθ＝１ｓｉｎφ…（２）
また、凹レンズ４５の凹レンズ面の曲率Ｒと、反射領域Ｈの長さｄ_Rとの関係は、下記数式（３）によって表される。
ｓｉｎθ＝ｄ_R／２Ｒ…（３）

ここで、数式（２）（３）を、数式（１）に代入すると、設計条件を定義する下記数式（４）が得られる。
［（４Ｒ²−ｄ_R ²）^1/2−（（４Ｒ²／ｎ²）−ｄ_R ²）^1/2］／（［（４Ｒ²−ｄ_R ²）（４Ｒ²−ｎ²ｄ_R ²）］^1/2＋ｎｄ_R ²）＜（ｄ_T／ｄ_RｎＭ）…（４）

続いて、数式（４）に基づいた具体的な設計事例について説明する。
図９（ａ）において、反射領域Ｈの長さｄ_Rと、透過領域Ｔの長さｄ_Tとが等しく、共に４０μｍであるものとする。つまり、１画素のＹ軸方向の長さは、８０μｍとなる。
また、凹レンズ４５の屈折率ｎが１．５で、凹レンズ面の曲率Ｒが５０μｍであった場合について、説明する。
これらのパラメータを数式（４）に代入すると、Ｍ＜１７０μｍという結果が導出される。つまり、Ｍ＜１７０μｍを満たす範疇で、レンズユニット４を配置すれば良いことになる。

また、ここでは、反射領域Ｈの長さと透過領域Ｔの長さとが等しい場合について説明したが、一般的に、半透過反射型の表示パネルの場合、その用途に応じて反射表示と透過表示との優先度合いを定めることが多い。例えば、表示パネルを明るい環境下で使用されることが多い携帯電話に用いる場合、透過表示よりも反射表示を優先し、１画素内における反射領域のサイズを透過領域よりも大きくする。
このように反射領域と透過領域のサイズが異なる場合であっても、レンズユニット４の好適な設計条件を定義した数式（４）に基づいて、レンズユニット４を設計および配置すれば良い。

また、ここでは、１つの画素内において反射領域Ｈに向かう光の一部を同一画素内の透過領域Ｔに差し向ける場合について説明したが、２つの画素間を跨ぐ場合には、光吸収層８５の幅も考慮することが望ましい。
具体的には、図７において、Ｙ軸方向に隣り合う画素７ｉ，７ｊ間には、光吸収層８５が介在しているため、反射領域Ｈの長さｄ_Rとして、反射膜６５のＹ軸方向の長さに加えて、光吸収層８５の幅を加味した寸法を用いた方が、より好ましいということである。

《レンズユニットの製造方法、および組立て方法》
ここでは、レンズユニット４の製造方法、および表示パネル３との組立て方法について、図１および図７を用いて説明する。
まず、レンズユニット４は、切削加工、研磨加工、フォトリソ法、光造型法、インクジェット法などの加工方法、またはこれらの加工方法を組合せることによって、前述した透明材料を加工して製造される。
図１に示すように、レンズユニット４は、外周部が表示領域８と重なる部分よりも一段高く、額縁状に形成されていることが望ましい。
例えば、周縁部が一段高く、レンズ形成部が凹部となったガラス材を基板４６として用い、当該凹部に紫外線硬化性樹脂を塗布し、フォトリソ法によって複数の凹レンズ４５を形成したレンズユニット４を用いる。なお、この構成の場合、不要な屈折を防ぐため、基板４６の材料の屈折率と、凹レンズ４５の材料の屈折率との差が小さいことが好ましい。

また、基板４６単品の段階で、対角線近傍の額縁部に合わせマークａ１，ａ２を形成しておく。なお、素子基板１３にも、この合わせマークとａ１，ａ２平面的に重なる位置に対応する合わせマークを形成しておく。また、素子基板１３において、各画素は当該合わせマークを基準にして平面位置が定められている。なお、合わせマークは、４つの額縁部の角部（端部）のうち、少なくとも対角関係にある２つの端部（１対の端部に）形成すれば良い。
また、合わせマークａ１，ａ２は、印刷法、彫刻法、レーザ加工、フォトリソ法、またはこれらの加工方法を組合せて形成することができる。合わせマークの形状は、例えば、図１に示すように、基準となる三角形と、当該三角形の一つの頂点において点対象となる三角形との２つの三角形から形成する。または、十字形などのとんぼであっても良い。

基板４６の凹部に凹レンズ４５を形成する工程では、合わせマークａ１，ａ２を平面位置の基準として、複数の凹レンズ４５を形成する。
表示パネル３とレンズユニット４とを組合せる工程では、表示パネル３の合わせマークと、レンズユニット４の合わせマークａ１，ａ２とが平面的に重なるようにして、組立てる。

上述した通り、本実施形態に係る表示装置１００によれば、以下の効果を得ることができる。
表示装置１００によれば、照明装置５と素子基板１３との間に、複数の凹レンズ４５が形成されたレンズユニット４を備えているため、照明装置から反射領域Ｈに向かう光のうち、少なくとも一部の光を透過領域Ｔに導くことができる。
よって、反射領域に向かう光を無駄に費やしていた従来の液晶表示装置と比べて、透過領域Ｔに導かれる光の分、光の利用効率に優れた表示装置１００を提供することができる。従って、無駄に費やされる光が低減されるため、エネルギー効率に優れた表示装置１００を提供することができる。

また、凹レンズ４５は、画素行に沿って連続する反射領域に重なって配置されたシリンドリカルレンズであるため、例えば、球面レンズと比べて加工が容易であり、製造方法も前述した加工方法の中から各種選択することができる。
従って、レンズユニット４を簡便に、かつ安価に製造することができる。

また、前述した通り、１画素の長さは１００μｍ程度であるため、この長さにおける反射領域Ｈと平面的に重なるように凹レンズ４５を配置するためには、精密な位置合わせが必要となる。
表示装置１００によれば、素子基板１３の対角関係にある２対の端部のうち１対には、合わせマークが設けられ、また、レンズユニット４のレンズ基板４６には、素子基板１３の合わせマークと平面的に重なる位置に合わせマークａ１，ａ２が設けられている。
さらに、素子基板１３とレンズユニット４とを組立てる際には、対応する合わせマークが平面的に重なるように組立てるため、両部の位置を正確に位置合わせすることができる。特に、素子基板１３においては、反射領域Ｈおよび透過領域Ｔの範囲を規定する反射膜６５を含む画素の構成要素が合わせマークを基準にして形成されており、かつ、レンズユニット４における複数の凹レンズ４５も合わせマークａ１，ａ２を基準にして形成されているため、反射領域Ｈと凹レンズ４５との位置を精密に位置合わせすることができる。

（実施形態２）
図１０は、実施形態２に係るレンズユニットの平面図である。図１１は、レンズユニットの断面図である。
以下、本発明の実施形態２に係る表示装置について、図１０，１１を用いて説明する。
本実施形態における表示装置１００（図１）は、実施形態１のレンズユニット４とは異なる凹レンズレイアウトを持つレンズユニット１４０を備えている。なお、図１，２においては、レンズユニット４をレンズユニット１４０と読み換えるものとする。
ここでは、実施形態１における説明と重複する部分は省略し、レンズユニット１４０の構成を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。

《レンズユニットの構成》
本実施形態の表示装置１００は、光吸収層８５に向かう光も有効活用することが可能なレンズユニット１４０を搭載した表示装置である。
図１０は、レンズユニット１４０の部分平面図であり、表示パネル３の対応する画素を点線で重ねて示している。
実施形態１のレンズユニット４では、反射領域Ｈと重なる複数の凹レンズ４５が形成されていたが、本実施形態のレンズユニット１４０には、複数の凹レンズ４５に加えて、ＢＭ凹レンズとしての複数の凹レンズ４７が形成されている。

複数の凹レンズ４７は、隣り合う画素における隣り合う透過領域Ｔ間に、跨って配置されている。換言すれば、隣り合う透過領域Ｔ間に形成された光吸収層８５と平面的に重なるように配置されている。
具体的には、隣り合う画素７ｑ，７ｉにおける隣り合う透過領域Ｔ間の光吸収層８５の背面に凹レンズ４７が形成されている。また、Ｘ軸方向に隣り合う他の画素間においても、同様に光吸収層８５の背面に凹レンズ４７が形成されている。
凹レンズ４７は、表示パネル３と向い合う側の面が凹形状のレンズ面に形成されたシリンドリカルレンズである。凹レンズ４７は、隣り合う透過領域Ｔ間においてＹ軸方向に延在する光吸収層８５に重なる部分に配置されている。

図１１は、図１０のＰ−Ｐ断面を示している。
図１１において、一点鎖線で示された中心線Ｃｄは、Ｘ軸方向の光吸収層８５における幅の略中心を通り、Ｚ軸に平行な線分である。
凹レンズ４７は、対向基板１５の光吸収層８５の下側に配置され、凹レンズ面の最深部を中心線Ｃｄが貫いている。また、凹レンズ４７の焦点Ｆは、中心線Ｃｄ上におけるレンズ基板４６の下方側にある。
つまり、凹レンズ４７の最深部および焦点Ｆは、共に、中心線Ｃｄ上に設けられている。

凹レンズ４７は、照明装置５から出射され、光吸収層８５に向かう光Ｌｂのうち、その一部の光を凹レンズ面の界面において屈折させ、隣り合う透過領域Ｔに入射させる。
具体的には、画素７ｑ，７ｉにおける隣り合う透過領域Ｔ間の光吸収層８５と平面的に重なって配置された凹レンズ４７の場合、照明装置５から入射し、光吸収層８５に向かう光Ｌｂのうち、凹レンズ４７のＸ軸方向における２つの端部近傍を通過する光Ｌｂ１，Ｌｂ２を屈折させ、画素７ｑの透過領域Ｔと、画素７ｉの透過領域Ｔとに、それぞれ入射させる。
なお、図１１に示したように、光Ｌｂ１，Ｌｂ２の屈折後の進行方向は、焦点Ｆから放射状に広がる点線の延長方向に一致している。換言すれば、屈折後の光Ｌｂ１，Ｌｂ２の進行方向を直線で遡ると、焦点Ｆで交差する。

凹レンズ４７は、実施形態１の凹レンズ４５と同様の材料および製造方法によって製造することができる。
また、凹レンズ４７の光学設計も実施形態１の凹レンズ４５と同様に数式（４）に基づいて設定することができる。なお、この場合は、反射領域Ｈの長さｄ_Rを光吸収層８５の幅に置き換える。

上述した通り、本実施形態によれば、実施形態１における効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
表示装置１００によれば、照明装置５と素子基板１３との間に、複数の凹レンズ４５に加えて、複数の凹レンズ４７が形成されたレンズユニット１４０を備えているため、反射領域Ｈに向かう光の一部に加えて、光吸収層８５に向かう光の一部も、透過領域Ｔに導くことができる。
より詳しくは、隣り合う画素における隣り合う透過領域Ｔ間に跨って配置された凹レンズ４７により、光吸収層８５に向かう光の一部を透過領域Ｔに導くことができる。
よって、反射領域に向かう光を無駄に費やしていた従来の液晶表示装置と比べて、透過領域Ｔに導かれる光の分、光の利用効率に優れた表示装置１００を提供することができる。従って、無駄に費やされる光が低減されるため、エネルギー効率に優れた表示装置１００を提供することができる。

（実施形態３）
図１２は、実施形態３に係る表示装置の断面図であり、図２と対応している。図１３は、表示装置の組立て態様を示す斜視図である。
以下、本発明の実施形態３に係る表示装置について、図１２，１３を用いて説明する。
本実施形態における表示装置２００は、実施形態１の表示パネル３とは異なる構成の表示パネル３０を備えている。本実施形態の表示パネル３０は、レンズユニット４を含んで構成されている。
ここでは、実施形態１における説明と重複する部分は省略し、表示パネル３０の構成を中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。

図１２において、表示パネル３０は、表示面９側から、偏光板１１ｂ、液晶パネル１０、レンズユニット４、偏光板１１ａの順番で積層されて構成されている。
つまり、表示パネル３０の構成には、レンズユニット４が組み込まれている。換言すれば、表示パネル３０は、実施形態１の表示パネル３（図２）における液晶パネル１０と偏光板１１ａとの間に、レンズユニット４を挿入したものである。また、レンズユニット４を組み入れたこと以外に、構成上の差異はない。
なお、図１２においては、表示パネル３０と照明装置５との間に、間隙が設けられているが、これは説明を解り易くするためのものであり、実際には、当該間は密着している。

図１３は、液晶パネル１０とレンズユニット４とを組立てる工程における組立て態様を示している。
レンズユニット４の対角線上の額縁部には、合わせマークａ１，ａ２が形成されている。また、素子基板１３にも、この合わせマークａ１，ａ２と平面的に重なる位置に対応する合わせマークａ１１，ａ１２が形成されている。
液晶パネル１０とレンズユニット４とを組合せる工程では、液晶パネル１０の合わせマークａ１１，ａ１２と、レンズユニット４の合わせマークａ１，ａ２とが平面的に重なるようにして、組立てる。
なお、レンズユニット４の代わりに、実施形態２のレンズユニット１４０を用いても良い。また、合わせマークの形成方法などは、実施形態１での説明と同様である。

上述した通り、本実施形態によれば、実施形態１における効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
表示装置１００によれば、表示パネル３０の構成にレンズユニット４が含まれている。具体的には、照明装置５から、偏光板１１ａ、レンズユニット４、素子基板１３、液晶１９、対向基板１５、偏光板１１ｂの順番に積層されている。
つまり、レンズユニット４と素子基板１３とが直接重ねられるため、位置合わせを容易に行うことができる。
特に、素子基板１３の合わせマークａ１１，ａ１２と、レンズユニット４の合わせマークａ１，ａ２とを合わせる際に、当該間には、液晶や、偏光板などの光学作用を有する部材が介在しないため、双方の重なり具合を確認し易くなり、組立て時の位置合わせ精度を向上させることができる。

（電子機器）
図１４は、各実施形態、および後述する変形例に係る表示装置１００（２００）を搭載した電子機器としての携帯電話を示す図である。
前記各実施形態、および変形例に係る表示装置１００（２００）は、例えば、電子機器としての携帯電話３００に搭載して用いることができる。
携帯電話３００は、本体部３５０と、当該本体部に対して開閉自在に設けられた表示部３７０とを備えている。
本体部３５０には、複数の操作ボタンを有する操作部３６５が設けられている。
また、表示部３７０には、前記各実施形態、および変形例に係る表示装置１００（２００）が組み込まれている。
従って、光の利用効率に優れ、エネルギー効率が良い携帯電話３００を提供することができる。

また、携帯電話の態様は、図１４に示した折畳み式に限定するものではなく、例えば、本体部３５０に対して表示部３７０が折畳み、および旋回可能に設けられた携帯電話であっても良い。
または、一体型の携帯電話や、一体型の本体部に操作部が収納されているスライド式の携帯電話であっても良い。
また、電子機器としては、携帯電話に限定するものではなく、例えば、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、モバイルコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。

なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。

（変形例）
図１５（ａ）〜（ｃ）は、画素における反射領域と透過領域の配置態様を示す図である。ここでは、変形例について、図１５を用いて説明する。
画素における反射領域と透過領域の配置態様は、図４に示した態様に限定されず、例えば、図１５（ａ）〜（ｃ）に示すような配置となっている場合もある。
このような配置態様であっても、レンズユニットに配置する凹レンズのレイアウトを変えることによって、光の利用効率を高めることができる。
以下、前記実施形態における記載と重複する部分は省略して説明する。なお、同一の構成部位については、同一の番号を附して説明する。

図１５（ａ）に示された画素２０７では、Ｙ軸方向に沿って上から透過領域Ｔ、反射領域Ｈ、透過領域Ｔの順番で画素が構成されている。
この構成の場合、凹レンズ４５を画素中央部の反射領域Ｈと平面的に重なるように配置すれば良い。凹レンズ４５は、Ｘ軸方向の画素行に沿って延在して配置される。
図１５（ｂ）に示された画素２１７では、Ｘ軸方向に沿って左から透過領域Ｔ、反射領域Ｈ、透過領域Ｔの順番で画素が構成されている。
この構成の場合、凹レンズ４５を画素中央部の反射領域Ｈと平面的に重なるようにＹ軸方向に配置すれば良い。凹レンズ４５は、Ｙ軸方向の画素列に沿って延在して配置される。
図１５（ｃ）に示された画素２２７では、反射領域Ｈが透過領域Ｔに囲まれて島状に配置されている。
この構成の場合、凹レンズ４５を画素中央部の反射領域Ｈと平面的に重なるようにＹ軸方向に配置すれば良い。凹レンズ４５は、画素２２７ごとに独立して配置される。

これらの構成であっても、反射領域に向かう光は、凹レンズ４５によって屈折され、隣り合う透過領域に入射する。よって、図１５（ａ）〜（ｃ）のような画素を備えた液晶パネルであっても、前記各実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
つまり、透過領域と反射領域とを備えた画素構成であれば、本発明を適応可能であり、反射領域に重ねて凹レンズを配置することにより、光の利用効率を高めることができる。

実施形態１に係る表示装置の概略構成を示す斜視図。 表示装置の断面図。 表示パネルの画素レイアウト図。 画素の拡大図。 液晶パネルの１画素における断面図。 液晶パネルの１画素における平面図。 レンズユニットの概要を示す斜視図。 レンズユニットの光学作用の説明図。 レンズユニットの光学設定の説明図。 実施形態２に係るレンズユニットの平面図。 レンズユニットの断面図。 実施形態３に係る表示装置の断面図。 表示装置の組立態様図。 電子機器としての携帯電話を示す図。 （ａ）変形例に係る画素の一態様図、（ｂ）画素における異なる一態様図、（ｃ）画素における異なる一態様図。

符号の説明

３…表示パネル、４，１４０…レンズユニット、５…照明装置、７…画素、１０…液晶パネル、１１ａ…第１偏光板としての偏光板、１１ｂ…第２偏光板としての偏光板、１３…第１基板としての素子基板、１５…第２基板としての対向基板、４５…凹レンズ、４６…レンズ基板、４７…ＢＭ凹レンズとしての凹レンズ、６５…反射膜、８５…ブラックマトリックスとしての光吸収層、３００…電子機器としての携帯電話、ａ１，ａ２，ａ１１，ａ１２…合わせマーク、Ｈ…反射領域、Ｔ…透過領域。

Claims (7)

1. 第１基板と、
   前記第１基板に対向する第２基板と、
   前記第１基板及び前記第２基板の間に介在する液晶と、
   前記第１基板の前記液晶側とは反対側に配置され、前記第１基板に向けて光を照射する照明装置と、
   前記照明装置からの光を透過させることで透過表示を行う透過領域と、前記第２基板を介して前記液晶に入射された光を反射させることで反射表示を行う反射領域と、を各々が有する複数の画素と、
   前記第１基板と前記照明装置との間に配置され、前記照明装置から前記反射領域に向かう光のうち、少なくとも一部を前記透過領域に導く凹レンズと、を備えることを特徴とする液晶表示装置。
2. 前記画素内において、前記透過領域と前記反射領域とは、隣り合って配置され、
   前記凹レンズは、前記反射領域に重なって配置されるとともに、前記照明装置から入射される光の一部を屈折し、前記隣り合う透過領域に入射させることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 各々の前記画素における前記透過領域と前記反射領域とは、隣り合う画素間において、画素行または画素列のいずれかの配列方向において、連続して形成され、
   前記凹レンズは、前記配列方向における複数の前記画素の前記反射領域に跨って連続したシリンドカルレンズとして形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
4. 前記画素行および画素列に沿ってそれぞれの前記画素を区画する光吸収層からなるブラックマトリックスを備え、
   前記第１基板と前記照明装置との間には、前記配列方向に連続する前記透過領域において、前記ブラックマトリックスと重なる部分に、前記照明装置から前記ブラックマトリックスに向かう光のうち、少なくとも一部を隣りの前記透過領域に導くための凹レンズであるＢＭ凹レンズが、さらに設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
5. 前記第１基板の対角関係にある２対の端部のうち、少なくともいずれか１対には、第１の合わせマークが設けられ、
   複数の前記凹レンズは、レンズ基板上に形成され、
   前記レンズ基板には、前記第１の合わせマークと平面的に重なる位置に第２の合わせマークが設けられ、
   前記第１基板と前記レンズ基板とは、前記第１の合わせマークと前記第２の合わせマークとが平面的に重ねられた状態で組立てられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
6. 第１偏光板と第２偏光板とをさらに備え、
   前記照明装置から、前記第１偏光板、前記レンズ基板、前記第１基板、前記液晶、前記第２基板、前記第２偏光板の順番に積層されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の液晶表示装置を表示部として備えたことを特徴とする電子機器。

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