JP2010047701A - Antistatic agent for synthetic polymer material and synthetic polymer material composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は合成高分子材料用帯電防止剤及び合成高分子材料組成物に関する。合成高分子材料は通常、疎水性が大きく、その結果として帯電し易い特性を有し、かかる特性はこれらの材料の製造工程やその製品使用上の大きな障害となっている。そのため合成高分子材料には、かかる障害を低減する目的で帯電防止剤を混練して用いることが行なわれている。ところで、合成高分子材料に帯電防止剤を混練して用いるとき、該帯電防止剤には、それが例えば低湿下においても合成高分子材料に優れた帯電防止性を付与できることが要求されるのはいうまでもないが、同時に、例えばそれを高濃度で含有するマスターチップ（マスターペレット）を作製するときに合成高分子材料との混練性に優れていること、言い替えればハンドリング性に優れていること、またそれが合成高分子材料を不適切に着色するようなものでないこと、言い替えれば抗着色性に優れていることが要求される。本発明はかかる要求に応える合成高分子材料用帯電防止剤及び合成高分子材料組成物に関する。 The present invention relates to an antistatic agent for a synthetic polymer material and a synthetic polymer material composition. Synthetic polymer materials are usually highly hydrophobic and, as a result, have the property of being easily charged, and such properties are a major obstacle to the manufacturing process of these materials and the use of their products. Therefore, an antistatic agent is kneaded and used in the synthetic polymer material for the purpose of reducing such obstacles. By the way, when an antistatic agent is kneaded and used in a synthetic polymer material, it is required that the antistatic agent can impart excellent antistatic properties to the synthetic polymer material even under low humidity, for example. Needless to say, at the same time, for example, when preparing a master chip (master pellet) containing it at a high concentration, it is excellent in kneading with a synthetic polymer material, in other words, excellent in handling properties. Also, it is required that the synthetic polymer material is not improperly colored, in other words, excellent in anti-coloring property. The present invention relates to an antistatic agent for a synthetic polymer material and a synthetic polymer material composition that meet such requirements.
従来、前記のような合成高分子材料用帯電防止剤として、多くの界面活性剤が知られており、なかでも合成高分子材料との相溶性に優れ、また低湿下においても相応の帯電防止性を有することから、有機スルホネートアンモニウム塩や有機スルホネートホスホニウム塩等の有機スルホネートオニウム塩が注目されている（例えば特許文献１〜６参照）。 Conventionally, many surfactants are known as the above-mentioned antistatic agents for synthetic polymer materials, and in particular, they are excellent in compatibility with synthetic polymer materials and have a corresponding antistatic property even under low humidity. Therefore, organic sulfonate onium salts such as organic sulfonate ammonium salts and organic sulfonate phosphonium salts have attracted attention (see, for example, Patent Documents 1 to 6).
しかし、従来提案されている有機スルホネートオニウム塩には、それが単に比較的高価というだけでなく、前記したような帯電防止性、ハンドリング性及び抗着色性を同時に充足することができないという問題がある。
本発明が解決しようとする課題は、合成高分子材料に対する帯電防止性、ハンドリング性及び抗着色性を同時に充足する比較的廉価な合成高分子材料用帯電防止剤並びにこれを含有する合成高分子材料組成物を提供する処にある。 The problem to be solved by the present invention is a relatively inexpensive antistatic agent for a synthetic polymer material that simultaneously satisfies antistatic properties, handling properties and anti-coloring properties for a synthetic polymer material, and a synthetic polymer material containing the same It is in providing the composition.
しかして本発明者らは、前記の課題を解決するべく研究した結果、合成高分子材料用帯電防止剤としては、特定の有機スルホネートアンモニウム塩を所定割合で含有する特定の有機スルホネート塩の混合物が正しく好適であることを見出した。 As a result, the present inventors have studied to solve the above-mentioned problems. As a result, as an antistatic agent for a synthetic polymer material, a mixture of a specific organic sulfonate salt containing a specific organic sulfonate ammonium salt in a predetermined ratio is used. It was found to be correct and suitable.
すなわち本発明は、下記の帯電防止剤成分Ｍと帯電防止剤成分Ｎとから成り、帯電防止剤成分Ｍ／帯電防止剤成分Ｎ＝２５／７５〜８０／２０の割合で含有することを特徴とする合成高分子材料用帯電防止剤に係る。
帯電防止剤成分Ｍ：下記の化１で示される化合物
帯電防止剤成分Ｎ：下記の化２で示される化合物、化３で示される化合物及び化４で示される化合物から選ばれる一つ又は二つ以上
That is, the present invention comprises the following antistatic agent component M and antistatic agent component N, characterized in that it is contained in a ratio of antistatic agent component M / antistatic agent component N = 25/75 to 80/20. The present invention relates to an antistatic agent for a synthetic polymer material.
Antistatic agent component M: Compound represented by the following chemical formula 1 Antistatic agent component N: One or two selected from the compound represented by chemical formula 2 below, the compound represented by chemical formula 3 and the compound represented by chemical formula 4 more than
化１〜化４において、
Ａ１：炭素数８〜２４のアルキル基、炭素数８〜２４のアルケニル基、置換基として炭素数８〜１８のアルキル基を有する置換フェニル基又は置換基として炭素数４〜１８のアルキル基を有する置換ナフチル基
Ａ２，Ａ３：炭素数１〜７のアルキル基、炭素数４〜７のアルケニル基、フェニル基、置換基として炭素数１〜７のアルキル基を有する置換フェニル基、ナフチル基又は置換基として炭素数１〜３のアルキル基を有する置換ナフチル基
Ａ４：炭素数１〜２４のアルキル基、炭素数４〜２４のアルケニル基、フェニル基、置換基として炭素数１〜１８のアルキル基を有する置換フェニル基、ナフチル基又は置換基として炭素数１〜１８のアルキル基を有する置換ナフチル基
Ｒ１，Ｒ２：炭素数１〜４のアルキル基
Ｒ３，Ｒ５：炭素数１〜２２のアルキル基
Ｒ４，Ｒ６，Ｒ７：炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基
Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１：炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基
Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３：炭素数２〜４のアルキレン基
Ｚ１，Ｚ２，Ｚ３：水素原子又はメチル基
In Chemical Formulas 1 to 4,
A 1 : an alkyl group having 8 to 24 carbon atoms, an alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms, a substituted phenyl group having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms as a substituent, or an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms as a substituent Substituted naphthyl group A 2 , A 3 : alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, alkenyl group having 4 to 7 carbon atoms, phenyl group, substituted phenyl group having an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms as a substituent, naphthyl group Or a substituted naphthyl group having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms as a substituent A 4 : an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 24 carbon atoms, a phenyl group, and a substituent having 1 to 18 carbon atoms substituted phenyl group having an alkyl group, a substituted naphthyl group R 1 having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms as a naphthyl group or a substituted group, R 2: an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms R 3, R 5: alkyl groups R 4 having 1 to 22 carbon atoms, R 6, R 7: aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon radical R 8 having from 1 to 8 carbon atoms, R 9, R 10, R 11: the carbon number 1-18 aliphatic hydrocarbon groups Y 1 , Y 2 , Y 3 : C 2-4 alkylene groups Z 1 , Z 2 , Z 3 : hydrogen atoms or methyl groups
また本発明は、合成高分子材料１００質量部当たり本発明に係る合成高分子材料用帯電防止剤を０．１〜４質量部の割合で含有してなることを特徴とする合成高分子材料組成物に係る。 The present invention also provides a synthetic polymer material composition comprising 0.1 to 4 parts by mass of the antistatic agent for synthetic polymer material according to the present invention per 100 parts by mass of the synthetic polymer material. Related to things.
先ず、本発明に係る合成高分子材料用帯電防止剤（以下、本発明の帯電防止剤という）について説明する。本発明の帯電防止剤は帯電防止剤成分Ｍと帯電防止剤成分Ｎとから成る。帯電防止剤成分Ｍは化１で示される化合物である。また帯電防止剤成分Ｎは、化２で示される化合物、化３で示される化合物及び化４で示される化合物から選ばれる一つ又は二つ以上である。 First, the antistatic agent for synthetic polymer materials according to the present invention (hereinafter referred to as the antistatic agent of the present invention) will be described. The antistatic agent of the present invention comprises an antistatic agent component M and an antistatic agent component N. Antistatic agent component M is a compound represented by Chemical Formula 1. The antistatic agent component N is one or more selected from a compound represented by Chemical Formula 2, a compound represented by Chemical Formula 3 and a compound represented by Chemical Formula 4.
化１で示される化合物は有機スルホネートアニオンと有機アンモニウムカチオンとからなるものである。かかる有機スルホネートアニオンとしては、１）オクチルスルホネート、ドデシルスルホネート、テトラデシルスルホネート、オクタデシルスルホネート、テトラコシルスルホネート、２−エチルヘキシルスルホネート等の、炭素数８〜２４のアルキル基を有する有機スルホネートアニオン、２）オクテニルスルホネート、ドデセニルスルホネート、テトラデセニルスルホネート、オクタデセニルスルホネート等の、炭素数８〜２４のアルケニル基を有する有機スルホネートアニオン、３）オクチルフェニルスルホネート、デシルフェニルスルホネート、ドデシルフェニルスルホネート、ペンタデシルフェニルスルホネート、オクタデシルフェニルスルホネート、テトラコシルフェニルスルホネート、ジノニルフェニルスルホネート等の、炭素数８〜１８のアルキル基で置換したフェニル基を有する有機スルホネートアニオン、４）ジブチルナフチルスルホネート等の、炭素数４〜１８のアルキル基で置換したナフチル基を有する有機スルホネートアニオン等が挙げられる。なかでも炭素数８〜１８のアルキル基を有する有機スルホネートアニオン、炭素数９〜１８のアルキル基で置換したフェニル基を有する有機スルホネートアニオンが好ましく、炭素数１０〜１６のアルキル基で置換したフェニル基を有する有機スルホネートアニオンがより好ましい。 The compound represented by Chemical Formula 1 is composed of an organic sulfonate anion and an organic ammonium cation. Examples of the organic sulfonate anion include 1) an organic sulfonate anion having an alkyl group having 8 to 24 carbon atoms, such as octyl sulfonate, dodecyl sulfonate, tetradecyl sulfonate, octadecyl sulfonate, tetracosyl sulfonate, and 2-ethylhexyl sulfonate. Organic sulfonate anions having an alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms, such as octenyl sulfonate, dodecenyl sulfonate, tetradecenyl sulfonate, octadecenyl sulfonate, etc. 3) Octylphenyl sulfonate, decylphenyl sulfonate, dodecylphenyl Carbonate such as sulfonate, pentadecyl phenyl sulfonate, octadecyl phenyl sulfonate, tetracosyl phenyl sulfonate, dinonyl phenyl sulfonate, etc. Organic sulfonate anion having a phenyl group substituted by the number 8 to 18 alkyl group, 4) such as dibutyltin Luna border sulfonates, and organic sulfonate anions having a naphthyl group substituted with an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms. Of these, an organic sulfonate anion having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms and an organic sulfonate anion having a phenyl group substituted with an alkyl group having 9 to 18 carbon atoms are preferable, and a phenyl group substituted with an alkyl group having 10 to 16 carbon atoms. More preferred are organic sulfonate anions having
また化１で示される化合物における有機アンモニウムカチオンとしては、ジメチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジエチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジプロピル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジブチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジイソプロピル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルエチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルプロピル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム等が挙げられる。なかでも化１中のＲ１及びＲ２がメチル基又はエチル基である場合の有機アンモニウムカチオンが好ましく、化１中のＲ１及びＲ２がメチル基である場合の有機アンモニウムカチオンがより好ましい。 Further, as the organic ammonium cation in the compound represented by Chemical Formula 1, dimethyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium, diethyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium, dipropyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, dibutyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, diisopropyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, methylethyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, methylpropyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium and the like. Of these, organic ammonium cations when R 1 and R 2 in Chemical Formula 1 are methyl groups or ethyl groups are preferred, and organic ammonium cations when R 1 and R 2 in Chemical Formula 1 are methyl groups are more preferred.
本発明の帯電防止剤に供する化１で示される化合物は以上例示したような有機スルホネートアニオンと有機アンモニウムカチオンとの任意の組合わせにより構成されたものであるが、本発明はその組合わせを特に制限するものではない。これらの有機スルホネートアンモニウム塩は、それぞれ相当する有機スルホン酸とアンモニウムハイドロオキサイドとを用いる中和反応により得ることができる。 The compound represented by Chemical Formula 1 used for the antistatic agent of the present invention is composed of any combination of the organic sulfonate anion and the organic ammonium cation as exemplified above. It is not limited. These organic sulfonate ammonium salts can be obtained by a neutralization reaction using the corresponding organic sulfonic acid and ammonium hydroxide, respectively.
化２で示される化合物も有機スルホネートアニオンと有機アンモニウムカチオンとからなるものである。かかる有機スルホネートアニオンとしては、１）メチルスルホネート、エチルスルホネート、プロピルスルホネート、ブチルスルホネート、ヘキシルスルホネート等の、炭素数１〜７のアルキル基を有する有機スルホネートアニオン、２）ブテニルスルホネート、ヘキセニルスルホネート等の、炭素数４〜７のアルケニル基を有する有機スルホネートアニオン、３）フェニルスルホネート、４）メチルフェニルスルホネート、エチルフェニルスルホネート、プロピルフェニルスルホネート、ブチルフェニルスルホネート、ヘキシルフェニルスルホネート等の、炭素数１〜７のアルキル基で置換したフェニル基を有する有機スルホネートアニオン、５）ナフチルスルホネート、６）メチルナフチルスルホネート、エチルナフチルスルホネート、イソプロピルナフチルスルホネート等の、炭素数１〜３のアルキル基で置換したナフチル基を有する有機スルホネートアニオン等が挙げられる。なかでも炭素数１〜４のアルキル基を有する有機スルホネートアニオン、フェニルスルホネートアニオン、炭素数１〜４のアルキル基で置換したフェニル基を有する有機スルホネートアニオンが好ましく、メチルスルホネートアニオン、フェニルスルホネートアニオン、メチルフェニルスルホネートアニオンがより好ましい。 The compound represented by Chemical Formula 2 is also composed of an organic sulfonate anion and an organic ammonium cation. Examples of such organic sulfonate anions include 1) organic sulfonate anions having an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, such as methyl sulfonate, ethyl sulfonate, propyl sulfonate, butyl sulfonate, and hexyl sulfonate, and 2) butenyl sulfonate, hexenyl sulfonate, and the like. , An organic sulfonate anion having an alkenyl group having 4 to 7 carbon atoms, 3) phenyl sulfonate, 4) methyl phenyl sulfonate, ethyl phenyl sulfonate, propyl phenyl sulfonate, butyl phenyl sulfonate, hexyl phenyl sulfonate, etc. An organic sulfonate anion having a phenyl group substituted with an alkyl group, 5) naphthyl sulfonate, 6) methyl naphthyl sulfonate, ethyl naphthyl sulfonate, Such as isopropyl naphthyl sulfonates, and organic sulfonate anions having a naphthyl group substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Of these, an organic sulfonate anion having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl sulfonate anion, and an organic sulfonate anion having a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms are preferred, such as methyl sulfonate anion, phenyl sulfonate anion, methyl More preferred is a phenyl sulfonate anion.
また化２で示される化合物における有機アンモニウムカチオンとしては、ジメチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジエチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジプロピル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジブチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジイソプロピル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルエチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルプロピル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルヘキシル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルオクチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルドデシル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルテトラドデシル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルオクタデシル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルドコシル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、メチルベンジル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、オクチルベンジル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジヘキシル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジオクチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジドデシル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム、ジメチル＝ビス（３−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、メチルオクチル＝ビス（３−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、メチルベンジル＝ビス（３−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、ジメチル＝ビス（４−ヒドロキシブチル）アンモニウム、メチルドデシル＝ビス（４−ヒドロキシブチル）アンモニウム、ジメチル＝ビス（２−メトキシエチル）アンモニウム、メチルオクチル＝ビス（２−メトキシエチル）アンモニウム、メチルベンジル＝ビス（２−メトキシエチル）アンモニウム、ジメチル＝ビス（３−メトキシプロピル）アンモニウム、ジメチル＝ビス（４−メトキシブチル）アンモニウム、メチルベンジル＝ビス（４−メトキシブチル）アンモニウム等が挙げられる。なかでも化２中のＲ３が炭素数１〜１２のアルキル基、Ｒ４がメチル基又はエチル基であって、Ｙ１及びＹ２がエチレン基、Ｚ１及びＺ２が水素原子である場合の有機アンモニウムカチオンが好ましく、化２中のＲ３及びＲ４がメチル基であって、Ｙ１及びＹ２がエチレン基、Ｚ１及びＺ２が水素原子である場合の有機アンモニウムカチオンがより好ましい。 As the organic ammonium cation in the compound represented by Chemical Formula 2, dimethyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium, diethyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium, dipropyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, dibutyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, diisopropyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, methylethyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, methylpropyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, methylhexyl = bis (2- Hydroxyethyl) ammonium, methyloctyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, methyldodecyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, methyltetradodecyl = bis (2-hydroxyethyl) ) Ammonium, methyl octadecyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium, methyl docosyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium, methyl benzyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium, octyl benzyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium , Dihexyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, dioctyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, didodecyl = bis (2-hydroxyethyl) ammonium, dimethyl = bis (3-hydroxypropyl) ammonium, methyloctyl = bis ( 3-hydroxypropyl) ammonium, methylbenzyl = bis (3-hydroxypropyl) ammonium, dimethyl = bis (4-hydroxybutyl) ammonium, methyldodecyl = bis 4-hydroxybutyl) ammonium, dimethyl = bis (2-methoxyethyl) ammonium, methyloctyl = bis (2-methoxyethyl) ammonium, methylbenzyl = bis (2-methoxyethyl) ammonium, dimethyl = bis (3-methoxypropyl) ) Ammonium, dimethyl bis (4-methoxybutyl) ammonium, methylbenzyl bis (4-methoxybutyl) ammonium and the like. Especially, when R 3 in Chemical Formula 2 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 4 is a methyl group or an ethyl group, Y 1 and Y 2 are ethylene groups, and Z 1 and Z 2 are hydrogen atoms. An organic ammonium cation is more preferable, in which R 3 and R 4 in Chemical Formula 2 are methyl groups, Y 1 and Y 2 are ethylene groups, and Z 1 and Z 2 are hydrogen atoms. .
本発明に供する化２で示される化合物は以上例示したような有機スルホネートアニオンと有機アンモニウムカチオンとの任意の組合わせにより構成されたものであるが、本発明はその組合わせを特に制限するものではない。これらの有機スルホネートアンモニウム塩は、前記した化１で示される化合物と同じ方法で合成できる。 The compound represented by Chemical Formula 2 used in the present invention is composed of an arbitrary combination of the organic sulfonate anion and the organic ammonium cation as exemplified above, but the present invention does not particularly limit the combination. Absent. These organic sulfonate ammonium salts can be synthesized by the same method as the compound represented by Chemical Formula 1 described above.
化３で示される化合物も有機スルホネートアニオンと有機アンモニウムカチオンとからなるものである。かかる有機スルホネートアニオンは、前記した化２で示される化合物の有機スルホネートアニオンについて説明したことと同じである。 The compound represented by Chemical formula 3 is also composed of an organic sulfonate anion and an organic ammonium cation. Such an organic sulfonate anion is the same as described for the organic sulfonate anion of the compound represented by Chemical Formula 2 described above.
また化３で示される化合物における有機アンモニウムカチオンとしては、トリメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、トリエチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、トリプロピル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、メチル＝ジエチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、メチル＝ジイソプロピル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、メチル＝ジブチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、メチル＝エチル＝プロピル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、ブチル＝ジメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、ヘキシル＝ジメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、オクチル＝ジメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、ドデシル＝ジメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、テトラデシル＝ジメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、オクタデシル＝ジメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、ドコシル＝ジメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、ブチル＝ジエチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、ヘキシル＝ジエチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、オクチル＝ジエチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、ジメチル＝ベンジル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、オクチル＝ジベンジル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム、トリエチル＝３−ヒドロキシプロピルアンモニウム、オクチル＝ジメチル＝３−ヒドロキシプロピルアンモニウム、トリブチル＝４−ヒドロキシブチルアンモニウム、オクチル＝ジメチル＝４−ヒドロキシブチルアンモニウム、トリエチル＝２−メトキシエチルアンモニウム、オクチル＝ジメチル＝２−メトキシエチルアンモニウム、トリブチル＝３−メトキシプロピルアンモニウム、オクチル＝ジメチル＝４−メトキシブチルアンモニウム等が挙げられる。なかでも化３中のＲ５が炭素数６〜１８のアルキル基、Ｒ６及びＲ７がメチル基又はエチル基であって、Ｙ３がエチレン基、Ｚ３が水素原子である場合の有機アンモニウムカチオンが好ましく、化３中のＲ５が炭素数８〜１２のアルキル基、Ｒ６及びＲ７がメチル基であって、Ｙ３がエチレン基、Ｚ３が水素原子である場合の有機アンモニウムカチオンがより好ましい。 Further, as the organic ammonium cation in the compound represented by Chemical Formula 3, trimethyl = 2-hydroxyethylammonium, triethyl = 2-hydroxyethylammonium, tripropyl = 2-hydroxyethylammonium, methyl = diethyl = 2-hydroxyethylammonium, methyl = Diisopropyl = 2-hydroxyethylammonium, methyl = dibutyl = 2-hydroxyethylammonium, methyl = ethyl = propyl = 2-hydroxyethylammonium, butyl = dimethyl = 2-hydroxyethylammonium, hexyl = dimethyl = 2-hydroxyethylammonium Octyl = dimethyl = 2-hydroxyethylammonium, dodecyl = dimethyl = 2-hydroxyethylammonium, tetradecyl = dimethyl = -Hydroxyethylammonium, octadecyl = dimethyl = 2-hydroxyethylammonium, docosyl = dimethyl = 2-hydroxyethylammonium, butyl = diethyl = 2-hydroxyethylammonium, hexyl = diethyl = 2-hydroxyethylammonium, octyl = diethyl = 2 -Hydroxyethylammonium, dimethyl = benzyl = 2-hydroxyethylammonium, octyl = dibenzyl = 2-hydroxyethylammonium, triethyl = 3-hydroxypropylammonium, octyl = dimethyl = 3-hydroxypropylammonium, tributyl = 4-hydroxybutylammonium Octyl = dimethyl = 4-hydroxybutylammonium, triethyl = 2-methoxyethylammonium, Chill = dimethyl = 2-methoxyethyl ammonium, tributyl 3-methoxypropyl ammonium, octyl dimethyl 4- methoxybutyl and ammonium. In particular, R 5 in Chemical Formula 3 is an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, R 6 and R 7 are methyl groups or ethyl groups, Y 3 is an ethylene group, and Z 3 is a hydrogen atom. An organic ammonium cation in which R 5 in Chemical Formula 3 is an alkyl group having 8 to 12 carbon atoms, R 6 and R 7 are methyl groups, Y 3 is an ethylene group, and Z 3 is a hydrogen atom. Is more preferable.
本発明に供する化３で示される化合物は以上例示したような有機スルホネートアニオンと有機アンモニウムカチオンとの任意の組合わせにより構成されたものであるが、本発明はその組合わせを特に制限するものではない。これらの有機スルホネートアンモニウム塩は、前記した化１で示される化合物と同じ方法で合成できる。 The compound represented by Chemical Formula 3 used in the present invention is composed of any combination of the organic sulfonate anion and the organic ammonium cation as exemplified above, but the present invention does not particularly limit the combination. Absent. These organic sulfonate ammonium salts can be synthesized by the same method as the compound represented by Chemical Formula 1 described above.
化４で示される化合物は有機スルホネートアニオンと有機ホスホニウムカチオンとからなるものである。かかる有機スルホネートアニオンとしては、１）メチルスルホネート、エチルスルホネート、プロピルスルホネート、ブチルスルホネート、ヘキシルスルホネート、オクチルスルホネート、ドデシルスルホネート、テトラデシルスルホネート、オクタデシルスルホネート、テトラコシルスルホネート、２−エチルヘキシルスルホネート等の、炭素数１〜２４のアルキル基を有する有機スルホネートアニオン、２）ブテニルスルホネート、ヘキセニルスルホネート、オクテニルスルホネート、ドデセニルスルホネート、テトラデセニルスルホネート、オクタデセニルスルホネート等の、炭素数４〜２４のアルケニル基を有する有機スルホネートアニオン、３）フェニルスルホネート、４）メチルフェニルスルホネート、エチルフェニルスルホネート、イソプロピルフェニルスルホネート、ブチルフェニルスルホネート、オクチルフェニルスルホネート、ドデシルフェニルスルホネート、ペンタデシルフェニルスルホネート、オクタデシルフェニルスルホネート、ジブチルフェニルスルホネート、ジノニルフェニルスルホネート等の、炭素数１〜１８のアルキル基で置換したフェニル基を有する有機スルホネートアニオン、５）ナフチルスルホネート、６）ジイソプロピルナフチルスルホネート、ジブチルナフチルスルホネート等の、炭素数１〜１８のアルキル基で置換したナフチル基を有する有機スルホネートアニオン等が挙げられる。なかでも炭素数８〜１８のアルキル基を有する有機スルホネートアニオン、炭素数６〜１８のアルキル基で置換したフェニル基を有する有機スルホネートアニオンが好ましく、炭素数９〜１６のアルキル基で置換したフェニル基を有する有機スルホネートアニオンがより好ましい。 The compound represented by Chemical formula 4 comprises an organic sulfonate anion and an organic phosphonium cation. Examples of the organic sulfonate anion include 1) carbon such as methyl sulfonate, ethyl sulfonate, propyl sulfonate, butyl sulfonate, hexyl sulfonate, octyl sulfonate, dodecyl sulfonate, tetradecyl sulfonate, octadecyl sulfonate, tetracosyl sulfonate, and 2-ethylhexyl sulfonate. An organic sulfonate anion having an alkyl group of 1 to 24, 2) butenyl sulfonate, hexenyl sulfonate, octenyl sulfonate, dodecenyl sulfonate, tetradecenyl sulfonate, octadecenyl sulfonate, etc. Organic sulfonate anion having 24 alkenyl groups, 3) phenylsulfonate, 4) methylphenylsulfonate, ethylphenylsulfonate Phenyl substituted with an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, such as isopropyl phenyl sulfonate, butyl phenyl sulfonate, octyl phenyl sulfonate, dodecyl phenyl sulfonate, pentadecyl phenyl sulfonate, octadecyl phenyl sulfonate, dibutyl phenyl sulfonate, dinonyl phenyl sulfonate, etc. And organic sulfonate anions having a naphthyl group substituted with an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms such as 5) naphthyl sulfonate, 6) diisopropyl naphthyl sulfonate, and dibutyl naphthyl sulfonate. Among them, an organic sulfonate anion having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms and an organic sulfonate anion having a phenyl group substituted with an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms are preferable, and a phenyl group substituted with an alkyl group having 9 to 16 carbon atoms. More preferred are organic sulfonate anions having
また化４で示される化合物における前記有機ホスホニウムカチオンとしては、１）テトラメチルホスホニウム、テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、トリエチルメチルホスホニウム、トリブチルメチルホスホニウム、ジエチルジヘキシルホスホニウム、ジオクチルジメチルホスホニウム、ジオクチルジブチルホスホニウム、トリメチルブチルホスホニウム、トリメチルオクチルホスホニウム、トリメチルドデシルホスホニウム、トリメチルオクタデシルホスホニウム、トリエチルオクチルホスホニウム、トリエチルドデシルホスホニム、トリエチルヘキサデシルホスホニウム、トリブチルオクチルホスホニウム、トリブチルドデシルホスホニム、トリブチルヘキサデシルホスホニウム等の、化４中のＲ８〜Ｒ１１が炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基である場合の有機ホスホニウムカチオンが挙げられる。なかでも化４中のＲ８〜Ｒ１１が炭素数２〜１６の脂肪族炭化水素基である場合の有機ホスホニウムカチオンが好ましく、化４中のＲ８〜Ｒ１１が炭素数２〜５の脂肪族炭化水素基である場合の有機ホスホニウムカチオンがより好ましい。 Examples of the organic phosphonium cation in the compound represented by Chemical Formula 4 include 1) tetramethylphosphonium, tetraethylphosphonium, tetrabutylphosphonium, triethylmethylphosphonium, tributylmethylphosphonium, diethyldihexylphosphonium, dioctyldimethylphosphonium, dioctyldibutylphosphonium, trimethylbutyl. R 8 in Chemical Formula 4 such as phosphonium, trimethyloctylphosphonium, trimethyldodecylphosphonium, trimethyloctadecylphosphonium, triethyloctylphosphonium, triethyldodecylphosphonium, triethylhexadecylphosphonium, tributyloctylphosphonium, tributyldodecylphosphonium, tributylhexadecylphosphonium, etc. ~R 11 carbon The organic phosphonium cation when it is 1 to 18 aliphatic hydrocarbon group. The organic phosphonium cation is preferably when R 8 to R 11 inter alia of 4 is an aliphatic hydrocarbon group having 2 to 16 carbon atoms, aliphatic R 8 to R 11 in Chemical Formula 4 is 2 to 5 carbon atoms An organic phosphonium cation in the case of an aromatic hydrocarbon group is more preferred.
本発明の帯電防止剤に供するスルホネートホスホニウム塩は以上例示したような有機スルホネートアニオンと有機ホスホニウムカチオンとの任意の組合わせにより構成されたものであるが、本発明はその組合わせを特に制限するものではない。これらの有機スルホネートホスホニウム塩は、それぞれ相当する有機スルホネートの金属塩又はアンモニウム塩と四級ホスホニウム塩とを溶媒中で混合し、副生する無機塩を水洗分離するか、又はメタノールやイソプロパノール更にはアセトンの如き有機溶媒にてスルホネートホスホニウム塩を抽出することにより得ることができる。 The sulfonate phosphonium salt used for the antistatic agent of the present invention is composed of any combination of the organic sulfonate anion and the organic phosphonium cation as exemplified above, but the present invention particularly restricts the combination. is not. These organic sulfonate phosphonium salts are obtained by mixing the corresponding organic sulfonate metal salt or ammonium salt with a quaternary phosphonium salt in a solvent, and washing and separating the by-product inorganic salt, or methanol, isopropanol or acetone. The sulfonate phosphonium salt can be obtained by extraction with an organic solvent such as
本発明の帯電防止剤は、以上説明した帯電防止剤成分Ｍと帯電防止剤成分Ｎとから成り、帯電防止剤成分Ｍ／帯電防止剤成分Ｎ＝２５／７５〜８０／２０（質量比）の割合で含有するものであるが、本発明の帯電防止剤としては、帯電防止剤成分Ｍ／帯電防止剤成分Ｎ＝３０／７０〜７５／２５（質量比）の割合で含有するものが好ましく、帯電防止剤成分Ｍ／帯電防止剤成分Ｎ＝４０／６０〜６５／３５（質量比）の割合で含有するものがより好ましい。 The antistatic agent of the present invention comprises the antistatic agent component M and the antistatic agent component N described above, and the antistatic agent component M / antistatic agent component N = 25/75 to 80/20 (mass ratio). The antistatic agent of the present invention is preferably contained at a ratio of antistatic agent component M / antistatic agent component N = 30/70 to 75/25 (mass ratio). The antistatic agent component M / antistatic agent component N is more preferably contained in a ratio of 40/60 to 65/35 (mass ratio).
次に、本発明に係る合成高分子材料組成物はついて説明する。本発明に係る合成高分子材料組成物は、合成高分子材料１００質量部当たり、以上説明した本発明の帯電防止剤を０．１〜４質量部の割合、好ましくは０．２〜２質量部の割合で含有して成るものである。 Next, the synthetic polymer material composition according to the present invention will be described. The synthetic polymer material composition according to the present invention is 0.1 to 4 parts by mass, preferably 0.2 to 2 parts by mass of the antistatic agent of the present invention described above per 100 parts by mass of the synthetic polymer material. It is contained at a ratio of
本発明に係る合成高分子材料組成物に供する合成高分子材料それ自体としては、公知のものを適用できる。なかでもエステル系樹脂、スチレン系樹脂及びアクリル系樹脂が好ましい。かかる好ましい合成高分子材料の具体例としては、エステル系樹脂として、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリシクロヘキサンテレフタレート樹脂、ポリエステルエラストマー等の芳香族ポリエステル樹脂、ポリブチレンサクシネート樹脂、ポリカプロラクトン樹脂等の脂肪族ポリエステル樹脂、ポリエチレンテレフタレート／サクシネート樹脂等の脂肪族芳香族ポリエステル樹脂が挙げられ、またスチレン系樹脂として、ポリスチレン、ＳＢＳ（スチレン・ブタジエン・スチレン共重合体）、水添ＳＢＳ（水添スチレン・ブタジエン・スチレン共重合体）、ＳＥＰＳ（水添スチレン・イソプレン・スチレン共重合体）、ＨＩＰＳ（耐衝撃性ポリスチレン）、ＡＳ樹脂（アクリロニトリル・スチレン共重合体）、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体）、ＭＢＳ樹脂（メチルメタクリレート・ブタジエン・スチレン共重合体）、ＭＡＢＳ樹脂（メチルメタクリレート・アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体）、ＡＡＳ樹脂（アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン共重合体）、ＡＥＳ樹脂（アクリロニトリル・エチレンプロピレン系ゴム・スチレン共重合体）等が挙げられ、更にアクリル系樹脂として、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリメタクリル酸プロピル、ポリメタクリル酸ブチル、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、メタクリル酸メチル−アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体、メタクリル酸メチル−メタクリル酸ブチル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エチル共重合体等が挙げられる。 As the synthetic polymer material itself used for the synthetic polymer material composition according to the present invention, known materials can be applied. Of these, ester resins, styrene resins, and acrylic resins are preferable. Specific examples of such preferred synthetic polymer materials include ester resins such as polytrimethylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polycyclohexane terephthalate resin, polyester elastomer and other aromatic polyester resins, polybutylene succinate. Examples thereof include aliphatic polyester resins such as resins, polycaprolactone resins, and aliphatic aromatic polyester resins such as polyethylene terephthalate / succinate resins. As styrene resins, polystyrene, SBS (styrene-butadiene-styrene copolymer), water SBS (hydrogenated styrene / butadiene / styrene copolymer), SEPS (hydrogenated styrene / isoprene / styrene copolymer), HIPS (impact polystyrene), A Resin (acrylonitrile / styrene copolymer), ABS resin (acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer), MBS resin (methyl methacrylate / butadiene / styrene copolymer), MABS resin (methyl methacrylate / acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer) Coalesced), AAS resin (acrylonitrile / acrylic rubber / styrene copolymer), AES resin (acrylonitrile / ethylene propylene rubber / styrene copolymer) and the like, and acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethacrylic Ethyl acetate, polypropyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polymethyl acrylate, polyethyl acrylate, methyl methacrylate-methyl acrylate copolymer, methyl methacrylate-ethyl methacrylate copolymer Coalescence, methyl methacrylate - butyl methacrylate copolymer, methyl methacrylate - and ethyl acrylate copolymer and the like.
本発明に係る合成高分子材料組成物の調製方法それ自体には、公知の方法を適用できる。かかる調製方法としては、本発明の帯電防止剤を高濃度に含有するマスターチップ（マスターペレット）を作製しておき、このマスターチップを更に合成高分子材料と混合して所定の合成高分子材料組成物とする方法が挙げられる。帯電防止剤のマスターチップを作製する方法としては、１）合成高分子材料と本願発明の帯電防止剤とをヘンシェルミキサー等の混合機に投入して混合し、その混合物を二軸押出機等で溶融混練し、押出しし、切断して帯電防止剤のマスターチップとする方法、２）シリンダ中間部に液状物定量フィーダーの付いた二軸押出機を用い、本願発明の帯電防止剤を該液状物定量フィーダーを介して二軸押出機に導入して、合成高分子材料と溶融混練し、押出しし、切断して帯電防止剤のマスターチップとする方法等が挙げられる。合成高分子材料と本発明の帯電防止剤とを混合機で混合するときの温度は、合成高分子材料と帯電防止剤の種類により適宜設定するが、通常は２０〜１００℃とし、好ましくは４０〜７０℃とする。また合成高分子材料と本発明の帯電防止剤のマスターチップとの混合物を二軸押出機等で溶融混練するときの温度は、合成高分子材料の種類により適宜設定するが、通常は１６０〜２８０℃とし、好ましくは２００〜２６０℃とする。 Known methods can be applied to the method for preparing the synthetic polymer material composition according to the present invention itself. As such a preparation method, a master chip (master pellet) containing the antistatic agent of the present invention at a high concentration is prepared, and this master chip is further mixed with a synthetic polymer material to obtain a predetermined synthetic polymer material composition. The method to make a thing is mentioned. As a method for producing a master chip of an antistatic agent, 1) the synthetic polymer material and the antistatic agent of the present invention are put into a mixer such as a Henschel mixer and mixed, and the mixture is mixed with a twin screw extruder or the like. A method of melt kneading, extruding, cutting to obtain an antistatic agent master chip, and 2) using a twin screw extruder having a liquid quantitative feeder in the middle of the cylinder, and applying the antistatic agent of the present invention to the liquid Examples thereof include a method of introducing into a twin-screw extruder via a quantitative feeder, melt-kneading with a synthetic polymer material, extruding, cutting, and forming an antistatic agent master chip. The temperature at which the synthetic polymer material and the antistatic agent of the present invention are mixed with a mixer is appropriately set depending on the types of the synthetic polymer material and the antistatic agent, but is usually 20 to 100 ° C., preferably 40. ˜70 ° C. The temperature at which the mixture of the synthetic polymer material and the master chip of the antistatic agent of the present invention is melt-kneaded with a twin screw extruder or the like is appropriately set depending on the type of the synthetic polymer material, but is usually 160 to 280. ° C, preferably 200-260 ° C.
以上説明した本発明の帯電防止剤には、合成高分子材料に対する帯電防止性、ハンドリング性及び抗着色性を同時に充足することができるという効果がある。 The antistatic agent of the present invention described above has an effect that the antistatic property, the handling property and the anti-coloring property for the synthetic polymer material can be satisfied at the same time.
以下、本発明の構成及び効果をより具体的にするため、実施例等を挙げるが、本発明がこれらの実施例に限定されるというものではない。尚、以下の実施例及び比較例において、部は質量部を、また％は質量％を意味する。 Hereinafter, in order to make the configuration and effects of the present invention more specific, examples and the like will be described. However, the present invention is not limited to these examples. In the following Examples and Comparative Examples, “part” means “part by mass” and “%” means “% by mass”.
試験区分１（帯電防止剤成分の合成）
・化１で示される化合物の合成｛帯電防止剤成分（Ａ−１）〜（Ａ−８）及び（ＡＲ−１）〜（ＡＲ−３）の合成｝
温度計、攪拌機及び滴下管を備えた底排弁付きの四つ口フラスコにドデシルフェニルスルホン酸３２６ｇ（１．０モル）を入れ、滴下管よりジメチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム・ハイドロオキサイドの５０％水溶液３０２ｇ｛ジメチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム・ハイドロオキサイドとして１．０モル｝を滴下して中和した。中和液のｐＨを測定し、ｐＨが６．０に調整されていることを確認した後、中和液中の水を留去して、黄色ワックス状のドデシルフェニルスルホネート・ジメチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム４５５ｇを得た。これを化合物（Ａ−１）とした。帯電防止剤成分（Ａ−１）と同様にして帯電防止剤成分（Ａ−２）〜（Ａ−８）及び（ＡＲ−１）〜（ＡＲ−３）を得た。これらの内容を表１にまとめて示した。
Test Category 1 (Synthesis of antistatic component)
Synthesis of compounds represented by Chemical Formula 1 {Synthesis of antistatic agent components (A-1) to (A-8) and (AR-1) to (AR-3)}
326 g (1.0 mol) of dodecylphenylsulfonic acid is placed in a four-necked flask with a bottom discharge valve equipped with a thermometer, a stirrer and a dropping tube, and dimethyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide is added from the dropping tube. Was added dropwise in an amount of 302 g {1.0 mol as dimethyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide}. After measuring the pH of the neutralized solution and confirming that the pH was adjusted to 6.0, water in the neutralized solution was distilled off to obtain yellow wax-like dodecylphenylsulfonate / dimethyl = bis (2 455 g of (hydroxyethyl) ammonium were obtained. This was made into the compound (A-1). Antistatic agent components (A-2) to (A-8) and (AR-1) to (AR-3) were obtained in the same manner as the antistatic agent component (A-1). These contents are summarized in Table 1.
・化２で示される化合物の合成｛帯電防止剤成分（Ｂ−１）〜（Ｂ−７）及び（ＢＲ−１）〜（ＢＲ−３）の合成｝
温度計、攪拌機及び滴下管を備えた底排弁付きの四つ口フラスコにメタンスルホン酸の７０％水溶液１３７ｇ（メタンスルホン酸として１．０モル）を入れて、滴下管よりジメチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム・ハイドロオキサイドの５０％水溶液３０２ｇ｛ジメチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム・ハイドロオキサイドとして１．０モル｝を滴下して中和した。中和液のｐＨを測定し、ｐＨが６．７に調整されていることを確認した後、中和液中の水を留去して、黄色液状のメチルスルホネート・ジメチル＝ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム２２５ｇを得た。これを帯電防止剤成分（Ｂ−１）とした。帯電防止剤成分（Ｂ−１）と同様にして帯電防止剤成分（Ｂ−２）〜（Ｂ−７）及び（ＢＲ−１）〜（ＢＲ−３）を得た。これらの内容を表２にまとめて示した。尚、表２及び後述する表３中、水素は水素原子を意味する。
Synthesis of compounds represented by Chemical Formula 2 {Synthesis of antistatic agent components (B-1) to (B-7) and (BR-1) to (BR-3)}
Into a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a dropping tube with a bottom discharge valve, 137 g of a 70% aqueous solution of methanesulfonic acid (1.0 mol as methanesulfonic acid) was placed, and dimethyl bis (2 -Hydroxyethyl) ammonium hydroxide 302 g {1.0 mol as dimethyl bis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide} was neutralized by dropwise addition. After measuring the pH of the neutralized solution and confirming that the pH was adjusted to 6.7, water in the neutralized solution was distilled off to obtain a yellow liquid methylsulfonate dimethyl bis (2-hydroxy). 225 g of ethyl) ammonium were obtained. This was designated as an antistatic agent component (B-1). Antistatic agent components (B-2) to (B-7) and (BR-1) to (BR-3) were obtained in the same manner as the antistatic agent component (B-1). These contents are summarized in Table 2. In Table 2 and Table 3 described later, hydrogen means a hydrogen atom.
・化３で示される化合物の合成｛帯電防止剤成分（Ｃ−１）〜（Ｃ−７）及び（ＣＲ−１）〜（ＣＲ−３）の合成｝
温度計、攪拌機及び滴下管を備えた底排弁付きの四つ口フラスコにメタンスルホン酸の７０％水溶液１３７ｇ（メタンスルホン酸として１．０モル）を入れて、滴下管よりオクチル＝ジメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム・ハイドロオキサイドを３５％含有する水／イソプロピルアルコール混合液６２７ｇ（オクチル＝ジメチル＝２−ヒドロキシエチルアンモニウム・ハイドロオキサイドとして１．０モル）を滴下して中和した。中和液のｐＨを測定し、ｐＨが７．２に調整されていることを確認した後、中和液中の水を留去して、淡黄色液状のメチルスルホネート・オクチル（ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニウム塩２９０ｇを得た。これを帯電防止剤成分（Ｃ−１）とした。帯電防止剤成分（Ｃ−１）と同様にして帯電防止剤成分（Ｃ−２）〜（Ｃ−７）及び（ＣＲ−１）〜（ＣＲ−３）を得た。これらの内容を表３にまとめて示した。
Synthesis of compounds represented by Chemical Formula 3 {Synthesis of antistatic agent components (C-1) to (C-7) and (CR-1) to (CR-3)}
Into a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a dropping tube with a bottom discharge valve, 137 g of a 70% aqueous solution of methanesulfonic acid (1.0 mol as methanesulfonic acid) was placed, and octyl = dimethyl = 2 from the dropping tube. -627 g of water / isopropyl alcohol mixed solution containing 35% of hydroxyethylammonium hydroxide (1.0 mol as octyl = dimethyl = 2-hydroxyethylammonium hydroxide) was added dropwise for neutralization. After measuring the pH of the neutralized solution and confirming that the pH was adjusted to 7.2, the water in the neutralized solution was distilled off to obtain a light yellow liquid methylsulfonate / octyl (hydroxyethyl) dimethyl. 290 g of ammonium salt was obtained. This was designated as an antistatic agent component (C-1). Antistatic agent components (C-2) to (C-7) and (CR-1) to (CR-3) were obtained in the same manner as the antistatic agent component (C-1). These contents are summarized in Table 3.
・化４で示される化合物の合成｛帯電防止剤成分（Ｄ−１）〜（Ｄ−９）及び（ＤＲ−１）、（ＤＲ−２）の合成｝
特開２００５−１３２８５３号公報に記載の方法にしたがって、ドデシルフェニルスルホン酸ナトリウム塩３４８ｇ（１．０モル）にテトラブチルホスホニウムクロライド３１０ｇ（１．０５モル）を水溶媒中で混合して、副生した塩化ナトリウムを水洗して除去した後、水を留去して、淡黄色液状のドデシルフェニルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩５５６ｇ（０．９５モル）を得た。これを帯電防止剤成分（Ｄ−１）とした。帯電防止剤成分（Ｄ−１）と同様にして帯電防止剤成分（Ｄ−２）〜（Ｄ−９）及び（ＤＲ−１）、（ＤＲ−２）を得た。これらの内容を表４にまとめて示した。
Synthesis of compound represented by chemical formula {Synthesis of antistatic agent components (D-1) to (D-9) and (DR-1), (DR-2)}
According to the method described in JP-A-2005-132853, 348 g (1.0 mol) of dodecylphenylsulfonic acid sodium salt was mixed with 310 g (1.05 mol) of tetrabutylphosphonium chloride in an aqueous solvent. After removing the sodium chloride by washing with water, the water was distilled off to obtain 556 g (0.95 mol) of a light yellow liquid tetrabutylphosphonium salt of dodecylphenylsulfonic acid. This was designated as an antistatic agent component (D-1). Antistatic agent components (D-2) to (D-9), (DR-1) and (DR-2) were obtained in the same manner as the antistatic agent component (D-1). These contents are summarized in Table 4.
試験区分２（合成高分子材料用帯電防止剤の調製）
・実施例１〜２９及び比較例１〜１４｛合成高分子材料用帯電防止剤（Ｐ−１）〜（Ｐ−２９）及び（Ｔ−１）〜（Ｔ−１４）の調製｝
帯電防止剤成分（Ａ−１）６０部と帯電防止剤成分（Ｂ−１）４０部とを混合して実施例１の合成高分子材料用帯電防止剤（Ｐ−１）１００部を調製した。同様にして、実施例２〜２９の合成高分子材料用帯電防止剤（Ｐ−２）〜（Ｐ−２９）及び比較例１〜１４の合成高分子材料用帯電防止剤（Ｔ−１）〜（Ｔ−１４）を調製した。これらの内容を表５にまとめて示した。尚、表５中、割合は部（質量部）である。
Test Category 2 (Preparation of antistatic agent for synthetic polymer materials)
Examples 1 to 29 and Comparative Examples 1 to 14 {Preparation of antistatic agents (P-1) to (P-29) and (T-1) to (T-14) for synthetic polymer materials}
60 parts of the antistatic agent component (A-1) and 40 parts of the antistatic agent component (B-1) were mixed to prepare 100 parts of the antistatic agent for synthetic polymer material (P-1) of Example 1. . Similarly, antistatic agents (P-2) to (P-29) for synthetic polymer materials of Examples 2 to 29 and antistatic agents (T-1) for synthetic polymer materials of Comparative Examples 1 to 14 to (T-14) was prepared. These contents are summarized in Table 5. In Table 5, the ratio is parts (parts by mass).
試験区分３（合成高分子材料組成物の調製及び評価その１）
・実施例３０〜５８及び比較例１５〜２８
エステル系樹脂（イーストマンケミカル社製の商品名ＥＡＳＴＡＲ ＣＯＰＯＬＹＥＳＴＥＲ ６７６３）３８００ｇと試験区分２で調製した合成高分子材料用帯電防止剤２００ｇとを２０リットルのヘンシェルミキサー（羽根ＹＯ型、回転数４００ｒｐｍ）に投入して、釜内雰囲気６０℃にて１０分間混練した後、排出シュートからポリエステルマスターチップ用の混合物を抜き出した。この混合物を二軸押出機（日本製鋼所社製の商品名ＴＥＸ３０α）の原料投入口より投入し、混練温度２４０℃で口金よりストランド状に押出し、水で急冷してストランドを得た。このストランドをストランドカッターで切断して、ペレット状のポリエステルマスターチップを作製した。次にこのポリエステルマスターチップ１６０ｇとエステル系樹脂（イーストマンケミカル社製の商品名ＥＡＳＴＡＲ ＣＯＰＯＬＹＥＳＴＥＲ ６７６３）８４０ｇとをタンブラーで混合した後、Ｔダイ付きの二軸押出機（東洋精機製作所社製の商品名ラボプラストミル３０Ｃ１５０型）を用いて、混練温度２５０℃及び混練時間１分間の条件で混練しながら押出しし、５０℃の冷却ロールで冷却して、実施例３０の合成高分子材料組成物に相当する厚さ０．５mmのエステル系樹脂シートを得た。エステル系樹脂との混合割合を変え、同様にして、実施例３１〜５８及び比較例１５〜２８の合成高分子材料組成物に相当する厚さ０．５mmのエステル系樹脂シートを得た。これらの内容を表６にまとめて示した。
Test Category 3 (Preparation and evaluation of synthetic polymer material composition 1)
Examples 30 to 58 and comparative examples 15 to 28
Ester resin (trade name EASTAR COPOLYESTER 6863 manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) 3800 g and 200 g of antistatic agent for synthetic polymer material prepared in Test Category 2 were added to a 20 liter Henschel mixer (blade YO type, rotation speed 400 rpm). Then, the mixture was kneaded at 60 ° C. for 10 minutes in the atmosphere in the kettle, and then the polyester master chip mixture was extracted from the discharge chute. This mixture was charged from a raw material charging port of a twin-screw extruder (trade name TEX30α manufactured by Nippon Steel Works), extruded into a strand shape from the die at a kneading temperature of 240 ° C., and rapidly cooled with water to obtain a strand. The strand was cut with a strand cutter to produce a pellet-shaped polyester master chip. Next, 160 g of this polyester master chip and 840 g of an ester-based resin (trade name EASTAR COPOLYESTER 6763 manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) were mixed with a tumbler, and then a twin-screw extruder with a T die (trade name manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) Using a Laboplast mill 30C150 type), and extruding while kneading under the conditions of a kneading temperature of 250 ° C. and a kneading time of 1 minute, cooled with a cooling roll of 50 ° C., and corresponding to the synthetic polymer material composition of Example 30 An ester resin sheet having a thickness of 0.5 mm was obtained. The mixing ratio with the ester resin was changed, and similarly, an ester resin sheet having a thickness of 0.5 mm corresponding to the synthetic polymer material compositions of Examples 31 to 58 and Comparative Examples 15 to 28 was obtained. These contents are summarized in Table 6.
・評価その１
・・ハンドリング性の評価
エステル系樹脂と合成高分子材料用帯電防止剤とをヘンシェルミキサーで混練したときの状況から、下記の基準で評価した。結果を表６にまとめて示した。
ハンドリング性の評価基準
ＡＡＡ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が殆どなく、得られたポリエステルマスターチップ用の混合物の歩留まりが９５％以上であった。
ＡＡ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が僅かにあるが、得られたポリエステルマスターチップ用の混合物の歩留まりが８５％以上９５％未満であった。
Ａ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が明らかにあり、得られたポリエステルマスターチップ用の混合物の歩留まりが７０％以上８５％未満であった。
Ｂ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が著しくあり、得られたポリエステルマスターチップ用の混合物の歩留まりが７０％未満であった。
・ Evaluation 1
..Evaluation of handling properties From the situation when the ester resin and the antistatic agent for synthetic polymer material were kneaded with a Henschel mixer, the evaluation was made according to the following criteria. The results are summarized in Table 6.
Evaluation criteria for handling properties AAA: There was almost no adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer, and the yield of the obtained polyester master chip mixture was 95% or more.
AA: Although there was slight adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer, the yield of the obtained mixture for the polyester master chip was 85% or more and less than 95%.
A: Adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer was apparent, and the yield of the obtained mixture for polyester master chips was 70% or more and less than 85%.
B: The adhesion of the resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer was remarkable, and the yield of the obtained mixture for the polyester master chip was less than 70%.
・・帯電防止性の評価
得られたエステル系樹脂シートを、２０℃で相対湿度４０％の条件下に２４時間調湿した後、同雰囲気にて超絶縁抵抗計（東亜電波工業社製の商品名ＳＭ−８２１０型）を用い、ＪＩＳ−Ｋ６９１１に準拠して表面固有抵抗を測定し、下記の基準で評価した。結果を表６にまとめて示した。
帯電防止性の評価基準
ＡＡ：表面固有抵抗が５×１０１１Ω未満
Ａ：表面固有抵抗が５×１０１１Ω以上１×１０１３Ω未満
Ｂ：表面固有抵抗が１×１０１３Ω以上
..Evaluation of antistatic property The obtained ester resin sheet was conditioned at 20 ° C. under a relative humidity of 40% for 24 hours, and then a super insulation resistance meter (a product made by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.) in the same atmosphere. Surface specific resistance was measured according to JIS-K6911 and evaluated according to the following criteria. The results are summarized in Table 6.
Evaluation criteria for antistatic properties AA: surface resistivity is less than 5 × 10 11 Ω A: surface resistivity is 5 × 10 11 Ω or more and less than 1 × 10 13 Ω B: surface resistivity is 1 × 10 13 Ω or more
・・抗着色性の評価
表面固有抵抗を測定したエステル系樹脂シートを肉眼観察し、下記の基準で評価した。結果を表６にまとめて示した。
抗着色性の評価基準
ＡＡＡ：帯電防止剤を用いないこと以外は同様に作製したブランクと同程度の色相を有する。
ＡＡ：ブランクより僅かに着色している。
Ａ：ブランクより幾分着色している。
Ｂ：ブランクより著しく着色している。
.. Evaluation of anti-coloring property The ester resin sheet whose surface resistivity was measured was visually observed and evaluated according to the following criteria. The results are summarized in Table 6.
Evaluation criteria for anti-coloring properties AAA: Has the same hue as a blank produced in the same manner except that no antistatic agent is used.
AA: Colored slightly from the blank.
A: Somewhat more colored than the blank.
B: Remarkably colored than the blank.
表６において、
ＰＥＴ：エステル系樹脂
使用量：合成高分子材料１００質量部当たりの合成高分子材料用帯電防止剤の質量部
In Table 6,
PET: Ester resin Amount used: parts by mass of antistatic agent for synthetic polymer material per 100 parts by mass of synthetic polymer material
試験区分４（合成高分子材料組成物の調製及び評価その２）
・実施例５９〜８７及び比較例２９〜４２
スチレン系樹脂（東レ社製の商品名トヨラック９２０）３８００ｇと試験区分２で調製した帯電防止剤２００ｇとを２０リットルヘンシェルミキサー（羽根ＹＯ型、回転数４００ｒｐｍ）に投入して、釜内雰囲気６０℃にて１０分間混練した後、排出シュートからスチレン系樹脂マスターチップ用の混合物を抜き出した。この混合物を二軸押出機（日本製鋼所社製の商品名ＴＥＸ３０α）の原料投入口より投入し、混練温度２４０℃で口金よりストランド状に押出し、水で急冷してストランドを得た。このストランドをストランドカッターで切断して、ペレット状のスチレン系樹脂マスターチップを作製した。次にこのスチレン系樹脂マスターチップ１００ｇとスチレン系樹脂（東レ社製の商品名トヨラック９２０）９００ｇとをタンブラーで混合した後、Ｔダイ付きの二軸押出機（東洋精機製作所社製の商品名ラボプラストミル３０Ｃ１５０型）を用いて、混練温度２４０℃及び混練時間１分間の条件で混練しながら押出しし、５０℃の冷却ロールで冷却して、実施例５９の合成高分子材料組成物に相当する厚さ０．５mmのスチレン系樹脂シートを得た。スチレン系樹脂との混合割合を変え、同様にして、実施例６０〜８７及び比較例２９〜４２の合成高分子材料組成物に相当する厚さ０．５mmのスチレン系樹脂シートを得た。これらの内容を表７にまとめて示した。
Test category 4 (Preparation and evaluation of synthetic polymer material composition 2)
Examples 59 to 87 and comparative examples 29 to 42
3800 g of styrene-based resin (trade name Toyolac 920 manufactured by Toray Industries, Inc.) and 200 g of the antistatic agent prepared in Test Category 2 were put into a 20-liter Henschel mixer (blade YO type, rotation speed 400 rpm), and the atmosphere in the kettle was 60 ° C. After kneading for 10 minutes, the mixture for the styrene resin master chip was extracted from the discharge chute. This mixture was charged from a raw material charging port of a twin-screw extruder (trade name TEX30α manufactured by Nippon Steel Works), extruded into a strand shape from the die at a kneading temperature of 240 ° C., and rapidly cooled with water to obtain a strand. This strand was cut with a strand cutter to produce a pellet-shaped styrene resin master chip. Next, 100 g of this styrene resin master chip and 900 g of styrene resin (trade name Toyolac 920 manufactured by Toray Industries, Inc.) were mixed with a tumbler, and then a twin screw extruder with a T die (trade name laboratory manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) Using a plastmill 30C150 type) and extruding while kneading under the conditions of a kneading temperature of 240 ° C. and a kneading time of 1 minute, cooled with a cooling roll of 50 ° C., and corresponding to the synthetic polymer material composition of Example 59 A styrene resin sheet having a thickness of 0.5 mm was obtained. The mixing ratio with the styrenic resin was changed, and similarly, styrene resin sheets having a thickness of 0.5 mm corresponding to the synthetic polymer material compositions of Examples 60 to 87 and Comparative Examples 29 to 42 were obtained. These contents are summarized in Table 7.
・評価その２
・・ハンドリング性の評価
スチレン系樹脂と合成高分子材料用帯電防止剤とをヘンシェルミキサーで混練したときの状況から、下記の基準で評価した。結果を表７にまとめて示した。
ハンドリング性の評価基準
ＡＡＡ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が殆どなく、得られたスチレン系樹脂マスターチップ用の混合物の歩留まりが９５％以上であった。
ＡＡ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が僅かにあるが、得られたスチレン系樹脂マスターチップ用の混合物の歩留まりが８５％以上９５％未満であった。
Ａ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が明らかにあり、得られたスチレン系樹脂マスターチップ用の混合物の歩留まりが７０％以上８５％未満であった。
Ｂ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が著しくあり、得られたスチレン系樹脂マスターチップ用の混合物の歩留まりが７０％未満であった。
・ Evaluation 2
..Evaluation of handling properties From the situation when a styrene resin and an antistatic agent for a synthetic polymer material were kneaded with a Henschel mixer, the following criteria were used. The results are summarized in Table 7.
Evaluation criteria for handling properties AAA: There was almost no adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer, and the yield of the obtained mixture for styrene-based resin master chips was 95% or more.
AA: Although there was slight adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer, the yield of the obtained mixture for styrene resin master chips was 85% or more and less than 95%.
A: Adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer was apparent, and the yield of the obtained mixture for styrene resin master chips was 70% or more and less than 85%.
B: Adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer was remarkable, and the yield of the obtained mixture for styrene-based resin master chips was less than 70%.
・・帯電防止性の評価
スチレン系樹脂シートを、２０℃で相対湿度４０％の条件下に２４時間調湿した後、同雰囲気にて超絶縁抵抗計（東亜電波工業社製の商品名ＳＭ−８２１０型）を用い、ＪＩＳ−Ｋ６９１１に準拠して表面固有抵抗を測定し、下記の基準で評価した。結果を表７にまとめて示した。
帯電防止性の評価基準
ＡＡ：表面固有抵抗が５×１０１１Ω未満
Ａ：表面固有抵抗が５×１０１１Ω以上１×１０１３Ω未満
Ｂ：表面固有抵抗が１×１０１３Ω以上
..Evaluation of antistatic property Styrenic resin sheet was conditioned at 20 ° C. under a relative humidity of 40% for 24 hours, and then super insulation resistance meter (trade name SM-manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.) in the same atmosphere. 8210 type), the surface resistivity was measured according to JIS-K6911 and evaluated according to the following criteria. The results are summarized in Table 7.
Evaluation criteria for antistatic properties AA: surface resistivity is less than 5 × 10 11 Ω A: surface resistivity is 5 × 10 11 Ω or more and less than 1 × 10 13 Ω B: surface resistivity is 1 × 10 13 Ω or more
・抗着色性の評価
表面固有抵抗を測定したスチレン系樹脂シートを肉眼観察し、下記の基準で評価した。結果を表７にまとめて示した。
抗着色性の評価基準
ＡＡＡ：帯電防止剤又は帯電防止剤成分を用いないこと以外は同様に作製したブランクと同程度の色相を有する。
ＡＡ：ブランクより僅かに着色している。
Ａ：ブランクより幾分着色している。
Ｂ：ブランクより著しく着色している。
-Evaluation of anti-coloring property The styrenic resin sheet whose surface resistivity was measured was visually observed and evaluated according to the following criteria. The results are summarized in Table 7.
Evaluation criteria for anti-coloring properties AAA: Has the same hue as a blank produced in the same manner except that no antistatic agent or antistatic agent component is used.
AA: Colored slightly from the blank.
A: Somewhat more colored than the blank.
B: Remarkably colored than the blank.
表７において、
ＡＢＳ：スチレン系樹脂
使用量：合成高分子材料１００質量部当たりの合成高分子材料用帯電防止剤の質量部
In Table 7,
ABS: Styrenic resin Amount used: parts by mass of antistatic agent for synthetic polymer material per 100 parts by mass of synthetic polymer material
試験区分５（合成高分子材料組成物の調製及び評価その３）
・実施例８８〜１１６及び比較例４３〜５６
アクリル系樹脂（三菱レイヨン社製の商品名アクリペットＭＤ）３８００ｇと試験区分２で調製した帯電防止剤２００ｇとを２０リットルヘンシェルミキサー（羽根ＹＯ型、回転数４００ｒｐｍ）に投入して、釜内雰囲気６０℃にて１０分間混錬した後、排出シュートからアクリル系樹脂マスターチップ用の混合物を抜き出した。この混合物を二軸押出機（日本製鋼所社製の商品名ＴＥＸ３０α）の原料投入口より投入し、混練温度２５０℃で口金よりストランド状に押出し、水で急冷してストランドを得た。このストランドをストランドカッターで切断して、ペレット状のアクリル系樹脂マスターチップを作製した。次にこのアクリル系樹脂マスターチップ２００ｇとアクリル系樹脂（三菱レイヨン社製の商品名アクリペットＭＤ）８００ｇとをタンブラーで混合した後、Ｔダイ付きの二軸押出機（東洋精機製作所社製の商品名ラボプラストミル３０Ｃ１５０型）を用いて、混練温度２４０℃及び混練時間１分間の条件で混練しながら押出しし、５０℃の冷却ロールで冷却して、実施例８８の合成高分子材料組成物に相当する厚さ０．５mmのアクリル系樹脂シートを得た。アクリル系樹脂との混合割合を変え、同様にして、実施例８９〜１１６及び比較例４３〜５６の合成高分子材料組成物に相当する厚さ０．５mmのアクリル系樹脂シートを得た。これらの内容を表８にまとめて示した。
Test Category 5 (Preparation and Evaluation of Synthetic Polymer Material Composition 3)
Examples 88 to 116 and comparative examples 43 to 56
Charge 3800 g of acrylic resin (trade name Acrypet MD manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) and 200 g of antistatic agent prepared in Test Category 2 into a 20 liter Henschel mixer (blade YO type, rotation speed 400 rpm) After kneading for 10 minutes at 60 ° C., the mixture for the acrylic resin master chip was extracted from the discharge chute. This mixture was introduced from the raw material inlet of a twin screw extruder (trade name TEX30α manufactured by Nippon Steel), extruded into a strand form from the die at a kneading temperature of 250 ° C., and rapidly cooled with water to obtain a strand. This strand was cut with a strand cutter to produce a pellet-shaped acrylic resin master chip. Next, 200 g of this acrylic resin master chip and 800 g of acrylic resin (trade name Acrypet MD manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) were mixed with a tumbler, and then a twin-screw extruder with a T-die (product manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.) The synthetic polymer material composition of Example 88 was extruded while being kneaded at a kneading temperature of 240 ° C. and a kneading time of 1 minute, and cooled with a 50 ° C. cooling roll. A corresponding acrylic resin sheet with a thickness of 0.5 mm was obtained. The mixing ratio with the acrylic resin was changed, and similarly, acrylic resin sheets with a thickness of 0.5 mm corresponding to the synthetic polymer material compositions of Examples 89 to 116 and Comparative Examples 43 to 56 were obtained. These contents are summarized in Table 8.
・評価その３
・・ハンドリング性の評価
アクリル系樹脂と合成高分子材料用帯電防止剤とをヘンシェルミキサーで混練したときの状況から、下記の基準で評価した。結果を表８にまとめて示した。
ハンドリング性の評価基準
ＡＡＡ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が殆どなく、得られたアクリル系樹脂マスターチップ用の混合物の歩留まりが９５％以上であった。
ＡＡ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が僅かにあるが、得られたアクリル系樹脂マスターチップ用の混合物の歩留まりが８５％以上９５％未満であった。
Ａ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が明らかにあり、得られたアクリル系樹脂マスターチップ用の混合物の歩留まりが７０％以上８５％未満であった。
Ｂ：ヘンシェルミキサー内壁への樹脂等の付着が著しくあり、得られたアクリル系樹脂マスターチップ用の混合物の歩留まりが７０％未満であった。
・ Evaluation 3
..Evaluation of handling properties From the situation when an acrylic resin and an antistatic agent for a synthetic polymer material were kneaded with a Henschel mixer, the evaluation was made according to the following criteria. The results are summarized in Table 8.
Evaluation criteria for handling properties AAA: There was almost no adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer, and the yield of the resulting mixture for acrylic resin master chips was 95% or more.
AA: Although there was slight adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer, the yield of the resulting mixture for acrylic resin master chips was 85% or more and less than 95%.
A: Adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer was apparent, and the yield of the obtained mixture for acrylic resin master chips was 70% or more and less than 85%.
B: The adhesion of resin or the like to the inner wall of the Henschel mixer was remarkable, and the yield of the resulting mixture for acrylic resin master chips was less than 70%.
・・帯電防止性の評価
アクリル系樹脂シートを、２０℃で相対湿度４０％の条件下に２４時間調湿した後、同雰囲気にて超絶縁抵抗計（東亜電波工業社製の商品名ＳＭ−８２１０型）を用い、ＪＩＳ−Ｋ６９１１に準拠して表面固有抵抗を測定し、下記の基準で評価した。結果を表８にまとめて示した。
帯電防止性の評価基準
ＡＡ：表面固有抵抗が５×１０１１Ω未満
Ａ：表面固有抵抗が５×１０１１Ω以上１×１０１３Ω未満
Ｂ：表面固有抵抗が１×１０１３Ω以上
..Evaluation of antistatic property Acrylic resin sheet was conditioned at 20 ° C. under a relative humidity of 40% for 24 hours, and then a super insulation resistance meter (trade name SM-manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.) in the same atmosphere. 8210 type), the surface resistivity was measured according to JIS-K6911 and evaluated according to the following criteria. The results are summarized in Table 8.
Evaluation criteria for antistatic properties AA: surface resistivity is less than 5 × 10 11 Ω A: surface resistivity is 5 × 10 11 Ω or more and less than 1 × 10 13 Ω B: surface resistivity is 1 × 10 13 Ω or more
・抗着色性の評価
表面固有抵抗率を測定したアクリル系樹脂シートを肉眼観察し、下記の基準で評価した。結果を表８にまとめて示した。
抗着色性の評価基準
ＡＡＡ：帯電防止剤又は帯電防止剤成分を用いないこと以外は同様に作製したブランクと同程度の色相を有する。
ＡＡ：ブランクより僅かに着色している。
Ａ：ブランクより幾分着色している。
Ｂ：ブランクより著しく着色している。
-Evaluation of anti-coloring property The acrylic resin sheet whose surface resistivity was measured was visually observed and evaluated according to the following criteria. The results are summarized in Table 8.
Evaluation criteria for anti-coloring properties AAA: Has the same hue as a blank produced in the same manner except that no antistatic agent or antistatic agent component is used.
AA: Colored slightly from the blank.
A: Somewhat more colored than the blank.
B: Remarkably colored than the blank.
表８において、
ＡＣ：アクリル系樹脂
使用量：合成高分子材料１００質量部当たりの合成高分子材料用帯電防止剤の質量部
In Table 8,
AC: Acrylic resin Amount used: parts by mass of antistatic agent for synthetic polymer material per 100 parts by mass of synthetic polymer material
Claims (13)
帯電防止剤成分Ｍ：下記の化１で示される化合物
帯電防止剤成分Ｎ：下記の化２で示される化合物、化３で示される化合物及び化４で示される化合物から選ばれる一つ又は二つ以上
Ａ１：炭素数８〜２４のアルキル基、炭素数８〜２４のアルケニル基、置換基として炭素数８〜１８のアルキル基を有する置換フェニル基又は置換基として炭素数４〜１８のアルキル基を有する置換ナフチル基
Ａ２，Ａ３：炭素数１〜７のアルキル基、炭素数４〜７のアルケニル基、フェニル基、置換基として炭素数１〜７のアルキル基を有する置換フェニル基、ナフチル基又は置換基として炭素数１〜３のアルキル基を有する置換ナフチル基
Ａ４：炭素数１〜２４のアルキル基、炭素数４〜２４のアルケニル基、フェニル基、置換基として炭素数１〜１８のアルキル基を有する置換フェニル基、ナフチル基又は置換基として炭素数１〜１８のアルキル基を有する置換ナフチル基
Ｒ１，Ｒ２：炭素数１〜４のアルキル基
Ｒ３，Ｒ５：炭素数１〜２２のアルキル基
Ｒ４，Ｒ６，Ｒ７：炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基
Ｒ８，Ｒ９，Ｒ１０，Ｒ１１：炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基
Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３：炭素数２〜４のアルキレン基
Ｚ１，Ｚ２，Ｚ３：水素原子又はメチル基） It consists of the following antistatic agent component M and antistatic agent component N, and is contained in a ratio of antistatic agent component M / antistatic agent component N = 25/75 to 80/20 (mass ratio). Antistatic agent for synthetic polymer materials.
Antistatic agent component M: Compound represented by the following chemical formula 1 Antistatic agent component N: One or two selected from the compound represented by chemical formula 2 below, the compound represented by chemical formula 3 and the compound represented by chemical formula 4 more than
A 1 : an alkyl group having 8 to 24 carbon atoms, an alkenyl group having 8 to 24 carbon atoms, a substituted phenyl group having an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms as a substituent, or an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms as a substituent substituted naphthyl group a 2, a 3 having: an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkenyl group of 4-7 carbon atoms, a phenyl group, substituted phenyl group having an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms as a substituent, a naphthyl group Or a substituted naphthyl group having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms as a substituent A 4 : an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, an alkenyl group having 4 to 24 carbon atoms, a phenyl group, and a substituent having 1 to 18 carbon atoms A substituted phenyl group having an alkyl group, a naphthyl group, or a substituted naphthyl group having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms as a substituent R 1 , R 2 : an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms R 3 , R 5: alkyl groups R 4 having 1 to 22 carbon atoms, R 6, R 7: aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon radical R 8 having from 1 to 8 carbon atoms, R 9, R 10, R 11: the carbon number 1-18 aliphatic hydrocarbon groups Y 1 , Y 2 , Y 3 : C 2-4 alkylene groups Z 1 , Z 2 , Z 3 : hydrogen atoms or methyl groups)
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