JP2010040507A - Organic el display device, and method of manufacturing the same - Google Patents

Organic el display device, and method of manufacturing the same Download PDF

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克典 大矢
Fujio Kawano
藤雄 川野
Nobuhiko Sato
信彦 佐藤
Kohei Nagayama
耕平 永山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a full color organic EL display device having a long lifetime and high definition. <P>SOLUTION: This full color organic EL display device has pixels composed of two sub-pixels in which organic EL elements are laminated. The first organic compound layer of the pixel is formed as a layer common to the adjoining sub-pixels of the adjoining pixels, and the second organic compound layer is formed as a layer common to the adjoining sub-pixels of the adjoining pixels on the opposite side. Furthermore, the third organic compound layer is formed as a layer common to all pixels. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、表示素子として有機EL素子を用いた有機EL表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL display device using an organic EL element as a display element and a manufacturing method thereof.

有機材料のエレクトロルミネセンス(以下ELと記す)を利用した有機EL素子は、陽極と陰極との間に、有機キャリア輸送層や有機発光層等の有機化合物層を有し、低電圧直流駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。   An organic EL element using electroluminescence (hereinafter referred to as EL) of an organic material has an organic compound layer such as an organic carrier transport layer and an organic light emitting layer between an anode and a cathode, and is driven by a low voltage direct current drive. It attracts attention as a light emitting element capable of emitting light with high luminance.

このような有機EL素子を表示素子として用いた表示装置(以下、有機EL表示装置と記す)のうち、画素ごとに有機EL素子を駆動するための薄膜トランジスタ(以下TFTと記す)を設けたアクティブマトリクス型の有機EL表示装置は、高画質、長寿命の観点から特に開発が進められている。   In a display device using such an organic EL element as a display element (hereinafter referred to as an organic EL display device), an active matrix provided with a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) for driving the organic EL element for each pixel. The type of organic EL display device has been particularly developed from the viewpoint of high image quality and long life.

このような有機EL表示装置としては、赤、緑、青の色ごとに、独立して発光する副画素からなる画素を配列した構成(3色独立発光方式)を採ることが一般的である。そして、3色独立発光方式を用いたフルカラーの有機EL表示装置の製造方法として、シャドウマスクを基板上に配設し、各発光層を蒸着によってパターニング形成する方法が広く用いられている。   In general, such an organic EL display device adopts a configuration in which pixels composed of sub-pixels that independently emit light are arranged for each of red, green, and blue (three-color independent light-emitting method). As a manufacturing method of a full-color organic EL display device using a three-color independent light emitting method, a method of arranging a shadow mask on a substrate and patterning each light emitting layer by vapor deposition is widely used.

ところが、このようなフルカラーの有機EL表示装置を携帯電話やカメラ等の小型のモニターとして高精細化しようとすると、1副画素の発光面積が小さくなり、各副画素を高輝度で駆動しなければならない。そのため、有機EL素子の劣化が早まり、表示装置の長寿命化が困難であった。   However, if such a full-color organic EL display device is to be made high-definition as a small monitor such as a mobile phone or a camera, the light emission area of one subpixel becomes small, and each subpixel must be driven with high luminance. Don't be. Therefore, the deterioration of the organic EL element is accelerated, and it is difficult to extend the life of the display device.

そこで、特許文献1では、有機EL素子を積層することによって、1副画素の発光面積を増大する有機EL表示装置が提案されている。具体的には、緑を発光する有機EL素子上に青を発光する有機EL素子が積層された副画素と、赤を発光する有機EL素子上に青を発光する有機EL素子が積層された副画素との2つの副画素から1つの画素が構成されている。   Therefore, Patent Document 1 proposes an organic EL display device that increases the light emission area of one sub-pixel by stacking organic EL elements. Specifically, a subpixel in which an organic EL element that emits blue light is stacked on an organic EL element that emits green light, and a subpixel in which an organic EL element that emits blue light is stacked on an organic EL element that emits red light. One pixel is composed of two sub-pixels with the pixel.

特開2005−174639号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-174639

例えば、対角3インチ程度のVGA解像度を有する有機EL表示装置の場合、250ppi以上となり、1画素のピッチは約100μmとなる。そして、1画素が特許文献1のように2つの有機EL素子が積層されてなる2つの副画素から構成される場合、1副画素のピッチは約50μmとなる。   For example, in the case of an organic EL display device having a VGA resolution of about 3 inches diagonal, it is 250 ppi or more, and the pitch of one pixel is about 100 μm. And when one pixel is comprised from two subpixels by which two organic EL elements are laminated | stacked like patent document 1, the pitch of 1 subpixel will be about 50 micrometers.

このような有機EL表示装置の画素を構成する素子を、ストライプパターンのシャドウマスクで副画素単位で形成する場合、マスクの開口幅は約50μm、開口と開口との間のリブ幅も約50μmとなる。このようなリブ幅の細いシャドウマスクは剛性が低下してしまうため、蒸着時の熱による変形や成膜精度の低下などの問題が発生してしまう。   When an element constituting such a pixel of an organic EL display device is formed in a sub-pixel unit with a shadow mask having a stripe pattern, the opening width of the mask is about 50 μm, and the rib width between the openings is also about 50 μm. Become. Such a shadow mask with a narrow rib width has a reduced rigidity, which causes problems such as deformation due to heat during deposition and a decrease in film forming accuracy.

本発明の目的は、長寿命かつ高精細なフルカラー有機EL表示装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a long-life and high-definition full-color organic EL display device.

上記問題を解決するため、2つの副画素からなる画素内に、同一平面内で並べて配置される第1の有機化合物層および第2の有機化合物層からなる第1層と、前記第1層と積層される、第3の有機化合物層を含む第2層と、を備える有機EL表示装置であって、前記第1の有機化合物層および前記第2の有機化合物層の夫々は、隣り合う画素の隣り合う副画素間で共通の層として形成され、前記第3の有機化合物層は、全画素間で共通の層として形成されていることを特徴とする有機EL表示装置を提供する。   In order to solve the above problem, a first layer composed of a first organic compound layer and a second organic compound layer arranged side by side in the same plane in a pixel composed of two subpixels, and the first layer And a second layer including a third organic compound layer, wherein each of the first organic compound layer and the second organic compound layer is an adjacent pixel. The organic EL display device is characterized in that it is formed as a common layer between adjacent sub-pixels, and the third organic compound layer is formed as a common layer among all pixels.

また、2つの副画素からなる画素内に、同一平面内で並べて配置される第1の有機化合物層および2の有機化合物層からなる第1層と、前記第1層と積層される第3の有機化合物層を含む第2層と、を備える有機EL表示装置の製造方法であって、前記第1層を形成する工程は、隣り合う画素の隣り合う副画素間で共通する前記第1の有機化合物層を形成する工程と、隣り合う画素の隣り合う副画素間で共通する前記第2の有機化合物層を形成する工程と、を有し、前記第2層を形成する工程は、全画素間で共通する前記第3の有機化合物層を形成する工程を有することを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。   In addition, a first layer composed of a first organic compound layer and two organic compound layers arranged side by side in the same plane in a pixel composed of two subpixels, and a third layer stacked on the first layer A method of manufacturing an organic EL display device comprising: a second layer including an organic compound layer, wherein the step of forming the first layer includes the first organic common between adjacent subpixels of adjacent pixels. A step of forming a compound layer and a step of forming the second organic compound layer that is common between adjacent sub-pixels of adjacent pixels, and the step of forming the second layer is performed between all pixels. A method for producing an organic EL display device, comprising the step of forming the third organic compound layer that is common to the first and second organic compound layers.

本発明によれば、長寿命で高精細なフルカラー有機EL表示装置を提供することが可能である。   According to the present invention, it is possible to provide a long-life and high-definition full-color organic EL display device.

(a)本発明の第1の実施形態に係る有機EL表示装置の平面模式図、(b)(a)のA−A’線に対応した断面模式図、(c)B−B’線に対応して模式図(A) A schematic plan view of the organic EL display device according to the first embodiment of the present invention, (b) a schematic cross-sectional view corresponding to the AA ′ line in (a), and (c) a BB ′ line. Corresponding schematic diagram 本発明の第1の実施形態に係る有機EL表示装置のプロセスフロー図Process flow diagram of organic EL display device according to first embodiment of the present invention 本発明に係る有機EL表示装置に適用可能なシャドウマスクと従来技術のマスク概要図Shadow mask applicable to organic EL display device according to the present invention and conventional mask outline diagram (a)本発明の第1の実施形態に係る有機EL表示装置の駆動回路の図、(b)(a)に示される駆動回路により各有機EL素子の電極間に印加される電圧波形の一例を示す図(A) The figure of the drive circuit of the organic electroluminescence display which concerns on the 1st Embodiment of this invention, (b) An example of the voltage waveform applied between the electrodes of each organic EL element by the drive circuit shown by (a) Figure showing (a)本発明の第2の実施形態に係る有機EL表示装置の平面模式図、(b)(a)のA−A’線に対応した断面模式図、(c)B−B’線に対応して模式図(A) A schematic plan view of an organic EL display device according to a second embodiment of the present invention, (b) a schematic cross-sectional view corresponding to the AA ′ line in (a), and (c) a BB ′ line. Corresponding schematic diagram (a)本発明の第3の実施形態に係る有機EL表示装置の平面模式図、(b)(a)のA−A’線に対応した断面模式図、(c)B−B’線に対応して模式図(A) A schematic plan view of an organic EL display device according to a third embodiment of the present invention, (b) a schematic cross-sectional view corresponding to the AA ′ line in (a), and (c) a BB ′ line. Corresponding schematic diagram (a)本発明の第3の実施形態に係る有機EL表示装置の駆動回路の図、(b)(a)に示される駆動回路により各有機EL素子の電極間に印加される電圧波形の一例を示す図(A) The figure of the drive circuit of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention, (b) An example of the voltage waveform applied between the electrodes of each organic EL element by the drive circuit shown by (a) Figure showing (a)本発明の第4の実施形態に係る有機EL表示装置の平面模式図、(b)(a)のA−A’線に対応した断面模式図、(c)B−B’線に対応して模式図(A) A schematic plan view of an organic EL display device according to a fourth embodiment of the present invention, (b) a schematic cross-sectional view corresponding to the AA ′ line in (a), and (c) a BB ′ line. Corresponding schematic diagram

図面を参照して本発明に係る有機EL表示装置の実施形態について説明する。なお、本明細書で特に図示または記載されない部分は、当該技術分野の周知または公知技術を適用する。また以下に説明する実施形態は、発明の一形態であって、これらに限定されるものではない。   An embodiment of an organic EL display device according to the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the well-known or well-known technique of the said technical field is applied to the part which is not illustrated or described in particular in this specification. The embodiment described below is one form of the invention and is not limited thereto.

(第1の実施形態)
高精細な(例えば、対角3インチの270ppiの)有機EL表示装置の一形態について説明する。
(First embodiment)
One mode of a high-definition (for example, 270 ppi having a diagonal size of 3 inches) will be described.

図1(a)は、本実施形態の有機EL表示装置の平面図、図1(b)及び図1(c)は、それぞれ図1(a)中の矢印から見たA−A’断面図、B−B’断面図である。100は絶縁性基板、101は下部電極、102は隔壁、103aは第1の有機化合物層、103bは第2の有機化合物層、104は中間電極、103cは第3の有機化合物層、105は上部電極を示している。また図2に本実施形態のプロセスフローを示し、図3に本実施形態で用いるシャドウマスクの部分図を示す。   1A is a plan view of the organic EL display device of the present embodiment, and FIGS. 1B and 1C are cross-sectional views taken along the line AA ′ as viewed from the arrows in FIG. , BB 'sectional drawing. 100 is an insulating substrate, 101 is a lower electrode, 102 is a partition, 103a is a first organic compound layer, 103b is a second organic compound layer, 104 is an intermediate electrode, 103c is a third organic compound layer, and 105 is an upper portion The electrode is shown. FIG. 2 shows a process flow of the present embodiment, and FIG. 3 shows a partial view of a shadow mask used in the present embodiment.

図1(a)に示すように、本実施形態にかかる有機EL表示装置は、2つの副画素(第1の副画素、第2の副画素)からなる画素がマトリクス状に複数配置されている。1行は、(P(1、1)、P(1、2))、(P(2、1)、P(2、2))・・・(P(n、1)、P(n、2))の2n個の副画素から構成されている。nは画素の列数を表す自然数で、ここでは640ある。図1(c)に示すようにTFT駆動回路107が形成された絶縁性の基板100上には、平坦化膜108が形成され、コンタクトホール106aが形成される。平坦化膜108の材料には、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂などの樹脂材料が好適に用いられる。さらに、平坦化膜108上に下部電極層が形成され、コンタクトホール106aを介してTFT駆動回路107に接続されている。   As shown in FIG. 1A, in the organic EL display device according to this embodiment, a plurality of pixels each including two subpixels (a first subpixel and a second subpixel) are arranged in a matrix. . One row consists of (P (1,1), P (1,2)), (P (2,1), P (2,2)) ... (P (n, 1), P (n, 2)) 2n sub-pixels. n is a natural number representing the number of columns of pixels, and is 640 here. As shown in FIG. 1C, on the insulating substrate 100 on which the TFT drive circuit 107 is formed, a planarization film 108 is formed, and a contact hole 106a is formed. As the material for the planarizing film 108, a resin material such as polyimide resin or acrylic resin is preferably used. Further, a lower electrode layer is formed on the planarizing film 108 and connected to the TFT driving circuit 107 through the contact hole 106a.

下部電極101は、光反射性の部材であることが好ましく、例えばCr、Al、Ag、Au、Pt等の材料からなることが好ましい。反射率が高い部材であるほど、上面からの光取り出し効率を向上できるからである。また、有機化合物層へのキャリア注入性を考慮し、ITO、IZO等の酸化物透明導電層を積層して2層構成としても良い。   The lower electrode 101 is preferably a light-reflective member, and is preferably made of a material such as Cr, Al, Ag, Au, or Pt. This is because the higher the reflectance, the higher the light extraction efficiency from the upper surface. In consideration of the carrier injection property to the organic compound layer, an oxide transparent conductive layer such as ITO or IZO may be stacked to form a two-layer structure.

平坦化膜108上に形成された下部電極層は、フォトリソグラフィにより画素内の第1の副画素、第2の副画素の領域に応じてパターニングされ、下部電極101となる。さらにコンタクトホール106cが平坦化膜108に形成される。次に隔壁102の材料がスピンコートによって塗布され、フォトリソグラフィによりパターニングされて、副画素の開口及びコンタクトホール106cが形成される。隔壁102は、下部電極101による段差をカバーし、その後に形成される膜の、下部電極101による段切れを防止する。隔壁102の材料にはポリイミド樹脂やアクリル樹脂等の樹脂材料が好適に用いられる。   The lower electrode layer formed on the planarization film 108 is patterned by photolithography according to the regions of the first subpixel and the second subpixel in the pixel, and becomes the lower electrode 101. Further, a contact hole 106 c is formed in the planarization film 108. Next, the material of the partition wall 102 is applied by spin coating and patterned by photolithography to form subpixel openings and contact holes 106c. The partition wall 102 covers a step caused by the lower electrode 101 and prevents a step formed by the lower electrode 101 in a film formed thereafter. A resin material such as polyimide resin or acrylic resin is preferably used as the material of the partition wall 102.

以上のようにして形成された基板上に、第1の有機化合物層103a及び第2の有機化合物層103bからなる第1層が形成される。有機化合物層の膜厚は0.05μm〜0.3μm程度が良く、好ましくは0.05〜0.15μm程度である。   A first layer including the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b is formed on the substrate formed as described above. The thickness of the organic compound layer is preferably about 0.05 μm to 0.3 μm, and preferably about 0.05 to 0.15 μm.

各有機化合物層は、発光材料を有し、さらに、正孔注入材料、電子注入材料、正孔輸送材料、電子輸送材料から少なくとも1種を選択して用いることができる。また、各有機化合物層は、前記材料のうち複数の材料を積層してもよい。   Each organic compound layer has a light emitting material, and can be selected from at least one selected from a hole injection material, an electron injection material, a hole transport material, and an electron transport material. Each organic compound layer may be formed by laminating a plurality of materials among the above materials.

発光材料には、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリーレン、芳香族縮合多環化合物、芳香族複素環化合物、芳香族複素縮合環化合物、金属錯体化合物等及びこれらの単独オリゴ体あるいは複合オリゴ体が使用できる。正孔注入材料及び輸送材料には、フタロシアニン化合物、トリアリールアミン化合物、導電性高分子、ペリレン系化合物、Eu錯体等が使用できる。電子注入材料及び輸送材料には、アルミに8−ヒドロキシキノリンの3量体が配位したAlq3、アゾメチン亜鉛錯体、ジスチリルビフェニル誘導体系等を使用できる。   Examples of light emitting materials include triarylamine derivatives, stilbene derivatives, polyarylenes, aromatic condensed polycyclic compounds, aromatic heterocyclic compounds, aromatic heterocondensed ring compounds, metal complex compounds, and the like, and single or composite oligos thereof. Can be used. As the hole injection material and the transport material, phthalocyanine compounds, triarylamine compounds, conductive polymers, perylene compounds, Eu complexes, and the like can be used. As the electron injection material and the transport material, Alq3 in which a trimer of 8-hydroxyquinoline is coordinated to aluminum, an azomethine zinc complex, a distyrylbiphenyl derivative system, or the like can be used.

第1の有機化合物層103a及び第2の有機化合物層103bは、図3(b)のストライプ状の開口を有するシャドウマスクを用い、同一平面内に真空蒸着法にて形成される。従来技術によれば、シャドウマスクのリブ幅は、図3(a)のように副画素1つ分の幅しかなく、例えば、対角3インチの270ppiのフルカラーの有機EL表示装置の場合では、47μmである。しかし、本発明にかかるシャドウマスクのリブ幅は、図3(b)に示すように副画素2つ分の幅をとることができる。具体的には、対角3インチの270ppiのフルカラーの有機EL表示装置の場合では、このリブ幅は94μmとなり、マスクの剛性と開口精度を従来よりも向上することができる。   The first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b are formed by the vacuum evaporation method in the same plane using the shadow mask having the stripe-shaped opening of FIG. According to the prior art, the rib width of the shadow mask is only the width of one subpixel as shown in FIG. 3A. For example, in the case of a 270 ppi full-color organic EL display device having a diagonal size of 3 inches, 47 μm. However, the rib width of the shadow mask according to the present invention can be as wide as two sub-pixels as shown in FIG. Specifically, in the case of a 270 ppi full-color organic EL display device having a diagonal size of 3 inches, the rib width is 94 μm, and the rigidity and opening accuracy of the mask can be improved as compared with the conventional case.

上記のシャドウマスクを用い、同一画素内で、第1の有機化合物層103aは隣り合う画素間の隣り合う副画素間で共通の層として形成される。さらに、第2の有機化合物層103bは前記隣り合う画素とは反対側で隣り合う画素の隣り合う副画素間で共通する層として形成される。つまり、図1(a)の様に、第1の有機化合物層103aはP(1、2)、P(2、1)、P(3、2)、・・・P(2k−1、2)、P(2k、1)、・・・の副画素列に形成される。また、第2の有機化合物層103bは、P(1、1)、P(2、2)、P(3、1)、・・・P(2k−1、1)、P(2k、2)、・・・の副画素列に形成される。ここで、kは自然数で、2k≦n=640である。第1の有機化合物層103aは、第1の副画素と隣り合う画素を構成する2つの副画素の一方に共通の層として延在し、第2の有機化合物層103bは、第2の副画素と隣り合う画素を構成する2つの副画素の一方に共通の層として延在している。その際、隣り合う画素間の隣り合う副画素間で共通の層は、シャドウマスクの同一開口部を用いて形成される。また、第1の有機化合物層103aおよび第2の有機化合物層103bからなる第1層の発光領域は、第1の有機化合物層103aおよび第2の有機化合物層103bの下部電極101と接する面積によって規定される。   Using the above shadow mask, the first organic compound layer 103a is formed as a common layer between adjacent subpixels between adjacent pixels in the same pixel. Further, the second organic compound layer 103b is formed as a common layer between adjacent subpixels of adjacent pixels on the side opposite to the adjacent pixels. That is, as shown in FIG. 1A, the first organic compound layer 103a includes P (1,2), P (2,1), P (3,2),... P (2k-1, 2). ), P (2k, 1),... The second organic compound layer 103b includes P (1,1), P (2,2), P (3,1),... P (2k-1,1), P (2k, 2). ,... Are formed in sub-pixel columns. Here, k is a natural number and 2k ≦ n = 640. The first organic compound layer 103a extends as a common layer to one of two subpixels that constitute a pixel adjacent to the first subpixel, and the second organic compound layer 103b includes the second subpixel. Extends as a common layer to one of the two sub-pixels constituting the adjacent pixel. At this time, a common layer between adjacent subpixels between adjacent pixels is formed using the same opening of the shadow mask. The light emitting region of the first layer including the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b depends on the area in contact with the lower electrode 101 of the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b. It is prescribed.

本実施形態の第1の有機化合物層103aと第2の有機化合物層103bは、正孔注入層、発光層、電子輸送層、電子注入層を順次積層して形成されている。材料の組み合わせ例として、正孔輸送層にN,N’−α−ジナフチルベンジジン(α−NPD)を、電子輸送層にフェナントロリン化合物を、電子輸送層に炭酸セシウム(0.9vol%)とフェナントロリン化合物を用いることができる。また第1の有機化合物層103aの発光層には緑色発光するクマリン色素(1.0vol%)とトリス[8−ヒドロキシキノリナート]アルミニウム(Alq3)を形成することができる。第2の有機化合物層103aには青色の発光層としてペリレン色素(1.0vol%)とトリス[8−ヒドロキシキノリナート]アルミニウム(Alq3)を形成することができる。   The first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b of this embodiment are formed by sequentially stacking a hole injection layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. Examples of combinations of materials include N, N′-α-dinaphthylbenzidine (α-NPD) for the hole transport layer, phenanthroline compound for the electron transport layer, cesium carbonate (0.9 vol%) and phenanthroline for the electron transport layer. Compounds can be used. In addition, a coumarin dye (1.0 vol%) that emits green light and tris [8-hydroxyquinolinate] aluminum (Alq3) can be formed in the light emitting layer of the first organic compound layer 103a. A perylene dye (1.0 vol%) and tris [8-hydroxyquinolinate] aluminum (Alq3) can be formed as a blue light-emitting layer in the second organic compound layer 103a.

次に第1の有機化合物層103aおよび第2の有機化合物層103bにコンタクトホール106cを形成する。形成手段としては、レーザー加工法が好ましく、YAGレーザー(SHG,THG含む)、エキシマレーザーなど一般に薄膜加工に使用する方法を用いることができる。これらのレーザー光を数μmに絞って走査したり、面状光源にしてコンタクトホール部分を透過するマスクを介したりして、基板上に所定のパターンで照射する。コンタクトホールの径としては、2μm〜15μmが好ましい。   Next, a contact hole 106c is formed in the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b. As a forming means, a laser processing method is preferable, and a method generally used for thin film processing such as a YAG laser (including SHG and THG), an excimer laser can be used. These laser beams are scanned with being reduced to several μm, or are irradiated on the substrate in a predetermined pattern through a mask that transmits the contact hole portion as a planar light source. The diameter of the contact hole is preferably 2 μm to 15 μm.

次に、画素形成領域の周辺のみをマスクして、中間電極104が画素形成領域の全面に成膜されている。成膜には、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法等を用いることが可能である。中間電極104の材料には透光性の高い透明導電膜が好ましく、ITO、IZO、ZnOが適用可能である。またCr、Al、Ag、Au、Pt等の材料を2nmから50nm程度の膜厚に薄く形成し半透過膜を適用しても良い。   Next, the intermediate electrode 104 is formed on the entire surface of the pixel formation region while masking only the periphery of the pixel formation region. For film formation, sputtering, vacuum deposition, ion plating, CVD, or the like can be used. A transparent conductive film with high translucency is preferable as the material of the intermediate electrode 104, and ITO, IZO, and ZnO are applicable. Alternatively, a semi-transmissive film may be applied by forming a thin material such as Cr, Al, Ag, Au, or Pt to a thickness of about 2 nm to 50 nm.

次に、上部電極105とコンタクトホール106cとのコンタクトを得るため、中間電極104にコンタクトホール106cが形成される領域のパターニングを行う。このパターニングにはレーザー加工法によるパターニングが好ましい。   Next, in order to obtain a contact between the upper electrode 105 and the contact hole 106c, the region where the contact hole 106c is formed in the intermediate electrode 104 is patterned. This patterning is preferably performed by laser processing.

続いて、第3の有機化合物層103cを含む第2層が画素形成領域の周辺のみをマスクして蒸着法し、全画素間に共通する層として形成される。つまり、第3の有機化合物層103cは、全画素に共通の層として延在するように形成されている。このため、マスクを用いて各副画素ごとに対応してパターニングする必要がないので製造が容易になる。第3の有機化合物層103cは、第1の有機化合物層103a及び第2の有機化合物層103bの積層構造とは逆の積層構造となるよう、電子注入層、電子輸送層、有機発光層、正孔注入層の順に積層される。また、第1の副画素は、第1の有機化合物層103aと第3の有機化合物層103cとが積層され、第2の副画素は、第2の有機化合物層103bと第3の有機化合物層103cとが積層されている。第3の有機化合物層103cとして、例えば、赤色発光層である、Ir錯体(18vol%)と4,4’−N,N’−ジカルバゾール−ビフェニル(CBP)を形成することができる。このように、第1の有機化合物層と第2の有機化合物層と第3の有機化合物層は互いに異なる色を発光する。その後、コンタクトホール106cには上述と同様にレーザー加工法を用いることができる。次に、上部電極105が画素領域に応じてパターニング形成され、コンタクトホール106cを介してTFT駆動回路に電気的に接続される。前述したように、第2層は全画素間に共通する層として形成されるが、上部電極105が画素ごとにパターニング形成されるため、第3の有機化合物層103cが発光する領域は、第3の有機化合物層103cと上部電極105とが接する面積により規定することができる。上部電極105には、透明導電材料や、アルミニウム、銀、マグネシウム、カルシウム等の金属単体やそれらの合金からなる2nm以上50nm以下の膜厚の半透明層を用いることができる。特に、上部電極105と電子注入層が接する場合には、銀とマグネシウムの合金(銀マグネシウム)は、発光の反射率と電子の注入性の観点で好ましい。上部電極105を金属材料で形成した場合は、エキシマレーザーによってパターニングを行うことができる。レーザーアブレーションによるパターニングであれば電極同士の間隔を狭くすることが可能であり、画素間の距離を近づけることができる。このため、1つの副画素の発光領域を大きくすることができる。   Subsequently, a second layer including the third organic compound layer 103c is formed as a layer common to all pixels by performing a vapor deposition method by masking only the periphery of the pixel formation region. That is, the third organic compound layer 103c is formed so as to extend as a common layer for all pixels. For this reason, since it is not necessary to perform patterning corresponding to each sub-pixel using a mask, manufacturing is facilitated. The third organic compound layer 103c has an electron injecting layer, an electron transporting layer, an organic light emitting layer, a positive organic layer, and a positive electrode so as to have a laminated structure opposite to the laminated structure of the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b. The hole injection layers are stacked in this order. The first subpixel includes a first organic compound layer 103a and a third organic compound layer 103c, and the second subpixel includes a second organic compound layer 103b and a third organic compound layer. 103c are stacked. As the third organic compound layer 103c, for example, an Ir complex (18 vol%) and 4,4′-N, N′-dicarbazole-biphenyl (CBP), which are red light-emitting layers, can be formed. As described above, the first organic compound layer, the second organic compound layer, and the third organic compound layer emit different colors. Thereafter, a laser processing method can be used for the contact hole 106c as described above. Next, the upper electrode 105 is patterned and formed according to the pixel region, and is electrically connected to the TFT drive circuit via the contact hole 106c. As described above, the second layer is formed as a layer common to all pixels. However, since the upper electrode 105 is formed by patterning for each pixel, the region where the third organic compound layer 103c emits light is the third region. It can be defined by the area where the organic compound layer 103c and the upper electrode 105 are in contact with each other. For the upper electrode 105, a transparent conductive material, a translucent layer having a thickness of 2 nm to 50 nm made of a single metal such as aluminum, silver, magnesium, calcium, or an alloy thereof can be used. In particular, when the upper electrode 105 and the electron injection layer are in contact with each other, an alloy of silver and magnesium (silver magnesium) is preferable from the viewpoint of the reflectance of light emission and the electron injection property. When the upper electrode 105 is formed of a metal material, patterning can be performed with an excimer laser. If patterning is performed by laser ablation, the distance between the electrodes can be reduced, and the distance between the pixels can be reduced. For this reason, the light emission area of one subpixel can be enlarged.

最後に、有機EL素子を封止する。例えば、ドライ窒素で置換し露点−70℃以下に維持されたグローブボックスにて、予め紫外線硬化樹脂を塗布した不図示のガラス封止キャップと、成膜が完了した基板とを画素形成領域の外周部で貼り合せる。そして、紫外線硬化樹脂の塗布部分に紫外線を照射し、樹脂を硬化させると、パネルが完成する。他に、SiN等からなる無機保護膜や、無機層と有機化合物層を積層した保護膜により素子全体を覆う封止方法を用いることもできる。   Finally, the organic EL element is sealed. For example, in a glove box substituted with dry nitrogen and maintained at a dew point of −70 ° C. or lower, a glass sealing cap (not shown) previously coated with an ultraviolet curable resin and a substrate on which film formation has been completed are arranged on the outer periphery of the pixel formation region Paste at the part. Then, the panel is completed by irradiating the application part of the ultraviolet curable resin with ultraviolet rays and curing the resin. In addition, a sealing method in which the entire element is covered with an inorganic protective film made of SiN or the like, or a protective film in which an inorganic layer and an organic compound layer are stacked can also be used.

上記構造の有機EL表示装置の駆動方法の一様態について図4を参照して説明する。図4(a)は図1に示した有機EL表示装置の駆動回路の概要図である。また図4(b)は図4(a)に示される駆動回路により有機EL表示装置の電極間に印加される電圧波形の一例を示す図である。   One mode of the driving method of the organic EL display device having the above structure will be described with reference to FIG. FIG. 4A is a schematic diagram of a drive circuit of the organic EL display device shown in FIG. FIG. 4B is a diagram showing an example of a voltage waveform applied between the electrodes of the organic EL display device by the drive circuit shown in FIG.

本実施形態において、第3の有機化合物層103cは、第1の有機化合物層103aおよび第2の有機化合物層103bに対し、電子及び正孔の流れ方向が逆方向になるように積層されている。中間電極104は共通電極であり、図4(a)中のVcに接続されている。また下部電極101及び上部電極105はコンタクトホール106a、106cを介して図4(a)中の駆動回路に接続される。つまり、第1の有機化合物層103aを含む第1の有機EL素子301a、第2の有機化合物層103bを含む第2の有機EL素子301b、第3の有機化合物層103cを含む第3の有機EL素子301cは図4(a)のように接続されている。   In the present embodiment, the third organic compound layer 103c is stacked so that the flow directions of electrons and holes are opposite to the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b. . The intermediate electrode 104 is a common electrode and is connected to Vc in FIG. The lower electrode 101 and the upper electrode 105 are connected to the drive circuit in FIG. 4A through contact holes 106a and 106c. That is, the first organic EL element 301a including the first organic compound layer 103a, the second organic EL element 301b including the second organic compound layer 103b, and the third organic EL including the third organic compound layer 103c. The element 301c is connected as shown in FIG.

各有機EL素子はデータ線data_11、data_12、data_13・・・data_n1、datan_n2、data_n3、制御線Pulse1、Pulseaが接続されている。各データ線は各有機EL素子への発光期間の映像信号を与え、制御線によってコンデンサC1へのチャージ及び有機EL素子への通電のスイッチングを行う。ここで、data_n1のnは画素列番号を表し、1は第1の有機EL素子を表している。   Each organic EL element is connected to data lines data_11, data_12, data_13... Data_n1, data_n2, data_n3, and control lines Pulse1 and Pulsea. Each data line gives a video signal of a light emission period to each organic EL element, and the control line switches charging of the capacitor C1 and energization to the organic EL element. Here, n in data_n1 represents a pixel column number, and 1 represents a first organic EL element.

図4(b)に示したT1からT2までの期間に、制御線Pulse1の信号を受けデータ線data_n1、data_n2、data_n3の映像信号に応じた電荷がコンデンサC1にチャージされ、各々の有機EL素子の発光期間がプログラミングされる。   During the period from T1 to T2 shown in FIG. 4B, the signal corresponding to the video signal of the data lines data_n1, data_n2, and data_n3 is charged to the capacitor C1 in response to the signal of the control line Pulse1, and each organic EL element is charged. The light emission period is programmed.

T3からT4までの期間には、制御線Pulseaの信号を受けてコンデンサC1から信号電流が各々の有機EL素子に流れ、発光する。   During a period from T3 to T4, a signal current flows from the capacitor C1 to each organic EL element in response to a signal from the control line Pulsea, and light is emitted.

本実施形態において、第1層の発光領域は、第1層と、上部電極105および下部電極101のうち一方、つまり下部電極101との接する面積によって規定されている。また、第2層の発光領域は、第2層と、他方の電極、つまり上部電極105との接する面積によって規定されている。これにより、第2層を全画素間に共通する層であっても、副画素もしくは画素の発光領域を規定することが可能となる。   In the present embodiment, the light emitting region of the first layer is defined by the area where the first layer and one of the upper electrode 105 and the lower electrode 101, that is, the lower electrode 101 is in contact. The light emitting region of the second layer is defined by the area where the second layer is in contact with the other electrode, that is, the upper electrode 105. Thereby, even if the second layer is a layer common to all the pixels, it is possible to define the light emission region of the sub-pixel or pixel.

さらに、上部電極105は画素ごと、つまり2つの副画素を連続して覆うように形成したが、副画素ごとに形成し、副画素ごとに駆動するよう作製しても良い。   Furthermore, although the upper electrode 105 is formed so as to continuously cover each pixel, that is, two subpixels, it may be formed so as to be formed for each subpixel and driven for each subpixel.

本実施形態によれば、図3(b)に示すような剛性のあるシャドウマスクを用いることができ、高精細なフルカラー有機EL表示装置を蒸着法により形成することが可能となる。さらに、第2層を全画素共通の層として形成するため、プロセスが簡略化することができる。   According to this embodiment, a rigid shadow mask as shown in FIG. 3B can be used, and a high-definition full-color organic EL display device can be formed by vapor deposition. Furthermore, since the second layer is formed as a common layer for all pixels, the process can be simplified.

(第2の実施形態)
図5(a)は本実施形態の有機EL表示装置の平面図、図5(b)及び図5(c)は、それぞれ図5(a)中の矢印から見たA−A’断面図、B−B’断面図である。
(Second Embodiment)
FIG. 5A is a plan view of the organic EL display device of the present embodiment, FIGS. 5B and 5C are cross-sectional views taken along the line AA ′ as seen from the arrows in FIG. It is BB 'sectional drawing.

本実施形態では、第1の実施形態に対して、第3の有機化合物層103cを含む第2層と、第1の有機化合物層103a及び第2の有機化合物層103bからなる第2層との積層順が逆になっている点が異なる。それに伴い、第3の有機化合物層103cが正孔注入層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層に積層され、第1の有機化合物層103a及び第2の有機化合物層103bは電子注入層、電子輸送層、有機発光層、正孔注入層の順に積層されている。さらに、第2層の発光領域は、第2層の下部電極101と接する面積によって規定され、第1層の発光領域は、第1層の上部電極105と接する面積によって規定されている。   In the present embodiment, the second layer including the third organic compound layer 103c and the second layer including the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b are compared with the first embodiment. The difference is that the stacking order is reversed. Accordingly, the third organic compound layer 103c is stacked on the hole injection layer, the organic light emitting layer, the electron transport layer, and the electron injection layer, and the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b are electron injection layers. And an electron transport layer, an organic light emitting layer, and a hole injection layer. Further, the light emitting region of the second layer is defined by the area in contact with the lower electrode 101 of the second layer, and the light emitting region of the first layer is defined by the area of contact with the upper electrode 105 of the first layer.

また、第1の有機化合物層103aと第2の有機化合物層103bとの境界には、膜の段切れを防止する隔壁102は不要となるため、隔壁102は1画素毎の境界にのみ設けている。   In addition, since the partition wall 102 for preventing film breakage is unnecessary at the boundary between the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b, the partition wall 102 is provided only at the boundary for each pixel. Yes.

その他は、材料、製法、駆動方法ともに第1の実施形態と同様の方法によって有機EL表示装置を形成することができる。   Other than that, the organic EL display device can be formed by the same method as in the first embodiment in terms of materials, manufacturing method, and driving method.

本実施形態によれば、図3(b)に示すような剛性のあるシャドウマスクを用いることができ、高精細なフルカラー有機EL表示装置を蒸着法により形成することが可能となる。   According to this embodiment, a rigid shadow mask as shown in FIG. 3B can be used, and a high-definition full-color organic EL display device can be formed by vapor deposition.

(第3の実施形態)
図6(a)は本実施形態の有機EL表示装置の平面図、図6(b)及び図6(c)は、それぞれ図6(a)中の矢印から見たA−A’断面図、B−B’断面図である。
(Third embodiment)
6A is a plan view of the organic EL display device of this embodiment, FIG. 6B and FIG. 6C are AA ′ cross-sectional views as seen from the arrows in FIG. It is BB 'sectional drawing.

本実施形態は、第1の実施形態に対して、第3の有機化合物層103cが正孔注入層、発光層、電子輸送層、電子注入層の順に積層されている点が異なる。つまり、第3の有機化合物層103cは、第1の有機化合物層103a及び第2の有機化合物層103bと同じ積層構造である。さらに、下部電極101及び上部電極105を全画素間に共通の層として形成され、中間電極104が副画素に対応してパターニング形成されている点も異なる。つまり、第1層、および第2層の発光領域が中間電極104により規定されている。これにより、第1、第2の実施形態比べて、1つの画素に形成するコンタクトホールを半分に減らす事ができる。   This embodiment is different from the first embodiment in that the third organic compound layer 103c is laminated in the order of a hole injection layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. That is, the third organic compound layer 103c has the same stacked structure as the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b. Furthermore, the lower electrode 101 and the upper electrode 105 are formed as a common layer between all the pixels, and the intermediate electrode 104 is formed by patterning corresponding to the sub-pixel. That is, the light emitting regions of the first layer and the second layer are defined by the intermediate electrode 104. Thereby, compared to the first and second embodiments, the contact hole formed in one pixel can be reduced to half.

本実施形態は、駆動回路、及び駆動方法が第1の実施形態と異なるため、後に説明する。また、製造方法は、第1の実施形態と同様の方法を用いることができるため、詳細な説明を省略するが、中間電極104を上述した金属材料で形成した場合は、レーザーアブレーションによりパターニングすることができる。さらに中間電極104を金属材料で形成した場合は、第1の有機化合物層103aおよび第2の有機化合物層103bからの発光、もしくは第3の有機化合物層103cからの発光を透過するように、中間電極104は金属薄膜で構成される。この金属薄膜の膜厚が30nm以下である場合には、中間電極104のパターン段差で第3の有機化合物層103cの層が段切れすることはなく、隔壁102を形成する必要はない。   Since this embodiment is different from the first embodiment in the drive circuit and the drive method, it will be described later. Further, since the manufacturing method can be the same as that of the first embodiment, the detailed description is omitted. However, when the intermediate electrode 104 is formed of the above-described metal material, it is patterned by laser ablation. Can do. Further, when the intermediate electrode 104 is formed of a metal material, the intermediate electrode 104 is configured to transmit light emitted from the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b or light emitted from the third organic compound layer 103c. The electrode 104 is composed of a metal thin film. When the thickness of the metal thin film is 30 nm or less, the third organic compound layer 103c is not cut at the pattern step of the intermediate electrode 104, and the partition wall 102 does not need to be formed.

本実施形態の有機EL表示装置の駆動方法の一例を図7を参照して説明する。図7(a)は、図6に示される有機EL表示装置の駆動回路の概要図である。また図7(b)は、図7(a)に示される駆動回路により有機EL装置の電極間に印加される電圧波形の一例を示す図である。   An example of the driving method of the organic EL display device of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 7A is a schematic diagram of a drive circuit of the organic EL display device shown in FIG. FIG. 7B is a diagram showing an example of a voltage waveform applied between the electrodes of the organic EL device by the drive circuit shown in FIG.

本実施形態において第3の有機化合物層103cは第1の有機化合物層103aと第2の有機化合物層103bに対して電子及び正孔の流れる方向が同じ方向になるように積層している。ここでは下部電極101及び上部電極105は全画素に渡って共通の電極であり、図7(a)中のVcに接続される。また中間電極104はコンタクトホール106a,106bを介して図7(a)中の駆動回路に接続される。   In the present embodiment, the third organic compound layer 103c is laminated so that electrons and holes flow in the same direction with respect to the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b. Here, the lower electrode 101 and the upper electrode 105 are electrodes common to all the pixels, and are connected to Vc in FIG. The intermediate electrode 104 is connected to the drive circuit in FIG. 7A via contact holes 106a and 106b.

第1の有機EL素子301aは下部電極101、第1の有機化合物層103a及び中間電極104から構成され、第2の有機EL素子301bは下部電極101、第2の有機化合物層103b及び中間電極104から構成される。また第3の有機EL素子301cは中間電極104、第3の有機化合物層103c及び上部電極105とから構成される。   The first organic EL element 301a includes the lower electrode 101, the first organic compound layer 103a, and the intermediate electrode 104, and the second organic EL element 301b includes the lower electrode 101, the second organic compound layer 103b, and the intermediate electrode 104. Consists of The third organic EL element 301 c includes the intermediate electrode 104, the third organic compound layer 103 c, and the upper electrode 105.

各有機EL素子にはデータ線data_11、data_12、data_13・・・data_n1、data_n2、data_n3、制御線Pulse1、Pulse1、Pulsea、Pulsebが接続されている。各データ線は各有機EL素子への発光期間の映像信号を与え、制御線によってコンデンサへのチャージ及び有機EL素子への通電のスイッチングを行う。   Data lines data_11, data_12, data_13... Data_n1, data_n2, data_n3, and control lines Pulse1, Pulse1, Pulsea, and Pulseb are connected to each organic EL element. Each data line gives a video signal of a light emission period to each organic EL element, and the control line switches charging of the capacitor and energization to the organic EL element.

図7(b)に示したT1からT2までの期間では制御線Pulse1の信号を受け、それぞれのデータ線data_n1、data_n2、からの映像信号に応じた電荷がコンデンサC1にチャージされる。これにより、第1の有機EL素子301a、第2の有機EL素子301bの発光期間がプログラミングされる。この時、Va=Vcc、Vc=Gndとなる。   In the period from T1 to T2 shown in FIG. 7B, the signal on the control line Pulse1 is received, and the electric charge according to the video signal from each data line data_n1, data_n2 is charged to the capacitor C1. Thereby, the light emission periods of the first organic EL element 301a and the second organic EL element 301b are programmed. At this time, Va = Vcc and Vc = Gnd.

T2からT3までの期間では、制御線Pulse2の信号を受け、データ線data_n3からの映像信号に応じた電荷がコンデンサC2にチャージされ、第3の有機EL素子301cの発光期間がプログラミングされる。この時、Va=Gnd、Vc=Vccとなる。   In the period from T2 to T3, the signal of the control line Pulse2 is received, the electric charge according to the video signal from the data line data_n3 is charged to the capacitor C2, and the light emission period of the third organic EL element 301c is programmed. At this time, Va = Gnd and Vc = Vcc.

T3からT4までの期間では、Va=Vcc、Vc=Gndとし、制御線Pulseaの信号を受けてコンデンサC1から信号電流が第1の有機EL素子301a、第2の有機EL素子301bに流れ発光する。   In the period from T3 to T4, Va = Vcc and Vc = Gnd are set. Upon receiving the signal of the control line Pulsea, a signal current flows from the capacitor C1 to the first organic EL element 301a and the second organic EL element 301b to emit light. .

T4からT5までの期間で、Va=Gnd、Vc=Vccとし、制御線Pulsebの信号を受けてコンデンサC2から信号電流が第3の有機EL素子301cに流れ、発光する。   In the period from T4 to T5, Va = Gnd and Vc = Vcc are set, the signal of the control line Pulseb is received, the signal current flows from the capacitor C2 to the third organic EL element 301c, and light is emitted.

本実施形態によれば、図3(b)に示すような剛性のあるシャドウマスクを用い、高精細なフルカラー有機EL表示装置を形成することが可能となる。   According to the present embodiment, it is possible to form a high-definition full-color organic EL display device using a rigid shadow mask as shown in FIG.

(第4の実施形態)
図8(a)は本実施形態の有機EL表示装置の平面図、図8(b)及び図8(c)は、それぞれ図8(a)中の矢印から見たA−A’断面図、B−B’断面図である。本実施形態では、第3の実施形態に対して、第3の有機化合物層103cを含む第2層と、第1の有機化合物層103a及び第2の有機化合物層103bからなる第2層との積層順が逆になっている点が異なる。よって、第3の有機化合物層103cを含む第2層が下部電極101と中間電極104とに狭持され、第1の有機化合物層103a及び第2の有機化合物層103bからなる第1層が中間電極104と上部電極105とに狭持されている。また、第1の有機化合物層103aと第2の有機化合物層103bとの境界には隔壁102を設けていない。
(Fourth embodiment)
FIG. 8A is a plan view of the organic EL display device of this embodiment, FIG. 8B and FIG. 8C are AA ′ cross-sectional views as seen from the arrows in FIG. It is BB 'sectional drawing. In the present embodiment, the second layer including the third organic compound layer 103c and the second layer including the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b are compared with the third embodiment. The difference is that the stacking order is reversed. Therefore, the second layer including the third organic compound layer 103c is sandwiched between the lower electrode 101 and the intermediate electrode 104, and the first layer composed of the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b is intermediate. It is held between the electrode 104 and the upper electrode 105. Further, the partition wall 102 is not provided at the boundary between the first organic compound layer 103a and the second organic compound layer 103b.

その他は、材料、製法、駆動方法ともに第3の実施形態と同様の方法によって有機EL表示装置を形成することができる。   Other than that, the organic EL display device can be formed by the same method as in the third embodiment in terms of materials, manufacturing method, and driving method.

本実施形態によれば、図3(b)に示すような剛性のあるシャドウマスクを用いて、高精細なフルカラー有機EL表示装置の製造が可能となる。   According to the present embodiment, a high-definition full-color organic EL display device can be manufactured using a rigid shadow mask as shown in FIG.

以上、すべての実施形態において、第1の有機化合物層、第2の有機化合物層及び第3の有機化合物層が、それぞれ緑色、青色、赤色を発光するとして説明したが、本発明はこの組み合わせを限定するものではない。例えば、第3の有機化合物層の発光層に青色を発光する発光層を選択し、発光効率の最も低い青色の発光領域を広く確保することも可能である。   As described above, in all the embodiments, the first organic compound layer, the second organic compound layer, and the third organic compound layer emit light of green, blue, and red, respectively. It is not limited. For example, it is possible to select a light emitting layer that emits blue light for the light emitting layer of the third organic compound layer, and to ensure a wide blue light emitting region with the lowest light emission efficiency.

301a 第1の有機化合物層
301b 第2の有機化合物層
301c 第3の有機化合物層
301a First organic compound layer 301b Second organic compound layer 301c Third organic compound layer

Claims (5)

2つの副画素からなる画素内に、
同一平面内で並べて配置される第1の有機化合物層および第2の有機化合物層からなる第1層と、
前記第1層と積層される、第3の有機化合物層を含む第2層と、
を備える有機EL表示装置であって、
前記第1の有機化合物層および前記第2の有機化合物層の夫々は、隣り合う画素の隣り合う副画素間で共通の層として形成され、
前記第3の有機化合物層は、全画素間で共通の層として形成されていることを特徴とする有機EL表示装置。
In a pixel consisting of two subpixels,
A first layer composed of a first organic compound layer and a second organic compound layer arranged side by side in the same plane;
A second layer including a third organic compound layer, laminated with the first layer;
An organic EL display device comprising:
Each of the first organic compound layer and the second organic compound layer is formed as a common layer between adjacent subpixels of adjacent pixels,
The organic EL display device, wherein the third organic compound layer is formed as a common layer among all pixels.
前記第1層および前記第2層は、上部電極と下部電極とに狭持されており、前記第1層の発光領域は、前記上部電極もしくは前記下部電極のどちらか一方と接する面積によって規定され、前記第2層の発光領域は、他方の電極と接する面積によって規定されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   The first layer and the second layer are sandwiched between an upper electrode and a lower electrode, and a light emitting region of the first layer is defined by an area in contact with either the upper electrode or the lower electrode. 2. The organic EL display device according to claim 1, wherein the light emitting region of the second layer is defined by an area in contact with the other electrode. 前記第1層と前記第2層との間には中間電極が配置されており、前記第1層、および第2層の夫々の発光領域は、前記中間電極と接する面積によって規定されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   An intermediate electrode is disposed between the first layer and the second layer, and each light emitting region of the first layer and the second layer is defined by an area in contact with the intermediate electrode. The organic EL display device according to claim 1. 2つの副画素からなる画素内に、同一平面内で並べて配置される第1の有機化合物層および2の有機化合物層からなる第1層と、
前記第1層と積層される第3の有機化合物層を含む第2層と、
を備える有機EL表示装置の製造方法であって、
前記第1層を形成する工程は、
隣り合う画素の隣り合う副画素間で共通する前記第1の有機化合物層を形成する工程と、
隣り合う画素の隣り合う副画素間で共通する前記第2の有機化合物層を形成する工程と、を有し、
前記第2層を形成する工程は、
全画素間で共通する前記第3の有機化合物層を形成する工程
を有することを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
A first layer composed of a first organic compound layer and two organic compound layers arranged side by side in the same plane in a pixel composed of two subpixels;
A second layer including a third organic compound layer laminated with the first layer;
A method for manufacturing an organic EL display device comprising:
The step of forming the first layer includes:
Forming the first organic compound layer common between adjacent sub-pixels of adjacent pixels;
Forming the second organic compound layer that is common between adjacent sub-pixels of adjacent pixels, and
The step of forming the second layer includes
A method of manufacturing an organic EL display device comprising a step of forming the third organic compound layer common to all pixels.
前記第1の有機化合物層および前記第2の有機化合物層を形成する工程は、シャドウマスクを用いた真空蒸着法であって、前記隣り合う画素の隣り合う副画素間で共通する前記第1の有機化合物層および前記隣り合う画素の隣り合う副画素間で共通する前記第2の有機化合物層は、マスクの同一開口部を用いて形成されることを特徴とする請求項4に記載の有機EL表示装置の製造方法。   The step of forming the first organic compound layer and the second organic compound layer is a vacuum vapor deposition method using a shadow mask, and is common to adjacent sub-pixels of the adjacent pixels. 5. The organic EL according to claim 4, wherein the second organic compound layer that is common between the organic compound layer and the adjacent sub-pixels of the adjacent pixels is formed using the same opening of the mask. Manufacturing method of display device.
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