JP2010033813A - Plasma display panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネル(PDP)に関する。 The present invention relates to a plasma display panel (PDP).
プラズマディスプレイパネル(以下PDPと略す)は、薄型ディスプレイパネルの中で、大型化が容易、高速表示が可能、低コストといった特徴から、実用化され、急速に普及している。
現在実用化されている一般的なPDPの構造は、それぞれ前面側と背面側となる、2枚の対向するガラス基板に、それぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、これらの電極を被覆するように低融点ガラス等の誘電体層を設ける。背面基板の誘電体層上には蛍光体層を設け、前面基板の誘電体層上には、誘電体層をイオン衝撃に対して保護し、かつ2次電子放出を目的とした保護層として、MgO層が設けられる。そして2枚の基板間にNe、Xe等の不活性ガスを主体とするガスを封入し、電極間に電圧を印加して放電を発生させることにより蛍光体を発光させて表示を行う。
Plasma display panels (hereinafter abbreviated as PDPs) have been put into practical use and are rapidly becoming popular among thin display panels because they are easy to enlarge, capable of high-speed display, and low cost.
A general PDP structure currently in practical use is provided with a pair of regularly arranged electrodes on two opposing glass substrates on the front side and the back side, respectively, and covers these electrodes. Thus, a dielectric layer such as a low melting point glass is provided. A phosphor layer is provided on the dielectric layer of the rear substrate, and the dielectric layer is protected against ion bombardment on the dielectric layer of the front substrate, and as a protective layer for the purpose of secondary electron emission, An MgO layer is provided. A gas mainly composed of an inert gas such as Ne or Xe is sealed between the two substrates, and a voltage is applied between the electrodes to generate a discharge, thereby causing the phosphor to emit light and display.
PDPにおいては、高効率化が強く要求されており、その手段としては、誘電体層を低誘電率化する方法や、放電ガスのXe分圧を上げる方法が知られている。しかしながら、このような手段を用いると、放電開始電圧や維持電圧が上昇してしまうという問題点があった。
一方、保護層に用いる材料として、2次電子放出係数の高い材料を用いれば、放電開始電圧や維持電圧を下げることが可能であることが知られており、高効率化や、耐圧の低い素子を用いることによる低コスト化が実現可能となる。このため、MgOの変わりに、同じアルカリ土類金属酸化物であるが、より2次電子放出係数の高い、CaO、SrO、BaOを用いたり、これら同士の固溶体を用いることが検討されている(特許文献1及び2など)。
On the other hand, it is known that if a material having a high secondary electron emission coefficient is used as a material for the protective layer, it is possible to lower the discharge start voltage and the sustain voltage. The cost can be reduced by using. For this reason, it has been studied to use CaO, SrO, BaO, which are the same alkaline earth metal oxides instead of MgO, but have a higher secondary electron emission coefficient, or use a solid solution of these (
しかしながら、CaO、SrO、BaOなどは、MgOに比べて化学的に不安定であり、空気中の水分や炭酸ガスと容易に反応して、水酸化物や炭酸化物を形成する。このような化合物を形成すると、2次電子放出係数が低下して、期待した低電圧化が得られなかったり、あるいは電圧低下に必要とされるエージング時間が非常に長くなってしまい、実用的ではなくなるといった問題点があった。 However, CaO, SrO, BaO and the like are chemically unstable as compared with MgO, and easily react with moisture and carbon dioxide in the air to form hydroxides and carbonates. When such a compound is formed, the secondary electron emission coefficient decreases, and the expected low voltage cannot be obtained, or the aging time required for the voltage reduction becomes very long. There was a problem of disappearing.
こうした化学反応による劣化は、実験室レベルで少量を作製する場合には、作業の雰囲気ガスを制御するといった方法で回避可能であるが、製造工場での全ての工程を雰囲気管理するのは困難であり、また可能であっても高コスト化につながる。このため、従来より2次電子放出係数の高い材料の使用が検討されてきたにもかかわらず、未だに実用化されているのはMgOのみであり、充分な低電圧化や高効率化が実現されていなかった。 Degradation due to such chemical reactions can be avoided by controlling the atmosphere gas of the work when producing a small amount at the laboratory level, but it is difficult to control the atmosphere of all processes at the manufacturing plant. Yes, even if possible, it leads to higher costs. For this reason, even though the use of a material having a high secondary electron emission coefficient has been studied conventionally, only MgO has been put into practical use, and a sufficiently low voltage and high efficiency have been realized. It wasn't.
本発明は、少なくとも、Ca、Srより選ばれた一種類以上と、Snと、Sbと、O(酸素)を主成分とする化合物を、電子放出材料として用いたことを特徴とする、プラズマディスプレイパネルである。
前記化合物は、Ca、Srの一種類以上とSnとSbを特定の比率で含む結晶性酸化物であることが望ましく、より具体的には、CaSnSb2O6、SrSnSb2O6、あるいはこれらの固溶体であることが望ましい。
The present invention uses at least one compound selected from Ca and Sr, and a compound containing Sn, Sb, and O (oxygen) as main components as an electron emission material. It is a panel.
The compound is preferably a crystalline oxide containing one or more kinds of Ca and Sr and Sn and Sb in a specific ratio, and more specifically, CaSnSb 2 O 6 , SrSnSb 2 O 6 , or these It is desirable to be a solid solution.
Ca、Srより選ばれた一種類以上と、Snと、Sbと、O(酸素)を主成分とする化合物は、放電空間に臨むように配設することもできる。 One or more kinds selected from Ca and Sr, and compounds containing Sn, Sb, and O (oxygen) as main components can be disposed so as to face the discharge space.
本発明によれば、化学的に安定化された、2次電子放出係数の高い化合物を用いることにより、駆動電圧の低いプラズマディスプレイパネルを提供できる。 According to the present invention, a plasma display panel having a low driving voltage can be provided by using a chemically stabilized compound having a high secondary electron emission coefficient.
発明者等は、詳細な検討の結果、2次電子放出効率は高いが化学的に不安定なCaO、SrO、BaOに、SnO2とSb2O3を反応させ、Ca,Srのいずれか一種類以上とSnとSbとOを含む化合物とすることにより、2次電子放出効率を低下させずに化学的な安定性を高めることが出来、これを用いることにより、MgOを用いた場合よりも駆動電圧が低下したPDPが得られることを見出した。 As a result of detailed studies, the inventors made SnO 2 and Sb 2 O 3 react with CaO, SrO, and BaO, which have high secondary electron emission efficiency but are chemically unstable, and either Ca or Sr. By using a compound containing Sn, Sb, and O, the chemical stability can be improved without lowering the secondary electron emission efficiency. By using this, the use of this makes it more than using MgO. It has been found that a PDP with a reduced driving voltage can be obtained.
Ca,Srいずれか一種類以上とSnとSbとOを主成分とする化合物としては、これらを含むアモルファス状態のものでもかまわない。しかし、より安定性を高めるためには、結晶性化合物が望ましい。結晶性化合物としては、CaSnSb2O6、SrSnSb2O6、あるいはこれらの固溶体((Ca,Sr)SnSb2O6)が挙げられる。
これらの中で、2次電子放出効率は、CaOよりもSrOを含むもののほうが高い。しかしながら、化学的安定性はその逆になる。必要とされる化学的安定性は、実際に製造を行う工程条件により様々であるので、一概にどの化合物が良いと決めることは難しいが、CaSnSb2O6は、SrSnSb2O6よりも耐熱安定性にも優れているので、一般的には、より使いやすい。
As the compound containing at least one of Ca and Sr and Sn, Sb and O as main components, an amorphous state containing them may be used. However, a crystalline compound is desirable in order to increase stability. Examples of the crystalline compound include CaSnSb 2 O 6 , SrSnSb 2 O 6 , and solid solutions thereof ((Ca, Sr) SnSb 2 O 6 ).
Among these, the secondary electron emission efficiency is higher for those containing SrO than for CaO. However, chemical stability is reversed. The required chemical stability varies depending on the actual manufacturing conditions, so it is generally difficult to determine which compound is good. However, CaSnSb 2 O 6 is more heat resistant than SrSnSb 2 O 6. In general, it is easier to use because of its superior properties.
Ca,Srのいずれか一種類以上とSnとSbとOを主成分とする化合物を合成する方法としては、その形態として、固相法、液相法、気相法が挙げられる。
固相法は、それぞれの金属を含む原料粉末(金属酸化物、金属炭酸塩等)を混合し、ある程度以上の温度で熱処理して反応させる方法である。
液相法は、それぞれの金属を含む溶液を作り、これより固相を沈殿させたり、あるいは基板上にこの溶液を塗布後、乾燥し、ある程度以上の温度で熱処理等を行って固相とする方法である。
Examples of a method for synthesizing a compound containing at least one of Ca and Sr and Sn, Sb, and O as main components include a solid phase method, a liquid phase method, and a gas phase method.
The solid phase method is a method in which raw material powders (metal oxides, metal carbonates, etc.) containing respective metals are mixed and heat-treated at a temperature of a certain level or more.
In the liquid phase method, a solution containing each metal is prepared, and a solid phase is precipitated from the solution. Alternatively, the solution is applied onto a substrate and then dried, and then subjected to heat treatment at a certain temperature or more to obtain a solid phase. Is the method.
気相法は、蒸着、スパッタリング、CVD等の方法によって膜状の固相を得る方法である。気相法によれば、上述した、Ca、SrとSnとSbが特定の比率となる結晶性酸化物以外にも、Ca、Srより選ばれた一種類以上と、Snと、SbとO(酸素)を主成分とするアモルファス状態の化合物を得ることも出来る。このアモルファス状態の膜も、CaO、SrO、BaOと比較すれば化学的により安定であり、かつMgOよりも高い二次電子放出効率を持つため、PDPの駆動電圧を低減することが出来る。しかしながら、化学的安定性は結晶性化合物の方が高く、また合成法として、気相法は固相法等よりも高コストとなるため、結晶性化合物の方が、より望ましい。 The vapor phase method is a method for obtaining a film-like solid phase by a method such as vapor deposition, sputtering, or CVD. According to the vapor phase method, in addition to the above-described crystalline oxide in which Ca, Sr, Sn, and Sb have a specific ratio, one or more selected from Ca and Sr, Sn, Sb, and O ( It is also possible to obtain an amorphous compound mainly composed of (oxygen). Since this amorphous film is also chemically more stable than CaO, SrO, and BaO and has a higher secondary electron emission efficiency than MgO, the driving voltage of the PDP can be reduced. However, the crystalline compound has higher chemical stability, and as a synthesis method, the gas phase method is more expensive than the solid phase method, and therefore the crystalline compound is more preferable.
次に、これらの化合物をPDPパネルのどの部分に形成するかについては、一般的には、前面板の電極を覆う誘電体層の上に形成すれば良い。しかしながら、他の部位、例えば蛍光体部やリブ表面等の位置に形成しても、放電空間に面した位置であれば、形成しないものに比べて、駆動電圧低下の効果は認められる。
次に、これらの化合物の形態については、例えば前面板の電極を覆う誘電体層の上に形成する場合を考えると、誘電体層の上に通常保護膜として形成されるMgO膜のかわりに、これらの化合物の膜を形成したり、これらの粉末を散布する、あるいはMgO膜を形成したさらに上に、これらの化合物の膜を形成したり、これらの化合物の粉末を散布する、といった方法をとれば良い。粉末で用いる場合の粒子径は、0.1μm〜10μm程度の範囲内で、セルサイズ等にあわせて選択すれば良い。
Next, as to which part of the PDP panel these compounds are to be formed, generally they may be formed on a dielectric layer covering the electrodes on the front plate. However, the effect of lowering the driving voltage is recognized even if it is formed at a position such as a phosphor part or a rib surface in another part, for example, if it is a position facing the discharge space, as compared with the case where it is not formed.
Next, regarding the form of these compounds, for example, when considered on the dielectric layer covering the electrodes of the front plate, instead of the MgO film normally formed as a protective film on the dielectric layer, The film of these compounds can be formed, the powder of these compounds can be dispersed, or the film of these compounds can be formed on the MgO film, and the powder of these compounds can be dispersed. It ’s fine. What is necessary is just to select the particle diameter in the case of using by powder according to cell size etc. within the range of about 0.1 micrometer-10 micrometers.
なお、結晶性酸化物CaSnSb2O6およびCaSnSb2O6は、Sb2O3と同じ結晶構造を有する化合物であって、Sb2O3のSb3+イオンの1個が、Ca2+イオンとSn4+イオンの半分ずつで置換された、(Ca0.5Sn0.5)SbO3と見なすことが出来る。しかしながら、Snは、Sn4+以外に、その一部がSn2+となりやすい元素であり、またCaとSnの比率も1:1から若干ずれる場合があり、これらの場合には酸素欠陥が生じる。さらに、Ca+SnとSbの比率も1:1より若干ずれることも有りえる。こうした酸素欠陥や不定比性は製造条件等によって変動し、一定値とはならない。よって本明細書では、便宜上CaSnSb2O6およびCaSnSb2O6のように記載しているが、本願発明は、これら若干の酸素欠陥や不定比性の存在を排除するものではない。 Incidentally, the crystalline oxide CaSnSb 2 O 6 and CaSnSb 2 O 6 is a compound having the same crystal structure as Sb 2 O 3, 1 single Sb 3+ ions Sb 2 O 3 is, Ca 2+ ions and Sn It can be regarded as (Ca 0.5 Sn 0.5 ) SbO 3 substituted with half of 4+ ions. However, in addition to Sn 4+ , Sn is an element that tends to become Sn 2+, and the ratio of Ca and Sn may slightly deviate from 1: 1. In these cases, oxygen defects occur. Furthermore, the ratio of Ca + Sn and Sb may be slightly deviated from 1: 1. Such oxygen vacancies and non-stoichiometry vary depending on manufacturing conditions and do not become constant values. Therefore in this specification, has been described as convenience CaSnSb 2 O 6 and CaSnSb 2 O 6, the present invention does not exclude the presence of these slight oxygen defects or non-stoichiometry.
また、CaやSrのサイトは、同じ2価のMgやBa、3価のLa、1価のK等で部分的に置換可能であり、Snのサイトも同じ4価となるTi、Zrや、3価のIn、5価のNb等で部分置換可能であり、Sbのサイトも同じ3価となるのIn等で部分的に置換、可能であるが、主成分が、Ca、Srから選ばれた1種類以上とSnとSbとOでありさえすれば、これらの少量の置換は、本発明の化合物の特性(化学的に安定かつ二次電子放出効率が高い)を本質的に損なうものでない限り、かまわない。 In addition, the sites of Ca and Sr can be partially replaced by the same divalent Mg, Ba, trivalent La, monovalent K, etc., and the Sn site is also the same tetravalent Ti, Zr, It can be partially substituted with trivalent In, pentavalent Nb, etc., and the Sb site can also be partially substituted with In, etc. with the same trivalent, but the main component is selected from Ca and Sr As long as there is at least one kind, Sn, Sb, and O, these small amounts of substitution do not essentially impair the properties (chemically stable and high secondary electron emission efficiency) of the compounds of the present invention. As long as it does not matter.
ここで、主成分とは、他の元素で置換されても特性が発現されるのに必要な組成範囲であって、一概に決めることは難しいが、おおよその範囲としては、陽イオン元素の合計元素比で8割以上、より望ましくは9割以上が、Ca、Srから選ばれた1種類以上とSnとSbであれば良い。
次に、本発明のPDPの具体例を図を用いて説明する。本発明によるPDPの一例を図1および2に示す。図1は、当該PDP100の分解斜視図である。図2は、当該PDP100の縦断面図(図1、I−I線断面図)である。図1および2に示すように、PDP100は、前面パネル1と背面パネル8とを有している。前面パネル1と背面パネル8との間には、放電空間14が形成されている。このPDPは、AC面放電型であって、保護層が上述した化合物で形成されている以外は従来例にかかるPDPと同様の構成を有する。
Here, the main component is a composition range that is necessary for the characteristics to be expressed even if it is substituted with other elements, and it is difficult to determine it in general, but the approximate range is the sum of the cationic elements. 80% or more, more preferably 90% or more in terms of element ratio may be one or more selected from Ca and Sr, Sn and Sb.
Next, a specific example of the PDP of the present invention will be described with reference to the drawings. An example of a PDP according to the present invention is shown in FIGS. FIG. 1 is an exploded perspective view of the
前面板1は、前面ガラス基板2と、その内側面(放電空間14に臨む面)に形成された透明導電膜3およびバス電極4からなる表示電極5と、表示電極5を覆うように形成された誘電体層6と、誘電体層6上に形成された保護層7とを備えている。表示電極5は、ITOまたは酸化スズからなる透明導電膜3に、良好な導電性を確保するためAg等からなるバス電極4が積層されて形成されている。
The front plate 1 is formed so as to cover the
背面板8は、背面ガラス基板9と、その片面に形成したアドレス電極10と、アドレス電極10を覆うように形成された誘電体層11と、誘電体層11の上面に設けられた隔壁12と、隔壁12の間に形成された蛍光体層とを備えている。蛍光体層は、赤色蛍光体層13(R)、緑色蛍光体層13(G)および青色蛍光体層13(B)がこの順に配列するように形成される。
The
上記蛍光体層を構成する蛍光体としては、例えば、青色蛍光体としてBaMgAl10O17:Eu、緑色蛍光体としてZn2SiO4:Mn、赤色蛍光体としてY2O3:Euを用いることができる。
前面板1および背面板8は、表示電極5とアドレス電極10の各々の長手方向が互いに直交し、かつ互いに対向するように配置し、封着部材(図示せず)を用いて接合される。
As the phosphor constituting the phosphor layer, for example, BaMgAl 10 O 17 : Eu is used as a blue phosphor, Zn 2 SiO 4 : Mn is used as a green phosphor, and Y 2 O 3 : Eu is used as a red phosphor. it can.
The front plate 1 and the
放電空間14には、He、Xe、Ne等の希ガス成分からなる放電ガスが封入されている。
表示電極5とアドレス電極10は、それぞれ外部の駆動回路(図示せず)と接続され、駆動回路から印加される電圧によって放電空間14で放電が発生し、放電に伴って発生する短波長(波長147nm)の紫外線で蛍光体層13が励起されて可視光を発光する。保護層7に、上述した化合物が使用される。
The
The
本発明によるPDPの他の一例を、図3および4に示す。図3は、当該PDP200の分解斜視図である。図4は、当該PDP200の縦断面図(図3、I−I線断面図)である。PDP200は、保護層7がMgOからなり、上述した化合物20が保護層7上に粒子の形態で配置されていること以外は、PDP100と同様の構造を有する。PDP200においても、化合物20は、放電空間14に面している。
Another example of a PDP according to the present invention is shown in FIGS. FIG. 3 is an exploded perspective view of the
次に、保護層7に、従来のMgO膜を用い、その上に、上述した化合物粉末を散布した場合のPDPパネルの作製方法について、一例を挙げて説明する。まず、前面板を作製する。平坦な前面ガラス基板の一主面に、複数のライン状の透明電極を形成する。引き続き、透明電極上に銀ペーストを塗布した後、前面ガラス基板全体を加熱することによって、銀ペーストを焼成し、表示電極を形成する。
Next, a method for manufacturing a PDP panel in the case where a conventional MgO film is used for the
表示電極を覆うように、前面ガラス基板の上記主面に本発明のPDPにおける誘電体層用ガラスを含むガラスペーストをブレードコーター法によって塗布する。その後、前面ガラス基板全体を90℃で30分間保持してガラスペーストを乾燥させ、次いで、580℃前後の温度で10分間焼成を行う。
誘電体層上に酸化マグネシウム(MgO)を電子ビーム蒸着法によって成膜し、焼成を行い、保護層を形成する。この時の焼成温度は500℃前後である。
A glass paste containing the dielectric layer glass in the PDP of the present invention is applied to the main surface of the front glass substrate by a blade coater method so as to cover the display electrodes. Thereafter, the entire front glass substrate is held at 90 ° C. for 30 minutes to dry the glass paste, and then baked at a temperature of about 580 ° C. for 10 minutes.
Magnesium oxide (MgO) is deposited on the dielectric layer by an electron beam evaporation method and baked to form a protective layer. The firing temperature at this time is around 500 ° C.
MgO層上に、エチルセルロース等のビヒクルに粉末状の本発明の化合物を混合し、ペースト状としたものを印刷法等により塗布し、乾燥し、500℃前後の温度で焼成して、散布層を形成する。
次に背面板を作製する。平坦な背面ガラス基板の一主面に、銀ペーストをライン状に複数本塗布した後、背面ガラス基板全体を加熱して銀ペーストを焼成することによって、アドレス電極を形成する。
On the MgO layer, the powdery compound of the present invention is mixed with a vehicle such as ethyl cellulose, and the paste is applied by a printing method or the like, dried, and baked at a temperature of about 500 ° C. Form.
Next, a back plate is produced. After applying a plurality of silver pastes in a line on one main surface of a flat back glass substrate, the entire back glass substrate is heated and the silver paste is baked to form address electrodes.
隣り合うアドレス電極の間にガラスペーストを塗布し、背面ガラス基板全体を加熱してガラスペーストを焼成することによって、隔壁を形成する。
隣り合う隔壁同士の間に、R、G、B各色の蛍光体インクを塗布し、背面ガラス基板を約500℃に加熱して上記蛍光体インクを焼成することによって、蛍光体インク内の樹脂
成分(バインダー)等を除去して蛍光体層を形成する。
A partition wall is formed by applying a glass paste between adjacent address electrodes and firing the glass paste by heating the entire back glass substrate.
By applying phosphor inks of R, G, and B colors between adjacent barrier ribs, and heating the back glass substrate to about 500 ° C. and baking the phosphor ink, a resin component in the phosphor ink (Binder) and the like are removed to form a phosphor layer.
こうして得た前面板と背面板とを封着ガラスを用いて貼り合わせる。この時の温度は500℃前後である。その後、封止された内部を高真空排気した後、希ガスを封入する。以上のようにしてPDPが得られる。
なお、上述したPDPおよびその製造方法は一例であり、本発明はこれに限定されるものではない。
The front plate and the back plate thus obtained are bonded using a sealing glass. The temperature at this time is around 500 ° C. Thereafter, after the sealed interior is evacuated to high vacuum, a rare gas is sealed. A PDP is obtained as described above.
Note that the above-described PDP and its manufacturing method are merely examples, and the present invention is not limited thereto.
MgO保護層のかわりに、上述した化合物を薄膜として形成する場合、MgOと同様に、電子ビーム蒸着等の、通常の薄膜プロセスを適宜用いれば良い。また、化合物粉末をビヒクルや溶媒等と混合して、比較的化合物粉末含有率の高いペースト状とし、これを印刷法等の方法で薄く広げた後、焼成して薄膜状、あるいは厚膜状としても良い。
一方、化合物粉末を散布する場合は、比較的化合物粉末含有率の低いペーストを用意して印刷法を用いたり、溶媒に粉末を分散させて散布したり、スピンコーター等を用いたりすれば良い。
In the case where the above-described compound is formed as a thin film instead of the MgO protective layer, a normal thin film process such as electron beam evaporation may be used as appropriate, similarly to MgO. Also, the compound powder is mixed with a vehicle or a solvent to obtain a paste having a relatively high content of the compound powder, which is spread thinly by a method such as a printing method and then fired to form a thin film or a thick film. Also good.
On the other hand, when the compound powder is sprayed, a paste having a relatively low compound powder content may be prepared and used for printing, or the powder may be dispersed in a solvent and sprayed, or a spin coater or the like may be used.
以下、実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明する。
[結晶性化合物]
本実施例では、CaO、SrOにSnO2とSb2O3を、固相粉末法により反応させて、結晶性化合物を合成した場合の、化学的安定性の改善効果を示す。
出発原料として、試薬特級以上のCaCO3、SrCO3およびSnO2、Sb2O3を用いた。これらの原料を、各金属イオンのモル比が、表1に示すようになるように秤量し、ボールミルを用いて湿式混合した後、乾燥し、混合粉末を得た。ただし、No.3、4は出発原料であるSnO2、Sb2O3そのものであるので、特に混合処理等は行わず、次の焼成も行わなかった。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
[Crystalline compound]
In this example, the improvement effect of chemical stability is shown when a crystalline compound is synthesized by reacting SnO 2 and Sb 2 O 3 with CaO and SrO by a solid phase powder method.
As starting materials, CaCO 3 , SrCO 3, SnO 2 , and Sb 2 O 3 of reagent grade or higher were used. These raw materials were weighed so that the molar ratio of each metal ion was as shown in Table 1, wet-mixed using a ball mill, and then dried to obtain a mixed powder. However, no. Since 3 and 4 are SnO 2 and Sb 2 O 3 which are starting materials themselves, no particular mixing treatment was performed, and the next firing was not performed.
次にNo.1、2、5〜7の混合粉末をアルミナ坩堝に入れ、電気炉にて、窒素中で900〜1100℃で2時間焼成した。得られた粉末の平均粒径は約3μmであった。粉末の一部をX線回折法を用いて分析し、生成相を同定した。
次に粉砕粉末の一部を秤量した後、吸湿性のない多孔質のセルに充填し、このセルを温度35℃湿度60%空気中の恒温恒湿槽に入れて12時間放置し、放置後再度重量を測定し、重量増加率を測定した。その後、さらに温度65℃湿度80%空気中の恒温恒湿槽に入れて12時間放置し、放置後再度重量を測定し、重量増加率(積算値)を算出した。この重量増加率が低いほど、化合物が、化学的な安定性に優れていることを意味する。一部の試料に対しては、恒温恒湿槽処理後のX線回折測定も行った。また比較のため、試料No.8として、MgOの粉末を用いて、同様の重量増加率を測定した。
Next, no. The
Next, a portion of the pulverized powder was weighed and then filled into a porous cell having no hygroscopicity, and this cell was placed in a constant temperature and humidity chamber at a temperature of 35 ° C. and a humidity of 60% and left for 12 hours. The weight was measured again, and the weight increase rate was measured. Thereafter, the mixture was further placed in a constant temperature and humidity chamber at a temperature of 65 ° C. and a humidity of 80% and left for 12 hours. After standing, the weight was measured again, and the weight increase rate (integrated value) was calculated. It means that the lower the weight increase rate, the better the chemical stability of the compound. Some samples were also subjected to X-ray diffraction measurement after treatment with a constant temperature and humidity chamber. For comparison, Sample No. As 8, the same weight increase rate was measured using MgO powder.
次に恒温恒湿処理における重量増加率測定では、No.1、2のCaOやSrOでは、35℃60%12h放置でも増加率が非常に大きく、処理後の試料のX線回折では、酸化物の回折ピークは消失し、水酸化物と炭酸塩の生成が認められた。従って、これらが不安定であることは明白であり、65℃80%12hの追加条件は行わなかった。一方、CaやSrを全く含まないNo.3,4は、全く重量増加を示さず、安定であった。 Next, in the weight increase rate measurement in the constant temperature and humidity treatment, No. For CaO and SrO of 1 and 2, the increase rate is very large even when left at 35 ° C. for 60% for 12 hours. In the X-ray diffraction of the treated sample, the oxide diffraction peak disappears, and the formation of hydroxide and carbonate Was recognized. Therefore, it is clear that they are unstable, and the additional condition of 65 ° C. and 80% for 12 h was not performed. On the other hand, No. containing no Ca or Sr. 3 and 4 showed no weight increase and were stable.
これらに対してNo.5〜7は、CaやSrを一部含むにもかかわらず、No.1,2はもちろん、比較例であるNo.8のMgOと比べても重量増加率が小さくなっており、処理後のX線回折でも、それぞれの回折ピークのみが認められ、化合物形成による安定化効果が確認出来た。
[PDP]
本実施例では、本発明の化学的安定性が改善された化合物を用いたPDPについて示す。厚さ約2.8mmの平坦なソーダライムガラスからなる前面ガラス基板を用意した。この前面ガラス基板の面上に、ITO(透明電極)の材料を所定のパターンで塗布し、乾燥した。次いで、銀粉末と有機ビヒクルとの混合物である銀ペーストをライン状に複数本塗
布した後、上記前面ガラス基板を加熱することにより、上記銀ペーストを焼成して表示電極を形成した。
No. Nos. 5 to 7 contain nos. Ca and Sr. 1 and 2 as well as the comparative example No. 1 The weight increase rate was smaller than that of MgO of 8, and only the respective diffraction peaks were observed in the X-ray diffraction after the treatment, and the stabilization effect by the compound formation could be confirmed.
[PDP]
In this example, PDPs using compounds with improved chemical stability of the present invention are shown. A front glass substrate made of flat soda lime glass having a thickness of about 2.8 mm was prepared. On the surface of the front glass substrate, an ITO (transparent electrode) material was applied in a predetermined pattern and dried. Next, a plurality of silver pastes, which are a mixture of silver powder and an organic vehicle, were applied in a line shape, and then the front glass substrate was heated, whereby the silver paste was baked to form display electrodes.
表示電極を作製したフロントパネルに、ガラスペーストをブレードコーター法を用いて塗布し、90℃で30分間保持してガラスペーストを乾燥させ、585℃の温度で10分間焼成することによって、厚さ約30μmの誘電体層を形成した。
上記誘電体層上に酸化マグネシウム(MgO)を電子ビーム蒸着法によって蒸着した後、500℃で焼成することによって保護層を形成した。
A glass paste is applied to the front panel on which the display electrode is manufactured by using a blade coater method, and the glass paste is dried by holding at 90 ° C. for 30 minutes, and then baked at a temperature of 585 ° C. for 10 minutes. A 30 μm dielectric layer was formed.
Magnesium oxide (MgO) was deposited on the dielectric layer by an electron beam deposition method, and then baked at 500 ° C. to form a protective layer.
次に、No.1、2、3、4、5、6の粉末約3重量部をエチルセルロース系のビヒクル100重量部と混合し、3本ロールを通してペーストとし、印刷法により、MgO層上に薄く塗布し、90℃で乾燥させた後、500℃、空気中で焼成した。この際、ペーストの濃度調整によって、焼成後のMgO膜が粉末によって被覆される面積割合を10%程度とした。比較のため、ペースト印刷を行わないものも作製した。 Next, no. About 3 parts by weight of 1, 2, 3, 4, 5 and 6 powders were mixed with 100 parts by weight of an ethylcellulose vehicle, made into a paste through three rolls, and thinly applied onto the MgO layer by a printing method. And dried at 500 ° C. in the air. At this time, by adjusting the concentration of the paste, the area ratio in which the fired MgO film was covered with the powder was set to about 10%. For comparison, a product without paste printing was also produced.
一方、以下の方法で背面板を作製した。まず、ソーダライムガラスからなる背面ガラス基板上にスクリーン印刷によって銀を主体とするアドレス電極をストライプ状に形成し、引き続き、前面板と同様の方法で、厚さ約8μmの誘電体層を形成した。
次に、誘電体層上に、隣り合うアドレス電極の間に、ガラスペーストを用いて隔壁を形成した。隔壁は、スクリーン印刷および焼成を繰り返すことによって形成した。
On the other hand, a back plate was produced by the following method. First, an address electrode mainly composed of silver was formed in a stripe shape on a rear glass substrate made of soda lime glass by screen printing, and then a dielectric layer having a thickness of about 8 μm was formed in the same manner as the front plate. .
Next, partition walls were formed on the dielectric layer using glass paste between adjacent address electrodes. The partition was formed by repeating screen printing and baking.
引き続き、隔壁の壁面と隔壁間で露出している誘電体層の表面に、赤(R)、緑(G)、青(B)の蛍光体ペーストを塗布し、乾燥および焼成して蛍光体層を作製した。
作製した前面板、背面板を封着ガラスを用いて500℃で貼り合わせた。そして、放電空間の内部を排気した後、放電ガスとしてXeを封入し、PDPを作製した。
作製したパネルを駆動回路に接続して発光させ、放電維持電圧を測定したところ、No.1、2の粉末を散布した場合は、MgO薄膜のみの場合と比較して、ほぼ同じ電圧であった。これは、ペースト印刷によって、CaOやSrO粒子の表面がCaCO3やSrCO3に変化してしまい、本来は高いはずの二次電子放出効率が低下してしまったためと考えられる。
Subsequently, the phosphor layer of red (R), green (G), and blue (B) is applied to the surface of the dielectric layer exposed between the wall surfaces of the barrier ribs and the barrier ribs, and then dried and fired to phosphor layer Was made.
The produced front plate and back plate were bonded at 500 ° C. using sealing glass. And after exhausting the inside of discharge space, Xe was enclosed as discharge gas, and PDP was produced.
The produced panel was connected to a drive circuit to emit light, and the discharge sustaining voltage was measured. When the
次にNo.3、4の粉末を散布したものでは、初期には発光したものの、放電維持電圧が時間経過とともに急激に上昇し、発光させることが不可能となった。この理由は明らかではないが、SnO2やSb2O3自体には、PDPパネルの動作電圧を低下させる効果は全く認められなかった。
これらに対して、No.5、6の粉末を散布した場合、放電維持電圧は、下地MgO膜のみの場合と比較して、それぞれ13%、9%低下し、本発明の化合物形成によって安定性が向上し、高い二次電子放出効率を維持するという改善効果を確認することが出来た。
Next, no. In the case where
On the other hand, no. When the
本発明は、放電特性が改善されたプラズマディスプレイパネルを提供できる。 The present invention can provide a plasma display panel with improved discharge characteristics.
1 前面板
2 前面ガラス基板
3 透明導電膜
4 バス電極
5 表示電極
6 誘電体層
7 保護層
8 背面板
9 背面ガラス基板
10 アドレス電極
11 誘電体層
12 隔壁
13 蛍光体層
14 放電空間
20 化合物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (11)
プラズマディスプレイパネル。 A plasma display panel using at least one compound selected from Ca and Sr, a compound containing Sn, Sb, and O (oxygen) as main components as an electron emission material.
請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル。 The plasma according to claim 1, wherein at least one compound selected from Ca and Sr, Sn, Sb, and a compound mainly containing O (oxygen) are disposed so as to face the discharge space. Display panel.
請求項1または2のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。 At least one kind selected from Ca and Sr, a compound containing Sn, Sb, and O (oxygen) as a main component includes one or more kinds of Ca and Sr and Sb and Sn in a specific ratio. The plasma display panel according to claim 1, wherein the plasma display panel is a crystalline oxide.
請求項1〜3のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。 The compound containing at least one selected from Ca and Sr, Sn, Sb, and O (oxygen) as main components is CaSnSb 2 O 6 , SrSnSb 2 O 6, or a solid solution thereof. The plasma display panel according to any one of?
前記第1のパネルは、基板と、前記基板上に形成された第1の電極と、前記第1の電極を覆う第1の誘電体層とを含み、前記第2のパネルは、基板と、前記基板上に形成された第2の電極と、前記第2の電極を覆う第2の誘電体層と、蛍光体層とを含み、前記放電空間に面するように、請求項1〜4のいずれかに記載の化合物が配置されている
プラズマディスプレイパネル。 A plasma display panel comprising a first panel and a second panel, wherein a discharge space is formed between the first panel and the second panel,
The first panel includes a substrate, a first electrode formed on the substrate, and a first dielectric layer covering the first electrode, and the second panel includes a substrate, 5. The device according to claim 1, comprising a second electrode formed on the substrate, a second dielectric layer covering the second electrode, and a phosphor layer, and facing the discharge space. A plasma display panel in which the compound according to any one of the above is disposed.
請求項5に記載のプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 5, wherein the compound is arranged in at least one form selected from particles and a film.
請求項5に記載のプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 5, wherein the compound is formed on at least one panel selected from the first panel and the second panel.
請求項5に記載のプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 5, wherein a protective layer is formed on the first dielectric layer.
請求項8に記載のプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 8, wherein the protective layer is made of MgO.
請求項8または9に記載のプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 8, wherein the compound is disposed on the protective layer.
請求項8に記載のプラズマディスプレイパネル。 The plasma display panel according to claim 8, wherein the protective layer contains the compound.
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