JP2010026921A - Positioning device - Google Patents

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Hideyuki Takamukai
英行 高向
Tei Ono
悌 大野
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Yokogawa Electric Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positioning device which is relatively inexpensive as a whole while ensuring high positioning accuracy in a specific area. <P>SOLUTION: The positioning device includes: a slider 1 to be position-controlled; a platen 10 having teeth of magnetic poles formed in a face opposite to the slider 1 thereof to constitute a planar motor with the slider 1; resolvers 30a-30c (resolver 30) which detect the position of the slider 1; laser interferometers 20a and 20b (laser interferometer 20) which detect the position of the slider 1 in a specific area A of the platen 10 with accuracy higher than that of the resolver 30; a switch 100c which selects either one position detector of the resolver 30 and the laser interferometer 20 according to the position of the slider 1; and a position control part 102 which executes position control of the slider 1 based on a position instruction value and a position detection value detected by the position detector selected by the switch 100c. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は位置決め装置に関し、詳しくは、平面モータを構成するプラテンに対するスライダの位置を制御する位置決め装置に関するものである。   The present invention relates to a positioning device, and more particularly to a positioning device that controls the position of a slider with respect to a platen constituting a planar motor.

図13は従来の位置決め装置の一例を示す構成図である。四辺形のプラテン10上に四辺形のスライダが搭載されており、プラテン10上でX軸方向およびY軸方向に位置制御される。プラテン10とスライダのそれぞれの対向面には所定ピッチの磁極の歯(以下単に歯という)が形成されており、平面モータを構成している。この平面モータを駆動することによって、スライダは指定された位置に移動する。   FIG. 13 is a block diagram showing an example of a conventional positioning device. A quadrilateral slider is mounted on the quadrilateral platen 10, and position control is performed on the platen 10 in the X-axis direction and the Y-axis direction. Magnetic pole teeth (hereinafter simply referred to as teeth) having a predetermined pitch are formed on the opposing surfaces of the platen 10 and the slider to constitute a planar motor. By driving the flat motor, the slider moves to a designated position.

スライダの側辺の3辺にはバーミラーが設けられている。プラテン10の辺10a〜10cにはスライダの位置検出を行う複数のレーザ干渉計が固定配置されている。プラテンの一方の対向する辺10a,10bに配置されたレーザ干渉計はスライダのX軸方向の位置検出を行い、辺10cに配置されたレーザ干渉計はスライダのY軸方向の位置検出を行う。レーザ干渉計は、出射したレーザ光とこのレーザ光がスライダのバーミラーで反射されて戻ってくる反射光との干渉に基づき、スライダの位置を高精度に検出する。さらに詳しくは、レーザ干渉計は、反射光との干渉に基づいてレーザ干渉計とバーミラーとの間の距離に応じた検出信号を出力し、この検出信号に基づいてスライダの位置が算出される。   Bar mirrors are provided on three sides of the slider. A plurality of laser interferometers that detect the position of the slider are fixedly disposed on the sides 10 a to 10 c of the platen 10. The laser interferometers arranged on one opposing side 10a, 10b of the platen detect the position of the slider in the X-axis direction, and the laser interferometers arranged on the side 10c detect the position of the slider in the Y-axis direction. The laser interferometer detects the position of the slider with high accuracy based on the interference between the emitted laser light and the reflected light that is reflected by the bar mirror of the slider and returned. More specifically, the laser interferometer outputs a detection signal corresponding to the distance between the laser interferometer and the bar mirror based on the interference with the reflected light, and the position of the slider is calculated based on the detection signal.

レーザ干渉計で位置検出が可能なスライダの位置範囲は、スライダのバーミラーからの反射光がそのレーザ干渉計から外れる直前位置までに限られる。そのため、レーザ干渉計をスライダの移動方向に沿って複数設け、スライダの移動に伴いこれら複数のレーザ干渉計の中から使用すべきレーザ干渉計を切り替えることによって、スライダが移動可能な全エリアにおいてスライダの位置検出を可能としている。   The position range of the slider whose position can be detected by the laser interferometer is limited to a position immediately before the reflected light from the bar mirror of the slider comes off the laser interferometer. Therefore, a plurality of laser interferometers are provided along the moving direction of the slider, and the slider is moved in all areas where the slider can move by switching the laser interferometer to be used from among the plurality of laser interferometers as the slider moves. Position detection is possible.

なお、プラテン10の辺10a,10bに配置されたレーザ干渉計は、それぞれスライダのX軸方向の位置を2点ずつ検出して、スライダの回転角θを求めている。検出されたスライダの位置および回転角θは、平面モータにフィードバックされ、スライダの位置制御や姿勢制御に利用される。下記特許文献1には、レーザ干渉計を用いてスライダの位置検出を行う位置決め装置が記載されている。   The laser interferometers arranged on the sides 10a and 10b of the platen 10 each detect the position of the slider in the X-axis direction at two points to determine the rotation angle θ of the slider. The detected position and rotation angle θ of the slider are fed back to the planar motor and used for slider position control and attitude control. Patent Document 1 listed below describes a positioning device that detects the position of a slider using a laser interferometer.

特開2007−163418JP2007-163418A

しかしながら、位置決め装置の用途によっては、必ずしもスライダが移動可能な全エリアにおいて高い位置決め精度が必要とされているわけではなく、特定のエリアにおいてのみ高い位置決め精度を得ることができればよいという場合がある。このような場合には、その特定エリア以外のエリアでは、レーザ干渉計の位置検出精度はオーバースペックとなる。   However, depending on the use of the positioning device, high positioning accuracy is not necessarily required in all areas in which the slider can move, and it may be necessary to obtain high positioning accuracy only in a specific area. In such a case, the position detection accuracy of the laser interferometer becomes overspec in areas other than the specific area.

レーザ干渉計は、高価な部品であるため、オーバースペックとなるエリアについてまでレーザ干渉計を用いて位置検出を行うのは、位置決め装置の不要なコストアップにつながる。   Since the laser interferometer is an expensive part, detecting the position using the laser interferometer up to an over-special area leads to unnecessary cost increase of the positioning device.

また、上記のようにレーザ干渉計の切り替えを伴う位置検出システムでは、レーザ干渉計切り替え時に発生する誤差が位置検出値に累積されていってしまう。そのため、高い位置決め精度が必要とされる特定エリアにおいても、レーザ干渉計本来の位置検出精度が得られない場合がある。   Further, in the position detection system that involves switching of the laser interferometer as described above, errors that occur at the time of laser interferometer switching are accumulated in the position detection value. Therefore, the original position detection accuracy of the laser interferometer may not be obtained even in a specific area where high positioning accuracy is required.

本発明は、従来装置の問題をなくし、特定のエリアでは高い位置決め精度を確保しつつ、全体として比較的安価な位置決め装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a positioning device that is relatively inexpensive as a whole while eliminating the problems of conventional devices and ensuring high positioning accuracy in a specific area.

上記のような目的を達成するために、請求項1の発明は、
位置制御されるスライダと、このスライダと対向する面に磁極の歯が形成されて前記スライダと平面モータを構成するプラテンとを備えた位置決め装置において、
前記スライダの位置を検出する第1の位置検出装置と、
前記プラテンの特定のエリア内における前記スライダの位置を前記第1の位置検出装置よりも高い精度で検出する第2の位置検出装置と、
前記スライダの位置に応じて前記第1または第2の位置検出装置のいずれかを選択する切替手段と、
位置指令値および前記切替手段で選択された位置検出装置で検出される位置検出値に基づいて前記スライダの位置制御を実行する位置制御部と、
を備えたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the invention of claim 1
In a positioning apparatus comprising a slider whose position is controlled, and a platen in which magnetic pole teeth are formed on a surface facing the slider and the slider and a flat motor are configured.
A first position detecting device for detecting the position of the slider;
A second position detection device that detects the position of the slider in a specific area of the platen with higher accuracy than the first position detection device;
Switching means for selecting either the first or second position detecting device according to the position of the slider;
A position control unit that performs position control of the slider based on a position command value and a position detection value detected by a position detection device selected by the switching means;
It is provided with.

請求項2の発明は、
請求項1に記載の位置決め装置において、前記第1および第2の位置検出装置の切り替え前後で前記スライダを同じ位置に維持する補正を行う補正部を備えたことを特徴とする。
The invention of claim 2
The positioning device according to claim 1, further comprising a correction unit that performs correction to maintain the slider at the same position before and after switching between the first and second position detection devices.

請求項3の発明は、
請求項2に記載の位置決め装置において、前記補正部は、前記切替手段が位置検出装置を切り替える際に、前記第1の位置検出装置の検出誤差に基づいて、前記位置指令値および前記第2の位置検出装置で検出される位置検出値を補正することを特徴とする。
The invention of claim 3
The positioning device according to claim 2, wherein the correction unit, when the switching unit switches the position detection device, based on a detection error of the first position detection device, The position detection value detected by the position detection device is corrected.

請求項4の発明は、
請求項3に記載の位置決め装置において、前記第1の位置検出装置の検出誤差は、前記プラテンの前記スライダの現在位置に対応する歯に固有の検出誤差であることを特徴とする。
The invention of claim 4
4. The positioning device according to claim 3, wherein the detection error of the first position detection device is a detection error specific to a tooth corresponding to the current position of the slider of the platen.

請求項5の発明は、
請求項3に記載の位置決め装置において、前記第1の位置検出装置の検出誤差は、前記プラテンの歯ピッチに同期して現れる検出誤差であることを特徴とする。
The invention of claim 5
4. The positioning device according to claim 3, wherein the detection error of the first position detection device is a detection error that appears in synchronization with a tooth pitch of the platen.

請求項6の発明は、
請求項1〜5のいずれかに記載の位置決め装置において、前記第1の位置検出装置は前記スライダに設けられたレゾルバであり、
前記第2の位置検出装置はレーザ干渉計であることを特徴とする。
The invention of claim 6
The positioning device according to any one of claims 1 to 5, wherein the first position detection device is a resolver provided on the slider,
The second position detecting device is a laser interferometer.

請求項1の発明によれば、
第1の位置検出装置と、プラテンの特定のエリア内におけるスライダの位置を第1の位置検出装置よりも高い精度で検出する第2の位置検出装置とを備え、スライダの位置に応じてこれらの位置検出装置を使い分けることによって、特定のエリアでは高い位置決め精度を確保しつつ、全体として比較的安価な位置決め装置を提供することができる。
According to the invention of claim 1,
A first position detection device; and a second position detection device that detects the position of the slider in a specific area of the platen with higher accuracy than the first position detection device. By properly using the position detection device, it is possible to provide a relatively inexpensive positioning device as a whole while ensuring high positioning accuracy in a specific area.

請求項2の発明によれば、
前記第1および第2の位置検出装置の切り替え前後で前記スライダを同じ位置に維持する補正を行う補正部を備えているため、位置検出装置の切り替え時に発生するスライダの急激な移動を防止できる。
According to the invention of claim 2,
Since a correction unit that performs correction to maintain the slider at the same position before and after switching between the first and second position detection devices is provided, it is possible to prevent abrupt movement of the slider that occurs when the position detection device is switched.

請求項3の発明によれば、
前記補正部は、位置検出装置を切り替える際に、前記第1の位置検出装置の検出誤差に基づいて、前記位置指令値および前記第2の位置検出装置で検出される位置検出値を補正するため、第1の位置検出装置の検出誤差に起因して発生するスライダの急激な移動を防止できる。
According to the invention of claim 3,
The correction unit corrects the position command value and the position detection value detected by the second position detection device based on a detection error of the first position detection device when switching the position detection device. The abrupt movement of the slider caused by the detection error of the first position detecting device can be prevented.

請求項4の発明によれば、
前記第1の位置検出装置の検出誤差は、前記プラテンの前記スライダの現在位置に対応する歯に固有の検出誤差であるため、プラテンの歯に不揃いや加工誤差などがある場合でも、位置検出装置の切り替え位置によらず、スライダの急激な移動を確実に防止できる。
According to the invention of claim 4,
Since the detection error of the first position detection device is a detection error inherent to the tooth corresponding to the current position of the slider of the platen, the position detection device can be used even when the platen teeth are uneven or have a processing error. Regardless of the switching position, sudden movement of the slider can be reliably prevented.

請求項5の発明によれば、
前記第1の位置検出装置の検出誤差は、前記プラテンの歯ピッチに同期して現れる検出誤差であるため、位置検出装置の切り替え時のスライダ位置と、そのスライダ位置に対応するプラテンの歯との相対的な位置関係によらず、スライダの急激な移動を確実に防止できる。
According to the invention of claim 5,
Since the detection error of the first position detection device is a detection error that appears in synchronization with the tooth pitch of the platen, the slider position at the time of switching the position detection device and the platen tooth corresponding to the slider position Regardless of the relative positional relationship, abrupt movement of the slider can be reliably prevented.

請求項6の発明によれば、
第1の位置検出装置はレゾルバであり、第2の位置検出装置はレーザ干渉計であるため、レーザ干渉計で高い位置検出精度を確保するとともに、レゾルバにより位置決め装置全体の低コスト化を図ることができる。
According to the invention of claim 6,
Since the first position detection device is a resolver and the second position detection device is a laser interferometer, the laser interferometer ensures high position detection accuracy, and the resolver reduces the cost of the entire positioning device. Can do.

実施例1では、スライダの位置検出を行う第1の位置検出装置としてレゾルバを、第2の位置検出装置としてレーザ干渉計を利用する。レゾルバを構成する主な部品はコアとコイルであり、レーザ干渉計など他のセンサに比較して構造が簡単で安価である。また、レゾルバのコアとコイルはいずれも耐久性が大きいため、メンテナンスが容易である。まず、レゾルバの動作原理について説明する。   In the first embodiment, a resolver is used as the first position detection device that detects the position of the slider, and a laser interferometer is used as the second position detection device. The main components constituting the resolver are a core and a coil, and the structure is simple and inexpensive compared to other sensors such as a laser interferometer. In addition, since the resolver core and the coil are both highly durable, maintenance is easy. First, the operation principle of the resolver will be described.

図1はレゾルバが位置に応じた信号を出力する動作原理の説明図である。レゾルバのセンサ部200は、コア201と、このコア201に巻かれたコイル202で構成される。センサ部200はプラテン10上に所定の空隙を介して配置される。コア201のプラテン10と対向する面には、プラテン10の歯と同じピッチLで歯が形成されている。   FIG. 1 is an explanatory diagram of an operation principle in which a resolver outputs a signal corresponding to a position. The resolver sensor unit 200 includes a core 201 and a coil 202 wound around the core 201. The sensor unit 200 is disposed on the platen 10 via a predetermined gap. Teeth are formed on the surface of the core 201 facing the platen 10 at the same pitch L as the teeth of the platen 10.

プラテン10とコア201との間には、プラテン10の歯とコア201の歯の相対位置に応じたインピーダンスZが存在する。コイル201に励磁電圧として一定振幅の矩形電圧を入力すると、コア201が励磁されてプラテン10との間に磁気回路Bが形成される。この磁気回路BはインピーダンスZにより影響を受けるため、結果としてコイル202の端子間電圧はプラテン10とコア201の相対位置に応じて変化する。そこで、コイル202の端子間電圧を取り出し、その振幅を検出信号とする。   Between the platen 10 and the core 201, an impedance Z corresponding to the relative position of the teeth of the platen 10 and the teeth of the core 201 exists. When a rectangular voltage having a constant amplitude is input to the coil 201 as an excitation voltage, the core 201 is excited and a magnetic circuit B is formed between the coil 201 and the platen 10. Since the magnetic circuit B is affected by the impedance Z, as a result, the voltage between the terminals of the coil 202 changes according to the relative position of the platen 10 and the core 201. Therefore, the voltage between the terminals of the coil 202 is taken out and its amplitude is used as a detection signal.

図1の(a)は、コア201の歯とプラテン10の歯との対向する面積が最大、すなわち位相差が0°となる相対位置を示している。このときインピーダンスZは最小となり、検出信号は最大となる。
一方、図1の(b)は、コア201の歯とプラテン10の歯との対向する面積が最小、すなわち位相差が180°となる相対位置を示している。このときインピーダンスZは最大となり、検出信号は最小となる。
FIG. 1A shows a relative position where the facing area between the teeth of the core 201 and the teeth of the platen 10 is maximum, that is, the phase difference is 0 °. At this time, the impedance Z is minimized and the detection signal is maximized.
On the other hand, FIG. 1B shows a relative position where the facing area between the teeth of the core 201 and the teeth of the platen 10 is minimum, that is, the phase difference is 180 °. At this time, the impedance Z is maximized and the detection signal is minimized.

センサ部200がプラテン10上を移動すると、インピーダンスZは正弦波状に変化する。そのため、検出信号は、図1の(c)に示すように、ピッチLの周期で正弦波状に変化する。   When the sensor unit 200 moves on the platen 10, the impedance Z changes in a sine wave shape. Therefore, the detection signal changes in a sine wave shape with a pitch L as shown in FIG.

レゾルバは、このようなセンサ部200を2組用意し、図2に示すようにプラテン10に対する位相を90°ずらして配置して構成する。センサ部200の一方をsin相、他方をcos相とし、これらのセンサ部から得られる検出信号のアークタンジェントを取ることによって、レゾルバのプラテン10に対する位相差、すなわちプラテン10の歯に対する相対位置が求められる。なお、プラテン10のどの歯に対する相対位置かは、検出信号が原点位置から繰り返す正弦波の山の数をカウントして求められる。以上より、レゾルバによって原点位置からの位置に応じた信号を取り出すことができる。なお、一般的にレーザ干渉計の方がレゾルバよりも高い位置検出精度を有する。   The resolver is configured by preparing two sets of such sensor units 200 and shifting the phase with respect to the platen 10 by 90 ° as shown in FIG. The phase difference of the resolver with respect to the platen 10, that is, the relative position of the platen 10 with respect to the teeth is obtained by taking one of the sensor units 200 as the sin phase and the other as the cos phase and taking the arc tangent of the detection signals obtained from these sensor units. It is done. The relative position of the platen 10 with respect to which tooth is obtained by counting the number of sine wave peaks that the detection signal repeats from the origin position. As described above, a signal corresponding to the position from the origin position can be extracted by the resolver. In general, a laser interferometer has higher position detection accuracy than a resolver.

図3は、本実施例の位置決め装置の構成を示す上面図である。
プラテン10上にエアベアリングを利用してスライダ1が搭載されている。プラテン10とスライダ1のそれぞれの対向面にはX軸方向およびY軸方向に一定ピッチLの歯10a,1aが形成されており、平面モータを構成している。スライダ1は、プラテン10上でこの平面モータによりX軸方向、Y軸方向およびθ軸方向に位置制御される。なお、本図ではプラテン10の歯を一部省略して示している。
FIG. 3 is a top view showing the configuration of the positioning device of the present embodiment.
The slider 1 is mounted on the platen 10 using an air bearing. Teeth 10a, 1a having a constant pitch L are formed on the opposing surfaces of the platen 10 and the slider 1 in the X-axis direction and the Y-axis direction to constitute a planar motor. The position of the slider 1 is controlled on the platen 10 in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the θ-axis direction by the planar motor. In this figure, some of the teeth of the platen 10 are omitted.

スライダ1は矩形状をしており、スライダ1の各辺はX軸またはこのX軸に直交するY軸のいずれかに沿うようにプラテン10上に配置されている。   The slider 1 has a rectangular shape, and each side of the slider 1 is disposed on the platen 10 along either the X axis or the Y axis perpendicular to the X axis.

プラテン10のY軸に沿った辺にレーザ干渉計20aが、X軸に沿った辺にレーザ干渉計20bが固定配置されている。また、スライダ1のレーザ干渉計20aに対向する側辺にバーミラー21aが、レーザ干渉計20bに対向する側辺にバーミラー21bが搭載されている。レーザ干渉計20aはスライダ1のX位置を検出し、レーザ干渉計20bはスライダ1のY位置を検出する。また、レーザ干渉計20bではスライダ1のY位置を2点検出し、検出されたY位置の差分に基づいてスライダ1の回転角θが検出される。   A laser interferometer 20a is fixedly arranged on the side along the Y axis of the platen 10, and a laser interferometer 20b is fixedly arranged on the side along the X axis. A bar mirror 21a is mounted on the side of the slider 1 facing the laser interferometer 20a, and a bar mirror 21b is mounted on the side facing the laser interferometer 20b. The laser interferometer 20a detects the X position of the slider 1, and the laser interferometer 20b detects the Y position of the slider 1. Further, the laser interferometer 20b inspects two Y positions of the slider 1 and detects the rotation angle θ of the slider 1 based on the difference between the detected Y positions.

さらに、レゾルバ30a〜30cがスライダ1に設けられている。レゾルバ30a〜30cは、スライダ1のプラテン10との対向面の辺縁部に埋設されている。レゾルバ30a,30bは、それぞれスライダ1のX軸方向の中央部に埋設され、レゾルバ30cはスライダ1のY軸方向の中央部に埋設されている。レゾルバ30a,30bは、プラテン10との対向面にX軸方向に一定ピッチLで歯が形成されており、スライダ1の中央部のX位置を検出する。レゾルバ30cは、プラテン10との対向面にY軸方向に一定ピッチLで歯が形成されており、スライダ1の中央部のY位置を検出する。また、レゾルバ30a,30bで検出されたX位置の差分に基づいて、スライダ1の回転角θが検出される。   Furthermore, resolvers 30 a to 30 c are provided on the slider 1. The resolvers 30 a to 30 c are embedded in the edge portion of the surface of the slider 1 facing the platen 10. The resolvers 30a and 30b are embedded in the center portion of the slider 1 in the X-axis direction, and the resolver 30c is embedded in the center portion of the slider 1 in the Y-axis direction. The resolvers 30 a and 30 b have teeth formed at a constant pitch L in the X-axis direction on the surface facing the platen 10, and detect the X position of the center portion of the slider 1. The resolver 30 c has teeth formed at a constant pitch L in the Y-axis direction on the surface facing the platen 10, and detects the Y position of the center portion of the slider 1. Further, the rotation angle θ of the slider 1 is detected based on the difference between the X positions detected by the resolvers 30a and 30b.

レーザ干渉計20a,20bの検出信号Oia,Oibと、レゾルバ30a〜30cの検出信号Ora,Orb,Orcは、それぞれ図示しないA/D変換器によりデジタル化され、その後図示しない演算部100に入力される。演算部100は、これらの検出信号に基づいてスライダ1の現在位置および回転角を算出する。算出されたスライダ1の現在位置と回転角は、平面モータにフィードバックされ、スライダ1の位置制御や姿勢制御に利用される。   The detection signals Oia and Oib of the laser interferometers 20a and 20b and the detection signals Ora, Orb and Orc of the resolvers 30a to 30c are digitized by A / D converters (not shown) and then input to the arithmetic unit 100 (not shown). The The calculation unit 100 calculates the current position and rotation angle of the slider 1 based on these detection signals. The calculated current position and rotation angle of the slider 1 are fed back to the planar motor and used for position control and attitude control of the slider 1.

以下、レーザ干渉計20a,20bを代表するときはレーザ干渉計20と記載し、レゾルバ30a〜30cを代表するときはレゾルバ30と記載する。また、検出信号Oia,Oibを代表するときは検出信号Oiと記載し、検出信号Ora,Orb,Orcを代表するときは検出信号Orと記載する。   Hereinafter, the laser interferometers 20a and 20b are described as the laser interferometer 20, and the resolvers 30a to 30c are described as the resolver 30. Further, when the detection signals Oia and Oib are represented, they are described as a detection signal Oi, and when the detection signals Ora, Orb and Orc are represented, they are described as a detection signal Or.

図4は、プラテン10のエリア分けを示す図である。エリアAは、プラテン10上でスライダ1に高い位置決め精度が必要とされるエリアである。エリアBは、プラテン10上のエリアA以外のエリアであり、エリアAほど高い位置決め精度が必要とされないエリアである。
以下、「スライダ1がエリアAに位置する」とはスライダ1の全体がエリアA内に入っている状態を意味し、「スライダ1がエリアBに位置する」とはスライダ1の少なくとも一部がエリアAから出ている状態を意味する。
FIG. 4 is a diagram illustrating area division of the platen 10. Area A is an area where high positioning accuracy is required for the slider 1 on the platen 10. Area B is an area other than area A on platen 10 and is an area that does not require as high positioning accuracy as area A.
Hereinafter, “slider 1 is located in area A” means that the entire slider 1 is in area A, and “slider 1 is located in area B” means that at least a part of slider 1 is It means the state that is out of area A.

スライダ1がエリアAに位置する場合には、レーザ干渉計20によりスライダ1の位置検出を行う。スライダ1がエリアBに位置する場合には、レゾルバ30によりスライダ1の位置検出を行う。   When the slider 1 is located in the area A, the position of the slider 1 is detected by the laser interferometer 20. When the slider 1 is located in the area B, the resolver 30 detects the position of the slider 1.

なお、レゾルバ30はプラテン10上の全面で位置検出が可能であるが、レーザ干渉計20はスライダ1の位置によって位置検出できる範囲が限定される。レーザ干渉計20により位置検出が可能なスライダ1のY軸方向の範囲は、バーミラー21aからの反射光がレーザ干渉計20aから外れる直前位置までである。また、スライダ1のX軸方向の範囲は、バーミラー21bからの反射光がレーザ干渉計20bから外れる直前位置までとなる。そのため、エリアAの位置やサイズに合わせて、レーザ干渉計20a,20bの取り付け位置や、バーミラー21a,21bのサイズ、スライダ1のサイズを決定する。
スライダ1がエリアBに位置している場合には、レーザ干渉計20による位置検出値は不定となる。
The resolver 30 can detect the position on the entire surface of the platen 10, but the laser interferometer 20 has a limited range in which the position can be detected depending on the position of the slider 1. The range of the slider 1 in which the position can be detected by the laser interferometer 20 is the position immediately before the reflected light from the bar mirror 21a is removed from the laser interferometer 20a. The range of the slider 1 in the X-axis direction is up to a position immediately before the reflected light from the bar mirror 21b is detached from the laser interferometer 20b. Therefore, the attachment positions of the laser interferometers 20a and 20b, the sizes of the bar mirrors 21a and 21b, and the size of the slider 1 are determined according to the position and size of the area A.
When the slider 1 is located in the area B, the position detection value by the laser interferometer 20 is indefinite.

図5は本実施例の位置決め装置の詳細を示すブロック図である。
位置決め装置は、位置制御部102、スライダ1、レーザ干渉計20、レゾルバ30、演算部100から構成されている。演算部100は、測定処理部100a,100b、切替スイッチ100c、座標確立部100d、補正部100eから構成されている。位置決め装置は、上位装置から各種の指示信号やスライダ1の位置指令値が与えられる。
FIG. 5 is a block diagram showing details of the positioning device of the present embodiment.
The positioning device includes a position control unit 102, a slider 1, a laser interferometer 20, a resolver 30, and a calculation unit 100. The computing unit 100 includes measurement processing units 100a and 100b, a changeover switch 100c, a coordinate establishment unit 100d, and a correction unit 100e. The positioning device is given various instruction signals and position command values for the slider 1 from the host device.

位置指令値生成部101は、上位装置に含まれ、スライダ1の位置指令値Pcmdを生成する。位置制御部102は、位置指令値生成部101から位置指令値Pcmdが与えられる。位置指令値Pcmdはスライダ1を移動させたい座標(Xcmd,Ycmd,θcmd)、すなわち目標位置を示す信号である。位置制御部102は、位置指令値Pcmdをスライダ1の平面モータに供給する駆動電流に変換し、スライダ1を移動させる。   The position command value generation unit 101 is included in the host device and generates a position command value Pcmd for the slider 1. The position control unit 102 is given a position command value Pcmd from the position command value generation unit 101. The position command value Pcmd is a signal indicating coordinates (Xcmd, Ycmd, θcmd) to which the slider 1 is to be moved, that is, a target position. The position control unit 102 converts the position command value Pcmd into a drive current supplied to the planar motor of the slider 1 and moves the slider 1.

レーザ干渉計20の検出信号Oiは、測定処理部100aに入力される。また、レゾルバ30の検出信号Orは、測定処理部100bに入力される。測定処理部100aは、入力された検出信号Oiを位置検出値Pi(Xi,Yi,θi)に変換し、切替手段100cに出力する。また、測定処理部100bは、入力された検出信号Orを位置検出値Pr(Xr,Yr,θr)に変換し、切替スイッチ100cに出力する。   The detection signal Oi from the laser interferometer 20 is input to the measurement processing unit 100a. Further, the detection signal Or of the resolver 30 is input to the measurement processing unit 100b. The measurement processing unit 100a converts the input detection signal Oi into a position detection value Pi (Xi, Yi, θi) and outputs it to the switching means 100c. Further, the measurement processing unit 100b converts the input detection signal Or into a position detection value Pr (Xr, Yr, θr), and outputs it to the changeover switch 100c.

切替スイッチ100cは、上位装置より与えられる切替指示信号S1に従って位置検出値Pi,Prのいずれかに切り替える。切替スイッチ100cは、選択した位置検出値を位置フィードバック信号Pfbとして位置制御部102にフィードバックする。位置制御部102は、フィードバック信号Pfbと位置指令値Pcmdとの偏差がゼロとなるように、スライダ1をサーボ制御する。   The changeover switch 100c changes over to one of the position detection values Pi and Pr in accordance with a change instruction signal S1 given from the host device. The changeover switch 100c feeds back the selected position detection value to the position control unit 102 as a position feedback signal Pfb. The position control unit 102 servo-controls the slider 1 so that the deviation between the feedback signal Pfb and the position command value Pcmd becomes zero.

切替指示信号S1は、スライダ1がエリアBからエリアAに移動する場合には位置検出値Piを選択するように切り替えられ、エリアAからエリアBに移動する場合には位置検出値Prを選択するように切り替えられる。これにより、レーザ干渉計20とレゾルバ30が切り替えられる。   The switching instruction signal S1 is switched to select the position detection value Pi when the slider 1 moves from the area B to the area A, and selects the position detection value Pr when the slider 1 moves from the area A to the area B. Are switched as follows. Thereby, the laser interferometer 20 and the resolver 30 are switched.

次に、レーザ干渉計20とレゾルバ30の切り替え時の動作について説明する。
スライダ1がエリアBからエリアAへ移動する場合と、エリアAからエリアBに移動する場合について順に説明する。
Next, the operation at the time of switching between the laser interferometer 20 and the resolver 30 will be described.
A case where the slider 1 moves from the area B to the area A and a case where the slider 1 moves from the area A to the area B will be described in order.

<エリアBからエリアAへ移動する場合>
レゾルバ30による位置検出から、レーザ干渉計20による位置検出を確立する動作を行う。
<When moving from area B to area A>
An operation of establishing position detection by the laser interferometer 20 from position detection by the resolver 30 is performed.

レーザ干渉計20はエリアBでは位置検出値が不定であり、また、レーザ干渉計20はインクリメント式の検出装置である。そのため、レーザ干渉計20による位置検出を確立するためには、スライダ1がエリアAに進入後、レーザ干渉計20による位置検出を開始する時点で初期値を与える必要がある(ステップST1)。   Laser interferometer 20 has an indefinite position detection value in area B, and laser interferometer 20 is an increment type detection device. Therefore, in order to establish position detection by the laser interferometer 20, it is necessary to give an initial value at the time when the position detection by the laser interferometer 20 is started after the slider 1 enters the area A (step ST1).

座標確立部100dは、測定処理部100bから位置検出値Prが入力される。また、座標確立部100dは、スライダ1がエリアAに進入後、上位装置よりレーザ干渉計20による位置検出の確立を指示する確立指示信号S2が入力される。座標確立部100dは、確立指示信号S2の入力に応じて位置検出値Prを測定処理部100aに出力する。測定処理部100aは、入力された位置検出値Prを位置検出値Piにプリセットする(ステップST2)。その後、切り替え手段100cは、位置検出値をPrからPiに切り替える(ステップST3)。   The coordinate establishing unit 100d receives the position detection value Pr from the measurement processing unit 100b. Further, after the slider 1 enters the area A, the coordinate establishing unit 100d receives an establishment instruction signal S2 instructing establishment of position detection by the laser interferometer 20 from the host device. The coordinate establishing unit 100d outputs the position detection value Pr to the measurement processing unit 100a in response to the input of the establishment instruction signal S2. The measurement processing unit 100a presets the input position detection value Pr as the position detection value Pi (step ST2). Thereafter, the switching unit 100c switches the position detection value from Pr to Pi (step ST3).

ところで、レゾルバ30でスライダ1の位置検出を行うと、位置検出値Prにはスライダ1の位置に応じた位置検出誤差E(Ex,Ey,Eθ)が現れる。位置検出値Piに位置検出値Prをプリセットすることにより、その後の位置検出値Piにも継続して位置検出誤差Eが付加されてしまう。エリアAでは高い位置検出精度が必要とされるため、位置検出値Piからこの位置検出誤差Eを補正する必要がある。   By the way, when the position of the slider 1 is detected by the resolver 30, a position detection error E (Ex, Ey, Eθ) corresponding to the position of the slider 1 appears in the position detection value Pr. By presetting the position detection value Pr to the position detection value Pi, the position detection error E is continuously added to the subsequent position detection value Pi. Since high position detection accuracy is required in area A, it is necessary to correct this position detection error E from the position detection value Pi.

補正部100eは位置検出誤差Eの補正を行う。補正部100eには、測定処理部100bから位置検出値Prが入力される。また、補正部100eは、上位装置より位置検出誤差Eの補正を指示する補正指示信号S3が入力される。補正部100eには、位置検出値Prと、その位置における位置検出誤差Eとをあらかじめ対応付けておく。補正部100eは、補正指示信号S3の入力に応じて位置検出値Prに対応する位置検出誤差Eを求め、測定処理部100aに出力する。測定処理部100aは、プリセットした位置検出値Prから位置検出誤差Eを減算し、位置検出値Piの初期値とする(ステップST4)。これにより、位置検出値Piから位置検出誤差Eが除去される。すなわち、切り替え後の位置フィードバック信号Pfbから位置検出誤差Eが除去される。   The correction unit 100e corrects the position detection error E. The position detection value Pr is input from the measurement processing unit 100b to the correction unit 100e. Further, the correction unit 100e receives a correction instruction signal S3 for instructing correction of the position detection error E from the host device. In the correction unit 100e, the position detection value Pr and the position detection error E at that position are associated in advance. The correction unit 100e obtains a position detection error E corresponding to the position detection value Pr according to the input of the correction instruction signal S3, and outputs the position detection error E to the measurement processing unit 100a. The measurement processing unit 100a subtracts the position detection error E from the preset position detection value Pr to obtain an initial value of the position detection value Pi (step ST4). Thereby, the position detection error E is removed from the position detection value Pi. That is, the position detection error E is removed from the position feedback signal Pfb after switching.

なお、位置検出値Piを位置検出誤差Eで補正することにより、位置フィードバック信号Pfbと位置指令値Pcmdの値が異なる値となる。位置フィードバック信号Pfbと位置指令値Pcmdを同じ値に保つため、位置指令値Pcmdに対しても位置検出誤差Eの補正を行う。   By correcting the position detection value Pi with the position detection error E, the position feedback signal Pfb and the position command value Pcmd become different values. In order to keep the position feedback signal Pfb and the position command value Pcmd at the same value, the position detection error E is also corrected for the position command value Pcmd.

補正部100eは、測定処理部100aとともに位置指令値生成部101にも位置検出誤差Eを出力する。位置指令値生成部101は、位置指令値Pcmdから位置検出誤差Eを減算し、これを新しい位置指令値Pcmdとして出力する(ステップST5)。これにより、切替スイッチ100cによる切り替えの前後において、位置指令値Pcmdと位置フィードバック信号Pfbが一致した状態が保たれる。   The correction unit 100e outputs the position detection error E to the position command value generation unit 101 together with the measurement processing unit 100a. The position command value generation unit 101 subtracts the position detection error E from the position command value Pcmd, and outputs this as a new position command value Pcmd (step ST5). Thereby, the position command value Pcmd and the position feedback signal Pfb are kept in agreement before and after switching by the changeover switch 100c.

なお、ステップST4とステップST5は、同時に行う。位置指令値Pcmdと位置フィードバック信号Pfbが乖離する期間が生じると、位置指令値Pcmdと位置フィードバック信号Pfbの偏差が瞬間的に変化する。位置制御部102は、偏差が瞬間的に変化したことに起因してスライダ1を急激に移動させてしまい、スライダ1上に搭載されたワークが過大な加速度を受け損傷する場合があるためである。   Step ST4 and step ST5 are performed simultaneously. When a period in which the position command value Pcmd and the position feedback signal Pfb deviate occurs, the deviation between the position command value Pcmd and the position feedback signal Pfb changes instantaneously. This is because the position control unit 102 suddenly moves the slider 1 due to an instantaneous change in the deviation, and the workpiece mounted on the slider 1 may be damaged due to excessive acceleration. .

ステップST2〜ST5までの処理は、スライダ1をプラテン10の同一地点に位置させた状態で行う。さらに、ステップST4とステップST5は、ステップST3の直後、またはステップST3と同時に行う。
以上により、レーザ干渉計20による位置検出が確立される。
Steps ST2 to ST5 are performed in a state where the slider 1 is positioned at the same point on the platen 10. Further, step ST4 and step ST5 are performed immediately after step ST3 or simultaneously with step ST3.
As described above, position detection by the laser interferometer 20 is established.

<エリアAからエリアBへ移動する場合>
レーザ干渉計20による位置検出から、レゾルバ30による位置検出に移行する動作を行う。
<When moving from area A to area B>
An operation of shifting from position detection by the laser interferometer 20 to position detection by the resolver 30 is performed.

レゾルバ30による位置検出に移行する動作は、スライダ1がエリアAに位置した状態で行う。スライダ1がエリアAに位置しているときは、位置検出値Pi,Prの両方が得られる。位置検出値Prには位置検出誤差Eが含まれている。この位置検出誤差Eはスライダ1の位置に依存するため、レーザ干渉計20の確立時に補正に利用した位置検出誤差値と異なる。そのため、通常、位置検出値Piと位置検出値Prは一致しない(ステップST6)。   The operation of shifting to position detection by the resolver 30 is performed in a state where the slider 1 is positioned in the area A. When the slider 1 is located in the area A, both position detection values Pi and Pr are obtained. The position detection value Pr includes a position detection error E. Since this position detection error E depends on the position of the slider 1, it differs from the position detection error value used for correction when the laser interferometer 20 is established. Therefore, usually, the position detection value Pi and the position detection value Pr do not match (step ST6).

この状態で切替スイッチ100cを位置検出値PiからPrへと切り替えると、切り替え前後で位置フィードバック信号が乖離する。そのため、再度補正部100eにより位置検出誤差Eの補正を行う。   In this state, when the changeover switch 100c is switched from the position detection value Pi to Pr, the position feedback signal diverges before and after the changeover. Therefore, the position detection error E is corrected again by the correction unit 100e.

補正部100eには、再度上位装置より補正指示信号S3が入力され、位置検出値Prに対応する位置検出誤差Eを求める。補正部100eは、求めた位置検出誤差Eを測定処理部100aに出力する。測定処理部100aは、現在の位置検出値Piに位置検出誤差Eを加算し、新しい位置検出値Piとして出力する(ステップST7)。これにより、位置検出値Piは位置検出値Prと一致する。   The correction instruction signal S3 is input again to the correction unit 100e from the host device, and a position detection error E corresponding to the position detection value Pr is obtained. The correction unit 100e outputs the obtained position detection error E to the measurement processing unit 100a. The measurement processing unit 100a adds the position detection error E to the current position detection value Pi and outputs it as a new position detection value Pi (step ST7). As a result, the position detection value Pi matches the position detection value Pr.

さらに、補正部100eは、位置指令値生成部101に位置検出誤差Eを出力する。位置指令値生成部101は、位置指令値Pcmdに位置検出誤差Eを加算し、これを新しい位置指令値Pcmdとして出力する(ステップST8)。ステップST8はステップST7と同時に行う。その後、切り替え手段100cは、位置検出値をPiからPrに切り替える(ステップST9)。これにより、切替スイッチ100cによる切り替えの前後において、位置指令値Pcmdと位置フィードバック信号Pfbが一致した状態が保たれる。   Further, the correction unit 100e outputs a position detection error E to the position command value generation unit 101. The position command value generation unit 101 adds the position detection error E to the position command value Pcmd, and outputs this as a new position command value Pcmd (step ST8). Step ST8 is performed simultaneously with step ST7. Thereafter, the switching unit 100c switches the position detection value from Pi to Pr (step ST9). As a result, the position command value Pcmd and the position feedback signal Pfb are kept in agreement before and after switching by the changeover switch 100c.

ステップST7〜ST9の処理は、スライダ1をプラテン10の同一地点に位置させた状態で行う。さらに、ステップST7とST8は、ステップST9の直前またはST9と同時に行う。
以上により、レゾルバ30による位置検出への移行が完了する。
その後、スライダ1がエリアAから出ると、レーザ干渉計20では検出信号Oiが得られなくなり、位置検出値Piは不定となる。
Steps ST7 to ST9 are performed in a state where the slider 1 is positioned at the same point on the platen 10. Further, steps ST7 and ST8 are performed immediately before step ST9 or simultaneously with ST9.
Thus, the transition to position detection by the resolver 30 is completed.
Thereafter, when the slider 1 leaves the area A, the laser interferometer 20 cannot obtain the detection signal Oi, and the position detection value Pi becomes indefinite.

なお、図5では位置指令値生成部101、位置制御部102および演算部100を機能ブロックのみで示しているが、実際にはCPUで構成される。   In FIG. 5, the position command value generation unit 101, the position control unit 102, and the calculation unit 100 are shown only by functional blocks.

図6は位置検出装置の切り替え時における各信号の値の変化を示す図であり、(a)はスライダ1がエリアBからエリアAへ移動する場合、(b)はスライダ1がエリアAからエリアBへ移動する場合の信号の変化である。なお、簡単のためX軸方向の値のみ示す。   6A and 6B are diagrams showing changes in the values of the respective signals when the position detection device is switched. FIG. 6A shows a case where the slider 1 moves from the area B to the area A. FIG. This is a change in signal when moving to B. For simplicity, only the value in the X-axis direction is shown.

ステップST1において、位置指令値Xcmdおよび位置検出値Xrはともに10000である。レーザ干渉計20は確立前のため位置検出値Xiは不定である。位置検出値Xr=10000のときの位置検出誤差Ex=+50であり、スライダ1は実際にはX=9950に位置している。   In step ST1, the position command value Xcmd and the position detection value Xr are both 10000. Since the laser interferometer 20 is not established, the position detection value Xi is indefinite. The position detection error Ex = + 50 when the position detection value Xr = 10000, and the slider 1 is actually positioned at X = 9950.

位置検出値Xrの値が位置検出値XiにプリセットされてXi=10000となる(ステップST2)。その後、切替スイッチ100cにより位置検出装置がレゾルバ30からレーザ干渉計20に切り替えられる(ステップST3)。また、位置検出値Xiから位置検出誤差Exが減算されてXi=9950となり(ステップST4)、位置指令値Xcmdから位置検出誤差Exが減算されてXcmd=9950となる(ステップST5)。ステップST4とステップST5は同時に行われるため、切り替えの前後において位置指令値Xcmdと位置フィードバック信号Xfbは常に一致している。そのため、切り替え前後でスライダ1は移動しない。   The position detection value Xr is preset to the position detection value Xi, and Xi = 10000 (step ST2). Thereafter, the position detection device is switched from the resolver 30 to the laser interferometer 20 by the changeover switch 100c (step ST3). Further, the position detection error Ex is subtracted from the position detection value Xi to obtain Xi = 9950 (step ST4), and the position detection error Ex is subtracted from the position command value Xcmd to obtain Xcmd = 9950 (step ST5). Since step ST4 and step ST5 are performed simultaneously, the position command value Xcmd and the position feedback signal Xfb always match before and after switching. Therefore, the slider 1 does not move before and after switching.

ステップST6において、位置指令値Xcmd、位置検出値Xiおよびスライダ位置はすべて20000である。スライダ1がこの位置にあるとき、レゾルバ30による位置検出では位置検出値Xr=19900であり、位置検出誤差Ex=−100である。   In step ST6, the position command value Xcmd, the position detection value Xi, and the slider position are all 20000. When the slider 1 is at this position, in the position detection by the resolver 30, the position detection value Xr = 19900 and the position detection error Ex = −100.

位置検出値Xiに位置検出誤差Exが加算されてXi=19900となり(ステップST7)、位置指令値Xcmdに位置検出誤差Exが加算されてXcmd=19900となる(ステップST8)。その後、切替スイッチ100cにより位置検出装置がレーザ干渉計20からレゾルバ30に切り替えられる(ステップST9)。ステップST7とステップST8は同時に行われるため、切り替えの前後において位置指令値Xcmdと位置フィードバック信号Xfbは常に一致している。そのため、切り替え前後でスライダ1は移動しない。   The position detection error Ex is added to the position detection value Xi to be Xi = 19900 (step ST7), and the position detection error Ex is added to the position command value Xcmd to be Xcmd = 19900 (step ST8). Thereafter, the position detection device is switched from the laser interferometer 20 to the resolver 30 by the changeover switch 100c (step ST9). Since step ST7 and step ST8 are performed simultaneously, the position command value Xcmd and the position feedback signal Xfb always match before and after switching. Therefore, the slider 1 does not move before and after switching.

次に、位置検出誤差E(Ex,Ey,Eθ)について説明する。
本実施例では、位置検出誤差Eを、プラテンの歯ピッチに同期して現れる誤差(位置検出誤差Ea)と、プラテン10の各歯それぞれに固有の誤差(位置検出誤差Eb)の2種類に分けて誤差値を求める。位置検出誤差Ea,Ebは、X軸方向、Y軸方向およびθ軸方向それぞれについて測定する。なお、位置検出誤差Eの取得は、位置決め装置の製造時など、実稼動に先立って行う。
Next, the position detection error E (Ex, Ey, Eθ) will be described.
In this embodiment, the position detection error E is divided into two types, an error that appears in synchronization with the tooth pitch of the platen (position detection error Ea) and an error that is unique to each tooth of the platen 10 (position detection error Eb). To obtain the error value. The position detection errors Ea and Eb are measured for each of the X-axis direction, the Y-axis direction, and the θ-axis direction. The position detection error E is acquired prior to actual operation, such as when the positioning device is manufactured.

まず、位置検出誤差Ea(Eax,Eay,Eaθ)について説明する。
レゾルバ30は、プラテン10の歯10aに対する相対位置に基づいて検出信号を生成する。そのため、レゾルバ30の検出信号には、歯ピッチLの周期で位置検出誤差が現れる。
First, the position detection error Ea (Eax, Eay, Eaθ) will be described.
The resolver 30 generates a detection signal based on the relative position of the platen 10 with respect to the teeth 10a. Therefore, a position detection error appears in the detection signal of the resolver 30 in the period of the tooth pitch L.

図7はプラテン10の歯10aの拡大図である。歯10aを格子状に複数のエリアに分割し、各格子点にスライダ1を位置決めしたときに発生する位置検出誤差Eaを測定する。位置検出誤差は、スライダ1の上面に位置決め用マークを付しておき、プラテン10の上方に固定したカメラでその位置決め用マークの実際の位置を観測し、観測された位置を理論値と比較することによって求める。なお、歯10a内におけるX軸方向およびY軸方向の位置を示す場合に、添え字pを付加する。   FIG. 7 is an enlarged view of the teeth 10 a of the platen 10. The tooth 10a is divided into a plurality of areas in a lattice shape, and a position detection error Ea that occurs when the slider 1 is positioned at each lattice point is measured. For the position detection error, a positioning mark is attached to the upper surface of the slider 1, the actual position of the positioning mark is observed with a camera fixed above the platen 10, and the observed position is compared with a theoretical value. Ask by. Note that the suffix p is added to indicate the position in the X-axis direction and the Y-axis direction in the tooth 10a.

図7において、位置(Xp[m],Yp[n])の格子点をB1、位置(Xp[m],Yp[n+1])の格子点をB2、位置(Xp[m+1],Yp[n+1])の格子点をB3、位置(Xp[m+1],Yp[n])の格子点をB4とする。   In FIG. 7, the lattice point at the position (Xp [m], Yp [n]) is B1, the lattice point at the position (Xp [m], Yp [n + 1]) is B2, and the position (Xp [m + 1]) , Yp [n + 1]) is B3, and the lattice point at position (Xp [m + 1], Yp [n]) is B4.

図8は、位置検出誤差Eaを示す図であり、図7の網掛け部分を拡大して示したものである。図8の(a)はX軸方向の位置検出誤差Eax、(b)はY軸方向の位置検出誤差Eay、(c)はθ軸方向の位置検出誤差Eaθである。   FIG. 8 is a diagram showing the position detection error Ea, and is an enlarged view of the shaded portion of FIG. 8A shows the position detection error Eax in the X-axis direction, FIG. 8B shows the position detection error Eay in the Y-axis direction, and FIG. 8C shows the position detection error Eaθ in the θ-axis direction.

各格子点で区切られる各エリア内部の位置検出誤差Eaは、周囲の格子点における位置検出誤差から内挿して求める。たとえば、図中の点B(xp,yp)における位置検出誤差Eax,Eay,Eaθは、点Bが存在するエリアを区切る格子点B1〜B4における位置検出誤差から内挿して算出する。   The position detection error Ea inside each area divided by each grid point is obtained by interpolating from the position detection errors at surrounding grid points. For example, the position detection errors Eax, Eay, Eaθ at the point B (xp, yp) in the figure are calculated by interpolation from the position detection errors at the grid points B1 to B4 that delimit the area where the point B exists.

格子点B1〜B4におけるX軸方向の位置検出誤差を、それぞれ
Eax[m][n]、Eax[m][n+1]、Eax[m+1][n+1]、Eax[m+1][n]
としたとき、点Bにおける位置検出誤差Eaxは、以下のように表現できる。
The position detection errors in the X-axis direction at the lattice points B1 to B4 are respectively expressed as Eax [m] [n], Eax [m] [n + 1], Eax [m + 1] [n + 1], and Eax [m + 1] [n]
, The position detection error Eax at the point B can be expressed as follows.

また、格子点B1〜B4におけるY軸方向の位置検出誤差を、それぞれ
Eay[m][n]、Eay[m][n+1]、Eay[m+1][n+1]、Eay[m+1][n]
としたとき、点Bにおける位置検出誤差Eayは、以下のように表現できる。
The position detection errors in the Y-axis direction at the lattice points B1 to B4 are respectively expressed as Eay [m] [n], Eay [m] [n + 1], Eay [m + 1] [n + 1], and Eay [ m + 1] [n]
, The position detection error Eay at point B can be expressed as follows.

また、格子点B1〜B4におけるθ軸方向の位置検出誤差を、それぞれ
Eaθ[m][n]、Eaθ[m][n+1]、Eaθ[m+1][n+1]、Eaθ[m+1][n]
としたとき、点Bにおける位置検出誤差Eaθは、以下のように表現できる。
The position detection errors in the θ-axis direction at the lattice points B1 to B4 are respectively expressed as Eaθ [m] [n], Eaθ [m] [n + 1], Eaθ [m + 1] [n + 1], Eaθ [ m + 1] [n]
, The position detection error Eaθ at the point B can be expressed as follows.

次に、位置検出誤差Eb(Ebx,Eby,Ebθ)について説明する。
プラテン10の歯10aには、加工誤差によって歯の不揃いなどが発生している。そのため、レゾルバ30の検出信号には、各歯それぞれに固有の誤差が現れる。
Next, the position detection error Eb (Ebx, Eby, Ebθ) will be described.
The teeth 10a of the platen 10 have uneven teeth due to processing errors. Therefore, a unique error appears for each tooth in the detection signal of the resolver 30.

図9はプラテン10を示す図である。プラテン10を格子状に複数のエリアに分割し、各格子点にスライダ1を位置決めしたときに発生する位置検出誤差Ebを求める。図9の位置検出誤差は、スライダ1の上面に位置決め用マークを付しておき、プラテン10の上方に固定したカメラでその位置決め用マークの実際の位置を観測し、観測された位置を理論値と比較することによって求める。   FIG. 9 is a view showing the platen 10. The platen 10 is divided into a plurality of areas in a lattice shape, and a position detection error Eb that occurs when the slider 1 is positioned at each lattice point is obtained. The position detection error of FIG. 9 is obtained by attaching a positioning mark on the upper surface of the slider 1, observing the actual position of the positioning mark with a camera fixed above the platen 10, and calculating the observed position as a theoretical value. By comparing with

なお、位置検出誤差の観測値をEb’としたとき、観測値Eb’には位置検出誤差Eaが含まれている。そのため、位置検出誤差Ebは、観測値Eb’から位置検出誤差Eaを減算して求める。   Note that when the observed value of the position detection error is Eb ′, the observed value Eb ′ includes the position detection error Ea. Therefore, the position detection error Eb is obtained by subtracting the position detection error Ea from the observed value Eb ′.

図9において、位置(X[h],Y[k])の格子点をC1、位置(X[h],Y[k+1])の格子点をC2、位置(X[h+1],Y[k+1])の格子点をC3、位置(X[h+1],Y[k])の格子点をC4とする。   In FIG. 9, the lattice point at position (X [h], Y [k]) is C1, the lattice point at position (X [h], Y [k + 1]) is C2, and the position (X [h + 1] , Y [k + 1]) as C3, and the lattice point at position (X [h + 1], Y [k]) as C4.

図10は、位置検出誤差Ebを示す図であり、図9の網掛け部分を拡大して示したものである。図10の(a)はX軸方向の位置検出誤差Ebx、(b)はY軸方向の位置検出誤差Eby’、(c)はθ軸方向の位置検出誤差Ebθ’である。   FIG. 10 is a diagram showing the position detection error Eb, and is an enlarged view of the shaded portion of FIG. 10A shows a position detection error Ebx in the X-axis direction, FIG. 10B shows a position detection error Eby ′ in the Y-axis direction, and FIG. 10C shows a position detection error Ebθ ′ in the θ-axis direction.

各格子点で区切られる各エリア内部の位置検出誤差Ebは、周囲の格子点における位置検出誤差から内挿して求める。たとえば、図中の点C(x,y)における位置検出誤差Ebx,Eby,Ebθは、点Cが存在するエリアを区切る格子点C1〜C4における位置検出誤差から内挿して算出する。   The position detection error Eb inside each area divided by each grid point is obtained by interpolating from the position detection errors at surrounding grid points. For example, the position detection errors Ebx, Eby, Ebθ at the point C (x, y) in the figure are calculated by interpolating from the position detection errors at the grid points C1 to C4 that delimit the area where the point C exists.

格子点C1〜C4におけるX軸方向の位置検出誤差を、それぞれ
Ebx[h][k]、Ebx[h][k+1]、Ebx[h+1][k+1]、Ebx[h+1][k]
としたとき、点Cにおける位置検出誤差Ebxは、以下のように表現できる。
The position detection errors in the X-axis direction at the lattice points C1 to C4 are respectively expressed as Ebx [h] [k], Ebx [h] [k + 1], Ebx [h + 1] [k + 1], Ebx [h + 1] [k]
, The position detection error Ebx at the point C can be expressed as follows.

また、格子点C1〜C4におけるY軸方向の位置検出誤差を、それぞれ
Eby[h][k]、Eby[h][k+1]、Eby[h+1][k+1]、Eby[h+1][k]
としたとき、点Cにおける位置検出誤差Ebyは、以下のように表現できる。
Further, the position detection errors in the Y-axis direction at the lattice points C1 to C4 are respectively expressed as Eby [h] [k], Eby [h] [k + 1], Eby [h + 1] [k + 1], and Eby [ h + 1] [k]
, The position detection error Eby at the point C can be expressed as follows.

また、格子点C1〜C4におけるθ軸方向の位置検出誤差を、それぞれ
Ebθ[h][k]、Ebθ[h][k+1]、Ebθ[h+1][k+1]、Ebθ[h+1][k]
としたとき、点Cにおける位置検出誤差Ebθは、以下のように表現できる。
Further, the position detection errors in the θ-axis direction at the lattice points C1 to C4 are respectively expressed as Ebθ [h] [k], Ebθ [h] [k + 1], Ebθ [h + 1] [k + 1], Ebθ [ h + 1] [k]
, The position detection error Ebθ at the point C can be expressed as follows.

補正部100eには、プラテン10の歯10aを複数エリアに分割する格子点B1,B2,・・・に対応する位置検出誤差Eaを記憶させるとともに、プラテン10全体を複数のエリアに分割する格子点C1,C2,・・・に対応する位置検出誤差Ebを記憶させておく。そして、補正部100eは、これらの位置検出誤差Ea,Ebを加算し、位置検出誤差Eとする。   The correction unit 100e stores position detection errors Ea corresponding to lattice points B1, B2,... That divide the teeth 10a of the platen 10 into a plurality of areas, and lattice points that divide the entire platen 10 into a plurality of areas. The position detection error Eb corresponding to C1, C2,. Then, the correction unit 100e adds these position detection errors Ea and Eb to obtain a position detection error E.

すなわち、補正部100eは、スライダ1の位置に応じて、
位置検出誤差Ex=Eax+Ebx ……(7)
位置検出誤差Ey=Eay+Eby ……(8)
位置検出誤差Eθ=Eaθ+Ebθ ……(9)
を計算し、位置検出誤差Eを算出する。
That is, the correction unit 100e is configured according to the position of the slider 1.
Position detection error Ex = Eax + Ebx (7)
Position detection error Ey = Eay + Eby (8)
Position detection error Eθ = Eaθ + Ebθ (9)
And the position detection error E is calculated.

本実施例は以上のように構成され、
スライダ1の位置を検出するレゾルバ30と、プラテン10のエリアA内におけるスライダ1の位置をレゾルバ30よりも高い精度で検出するレーザ干渉計20とを備え、スライダ1の位置に応じてレゾルバ30とレーザ干渉計20を使い分けることによって、エリアAでは高い位置決め精度を確保しつつ、全体として比較的安価な位置決め装置を提供することができる。
This embodiment is configured as described above,
A resolver 30 that detects the position of the slider 1, and a laser interferometer 20 that detects the position of the slider 1 in the area A of the platen 10 with higher accuracy than the resolver 30, and the resolver 30 according to the position of the slider 1, By properly using the laser interferometer 20, it is possible to provide a relatively inexpensive positioning device as a whole while ensuring high positioning accuracy in the area A.

また、レゾルバ30とレーザ干渉計20の切り替え前後でスライダ1を同じ位置に維持する補正を行う補正部100eを備えているため、切り替え時に発生するスライダ位置の飛びを防止できる。   In addition, since the correction unit 100e that performs correction to maintain the slider 1 at the same position before and after switching between the resolver 30 and the laser interferometer 20, the jump of the slider position that occurs at the time of switching can be prevented.

また、補正部100eは、レゾルバ30とレーザ干渉計20とを切り替える際に、レゾルバ30の位置検出誤差Eに基づいて、位置指令値Pcmdおよびレーザ干渉計20で検出される位置検出値Piを補正するため、レゾルバ30の位置検出誤差Eに起因して発生するスライダ位置の飛びを防止できる。   The correction unit 100e corrects the position command value Pcmd and the position detection value Pi detected by the laser interferometer 20 based on the position detection error E of the resolver 30 when switching between the resolver 30 and the laser interferometer 20. Therefore, the jump of the slider position caused by the position detection error E of the resolver 30 can be prevented.

また、レゾルバ30の位置検出誤差Eは、プラテン10のスライダ1の現在位置に対応する歯に固有の検出誤差Ebを含んでいるため、プラテン10の歯に不揃いや加工誤差などがある場合でも、レゾルバ30とレーザ干渉計20の切り替え位置によらず、確実にスライダ位置の飛びを防止できる。   Further, since the position detection error E of the resolver 30 includes a detection error Eb inherent to the tooth corresponding to the current position of the slider 1 of the platen 10, even if the teeth of the platen 10 have irregularities or processing errors, Regardless of the switching position of the resolver 30 and the laser interferometer 20, it is possible to reliably prevent the slider position from jumping.

また、レゾルバ30の位置検出誤差Eは、プラテン10の歯ピッチLに同期して現れる位置検出誤差Eaを含んでいるため、レゾルバ30とレーザ干渉計20の切り替え時のスライダ位置と、そのスライダ位置に対応するプラテン10の歯との相対的な位置関係によらず、確実にスライダ位置の飛びを防止できる。   Further, since the position detection error E of the resolver 30 includes a position detection error Ea that appears in synchronization with the tooth pitch L of the platen 10, the slider position at the time of switching between the resolver 30 and the laser interferometer 20, and the slider position. The slider position can be reliably prevented from jumping regardless of the relative positional relationship with the teeth of the platen 10 corresponding to.

なお、本実施例では、位置検出誤差Ebをプラテン10上の全面において算出できるようにした。しかし、レゾルバ30とレーザ干渉計20の切り替えを行う位置がプラテン10上の特定の位置に限定される場合には、補正部100eに記憶する位置検出誤差Ebは、その切り替え位置の分のみとしてもよい。   In the present embodiment, the position detection error Eb can be calculated over the entire surface of the platen 10. However, when the position where the resolver 30 and the laser interferometer 20 are switched is limited to a specific position on the platen 10, the position detection error Eb stored in the correction unit 100e may be the amount corresponding to the switching position. Good.

本実施例において、レゾルバ30は請求項における第1の位置検出装置、レーザ干渉計20は第2の位置検出装置、切替スイッチ100cは切替手段に相当する。   In this embodiment, the resolver 30 corresponds to the first position detection device in the claims, the laser interferometer 20 corresponds to the second position detection device, and the changeover switch 100c corresponds to the switching means.

図11は本発明の実施例2を示す上面図である。本実施例は、先の実施例1に対し、高い位置決め精度が必要とされるエリアが2ヶ所のものである。   FIG. 11 is a top view showing Embodiment 2 of the present invention. This embodiment has two areas where high positioning accuracy is required compared to the first embodiment.

プラテン11は、エリアA1、エリアA2、エリアBの3つに分けられている。エリアA1,A2は高い位置決め精度が必要とされるエリアであり、実施例1のエリアAに相当する。エリアB1は実施例1のエリアBに相当する。プラテン11にはスライダ1が搭載されている。   The platen 11 is divided into three areas: area A1, area A2, and area B. Areas A1 and A2 are areas where high positioning accuracy is required, and correspond to area A of the first embodiment. Area B1 corresponds to area B of the first embodiment. A slider 1 is mounted on the platen 11.

プラテン11のY軸に沿った辺にレーザ干渉計20a,20cが、X軸に沿った辺にレーザ干渉計20bが固定配置されている。レーザ干渉計20aはエリアA1に対応し、レーザ干渉計20cはエリアA2に対応する。   Laser interferometers 20a and 20c are fixedly arranged on the side of the platen 11 along the Y axis, and a laser interferometer 20b is fixedly arranged on the side along the X axis. Laser interferometer 20a corresponds to area A1, and laser interferometer 20c corresponds to area A2.

スライダ1がエリアA1に位置する場合には、レーザ干渉計20a,20bを用いてスライダ1の位置検出が行われる。スライダ1がエリアA2に位置する場合には、レーザ干渉計20c,20bを用いてスライダ1の位置検出が行われる。スライダ1がエリアB1に位置する場合には、レゾルバ30によりスライダ1の位置検出が行われる。その他の構成は前記実施例1と同じである。   When the slider 1 is located in the area A1, the position of the slider 1 is detected using the laser interferometers 20a and 20b. When the slider 1 is located in the area A2, the position of the slider 1 is detected using the laser interferometers 20c and 20b. When the slider 1 is located in the area B1, the resolver 30 detects the position of the slider 1. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

本実施例は以上のように構成され、実施例1で得られる効果に加え、プラテン11上に高い位置決め精度が必要とされるエリアが複数ある場合でも、必要最小限の個数のレーザ干渉計でそれらのエリアでは高い位置決め精度を確保しつつ、全体として比較的安価な位置決め装置を提供することができる。   The present embodiment is configured as described above. In addition to the effects obtained in the first embodiment, even when there are a plurality of areas on the platen 11 where high positioning accuracy is required, the minimum number of laser interferometers is used. In these areas, it is possible to provide a relatively inexpensive positioning device as a whole while ensuring high positioning accuracy.

図12は本発明の実施例3を示す上面図である。本実施例は、先の実施例1の位置決め装置を2台接続したものである。   FIG. 12 is a top view showing Embodiment 3 of the present invention. In this embodiment, two positioning devices of the first embodiment are connected.

プラテン10に、第2のプラテン10’が接続されている。プラテン10’は、エリアA’とエリアB’の2つのエリアに分けられており、それぞれプラテン10におけるエリアAとエリアBに相当する。プラテン10’のY軸に沿った辺にはレーザ干渉計20a’が、X軸に沿った辺にはレーザ干渉計20b’が固定配置されている。   A second platen 10 ′ is connected to the platen 10. The platen 10 ′ is divided into two areas, an area A ′ and an area B ′, and corresponds to the area A and the area B in the platen 10, respectively. A laser interferometer 20a 'is fixedly arranged on the side along the Y axis of the platen 10', and a laser interferometer 20b 'is fixed on the side along the X axis.

プラテン10にはスライダ1が搭載され、プラテン10’にはスライダ1’が搭載されている。スライダ1,1’は、それぞれ個別に位置制御される。これらのスライダは、それぞれプラテン10上およびプラテン10’上の両方を移動する。これらのスライダは、エリアAに位置する場合にはレーザ干渉計20a,20bにより位置検出が行われ、エリアA’に位置する場合にはレーザ干渉計20a’,20b’により位置検出が行われる。なお、スライダ1,1’のX軸方向の位置検出をレーザ干渉計20a,20a’の両方で行うことができるように、スライダ1,1’にはY軸に沿う側面の両方にバーミラーが搭載されている。その他の構成は前記実施例1と同じである。   A slider 1 is mounted on the platen 10, and a slider 1 'is mounted on the platen 10'. The positions of the sliders 1 and 1 'are individually controlled. These sliders move both on the platen 10 and on the platen 10 ', respectively. When these sliders are located in the area A, their positions are detected by the laser interferometers 20a and 20b, and when they are located in the area A ', their positions are detected by the laser interferometers 20a' and 20b '. It should be noted that bar mirrors are mounted on both side surfaces along the Y axis so that the sliders 1 and 1 'can detect the position in the X-axis direction with both laser interferometers 20a and 20a'. Has been. Other configurations are the same as those of the first embodiment.

本実施例の位置決め装置の用途例として、半導体製造用の露光装置がある。エリアAの上方に、レチクル面上に形成されているIC等の電子回路パターンとウエハとの相対的な位置合わせを行うためのアライメント装置を備え、エリアA’の上方に露光機を備えておく。スライダ1にウエハを搭載し、まずエリアAに位置させてアライメントを行う。その後スライダ1をエリアA’に移動させ、ウエハの露光を行う。スライダ1で露光を行っている間に、スライダ1’をエリアAに位置させてアライメントを行う。スライダ1の露光が終了すると、スライダ1,1’の位置を交代する。このように、各スライダをエリアA,エリアA’に交互に往復させ、アライメントと露光を交互に繰り返す。これにより、露光装置の単位時間当たりのウエハ加工処理量を高めることができる。   As an application example of the positioning apparatus of this embodiment, there is an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor. An alignment device is provided above the area A for relative alignment between an electronic circuit pattern such as an IC formed on the reticle surface and the wafer, and an exposure device is provided above the area A ′. . A wafer is mounted on the slider 1 and is first positioned in the area A for alignment. Thereafter, the slider 1 is moved to the area A ′, and the wafer is exposed. While exposure is performed by the slider 1, the slider 1 'is positioned in the area A to perform alignment. When the exposure of the slider 1 is completed, the positions of the sliders 1 and 1 'are changed. In this way, the sliders are alternately reciprocated in the area A and the area A ′, and the alignment and exposure are alternately repeated. Thereby, the wafer processing throughput per unit time of the exposure apparatus can be increased.

レゾルバによる位置検出の動作原理の説明図である。It is explanatory drawing of the operation principle of the position detection by a resolver. レゾルバの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a resolver. 本発明の実施例1を示す上面図である。It is a top view which shows Example 1 of this invention. プラテン10のエリア分けを示す図である。FIG. 3 is a diagram showing area division of the platen 10. 実施例1の位置決め装置の詳細を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the detail of the positioning device of Example 1. FIG. 位置検出装置の切り替え時における各信号の値の変化を示す図である。It is a figure which shows the change of the value of each signal at the time of switching of a position detection apparatus. プラテン10の歯10aの拡大図である。2 is an enlarged view of a tooth 10a of a platen 10. FIG. 位置検出誤差Eaを示す図である。It is a figure which shows the position detection error Ea. プラテン10を示す図である。1 is a diagram showing a platen 10. FIG. 位置検出誤差Ebを示す図である。It is a figure which shows the position detection error Eb. 本発明の実施例2を示す上面図である。It is a top view which shows Example 2 of this invention. 本発明の実施例3を示す上面図である。It is a top view which shows Example 3 of this invention. 従来例の位置決め装置の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the positioning device of a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

1 スライダ
10 プラテン
20,20a,20b レーザ干渉計
21a,21b バーミラー
30,30a〜30c レゾルバ
100 演算部
100a,100b 測定処理部
100c 切替スイッチ
100d 座標確立部
100e 補正部
101 位置指令値生成部
102 位置制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Slider 10 Platen 20, 20a, 20b Laser interferometer 21a, 21b Bar mirror 30, 30a-30c Resolver 100 Calculation part 100a, 100b Measurement processing part 100c Changeover switch 100d Coordinate establishment part 100e Correction part 101 Position command value generation part 102 Position control Part

Claims (6)

位置制御されるスライダと、このスライダと対向する面に磁極の歯が形成されて前記スライダと平面モータを構成するプラテンとを備えた位置決め装置において、
前記スライダの位置を検出する第1の位置検出装置と、
前記プラテンの特定のエリア内における前記スライダの位置を前記第1の位置検出装置よりも高い精度で検出する第2の位置検出装置と、
前記スライダの位置に応じて前記第1または第2の位置検出装置のいずれかを選択する切替手段と、
位置指令値および前記切替手段で選択された位置検出装置で検出される位置検出値に基づいて前記スライダの位置制御を実行する位置制御部と、
を備えたことを特徴とする位置決め装置。
In a positioning apparatus comprising a slider whose position is controlled, and a platen in which magnetic pole teeth are formed on a surface facing the slider and the slider and a flat motor are configured.
A first position detecting device for detecting the position of the slider;
A second position detection device that detects the position of the slider in a specific area of the platen with higher accuracy than the first position detection device;
Switching means for selecting either the first or second position detecting device according to the position of the slider;
A position control unit that performs position control of the slider based on a position command value and a position detection value detected by a position detection device selected by the switching means;
A positioning device comprising:
前記第1および第2の位置検出装置の切り替え前後で前記スライダを同じ位置に維持する補正を行う補正部を備えたことを特徴とする請求項1に記載の位置決め装置。   The positioning apparatus according to claim 1, further comprising a correction unit that performs correction to maintain the slider at the same position before and after switching between the first and second position detection devices. 前記補正部は、前記切替手段が位置検出装置を切り替える際に、前記第1の位置検出装置の検出誤差に基づいて、前記位置指令値および前記第2の位置検出装置で検出される位置検出値を補正することを特徴とする請求項2に記載の位置決め装置。   The correction unit detects the position command value and the position detection value detected by the second position detection device based on a detection error of the first position detection device when the switching unit switches the position detection device. The positioning device according to claim 2, wherein: 前記第1の位置検出装置の検出誤差は、前記プラテンの前記スライダの現在位置に対応する歯に固有の検出誤差であることを特徴とする請求項3に記載の位置決め装置。   4. The positioning device according to claim 3, wherein the detection error of the first position detection device is a detection error specific to a tooth corresponding to a current position of the slider of the platen. 前記第1の位置検出装置の検出誤差は、前記プラテンの歯ピッチに同期して現れる検出誤差であることを特徴とする請求項3に記載の位置決め装置。   The positioning apparatus according to claim 3, wherein the detection error of the first position detection apparatus is a detection error that appears in synchronization with a tooth pitch of the platen. 前記第1の位置検出装置は前記スライダに設けられたレゾルバであり、
前記第2の位置検出装置はレーザ干渉計であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の位置決め装置。
The first position detection device is a resolver provided in the slider,
The positioning apparatus according to claim 1, wherein the second position detection device is a laser interferometer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104535025A (en) * 2014-11-19 2015-04-22 芜湖普威技研有限公司 Detector for rear torsion beam of automobile

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