JP2010018826A - Electron gun for vapor deposition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は蒸着用電子銃に関する。より詳しくは、電子銃より射出された電子ビームの照射を受けた蒸着材料から生成される蒸着粒子が、電子ビームを偏向するために電子銃に配設されているポールピースに付着することがない蒸着用電子銃を提供せんとするものである。 The present invention relates to an electron gun for vapor deposition. More specifically, the vapor deposition particles generated from the vapor deposition material irradiated with the electron beam emitted from the electron gun do not adhere to the pole piece disposed in the electron gun for deflecting the electron beam. We intend to provide an electron gun for vapor deposition.
従来より、基板・レンズ等の表面部に薄膜を形成する手段として真空蒸着法が用いられている。この真空蒸着法では、基板等の表面部に薄膜を形成するために、真空チャンバ内で電子銃より射出された電子ビームを金属・化合物などの蒸着材料に照射して加熱蒸発させ、これにより生成された蒸着粒子を基板等の表面部に付着堆積させる。 Conventionally, a vacuum deposition method has been used as a means for forming a thin film on a surface portion of a substrate, a lens or the like. In this vacuum deposition method, in order to form a thin film on the surface of a substrate or the like, an electron beam emitted from an electron gun in a vacuum chamber is irradiated onto a vapor deposition material such as a metal / compound to heat and evaporate it. The deposited particles are deposited and deposited on the surface of a substrate or the like.
そこで、この真空蒸着法で使用される電子銃の従来例の構成を、図3(a)に示し説明する(従来例1)。ここで、図3(a)は、従来例1の構成を簡略に図示した斜視図である。 Therefore, the configuration of a conventional example of an electron gun used in this vacuum vapor deposition method will be described with reference to FIG. 3A (conventional example 1). Here, FIG. 3A is a perspective view schematically illustrating the configuration of the first conventional example.
図3(a)において、電子銃30の本体ケース31の内部には、加熱されることにより熱電子を放出するフィラメント、フィラメントより放出された熱電子を加速して電子ビームを生成する電界を形成するための電極、冷却水が流通する流水路などが配設されている。
3A, a filament that emits thermoelectrons when heated and an electric field that accelerates the thermoelectrons emitted from the filament to generate an electron beam are formed inside the
他方、本体ケース31の上部には、生成された電子ビームを射出するための方形状の開口33を有する、非磁性体からなる上部カバー32が、取り付けられている。また、本体ケース31上部の一方の端部には、強磁性体からなりL字状に形成された1対のポールピース34a,34bが対向して横設されている。
On the other hand, an
これらのポールピース34a,34bは、強磁性体からなる部材を介して本体ケース31内に配設された磁力発生源である永久磁石と接続することにより磁化されている。したがって、ポールピース34a,34bの周囲には磁界が形成されることになり、この磁界により、上部カバー32の開口33を介して射出された電子ビームは、図3(a)では図示されてはいないルツボ内に収容された金属等の蒸着材料に向かうように偏向する。
These pole pieces 34a and 34b are magnetized by being connected to a permanent magnet which is a magnetic force generation source disposed in the
すなわち、図3(b)(一部を切り欠いた側面図)に示すように、本体ケース31内のフィラメント35から放出された熱電子が加速して生成された電子ビームEBは、破線で示すように、ポールピース34a,34bが形成する磁界により概ね270度回転するように偏向されて、ルツボ100内に収容された蒸着材料の表面部に照射される。そして、電子ビームEBの照射を受けて生成された蒸着粒子は、上方に配置された基板などの被蒸着物に向けて上昇し、これに付着堆積することになる。
That is, as shown in FIG. 3B (a side view with a part cut away), an electron beam EB generated by accelerating the thermal electrons emitted from the
なお、電子ビームEBの照射が開始されてから蒸着材料の蒸発が活発化して蒸着粒子が定量的に生成するようになるまでは、一定の時間を要する。蒸着粒子が定量的に生成していない段階で、基板などの被蒸着物に蒸着粒子を付着させると、被蒸着物に求められている品質・特性を確保することができないことになる。 Note that a certain time is required from the start of the irradiation with the electron beam EB until evaporation of the vapor deposition material is activated and vapor deposition particles are quantitatively generated. If the deposited particles are attached to the deposition object such as the substrate at a stage where the deposited particles are not quantitatively generated, the quality and characteristics required for the deposition object cannot be ensured.
そこで、蒸着粒子が定量的に生成するようになるまでは、図4(a)(側面図)に示すように、蒸着材料が収容されたルツボ100の上方であって、かつ、電子ビームEBの軌道に触れない位置に、伏せた円皿状の、水平方向に移動可能なシャッター200を配置して、被蒸着物への蒸着粒子の付着を遮断する。
Therefore, until the vapor deposition particles are generated quantitatively, as shown in FIG. 4A (side view), above the
その後、加熱された蒸着材料の蒸発が活発化して、蒸着粒子が定量的に生成するようになると、図4(b)(平面図)に示すように、蒸着粒子の飛散範囲からはずれた位置に、破線で示す位置からシャッター200を移動させることになる。
Thereafter, when evaporation of the heated vapor deposition material is activated and vapor deposition particles are generated quantitatively, as shown in FIG. 4B (plan view), the vapor deposition material is in a position deviated from the scattering range of the vapor deposition particles. The
図5(a)は、他の従来例の構成を示している(従来例2)。ここで、図5(a)は、従来例2の構成を簡略に図示した斜視図であり、図3(a)における構成要素に対応する構成要素については、ポールピースを除いて同一の符号を付している。 FIG. 5A shows the configuration of another conventional example (conventional example 2). Here, FIG. 5A is a perspective view schematically showing the configuration of the conventional example 2, and the components corresponding to the components in FIG. 3A are denoted by the same reference numerals except for the pole pieces. It is attached.
図5(a)において、ここに示した従来例2の構成が、従来例1の構成と異なるところは、本体ケース31の上部に取り付けられた上部カバー32の開口33を挟むようにして、1対のポールピース41a,41bが対向して立設されていることである。その他の構成は、図3(a)に示した従来例1の構成と同じである。
In FIG. 5A, the configuration of the conventional example 2 shown here is different from the configuration of the conventional example 1 in that a pair of
このように構成された従来例2によった場合も、図5(b)(一部を切り欠いた側面図)に示すように、本体ケース31内から射出された電子ビームEBは、破線で示すように、ポールピース41a,41bが形成する磁界により概ね270度偏向されて、ルツボ100内に収容された蒸着材料の表面部を照射することになる。
Also in the case of the conventional example 2 configured as described above, as shown in FIG. 5B (side view with a part cut away), the electron beam EB emitted from the inside of the
また、この従来例2においても、電子ビームEBの照射が開始されてから蒸着粒子が定量的に生成するようになるまでは、図6(a)(側面図)に示すように、ルツボ100の上方であって、かつ、ポールピース41bの上端よりも高くポールピース41bに当接しない位置に、シャッター200を配置して被蒸着物への蒸着粒子の付着を遮断するようにしている。
Also in this conventional example 2, as shown in FIG. 6A (side view), after the irradiation of the electron beam EB is started until the vapor deposition particles are quantitatively generated, A
そして、電子ビームEBの照射を受けた蒸着材料の蒸発が活発化して、蒸着粒子が定量的に生成するようになれば、図6(b)(平面図)に示すように、従来例1におけると同じく、蒸着粒子の飛散範囲からはずれた位置に、破線で示す位置からシャッター200を移動させることになる。
If evaporation of the vapor deposition material irradiated with the electron beam EB is activated and vapor deposition particles are generated quantitatively, as shown in FIG. 6B (plan view), the conventional example 1 is used. Similarly, the
図3により説明した従来例1によると、ルツボ100の近傍にポールピース34a,34bが位置していることから、ルツボ100内の蒸着材料に電子ビームEBを照射すると、ルツボ100から飛散した蒸着粒子が、ポールピース34a,34bに付着し、例えば、使用する蒸着材料によっては、そのまま固着してしまう。とくに、ポールピース34a,34bの下面部と、ルツボ100の上端周縁部との間の空隙部に、飛散する蒸着粒子が入り込んでポールピース34a,34bの下面部に付着堆積すると、つぎのような問題が生ずる。
According to the conventional example 1 described with reference to FIG. 3, since the pole pieces 34 a and 34 b are located in the vicinity of the
すなわち、蒸着装置の作動中は、ルツボ100内に収容された蒸着材料が均一に溶融するように、ルツボ100は回転している。この回転しているルツボ100の上端周縁部と、ポールピース34a,34bの下面部との間に、蒸着粒子が入り込んでポールピース34a,34bの下面部に付着堆積すると、堆積した蒸着粒子とルツボ100の上端周縁部との摩擦が生じる。摩擦が生じれば、ルツボ100を回転させるモータの負荷が大きくなり、ついにはモータは回転を停止してしまう。
That is, during operation of the vapor deposition apparatus, the
これを回避するためには、ポールピース34a,34bの恒常的なクリーニング作業が必要となるが、クリーニング手段として、例えば、付着した蒸着粒子をショット・ブラストにより削り落とすとすると、ポールピース34a,34b自体もともに削られることになる。 In order to avoid this, a constant cleaning operation of the pole pieces 34a and 34b is necessary. However, as the cleaning means, for example, if the deposited vaporized particles are scraped off by shot blasting, the pole pieces 34a and 34b are removed. Both themselves will be cut off.
しかし、ポールピース34a,34bが削られると、ポールピース34a,34bの形状が変化し、その形成する磁界に変化が生ずる結果、電子ビームEBの軌道が変化して、電子ビームEBの照射スポットの位置ずれを起こしてしまう。そのため、クリーニングの限界に達したポールピース34a,34bは、これを取り外して新たなポールピース34a,34bと交換しなければならないことになる。 However, when the pole pieces 34a and 34b are shaved, the shape of the pole pieces 34a and 34b changes, and as a result, changes occur in the magnetic field formed. As a result, the trajectory of the electron beam EB changes, and Misalignment will occur. Therefore, the pole pieces 34a and 34b that have reached the limit of cleaning must be removed and replaced with new pole pieces 34a and 34b.
他方、ポールピース34a,34bに蒸着粒子が付着しても、それがそのまま固着することなく剥離する場合もある。しかし、その場合は、剥離した蒸着粒子が、ルツボ100内に落下して溶融し、蒸着材料の組成を変えてしまうという問題点がある。以上のような解決すべき課題が、図3により説明した従来例1にはあった。
On the other hand, even if vapor deposition particles adhere to the pole pieces 34a and 34b, they may be peeled off without being fixed as they are. However, in that case, there is a problem that the peeled vapor deposition particles fall into the
これに対して、図5により説明した従来例2によると、ポールピース41a,41bは、ルツボ100からは離隔した位置に配設されているため、上述した従来例1におけるような堆積した蒸着粒子とルツボ100の上端周縁部との摩擦という問題は生じない。
On the other hand, according to the conventional example 2 described with reference to FIG. 5, the
しかし、ルツボ100から離隔した位置に、ポールピース41a,41bが配設されているとしても、ルツボ100からの蒸着粒子は、ポールピース41a,41bの配設位置まで飛散し、これに付着する。そのため、従来例1について説明したところと同様のポールピース41a,41bへの蒸着粒子の付着に起因する問題(クリーニングあるいは剥離した蒸着粒子のルツボ内への落下)が生ずる。
However, even if the
また、従来例2では、従来例1とは異なり、ポールピース41a,41bは横設するのではなく立設する構成を用いている。そのため、電子ビームEBの照射を受けた蒸着材料の蒸発が活発化するまで用いるシャッター200(図6)は、それが水平方向に移動してもポールピース41a,41bに当接しないように、ポールピース41a,41bの上端よりも高い位置に配置しなければならない。
Also, in the conventional example 2, unlike the conventional example 1, the
しかし、ルツボ100より飛散する蒸着粒子は、逆円錐状に放散する。すなわち、生成された蒸着粒子は、上昇するにしたがって水平方向に拡散する。そのため、シャッター200の配置位置が高いと、蒸着粒子の拡散範囲のすべてをカバーすることができず、カバーしきれない蒸着粒子が、シャッター200よりも上方に上昇する。このカバーしきれない蒸着粒子が基板などの被蒸着物に付着すると、膜厚の不均一などの問題を生じてしまう。
However, the vapor deposition particles scattered from the
これに対処するために、蒸着粒子の拡散範囲のすべてをカバーすることができるサイズの大きいシャッターを用いることは、これを水平方向に移動させる必要があることを考慮すると、真空チャンバの容積などの制約から困難である。 To deal with this, using a large shutter that can cover the entire diffusion range of the deposited particles is necessary to move it horizontally, such as the vacuum chamber volume. It is difficult due to restrictions.
また、シャッター200以外についても、ポールピース41a,41bを立設する構成を用いていることによる不都合がある。すなわち、真空チャンバ内を視認するために設けられている監視窓を通して電子ビームEBの位置を確認しようとする場合、立設しているポールピース41a,41bが視界を妨げてしまい、電子ビームEBの位置を的確に確認することができない。以上のような解決すべき課題が、図5により説明した従来例2にはあった。
In addition to the
さらには、図3(a)および図5(a)にそれぞれ示した各従来例1,2では、ポールピース34a,34b,41a,41bが、ともに本体ケース31の外部に露出して水平方向あるいは垂直方向に配設されている。
3A and 5A, the
しかし、蒸着装置を作動させると、真空チャンバ内の温度は上昇し、ポールピース34a,34b,41a,41bの温度が上昇する。温度が上昇すれば、温度変化に伴って磁気回路の特性が変化し、電子ビームEBの軌道が不安定なものとなってしまう。以上のような未解決の課題が、各従来例1,2にはそれぞれあった。
However, when the vapor deposition apparatus is operated, the temperature in the vacuum chamber increases, and the temperature of the
そこで、上記課題に照らし、本発明はなされたものである。そのために、本発明では、永久磁石、熱電子を放出するフィラメント、蒸着材料上で電子ビームをX軸およびY軸方向においてスキャンするためのスキャンコイルユニットなどが内部に配設されるとともに、電子ビームを射出するための開口を有するカバーが上部に取り付けられた本体ケース内に、電子ビームを偏向する磁界を形成するための対向する1対のポールピース、および電子ビームの軌道を調整する磁界を形成するための対向する1対のポールピースを、それぞれ横設するようにした。 Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems. Therefore, in the present invention, a permanent magnet, a filament that emits thermoelectrons, a scan coil unit for scanning the electron beam in the X-axis and Y-axis directions on the vapor deposition material, and the like are disposed inside. A pair of opposing pole pieces for forming a magnetic field for deflecting an electron beam and a magnetic field for adjusting the trajectory of the electron beam are formed in a main body case having a cover having an opening for injecting the electron beam on the top. A pair of opposing pole pieces for carrying out the operation are set sideways.
本発明によるならば、ポールピースが、電子銃の本体ケースの外部に露出していないので、蒸着装置の作動時に、ルツボから飛散する蒸着粒子がポールピースに付着堆積することがない。したがって、飛散する蒸着粒子に起因する問題は生じない。すなわち、ポールピースの恒常的なクリーニング作業が不要となり、蒸着の作業性が向上するとともに、装置のメンテナンス上の負担が著しく軽減される。 According to the present invention, since the pole piece is not exposed to the outside of the main body case of the electron gun, vapor deposition particles scattered from the crucible do not adhere to and accumulate on the pole piece when the vapor deposition apparatus is operated. Therefore, there is no problem caused by scattered vapor deposition particles. That is, the permanent cleaning work of the pole piece is not required, the deposition workability is improved, and the burden on the maintenance of the apparatus is remarkably reduced.
また、ポールピースのクリーニングが不要となるため、クリーニング手段としてショット・ブラストによった場合のようなポールピースの損耗を回避することができる。したがって、ポールピースが形成する磁界は、ポールピースの損耗による変化ということはなく、電子ビームの軌道は安定したものとなる。のみならず、ポールピースの交換が不要となり、蒸着に要するコストの低減化を図ることが可能となる。 Further, since the pole piece does not need to be cleaned, it is possible to avoid the wear of the pole piece as in the case of shot blasting as a cleaning means. Therefore, the magnetic field formed by the pole piece is not changed by the wear of the pole piece, and the trajectory of the electron beam becomes stable. In addition, the pole piece need not be replaced, and the cost required for vapor deposition can be reduced.
他方、ポールピースに蒸着粒子が付着するということはないので、ポールピースに付着した蒸着粒子が剥離するということもない。したがって、剥離した蒸着粒子がルツボ内に落下溶融して、蒸着材料の組成を変えるということもない。 On the other hand, since vapor deposition particles do not adhere to the pole piece, vapor deposition particles adhering to the pole piece do not peel off. Therefore, the vapor deposition particles that have been peeled off do not melt into the crucible and change the composition of the vapor deposition material.
さらに、本発明では、ポールピースが電子銃の本体ケース内に配設され、図5(a)に示した従来例2のようにポールピースが本体ケースの上部に立設していない。したがって、電子ビームの照射が開始されてから蒸着材料の蒸発が活発化するまでルツボの上方を覆うシャッターの配置位置を低く設定することができる。すなわち、シャッターによってはカバーしきれない蒸着粒子が上方に上昇するのを極力抑えることが可能となり、基板などの被蒸着物に要求される品質・特性が確保されることになる。 Further, in the present invention, the pole piece is disposed in the main body case of the electron gun, and the pole piece is not erected on the upper portion of the main body case as in the conventional example 2 shown in FIG. Therefore, the arrangement position of the shutter covering the upper part of the crucible can be set low until the evaporation of the vapor deposition material is activated after the irradiation of the electron beam is started. That is, it is possible to suppress as much as possible the rising of the vapor deposition particles that cannot be covered by the shutter, and the quality and characteristics required for the vapor deposition object such as the substrate can be ensured.
また、ポールピースが本体ケースの上部に立設していないことから、真空チャンバの監視窓を通して電子ビームの位置を確認しようとする場合に、その視界がポールピースによって妨げられることはなく、的確に視認することができる。 In addition, since the pole piece is not erected on the upper part of the main body case, when trying to confirm the position of the electron beam through the monitoring window of the vacuum chamber, the field of view is not hindered by the pole piece, and it is accurately It can be visually recognized.
そのうえ、冷却水の流通により冷却されている本体ケースの内部に、ポールピースが配設されていることから、各従来例1,2におけるように、蒸着装置の作動時にポールピースの温度が上昇するということもない。その結果、磁気回路の特性も変化することはなく、電子ビームEBの軌道は安定したものとなる。したがって、本発明によりもたらされる効果は、実用上極めて大きい。 In addition, since the pole piece is disposed inside the main body case cooled by the circulation of the cooling water, the temperature of the pole piece rises during the operation of the vapor deposition apparatus as in each of the conventional examples 1 and 2. There is no such thing. As a result, the characteristics of the magnetic circuit do not change, and the trajectory of the electron beam EB becomes stable. Therefore, the effect brought about by the present invention is extremely large in practical use.
従来、ポールピースが電子銃の本体ケースの外部に水平方向あるいは垂直方向に露出して配設されていたのに対して、本発明では、永久磁石、熱電子を放出するフィラメント、蒸着材料上で電子ビームをX軸およびY軸方向においてスキャンするためのスキャンコイルユニットなどが内部に配設された本体ケース内に、電子ビームを偏向する磁界を形成するためのポールピース、および電子ビームの軌道を調整する磁界を形成するためのポールピースをそれぞれ横設する。以下、実施例により詳しく説明する。 Conventionally, the pole piece has been arranged to be exposed in the horizontal direction or the vertical direction outside the main body case of the electron gun, whereas in the present invention, the permanent magnet, the filament that emits thermoelectrons, and the vapor deposition material are used. A pole piece for forming a magnetic field for deflecting the electron beam and a trajectory of the electron beam in a main body case in which a scan coil unit and the like for scanning the electron beam in the X-axis and Y-axis directions are disposed. Pole pieces for forming a magnetic field to be adjusted are laid sideways. Hereinafter, the embodiment will be described in detail.
本発明の一実施例の構成を、図1に示し説明する。ここで、図1(a)は、本実施例における蒸着用電子銃の外観を示す斜視図、図1(b)は、内部構成を示す、一部を切り欠いた斜視図である。 The configuration of an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Here, FIG. 1A is a perspective view showing the appearance of the electron gun for vapor deposition in the present embodiment, and FIG. 1B is a perspective view showing a part of the internal structure.
図1(a)において、ここに示した電子銃10は、非磁性体からなる箱体状の本体ケース20と、本体ケース20の上部に取り付けられた、非磁性体からなり方形状の開口22を有する上部カバー21とにより、外形的には方形体状に形成されている。図3(a)および図5(a)にそれぞれ示した各従来例1,2とは異なり、ポールピースが外部に露出していない。
In FIG. 1A, an electron gun 10 shown here includes a box-shaped
図1(b)は、上部カバー21を取り外した状態の電子銃10を示している。本体ケース20内の底部の、ルツボが配設される側の端部中央には、方形体状の永久磁石14が配設されており、永久磁石14の両端部には、永久磁石14からの磁気を受けて磁気回路を形成するための、強磁性体からなる角柱状の回路形成部材15a,15bがそれぞれ接続されている。
FIG. 1B shows the electron gun 10 with the
一方の回路形成部材15aにおける永久磁石14とは接続していない端部には、磁気回路を形成するための、強磁性体からなる板状の垂設された回路形成部材13aが触接して固定されている。この回路形成部材13aの上端部には、電子銃10より射出された電子ビームを偏向する磁界を形成するための、強磁性体からなる細板状のポールピース11aが、その一方の端部が回路形成部材13aに触接して固定されることにより横設されている。
At one end of the
また、このポールピース11aと所定の間隔をおいた回路形成部材13aの上端部には、電子ビームの軌道を調整する磁界を形成するための、強磁性体からなる細板状のポールピース12aが、その一方の端部が回路形成部材13aに触接して固定されることにより横設されている。 In addition, a thin plate-like pole piece 12a made of a ferromagnetic material for forming a magnetic field for adjusting the trajectory of the electron beam is formed at the upper end portion of the circuit forming member 13a spaced from the pole piece 11a by a predetermined distance. , One end thereof is placed horizontally by being brought into contact with and fixed to the circuit forming member 13a.
同様に、永久磁石14に接続している他方の角柱状の回路形成部材15bにも、垂設された板状の回路形成部材13bが触接して固定され、その上端部には、電子ビームの偏向用のポールピース11bと、電子ビームの軌道調整用のポールピース12bとが、その一方の端部が回路形成部材13bに触接して固定されることにより横設されている。
Similarly, the suspended plate-like
このような構成により、垂設された2つの回路形成部材13a,13bに固定された、電子ビームの偏向用のポールピース11a,11bと、電子ビームの軌道調整用のポールピース12a,12bは、それぞれ対向して1対をなしている。
With such a configuration, the pole pieces 11a and 11b for deflecting the electron beam and the
この1対をなす電子ビーム偏向用のポールピース11a,11bの中間の斜め下方の部位には、加熱されることにより熱電子を放出するフィラメント16が配設されている。また、蒸着材料上でX軸方向において電子ビームをスキャンすなわち照射スポットを往復動させるためのXスキャンコイルと、Y軸方向において電子ビームをスキャンするためのYスキャンコイルにより構成されるスキャンコイルユニット17が、フィラメント16を囲むようにして配設されている。
A
以上説明した各構成要素の他にも、図示は省略されているが、フィラメント16より放出された熱電子を加速して電子ビームを生成する電界を形成するための電極、冷却水が流通する流水路などが、本体ケース20の内部には配設されている。
In addition to the components described above, although not shown in the drawings, electrodes for forming an electric field for accelerating the thermal electrons emitted from the
図2(一部を切り欠いて断面表示した側面図)は、以上のように構成された電子銃10を作動させた場合の様子を示している。図示するように、フィラメント16より放出された熱電子が加速されることにより生成され、上部カバー21の開口22を介して射出される電子ビームEBは、本体ケース20の内部に配設された各ポールピース11a,11b,12a,12bが形成する磁界により、概ね270度偏向して、ルツボ100内に収容された蒸着材料の表面部を照射することになる。
FIG. 2 (a side view in which a part is cut out and shown in cross section) shows a state where the electron gun 10 configured as described above is operated. As shown in the drawing, the electron beams EB generated by accelerating the thermoelectrons emitted from the
このように、本発明による電子銃10では、各ポールピース11a,11b,12a,12bを、本体ケース20の外部に露出しない構成を用いて、電子ビームEBを偏向するようにしている。したがって、電子ビームEBの照射を受けてルツボ100から飛散する蒸着粒子が、各ポールピース11a,11b,12a,12bに付着することはない。
Thus, in the electron gun 10 according to the present invention, the electron beam EB is deflected by using a configuration in which the
また、冷却されている本体ケース20の内部に、各ポールピース11a,11b,12a,12bが配設されていることから、各ポールピース11a,11b,12a,12bが熱せられて、その温度が上昇するということもない。したがって、磁気回路の特性も変化することはなく、電子ビームEBの軌道は安定したものとなる。
Moreover, since each
以上においては、磁力発生源として、永久磁石14を用いる場合について説明した。しかし、本発明は、これに限定されるものではない。電流が流れることによって磁力が発生する電磁石を用いる場合についても、本発明は適用され得るものである。
The case where the
また、ポールピース11a,11b,12a,12bとして、細板状に形成されたものを例に挙げて説明したが、本発明は、これに限られるものではない。その他にも、例えば角柱状に形成されたポールピースを使用する場合にも、本発明は適用し得るものである。
Moreover, although the
さらに、電子ビームEBを概ね270度偏向する場合について説明した、しかし、本発明は、これに限定されるものではなく、これ以外にも、例えば概ね180度偏向する場合についても、本発明は適用することができるものである。 Furthermore, the case where the electron beam EB is deflected approximately 270 degrees has been described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to a case where the electron beam EB is deflected approximately 180 degrees, for example. Is something that can be done.
10 電子銃
11a,11b,12a,12b ポールピース
13a,13b 回路形成部材
14 永久磁石
15a,15b 回路形成部材
16 フィラメント
17 スキャンコイルユニット
20 本体ケース
21 上部カバー
22 開口
30 電子銃
31 本体ケース
32 上部カバー
33 開口
34a,34b ポールピース
40 電子銃
41a,41b ポールピース
100 ルツボ
200 シャッター
EB 電子ビーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10
Claims (1)
前記ケース内に配設された、加熱されることにより熱電子を放出するためのフィラメント(16)と、
前記ケース内に配設された、前記フィラメントより放出される前記熱電子を加速して生成される電子ビーム(EB)を偏向する第1の磁界を、前記磁力発生源からの磁気を受けて形成するための第1の対向する1対の横設されたポールピース(11a,11b)と、
前記ケース内に配設された、前記第1の対向する1対の横設されたポールピースが形成する前記第1の磁界により偏向される前記電子ビームの軌道を調整する第2の磁界を、前記磁力発生源からの磁気を受けて形成するための第2の対向する1対の横設されたポールピース(12a,12b)と、
前記ケース内に配設された、前記電子ビームをルツボ(100)内に収容された蒸着材料上でX軸方向においてスキャンするための第1のスキャンコイルおよびY軸方向においてスキャンするための第2のスキャンコイルからなるスキャンコイルユニット(17)とを
含む蒸着用電子銃。 A magnetic force source (14) disposed in a case (20) with a cover (21) having an opening (22) attached to the top;
A filament (16) disposed in the case for emitting thermoelectrons when heated;
A first magnetic field disposed inside the case and deflecting an electron beam (EB) generated by accelerating the thermoelectrons emitted from the filament is formed by receiving magnetism from the magnetic force generation source. A first opposing pair of horizontally disposed pole pieces (11a, 11b) for
A second magnetic field for adjusting a trajectory of the electron beam deflected by the first magnetic field formed by the first opposing pair of horizontally disposed pole pieces disposed in the case; A second pair of laterally disposed pole pieces (12a, 12b) for receiving and forming magnetism from the magnetic source;
A first scan coil disposed in the case for scanning in the X-axis direction on the vapor deposition material accommodated in the crucible (100) and a second scan for scanning in the Y-axis direction. An electron gun for vapor deposition comprising a scan coil unit (17) comprising a scan coil.
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