JP2010008125A - Bubble sorting method in glass substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、カラーフィルタの外観検査に関するものであり、特に、液晶表示装置用カラーフィルタの外観検査によって検出された欠陥から、作業員によらず気泡の選別処理をするガラス基板内の気泡選別処理法に関する。 The present invention relates to an appearance inspection of a color filter, and in particular, a bubble selection process in a glass substrate that performs a bubble selection process regardless of an operator from a defect detected by an appearance inspection of a color filter for a liquid crystal display device. Regarding the law.
液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの製造方法としては、先ず、ガラス基板上にブラックマトリックスを形成し、次に、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上のブラックマトリックスのパターンに位置合わせして着色画素を形成し、更に透明導電膜、フォトスペーサー、配向制御用突起などを順次に位置合わせして形成するといった方法が広く用いられている。 As a method of manufacturing a color filter used in a liquid crystal display device, first, a black matrix is formed on a glass substrate, and then a colored pixel is aligned with the black matrix pattern on the glass substrate on which the black matrix is formed. In addition, a method of forming a transparent conductive film, a photospacer, an alignment control protrusion, and the like in sequence is widely used.
ブラックマトリックスは遮光性を有し、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。このブラックマトリックスの形成は、例えば、黒色感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法によって形成するといった方法がとられている。 The black matrix has a light-shielding property, determines the position of the colored pixels of the color filter, makes the size uniform, and shields unwanted light when used in a display device. It has a function of making a uniform image with no unevenness and improved contrast. For example, the black matrix is formed by a photolithography method using a black photosensitive resin.
また、着色画素は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものであり、このブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストの塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
また、透明導電膜の形成は、着色画素及びブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
The colored pixels have, for example, red, green, and blue filter functions. For example, a negative photoresist made of a pigment such as a pigment dispersed on a glass substrate on which the black matrix is formed. A method is adopted in which a coating film is provided and colored pixels are formed by exposure and development on the coating film.
The transparent conductive film is formed on a glass substrate on which colored pixels and a black matrix are formed by, for example, forming a transparent conductive film by sputtering using ITO (Indium Tin Oxide).
また、フォトスペーサー、及び配向制御用突起などの形成は、上記ブラックマトリックス、或いは着色画素の形成と同様にフォトリソグラフィ法によって形成するといった方法がとられている。 In addition, the photo spacer, the alignment control protrusion, and the like are formed by a photolithography method in the same manner as the black matrix or the colored pixel.
このカラーフィルタの製造工程で発生する外観上の欠陥は、その大きさ（範囲）によって、広域欠陥と狭域（点）欠陥とに２分される。広域欠陥は色ムラで代表され、色ムラはカラーフィルタ上の広い範囲に及ぶ色濃度の不良である。また、狭域（点）欠陥は、１）ブラックマトリックスの欠け、着色画素の白抜け（ピンホール）、着色画素のハーフ白抜け、透明導電膜の抜け（ピンホール）などのパターン欠け、２）ブラックマトリックスの残り、着色画素の残り、混色などのパターン残り、３）異物付着（黒欠陥）、４）傷などに大別される。 The appearance defects generated in the manufacturing process of the color filter are divided into a wide area defect and a narrow area (point) defect depending on the size (range). Wide area defects are represented by color unevenness, which is a color density defect over a wide range on a color filter. In addition, narrow-area (point) defects are 1) lack of pattern such as missing black matrix, white spots in colored pixels (pinholes), half white spots in colored pixels, missing transparent conductive films (pinholes), 2) It is roughly divided into black matrix residue, colored pixel residue, mixed color pattern residue, 3) foreign matter adhesion (black defect), and 4) scratch.
これらの欠陥項目の検査は、各製造工程毎に行われることが多い。例えば、ブラックマトリックスの形成後には、ブラックマトリックスの製造中に発生したブラックマトリックスの欠け、ブラックマトリックスの残りなどの項目の検査が行われる。また着色画素の形成後には、着色画素の製造中に発生した着色画素の白抜け（ピンホール）、着色画素のハーフ白抜け、着色画素の残り、異物付着（黒欠陥）、色ムラなどの項目の検査が行われる。 Inspection of these defective items is often performed for each manufacturing process. For example, after the black matrix is formed, items such as black matrix chipping and black matrix remaining generated during the manufacture of the black matrix are inspected. In addition, after the formation of the colored pixels, items such as white spots (pinholes) in the colored pixels, half white spots in the colored pixels, remaining of the colored pixels, adhesion of foreign matter (black defects), color unevenness, etc. Inspection is performed.
上記検査には、透過光によるカラーフィルタの透過検査と反射光による反射検査の２種の検査がある。透過検査による方が欠陥を検出し、良否を識別することが正確、容易な欠
陥には透過検査が行われる。また、反射検査による方が欠陥を検出し、良否を識別することが正確、容易な欠陥には反射検査が行われる。すなわち、各欠陥の性状により透過検査又は／及び反射検査が行われる。
尚、上記検査においては、検査する欠陥項目、良否を識別する水準などは、品目によって適宜に設定して行われる。
The inspection includes two types of inspection: a color filter transmission inspection using transmitted light and a reflection inspection using reflected light. Transmission inspection is performed for defects that are accurate and easy to detect defects and to identify good or bad by the transmission inspection. In addition, a reflection inspection is performed for a defect that is accurate and easy to detect a defect and to discriminate pass / fail by the reflection inspection. That is, a transmission inspection and / or a reflection inspection is performed depending on the nature of each defect.
In the above inspection, the defect item to be inspected, the level for identifying good or bad, etc. are appropriately set depending on the item.
図１は、自動外観検査装置の一例の概略を示す側面図である。また、図２は、その平面図である。図１及び図２に示すように、この自動外観検査装置は、定盤（１１）、検査ステージ（１２）、反射用光源（１３Ａ）、反射用検査カメラ（１４Ａ）、透過用光源（１３Ｂ）、透過用検査カメラ（１４Ｂ）、欠陥検出用の画像処理ユニット（１５）、及び検査制御ＣＰＵ（１６）で構成されている。
検査ステージ（１２）に載置されたカラーフィルタ（被検査体）（１０）は、図１中、白太矢印で示すように、Ｘ軸方向に搬送されながら検査を受ける。
FIG. 1 is a side view showing an outline of an example of an automatic visual inspection apparatus. FIG. 2 is a plan view thereof. As shown in FIGS. 1 and 2, the automatic appearance inspection apparatus includes a surface plate (11), an inspection stage (12), a reflection light source (13A), a reflection inspection camera (14A), and a transmission light source (13B). , A transmission inspection camera (14B), a defect detection image processing unit (15), and an inspection control CPU (16).
The color filter (inspected object) (10) placed on the inspection stage (12) undergoes inspection while being conveyed in the X-axis direction, as indicated by the white arrow in FIG.
反射用光源（１３Ａ）は、射出された検査光を搬送されてきたカラーフィルタ（被検査体）（１０）の表面に斜め上方から照射する。カラーフィルタ（１０）の表面で反射した反射光を反射用検査カメラ（１４Ａ）で受光させ、その信号を画像処理ユニット（１５）へと伝送する。
また、透過用光源（１３Ｂ）は、射出された検査光を搬送されてきたカラーフィルタ（被検査体）（１０）の裏面に下方から垂直に照射する。カラーフィルタ（１０）を透過した透過光を透過用検査カメラ（１４Ｂ）で受光させ、その信号を画像処理ユニット（１５）へと伝送する。画像処理ユニット（１５）では、伝送された信号を処理し、欠陥を識別する。検査制御ＣＰＵ（１６）では、検査の制御、及び欠陥の座標データなど欠陥情報を保存する。
The light source for reflection (13A) irradiates the surface of the color filter (inspected object) (10) that has been transported with the emitted inspection light obliquely from above. The reflected light reflected from the surface of the color filter (10) is received by the reflection inspection camera (14A), and the signal is transmitted to the image processing unit (15).
Further, the transmission light source (13B) irradiates the back surface of the color filter (inspected object) (10) that has been transported with the emitted inspection light vertically from below. The transmitted light transmitted through the color filter (10) is received by the transmission inspection camera (14B), and the signal is transmitted to the image processing unit (15). The image processing unit (15) processes the transmitted signal and identifies defects. The inspection control CPU (16) stores inspection information and defect information such as defect coordinate data.
図２に示すように、この一例における反射用検査カメラ（１４Ａ）は、反射用検査カメラ（１）（１４Ａ（１））〜反射用検査カメラ（８）（１４Ａ（８））の８個の反射用検査カメラで構成されており、これらは、カラーフィルタ（１０）の搬送方向（Ｘ軸方向）と直角に、すなわち、カラーフィルタ（１０）の幅方向（Ｙ軸方向）に一列に順次に配列されている。
また、反射用光源（１３Ａ）は、反射用光源（１）（１３Ａ（１））〜反射用光源（８）（１３Ａ（８））の８個の反射用光源で構成されており、上記反射用検査カメラ（１）（１４Ａ（１））〜反射用検査カメラ（８）（１４Ａ（８））の配列に対応し、Ｙ軸方向に一列に順次に配列されている。
As shown in FIG. 2, the reflection inspection camera (14A) in this example has eight reflection inspection cameras (1) (14A (1)) to reflection inspection cameras (8) (14A (8)). It is composed of inspection cameras for reflection, which are sequentially arranged in a line perpendicular to the conveying direction (X-axis direction) of the color filter (10), that is, in the width direction (Y-axis direction) of the color filter (10). It is arranged.
The reflection light source (13A) is composed of eight reflection light sources including the reflection light source (1) (13A (1)) to the reflection light source (8) (13A (8)). Corresponding to the arrangement of the inspection cameras (1) (14A (1)) to the inspection cameras for reflection (8) (14A (8)), they are sequentially arranged in a line in the Y-axis direction.
また、透過用検査カメラ（１４Ｂ）は、透過用検査カメラ（１）（１４Ｂ（１））〜透過用検査カメラ（８）（１４Ｂ（８））の８個の透過用検査カメラで構成されており、上記反射用検査カメラ（１）（１４Ａ（１））〜反射用検査カメラ（８）（１４Ａ（８））の配列に対応し、Ｙ軸方向に一列に順次に配列されている。また、透過用光源（１３Ｂ）は、透過用光源（１）（１３Ｂ（１））〜透過用光源（８）（１３Ｂ（８））の８個の透過用光源で構成されており、各々が定盤（１１）の下方にて透過用検査カメラ（１）（１４Ｂ（１））〜透過用検査カメラ（８）（１４Ｂ（８））の配列に対応し、Ｙ軸方向に一列に順次に配列されている。 Further, the transmission inspection camera (14B) is composed of eight transmission inspection cameras of the transmission inspection camera (1) (14B (1)) to the transmission inspection camera (8) (14B (8)). This corresponds to the arrangement of the reflection inspection cameras (1) (14A (1)) to the reflection inspection cameras (8) (14A (8)) and is sequentially arranged in a line in the Y-axis direction. The transmissive light source (13B) is composed of eight transmissive light sources including a transmissive light source (1) (13B (1)) to a transmissive light source (8) (13B (8)). Corresponding to the array of transmission inspection cameras (1) (14B (1)) to transmission inspection cameras (8) (14B (8)) below the surface plate (11), sequentially in a line in the Y-axis direction. It is arranged.
図３は、カラーフィルタ（被検査体）（１０）上における、反射用検査カメラと透過用検査カメラによる走査領域を説明する平面図である。図３に示すカラーフィルタ（１０）のサイズは、例えば、幅（Ｗ）１５００ｍｍ×長さ（Ｌ）１８００ｍｍ程度のものである。図１及び図２に示すように、反射用検査カメラ（１４Ａ）及び透過用検査カメラ（１４Ｂ）は固定されており、カラーフィルタ（１０）が検査ステージ（１２）に載置された状態で、白太矢印で示すように、図３中、左方から右方へ移動し、カラーフィルタ（被検査体）（１０）面が走査される。 FIG. 3 is a plan view for explaining a scanning area on the color filter (inspected object) (10) by the reflection inspection camera and the transmission inspection camera. The size of the color filter (10) shown in FIG. 3 is, for example, about width (W) 1500 mm × length (L) 1800 mm. As shown in FIGS. 1 and 2, the reflection inspection camera (14A) and the transmission inspection camera (14B) are fixed, and the color filter (10) is placed on the inspection stage (12). As indicated by the white arrow, the color filter (inspected object) (10) plane is scanned from the left to the right in FIG.
符号（Ｓｒ（１））は、反射用検査カメラ（１）（１４Ａ（１））及び透過用検査カメラ（１）（１４Ｂ（１））の走査領域を表している。同様に、符号（Ｓｒ（２））〜符号（Ｓｒ（８））は、各々、〔反射用検査カメラ（２）（１４Ａ（２））及び透過用検査カメラ（２）（１４Ｂ（２））〕〜〔反射用検査カメラ（８）（１４Ａ（８））及び透過用検査カメラ（８）（１４Ｂ（８））〕の走査領域を表している。 Reference numeral (Sr (1)) represents a scanning region of the inspection camera for reflection (1) (14A (1)) and the inspection camera for transmission (1) (14B (1)). Similarly, reference numerals (Sr (2)) to (Sr (8)) denote [reflection inspection camera (2) (14A (2)) and transmission inspection camera (2) (14B (2)), respectively. ] To [scanning areas of the inspection camera for reflection (8) (14A (8)) and the inspection camera for transmission (8) (14B (8))].
反射用検査カメラ（１４Ａ）及び透過用検査カメラ（１４Ｂ）の撮像素子としては、例えば、ラインセンサーが用いられることが多い。
図３に示す例は、反射用検査カメラ（１４Ａ（１）〜１４Ａ（８））及び透過用検査カメラ（１４Ｂ（１）〜１４Ｂ（８））の各々が、対応したカラーフィルタ（被検査体）（１０）上の走査領域（Ｓｒ（１）〜Ｓｒ（８））を、図３中、右方から左方への１走査で撮像を終了する例である。
例えば、撮像の解像度を高めるために、１走査領域を図３中、上下に２分割した２走査を、或いは上下に４分割した４走査を行う場合もある。
For example, a line sensor is often used as the imaging device of the reflection inspection camera (14A) and the transmission inspection camera (14B).
In the example shown in FIG. 3, each of the reflection inspection camera (14A (1) to 14A (8)) and the transmission inspection camera (14B (1) to 14B (8)) corresponds to a color filter (inspected object). ) (10) This is an example in which imaging of the scanning region (Sr (1) to Sr (8)) on the upper side is completed by one scanning from right to left in FIG.
For example, in order to increase the imaging resolution, there are cases where one scan area is divided into two scans divided into two in the vertical direction in FIG. 3, or four scans divided into four in the vertical direction.
図４は、検査カメラにて撮像されたカラーフィルタ映像の一例を模式的に示す説明図である。図４に示すように、被検査体としてのカラーフィルタは、ブラックマトリックス（２１）が形成され外観検査の終了したガラス基板上に、赤色、緑色、青色の着色画素（２２）が形成された状態のものである。各色の着色画素（２２）は、その各々が、図４中、Ｙ軸方向に連続して配設されている。またＸ軸方向には、その各色の連続した列が赤色、緑色、青色の順に繰り返し配設されている。赤色の着色画素（Ｐ２）に欠陥（Ｄ）が発生している例である。 FIG. 4 is an explanatory diagram schematically illustrating an example of a color filter image captured by the inspection camera. As shown in FIG. 4, the color filter as the object to be inspected is a state in which red, green, and blue colored pixels (22) are formed on the glass substrate on which the black matrix (21) is formed and the appearance inspection is finished. belongs to. Each of the colored pixels (22) of each color is continuously arranged in the Y-axis direction in FIG. In the X-axis direction, a continuous row of each color is repeatedly arranged in the order of red, green, and blue. This is an example in which a defect (D) occurs in a red colored pixel (P2).
図５（ａ）は、図４に示す左端の赤色の着色画素（Ｐ１）の点線で囲む部分を拡大した説明図である。また、図５（ｂ）は、隣接する赤色の着色画素（Ｐ２）の点線で囲む部分を拡大した説明図である。
この検査装置は、欠陥がランダムに発生することを前提にして、隣接する同色の着色画素（２２）を比較して欠陥を検出する比較方式を採用したものである。図４中、左端の赤色の着色画素（Ｐ１）の特定箇所（Ｋｉ）の明るさ（検査カメラへ入射する光の強さ）と、隣接する赤色の着色画素（Ｐ２）の特定箇所（Ｋｉ）の明るさの差によって欠陥を識別する。
FIG. 5A is an explanatory diagram in which a portion surrounded by a dotted line of the red colored pixel (P1) at the left end shown in FIG. 4 is enlarged. FIG. 5B is an explanatory diagram in which a portion surrounded by a dotted line of the adjacent red colored pixel (P2) is enlarged.
This inspection apparatus employs a comparison method in which defects are detected by comparing adjacent colored pixels (22) of the same color on the assumption that the defects occur randomly. In FIG. 4, the brightness (intensity of light incident on the inspection camera) of the specific portion (Ki) of the red colored pixel (P1) at the left end and the specific portion (Ki) of the adjacent red colored pixel (P2). Identify defects by the difference in brightness.
１個の着色画素は、複数の領域（Ｋ１〜Ｋｎ）に分割される。複数に分割された１領域は、検査のために比較する着色画素上の１単位であり、以降、本発明においては、この１領域を検査画素と称する。また、例えば、欠陥を複数に分割した際には、その１領域を検査画素と称する。
先ず、左端の赤色の着色画素（Ｐ１）の第１検査画素（Ｋ１）の明るさと、隣接する赤色の着色画素（Ｐ２）の第１検査画素（Ｋ１）の明るさを比較し、次に、着色画素（Ｐ１）の第２検査画素（Ｋ２）の明るさと、着色画素（Ｐ２）の第２検査画素（Ｋ２）の明るさを比較し、以降、同様に順次に比較を行い、着色画素（Ｐ１）に対する着色画素（Ｐ２）の欠陥の有無を識別する。
One colored pixel is divided into a plurality of regions (K1 to Kn). One area divided into a plurality is one unit on a colored pixel to be compared for inspection, and hereinafter, this one area is referred to as an inspection pixel in the present invention. For example, when a defect is divided into a plurality of areas, one area is referred to as an inspection pixel.
First, the brightness of the first inspection pixel (K1) of the red coloring pixel (P1) at the left end is compared with the brightness of the first inspection pixel (K1) of the adjacent red coloring pixel (P2). The brightness of the second inspection pixel (K2) of the coloring pixel (P1) is compared with the brightness of the second inspection pixel (K2) of the coloring pixel (P2). The presence or absence of a defect in the colored pixel (P2) with respect to P1) is identified.
図５においては、着色画素（Ｐ１）の第ｉ検査画素（Ｋｉ）の明るさと、着色画素（Ｐ２）の第ｉ検査画素（Ｋｉ）の明るさの差が大きいために欠陥と識別されることになる。この明るさは、検査カメラが再現する輝度範囲を、例えば、８ビット（２５６）にて区分した２５６段階で表示した数値を用い、その数値の差が、予め設定した閾値以上であるとき、着色画素（Ｐ２）の第ｉ検査画素（Ｋｉ）は欠陥と識別するようにしておく。 In FIG. 5, since the difference between the brightness of the i-th inspection pixel (Ki) of the colored pixel (P1) and the brightness of the i-th inspection pixel (Ki) of the colored pixel (P2) is large, it is identified as a defect. become. For this brightness, for example, a numerical value displayed in 256 levels obtained by dividing the luminance range reproduced by the inspection camera by 8 bits (256) is used. When the difference between the numerical values is equal to or larger than a preset threshold value, coloring is performed. The i-th inspection pixel (Ki) of the pixel (P2) is identified as a defect.
自動外観検査装置で検出された欠陥は、例えば、自動外観検査装置の後工程に設置されたレビュー装置を使用して、作業員がモニターで欠陥を確認する。
図６は、作業員が欠陥を確認する際に使用するレビュー装置の一例の概略を示す側面図である。また、図７は、その平面図である。図６及び図７に示すように、このレビュー装置は、定盤（１１）、検査ステージ（１２）、顕微鏡（１４Ｃ）、モニター（１７）で構成されている。
As for the defect detected by the automatic visual inspection apparatus, for example, the worker confirms the defect on the monitor by using a review apparatus installed in a subsequent process of the automatic visual inspection apparatus.
FIG. 6 is a side view illustrating an outline of an example of a review device used when a worker confirms a defect. FIG. 7 is a plan view thereof. As shown in FIGS. 6 and 7, the review device is composed of a surface plate (11), an inspection stage (12), a microscope (14C), and a monitor (17).
検査ステージ（１２）に載置されたカラーフィルタ（被検査体）（１０）は、定盤（１１）上で静止した状態で欠陥の確認を受ける。レビュー装置は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向への移動機構（図示せず）によって、定盤（１１）上方の顕微鏡（１４Ｃ）を任意のＸＹ座標位置へ移動させることが出来るようになっている。
また、Ｚ軸方向への移動機構（図示せず）によって、顕微鏡（１４Ｃ）をＺ軸方向へ上下動することが出来るようになっている。また、顕微鏡（１４Ｃ）はオートフォーカスユニットを備えており、Ｚ軸方向にてカラーフィルタ（１０）近傍の任意の位置に焦点を合わせることが出来るようになっている。
The color filter (inspected object) (10) placed on the inspection stage (12) is checked for defects while still on the surface plate (11). The review device can move the microscope (14C) above the surface plate (11) to an arbitrary XY coordinate position by a moving mechanism (not shown) in the X-axis direction and the Y-axis direction. .
Further, the microscope (14C) can be moved up and down in the Z-axis direction by a moving mechanism (not shown) in the Z-axis direction. Further, the microscope (14C) includes an autofocus unit, and can focus on an arbitrary position near the color filter (10) in the Z-axis direction.
レビュー装置は、通信手段によって自動外観検査装置の検査制御ＣＰＵ（１６）に接続されており、検査制御ＣＰＵ（１６）に保存された、前記欠陥の座標データを基に、顕微鏡（１４Ｃ）をカラーフィルタ（被検査体）（１０）上の欠陥上方の位置に移動させることが出来るようになっている。 The review apparatus is connected to the inspection control CPU (16) of the automatic appearance inspection apparatus by communication means, and the microscope (14C) is colored based on the coordinate data of the defect stored in the inspection control CPU (16). The filter (inspected object) (10) can be moved to a position above the defect.
顕微鏡（１４Ｃ）は、撮像素子としてエリアセンサーを備えており、内蔵する照明装置からの検査光をカラーフィルタ（被検査体）（１０）上に照射し、オートフォーカスで焦点を合わせ欠陥の映像を取得し、取得した映像をモニター（１７）上に表示することができる。
作業員は、レビュー装置のモニター（１７）上に表示される映像を観視して、自動外観検査装置が検出した欠陥を確認する。
The microscope (14C) includes an area sensor as an image sensor, irradiates the inspection light from the built-in illumination device onto the color filter (inspected object) (10), focuses by autofocus, and displays an image of the defect. The acquired video can be displayed on the monitor (17).
The worker observes the video displayed on the monitor (17) of the review device, and confirms the defect detected by the automatic visual inspection device.
図８は、撮像されたカラーフィルタ映像の一例を模式的に示す平面図である。また、図９は、図８のＡ−Ａ線での断面図である。図８及び図９に示すように、被検査体としてのカラーフィルタは、厚さ（ｔ）１．０ｍｍ程度のガラス基板（２０）上にブラックマトリックス（２１）が形成され外観検査が終了し、欠陥が検出された段階のものである。 FIG. 8 is a plan view schematically showing an example of a captured color filter image. FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. As shown in FIGS. 8 and 9, the color filter as the object to be inspected has a black matrix (21) formed on a glass substrate (20) having a thickness (t) of about 1.0 mm, and the appearance inspection is completed. It is a stage where a defect is detected.
符号（Ｄ２）は、ブラックマトリックス（２１）上に発生した異物付着（黒欠陥）であり、また、符号（Ｄ３）は、ブラックマトリックス（２１）の下方、ガラス基板（２０）内の気泡である。自動外観検査装置では、ガラス基板（２０）内の気泡を気泡として認識することができないため、異物付着（黒欠陥）、気泡の両者が欠陥として検出される。 Reference numeral (D2) indicates adhesion of foreign matter (black defect) generated on the black matrix (21), and reference numeral (D3) indicates bubbles in the glass substrate (20) below the black matrix (21). . In the automatic appearance inspection apparatus, since bubbles in the glass substrate (20) cannot be recognized as bubbles, both foreign matter adhesion (black defects) and bubbles are detected as defects.
一般的な着色画素の大きさは、幅（ａ）（６０〜１２０μｍ）×長さ（ｂ）（１００〜３００μｍ）□の大きさであり、修正の対象となる欠陥の大きさは２０μｍφ〜７０μｍφ程度のものである。これに対して、気泡の大きさは３０μｍφ〜５００μｍφ程度であり、また、気泡は欠陥項目とされておらず、良品扱いとなっている。
例外的に製品の種類、用途によっては、例えば、１５０μｍφ以上の大きさの気泡が欠陥として指定されることがあるが、ガラス基板内に残存している気泡は、概ね欠陥項目からは外されている。
The size of a general colored pixel is a size of width (a) (60 to 120 μm) × length (b) (100 to 300 μm) □, and the size of a defect to be corrected is 20 μmφ to 70 μmφ. It is about. On the other hand, the size of the bubbles is about 30 μm to 500 μmφ, and the bubbles are not regarded as defective items and are treated as non-defective products.
Depending on the type of product and application, for example, bubbles with a size of 150 μmφ or more may be designated as defects, but the bubbles remaining in the glass substrate are generally excluded from the defect items. Yes.
従って、自動外観検査装置によって欠陥として検出された気泡を、検出された欠陥から選別し、良品扱いとするために、作業員がレビュー装置を使用して検出された欠陥が気泡であるか否かの確認、選別をすることになる。
つまり、レビュー装置では、自動外観検査装置で欠陥として検出された欠陥が、気泡であ
るか否かを確認し、選別する負担が残されている。
In other words, in the review device, there remains a burden of checking whether the defect detected as a defect by the automatic visual inspection device is a bubble or not.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、カラーフィルタの外観検査装置によって検出された欠陥から、作業員によらず気泡を選別し、処理をすることのできるガラス基板内の気泡選別処理法を提供することを課題とするものである。
これにより、欠陥項目とはなっていない気泡を、後工程であるレビュー装置で改めて確認し、選別する負担が解消されるものとなる。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems. From the defects detected by the color filter appearance inspection apparatus, bubbles can be selected and processed regardless of the operator. It is an object of the present invention to provide a bubble sorting method.
As a result, the burden of reconfirming and selecting bubbles that are not defective items with a review device, which is a subsequent process, is eliminated.
本発明は、カラーフィルタの外観検査装置で検出された欠陥から、ガラス基板内の気泡を選別する気泡選別処理法において、
１）エリアセンサー及びオートフォーカスユニットを備えた顕微鏡を用い、前記欠陥の上方よりガラス基板上面に焦点を合わせて欠陥の第１映像情報を取得し、
２）続いて、該顕微鏡を予め設定された数値分降下させ、ガラス基板内に焦点を合わせ、欠陥の第２映像情報を取得し、
３）該欠陥の第２映像情報を構成する複数の検査画素の明るさを予め設定された閾値で２値化して、複数の２値検査画素とし、
４）該複数の２値検査画素の位置情報から、最小二乗法を利用した楕円フィッティング処理を行い、その適合率が予め設定された適合率より高い際に該欠陥を気泡と判定し、
５）該欠陥を欠陥から除外する、或いは気泡として登録する選別処理を行うことを特徴とするガラス基板内の気泡選別処理法である。
The present invention is a bubble sorting method for sorting bubbles in a glass substrate from defects detected by a color filter appearance inspection apparatus.
1) Using a microscope equipped with an area sensor and an autofocus unit, focus on the upper surface of the glass substrate from above the defect to obtain first image information of the defect,
2) Subsequently, the microscope is lowered by a preset numerical value, focused on the glass substrate, and second image information of the defect is obtained,
3) The brightness of a plurality of inspection pixels constituting the second video information of the defect is binarized with a preset threshold value to obtain a plurality of binary inspection pixels,
4) From the position information of the plurality of binary inspection pixels, an ellipse fitting process using a least square method is performed, and when the precision is higher than a preset precision, the defect is determined as a bubble,
5) A method for selecting bubbles in a glass substrate, wherein a screening process is performed in which the defects are excluded from the defects or registered as bubbles.
また、本発明は、上記発明によるガラス基板内の気泡選別処理法において、前記欠陥の欠陥情報は、欠陥検出用の画像処理ユニットを介して外観検査装置の検査制御ＣＰＵに保存することができ、前記欠陥の第１映像情報及び第２映像情報は、映像情報の画像処理ボードユニットを介して外観検査装置の検査制御ＣＰＵに保存することができることを特徴とするガラス基板内の気泡選別処理法である。 Further, the present invention is the method for selecting bubbles in a glass substrate according to the above invention, wherein the defect defect information can be stored in an inspection control CPU of an appearance inspection apparatus via an image processing unit for defect detection, In the bubble selection processing method in the glass substrate, the first video information and the second video information of the defect may be stored in an inspection control CPU of an appearance inspection apparatus through an image processing board unit of the video information. is there.
本発明は、１）エリアセンサー及びオートフォーカスユニットを備えた顕微鏡を用い、前記欠陥の上方よりガラス基板上面に焦点を合わせて欠陥の第１映像情報を取得し、２）続いて、該顕微鏡を予め設定された数値分降下させ、ガラス基板内に焦点を合わせ、欠陥の第２映像情報を取得し、３）該欠陥の第２映像情報を構成する複数の検査画素の明るさを予め設定された閾値で２値化して、複数の２値検査画素とし、４）該複数の２値検査画素の位置情報から、最小二乗法を利用した楕円フィッティング処理を行い、その適合率が予め設定された適合率より高い際に該欠陥を気泡と判定し、５）該欠陥を欠陥から除外する、或いは気泡として登録する選別処理を行うので、カラーフィルタの外観検査装置によって検出された欠陥から、作業員によらず気泡を選別し、処理をすることのできるガラス基板内の気泡選別処理法となる。
これにより、欠陥項目とはなっていない気泡を、後工程であるレビュー装置で改めて確認し、選別する負担が解消されるものとなる。
The present invention uses 1) a microscope equipped with an area sensor and an autofocus unit to focus on the upper surface of the glass substrate from above the defect to obtain first image information of the defect. 2) Subsequently, the microscope is Decrease by a preset numerical value, focus on the glass substrate, acquire second image information of the defect, and 3) brightness of a plurality of inspection pixels constituting the second image information of the defect is set in advance The binarization is performed to obtain a plurality of binary inspection pixels. 4) Ellipse fitting processing using the least square method is performed from the position information of the plurality of binary inspection pixels, and the precision is set in advance. When the accuracy is higher than the precision, the defect is determined to be a bubble. 5) Since the defect is excluded from the defect or is registered as a bubble, the defect is detected from the defect detected by the color filter appearance inspection device. Sorted bubbles regardless of, the bubble sorting treatment in the glass substrate capable of processing.
As a result, the burden of reconfirming and selecting bubbles that are not defective items with a review device, which is a subsequent process, is eliminated.
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
ガラス基板内の気泡は、ガラス基板の製造時に様々な要因により生成したガラス基板内の気泡が脱泡しきれずに残存した気泡である。本発明者は、この気泡を精査した結果、気泡はラグビーボール状の微小な空洞であり、その長軸の長さと、短軸の長さの比は各々異なるものの、平面視で概ね楕円形状を呈していることに着目し、本発明を達成するに至った。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The bubbles in the glass substrate are bubbles that remain without being completely defoamed in the glass substrate generated due to various factors during the production of the glass substrate. The present inventor has scrutinized the bubbles, and as a result, the bubbles are minute rugby ball-like cavities, and the ratio of the length of the major axis to the length of the minor axis is different, but the shape of the bubble is almost elliptical in plan view. The present invention has been achieved by paying attention to the present.
本発明によるガラス基板内の気泡選別処理法は、予め、
Ａ）顕微鏡を用い、欠陥の第２映像情報を取得する際に、顕微鏡を降下させる数値、
Ｂ）取得した欠陥の第２映像情報を構成する複数の検査画素を、複数の２値検査画素とする際の閾値、
Ｃ）楕円フィッティング処理を行い、欠陥が気泡か否かを判定する際の適合率、を設定しておく。
The bubble selection processing method in the glass substrate according to the present invention,
A) A numerical value for lowering the microscope when acquiring the second image information of the defect using the microscope,
B) Threshold value when a plurality of inspection pixels constituting the acquired second image information of the defect are a plurality of binary inspection pixels,
C) An ellipse fitting process is performed, and a relevance ratio for determining whether or not a defect is a bubble is set.
図１０は、撮像されたカラーフィルタ映像の一例を模式的に示す平面図である。図１０に示すように、被検査体としてのカラーフィルタは、ガラス基板（２０）上にブラックマトリックス（２１）が形成された段階のものであり、外観検査によって欠陥（Ｄ４）が検出され、顕微鏡によって欠陥（Ｄ４）の第１映像情報として撮像されたものである。 FIG. 10 is a plan view schematically illustrating an example of a captured color filter image. As shown in FIG. 10, the color filter as the object to be inspected is in a stage where the black matrix (21) is formed on the glass substrate (20), and the defect (D4) is detected by the appearance inspection, and the microscope Is taken as the first video information of the defect (D4).
図１０は、欠陥（Ｄ４）の上方よりガラス基板（２０）上面に焦点を合わせて撮像したもので、欠陥（Ｄ４）及びブラックマトリックス（２１）の両者が略鮮明に表示されている。
図１１は、図１０に示す状態から、顕微鏡を降下させて撮像した欠陥（Ｄ４）の第２映像情報であり、欠陥（Ｄ４）は、より鮮明に、ブラックマトリックス（２１）は、不鮮明に表示されている。
FIG. 10 shows an image obtained by focusing on the upper surface of the glass substrate (20) from above the defect (D4), and both the defect (D4) and the black matrix (21) are displayed substantially clearly.
FIG. 11 shows the second image information of the defect (D4) imaged by lowering the microscope from the state shown in FIG. 10, and the defect (D4) is displayed more clearly and the black matrix (21) is displayed unclearly. Has been.
顕微鏡の降下は、ガラス基板（２０）内に焦点を合わせるためであるので、例えば、ガラス基板（２０）の厚みが、０．７ｍｍの際には、上記Ａ）顕微鏡を降下させる数値は、０．３５ｍｍ程度のものとなる。 Since the descent of the microscope is for focusing on the glass substrate (20), for example, when the thickness of the glass substrate (20) is 0.7 mm, the numerical value for lowering the A) microscope is 0. .About 35mm.
図１１に示す欠陥（Ｄ４）が、仮に異物付着（黒欠陥）とすると、欠陥（Ｄ４）は一様に暗く表示されることが多い。一方、欠陥（Ｄ４）が気泡の際には、図１１中、斜線で示すように、平面視で、欠陥（Ｄ４）の周縁部（ｄ）が暗く、中央部（ｃ）が明るく、この間は明るさに濃淡のある多階調に表示される性向を有している。これは、気泡が空洞であるためと推量されている。 If the defect (D4) shown in FIG. 11 is assumed to be a foreign matter adhesion (black defect), the defect (D4) is often displayed uniformly dark. On the other hand, when the defect (D4) is a bubble, as shown by the oblique lines in FIG. 11, the peripheral edge (d) of the defect (D4) is dark and the center (c) is bright in plan view. It has a tendency to be displayed in multi-gradation with light and shade. This is presumed to be because the bubbles are hollow.
本発明においては、欠陥（Ｄ４）を複数の領域に分割した検査画素を、上記欠陥（Ｄ４）が気泡の際での多階調の明るさに準じた明るさを有する状態、例えば、８ビット（２５６）にて区分した階調で表した状態で楕円フィッティング処理を行うのではなく、明るさの、ある閾値で検査画素の明るさを２値化した２値検査画素を用いて楕円フィッティング処理を行う。
例えば、図１１に示す欠陥（Ｄ４）の中央部（ｃ）の検査画素も用いる際には、上記Ｂ）複数の２値検査画素とする際の閾値は、欠陥（Ｄ４）の中央部（ｃ）の明るさまでの検査画素が欠陥（Ｄ４）を構成する２値検査画素となるように、閾値を設定する。
In the present invention, the inspection pixel obtained by dividing the defect (D4) into a plurality of regions is in a state where the defect (D4) has brightness according to the multi-tone brightness when the bubble is a bubble, for example, 8 bits. Rather than performing the elliptical fitting process in the state represented by the gradations divided in (256), the elliptical fitting process is performed using a binary inspection pixel in which the brightness of the inspection pixel is binarized with a certain threshold of brightness. I do.
For example, when the inspection pixel at the center (c) of the defect (D4) shown in FIG. 11 is also used, the threshold value for the B) plural binary inspection pixels is the center (c) of the defect (D4). The threshold value is set so that the inspection pixels up to the brightness of) become the binary inspection pixels constituting the defect (D4).
図１２は、図１１に示す欠陥（Ｄ４）を検出する際の、複数の領域に分割した検査画素を拡大して模式的に例示した説明図である。図１２に×印で表す２値検査画素（２Ｋ−０）は、欠陥（Ｄ４）を構成する検査画素であり、上記閾値以下の明るさを有する検査画素を、２値である０／１の０、すなわち、「暗い」とした２値化後の２値検査画素である。例えば、欠陥（Ｄ４）の周縁部にある上記閾値以上の明るさを有する検査画素は、２値である０／１の１、すなわち、２値化後には２値検査画素とはならない。
図１１に示す欠陥（Ｄ４）は、２値化後には複数の２値検査画素（２Ｋ−０）の集合体（Ｄ４’）となり、欠陥（Ｄ４）の２値化後の外周は、複数の２値検査画素（２Ｋ−０）の集合体（Ｄ４’）の外周となる。
FIG. 12 is an explanatory diagram schematically showing an enlarged inspection pixel divided into a plurality of regions when detecting the defect (D4) shown in FIG. A binary inspection pixel (2K-0) indicated by a cross in FIG. 12 is an inspection pixel constituting the defect (D4), and an inspection pixel having a brightness equal to or lower than the threshold value is a binary 0/1. This is a binary inspection pixel after binarization of 0, that is, “dark”. For example, an inspection pixel at the periphery of the defect (D4) having a brightness equal to or higher than the threshold value is not a binary inspection pixel after binarization, that is, 1 of 0/1, that is, binarization.
The defect (D4) shown in FIG. 11 becomes an aggregate (D4 ′) of a plurality of binary inspection pixels (2K-0) after binarization, and the outer periphery of the defect (D4) after binarization has a plurality of This is the outer periphery of the aggregate (D4 ′) of binary inspection pixels (2K-0).
一方、楕円フィッティング処理を行う際の楕円は、図１２中、点線で示す楕円（Ｅｌ）である。上記複数の２値検査画素（２Ｋ−０）の集合体（Ｄ４’）が、楕円か否かを判定する際の、上記Ｃ）適合率は、例えば、残存している気泡の大きさ、欠陥を分割する検査画素の大きさ、ブラックマトリックスから露出する欠陥の対象とする露出度、楕円の形状、大きさなどにより設定する。 On the other hand, the ellipse at the time of performing the ellipse fitting process is an ellipse (El) indicated by a dotted line in FIG. When determining whether the aggregate (D4 ′) of the plurality of binary inspection pixels (2K-0) is an ellipse, the C) precision is, for example, the size of a remaining bubble, a defect Are set according to the size of the inspection pixel to be divided, the degree of exposure of the defect exposed from the black matrix, the shape and size of the ellipse, and the like.
本発明によるガラス基板内の気泡選別処理法においては、上記Ａ）顕微鏡を降下させる数値、Ｂ）複数の２値検査画素とする際の閾値、Ｃ）適合率、の設定後に、気泡の選別処理を開始する。
先ず、欠陥の第１映像情報及び第２映像情報を取得する顕微鏡を、外観検査装置の検査制御ＣＰＵに保存された欠陥の欠陥情報である、欠陥の座標データを基に、被検査体であるカラーフィルタ上の欠陥上方の位置に移動する。
In the bubble selection processing method in the glass substrate according to the present invention, after setting A) a numerical value for lowering the microscope, B) a threshold value for setting a plurality of binary inspection pixels, and C) a matching rate, the bubble selection processing is performed. To start.
First, a microscope that acquires first image information and second image information of a defect is an object to be inspected based on defect coordinate data that is defect information stored in an inspection control CPU of an appearance inspection apparatus. Move to a position above the defect on the color filter.
この欠陥上方にて、顕微鏡は、備えられたオートフォーカスユニットを作動させてカラーフィルタのガラス基板上面に焦点を合わせ、備えられたエリアセンサーにより欠陥の第１映像情報を取得する。
この欠陥の第１映像情報は、モニター上に表示し、また、画像処理ボードユニットを介して外観検査装置の検査制御ＣＰＵに保存することができる。
Above the defect, the microscope operates the provided autofocus unit to focus on the upper surface of the glass substrate of the color filter, and acquires the first image information of the defect by the provided area sensor.
The first video information of the defect can be displayed on the monitor and can be stored in the inspection control CPU of the visual inspection apparatus via the image processing board unit.
続いて、顕微鏡を、この位置から、上記Ａ）により予め設定された数値分降下させ、ガラス基板（２０）内に焦点を合わせ、欠陥の第２映像情報を取得する。
この欠陥の第２映像情報は、モニター上に表示し、また、画像処理ボードユニットを介して外観検査装置の検査制御ＣＰＵに保存することができる。
この際、ガラス基板（２０）内の欠陥を、より鮮明に、また、ガラス基板面上のブラックマトリックス（２１）を、より不鮮明に取得するために、顕微鏡の光学系には被写界深度を狭くする機構が備えられていることが好ましい。
Subsequently, the microscope is lowered from this position by the numerical value set in advance by the above A), focused on the glass substrate (20), and the second image information of the defect is acquired.
The second image information of the defect can be displayed on the monitor and can be stored in the inspection control CPU of the appearance inspection apparatus via the image processing board unit.
At this time, in order to acquire defects in the glass substrate (20) more clearly, and more clearly the black matrix (21) on the glass substrate surface, the optical system of the microscope has a depth of field. It is preferable that a mechanism for narrowing is provided.
次に、取得した、欠陥の第２映像情報を構成する複数の検査画素を、上記Ｂ）により予め設定された閾値で２値化し複数の２値検査画素（２Ｋ−０）とする。
次に、得られた複数の２値検査画素（２Ｋ−０）の位置情報から、最小二乗法を利用した楕円フィッティング処理を行い、その適合率が、上記Ｃ）により予め設定された適合率より高い際に該欠陥を気泡と判定する。
Next, the acquired plurality of inspection pixels constituting the defective second video information are binarized with the threshold set in advance in B) to form a plurality of binary inspection pixels (2K-0).
Next, ellipse fitting processing using the least square method is performed from the obtained positional information of the plurality of binary inspection pixels (2K-0), and the relevance rate is obtained from the relevance rate preset in C). When it is high, the defect is determined as a bubble.
次に、気泡と判定された該欠陥を欠陥から除外する、或いは気泡として登録する選別処理を行う。尚、気泡と判定されなかった該欠陥は、気泡以外の欠陥と判定する。 Next, a sorting process for excluding the defect determined to be a bubble or registering it as a bubble is performed. The defect that has not been determined to be a bubble is determined to be a defect other than a bubble.
上記のように、本発明によれば、顕微鏡を用い、欠陥の上方よりガラス基板上面に焦点を合わせて欠陥の第１映像情報を取得し、続いて、ガラス基板内に焦点を合わせ、欠陥の第２映像情報を取得し、欠陥の第２映像情報を構成する検査画素を２値検査画素とし、最小二乗法を利用した楕円フィッティング処理を行い欠陥を気泡と判定するので、検出された欠陥から、作業員によらず気泡を選別し、処理をすることができる。 As described above, according to the present invention, the first image information of the defect is obtained by focusing on the upper surface of the glass substrate from above the defect using the microscope, and subsequently, focusing on the inside of the glass substrate, Since the second video information is acquired, the inspection pixel constituting the second video information of the defect is a binary inspection pixel, and the elliptic fitting process using the least square method is performed to determine the defect as a bubble. The air bubbles can be sorted and processed regardless of the operator.
１０・・・被検査体カラーフィルタ
１１・・・定盤
１２・・・検査ステージ
１３Ａ・・・反射用光源
１３Ｂ・・・透過用光源
１４Ａ・・・反射用検査カメラ
１４Ｂ・・・透過用検査カメラ
１４Ｃ・・・顕微鏡
１５・・・欠陥検出用の画像処理ユニット
１６・・・検査制御ＣＰＵ
１７・・・モニター
２０・・・ガラス基板
２１・・・ブラックマトリックス
２２・・・着色画素
Ｂ・・・青色の着色画素
Ｇ・・・緑色の着色画素
Ｒ・・・赤色の着色画素
Ｄ、Ｄ２、Ｄ４・・・欠陥
Ｄ３・・・気泡
Ｄ４’・・・２値検査画素の集合体
Ｅｌ・・・楕円
Ｋ１〜Ｋｎ・・・第１検査画素〜第ｎ検査画素
Ｋｉ・・・着色画素の特定箇所
２Ｋ−０・・・２値化後の２値検査画素
Ｌ・・・カラーフィルタの長さ
Ｐ１・・・左端の赤色の着色画素
Ｐ２・・・隣接する赤色の着色画素
Ｓｒ・・・反射用検査カメラ及び透過用検査カメラの走査領域
Ｗ・・・カラーフィルタの幅
１３Ａ（１）〜（８）・・・反射用光源（１）〜（８）
１３Ｂ（１）〜（８）・・・透過用光源（１）〜（８）
１４Ａ（１）〜（８）・・・反射用検査カメラ（１）〜（８）
１４Ｂ（１）〜（８）・・・透過用検査カメラ（１）〜（８）
ａ・・・着色画素の幅
ｂ・・・着色画素の長さ
ｃ・・・欠陥の中央部
ｄ・・・欠陥の周縁部
ｔ・・・ガラス基板の厚さ
DESCRIPTION OF
17 ...
13B (1) to (8) ... Light source for transmission (1) to (8)
14A (1)-(8) ... Inspection camera for reflection (1)-(8)
14B (1)-(8) ... Inspection camera for transmission (1)-(8)
a ... colored pixel width b ... colored pixel length c ... defect center part d ... defect peripheral edge t ... glass substrate thickness
Claims (2)
１）エリアセンサー及びオートフォーカスユニットを備えた顕微鏡を用い、前記欠陥の上方よりガラス基板上面に焦点を合わせて欠陥の第１映像情報を取得し、
２）続いて、該顕微鏡を予め設定された数値分降下させ、ガラス基板内に焦点を合わせ、欠陥の第２映像情報を取得し、
３）該欠陥の第２映像情報を構成する複数の検査画素の明るさを予め設定された閾値で２値化して、複数の２値検査画素とし、
４）該複数の２値検査画素の位置情報から、最小二乗法を利用した楕円フィッティング処理を行い、その適合率が予め設定された適合率より高い際に該欠陥を気泡と判定し、
５）該欠陥を欠陥から除外する、或いは気泡として登録する選別処理を行うことを特徴とするガラス基板内の気泡選別処理法。 In the bubble sorting process that sorts bubbles in the glass substrate from defects detected by the color filter appearance inspection device,
1) Using a microscope equipped with an area sensor and an autofocus unit, focus on the upper surface of the glass substrate from above the defect to obtain first image information of the defect,
2) Subsequently, the microscope is lowered by a preset numerical value, focused on the glass substrate, and second image information of the defect is obtained,
3) The brightness of a plurality of inspection pixels constituting the second video information of the defect is binarized with a preset threshold value to obtain a plurality of binary inspection pixels,
4) From the position information of the plurality of binary inspection pixels, an ellipse fitting process using a least square method is performed, and when the precision is higher than a preset precision, the defect is determined as a bubble,
5) A method for selecting bubbles in a glass substrate, wherein a screening process for excluding the defects from the defects or registering them as bubbles is performed.
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|---|---|
| JP (1) | JP2010008125A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112991279A (en) * | 2021-03-03 | 2021-06-18 | 华南理工大学 | Method, device, medium and equipment for detecting defect circle of flexible circuit board |
| CN114103031A (en) * | 2021-11-22 | 2022-03-01 | 兴宇伟业（天津）科技有限公司 | Silica gel shaping and processing device and processing method thereof |
| CN115880301A (en) * | 2023-03-06 | 2023-03-31 | 长沙韶光芯材科技有限公司 | System for identifying bubble defects of glass substrate |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05281129A (en) * | 1992-04-03 | 1993-10-29 | Nippon Avionics Co Ltd | Measuring apparatus of foreign matter of transparent member |
| JPH08210820A (en) * | 1995-02-01 | 1996-08-20 | Hitachi Denshi Ltd | Method and device for recognizing part to be inspected in visual inspection device of parts-mounted board |
| JPH09287920A (en) * | 1996-04-23 | 1997-11-04 | Asahi Glass Co Ltd | Method for evaluating shape of object to be measured, shape of bubble inside glass and degree of defect of glass |
| JPH10267857A (en) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | Method for judging continuity of scratch |
| JP2002257749A (en) * | 2001-02-27 | 2002-09-11 | Toray Ind Inc | Inspection device, inspection method, and method of manufacturing color filter using thereof |
| JP2005024438A (en) * | 2003-07-04 | 2005-01-27 | Murakami Corp | Method of inspecting mirror surface precision for curved surface mirror, inspection device for mirror surface precision for for curved surface mirror, preparation method for mirror surface precision inspecting pattern for curved surface mirror, and mirror surface precision inspecting pattern for curved surface mirror |
| JP2005098970A (en) * | 2003-08-25 | 2005-04-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Method and apparatus for identifying foreign matter |
| JP2007071791A (en) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Defect determination method |
| JP2008076071A (en) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Hitachi High-Technologies Corp | Substrate inspecting device and substrate inspection method |
-
2008
- 2008-06-25 JP JP2008165450A patent/JP2010008125A/en active Pending
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05281129A (en) * | 1992-04-03 | 1993-10-29 | Nippon Avionics Co Ltd | Measuring apparatus of foreign matter of transparent member |
| JPH08210820A (en) * | 1995-02-01 | 1996-08-20 | Hitachi Denshi Ltd | Method and device for recognizing part to be inspected in visual inspection device of parts-mounted board |
| JPH09287920A (en) * | 1996-04-23 | 1997-11-04 | Asahi Glass Co Ltd | Method for evaluating shape of object to be measured, shape of bubble inside glass and degree of defect of glass |
| JPH10267857A (en) * | 1997-03-25 | 1998-10-09 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | Method for judging continuity of scratch |
| JP2002257749A (en) * | 2001-02-27 | 2002-09-11 | Toray Ind Inc | Inspection device, inspection method, and method of manufacturing color filter using thereof |
| JP2005024438A (en) * | 2003-07-04 | 2005-01-27 | Murakami Corp | Method of inspecting mirror surface precision for curved surface mirror, inspection device for mirror surface precision for for curved surface mirror, preparation method for mirror surface precision inspecting pattern for curved surface mirror, and mirror surface precision inspecting pattern for curved surface mirror |
| JP2005098970A (en) * | 2003-08-25 | 2005-04-14 | Hitachi Kokusai Electric Inc | Method and apparatus for identifying foreign matter |
| JP2007071791A (en) * | 2005-09-08 | 2007-03-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Defect determination method |
| JP2008076071A (en) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Hitachi High-Technologies Corp | Substrate inspecting device and substrate inspection method |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112991279A (en) * | 2021-03-03 | 2021-06-18 | 华南理工大学 | Method, device, medium and equipment for detecting defect circle of flexible circuit board |
| CN112991279B (en) * | 2021-03-03 | 2023-02-14 | 华南理工大学 | Method, device, medium and equipment for detecting defect circle of flexible circuit board |
| CN114103031A (en) * | 2021-11-22 | 2022-03-01 | 兴宇伟业（天津）科技有限公司 | Silica gel shaping and processing device and processing method thereof |
| CN114103031B (en) * | 2021-11-22 | 2023-11-21 | 兴宇伟业（天津）科技有限公司 | Silica gel shaping processing device and processing method thereof |
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