JP2010005543A - Reverse gravure coating method and device using this method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、グラビアロールの表面の塗布液を基材に塗布するキスタイプのリバースグラビア塗工方法及び装置に関するものである。 The present invention relates to a kiss-type reverse gravure coating method and apparatus for applying a coating liquid on the surface of a gravure roll to a substrate.
近年いわゆる「ベタ塗り」の用途でのキスタイプのリバースグラビア塗工方法の利用が増えている。キスタイプのリバースグラビア塗工方法とは、グラビアロールを基材の進行方向と逆回転で液パンに浸漬させて回転させながら、設置したドクターブレードで掻き落として調整し、走行する基材にグラビアロールを押し付けながら塗工する方法である。 In recent years, the use of a kiss-type reverse gravure coating method for so-called “solid coating” is increasing. The kiss type reverse gravure coating method is a gravure roll immersed in a liquid pan in the direction opposite to the direction of travel of the base material and rotating, adjusted by scraping with the installed doctor blade, and gravure on the base material It is a method of coating while pressing the roll.
その中でも、近年、光学フィルムを始めとする比較的薄膜塗工分野では、直径100mm以下の小径のグラビアロールを使用することが多い。その場合のグラビアロールの彫刻パターンとしては斜線型と呼ばれる塗工幅方向にらせん状な連続の溝が掘られているものが一般的である。この塗工方式は簡便なセッティングで幅広い塗布液を塗工できるメリットがあり、よく利用されている。 Among them, in recent years, a relatively small gravure roll having a diameter of 100 mm or less is often used in the field of relatively thin film coating such as an optical film. In such a case, the gravure roll engraving pattern is generally one in which a spiral groove called a slanted line shape is dug in the coating width direction. This coating method has a merit that a wide range of coating solutions can be applied with simple settings, and is often used.
しかし、このようなキスタイプのリバースグラビア塗工方法において、湿潤膜厚が7μm以下の薄膜系ではあまり顕在化しないが、それより厚い薄膜の塗工において50m/min以下の低速域においては基材の端部の膜厚の不均一が問題になることがわかった。通常の基材の端部の膜厚不均一は、特許文献1に記載されているような端部の厚塗りのような現象によるもので、この特許文献1には版の端部を削って塗布量を変化させることが示されている。
However, in such a kiss-type reverse gravure coating method, it is not so obvious in a thin film system having a wet film thickness of 7 μm or less, but in a low-speed region of 50 m / min or less in coating a thicker film, It was found that non-uniformity of the film thickness at the end of the film becomes a problem. The film thickness non-uniformity at the edge of a normal base material is due to a phenomenon such as thick coating of the edge as described in
また、特許文献2に記載されているように、グラビアロールの湾曲やドクターブレードの磨耗の不均一などのセンターに対して比較的左右対称な膜厚の不均一現象も良く知られており、ドクターブレードの使用前の慣らし運転やドクターブレードそのもののセッティングの方法の工夫など種々の対策法が提案されている。
In addition, as described in
しかし、これらの方法では解決しない左右非対称な膜厚の分布が発生することがわかった。そして、これは液パンからグラビアロールによって塗布液を掻き揚げた時は幅方向の均一量であるものが、掻き揚げて塗られるまでの間に斜線彫刻溝にそって重力により塗布液が流れ落ちるために、斜線彫刻溝の起点側では塗液量が少なくなり、反対側では塗液量が多くなるため、左右非対称な膜厚の分布となることが分かった。 However, it was found that an asymmetrical film thickness distribution that cannot be solved by these methods occurs. And this is a uniform amount in the width direction when the application liquid is raked up from the liquid pan by a gravure roll, but the application liquid flows down by gravity along the oblique engraving groove until it is raked up and applied. In addition, it was found that the coating liquid amount decreases on the starting side of the oblique engraving groove and the coating liquid amount increases on the opposite side, so that the film thickness distribution is asymmetric.
本発明の目的は、不均一な膜厚の発生を防止することができるリバースグラビア塗工方法及び装置を提供することにある。 The objective of this invention is providing the reverse gravure coating method and apparatus which can prevent generation | occurrence | production of a nonuniform film thickness.
請求項1の発明に係るリバースグラビア塗工方法は、グラビアロールの中心軸を基線とする場合に当該基線と所定角度をなす複数の斜線彫刻溝を有するグラビアロールを回転させて当該グラビアロールの表面に塗布液を供給しドクターブレードによって前記グラビアロールの表面の余剰塗布液を掻き落とした後に、基材を前記グラビアロールの回転方向と逆方向へ走行させることによって、前記斜線彫刻溝の内部の塗布液を前記基材に塗布するキスタイプのリバースグラビア塗工方法において、前記基材と前記グラビアロールが接触する方向を上とし、上から下に向けて前記斜線彫刻溝が形成されている場合に、上側を斜線入口側と規定し下側を斜線出口側と規定する場合、前記斜線入口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数aより前記斜線出口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数bが大きいことを特徴とする。 In the reverse gravure coating method according to the first aspect of the present invention, the surface of the gravure roll is formed by rotating the gravure roll having a plurality of oblique engraving grooves that form a predetermined angle with the base line when the center axis of the gravure roll is the base line. After the surplus coating liquid on the surface of the gravure roll is scraped off by a doctor blade and the substrate is run in the direction opposite to the rotation direction of the gravure roll, the coating inside the oblique engraving groove is applied. In the kiss-type reverse gravure coating method for applying a liquid to the substrate, the oblique contact engraving groove is formed from the top to the bottom with the direction in which the substrate and the gravure roll are in contact with each other. When the upper side is defined as the oblique line entrance side and the lower side is defined as the oblique line exit side, the oblique line is determined from the number a of the oblique engraving grooves having a width of 1 inch on the oblique line entrance side. The number of lines b of the oblique engraving groove having a width of 1 inch on the outlet side is large.
請求項2の発明に係るリバースグラビア塗工方法は、請求項1に記載のリバースグラビア塗工方法において、前記斜線入口側の線数aと前記斜線出口側の線数bの比b/aの値が1.05以上であって1.5以下の値であることを特徴とする。
The reverse gravure coating method according to the invention of
請求項3の発明に係るリバースグラビア塗工方法は、請求項2に記載のリバースグラビア塗工方法において、前記斜線入口側に最近傍の前記基材の塗工端が走行する位置に対応する前記グラビアロールの位置を基準位置とし、前記基準位置から前記グラビアロールの内側幅が5cm以内の範囲の線数をaとして、これ以外の他の部位の線数をbとする場合に、b/aの値が1.05以上であって1.5以下の値であることを特徴とする。
The reverse gravure coating method according to the invention of claim 3 is the reverse gravure coating method according to
請求項4の発明に係るリバースグラビア塗工方法は、請求項1から請求項3のいずれか1つに記載のリバースグラビア塗工方法において、前記グラビアロールの中心軸を基線とする場合に当該基線と前記斜線彫刻溝とがなす角度の小さい角度が30度以上であって90度未満の値であることを特徴とする。
The reverse gravure coating method according to the invention of claim 4 is the reverse gravure coating method according to any one of
請求項5の発明に係るリバースグラビア塗工方法は、請求項1から請求項4のいずれか1つに記載のリバースグラビア塗工方法において、前記塗布液の静的粘度が100mPas以下であることを特徴とする。
The reverse gravure coating method according to the invention of claim 5 is the reverse gravure coating method according to any one of
請求項6の発明に係るリバースグラビア塗工方法は、請求項1から請求項5のいずれか1つに記載のリバースグラビア塗工方法において、前記斜線彫刻溝の内部の塗布液を前記基材に塗布する塗工速度が50m/min以下であることを特徴とする。
The reverse gravure coating method according to the invention of claim 6 is the reverse gravure coating method according to any one of
請求項7の発明に係るリバースグラビア塗工方法は、請求項1から請求項6のいずれか1つに記載のリバースグラビア塗工方法において、前記グラビアロールの中で一番広い領域を占める前記斜線彫刻溝の線数が100未満であることを特徴とする。
The reverse gravure coating method according to the invention of claim 7 is the reverse gravure coating method according to any one of
請求項8の発明に係るリバースグラビア塗工装置は、中心軸を基線とする場合に当該基線と所定角度をなす複数の斜線彫刻溝を有するグラビアロールと、前記グラビアロールを回転させる回転駆動手段と、前記グラビアロールの表面に塗布液を供給する塗布液供給手段と、前記グラビアロールの表面の塗布液の量を調整するドクターブレードと、基材を走行させる基材走行手段と、を具備し、前記回転駆動手段によって前記グラビアロールを回転させて当該グラビアロールの表面に前記塗布液供給手段によって塗布液を供給し前記ドクターブレードによって前記グラビアロールの表面の余剰塗布液を掻き落とした後に、前記基材走行手段によって前記基材を前記グラビアロールの回転方向と逆方向へ走行させることによって、前記斜線彫刻溝の内部の塗布液を前記基材に塗布するキスタイプのリバースグラビア塗工装置において、前記基材と前記グラビアロールが接触する方向を上とし、上から下に向けて前記斜線彫刻溝が形成されている場合に、上側を斜線入口側と規定し下側を斜線出口側と規定する場合、前記斜線入口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数aより前記斜線出口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数bが大きいことを特徴とする。 The reverse gravure coating apparatus according to the invention of claim 8 comprises a gravure roll having a plurality of oblique engraving grooves that form a predetermined angle with the base line when the central axis is a base line, and a rotation drive means for rotating the gravure roll. A coating liquid supply means for supplying a coating liquid to the surface of the gravure roll; a doctor blade for adjusting the amount of the coating liquid on the surface of the gravure roll; and a base material traveling means for running the base material, The gravure roll is rotated by the rotation driving means, the coating liquid is supplied to the surface of the gravure roll by the coating liquid supply means, and the excess coating liquid on the surface of the gravure roll is scraped off by the doctor blade. The oblique engraving groove is made to travel in the direction opposite to the rotation direction of the gravure roll by the material traveling means. In the kiss-type reverse gravure coating apparatus for applying the internal coating liquid to the base material, the oblique engraving groove is formed from the top to the bottom with the direction in which the base material and the gravure roll contact each other. In the case where the upper side is defined as the oblique line entrance side and the lower side is defined as the oblique line exit side, the 1 inch width on the oblique line exit side is determined from the number a of the oblique engraving grooves having a width of 1 inch on the oblique line entrance side. The number of lines b of the oblique engraving grooves is large.
本発明によれば、基材とグラビアロールが接触する方向を上とし、上から下に向けて斜線彫刻溝が形成されている場合に、上側を斜線入口側と規定し下側を斜線出口側と規定する場合、前記斜線入口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数aより前記斜線出口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数bが大きいため、不均一な膜厚の発生を防止することができる。 According to the present invention, when a diagonal engraving groove is formed from the top to the bottom with the direction in which the base material and the gravure roll contact each other, the upper side is defined as the diagonal inlet side and the lower side is the diagonal outlet side If the line number b of the 1-inch wide oblique engraving groove on the oblique line exit side is larger than the line number a of the 1-inch wide oblique engraved groove on the oblique line entrance side, Occurrence can be prevented.
以下、本発明の実施の形態について図面に基づいて詳細に説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に係るリバースグラビア塗工装置を示す概略図である。図2は、本発明の実施の形態1に係るリバースグラビア塗工装置のグラビアロールを示す略側面図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic diagram showing a reverse gravure coating apparatus according to
図1に示すように、本発明の実施の形態1に係るリバースグラビア塗工装置1は、キスタイプのものである。リバースグラビア塗工装置1は、グラビアロール11、回転駆動装置(回転駆動手段)2、塗布液供給手段3、ドクターブレード14及び一対の搬送ロール16、17を具備している。回転駆動装置2は、モータなどで構成され、グラビアロール11を矢印c方向へ回転させる。塗布液供給手段3は、塗布液収容容器12と、この塗布液収容容器12に収容されている塗布液13とで構成されている。一対の搬送ロール16,17は、グラビアロール11の両側に所定間隔をおいて配置されている。搬送ロール16,17は、グラビアロール11の外表面に基材10を押し付けた状態で基材10を矢印d方向に走行させる。搬送ロール16,17及びこれらを回転させる駆動装置は、基材10を矢印d方向へ走行させる基材走行手段を構成している。
As shown in FIG. 1, the reverse
グラビアロール11は、この下部が塗布液収容容器12の塗布液13に浸漬されるように配置されている。グラビアロール11は、外表面にらせん状に形成されている複数の斜線彫刻溝4を有している(図2参照)。グラビアロール11は、塗工時に回転駆動装置2により矢印c方向に回転され、この表面が塗布液13を掻き上げる。ドクターブレード14は、グラビアロール11が塗布液を掻き上げる側に配置されている。ドクターブレード14は、グラビアロール11の表面の塗布液の量を調整する。
The
リバースグラビア塗工装置1は、グラビアロール11を回転させてこのグラビアロール11の表面に塗布液を供給しドクターブレード14によってグラビアロール11の表面の余剰塗布液を掻き落とした後に、基材10をグラビアロール11の回転方向と逆方向(矢印d方向)へ走行させることによって、グラビアロール11の表面を基材10に接触させて斜線彫刻溝4の内部の塗布液を基材10に塗布して塗膜15を形成するものである。
The reverse
図2に示すように、複数の斜線彫刻溝4は、基材10とグラビアロール11が接触する方向を上とし、上から下に向けて斜線彫刻溝4が形成されている場合に、上側を斜線入口側(矢印Aで示す側)と規定し下側を斜線出口側(矢印Bで示す側)と規定する場合、前記斜線入口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝4の線数aより前記斜線出口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝4の線数bが大きいように形成されている。斜線彫刻溝4は、例えば、断面がV字状であるように形成されている。
As shown in FIG. 2, the plurality of oblique engraving grooves 4 are formed so that the direction in which the
基材10への塗布液の塗布量を規定するためにはグラビアロール11に施す斜線彫刻溝4の1インチ幅の線数を変えることで成し遂げられる。斜線彫刻溝4の1インチ幅の線数が少なくなるほど溝が深くなるために塗布液の塗布量が増える。
In order to define the coating amount of the coating liquid on the
図2は、本発明の実施の形態1に係るリバースグラビア塗工装置のグラビアロールを示す略側面図である。基材10は、図2に対して垂直方向に走っている。この場合、上はeの方向、下はfの方向となる。そして、上側は、斜線入口側(矢印Aで示す側)と規定され、下側は斜線出口側(矢印Bで示す側)と規定される。斜線彫刻溝4が形成されている範囲でA側の線数aとする場合に、B側の線数bは線数aに比べて大きくされている。
FIG. 2 is a schematic side view showing a gravure roll of the reverse gravure coating apparatus according to
斜線入口側の線数aと斜線出口側の線数bの比b/aの値が1.05未満である場合には線数の差が小さ過ぎて塗布量が不均一になり易い。比b/aの値が1.5を超える場合には、線数の差が大きくなりすぎるために、塗布量が不均一になり易い。 When the ratio b / a of the number a of lines on the oblique line entrance side and the number b of lines on the oblique line exit side is less than 1.05, the difference in the number of lines is too small and the coating amount tends to be uneven. When the value of the ratio b / a exceeds 1.5, the difference in the number of lines becomes too large and the coating amount tends to be non-uniform.
また、線数をaとする範囲は、前記斜線入口側に最近傍の基材10の塗工端が走行する位置に対応するグラビアロール11の位置を基準位置とし、この基準位置からグラビアロール11の内側幅の極めて限定的な範囲であることが望ましい。グラビアロール11における線数をaとする範囲は、走行する基材の塗工端位置との兼ね合いで決まる。
Further, the range in which the number of lines is a is a position where the
例えば、斜線入口側に最近傍の基材10の塗工端が走行する位置に対応するグラビアロール11の位置を基準位置とし、この基準位置からグラビアロール11の内側幅が5cm以内の範囲の線数をaとして、これ以外の他の部位の線数をbとする場合に、b/aの値が1.05以上であって1.5以下の値であることが望ましい。
For example, the position of the
また、線数は、複数の段階に変えられる。例えば、線数は、図3の線18で示すように2段階に変えるようにしてもよく、線19で示すように3段階に変えるようにしてもよい。
The number of lines can be changed in a plurality of stages. For example, the number of lines may be changed in two stages as indicated by a
本発明で問題としている現象が生まれるのは塗布量が比較的多い場合である。線数が多いと掻き上げられる塗布液の液量が少ないために結果的に発生する塗布量の差が小さいからである。また、塗布液の塗布速度が速い場合も、グラビアロール11の回転が速くなるために、掻き上げられてから塗布されるまでの時間が短くなり塗布液が落下する前に塗られるために大きな問題にならない。よって、本発明の効果が期待できるのは、グラビアロール11の中で最も広い領域を占める線数bが100以下であり、塗布速度が50m/min以下の範囲である。
The phenomenon which is a problem in the present invention is born when the coating amount is relatively large. This is because, when the number of lines is large, the amount of coating liquid that is scraped up is small, so that the resulting difference in coating amount is small. Even when the application speed of the application liquid is high, the rotation of the
グラビアロール11に彫刻する斜線彫刻溝4の角度は、図2に示すように、グラビアロール11の中心軸を基線20とする場合に、基線20と斜線彫刻溝4とがなす角度の小さい角度21が30度以上であって90度未満の値であることが望ましい。角度21が30度未満である場合には、重力の影響が小さくなるために、本発明を利用しなくても問題の起こることは少ない。
As shown in FIG. 2, the angle of the oblique engraving groove 4 engraved on the
グラビアロール11は、金属材又はセラミックスなどで形成されている。ドクターブレード14は、金属材、樹脂材又はセラミックメッキなどで形成され、本発明にドクタリング方法の影響は無関係である。
The
基材10は、紙又はプラスチックフイルムなどで形成されている。一般にキスタイプのリバースグラビア塗工が多く用いられる光学フィルム用途の基材10の材料としては、例えば、アセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム又はポリメチルメタクリレート等のアクリル系フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、基材10は、単層からなってもよいし、複数の層からなってもよい。基材10の厚さは、10〜500μmであることが好ましい。
The
塗布液13としては、一般的にキスタイプのリバースグラビアコーターで塗工できるものであればよく、その中でも本発明が有効であるのは静的粘度が100mPas以下である比較的低粘の塗布液である。塗布液の静的粘度の測定は、振動粘度計やB型粘度計などで測定することができる。このような低粘の塗布液は、一般に有機溶剤などの希釈溶媒に溶解された分散液である。
The
前記希釈溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組成物の安定性、塗膜に対する揮発性などを考慮して、メタノール・エタノール・イソプロパノール・ブタノール・2−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン・メチルエチルケトン・メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル・酢酸エチル・酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール・プロピレングリコール・ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ・ブチルセロソルブ・エチルカルビトール・ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン・ヘプタン・オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン・トルエン・キシレン等の芳香族炭化水素、N−メチルピロリドン又はジメチルホルムアミド等が挙げられる。これらの溶媒は1種又は2種類以上の混合物として用いてよい。 What is used as the dilution solvent is not particularly limited, but considering the stability of the composition, volatility with respect to the coating film, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, 2-methoxyethanol, acetone, Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl, esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate, ethers such as diisopropyl ether, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol and hexylene glycol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve and ethyl carb Glycol ethers such as tall and butyl carbitol, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, N-methylpyrrolidone Dimethylformamide and the like are. These solvents may be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
従来の塗工方法においては、斜線彫刻溝の起点側(斜線入口側)では塗液量が少なくなり、反対側(斜線出口側)では塗液量が多くなるため、膜厚が左右非対称となっている。これに対し、本発明の実施の形態1は、基材10とグラビアロール11が接触する方向を上とし、上から下に向けて斜線彫刻溝4が形成されている場合に、上側を斜線入口側と規定し下側を斜線出口側と規定する場合、前記斜線入口側の1インチ幅の斜線彫刻溝4の線数aより斜線出口側の1インチ幅の斜線彫刻溝4の線数bが大きいため、従来に比較して、斜線入口側の塗布液の塗布量を多くすることができるので、不均一な膜厚の発生を防止することができる。
In the conventional coating method, the amount of coating liquid decreases on the starting point side of the oblique engraving groove (indicated by the oblique line entrance), and the amount of coating liquid increases on the opposite side (the oblique line exit side), so the film thickness becomes asymmetrical. ing. On the other hand, in the first embodiment of the present invention, when the oblique engraving groove 4 is formed from the top to the bottom with the direction in which the
(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2について、図面を参照して説明する。図4は、本発明の実施の形態2に係るキスタイプのリバースグラビアコーターを示す概略図である。
(Embodiment 2)
Next,
図4に示すように、発明の実施の形態2に係るキスタイプのリバースグラビアコーターは、リバースグラビア塗工装置1と、繰り出しロール25と、搬送ロール26、27、28と、乾燥装置23と、放射装置24と、巻き取りロール29と、を具備している。繰り出しロール25から繰り出されるフィルム状の基材10は、矢印g方向へ搬送され、リバースグラビア塗工装置1の搬送ロール16、17及び搬送ロール26、27、28により搬送され、巻き取りロール29により巻き取られる。
As shown in FIG. 4, the kiss type reverse gravure coater according to the second embodiment of the invention includes a reverse
基材10は、搬送される時に、リバースグラビア塗工装置1によって塗布液を塗布されて塗膜15が形成される。次に、基材10の塗膜15は、乾燥装置23によって乾燥された後に、放射装置24から放射される電離放射線を受けて基材10の塗膜15が硬化される。
When the
(実施例)
次に、本発明の実施例について説明する。
基材10として、幅が650mmであるポリエチレンテレフタレート材が使用され、図4に示すようなリバースグラビアコーターによって、メチルエチルケトン(MEK))と酢酸メチルを希釈溶剤とする50wt%のアクリル系のUV硬化樹脂塗工液を湿潤膜厚が25μmとなるように30m/minの速度で基材10に塗膜15が塗工された。
(Example)
Next, examples of the present invention will be described.
A polyethylene terephthalate material having a width of 650 mm is used as the
使用したグラビアロール11は、直径が50mmであって基線20と斜線彫刻溝4とがなす角度の小さい角度21が45度である斜線彫刻溝4が形成されているものである。塗布液13の粘度は4mPasで表面張力が25mN/mである。塗膜15における幅方向で10点の代表点の膜厚が接触式の膜厚計で測定されて、3%の膜厚の分布に入っているものを○とし、入っていないものを×と判定した。その結果を以下の表に示す。
The
表
table
1 リバースグラビア塗工装置
2 回転駆動装置(回転駆動手段)
3 塗布液供給手段
4 斜線彫刻溝
10 基材
11 グラビアロール
12 塗布液収容容器
13 塗布液
14 ドクターブレード
15 塗膜
16,17 搬送ロール
1 Reverse
DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 Coating liquid supply means 4
Claims (8)
前記基材と前記グラビアロールが接触する方向を上とし、上から下に向けて前記斜線彫刻溝が形成されている場合に、上側を斜線入口側と規定し下側を斜線出口側と規定する場合、前記斜線入口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数aより前記斜線出口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数bが大きいことを特徴とするリバースグラビア塗工方法。 When the center axis of the gravure roll is used as a base line, the gravure roll having a plurality of oblique engraving grooves that form a predetermined angle with the base line is rotated to supply a coating liquid to the surface of the gravure roll, and the surface of the gravure roll by a doctor blade After the excess coating solution is scraped off, the substrate is moved in the direction opposite to the rotation direction of the gravure roll to thereby apply the coating solution inside the oblique engraving groove to the substrate. In the construction method,
When the oblique engraving groove is formed from the top to the bottom, the upper side is defined as the oblique line entrance side and the lower side is defined as the oblique line exit side when the direction in which the base material and the gravure roll are in contact is the top. In this case, the reverse gravure coating method is characterized in that the number b of the 1-inch wide oblique engraving grooves on the oblique line exit side is larger than the number a of the 1-inch wide oblique engraving grooves on the oblique entrance side.
前記回転駆動手段によって前記グラビアロールを回転させて当該グラビアロールの表面に前記塗布液供給手段によって塗布液を供給し前記ドクターブレードによって前記グラビアロールの表面の余剰塗布液を掻き落とした後に、前記基材走行手段によって前記基材を前記グラビアロールの回転方向と逆方向へ走行させることによって、前記斜線彫刻溝の内部の塗布液を前記基材に塗布するキスタイプのリバースグラビア塗工装置において、
前記基材と前記グラビアロールが接触する方向を上とし、上から下に向けて前記斜線彫刻溝が形成されている場合に、上側を斜線入口側と規定し下側を斜線出口側と規定する場合、前記斜線入口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数aより前記斜線出口側の1インチ幅の前記斜線彫刻溝の線数bが大きいことを特徴とするリバースグラビア塗工装置。 A gravure roll having a plurality of oblique engraving grooves that form a predetermined angle with the base line when the central axis is a base line, a rotation driving means for rotating the gravure roll, and a coating liquid that supplies the coating liquid to the surface of the gravure roll A supply means, a doctor blade for adjusting the amount of the coating liquid on the surface of the gravure roll, and a base material traveling means for causing the base material to travel,
The gravure roll is rotated by the rotation driving means, the coating liquid is supplied to the surface of the gravure roll by the coating liquid supply means, and the excess coating liquid on the surface of the gravure roll is scraped off by the doctor blade. In a kiss-type reverse gravure coating apparatus that applies the coating liquid inside the oblique engraving groove to the substrate by running the substrate in a direction opposite to the rotation direction of the gravure roll by a material running means,
When the oblique engraving groove is formed from the top to the bottom, the upper side is defined as the oblique line entrance side and the lower side is defined as the oblique line exit side when the direction in which the base material and the gravure roll are in contact is the top. In this case, the reverse gravure coating apparatus is characterized in that the number b of the 1-inch wide oblique engraving groove on the oblique line exit side is larger than the number a of the 1-inch wide oblique engraving groove on the oblique entrance side.
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-
2008
- 2008-06-27 JP JP2008168204A patent/JP2010005543A/en active Pending
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