JP2010002819A - Quality control method and quality control system - Google Patents
Quality control method and quality control system Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010002819A JP2010002819A JP2008163086A JP2008163086A JP2010002819A JP 2010002819 A JP2010002819 A JP 2010002819A JP 2008163086 A JP2008163086 A JP 2008163086A JP 2008163086 A JP2008163086 A JP 2008163086A JP 2010002819 A JP2010002819 A JP 2010002819A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- history
- quality
- blank
- inspection
- reproduction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
Description
本発明は、例えばフォトマスクブランクのようにガラス基板上にレジストを塗布することによって製造する製品を検査し、必要ならばレジスト膜を洗浄剥離して素ブランクを再生し、再びレジスト塗布するような場合、それらの履歴情報をシステムで管理してブランクの品質評価を行い、品質評価の結果を製造者に提供する品質管理方法及び品質管理システムに関する。 In the present invention, for example, a product manufactured by applying a resist on a glass substrate, such as a photomask blank, is inspected, and if necessary, the resist film is washed and peeled off to regenerate the blank and then apply the resist again. In this case, the present invention relates to a quality control method and a quality control system for managing the history information by the system to perform blank quality evaluation and providing the manufacturer with the result of quality evaluation.
近年、フォトマスクの高品質化により、ブランクの単価も上昇している。製造工程においてレジスト膜層に欠陥が発見され、使用できないと判断されたブランクを破棄することが、大幅なコスト高の要因となっている。 In recent years, the unit price of blanks has increased due to the higher quality of photomasks. Discarding a blank that has been determined to be unusable due to a defect found in the resist film layer during the manufacturing process is a cause of significant cost increase.
そこで従来、レジスト膜層の欠陥が発見されたブランクの当該レジスト膜層を剥離及び洗浄し、再度レジストを塗布することによりブランクの破棄を抑えるレジスト膜層の再生技術が用いられてきた。 Therefore, conventionally, a technique for regenerating a resist film layer has been used in which the blank resist film layer in which a defect in the resist film layer has been found is peeled off and washed, and the resist is applied again to prevent the blank from being discarded.
例えば、特許文献1では、ガラス基板上に複数の加工工程による加工処理を施すことで製品を製造する場合に、各工程において処理した情報、及び、工程内の装置の設定情報等の工程条件を予め設定しておき、感度変化が許容範囲を超えるガラス基板を特定し、レジスト膜層を剥離する工程と、再度レジスト膜層を形成する工程と、を有する管理システムが用いられている。
ブランクのレジスト膜を洗浄剥離して再生した後に再度レジスト膜層を形成する再生工程の過程では、レジスト膜層の下層にあたるクロム膜層上にパーティクルが発生する可能性があることから、クロム膜層自体にも影響を与えることが知られていたが、従来求められていたフォトマスクの品質では、当該パーティクルの発生は要求品質の許容範囲であった。 In the process of the regeneration process in which the resist film layer is formed again after cleaning and peeling off the blank resist film, particles may be generated on the chromium film layer, which is the lower layer of the resist film layer. Although it has been known that it also affects itself, in the photomask quality that has been required in the past, the generation of the particles is within the allowable range of the required quality.
しかしながら、近年、高精細なパターンのフォトマスクが要求されていることに伴い、クロム膜層上に軽微なパーティクルが存在することも許されなくなってきている。
また、レーザー光を用いた露光装置でパターンニングを行う際、再生加工の過程でクロム膜層上の反射防止層が低減することにより、レーザー光の乱反射を招き、不良の原因となっている。
However, in recent years, with the demand for a photomask having a high-definition pattern, it is no longer allowed for light particles to be present on the chromium film layer.
Further, when patterning is performed with an exposure apparatus using laser light, the antireflection layer on the chromium film layer is reduced in the process of reproduction processing, thereby causing irregular reflection of the laser light and causing defects.
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、ブランク1枚毎に識別番号を有することで、加工履歴、検査履歴、及び再生履歴を枚葉単位で管理することを可能とし、履歴情報を用いてブランクの品質を判定し、製造するフォトマスクの要求品質に見合う最適なフォトマスクブランクを自動的に選択することを可能とした品質管理方法及び品質管理システムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and by having an identification number for each blank sheet, it is possible to manage processing history, inspection history, and reproduction history on a sheet-by-sheet basis. It is an object to provide a quality control method and a quality control system capable of determining blank quality using information and automatically selecting an optimal photomask blank suitable for the required quality of a photomask to be manufactured. To do.
上記の目的を達成するために、本発明では以下のような手段を講じる。 In order to achieve the above object, the present invention takes the following measures.
即ち、請求項1の発明は、素ブランク上にレジスト膜を形成してブランクを製造するブランク製造工程における品質管理方法において、素ブランク上にレジスト膜を形成する加工工程の加工履歴を取得及び保存する加工履歴取得保存段階と、レジスト膜形成後のブランクに対して欠陥の有無の検査を行った時の検査結果を検査履歴として取得及び保存する検査履歴取得保存段階と、前記検査の結果、欠陥があると判明した前記ブランクのレジスト膜を洗浄剥離する再生処理を行った場合に生じる再生履歴を取得及び保存する再生履歴取得保存段階と、前記加工履歴、前記検査履歴、及び前記再生履歴を履歴情報として取得、管理及び開示する履歴情報開示段階と、を具備し、前記履歴情報を基に、予め記憶された品質基準に基づいて定められた、検査品質判定テーブル、再生ダメージテーブル、及び品質変動テーブルを用いて、前記ブランクの品質を判定することを特徴とする品質管理方法である。
That is, the invention of
請求項2の発明は、前記加工履歴、前記検査履歴、及び前記再生履歴は、前記素ブランク1枚毎に付与された識別番号毎に、ネットワークを介した記録媒体に保存されていることを特徴とする請求項1記載の品質管理方法である。
The invention of
請求項3の発明は、前記ブランクの品質の判定結果は、通信ネットワークに接続されている記録媒体に記憶されていて、通信ネットワークに接続されている端末で管理されていることを特徴とする請求項1及び2に記載の品質管理方法である。
The invention of
請求項4の発明は、素ブランク上にレジスト膜を形成してブランクを製造するブランク製造工程における品質管理システムにおいて、素ブランク上にレジスト膜を形成する加工工程の加工履歴を取得及び保存する加工履歴取得保存手段と、レジスト膜形成後のブランクに対して欠陥の有無の検査を行った時の検査結果を検査履歴として取得及び保存する検査履歴取得保存手段と、前記検査の結果、欠陥があると判明した前記ブランクのレジスト膜を洗浄剥離する再生処理を行った場合に生じる再生履歴を取得及び保存する再生履歴取得保存手段と、前記加工履歴、前記検査履歴、及び前記再生履歴を履歴情報として取得、管理及び開示する履歴情報開示手段と、を具備し、前記履歴情報を基に、予め記憶された品質基準に基づいて定められた、検査品質判定テーブル、再生ダメージテーブル、及び品質変動テーブルを用いて、前記ブランクの品質を判定することを特徴とする品質管理システムである。
The invention according to
請求項5の発明は、前記加工履歴、前記検査履歴、及び前記再生履歴は、前記素ブランク1枚毎に付与された識別番号毎に、ネットワークを介した記録媒体に保存されていることを特徴とする請求項4記載の品質管理システムである。
The invention of
請求項6の発明は、前記ブランクの品質の判定結果は、通信ネットワークに接続されている記録媒体に記憶されていて、通信ネットワークに接続されている端末で管理されていることを特徴とする請求項4及び5に記載の品質管理システムである。
The invention of claim 6 is characterized in that the blank quality determination result is stored in a recording medium connected to a communication network and is managed by a terminal connected to the communication network. Item 6. The quality control system according to
請求項1の発明によれば、ブランクが要求品質を満たすか否かの判定を、当該ブランクに対して行った加工履歴、検査履歴、及び再生履歴を基に、検査品質判定テーブル、再生ダメージテーブル、及び品質変動テーブルを用いて判定することができるので、不良発生防止に寄与することができるようになる。
According to the invention of
請求項2の発明によれば、素ブランクに付与された固有の識別番号毎に履歴情報を保存することにより、任意の素ブランク1枚に対して施された加工履歴、検査履歴、及び再生履歴の関連付けが可能となるので、不良発生防止に寄与することができるようになる。
According to invention of
請求項3の発明によれば、品質管理作業を通信ネットワークに接続された端末を用いて行うことができ、さらに、品質に係る情報を通信ネットワークに接続されている記録媒体に記憶させることができるので、不良発生防止に寄与することができるようになる。
According to the invention of
請求項4の発明によれば、ブランクが要求品質を満たすか否かの判定を、当該ブランクに対して行った加工履歴、検査履歴、及び再生履歴を用いて自動的に判定することができるので、不良発生防止に寄与することができるようになる。
According to the invention of
請求項5の発明によれば、素ブランクに付与された固有の識別番号毎に履歴情報を保存することにより、任意の素ブランク1枚に対して施された加工履歴、検査履歴、及び再生履歴の関連付けが可能となるので、不良発生防止に寄与することができるようになる。
According to the invention of
請求項6の発明によれば、品質管理作業を通信ネットワークに接続された端末を用いて行うことができ、さらに、品質に係る情報を通信ネットワークに接続されている記録媒体に記憶させることができるので、不良発生防止に寄与することができるようになる。 According to the invention of claim 6, the quality control work can be performed using a terminal connected to the communication network, and further, the information relating to the quality can be stored in the recording medium connected to the communication network. Therefore, it becomes possible to contribute to preventing the occurrence of defects.
本発明の品質管理方法および品質管理システムによれば、素ブランクに施した加工処理、検査処理、及び再生処理の履歴を管理することにより、ブランクの品質を管理することが可能となる。また、当該ブランクの品質を管理することにより、高精細パターンのフォトマスクを製造する際に不良の発生原因となっていたクロム膜層の影響について評価することが可能となり、不良発生防止に寄与することができるようになる。 According to the quality control method and quality control system of the present invention, it is possible to manage the quality of blanks by managing the history of processing, inspection, and reproduction processing performed on the blank. In addition, by controlling the quality of the blank, it is possible to evaluate the influence of the chromium film layer that has caused defects when manufacturing a photomask with a high-definition pattern, which contributes to prevention of defects. Will be able to.
さらに、本発明の品質管理方法および品質管理システムによれば、フォトマスクを製造する際に仕様情報等をシステムに問い合わせると、当該ガラス基板の品質を評価したデータを基に当該仕様情報等に該当するブランクをシステムが自動的に選択することができるようになり、不良発生防止に寄与することが可能となる。 Furthermore, according to the quality control method and the quality control system of the present invention, when the system is inquired about the specification information when manufacturing the photomask, it corresponds to the specification information based on the data that evaluates the quality of the glass substrate. It becomes possible for the system to automatically select a blank to be performed, and it is possible to contribute to prevention of occurrence of defects.
以下に、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照しながら説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は、本実施例に係るフォトマスクブランクの断面図である。ガラス基板2上にクロム膜層3が積層され、このクロム膜層3の表面に反射防止層4が形成されている状態のブランクを素ブランク5という。
本発明の品質管理方法及び品質管理システムでは、素ブランク5上にレジスト膜層6を形成した状態であるブランクの品質を管理する。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a photomask blank according to this embodiment. A blank in which the
In the quality control method and quality control system of the present invention, the quality of the blank in a state where the resist film layer 6 is formed on the blank 5 is managed.
図2は、本実施例に係る品質管理方法を用いた品質管理システムの構成例を示す概念図である。 FIG. 2 is a conceptual diagram illustrating a configuration example of a quality management system using the quality management method according to the present embodiment.
すなわち、品質管理システム10は、品質情報データベース11及び品質判定部12を含み、通信ネットワーク13を介して、仕様情報データベース14及び仕様情報入力端末15と、加工履歴データベース21及び加工履歴入力端末22と、検査履歴データベース31及び検査履歴入力端末32と、再生履歴データベース41及び再生履歴入力端末42と、がそれぞれ接続されていて、品質判定部12で判定した結果を品質判定結果表示部16に表示するようになっている。
なお、仕様情報入力端末15は複数あっても良いし、加工履歴入力端末22、検査履歴入力端末32、及び再生履歴入力端末42は、各工程に対して単数であっても良いし複数あっても良い。
That is, the
There may be a plurality of specification
図3は、本実施例に係る品質情報の一例を示している。品質情報50は、複数の品質条件51と、それぞれの品質条件51に対しての実績値52が履歴として登録されていて、複数の品質条件51及び実績値52は、固有の識別番号53に紐付けて関連付けて管理されている。
なお、品質条件51及び実績値52の内容は何れも図3の内容に限定するものではなく、どのような内容であっても、本実施例に係る品質管理方法及び品質管理システムでの適用が可能である。また、品質条件51のそれぞれの関連性についても図3の内容に限定するものではない。
FIG. 3 shows an example of quality information according to the present embodiment. In the
Note that the contents of the quality condition 51 and the actual value 52 are not limited to those shown in FIG. 3, and any contents can be applied in the quality management method and the quality management system according to the present embodiment. Is possible. Further, each relevance of the quality condition 51 is not limited to the contents of FIG.
品質管理システム10における品質管理は、素ブランクが入庫されてきたことを契機として開始される。
Quality management in the
素ブランク5が入庫されて来ると、図4に示すように、図示しない識別番号付与部が、素ブランク5のガラス基板1枚毎に固有の識別番号53を付与する(S1)。固有の識別番号53が付与された素ブランク5はレジスト塗布工程へと進み、素ブランク上にレジスト膜が形成される。加工履歴入力端末は、当該レジスト膜の形成工程を加工履歴として加工履歴データベース21に入力・保存する(S2)。 When the raw blank 5 is received, as shown in FIG. 4, an identification number assigning unit (not shown) assigns a unique identification number 53 to each glass substrate of the raw blank 5 (S1). The blank 5 to which the unique identification number 53 is assigned proceeds to a resist coating process, and a resist film is formed on the blank. The processing history input terminal inputs and stores the resist film forming process as a processing history in the processing history database 21 (S2).
その後、検査工程へと進んだブランクの検査を行う。検査履歴入力端末32は、当該ブランクの検査結果を検査履歴データベース31に入力・保存する(S3)。
Thereafter, the blank that has proceeded to the inspection process is inspected. The inspection
当該検査の結果、塗布ミスが発生していた場合には、当該ブランクは再生工程へと進む。
再生工程へと進んだ当該ブランクは、レジスト膜を洗浄剥離(再生)された後、再度レジスト膜の形成工程へと進む。再生履歴入力端末42は、レジスト膜剥離を再生履歴として、再生履歴データベース41に入力・保存する(S4)。
If a coating error has occurred as a result of the inspection, the blank proceeds to the regeneration process.
The blank that has proceeded to the regeneration process is subjected to the resist film formation process again after the resist film is washed and peeled (regenerated). The reproduction history input terminal 42 inputs and stores the resist film peeling as a reproduction history in the reproduction history database 41 (S4).
レジスト膜の形成工程において、塗布ミスが発生しなかった場合には、当該ブランクは品質評価工程へと進む。検査履歴データベースは、検査履歴として塗布ミスのない旨が入力されたブランクの識別番号53を、通信ネットワーク13を介して品質情報データベース11へと入力する(S5)。 If no application error occurs in the resist film forming process, the blank proceeds to the quality evaluation process. The inspection history database inputs the blank identification number 53, which indicates that there is no application error as the inspection history, to the quality information database 11 via the communication network 13 (S5).
ブランクの識別番号53が品質情報データベース11に入力されると、図示しない品質情報端末は、通信ネットワーク13を介して、加工履歴データベース21、検査履歴データベース31、及び再生履歴データベース41に対して、当該ブランクに対しての加工履歴、検査履歴、及び再生履歴を、品質情報データベース11へ入力するように促す(S6)。
加工履歴データベース21、検査履歴データベース31、及び再生履歴データベース41は、品質情報端末からの要求を受けて、該当する履歴情報をそれぞれ通信ネットワーク13を介して品質情報データベース11へ識別番号53毎に入力する(S7)。
When the blank identification number 53 is input to the quality information database 11, the quality information terminal (not shown) is connected to the processing history database 21, the inspection history database 31, and the reproduction history database 41 via the communication network 13. The processing history, inspection history, and reproduction history for the blank are urged to be input to the quality information database 11 (S6).
In response to a request from the quality information terminal, the processing history database 21, the inspection history database 31, and the reproduction history database 41 input the corresponding history information to the quality information database 11 for each identification number 53 via the communication network 13, respectively. (S7).
ブランクの品質判定システムは、S7で識別番号53毎に紐付けられた履歴情報が品質情報データベース11に入力されたことを契機として開始される。 The blank quality determination system is started when the history information associated with each identification number 53 is input to the quality information database 11 in S7.
図5に示すように、識別番号53毎に紐付けられた履歴情報が品質情報データベース11に入力されると、品質判定部12は、加工履歴データベース21より判定対象ブランクのレジスト材料及びレジスト膜厚を、検査履歴データベース31より判定対象のブランクに存在するパーティクル(欠陥)数を、それぞれ読み出し、表1に示したような検査品質判定テーブルを参照して、レジスト材料、クロム膜層の材料及び欠陥サイズから検査品質階級を決定する(S8)。
ここで、検査品質判定テーブルは、予め使用レジスト材料毎にサイズ別の欠陥数から品質階級が一義的に決まるように設定されており、各サイズの欠陥の個数及び合計数に対応する品質階級のうち、最も低い品質階級を検査品質階級として決定する。また、欠陥サイズXXS、XS、S、M、及びLは、この順に欠陥のサイズが大きくなるように予め設定しておく。
Here, the inspection quality determination table is set in advance so that the quality class is uniquely determined from the number of defects for each size for each resist material used, and the quality class corresponding to the number and total number of defects of each size. Of these, the lowest quality class is determined as the inspection quality class. In addition, the defect sizes XS, XS, S, M, and L are set in advance so that the defect size increases in this order.
その後、品質判定部12は、再生履歴データベース41より判定対象ブランクの再生履歴の有無を読み出し(S9)、再生履歴が無い、すなわち再生回数が0回の場合には、検査品質階級のままで品質を確定する(S10)。一方、再生が行われていた場合には、表2(a)に示したような再生ダメージテーブルを参照して、レジスト材料、反射防止層の材質、及び再生回数から再生工程によるブランクへのダメージ値を決定し、表2(b)に示したような品質変動テーブルを参照して、S8で決定した検査品質階級からの変動を決定し、検査品質階級から変動した結果を品質として得る(S11)。
そして、品質管理システム10は、S10及びS11で得た品質を、品質判定結果表示部16へと送出する(S12)。
Then, the
例えば、あるブランクの品質を決定する場合には、加工履歴データベースからレジスト材料及びレジスト膜厚の情報を、検査履歴データベースから欠陥数を、それぞれ読み出し、表1で示したような検査品質判定テーブルを参照して各欠陥サイズの個数から品質階級を決定する。例として、XXSサイズの欠陥が4個、Sサイズの欠陥が2個、Lサイズの欠陥が1個ある場合には、品質階級は「通常」となる。 For example, when determining the quality of a certain blank, information on the resist material and resist film thickness is read from the processing history database, the number of defects is read from the inspection history database, and an inspection quality determination table as shown in Table 1 is obtained. The quality class is determined by referring to the number of defect sizes. As an example, if there are four XS size defects, two S size defects, and one L size defect, the quality class is “normal”.
品質階級を決定した後、再生履歴がある場合には、表2(a)で示したような再生ダメージテーブルを参照して再生処理回数から再生によるダメージ値を決定する。再生処理回数が2回の場合には、レジスト材料がレジスト1、反射防止層の材質がBの場合、ダメージ値は10となる。
そして、表2(b)で示したような品質変動テーブルを用いて、ダメージ値から品質階級の変動値を決定する。
After the quality class is determined, if there is a reproduction history, the reproduction damage value is determined from the number of reproduction processes with reference to the reproduction damage table as shown in Table 2 (a). In the case where the number of regeneration processes is two, the damage value is 10 when the resist material is the resist 1 and the antireflection layer material is B.
Then, using the quality fluctuation table as shown in Table 2 (b), the quality class fluctuation value is determined from the damage value.
ここでの例では、検査品質判定テーブルで定めた品質階級「通常」に対し、再生によるダメージ値は10であるから、品質階級変動値は±0となり、最終的な品質判定の結果は「通常」となる。 In this example, since the damage value due to reproduction is 10 with respect to the quality class “normal” defined in the inspection quality judgment table, the quality class variation value is ± 0, and the final quality judgment result is “normal”. "
さらに、図6に示すように、製品受注者からの要求品質がある場合には、当該要求品質が仕様情報データベースへ入力されることを契機に、ブランク抽出システムが開始される。 Furthermore, as shown in FIG. 6, when there is a required quality from the product contractor, the blank extraction system is started when the required quality is input to the specification information database.
仕様情報入力端末15が製品受注者からの要求品質を、仕様情報として仕様情報データベース14へと入力する(S13)ことにより、使用情報データベース14は当該仕様情報を通信ネットワーク13を介して品質判定部12へと送信する(S14)。
品質管理システムは、仕様情報を受信すると、品質判定部12で判定されたブランクの中から仕様情報に合致するブランクを抽出し(S15)、その結果を品質判定結果表示部16へ送出する(S16)。
When the specification
Upon receiving the specification information, the quality management system extracts a blank that matches the specification information from the blanks determined by the quality determination unit 12 (S15), and sends the result to the quality determination result display unit 16 (S16). ).
以上、本発明を実施するための最良の形態について、添付図面を参照しながら説明したが、本発明はかかる構成に限定されない。また、表1及び2のテーブル中の値も、一例であり、ここで挙げた数値に限定されない。 The best mode for carrying out the present invention has been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such a configuration. The values in the tables of Tables 1 and 2 are also examples, and are not limited to the numerical values given here.
1 ブランク
2 ガラス基板
3 クロム膜層
4 反射防止層
5 素ブランク
6 レジスト膜層
10 品質管理システム
11 品質情報データベース
12 品質判定部
13 通信ネットワーク
14 仕様情報データベース
15 仕様情報入力端末
21 加工履歴データベース
22 加工履歴入力端末
31 検査履歴データベース
32 検査履歴入力端末
41 再生履歴データベース
42 再生履歴入力端末
50 品質情報
51 品質条件
52 実績値
53 識別情報
DESCRIPTION OF
Claims (6)
素ブランク上にレジスト膜を形成する加工工程の加工履歴を取得及び保存する加工履歴取得保存段階と、
レジスト膜形成後のブランクに対して欠陥の有無の検査を行った時の検査結果を検査履歴として取得及び保存する検査履歴取得保存段階と、
前記検査の結果、欠陥があると判明した前記ブランクのレジスト膜を洗浄剥離する再生処理を行った場合に生じる再生履歴を取得及び保存する再生履歴取得保存段階と、
前記加工履歴、前記検査履歴、及び前記再生履歴を履歴情報として取得、管理及び開示する履歴情報開示段階と、を具備し、
前記履歴情報を基に、予め記憶された品質基準に基づいて定められた、検査品質判定テーブル、再生ダメージテーブル、及び品質変動テーブルを用いて、前記ブランクの品質を判定することを特徴とする品質管理方法。 In the quality control method in the blank manufacturing process of forming a resist film on the blank and manufacturing the blank,
A processing history acquisition and storage stage for acquiring and storing a processing history of a processing step for forming a resist film on the blank,
An inspection history acquisition and storage stage for acquiring and storing an inspection result as an inspection history when an inspection for the presence or absence of defects is performed on the blank after resist film formation,
As a result of the inspection, a reproduction history acquisition and storage stage for acquiring and storing a reproduction history that occurs when performing a reproduction process for cleaning and peeling the blank resist film that has been found to be defective, and
A history information disclosure step of acquiring, managing, and disclosing the processing history, the inspection history, and the reproduction history as history information,
Based on the history information, the quality of the blank is determined using an inspection quality determination table, a reproduction damage table, and a quality variation table, which are determined based on a quality standard stored in advance. Management method.
素ブランク上にレジスト膜を形成する加工工程の加工履歴を取得及び保存する加工履歴取得保存手段と、
レジスト膜形成後のブランクに対して欠陥の有無の検査を行った時の検査結果を検査履歴として取得及び保存する検査履歴取得保存手段と、
前記検査の結果、欠陥があると判明した前記ブランクのレジスト膜を洗浄剥離する再生処理を行った場合に生じる再生履歴を取得及び保存する再生履歴取得保存手段と、
前記加工履歴、前記検査履歴、及び前記再生履歴を履歴情報として取得、管理及び開示する履歴情報開示手段と、を具備し、
前記履歴情報を基に、予め記憶された品質基準に基づいて定められた、検査品質判定テーブル、再生ダメージテーブル、及び品質変動テーブルを用いて、前記ブランクの品質を判定することを特徴とする品質管理システム。 In a quality control system in a blank manufacturing process in which a resist film is formed on a blank and a blank is manufactured,
Processing history acquisition and storage means for acquiring and storing a processing history of a processing step of forming a resist film on the raw blank;
An inspection history acquisition and storage means for acquiring and storing an inspection result as an inspection history when the presence or absence of a defect is inspected for the blank after the resist film is formed,
As a result of the inspection, reproduction history acquisition and storage means for acquiring and storing a reproduction history that occurs when performing a reproduction process for cleaning and peeling the blank resist film that has been found to be defective, and
A history information disclosure unit that acquires, manages, and discloses the processing history, the inspection history, and the reproduction history as history information,
Based on the history information, the quality of the blank is determined using an inspection quality determination table, a reproduction damage table, and a quality variation table, which are determined based on a quality standard stored in advance. Management system.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008163086A JP2010002819A (en) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | Quality control method and quality control system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008163086A JP2010002819A (en) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | Quality control method and quality control system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010002819A true JP2010002819A (en) | 2010-01-07 |
Family
ID=41584581
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008163086A Pending JP2010002819A (en) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | Quality control method and quality control system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010002819A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021045284A1 (en) * | 2019-09-05 | 2021-03-11 | 김영남 | Product traceability method using qr code marking |
-
2008
- 2008-06-23 JP JP2008163086A patent/JP2010002819A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021045284A1 (en) * | 2019-09-05 | 2021-03-11 | 김영남 | Product traceability method using qr code marking |
KR20210029317A (en) * | 2019-09-05 | 2021-03-16 | 김영남 | Method for tracking record employing QR code marking |
KR102268732B1 (en) | 2019-09-05 | 2021-06-25 | 김영남 | Method for tracking record employing QR code marking |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4536804B2 (en) | Photomask manufacturing method | |
JP2009122708A (en) | Method and system for acquiring mask blank information, method for providing mask blank information, method for assisting and manufacturing transfer mask, and method for manufacturing and providing mask blank | |
CN114728473B (en) | Apparatus and method for manufacturing three-dimensionally shaped objects | |
KR101216873B1 (en) | Method of manufacturing substrate for recycled photomask, method of manufacturing blank for recycled photomask, recycled photomask, method of manufacturing recycled photomask, and pattern transfer method | |
US10773459B2 (en) | Three-dimensional shaping method | |
CN113269439A (en) | Engineering change method and device for manufacturing product and storage medium | |
JP2010002819A (en) | Quality control method and quality control system | |
KR102043664B1 (en) | Auto Repair System and Method for Detecting and Repairing Defects in a Substrate | |
JPH11231507A (en) | Method and device for inspecting mask | |
JP2007033857A (en) | Method for manufacturing glass substrate for mask blanks, glass substrate for mask blanks, method for manufacturing mask blanks, and mask blanks | |
CA2973456C (en) | Three-dimensional shaping method | |
CN110766649B (en) | Defect judging device and method for automatic repair system | |
JPWO2011096562A1 (en) | Control device and laser processing machine | |
EP3434393A1 (en) | Three-dimensional shaping method | |
JP2000040119A (en) | Production management system | |
WO2006049240A1 (en) | Mask blank manufacturing method | |
JP2000113188A (en) | Device and method for inspecting uneveness defect, and recording medium recorded with uneveness defect inspecting program | |
CN110908248A (en) | Method for replacing photomask | |
JP2011123155A (en) | Regeneration system for color filter substrate | |
KR101995746B1 (en) | Method of re-inspecting polarizing sheet | |
JPH1050788A (en) | Semiconductor device manufacture system and semiconductor device manufacture method using the system | |
JP2006018708A (en) | Product inspection system and inspection method therefor | |
JP2007313597A (en) | Polishing condition monitoring method | |
US9116108B1 (en) | Electron beam inspection optimization | |
CN105467744B (en) | Method for obtaining and processing photomask atomization risk coefficient |