JP2009534202A - Embossed structure abrasive article and method for producing and using the same - Google Patents

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Abstract

非弾性高密度熱可塑性フィルム基材及び構造研磨層を有するエンボス構造研磨物品が開示される。基材及び構造研磨層の双方は、重ね合わせのエンボス特徴を有する。エンボス構造研磨物品の製造方法及び使用方法も開示される。  An embossed structured abrasive article having an inelastic high density thermoplastic film substrate and a structured abrasive layer is disclosed. Both the substrate and the structured abrasive layer have superimposed embossing features. Also disclosed are methods of making and using embossed structured abrasive articles.

Description

光沢表面仕上げにおける外観は、かかる表面仕上げを有する物品等の製造及び補修において重要である。光沢表面を作製するのに使用される仕上げの例としては、自動車用及び海洋用クリアコート仕上げ、ラッカー仕上げ等が挙げられる。このような仕上げの施行中、塵粒子は仕上げ内部に誤って含まれる(通常、「ダストニブ」と呼ばれる)。これらのダストニブは、仕上げにおける美感を損ない、それを削減又は除去する(つまり、デニビング)ために1つ以上の付加工程を必要とする。   The appearance in the glossy surface finish is important in the manufacture and repair of articles having such a surface finish. Examples of finishes used to make glossy surfaces include automotive and marine clearcoat finishes, lacquer finishes, and the like. During the implementation of such finishes, dust particles are mistakenly contained within the finish (usually referred to as “dust nibs”). These dust nibs impair the aesthetics in the finish and require one or more additional steps to reduce or eliminate (ie, denibing).

何年にもわたって、一般的に「構造研磨」物品として知られる研磨物品の種類は、例えば、自動車、トラック、ボート等に関して、光沢表面を製造及び補修するのに使用するために市販されている。   Over the years, a type of abrasive article, commonly known as a “structured abrasive” article, is commercially available for use in manufacturing and repairing glossy surfaces, for example, for automobiles, trucks, boats, and the like. Yes.

構造研磨物品は、基材に固定される構造研磨層を有し、典型的には、例えば、任意で界面活性剤を含有する水のような液体と組み合わせて使用される。構造研磨層は、複数の形状化された研磨複合体(典型的には微細寸法を有する)を有し、その各々は研磨物品及びバインダを有する。多くの場合、この形状化された研磨複合体は、例えば、様々な幾何学的な形状(例えば、ピラミッド型)に準じて精密形状化される。かかる構造研磨物品の例としては、ミネソタ州セントポール(St. Paul)の3M社によって商標表記「トライザクト(TRIZACT)」のもとで発売されているものが挙げられる。   The structured abrasive article has a structured abrasive layer that is secured to a substrate and is typically used in combination with a liquid, such as water, optionally containing a surfactant, for example. The structured abrasive layer has a plurality of shaped abrasive composites (typically having fine dimensions), each having an abrasive article and a binder. In many cases, this shaped abrasive composite is precision shaped, for example, according to various geometric shapes (eg, pyramid shapes). An example of such a structured abrasive article is that sold under the trade designation “TRIZACT” by 3M Company of St. Paul, Minnesota.

多くの場合、従来の構造研磨物品は、「静止摩擦」に関する問題、つまり、問題を解決するために特別な設計又は工程が採用されない限り、業界においては典型的である湿式研磨工程において使用される際、研磨表面が工作物に固着する傾向に関する問題を有する。静止摩擦は、従来の構造研磨物品を移動及び制御するためにより大きな力を必要とする研磨工程を制御することを困難とし、それによって取り付けられる任意の研磨工具の制御が不安定となり、その研磨工具がサイドビューミラー又はボディ成形のような意図しない領域に達する際に、最終的には工作物(例えば、車)の損傷をもたらし得る。静止摩擦は、しばしば制御されない方法で破壊され、しばしば研磨基材から構造研磨物品が突然解除される。これは通常、構造研磨物品が解除され、実際にはほとんど研磨が行われることなく、工作物の表面を容易に滑るのと同時に起こる。   In many cases, conventional structured abrasive articles are used in a wet polishing process that is typical in the industry unless a special design or process is employed to solve the problem of "stiction", i.e., the problem. However, there is a problem with the tendency of the abrasive surface to stick to the workpiece. Static friction makes it difficult to control a polishing process that requires more force to move and control a conventional structured abrasive article, thereby destabilizing the control of any abrasive tool attached, and the abrasive tool When it reaches unintended areas such as side view mirrors or body shaping, it can ultimately result in damage to the workpiece (eg, car). Static friction is often broken in an uncontrolled manner and often suddenly releases the structured abrasive article from the abrasive substrate. This usually occurs at the same time that the structured abrasive article is released and actually slips easily over the surface of the workpiece with little polishing.

構造研磨物品(例えば、ディスク)は、しばしば圧縮性バックアップパッド(例えば、発泡体又は不織布)と組み合わせて使用され、工具(例えばディスクサンダー)に取り付けられる。このような用途において、構造研磨物品は典型的に、使用中にバックアップパッドにそれらを固定するのに使用される取り付け型境界層(例えば、かぎ状の布地又は接着剤)を有する。バックアップパッドの圧縮性は、研磨物品が、例えば曲面を研磨するのを助け得るある程度の順応性を提供する。手持ち式の構造研磨物品(例えば、デニビングディスク)の場合、発泡体層は、順応性を提供するために物品自体の構造中に含まれることがある。しかしながら、発泡体又は不織布の圧縮層が存在することで、構造研磨物品がダストニブのような表面の欠陥に乗り、まれにそれらを除去せずに単に丸めることとなり得る。   Structured abrasive articles (eg, discs) are often used in combination with a compressible backup pad (eg, foam or nonwoven) and attached to a tool (eg, a disc sander). In such applications, structured abrasive articles typically have an attached boundary layer (eg, a hooked fabric or adhesive) that is used to secure them to a backup pad during use. The compressibility of the backup pad provides a degree of flexibility that can help the abrasive article, for example, polish a curved surface. In the case of a hand held structured abrasive article (eg, a dennibing disc), the foam layer may be included in the structure of the article itself to provide conformance. However, the presence of a compressed layer of foam or nonwoven can cause the structured abrasive article to ride on surface defects such as dust nibs and, in rare cases, simply roll without removing them.

さらに、発泡体層に固定される構造研磨層を有する構造研磨物品の研磨中、研磨物品は、研磨層が他で使用できる時に、破損を引き起こす深刻な力に晒され得る。例えば、発泡体基材からの研磨層の分離、及び/又は発泡体基材に生じる損傷等によって、このような初期故障は引き起こされ得る。   Further, during polishing of a structured abrasive article having a structured abrasive layer secured to a foam layer, the abrasive article can be subjected to severe forces that cause breakage when the abrasive layer can be used elsewhere. For example, such initial failure can be caused by separation of the abrasive layer from the foam substrate and / or damage caused to the foam substrate.

ある態様において、本発明は、
第一及び第二主表面を有し、非弾性高密度熱可塑性フィルムを含む基材と、
第一主表面と接触し、同一の広がりを持ち、固定される任意の接着層と、
基材の第一表面もしくは任意の接着層と接触し、同一の広がりを持ち、固定される構造研磨層であって、この構造研磨層は、研磨粒子及びバインダからなり、外側に突出するように精密形状化された研磨複合体から成り、基材及び構造研磨層の双方は重ね合わせのエンボス特徴を有し、及び
第二主表面に固定される、任意の取り付け型境界層、から成るエンボス構造研磨物品であって、
このエンボス構造研磨物品は多孔質弾性要素を含まない、エンボス構造研磨物品に関する。
In certain embodiments, the present invention provides:
A substrate having first and second major surfaces and comprising an inelastic high density thermoplastic film;
An optional adhesive layer in contact with the first major surface, having the same extent and being fixed;
A structural polishing layer that is in contact with the first surface of the substrate or an optional adhesive layer, is coextensive, and is fixed. The structural polishing layer is composed of abrasive particles and a binder, and protrudes outward. An embossed structure consisting of a precision shaped abrasive composite, where both the substrate and the structured abrasive layer have overlapping embossing features, and an optional attached boundary layer secured to the second major surface An abrasive article,
The embossed structured abrasive article relates to an embossed structured abrasive article that does not include a porous elastic element.

他の態様において、本発明は工作物の研磨方法に関し、この方法は、
a)本発明によるエンボス構造研磨物品を提供する工程と、
b)その上に強化ポリマー層を有する工作物を提供する工程と、
c)構造研磨層の少なくとも一部分をポリマー層と摩擦で接触させる工程と、及び
d)工作物及び構造研磨層との少なくとも一方を他方に対して相対的に動かし、ポリマー層の少なくとも一部分を研磨する工程と、を含む方法に関する。
In another aspect, the invention relates to a method for polishing a workpiece, the method comprising:
a) providing an embossed structured abrasive article according to the present invention;
b) providing a workpiece having a reinforced polymer layer thereon;
c) frictionally contacting at least a portion of the structured polishing layer with the polymer layer; and d) moving at least one of the workpiece and the structured polishing layer relative to the other to polish at least a portion of the polymer layer. And a method including the steps.

さらに他の態様において、エンボス構造研磨物品の製造方法に関し、その方法は、
第一及び第二主表面を有し、非弾性高密度熱可塑性フィルムを含む基材を提供する工程と、
接着層を第一主表面と接触し、同一の広がりを持つように固定する工程と、
構造研磨層を接着層と接触し、同一の広がりを持つように固定する工程であって、この構造研磨層は、研磨粒子及びバインダを含み、外側に突出するように精密形状化された研磨複合体から成り、
基材及び構造研磨層において重ね合わせのエンボス特徴を提供するために、基材及び構造研磨層をエンボス加工する工程と、
第二主表面に取り付け型境界層を任意で固定する工程と、を含み、
それによって、多孔質弾性要素を含まないエンボス構造研磨物品を提供する。
In yet another aspect, the invention relates to a method of manufacturing an embossed structured abrasive article, the method comprising:
Providing a substrate having first and second major surfaces and comprising an inelastic high-density thermoplastic film;
Fixing the adhesive layer in contact with the first main surface and having the same spread;
A process of fixing the structural polishing layer in contact with the adhesive layer and fixing it so as to have the same spread, and this structural polishing layer includes abrasive particles and a binder and is precisely shaped to protrude outwardly. Consist of body,
Embossing the substrate and the structured polishing layer to provide an embossed feature of superposition in the substrate and the structured polishing layer;
Optionally fixing a mounting boundary layer to the second major surface,
Thereby, an embossed structured abrasive article free of porous elastic elements is provided.

さらに他の態様において、本発明はエンボス構造研磨物品の製造方法を提供し、その方法は、
第一及び第二主表面を有する非弾性高密度熱可塑性フィルム基材を提供する工程と、
構造研磨層を基材に固定する工程であって、この構造研磨層は接着層と接触し、同一の広がりを持ち、研磨粒子及びバインダを含み、外側に突出するように精密形状化された研磨複合体から成り、
基材及び構造研磨層において重ね合わせのエンボス特徴を提供するために、基材及び構造研磨層をエンボス加工する工程と、
第二主表面に取り付け型境界層を任意で固定する工程と、を含み
それによって、多孔質弾性要素を含まないエンボス構造研磨物品を提供する。
In yet another aspect, the present invention provides a method of manufacturing an embossed structured abrasive article, the method comprising:
Providing an inelastic high density thermoplastic film substrate having first and second major surfaces;
A process of fixing a structural polishing layer to a substrate, wherein the structural polishing layer is in contact with an adhesive layer, is coextensive, includes abrasive particles and a binder, and is precisely shaped to protrude outwardly. Consisting of a complex,
Embossing the substrate and the structured polishing layer to provide an embossed feature of superposition in the substrate and the structured polishing layer;
Optionally attaching an attached boundary layer to the second major surface, thereby providing an embossed structured abrasive article that does not include a porous elastic element.

本発明による構造研磨物品は、典型的には、光沢仕上げにおけるデニビングを好適にする研磨特性及び静止摩擦特性の組み合わせを示す。   Structured abrasive articles according to the present invention typically exhibit a combination of abrasive and static friction properties that favor dennibing in a glossy finish.

本出願において:
任意の2つの構成要素に対して適用される「固定される」は、容易に分離できないことを意味する。
In this application:
“Fixed” applied to any two components means that it cannot be easily separated.

研磨層又は基材において、「エンボス特徴」は、研磨層又は基材のそれぞれの隣接表面に対して隆起して又は窪んで見える特徴に関し、個別の研磨複合体自体の形状による特徴を含まない。   In an abrasive layer or substrate, “embossed features” relate to features that appear raised or depressed relative to respective adjacent surfaces of the abrasive layer or substrate, and do not include features due to the shape of the individual abrasive composites themselves.

「エンボス加工」は、目的物に認識可能な逆のパターンを付与するために、工具のパターン付き表面が十分な圧力及び任意で十分な温度で目的物に対して押し付けられる工程において形成されることを意味する。   “Embossing” is formed in a process in which the patterned surface of the tool is pressed against the object at a sufficient pressure and optionally a sufficient temperature to give the object a recognizable reverse pattern. Means.

「高密度」は、密閉された空隙又は孔を実質的に含まないことを意味する。高密度フィルムは、所定の位置に穿孔を有し得る。   “High density” means substantially free of enclosed voids or pores. The high density film can have perforations in place.

「非弾性」は、少なくとも10パーセントまで延伸又は膨張した後に、容易にもとの形状に再び戻らないことを意味する。   “Inelastic” means that after stretching or expanding to at least 10 percent, it does not easily return to its original shape.

「精密形状化された研磨複合体」は研磨複合体に関し、研磨複合体の形状は、例えば、様々な側面の交点によって定められるような、個別の端点を備える個別の長さの縁部を有する良好に定められた縁部によって画定及び結合される、比較的滑らかな表面を有する側面によって定められる。用語「画定される」及び「境界」は、各研磨複合体の実際の三次元形状を区切り、定める研磨複合体の露出された表面及び縁部に関する。これらの境界は、研磨物品の断面を走査型電子顕微鏡において観察する際、認識及び識別される。これらの境界は、複合物がそれらの底部において互いに境界に沿って隣接している場合であっても、精密形状化された研磨複合体を他から分離及び区別する。比較すると、精密な形状を有さない研磨複合体においては、境界及び縁部は良好に定められない(例えば、研磨複合体が硬化完了前に撓む場合)。   “Precisely shaped abrasive composite” refers to an abrasive composite, the shape of the abrasive composite having discrete length edges with discrete endpoints, for example, as defined by the intersection of various sides. Defined by sides having a relatively smooth surface defined and bonded by well-defined edges. The terms “defined” and “boundary” relate to the exposed surfaces and edges of the polishing composite that delimit and define the actual three-dimensional shape of each polishing composite. These boundaries are recognized and identified when observing a cross section of the abrasive article with a scanning electron microscope. These boundaries separate and distinguish precisely shaped abrasive composites from each other, even when the composites are adjacent to each other along their boundaries at their bottom. By comparison, in abrasive composites that do not have a precise shape, the boundaries and edges are not well defined (eg, when the abrasive composite is flexed before curing is complete).

「弾性」は、圧縮された後などに元の形状又は位置に戻ることができることを意味する。   “Elastic” means that it can return to its original shape or position, such as after being compressed.

次に、図1A及び1Bを参照すると、代表的なエンボス構造研磨物品100は、第一主表面117及び第二主表面115を有する非弾性高密度熱可塑性フィルム基材110から成る。任意の接着層120は、第一主表面117と接触し、固定され、同一の広がりを持っている。構造研磨層130は、フィルム基材110の第一主表面117(任意の接着層120が存在しない場合)もしくは任意の接着層120(存在する場合)のどちらかに接触され、同一の広がりを持つ。構造研磨層130は、研磨粒子137及びバインダ138を含み、外側に突出するように精密形状化された研磨複合体135(図1Bに示す)から成る。フィルム基材110及び構造研磨層の双方は、重ね合わせのエンボス特徴150を有する。任意の取り付け型境界層140は、第二主表面115に固定される。エンボス構造研磨物品100は、多孔質の弾性構成要素を含まない。   Referring now to FIGS. 1A and 1B, an exemplary embossed structured abrasive article 100 comprises an inelastic high density thermoplastic film substrate 110 having a first major surface 117 and a second major surface 115. The optional adhesive layer 120 is in contact with the first major surface 117, is fixed, and is coextensive. The structured polishing layer 130 is in contact with either the first major surface 117 (if the optional adhesive layer 120 is not present) or the optional adhesive layer 120 (if present) of the film substrate 110 and is coextensive. . The structured abrasive layer 130 comprises an abrasive composite 135 (shown in FIG. 1B) that includes abrasive particles 137 and a binder 138 and is precision shaped to protrude outwardly. Both the film substrate 110 and the structured polishing layer have a superposed embossing feature 150. An optional attached boundary layer 140 is secured to the second major surface 115. The embossed structure abrasive article 100 does not include a porous elastic component.

他の代表的なエンボス構造研磨物品は、図2に示される。代表的なエンボス構造研磨物品200は、第一主表面217及び第二主表面215をそれぞれ有する非弾性高密度熱可塑性フィルム基材210から成る。任意の接着層220は、第一主表面217と接触、固定され、同一の広がり持っている。構造研磨層230は、フィルム基材210の第一主表面217(任意で接着層220が存在しない場合)もしくは任意で接着層220(存在する場合)のどちらかに接触し、固定されるか、同一の広がりを持つ。構造研磨層230は、研磨粒子137及びバインダ138を含み、外側に突出するように精密形状化された研磨複合体135(図1Bに示す)から成る。フィルム基材210及び構造研磨層230の双方は、重ね合わせのエンボス特徴250を有する。任意の取り付け型境界層240は、第二主表面215に固定される。エンボス構造研磨物品200は、多孔質の弾性構成要素を含まない。   Another representative embossed structured abrasive article is shown in FIG. A representative embossed structured abrasive article 200 comprises an inelastic high density thermoplastic film substrate 210 having a first major surface 217 and a second major surface 215, respectively. The optional adhesive layer 220 is in contact with and fixed to the first main surface 217 and has the same spread. The structured polishing layer 230 contacts and is fixed to either the first major surface 217 of the film substrate 210 (optionally if the adhesive layer 220 is not present) or optionally the adhesive layer 220 (if present); Have the same spread. The structured abrasive layer 230 comprises an abrasive composite 135 (shown in FIG. 1B) that includes abrasive particles 137 and a binder 138 and is precision shaped to protrude outwardly. Both film substrate 210 and structured polishing layer 230 have superimposed embossing features 250. Optional attached boundary layer 240 is secured to second major surface 215. The embossed structured abrasive article 200 does not include a porous elastic component.

本発明によるエンボス構造研磨物品を作製するために、様々な形状化した特徴を研磨層にエンボス加工し得る。広くは、構造研磨層は連続的であるが、しかしながら、エンボス特徴の寸法及びそれらの鋭度によって、例えば、エンボス加工工程の結果、研磨層は微細な応力亀裂を有して実質的に連続的であるのみであるか、又は実質的に垂直に不連続であり得る。   Various shaped features can be embossed into the abrasive layer to make an embossed structured abrasive article according to the present invention. In general, the structural polishing layer is continuous, however, depending on the dimensions of the embossing features and their sharpness, for example, as a result of the embossing process, the polishing layer has a substantially continuous stress crack. Or may be substantially vertically discontinuous.

ある実施形態において(図3に示す)、代表的なエンボス構造研磨物品300は、構造研磨層360にエンボス加工される重ね合わせのディンプル350を備える構造研磨層360、及び非弾性高密度熱可塑性フィルム基材310(詳細は示さず)を有する。   In one embodiment (shown in FIG. 3), an exemplary embossed structured abrasive article 300 includes a structured abrasive layer 360 comprising overlapping dimples 350 that are embossed on the structured abrasive layer 360, and an inelastic high-density thermoplastic film. It has a substrate 310 (details not shown).

他の実施形態において(図4に示す)、代表的なエンボス構造研磨物品400は、構造研磨層460及び構造研磨層460にエンボス加工される重ね合わせのポスト450を備える構造研磨層460、及び非弾性高密度熱可塑性フィルム基材410(詳細は示さず)を有する。   In another embodiment (shown in FIG. 4), an exemplary embossed structured abrasive article 400 includes a structured abrasive layer 460 comprising a structured abrasive layer 460 and an overlay post 450 embossed on the structured abrasive layer 460, and a non- It has an elastic high-density thermoplastic film substrate 410 (details not shown).

さらに他の実施形態において(図5に示す)、代表的なエンボス構造研磨物品500は、構造研磨層530に起伏して重ね合わせの形態でエンボス加工される構造研磨層530、及び非弾性高密度熱可塑性フィルム基材510(詳細は示さず)を有する。   In yet another embodiment (shown in FIG. 5), an exemplary embossed structured abrasive article 500 includes a structured abrasive layer 530 that is undulated and embossed in a superposed form on the structured abrasive layer 530, and an inelastic high density It has a thermoplastic film substrate 510 (details not shown).

本発明によるエンボス構造研磨物品は、例えば、発泡体のような弾性圧縮層を含まない。有利なことに、これによって、弾性圧縮層と、例えばある研磨工程中の構造研磨部材のような他の層との間の層間剥離の問題、かかる研磨物品を悩ませ続ける問題が軽減する。   The embossed structured abrasive article according to the present invention does not include an elastic compression layer such as a foam. Advantageously, this alleviates the problem of delamination between the elastic compression layer and other layers such as, for example, a structural abrasive member during a polishing process, and the problems that continue to bother such abrasive articles.

基材は、様々な添加剤を含有し得る熱可塑性ポリマーを含む非弾性高密度熱可塑性フィルムである。好適な添加剤の例としては、着色剤、加工助剤、強化ファイバー、熱安定剤、紫外線安定剤、及び酸化防止剤が挙げられる。有用な充填材の例としては、粘土、炭酸カルシウム、ガラスビーズ、タルク、粘土、雲母、木粉、及びカーボンブラックが挙げられる。基材は、例えば、2つ以上の分離層を有する共押出フィルムのような複合フィルムであり得る。   The substrate is an inelastic high density thermoplastic film that includes a thermoplastic polymer that may contain various additives. Examples of suitable additives include colorants, processing aids, reinforcing fibers, heat stabilizers, UV stabilizers, and antioxidants. Examples of useful fillers include clay, calcium carbonate, glass beads, talc, clay, mica, wood flour, and carbon black. The substrate can be a composite film, such as a coextruded film having two or more separate layers.

好適な熱可塑性ポリマーとしては、例えば、ポリオレフィン(例えば、ポリエチレン、及びポリプロピレン)、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタラート)、ポリアミド(例えば、ナイロン−6及びナイロン−6,6)、ポリイミド、ポリカーボネート、及びこれらの組み合わせ及び混合物が挙げられる。   Suitable thermoplastic polymers include, for example, polyolefins (eg, polyethylene and polypropylene), polyesters (eg, polyethylene terephthalate), polyamides (eg, nylon-6 and nylon-6,6), polyimides, polycarbonates, and the like And combinations thereof.

典型的には、基材の平均厚さは、少なくとも25マイクロメートル(1ミル)〜2500マイクロメートル(100ミル)の範囲内であるが、この範囲外の厚さも使用し得る。もちろん、基材の厚さは、例えば、エンボス加工の結果によって変化し得る。   Typically, the average thickness of the substrate is at least within the range of 25 micrometers (1 mil) to 2500 micrometers (100 mils), although thicknesses outside this range may also be used. Of course, the thickness of the substrate can vary depending on the result of the embossing, for example.

任意の接着層は、研磨工程中の研磨層の基材への接着を維持するのに十分に強い任意の接着材料であり得る。好適な接着剤の例としては、ホットメルト接着剤、感圧性接着剤(例えば、ラテックス感圧性接着剤又は感圧性接着剤転写フィルム)、熱硬化性熱可塑性接着剤、及び糊が挙げられる。   The optional adhesive layer can be any adhesive material that is strong enough to maintain adhesion of the polishing layer to the substrate during the polishing process. Examples of suitable adhesives include hot melt adhesives, pressure sensitive adhesives (eg, latex pressure sensitive adhesives or pressure sensitive adhesive transfer films), thermosetting thermoplastic adhesives, and glues.

構造研磨層は、典型的に、研磨粒子及びバインダを含み、外側に突出するように不規則に形状化された研磨複合体から成る。本明細書で使用する時、用語「研磨複合体」は、バインダ中に分散される研磨粒子を含む本体を指す。構造研磨層は、連続又は不連続であってよく、例えば、形状化された研磨複合体の存在しない領域を有し得る。必ずではないが、形状化された研磨複合体は、所定のパターン又は配列に従って基材上に配置されるのが通常である。   The structural abrasive layer typically comprises an abrasive composite that includes abrasive particles and a binder and is irregularly shaped to project outwardly. As used herein, the term “abrasive composite” refers to a body that includes abrasive particles dispersed in a binder. The structured abrasive layer may be continuous or discontinuous and may have, for example, areas where there is no shaped abrasive composite. Usually, but not necessarily, the shaped abrasive composite is disposed on a substrate according to a predetermined pattern or arrangement.

形状化された研磨複合体は、実質的に同一の形状及び/又は寸法、又は様々な形状及び/又は寸法の混合物を有し得る。   The shaped abrasive composites can have substantially the same shape and / or dimensions, or a mixture of various shapes and / or dimensions.

ある実施形態において、形状化された研磨複合体の少なくとも一部分は、「精密形状化された」研磨複合体を含み得る。これは、形状化された研磨複合体が、様々な側面の交点によって定められるような、個別の端点を備える個別の長さの縁部を有する良好に定められた縁部によって画定及び結合される、比較的滑らかな表面を有する側面によって定められることを意味する。用語「画定される」及び「境界」は、各形状化された研磨複合体の実際の三次元形状を区切り、定める複合体の露出された表面及び縁部に関する。これらの境界は、研磨物品の断面を走査型電子顕微鏡において観察する際、認識及び識別される。これらの境界は、複合物がそれらの底部において互いに境界に沿って隣接している場合であっても、精密形状化された研磨複合体を他から分離及び区別する。比較すると、精密な形状を有さない形状化された研磨複合体において、境界及び縁部は良好に定められない(例えば、研磨複合体が硬化完了前に撓む場合)。   In certain embodiments, at least a portion of the shaped abrasive composite may include a “precisely shaped” abrasive composite. This is defined and bonded by well-defined edges, with the shaped abrasive composite having discrete length edges with discrete endpoints, as defined by the intersection of the various sides. Means defined by a side surface having a relatively smooth surface. The terms “defined” and “boundary” relate to the exposed surfaces and edges of the composite that delimit and define the actual three-dimensional shape of each shaped abrasive composite. These boundaries are recognized and identified when observing a cross section of the abrasive article with a scanning electron microscope. These boundaries separate and distinguish precisely shaped abrasive composites from each other, even when the composites are adjacent to each other along their boundaries at their bottom. By comparison, in a shaped abrasive composite that does not have a precise shape, the boundaries and edges are not well defined (eg, when the abrasive composite bends before curing is complete).

形状化された研磨複合体は、構造研磨層の表面を磨くことで工作物が窪むように配列され得る。   The shaped abrasive composite can be arranged such that the workpiece is recessed by polishing the surface of the structured abrasive layer.

任意の研磨粒子が研磨複合体に含まれ得る。典型的に、研磨粒子は、少なくとも8、さらには9のモース硬度を有する。好適な研磨粒子の例としては、酸化アルミニウム、溶融酸化アルミニウム、セラミック酸化アルミニウム、白色溶融酸化アルミニウム、熱処理した酸化アルミニウム、シリカ、炭化ケイ素、グリーン炭化ケイ素、窒化ケイ素、アルミナジルコニア、ダイヤモンド、酸化鉄、セリア、立方晶窒化ホウ素、ガーネット、トリポリ、ゾルゲル法による研磨粒子、及びそれらの組み合わせが挙げられる。   Any abrasive particles can be included in the abrasive composite. Typically, the abrasive particles have a Mohs hardness of at least 8, and even 9. Examples of suitable abrasive particles include aluminum oxide, molten aluminum oxide, ceramic aluminum oxide, white molten aluminum oxide, heat treated aluminum oxide, silica, silicon carbide, green silicon carbide, silicon nitride, alumina zirconia, diamond, iron oxide, Examples include ceria, cubic boron nitride, garnet, tripoly, sol-gel abrasive particles, and combinations thereof.

典型的に、研磨粒子は1500マイクロメートル以下の平均粒経を有するが、この範囲外の平均粒経も使用され得る。補修及び仕上げ用途において、有用な研磨粒子は、少なくとも0.01、1、3、もしくは5マイクロメートル〜35、100、250、500、もしくは1,500マイクロメートル以下の範囲の平均粒経に及ぶ。   Typically, the abrasive particles have an average particle size of 1500 micrometers or less, but average particle sizes outside this range can also be used. In repair and finishing applications, useful abrasive particles range in average particle size ranging from at least 0.01, 1, 3, or 5 micrometers to 35, 100, 250, 500, or 1,500 micrometers or less.

研磨粒子はバインダ中に分散され、研磨複合体を形成する。バインダは熱可塑性バインダであってよいが、典型的には熱硬化性バインダである。研磨複合体に使用するのに好適なバインダの例としては、フェノール樹脂、アミノプラスト、ウレタン、エポキシ、アクリル、シアン酸塩、イソシアヌレート、糊、及びこれらの組み合わせが挙げられる。典型的に、バインダは、通常は、適切な硬化剤(例えば、光開始剤、熱硬化剤及び/又は触媒)の存在下において、対応するバインダ前駆体を少なくとも部分的に硬化(重合)することで調製される。   The abrasive particles are dispersed in the binder to form an abrasive composite. The binder may be a thermoplastic binder, but is typically a thermosetting binder. Examples of binders suitable for use in the abrasive composite include phenolic resin, aminoplast, urethane, epoxy, acrylic, cyanate, isocyanurate, glue, and combinations thereof. Typically, the binder will at least partially cure (polymerize) the corresponding binder precursor, usually in the presence of a suitable curing agent (eg, photoinitiator, thermal curing agent and / or catalyst). It is prepared with.

バインダはバインダ前駆体から形成される。構造研磨物品の製造中、熱硬化性バインダ前駆体は、重合又は硬化工程の開始を促進するエネルギー源に露出される。エネルギー源の例としては、電子ビーム、紫外線、及び可視光線を含む熱的エネルギー及び放射線エネルギーが挙げられる。   The binder is formed from a binder precursor. During the manufacture of the structured abrasive article, the thermosetting binder precursor is exposed to an energy source that facilitates the initiation of the polymerization or curing process. Examples of energy sources include thermal energy and radiation energy including electron beam, ultraviolet light, and visible light.

この重合工程後、バインダ前駆体は、固化バインダに変換される。あるいは熱可塑性バインダ前駆体において、研磨物品の製造中に、熱可塑性バインダ前駆体はバインダ前駆体の固化を引き起こす程度まで冷却される。バインダ前駆体の固化の際に、研磨複合体は形成される。   After this polymerization step, the binder precursor is converted into a solidified binder. Alternatively, in the thermoplastic binder precursor, during the manufacture of the abrasive article, the thermoplastic binder precursor is cooled to an extent that causes the binder precursor to solidify. During the solidification of the binder precursor, an abrasive composite is formed.

熱硬化性樹脂には2つの主な種類があり、縮合硬化性樹脂及び付加重合性樹脂である。放射線エネルギーに容易に露出されるので、付加重合性樹脂が有利である。付加重合性樹脂は、カチオン機構又はフリーラジカル機構によって重合され得る。利用されるエネルギー源及びバインダ前駆体の特性によって、硬化剤、開始剤又は触媒はしばしば重合の開始を助けるのに好ましいものとなる。   There are two main types of thermosetting resins: condensation curable resins and addition polymerizable resins. Addition polymerizable resins are advantageous because they are easily exposed to radiation energy. The addition polymerizable resin can be polymerized by a cationic mechanism or a free radical mechanism. Depending on the energy source utilized and the properties of the binder precursor, curing agents, initiators or catalysts are often preferred to help initiate the polymerization.

典型的なバインダ前駆体の例としては、フェノール樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、アミノプラスト樹脂、ウレタン樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、シアネート樹脂、イソシアヌレート樹脂、アクリレート樹脂(例えば、アクリル化ウレタン、アクリル化エポキシ、エチレン系不飽和化合物、ペンダントα,β−不飽和カルボニル基を有するアミノプラスト誘導体、少なくとも1つのペンダントアクリレート基を有するイソシアヌレート誘導体、及び少なくとも1つのペンダントアクリレート基を有するイソシアネート誘導体)ビニルエーテル、エポキシ樹脂、及びこれらの混合物及び組み合わせが挙げられる。アクリレートという用語は、アクリレート類及びメタクリレート類を包含する。   Examples of typical binder precursors include phenolic resins, urea formaldehyde resins, aminoplast resins, urethane resins, melamine formaldehyde resins, cyanate resins, isocyanurate resins, acrylate resins (eg, acrylated urethane, acrylated epoxy, ethylene). An unsaturated compound, an aminoplast derivative having a pendant α, β-unsaturated carbonyl group, an isocyanurate derivative having at least one pendant acrylate group, and an isocyanate derivative having at least one pendant acrylate group) vinyl ether, epoxy resin, and These mixtures and combinations may be mentioned. The term acrylate includes acrylates and methacrylates.

フェノール樹脂は本発明に好適であり、良好な熱特性、有効性を有し、比較的コストが低く、取り扱いが容易である。ノボラック及びリソールという2種類のフェノール樹脂がある。リソールフェノール樹脂は、1:1以上のホルムアルデヒド:フェノールのモル比を有し、典型的には、1.5:1.0〜3.0:1.0の範囲内である。ノボラック樹脂は、1:1未満のホルムアルデヒド:フェノールのモル比を有する。市販のフェノール樹脂の例としては、商標表記として、テキサス州ダラス(Dallas)のオキシデンタルケミカル(Occidental Chemicals)社の「デュレズ(DUREZ)」及び「バルカム(VARCUM)」;ミズーリ州セントルイス(Saint Louis)のモンサント(Monsanto)社の「レジノックス(RESINOX)」;及びオハイオ州ダブリン(Dublin)のアシュランドスペシャルティケミカル(Ashland Specialty Chemical)社の「エアロフェン(AEROFENE)」及び「アロタップ(AROTAP)」で知られているものが挙げられる。   Phenol resins are suitable for the present invention, have good thermal properties and effectiveness, are relatively low in cost, and are easy to handle. There are two types of phenolic resins, novolak and risol. Resole phenolic resins have a formaldehyde: phenol molar ratio of 1: 1 or greater and are typically in the range of 1.5: 1.0 to 3.0: 1.0. The novolak resin has a formaldehyde: phenol molar ratio of less than 1: 1. Examples of commercially available phenolic resins include the trade names "DUREZ" and "VARCUM" from Occidental Chemicals, Dallas, Texas; St. Louis, MO Known by Monsanto's “RESINOX”; and Ashland Specialty Chemical's “AEROFENE” and “AROTAP” in Dublin, Ohio Are listed.

アクリル化ウレタンは、ヒドロキシ末端NCO延長ポリエステル又はポリエーテルのジアクリレートエステルである。市販のアクリレートウレタンには、モートンチオコールケミカル(Morton Thiokol Chemical)社の商標表記「ユビタン(UVITHANE)782」、及びジョージア州スマーナ(Smyrna)のUCBラドキュア(Radcure)社の商標表記「CMD6600」、「CMD8400」及び「CMD8805」が挙げられる。   Acrylic urethanes are hydroxy-terminated NCO extended polyesters or diacrylate esters of polyethers. Commercially available acrylate urethanes include Morton Thiokol Chemical's trademark designation "UVITHANE 782" and UCB Radcure's trademark designation "CMD6600", "Mycna, Georgia" CMD8400 "and" CMD8805 ".

アクリル化エポキシは、ビスフェノールAエポキシ樹脂のジアクリレートエステルなど、エポキシ樹脂のジアクリレートエステルである。市販のアクリレート化エポキシの例としては、UCBラドキュア(Radcure)社の商標表記「CMD3500」、「CMD3600」及び「CMD3700」が挙げられる。   Acrylated epoxies are diacrylate esters of epoxy resins, such as diacrylate esters of bisphenol A epoxy resins. Examples of commercially available acrylated epoxies include UCB Radcure's trademark designations “CMD 3500”, “CMD 3600” and “CMD 3700”.

エチレン系不飽和樹脂としては、炭素原子、水素原子、及び酸素原子、及び任意で窒素原子、及びハロゲンを含有する、モノマー及びポリマー化合物の双方が挙げられる。酸素又は窒素原子、又はその双方は一般に、エーテル基、エステル基、ウレタン基、アミド基、及び尿素基に存在する。エチレン系不飽和化合物は、好ましくは4,000g/モル未満の分子量を有しており、好ましくは脂肪族モノヒドロキシ基又は脂肪族ポリヒドロキシ基を含有する化合物と、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、及びマレイン酸等の不飽和カルボン酸との反応から作成されるエステルである。アクリル樹脂の代表的な例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレートスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセロールトリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールメタクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、及びペンタエリトリトールテトラアクリレートが挙げられる。他のエチレン性不飽和樹脂としては、モノアリル、ポリアリル、及びポリメタリルエステル、並びに、フタル酸ジアリル、アジピン酸ジアリル、及びN,N−ジアリルアジポアミドなどのカルボン酸のアミドが挙げられる。さらに他の好適な含窒素化合物には、トリス(2−アクリロイル−オキシエチル)イソシアヌレート、1,3,5−トリ(2−メタクリルオキシエチル)−s−トリアジン、アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−ビニルピロリドン、及びN−ビニルピペリドンが挙げられる。   Ethylenically unsaturated resins include both monomers and polymer compounds containing carbon atoms, hydrogen atoms, and oxygen atoms, and optionally nitrogen atoms and halogens. Oxygen or nitrogen atoms or both are generally present in ether groups, ester groups, urethane groups, amide groups, and urea groups. The ethylenically unsaturated compound preferably has a molecular weight of less than 4,000 g / mol, preferably a compound containing an aliphatic monohydroxy group or an aliphatic polyhydroxy group, and acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid , Esters produced from reaction with unsaturated carboxylic acids such as crotonic acid, isocrotonic acid, and maleic acid. Typical examples of acrylic resins include methyl methacrylate, ethyl methacrylate styrene, divinyl benzene, vinyl toluene, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol methacrylate, hexanediol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, glycerol Examples include triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol methacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate. Other ethylenically unsaturated resins include monoallyl, polyallyl, and polymethallyl esters, and amides of carboxylic acids such as diallyl phthalate, diallyl adipate, and N, N-diallyl adipamide. Still other suitable nitrogen-containing compounds include tris (2-acryloyl-oxyethyl) isocyanurate, 1,3,5-tri (2-methacryloxyethyl) -s-triazine, acrylamide, N-methylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-vinyl pyrrolidone, and N-vinyl piperidone are mentioned.

アミノプラスト樹脂は、分子又はオリゴマー1つ当たり、少なくとも1個のペンダントα,β不飽和カルボニル基を有している。これらの不飽和カルボニル基は、アクリレート、メタクリレート、又はアクリルアミド型基であってよい。このような材料の例としては、N−(ヒドロキシメチル)アクリルアミド、N,N’−オキシジメチレンビスアクリルアミド、オルト及びパラアクリルアミドメチル化フェノール、アクリルアミドメチル化フェノールノボラック、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらの材料はさらに、米国特許第4,903,440号及び同5,236,472号(共にカーク(Kirk)他)で記載されている。   The aminoplast resin has at least one pendant α, β unsaturated carbonyl group per molecule or oligomer. These unsaturated carbonyl groups may be acrylate, methacrylate, or acrylamide type groups. Examples of such materials include N- (hydroxymethyl) acrylamide, N, N'-oxydimethylenebisacrylamide, ortho and paraacrylamide methylated phenol, acrylamide methylated phenol novolac, and combinations thereof. These materials are further described in US Pat. Nos. 4,903,440 and 5,236,472 (both Kirk et al.).

少なくとも1つのペンダントアクリレート基を有するイソシアヌレート誘導体、及び少なくとも1つのペンダントアクリレート基を有するイソシアネート誘導体は、さらに米国特許第4,652,274号(ボエッチャー(Boettcher)他)に記載される。あるイソシアヌレートの例は、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリアクリレートである。   Isocyanurate derivatives having at least one pendant acrylate group and isocyanate derivatives having at least one pendant acrylate group are further described in US Pat. No. 4,652,274 (Boettcher et al.). An example of one isocyanurate is the triacrylate of tris (hydroxyethyl) isocyanurate.

エポキシ樹脂は、エポキシド基の開環によって重合され得る1つ以上のエポキシド基を有する。かかるエポキシド樹脂には、モノマーのエポキシ樹脂及びオリゴマーのエポキシ樹脂が挙げられる。有用なエポキシ樹脂の例としては、2,2−ビス〔4−(2,3−エポキシプロポキシ)−フェニルプロパン〕(ビスフェノールのジグリシジルエーテル)、及びテキサス州ヒューストン(Houston)のシェルケミカル(Shell Chemical)社の商標表記「エポン(EPON)828」、「エポン(EPON)1004」、及び「エポン(EPON)1001F」;及びミシガン州ミッドランド(Midland)のダウケミカル(Dow Chemical)社の商標表記「DER−331」、「DER−332」、及び「DER−334」が挙げられる。他の好適なエポキシ樹脂には、ダウケミカル(Dow Chemical)社の商標表記「DEN−431」及び「DEN−428」で市販されているフェノールホルムアルデヒドノボラックのグリシジルエーテルが挙げられる。   Epoxy resins have one or more epoxide groups that can be polymerized by ring opening of the epoxide groups. Such epoxide resins include monomeric epoxy resins and oligomeric epoxy resins. Examples of useful epoxy resins include 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) -phenylpropane] (diglycidyl ether of bisphenol), and Shell Chemical of Houston, Texas. Trademark designations “EPON 828”, “EPON 1004”, and “EPON 1001F”; and the trademark designation “DER” of Dow Chemical, Midland, Michigan -331 "," DER-332 ", and" DER-334 ". Other suitable epoxy resins include glycidyl ethers of phenol formaldehyde novolaks marketed under the trade designations “DEN-431” and “DEN-428” from Dow Chemical.

本発明のエポキシ樹脂は、適正なカチオン性硬化剤の付加を伴うカチオン性機構を通して重合され得る。カチオン性硬化剤は、エポキシ樹脂の重合を開始するための酸源を作製する。これらのカチオン性硬化剤としては、オニウムカチオンを有する塩や、金属又は半金属のハロゲン含有錯体アニオンを挙げることができる。   The epoxy resins of the present invention can be polymerized through a cationic mechanism with the addition of a suitable cationic curing agent. The cationic curing agent creates an acid source for initiating polymerization of the epoxy resin. Examples of these cationic curing agents include salts having onium cations and metal- or metalloid-halogen-containing complex anions.

他のカチオン性硬化剤には、米国特許第4,751,138号(チュメイ(Tumey)他)にさらに記載される金属又は半金属の錯体アニオンを含有する有機金属錯体カチオン及びハロゲンを有する塩が挙げられる。他の例は、米国特許第4,985,340号(パラゾット(Palazzotto)他);同5,086,086号(ブラウン−ウェンスリー(Brown-Wensley)他);及び同5,376,428号(パラゾット(Palazzotto)他)である。さらに、他のカチオン性硬化剤には、米国特許第5,385,954号(パラゾット(Palazzotto)他)に記載される、周期表のIVB族、VB族、VIB族、VIIB族及びVIIIB族の元素から選択される金属中の有機金属錯体のイオン塩が挙げられる。   Other cationic curing agents include organometallic complex cations and halogen-containing salts containing metal or metalloid complex anions as further described in US Pat. No. 4,751,138 (Tumey et al.). Can be mentioned. Other examples are U.S. Pat. Nos. 4,985,340 (Palazzotto et al.); 5,086,086 (Brown-Wensley et al.); And 5,376,428. (Palazzotto et al.). In addition, other cationic curing agents include those of groups IVB, VB, VIB, VIIB and VIIIB of the periodic table described in US Pat. No. 5,385,954 (Palazzotto et al.). Examples include ionic salts of organometallic complexes in metals selected from elements.

フリーラジカル硬化性樹脂について、場合によっては、研磨スラリーがさらにフリーラジカル硬化剤を含むことが好ましい。しかしながら、電子ビームエネルギー源の場合には、電子ビーム自体がフリーラジカルを産生するために、常に硬化剤は必要とならない。   About free radical curable resin, it is preferable that polishing slurry contains a free radical hardening | curing agent depending on the case. However, in the case of an electron beam energy source, a curing agent is not always required because the electron beam itself produces free radicals.

フリーラジカル熱反応開始剤には、例えば、過酸化ベンゾイル及びアゾ化合物のような過酸化物が挙げられる。化学線(電磁放射線)に曝露される際にフリーラジカル源を産生する化合物は、一般的に光開始剤と呼ばれる。フリーラジカル源を産生する紫外線に曝露される際に、光開始剤の例としては、有機過酸化物、アゾ化合物、キノン、ベンゾフェノン、ニトロソ化合物、アクリルハロゲン化物、ヒドラゾン、メルカプト化合物、ピリリウム化合物、トリアクリルイミダゾール、ビスイミダゾール、クロロアルキルトリアジン、ベンゾインエーテル、ベンジルケタール、チオキサントン、及びアセトフェノン誘導体、及びこれらの混合物から選択されるものが挙げられるが、限定されない。可視光に曝露される際に、フリーラジカル源を産生する開始剤の例は、米国特許第4,735,632号(オックスマン(Oxman)他)で見ることができる。可視光とともに使用するのに好適なある光開始剤は、ニューヨーク州タリタウン(Tarrytown)のチバスペシャリティケミカルズ(Ciba Specialty Chemicals)社の商標表記「イルガキュア(IRGACURE)369」として入手可能である。   Free radical thermal initiators include, for example, peroxides such as benzoyl peroxide and azo compounds. Compounds that produce free radical sources when exposed to actinic radiation (electromagnetic radiation) are commonly referred to as photoinitiators. Examples of photoinitiators when exposed to ultraviolet radiation that produces free radical sources include organic peroxides, azo compounds, quinones, benzophenones, nitroso compounds, acrylic halides, hydrazones, mercapto compounds, pyrylium compounds, Examples include, but are not limited to, those selected from acrylic imidazole, bisimidazole, chloroalkyltriazine, benzoin ether, benzyl ketal, thioxanthone, and acetophenone derivatives, and mixtures thereof. Examples of initiators that produce a free radical source when exposed to visible light can be found in US Pat. No. 4,735,632 (Oxman et al.). One photoinitiator suitable for use with visible light is available under the trade designation “IRGACURE 369” from Ciba Specialty Chemicals, Inc., Tarrytown, NY.

上述のバインダと研磨粒子間の橋架け結合を促進するために、シランカップリング剤を研磨粒子及びバインダ前駆体のスラリー中に、典型的には0.01〜5重量比量、より典型的には0.01〜3重量比量、より典型的には0.01〜1重量比量で含ませ得るが、例えば、研磨粒子の寸法によって、他の量も使用し得る。好適なシランカップリング剤としては、例えば、メタクリルオキシプロピルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ(2−メトキシエトキシ)シラン、3,4−エポキシシクロへキシルメチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、及びγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(例えば、コネチカット州グリニッチ(Greenwich)のウィトコ(Witco)社の商標表記「A−174」、「A−151」、「A−172」、「A−186」、「A−187」、及び「A−189」(それぞれに対応))、アリルトリエトキシシラン、ジアリルジクロロシラン、ジビニルジエトキシシラン、及びm,p−スチリルエチルトリメトキシシラン(例えば、ペンシルバニア州ブリストル(Bristol)のユナイテッドケミカルインダストリーズ(United Chemical Industries)の商標表記「A0564」、「D4050」、「D6205」、及び「S1588」(それぞれに対応)として市販されている)、ジメチルジエトキシシラン、ジヒドロキシジフェニルシラン、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラノール、3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラエチルオルトシリケート、テトラメチルオルトシリケート、エチルトリエトキシシラン、アミルトリエトキシシラン、エチルトリクロロシラン、アミルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジエトキシシラン、及びこれらの混合物が挙げられる。   In order to promote the bridging bond between the binder and abrasive particles described above, a silane coupling agent is typically included in the slurry of abrasive particles and binder precursor, typically in a 0.01 to 5 weight ratio, more typically. May be included in a 0.01-3 weight ratio, more typically 0.01-1 weight ratio, although other amounts may be used, for example, depending on the size of the abrasive particles. Suitable silane coupling agents include, for example, methacryloxypropylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltri (2-methoxyethoxy) silane, 3,4-epoxycyclohexylmethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltri Methoxysilane, and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane (eg, Witco's trademark designations “A-174”, “A-151”, “A-172”, “A-”, Greenwich, Conn. 186 "," A-187 "and" A-189 "(corresponding to each)), allyltriethoxysilane, diallyldichlorosilane, divinyldiethoxysilane, and m, p-styrylethyltrimethoxysilane (e.g., Pennsylvania) United Chemicals, Bristol Trademark designations “A0564”, “D4050”, “D6205”, and “S1588” (corresponding to each) of United Chemical Industries, dimethyldiethoxysilane, dihydroxydiphenylsilane, triethoxysilane, Trimethoxysilane, triethoxysilanol, 3- (2-aminoethylamino) propyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, methyltriethoxysilane, tetraethylorthosilicate, tetramethylorthosilicate, ethyltriethoxysilane , Amyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, amyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, phenyltriethoxysilane, methyltrichlorosilane, methyldichloro Orchids, dimethyldichlorosilane, dimethyl diethoxy silane, and mixtures thereof.

エンボス加工に好適な構造研磨粒子は、研磨グレインと上述のバインダ樹脂(つまり、バインダ前駆体)の固化性又は重合性前駆体のスラリーを形成し、スラリーと基材(又は存在するのであれば、任意の接着層)を接触させ、バインダ前駆体を少なくとも部分的に硬化(例えば、エネルギー源に曝露)させ、生成した構造研磨物品が基材に固定された複数の形状化研磨複合体を有するように、調製され得る。エネルギー源の例としては、熱的エネルギー及び放射線エネルギー(電子ビーム、紫外線、及び可視光線を含む)が挙げられる。   A structural abrasive particle suitable for embossing forms a slurry of solidifying or polymerizable precursors of abrasive grains and the binder resin described above (i.e., binder precursor), and the slurry and substrate (or if present) The optional adhesive layer) is contacted, and the binder precursor is at least partially cured (eg, exposed to an energy source) such that the resulting structured abrasive article has a plurality of shaped abrasive composites secured to a substrate. Can be prepared. Examples of energy sources include thermal energy and radiation energy (including electron beam, ultraviolet light, and visible light).

ある実施形態において、バインダ前駆体中の研磨粒子のスラリーは、内部に精密形状化された空隙を有する生産工具に直接塗布され、基材(又は存在するのであれば、任意の接着層)と接触され得るか、又は、基材に塗布され生産工具に接触され得る。   In certain embodiments, the slurry of abrasive particles in the binder precursor is applied directly to a production tool having a precisely shaped void therein and contacts the substrate (or any adhesive layer, if present). Or it can be applied to the substrate and brought into contact with the production tool.

本実施形態において、典型的には、生産工具の空隙中に存在する一方で、スラリーは次に固化(例えば、少なくとも部分的に硬化)される。   In this embodiment, the slurry is then solidified (eg, at least partially cured) while typically present in the voids of the production tool.

生産工具は、ベルト、シート、連続シート又はウェブ、輪転グラビアのようなコーティングロール、コーティングロール上に載置されるスリーブ、又はダイであることが可能である。生産工具は、金属(例えばニッケル)、金属合金、又はプラスチックから構成され得る。金属の生産工具は、例えば、彫刻、ボビング、電鋳、又はダイヤモンド旋削のような任意の従来の技術によって作成され得る。   The production tool can be a belt, a sheet, a continuous sheet or web, a coating roll such as a rotogravure, a sleeve mounted on the coating roll, or a die. The production tool can be composed of metal (eg nickel), metal alloy, or plastic. Metal production tools can be made by any conventional technique such as, for example, engraving, bobbing, electroforming, or diamond turning.

熱可塑性工具は、金属マスター工具から複製され得る。マスター工具は、生産工具に望まれるパターンと逆のパターンを有するであろう。マスター工具は、生産工具と同様の方法で作成され得る。マスター工具は、好ましくは、例えばニッケルのような金属から作製され、ダイヤモンド旋削される。熱可塑性シート材料は加熱され、2つを押し付け合うことで熱可塑性材料をマスター工具のパターンでエンボス加工するように、任意でマスター工具と並べられ得る。熱可塑性樹脂はまた、マスター工具上に押し出され、次に加圧され得る。熱可塑性材料は、固結し、生産工具を製造するまで冷却される。好ましい熱可塑性生産工具材料の例としては、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルクロライド、ポリプロピレン、ポリエチレン及びこれらの組み合わせが挙げられる。熱可塑性生産工具が使用される際、熱可塑性生産工具を変形させ得る過度の熱を産生しないように注意を払うべきである。   The thermoplastic tool can be replicated from a metal master tool. The master tool will have a pattern opposite to that desired for a production tool. The master tool can be created in the same way as the production tool. The master tool is preferably made from a metal such as nickel and is diamond turned. The thermoplastic sheet material can be heated and optionally aligned with the master tool such that the two are pressed together to emboss the thermoplastic material in the pattern of the master tool. The thermoplastic resin can also be extruded onto a master tool and then pressurized. The thermoplastic material is consolidated and cooled until a production tool is produced. Examples of preferred thermoplastic production tool materials include polyester, polycarbonate, polyvinyl chloride, polypropylene, polyethylene and combinations thereof. When a thermoplastic production tool is used, care should be taken not to produce excessive heat that can deform the thermoplastic production tool.

生産工具は生産工具から研磨物品を容易に分離させるのを可能とする剥離コーティングも含有し得る。金属における、このような剥離コーティングの例としては、硬質炭化物、窒化物又はホウ化物コーティングが挙げられる。熱可塑性樹脂における剥離コーティングの例としては、シリコン及びフッ素性化学物質が挙げられる。   The production tool may also contain a release coating that allows the abrasive article to be easily separated from the production tool. Examples of such release coatings on metals include hard carbide, nitride or boride coatings. Examples of release coatings in thermoplastic resins include silicon and fluorochemicals.

精密形状化された研磨複合体を有する構造研磨物品の製造方法に関するさらなる詳細は、例えば、米国特許第5,152,917号(ピーパー(Pieper)他);同5,435,816号(スパージョン(Spurgeon)他);同5,672,097号(フープマン(Hoopman)他);同5,681,217号(フープマン(Hoopman)他);同5,454,844号(ヒバート(Hibbard)他);同5,851,247号(ステゼル(Stoetzel)他);及び同6,139,594号(キンカイド(Kincaid)他)で見られ得る。   For further details regarding methods of manufacturing structured abrasive articles having precision shaped abrasive composites, see, for example, US Pat. Nos. 5,152,917 (Pieper et al.); (Spurgeon et al.); 5,672,097 (Hoopman et al.); 5,681,217 (Hoopman et al.); 5,454,844 (Hibbard et al.) No. 5,851,247 (Stoetzel et al.); And 6,139,594 (Kincaid et al.).

精密形状化された研磨複合体は任意の三次元形状を有していてもよく、それが研磨層の露出面上に隆起した形状又は凹部の少なくとも1つをもたらす。有用な形状としては、例えば、立方体状、プリズム状、角錘状(例えば、四角錘状又は六角錘状)、角錘台状、円錘状、円錐台状が挙げられる。異なる形状及び/又はサイズの研磨複合体の組み合わせも使用されてもよい。   The precisely shaped abrasive composite may have any three-dimensional shape, which results in at least one of a raised shape or recess on the exposed surface of the abrasive layer. Examples of useful shapes include a cubic shape, a prism shape, a pyramid shape (for example, a quadrangular pyramid shape or a hexagonal pyramid shape), a truncated pyramid shape, a frustum shape, and a truncated cone shape. Combinations of abrasive composites of different shapes and / or sizes may also be used.

他の実施形態において、バインダ前駆体及び研磨粒子を含むスラリーは、パターン付け方法(例えば、スクリーン又はグラビア印刷)において基材上に堆積され、少なくとも被覆されたスラリー塑性体であって流動しない表面をレンダリングするために部分的に重合し得る。次に、基材に固定される形状化された研磨複合体を形成するために、実質的にさらに硬化される(例えば、エネルギー源に曝露する)、部分的に重合したスラリー処方上にパターンがエンボス加工される。本方法に関するさらなる詳細及び関連する方法は、例えば、米国特許第5,833,724号(ウェイ(Wei)他);同5,863,306号(ウェイ(Wei)他);同5,908,476号(ニシオ(Nishio)他);同6,048,375号(ヤング(Yang)他);同6,293,980号(ウェイ(Wei)他);及び米国特許出願公開第2001/0041511(ラック(Lack)他)に記載される。   In other embodiments, a slurry comprising a binder precursor and abrasive particles is deposited on a substrate in a patterning method (eg, screen or gravure printing) and is at least a coated slurry plastic that does not flow. It can partially polymerize for rendering. Next, a pattern is formed on the partially polymerized slurry formulation that is substantially further cured (eg, exposed to an energy source) to form a shaped abrasive composite that is secured to a substrate. Embossed. Further details regarding this method and related methods are described, for example, in U.S. Pat. Nos. 5,833,724 (Wei et al.); 5,863,306 (Wei et al.); 476 (Nishio et al.); 6,048,375 (Yang et al.); 6,293,980 (Wei et al.); And US Patent Application Publication No. 2001/0041511 (Lack et al.).

精密な仕上げ用途において、形状化された研磨複合物の高さは、一般的に1マイクロメートル以上であって510マイクロメートル(20ミル)以下であり;例えば、380マイクロメートル未満(15ミル)、200マイクロメートル(10ミル)、200マイクロメートル(5ミル)、5マイクロメートル(2ミル)、またさらには25マイクロメートル(1ミル)未満であるが、より高い及びより低い高さも使用され得る。   In precision finishing applications, the height of the shaped abrasive composite is generally greater than or equal to 1 micrometer and less than or equal to 510 micrometers (20 mils); for example, less than 380 micrometers (15 mils), Less than 200 micrometers (10 mils), 200 micrometers (5 mils), 5 micrometers (2 mils), or even less than 25 micrometers (1 mil), higher and lower heights may be used.

精密な仕上げ用途において、研磨層における形状化された研磨複合体の面密度は、典型的には、例えば、1平方センチメートル当たり少なくとも150、1,500、又はさらに7,800の範囲内の形状化研磨複合体(平方インチ当たり少なくとも50,000以下、70,000以下、又はさらには100,000以下の形状化研磨複合体)であって、1平方センチメートル当たり7,800、11,000、又はさらに15,000以下の形状化研磨複合物であるが、より高い又はより低い形状化研磨複合物の密度も使用され得る。   In precision finishing applications, the surface density of the shaped abrasive composite in the polishing layer is typically shaped polishing, for example in the range of at least 150, 1,500, or even 7,800 per square centimeter. A composite (shaped abrasive composite of at least 50,000 or less, 70,000 or less, or even 100,000 or less per square inch), 7,800, 11,000, or even 15,000 per square centimeter Although less than 000 shaped abrasive composites, higher or lower shaped abrasive composite densities may also be used.

一度構造研磨層が基材に固定されると、この時点でシート又はディスクのどちらであったとしても、得られた構造研磨物品は重ね合わせのエンボス特徴を有する。エンボス加工は、例えば、使用されるエンボス加工条件に応じて、所望のパターン(又は逆のパターン)を有するエンボスダイ(すなわち、エンボス加工によって)に対して熱及び/又は圧力を付加することを含む、任意の好適な手段によって達成され得る。エンボスダイは、例えばプレート又はロールを含み得る。典型的に、エンボス特徴の寸法は、形状化された研磨複合物の平均寸法より断面図において少なくとも1桁大きい(例えば、少なくとも10、100、又はさらには少なくとも1000倍大きい)であろう。エンボス特徴は任意の形状又は形状の組み合わせを有するか、擬似ランダム又は標準パターンにしたがって配列され得る。例えば、それらはディンプル、ポスト、隆起、文字、幾何学的形状、グラフィックデザイン、及びそれらの組み合わせを含み得る。エンボス特徴は、切形的であるか、漸次的であり得る。ある実施形態において、エンボス特徴の密度は、1平方センチメートル当たり少なくとも1、2、5、10以上であり得る。   Once the structured abrasive layer is secured to the substrate, the resulting structured abrasive article, whether it is a sheet or a disk at this point, has an overlapping embossing feature. Embossing includes, for example, applying heat and / or pressure to an embossing die (ie, by embossing) having a desired pattern (or reverse pattern) depending on the embossing conditions used. Can be achieved by any suitable means. The embossing die can include, for example, a plate or a roll. Typically, the dimensions of the embossing features will be at least an order of magnitude greater (eg, at least 10, 100, or even at least 1000 times) in cross-section than the average dimension of the shaped abrasive composite. The embossing features can have any shape or combination of shapes, or can be arranged according to a pseudo-random or standard pattern. For example, they can include dimples, posts, ridges, letters, geometric shapes, graphic designs, and combinations thereof. The embossing feature can be truncated or gradual. In certain embodiments, the density of embossed features can be at least 1, 2, 5, 10 or more per square centimeter.

一般的に、構造研磨層に接触する基材又は任意の接着層の全領域に対して、構造研磨層の5〜95パーセントは、基材のエンボス特徴内に含まれるが、より高い及び低い割合も使用され得る。典型的には、低い静止摩擦を維持しながら高い研削切断値を得るために、含有パーセントを調整するのが望ましい。   Generally, for the entire area of the substrate or any adhesive layer that contacts the structured polishing layer, 5 to 95 percent of the structured polishing layer is included within the embossing features of the substrate, but at higher and lower percentages. Can also be used. Typically, it is desirable to adjust the percent content to obtain high grinding cut values while maintaining low static friction.

本発明によるエンボス構造研磨物品は、例えば、ランダムオービタルサンダーのような工具に固定されるバックアップパッド等に、支持構造に固定され得る。任意の取り付け型境界層は、接着(例えば、感圧性接着剤)層、又は、両面接着テープであり得る。任意の取り付け型境界層は、適切に機能するために、支持パッド又はバックアップパッドに固定される1つ以上の相補要素と連動するように構成され得る。例えば、任意の取り付け型境界層は、フックアンドループ付属物におけるループ構成(例えば、フック構造が固定されるバックアップ又は支持パッドに使用する)、フックアンドループ付属物におけるフック構造(例えば、ループ構成が固定されるバックアップ又は支持パッドに使用する)、又は噛合付属物境界層(例えば、バックアップ又は支持パッド上で同様のマッシュルーム型連動ファスナと噛合するように設計されるマッシュルーム型連動ファスナ)を含み得る。かかる取り付け型境界層に関するさらなる詳細は、例えば、米国特許第4,609,581号(オット(Ott))、同5,152,917号(ピーパー(Pieper)他)、同5,254,194号(オット(Ott))、同5,454,844号(ヒバード(Hibbard)他)、同5,672,097号(フープマン(Hoopman))、同5,681,217号(フープマン、(Hoopman)他)、米国特許出願公開番号2003/0143938号(ブラウンシュワイク(Braunschweig)他)及び2003/0022604号(アネン(Annen)他)で見られ得る。   The embossed structure abrasive article according to the present invention can be fixed to the support structure, for example, on a backup pad fixed to a tool such as a random orbital sander. The optional attached boundary layer can be an adhesive (eg, pressure sensitive adhesive) layer or a double-sided adhesive tape. Any attached boundary layer may be configured to work with one or more complementary elements that are secured to a support pad or backup pad in order to function properly. For example, any attached boundary layer can be a loop configuration in a hook and loop appendage (eg, used for a backup or support pad to which the hook structure is secured), a hook structure in a hook and loop appendage (eg, a loop configuration is Or a mating appendage boundary layer (eg, a mushroom interlocking fastener designed to mate with a similar mushroom interlocking fastener on the backup or support pad). Further details regarding such attached boundary layers can be found, for example, in U.S. Pat. Nos. 4,609,581 (Ott), 5,152,917 (Pieper et al.), 5,254,194. (Ott), 5,454,844 (Hibbard et al.), 5,672,097 (Hoopman), 5,681,217 (Hoopman, et al.) ), U.S. Patent Application Publication Nos. 2003/0143938 (Braunschweig et al.) And 2003/0022604 (Annen et al.).

同様に、基材の第二主表面は、例えば、米国特許第5,672,186号(チェスレイ(Chesley)他)に記載されるように、一体化されて形成される複数の突出部を有し得る。そうすることで、これらのフックは構造研磨物品とループ構成が固定されたバックアップパッドとの間を嵌合するであろう。   Similarly, the second major surface of the substrate has a plurality of protrusions formed integrally, as described, for example, in US Pat. No. 5,672,186 (Chesley et al.). Can do. In doing so, these hooks will fit between the structured abrasive article and a backup pad with a fixed loop configuration.

本発明によるエンボス構造研磨物品は、任意の形態(例えば、シート、ベルト、又はディスク)で提供され、任意の全体寸法であり得る。エンボス構造研磨ディスクは任意の直径を有し得るが、典型的には、0.5センチメートル〜15.2センチメートルの範囲の直径を有する。   The embossed structured abrasive article according to the present invention can be provided in any form (eg, sheet, belt, or disk) and can be of any overall size. The embossed structured abrasive disc can have any diameter, but typically has a diameter in the range of 0.5 centimeters to 15.2 centimeters.

エンボス構造研磨物品は内部にスロット又はスリットを有してよく、あるいは、穿孔が提供され得る。   The embossed structured abrasive article may have slots or slits therein or may be provided with perforations.

本発明によるエンボス構造研磨物品は、一般的に工作物、特に強化ポリマー層を有する工作物を研磨するのに有用である。   The embossed structured abrasive article according to the present invention is generally useful for polishing workpieces, particularly workpieces having a reinforced polymer layer.

工作物は任意の材料を含んでよく、任意の形態を有してよい。材料の例としては、金属、金属合金、エキゾチック金属合金、セラミックス、塗面、プラスチック、ポリマーコーティング、石、多結晶シリコン、木材、大理石、及びこれらの組み合わせが挙げられる。工作物の例としては、成形された及び形状化された物品(例えば、光学レンズ、車体パネル、艇体、カウンター、及びシンク)、ウエファー、シート、ブロックが挙げられる。   The workpiece may include any material and may have any form. Examples of materials include metals, metal alloys, exotic metal alloys, ceramics, painted surfaces, plastics, polymer coatings, stones, polycrystalline silicon, wood, marble, and combinations thereof. Examples of workpieces include molded and shaped articles (eg, optical lenses, body panels, hulls, counters, and sinks), wafers, sheets, blocks.

本発明によるエンボス構造研磨物品は、典型的には、自動車塗装及びクリアコート(例えば、自動車用クリアコート)のようなポリマーコーティングの補修及び/又は研磨に有用であり、その例としては、ポリアクリル酸−ポリオール−ポリイソシアネート組成物(例えば、米国特許第5,286,782号(ラム(Lamb)他)に記載される);ヒドロキシ基を有するアクリル酸−ポリオール−ポリイソシアネート組成物(例えば、米国特許第5,354,797号(アンダーソン(Anderson)他);ポリイソシアネート−カルボネート−メラミン組成物(例えば、米国特許第6,544,593号(ナガタ(Nagata)他);及び高個体ポリシロキサン組成物(例えば、米国特許第6,428,898号(バルゾッティ(Barsotti)他)に記載される)が挙げられる。   Embossed structured abrasive articles according to the present invention are typically useful for repairing and / or polishing polymer coatings such as automotive paints and clearcoats (eg automotive clearcoats), for example polyacrylic Acid-polyol-polyisocyanate compositions (eg, as described in US Pat. No. 5,286,782 (Lamb et al.)); Acrylic acid-polyol-polyisocyanate compositions having hydroxy groups (eg, US Patent 5,354,797 (Anderson et al.); Polyisocyanate-carbonate-melamine compositions (eg, US Pat. No. 6,544,593 (Nagata et al.)); And high solid polysiloxane compositions Product (eg, US Pat. No. 6,428,898 (Barsotti et al.)). And the like.

自動車等における、保護光沢仕上げは、典型的には着色されたベースコート上に塗布されるクリアコートの層から生じたものである。常に、この塗布されたクリアコート仕上げには、一般的に「オレンジピール」と呼ばれるテクスチャを含む。クリアコートにおける欠点(例えば、ダストニブ)を研磨除去する工程において、研磨される領域におけるオレンジピールは一般的に改善される。周辺領域におけるオレンジピールの特定の環境及びテクスチャに応じて、オレンジピールのテクスチャの大半又は全てを除去(平坦化)するのが望まれ得る。他の例においては、可能なだけオレンジピールテクスチャを残すことが望ましくてよく、オレンジピールへの「ライディング」としても知られる。   A protective gloss finish, such as in an automobile, typically arises from a clearcoat layer applied over a colored basecoat. This applied clear coat finish always includes a texture commonly referred to as “orange peel”. In the process of polishing away defects (eg, dust nibs) in the clearcoat, orange peel in the area to be polished is generally improved. Depending on the specific environment and texture of the orange peel in the surrounding area, it may be desirable to remove (planarize) most or all of the orange peel texture. In other examples, it may be desirable to leave as much orange peel texture as possible, also known as “riding” on the orange peel.

細粒度の研磨材(例えば、P500以下)を含む本発明によるエンボス構造研磨物品において、オレンジピールを平坦化又はライディングする能力は、適切な基材を選択することで制御することができる。一方、例えば、ポリエステルフィルム又は紙のような比較的硬質で圧縮不能な基材は、オレンジピールを平滑にする傾向のある研磨物品を典型的にはもたらすであろう。他方では、比較的柔らかい基材(例えば、弾性発泡体)は、オレンジピールにライディングする傾向があり、それによって研磨後により多くのテクスチャを残す。車に塗布された新しいクリアコートでダストニブを除去する際、できるだけオレンジピールテクスチャを除去しながら、実質的にニブを除去することが通常は望ましい。典型的に、2つの間で審美的に容認できるバランスを提供する好適な基材を見出せるように、これらの2つの対極間における特性は連続している。例えば、新しい自動車用クリアコートのデニビングにおいて、ポリエステルフィルムの硬度と連続発泡である100kg/m(6lb/ft)ポリウレタン発泡体の硬度の間の硬度(例えば、ショアA、B、C又はD硬さ)を有する基材が典型的には好適である。基材の厚さはまた、典型的にはオレンジピールを平滑にするためのエンボス構造研磨物品の能力に影響する。例えば、基材が厚くなれば、研磨材がオレンジピールに局所的に適合する能力が減少する。 In an embossed structured abrasive article according to the present invention comprising a fine grain abrasive (eg, P500 or less), the ability to flatten or ride orange peel can be controlled by selecting an appropriate substrate. On the other hand, a relatively hard and incompressible substrate such as, for example, a polyester film or paper will typically result in an abrasive article that tends to smooth the orange peel. On the other hand, relatively soft substrates (eg, elastic foam) tend to ride on orange peel, thereby leaving more texture after polishing. When removing dust nibs with a new clear coat applied to the car, it is usually desirable to substantially remove the nibs while removing as much orange peel texture as possible. Typically, the properties between these two counter electrodes are continuous so that a suitable substrate can be found that provides an aesthetically acceptable balance between the two. For example, in a new automotive clearcoat denibing, a hardness between the hardness of the polyester film and the hardness of 100 kg / m 3 (6 lb / ft 3 ) polyurethane foam that is continuous foam (eg, Shore A, B, C or D A substrate having a hardness) is typically preferred. The thickness of the substrate also typically affects the ability of the embossed structured abrasive article to smooth orange peel. For example, as the substrate becomes thicker, the ability of the abrasive to conform locally to the orange peel decreases.

用途に応じて、研磨境界における力は0.1kg〜1000kgを超えるまで変化することが可能である。一般的に、この範囲は、研磨境界における力の1kg〜500kgの間である。また、用途に応じて、研磨中に液体が存在してもよい。この液体は水及び/又は有機化合物であり得る。典型的には有機化合物の例としては、潤滑剤、油、乳化有機化合物、切削流体、界面活性剤(例えば、石鹸、有機硫酸、スルホン酸、有機ホスホン酸、有機リン酸)、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらの液体は、消泡剤、脱脂剤、腐食防止剤、及びこれらの組み合わせのような他の添加剤も含有し得る。   Depending on the application, the force at the polishing boundary can vary from 0.1 kg to over 1000 kg. Generally, this range is between 1 kg and 500 kg of force at the polishing boundary. Also, depending on the application, liquid may be present during polishing. This liquid may be water and / or an organic compound. Typically, examples of organic compounds include lubricants, oils, emulsified organic compounds, cutting fluids, surfactants (eg, soaps, organic sulfuric acids, sulfonic acids, organic phosphonic acids, organic phosphoric acids), and combinations thereof Is mentioned. These liquids may also contain other additives such as antifoams, degreasing agents, corrosion inhibitors, and combinations thereof.

本発明によるエンボス構造研磨物品は、例えば、一般的に構造研磨層に対して垂直な中心軸を回転する回転工具、又はランダムオービット(例えば、ランダムオービタルサンダー)とともに使用され、使用中に研磨境界で振動し得る。場合によっては、この振動は、研磨される工作物上でより微細な表面をもたらし得る。   The embossed structured abrasive article according to the present invention is used with, for example, a rotating tool that rotates a central axis that is generally perpendicular to the structured abrasive layer, or a random orbit (eg, a random orbital sander), and at the abrasive boundary during use. Can vibrate. In some cases, this vibration can result in a finer surface on the workpiece being polished.

本発明の目的及び利点を以下の非限定的な実施例によりさらに例示するが、これらの実施例の中で挙げた特定の材料及びその量、並びに他の条件及び詳細は、本発明を不当に限定するように解釈されるべきではない。   The objects and advantages of this invention are further illustrated by the following non-limiting examples, which illustrate the specific materials and amounts thereof, as well as other conditions and details, cited in these examples. It should not be construed as limiting.

特段の指定がない限り、実施例及び明細書の残りの中の全ての部、百分率、比などは重量基準であり、そして実施例で用いられる全ての試薬類は、例えばミズーリ州セントルイス(Saint Louis)のシグマ−アルドリッチ・カンパニー(Sigma-Aldrich Company)などの一般化学薬品供給業者類から入手したか、又は入手可能であるか、あるいは従来の方法によって合成してもよい。   Unless otherwise specified, all parts, percentages, ratios, etc. in the examples and the remainder of the specification are by weight, and all reagents used in the examples are, for example, Saint Louis, Missouri. ) From general chemical suppliers such as Sigma-Aldrich Company, or may be synthesized by conventional methods.

実施例全体を通して、以下の略称を使用する。
MN1:イリノイ州エルムハースト(Elmhurst)のフジミコーポレーション(Fujimi Corp.)の商標表記「GC1000」として市販されている、JIS1000番系の炭化ケイ素研磨鉱物。
MN2:イリノイ州エルムハースト(Elmhurst)のフジミコーポレーション(Fujimi Corp.)の商標表記「GC2000」として市販されている、JIS2000番系の炭化ケイ素研磨鉱物。
PM1:ペンシルバニア州エクストン(Exton)のサートマー(Sartomer)社の商標表記「SR339」として入手可能な2−フェノキシエチルアクリレートモノマー。
PM2:サートマー(Sartomer)社の商標表記「SR351」として入手可能なトリメチロールプロパントリアクリレート。
PM3:オハイオ州クリーブランド(Cleveland)のノベオン(Noveon)社の商標表記「ソルプラス(SOLPLUS)D520」として入手可能なポリマー分散剤。
PM4:コネチカット州グリニッチ(Greenwich)のウィトコ(Witco)社の商標登録「シルクエスト(SILQUEST)A174」として入手可能なγ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン樹脂変性剤。
PM5:ノースカロライナ州シャーロット(Charlotte)のBASF社の商標表記「ルチリン(LUCIRIN)TPO−L」として入手可能なエチル2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート光開始剤。
PM6:ドイツ国デュッセルドルフ(Dusseldorf)のデグサ(Degussa)社の商標表記「アエロジル(AEROSIL)OX−50」として入手可能な二酸化ケイ素。
The following abbreviations are used throughout the examples.
MN1: JIS 1000 series silicon carbide polishing mineral marketed under the trademark designation “GC1000” of Fujimi Corp. of Elmhurst, Illinois.
MN2: A JIS 2000 series silicon carbide polishing mineral marketed under the trademark designation “GC2000” of Fujimi Corp. of Elmhurst, Illinois.
PM1: 2-phenoxyethyl acrylate monomer available under the trade designation “SR339” from Sartomer, Exton, Pa.
PM2: Trimethylolpropane triacrylate available under the trade designation “SR351” from Sartomer.
PM3: A polymeric dispersant available under the trade designation "SOLPLUS D520" from Noveon, Cleveland, Ohio.
PM4: A γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane resin modifier available under the trade designation “SILQUEST A174” of Witco, Greenwich, Connecticut.
PM5: Ethyl 2,4,6-trimethylbenzoylphenyl phosphinate photoinitiator available under the trade designation “LUCIRIN TPO-L” from BASF Corporation of Charlotte, NC.
PM6: silicon dioxide available under the trade designation “AEROSIL OX-50” from Degussa, Dusseldorf, Germany.

研磨剤スラリー1(AS1)の調製
PM1(146.5グラム)、146.5グラムのPM2、41.85グラムのPM3、31.41グラムのPM4及び331.41グラムのPM5を20℃で10分間合成及び混合した。混合物が均一に見えるまで混合を続けながら、PM6(52.29グラム)を混合物に加え、樹脂プレミックスを生成した。450グラムの樹脂プレミックスにMN1(596グラム)を加え、均質物が研磨スラリーAS1を与えるまで混合物を高速せん断ミキサで5分間混合した。高速混合工程中の温度は、37.8℃(100°F)未満で維持した。
Preparation of Abrasive Slurry 1 (AS1) PM1 (146.5 grams), 146.5 grams PM2, 41.85 grams PM3, 31.41 grams PM4 and 331.41 grams PM5 at 20 ° C. for 10 minutes. Synthesized and mixed. While continuing to mix until the mixture appeared uniform, PM6 (52.29 grams) was added to the mixture to produce a resin premix. MN1 (596 grams) was added to 450 grams of the resin premix and the mixture was mixed for 5 minutes in a high speed shear mixer until a homogenate gave the abrasive slurry AS1. The temperature during the high speed mixing process was maintained below 37.8 ° C. (100 ° F.).

比較例A
米国特許第6,923,840号(シュッツ(Schutz)他)の14欄、22〜41行及び図13〜15に開示されるような、均一なパターンを有するポリプロピレン製品に対して、ナイフコーティングでAS1を塗布した。スラリーがコーティングされたポリプロピレン生産工具を、3M社の商標表記「3M481プリザベーションテープ(PRESERVATION TAPE)」として市販されている、178マイクロメートル(7ミル)厚の接着剤がコーティングされたポリエチレンフィルムの接着剤面に接触させた。次に、生産工具に、メリーランド州ゲイサーズバーグ(Gaithersburg)のフュージョンシステムズ(Fusion Systems)社から得られ、9.14メートル/分(30フィート/分)の速度でウェブを移動しながら、25.4cm(10インチ)において410キロパスカル(kPa)(60ポンド/平方インチ)のニップ圧力を使用し、236ワット/cm(600ワット/インチ)で作動する「D」バルブ型の紫外線(UV)ランプを照射した。実質的に硬化された形状化された研磨コーティングから生産工具を分離した。
Comparative Example A
U.S. Pat. No. 6,923,840 (Schutz et al.), Column 14, 22-41, and polypropylene product with a uniform pattern, as disclosed in FIGS. 13-15, with knife coating. AS1 was applied. Adhesion of polypropylene film coated with 178 micrometer (7 mil) thick adhesive, which is commercially available as a 3M brand trademark "3M481 PRESERVATION TAPE" The drug surface was brought into contact. Next, the production tool was obtained from Fusion Systems, Gaithersburg, Maryland, moving the web at a speed of 9.14 meters / minute (30 feet / minute) Ultraviolet light (UV) of the “D” bulb type operating at 236 watts / cm (600 watts / inch) using a nip pressure of 410 kilopascals (kPa) (60 lbs / in 2) at 10 inches The lamp was irradiated. The production tool was separated from the substantially cured shaped abrasive coating.

比較例B
一組のクロム鋼ニップロールを通してテープを搬送し、ウェブ幅に対して48.2kN/mのニップ圧(ウェブ幅1インチ当たり275ポンド)を用いることで、「3M481プレザベーションテープ(PRESERVATION TAPE)」にディンプルを熱エンボス加工した。ニップロールのうちの1つは20℃、もう1つのロールを、ロール表面上に均一に分散され、その領域の20%を占める1.0mm(直径)且つ2.3mm高さの突出物でパターン化し、93.3℃(200°F)まで加熱する。次に、比較例Aに記載される方法に従って、ディンプル化されたポリエチレン基材の接着剤側にAS1を塗布した。
Comparative Example B
“3M481 PRESERVATION TAPE” by transporting the tape through a set of chrome steel nip rolls and using a nip pressure of 48.2 kN / m (275 pounds per inch of web width) for the web width The dimples were heat embossed. One of the nip rolls is 20 ° C. and the other roll is patterned with 1.0 mm (diameter) and 2.3 mm high protrusions that are uniformly distributed on the roll surface and occupy 20% of the area. Heat to 93.3 ° C. (200 ° F.). Next, AS1 was applied to the adhesive side of the dimpled polyethylene substrate according to the method described in Comparative Example A.

比較例C
ロール表面上に均一に分散される、ロール表面の47%を孔で占め、ニップ圧がウェブ幅に対して43.8kN/m(ウェブ幅1線状インチ当たり250ポンド)となるように、ディンプル化されたニップロールを、3.25mm(直径)孔を含有するパターン化されたロールに替える以外は、比較例Bに記載される方法に従って、構造研磨物品を調製した。
Comparative Example C
Dimples so that 47% of the roll surface, evenly distributed on the roll surface, is occupied by holes and the nip pressure is 43.8 kN / m of web width (250 pounds per linear inch of web width) A structured abrasive article was prepared according to the method described in Comparative Example B, except that the modified nip roll was replaced with a patterned roll containing 3.25 mm (diameter) holes.

(実施例1)
研磨スラリーの塗布及び硬化後にポリエチレン基材をエンボス加工する以外は、比較例Bに記載の方法に従って、エンボス構造研磨物品を調製した。
(Example 1)
An embossed structure abrasive article was prepared according to the method described in Comparative Example B except that the polyethylene substrate was embossed after application and curing of the abrasive slurry.

(実施例2)
研磨スラリーの塗布及び硬化後にポリエチレン基材をエンボス加工する以外は、比較例Cに記載の方法に従って、エンボス構造研磨物品を調製した。
(Example 2)
An embossed structured abrasive article was prepared according to the method described in Comparative Example C, except that the polyethylene substrate was embossed after application and curing of the abrasive slurry.

比較例A〜C及び実施例1及び2の構造研磨ディスクを、米国特許第6,923,840号(シュッツ(Schutz)他)の15欄62行〜16欄7行に記載されるような、対向する表面にフックステムを有する、ポリプロピレン機械ファスナ積層体の、接着剤でコーティングされた平坦な表面に積層した。次に、15.2cm(6インチ)のディスクを、比較例A〜C及び実施例1及び2のシート材料からダイカットした。   The structural abrasive discs of Comparative Examples A-C and Examples 1 and 2 are as described in US Pat. No. 6,923,840 (Schutz et al.), Column 15, line 62 to column 16, line 7. Laminated on an adhesive coated flat surface of a polypropylene mechanical fastener laminate with hook stems on opposite surfaces. A 15.2 cm (6 inch) disc was then die cut from the sheet materials of Comparative Examples A-C and Examples 1 and 2.

試験
研磨ディスクの切断及び仕上げ性能を、自動車用クリアコートにおいて試験した。さらに、研磨中の各研磨材を湿式操作する際の静止摩擦において、及び、研磨工程中に研磨材が任意の「深刻なスクラッチ」を生成するかどうかの定性的評価を作成した。工作物は、45.7cm×61cm(18インチ×24インチ)のクリアコーティングされた黒く塗装した冷延鋼板試験パネルであって、ミシガン州ヒルズデール(Hillsdale)のACTラボラトリーズ(ACT Laboratories)社の商標表記「APR45077」として得られる。次に、機械的な塗装密着性を確実にするために、ニューヨーク州クラレンス(Clarence)のダイナブレード(Dynabrade)社から得られる型番「59025」のランダムオービットサンダーに取り付けられる、3M社から市販されている「トライザクトフックイットIIブレンディングディスク(TRIZACT HOOKIT II BLENDING DISC)443SA、P1000等級」を使用して、276キロパスカル(kPa)(40ポンド/平方インチ)のライン圧力でパネルを擦った。まず最初にパネルの縁周りを研磨し、次に、上下運動及び左右運動で全パネルを研磨することでパネルを擦った。この工程が完了する際、パネルはつや消し仕上げとなった。パネルを乾いた紙タオルで拭き、濡れた削りくずを除去した。
Test The cutting and finishing performance of the abrasive discs was tested in an automotive clearcoat. Furthermore, a qualitative assessment was made of whether the abrasive produces any “serious scratches” in static friction when wet operating each abrasive during polishing and during the polishing process. The work piece is a 45.7 cm x 61 cm (18 inch x 24 inch) clear coated black painted cold rolled steel sheet test panel, a trademark of ACT Laboratories, Hillsdale, Michigan. Obtained as the notation “APR45077”. Next, commercially available from 3M to be attached to a random orbit sander of model number “59025” obtained from Dynabrade of Clarence, NY to ensure mechanical paint adhesion The panel was rubbed at a line pressure of 276 kilopascals (kPa) (40 pounds per square inch) using a "TRIZACT HOOKIT II BLENDING DISC 443SA, P1000 grade". First, the periphery of the panel was ground, and then the panel was rubbed by polishing the entire panel by up and down movement and left and right movement. When this process was completed, the panel had a matte finish. The panel was wiped with a dry paper towel to remove wet shavings.

全てデラウェア州ウィルミントン(Wilmington)のE.Iデュポンドゥヌムールアンドカンパニー(du Pont de Nemours & Co)から市販されている、商標表記「クロマクリア(CHROMA CLEAR)G24500S」として入手可能な樹脂を3部、商標表記「62−4508S」として入手可能な活性剤を1部、及び商標表記「12375S」として入手可能な還元剤を1部、共に混合することでクリアコート溶液を調製した。ドイツ国コルンヴェストハイム(Kornwestheim)のSATAファルブスプリッツェクニック(SATA Farbspritztechnik)有限責任会社の「RP」型である、276kPa(40ポンド/平方インチ)で使用される、1.3mmのスプレーノズルスプレーガンを使用してクリアコートをパネルに塗布した。クリアコート溶液を、51マイクロメートル(2ミル)の呼び厚さで各パネルに噴射した。使用前に室温で空気によって3日間パネルを乾燥し、これを以下で工作物WP1と呼ぶ。   All from E. Wilmington, Delaware. 3 parts of resin available under the trade designation “CHROMA CLEAR G24500S”, available from du Pont de Nemours & Co, available under the trade designation “62-4508S” A clear coat solution was prepared by mixing together 1 part of an active agent and 1 part of a reducing agent available under the trade designation “12375S”. 1.3 mm spray nozzle spray used at 276 kPa (40 pounds per square inch), the “RP” type of SATA Farbspritztechnik limited liability company in Kornwestheim, Germany A clear coat was applied to the panel using a gun. The clearcoat solution was sprayed onto each panel at a nominal thickness of 51 micrometers (2 mils). Prior to use, the panel is dried by air at room temperature for 3 days, which is hereinafter referred to as workpiece WP1.

各試験パネルを45.7cm(18インチ)長の4レーンに分け、各レーンを15.2cm(6インチ)幅にした。1つのレーンにつき、30秒間の湿式研磨(水を使用)をすることで各研磨ディスクを試験した。各レーンの研磨前に試験パネルを秤量した。質量の違いは測定される切削であり、30秒当たりのグラム数として報告する。研磨後、各レーンのマイクロメートル(μm)での平均表面仕上げ(R)を、英国レスター(Leicester)のタイラーホブソン(Taylor Hobson)社の商標表記「サートロニック3+表面計(SURTRONIC 3+ PROFILOMETER)」として入手可能な表面計を使用して測定した。Rは、各表面計測定値において、サンプル長の最高地点と最低地点間での縦方向での差異について、それぞれ5回の測定における平均である。1レーンにつき、5回の仕上げ測定を行った。報告される切削が4回の測定の平均であり、報告される仕上げが20回の測定の平均となるように、ロット毎に4種の研磨ディスクを試験し、全4種の研磨ディスクの平均を求めた。 Each test panel was divided into 4 lanes, 45.7 cm (18 inches) long, with each lane being 15.2 cm (6 inches) wide. Each abrasive disc was tested by wet polishing (using water) for 30 seconds per lane. The test panel was weighed before polishing each lane. The difference in mass is the measured cut and is reported as grams per 30 seconds. After polishing, the average surface finish (R z ) in micrometer (μm) of each lane is the trademark designation “SURTRONIC 3+ PROFILOMETER” of Taylor Hobson of Leicester, UK ”Using a surface meter available as R z is an average of five measurements for the difference in the vertical direction between the highest point and the lowest point of the sample length in each surface gauge measurement value. Five finishing measurements were performed per lane. Four abrasive discs were tested per lot so that the reported cut was an average of 4 measurements and the reported finish was an average of 20 measurements, and the average of all 4 abrasive discs Asked.

「静止摩擦」、つまり、研磨コーティングが工作物表面に固着する傾向も不必要な結果とともに注解した。一般的に、精密仕上げ用途において、静止摩擦は最小化されるのが望ましい。各パネルにおける仕上げ測定後、「深刻なスクラッチ」の存在を視覚的に検査した。「深刻なスクラッチ」とは、DAサンダーが研磨基材上を移動する方向において、らせん状又はフック状の深いスクラッチ線のことである。「深刻なスクラッチ」を試験するために、パネルを、メリーランド州ハムステッド(Hampstead)のデウォルトインダストリアルツール(Dewalt Industrial Tool)社から市販されるデウォルトバッファ(Dewalt Buffer)型番849を使用して、1400回転毎分(rpm)で作動させてバフ加工した。商標表記「パーフェクトイットIIIトライザクトマシングレーズ(PERFECT-IT III TRIZACT MACHINE GLAZE)パート番号05930号」として入手可能なマシングレーズ、商標表記「フックイットバックアップパッド(HOOK-IT BACKUP PAD)パート番号05718号」として入手可能なバックアップパッド、及び商標表記「パーフェクトイットフォームポリッシングパッド(PERFECT-IT FOAM POLISHING PAD)パート番号05995号」として入手可能な研磨パッドを使用し、これらは全て3M社から市販されている。この場合のバフ加工工程は、スクラッチの大半を除去することを意図している。次に、パネルを「深刻なスクラッチ」が存在するか視覚的に検査した。一般的に、「深刻なスクラッチ」の生成を最小化するのが望ましい。結果を(下記の)表1に示す。   The “static friction”, ie the tendency of the abrasive coating to stick to the workpiece surface, was also commented with unnecessary results. Generally, in precision finishing applications, it is desirable to minimize static friction. After finishing measurements on each panel, the presence of “serious scratches” was visually inspected. “Severe scratches” are deep scratch lines that are spiral or hook-like in the direction in which the DA sander moves over the abrasive substrate. To test “serious scratches”, the panel was rotated 1400 rpm using a Dewalt Buffer model number 849 commercially available from Dewalt Industrial Tool, Hampstead, Maryland. Buffing was performed by operating every minute (rpm). Machine glaze available under the trademark notation "PERFECT-IT III TRIZACT MACHINE GLAZE part number 05930", trademark notation "HOOK-IT BACKUP PAD part number 05718" And a polishing pad available under the trade designation “PERFECT-IT FOAM POLISHING PAD Part No. 05995”, all commercially available from 3M. The buffing process in this case is intended to remove most of the scratches. The panel was then visually inspected for “serious scratches”. In general, it is desirable to minimize the generation of “serious scratches”. The results are shown in Table 1 (below).

Figure 2009534202
Figure 2009534202

研磨剤スラリー2(AS2)の調製
AS1において使用された樹脂プレミックスを使用してAS2も調製した。450グラムの樹脂プレミックスにMN2(596グラム)を加え、均質物が研磨スラリーAS2を与えるまで混合物を高速せん断ミキサで5分間混合した。高速混合工程中の温度は、37.8℃(100°F)未満で維持した。
Preparation of Abrasive Slurry 2 (AS2) AS2 was also prepared using the resin premix used in AS1. MN2 (596 grams) was added to 450 grams of the resin premix and the mixture was mixed for 5 minutes in a high speed shear mixer until the homogenous gave abrasive slurry AS2. The temperature during the high speed mixing process was maintained below 37.8 ° C. (100 ° F.).

(実施例3)
AS1をAS2に替える以外、比較例Aに記載の方法に従って、構造研磨フィルムを調製した。続いて、比較例に記載されるパターン及び条件を使用して、生成した構造研磨フィルムをエンボス加工した。
(Example 3)
A structured abrasive film was prepared according to the method described in Comparative Example A, except that AS1 was replaced with AS2. Subsequently, the resulting structured abrasive film was embossed using the patterns and conditions described in the comparative examples.

(実施例4)
「3M481プリザベーションテープ(PRESERVATION TAPE)」を3M社の「MA370M」として販売される94.2マイクロメートル(3.71ミル)のポリエステルフィルムに替える以外、実施例3に記載の方法に従って構造研磨フィルムを調製した。
(Example 4)
A structured abrasive film according to the method described in Example 3, except replacing "3M481 PRESERVATION TAPE" with a 94.2 micrometer (3.71 mil) polyester film sold as "MA370M" from 3M. Was prepared.

(実施例5)
ポリエステルフィルムを3M社の「4921テープ」として入手可能な400マイクロメートル(16ミル)厚の弾性テープに替える以外、実施例4に記載の方法に従って構造研磨フィルムを調製した。
(Example 5)
A structured abrasive film was prepared according to the method described in Example 4 except that the polyester film was replaced with a 400 micrometer (16 mil) thick elastic tape available as 3492 “4921 tape”.

(実施例6)
ポリエステルフィルムを3M社から市販され、「375テープ」として入手可能な50マイクロメートル(2ミル)のポリプロピレンテープに替える以外、実施例4に記載の方法に従って構造研磨フィルムを調製した。
(Example 6)
A structured abrasive film was prepared according to the method described in Example 4 except that the polyester film was replaced with a 50 micrometer (2 mil) polypropylene tape commercially available from 3M and available as “375 tape”.

実施例3〜6の、エンボス構造研磨シートを、3M社から「442KW」テープとして販売される両面接着フィルムにそれぞれ積層した。ディスク(直径3.8cm(1.5インチ))をシート材料からダイカットし、評価した。   The embossed structure polishing sheets of Examples 3 to 6 were respectively laminated on double-sided adhesive films sold as “442 KW” tapes from 3M Company. Disks (1.5 inches in diameter) were die cut from the sheet material and evaluated.

WP1工作物を使用して、オレンジピールテクスチャの改良における研磨基材の効果を試験した。   A WP1 workpiece was used to test the effectiveness of the abrasive substrate in improving orange peel texture.

実施例3〜6のそれぞれにおいて、3.8cmディスク(1.5インチ)をパネルにおける2つのダストニブを研磨するのに使用した。テクスチャの改良を簡便に相対比較するために、全試料の試験は、単一のWP1パネルにおいて行った。各構造研磨ディスクを、3M社から市販されるバックアップパッドパート番号02345号を使用して、280キロパスカル(kPa)(40ポンド/平方インチ)のライン圧で作動し、ニューヨーク州クラレンス(Clarence)のダイナブレード(Dynabrade)社から得られるランダムオービットサンダー型番「57502」に取り付けた。各ダストニブを5秒間、乾式研磨した。次に、デウォルトインダストリアルツール(Dewalt Industrial Tool)社から市販されるデウォルト(Dewalt)型番849バッファを使用して、1400回転毎分(rpm)で作動して、研磨した領域をバフ加工した。商標表記「パーフェクトイットIIIトライザクトマシングレーズ(PERFECT-IT III TRIZACT MACHINE GLAZE)パート番号05930号」として入手可能なマシングレーズ、商標表記「フックイットバックアップパッド(HOOK-IT BACKUP PAD)パート番号05718号」として入手可能なバックアップパッド、及び商標表記「パーフェクトイットフォームポリッシングパッド(PERFECT-IT FOAM POLISHING PAD)パート番号05995号」として入手可能な研磨パッドを使用し、これらは全て3M社から市販されている。次に、研磨及びバフ加工されたWP1パネルを、ニブ除去及びオレンジピールテクスチャ改良の双方の程度を定性的に評価するため、視覚的に検査した。   In each of Examples 3-6, a 3.8 cm disc (1.5 inch) was used to polish the two dust nibs in the panel. All samples were tested in a single WP1 panel for convenient relative comparison of texture improvements. Each structured abrasive disc operates at a line pressure of 280 kilopascals (kPa) (40 pounds per square inch) using a backup pad part number 02345 commercially available from 3M Company, Clarence, NY It was attached to a random orbit sander model number “57002” obtained from Dynabrade. Each dust nib was dry polished for 5 seconds. The polished area was then buffed using a Dewalt model 849 buffer, commercially available from Dewalt Industrial Tool, operating at 1400 revolutions per minute (rpm). Machine glaze available under the trademark notation "PERFECT-IT III TRIZACT MACHINE GLAZE part number 05930", trademark notation "HOOK-IT BACKUP PAD part number 05718" And a polishing pad available under the trade designation “PERFECT-IT FOAM POLISHING PAD Part No. 05995”, all commercially available from 3M. The polished and buffed WP1 panels were then visually inspected to qualitatively evaluate the extent of both nib removal and orange peel texture improvement.

オレンジピール評価尺度:
1=オレンジピールの外観に変化なし
2=オレンジピールテクスチャに若干の変化
3=オレンジピールテクスチャが削減するが、オレンジピールテクスチャの残存も混合していた
4=詳細な検査において、オレンジピールが著しく削減した
5=オレンジピールテクスチャにおいて、有意に、著しく平坦化した
Orange peel rating scale:
1 = No change in appearance of orange peel 2 = Slight change in orange peel texture 3 = Orange peel texture was reduced, but remaining orange peel texture was also mixed 4 = In the detailed inspection, orange peel was significantly reduced 5 = significantly flattened significantly in orange peel texture

ニブ除去評価尺度:
1=ニブの外観又は寸法において変化なし
2=ニブ周辺に丸みが見られる
3=ニブ寸法において有意な削減が見られるものの、オレンジピールの残存が混合していた
4=実質的にニブが除去された
5=ニブが完全に平坦化した
Nib removal rating scale:
1 = No change in the appearance or dimensions of the nibs 2 = roundness around the nibs 3 = significant reduction in the nib dimensions but mixed orange peel residue 4 = substantially removed nibs 5 = nib completely flattened

結果を表2(下記)に報告する。   The results are reported in Table 2 (below).

Figure 2009534202
Figure 2009534202

この発明の種々の修正及び変更は、この発明の範囲及び精神から反することなく当業者により行われ得るが、この発明は、本明細書で詳述された説明的な実施形態に必要以上に限定されないと理解するべきである。   Various modifications and alterations of this invention may be made by those skilled in the art without departing from the scope and spirit of this invention, but this invention is unnecessarily limited to the illustrative embodiments detailed herein. It should be understood that not.

本発明の1つの実施形態による代表的なエンボス構造研磨物品の概略的側面図。1 is a schematic side view of an exemplary embossed structured abrasive article according to one embodiment of the present invention. FIG. 研磨層130部分の拡大図。The enlarged view of the grinding | polishing layer 130 part. 本発明の1つの実施形態による代表的なエンボス構造研磨物品の概略的側面図。1 is a schematic side view of an exemplary embossed structured abrasive article according to one embodiment of the present invention. FIG. 本発明の1つの実施形態による代表的なエンボス構造研磨物品の概略的斜視図。1 is a schematic perspective view of an exemplary embossed structured abrasive article according to one embodiment of the present invention. FIG. 本発明の1つの実施形態による他のエンボス構造研磨物品の概略的斜視図。2 is a schematic perspective view of another embossed structured abrasive article according to one embodiment of the invention. FIG. 本発明の1つの実施形態による、さらに他のエンボス構造研磨物品の概略的斜視図。FIG. 6 is a schematic perspective view of yet another embossed structured abrasive article according to one embodiment of the present invention.

Claims (21)

第一及び第二主表面を有し、非弾性高密度熱可塑性フィルムを含む基材と、
前記第一主表面と接触し、同一の広がりを持ち、固定される任意の接着層と、
前記基材の第一主表面又は任意の接着層と接触し、同一の広がりを持ち、固定される構造研磨層であって、前記構造研磨層は、研磨粒子及びバインダを含む、外側に突出するように精密形状化された研磨複合体から成り、前記基材及び構造研磨層の双方は重ね合わせのエンボス形状構成を有する、前記構造研磨層と、
前記第二主表面に固定される、任意の取り付け型境界層と、から成るエンボス構造研磨物品であって、
前記エンボス構造研磨物品は多孔質弾性要素を含まない、エンボス構造研磨物品。
A substrate having first and second major surfaces and comprising an inelastic high density thermoplastic film;
An optional adhesive layer that contacts the first major surface, has the same extent and is fixed;
A structural polishing layer that contacts, is coextensive and fixed, in contact with the first major surface of the substrate or an optional adhesive layer, wherein the structural polishing layer includes abrasive particles and a binder and protrudes outward. The structural polishing layer comprising a precisely shaped polishing composite, wherein both the substrate and the structural polishing layer have a superposed embossed configuration,
An embossed structured abrasive article comprising an optional attached boundary layer secured to the second major surface,
The embossed structured abrasive article does not include a porous elastic element.
前記任意の接着層が存在する、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structure abrasive article according to claim 1, wherein the optional adhesive layer is present. 前記任意の取り付け型境界層が存在する、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structured abrasive article of claim 1, wherein the optional attached boundary layer is present. 前記構造研磨層に接触する基材又は任意の接着層の全領域に対して、前記構造研磨層の5〜95パーセントが、前記基材のエンボス形状構成内に含まれる、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   2. The embossed configuration of the substrate of claim 1, wherein 5 to 95 percent of the structured polishing layer is included within the embossed configuration of the substrate, relative to the entire area of the substrate or any adhesive layer that contacts the structured polishing layer. Embossed structure abrasive article. 前記第二主表面が平坦である、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structure abrasive article according to claim 1, wherein the second main surface is flat. 前記精密形状化された研磨複合体が実質的に同一である、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structure abrasive article of claim 1, wherein the precisely shaped abrasive composites are substantially identical. 前記エンボス形状構成がディンプルを含む、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structure abrasive article according to claim 1, wherein the embossed configuration includes dimples. 前記エンボス形状構成がポストを含む、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structured abrasive article of claim 1, wherein the embossed configuration comprises a post. 前記研磨粒子が、少なくとも0.01〜1,500マイクロメートル以下の範囲で平均寸法を有する、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structure abrasive article according to claim 1, wherein the abrasive particles have an average dimension in a range of at least 0.01 to 1,500 micrometers or less. 前記研磨複合体が、前記構造研磨層の平方センチメートル当たり少なくとも150〜15,000以下の範囲の面密度に加工された研磨複合体を有する、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structured abrasive article of claim 1, wherein the abrasive composite has an abrasive composite that has been processed to a surface density in the range of at least 150 to 15,000 or less per square centimeter of the structured abrasive layer. 前記構造研磨物品が、構造研磨ディスクを含む、請求項1に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structured abrasive article of claim 1, wherein the structured abrasive article comprises a structured abrasive disc. 前記ディスクが、0.6センチメートル〜15.2センチメートルの範囲で直径を有する、請求項11に記載のエンボス構造研磨物品。   The embossed structured abrasive article of claim 11, wherein the disk has a diameter in the range of 0.6 centimeters to 15.2 centimeters. a)請求項1に記載のエンボス構造研磨物品を提供する工程と、
b)その上に強化ポリマー層を有する工作物を提供する工程と、
c)前記構造研磨層の少なくとも一部分と前記ポリマー層とを摩擦接触させる工程と、
d)前記工作物と前記構造研磨層との少なくとも一方を他方に対して相対的に動かして前記ポリマー層の少なくとも一部分を研磨する工程と、を含む工作物の研磨方法。
a) providing an embossed structured abrasive article according to claim 1;
b) providing a workpiece having a reinforced polymer layer thereon;
c) frictionally contacting at least a portion of the structured polishing layer with the polymer layer;
d) moving at least one of the workpiece and the structured polishing layer relative to the other to polish at least a portion of the polymer layer.
工程(d)の間に、液体を前記ポリマー層の少なくとも一部分及び前記構造研磨層の少なくとも一部分に接触させる工程をさらに含む、請求項13に記載の方法。   The method of claim 13, further comprising contacting a liquid with at least a portion of the polymer layer and at least a portion of the structured polishing layer during step (d). 前記ポリマー層が自動車用クリアコートを含む、請求項13に記載の方法。   The method of claim 13, wherein the polymer layer comprises an automotive clearcoat. 第一及び第二主表面を有し、非弾性高密度熱可塑性フィルムを含む基材を提供する工程と、
前記第一主表面に接触し、同一の広がりを持つように接着層を固定する工程と、
前記接着層に接触し、同一の広がりを持つように前記構造研磨層を固定する工程であって、前記構造研磨層が、研磨粒子及びバインダを含んだ、外側に突出するように精密形状化された研磨複合体から構成される、固定する工程と、
前記基材及び前記構造研磨層において、前記基材及び前記構造研磨層をエンボス加工し、重ね合わせのエンボス形状構成を提供する工程と、
前記第二主表面に取り付け型境界層を任意で固定する工程と、を含み、
これにより、多孔質弾性要素を含まないエンボス構造研磨物品を提供する、エンボス構造研磨物品の製造方法。
Providing a substrate having first and second major surfaces and comprising an inelastic high-density thermoplastic film;
Contacting the first main surface and fixing the adhesive layer to have the same extent;
A step of fixing the structural polishing layer so as to be in contact with the adhesive layer and to have the same spread, wherein the structural polishing layer includes abrasive particles and a binder and is precision-shaped so as to protrude outwardly; A fixing step comprising a polishing composite comprising:
In the base material and the structural polishing layer, embossing the base material and the structural polishing layer, and providing a superposed emboss shape configuration;
Optionally fixing a mounting boundary layer to the second main surface,
Thereby, the manufacturing method of an embossed structure abrasive | polishing article which provides the embossed structure abrasive | polishing article which does not contain a porous elastic element.
前記構造研磨物品を少なくとも1つの構造研磨ディスクに変換する工程をさらに含む、請求項16に記載の方法。   The method of claim 16, further comprising converting the structured abrasive article to at least one structured abrasive disc. 前記構造研磨層に接触する基材又は任意の接着層の全領域に対して、前記構造研磨層の5〜95パーセントが前記基材のエンボス形状構成内に含まれる、請求項16に記載の方法。   17. The method of claim 16, wherein 5 to 95 percent of the structured polishing layer is included in the embossed configuration of the substrate, relative to the entire area of the substrate or any adhesive layer that contacts the structured polishing layer. . 第一及び第二主表面を有する非弾性高密度熱可塑性フィルム基材を提供する工程と、
構造研磨層を前記基材に固定する工程であって、前記構造研磨層が、前記接着層と接触し、同一の広がりを持ち、研磨粒子及びバインダを含んだ、外側に突出するように精密形状化された研磨複合体から構成される、工程と、
前記基材及び前記構造研磨層において、前記基材及び前記構造研磨層をエンボス加工し、重ね合わせのエンボス形状構成を提供する工程と、
前記第二主表面に取り付け型境界層を任意で固定する工程と、を含み、
これにより、多孔質弾性要素を含まないエンボス構造研磨物品を提供する、エンボス構造研磨物品の製造方法。
Providing an inelastic high density thermoplastic film substrate having first and second major surfaces;
A step of fixing the structural polishing layer to the substrate, wherein the structural polishing layer is in contact with the adhesive layer, has the same spread, includes abrasive particles and a binder, and has a precise shape so as to protrude outward A process composed of a structured abrasive composite;
In the base material and the structural polishing layer, embossing the base material and the structural polishing layer, and providing a superposed emboss shape configuration;
Optionally fixing a mounting boundary layer to the second main surface,
Thereby, the manufacturing method of an embossed structure abrasive | polishing article which provides the embossed structure abrasive | polishing article which does not contain a porous elastic element.
構造研磨物品を少なくとも1つの構造研磨ディスクに変換する工程をさらに含む、請求項19に記載の方法。   The method of claim 19, further comprising converting the structured abrasive article into at least one structured abrasive disc. 前記構造研磨層に接触する基材又は任意の接着層の全領域に対して、前記構造研磨層の5〜95パーセントが前記基材のエンボス形状構成内に含まれる、請求項19に記載の方法。   20. The method of claim 19, wherein 5 to 95 percent of the structured polishing layer is included in the embossed configuration of the substrate relative to the entire area of the substrate or any adhesive layer that contacts the structured polishing layer. .
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016104511A (en) * 2011-11-29 2016-06-09 ネクスプラナー コーポレイション Polishing pad having ground layer and polishing surface layer
US9440331B2 (en) 2013-12-16 2016-09-13 Ricoh Company, Ltd. Polishing sheet and polishing tool
JP2017530023A (en) * 2014-10-07 2017-10-12 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Textured abrasive articles and related methods
JP2018534149A (en) * 2014-10-07 2018-11-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Abrasive articles and related methods
JP2020531298A (en) * 2017-08-25 2020-11-05 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Surface protrusion polishing pad

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MX2009000576A (en) * 2006-07-14 2009-05-11 Saint Gobain Abrasives Inc Backingless abrasive article.
US8696192B2 (en) * 2007-05-10 2014-04-15 Fluid-Quip, Inc. Multiple helical vortex baffle
EP2178951B1 (en) * 2007-08-03 2016-10-19 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article with adhesion promoting layer
US8628597B2 (en) * 2009-06-25 2014-01-14 3M Innovative Properties Company Method of sorting abrasive particles, abrasive particle distributions, and abrasive articles including the same
US8425278B2 (en) * 2009-08-26 2013-04-23 3M Innovative Properties Company Structured abrasive article and method of using the same
RU2012116583A (en) * 2009-11-12 2013-12-20 3М Инновейтив Пропертиз Компани ROTATING POLISHING PILLOW
CA2792573C (en) * 2010-05-28 2016-11-01 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Non-abrasive back coat for coated abrasives
WO2012082269A1 (en) * 2010-11-18 2012-06-21 3M Innovative Properties Company Methods for imparting an image to a surface and kits for use therewith
WO2015073258A1 (en) 2013-11-12 2015-05-21 3M Innovative Properties Company Structured abrasive articles and methods of using the same
US9643294B2 (en) * 2015-07-14 2017-05-09 K&D Pads LLC Buffing pad and methods of making and using the same
WO2017146006A1 (en) * 2016-02-26 2017-08-31 株式会社フジミインコーポレーテッド Polishing method and polishing pad
USD876195S1 (en) 2018-06-13 2020-02-25 Kenneth Luna Polishing pad
WO2020021457A1 (en) * 2018-07-23 2020-01-30 3M Innovative Properties Company Articles including polyester backing and primer layer and related methods
CN110905955B (en) * 2019-12-05 2021-07-16 江苏长顺高分子材料研究院有限公司 Melamine aldehyde resin brake pad and preparation method thereof
US20230321687A1 (en) * 2020-08-19 2023-10-12 3M Innovative Properties Company Robotic repair control systems and methods

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6316980A (en) * 1986-07-04 1988-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd Polishing tape
JP2001113467A (en) * 1999-10-18 2001-04-24 Dainippon Printing Co Ltd Polishing sheet and manufacturing method therefor
JP2001512375A (en) * 1997-03-07 2001-08-21 ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー Abrasive article for providing a transparent surface finish on glass
US20030194961A1 (en) * 2001-03-28 2003-10-16 3M Innovative Properties Company Dual cured abrasive articles
JP2005514217A (en) * 2001-12-28 2005-05-19 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Manufacturing method of abrasive product

Family Cites Families (55)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT347283B (en) * 1975-03-07 1978-12-27 Collo Gmbh FOAM BODY FOR CLEANING, SCRUBBING AND / OR POLISHING PURPOSES AND THE LIKE.
US5191101A (en) * 1982-11-22 1993-03-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy polymerizable compositions containing organometallic initiators
US4609581A (en) * 1985-04-15 1986-09-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive sheet material with loop attachment means
US4652274A (en) * 1985-08-07 1987-03-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive product having radiation curable binder
SU1316805A1 (en) * 1986-02-06 1987-06-15 Хмельницкий Технологический Институт Бытового Обслуживания Method of producing grinding belt with programmed arrangement of grain
US4751138A (en) * 1986-08-11 1988-06-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive having radiation curable binder
US4735632A (en) * 1987-04-02 1988-04-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive binder containing ternary photoinitiator system
US4950696A (en) * 1987-08-28 1990-08-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-induced dual curable compositions
US5086086A (en) * 1987-08-28 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-induced curable compositions
US4908440A (en) * 1987-11-12 1990-03-13 Bristol Myers Company 2',3'-dideoxy-2'-fluoroarabinopyrimidine nucleosides
JP2707264B2 (en) * 1987-12-28 1998-01-28 ハイ・コントロール・リミテッド Polishing sheet and method for producing the same
US5254194A (en) * 1988-05-13 1993-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive sheet material with loop material for attachment incorporated therein
US4985340A (en) * 1988-06-01 1991-01-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy curable compositions: two component curing agents
US5190568B1 (en) * 1989-01-30 1996-03-12 Ultimate Abrasive Syst Inc Abrasive tool with contoured surface
US5152917B1 (en) * 1991-02-06 1998-01-13 Minnesota Mining & Mfg Structured abrasive article
US5236472A (en) * 1991-02-22 1993-08-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive product having a binder comprising an aminoplast binder
US5219462A (en) * 1992-01-13 1993-06-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article having abrasive composite members positioned in recesses
IT226758Z2 (en) * 1992-07-09 1997-07-01 Norton ABRASIVE TOOL WHICH STRIP DISC AND SIMILAR FOR A SANDING AND SANDING MACHINE
US6099394A (en) * 1998-02-10 2000-08-08 Rodel Holdings, Inc. Polishing system having a multi-phase polishing substrate and methods relating thereto
US5354797A (en) * 1992-08-31 1994-10-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Coating composition of hydroxy functional acrylic polymer, polyol and polyisocyanate crosslinking agent
US5286782A (en) * 1992-08-31 1994-02-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Coating composition of an acrylic polymer, polyol and polyisocyanate crosslinking agent
US5435816A (en) * 1993-01-14 1995-07-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making an abrasive article
EP0664187B1 (en) * 1993-06-02 1999-10-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Grinding tape and method of manufacturing the same
ES2109709T3 (en) * 1993-06-17 1998-01-16 Minnesota Mining & Mfg ABRASIVE ARTICLES WITH DESIGN AND METHODS OF MANUFACTURE AND USE THEREOF.
EP0720520B1 (en) * 1993-09-13 1999-07-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article, method of manufacture of same, method of using same for finishing, and a production tool
US5454844A (en) * 1993-10-29 1995-10-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article, a process of making same, and a method of using same to finish a workpiece surface
US5505747A (en) * 1994-01-13 1996-04-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making an abrasive article
WO1995022436A1 (en) * 1994-02-22 1995-08-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article, a method of making same, and a method of using same for finishing
EP0846041B1 (en) * 1995-08-11 2003-04-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making a coated abrasive article having multiple abrasive natures
CA2251796A1 (en) * 1996-05-03 1997-11-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making a porous abrasive article
US5833724A (en) * 1997-01-07 1998-11-10 Norton Company Structured abrasives with adhered functional powders
US5863306A (en) * 1997-01-07 1999-01-26 Norton Company Production of patterned abrasive surfaces
US5851247A (en) * 1997-02-24 1998-12-22 Minnesota Mining & Manufacturing Company Structured abrasive article adapted to abrade a mild steel workpiece
US5910471A (en) * 1997-03-07 1999-06-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article for providing a clear surface finish on glass
US6139402A (en) * 1997-12-30 2000-10-31 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic substrates
WO1999040140A1 (en) * 1998-02-06 1999-08-12 E.I. Du Pont De Nemours And Company Silicon reactive oligomers and coating compositions made therefrom
US6139594A (en) * 1998-04-13 2000-10-31 3M Innovative Properties Company Abrasive article with tie coat and method
US6059850A (en) * 1998-07-15 2000-05-09 3M Innovative Properties Company Resilient abrasive article with hard anti-loading size coating
US6183346B1 (en) * 1998-08-05 2001-02-06 3M Innovative Properties Company Abrasive article with embossed isolation layer and methods of making and using
US6048375A (en) * 1998-12-16 2000-04-11 Norton Company Coated abrasive
AU761107B2 (en) * 1999-03-17 2003-05-29 E.I. Du Pont De Nemours And Company High solids clear coating composition
EP1052062A1 (en) * 1999-05-03 2000-11-15 Applied Materials, Inc. Pré-conditioning fixed abrasive articles
US20020077037A1 (en) * 1999-05-03 2002-06-20 Tietz James V. Fixed abrasive articles
US6293980B2 (en) * 1999-12-20 2001-09-25 Norton Company Production of layered engineered abrasive surfaces
WO2001053040A1 (en) * 2000-01-19 2001-07-26 Rodel Holdings, Inc. Printing of polishing pads
US20020090901A1 (en) * 2000-11-03 2002-07-11 3M Innovative Properties Company Flexible abrasive product and method of making and using the same
US20030022604A1 (en) * 2001-05-07 2003-01-30 3M Innovative Properties Company Abrasive product and method of making and using the same
US20030207659A1 (en) * 2000-11-03 2003-11-06 3M Innovative Properties Company Abrasive product and method of making and using the same
JP2002172563A (en) * 2000-11-24 2002-06-18 Three M Innovative Properties Co Abrasive tape
JP2002166355A (en) * 2000-11-30 2002-06-11 Tosoh Corp Polishing compact and polishing surface plate using the same
US6846232B2 (en) * 2001-12-28 2005-01-25 3M Innovative Properties Company Backing and abrasive product made with the backing and method of making and using the backing and abrasive product
US6613113B2 (en) * 2001-12-28 2003-09-02 3M Innovative Properties Company Abrasive product and method of making the same
US6833014B2 (en) * 2002-07-26 2004-12-21 3M Innovative Properties Company Abrasive product, method of making and using the same, and apparatus for making the same
US7278904B2 (en) * 2003-11-26 2007-10-09 3M Innovative Properties Company Method of abrading a workpiece
US6986706B1 (en) * 2004-08-10 2006-01-17 Universal Photonics, Inc. Polishing pad and method of producing the same

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6316980A (en) * 1986-07-04 1988-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd Polishing tape
JP2001512375A (en) * 1997-03-07 2001-08-21 ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー Abrasive article for providing a transparent surface finish on glass
JP2001113467A (en) * 1999-10-18 2001-04-24 Dainippon Printing Co Ltd Polishing sheet and manufacturing method therefor
US20030194961A1 (en) * 2001-03-28 2003-10-16 3M Innovative Properties Company Dual cured abrasive articles
JP2005514217A (en) * 2001-12-28 2005-05-19 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Manufacturing method of abrasive product

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016104511A (en) * 2011-11-29 2016-06-09 ネクスプラナー コーポレイション Polishing pad having ground layer and polishing surface layer
US9440331B2 (en) 2013-12-16 2016-09-13 Ricoh Company, Ltd. Polishing sheet and polishing tool
JP2017530023A (en) * 2014-10-07 2017-10-12 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Textured abrasive articles and related methods
JP2018534149A (en) * 2014-10-07 2018-11-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Abrasive articles and related methods
JP2020531298A (en) * 2017-08-25 2020-11-05 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Surface protrusion polishing pad
JP7273796B2 (en) 2017-08-25 2023-05-15 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー surface protrusion polishing pad

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US20070243798A1 (en) 2007-10-18

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