JP2009517847A - ガス供給制御ループを用いるビーム電流の安定化 - Google Patents
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- H01J2237/31701—Ion implantation
- H01J2237/31703—Dosimetry
Abstract
Description
本発明の他の構成、利点、および新規な特徴は、添付する図面にとともに以下で詳細に説明される。
このドーパントガスは、例えば、ガス源(図示略)から発生室120に供給される。エネルギーは、電源(図示略)を介してドーパントガスに分与され、発生室120内にイオンの発生を容易にする。
イオン源磁石によって加えられた磁界は、カソードとミラー電極の間のラインに平行となり、電子経路の長さを増加させ、そして、領域内のイオンと電子との両方のプラズマを保持するのを助ける。
また、ここで用いられる「典型的」は、最善のものというよりも、単に一例であることを意味する。
Claims (20)
- イオンを加工物に注入する方法であって、
ヒストリカルな作動パラメータ値を用いてイオン注入処理を開始し、
所望の安定化したビーム電流を達成するために、イオン源ガスの供給を調整し、
前記加工物内にイオンを注入するために、互いに対して、イオンビームと前記加工物を選択的に指向させる、各工程を含むことを特徴とする方法。 - イオン源の下流で、ビーム電流を測定し、
前記測定されたビーム電流に基づいて、前記イオン源ガスの供給を調整する、
各工程を含むことを特徴とする請求項1記載の方法。 - ビーム電流は、エンドステーション内で測定されることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記ビーム電流の得られた対応測定値に基づいて、前記イオン源ガスの供給に対して継続した調整を行うために、制御フィードバックループを実行する工程をさらに含むことを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記ビーム電流を安定化させるために、前記イオン源ガスの供給が手動で調整されることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記イオン源ガスは、ホスフィンからなることを特徴とする請求項2記載の方法。
- イオン化室は、少なくともモリブデン及びタングステンの一方を含んでいることを特徴とする請求項6記載の方法。
- イオン源ガスの供給を調整して、所望の引出電流を達成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1記載の方法。
- イオン源の下流でビーム電流を測定し、
前記測定されたビーム電流に基づいて、前記イオン源ガスの供給を調整する、
各工程を含むことを特徴とする請求項8記載の方法。 - ビーム電流は、エンドステーション内で測定されることを特徴とする請求項9記載の方法。
- 前記ビーム電流の得られた対応測定値に基づいて、前記イオン源ガスの供給に対して継続した調整を行うために、制御フィードバックループを実行する工程をさらに含むことを特徴とする請求項9記載の方法。
- 前記引出電流を安定化させるために、イオン源ガスの供給が手動で調整されることを特徴とする請求項9記載の方法。
- イオンを加工物に注入する方法であって、
イオン注入システムを用いてイオンビームを発生させ、
前記イオン注入システム内のビーム電流を測定し、
前記加工物内にイオンを注入するために、互いに対して、前記イオンビームと前記加工物を選択的に指向させる、各工程を含むことを特徴とする方法。 - イオン源の下流で、ビーム電流を測定し、
前記測定されたビーム電流に基づいて、前記イオン源のガス供給を調整する、
各工程を含むことを特徴とする請求項13記載の方法。 - 前記ビーム電流の得られた対応測定値に基づいて、前記イオン源ガスの供給に対して継続した調整を行うために、制御フィードバックループを実行する工程をさらに含むことを特徴とする請求項14記載の方法。
- 所望の引出電流を達成するために、イオン源ガスの供給を調整する工程をさらに含むことを特徴とする請求項13記載の方法。
- イオン注入システム内のビーム電流を安定化するための方法であって、
前記イオン注入システムにおいて、イオンビームを発生させ、
イオン源ガスの供給を調整して、前記ビーム電流の測定値に基づいて所望の安定したビーム電流を達成する、各工程を含むことを特徴とする方法。 - 前記ビーム電流の得られた対応測定値に基づいて、前記イオン源ガスの供給に対して継続した調整を行うために、制御フィードバックループを実行する工程をさらに含むことを特徴とする請求項17記載の方法。
- 前記イオンビームは、ヒストリカルな作動パラメータ値を用いて最初に展開されることを特徴とする請求項17記載の方法。
- 前記イオンビームは、ヒストリカルな作動パラメータ値を用いて最初に展開されることを特徴とする請求項18記載の方法。
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