JP2009500667A - 凸面を有する単結晶ダイヤモンド素子及びその加工方法 - Google Patents
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Abstract
Description
t=r (1)、
又は超半球SILの場合には、
t=r(1+1/n) (2)
となると決定され、ただし、nは、使用される放射線の波長におけるSILが作られる材料の屈折率である。厚さが式1及び2で与えられている値からわずかに修正されたSILを使用した他の設計も、考察された。このような場合、DVDは、比較的厚い(数マイクロメートル)最上層の下に情報ビットが埋め込まれた層を備えることができる。光学系全体の回折限界性能を得るために、SILの厚さは、減らされなければならず、ピンぼけ及びこの最上層の球面収差を補正するために、SILの前の光学系の収束及び球面収差は、調節されなければならない。
記録媒体と、
レーザー光源と、
記録媒体に隣接して配置されている上述のような固体油浸レンズを備える収束レンズ・ユニットとを備える。
少なくとも部分的に曲げやすいアームと、
部分的に曲げやすいアームに動作可能なように関連付けられている動きセンサと、
部分的に曲げやすいアームの一端に配置された、上述のようなダイヤモンド素子を備えるツール・チップとを備える。
単結晶ダイヤモンド材料から形成されたブランクを第1の軸を中心に回転させることと、
ブランクをカットする十分な光度を持つレーザー光線をブランクに当てることと、
ブランクに関してレーザー光線を2次元経路にそって平行移動することとを含み、
これにより、ブランクの同時回転及びブランクに関するレーザー光線の平行移動が行われた結果、ブランク内で回転対称面がカットされる。
第1の回転速度で第1の軸を中心として素子を回転させることと、
研磨面を持つカップを球面に押し付けることと、研磨カップは第1の速度よりもかなり速い第2の回転速度で第2の軸を中心として回転することとを含む。
第1の軸を中心として回転可能であり、単結晶ダイヤモンド・ブランクを受け入れるように適合されたスピンドルと、
スピンドルに取り付けられたときにダイヤモンド・ブランクに向けてレーザー光線を放射し、レーザー光線は第1の軸に実質的に垂直な方向に向けられる、レーザー光線源と、
レーザー光線に垂直な平面内の2次元経路上のスピンドルに関してレーザー光線源を平行移動するための平行移動手段とを備える。
素子を受け入れるように適合され、第1の軸を中心として回転可能である回転ステージと、
高速回転スピンドル上に取り付けられた研磨カップと、
研磨カップを素子上に押し付けるための手段とを備える。
8面パビリオンを有する超半球合成CVD成長単結晶ダイヤモンドSIL
超半球SILは、CVD成長合成単結晶ダイヤモンドから作られた。CVD成長ダイヤモンドは、サイズが約4.5×4.5×3mmであり、最初に、鋸引きされ厚さ約1.2mmの複数のプレートを得た。次いで、1枚のプレートが片面を平坦に研磨され、グラファイト・キャリア・プレート上に載せられ、パルスNd:YAGカッティング・レーザーの焦点に当たるXY平行移動ステージ内に置かれた。パルス・エネルギーは、1.2mJ、150nsのパルスであり、パルス繰り返し数は4000pps(パルス/秒)であった。次いで、XYステージは、シリンダー状ディスクが直径1.3mmのプレートから切り出されるように、直径1.3mmの円運動を実行した。
半球合成CVD成長単結晶ダイヤモンドSIL
半球SILは、CVD成長合成単結晶ダイヤモンドから作られた。CVD成長ダイヤモンドは、サイズが約3×3×2.8mmであり、最初に、鋸引きされ厚さ約0.8mmの複数のプレートを得た。次いで、1枚のプレートが片面を研磨され、グラファイト・キャリア・プレート上に載せられ、パルスNd:YAGカッティング・レーザーの焦点に当たるXY平行移動ステージ内に置かれた。パルス・エネルギーは、1.2mJ、150nsのパルスであり、パルス繰り返し数は4,000ppsであった。次いで、XYステージは、シリンダー状ディスクが直径1.4mmのプレートから切り出されるように、直径1.4mmの円運動を実行した。
1つの面が半球形状である両凸面天然IIa型単結晶ダイヤモンド・レンズ
半球ダイヤモンド面は、天然IIa型単結晶ダイヤモンドから作られた。IIa型ダイヤモンドは、サイズが約4ctであり、最初に、鋸引きされ厚さ約0.95mmの複数のプレートを得た。次いで、1枚のプレートが片面を研磨され、グラファイト・キャリア・プレート上に載せられ、パルスNd:YAGカッティング・レーザーの焦点に当たるXY平行移動ステージ内に置かれた。パルス・エネルギーは、1.2mJ、150nsのパルスであり、パルス繰り返し数は4,000ppsであった。次いで、XYステージは、シリンダー状ディスクが直径1.6mmのプレートから切り出されるように、直径1.6mmの円運動を実行した。
炭化タングステン棒上に取り付けられた合成CVD成長単結晶ダイヤモンド計測チップ
準半球SILは、CVD成長合成単結晶ダイヤモンドから作られた。サイズが約4.5×4.5×3mmのCVD成長ダイヤモンドから、厚さ約1.7mmのプレートが、まず最初に鋸で切り出された。次いで、そのプレートが片面を平坦に研磨され、グラファイト・キャリア・プレート上に載せられ、パルスNd:YAGカッティング・レーザーの焦点に当たるXY平行移動ステージ内に置かれた。パルス・エネルギーは、1.2mJ、150nsのパルスであり、パルス繰り返し数は4000ppsであった。次いで、XYステージは、シリンダー状ディスクが直径3.3mmのプレートから切り出されるように、直径3.3mmの円運動を実行した。
Claims (91)
- 凸面が形成された単結晶ダイヤモンド材料の素子であって、前記凸面は約30nm未満の2乗平均平方根粗さを有し、前記素子は、
前記凸面は完全球面からの最高−最低間の最大のずれが約5μm未満である球セグメントを含むという特性、
前記凸面は球セグメント上のずれの平方について平均を求めることにより測定される前記球セグメントの前記RMSずれが約500nm以下である前記球セグメントを含むという特性のうちの少なくとも1つを有する単結晶ダイヤモンド材料の素子。 - 前記凸面は、さらに、
曲率半径が約20nm未満であるという特性、
前記凸面が約10°よりも大きな円錐半角を有する球セグメントを含むという特性のうちの少なくとも1つを有する請求項1に記載の素子。 - 前記凸面の前記曲率半径は、約10mm未満である請求項2に記載の素子。
- 前記凸面の前記曲率半径は、約5mm未満である請求項2に記載の素子。
- 前記球セグメントは、約20°よりも大きい円錐半角を有する請求項1から4までのいずれかに記載の素子。
- 前記球セグメントは、約80°よりも大きい円錐半角を有する請求項1から5までのいずれかに記載の素子。
- 完全球面からの前記球セグメントの最高−最低間の最大のずれは、3μm未満である請求項1から6までのいずれかに記載の素子。
- 完全球面からの前記球セグメントの最高−最低間の最大のずれは、300nm未満である請求項1から7までのいずれかに記載の素子。
- 理想球からの前記球セグメント上のずれの平方について平均を求めることにより測定される前記球セグメントの前記RMSずれが、約250nm以下である請求項1から8までのいずれかに記載の素子。
- 理想球からの前記球セグメント上のずれの平方について平均を求めることにより測定される前記球セグメントの前記RMSずれが、約40nm以下である請求項1から9までのいずれかに記載の素子。
- 前記凸面の前記2乗平均平方根粗さは、約10nm未満である請求項1から10までのいずれかに記載の素子。
- 前記凸面の前記2乗平均平方根粗さは、約3nm未満である請求項1から11までのいずれかに記載の素子。
- 前記素子は、単結晶ダイヤモンド・レンズである請求項1から12までのいずれかに記載の素子。
- さらに、前記凸面に対する前記素子の反対側に他の凸面を備える請求項1から13までのいずれかに記載の素子。
- 前記他の凸面は、第1の凸面よりも大きな曲率半径を有する請求項14に記載の素子。
- 前記他の凸面は、前記第1の凸面と同じ曲率半径を有する請求項14に記載の素子。
- 実質的に球の形状で形成される請求項16に記載の素子。
- さらに、前記凸面に対する反対側の前記素子の側に平坦な面を備える請求項1から14までのいずれかに記載の素子。
- 前記平坦な面は、少なくとも前記凸面と同じくらい低い表面粗さを有する請求項18に記載の素子。
- さらに、前記凸面と前記平坦な面との間にテーパー付きセクションを備える請求項18又は19に記載の素子。
- 前記テーパー付きセクションは、複数の研磨された切子面を備える請求項20に記載の素子。
- 前記素子は、理想的な厚さの少なくとも2μmの範囲内で前記平坦な面の実質的法線方向に厚さを有する請求項18から21までのいずれかに記載の素子。
- 前記素子は、理想的な厚さの少なくとも0.2μmの範囲内で前記平坦な面の実質的法線方向に厚さを有する請求項18から21までのいずれかに記載の素子。
- 前記素子は一般的に半球の形状を有し、理想的な厚さは前記半球の曲率半径に等しい請求項22又は23に記載の素子。
- 前記素子は、一般的に超半球の形状を有し、理想的な厚さはt=r(1+1/n)で与えられ、ただし、tは、前記平坦な面の実質的法線方向の素子の厚さであり、rは、前記超半球の曲率半径であり、nは、前記素子が形成される前記ダイヤモンド材料の屈折率である請求項22又は23に記載の素子。
- 前記単結晶ダイヤモンド材料は、天然ダイヤモンドである請求項1から25までのいずれかに記載の素子。
- 前記単結晶ダイヤモンド材料は、合成ダイヤモンドである請求項1から25までのいずれかに記載の素子。
- 前記合成ダイヤモンド材料は、高圧高温合成により形成される請求項27に記載の素子。
- 前記単結晶ダイヤモンド材料は、CVDダイヤモンドである請求項27に記載の素子。
- 前記単結晶ダイヤモンド材料は、IIa型ダイヤモンドである請求項1から29までのいずれかに記載の素子。
- 前記単結晶ダイヤモンド材料は、1016atoms/ccを超える濃度のホウ素を含有する請求項1から30までのいずれかに記載の素子。
- 前記ホウ素は、前記ダイヤモンド材料中に実質的に均一に分散される請求項31に記載の素子。
- 前記単結晶ダイヤモンド材料は、原産地表示を中に組み込んでいる請求項1から32までのいずれかに記載の素子。
- 請求項1から33までのいずれかに記載のダイヤモンド素子を含む単結晶ダイヤモンド・レンズ。
- 請求項1から34までのいずれかに記載のダイヤモンド素子を含む単結晶ダイヤモンド固体油浸レンズ。
- 光学的情報記録及び/又は再生装置であって、
記録媒体と、
レーザー光源と、
前記記録媒体に隣接して配置されている請求項35に記載の固体油浸レンズを備える収束レンズ・ユニットとを備える光学的情報記録及び/又は再生装置。 - 光学ピックアップ・デバイスであって、
記録媒体と、
レーザー光源と、
前記記録媒体に隣接して配置されている請求項35に記載の固体油浸レンズを備える収束レンズ・ユニットとを備える光学ピックアップ・デバイス。 - 請求項34又は35に記載のレンズを備える顕微鏡装置。
- 請求項34又は35に記載のレンズを備えるリソグラフィ装置。
- 請求項34又は35に記載のレンズを備えるプローブ。
- 請求項34又は35に記載のレンズを備える内視鏡プローブ。
- 請求項1から33までのいずれかに記載のダイヤモンド素子を備える計測装置で使用するためのツール・チップ。
- 計測装置であって、
少なくとも部分的に曲げやすいアームと、
前記曲げやすいアームに動作可能なように関連付けられている動きセンサと、
前記曲げやすいアームの一端に配置された、請求項1から33までのいずれかに記載のダイヤモンド素子を備えるツール・チップとを備える計測装置。 - 請求項1から17まで、又は26から33までのいずれかに記載の単結晶ダイヤモンド素子を備える穴径を測定する際に使用する基準球。
- 請求項1から17まで、又は26から33までのいずれかに記載の単結晶ダイヤモンド素子を備える測定装置を較正する際に使用する基準球。
- 請求項1から17まで、又は26から33までのいずれかに記載の単結晶ダイヤモンド素子を備える基準スペーサーとして、又は表面を定義するためのスペーサーとして使用する基準球。
- 単結晶ダイヤモンド素子上に回転対称面を形成する方法であって、
単結晶ダイヤモンド材料から形成されたブランクを第1の軸を中心に回転させることと、
前記ブランクをカットする十分な光度を持つレーザー光線を前記ブランクに当てることと、
2次元経路にそって前記レーザー光線に関して前記ブランクを平行移動することとを含み、
これにより、前記ブランクの同時回転及び前記レーザー光線に関する前記ブランクの平行移動が行われた結果、前記ブランク内で前記回転対称面がカットされる単結晶ダイヤモンド素子上に回転対称面を形成する方法。 - 前記レーザー光線は、前記第1の軸に垂直な方向で前記ブランクに当てられ、前記レーザー光線に関する前記ブランクの前記平行移動は、前記レーザー光線に垂直な平面内で行われる請求項47に記載の方法。
- 前記ブランクに関する前記レーザー光線の前記平行移動は、前記ブランクを平行移動し、前記レーザーを静止状態に保つことにより達成される請求項47又は48に記載の方法。
- 前記ブランクは、レーザーを使用してダイヤモンド・プレートからディスクを切り出すことにより形成される請求項47、48、又は49に記載の方法。
- 前記回転対称面は、球面であり、前記ブランクに関する前記レーザーの前記平行移動は前記球面の曲率中心を通る中心軸を有する円の円弧により実質的に表される経路を辿り、
これにより、前記ブランクの同時回転及び前記ブランクに関する前記レーザー光線の平行移動が行われた結果、前記ブランク内で実質的球面がカットされる請求項47から50までのいずれかに記載の方法。 - 前記ブランクに関して前記レーザー光線が辿る前記経路は、前記レーザー光線が前記ブランクの前記回転軸に近い場合に前記円の円弧から所定の方法でずれる請求項51に記載の方法。
- 前記ブランクは、前記第1の軸を中心として回転可能な棒上に取り付けられる請求項47から52までのいずれかに記載の方法。
- 前記ブランクは、前記棒上に鑞付けされる請求項53に記載の方法。
- 前記ダイヤモンド素子は、最後に使用する際に前記棒に取り付けられたままである請求項54に記載の方法。
- 単結晶ダイヤモンド素子上に球面を研磨する方法であって、
第1の回転速度で第1の軸を中心として素子を回転させることと、
研磨面を有するカップを前記球面に押し付け、前記研磨カップは前記第1の速度よりもかなり速い第2の回転速度で第2の軸を中心として回転することとを含む単結晶ダイヤモンド素子上に球面を研磨する方法。 - 前記カップは、さらに、前記第1の速度よりも遅い第3の速度で第3の軸を中心として回転し、前記第3の軸は前記第1の軸に垂直であり、前記球面の曲率中心のところで前記第1の軸を通り、前記第3の軸を中心とする前記回転は一周未満を表す振動運動である請求項56に記載の方法。
- 前記第3の軸を中心とする前記回転速度は、可変である請求項57に記載の方法。
- 前記第3の軸を中心とする前記回転速度は、ランダムに可変である請求項58に記載の方法。
- 前記第1の軸は、結晶軸<100>方向にそって揃えられる請求項56から59までのいずれかに記載の方法。
- 前記第1の軸は、結晶軸<111>方向にそって揃えられる請求項56から59までのいずれかに記載の方法。
- 前記研磨面は、形成剤に埋め込まれたダイヤモンド粉末の層を含む請求項56から61までのいずれかに記載の方法。
- 前記形成剤は、樹脂である請求項62に記載の方法。
- 前記形成剤は、リン青銅である請求項62に記載の方法。
- 前記研磨面は、焼結ダイヤモンド粒子の層を含む請求項56から61までのいずれかに記載の方法。
- 前記研磨面は、焼結されてまとめられ中の粒同士の間のスペースがコバルトを豊富に含有する第2相により充填される凝集多結晶塊を形成する多結晶ダイヤモンド粒の層を含む請求項56から61までのいずれかに記載の方法。
- 前記研磨面は、焼結されてまとめられ中の粒同士の間のスペースがセラミック第2相により充填される凝集多結晶塊を形成する多結晶ダイヤモンド粒の層を含む請求項56から61までのいずれかに記載の方法。
- 前記研磨面は、もっぱら炭化ケイ素マトリックス中にダイヤモンド粒子を含み、反応結合プロセスにより形成される複合材料の層を含む請求項56から61までのいずれかに記載の方法。
- 前記研磨面は、多結晶CVDダイヤモンドの層を含む請求項56から61までのいずれかに記載の方法。
- 前記研磨面は、凹面であり、前記球面の形状と実質的に一致する請求項56から69までのいずれかに記載の方法。
- 前記研磨面は、最初は実質的に平坦であり、前記研磨面は球面に押し当てられ相補的凹形球状にされることにより磨耗される請求項56から69までのいずれかに記載の方法。
- 前記球面は、最初に請求項51から55までのいずれかに記載の方法を使用して形成される請求項56から70までのいずれかに記載の方法。
- 前記ダイヤモンド素子は、レンズである請求項51から72までのいずれかに記載の方法。
- さらに、前記球面を形成又は研磨するために使用されるのと同じ技術を使用して、前記球面の反対側の前記素子上に第2の研磨面を形成又は研磨することを含む請求項51から73までのいずれかに記載の方法。
- 前記第2の球面は、前記球面よりも大きな曲率半径を有する請求項74に記載の方法。
- 前記第2の球面は、前記球面と同じ曲率半径を有する請求項74に記載の方法。
- 前記球面及び第2の球面は、球が形成されるように合わさる請求項76に記載の方法。
- さらに、前記球面に対する前記素子の反対側に平坦な面を研磨することを含む請求項56から77までのいずれかに記載の方法。
- 前記ダイヤモンド素子は、球状カップを備えるホルダー内に取り付けられ、研磨スケイフ又はホイールに押し付けられる請求項78に記載の方法。
- 前記素子の厚さは、0.2μmの範囲内で制御可能である請求項78又は79に記載の方法。
- さらに、前記球面と前記平坦な面との間にテーパー付きセクションを形成することを含む請求項78から80までのいずれかに記載の方法。
- 前記テーパー付きセクションは、複数の平坦な切子面を研磨することにより形成される請求項81に記載の方法。
- 前記ダイヤモンド素子は、ダイヤモンド固体油浸レンズである請求項78から82までのいずれかに記載の方法。
- 前記ダイヤモンド素子は、実質的半球固体油浸レンズである請求項83に記載の方法。
- 前記ダイヤモンド素子は、実質的超半球固体油浸レンズである請求項83に記載の方法。
- 前記ダイヤモンド素子は、中に組み込まれた原産地表示を含む請求項47から85までのいずれかに記載の方法。
- 請求項51から86までのいずれかに記載の方法を使用して形成又は研磨される球面を有する単結晶ダイヤモンド素子。
- 単結晶CVDダイヤモンド材料から形成される請求項86に記載の素子。
- 単結晶ダイヤモンド素子上に球面を形成する装置であって、
第1の軸を中心として回転可能であり、単結晶ダイヤモンド・ブランクを受け入れるように適合されたスピンドルと、
前記スピンドルに取り付けられたときに前記ダイヤモンド・ブランクに向けてレーザー光線を放射し、前記レーザー光線は前記第1の軸に実質的に垂直な方向に向けられる、レーザー光線源と、
前記レーザー光線に垂直な平面内の2次元経路にそって前記レーザー光線源に関して前記スピンドルを平行移動するための平行移動手段とを備える単結晶ダイヤモンド素子上に球面を形成する装置。 - 単結晶ダイヤモンド素子上に形成された球面を研磨する装置であって、
前記素子を受け入れるように適合され、第1の軸を中心として回転可能である回転ステージと、
高速回転スピンドル上に取り付けられた研磨カップと、
前記研磨カップを前記素子上に押し付けるための手段とを備える単結晶ダイヤモンド素子上に形成された球面を研磨する装置。 - 前記高速回転スピンドルは、回転アーム上に取り付けられ、前記回転アームは前記第1の軸に垂直な軸を中心として回転可能であり、前記球面の曲率中心を通る請求項90に記載の装置。
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