JP2009301910A - Organic el display panel and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To apply material liquid for hole injection layers to the whole anode electrodes. <P>SOLUTION: The method for manufacturing an organic EL display panel comprises a step of preparing a substrate including banks for specifying bank opening portions arranged in a matrix shape and the anode electrodes each having a minor axis and a major axis and arranged in the bank opening portions, and a step of applying the water solution to the anode electrodes while dropping a plurality of droplets of water solution containing polyethylene dioxythiophene along the major axis into one bank opening portion to form the hole injection layers. The bank opening portions each have a clearance between the end of the anode electrode on the downstream side in the applying direction and the bank. The water solution is also applied to the clearances. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機ELディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL display panel and a manufacturing method thereof.

有機ELディスプレイパネルとは、有機化合物の電界発光を利用した発光素子を有するディスプレイパネルである。つまり、有機ELディスプレイパネルは、アノード電極およびカソード電極、ならびに両電極の間に配置された電界発光する有機EL層を含む有機EL素子を有する。電界発光する有機EL層の材料は、低分子有機化合物の組み合わせ(ホスト材料とドーパント材料)と、高分子有機化合物とに大別されうる。電界発光する高分子有機化合物の例には、PPVと称されるポリフェニレンビニレンやその誘導体などが含まれる。   An organic EL display panel is a display panel having a light emitting element utilizing electroluminescence of an organic compound. In other words, the organic EL display panel has an organic EL element including an anode electrode and a cathode electrode, and an organic EL layer that is disposed between the electrodes and emits electroluminescence. Electroluminescent organic EL layer materials can be broadly classified into low molecular organic compound combinations (host material and dopant material) and high molecular organic compounds. Examples of the polymer organic compound that emits electroluminescence include polyphenylene vinylene called PPV and derivatives thereof.

高分子有機化合物を材料とした有機EL層は、比較的低電圧で駆動でき、消費電力が少なく、ディスプレイパネルの大画面化に対応しやすいことから、現在積極的に研究がなされている。また、高分子有機化合物を材料とした有機EL層はインクジェット法などの塗布法による作製が可能である。したがって、真空プロセスを使用する低分子有機ELディスプレイよりも、高分子有機ELディスプレイの生産性は顕著に高い。   An organic EL layer made of a polymer organic compound can be driven at a relatively low voltage, consumes little power, and is easy to cope with an increase in the screen size of a display panel. In addition, an organic EL layer made of a polymer organic compound can be manufactured by a coating method such as an inkjet method. Therefore, the productivity of the polymer organic EL display is significantly higher than that of the low molecular organic EL display using the vacuum process.

また、高分子有機ELディスプレイは通常、アノード電極からの正孔を有機EL層に効率よく輸送するために、アノード電極と有機EL層との間に配置された正孔注入層を有する。正孔注入層の材料としては、塗布法による作製が可能な、ポリスチレンスルホン酸(PSS)をドープしたポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT−PSSと称される)や、その誘導体(共重合体など)などの水溶性高分子が用いられる。正孔注入層は、各副画素における開口部内のアノード電極上に、このような材料を含む水溶液を滴下し塗布することで形成されていた。   The polymer organic EL display usually has a hole injection layer disposed between the anode electrode and the organic EL layer in order to efficiently transport holes from the anode electrode to the organic EL layer. As a material for the hole injection layer, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) doped with polystyrene sulfonic acid (PSS) (referred to as PEDOT-PSS), which can be produced by a coating method, or a derivative thereof Water-soluble polymers such as (copolymers) are used. The hole injection layer was formed by dropping and applying an aqueous solution containing such a material on the anode electrode in the opening in each subpixel.

特許文献1には、従来の有機ELディスプレイパネルの平面図が示される。図1Aは特許文献1に記載された有機ELディスプレイパネルの平面図を示す。図1Bは図1Aの線IIIにおける断面図を示す。図1に示されるように、有機ELディスプレイパネルは、ガラス基板1、第1の電極層2、第1のバンク3、第2のバンク4、正孔注入層5および有機EL層6を有する(特許文献1参照)。   Patent Document 1 shows a plan view of a conventional organic EL display panel. FIG. 1A shows a plan view of an organic EL display panel described in Patent Document 1. FIG. FIG. 1B shows a cross-sectional view along line III of FIG. 1A. As shown in FIG. 1, the organic EL display panel includes a glass substrate 1, a first electrode layer 2, a first bank 3, a second bank 4, a hole injection layer 5, and an organic EL layer 6 ( Patent Document 1).

第1のバンク3は溝20を規定する。溝20には1列に配列された複数の開口部10が配置される。溝20は有機EL層6の領域を規定する。第2のバンク4は開口部10を規定する。開口部10は正孔注入層5の領域を規定する。このように従来の有機ELディスプレイパネルでは正孔注入層は開口部(副画素)ごとに独立して配置されていてもよい。   The first bank 3 defines a groove 20. A plurality of openings 10 arranged in a row are arranged in the groove 20. The groove 20 defines a region of the organic EL layer 6. The second bank 4 defines an opening 10. The opening 10 defines a region of the hole injection layer 5. Thus, in the conventional organic EL display panel, the hole injection layer may be disposed independently for each opening (subpixel).

上述のように正孔注入層はPEDOT−PSSを水に溶解した水溶液を副画素ごとに滴下し塗布することで形成される。しかし、水溶液は表面張力が強いことから、滴下された正孔注入層の材料液が所望の領域に広がらないという問題があった。したがって、図1に示されたように正孔注入層を開口部ごとに配置する場合、正孔注入層の材料液が塗布されず、アノード電極が露出してしまうことがあった。露出したアノード電極にはカソード電極が接触してしまうことから、ショートし、副画素が発光しなくなり、有機ELディスプレイパネルの品質が著しく低下する。   As described above, the hole injection layer is formed by dropping and applying, for each subpixel, an aqueous solution in which PEDOT-PSS is dissolved in water. However, since the aqueous solution has a strong surface tension, there has been a problem that the dropped material liquid of the hole injection layer does not spread to a desired region. Therefore, when the hole injection layer is arranged for each opening as shown in FIG. 1, the material liquid for the hole injection layer may not be applied, and the anode electrode may be exposed. Since the cathode electrode comes into contact with the exposed anode electrode, a short circuit occurs and the sub-pixel does not emit light, and the quality of the organic EL display panel is significantly deteriorated.

一方、滴下された機能層の材料液を所望の領域に広げるための技術として特許文献2に記載された技術がある。
図2は特許文献2に示された有機EL表示装置の副画素における開口部を示す。図2に示されるように開口部10は、その四方に液入口30を有する液溜り部40を有する。このような形状を有する画素に有機EL層6の材料液を滴下した場合、毛細管現象により、材料液が液溜り部40に流れ込む。その結果、開口部10全体に有機EL層6が配置されることになる(特許文献2参照)。
米国特許第7091660号明細書 特開2007−128690号公報
On the other hand, there is a technique described in Patent Document 2 as a technique for spreading the dropped functional layer material liquid to a desired region.
FIG. 2 shows an opening in a sub-pixel of the organic EL display device disclosed in Patent Document 2. As shown in FIG. 2, the opening 10 has a liquid reservoir 40 having a liquid inlet 30 on all four sides thereof. When the material liquid of the organic EL layer 6 is dropped onto the pixel having such a shape, the material liquid flows into the liquid reservoir 40 due to a capillary phenomenon. As a result, the organic EL layer 6 is disposed over the entire opening 10 (see Patent Document 2).
US Pat. No. 7,091,660 JP 2007-128690 A

しかしながら、特許文献2に記載された技術は、表面張力の弱い発光層の材料液(有機溶媒と発光材料を含む溶液)を所望の領域に広げることを目的とした技術である。そのため、図2に示されたように開口部の四方に液溜り部を設けたとしても、表面張力の高い正孔注入層の材料液(水溶液)は開口部全体には広がらず、正孔注入層の材料液がアノード電極全体に塗布されず、アノード電極が露出することがあった。   However, the technique described in Patent Document 2 is a technique aiming to spread a material solution (solution containing an organic solvent and a light emitting material) of a light emitting layer having a low surface tension in a desired region. Therefore, as shown in FIG. 2, even if the liquid reservoirs are provided on the four sides of the opening, the material liquid (aqueous solution) of the hole injection layer having a high surface tension does not spread over the entire opening. In some cases, the layer material liquid was not applied to the entire anode electrode, and the anode electrode was exposed.

一方、1の開口部に必要な正孔注入層の材料液を、一度に滴下するのではなく、開口部内の異なる箇所に複数回に分けて滴下する方法が考えられる。
図3には、開口部105内にアノード電極103の長軸に沿って、正孔注入層の液滴を複数滴下することで、アノード電極上に正孔注入層の材料液を塗布する方法が示されている。図3に示した方法では、正孔注入層109の材料液は、図3Aの矢印X方向に塗布される。このように、正孔注入層の材料液を開口部内の異なる箇所に複数回に分けて滴下することで、アノード電極が露出することを防止できると考えられる。
On the other hand, a method may be considered in which the material liquid for the hole injection layer necessary for one opening is not dropped at a time, but is dropped in multiple portions at different locations in the opening.
FIG. 3 shows a method in which a hole injection layer material liquid is applied on the anode electrode by dropping a plurality of droplets of the hole injection layer along the long axis of the anode electrode 103 into the opening 105. It is shown. In the method shown in FIG. 3, the material liquid for the hole injection layer 109 is applied in the direction of arrow X in FIG. 3A. Thus, it is considered that the anode electrode can be prevented from being exposed by dropping the material liquid of the hole injection layer into a plurality of different portions in the opening in a plurality of times.

しかし、図3で示した方法であっても、開口部内に最初に滴下した正孔注入層の材料液の液滴によって、その後に開口部内に滴下した正孔注入層の材料液の液滴が引っ張られ(図3B参照)、正孔注入層109の材料液がアノード電極全体に塗布されず、アノード電極の露出領域103’が発生する場合があることが分かった(図3C参照)。   However, even in the method shown in FIG. 3, the material liquid droplet of the hole injection layer first dropped into the opening portion causes the material liquid droplet of the hole injection layer subsequently dropped into the opening portion. It was found that the material liquid of the hole injection layer 109 was not applied to the entire anode electrode, and an exposed region 103 ′ of the anode electrode might be generated (see FIG. 3C).

本発明はPEDOT−PSSを含む正孔注入層を副画素における開口部ごとに配置する場合であっても、正孔注入層の材料液がアノード電極全体に塗布され、アノード電極の露出領域が発生しない有機ELディスプレイパネルを提供することを目的とする。   In the present invention, even when a hole injection layer containing PEDOT-PSS is arranged for each opening in the subpixel, the material liquid of the hole injection layer is applied to the entire anode electrode, and an exposed area of the anode electrode is generated. An object of the present invention is to provide an organic EL display panel that does not.

本発明の第1は、以下に示す有機ディスプレイパネルの製造方法に関する。
[1] マトリクス状に配置された開口部を規定するバンクならびに前記開口部内に配置された短軸および長軸を有するアノード電極を含む基板を準備するステップと、1の前記開口部内に前記長軸に沿って、ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液の液滴を複数滴下して前記水溶液をアノード電極に塗布し、正孔注入層を形成するステップと、を有する有機ELディスプレイパネルの製造方法であって、前記開口部は、前記アノード電極の塗布方向下流の端と前記バンクとの間に空隙を有し、前記水溶液は前記空隙にも塗布される、有機ELディスプレイパネルの製造方法。
[2] マトリクス状に配置された開口部を規定するバンクならびに前記開口部内に配置された短軸および長軸を有するアノード電極を含む基板を準備するステップと、1の前記開口部内に前記長軸に沿って、ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液の液滴を複数滴下して前記水溶液をアノード電極に塗布し、正孔注入層を形成するステップと、を有する有機ELディスプレイパネルの製造方法であって、前記アノード電極の塗布方向下流の端部は、前記アノード電極の塗布方向上流の端部よりも絞り込まれている、有機ELディスプレイパネルの製造方法。
1st of this invention is related with the manufacturing method of the organic display panel shown below.
[1] preparing a substrate including a bank defining openings arranged in a matrix and an anode electrode having a short axis and a long axis arranged in the opening; and the long axis in one opening And a step of dropping a plurality of droplets of an aqueous solution containing polyethylene dioxythiophene and applying the aqueous solution to the anode electrode to form a hole injection layer. The organic EL display panel manufacturing method, wherein the opening has a gap between an end of the anode electrode downstream in the application direction and the bank, and the aqueous solution is also applied to the gap.
[2] A step of preparing a substrate including a bank defining openings arranged in a matrix and an anode electrode having a short axis and a long axis arranged in the opening, and the long axis in one opening And a step of dropping a plurality of droplets of an aqueous solution containing polyethylene dioxythiophene and applying the aqueous solution to the anode electrode to form a hole injection layer. The method for producing an organic EL display panel, wherein the end of the anode electrode downstream in the application direction is narrowed down from the end of the anode electrode upstream in the application direction.

また、本発明の第2は、以下に示す有機ディスプレイパネルに関する。
[3] 基板上にマトリクス状に配置された開口部、前記開口部を規定するバンク、前記開口部内に配置された、長軸および短軸を有するアノード電極、前記開口部ごとに独立して配置され、前記アノード電極上に配置された正孔注入層、前記正孔注入層上に配置された有機EL層、および前記有機EL層上に設けられたカソード電極を有する有機ELディスプレイパネルであって、前記開口部は前記アノード電極の前記長軸の一方の端と、前記バンクとの間に空隙を有する、有機ELディスプレイパネル。
[4] 基板上にマトリクス状に配置された開口部、前記開口部を規定するバンク、前記開口部内に配置された、長軸および短軸を有するアノード電極、前記開口部ごとに独立して配置され、前記アノード電極上に配置された正孔注入層、前記正孔注入層上に配置された有機EL層、および前記有機EL層上に設けられたカソード電極を有する有機ELディスプレイパネルであって、前記アノード電極の前記長軸の一方の端部は、前記アノード電極の前記長軸の他方の端部よりも絞り込まれている、有機ELディスプレイパネル。
The second aspect of the present invention relates to the organic display panel shown below.
[3] Openings arranged in a matrix on the substrate, banks defining the openings, anode electrodes having a major axis and a minor axis arranged in the openings, and arranged independently for each of the openings. An organic EL display panel comprising: a hole injection layer disposed on the anode electrode; an organic EL layer disposed on the hole injection layer; and a cathode electrode disposed on the organic EL layer. The opening has an air gap between one end of the major axis of the anode electrode and the bank.
[4] Openings arranged in a matrix on the substrate, banks defining the openings, anode electrodes having a major axis and a minor axis arranged in the openings, and arranged independently for each of the openings. An organic EL display panel comprising: a hole injection layer disposed on the anode electrode; an organic EL layer disposed on the hole injection layer; and a cathode electrode disposed on the organic EL layer. The organic EL display panel, wherein one end of the major axis of the anode electrode is narrower than the other end of the major axis of the anode electrode.

本発明によって、PEDOT−PSSを含む正孔注入層を副画素の開口部ごとに配置する場合であっても、開口部内のアノード電極の全体を正孔注入層で覆うことができる。したがって、本発明によって、各有機EL素子がショートすることが防止されることから、品質の高い有機ELディスプレイパネルを提供することができる。   According to the present invention, even when a hole injection layer containing PEDOT-PSS is disposed for each opening of a subpixel, the entire anode electrode in the opening can be covered with the hole injection layer. Therefore, according to the present invention, each organic EL element is prevented from being short-circuited, so that a high-quality organic EL display panel can be provided.

1.有機ELディスプレイパネルの製造方法について
本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法は、1)マトリクス状に配置された開口部を規定するバンクならびに開口部内に配置された短軸および長軸を有するアノード電極を含む基板を準備するステップ(図4参照)、および2)1の開口部内にアノード電極の長軸に沿って、正孔注入層の材料液の液滴を複数滴下して水溶液をアノード電極に塗布し、正孔注入層を形成するステップ、を有する。
1. About the manufacturing method of an organic EL display panel The manufacturing method of the organic EL display panel of the present invention includes: 1) a bank defining openings arranged in a matrix, and an anode electrode having a short axis and a long axis arranged in the openings (See FIG. 4), and 2) a plurality of droplets of the material liquid of the hole injection layer are dropped in the opening of 1 along the long axis of the anode electrode to make the aqueous solution into the anode electrode. Applying and forming a hole injection layer.

有機ELディスプレイパネルにおける各画素はRGBの3つの「副画素」からなる。すなわちRGBの3つの副画素が1つの画素を構成する。本発明の有機ELディスプレイパネルでは、各副画素の長軸は270〜480μmであり、短軸は90〜160μmである。   Each pixel in the organic EL display panel is composed of three “sub-pixels” of RGB. That is, three subpixels of RGB constitute one pixel. In the organic EL display panel of the present invention, the major axis of each subpixel is 270 to 480 μm, and the minor axis is 90 to 160 μm.

また、「開口部」とは各副画素内においてバンクによって規定された正孔注入層の材料液が塗布される領域を意味する。以下、バンクによって規定された「開口部」を「バンク開口部」という。   In addition, the “opening” means a region where the material liquid of the hole injection layer defined by the bank is applied in each sub-pixel. Hereinafter, the “opening” defined by the bank is referred to as “bank opening”.

図4に示されるように本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法では、正孔注入層の材料液を吐出する複数のノズル201を有するノズルヘッド203を用意する。そしてバンク開口部105がマトリクス状に配置された基板101を矢印Y方向に移動することで各バンク開口部内105のアノード電極103上に正孔注入層の材料液を塗布する。   As shown in FIG. 4, in the method for manufacturing an organic EL display panel according to the present invention, a nozzle head 203 having a plurality of nozzles 201 for discharging a material liquid for a hole injection layer is prepared. Then, by moving the substrate 101 in which the bank openings 105 are arranged in a matrix in the direction of the arrow Y, the material liquid for the hole injection layer is applied onto the anode electrode 103 in each bank opening 105.

バンク開口部に滴下される正孔注入層の材料液の量は、1つのバンク開口部(9600μm)あたり240pl〜360plであることが好ましい。 The amount of the material liquid of the hole injection layer dropped into the bank opening is preferably 240 pl to 360 pl per one bank opening (9600 μm 2 ).

また、滴下される正孔流入層の材料液の液滴の一滴の容量は2〜20plであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the capacity | capacitance of one drop of the material liquid droplet of the hole inflow layer dripped is 2-20pl.

正孔注入層の材料液の液滴をアノード電極の長軸に沿って滴下するインターバルは5〜12μmであることが好ましい。   The interval at which the droplet of the material liquid of the hole injection layer is dropped along the long axis of the anode electrode is preferably 5 to 12 μm.

本発明の有機ELディスプレイの製造方法は、好ましい第1の例および好ましい第2の例を含む。以下、図面を用いて(A)第1の例と(B)第2の例とに分けて本発明の有機ELディスプレイの製造方法について説明する。
また、以下の本発明の製造方法の第1の例および第2の例の説明では本発明の有機ELディスプレイパネルに含まれる1の有機EL素子(副画素)の製造方法について説明する。
The manufacturing method of the organic EL display of the present invention includes a preferred first example and a preferred second example. Hereinafter, the manufacturing method of the organic EL display of the present invention will be described by dividing into (A) a first example and (B) a second example with reference to the drawings.
In the following description of the first and second examples of the manufacturing method of the present invention, a method of manufacturing one organic EL element (subpixel) included in the organic EL display panel of the present invention will be described.

(A)第1の例
図5は本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法の第1の例を示す。本発明の製造方法の第1の例は、1)基板を準備する第1ステップ(図5A)、2)基板上にアノード電極を形成する第2ステップ(図5B)、3)基板上にバンクを形成し、アノード電極とバンクとの間に空隙を有するバンク開口部を形成する第3ステップ(図5C)、および、4)1のバンク開口部内にアノード電極の長軸に沿って、ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液の液滴を複数滴下して水溶液をアノード電極に塗布し、正孔注入層を形成する第4ステップ(図5D、図5E参照)を有する。
(A) First Example FIG. 5 shows a first example of a method for producing an organic EL display panel of the present invention. The first example of the manufacturing method of the present invention is as follows: 1) First step of preparing a substrate (FIG. 5A), 2) Second step of forming an anode electrode on the substrate (FIG. 5B), 3) Bank on the substrate A third step (FIG. 5C) for forming a bank opening having a gap between the anode electrode and the bank, and 4) along the major axis of the anode electrode in the bank opening of 1, There is a fourth step (see FIGS. 5D and 5E) for forming a hole injection layer by dropping a plurality of droplets of an aqueous solution containing oxythiophene and applying the aqueous solution to the anode electrode.

また、第1ステップと第2ステップとの間に絶縁性の無機膜を形成するステップを有していてもよい。   In addition, an insulating inorganic film may be formed between the first step and the second step.

1)第1ステップ(図5A)では、基板101を準備する。基板101は、有機ELディスプレイパネルがボトムエミッション型か、トップエミッション型かによって、その材料が異なる。具体的には、ボトムエミッション型の場合、基板101は、透明であることが求められることから、基板101の材料の例はガラスや透明樹脂などを含む。また、トップエミッション型の場合、基板101が透明である必要はないことから、基板101の材料は絶縁性であれば任意である。   1) In the first step (FIG. 5A), the substrate 101 is prepared. The material of the substrate 101 differs depending on whether the organic EL display panel is a bottom emission type or a top emission type. Specifically, in the case of the bottom emission type, since the substrate 101 is required to be transparent, examples of the material of the substrate 101 include glass, transparent resin, and the like. In the case of the top emission type, since the substrate 101 does not need to be transparent, the material of the substrate 101 is arbitrary as long as it is insulative.

2)第2ステップ(図5B)では、基板101上にアノード電極103(厚さ10〜100nm)を配置する。アノード電極103は、例えば、スパッタリング法などにより、電極材料の膜を基板101上に形成し;電極材料の膜をレジストによりマスキングし;エッチングしてパターニングすることにより形成される。
ボトムエミッション型の場合、アノード電極103は、透明電極であることが求められることから、アノード電極103の材料の例は、ITO(酸化インジウム・スズ)やIZO(酸化インジウム・亜鉛)、ZnO(酸化亜鉛)などを含む。
トップエミッション型の場合、アノード電極103に光反射性が求められることから、アノード電極103の材料の例は、銀を含む合金、より具体的には銀−パラジウム−銅合金(APCとも称する)や銀−ルテニウム−金合金(ARAとも称する)、MoCr(モリブデンクロム)、NiCr(ニッケルクロム)などを含む。
2) In the second step (FIG. 5B), an anode electrode 103 (thickness 10 to 100 nm) is disposed on the substrate 101. The anode electrode 103 is formed by, for example, forming a film of an electrode material on the substrate 101 by sputtering or the like; masking the film of the electrode material with a resist; and etching and patterning.
In the case of the bottom emission type, since the anode electrode 103 is required to be a transparent electrode, examples of the material of the anode electrode 103 include ITO (indium tin oxide), IZO (indium oxide zinc), and ZnO (oxide oxidation). Zinc) and the like.
In the case of the top emission type, since the anode electrode 103 is required to have light reflectivity, an example of the material of the anode electrode 103 is an alloy containing silver, more specifically, a silver-palladium-copper alloy (also referred to as APC), Including silver-ruthenium-gold alloy (also referred to as ARA), MoCr (molybdenum chromium), NiCr (nickel chromium) and the like.

また後述する正孔注入層の材料液がアノード電極表面によく馴染むよう、アノード電極を覆うITO膜を形成してもよい。   In addition, an ITO film covering the anode electrode may be formed so that the material liquid for the hole injection layer described later is well adapted to the anode electrode surface.

3)第3ステップ(図5C)では、副画素104ごとのバンク開口部105を規定するバンク106を、例えばフォトリソグラフィ技術や凹版印刷、凸版印刷などによって形成する。バンクの高さは0.5〜1μmであることが好ましい。バンクの材料は絶縁性であれば任意であるが、絶縁性樹脂(ポリイミドなど)であることが好ましい。さらに、第1のバンクの表面は濡れ性が低い(例えば撥水性である)ことが好ましい。そのため、バンクの材料はフッ素樹脂を含む絶縁性樹脂であることが好ましい。バンクの表面を、フッ素系ガスプラズマでフッ素化することにより、濡れ性を低下させてもよい。   3) In the third step (FIG. 5C), the bank 106 that defines the bank opening 105 for each sub-pixel 104 is formed by, for example, photolithography, intaglio printing, letterpress printing, or the like. The height of the bank is preferably 0.5 to 1 μm. The material of the bank is arbitrary as long as it is insulative, but is preferably an insulating resin (polyimide or the like). Furthermore, it is preferable that the surface of the first bank has low wettability (for example, water repellency). Therefore, the bank material is preferably an insulating resin containing a fluororesin. The wettability may be lowered by fluorinating the surface of the bank with fluorine-based gas plasma.

バンク開口部の長軸の長さは230〜415μmであり、バンク開口部の短軸の長さは70〜175μmであることが好ましい。   The major axis length of the bank opening is preferably 230 to 415 μm, and the minor axis length of the bank opening is preferably 70 to 175 μm.

バンク開口部内のアノード電極は、長軸および短軸を有することが好ましい。アノード電極は、縦長形状であればよく、必ずしも「楕円」である必要はない。アノード電極の長軸の長さは220〜390μmであり、アノード電極の短軸の長さは70〜125μmであることが好ましい。   The anode electrode in the bank opening preferably has a major axis and a minor axis. The anode electrode may have a vertically long shape and does not necessarily have an “ellipse” shape. The length of the major axis of the anode electrode is 220 to 390 μm, and the length of the minor axis of the anode electrode is preferably 70 to 125 μm.

図5Cに示されたように、本発明の製造方法の第1の例は、バンク106によって規定されたバンク開口部105をアノード電極103よりも後述する塗布方向下流に長くすることで、アノード電極103の塗布方向下流の端とバンク106との間に空隙107を形成することを特徴とする。ここで、「空隙」とはアノード電極とバンクとの間に形成されたアノード電極の下地層が露出した領域を意味する。アノード電極103の塗布方向下流の端とバンク106との間隔dは10〜25μmであることが好ましい。空隙の面積は270〜690μmであることが好ましい。
またアノード電極の塗布方向下流の端部の短軸方向の端とバンクとの間に空隙が形成されていてもよい(図7B)。
As shown in FIG. 5C, the first example of the manufacturing method of the present invention is to make the bank opening 105 defined by the bank 106 longer than the anode electrode 103 downstream in the coating direction, which will be described later. A gap 107 is formed between the bank 103 and the downstream end of the coating direction 103. Here, the “air gap” means a region where the base layer of the anode electrode formed between the anode electrode and the bank is exposed. The distance d between the downstream end of the anode electrode 103 in the coating direction and the bank 106 is preferably 10 to 25 μm. The area of the gap is preferably 270 to 690 μm 2 .
Further, a gap may be formed between the bank and the end in the minor axis direction at the downstream end of the anode electrode in the application direction (FIG. 7B).

4)第4ステップ(図5D)ではバンク開口部105内にアノード電極103の長軸に沿って、図5Dの矢印X方向に正孔注入材料を含む水溶液(正孔注入層の材料液)の液滴を複数滴下して水溶液をアノード電極に塗布し、正孔注入層109を形成する。正孔注入層の材料液は例えば、インクジェット法によって塗布されればよい。正孔注入材料の例には、ポリエチレンスルホン酸をドープしたポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT−PSSと称される)や、その誘導体(共重合体など)が含まれる。図5Dに示されるように本発明では、正孔注入層はバンク開口部ごとに形成される。   4) In the fourth step (FIG. 5D), an aqueous solution containing the hole injection material (the material liquid of the hole injection layer) in the bank opening 105 along the long axis of the anode electrode 103 in the direction of the arrow X in FIG. A plurality of droplets are dropped and an aqueous solution is applied to the anode electrode to form the hole injection layer 109. The material liquid for the hole injection layer may be applied by, for example, an ink jet method. Examples of the hole injection material include poly (3,4-ethylenedioxythiophene) doped with polyethylene sulfonic acid (referred to as PEDOT-PSS) and derivatives thereof (such as copolymers). As shown in FIG. 5D, in the present invention, the hole injection layer is formed for each bank opening.

図5Dで示されるように、本発明の製造方法の第1の例では、正孔注入層の材料液を空隙107まで塗布する。   As shown in FIG. 5D, in the first example of the manufacturing method of the present invention, the material liquid for the hole injection layer is applied to the gap 107.

このように、アノード電極の塗布方向下流の端とバンクとの間に空隙を設け、空隙まで正孔注入層の材料液を塗布することで、アノード電極が露出することが防止され(図5E参照)、有機EL素子(副画素)がショートすることを防ぐことができる。つまり、図5Eに示すように本発明の製造方法の第1の例では、空隙107の一部に正孔注入層の材料液を塗布することができず、空隙107が露出することがあるが、空隙107にはアノード電極103が配置されていないことから、空隙107が露出しても有機EL素子をショートさせる恐れはない。   Thus, by providing a gap between the bank downstream of the anode electrode application direction and the bank and applying the hole injection layer material liquid to the gap, the anode electrode is prevented from being exposed (see FIG. 5E). ), The organic EL element (subpixel) can be prevented from being short-circuited. That is, as shown in FIG. 5E, in the first example of the manufacturing method of the present invention, the material liquid for the hole injection layer cannot be applied to a part of the gap 107, and the gap 107 may be exposed. In addition, since the anode electrode 103 is not disposed in the gap 107, there is no possibility that the organic EL element is short-circuited even if the gap 107 is exposed.

本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法は上記ステップに加え、中間層および有機EL層を形成するステップ、有機EL層上にカソード電極を形成するステップを有していてもよい。   In addition to the above steps, the method for producing an organic EL display panel of the present invention may have a step of forming an intermediate layer and an organic EL layer, and a step of forming a cathode electrode on the organic EL layer.

中間層および有機EL層は、例えば正孔注入層上にインクジェット法などを用いて、中間層および有機EL層の材料液を塗布することで形成される。   The intermediate layer and the organic EL layer are formed, for example, by applying a material liquid for the intermediate layer and the organic EL layer on the hole injection layer using an inkjet method or the like.

中間層は正孔注入層に電子が輸送されるのをブロックする役割や、有機EL層に正孔を効率よく運ぶ役割などを有し、例えばポリアニリン系の材料からなる層である。中間層の材料液(中間層の材料をアニソールやシクロベンゼンなどの有機溶媒に溶解したインク)をバンク開口部に塗布することで形成される。中間層の厚さは、10〜40nmであることが好ましい。   The intermediate layer has a role of blocking the transport of electrons to the hole injection layer and a role of efficiently transporting holes to the organic EL layer, and is a layer made of, for example, a polyaniline material. The intermediate layer material liquid (ink in which the intermediate layer material is dissolved in an organic solvent such as anisole or cyclobenzene) is applied to the bank openings. The thickness of the intermediate layer is preferably 10 to 40 nm.

有機EL層の材料は高分子系有機EL材料であっても低分子系有機EL材料であってもよいが、高分子系有機EL材料を材料とする有機EL層は、容易にかつ他の材料に損傷を与えることなく形成されることができることから好ましい。   The material of the organic EL layer may be a high molecular weight organic EL material or a low molecular weight organic EL material, but an organic EL layer made of a high molecular weight organic EL material can be easily and other materials. It is preferable because it can be formed without damaging.

高分子有機EL材料の例には、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリアセチレン(Poly acetylene)およびその誘導体、ポリフェニレン(Poly phenylene(PP))およびその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン(Poly para phenylene ethylene)およびその誘導体、ポリ3−ヘキシルチオフェン(Poly 3−hexyl thiophene(P3HT))およびその誘導体、ポリフルオレン(Poly fluorene (PF))およびその誘導体などが含まれる。また、有機EL層の厚さは約50〜100nmであることが好ましい。   Examples of the polymer organic EL material include polyphenylene vinylene and its derivatives, polyacetylene and its derivatives, polyphenylene and its derivatives, polyparaphenylene ethylene and its derivatives. , Poly 3-hexyl thiophene (P3HT) and derivatives thereof, polyfluorene (PF) and derivatives thereof, and the like. The thickness of the organic EL layer is preferably about 50 to 100 nm.

カソード電極は例えば、蒸着法やスパッタリング法を利用して形成すればよい。カソード電極の材料は、ボトムエミッション型か、トップエミッション型かによってその材料が異なる。トップエミッション型の場合には、カソード電極が透明である必要があるのでITO電極やIZO電極などを含む材料で形成することが好ましい。また、Ba、Al、WOxで構成してもよい。   The cathode electrode may be formed using, for example, a vapor deposition method or a sputtering method. The material of the cathode electrode differs depending on whether it is a bottom emission type or a top emission type. In the case of the top emission type, since the cathode electrode needs to be transparent, it is preferably formed of a material including an ITO electrode or an IZO electrode. Moreover, you may comprise with Ba, Al, and WOx.

また、ボトムエミッション型の場合にはカソード電極が透明である必要はなく、任意の材料でカソード電極を形成すればよく、例えばBaやBaO、Alなどを含む材料で形成することが好ましい。   In the case of the bottom emission type, the cathode electrode does not need to be transparent, and the cathode electrode may be formed of an arbitrary material. For example, the cathode electrode is preferably formed of a material containing Ba, BaO, Al, or the like.

カソード電極を形成した面に更にカバー材(封止材)を設けて本発明の有機ELディスプレイパネルを封止してもよい。カバー材により水分や酸素の浸入が抑制される。   A cover material (sealing material) may be further provided on the surface on which the cathode electrode is formed to seal the organic EL display panel of the present invention. Intrusion of moisture and oxygen is suppressed by the cover material.

(B)第2の例
図6は本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法の第2の例を示す。本発明の製造方法の第2の例は、1)基板を準備する第1ステップ(図6A)、2)基板上にアノード電極を形成する第2ステップ(図6B)、3)基板上にバンクを形成し、塗布方向下流の端部が絞り込まれたバンク開口部を形成する第3ステップ(図6C)、および、4)1のバンク開口部内にアノード電極の長軸に沿って、ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液の液滴を複数滴下して水溶液をアノード電極に塗布し、正孔注入層を形成する第4ステップ(図6D、図6E参照)を有する。
(B) Second Example FIG. 6 shows a second example of the method for producing an organic EL display panel of the present invention. The second example of the manufacturing method of the present invention is as follows: 1) First step of preparing a substrate (FIG. 6A), 2) Second step of forming an anode electrode on the substrate (FIG. 6B), 3) Bank on the substrate A third step (FIG. 6C) for forming a bank opening in which the downstream end in the coating direction is narrowed, and 4) along the major axis of the anode electrode in the bank opening of 1, the polyethylene dioxy There is a fourth step (see FIGS. 6D and 6E) in which a plurality of droplets of an aqueous solution containing thiophene are dropped and the aqueous solution is applied to the anode electrode to form a hole injection layer.

また、ステップ1)とステップ2)との間に絶縁性の無機膜を形成するステップを有していてもよい。   Further, an insulating inorganic film may be formed between step 1) and step 2).

本発明の製造方法の第2の例における基板は第1の例で説明した基板と同じであってよい。   The substrate in the second example of the manufacturing method of the present invention may be the same as the substrate described in the first example.

2)第2ステップ(図6B)では、アノード電極103を形成する。
アノード電極の形成手段および材料は上述した本発明の製造方法の第1の例と同じであってよい。
2) In the second step (FIG. 6B), the anode electrode 103 is formed.
The anode electrode forming means and material may be the same as those in the first example of the manufacturing method of the present invention described above.

3)第3ステップ(図6C)では、副画素104ごとのバンク開口部105を規定するバンク106を形成する。バンク106の形成手段および材料は上述した第1の例と同じであってよい。バンク開口部の長軸の長さは195〜365μmであり、バンク開口部の短軸の長さは70〜125μmであることが好ましい。   3) In the third step (FIG. 6C), a bank 106 that defines a bank opening 105 for each sub-pixel 104 is formed. The formation means and material of the bank 106 may be the same as those in the first example described above. The major axis length of the bank opening is preferably 195 to 365 μm, and the minor axis length of the bank opening is preferably 70 to 125 μm.

バンク開口部内のアノード電極は、長軸および短軸を有することが好ましい。アノード電極の長軸の長さは、195〜365μmであり、アノード電極の短軸は70〜125μmであることが好ましい。   The anode electrode in the bank opening preferably has a major axis and a minor axis. The length of the major axis of the anode electrode is 195 to 365 μm, and the minor axis of the anode electrode is preferably 70 to 125 μm.

本発明の製造方法の第2の例ではバンク開口部105内のアノード電極103の塗布方向下流の端部は絞り込まれていることを特徴とする。ここで「絞り込む」とは、アノード電極の塗布方向下流の端部を塗布方向上流の端部よりも長軸方向に縮めたり(図8A参照)、アノード電極の塗布方向下流の端部を塗布方向上流の端部よりも短軸方向に狭くし、アノード電極の塗布方向下流の端部の曲率を大きくしたりすることを含む(図8B参照)。このように本発明の製造方法の第2の例では、バンク開口部内のアノード電極はアノード電極の長軸の中点を通る短軸に関して非対称になる。また、本発明の製造方法の第2の例ではバンク106が規定するバンク開口部105の塗布方向下流の端部も、絞り込まれる。   The second example of the manufacturing method of the present invention is characterized in that the end of the anode electrode 103 in the bank opening 105 downstream in the coating direction is narrowed down. Here, “narrowing” means that the end of the anode electrode downstream in the application direction is contracted in the longer axis direction than the end upstream of the application direction (see FIG. 8A) or the end of the anode electrode downstream in the application direction is applied in the application direction This includes narrowing in the minor axis direction than the upstream end and increasing the curvature of the end downstream of the anode electrode in the coating direction (see FIG. 8B). Thus, in the second example of the manufacturing method of the present invention, the anode electrode in the bank opening is asymmetric with respect to the minor axis passing through the midpoint of the major axis of the anode electrode. In the second example of the manufacturing method of the present invention, the downstream end of the bank opening 105 defined by the bank 106 in the application direction is also narrowed down.

アノード電極の塗布方向下流の端部を塗布方向上流の端部よりも長軸方向に縮める場合(図8A参照)アノード電極の塗布方向下流の端部は塗布方向上流の端部よりも10〜25μm縮めることが好ましい。   When the end of the anode electrode downstream in the coating direction is contracted in the longer axis direction than the end upstream of the coating direction (see FIG. 8A), the downstream end of the anode electrode in the coating direction is 10-25 μm from the upstream end of the coating direction. It is preferable to shorten.

アノード電極の塗布方向下流の端部を塗布方向上流の端部よりも短軸方法に狭くする場合(図8B参照)、アノード電極の塗布方向下流の端部を塗布方向上流の端部よりも10〜25μm短軸方向に狭くすることが好ましい。   When the end portion of the anode electrode downstream in the application direction is narrower than the end portion upstream of the application direction in a short axis method (see FIG. 8B), the end portion of the anode electrode downstream in the application direction is 10 It is preferable to narrow in the direction of the short axis of ˜25 μm.

アノード電極103の塗布方向下流の端部を絞り込むには、アノード電極自体を塗布方向下流の端部が絞り込まれるようにパターニングしてもよいし、アノード電極自体は任意の形状にパターニングし、バンクによって、バンク開口部に露出するアノード電極の塗布方向下流の端部が絞り込まれるようにパターニングしてもよい。   In order to narrow down the downstream end of the anode electrode 103 in the coating direction, the anode electrode itself may be patterned so that the downstream end in the coating direction is narrowed, or the anode electrode itself may be patterned into an arbitrary shape, Further, the patterning may be performed so that the downstream end of the anode electrode exposed in the bank opening is narrowed down.

4)第4ステップ(図6D)ではバンク開口部105内にアノード電極103の長軸に沿って、図6Dの矢印X方向に正孔注入層の材料液の液滴を複数滴下して水溶液をアノード電極に塗布し、正孔注入層109を形成する。正孔注入層の材料液は例えば、インクジェット法によって塗布されればよい。   4) In the fourth step (FIG. 6D), a plurality of droplets of the material liquid of the hole injection layer are dropped in the bank opening 105 along the long axis of the anode electrode 103 in the direction of arrow X in FIG. The hole injection layer 109 is formed by applying to the anode electrode. The material liquid for the hole injection layer may be applied by, for example, an ink jet method.

従来の有機ELディスプレイパネルでは、このような方法でアノード電極上に正孔注入層の材料液を塗布した場合、アノード電極の塗布方向下流で、正孔注入層の材料液がアノード電極全体に塗布されず、アノード電極が露出することがあった(図3C参照)。しかし、上述のようにアノード電極の塗布方向下流の端部は、アノード電極の塗布方向上流の端部よりも絞り込まれているため、アノード電極の塗布方向下流の端部において、滴下された正孔注入層の材料液の1滴あたりのアノード電極の領域が小さくなる。したがって、正孔注入層の材料液をアノード電極の長軸に沿って複数滴下した場合であっても、アノード電極が露出しにくい。これにより有機EL素子(副画素)がショートすることを防ぐことができる。   In the conventional organic EL display panel, when the material liquid for the hole injection layer is applied on the anode electrode by such a method, the material liquid for the hole injection layer is applied to the entire anode electrode downstream in the application direction of the anode electrode. In some cases, the anode electrode was exposed (see FIG. 3C). However, since the end downstream of the anode electrode in the application direction is narrowed down as compared with the end upstream of the anode electrode in the application direction as described above, the dropped holes at the end downstream of the anode electrode in the application direction. The area of the anode electrode per drop of the material liquid of the injection layer is reduced. Therefore, even when a plurality of material liquids for the hole injection layer are dropped along the major axis of the anode electrode, the anode electrode is hardly exposed. Thereby, it is possible to prevent the organic EL element (subpixel) from being short-circuited.

本発明の製造方法の第2の例は上記ステップに加え、中間層および有機EL層を形成するステップ、有機EL層上に電子注入層およびカソード電極を形成するステップを有していてもよい。また、カソード電極と有機EL層との間には電子注入層が形成されてもよい。   In addition to the above steps, the second example of the production method of the present invention may include a step of forming an intermediate layer and an organic EL layer, and a step of forming an electron injection layer and a cathode electrode on the organic EL layer. An electron injection layer may be formed between the cathode electrode and the organic EL layer.

上述したように、本発明の製造方法の第1の例および第2の例はいずれも、絶縁性の無機膜(以下「無機絶縁膜」という)を形成するステップをさらに有していてもよい。無機絶縁膜は電気絶縁性であることはもちろんであるが、濡れ性が高いことも好ましい。無機絶縁膜の材料の例にはシリコンオキサイド(SiO)やシリコンナイトライド(Si)、シリコンオキシナイトライド(SiON)などが含まれる。無機絶縁膜の厚さは10nm〜200nmであることが好ましい。 As described above, both the first example and the second example of the manufacturing method of the present invention may further include a step of forming an insulating inorganic film (hereinafter referred to as “inorganic insulating film”). . The inorganic insulating film is of course electrically insulating, but it is also preferable that the wettability is high. Examples of the material of the inorganic insulating film include silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), silicon oxynitride (SiON), and the like. The thickness of the inorganic insulating film is preferably 10 nm to 200 nm.

無機絶縁膜はバンクからバンク開口部まではみ出していることが好ましい(図9参照)。好ましくは、無機絶縁膜はバンクからバンク開口部まで5〜10μmはみ出している。   The inorganic insulating film preferably protrudes from the bank to the bank opening (see FIG. 9). Preferably, the inorganic insulating film protrudes from the bank to the bank opening by 5 to 10 μm.

図9Aは上記第1の例における無機絶縁膜108の形状を示す。図9Aに示されるようにアノード電極103の塗布方向下流の端と無機絶縁膜108との間には空隙107が設けられている。   FIG. 9A shows the shape of the inorganic insulating film 108 in the first example. As shown in FIG. 9A, a gap 107 is provided between the downstream end of the anode electrode 103 in the coating direction and the inorganic insulating film 108.

図9Bは上記第2の例における無機絶縁膜108の形状を示す。図9Bに示されるように無機絶縁膜108はアノード電極103の縁を囲むように配置されてもよい。   FIG. 9B shows the shape of the inorganic insulating film 108 in the second example. As shown in FIG. 9B, the inorganic insulating film 108 may be disposed so as to surround the edge of the anode electrode 103.

無機絶縁膜により正孔注入層の材料液はバンク開口部全体に均一に塗布され、膜厚が均一な機能層を得ることができる。   The material liquid of the hole injection layer is uniformly applied to the entire bank opening by the inorganic insulating film, and a functional layer having a uniform film thickness can be obtained.

また、上述のようにバンク表面はフッ素系ガスプラズマによってフッ素化されることがある。この場合、バンクだけでなくアノード電極表面にもフッ素が付着する場合がある。フッ素は濡れ性を下げる作用を有することから、フッ素が付着したアノード電極表面の濡れ性は低下し、アノード電極上に正孔注入層の材料液がさらに塗布されにくくなるという問題もあった。しかし、本発明のようにアノード電極の塗布方向下流の端とバンクとの間に空隙を設けたり、アノード電極の塗布方向下流の端部を絞りこむことで、たとえアノード電極上にフッ素が付着したとしても、アノード電極全体に正孔注入層の材料液が塗布され、アノード電極が露出することが防止される。
したがって、本発明は、バンク表面をフッ素系ガスプラズマによってフッ素化する場合に特に有効である。
Further, as described above, the bank surface may be fluorinated by fluorine-based gas plasma. In this case, fluorine may adhere not only to the bank but also to the anode electrode surface. Since fluorine has a function of lowering wettability, the wettability of the surface of the anode electrode to which fluorine has adhered is lowered, and there is also a problem that the material liquid for the hole injection layer is more difficult to be applied onto the anode electrode. However, as in the present invention, fluorine is deposited on the anode electrode by providing a gap between the bank and the downstream end of the anode electrode in the coating direction or by narrowing the downstream end of the anode electrode in the coating direction. However, the material liquid for the hole injection layer is applied to the entire anode electrode, and the anode electrode is prevented from being exposed.
Therefore, the present invention is particularly effective when the bank surface is fluorinated with fluorine-based gas plasma.

2.本発明の有機ELディスプレイパネルについて
本発明の有機ELディスプレイパネルは、基板、アノード電極、カソード電極、ならびに両電極に挟まれた正孔注入層および有機EL層を有する有機EL素子を有する。本発明の有機ELディスプレイパネルでは、このような有機EL素子が基板上にマトリクス状に配置され副画素として機能する。
2. About the organic EL display panel of the present invention The organic EL display panel of the present invention has a substrate, an anode electrode, a cathode electrode, and an organic EL element having a hole injection layer and an organic EL layer sandwiched between both electrodes. In the organic EL display panel of the present invention, such organic EL elements are arranged in a matrix on the substrate and function as subpixels.

基板には、アノード電極が形成されている。有機ELディスプレイパネルがパッシブマトリクス型である場合、アノード電極はライン状に、複数本形成される。ライン状のアノード電極は、互いに平行であることが好ましい。有機ELディスプレイパネルがアクティブマトリクス型である場合、アノード電極は基板上に副画素ごと独立して配置される。   An anode electrode is formed on the substrate. When the organic EL display panel is a passive matrix type, a plurality of anode electrodes are formed in a line shape. The line-like anode electrodes are preferably parallel to each other. When the organic EL display panel is an active matrix type, the anode electrode is independently arranged for each subpixel on the substrate.

正孔注入層はバンクによって規定されたバンク開口部ごとに独立してアノード電極上に配置される。   The hole injection layer is independently disposed on the anode electrode for each bank opening defined by the bank.

有機EL層は正孔注入層上に配置され、正孔注入層と有機EL層との間には中間層が配置されていてもよい。   The organic EL layer may be disposed on the hole injection layer, and an intermediate layer may be disposed between the hole injection layer and the organic EL layer.

本発明の有機ELディスプレイパネルは、有機EL層上にカソード電極を有する。またカソード電極と有機EL層との間には電子注入層が配置されていてもよい。   The organic EL display panel of the present invention has a cathode electrode on the organic EL layer. An electron injection layer may be disposed between the cathode electrode and the organic EL layer.

カソード電極を形成した面にカバー材(封止材)を設けて有機ELディスプレイパネルを封止してもよい。カバー材により水分や酸素の浸入が抑制される。   A cover material (sealing material) may be provided on the surface on which the cathode electrode is formed to seal the organic EL display panel. Intrusion of moisture and oxygen is suppressed by the cover material.

本発明に有機ELディスプレイパネルに含まれる有機EL素子の構造は、上述した第1の例によって製造されるか第2の例によって製造されるかによって異なる。以下、本発明の有機ELディスプレイパネルに含まれる有機EL素子の構造を、(A)第1の例の製造方法によって製造された場合と、(B)第1の例の製造方法によって製造された場合とに分けて説明する。   The structure of the organic EL element included in the organic EL display panel according to the present invention differs depending on whether it is manufactured according to the first example or the second example. Hereinafter, the structure of the organic EL element included in the organic EL display panel of the present invention is manufactured by (A) the manufacturing method of the first example, and (B) manufactured by the manufacturing method of the first example. This will be explained separately for each case.

(A)第1の例の製造方法によって製造された場合
図5Eは、カソード電極および有機EL層を除去した、第1の例の製造方法によって製造された有機ELディスプレイパネルに含まれる有機EL素子の平面図である。図10は図5Eに示された有機EL素子の長軸に沿った断面図である。図10に示されるようにアノード電極103の長軸の一方の端と、バンク106との間には空隙107が形成されている。空隙107にはアノード電極103の下地層が露出していることから、正孔注入層109はアノード電極103の下地層と接する。
(A) When manufactured by the manufacturing method of the first example FIG. 5E shows an organic EL element included in the organic EL display panel manufactured by the manufacturing method of the first example, in which the cathode electrode and the organic EL layer are removed. FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view along the major axis of the organic EL element shown in FIG. 5E. As shown in FIG. 10, a gap 107 is formed between one end of the long axis of the anode electrode 103 and the bank 106. Since the base layer of the anode electrode 103 is exposed in the gap 107, the hole injection layer 109 is in contact with the base layer of the anode electrode 103.

(B)第2の例の製造方法によって製造された場合
図6Eはカソード電極および有機EL層を除去した、第2の例の製造方法によって製造された本発明の有機ELディスプレイパネルに含まれる有機EL素子の平面図である。図6Eに示されるように、正孔注入層109の長軸の一方の(塗布方向下流の)端部は、正孔注入層109の長軸の他方の(塗布方向上流の)端部よりも絞り込まれる。
(B) When manufactured by the manufacturing method of the second example FIG. 6E shows the organic contained in the organic EL display panel of the present invention manufactured by the manufacturing method of the second example, in which the cathode electrode and the organic EL layer are removed. It is a top view of EL element. As shown in FIG. 6E, one end (downstream in the application direction) of the long axis of the hole injection layer 109 is more than the other end (upstream in the application direction) of the long axis of the hole injection layer 109. It is narrowed down.

図6Cは図6Eの有機EL素子から正孔注入層を除去した有機EL素子の平面図である。図6Cに示されるように、アノード電極103の長軸の1の(塗布方向下流の)端部は、アノード電極103の長軸の他の(塗布方向上流の)端部よりも絞り込まれる。すなわち図6Cではアノード電極103は、アノード電極103の長軸の中点を通る短軸に関して非対称である。   FIG. 6C is a plan view of the organic EL element obtained by removing the hole injection layer from the organic EL element of FIG. 6E. As shown in FIG. 6C, one end (downstream in the application direction) of the long axis of the anode electrode 103 is narrowed more than the other end (upstream in the application direction) of the long axis of the anode electrode 103. That is, in FIG. 6C, the anode electrode 103 is asymmetric with respect to the minor axis passing through the midpoint of the major axis of the anode electrode 103.

本発明によって、PEDOT−PSSを含む正孔注入層を副画素の開口部ごとに配置する場合であっても、開口部内のアノード電極の全体が正孔注入層に覆われる有機ELディスプレイパネルが提供される。すなわち、本発明によって、各有機EL素子がショートすることが防止されることから、品質の高い有機ELディスプレイパネルを提供することができる。また歩留まりも向上される。   According to the present invention, there is provided an organic EL display panel in which the whole anode electrode in the opening is covered with the hole injection layer even when the hole injection layer including PEDOT-PSS is arranged for each opening of the subpixel. Is done. That is, according to the present invention, since each organic EL element is prevented from being short-circuited, a high-quality organic EL display panel can be provided. Also, the yield is improved.

従来の有機ELディスプレイパネルを示す図。The figure which shows the conventional organic EL display panel. 従来の有機ELディスプレイパネルの平面図。The top view of the conventional organic electroluminescent display panel. 正孔注入層の形成方法の1例を示す図。The figure which shows one example of the formation method of a positive hole injection layer. 本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法を示す図。The figure which shows the manufacturing method of the organic electroluminescent display panel of this invention. 本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法の第1の例を示す図。The figure which shows the 1st example of the manufacturing method of the organic electroluminescent display panel of this invention. 本発明の有機ELディスプレイパネルの製造方法の第2の例を示す図。The figure which shows the 2nd example of the manufacturing method of the organic electroluminescent display panel of this invention. 本発明の有機ELディスプレイパネルに含まれる副画素の平面図。The top view of the subpixel contained in the organic electroluminescence display panel of this invention. 本発明の有機ELディスプレイパネルに含まれる副画素の平面図。The top view of the subpixel contained in the organic electroluminescence display panel of this invention. 絶縁性無機膜を有する副画素の平面図。The top view of the subpixel which has an insulating inorganic film. 本発明の有機ELディスプレイパネルに含まれる有機EL素子の断面図。Sectional drawing of the organic EL element contained in the organic EL display panel of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 第1の電極層
3 第1のバンク
4 第2のバンク
5 正孔注入層
6 有機EL層
10 開口部
20 溝
30 液入口
40 液溜り部
101 基板
103 アノード電極
104 副画素
105 バンク開口部
106 バンク
107 空隙
108 無機絶縁膜
109 正孔注入層
201 ノズル
203 ノズルヘッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 1st electrode layer 3 1st bank 4 2nd bank 5 Hole injection layer 6 Organic EL layer 10 Opening 20 Groove 30 Liquid inlet 40 Liquid reservoir 101 Substrate 103 Anode electrode 104 Subpixel 105 Bank opening Part 106 bank 107 gap 108 inorganic insulating film 109 hole injection layer 201 nozzle 203 nozzle head

Claims (6)

マトリクス状に配置された開口部を規定するバンク、ならびに前記開口部内に配置された短軸および長軸を有するアノード電極を含む基板を準備するステップと、
1の前記開口部内に前記長軸に沿って、ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液の液滴を複数滴下して前記水溶液を前記アノード電極に塗布し、正孔注入層を形成するステップと、
を有する有機ELディスプレイパネルの製造方法であって、
前記開口部は、前記アノード電極の塗布方向下流の端と前記バンクとの間に空隙を有し、
前記水溶液は前記空隙にも塗布される、有機ELディスプレイパネルの製造方法。
Providing a substrate including banks defining openings arranged in a matrix, and an anode electrode having a short axis and a long axis arranged in the openings;
Forming a hole injection layer by dropping a plurality of droplets of an aqueous solution containing polyethylenedioxythiophene along the major axis in the opening of 1 and applying the aqueous solution to the anode electrode; and
An organic EL display panel manufacturing method comprising:
The opening has a gap between the bank and the downstream end in the application direction of the anode electrode,
The method for producing an organic EL display panel, wherein the aqueous solution is also applied to the gap.
マトリクス状に配置された開口部を規定するバンク、ならびに前記開口部内に配置された短軸および長軸を有するアノード電極を含む基板を準備するステップと、
1の前記開口部内に前記長軸に沿って、ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液の液滴を複数滴下して前記水溶液を前記アノード電極に塗布し、正孔注入層を形成するステップと、
を有する有機ELディスプレイパネルの製造方法であって、
前記アノード電極の塗布方向下流の端部は、前記アノード電極の塗布方向上流の端部よりも絞り込まれている、
有機ELディスプレイパネルの製造方法。
Providing a substrate including banks defining openings arranged in a matrix, and an anode electrode having a short axis and a long axis arranged in the openings;
Forming a hole injection layer by dropping a plurality of droplets of an aqueous solution containing polyethylenedioxythiophene along the major axis in the opening of 1 and applying the aqueous solution to the anode electrode; and
An organic EL display panel manufacturing method comprising:
The downstream end of the anode electrode in the application direction is narrowed down from the upstream end of the anode electrode in the application direction.
A method for producing an organic EL display panel.
基板上にマトリクス状に配置された開口部
前記開口部を規定するバンク、
前記開口部内に配置された、長軸および短軸を有するアノード電極、
前記開口部ごとに独立して配置され、前記アノード電極上に配置された正孔注入層、
前記正孔注入層上に配置された有機EL層、および
前記有機EL層上に設けられたカソード電極を有する有機ELディスプレイパネルであって、
前記開口部は前記アノード電極の前記長軸の一方の端と、前記バンクとの間に空隙を有する、有機ELディスプレイパネル。
Openings arranged in a matrix on the substrate banks defining the openings;
An anode electrode having a major axis and a minor axis disposed in the opening,
A hole injection layer disposed independently on each of the openings and disposed on the anode electrode;
An organic EL display panel having an organic EL layer disposed on the hole injection layer, and a cathode electrode provided on the organic EL layer,
The organic EL display panel, wherein the opening has a gap between one end of the major axis of the anode electrode and the bank.
基板上にマトリクス状に配置された開口部
前記開口部を規定するバンク、
前記開口部内に配置された、長軸および短軸を有するアノード電極、
前記開口部ごとに独立して配置され、前記アノード電極上に配置された正孔注入層、
前記正孔注入層上に配置された有機EL層、および
前記有機EL層上に設けられたカソード電極を有する有機ELディスプレイパネルであって、
前記アノード電極の前記長軸の一方の端部は、アノード電極の前記長軸の他方の端部よりも絞り込まれている、有機ELディスプレイパネル。
Openings arranged in a matrix on the substrate banks defining the openings;
An anode electrode having a major axis and a minor axis disposed in the opening,
A hole injection layer disposed independently on each of the openings and disposed on the anode electrode;
An organic EL display panel having an organic EL layer disposed on the hole injection layer, and a cathode electrode provided on the organic EL layer,
The organic EL display panel, wherein one end of the major axis of the anode electrode is narrowed down more than the other end of the major axis of the anode electrode.
前記バンクから前記開口部内にはみ出した絶縁性の無機膜をさらに有し、
前記開口部は前記アノード電極の前記長軸の一方の端と、前記絶縁性の無機膜との間に空隙を有する、請求項3に記載の有機ELディスプレイパネル。
An insulating inorganic film that protrudes from the bank into the opening;
The organic EL display panel according to claim 3, wherein the opening has a gap between one end of the major axis of the anode electrode and the insulating inorganic film.
前記バンクから前記開口部内にはみ出した絶縁性の無機膜をさらに有する、請求項4に記載の有機ELディスプレイパネル。
The organic EL display panel according to claim 4, further comprising an insulating inorganic film that protrudes from the bank into the opening.
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