JP2009302016A - Organic el display panel and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an organic EL display panel and a manufacturing method thereof.
有機ＥＬディスプレイパネルとは、有機化合物の電界発光を利用した発光素子を有するディスプレイパネルである。つまり、有機ＥＬディスプレイパネルは、アノード電極およびカソード電極、ならびに両電極の間に配置された電界発光する有機ＥＬ層を含む有機ＥＬ素子を有する。電界発光する有機ＥＬ層の材料は、低分子有機化合物の組み合わせ（ホスト材料とドーパント材料）と、高分子有機化合物とに大別されうる。電界発光する高分子有機化合物の例には、ＰＰＶと称されるポリフェニレンビニレンやその誘導体などが含まれる。 An organic EL display panel is a display panel having a light emitting element utilizing electroluminescence of an organic compound. In other words, the organic EL display panel has an organic EL element including an anode electrode and a cathode electrode, and an organic EL layer that is disposed between the electrodes and emits electroluminescence. Electroluminescent organic EL layer materials can be broadly classified into low molecular organic compound combinations (host material and dopant material) and high molecular organic compounds. Examples of the polymer organic compound that emits electroluminescence include polyphenylene vinylene called PPV and derivatives thereof.
高分子有機化合物を材料とした有機ＥＬ層は、比較的低電圧で駆動でき、消費電力が少なく、ディスプレイパネルの大画面化に対応しやすいことから、現在積極的に研究がなされている。また、高分子有機化合物を材料とした有機ＥＬ層はインクジェット法などの塗布法による作製が可能である。したがって、真空プロセスを使用する低分子有機ＥＬディスプレイよりも、高分子有機ＥＬディスプレイの生産性は顕著に高い。 An organic EL layer made of a polymer organic compound can be driven at a relatively low voltage, consumes little power, and is easy to cope with an increase in the screen size of a display panel. In addition, an organic EL layer made of a polymer organic compound can be manufactured by a coating method such as an inkjet method. Therefore, the productivity of the polymer organic EL display is significantly higher than that of the low molecular organic EL display using the vacuum process.
また、高分子有機ＥＬディスプレイは通常、アノード電極からの正孔を有機ＥＬ層に効率よく輸送するために、アノード電極と有機ＥＬ層との間に配置された正孔注入層を有する。正孔注入層の材料としては、塗布法による作製が可能な、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）をドープしたポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳと称される）や、その誘導体（共重合体など）などの水溶性高分子が用いられる。 The polymer organic EL display usually has a hole injection layer disposed between the anode electrode and the organic EL layer in order to efficiently transport holes from the anode electrode to the organic EL layer. As a material for the hole injection layer, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) doped with polystyrene sulfonic acid (PSS) (referred to as PEDOT-PSS), which can be produced by a coating method, or a derivative thereof Water-soluble polymers such as (copolymers) are used.
水溶性高分子からなる正孔注入層は、各副画素の開口部内のアノード電極上にこのような材料を含む水溶液を滴下し塗布することで形成されていた。正孔注入層の材料液を滴下する手段の１例にノズルを用いて正孔注入層の材料液を噴射して滴下する噴射式印刷方法がある（特許文献１参照）。 The hole injection layer made of a water-soluble polymer has been formed by dropping and applying an aqueous solution containing such a material on the anode electrode in the opening of each subpixel. One example of means for dropping the material liquid for the hole injection layer is a jet printing method in which the material liquid for the hole injection layer is sprayed and dropped using a nozzle (see Patent Document 1).
図１は特許文献１に示された、噴射式印刷方法による正孔注入層の形成方法を示す。図１に示される方法では、マトリクス状に配列された各副画素の開口部１８ａを規定するバンク１８を有する基板１０を準備する。開口部１８ａ内にはアノード電極が配置されている。そして、正孔注入層の材料液を吐出するノズルを複数有するノズルヘッド１３０を用いて開口部１８ａを走査し、開口部１８ａ内に正孔注入層の材料液を滴下していく。 FIG. 1 shows a method for forming a hole injection layer by a jet printing method disclosed in Patent Document 1. In the method shown in FIG. 1, a substrate 10 having a bank 18 that defines openings 18a of subpixels arranged in a matrix is prepared. An anode electrode is disposed in the opening 18a. Then, the opening 18a is scanned using the nozzle head 130 having a plurality of nozzles that discharge the material liquid for the hole injection layer, and the material liquid for the hole injection layer is dropped into the opening 18a.
また、基板上に配列された開口部の列の数は、一般的にノズルヘッドが有するノズルの数よりもはるかに大きいため、通常は、図１に示されるように、有機ＥＬディスプレイパネルを複数の開口部の列を有する領域ごとに分けて、開口部１８ａ内に正孔注入層を形成する。図１Ａは第１領域をノズルヘッド１３０で走査する様子を示し、図１Ｂは第１領域の走査後、第２領域をノズルヘッドで走査する様子を示す。
前述の通り、噴射式印刷方法により、基板上に配列された開口部に正孔注入層の材料液を塗布するには、基板をノズルヘッドで複数回走査しながら、インクを塗布していた。ところが、第１領域に含まれる開口部に正孔注入層の材料液の塗布が終わってから、第２領域に含まれる開口部を塗布しようとすると、第２領域に含まれる開口部のうち、第１領域に隣接する開口部内のアノード電極に充分に正孔注入層の材料液が塗布できず、アノード電極の一部が露出する場合があることが見出された。 As described above, in order to apply the material liquid of the hole injection layer to the openings arranged on the substrate by the jet printing method, the ink is applied while scanning the substrate a plurality of times with the nozzle head. However, after applying the hole injection layer material liquid to the opening included in the first region and then trying to apply the opening included in the second region, among the openings included in the second region, It has been found that the hole injection layer material liquid cannot be sufficiently applied to the anode electrode in the opening adjacent to the first region, and a part of the anode electrode may be exposed.
図２はこの現象をより詳細に示す。図２Ａに示すように正孔注入層の材料液１０４は開口部内のアノード電極１０３上に矢印Ｘに沿って複数滴下される。滴下された複数の正孔注入層１１１の材料液の液滴のうち、後に滴下された液滴は、図２Ｂに示されるように前に滴下された液滴に引っ張られて、正孔注入層１１１の材料液がアノード電極１０３全体に濡れ広がることができず、アノード電極の一部が露出することが分かった（図２Ｃ参照）。露出したアノード電極にはカソード電極が接触してしまうことから、有機ＥＬ素子をショートさせ、有機ＥＬディスプレイパネルの品質を著しく劣化させる。 FIG. 2 illustrates this phenomenon in more detail. As shown in FIG. 2A, a plurality of material liquids 104 for the hole injection layer are dropped along the arrow X onto the anode electrode 103 in the opening. Of the droplets of the material liquid of the plurality of dropped hole injection layers 111, the droplets dropped later are pulled by the previously dropped droplets as shown in FIG. It was found that 111 material liquid could not spread over the entire anode electrode 103 and a part of the anode electrode was exposed (see FIG. 2C). Since the cathode electrode comes into contact with the exposed anode electrode, the organic EL element is short-circuited, and the quality of the organic EL display panel is remarkably deteriorated.
これは、第１領域の走査によって第１領域に隣接する第２領域が、何らかの影響を受けていることを示す。その影響は、特に限定されず、例えば、１）第１領域の走査によって第１の領域に滴下された正孔注入層の材料液のうちの一部が、第２領域を汚染し、それが第２領域の開口部内での液滴の濡れ広がりを抑制しているとも考えられ、２）第１領域の走査により、バンクを構成する成分の一部が、第２領域を汚染して、それが第２領域の開口部内での液滴の濡れ広がりを抑制しているとも考えられる。 This indicates that the second region adjacent to the first region is affected by the scanning of the first region. The influence is not particularly limited. For example, 1) A part of the material liquid of the hole injection layer dripped onto the first region by the scanning of the first region contaminates the second region. It is also considered that wetting and spreading of the droplets in the opening of the second region are suppressed. 2) By scanning the first region, a part of the components constituting the bank contaminates the second region and Is considered to suppress the wetting and spreading of the droplets in the opening of the second region.
第２領域を汚染するバンクを構成する成分とは、例えばフッ素を含む成分でありうる。バンクは塗布された機能層の材料液をバンクによって規定された特定の領域に保持する必要がある。そのため、バンクの濡れ性が低いことが求められる。濡れ性を下げるために、バンク表面をフッ素ガスプラズマで処理したり、バンク材料にフッ素含有材料（例えばフッ素含有樹脂）を用いたりすることがある。このフッ素を含む成分が、第１領域を走査することにより、第２領域内の開口部を汚染するとも考えられる。 The component constituting the bank that contaminates the second region can be, for example, a component containing fluorine. The bank needs to hold the applied functional layer material liquid in a specific area defined by the bank. Therefore, it is required that the bank has low wettability. In order to reduce wettability, the bank surface may be treated with fluorine gas plasma, or a fluorine-containing material (for example, fluorine-containing resin) may be used as the bank material. It is considered that the fluorine-containing component contaminates the opening in the second region by scanning the first region.
いずれにしても本発明は、ノズルヘッドで基板を複数回走査することにより、全ての副画素の開口部内に正孔注入層の材料液を塗布するときに、全ての開口部のアノード電極全面に確実に正孔注入層の材料液を塗布することを目的とする。 In any case, according to the present invention, when the material liquid of the hole injection layer is applied to the openings of all the subpixels by scanning the substrate with the nozzle head a plurality of times, the entire surface of the anode electrode of all the openings is formed. The object is to reliably apply the material liquid of the hole injection layer.
本発明の第１は以下に記載する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法に関する。
［１］ 互いに平行であり、２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域、前記開口部を規定するバンク、および前記ライン領域のライン方向と平行な長軸を有し、前記開口部内に配置されたアノード電極を有する基板を準備するステップ；ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液を吐出する２以上の吐出ノズルを有するノズルヘッドを用いて、前記ライン領域を２以上有する第１領域を、前記長軸方向に走査し、前記第１領域に含まれる前記開口部内に前記長軸に沿って前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップ；および前記ノズルヘッドを用いて、前記第１領域に隣接し前記ライン領域を２以上有する第２領域を、前記長軸方向に走査し、前記第２領域に含まれる前記開口部内に前記長軸に沿って前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップ；を有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法であって、前記第２領域に含まれるライン領域のうち、前記第１の領域に隣接するライン領域が有する各開口部に配置された前記アノード電極の前記走査方向下流の端部は、前記アノード電極の前記走査方向上流の端部よりも、絞り込まれている、有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
［２］ 互いに平行であり、２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域、前記開口部を規定するバンク、および前記ライン領域のライン方向と平行な長軸を有し、前記開口部内に配置されたアノード電極を有する基板を準備するステップ；ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液を吐出する２以上の吐出ノズルを有するノズルヘッドを用いて、前記ライン領域を２以上有する第１領域を、前記長軸方向に走査し、前記第１領域に含まれる前記開口部内に前記長軸に沿って前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップ；および前記ノズルヘッドを用いて、前記第１領域に隣接し前記ライン領域を２以上有する第２領域を、前記長軸方向に走査し、前記第２領域に含まれる前記開口部内に前記長軸に沿って前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップ；を有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法であって、前記第２領域に含まれるライン領域のうち、前記第１の領域に隣接するライン領域が有する各開口部は、前記アノード電極の前記走査方向下流の端と前記バンクとの間に空隙を有し、前記水溶液は前記空隙にも塗布される、有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
1st of this invention is related with the manufacturing method of the organic electroluminescent display panel described below.
[1] having a plurality of line regions parallel to each other and having two or more openings arranged in a line, a bank defining the openings, and a long axis parallel to the line direction of the line regions, Preparing a substrate having an anode electrode disposed in the opening; using a nozzle head having two or more discharge nozzles for discharging an aqueous solution containing polyethylenedioxythiophene, a first region having two or more line regions; Applying the aqueous solution onto the anode electrode by scanning in the major axis direction, dropping a plurality of droplets of the aqueous solution along the major axis into the opening included in the first region; and Using the nozzle head, a second region adjacent to the first region and having two or more line regions is scanned in the major axis direction, and the opening included in the second region A method of manufacturing an organic EL display panel, comprising: dropping a plurality of droplets of the aqueous solution along the major axis into a portion and applying the aqueous solution on the anode electrode; Among the line regions that are adjacent to the first region, the downstream end of the anode electrode that is disposed in each opening of the line region is more than the upstream end of the anode electrode in the scanning direction. Is also narrowed down the manufacturing method of the organic EL display panel.
[2] A plurality of line regions that are parallel to each other and in which two or more openings are arranged in a line, a bank that defines the openings, and a long axis that is parallel to the line direction of the line regions, Preparing a substrate having an anode electrode disposed in the opening; using a nozzle head having two or more discharge nozzles for discharging an aqueous solution containing polyethylenedioxythiophene, a first region having two or more line regions; Applying the aqueous solution onto the anode electrode by scanning in the major axis direction, dropping a plurality of droplets of the aqueous solution along the major axis into the opening included in the first region; and Using the nozzle head, a second region adjacent to the first region and having two or more line regions is scanned in the major axis direction, and the opening included in the second region A method of manufacturing an organic EL display panel, comprising: dropping a plurality of droplets of the aqueous solution along the major axis into a portion and applying the aqueous solution on the anode electrode; Each of the line regions adjacent to the first region has a gap between the end of the anode electrode downstream in the scanning direction and the bank, and the aqueous solution is the gap. The manufacturing method of the organic electroluminescent display panel applied also to.
本発明の第２は以下に記載する有機ＥＬディスプレイパネルに関する。
［３］ 互いに平行であり、２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域、前記開口部を規定するバンク、前記ライン領域のライン方向に平行な長軸を有し、前記開口部内に配置されたアノード電極、前記開口部ごとに独立して配置され、前記アノード電極上に配置された正孔注入層、前記正孔注入層上に配置された有機ＥＬ層、前記有機ＥＬ層上に設けられたカソード電極を有する有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記ライン領域のうち、所定のインターバルごとのライン領域が有する各開口部に配置された前記アノード電極の長軸の一方の端部は、前記アノード電極の他方の端部よりも、絞り込まれている、有機ＥＬディスプレイパネル。
［４］ 互いに平行であり、２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域、前記開口部を規定するバンク、前記ライン領域のライン方向に平行な長軸を有し、前記開口部内に配置されたアノード電極、前記開口部ごとに独立して配置され、前記アノード電極上に配置された正孔注入層、前記正孔注入層上に配置された有機ＥＬ層、前記有機ＥＬ層上に設けられたカソード電極を有する有機ＥＬディスプレイパネルであって、前記ライン領域のうち、所定のインターバルごとのライン領域が有する各開口部は、前記アノード電極の前記長軸の一方の端と、前記バンクとの間に空隙を有する、有機ＥＬディスプレイパネル。
The second of the present invention relates to the organic EL display panel described below.
[3] A plurality of line regions parallel to each other and having two or more openings arranged in a line, a bank defining the openings, a long axis parallel to the line direction of the line regions, and the openings An anode electrode disposed in a portion, a hole injection layer disposed independently on each of the openings and disposed on the anode electrode, an organic EL layer disposed on the hole injection layer, and the organic EL layer An organic EL display panel having a cathode electrode provided thereon, wherein one end portion of the major axis of the anode electrode disposed in each opening portion of the line region of each predetermined interval among the line regions Is an organic EL display panel that is narrower than the other end of the anode electrode.
[4] A plurality of line regions parallel to each other and having two or more openings arranged in a line, a bank defining the openings, a long axis parallel to the line direction of the line regions, and the openings An anode electrode disposed in a portion, a hole injection layer disposed independently on each of the openings and disposed on the anode electrode, an organic EL layer disposed on the hole injection layer, and the organic EL layer An organic EL display panel having a cathode electrode provided thereon, wherein each of the openings of the line region for each predetermined interval among the line regions has one end of the major axis of the anode electrode, An organic EL display panel having a gap with the bank.
本発明によれば、ノズルヘッドで基板を複数回走査することにより、全ての副画素の開口部内に正孔注入層の材料液を塗布する場合であっても、全ての開口部のアノード電極全面に確実に正孔注入層の材料液を塗布することができる。したがって本発明によれば有機ＥＬ素子のショートを防止することができ、品質の高い有機ＥＬディスプレイパネルを提供することができる。 According to the present invention, even when the material liquid of the hole injection layer is applied to the openings of all the subpixels by scanning the substrate a plurality of times with the nozzle head, the entire anode electrode in all the openings It is possible to reliably apply the material liquid for the hole injection layer. Therefore, according to the present invention, a short circuit of the organic EL element can be prevented, and a high-quality organic EL display panel can be provided.
１．有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法について
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、１）マトリクス状に配置された開口部を規定するバンクならびに開口部内に配置された短軸および長軸を有するアノード電極を含む基板を準備するステップ、および２）ノズルヘッドを用いて、基板上を複数回走査し、基板上の各開口部内にアノード電極の長軸に沿って、正孔注入層の材料液の液滴を複数滴下して正孔注入層の材料液をアノード電極に塗布し、正孔注入層を形成するステップ、を有する。
1. About the manufacturing method of an organic EL display panel The manufacturing method of the organic EL display panel of the present invention includes: 1) a bank defining openings arranged in a matrix, and an anode electrode having a short axis and a long axis arranged in the openings And 2) scanning the substrate a plurality of times using a nozzle head, and in each of the openings on the substrate along the major axis of the anode electrode, the liquid material solution of the hole injection layer Dropping a plurality of droplets and applying the material liquid of the hole injection layer to the anode electrode to form the hole injection layer.
有機ＥＬディスプレイパネルにおける各画素はＲＧＢの３つの「副画素」からなる。すなわちＲＧＢの３つの副画素が１つの画素を構成する。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、各副画素の長軸は２７０〜４８０μｍであり、短軸は９０〜１６０μｍである。 Each pixel in the organic EL display panel is composed of three “sub-pixels” of RGB. That is, three subpixels of RGB constitute one pixel. In the organic EL display panel of the present invention, the major axis of each subpixel is 270 to 480 μm, and the minor axis is 90 to 160 μm.
また、「開口部」とは各副画素内においてバンクによって規定された正孔注入層の材料液が塗布される領域を意味する。以下、バンクによって規定された「開口部」を「バンク開口部」という。 In addition, the “opening” means a region where the material liquid of the hole injection layer defined by the bank is applied in each sub-pixel. Hereinafter, the “opening” defined by the bank is referred to as “bank opening”.
本明細書では、基板上のノズルヘッドを用いて１回で走査される領域を「走査領域」という。本発明では、基板は複数回走査されることから、基板は複数の走査領域を有する。また、基板上の最初に走査される走査領域を「第１走査領域」という。第１走査領域の次に走査される領域を「第２走査領域」という。さらに基板はバンク開口部の数に応じて、「第３走査領域」、「第４走査領域」・・・・「第ｎ走査領域」を有していてもよい。 In this specification, an area scanned at once using a nozzle head on a substrate is referred to as a “scanning area”. In the present invention, since the substrate is scanned a plurality of times, the substrate has a plurality of scanning regions. The first scanning area on the substrate that is scanned is referred to as a “first scanning area”. An area scanned after the first scanning area is referred to as a “second scanning area”. Furthermore, the substrate may have “third scanning region”, “fourth scanning region”,... “Nth scanning region”, depending on the number of bank openings.
各走査領域は、ライン領域を複数有する。ライン領域とはバンク開口部がライン状に配置された領域を意味する。走査領域内のライン領域の数はノズルヘッドが有するノズルの数によって適宜選択される。 Each scanning region has a plurality of line regions. The line area means an area where bank openings are arranged in a line. The number of line regions in the scanning region is appropriately selected depending on the number of nozzles included in the nozzle head.
また、本明細書では、第２走査領域が有するライン領域であって、第１走査領域に隣接するライン領域を含む領域を「第１境界ライン領域」という。また、「第１境界ライン領域」は第２走査領域が有するライン領域であって、第１走査領域に隣接するライン領域と、当該第１走査領域に隣接するライン領域から連続する１〜４列のライン領域をさらに有していてもよい。すなわち「第１境界ライン領域」に含まれるライン領域は１〜５列であることが好ましい。
同様に第（ｎ＋１）走査領域が有するライン領域であって、第ｎ走査領域に隣接するライン領域を含む領域を「第ｎ境界ライン領域」という。
Further, in this specification, a line region included in the second scanning region and including a line region adjacent to the first scanning region is referred to as a “first boundary line region”. Further, the “first boundary line region” is a line region included in the second scanning region, and a line region adjacent to the first scanning region and 1 to 4 columns continuous from the line region adjacent to the first scanning region. The line area may be further included. That is, it is preferable that the line area included in the “first boundary line area” is 1 to 5 columns.
Similarly, a line region included in the (n + 1) th scanning region and including a line region adjacent to the nth scanning region is referred to as an “nth boundary line region”.
本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法は、好ましい第１の例および好ましい第２の例を含む。以下、図面を用いて第１の例と第２の例とに分けて本発明の有機ＥＬディスプレイの製造方法について説明する。 The manufacturing method of the organic EL display of the present invention includes a preferred first example and a preferred second example. Hereinafter, the manufacturing method of the organic EL display of the present invention will be described by dividing it into a first example and a second example with reference to the drawings.
（Ａ）本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造方法の第１の例について
本発明の製造方法の第１の例は、１）基板を準備する第１ステップ、２）基板上にアノード電極を形成する第２ステップ、３）バンク開口部を規定するバンクを形成する第３ステップ、４）正孔注入層の材料液を吐出するノズルを複数有するノズルヘッドで基板を走査領域ごとに走査する第４ステップを有する。
(A) First Example of Organic EL Display Panel Manufacturing Method of the Present Invention The first example of the manufacturing method of the present invention is as follows: 1) First step of preparing a substrate, 2) Forming an anode electrode on the substrate 2nd step, 3) 3rd step of forming a bank for defining the bank opening, and 4) 4th step of scanning the substrate for each scanning region with a nozzle head having a plurality of nozzles for discharging the material liquid of the hole injection layer. Have
また、第１ステップと第２ステップとの間に絶縁性の無機膜を形成するステップを有していてもよい。 In addition, an insulating inorganic film may be formed between the first step and the second step.
１）第１ステップでは、基板１０１を準備する。基板１０１の材料は、有機ＥＬディスプレイパネルがボトムエミッション型か、トップエミッション型かによって異なる。例えば、ボトムエミッション型の場合、基板１０１は、透明であることが求められる。したがってボトムエミッション型の場合、基板１０１の材料の例にはガラスや透明樹脂などが含まれる。一方、トップエミッション型の場合、基板１０１が透明である必要はない。したがってトップエミッション型の場合、基板１０１の材料は絶縁性であれば任意である。 1) In the first step, the substrate 101 is prepared. The material of the substrate 101 differs depending on whether the organic EL display panel is a bottom emission type or a top emission type. For example, in the case of a bottom emission type, the substrate 101 is required to be transparent. Therefore, in the case of the bottom emission type, examples of the material of the substrate 101 include glass and transparent resin. On the other hand, in the case of the top emission type, the substrate 101 does not need to be transparent. Therefore, in the case of the top emission type, the material of the substrate 101 is arbitrary as long as it is insulative.
２）第２ステップ（図３Ａ）では、基板１０１上にアノード電極１０３（厚さ１０〜１００ｎｍ）を配置する。アノード電極１０３は、例えば、スパッタリング法などにより、電極材料の膜を基板１０１上に形成し；電極材料の膜をレジストによりマスキングし；エッチングしてパターニングすることにより形成される。
ボトムエミッション型の場合、アノード電極１０３は、透明電極であることが求められることから、アノード電極１０３の材料の例は、ＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）やＩＺＯ（酸化インジウム・亜鉛）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）などを含む。
トップエミッション型の場合、アノード電極１０３に光反射性が求められることから、アノード電極１０３の材料の例は、銀を含む合金、より具体的には銀−パラジウム−銅合金（ＡＰＣとも称する）や銀−ルテニウム−金合金（ＡＲＡとも称する）、ＭｏＣｒ（モリブデンクロム）、ＮｉＣｒ（ニッケルクロム）などを含む。
2) In the second step (FIG. 3A), an anode electrode 103 (thickness 10 to 100 nm) is disposed on the substrate 101. The anode electrode 103 is formed by, for example, forming a film of an electrode material on the substrate 101 by sputtering or the like; masking the film of the electrode material with a resist; and etching and patterning.
In the case of the bottom emission type, since the anode electrode 103 is required to be a transparent electrode, examples of the material of the anode electrode 103 include ITO (indium tin oxide), IZO (indium oxide zinc), and ZnO (oxide oxidation). Zinc) and the like.
In the case of the top emission type, since the anode electrode 103 is required to have light reflectivity, an example of the material of the anode electrode 103 is an alloy containing silver, more specifically, a silver-palladium-copper alloy (also referred to as APC), Including silver-ruthenium-gold alloy (also referred to as ARA), MoCr (molybdenum chromium), NiCr (nickel chromium) and the like.
また後述する正孔注入層の材料液がアノード電極表面によく馴染むよう、アノード電極を覆うＩＴＯ膜を形成してもよい。 In addition, an ITO film covering the anode electrode may be formed so that the material liquid for the hole injection layer described later is well adapted to the anode electrode surface.
３）第３ステップ（図３Ｂ）ではバンクを形成する。バンクには、各副画素のバンク開口部１０９を規定するバンク１０５が含まれ、さらにライン状のバンク１０６も含まれうる。ライン状のバンク１０６の頂点は、バンク１０５の頂点よりも高い。バンク１０５は、正孔注入層の材料液が塗布されるバンク開口部１０９を規定し、ライン状のバンク１０６は、例えば有機ＥＬ層の材料液が塗布されるライン領域１０７を規定することができる。
図３Ｂに示されるように基板１０１は、互いに平行な複数のライン領域１０７を有し、かつライン領域のそれぞれには、複数のバンク開口部１０９が列状に配置されている。複数のバンク開口部１０９が列状に配置されたライン領域１０７は、図３Ｂに示すようにライン状のバンク１０６によって区分されていてもよい。図３Ｂに示すようにライン状のバンク１０６のライン方向は互いに平行である。
3) In the third step (FIG. 3B), a bank is formed. The bank includes a bank 105 that defines a bank opening 109 of each subpixel, and may further include a line-shaped bank 106. The vertex of the line-shaped bank 106 is higher than the vertex of the bank 105. The bank 105 can define the bank opening 109 where the material liquid for the hole injection layer is applied, and the line-shaped bank 106 can define the line region 107 where the material liquid for the organic EL layer is applied, for example. .
As shown in FIG. 3B, the substrate 101 has a plurality of line regions 107 parallel to each other, and a plurality of bank openings 109 are arranged in rows in each of the line regions. The line region 107 in which the plurality of bank openings 109 are arranged in a row may be divided by a line-shaped bank 106 as shown in FIG. 3B. As shown in FIG. 3B, the line directions of the line-shaped banks 106 are parallel to each other.
バンクは、例えばフォトリソグラフィ技術や凹版印刷、凸版印刷などによって形成されうる。バンクの高さは０．５〜１μｍであることが好ましい。バンクの材料は絶縁性であれば任意であるが、絶縁性樹脂（ポリイミドなど）であることが好ましい。さらに、第１のバンクの表面は濡れ性が低い（例えば撥水性である）ことが好ましい。そのため、バンクの材料をフッ素樹脂を含む絶縁性樹脂としてもよいし、バンクの表面をフッ素系ガスプラズマでフッ素化させてもよい。それにより、濡れ性を低下させることができる。 The bank can be formed by, for example, photolithography, intaglio printing, letterpress printing, or the like. The height of the bank is preferably 0.5 to 1 μm. The material of the bank is arbitrary as long as it is insulative, but is preferably an insulating resin (polyimide or the like). Furthermore, it is preferable that the surface of the first bank has low wettability (for example, water repellency). Therefore, the bank material may be an insulating resin containing a fluororesin, or the bank surface may be fluorinated with fluorine-based gas plasma. Thereby, wettability can be reduced.
各バンク開口部１０９内のアノード電極１０３は長軸および短軸を有する。すなわちアノード電極は１方向に長い形状を有し、楕円形であってもよい。アノード電極１０３の長軸はライン領域１０７のライン方向と平行であることが好ましい。バンク開口部１０９内のアノード電極１０３の長軸の長さは、２２０〜３９０μｍであり、アノード電極の短軸は７０〜１２５μｍであることが好ましい。 The anode electrode 103 in each bank opening 109 has a major axis and a minor axis. That is, the anode electrode has a shape that is long in one direction and may be elliptical. The major axis of the anode electrode 103 is preferably parallel to the line direction of the line region 107. The length of the major axis of the anode electrode 103 in the bank opening 109 is preferably 220 to 390 μm, and the minor axis of the anode electrode is preferably 70 to 125 μm.
本発明の製造方法の第１の例では、所定のバンク開口部内のアノード電極の長軸方向の一方の端部、具体的には、後述するノズルヘッドの走査方向（以下単に「走査方向」という）下流の端部が、絞り込まれていることを特徴とする。ここで「絞り込む」とは、アノード電極の走査方向下流の端部を走査方向上流の端部よりも長軸方向に縮めたり（図６Ａ参照）、アノード電極の走査方向下流の端部を走査方向上流の端部よりも短軸方向に狭くし、アノード電極の走査方向下流の端部の曲率を大きくしたりすることを含む（図６Ｂ参照）。このように本発明の製造方法の第１の例では、所定の各バンク開口部内に配置されたアノード電極１０３’を、アノード電極の長軸Ｙの中点を通る短軸Ｚに関して非対称とする。 In the first example of the manufacturing method of the present invention, one end in the major axis direction of the anode electrode in a predetermined bank opening, specifically, a nozzle head scanning direction (to be referred to as “scanning direction” hereinafter) will be described. ) The downstream end is narrowed down. Here, “narrowing” means that the end of the anode electrode downstream in the scanning direction is contracted in the longer axis direction than the upstream end of the scanning direction (see FIG. 6A), or the end of the anode electrode downstream in the scanning direction is scanned. Including narrowing in the minor axis direction than the upstream end and increasing the curvature of the downstream end of the anode electrode in the scanning direction (see FIG. 6B). As described above, in the first example of the manufacturing method of the present invention, the anode electrode 103 ′ disposed in each predetermined bank opening is asymmetric with respect to the minor axis Z passing through the midpoint of the major axis Y of the anode electrode.
アノード電極１０３’の走査方向下流の端部を走査方向上流の端部よりも長軸方向に縮める場合（図６Ａ参照）アノード電極の走査方向下流の端部は走査方向上流の端部よりも１０〜２５μｍ縮めることが好ましい。 In the case where the end of the anode electrode 103 ′ downstream in the scanning direction is contracted in the longer axis direction than the end upstream of the scanning direction (see FIG. 6A), the end of the anode electrode downstream in the scanning direction is 10 times higher than the upstream end of the scanning direction. It is preferable to shrink by ~ 25 μm.
アノード電極１０３’の走査方向下流の端部を走査方向上流の端部よりも短軸方法に狭くする場合（図６Ｂ参照）、アノード電極の走査方向下流の端部を走査方向上流の端部よりも１０〜２５μｍ短軸方向に狭くすることが好ましい。 When the end portion of the anode electrode 103 ′ downstream in the scanning direction is narrower than the end portion upstream of the scanning direction by the short axis method (see FIG. 6B), the end portion of the anode electrode downstream in the scanning direction is more than the end portion upstream of the scanning direction. Is preferably narrowed in the direction of the short axis of 10 to 25 μm.
本発明の製造方法の第１の例では、このように走査方向下流の端部が絞りこまれたアノード電極１０３’が、境界ライン領域が有するバンク開口部１０９’内に配置されることを特徴とする。 The first example of the manufacturing method of the present invention is characterized in that the anode electrode 103 ′ whose end portion downstream in the scanning direction is thus narrowed is disposed in the bank opening 109 ′ included in the boundary line region. And
図５Ａは図３Ｂの領域ａの拡大図である。図５Ａに示すように、第１境界ライン領域１０７ａが有するバンク開口部１０９’内に配置されたアノード電極１０３’の走査方向Ｘ下流の端部は、アノード電極１０３’の走査方向Ｘ上流の端部よりも絞り込まれている。 FIG. 5A is an enlarged view of region a in FIG. 3B. As shown in FIG. 5A, the end of the anode electrode 103 ′ disposed in the bank opening 109 ′ of the first boundary line region 107a downstream in the scanning direction X is the end of the anode electrode 103 ′ upstream of the scanning direction X. It is narrower than the part.
アノード電極１０３’の走査方向下流の端部を絞り込むには、アノード電極１０３’自体を走査方向下流の端部が絞り込まれるようにパターニングしてもよいし；アノード電極１０３’自体は任意の形状にパターニングし、バンク１０５によって、バンク開口部１０９’に露出するアノード電極１０３’の走査方向下流の端部が絞り込まれるようにパターニングしてもよい。 In order to narrow down the downstream end of the anode electrode 103 ′ in the scanning direction, the anode electrode 103 ′ itself may be patterned so that the downstream end in the scanning direction is narrowed down; Patterning may be performed such that the bank 105 narrows down the downstream end of the anode electrode 103 ′ exposed in the bank opening 109 ′ in the scanning direction.
４）第４ステップは、ｉ）第１走査領域１１３ａを、正孔注入層の材料液を吐出するノズル２０１を複数有するノズルヘッド２０３で走査し、第１走査領域１１３ａが有する各バンク開口部１０９内に配置されたアノード電極１０３に、正孔注入層の材料液を塗布するステップ（図４Ａ参照）、ｉｉ）第２走査領域１１３ｂを、ノズルヘッド２０３で走査し、第２走査領域１１３ｂが有する各バンク開口部内に配置されたアノード電極１０３’、１０３に、正孔注入層の材料液を塗布するステップ（図４Ｂ参照）、を含む。 4) In the fourth step, i) the first scanning region 113a is scanned with the nozzle head 203 having a plurality of nozzles 201 for discharging the material liquid of the hole injection layer, and each bank opening 109 included in the first scanning region 113a is scanned. A step of applying the material liquid of the hole injection layer to the anode electrode 103 disposed therein (see FIG. 4A), ii) the second scanning region 113b is scanned by the nozzle head 203, and the second scanning region 113b has A step of applying a material liquid of a hole injection layer to the anode electrodes 103 ′ and 103 disposed in each bank opening (see FIG. 4B).
ステップｉ）では、第１走査領域１１３ａをノズルヘッド２０３で走査し、第１走査領域１１３ａが有する各バンク開口部１０９内に、アノード電極１０３の長軸に沿って正孔注入層の材料液の液滴を複数滴下し、アノード電極１０３に正孔注入層の材料液を塗布する（図４Ａ）。 In step i), the first scanning region 113a is scanned by the nozzle head 203, and the material liquid of the hole injection layer is formed along the major axis of the anode electrode 103 in each bank opening 109 of the first scanning region 113a. A plurality of droplets are dropped, and a material liquid for the hole injection layer is applied to the anode electrode 103 (FIG. 4A).
正孔注入層の材料液は、溶媒としての水および正孔注入材料を含む。正孔注入材料の例には、ポリエチレンスルホン酸をドープしたポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳと称される）や、その誘導体（共重合体など）が含まれる。図４Ｃに示されるように本発明では正孔注入層１１１は、各副画素のバンク開口部ごとに形成される。 The material liquid for the hole injection layer contains water as a solvent and a hole injection material. Examples of the hole injection material include poly (3,4-ethylenedioxythiophene) doped with polyethylene sulfonic acid (referred to as PEDOT-PSS) and derivatives thereof (such as copolymers). As shown in FIG. 4C, in the present invention, the hole injection layer 111 is formed for each bank opening of each subpixel.
バンク開口部１０９に滴下される正孔注入層の材料液の量は、バンク開口部１０９の単位面積（９６００μｍ２）あたり２４０〜３６０pｌであることが好ましい。 The amount of the material liquid of the hole injection layer dropped into the bank opening 109 is preferably 240 to 360 pl per unit area (9600 μm 2 ) of the bank opening 109.
また、滴下される正孔流入層の材料液の液滴の一滴の容量は２〜２０ｐｌであることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the capacity | capacitance of one drop of the material liquid droplet of the hole inflow layer dripped is 2-20pl.
正孔注入層の材料液の液滴をアノード電極１０３の長軸に沿って滴下するインターバルは５〜１２μｍであることが好ましい。 The interval at which the droplet of the material liquid of the hole injection layer is dropped along the long axis of the anode electrode 103 is preferably 5 to 12 μm.
図５Ｂ〜図５Ｃは、図４Ａの領域ａの拡大図であり、第１走査領域１１３ａが有する１のバンク開口部１０９内のアノード電極１０３に正孔注入層の材料液が塗布される様子を示す。以下図５を用いて、アノード電極１０３に正孔注入層の材料液を塗布する方法について説明する。 5B to 5C are enlarged views of the region a in FIG. 4A, and the state in which the material liquid for the hole injection layer is applied to the anode electrode 103 in one bank opening 109 of the first scanning region 113 a. Show. Hereinafter, a method for applying the material liquid for the hole injection layer to the anode electrode 103 will be described with reference to FIG.
まず、第１走査領域１１３ａをノズルヘッド２０３で走査すると、ノズル２０１が吐出する正孔注入層の材料液の液滴が、アノード電極１０３の長軸に沿ってバンク開口部１０９内に複数滴下される（図５Ｂ参照）。図５の矢印Ｘは、ノズルヘッド２０３の走査方向を示す。ノズルヘッド２０３の走査方向はアノード電極１０３の長軸と平行であることが好ましい。滴下された正孔注入層の材料液の液滴は、バンク開口部１０９内に広がり、アノード電極に正孔注入層の材料液が塗布される（図５Ｃ参照）。その後、正孔注入層の材料液を乾燥させることで正孔注入層１１１が形成される。
上記工程を第１走査領域１１３ａが有する各バンク開口部１０９で行うことで、第１走査領域１１３ａが有する各バンク開口部１０９内に正孔注入層１１１が形成される。
First, when the first scanning region 113 a is scanned with the nozzle head 203, a plurality of droplets of the material liquid of the hole injection layer discharged from the nozzle 201 are dropped into the bank opening 109 along the long axis of the anode electrode 103. (See FIG. 5B). An arrow X in FIG. 5 indicates the scanning direction of the nozzle head 203. The scanning direction of the nozzle head 203 is preferably parallel to the major axis of the anode electrode 103. The dropped liquid droplet of the hole injection layer material spreads into the bank opening 109, and the hole injection layer material liquid is applied to the anode electrode (see FIG. 5C). Thereafter, the hole injection layer 111 is formed by drying the material liquid of the hole injection layer.
By performing the above process in each bank opening 109 included in the first scanning region 113a, the hole injection layer 111 is formed in each bank opening 109 included in the first scanning region 113a.
ステップｉｉ）では、第２走査領域１１３ｂをノズルヘッド２０３でＸ方向に走査し、第２走査領域１１３ｂが有する各バンク開口部内に、アノード電極の長軸に沿って正孔注入層の材料液の液滴を複数滴下し、アノード電極１０３、１０３’に正孔注入層の材料液を塗布する（図４Ｂ）。 In step ii), the second scanning region 113b is scanned in the X direction by the nozzle head 203, and the material liquid of the hole injection layer is formed along the major axis of the anode electrode in each bank opening of the second scanning region 113b. A plurality of droplets are dropped, and a material liquid for the hole injection layer is applied to the anode electrodes 103 and 103 ′ (FIG. 4B).
上述のように第２走査領域１１３ｂは、第１走査領域１１３ａに隣接する第１境界ライン領域１０７ａを有する。本発明の製造方法の第１の例では、境界ライン領域に含まれるライン領域は１列である例について説明するが、境界ライン領域に含まれるライン領域は１〜５列であってもよい。
図５Ｄ〜図５Ｅは、図４Ｂの領域ａの拡大図である。図５Ｄ〜図５Ｅには、第１境界ライン領域１０７ａが有する１のバンク開口部１０９’内に配置されたアノード電極１０３’に、正孔注入層の材料液が塗布される様子が示される。上述のように、アノード電極１０３’の走査方向下流の端部は絞り込まれている。以下図５を用いて、アノード電極１０３’に正孔注入層の材料液を塗布する方法について説明する。
As described above, the second scanning region 113b has the first boundary line region 107a adjacent to the first scanning region 113a. In the first example of the manufacturing method of the present invention, an example in which the line area included in the boundary line area is one column will be described. However, the line area included in the boundary line area may be 1 to 5 columns.
5D to 5E are enlarged views of region a in FIG. 4B. 5D to 5E show a state in which the hole injection layer material liquid is applied to the anode electrode 103 ′ disposed in one bank opening 109 ′ of the first boundary line region 107a. As described above, the downstream end of the anode electrode 103 ′ in the scanning direction is narrowed down. Hereinafter, a method of applying the material liquid for the hole injection layer to the anode electrode 103 ′ will be described with reference to FIG.
まず、第２走査領域１１３ｂをノズルヘッド２０３で走査すると、ノズル２０１が吐出する正孔注入層の材料液の液滴が、アノード電極１０３’の長軸に沿ってバンク開口部１０９’内に複数滴下される（図５Ｄ参照）。図中の矢印Ｘはノズルヘッドの２０３走査方向を示す。滴下された正孔注入層の材料液の液滴は、バンク開口部１０９’内に広がり、アノード電極１０３’に正孔注入層の材料液が塗布される（図５Ｅ参照）。その後、正孔注入層の材料液を乾燥させることでバンク開口部１０９’内に正孔注入層１１１’が形成される。 First, when the second scanning region 113b is scanned by the nozzle head 203, a plurality of liquid droplets of the material liquid of the hole injection layer ejected by the nozzle 201 are placed in the bank opening 109 ′ along the long axis of the anode electrode 103 ′. It is dripped (refer FIG. 5D). An arrow X in the drawing indicates the 203 scanning direction of the nozzle head. The dropped liquid droplet of the hole injection layer material spreads into the bank opening 109 ′, and the hole injection layer material liquid is applied to the anode electrode 103 ′ (see FIG. 5E). Thereafter, the hole injection layer 111 ′ is formed in the bank opening 109 ′ by drying the material liquid of the hole injection layer.
従来の有機ＥＬディスプレイパネルでは、ノズルヘッドで境界ライン領域を走査して、正孔注入層の材料液を塗布した場合、アノード電極の走査方向下流の端部で、正孔注入層の材料液が広がらず、アノード電極が露出することがあった（図２Ｃ参照）。しかし、本発明の製造方法の第１の例では、境界ライン領域が有する各バンク開口部内に配置されたアノード電極の走査方向下流の端部は、アノード電極の走査方向上流の端部よりも絞り込まれている。そのため、アノード電極の走査方向下流の端部において、滴下された正孔注入層の材料液の１滴あたりのアノード電極の領域が小さくなる。したがって、正孔注入層の材料液をアノード電極の長軸に沿って複数滴下した場合であっても、アノード電極が露出しにくい。これにより境界ライン領域内の有機ＥＬ素子がショートすることを防ぐことができる。 In the conventional organic EL display panel, when the boundary line region is scanned with the nozzle head and the material liquid of the hole injection layer is applied, the material liquid of the hole injection layer is discharged at the downstream end in the scanning direction of the anode electrode. The anode electrode may be exposed without spreading (see FIG. 2C). However, in the first example of the manufacturing method of the present invention, the downstream end of the anode electrode arranged in each bank opening of the boundary line region in the scanning direction is narrowed down than the upstream end of the anode electrode in the scanning direction. It is. Therefore, the area of the anode electrode per one drop of the dropped material liquid of the hole injection layer is reduced at the downstream end of the anode electrode in the scanning direction. Therefore, even when a plurality of material liquids for the hole injection layer are dropped along the major axis of the anode electrode, the anode electrode is hardly exposed. Thereby, it is possible to prevent the organic EL element in the boundary line region from being short-circuited.
一方、第２走査領域１１３ｂ内の第１境界ライン領域１０７ａ以外のライン領域１０７が有する各アノード電極１０３には、第１走査領域１１３ａの各アノード電極１０３と同じ方法で、正孔注入層の材料液が塗布される。 On the other hand, the material of the hole injection layer is applied to each anode electrode 103 included in the line region 107 other than the first boundary line region 107a in the second scanning region 113b in the same manner as each anode electrode 103 in the first scanning region 113a. Liquid is applied.
第２走査領域１１３ｂの各バンク開口部内に正孔注入層１１１が形成された後、ノズルヘッド２０３を用いて、第２境界ライン領域１０７ｂを有する第３走査領域１１３ｃをさらに走査する。第３走査領域１１３ｃ内の各バンク開口部内のアノード電極に正孔注入層の材料液を塗布する方法は、ステップｉｉ）で説明した第２走査領域１１３ｂ内の各バンク開口部のアノード電極に正孔注入層を塗布する方法と同じであってよい。このように本発明では上記ステップｉ）の後、ステップｉｉ）を、走査領域の数に応じてくり返すことで、有機ＥＬディスプレイパネル上に配置された各バンク開口部内のアノード電極上に正孔注入層を形成することができる。 After the hole injection layer 111 is formed in each bank opening of the second scanning region 113b, the third scanning region 113c having the second boundary line region 107b is further scanned using the nozzle head 203. The method of applying the material liquid of the hole injection layer to the anode electrode in each bank opening in the third scanning region 113c is applied to the anode electrode in each bank opening in the second scanning region 113b described in step ii). It may be the same as the method of applying the hole injection layer. Thus, in the present invention, after step i), step ii) is repeated according to the number of scanning regions, so that holes are formed on the anode electrodes in the respective bank openings arranged on the organic EL display panel. An injection layer can be formed.
本発明の製造方法の第１の例では、第１走査領域１１３ａの走査方向と、第２走査領域１１３ｂの走査方向は同一とした（図４における紙面における上から下にした）が、逆であってもよい。例えば、第１走査領域１１３ａの走査方向を図４における紙面の上から下にして、第２走査領域１１３ｂの走査方向を下から上にしてもよい。そのとき、第２走査領域１１３ｂの第１境界ライン領域１０７ａが有するバンク開口部１０９’のアノード電極は、紙面における上方向に絞り込まれる。 In the first example of the manufacturing method of the present invention, the scanning direction of the first scanning region 113a and the scanning direction of the second scanning region 113b are the same (from the top to the bottom in FIG. 4), but in reverse. There may be. For example, the scanning direction of the first scanning region 113a may be set from the top to the bottom in FIG. 4, and the scanning direction of the second scanning region 113b may be set from the bottom to the top. At that time, the anode electrode of the bank opening 109 'included in the first boundary line region 107a of the second scanning region 113b is narrowed upward in the drawing.
また、第２走査領域の走査方向は、第３走査領域の走査方向と逆であってもよい。この場合、第１境界ライン領域内のアノード電極が絞り込まれる方向と、第２境界ライン内のアノード電極が絞り込まれる方向と互いに逆になる。 Further, the scanning direction of the second scanning region may be opposite to the scanning direction of the third scanning region. In this case, the direction in which the anode electrode in the first boundary line region is narrowed is opposite to the direction in which the anode electrode in the second boundary line is narrowed.
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は上記ステップに加え、中間層および有機ＥＬ層を形成するステップ、有機ＥＬ層上にカソード電極を形成するステップを有していてもよい。 In addition to the above steps, the method for producing an organic EL display panel of the present invention may have a step of forming an intermediate layer and an organic EL layer, and a step of forming a cathode electrode on the organic EL layer.
中間層および有機ＥＬ層は、例えば正孔注入層上にインクジェット法などを用いて、中間層および有機ＥＬ層の材料液を塗布することで形成される。また中間層および有機ＥＬ層はライン領域１０７ごとに形成されてもよい。 The intermediate layer and the organic EL layer are formed, for example, by applying a material liquid for the intermediate layer and the organic EL layer on the hole injection layer using an inkjet method or the like. Further, the intermediate layer and the organic EL layer may be formed for each line region 107.
中間層は正孔注入層に電子が輸送されるのをブロックする役割や、有機ＥＬ層に正孔を効率よく運ぶ役割などを有し、例えばポリアニリン系の材料からなる層である。中間層は中間層の材料液（中間層の材料をアニソールやシクロベンゼンなどの有機溶媒に溶解したインク）をバンク開口部に塗布することで形成される。中間層の厚さは、１０〜４０ｎｍであることが好ましい。 The intermediate layer has a role of blocking the transport of electrons to the hole injection layer and a role of efficiently transporting holes to the organic EL layer, and is a layer made of, for example, a polyaniline material. The intermediate layer is formed by applying the material liquid of the intermediate layer (ink in which the material of the intermediate layer is dissolved in an organic solvent such as anisole or cyclobenzene) to the bank opening. The thickness of the intermediate layer is preferably 10 to 40 nm.
有機ＥＬ層の材料は高分子系有機ＥＬ材料であっても低分子系有機ＥＬ材料であってもよい。高分子系有機ＥＬ材料を材料とする有機ＥＬ層は、容易にかつ他の材料に損傷を与えることなく形成されることができることから好ましい。 The material of the organic EL layer may be a high molecular organic EL material or a low molecular organic EL material. An organic EL layer made of a polymer organic EL material is preferable because it can be easily formed without damaging other materials.
高分子有機ＥＬ材料の例には、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリアセチレン（Ｐｏｌｙ ａｃｅｔｙｌｅｎｅ）およびその誘導体、ポリフェニレン（Ｐｏｌｙ ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ（ＰＰ））およびその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（Ｐｏｌｙ ｐａｒａ ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｅｔｈｙｌｅｎｅ）およびその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（Ｐｏｌｙ ３−ｈｅｘｙｌ ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ（Ｐ３ＨＴ））およびその誘導体、ポリフルオレン（Ｐｏｌｙ ｆｌｕｏｒｅｎｅ （ＰＦ））およびその誘導体などが含まれる。また、有機ＥＬ層の厚さは約５０〜１００ｎｍであることが好ましい。 Examples of the polymer organic EL material include polyphenylene vinylene and its derivatives, polyacetylene and its derivatives, polyphenylene and its derivatives, polyparaphenylene ethylene and its derivatives. , Poly 3-hexyl thiophene (P3HT) and derivatives thereof, polyfluorene (PF) and derivatives thereof, and the like. The thickness of the organic EL layer is preferably about 50 to 100 nm.
カソード電極は例えば、蒸着法やスパッタリング法を利用して形成すればよい。カソード電極の材料は、ボトムエミッション型か、トップエミッション型かによってその材料が異なる。トップエミッション型の場合には、カソード電極が透明である必要があるのでＩＴＯ電極やＩＺＯ電極などを含む材料で形成することが好ましい。また、Ｂａ、Ａｌ、ＷＯｘで構成してもよい。 The cathode electrode may be formed using, for example, a vapor deposition method or a sputtering method. The material of the cathode electrode differs depending on whether it is a bottom emission type or a top emission type. In the case of the top emission type, since the cathode electrode needs to be transparent, it is preferably formed of a material including an ITO electrode or an IZO electrode. Moreover, you may comprise with Ba, Al, and WOx.
また、ボトムエミッション型の場合にはカソード電極が透明である必要はなく、任意の材料でカソード電極を形成すればよい。ボトムエミッション型の場合、カソード電極の材料の例は、ＢａやＢａＯ、Ａｌなどを含む。 In the case of the bottom emission type, the cathode electrode does not need to be transparent, and the cathode electrode may be formed of an arbitrary material. In the case of the bottom emission type, examples of the material of the cathode electrode include Ba, BaO, and Al.
カソード電極を形成した面に更にカバー材（封止材）を設けて本発明の有機ＥＬディスプレイパネルを封止してもよい。カバー材により水分や酸素の浸入が抑制される。 A cover material (sealing material) may be further provided on the surface on which the cathode electrode is formed to seal the organic EL display panel of the present invention. Intrusion of moisture and oxygen is suppressed by the cover material.
上述したように発明の製造方法は、絶縁性の無機膜（以下「無機絶縁膜」という）を形成するステップをさらに有していてもよい。無機絶縁膜は電気絶縁性であることはもちろんであるが、濡れ性が高いことも好ましい。無機絶縁膜の材料の例にはシリコンオキサイド（ＳｉＯ２）やシリコンナイトライド（Ｓｉ３Ｎ４）、シリコンオキシナイトライド（ＳｉＯＮ）などが含まれる。無機絶縁膜の厚さは１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましい。 As described above, the manufacturing method of the present invention may further include a step of forming an insulating inorganic film (hereinafter referred to as “inorganic insulating film”). The inorganic insulating film is of course electrically insulating, but it is also preferable that the wettability is high. Examples of the material of the inorganic insulating film include silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), silicon oxynitride (SiON), and the like. The thickness of the inorganic insulating film is preferably 10 nm to 200 nm.
無機絶縁膜はバンクからバンク開口部まではみ出していることが好ましい。好ましくは、無機絶縁膜はバンクからバンク開口部まで５〜１０μｍはみ出している（図１１Ａ）。また図１１Ａに示されるように無機絶縁膜１１０はアノード電極の縁を覆うように配置されてもよい。 The inorganic insulating film preferably protrudes from the bank to the bank opening. Preferably, the inorganic insulating film protrudes 5 to 10 μm from the bank to the bank opening (FIG. 11A). Further, as shown in FIG. 11A, the inorganic insulating film 110 may be disposed so as to cover the edge of the anode electrode.
無機絶縁膜により正孔注入層の材料液はバンク開口部全体に均一に塗布され、膜厚が均一な機能層を得ることができる。 The material liquid of the hole injection layer is uniformly applied to the entire bank opening by the inorganic insulating film, and a functional layer having a uniform film thickness can be obtained.
（Ｂ）本発明の製造方法の第２の例について
本発明の製造方法の第２の例は、１）基板を準備する第１ステップ、２）基板上にアノード電極を形成する第２ステップ、３）バンク開口部を規定するバンクを形成する第３ステップ、４）正孔注入層の材料液を吐出するノズルを複数有するノズルヘッドで基板を走査領域ごとに走査する第４ステップを有する。
(B) Second Example of Manufacturing Method of the Present Invention A second example of the manufacturing method of the present invention includes: 1) a first step of preparing a substrate, 2) a second step of forming an anode electrode on the substrate, 3) A third step of forming a bank for defining the bank opening, and 4) a fourth step of scanning the substrate for each scanning region with a nozzle head having a plurality of nozzles for discharging the material liquid of the hole injection layer.
また、第１ステップと第２ステップとの間に絶縁性の無機膜を形成するステップを有していてもよい。 In addition, an insulating inorganic film may be formed between the first step and the second step.
１）第１ステップで準備される基板１０１は、第１の例で準備する基板と同じである。
２）第２ステップ（図７Ａ）で形成されるアノード電極の製造方法およびアノード電極の材料はともに、第１の例で形成されるアノード電極と同じである。
1) The substrate 101 prepared in the first step is the same as the substrate prepared in the first example.
2) The manufacturing method of the anode electrode formed in the second step (FIG. 7A) and the material of the anode electrode are both the same as the anode electrode formed in the first example.
３）第３ステップ（図７Ｂ）では副画素ごとのバンク開口部１０９を規定するバンク１０５を形成する。バンクの形成方法、バンクの材料などは、第１の例と同様である。 3) In the third step (FIG. 7B), a bank 105 that defines a bank opening 109 for each sub-pixel is formed. The bank formation method, bank material, and the like are the same as in the first example.
第１の例と同様に、バンク開口部１０９内のアノード電極１０３は長軸および短軸を有する。すなわちアノード電極は１方向に長い形状を有し、楕円形であってもよい。アノード電極１０３の長軸はライン領域１０７のラインと平行であることが好ましい。バンク開口部１０９内のアノード電極１０３の長軸の長さは、２２０〜３９０μｍであり、アノード電極の短軸は７０〜１２５μｍであることが好ましい。 Similar to the first example, the anode electrode 103 in the bank opening 109 has a major axis and a minor axis. That is, the anode electrode has a shape that is long in one direction and may be elliptical. The major axis of the anode electrode 103 is preferably parallel to the line in the line region 107. The length of the major axis of the anode electrode 103 in the bank opening 109 is preferably 220 to 390 μm, and the minor axis of the anode electrode is preferably 70 to 125 μm.
本発明の製造方法の第２の例では、所定のバンク開口部がアノード電極よりも走査方向下流に長く形成されている。したがって所定のバンク開口部はアノード電極の走査方向下流の端とバンクとの間に空隙を有する。ここで、「空隙」とはアノード電極とバンクとの間に形成された領域であって、アノード電極の下地層が露出した領域を意味する。アノード電極１０３の走査方向下流の端とバンク１０５との間隔ｄ（図１０Ａ参照）は１０〜２５μｍであることが好ましい。空隙の面積は２７０〜６９０μｍ２であることが好ましい。 In the second example of the manufacturing method of the present invention, the predetermined bank opening is formed longer in the scanning direction than the anode electrode. Therefore, the predetermined bank opening has a gap between the bank and the end downstream of the anode electrode in the scanning direction. Here, the “gap” means a region formed between the anode electrode and the bank, and the region where the underlying layer of the anode electrode is exposed. The distance d (see FIG. 10A) between the downstream end of the anode electrode 103 in the scanning direction and the bank 105 is preferably 10 to 25 μm. The area of the gap is preferably 270 to 690 μm 2 .
本発明の第２の例では空隙を有するバンク開口部１０９’が境界ライン領域に配置されることを特徴とする。 The second example of the present invention is characterized in that a bank opening 109 'having a gap is arranged in the boundary line region.
図９Ａは図８Ｂの領域ａの拡大図である。図９Ａに示すように第１境界ライン領域１０７ａが有するバンク開口部１０９’はアノード電極１０３とバンク１０５との間に空隙１０８を有する。 FIG. 9A is an enlarged view of region a in FIG. 8B. As shown in FIG. 9A, the bank opening 109 ′ included in the first boundary line region 107 a has a gap 108 between the anode electrode 103 and the bank 105.
またアノード電極１０３の走査方向下流の端部の短軸方向の端とバンクとの間に空隙１０８が形成されていてもよい（図１０Ｂ）。 Further, a gap 108 may be formed between the end of the anode electrode 103 on the downstream side in the scanning direction in the short axis direction and the bank (FIG. 10B).
４）第４ステップは、ｉ）第１走査領域１１３ａを正孔注入層の材料液を吐出するノズル２０１を複数有するノズルヘッド２０３で走査するステップ、ｉｉ）第２走査領域１１３ｂをノズルヘッド２０３で走査し、第２走査領域１１３ｂが有する、各バンク開口部内に配置されたアノード電極１０３に正孔注入層の材料液を塗布するするステップ、を含む。 4) The fourth step consists of i) scanning the first scanning region 113a with the nozzle head 203 having a plurality of nozzles 201 for discharging the material liquid of the hole injection layer, and ii) scanning the second scanning region 113b with the nozzle head 203. Scanning, and applying a material liquid for a hole injection layer to the anode electrode 103 disposed in each bank opening, which the second scanning region 113b has.
ステップｉ）の第１走査領域１１３ａをノズルヘッド２０３で走査するステップは第１の例で説明した方法と同じであってよい（図８Ａ）。また、正孔注入層の材料は、第１の例で説明した正孔注入層の材料と同じである。 The step of scanning the first scanning region 113a in step i) with the nozzle head 203 may be the same as the method described in the first example (FIG. 8A). The material of the hole injection layer is the same as the material of the hole injection layer described in the first example.
ステップｉｉ）では、第２走査領域１１３ｂをノズルヘッド２０３で走査し、第２走査領域１１３ｂが有する各バンク開口部内にアノード電極１０３の長軸に沿って正孔注入層の材料液の液滴を複数滴下し、アノード電極１０３に正孔注入層の材料液を塗布する（図９Ｂ）。 In step ii), the second scanning region 113b is scanned by the nozzle head 203, and a droplet of the material liquid of the hole injection layer is dropped along the major axis of the anode electrode 103 into each bank opening of the second scanning region 113b. A plurality of droplets are dropped and a material liquid for the hole injection layer is applied to the anode electrode 103 (FIG. 9B).
上述のように第２走査領域１１３ｂは第１境界ライン領域１０７ａを有する。本発明の製造方法の第２の例では、境界ライン領域に含まれるライン領域は１列である例について説明するが、境界ライン領域に含まれるライン領域は１〜５列であってもよい。また、上述のように第１境界ライン領域１０７ａが有するバンク開口部１０９’はアノード電極１０３とバンク１０５との間に空隙１０８を有する。図９Ｃ〜図９Ｅは、図８Ｂの領域ａの拡大図であり、第２走査領域１１３ｂ内の第１境界ライン領域１０７ａが有する１のバンク開口部１０９’内に配置されたアノード電極１０３に正孔注入層の材料液が塗布される様子を示す。以下図９を用いて、バンク開口部１０９’内のアノード電極１０３に正孔注入層の材料液を塗布する方法について説明する。 As described above, the second scanning region 113b has the first boundary line region 107a. In the second example of the manufacturing method of the present invention, an example in which the line area included in the boundary line area is one column will be described, but the line area included in the boundary line area may be 1 to 5 columns. Further, as described above, the bank opening 109 ′ included in the first boundary line region 107 a has the gap 108 between the anode electrode 103 and the bank 105. 9C to 9E are enlarged views of the region a in FIG. 8B. The anode electrode 103 disposed in one bank opening 109 ′ of the first boundary line region 107a in the second scanning region 113b is positively connected to the anode electrode 103. A mode that the material liquid of a hole injection layer is apply | coated is shown. Hereinafter, a method for applying the material liquid for the hole injection layer to the anode electrode 103 in the bank opening 109 ′ will be described with reference to FIG. 9.
図９Ｄに示されるように、ノズル２０１によって吐出された正孔注入層の材料液はアノード電極１０３の長軸に沿ってバンク開口部１０９’内に複数滴下される。このとき、正孔注入層の材料液は空隙１０８にも滴下されることが好ましい。したがって、本発明の製造方法の第２の例ではバンク開口部１０９’に滴下される正孔注入層の材料液の量は、バンク開口部１０９に滴下される正孔注入層の量よりも多くなる。 As shown in FIG. 9D, a plurality of hole injection layer material liquids ejected by the nozzle 201 are dropped into the bank opening 109 ′ along the long axis of the anode electrode 103. At this time, the material liquid for the hole injection layer is preferably dropped into the gap 108. Therefore, in the second example of the manufacturing method of the present invention, the amount of the hole injection layer material liquid dropped into the bank opening 109 ′ is larger than the amount of the hole injection layer dropped into the bank opening 109 ′. Become.
滴下された正孔注入層の材料液は、バンク開口部１０９内に広がり、アノード電極１０３に正孔注入層の材料液が塗布される。このとき、本発明では、正孔注入層の材料液は空隙１０８まで塗布される（図９Ｅ）。 The dropped material liquid for the hole injection layer spreads in the bank opening 109, and the material liquid for the hole injection layer is applied to the anode electrode 103. At this time, in the present invention, the material liquid for the hole injection layer is applied up to the gap 108 (FIG. 9E).
このように、本発明の製造方法の第２の例では、境界ライン領域が有するバンク開口部内のアノード電極の走査方向下流の端とバンクとの間に空隙を設け、空隙まで正孔注入層の材料液を塗布することで、アノード電極が露出することが防止され（図９Ｅ参照）、有機ＥＬ素子がショートすることを防ぐことができる。また、図９Ｅに示すように本発明の製造方法では、空隙１０８の一部に正孔注入層の材料液を塗布することができず、空隙１０８が露出することがあるが、空隙１０８にはアノード電極１０３が配置されていないことから、空隙１０８が露出しても有機ＥＬ素子がショートする恐れはない。 Thus, in the second example of the manufacturing method of the present invention, a gap is provided between the bank and the end in the scanning direction downstream of the anode electrode in the bank opening of the boundary line region, and the hole injection layer is formed up to the gap. By applying the material liquid, it is possible to prevent the anode electrode from being exposed (see FIG. 9E) and to prevent the organic EL element from being short-circuited. In addition, as shown in FIG. 9E, in the manufacturing method of the present invention, the material liquid for the hole injection layer cannot be applied to a part of the gap 108 and the gap 108 may be exposed. Since the anode electrode 103 is not disposed, there is no possibility that the organic EL element is short-circuited even if the gap 108 is exposed.
第２走査領域１１３ｂの走査完了後、第２境界ライン領域１０７ｂを有する第３走査領域１１３ｃをさらに走査する。第３走査領域の走査方法は第１の例と同じであってよい。 After the scanning of the second scanning region 113b is completed, the third scanning region 113c having the second boundary line region 107b is further scanned. The scanning method for the third scanning region may be the same as in the first example.
本発明の製造方法の第２の例では、第１走査領域１１３ａの走査方向と、第２走査領域１１３ｂの走査方向は同一とした（図８における紙面における上から下にした）が、逆であってもよい。例えば、第１走査領域１１３ａの走査方向を図８における紙面の上から下にして、第２走査領域１１３ｂの走査方向を下から上にしてもよい。そのとき、第２走査領域１１３ｂの第１境界ライン領域１０７ａが有するバンク開口部１０９’は紙面における上方向に空隙１０８を有する。 In the second example of the manufacturing method of the present invention, the scanning direction of the first scanning region 113a and the scanning direction of the second scanning region 113b are the same (from the top to the bottom in FIG. 8), but in reverse. There may be. For example, the scanning direction of the first scanning region 113a may be set from the top to the bottom in FIG. 8, and the scanning direction of the second scanning region 113b may be set from the bottom to the top. At that time, the bank opening 109 ′ included in the first boundary line region 107 a of the second scanning region 113 b has a gap 108 in the upward direction on the paper surface.
また、第２走査領域の走査方向は、第３走査領域の走査方向と逆であってもよい。この場合、第１境界ライン領域１０７ａが有するバンク開口部１０９’に設けられた空隙１０８の方向と、第２境界ライン領域１０７ｂが有するバンク開口部１０９’に設けられた空隙１０８の方向とは逆になる。 Further, the scanning direction of the second scanning region may be opposite to the scanning direction of the third scanning region. In this case, the direction of the air gap 108 provided in the bank opening 109 ′ of the first boundary line region 107a is opposite to the direction of the air gap 108 provided in the bank opening 109 ′ of the second boundary line region 107b. become.
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は上記ステップに加え、中間層および有機ＥＬ層を形成するステップ、有機ＥＬ層上にカソード電極を形成するステップを有していてもよい。各部材の構成、および作製方法は、第１の例と同じである。 In addition to the above steps, the method for producing an organic EL display panel of the present invention may have a step of forming an intermediate layer and an organic EL layer, and a step of forming a cathode electrode on the organic EL layer. The configuration of each member and the manufacturing method are the same as in the first example.
上述したように第１の例と同様に、第２の例の製造方法でも、絶縁性の無機膜（以下「無機絶縁膜」という）を形成するステップをさらに有していてもよい。無機絶縁膜の厚さおよび材料は第１の例と同じであってよい。 As described above, similarly to the first example, the manufacturing method of the second example may further include a step of forming an insulating inorganic film (hereinafter referred to as “inorganic insulating film”). The thickness and material of the inorganic insulating film may be the same as in the first example.
第１の例と同様に、無機絶縁膜はバンクからバンク開口部まではみ出していることが好ましい。好ましくは、無機絶縁膜はバンクからバンク開口部まで５〜１０μｍはみ出している。 Similar to the first example, the inorganic insulating film preferably protrudes from the bank to the bank opening. Preferably, the inorganic insulating film protrudes from the bank to the bank opening by 5 to 10 μm.
第２の例の製造方法では、図１１Ｂに示されるように境界ライン領域が有する各バンク開口部１０９’内では、無機絶縁膜１１０とアノード電極１０３との間に空隙１０８を有することが好ましい。 In the manufacturing method of the second example, it is preferable to have a gap 108 between the inorganic insulating film 110 and the anode electrode 103 in each bank opening 109 ′ included in the boundary line region as shown in FIG. 11B.
無機絶縁膜により正孔注入層の材料液はバンク開口部全体に均一に塗布され、膜厚が均一な機能層を得ることができる。 The material liquid of the hole injection layer is uniformly applied to the entire bank opening by the inorganic insulating film, and a functional layer having a uniform film thickness can be obtained.
また、上述のように、本発明の製造方法の第１の例および第２の例では、バンク表面はフッ素系ガスプラズマによってフッ素化されることがある。この場合、第１走査領域の走査によって第２の走査領域の境界ライン領域がフッ素成分によって汚染される恐れがある。フッ素は濡れ性を下げる作用を有することから、フッ素成分によって汚染された境界ライン領域のアノード電極の濡れ性は低下し、アノード電極上に正孔注入層の材料液が塗布されにくくなるおそれがある。 In addition, as described above, in the first and second examples of the manufacturing method of the present invention, the bank surface may be fluorinated by fluorine-based gas plasma. In this case, there is a possibility that the boundary line region of the second scanning region is contaminated by the fluorine component by the scanning of the first scanning region. Since fluorine has a function of lowering wettability, the wettability of the anode electrode in the boundary line region contaminated by the fluorine component is lowered, and it may be difficult to apply the material liquid of the hole injection layer on the anode electrode. .
しかし、本発明の製造方法の第１の例および第２の例のように、境界ライン領域が有する各バンク開口部内のアノード電極を走査方向下流に絞り込んだり、境界ライン領域が有する各バンク開口部内にアノード電極の走査方向下流の端とバンクとの間に空隙を設け、空隙まで正孔注入層の材料液を塗布したりすることで、たとえ境界ライン領域がフッ素成分によって汚染されたとしても、アノード電極全体に正孔注入層の材料液が塗布され、アノード電極が露出することが防止される。
したがって、本発明は、バンク表面をフッ素系ガスプラズマによってフッ素化する場合に特に有効である。
However, as in the first example and the second example of the manufacturing method of the present invention, the anode electrode in each bank opening included in the boundary line region is narrowed down in the scanning direction, or in each bank opening included in the boundary line region. Even if the boundary line region is contaminated by the fluorine component by providing a gap between the bank and the downstream end in the scanning direction of the anode electrode and applying the material liquid of the hole injection layer to the gap, The hole injection layer material liquid is applied to the entire anode electrode, thereby preventing the anode electrode from being exposed.
Therefore, the present invention is particularly effective when the bank surface is fluorinated with fluorine-based gas plasma.
２．本発明の有機ＥＬディスプレイパネルについて
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、基板、アノード電極、カソード電極、ならびに両電極に挟まれた正孔注入層および有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ素子を有する。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、このような有機ＥＬ素子が基板上にマトリクス状に配置され、副画素として機能する。
2. About the organic EL display panel of the present invention The organic EL display panel of the present invention has a substrate, an anode electrode, a cathode electrode, and an organic EL element having a hole injection layer and an organic EL layer sandwiched between both electrodes. In the organic EL display panel of the present invention, such organic EL elements are arranged in a matrix on the substrate and function as subpixels.
基板には、アノード電極が形成されている。有機ＥＬディスプレイパネルがパッシブマトリクス型である場合、アノード電極はライン状に、複数本形成される。ライン状のアノード電極は、互いに平行であることが好ましい。有機ＥＬディスプレイパネルがアクティブマトリクス型である場合、アノード電極は基板上に有機ＥＬ素子ごと独立して配置される。 An anode electrode is formed on the substrate. When the organic EL display panel is a passive matrix type, a plurality of anode electrodes are formed in a line shape. The line-like anode electrodes are preferably parallel to each other. When the organic EL display panel is an active matrix type, the anode electrode is independently arranged on the substrate for each organic EL element.
正孔注入層はバンクによって規定されたバンク開口部ごとに独立してアノード電極上に配置される。 The hole injection layer is independently disposed on the anode electrode for each bank opening defined by the bank.
有機ＥＬ層は正孔注入層上に配置され、正孔注入層と有機ＥＬ層との間には中間層が配置されていてもよい。 The organic EL layer may be disposed on the hole injection layer, and an intermediate layer may be disposed between the hole injection layer and the organic EL layer.
本発明の有機ＥＬディスプレイパネルは、有機ＥＬ層上にカソード電極を有する。またカソード電極と有機ＥＬ層との間には電子注入層が配置されていてもよい。 The organic EL display panel of the present invention has a cathode electrode on the organic EL layer. An electron injection layer may be disposed between the cathode electrode and the organic EL layer.
カソード電極を形成した面にカバー材（封止材）を設けて有機ＥＬディスプレイパネルを封止してもよい。カバー材により水分や酸素の浸入が抑制される。 A cover material (sealing material) may be provided on the surface on which the cathode electrode is formed to seal the organic EL display panel. Intrusion of moisture and oxygen is suppressed by the cover material.
本発明に有機ＥＬディスプレイパネルの構造は、上述した第１の例によって製造されるか第２の例によって製造されるかによって異なる。以下、本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの構造を、第１の例の製造方法によって製造された場合と、第１の例の製造方法によって製造された場合とに分けて説明する。 The structure of the organic EL display panel according to the present invention differs depending on whether it is manufactured according to the first example or the second example. Hereinafter, the structure of the organic EL display panel of the present invention will be described separately for the case of being manufactured by the manufacturing method of the first example and the case of being manufactured by the manufacturing method of the first example.
（Ａ）第１の例の製造方法によって製造された場合
図４Ｃは、第１の例の製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイパネルからカソード電極や有機ＥＬ層を除去して正孔注入層を露出させた状態の平面図である。図４Ｃに示されるように、第１境界ライン領域１０７ａ内の正孔注入層１１１’の長軸の一方（走査方向下流）の端部は、正孔注入層１１１’の長軸の他方（走査方向上流の）端部よりも絞り込まれている。
(A) When manufactured by the manufacturing method of the first example FIG. 4C shows a hole injection layer by removing the cathode electrode and the organic EL layer from the organic EL display panel manufactured by the manufacturing method of the first example. It is a top view in the exposed state. As shown in FIG. 4C, one end (downstream in the scanning direction) of the long axis of the hole injection layer 111 ′ in the first boundary line region 107a is the other end of the long axis of the hole injection layer 111 ′ (scanning). It is narrower than the end (upstream in the direction).
図３Ｂは、図４Ｃの有機ＥＬディスプレイパネルから正孔注入層１１１を除去した有機ＥＬディスプレイパネルの平面図である。図３Ｂに示されるように、第１境界ライン領域１０７ａのバンク開口部１０９’内のアノード電極１０３’の長軸の１の（走査方向下流の）端部は、アノード電極１０３’の長軸の他の（走査方向上流の）端部よりも絞り込まれる。第１境界ライン領域１０７ａ内のアノード電極１０３’は、アノード電極１０３’の長軸の中点を通る短軸に関して非対称である。 FIG. 3B is a plan view of the organic EL display panel in which the hole injection layer 111 is removed from the organic EL display panel of FIG. 4C. As shown in FIG. 3B, one end (downstream in the scanning direction) of the long axis of the anode electrode 103 ′ in the bank opening 109 ′ of the first boundary line region 107a is the long axis of the anode electrode 103 ′. It is narrowed down from the other end (upstream in the scanning direction). The anode electrode 103 ′ in the first boundary line region 107 a is asymmetric with respect to the minor axis passing through the midpoint of the major axis of the anode electrode 103 ′.
（Ｂ）第２の例の製造方法によって製造された場合
図８Ｃは、第１の例の製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイパネルのからカソード電極や有機ＥＬ層を除去して正孔注入層を露出させた状態の平面図である。図８Ｃに示されるように、第１境界ライン領域１０７ａ内の正孔注入層１１１’は他の正孔注入層１１１よりも長軸方向に長い。
(B) When manufactured by the manufacturing method of the second example FIG. 8C shows the hole injection layer by removing the cathode electrode and the organic EL layer from the organic EL display panel manufactured by the manufacturing method of the first example. It is a top view of the state which exposed. As shown in FIG. 8C, the hole injection layer 111 ′ in the first boundary line region 107 a is longer in the major axis direction than the other hole injection layers 111.
図８Ｄは、図８Ｃに示された有機ＥＬディスプレイパネルの線Ａ−Ａにおける断面図である。図８Ｄに示されるように第１境界ライン１０７ａでは、アノード電極１０３の長軸の一方の端と、バンクとの間には空隙１０８が形成されている。空隙１０８にはアノード電極１０３の下地層が露出していることから、正孔注入層１１１’はアノード電極１０３の下地層と接する。 FIG. 8D is a cross-sectional view taken along line AA of the organic EL display panel shown in FIG. 8C. As shown in FIG. 8D, in the first boundary line 107a, a gap 108 is formed between one end of the long axis of the anode electrode 103 and the bank. Since the base layer of the anode electrode 103 is exposed in the gap 108, the hole injection layer 111 ′ is in contact with the base layer of the anode electrode 103.
本発明によれば、ノズルヘッドで基板を複数回走査することにより、全ての副画素のバンク開口部内に正孔注入層の材料液を塗布する場合であっても、全ての副画素のバンク開口部のアノード電極全面に確実に正孔注入層の材料液を塗布することができる。したがって本発明によれば有機ＥＬ素子のショートを防止することができ、品質の高い有機ＥＬディスプレイパネルを提供することができる。 According to the present invention, even if the hole injection layer material liquid is applied to the bank openings of all the subpixels by scanning the substrate a plurality of times with the nozzle head, the bank openings of all the subpixels are applied. The material liquid for the hole injection layer can be reliably applied to the entire surface of the anode electrode. Therefore, according to the present invention, a short circuit of the organic EL element can be prevented, and a high-quality organic EL display panel can be provided.
１０ 基板
１８ バンク
１８ａ 開口部
１０１ 基板
１０３、１０３’ アノード電極
１０４ 正孔注入層の材料液
１０５ バンク
１０６ ライン状バンク
１０７ ライン領域
１０７ａ 第１境界ライン領域
１０７ｂ 第２境界ライン領域
１０８ 空隙
１０９、１０９’ バンク開口部
１１０ 無機絶縁膜
１１１、１１１’ 正孔注入層
１３０ ノズルヘッド
２０１ ノズル
２０３ ノズルヘッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 18 Bank 18a Opening 101 Substrate 103, 103 ′ Anode electrode 104 Material liquid of hole injection layer 105 Bank 106 Line-shaped bank 107 Line region 107a First boundary line region 107b Second boundary line region 108 Void 109, 109 ′ Bank opening 110 Inorganic insulating film 111, 111 ′ Hole injection layer 130 Nozzle head 201 Nozzle 203 Nozzle head
Claims (4)
前記開口部を規定するバンク、および
前記ライン領域のライン方向と平行な長軸を有し、前記開口部内に配置されたアノード電極を有する基板を準備するステップ；
ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液を吐出する２以上の吐出ノズルを有するノズルヘッドを用いて、前記ライン領域を２以上有する第１領域を、前記長軸方向に走査し、前記第１領域に含まれる前記開口部内に前記長軸に沿って前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップ；および
前記ノズルヘッドを用いて、前記第１領域に隣接し前記ライン領域を２以上有する第２領域を、前記長軸方向に走査し、前記第２領域に含まれる前記開口部内に前記長軸に沿って前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップ；
を有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第２領域に含まれるライン領域のうち、前記第１の領域に隣接するライン領域が有する各開口部に配置された前記アノード電極の前記走査方向下流の端部は、前記アノード電極の前記走査方向上流の端部よりも、絞り込まれている、
有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。 A plurality of line regions parallel to each other and having two or more openings arranged in a line;
Providing a bank having a bank defining the opening and a major axis parallel to a line direction of the line region and having an anode electrode disposed in the opening;
Using a nozzle head having two or more discharge nozzles for discharging an aqueous solution containing polyethylene dioxythiophene, the first region having two or more line regions is scanned in the major axis direction and included in the first region. Dropping a plurality of droplets of the aqueous solution along the major axis into the opening and applying the aqueous solution onto the anode electrode; and using the nozzle head, the line adjacent to the first region and the line A second region having two or more regions is scanned in the major axis direction, and a plurality of droplets of the aqueous solution are dropped along the major axis into the opening included in the second region. Applying the aqueous solution to
An organic EL display panel manufacturing method comprising:
Out of the line regions included in the second region, the downstream end of the anode electrode arranged in each opening of the line region adjacent to the first region is the scanning of the anode electrode. It is narrowed down from the upstream end of the direction,
A method for producing an organic EL display panel.
前記開口部を規定するバンク、および
前記ライン領域のライン方向と平行な長軸を有し、前記開口部内に配置されたアノード電極を有する基板を準備するステップ；
ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液を吐出する２以上の吐出ノズルを有するノズルヘッドを用いて、前記ライン領域を２以上有する第１領域を、前記長軸方向に走査し、前記第１領域に含まれる前記開口部内に前記長軸に沿って前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップ；および
前記ノズルヘッドを用いて、前記第１領域に隣接し前記ライン領域を２以上有する第２領域を、前記長軸方向に走査し、前記第２領域に含まれる前記開口部内に前記長軸に沿って前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップ；
を有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第２領域に含まれるライン領域のうち、前記第１の領域に隣接するライン領域が有する各開口部は、前記アノード電極の前記走査方向下流の端と前記バンクとの間に空隙を有し、
前記水溶液は前記空隙にも塗布される、有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。 A plurality of line regions parallel to each other and having two or more openings arranged in a line;
Providing a bank having a bank defining the opening and a major axis parallel to a line direction of the line region and having an anode electrode disposed in the opening;
Using a nozzle head having two or more discharge nozzles for discharging an aqueous solution containing polyethylene dioxythiophene, the first region having two or more line regions is scanned in the major axis direction and included in the first region. Dropping a plurality of droplets of the aqueous solution along the major axis into the opening and applying the aqueous solution onto the anode electrode; and using the nozzle head, the line adjacent to the first region and the line A second region having two or more regions is scanned in the major axis direction, and a plurality of droplets of the aqueous solution are dropped along the major axis into the opening included in the second region. Applying the aqueous solution to
An organic EL display panel manufacturing method comprising:
Of the line regions included in the second region, each opening portion of the line region adjacent to the first region has a gap between the bank and the downstream end of the anode electrode in the scanning direction. ,
The method for producing an organic EL display panel, wherein the aqueous solution is also applied to the gap.
前記開口部を規定するバンク、
前記ライン領域のライン方向に平行な長軸を有し、前記開口部内に配置されたアノード電極、
前記開口部ごとに独立して配置され、前記アノード電極上に配置された正孔注入層、
前記正孔注入層上に配置された有機ＥＬ層、
前記有機ＥＬ層上に設けられたカソード電極を有する有機ＥＬディスプレイパネルであって、
前記ライン領域のうち、所定のインターバルごとのライン領域が有する各開口部に配置された前記アノード電極の長軸の一方の端部は、前記アノード電極の他方の端部よりも、絞り込まれている、有機ＥＬディスプレイパネル。 A plurality of line regions parallel to each other and having two or more openings arranged in a line;
A bank defining the opening,
An anode electrode having a major axis parallel to the line direction of the line region and disposed in the opening;
A hole injection layer disposed independently on each of the openings and disposed on the anode electrode;
An organic EL layer disposed on the hole injection layer;
An organic EL display panel having a cathode electrode provided on the organic EL layer,
Of the line regions, one end of the major axis of the anode electrode arranged in each opening of the line region for each predetermined interval is narrower than the other end of the anode electrode. Organic EL display panel.
前記開口部を規定するバンク、
前記ライン領域のライン方向に平行な長軸を有し、前記開口部内に配置されたアノード電極、
前記開口部ごとに独立して配置され、前記アノード電極上に配置された正孔注入層、
前記正孔注入層上に配置された有機ＥＬ層、
前記有機ＥＬ層上に設けられたカソード電極を有する有機ＥＬディスプレイパネルであって、
前記ライン領域のうち、所定のインターバルごとのライン領域が有する各開口部は、前記アノード電極の前記長軸の一方の端と、前記バンクとの間に空隙を有する、有機ＥＬディスプレイパネル。
A plurality of line regions parallel to each other and having two or more openings arranged in a line;
A bank defining the opening,
An anode electrode having a major axis parallel to the line direction of the line region and disposed in the opening;
A hole injection layer disposed independently on each of the openings and disposed on the anode electrode;
An organic EL layer disposed on the hole injection layer;
An organic EL display panel having a cathode electrode provided on the organic EL layer,
Each of the openings included in the line region at predetermined intervals among the line regions has an air gap between one end of the major axis of the anode electrode and the bank.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008158334A JP2009302016A (en) | 2008-06-17 | 2008-06-17 | Organic el display panel and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008158334A JP2009302016A (en) | 2008-06-17 | 2008-06-17 | Organic el display panel and method of manufacturing the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009302016A true JP2009302016A (en) | 2009-12-24 |
Family
ID=41548689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008158334A Pending JP2009302016A (en) | 2008-06-17 | 2008-06-17 | Organic el display panel and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2009302016A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013069041A1 (en) * | 2011-11-07 | 2013-05-16 | パナソニック株式会社 | Organic el display panel and organic el display device |
| WO2013069042A1 (en) * | 2011-11-07 | 2013-05-16 | パナソニック株式会社 | Organic el display panel and organic el display device |
-
2008
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