JP2009298719A

JP2009298719A - Method for producing (meth)acrylic acid hydroxyalkyl ester

Info

Publication number: JP2009298719A
Application number: JP2008153852A
Authority: JP
Inventors: Masanori Tokuda; 正徳徳田; Michiyuki Kono; 通幸河野
Original assignee: Mitsubishi Rayon Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date: 2008-06-12
Filing date: 2008-06-12
Publication date: 2009-12-24

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a (meth)acrylic acid hydroxyalkyl ester more stably by inhibiting a polymerization reaction of the (meth)acrylic acid hydroxyalkyl ester. <P>SOLUTION: The production method of the (meth)acrylic acid hydroxyalkyl ester 10 comprises a step of obtaining a reaction liquid containing the (meth)acrylic acid hydroxyalkyl ester by reacting (meth)acrylic acid with an alkylene oxide and a step of once cooling the resultant reaction liquid and subsequently separating the (meth)acrylic acid hydroxyalkyl ester from the reaction liquid in a thin-film evaporator 9, where the temperature T (°C) of the reaction liquid introduced into the thin-film evaporator 9 is adjusted so as to satisfy the expression: Tb-30≤T≤Tb-1 (where Tb (°C) is the boiling point of the (meth)acrylic acid hydroxyalkyl ester under the pressure of the thin-film evaporator 9). <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a hydroxyalkyl ester of (meth) acrylic acid.

（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルは、塗料や親水性高分子の原料として広く用いられており、一般に（メタ）アクリル酸とアルキレンオキシド（以下、ＡＯとする。）とを反応させることにより製造される。そして、その反応の終了後には、反応液中の目的の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを未反応の（メタ）アクリル酸、ＡＯ、触媒残渣、および高沸点副生成物等から分離することが必要である。 (Meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester is widely used as a raw material for paints and hydrophilic polymers, and is generally produced by reacting (meth) acrylic acid with alkylene oxide (hereinafter referred to as AO). The And after completion | finish of the reaction, the target (meth) acrylic-acid hydroxyalkyl ester in a reaction liquid can be isolate | separated from unreacted (meth) acrylic acid, AO, a catalyst residue, a high boiling point by-product, etc. is necessary.

このような（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの製造方法としては、下記に示すものがある。
（メタ）アクリル酸とエチレンオキシド（以下、ＥＯとする。）とを反応させた後、その反応液を脱気塔へと導き、キャリアガスと接触させて未反応のＥＯを除去し、その後に薄膜蒸発器にて蒸発させることにより高純度の（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルを得る方法（特許文献１）。
特開平１１−２４０８５３号公報 Examples of a method for producing such a (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester include the following.
After reacting (meth) acrylic acid and ethylene oxide (hereinafter referred to as EO), the reaction solution is led to a degassing tower and contacted with a carrier gas to remove unreacted EO, and then a thin film A method for obtaining high-purity 2-hydroxyethyl (meth) acrylate by evaporating with an evaporator (Patent Document 1).
JP-A-11-240853

しかし、この方法は、反応液から未反応のＥＯを効率良く除去するための方法であり、目的とする（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの種類によっては、薄膜蒸発器内で（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの重合反応が起きてしまうことがあった。そのため、ＥＯ等の分離工程中に薄膜蒸発器内で（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの重合反応が起きることを防止できるような方策が望まれている。 However, this method is a method for efficiently removing unreacted EO from the reaction solution. Depending on the type of the target (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester, (meth) acrylic acid is used in the thin film evaporator. A polymerization reaction of hydroxyalkyl ester sometimes occurred. Therefore, a measure that can prevent the polymerization reaction of the hydroxyalkyl ester of (meth) acrylic acid in the thin film evaporator during the separation process such as EO is desired.

本発明は、薄膜蒸発器による分離工程中に（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの重合反応が起きることを抑制し、より安定に（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを製造できる方法を提供する。 The present invention provides a method capable of producing a (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester more stably by suppressing the polymerization reaction of the (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester during the separation step by the thin film evaporator.

本発明の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの製造方法は、（メタ）アクリル酸とアルキレンオキシドとを反応させて（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを含む反応液を得る工程と、前記反応液を一旦冷却した後、薄膜蒸発器にて前記反応液から（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを分離する工程とを有する製造方法において、前記薄膜蒸発器に導入する前記反応液の温度Ｔ（℃）を下記式（１）に示す範囲内とする方法である。
Ｔｂ−３０≦Ｔ≦Ｔｂ−１・・・（１）
式（１）中、Ｔｂ（℃）は薄膜蒸発器内の圧力下における（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの沸点である。 The method for producing a hydroxyalkyl ester of (meth) acrylic acid according to the present invention comprises a step of reacting (meth) acrylic acid with an alkylene oxide to obtain a reaction liquid containing (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester, and the reaction liquid comprising: In the manufacturing method having a step of separating the (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester from the reaction liquid in a thin film evaporator after cooling, the temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator is set. This is a method within the range shown in the following formula (1).
Tb-30 ≦ T ≦ Tb−1 (1)
In the formula (1), Tb (° C.) is the boiling point of the hydroxyalkyl ester of (meth) acrylic acid under the pressure in the thin film evaporator.

本発明の製造方法は、薄膜蒸発器による分離工程中に（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの重合反応が起きることを抑制でき、より安定に（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを製造できる。 The production method of the present invention can suppress the polymerization reaction of (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester during the separation step by the thin film evaporator, and can produce (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester more stably.

本発明の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの製造方法の実施形態の一例を、図１に基づいて詳細に説明する。
本発明の製造方法では、反応器１において、触媒の存在下、（メタ）アクリル酸とＡＯとを反応させる。ただし、ＡＯの使用量は、（メタ）アクリル酸１モルに対して１．０〜１．２モルとすればよく、１．０３〜１．１０とすることが好ましい。 An example of an embodiment of a method for producing a (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester of the present invention will be described in detail with reference to FIG.
In the production method of the present invention, (meth) acrylic acid and AO are reacted in the reactor 1 in the presence of a catalyst. However, the usage-amount of AO should just be 1.0-1.2 mol with respect to 1 mol of (meth) acrylic acid, and it is preferable to set it as 1.03-1.10.

触媒としては、公知のものを使用することができ、例えば、各種アミン類、四級アンモニウム塩、鉄等の遷移金属の酢酸や（メタ）アクリル酸等のカルボン酸塩が挙げられる。
触媒は、１種のみを単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。 As the catalyst, known ones can be used, and examples thereof include various amines, quaternary ammonium salts, transition metal acetic acid such as iron, and carboxylate such as (meth) acrylic acid.
A catalyst may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

（メタ）アクリル酸とＡＯとの反応は、バッチ式または連続式のいずれであってもよい。また、通常、反応温度は４０〜１５０℃であり、好ましくは５０〜１４０℃である。 The reaction between (meth) acrylic acid and AO may be either batch type or continuous type. Moreover, reaction temperature is 40-150 degreeC normally, Preferably it is 50-140 degreeC.

反応終了後、冷却をしながら、ＡＯを脱気する。このように、反応終了後に冷却を行うことにより、副反応の抑制と重合防止が可能となる。 After completion of the reaction, AO is degassed while cooling. Thus, by performing cooling after completion of the reaction, it is possible to suppress side reactions and prevent polymerization.

ついで、冷却された反応液（以下、単に反応液という。）を一旦中間タンク２へ供給する。その後、供給管４を通じて、反応液を中間タンク２から予熱器５へと移液する。ついで、予熱器５において反応液を後述する温度範囲内まで予熱し、脱気塔供給口７を通じて脱気塔６へ導入し、さらに薄膜蒸発器９に導入する。反応液は一旦冷却されており、そのままの温度で薄膜蒸発器９に導入すると反応液の温度が急上昇して重合反応が起こってしまうおそれがあるが、予熱器５により予熱を行うことにより薄膜蒸発器９内での重合反応を抑制できる。ただし、予熱器５によって予熱された反応液の温度は、脱気塔６を経て薄膜蒸発器９に導入されるまでに数℃程度低下するため、その温度低下も考慮して予熱を行うようにする。 Next, the cooled reaction liquid (hereinafter simply referred to as reaction liquid) is once supplied to the intermediate tank 2. Thereafter, the reaction solution is transferred from the intermediate tank 2 to the preheater 5 through the supply pipe 4. Next, the reaction liquid is preheated to a temperature range described later in the preheater 5, introduced into the degassing tower 6 through the degassing tower supply port 7, and further introduced into the thin film evaporator 9. The reaction liquid is once cooled, and if it is introduced into the thin film evaporator 9 at the same temperature, the temperature of the reaction liquid may rise rapidly and a polymerization reaction may occur. However, by preheating with the preheater 5, the thin film evaporation is performed. The polymerization reaction in the vessel 9 can be suppressed. However, since the temperature of the reaction liquid preheated by the preheater 5 decreases by about several degrees C. before being introduced into the thin film evaporator 9 through the deaeration tower 6, preheating is performed in consideration of the temperature decrease. To do.

本発明の製造方法では、薄膜蒸発器９により反応液の蒸留を行うことにより、高温の反応液の蒸発器内における滞在時間を短くできるため、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルが重合することによる不具合が抑制される。
薄膜蒸発器９の圧力はできるだけ低い方が好ましく、真空発生装置３にて０．００１〜１．３３ｋＰａ、好ましくは０．０１〜０．４ｋＰａの減圧に保たれている。 In the production method of the present invention, the residence time of the high temperature reaction liquid in the evaporator can be shortened by distilling the reaction liquid with the thin film evaporator 9, so that the (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester is polymerized. Defects are suppressed.
The pressure of the thin film evaporator 9 is preferably as low as possible. The vacuum generator 3 is maintained at a reduced pressure of 0.001 to 1.33 kPa, preferably 0.01 to 0.4 kPa.

予熱器５としては、反応液を徐々に目的の温度まで予熱できるものであればよく、例えば、多管式熱交換器、単管式熱交換器、二重管式熱交換器、プレート式熱交換器のような予熱器を用いることができる。 The preheater 5 only needs to be capable of gradually preheating the reaction solution to a target temperature. For example, a multi-tube heat exchanger, a single-tube heat exchanger, a double-tube heat exchanger, a plate heat A preheater such as an exchanger can be used.

本発明の製造方法では、薄膜蒸発器９に導入する反応液の温度Ｔ（℃）を、下記式（１）に示す範囲内とすることを特徴とする。
Ｔｂ−３０≦Ｔ≦Ｔｂ−１・・・（１）
式（１）中、Ｔｂ（℃）は薄膜蒸発器９内の圧力下における（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの沸点である。
また、薄膜蒸発器９に導入する反応液の温度Ｔ（℃）は、Ｔｂ−２５≦Ｔ≦Ｔｂ−５であることが好ましい。 The production method of the present invention is characterized in that the temperature T (° C.) of the reaction solution introduced into the thin film evaporator 9 is within the range represented by the following formula (1).
Tb-30 ≦ T ≦ Tb−1 (1)
In the formula (1), Tb (° C.) is the boiling point of (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester under the pressure in the thin film evaporator 9.
The temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator 9 is preferably Tb-25 ≦ T ≦ Tb-5.

薄膜蒸発器９に導入する反応液の温度Ｔ（℃）をＴｂ−３０（℃）以上とすることにより、薄膜蒸発器９内で（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの重合反応が起きることを抑制でき、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを安定して製造できる。また、薄膜蒸発器９に導入する反応液の温度Ｔ（℃）をＴｂ−１（℃）以下とすることにより、反応液が薄膜蒸発器９内でフラッシュ蒸発したり、予熱器５内で沸騰したりすることを抑制でき、さらには予熱器５内で重合反応が起こって配管が閉塞したりすることがなくなり、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを安定して製造できる。 By setting the temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator 9 to Tb-30 (° C.) or higher, the polymerization reaction of the hydroxyalkyl ester of (meth) acrylic acid in the thin film evaporator 9 is suppressed. And (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester can be produced stably. Further, by setting the temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator 9 to Tb−1 (° C.) or less, the reaction liquid flashes and evaporates in the thin film evaporator 9 or boils in the preheater 5. In addition, the polymerization reaction does not occur in the preheater 5 and the piping is not blocked, and the (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester can be stably produced.

脱気塔６においては、脱気塔供給口７から供給される予熱された反応液と、キャリアガス供給口８から供給されるキャリアガスとを接触させることにより、反応液中のＡＯ等の低沸物を除去できる。脱気塔６は、反応液とキャリアガスとが効率的に接触するような構造であることが好ましい。このような構造としては、例えば、棚段の上から反応液を供給し、キャリアガスを下から供給することにより、向流で気液接触させるシーブトレイ状の構造が挙げられる。 In the deaeration tower 6, the preheated reaction liquid supplied from the deaeration tower supply port 7 and the carrier gas supplied from the carrier gas supply port 8 are brought into contact with each other, thereby reducing the AO or the like in the reaction liquid. Boils can be removed. It is preferable that the deaeration tower 6 has a structure in which the reaction liquid and the carrier gas are in efficient contact. Examples of such a structure include a sheave tray-like structure in which a reaction liquid is supplied from the top of the shelf and a carrier gas is supplied from the bottom to make gas-liquid contact in countercurrent.

キャリアガスは、薄膜蒸発器９で蒸留される反応液（蒸留液）に吸収され難い気体であればよく、品質、重合防止およびコスト等の面から、乾燥空気を用いることが好ましい。キャリアガスの供給量は、目的の純度を達成するために適宜調節すればよく、反応液１容量に対して０．３〜２容量とすることが好ましい。 The carrier gas may be any gas that is difficult to be absorbed by the reaction liquid (distilled liquid) distilled by the thin film evaporator 9, and dry air is preferably used from the viewpoints of quality, polymerization prevention, cost, and the like. What is necessary is just to adjust the supply amount of carrier gas suitably in order to achieve the target purity, and it is preferable to set it as 0.3-2 volume with respect to 1 volume of reaction liquids.

脱気塔６において低沸物を除去した反応液は、Ｔｂ＋１（℃）〜Ｔｂ＋８０（℃）、好ましくはＴｂ＋５（℃）〜Ｔｂ＋６０（℃）に加熱した薄膜蒸発器９にて蒸留し、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル１０と蒸発残渣１１とに分離する。 The reaction liquid from which low boiling substances have been removed in the degassing tower 6 is distilled in a thin film evaporator 9 heated to Tb + 1 (° C.) to Tb + 80 (° C.), preferably Tb + 5 (° C.) to Tb + 60 (° C.) ) Separated into hydroxyalkyl ester of acrylic acid 10 and evaporation residue 11.

以上説明した、本発明の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの製造方法では、薄膜蒸発器に導入する反応液の温度Ｔ（℃）をＴｂ−３０≦Ｔ≦Ｔｂ−１とすることにより、薄膜蒸発器９内での（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの重合反応を抑制できるため、安定して（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルを製造できる。該理由としては、薄膜蒸発器に導入する反応液を前記温度範囲に予熱しておくことにより、薄膜蒸発器内で反応液が急激に加熱されることがなくなるためであると考えられる。薄膜蒸発器は、蒸発器のなかでも反応液（蒸留液）の温度が短時間で上昇するため、蒸発器内で重合反応が生じる傾向が高い。しかし、本発明の製造方法は薄膜蒸発器を用いても蒸発器内における重合反応を抑制できるため、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの製造方法に好適に使用できる。
また、本発明の方法では、（メタ）アクリル酸とＡＯを反応させた後に反応液を一旦冷却するため、蒸留前の副反応や重合反応を抑制することができる。 In the method for producing a hydroxyalkyl ester of (meth) acrylic acid according to the present invention as described above, the temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator is set to Tb-30 ≦ T ≦ Tb−1. Since the polymerization reaction of the (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester in the evaporator 9 can be suppressed, the (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester can be stably produced. The reason for this is considered to be that the reaction liquid is not rapidly heated in the thin film evaporator by preheating the reaction liquid introduced into the thin film evaporator to the above temperature range. In the thin film evaporator, the temperature of the reaction liquid (distilled liquid) rises in a short time among the evaporators, so that the polymerization reaction tends to occur in the evaporator. However, since the production method of the present invention can suppress the polymerization reaction in the evaporator even when a thin film evaporator is used, it can be suitably used for the production method of (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester.
Moreover, in the method of this invention, since the reaction liquid is once cooled after making (meth) acrylic acid and AO react, the side reaction and polymerization reaction before distillation can be suppressed.

尚、本発明の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの製造方法においては、予熱器５によって予熱した反応液は、脱気塔６に通過させずに薄膜蒸発器９に直接導入してもよい。
また、（メタ）アクリル酸とＡＯを反応させた後に反応液を冷却する際に、同時にＡＯの脱気を行わない方法であってもよい。 In the method for producing a (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester of the present invention, the reaction liquid preheated by the preheater 5 may be directly introduced into the thin film evaporator 9 without passing through the degassing tower 6.
Further, when the reaction solution is cooled after reacting (meth) acrylic acid and AO, a method in which AO is not deaerated at the same time may be used.

以下、実施例および比較例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は以下の記載によって限定されるものではない。
［実施例１］
図１に示す装置を用いて、メタクリル酸とＥＯとを反応器１で反応（７０℃）させ、反応終了後に反応液を冷却しながらＥＯを脱気して中間タンク２に移液した（液温３０℃）。
ついで、反応液を中間タンク２から１．３５ｍ^３／ｈの流量で予熱器５（多管式熱交換器）へ供給した。予熱器５において、液温３０℃の反応液を１１０ｋＰａの蒸気にて５０℃に予熱し、１．３５ｍ^３／ｈの流量で、５段のシーブトレイで構成されている脱気塔６へ、脱気塔供給口７から供給した。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited by the following description.
[Example 1]
Using the apparatus shown in FIG. 1, methacrylic acid and EO were reacted in a reactor 1 (70 ° C.), and after completion of the reaction, EO was degassed while cooling the reaction solution and transferred to the intermediate tank 2 (liquid) Temperature 30 ° C).
Subsequently, the reaction solution was supplied from the intermediate tank 2 to the preheater 5 (multi-tubular heat exchanger) at a flow rate of 1.35 m ³ / h. In the preheater 5, the reaction liquid with a liquid temperature of 30 ° C. is preheated to 50 ° C. with 110 kPa of steam, and degassed to the deaeration tower 6 composed of a five-stage sieve tray at a flow rate of 1.35 m ³ / h. The gas was supplied from the air tower supply port 7.

また、乾燥空気を０．６５Ｎｍ^３／ｈの流量でキャリアガス供給口８から供給し、予熱された反応液と脱気塔６内にて０．１３ｋＰａの減圧下で接触させて低沸物を除去した。低沸物を除去した反応液を脱気塔６から移液し、薄膜蒸発器９に供給した。薄膜蒸発器９に導入される反応液の温度Ｔは、薄膜蒸発器９の直前に設置した温度計測器により測定した。温度Ｔは４９℃であった。脱気塔６から供給された反応液を、薄膜蒸発器９において０．１３ｋＰａ、１２０℃で蒸留し、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル（０．１３ｋＰａにおけるＴｂは６８℃である。）を得た。
上記操作を１ヶ月連続して運転し、薄膜蒸発器９の内部を確認したが重合物の付着はほとんど見られなかった。 Further, dry air is supplied from the carrier gas supply port 8 at a flow rate of 0.65 Nm ³ / h, and the preheated reaction solution is brought into contact with the degassing tower 6 under a reduced pressure of 0.13 kPa to reduce low boiling substances. Removed. The reaction solution from which the low boiling point had been removed was transferred from the degassing tower 6 and supplied to the thin film evaporator 9. The temperature T of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator 9 was measured by a temperature measuring device installed immediately before the thin film evaporator 9. The temperature T was 49 ° C. The reaction solution supplied from the degassing tower 6 was distilled at 0.13 kPa and 120 ° C. in the thin film evaporator 9 to obtain 2-hydroxyethyl methacrylate (Tb at 0.13 kPa is 68 ° C.).
The above operation was continued for one month, and the inside of the thin film evaporator 9 was confirmed, but adhesion of polymer was hardly observed.

［実施例２］
予熱器５による予熱温度および薄膜蒸発器９に導入される反応液の温度Ｔ（℃）を表１に示すとおりに変更した以外は、実施例１と同様の方法でメタクリル酸２−ヒドロキシエチルを製造した。 [Example 2]
Except that the preheating temperature by the preheater 5 and the temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator 9 were changed as shown in Table 1, 2-hydroxyethyl methacrylate was prepared in the same manner as in Example 1. Manufactured.

［比較例１〜２］
予熱器５による予熱温度および薄膜蒸発器９に導入される反応液の温度Ｔ（℃）を表１に示すとおりに変更した以外は、実施例１と同様の方法でメタクリル酸２−ヒドロキシエチルを製造した。
実施例および比較例におけるメタクリル酸２−ヒドロキシエチル蒸留工程の運転結果を表１に示す。ただし、表１中のＨＥＭＡとは、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルを意味する。 [Comparative Examples 1-2]
Except that the preheating temperature by the preheater 5 and the temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator 9 were changed as shown in Table 1, 2-hydroxyethyl methacrylate was prepared in the same manner as in Example 1. Manufactured.
Table 1 shows the operation results of the 2-hydroxyethyl methacrylate distillation step in Examples and Comparative Examples. However, HEMA in Table 1 means 2-hydroxyethyl methacrylate.

薄膜蒸発器９に導入する反応液の温度Ｔ（℃）をＴｂ−３０≦Ｔ≦Ｔｂ−１の範囲内とした実施例１〜２では、薄膜蒸発器９内でメタクリル酸２−ヒドロキシエチルが重合することなく、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルが安定して得られた。 In Examples 1 and 2 in which the temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator 9 was in the range of Tb-30 ≦ T ≦ Tb−1, 2-hydroxyethyl methacrylate was formed in the thin film evaporator 9. Without polymerization, 2-hydroxyethyl methacrylate was stably obtained.

一方、薄膜蒸発器９に導入する反応液の温度Ｔ（℃）がＴｂ−３０（℃）よりも低い比較例１では、薄膜蒸発器９内でのメタクリル酸２−ヒドロキシエチルの重合が見られた。また、薄膜蒸発器９に導入する反応液の温度Ｔ（℃）がＴｂ−１（℃）よりも高い比較例２では、薄膜蒸発器９内で真空度や留出量が不安定となり、また、予熱器５内での重合が発生し、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルを安定して得ることができなかった。 On the other hand, in Comparative Example 1 in which the temperature T (° C.) of the reaction solution introduced into the thin film evaporator 9 is lower than Tb-30 (° C.), polymerization of 2-hydroxyethyl methacrylate in the thin film evaporator 9 is observed. It was. Further, in Comparative Example 2 in which the temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator 9 is higher than Tb-1 (° C.), the degree of vacuum and the amount of distillation become unstable in the thin film evaporator 9. Polymerization in the preheater 5 occurred, and 2-hydroxyethyl methacrylate could not be stably obtained.

本発明の製造方法は、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの重合反応が起きるおそれが少なく、より安定に（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルが製造できるため有用である。 The production method of the present invention is useful because the polymerization reaction of (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester is less likely and (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester can be produced more stably.

本発明の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルの製造方法のプロセスフローおよびそれに用いる装置の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the process flow of the manufacturing method of the (meth) acrylic-acid hydroxyalkyl ester of this invention, and the apparatus used for it.

Explanation of symbols

１反応器
２中間タンク
３真空発生装置
４供給管
５予熱器
６脱気塔
７脱気塔供給口
８キャリアガス供給口
９薄膜蒸発器
１０（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル
１１蒸発残渣 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reactor 2 Intermediate tank 3 Vacuum generator 4 Supply pipe 5 Preheater 6 Deaeration tower 7 Deaeration tower supply port 8 Carrier gas supply port 9 Thin film evaporator 10 (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester 11 Evaporation residue

Claims

A step of reacting (meth) acrylic acid and alkylene oxide to obtain a reaction liquid containing (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester, and after cooling the reaction liquid once, from the reaction liquid (meta And a step of separating the hydroxyalkyl ester of acrylic acid,
A method for producing a (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester, wherein the temperature T (° C.) of the reaction liquid introduced into the thin film evaporator is within the range represented by the following formula (1).
Tb-30 ≦ T ≦ Tb−1 (1)
In the formula (1), Tb (° C.) is the boiling point of the hydroxyalkyl ester of (meth) acrylic acid under the pressure in the thin film evaporator.