JP2009298109A - Laser-engravable relief printing plate original plate, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate - Google Patents

Laser-engravable relief printing plate original plate, relief printing plate, and method of manufacturing relief printing plate Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser-engravable relief printing plate original plate having a sufficiently high engraving sensibility, capable of being directly laser-engraved to make a plate, and capable of suppressing an unpleasant odor which is generated at that time, a method of manufacturing a relief printing plate using the relief printing plate original plate, and a relief printing plate obtained by the manufacturing method. <P>SOLUTION: The laser-engravable relief printing plate original plate a relief forming layer at least containing a polyfunctional polymerizable compound (A) having an ethylenic unsaturated bond, a binder polymer (B), and a fragrant material (C). The relief printing plate, and the method of manufacturing the relief printing plate are also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法に関する。   The present invention relates to a relief printing plate precursor for laser engraving, a relief printing plate, and a method for producing a relief printing plate.

支持体表面積に積層された感光性樹脂層に凹凸を形成して印刷版を形成する方法としては、感光性組成物を用いて形成したレリーフ形成層に、原画フィルムを介して紫外光により露光し、画像部分を選択的に硬化させて、未硬化部を現像液により除去する方法、いわゆる「アナログ製版」がよく知られている。   As a method for forming a printing plate by forming irregularities on a photosensitive resin layer laminated on a surface area of a support, a relief forming layer formed using a photosensitive composition is exposed to ultraviolet light through an original film. A method of selectively curing an image portion and removing an uncured portion with a developer, so-called “analog plate making” is well known.

レリーフ印刷版は、凹凸を有するレリーフ層を有する凸版印刷版であり、このような凹凸を有するレリーフ層は、主成分として、例えば、合成ゴムのようなエラストマー性ポリマー、熱可塑性樹脂などの樹脂、或いは、樹脂と可塑剤との混合物を含有する感光性組成物を含有するレリーフ形成層をパターニングし、凹凸を形成することにより得られる。このようなレリーフ印刷版うち、軟質なレリーフ層を有するものをフレキソ版と称することがある。   The relief printing plate is a relief printing plate having a relief layer having irregularities, and the relief layer having such irregularities includes, for example, an elastomeric polymer such as synthetic rubber, a resin such as a thermoplastic resin, Alternatively, it is obtained by patterning a relief forming layer containing a photosensitive composition containing a mixture of a resin and a plasticizer to form irregularities. Of such relief printing plates, those having a soft relief layer are sometimes referred to as flexographic plates.

レリーフ印刷版をアナログ製版により作製する場合、一般に銀塩材料を用いた原画フィルムを必要とするため、原画フィルムの製造時間及びコストを要する。更に、原画フィルムの現像に化学的な処理が必要で、且つ、現像廃液の処理をも必要とすることから、更に簡易な版の作製方法、例えば、原画フィルムを用いない方法、現像処理を必要としない方法などが検討されている。   When producing a relief printing plate by analog plate making, since an original image film using a silver salt material is generally required, the production time and cost of the original image film are required. Furthermore, since chemical processing is required for development of the original film and processing of the development waste liquid is also required, a simpler plate preparation method, for example, a method that does not use the original film, and development processing are required. Methods that do not and are being studied.

近年は、原画フィルムを必要とせず、走査露光によりレリーフ形成層の製版を行う方法が検討されている。
原画フィルムを必要としない手法として、レリーフ形成層上に画像マスクを形成可能なレーザー感応式のマスク層要素を設けたレリーフ印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献1、2参照。)。これらの原版の製版方法によれば、画像データに基づいたレーザー照射によりマスク層要素から原画フィルムと同様の機能を有する画像マスクが形成されるため、「マスクCTP方式」と称されており、原画フィルムは必要ではないが、その後の製版処理は、画像マスクを介して紫外光で露光し、未硬化部を現像除去する工程であり、現像処理を必要とする点でなお改良の余地がある。
In recent years, a method of making a relief forming layer by scanning exposure without using an original film has been studied.
As a technique that does not require an original image film, a relief printing plate precursor provided with a laser-sensitive mask layer element capable of forming an image mask on a relief forming layer has been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2). . According to these plate making methods, since an image mask having the same function as the original film is formed from the mask layer element by laser irradiation based on the image data, it is referred to as “mask CTP method”. A film is not necessary, but the subsequent plate making process is a process of exposing with ultraviolet light through an image mask to develop and remove an uncured portion, and there is still room for improvement in that a development process is required.

現像工程を必要としない製版方法として、レリーフ形成層をレーザーにより直接彫刻し製版する、いわゆる「直彫りCTP方式」が多く提案されている。直彫りCTP方式は、文字通りレーザーで彫刻することにより、レリーフとなる凹凸を形成する方法で、原画フィルムを用いたレリーフ形成と異なり、自由にレリーフ形状を制御することができるという利点がある。このため、抜き文字の如き画像を形成する場合、その領域を他の領域よりも深く彫刻する、或いは、微細網点画像では、印圧に対する抵抗を考慮し、ショルダーをつけた彫刻をする、なども可能である。
しかしながら、所定の厚みを有するレリーフ形成層に印圧に耐える凹凸を有するレリーフを形成するには高エネルギーを要し、レーザー彫刻の速度が遅いため、マスクを介して画像形成するタイプに比較し、生産性が低いという問題がある。
Many so-called “direct engraving CTP methods” in which a relief forming layer is directly engraved with a laser to make a plate as a plate making method that does not require a development step have been proposed. The direct engraving CTP method literally engraves with a laser to form reliefs, and has the advantage that the relief shape can be freely controlled, unlike the relief formation using the original film. For this reason, when an image such as a letter is formed, the area is engraved deeper than other areas, or the fine halftone dot image is engraved with a shoulder in consideration of resistance to printing pressure. Is also possible.
However, high energy is required to form a relief having irregularities that can withstand printing pressure on a relief forming layer having a predetermined thickness, and the speed of laser engraving is slow, so compared to the type that forms an image through a mask, There is a problem of low productivity.

このため、レリーフ原版の感度を向上させることが試みられており、例えば、エラストマー発泡体を含むレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。この技術では、レリーフ形成層に密度の低い発泡体を用いることで、彫刻感度の向上を図っているが、低密度の材料であるため印刷版としての強度が不足し、耐刷性が著しく損なわれるという問題がある。   For this reason, attempts have been made to improve the sensitivity of the relief original plate. For example, a flexographic printing plate precursor for laser engraving including an elastomer foam has been proposed (see, for example, Patent Document 3). In this technology, low-density foam is used for the relief forming layer to improve the engraving sensitivity. However, because it is a low-density material, the strength of the printing plate is insufficient and the printing durability is significantly impaired. There is a problem of being.

また、例えば、特許文献4〜6には、レーザー彫刻可能なフレキソ版原版、或いはレーザー彫刻によって得られたフレキソ版が開示されている。これら文献では、バインダーとしてエラストマー性のゴムにモノマーを混合し、熱重合機構或いは光重合機構によりこれら混合物を硬化させた後、レーザー彫刻を行い、フレキソ版を得ているが、レーザー彫刻時にゴムが焼け焦げたような不快臭が発生するという問題がある。   Further, for example, Patent Documents 4 to 6 disclose flexographic printing plate precursors capable of laser engraving or flexographic printing plates obtained by laser engraving. In these documents, a monomer is mixed with an elastomeric rubber as a binder, the mixture is cured by a thermal polymerization mechanism or a photopolymerization mechanism, and then laser engraving is performed to obtain a flexographic plate. There is a problem that an unpleasant odor such as scorching is generated.

また、直彫りCTP方式が有する課題として、レーザー彫刻の速度が遅いことが挙げられる。これはマスクCTP方式では、アブレーションすべき対象のマスク層要素の厚さが1〜10μm程度であるのに対し、直彫りCTP方式では直接レリーフを形成する機能上、少なくとも100μmは彫刻する必要があるためである。
そのため、レーザー彫刻感度の向上を図った提案が、下記のように、いくつかなされている。
Moreover, the problem of the direct engraving CTP method is that the laser engraving speed is low. In the mask CTP method, the thickness of the mask layer element to be ablated is about 1 to 10 μm, whereas in the direct engraving CTP method, it is necessary to engrave at least 100 μm in order to directly form a relief. Because.
Therefore, some proposals for improving the laser engraving sensitivity have been made as follows.

例えば、エラストマー発泡体を含むレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献7参照。)。この技術では、密度の低い発泡体を用いることで、彫刻感度の向上を図っているが、低密度の材料であるため印刷版としての強度が不足し、耐刷性が著しく損なわれるという問題がある。
例えば、炭化水素系の気体を封入したマイクロスフィアを含有するレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版が提案されている(例えば、特許文献8参照。)。この技術では、レーザーで発生する熱によりマイクロスフィア内の気体が膨張して、被彫刻材料を崩壊させるシステムにより、彫刻感度の向上を図っているが、気泡を含む材料系なので、印刷版としての強度は不足しやすいという問題がある。また、気体は固体に比べて熱で膨張しやすい性質があり、熱変形開始温度の高いマイクロスフィアを選択しても、外温の変化による体積変化はさけられないことから、厚み精度の安定性が要求される印刷版に、気泡を含む材料を用いることは適していない。
例えば、天井温度が600度K未満の高分子充填剤を含有するレーザー彫刻用樹脂凸版印刷版が提案されている(例えば、特許文献9参照。)。この技術では、解重合温度の低い高分子充填剤を添加することで彫刻感度の向上を図っているが、このような高分子充填剤を用いると、印刷版原版の表面に凹凸がついてしまい、印刷品質に重大な影響を与えるといった問題を有する。
For example, a flexographic printing plate precursor for laser engraving including an elastomer foam has been proposed (see, for example, Patent Document 7). In this technology, the engraving sensitivity is improved by using a foam having a low density. However, since it is a low density material, the strength as a printing plate is insufficient, and the printing durability is remarkably impaired. is there.
For example, a flexographic printing plate precursor for laser engraving that contains a microsphere encapsulating a hydrocarbon-based gas has been proposed (see, for example, Patent Document 8). In this technology, the gas in the microspheres expands due to the heat generated by the laser, and the engraving sensitivity is improved by a system that disintegrates the material to be engraved. There is a problem that the strength tends to be insufficient. In addition, gas is more easily expanded by heat than solids, and even if a microsphere with a high thermal deformation start temperature is selected, volume change due to changes in external temperature cannot be avoided. However, it is not suitable to use a material containing air bubbles in a printing plate that requires the above.
For example, a resin relief printing plate for laser engraving containing a polymer filler having a ceiling temperature of less than 600 degrees K has been proposed (see, for example, Patent Document 9). In this technology, the engraving sensitivity is improved by adding a polymer filler having a low depolymerization temperature. However, when such a polymer filler is used, the surface of the printing plate precursor is uneven, There is a problem of seriously affecting the print quality.

また、レーザー彫刻に供した際に発生する不快臭を抑制する技術としては、例えば、繰り返し単位として45質量%以上のエチレン単位を含む重合体と、有機過酸化物とを含有する重合体組成物が架橋されてなるレーザー加工用重合体材料からなることを特徴とするフレキソ印刷版が提案されている(例えば、特許文献10参照)。このフレキソ印刷版によれば、重合体材料からの臭気を改善することができる。   In addition, as a technique for suppressing an unpleasant odor generated when subjected to laser engraving, for example, a polymer composition containing a polymer containing 45% by mass or more of ethylene units as a repeating unit and an organic peroxide. There has been proposed a flexographic printing plate characterized in that it is made of a polymer material for laser processing formed by cross-linking (see, for example, Patent Document 10). According to this flexographic printing plate, the odor from the polymer material can be improved.

以上のように、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層に関しては種々の技術が提案されているが、レーザー彫刻に供した際の彫刻感度を高く保ちつつ、レーザー彫刻時に発生する不快臭を抑制したものは、未だ殆ど提供されていないのが現状である。
特許第2773847号公報 特開平9−171247号公報 特開2002−357907号公報 特許第2846954号公報 特開平11−338139号公報 特開平11−170718号公報 特開2000−318330号公報 米国特許出願公開2003/180636号明細書 特開2000−168253号公報 特開2002−3665号公報
As described above, various techniques have been proposed for the relief forming layer of the relief printing plate precursor for laser engraving. The current situation is that almost no suppression has been provided.
Japanese Patent No. 2773847 JP-A-9-171247 JP 2002-357907 A Japanese Patent No. 2846954 JP 11-338139 A JP-A-11-170718 JP 2000-318330 A US Patent Application Publication No. 2003/180636 JP 2000-168253 A Japanese Patent Laid-Open No. 2002-3665

本発明は以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、彫刻感度が充分に高く、レーザー彫刻により直接製版が可能であり、且つ、その際に発生する不快臭を抑制しうるレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製造方法、並びに該製造方法により得られたレリーフ印刷版を提供することにある。
This invention makes it a subject to achieve the following objectives.
That is, an object of the present invention is to provide a relief printing plate precursor for laser engraving, which has sufficiently high engraving sensitivity, can be directly made by laser engraving, and can suppress unpleasant odors generated at that time, and the relief printing The object is to provide a method for producing a relief printing plate using a plate precursor and a relief printing plate obtained by the production method.

前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、(A)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、(B)バインダーポリマー、及び、(C)香料を少なくとも含有するレリーフ形成層を有することを特徴とする。
Means for solving the above-mentioned problems are as follows.
The relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a relief forming layer containing at least (A) a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) a binder polymer, and (C) a fragrance. And

本発明レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版において、(A)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物が、分子内に硫黄原子を有する化合物であることが好ましい。
また、(C)香料は、天然香料を含むことが好ましく、また、合成香料を含むことも好ましい。
更に、(C)香料は、エステル化合物を含むことが好ましく、また、テルペン化合物を含むことも好ましい。
加えて、本発明におけるレリーフ形成層は、(D)700nm〜1300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤を更に含有することが好ましい。
更に加えて、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層は、光及び熱の少なくとも一方により硬化するものであることが好ましい。
In the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention, (A) the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond is preferably a compound having a sulfur atom in the molecule.
Moreover, it is preferable that (C) fragrance | flavor contains a natural fragrance | flavor and it is also preferable that a synthetic | combination fragrance | flavor is included.
Furthermore, (C) the fragrance preferably contains an ester compound, and preferably contains a terpene compound.
In addition, the relief forming layer in the present invention preferably further contains (D) a photothermal conversion agent capable of absorbing light having a wavelength of 700 nm to 1300 nm.
In addition, the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention is preferably cured by at least one of light and heat.

本発明のレリーフ印刷版の製造方法は、(1)本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層を光及び熱の少なくとも一方により架橋する工程、及び、(2)架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程、を含むことを特徴とする。
また、前記(1)工程が、レリーフ形成層を熱により架橋する工程であることが好ましい。
The method for producing a relief printing plate of the present invention comprises (1) a step of crosslinking the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention by at least one of light and heat, and (2) formation of a crosslinked relief. A step of laser engraving the layer to form a relief layer.
Further, the step (1) is preferably a step of crosslinking the relief forming layer with heat.

本発明のレリーフ印刷版は、本発明のレリーフ印刷版の製造方法により製造された、レリーフ層を有することを特徴とする。
本発明のレリーフ印刷版において、レリーフ層の厚みが、0.05mm以上10mm以下であることが好ましく、また、レリーフ層のショアA硬度が、50°以上90°以下であることが好ましい。
The relief printing plate of the present invention has a relief layer produced by the method for producing a relief printing plate of the present invention.
In the relief printing plate of the present invention, the thickness of the relief layer is preferably from 0.05 mm to 10 mm, and the Shore A hardness of the relief layer is preferably from 50 ° to 90 °.

本発明によれば、彫刻感度が充分に高く、レーザー彫刻により直接製版が可能であり、且つ、その際に発生する不快臭を抑制しうるレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、及び該レリーフ印刷版原版を用いたレリーフ印刷版の製造方法、並びに該製造方法より得られたレリーフ印刷版を提供することができる。   According to the present invention, a relief printing plate precursor for laser engraving that has sufficiently high engraving sensitivity, can be directly made by laser engraving, and can suppress unpleasant odors generated at that time, and the relief printing plate precursor It is possible to provide a method for producing a relief printing plate using, and a relief printing plate obtained by the production method.

以下、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the relief printing plate precursor for laser engraving, the relief printing plate, and the method for producing the relief printing plate of the present invention will be described in detail.

[レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版]
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、(A)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、及び(B)バインダーポリマー、(C)香料を少なくとも含有するレリーフ形成層を有する。
以下、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版については、単に、「本発明のレリーフ印刷版原版」とも称する。
[Relief printing plate precursor for laser engraving]
The relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a relief forming layer containing at least (A) a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) a binder polymer, and (C) a fragrance.
Hereinafter, the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention is also simply referred to as “the relief printing plate precursor of the present invention”.

本発明のレリーフ印刷版原版は、レーザー彫刻に供した際の彫刻感度が充分に高く、高速でレーザー彫刻を行うことができるため、彫刻時間についても短縮することができると共に、また、レーザー彫刻時に発生する不快臭を抑えることができる。
以下、レリーフ形成層を構成する各成分について説明する。
The relief printing plate precursor of the present invention has sufficiently high engraving sensitivity when subjected to laser engraving and can perform laser engraving at high speed, so that the engraving time can be shortened, and also during laser engraving. The unpleasant odor which generate | occur | produces can be suppressed.
Hereinafter, each component constituting the relief forming layer will be described.

<(A)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物>
本発明におけるレリーフ形成層は、(A)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を含有する。
本発明において用いられるエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物(以下、単に「重合性化合物」と称する場合がある。)は、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上、より好ましくは2個〜6個有する化合物の中から任意に選択することができる。
<(A) Polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond>
The relief forming layer in the present invention contains (A) a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond.
The polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond used in the present invention (hereinafter sometimes simply referred to as “polymerizable compound”) has at least one ethylenically unsaturated double bond, preferably two or more. More preferably, it can be arbitrarily selected from 2 to 6 compounds.

以下、重合性化合物として用いられる、エチレン性不飽和二重結合を分子内に1つ有する単官能モノマー、及び、同結合を分子内に2個以上有する多官能モノマーについて説明する。
本発明におけるレリーフ形成層には、多官能モノマーが好ましく使用される。これらの多官能モノマーの分子量は、200〜2,000であることが好ましい。
単官能モノマー及び多官能モノマーとしては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
Hereinafter, the monofunctional monomer which has one ethylenically unsaturated double bond in a molecule | numerator used as a polymeric compound, and the polyfunctional monomer which has 2 or more of the said bonds in a molecule | numerator are demonstrated.
In the relief forming layer in the present invention, a polyfunctional monomer is preferably used. The molecular weight of these polyfunctional monomers is preferably 200 to 2,000.
Examples of monofunctional monomers and polyfunctional monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters of polyhydric alcohol compounds, unsaturated carboxylic acids, Examples include amides with polyvalent amine compounds.

多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of esters of polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol diacrylate. , Propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetra Ethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, Taerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester Examples include acrylate oligomers.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
更に、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることができる。
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
Furthermore, the mixture of the above-mentioned ester monomer can also be mentioned.

また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of amide monomers of polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis-methacrylic. Examples include amide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.

また、特開昭51−37193号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号の各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。更に日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308頁(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも、使用することができる。
具体的には、NKオリゴ U−4HA、U−4H、U−6HA、U−6ELH、U−108A、U−1084A、U−200AX、U−122A、U−340A、U−324A、UA−100(以上、新中村化学工業製)、UA−306H、AI−600、UA−101T、UA−101I、UA−306T、UA−306I(以上、共栄社油脂製)、アートレジン UN−9200A、UN−3320HA、UN−3320HB、UN−3320HC、SH−380G、SH−500、SH−9832(以上、根上工業製)、PLEX6661−O(独・Degussa社製)等を挙げることができる。
Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490 are described. Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid can be given. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association Vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), those introduced as photocurable monomers and oligomers can also be used.
Specifically, NK oligo U-4HA, U-4H, U-6HA, U-6ELH, U-108A, U-1084A, U-200AX, U-122A, U-340A, U-324A, UA-100 (Above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), UA-306H, AI-600, UA-101T, UA-101I, UA-306T, UA-306I (above, manufactured by Kyoeisha Yushi), Art Resin UN-9200A, UN-3320HA , UN-3320HB, UN-3320HC, SH-380G, SH-500, SH-9832 (manufactured by Negami Industrial Co., Ltd.), PLEX6661-O (manufactured by Degussa, Germany), and the like.

本発明においては、重合性化合物として、彫刻感度向上の観点から、分子内に硫黄原子を有する化合物を用いることが好ましい。
このように分子内に硫黄原子を有する重合性化合物としては、彫刻感度向上の観点から、特に、2つ以上のエチレン性不飽和結合を有し、そのうち2つのエチレン性不飽和結合間を連結する部位に炭素−硫黄結合を有する重合性化合物(以下、適宜、「含硫黄多官能モノマー」と称する。)を用いることが好ましい。
In the present invention, a compound having a sulfur atom in the molecule is preferably used as the polymerizable compound from the viewpoint of improving engraving sensitivity.
Thus, as a polymeric compound which has a sulfur atom in a molecule | numerator, from a viewpoint of an engraving sensitivity improvement, it has two or more ethylenically unsaturated bonds especially, and connects between two ethylenically unsaturated bonds among them. It is preferable to use a polymerizable compound having a carbon-sulfur bond at the site (hereinafter appropriately referred to as “sulfur-containing polyfunctional monomer”).

本発明における含硫黄多官能モノマー中の炭素−硫黄結合を含んだ官能基としては、スルフィド、ジスルフィド、スルホキシド、スルホニル、スルホンアミド、チオカルボニル、チオカルボン酸、ジチオカルボン酸、スルファミン酸、チオアミド、チオカルバメート、ジチオカルバメート、又はチオ尿素を含む官能基が挙げられる。
彫刻感度の観点から、好ましくは、ジスルフィド、チオカルバメート、又はジチオカルバメートを含む官能基であり、より好ましくはジスルフィドを含む官能基である。
また、含硫黄多官能モノマーにおける2つのエチレン性不飽和結合間を連結する炭素−硫黄結合を含有する連結基としては、−C−S−、−C−SS−、−NH(C=S)O−、−NH(C=O)S−、−NH(C=S)S−、及び−C−SO−から選択される少なくとも1つのユニットであることが好ましく、中でも、彫刻感度をより高めるといった観点から、−C−SS−、−NH(C=S)O−、−NH(C=O)S−、−NH(C=S)S−ガ好ましく、−C−SS−が最も好ましい。
The functional group containing a carbon-sulfur bond in the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention includes sulfide, disulfide, sulfoxide, sulfonyl, sulfonamide, thiocarbonyl, thiocarboxylic acid, dithiocarboxylic acid, sulfamic acid, thioamide, and thiocarbamate. , Functional groups containing dithiocarbamate or thiourea.
From the viewpoint of engraving sensitivity, a functional group containing disulfide, thiocarbamate, or dithiocarbamate is preferred, and a functional group containing disulfide is more preferred.
In addition, as a linking group containing a carbon-sulfur bond that connects two ethylenically unsaturated bonds in a sulfur-containing polyfunctional monomer, -C-S-, -C-SS-, -NH (C = S) It is preferably at least one unit selected from O—, —NH (C═O) S—, —NH (C═S) S—, and —C—SO 2 —. From the viewpoint of increasing, -C-SS-, -NH (C = S) O-, -NH (C = O) S-, -NH (C = S) S-ga are preferred, and -C-SS- is the most preferable.

また、含硫黄多官能モノマーの分子内に含まれる硫黄原子の数は1つ以上であれば特に制限は無く、目的に応じて、適宜選択することができるが、彫刻感度と塗布溶剤に対する溶解性のバランスの観点から、1個〜10個が好ましく、1個〜5個がより好ましく、1個〜2個が更に好ましい。
一方、分子内に含まれるエチレン性不飽和部位の数は2つ以上であれば特に制限は無く、目的に応じて、適宜選択することができるが、架橋膜の柔軟性の観点で、2個〜10個が好ましく、2個〜6個がより好ましく、2個〜4個が更に好ましい。
Further, the number of sulfur atoms contained in the molecule of the sulfur-containing polyfunctional monomer is not particularly limited as long as it is 1 or more, and can be appropriately selected according to the purpose, but engraving sensitivity and solubility in a coating solvent. From the viewpoint of balance, 1 to 10 is preferable, 1 to 5 is more preferable, and 1 to 2 is still more preferable.
On the other hand, the number of ethylenically unsaturated sites contained in the molecule is not particularly limited as long as it is 2 or more, and can be appropriately selected according to the purpose. -10 are preferable, 2-6 are more preferable, and 2-4 are still more preferable.

含硫黄多官能モノマーに含まれるエチレン性不飽和部位としては、例えば、下記一般式(1)〜(5)のいずれかで表される部分構造が好適であるが、重合物の分解性の観点から、好ましくは一般式(1)〜(3)のいずれかで表される部分構造であり、より好ましくは、一般式(1)で表される部分構造である。
なお、本発明における含硫黄多官能モノマーにおいて、下記一般式(1)〜(5)のいずれかの部分構造は、1分子中に同種のものが2つ以上存在していてもよいし、異種のものが2つ以上存在していてもよい。
As the ethylenically unsaturated site contained in the sulfur-containing polyfunctional monomer, for example, a partial structure represented by any one of the following general formulas (1) to (5) is preferable, but the degradability viewpoint of the polymer is preferable. Therefore, the partial structure represented by any one of the general formulas (1) to (3) is preferable, and the partial structure represented by the general formula (1) is more preferable.
In the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention, two or more of the same types of partial structures of the following general formulas (1) to (5) may be present in one molecule, or different types. Two or more things may exist.

Figure 2009298109
Figure 2009298109

まず、一般式(1)〜(3)について説明する。
一般式(1)〜(3)中、R〜R11は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。X及びYは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、−N−R−、又はスルホニル基を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N−R−、スルホニル基、又はフェニレン基を表す。ここで、Rは、水素原子、又は1価の有機基をあらわす。
First, general formulas (1) to (3) will be described.
In general formulas (1) to (3), R 1 to R 11 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. X and Y each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, —N—R a —, or a sulfonyl group, and Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N—R a —, a sulfonyl group, or a phenylene group. Represents. Here, R a represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.

前記一般式(1)において、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。
としては、水素原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基など有機基が挙げられ、中でも、具体的には、水素原子、メチル基、メチルアルコキシ基、メチルエステル基が好ましい。
また、R及びRとしては、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。
Xとしては、酸素原子、硫黄原子、又は、−N−R−が好ましく、Rとしては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。
In the general formula (1), R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.
Examples of R 1 include a hydrogen atom or an organic group such as an alkyl group which may have a substituent. Among them, a hydrogen atom, a methyl group, a methylalkoxy group, and a methyl ester group are specifically preferable.
R 2 and R 3 each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or a substituent. A good alkyl group, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent, An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like are mentioned. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, alkoxycarbonyl A group, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl group which may have a substituent are preferable. Here, examples of the substituent that can be introduced into these groups include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.
X is preferably an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R a —, and examples of R a include an alkyl group that may have a substituent.

前記一般式(2)において、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。
〜Rとしては、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、一般式(1)において導入しうる置換基として挙げたものが例示される。
Yとしては、酸素原子、硫黄原子、又は−N−R−が好ましく、Rとしては、一般式(1)におけるのと同様のものが挙げられる。
In the general formula (2), R 4 to R 8 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.
Examples of R 4 to R 8 include a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, and an alkyl group that may have a substituent, An aryl group that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylamino group that may have a substituent, and a substituent. An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituent An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable. Here, examples of the substituent that can be introduced into these groups include those exemplified as the substituent that can be introduced in the general formula (1).
Y is preferably an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R a —, and examples of R a include the same as those in the general formula (1).

前記一般式(3)において、R〜R11は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。
〜R11としては、具体的には、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、一般式(1)において導入しうる置換基として挙げたものが例示される。
Zとしては、酸素原子、硫黄原子、−N−R−、又はフェニレン基が好ましく、Rとしては、一般式(1)におけるものと同様のものが挙げられる。
In the general formula (3), R 9 to R 11 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent.
Specific examples of R 9 to R 11 include a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, and a substituent. An alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylamino group which may have a substituent , An arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, and the like. Among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxy A carbonyl group, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl group which may have a substituent are preferable. Here, examples of the substituent that can be introduced into these groups include those exemplified as the substituent that can be introduced in the general formula (1).
Z is preferably an oxygen atom, a sulfur atom, —N—R a —, or a phenylene group, and examples of R a include the same as those in the general formula (1).

また、本発明における含硫黄多官能モノマーには、前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される部分構造の他に、エチレン性不飽和部位間を結ぶ連結基Lを含む。ここで、Lは炭素−硫黄結合を含む2価以上の連結基を表す。熱分解性の観点から、連結基Lは、炭素−硫黄結合以外に、エステル結合を有していることが好ましく、より好ましくは、エステル結合と水酸基とを同時に有する態様である。
連結基Lに含まれる炭素−硫黄結合を有する官能基としては、スルフィド、ジスルフィド、スルホキシド、スルホニル、スルホンアミド、チオカルボニル、チオカルボン酸、ジチオカルボン酸、スルファミン酸、チオアミド、チオカルバメート、ジチオカルバメート、又はチオ尿素を含む官能基が挙げられる。彫刻感度の観点から、好ましくは、ジスルフィド、チオカルバメート、又はジチオカルバメートを含む官能基であり、より好ましくはジスルフィドを含む官能基である。
また、連結基Lは、炭素−硫黄結合を有する官能基の他に炭化水素基を含むことが好ましく、特に、合計の炭素数が1〜10となることがより好ましい。中でも、連結基Lは、複数の炭素数1〜6の炭化水素基が、エステル等の炭化水素基以外の構造を介して連結されたものを含むことが好ましい。炭化水素基としては、炭素数1〜6のアルキレン基、フェニレン基等が好ましい。また、連結基Lを構成する炭化水素基以外の構造としては、エステル結合の他、アミド結合、ウレア結合、ウレタン結合、エーテル結合、カルボニル基等が好ましいものとして挙げられるが、エステルが最も好ましい。また、この炭化水素基は、1価の置換基によって適宜置換されていてもよく、置換基としては、水酸基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基などが好ましく用いられる。特に、連結基Lを構成する炭化水素基としては、水酸基で置換されている炭化水素基が好ましい。また、連結基Lは、1つのエチレン性不飽和結合当たり1つ〜5つの炭化水素基を含む構造であることが好ましい。
In addition, the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention includes a linking group L connecting the ethylenically unsaturated sites in addition to the partial structure represented by any one of the general formulas (1) to (3). Here, L represents a divalent or higher linking group containing a carbon-sulfur bond. From the viewpoint of thermal decomposability, the linking group L preferably has an ester bond in addition to the carbon-sulfur bond, and more preferably has an ester bond and a hydroxyl group at the same time.
Examples of the functional group having a carbon-sulfur bond contained in the linking group L include sulfide, disulfide, sulfoxide, sulfonyl, sulfonamide, thiocarbonyl, thiocarboxylic acid, dithiocarboxylic acid, sulfamic acid, thioamide, thiocarbamate, dithiocarbamate, or Examples include functional groups containing thiourea. From the viewpoint of engraving sensitivity, a functional group containing disulfide, thiocarbamate, or dithiocarbamate is preferred, and a functional group containing disulfide is more preferred.
In addition, the linking group L preferably contains a hydrocarbon group in addition to the functional group having a carbon-sulfur bond, and more preferably has a total carbon number of 1 to 10. Especially, it is preferable that the connection group L contains what the some C1-C6 hydrocarbon group connected via structures other than hydrocarbon groups, such as ester. As a hydrocarbon group, a C1-C6 alkylene group, a phenylene group, etc. are preferable. Examples of the structure other than the hydrocarbon group constituting the linking group L include an ester bond, an amide bond, a urea bond, a urethane bond, an ether bond, and a carbonyl group. Preferred are esters. Further, this hydrocarbon group may be appropriately substituted with a monovalent substituent, and as the substituent, a hydroxyl group, a thiol group, an amino group, a carboxyl group, a cyano group, a nitro group, or the like is preferably used. In particular, the hydrocarbon group constituting the linking group L is preferably a hydrocarbon group substituted with a hydroxyl group. The linking group L preferably has a structure containing 1 to 5 hydrocarbon groups per ethylenically unsaturated bond.

前記一般式(1)〜(3)のいずれかで表される部分構造を有する含硫黄多官能モノマーとして好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
また、下記具体例中のRは水素原子又はメチル基を示しており、分子中に複数存在するRは同じでも異なっていてもよい。
Specific examples of preferable sulfur-containing polyfunctional monomers having a partial structure represented by any one of the general formulas (1) to (3) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
Moreover, R in the following specific examples represents a hydrogen atom or a methyl group, and a plurality of Rs present in the molecule may be the same or different.

Figure 2009298109
Figure 2009298109

Figure 2009298109
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Figure 2009298109
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Figure 2009298109
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次に、下記一般式(4)、(5)で表される部分構造について説明する。   Next, partial structures represented by the following general formulas (4) and (5) will be described.

Figure 2009298109
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上記一般式(4)中、R12は、水素原子、又はメチル基を表す。
13は置換可能な任意の原子又は原子団を表す。
kは0〜4の整数を表す。
In the general formula (4), R 12 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 13 represents any substitutable atom or atomic group.
k represents an integer of 0 to 4.

一般式(5)中、R14は、水素原子、又はメチル基を表す。
15は置換可能な任意の原子又は原子団を表す。
mは0〜4の整数を表す。
は対アニオンを表す。
また、このようなピリジニウム環は、2つのR15が結合してベンゼン環を形成することで、ベンゼン環縮合したベンゾピリジニウムの形をとってもよい、この場合においては、キノリウム基及びイソキノリウム基を含む。
In the general formula (5), R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 15 represents any substitutable atom or atomic group.
m represents an integer of 0 to 4.
A represents a counter anion.
In addition, such a pyridinium ring may take the form of benzopyridinium condensed with benzene by bonding two R 15 to form a benzene ring, and in this case, includes a quinolium group and an isoquinolium group.

13及びR15で表される原子又は原子団としては、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。 The atoms or atomic groups represented by R 13 and R 15 each independently have a halogen atom, amino group, dialkylamino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, or substituent. An alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkyl which may have a substituent Examples include an amino group, an arylamino group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, among others, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl A group, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl group which may have a substituent are preferable. Here, examples of the substituent that can be introduced into these groups include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.

また、Aで表される対アニオンとしては、F、Cl、Br、I、BF 、PF 、AsF 、SbF 、BAr (Arは、任意の数のフッ素原子又はCFに置換されていてもよいアリール基を表し、4つのArはそれぞれ同じであってもよいし、異なっていてもよい。)、CFSO 、p−CHSO 、CHSO 、CFCOOが挙げられる。 In addition, as a counter anion represented by A , F , Cl , Br , I , BF 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 , BAr 4 (Ar is an arbitrary Represents an aryl group optionally substituted by several fluorine atoms or CF 3 , and four Ars may be the same or different from each other.), CF 3 SO 3 , p-CH 3 C 6 H 4 SO 3 , CH 3 SO 3 and CF 3 COO can be mentioned.

ここで、本発明における含硫黄多官能モノマーには、前記一般式(4)又は(5)で表される部分構造の他に、エチレン性不飽和部位間を結ぶ連結基Lを含む。この連結基Lは、前述の連結基Lと同義であり、好ましい例も同様である。   Here, in addition to the partial structure represented by the general formula (4) or (5), the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention includes a linking group L that connects the ethylenically unsaturated sites. This connecting group L is synonymous with the above-mentioned connecting group L, and its preferable example is also the same.

以下に、一般式(4)、又は(5)で表される部分構造を有する含硫黄多官能モノマーとして好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
また、下記具体例中のRは水素原子又はメチル基を示しており、分子中に複数存在するRは同じでも異なっていてもよい。
Although a preferable example is shown below as a sulfur-containing polyfunctional monomer which has a partial structure represented by General formula (4) or (5) below, this invention is not limited to these.
Moreover, R in the following specific examples represents a hydrogen atom or a methyl group, and a plurality of Rs present in the molecule may be the same or different.

Figure 2009298109
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Figure 2009298109
Figure 2009298109

Figure 2009298109
Figure 2009298109

本発明における含硫黄多官能モノマーは、硫黄原子含有ジカルボン酸とエポキシ基含有(メタ)アクリレートとの反応、硫黄原子含有ジオールとイソシアネート含有(メタ)アクリレートとの反応、ジチオールとイソシアネート含有(メタ)アクリレートとの反応、ジイソチオシアネートとヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとの反応、などを用いて合成することができる。また、市販品を用いてもよい。   The sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention is a reaction between a sulfur atom-containing dicarboxylic acid and an epoxy group-containing (meth) acrylate, a reaction between a sulfur atom-containing diol and an isocyanate-containing (meth) acrylate, a dithiol and an isocyanate-containing (meth) acrylate. It is possible to synthesize by using a reaction with bisphenol, a reaction between diisothiocyanate and hydroxy group-containing (meth) acrylate, and the like. Moreover, you may use a commercial item.

本発明における含硫黄多官能モノマーの分子量としては、形成される膜の柔軟性の観点から、好ましくは120〜3000であり、より好ましくは120〜1500である。   The molecular weight of the sulfur-containing polyfunctional monomer in the present invention is preferably 120 to 3000, more preferably 120 to 1500, from the viewpoint of the flexibility of the formed film.

また、本発明における含硫黄多官能モノマーは単独で用いてもよいが、分子内に硫黄原子を持たない多官能重合性化合物や単官能重合性化合物との混合物として用いてもよい。
彫刻感度の観点からは、含硫黄多官能モノマー単独で用いる、若しくは、含硫黄多官能モノマーと単官能エチレン性モノマーとの混合物として用いる態様が好ましく、より好ましくは、含硫黄多官能モノマーと単官能エチレン性モノマーとの混合物として用いる態様である。
Moreover, although the sulfur-containing polyfunctional monomer in this invention may be used independently, you may use it as a mixture with the polyfunctional polymerizable compound and monofunctional polymerizable compound which do not have a sulfur atom in a molecule | numerator.
From the viewpoint of engraving sensitivity, it is preferable to use a sulfur-containing polyfunctional monomer alone or as a mixture of a sulfur-containing polyfunctional monomer and a monofunctional ethylenic monomer, more preferably a sulfur-containing polyfunctional monomer and a monofunctional. This is an embodiment used as a mixture with an ethylenic monomer.

本発明におけるレリーフ形成層は、含硫黄多官能モノマーをはじめとする重合性化合物を用いることにより、膜物性、例えば、脆性、柔軟性などを調整することもできる。
また、本発明におけるレリーフ形成層中の含硫黄多官能モノマーをはじめとする重合性化合物の総含有量は、架橋膜の柔軟性や脆性の観点から、5質量%〜90質量%の範囲が好ましく、10質量%〜75質量%がより好ましく、10質量%〜60質量%が更に好ましく、15質量%〜40質量%の範囲が特に好ましい。
なお、含硫黄多官能モノマーと他の重合性化合物とを併用する場合、全重合性化合物中の含硫黄多官能モノマーの量は、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。
The relief forming layer in the present invention can adjust film physical properties such as brittleness and flexibility by using a polymerizable compound including a sulfur-containing polyfunctional monomer.
In addition, the total content of polymerizable compounds including the sulfur-containing polyfunctional monomer in the relief forming layer in the present invention is preferably in the range of 5% by mass to 90% by mass from the viewpoint of flexibility and brittleness of the crosslinked film. 10 mass%-75 mass% is more preferable, 10 mass%-60 mass% is still more preferable, and the range of 15 mass%-40 mass% is especially preferable.
In addition, when using together a sulfur-containing polyfunctional monomer and another polymeric compound, 5 mass% or more is preferable and, as for the quantity of the sulfur-containing polyfunctional monomer in all the polymeric compounds, 10 mass% or more is more preferable.

<(B)バインダーポリマー>
本発明におけるレリーフ形成層は、(B)バインダーポリマーを含有する。
本発明において用いられる(B)バインダーポリマーは、レリーフ形成層に含有される主成分であり、通常は、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマーなどを、目的に応じて用いる。
例えば、レーザー彫刻感度の観点からは、露光或いは加熱により熱分解する部分構造を含むポリマーが好ましい。
また、例えば、柔軟で可撓性を有する膜形成が目的とされる場合には、軟質樹脂や熱可塑性エラストマーが選択される。
更に、レリーフ形成層用塗布液組成物の調製の容易性、得られたレリーフ印刷版における油性インクに対する耐性向上の観点からは、親水性又は親アルコール性ポリマーを使用することが好ましい。
加えて、例えば、加熱や露光により硬化させ、強度を向上させる目的に使用する場合には、バインダーポリマーとして、分子内に炭素−炭素不飽和結合をもつポリマーが選択される。
このように、レリーフ印刷版原版の適用用途に応じた物性を考慮し、目的に応じたバインダーポリマーを選択し、当該バインダーポリマーの1種を、或いは、2種以上を組み合わせて用いることができる。
以下、本発明においてバインダーポリマーとして用いうる各種ポリマーについて説明する。
<(B) Binder polymer>
The relief forming layer in the present invention contains (B) a binder polymer.
The (B) binder polymer used in the present invention is a main component contained in the relief forming layer, and usually a thermoplastic resin, a thermoplastic elastomer, or the like is used depending on the purpose.
For example, from the viewpoint of laser engraving sensitivity, a polymer containing a partial structure that is thermally decomposed by exposure or heating is preferable.
For example, when the purpose is to form a soft and flexible film, a soft resin or a thermoplastic elastomer is selected.
Furthermore, it is preferable to use a hydrophilic or alcoholic polymer from the viewpoint of easy preparation of the coating composition for the relief forming layer and improvement in resistance to the oil-based ink in the obtained relief printing plate.
In addition, for example, when used for the purpose of curing by heating or exposure and improving the strength, a polymer having a carbon-carbon unsaturated bond in the molecule is selected as the binder polymer.
In this way, in consideration of the physical properties according to the application application of the relief printing plate precursor, a binder polymer can be selected according to the purpose, and one kind of the binder polymer or a combination of two or more kinds can be used.
Hereinafter, various polymers that can be used as the binder polymer in the present invention will be described.

(分解性を有するポリマー)
レーザー彫刻感度の観点から好ましく用いられるバインダーポリマーとしては、露光、加熱などのエネルギー付与により分解する部分構造をもつポリマー(分解性を有するポリマー)が挙げられる。
(Degradable polymer)
Examples of the binder polymer that is preferably used from the viewpoint of laser engraving sensitivity include polymers having a partial structure that decomposes upon application of energy such as exposure and heating (polymer having decomposability).

分解性を有するポリマーとしては、分子鎖中に、分解、切断され易い部分構造を有するモノマー単位として、スチレン、α−メチルスチレン、α−メトキシスチレン、アクリルエステル類、メタクリルエステル類、上記以外のエステル化合物類、エーテル化合物類、ニトロ化合物類、カーボネート化合物類、カルバモイル化合物類、ヘミアセタールエステル化合物類、オキシエチレン化合物類、脂肪族環状化合物類等を含むポリマーが挙げられる。   Examples of degradable polymers include styrene, α-methylstyrene, α-methoxystyrene, acrylic esters, methacrylic esters, and esters other than the above as monomer units having a partial structure that is easily decomposed and cleaved in the molecular chain. Examples include polymers containing compounds, ether compounds, nitro compounds, carbonate compounds, carbamoyl compounds, hemiacetal ester compounds, oxyethylene compounds, aliphatic cyclic compounds, and the like.

これらの中でも、特にポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコール等のポリエーテル類、脂肪族ポリカーボネート類、脂肪族カルバメート類、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ニトロセルロース、ポリオキシエチレン、ポリノルボルネン、ポリシクロヘキサジエン水添物、或いは分岐構造の多いデンドリマー等の分子構造を有するポリマーが、分解性の観点から好ましく挙げられる。
また、分子鎖中に酸素原子を多数含有するポリマーが分解性の観点から好ましい。このような観点からは、カーボネート基、カルバメート基、メタクリル基をポリマー主鎖中に有する化合物が好適に挙げられる。
例えば、(ポリ)カーボネートジオールや(ポリ)カーボネートジカルボン酸を原料として合成したポリエステルやポリウレタン、(ポリ)カーボネートジアミンを原料として合成したポリアミドなどを熱分解性の良好なポリマーの例として挙げることができる。これらのポリマーは、主鎖、側鎖に重合性不飽和基を含有しているものであっても構わない。特に、水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の反応性官能基を有する場合には、このような熱分解性ポリマーに対し、重合性不飽和基を導入することも容易である。
Among these, in particular, polyethers such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetraethylene glycol, aliphatic polycarbonates, aliphatic carbamates, polymethyl methacrylate, polystyrene, nitrocellulose, polyoxyethylene, polynorbornene, polycyclohexane. A polymer having a molecular structure such as a hydrogenated hexadiene or a dendrimer having many branched structures is preferred from the viewpoint of degradability.
A polymer containing a large number of oxygen atoms in the molecular chain is preferred from the viewpoint of degradability. From such a viewpoint, a compound having a carbonate group, a carbamate group, or a methacryl group in the polymer main chain is preferable.
For example, polyesters and polyurethanes synthesized from (poly) carbonate diol or (poly) carbonate dicarboxylic acid as raw materials, polyamides synthesized from (poly) carbonate diamine as raw materials, and the like can be cited as examples of polymers having good thermal decomposability. . These polymers may contain a polymerizable unsaturated group in the main chain and side chain. In particular, when it has a reactive functional group such as a hydroxyl group, an amino group, or a carboxyl group, it is easy to introduce a polymerizable unsaturated group into such a thermally decomposable polymer.

また、分解性を有するポリマーとして、ポリ乳酸などのヒドロキシルカルボン酸ユニットからなるポリエステルを用いることができる。このようなポリエステルとしては、具体的には、ポリヒドロキシアルカノエート(PHA)、乳酸系ポリマー、ポリグリコール酸(PGA)、ポリカプロラクトン(PCL)、ポリ(ブチレンコハク酸)、これらの誘導体又は混合物から成る群から選択されるものが好ましい。   Moreover, polyester which consists of hydroxyl carboxylic acid units, such as polylactic acid, can be used as a polymer which has decomposability | degradability. Specific examples of such polyesters include polyhydroxyalkanoate (PHA), lactic acid-based polymer, polyglycolic acid (PGA), polycaprolactone (PCL), poly (butylene succinic acid), and derivatives or mixtures thereof. Those selected from the group consisting of are preferred.

(熱可塑性ポリマー)
レーザー彫刻感度の観点から好ましく用いられるバインダーポリマーの1つとして、熱可塑性ポリマーが挙げられる。
熱可塑性ポリマーとしては、エラストマーであっても非エラストマーの樹脂であってもよく、本発明のレリーフ印刷版原版の使用態様に応じて選択すればよい。
熱可塑性エラストマーとしては、例えば、ウレタン系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー、シリコーン系熱可塑性エラストマー等を挙げることができる。これらの熱可塑性エラストマーのレーザー彫刻感度を向上させる目的で、エラストマーの主鎖に、カルバモイル基、カーボネート基等の易分解性官能基を導入したものを用いることもできる。また、熱可塑性ポリマーと前記熱分解性ポリマーと混合して用いてもよい。
熱可塑性エラストマーは、常温ではゴム弾性を示す材料であり、分子構造としては、ポリエーテル或いはゴム分子のようなソフトセグメントと、常温付近では加硫ゴムと同じく塑性変形を防止するハードセグメントからなり、ハードセグメントとしては凍結相、結晶相、水素結合、イオン架橋など種々のタイプが存在する。このような熱可塑性エラストマーは、本発明のレリーフ印刷版原版が、例えば、フレキソ版などのように可撓性を必要とする場合に好適である。
(Thermoplastic polymer)
One of the binder polymers preferably used from the viewpoint of laser engraving sensitivity is a thermoplastic polymer.
The thermoplastic polymer may be an elastomer or a non-elastomeric resin, and may be selected according to the use mode of the relief printing plate precursor of the present invention.
Examples of the thermoplastic elastomer include urethane-based thermoplastic elastomers, ester-based thermoplastic elastomers, amide-based thermoplastic elastomers, and silicone-based thermoplastic elastomers. In order to improve the laser engraving sensitivity of these thermoplastic elastomers, those obtained by introducing easily decomposable functional groups such as carbamoyl groups and carbonate groups into the main chain of the elastomers can also be used. Moreover, you may mix and use a thermoplastic polymer and the said thermodegradable polymer.
Thermoplastic elastomer is a material that exhibits rubber elasticity at room temperature, and its molecular structure consists of a soft segment such as polyether or rubber molecule, and a hard segment that prevents plastic deformation at around room temperature, just like vulcanized rubber, There are various types of hard segments such as a frozen phase, a crystalline phase, a hydrogen bond, and an ionic bridge. Such a thermoplastic elastomer is suitable when the relief printing plate precursor of the present invention requires flexibility such as a flexographic plate.

熱可塑性エラストマーの種類は、目的に応じて選択され、例えば、耐溶剤性が要求される場合、ウレタン系、エステル系、アミド系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましく、耐熱性が要求される場合、ウレタン系、オレフィン系、エステル系、フッ素系熱可塑性エラストマーが好ましい。また、熱可塑性エラストマーの種類を選択することにより、レリーフ形成層の硬度を大きく変えることができる。   The type of thermoplastic elastomer is selected according to the purpose.For example, when solvent resistance is required, urethane type, ester type, amide type, fluorine type thermoplastic elastomer is preferable, and when heat resistance is required, Urethane-based, olefin-based, ester-based, and fluorine-based thermoplastic elastomers are preferred. Moreover, the hardness of a relief forming layer can be changed greatly by selecting the kind of thermoplastic elastomer.

非エラストマー性の樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー(例えばポリビニルアルコール誘導体)を挙げることができる。   Non-elastomeric resins include, for example, polyester resin, unsaturated polyester resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyurethane resin, unsaturated polyurethane resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyimide resin, polycarbonate resin, wholly aromatic Mention may be made of polyester resins and hydrophilic polymers containing hydroxyethylene units (for example polyvinyl alcohol derivatives).

(親水性又は親アルコール性ポリマー)
本発明で用いるバインダーポリマーとしては、親水性又は親アルコール性のものが彫刻後のカスの除去性の観点で好ましい。親水性ポリマーとして詳細には、後述するもの挙げられるが、中でも、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマーが好ましい。また、親水性又は親アルコール性バインダーとしては、例えば、ポリビニルブチラール等のポリマーも好適に用いることができる。
(Hydrophilic or alcoholic polymer)
As the binder polymer used in the present invention, a hydrophilic polymer or an alcoholic polymer is preferable from the viewpoint of removal of residue after engraving. Specific examples of the hydrophilic polymer include those described later, and among them, a hydrophilic polymer containing a hydroxyethylene unit is preferable. As the hydrophilic or alcoholic binder, for example, a polymer such as polyvinyl butyral can be suitably used.

バインダーポリマーの好適な態様の1つである親水性ポリマーについて詳述する。
親水性ポリマーとは、水溶解性又は水膨潤性のポリマーを指す。ここで、本発明において、「水溶解性」とは、25℃の水に5質量%以上溶解することを指し、また、「水膨潤性」とは、25℃の水に5質量%になるように加えた際に、吸水して膨張し、目視で見たときに溶解はしていないが、明らかな固体状(粉末状)の沈殿物は無い状態であることを指す。
The hydrophilic polymer which is one of the preferred embodiments of the binder polymer will be described in detail.
The hydrophilic polymer refers to a water-soluble or water-swellable polymer. Here, in the present invention, “water solubility” means that 5% by mass or more is dissolved in water at 25 ° C., and “water swellability” is 5% by mass in water at 25 ° C. When added in such a manner, it absorbs water and expands, and when it is visually observed, it does not dissolve, but it indicates that there is no clear solid (powder) precipitate.

親水性ポリマーとしては、単独のポリマーを用いてもよいし、複数種のポリマーを用いてもよい。   As the hydrophilic polymer, a single polymer may be used, or a plurality of types of polymers may be used.

親水性ポリマーとしては、例えば、ヒドロキシエチレン単位を含む親水性ポリマー、セルロースをはじめとする親水性官能基を有する多糖類、ポリアクリル酸ナトリウムのような酸性官能基が中和された塩構造やアミノ基が中和された塩構造やオニウム構造を含むアクリル樹脂、ポリエチレンオキサイドの如き親水性基を導入したポリアミド樹脂やポリエステル樹脂、ゼラチンなどが挙げられる。   Examples of the hydrophilic polymer include hydrophilic polymers containing hydroxyethylene units, polysaccharides having hydrophilic functional groups such as cellulose, and salt structures and amino acids neutralized with acidic functional groups such as sodium polyacrylate. Examples thereof include an acrylic resin containing a salt structure or an onium structure in which the group is neutralized, a polyamide resin or a polyester resin into which a hydrophilic group such as polyethylene oxide is introduced, gelatin, and the like.

親水性ポリマーとしては、良好な親水性を示す点で、ヒドロキシエチレンを含む親水性ポリマー、アミノ基又はカルボン酸基/スルホン酸基/硫酸基及びこれらが中和された塩構造などの極性基含有セルロース、アミノ基又はカルボン酸基/スルホン酸基/硫酸基及びこれらが中和された塩構造などの極性基含有アクリル樹脂、ポリアミド樹脂が好ましい。より好ましくは、ヒドロキシエチレンを含む親水性ポリマー、アミノ基又はカルボン酸基/スルホン酸基/硫酸基及びこれらが中和された塩構造などの極性基含有アクリル樹脂、ポリアミド樹脂が好ましく、更に好ましくはポリビニルアルコール類、ポリアミド樹脂である。   Hydrophilic polymers include hydrophilic polymers containing hydroxyethylene, polar groups such as amino groups or carboxylic acid groups / sulfonic acid groups / sulfuric acid groups, and salt structures in which these are neutralized in that they exhibit good hydrophilicity. Cellulose, amino group or polar group-containing acrylic resin such as carboxylic acid group / sulfonic acid group / sulfuric acid group and salt structure in which these are neutralized, and polyamide resin are preferred. More preferably, hydrophilic polymers containing hydroxyethylene, polar groups-containing acrylic resins such as amino groups or carboxylic acid groups / sulfonic acid groups / sulfuric acid groups and salt structures in which these are neutralized, and polyamide resins are more preferable. Polyvinyl alcohols and polyamide resins.

親水性ポリマーとして特に好ましくは、皮膜性とUVインキに対する耐性があるという観点から、ポリビニルアルコール(PVA)及びその誘導体から選択されるポリマーである。   Particularly preferred as the hydrophilic polymer is a polymer selected from polyvinyl alcohol (PVA) and derivatives thereof from the viewpoint of film property and resistance to UV ink.

本発明においてPVA及びその誘導体とは、ヒドロキシエチレン単位を0.1モル%以上100モル%以下、好ましくは1モル%以上98モル%以下、更に好ましくは5モル%以上95モル%以下含有する共重合体或いは重合体並びにそれらの変性体を包含する。
ビニルアルコール構造単位とともに共重合体を形成するためのモノマーとしては、公知の共重合可能なモノマーから適宜選定することができる。
PVA及びその誘導体の中でも、特に好ましくは、PVA及びビニルアルコール/酢酸ビニル共重合体(部分鹸化ポリビニルアルコール)を例示することができ、これらの変性体もこれに該当する。
In the present invention, PVA and derivatives thereof are co-polymers containing 0.1 to 100 mol% of hydroxyethylene units, preferably 1 to 98 mol%, more preferably 5 to 95 mol%. Polymers or polymers and their modified products are included.
The monomer for forming the copolymer together with the vinyl alcohol structural unit can be appropriately selected from known copolymerizable monomers.
Among PVA and its derivatives, PVA and vinyl alcohol / vinyl acetate copolymer (partially saponified polyvinyl alcohol) can be exemplified, and these modified products also correspond to this.

親水性ポリマーとしては、特に、PVA及びその誘導体から選択される1種以上と、ヒドロキシエチレン単位を含まない親水性ポリマー(以下、適宜「非PVA誘導体」とも称する。)と、を併用してもよい。   As the hydrophilic polymer, in particular, one or more selected from PVA and derivatives thereof and a hydrophilic polymer not containing a hydroxyethylene unit (hereinafter also referred to as “non-PVA derivative” as appropriate) may be used in combination. Good.

親水性ポリアミドの合成法としては、以下に示すものが挙げられる。
ε−カプロラクタム及び/又はアジピン酸を、両末端アミン変性のポリエチレングリコールと反応させることでポリエチレングリコール単位を有するポリアミドが得られ、ピペラジンと反応させることでピペラジン骨格を有する親水性ポリアミドが得られる。また、親水性ポリアミドのアミド基とグリシジルメタクリレートのエポキシ基とを反応させることで、架橋性の官能基がポリマー中に導入された親水性ポリアミドが得られる。これら非PVA誘導体は単独で用いてもよいし、複数種を混合して用いてもよい。
Examples of the method for synthesizing the hydrophilic polyamide include the following.
A polyamide having a polyethylene glycol unit is obtained by reacting ε-caprolactam and / or adipic acid with polyethylene glycol modified with both terminal amines, and a hydrophilic polyamide having a piperazine skeleton is obtained by reacting with piperazine. Moreover, the hydrophilic polyamide by which the crosslinkable functional group was introduce | transduced into the polymer is obtained by making the amide group of hydrophilic polyamide and the epoxy group of glycidyl methacrylate react. These non-PVA derivatives may be used alone or in combination of two or more.

PVA誘導体の例として、ヒドロキシエチレン単位の水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基に変性したポリマー、当該水酸基の一部を(メタ)アクロイル基に変性したポリマー、当該水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性したポリマー、当該水酸基の少なくとも一部にエチレングリコールやプロピレングリコール及びこれらの複量体を導入したポリマーなどが挙げられる。   Examples of PVA derivatives include polymers in which at least some of the hydroxyl groups of the hydroxyethylene units have been modified to carboxyl groups, polymers in which some of the hydroxyl groups have been modified to (meth) acryloyl groups, and at least some of the hydroxyl groups have been modified to amino groups. And a polymer in which ethylene glycol, propylene glycol, or a multimer thereof is introduced into at least a part of the hydroxyl group.

水酸基の少なくとも一部をカルボキシル基に変性したポリマーは、ポリビニルアルコール或いは部分鹸化ポリビニルアルコールと、例えばコハク酸、マレイン酸やアジピン酸のような多官能カルボン酸とでエステル化することによって得ることができる。当該ポリマーにおけるカルボキシル基の導入量は、水酸基1モルに対して、0.01モル〜1.00モルが好ましく、0.05モル〜0.80モルが更に好ましい。   A polymer in which at least a part of the hydroxyl group is modified to a carboxyl group can be obtained by esterification with polyvinyl alcohol or partially saponified polyvinyl alcohol and a polyfunctional carboxylic acid such as succinic acid, maleic acid or adipic acid. . The amount of the carboxyl group introduced in the polymer is preferably 0.01 mol to 1.00 mol, more preferably 0.05 mol to 0.80 mol, per 1 mol of the hydroxyl group.

水酸基の少なくとも一部を(メタ)アクロイル基に変性したポリマーは、上記カルボキシル基変性ポリマーにグリシジル(メタ)アクリレートを付加することによって、又はポリビニルアルコール或いは部分鹸化ポリビニルアルコールと(メタ)アクリル酸とでエステル化することによって得ることができる。当該ポリマーにおける(メタ)アクロイル基の導入量は、水酸基1モルに対して0.01モル〜1.00モルが好ましく、0.03モル〜0.50モルが更に好ましい。なお、(メタ)アクロイル基との表記は、アクロイル基及び/又はメタクロイル基を総称するものである。なお、(メタ)アクリレートとの表記は、アクリレート及び/又はメタクリレートを総称するものである。また、(メタ)アクリル酸等もこれと同様である。   A polymer in which at least a part of the hydroxyl group is modified to a (meth) acryloyl group can be obtained by adding glycidyl (meth) acrylate to the carboxyl group-modified polymer, or by adding polyvinyl alcohol or partially saponified polyvinyl alcohol and (meth) acrylic acid. It can be obtained by esterification. The amount of (meth) acryloyl group introduced in the polymer is preferably 0.01 mol to 1.00 mol, more preferably 0.03 mol to 0.50 mol, per mol of the hydroxyl group. In addition, the description with a (meth) acryloyl group is a general term for an acryloyl group and / or a methacryloyl group. The notation (meth) acrylate is a generic term for acrylate and / or methacrylate. The same applies to (meth) acrylic acid and the like.

水酸基の少なくとも一部をアミノ基に変性したポリマーは、ポリビニルアルコール或いは部分鹸化ポリビニルアルコールと、例えばカルバミン酸のようなアミノ基を含有するカルボン酸とでエステル化することによって得ることができる。当該ポリマーにおけるアミノ基の導入量は、当該水酸基1モルに対して0.01モル〜1.00モルが好ましく、0.05モル〜0.70モルが更に好ましい。   A polymer in which at least a part of the hydroxyl group is modified with an amino group can be obtained by esterification with polyvinyl alcohol or partially saponified polyvinyl alcohol and a carboxylic acid containing an amino group such as carbamic acid. The amount of amino group introduced in the polymer is preferably 0.01 mol to 1.00 mol, more preferably 0.05 mol to 0.70 mol, relative to 1 mol of the hydroxyl group.

水酸基の少なくとも一部にエチレングリコールやプロピレングリコール及びこれらの複量体を導入したポリマーは、ポリビニルアルコール或いは部分鹸化ポリビニルアルコールとグリゴール類を硫酸触媒のもと加熱し、副生成物である水を反応系外に取り除くことによって得ることができる。当該ポリマーにおけるエチレングリコールやプロピレングリコール及びこれらの複量体の総導入量は、水酸基1モルに対して0.01モル〜0.90モルが好ましく、0.03モル〜0.50モルが更に好ましい。   Polymers in which ethylene glycol, propylene glycol, or a multimer thereof is introduced into at least a part of the hydroxyl groups are heated with polyvinyl alcohol or partially saponified polyvinyl alcohol and glycols under a sulfuric acid catalyst to react with water as a by-product. It can be obtained by removing it outside the system. The total introduction amount of ethylene glycol, propylene glycol and their multimers in the polymer is preferably 0.01 mol to 0.90 mol, more preferably 0.03 mol to 0.50 mol, relative to 1 mol of the hydroxyl group. .

PVA誘導体の変性体の中でも、水酸基の少なくとも一部を(メタ)アクロイル基に変性したポリマーが特に好ましく用いられる。親水性ポリマーに未反応の架橋性官能基を直接導入することで、前述の含硫黄多官能モノマーを多量に用いることなく、レリーフ形成層を架橋させた際の架橋物の強度を高めることができ、該架橋物の柔軟性と強度とを両立することができるからである。つまり、この態様であれば、本発明のレリーフ印刷版原版のレリーフ形成層において、柔軟性と強度とを両立することができる。   Among the modified PVA derivatives, a polymer in which at least a part of the hydroxyl group is modified to a (meth) acryloyl group is particularly preferably used. By directly introducing an unreacted crosslinkable functional group into the hydrophilic polymer, the strength of the crosslinked product when the relief forming layer is crosslinked can be increased without using a large amount of the above-mentioned sulfur-containing polyfunctional monomer. This is because both the flexibility and strength of the crosslinked product can be achieved. That is, according to this aspect, the relief forming layer of the relief printing plate precursor of the present invention can achieve both flexibility and strength.

また、非PVA誘導体とは、PVA及びその誘導体と相溶性を示す程度に極性が近いものを意味する。
非PVA誘導体として具体的には、例えば、アジピン酸や1,6−ヘキサンジアミン、ε−カプロラクタムのみの重合によって得られる非水溶性ポリアミドに、ポリエチレングリコールやピペラジンのような親水性基を導入した親水性ポリアミドが挙げられる。親水性ポリアミドは、その親水性基の働きでPVA誘導体との相溶性が発現するため、非PVA誘導体として用いるのに好適である。つまり、このような親水性ポリアミドは、PVA及びその誘導体との相溶性が良好であり、PVA及びその誘導体の分子間に容易に入り込むために、2種のポリマーの分子間力が低下し、ポリマーが柔軟化される。
Further, the non-PVA derivative means one having a polarity close to the degree of compatibility with PVA and its derivatives.
Specifically, as the non-PVA derivative, for example, hydrophilicity in which a hydrophilic group such as polyethylene glycol or piperazine is introduced into a water-insoluble polyamide obtained by polymerization of only adipic acid, 1,6-hexanediamine, and ε-caprolactam. Include polyamides. A hydrophilic polyamide is suitable for use as a non-PVA derivative because it exhibits compatibility with the PVA derivative by the action of the hydrophilic group. In other words, such a hydrophilic polyamide has good compatibility with PVA and its derivatives, and easily enters between the molecules of PVA and its derivatives. Will be flexible.

(疎水性ポリマー)
本発明におけるバインダーポリマーとしては、比較的疎水性のバインダーポリマーを用いてもよい。
比較的疎水性のバインダーポリマーとしては、製膜時の膜硬度や柔軟性、共存する重合性化合物や開始剤のような他の成分との相溶性等の性質を調整するために、以下に示すようなモノマーを重合又は共重合成分として含むポリマーを使用することもできる。
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、β−ヒドロキシ−β’−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレートなどの水酸基を有する(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレートなどのシクロアルキル(メタ)アクリレート、クロロエチル(メタ)アクリレート、クロロプロピル(メタ)アクリレートなどのハロゲン化アルキル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキル(メタ)アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリレートなどのフェノキシアルキル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングレコール(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキレングリコール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、N,N’−メチレンビス(メタ)アクリルアミドのような(メタ)アクリルアミド類、2、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2,2−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、などのエチレン性不飽和結合を1個だけ有する化合物、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレートのようなポリエチレングリコールのジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートのようなポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルに不飽和カルボン酸や不飽和アルコールなどのエチレン性不飽和結合と活性水素を持つ化合物を付加反応させて得られる多価(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートなどの不飽和エポキシ化合物とカルボン酸やアミンのような活性水素を有する化合物を付加反応させて得られる多価(メタ)アクリレート、メチレンビス(メタ)アクリルアミドなどの多価(メタ)アクリルアミド、ジビニルベンゼンなどの多価ビニル化合物、などの2つ以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物などが挙げられる。本発明においては、これらを単独で、若しくは2種以上組み合わせて用いることができる。
(Hydrophobic polymer)
As the binder polymer in the present invention, a relatively hydrophobic binder polymer may be used.
In order to adjust properties such as film hardness and flexibility at the time of film formation, compatibility with other components such as a polymerizable compound and an initiator, the relatively hydrophobic binder polymer is shown below. A polymer containing such a monomer as a polymerization or copolymerization component can also be used.
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, β-hydroxy-β ′-(meth) (Meth) acrylate having a hydroxyl group such as acryloyloxyethyl phthalate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) Alkyl (meth) acrylates such as acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cycloalkyl (meth) acrylates such as cyclohexyl (meth) acrylate, chloroethyl (meth) Alkyl halides (meth) acrylates such as acrylate and chloropropyl (meth) acrylate, alkoxyalkyl (meth) acrylates such as methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, and butoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl acrylate Alkoxyalkylene glycols (meth) such as phenoxyalkyl (meth) acrylates such as nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate Acrylate, (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, N, N′-methylenebis (meth) acryl (Meth) acrylamides such as amides, 2,2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2,2-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl Compounds having only one ethylenically unsaturated bond such as aminopropyl (meth) acrylamide, di (meth) acrylate of polyethylene glycol such as diethylene glycol di (meth) acrylate, such as dipropylene glycol di (meth) acrylate Polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate Such as polyvalent (meth) acrylates and glycidyl (meth) acrylates obtained by addition reaction of compounds with ethylenically unsaturated bonds and active hydrogen, such as unsaturated carboxylic acids and unsaturated alcohols, with ethylene glycol diglycidyl ether Many polyvalent (meth) acrylamides such as polyvalent (meth) acrylates and methylenebis (meth) acrylamides obtained by addition reaction of unsaturated epoxy compounds with compounds having active hydrogen such as carboxylic acids and amines, and divinylbenzene And compounds having two or more ethylenically unsaturated bonds, such as a valent vinyl compound. In this invention, these can be used individually or in combination of 2 or more types.

上記重合成分のモノマーとしては、皮膜性の観点で、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングレコール(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキレングリコール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、N−アクリロイルモルホリンが好ましい。この中で、アクリレート類が、得られるポリマーの柔軟性確保の点で特に好ましい。   From the viewpoint of film property, the monomer of the polymerization component is 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytrile. Alkoxyalkylene glycol (meth) acrylates such as ethylene glycol (meth) acrylate and methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, N -Acryloylmorpholine is preferred. Among these, acrylates are particularly preferable from the viewpoint of ensuring flexibility of the obtained polymer.

その他、バインダーポリマーとしては、以下のポリマーを用いることもできる。
即ち、主鎖にオレフィン及び炭素−炭素三重結合の少なくともいずれかを含むポリマーが挙げられ、例えば、SB(ポリスチレン−ポリブタジエン)、SBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)等が挙げられる。
In addition, the following polymers can also be used as the binder polymer.
That is, a polymer containing at least one of an olefin and a carbon-carbon triple bond in the main chain is exemplified. For example, SB (polystyrene-polybutadiene), SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene). And SEBS (polystyrene-polyethylene / polybutylene-polystyrene).

(炭素−炭素不飽和結合を有するポリマー)
バインダーポリマーとしては、分子内に炭素−炭素不飽和結合をもつポリマーを好適に用いることができる。該炭素−炭素不飽和結合は、ポリマーの主鎖、側鎖のいずれかに存在すればよく、双方に存在していてもよい。以下、炭素−炭素不飽和結合を単に「不飽和結合」と称することがあり、また、主鎖或いは側鎖末端に存残する炭素−炭素不飽和結合を「重合性基」と称することがある。
炭素−炭素不飽和結合をポリマーの主鎖に有する場合、ポリマー主鎖の片末端、両末端、主鎖中のいずれに有してもよい。また、炭素−炭素不飽和結合をポリマーの側鎖に有する場合、該不飽和結合は主鎖構造に直接結合してもよく、適切な連結基を介して結合していてもよい。
(Polymer having carbon-carbon unsaturated bond)
As the binder polymer, a polymer having a carbon-carbon unsaturated bond in the molecule can be suitably used. The carbon-carbon unsaturated bond may be present in either the main chain or the side chain of the polymer, and may be present in both. Hereinafter, the carbon-carbon unsaturated bond may be simply referred to as “unsaturated bond”, and the carbon-carbon unsaturated bond remaining at the end of the main chain or side chain may be referred to as “polymerizable group”. .
When having a carbon-carbon unsaturated bond in the main chain of the polymer, it may be present at one end, both ends, or in the main chain of the polymer main chain. Moreover, when it has a carbon-carbon unsaturated bond in the side chain of a polymer, this unsaturated bond may be directly couple | bonded with the principal chain structure, and may be couple | bonded through the suitable coupling group.

主鎖に炭素−炭素不飽和結合を含むポリマーとしては、例えば、SB(ポリスチレン−ポリブタジエン)、SBS(ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン−ポリエチレン/ポリブチレン−ポリスチレン)等が挙げられる。   Examples of the polymer containing a carbon-carbon unsaturated bond in the main chain include SB (polystyrene-polybutadiene), SBS (polystyrene-polybutadiene-polystyrene), SIS (polystyrene-polyisoprene-polystyrene), SEBS (polystyrene-polyethylene / polybutylene). -Polystyrene) and the like.

側鎖に炭素−炭素不飽和結合をもつポリマーとして、メタクリロイル基のような反応性の高い重合性不飽和基を有するポリマーを用いた場合、極めて機械的強度の高い被膜を作製することができる。特にポリウレタン系、ポリエステル系熱可塑性エラストマーでは、比較的簡単に分子内に反応性の高い重合性不飽和基を導入することが可能である。   When a polymer having a highly reactive polymerizable unsaturated group such as a methacryloyl group is used as a polymer having a carbon-carbon unsaturated bond in the side chain, a film having extremely high mechanical strength can be produced. In particular, in polyurethane-based and polyester-based thermoplastic elastomers, it is possible to introduce a highly reactive polymerizable unsaturated group into the molecule relatively easily.

バインダーポリマー中に不飽和結合或いは重合性基を導入する際には、重合性基に保護基を結合させてなる重合性基前駆体を有する構造単位をポリマーに共重合させ、保護基を脱離させて重合性基とする方法、水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、ケトン基、ヒドラジン残基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、環状カーボネート基、エステル基などの反応性基を複数有する高分子化合物を作製し、その後、上記反応性基と結合しうる基を複数有する結合剤(例えば、水酸基やアミノ基の場合のポリイソシアネートなど)を反応させ、分子量の調節、及び末端の結合性基への変換を行った後、この末端結合性基と反応する基と重合性不飽和基を有する有機化合物と反応させて、高分子反応により、重合性基を導入する方法など、公知のいずれの方法をとることができる。これらの方法によれば、高分子化合物中への不飽和結合、重合性基の導入量を制御することができる。   When an unsaturated bond or a polymerizable group is introduced into the binder polymer, a structural unit having a polymerizable group precursor formed by bonding a protective group to the polymerizable group is copolymerized with the polymer to remove the protective group. Reactive group such as hydroxyl group, amino group, epoxy group, carboxyl group, acid anhydride group, ketone group, hydrazine residue, isocyanate group, isothiocyanate group, cyclic carbonate group, ester group And then reacting a binder having a plurality of groups capable of binding to the reactive group (for example, polyisocyanate in the case of a hydroxyl group or an amino group) to adjust the molecular weight and Is converted to a bonding group, and then reacted with an organic compound having a polymerizable unsaturated group and a group that reacts with the terminal bonding group, and a polymerizable group is obtained by a polymer reaction. A method of introducing, it is possible to take any known method. According to these methods, the amount of unsaturated bond and polymerizable group introduced into the polymer compound can be controlled.

このような不飽和結合を有するポリマーは、不飽和結合を有さないポリマーと併用することも好ましい。即ち、上記炭素−炭素不飽和結合を有するポリマーのオレフィン部分に水素を付加させて得られるポリマーや、オレフィン部分に水素添加したモノマー、例えば、ブタジエンやイソプレン等に水素添加したモノマーを原料としてポリマーを形成して得られるポリマーなどは、相溶性に優れることから併用し、バインダーポリマーが有する不飽和結合の量を調整することもできる。
これらを併用する場合、不飽和結合を有さないポリマーは、不飽和結合をもつポリマー100質量部に対して、一般的に1質量部〜90質量部、好ましくは5質量部〜80質量部の割合で用いることができる。
なお、後述するように、他の重合性化合物を併用する場合など、バンダーポリマーに硬化性を必要としない態様では、バインダーポリマーに不飽和結合は必ずしも必須ではなく、不飽和結合を有しない各種ポリマーのみをバインダーポリマーとして用いることもできる。そのような場合の不飽和結合を有しないポリマーとしては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリスチレン、アクリル樹脂、アセタール樹脂、ポリカーボネート、などが好ましく挙げられる。
Such a polymer having an unsaturated bond is also preferably used in combination with a polymer having no unsaturated bond. That is, a polymer obtained by adding a hydrogen to the olefin part of the polymer having a carbon-carbon unsaturated bond, or a monomer hydrogenated to the olefin part, for example, a monomer hydrogenated to butadiene, isoprene, or the like as a raw material. Polymers obtained by forming can be used in combination because of their excellent compatibility, and the amount of unsaturated bonds of the binder polymer can be adjusted.
When these are used in combination, the polymer having no unsaturated bond is generally 1 part by mass to 90 parts by mass, preferably 5 parts by mass to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer having an unsaturated bond. Can be used in proportions.
As will be described later, in the case where the curing property is not required for the binder polymer, such as when other polymerizable compounds are used in combination, an unsaturated bond is not necessarily required for the binder polymer, and various polymers having no unsaturated bond. Alone can also be used as the binder polymer. Preferred examples of the polymer having no unsaturated bond in such a case include polyester, polyamide, polystyrene, acrylic resin, acetal resin, and polycarbonate.

本発明に用いうる不飽和結合を有する、或いは、有しないバインダーポリマーの数平均分子量は、0.1万から100万の範囲が好ましい。より好ましい範囲としては、0.5万から50万である。数平均分子量が0.1万から100万の範囲であれば、形成される被膜の機械的強度を確保することができる。数平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定し、分子量既知のポリスチレン標品に対して評価したものである。   The number average molecular weight of the binder polymer having or not having an unsaturated bond that can be used in the present invention is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000. A more preferable range is from 50,000 to 500,000. When the number average molecular weight is in the range of 10,000 to 1,000,000, the mechanical strength of the formed film can be ensured. The number average molecular weight is measured using gel permeation chromatography (GPC), and evaluated with respect to a polystyrene sample having a known molecular weight.

本発明におけるバインダーポリマーの重量平均分子量(GPC測定によるポリスチレン換算)は、0.5万〜50万が好ましい。重量平均分子量が0.5万以上であれば、単体樹脂としての形態保持性に優れ、50万以下であれば、水など溶媒に溶解しやすくレリーフ形成層用塗布液組成物を調製するのに好都合である。バインダーポリマーの重量平均分子量は、より好ましくは1万〜40万、特に好ましくは1.5万〜30万である。   The weight average molecular weight (polystyrene conversion by GPC measurement) of the binder polymer in the present invention is preferably from 50,000 to 500,000. If the weight average molecular weight is 50,000 or more, the form retainability as a single resin is excellent, and if it is 500,000 or less, it is easy to dissolve in a solvent such as water to prepare a coating solution composition for a relief forming layer. Convenient. The weight average molecular weight of the binder polymer is more preferably 10,000 to 400,000, particularly preferably 15,000 to 300,000.

レリーフ形成層におけるバインダーポリマーの含有量は、5質量%〜80質量%が好ましく、15質量%〜75質量%が好ましく、20質量%〜65質量%がより好ましい。
特に、バインダーポリマーの含有量を15質量%以上とすることで、得られたレリーフ印刷版を印刷版として使用するに足る耐刷性が得られ、また、75質量%以下とすることで、他成分が不足することがなく、レリーフ印刷版をフレキソ印刷版とした際においても印刷版として使用するに足る柔軟性を得ることができるため、好ましい。
The content of the binder polymer in the relief forming layer is preferably 5% by mass to 80% by mass, preferably 15% by mass to 75% by mass, and more preferably 20% by mass to 65% by mass.
In particular, when the content of the binder polymer is 15% by mass or more, printing durability sufficient to use the obtained relief printing plate as a printing plate can be obtained. The components are not insufficient, and even when a relief printing plate is used as a flexographic printing plate, flexibility sufficient for use as a printing plate can be obtained, which is preferable.

<(C)香料>
本発明におけるレリーフ形成層は、(C)香料を必須成分として含有する。香料は、レーザー彫刻時の臭気を低減させるのに有効である。
香料は、特に、前記(A)重合性化合物に由来する臭気を中和、或いはマスキングするものが好ましい。
香料としては、公知の香料を適宜選択して用いることができ、香料を1種単独で用いることもできるし、複数の香料を組み合わせて使用することもできる。
香料は、レリーフ形成層に使用する重合性化合物や溶剤によって、適宜選択することが好ましく、公知の香料を組み合わせて最適化することが好ましい。また、香料としては、天然香料、合成香料の何れも使用することができる。
<(C) Fragrance>
The relief forming layer in the present invention contains (C) a fragrance as an essential component. The fragrance is effective for reducing odor during laser engraving.
The fragrance is particularly preferably one that neutralizes or masks the odor derived from the polymerizable compound (A).
As a fragrance | flavor, a well-known fragrance | flavor can be selected suitably and can be used, a fragrance | flavor can also be used individually by 1 type and it can also be used combining a some fragrance | flavor.
The fragrance is preferably appropriately selected depending on the polymerizable compound or solvent used in the relief forming layer, and is preferably optimized by combining known fragrances. Moreover, as a fragrance | flavor, both a natural fragrance | flavor and a synthetic | combination fragrance | flavor can be used.

本発明に用いられる天然香料は、動物性香料と植物性香料に大別できる。
動物性香料としては、カストリウム(海狸香)、ムスク(麝香)、アンバーグリス(竜涎香)、シベット(霊猫香)などを挙げることができる。
また、植物性香料としては、例えば、レモン油、オレンジ油、ライム油、ベルガモット油、ユーカリ油、マンダリン油、ウインターグリーン油、ショウノウ油、ホウショウ油、オークモス油、オポポンナックス油、コパイバ油、サンダル油、シダーウッド油、トルーバルサム油、ペルーバルサム油、ベンゾイン油、バニラ油、アビエス・ファ油、アーモンド油、カラムス油、カモミル油、カルダモン油、ガルバナム油、キャラウェー油、クミン油、コリアンダー油、ジュニパーベリー油、スペアミント油、セージ油、セロリー油、タイム油、タラゴン油、ナッツメグ油、バジル油、ヒソップ油、ペチグレン油、ブチュ油、ペニーロイヤル油、ペパーミント油、メース油、ラベンダー油、ローズマリー油、ロベージ油、ローレル油、アミリス油、エレミ油、カシア油、グアイヤック油、クローブ油、スチラックス油、ゼラニウム油、タンジェリン油、パチュリ油、ベチバー油、ラブダナム油、レモングラス油、アンゲリカ油、ヒノキ油、ヒバ油、シトロネラ油、アニスシード油、イランイラン油、クラリセージ油、シンナモン油、スターアニス油、カナンガ油、ブラックカーラント油、アンブレットシード油、ベイ油、ボアドローズ油、カヤプテ油、カッシー油、コリアンダー油、コスタス油、ダバナ油、ディル油、フェンネル油、フェニグリーク油、ジェネ油、グレープフルーツ油、ジンジャー油、ホップ油、ヒヤシンス油、インモルテル油、ジャスミン油、ジョンキル油、ラバンジン油、リナロエ油、リセアキュベバ油、マージョラム油、ミモザ油、ミル油、ミルトル油、ナルシス油、オリバナム油、オリス油、パセリ油、パルマローザ油、ペッパー油、ぺリラ油、ネロリ油、オレンジフラワー油、ピメンタ油、パイン油、ローズ油、スパイクラベンダー油、タジェット油、トンカビーンズ油、チュベローズ油、テレピン油、バレリアン油、スミレ油、ワームウッド油、ユズ油などを挙げることができる。
Natural flavors used in the present invention can be broadly classified into animal flavors and vegetable flavors.
Examples of animal flavors include castrium (sea scented incense), musk (scented scented incense), ambergris (dragon scented incense), and civet (spirit scented incense).
Examples of vegetable flavors include lemon oil, orange oil, lime oil, bergamot oil, eucalyptus oil, mandarin oil, wintergreen oil, camphor oil, pepper oil, oak moss oil, oppoponax oil, copaiba oil, sandals Oil, cedarwood oil, trubalsum oil, perubalsum oil, benzoin oil, vanilla oil, abies fa oil, almond oil, columnus oil, camomil oil, cardamom oil, galvanum oil, caraway oil, cumin oil, coriander oil, juniper Berry oil, spearmint oil, sage oil, celery oil, thyme oil, tarragon oil, nutmeg oil, basil oil, hyssop oil, pettigren oil, butchu oil, penny royal oil, peppermint oil, mace oil, lavender oil, rosemary oil, Lobe oil, laurel oil, amylis oil Elemi oil, Cassia oil, Guayac oil, Clove oil, Stylax oil, Geranium oil, Tangerine oil, Patchouli oil, Vetiver oil, Labdanum oil, Lemongrass oil, Angelica oil, Hinoki oil, Hiba oil, Citronella oil, Anise seed oil, Ylang Ylang Oil, Clarisage Oil, Cinnamon Oil, Star Anise Oil, Cananga Oil, Black Currant Oil, Amblet Seed Oil, Bay Oil, Boad Rose Oil, Kayapte Oil, Cassie Oil, Coriander Oil, Costas Oil, Davana Oil, Dill Oil , Fennel oil, Fenigree oil, Gene oil, Grapefruit oil, Ginger oil, Hop oil, Hyacinth oil, Inmortel oil, Jasmine oil, Jonquil oil, Labandin oil, Linaroe oil, Lycea cubeba oil, Marjoram oil, Mimosa oil, Mill oil, Myrtle oil, Narushi Oil, Olivenham oil, Oris oil, Parsley oil, Palmarosa oil, Pepper oil, Perilla oil, Neroli oil, Orange flower oil, Pimenta oil, Pine oil, Rose oil, Spike lavender oil, Tadget oil, Tonka beans oil, Tuberose oil , Turpentine oil, valerian oil, violet oil, wormwood oil, yuzu oil and the like.

上記天然香料成分は、精油、アブソリュート、コンクリート、レジノイドなどのいずれの形状であっても問題なく使用することができる。
また、上記の天然香料から、使用目的に応じて、含有する主成分、特有成分、或いは必要成分を分画して分画香料として使用することもできる。この際には、蒸留、再結晶、クロマトグラフィー、化学処理などによって分離精製することができる。
The natural fragrance component can be used without any problem even if it has any shape such as essential oil, absolute, concrete, resinoid and the like.
In addition, depending on the purpose of use, the main component, unique component, or necessary component contained can be fractionated from the natural fragrance and used as a fractionated fragrance. In this case, it can be separated and purified by distillation, recrystallization, chromatography, chemical treatment or the like.

合成香料には、植物精油中に含まれる有効成分を分離精製した分画香料と化学合成香料に分けられる。後者は石油化学製品や天然のテルペン化合物を原料として、有機合成プロセスを元に、全合成法、半合成法、生合成法により製造される。また、化学合成香料には、天然香料の有効成分と同じものを化学的に合成したものと、天然香料中には見出されていないが香気的に優れた化合物を新たに見つけた場合がある。   Synthetic fragrances are classified into fractionated fragrances and chemically synthesized fragrances obtained by separating and purifying active ingredients contained in plant essential oils. The latter is produced by petrochemical products and natural terpene compounds as raw materials, based on organic synthesis processes, by total synthesis, semi-synthesis, and biosynthesis methods. Chemically synthesized fragrances may be those obtained by chemically synthesizing the same active ingredients as natural fragrances, and newly discovered compounds that are not found in natural fragrances but are excellent in fragrance. .

香料の分子構造に着目すれば、香料としては、脂肪族炭化水素、テルペン炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素類、脂肪族アルコール、テルペンアルコール、芳香族アルコール等のアルコール類、脂肪族エーテル、芳香族エーテル等のエーテル類、脂肪族オキサイド、テルペン類のオキサイド等のオキサイド類、脂肪族アルデヒド、テルペン系アルデヒド、脂環式アルデヒド等、チオアルデヒド、芳香族アルデヒド等のアルデヒド類、脂肪族ケトン、テルペンケトン、脂環式ケトン、脂肪族環状ケトン、非ベンゼン系芳香族ケトン、芳香族ケトン等のケトン類、アセタール類、ケタール類、フェノール類、フエノールエーテル類、脂肪酸、テルペン系カルボン酸、脂環式カルボン酸、芳香族カルボン酸等の酸類、酸アマイド類、脂肪族ラクトン、大環状ラクトン、テルペン系ラクトン、脂環式ラクトン、芳香族ラクトン等のラクトン類、脂肪族エステル、フラン系カルボン酸族エステル、脂肪族環状カルボン酸エステル、シクロヘキシルカルボン酸族エステル、テルペン系カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステル等のエステル類、ニトロムスク類、ニトリル、アミン、ピリジン類、キノリン類、ピロール、インドール等の含窒素化合物等が例示できる。   Focusing on the molecular structure of fragrances, the fragrances include aliphatic hydrocarbons, terpene hydrocarbons, hydrocarbons such as aromatic hydrocarbons, aliphatic alcohols, terpene alcohols, alcohols such as aromatic alcohols, and aliphatic ethers. , Ethers such as aromatic ethers, aliphatic oxides, oxides such as terpene oxides, aliphatic aldehydes, terpene aldehydes, alicyclic aldehydes, aldehydes such as thioaldehydes, aromatic aldehydes, aliphatic ketones , Terpene ketone, alicyclic ketone, aliphatic cyclic ketone, non-benzene aromatic ketone, aromatic ketone and other ketones, acetals, ketals, phenols, phenol ethers, fatty acids, terpene carboxylic acids, fats Acids such as cyclic carboxylic acid and aromatic carboxylic acid, acid amides, aliphatic lactate , Macrocyclic lactones, terpene lactones, alicyclic lactones, aromatic lactones and other lactones, aliphatic esters, furan carboxylic acid esters, aliphatic cyclic carboxylic acid esters, cyclohexyl carboxylic acid esters, terpene carboxylic acids Examples include esters such as acid esters and aromatic carboxylic acid esters, nitrogen-containing compounds such as nitromusks, nitriles, amines, pyridines, quinolines, pyrrole and indole.

具体的には、炭化水素類としては、α−ピネン、β−ピネン、カンフェン、ミルセン、リモネン、ターピレン、オシメン、γ−ターピネン、α−フェランドレン、p−サイメン、β−カリオレフィン、β−ファルネセン、1,3,5−ウンデカトリエン、ジフェニルメタンなどが挙げられる。
アルコール類としては、トランス−2−ヘキセノール、シス−3−ヘキセノール、3−オクタノール、1−オクテン−3−オール、2,6−ジメチル−2−ヘプタノール、9−デセノール、4−メチル−3−デセン−5−オール、10−ウンデセノール、トランス−2−シス−6−ノナジエノール、リナロール、ゲラニオール、ネロール、シトロネロール、ロジノール、ミルセノール、ラバンジュロール、テトラヒドロゲラニオール、テトラヒドロリナロール、ヒドロキシシトロネロール、ジヒドロミルセノール、アロオシメノール、α−ターピネオール、ターピネン−4−オール、1−メントール、ボルネオール、イソプレゴール、ノポール、ファルネソール、ネロリドール、ビサボロール、セドロール、パチュリアルコール、ベチベロール、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセン−1−メタノール、4−イソプロピルシクロヘキサノール、4−イソプロピルシクロヘキサンメタノール、1−(4−イソプロピルシクロヘキシル)エタノール、2,2−ジメチル−3−(3−メチルフェニル)プロパノール、p−t−ブチルシクロヘキサノール、o−t−ブチルシクロヘキサノール、アンブリノール、1−(2−t−ブチルシクロヘキシルオキシ)−2−ブタノール、ペンタメチルシクロヘキシルプロパノール、1−(2,2,6−トリメチルシクロヘキシル)−3−ヘキサノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、フェノキシエチルアルコール、スチラリルアルコール、アニスアルコール、シンナミックアルコール、フェニルプロピルアルコール、ジメチルベンジルカルビノール、ジメチルフェニルエチルカルビノール、フェネチルメチルエチルカルビノール、3−メチル−5−フェニルペンタノール、チモール、カルバクロール、オルシノールモノメチルエーテル、オイゲノール、イソオイゲノール、プロペニルグアエトールなどの脂肪族アルコール、芳香族アルコール、またテルペンアルコール化合物が挙げられる。
Specifically, the hydrocarbons include α-pinene, β-pinene, camphene, myrcene, limonene, terpyrene, osmene, γ-terpinene, α-ferrandylene, p-cymene, β-cariolefin, β-farnesene. 1,3,5-undecatriene, diphenylmethane and the like.
Examples of alcohols include trans-2-hexenol, cis-3-hexenol, 3-octanol, 1-octen-3-ol, 2,6-dimethyl-2-heptanol, 9-decenol, and 4-methyl-3-decene. -5-ol, 10-undecenol, trans-2-cis-6-nonadienol, linalool, geraniol, nerol, citronellol, rosinol, myrsenol, lavandulol, tetrahydrogeraniol, tetrahydrolinalol, hydroxycitronellol, dihydromyrcenol, allo Osimenol, α-terpineol, tarpinen-4-ol, 1-menthol, borneol, isopulegol, nopol, farnesol, nerolidol, bisabolol, cedrol, patchoulialcohol, vetivero 2,4-dimethyl-3-cyclohexene-1-methanol, 4-isopropylcyclohexanol, 4-isopropylcyclohexanemethanol, 1- (4-isopropylcyclohexyl) ethanol, 2,2-dimethyl-3- (3-methylphenyl) ) Propanol, pt-butylcyclohexanol, ot-butylcyclohexanol, ambrinol, 1- (2-tert-butylcyclohexyloxy) -2-butanol, pentamethylcyclohexylpropanol, 1- (2,2, 6-trimethylcyclohexyl) -3-hexanol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, phenoxyethyl alcohol, styryl alcohol, anise alcohol, cinnamic alcohol, phenylpropyl alcohol, dimethylbenz Aliphatic alcohols such as lucarbinol, dimethylphenyl ethyl carbinol, phenethyl methyl ethyl carbinol, 3-methyl-5-phenylpentanol, thymol, carvacrol, orcinol monomethyl ether, eugenol, isoeugenol, propenyl guaetol, aromatic Group alcohols and terpene alcohol compounds.

エーテル類としては、ネロールオキサイド、ミロキサイド、1,8−シネオール、ローズオキサイド、リメトール、メントフラン、リナロールオキサイド、ブチルジメチルジヒドロピラン、アセトキシアミルテトラヒドロピラン、セドリルメチルエーテル、メトキシシクロデカン、1−メチル−1−メトキシシクロデカン、エトキシメチルシクロドデシルエーテル、トリシクロデセニルメチルエーテル、ルボフィックス、セドロキサイド、アンブロキサン、グリサルバ、ボワジリス、アニソール、ジメチルハイドロキノン、パラクレジルメチルエーテル、アセトアニソール、アネトール、ジヒドロアネトール、エストラゴール、ジフェニルエーテル、メチルオイゲノール、メチルイソオイゲノール、ベンジルイソオイゲノール、フェニルメチルイソアミルエーテル、β−ナフチルメチルエーテル、β−ナフチルエチルエーテル、β−ナフチルイソブチルエーテル、ヘキサメチルヘキサヒドロシクロペンタンベンゾピランなどの脂肪族エーテル、芳香族エーテル、テルペンオキサイド化合物が挙げられる。   Examples of ethers include nerol oxide, miloxide, 1,8-cineol, rose oxide, limethol, mentfuran, linalool oxide, butyldimethyldihydropyran, acetoxyamyltetrahydropyran, cedolmethyl ether, methoxycyclodecane, 1-methyl -1-methoxycyclodecane, ethoxymethylcyclododecyl ether, tricyclodecenyl methyl ether, rubofix, cedroxide, ambroxan, glycalva, voiris, anisole, dimethylhydroquinone, paracresylmethylether, acetanisole, anethole, dihydro Anethole, Estragol, Diphenyl ether, Methyl eugenol, Methyl isoeugenol, Benzyl isoeugenol, Phenylmethy Isoamyl ether, beta-naphthyl methyl ether, beta-naphthyl ethyl ether, beta-naphthyl isobutyl ether, aliphatic ethers such as hexamethyl hydro cyclopentane benzopyran, aromatic ethers, terpene oxide compounds.

アルデヒド類としては、ヘキシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、オクチルアルデヒド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデシルアルデヒド、ドデシルアルデヒド、トリデシルアルデヒド、トリメチルヘキシルアルデヒド、メチルオクチルアセトアルデヒド、メチルノニルアセトアルデヒド、トランス−2−ヘキセナール、シス−4−ヘプテナール、2,6−ノナジエナール、シス−4−デセナール、ウンデシレンアルデヒド、トランス−2−ドデセナール、トリメチルウンデセナール、2,6,10−トリメチル−5,9−ウンデカジエナール、シトラール、シトロネラール、ヒドロキシシトロネラール、ペリラアルデヒド、メトキシジヒドロシトロネラール、シトロネリルオキシアセトアルデヒド、2,4−ジメチル−3−シクロヘキセニルアルデヒド、イソシクロシトラール、センテナール、マイラックアルデヒド、リラール、ベルンアルデヒド、デュピカール、マセアール、ボロナール、セトナール、ベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、フェニルプロピオナール、シンナミックアルデヒド、α−アミルシンナミックアルデヒド、α−ヘキシルシンナミックアルデヒド、ヒドラトロピックアルデヒド、アニスアルデヒド、p−メチルフェニルアセトアルデヒド、クミンアルデヒド、シクラメンアルデヒド、3−(p−t−ブチルフェニル)プロパナール、p−エチル−2,2−ジメチルヒドロシンナミックアルデヒド、2−メチル−3−(p−メトキシフェニル)プロパナール、p−t−ブチル−α−メチルヒドロシンナミックアルデヒド、サリチルアルデヒド、ヘリオトロピン、ヘリオナール、バニリン、エチルバニリン、メチルバニリンなどの脂肪族アルデヒド、芳香族アルデヒド、テルペンアルデヒド化合物が挙げられる。   Aldehydes include hexyl aldehyde, heptyl aldehyde, octyl aldehyde, nonyl aldehyde, decyl aldehyde, undecyl aldehyde, dodecyl aldehyde, tridecyl aldehyde, trimethyl hexyl aldehyde, methyl octyl acetaldehyde, methyl nonyl acetaldehyde, trans-2-hexenal, cis -4-heptenal, 2,6-nonadienal, cis-4-decenal, undecylene aldehyde, trans-2-dodecenal, trimethylundecenal, 2,6,10-trimethyl-5,9-undecadienal, citral, Citronellal, hydroxycitronellal, perilaldehyde, methoxydihydrocitronellal, citronellyloxyacetaldehyde, 2,4-dimethyl-3- Chlohexenyl aldehyde, isocyclocitral, centenal, mylacaldehyde, rilal, Bernaldehyde, dupical, macear, boronal, setneral, benzaldehyde, phenylacetaldehyde, phenylpropional, cinnamic aldehyde, α-amylcinnamic aldehyde, α-hexylcin Namic aldehyde, hydrotropic aldehyde, anisaldehyde, p-methylphenylacetaldehyde, cuminaldehyde, cyclamenaldehyde, 3- (pt-butylphenyl) propanal, p-ethyl-2,2-dimethylhydrocinnamic aldehyde, 2 -Methyl-3- (p-methoxyphenyl) propanal, pt-butyl-α-methylhydrocinnamic aldehyde, salicyl Aldehyde, heliotropin, ocean propanal, vanillin, ethyl vanillin, aliphatic aldehydes such as methyl vanillin, aromatic aldehydes include terpene aldehyde compounds.

アセタール類としては、オクタナールグリコールアセタール、アセトアルデヒドエチル−シス−3−ヘキセニルアセタール、シトラールジメチルアセタール、シトラールジエチルアセタール、アセトアルデヒドエチルリナリルアセタール、ヒドロキシシトロネラールジメチルアセタール、フェニルアセトアルデヒドジメチルアセタール、ヒドラトロピックアルデヒドジメチルアセタール、フェニルアセトアルデヒドグリセリルアセタール、アセトアルデヒドフェニルエチルエチルアセタール、アセトアルデヒドフェニルエチルプロピルアセタール、フェニルプロパナールプロピレングリコールアセタール、4,4,6−トリメチル−2−ベンジル−1,3−ジオキサン、2,4,6−トリメチル−2−フェニル−1,3−ジオキサン、4,4,6−トリメチル−2−ブチル−1,3−ジオキサン、テトラヒドロインデノ−m−ジオキシン、ジメチルテトラヒドロインデノ−m−ジオキシン、カラナールなどのアセタール化合物が挙げられる。   As acetals, octanal glycol acetal, acetaldehyde ethyl cis-3-hexenyl acetal, citral dimethyl acetal, citral diethyl acetal, acetaldehyde ethyl linalyl acetal, hydroxycitronellal dimethyl acetal, phenylacetaldehyde dimethyl acetal, hydrotropic aldehyde dimethyl acetal , Phenylacetaldehyde glyceryl acetal, acetaldehyde phenylethylethyl acetal, acetaldehyde phenylethylpropyl acetal, phenylpropanal propylene glycol acetal, 4,4,6-trimethyl-2-benzyl-1,3-dioxane, 2,4,6-trimethyl -2-phenyl-1,3-dioxane, 4,4 6-trimethyl-2-butyl-1,3-dioxane, tetrahydropyran indeno -m- dioxin, dimethyl tetrahydroindenyl indeno -m- dioxin include acetal compounds such Karanaru.

ケトン類としては、アセトイン、ジアセチル、メチルアミルケトン、エチルアミルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトン、メチルヘプテノン、コアボン、カンファー、カルボン、メントン、d−プレゴン、ペピリトン、フェンション、ゲラニルアセトン、セドリルメチルケトン、ヌートカトン、イオノン、メチルイオノン、アリルイオノン、イロン、ダマスコン、ダマセノン、ダイナスコン、マルトール、エチルマルトール、2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフラノン、p−t−ブチルシクロヘキサノン、アミルシクロペンタノン、ヘプチルシクロペンタノン、ジヒドロジャスモン、シス−ジャスモン、フロレックス、プリカトン、ムスコン、シベトン、シクロペンタデカノン、シクロヘキサデセノン、4−シクロヘキシル−4−メチル−2−ペンタノン、p−メンテル−6−イル−プロパノン、2,2,5−トリメチル−5−メンチルシクロペンタノン、エトキシビニルテトラメチルシクロヘキサノン、ジヒドロペンタメチルインダノン、イソイースーパー(商品名)、トリモフィックス(商品名)、アセトフェノン、p−メチルアセトフェノン、ベンジルアセトフェノン、カローン、ラズベリーケトン、アニシルアセトン、4−(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)−2−ブタノン、メチルナフチルケトン、4−フェニル−4−メチル−2−ペンタノン、ベンゾフェノン、6−アセチルヘキサメチルインダン、4−アセチルジメチル−t−ブチルインダン、5−アセチルテトラメチルイソプロピルインダン、6−アセチルヘキサテトラリンなどの脂肪族ケトン、芳香族ケトン、テルペンケトン化合物が挙げられる。   As ketones, acetoin, diacetyl, methyl amyl ketone, ethyl amyl ketone, methyl hexyl ketone, methyl nonyl ketone, methyl heptenone, coabon, camphor, carvone, menthone, d-pulegone, pepitone, fension, geranylacetone, cedryl methyl Ketone, Nootkaton, Ionone, Methylionone, Allylionone, Iron, Damascon, Damasenone, Dynascon, Maltol, Ethylmaltol, 2,5-Dimethyl-4-hydroxyfuranone, pt-butylcyclohexanone, amylcyclopentanone, heptylcyclopentanone , Dihydrojasmon, cis-jasmon, Florex, pricatone, muscone, cybeton, cyclopentadecanone, cyclohexadecenone, 4-cyclohexyl 4-methyl-2-pentanone, p-mentel-6-yl-propanone, 2,2,5-trimethyl-5-menthylcyclopentanone, ethoxyvinyltetramethylcyclohexanone, dihydropentamethylindanone, iso-Esuper (product) Name), Trimofix (trade name), acetophenone, p-methylacetophenone, benzylacetophenone, calone, raspberry ketone, anisylacetone, 4- (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) -2-butanone, methylnaphthyl ketone, 4 Aliphatic such as phenyl-4-methyl-2-pentanone, benzophenone, 6-acetylhexamethylindane, 4-acetyldimethyl-t-butylindane, 5-acetyltetramethylisopropylindane, 6-acetylhexatetralin Tons, aromatic ketones, terpene ketone compounds.

エステル類としては、ギ酸エチル、ギ酸シス−3−ヘキセニル、ギ酸リナリル、ギ酸シトロネリル、ギ酸ゲラニル、ギ酸ベンジル、ギ酸フェニルエチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、シクロペンチリデン酢酸メチル、酢酸ヘキシル、酢酸シス−3−ヘキセニル、酢酸トランス−3−ヘキセニル、酢酸イソノニル、酢酸シトロネリル、酢酸ラバンジュリル、酢酸ゲラニル、酢酸リナリル、酢酸ミルセニル、酢酸タービニル、酢酸メンチル、酢酸メンタニル、酢酸ノピル、酢酸ボロニル、酢酸イソボロニル、酢酸p−t−ブチルシクロヘキシル、酢酸o−t−ブチルシクロヘキシル、酢酸トリシクロデセニル、酢酸2,4−ジメチル−3−シクロヘキセン−1−メタニル、酢酸ベンジル、酢酸フェニルエチル、酢酸スチラリル、酢酸シンナミル、酢酸アニシル、酢酸p−クレジル、酢酸ヘリオトロピル、酢酸グアイル、酢酸セドリル、酢酸ベチベリル、酢酸デカヒドロ−β−ナフチル、アセチルオイゲノール、アセチルイソオイゲノール、プロピオン酸エチル、プロピオン酸イソアミル、プロピオン酸シトロネリル、プロピオン酸ゲラニル、プロピオン酸リナリル、プロピオン酸ターピニル、プロリオン酸ベンジル、プロピオン酸シンナミル、シクロヘキシルプロピオン酸アリル、プロピオン酸トリシクロデセニル、酪酸エチル、2−メチル酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸イソアミル、酪酸ヘキシル、酪酸リナリル、酪酸ゲラニル、酪酸シトロネリル、酪酸ベンジル、イソ酪酸シス−3−ヘキセニル、イソ酪酸シトロネリル、イソ酪酸ゲラニル、イソ酪酸リナリル、イソ酪酸ベンジル、イソ酪酸フェニルエチル、イソ酪酸フェノキシエチル、イソ酪酸トリシクロデセニル、イソ吉草酸エチル、吉草酸プロピル、イソ吉草酸シトロネリル、イソ吉草酸ゲラニル、イソ吉草酸ベンジル、イソ吉草酸シンナミル、イソ吉草酸フェニルエチル、カプロン酸エチル、カプロン酸アリル、エナント酸エチル、エナント酸アリル、カプリン酸エチル、チグリン酸シトロネリル、オクチンカルボン酸メチル、2−ペンチロキシグリコール酸アリル、シス−3−ヘキセニルメチルカーボネート、ピルビン酸エチル、ピルビン酸イソアミル、アセト酢酸エチル、レブリン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸イソブチル、安息香酸イソアミル、安息香酸ベンジル、安息香酸ゲラニル、安息香酸リナリル、安息香酸フェニルエチル、ジヒドロキシジメチル安息香酸メチル、フェニル酢酸メチル、フェニル酢酸エチル、フェニル酢酸イソブチル、フェニル酢酸イソアミル、フェニル酢酸ゲラニル、フェニル酢酸ベンジル、フェニル酢酸フェニルエチル、フェニル酢酸p−クレジル、桂皮酸メチル、桂皮酸エチル、桂皮酸ベンジル、桂皮酸シンナミル、桂皮酸フェニルエチル、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、サリチル酸イソブチル、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ヘキシル、サリチル酸シス−3−ヘキセニル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸フェニルエチル、アニス酸メチルアニス酸エチル、アンスラニル酸メチル、アンスラニル酸エチル、メチルアンスラニル酸メチル、ジャスモン酸メチル、ジヒドロジャスモン酸メチル、メチルフェニルグリシド酸エチル、フェニルグリシド酸エチル、グリコメル、フラクトン、フレイストン、フルテート、ジベスコン、カリキソール(商品名)などの脂肪族エステル、芳香族エステル、カーボネート化合物が挙げられる。   Esters include ethyl formate, cis-3-hexenyl formate, linalyl formate, citronellyl formate, geranyl formate, benzyl formate, phenyl ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, isoamyl acetate, methyl cyclopentylidene acetate, hexyl acetate, acetic acid Cis-3-hexenyl, trans-3-hexenyl acetate, isononyl acetate, citronellyl acetate, lavandulyl acetate, geranyl acetate, linalyl acetate, mircenyl acetate, tervinyl acetate, menthyl acetate, menthanyl acetate, nopyru acetate, boronyl acetate, isobornyl acetate, acetic acid p-t-butylcyclohexyl, o-t-butylcyclohexyl acetate, tricyclodecenyl acetate, 2,4-dimethyl-3-cyclohexene-1-methanyl acetate, benzyl acetate, phenylethyl acetate, styrylyl acetate, vinegar Cinnamyl, anisyl acetate, p-cresyl acetate, heliotropyl acetate, guayl acetate, cedryl acetate, vetiberyl acetate, decahydro-β-naphthyl acetate, acetyl eugenol, acetyl isoeugenol, ethyl propionate, isoamyl propionate, citronellyl propionate, propionic acid Geranyl, linalyl propionate, terpinyl propionate, benzyl prolionate, cinnamyl propionate, allyl cyclohexylpropionate, tricyclodecenyl propionate, ethyl butyrate, ethyl 2-methylbutyrate, butyl butyrate, isoamyl butyrate, hexyl butyrate, butyric acid Linalyl, geranyl butyrate, citronellyl butyrate, benzyl butyrate, cis-3-hexenyl isobutyrate, citronellyl isobutyrate, geranyl isobutyrate, linalyl isobutyrate, isobutyrate Benzyl acid, phenylethyl isobutyrate, phenoxyethyl isobutyrate, tricyclodecenyl isobutyrate, ethyl isovalerate, propyl valerate, citronellyl isovalerate, geranyl isovalerate, benzyl isovalerate, cinnamyl isovalerate, Phenyl ethyl isovalerate, ethyl caproate, allyl caproate, ethyl enanthate, allyl enanthate, ethyl caprate, citronellyl tiglate, methyl octynecarboxylate, allyl 2-pentyloxyglycolate, cis-3-hexenylmethyl carbonate , Ethyl pyruvate, isoamyl pyruvate, ethyl acetoacetate, ethyl levulinate, methyl benzoate, ethyl benzoate, isobutyl benzoate, isoamyl benzoate, benzyl benzoate, geranyl benzoate, linalyl benzoate, feline benzoate Ruethyl, methyl dihydroxydimethylbenzoate, methyl phenylacetate, ethyl phenylacetate, isobutyl phenylacetate, isoamyl phenylacetate, geranyl phenylacetate, benzyl phenylacetate, phenylethyl phenylacetate, p-cresyl phenylacetate, methyl cinnamate, ethyl cinnamate , Benzyl cinnamate, cinnamyl cinnamate, phenylethyl cinnamate, methyl salicylate, ethyl salicylate, isobutyl salicylate, isoamyl salicylate, hexyl salicylate, cis-3-hexenyl salicylate, benzyl salicylate, phenylethyl salicylate, ethyl anislate, anthranil Methyl acid, ethyl anthranilate, methyl methyl anthranilate, methyl jasmonate, methyl dihydrojasmonate, methyl phenyl glycy Ethyl, phenylglycidic acid ethyl Gurikomeru, fractons, Fureisuton, Furuteto, Jibesukon, aliphatic esters such as Karikisoru (trade name), an aromatic ester, carbonate compounds.

カルボン酸類としては、ゲラニル酸、シトロネリル酸、安息香酸、フェニル酢酸、フェニルプロピオン酸、桂皮酸、2−メチル−2−ペンテノン酸などのカルボン酸化合物が挙げられる。   Examples of the carboxylic acids include carboxylic acid compounds such as geranilic acid, citronellic acid, benzoic acid, phenylacetic acid, phenylpropionic acid, cinnamic acid, and 2-methyl-2-pentenonic acid.

ラクトン類としては、γ−オクタラクトン、γ−ノナラクトン、γ−デカラクトン、γ−ウンデカラクトン、δ−デカラクトン、クマリン、ジヒドロクマリン、ジャスモラクトン、ジャスミンラクトン、シュガーラクトン、シクロペンタデカノリド、シクロヘキサデカノリド、12−シクロペンタデカノリド、シクロヘキサデセノリド、12−オキサ−16−ヘキサデカノリド、11−オキサ−16−ヘキサデカノリド、10−オキサ−16−ヘキサデカノリド、エチレンブラシノート、エチレンドデカンジオエートなどの脂肪族ラクトン、芳香族ラクトン化合物が挙げられる。   Examples of lactones include γ-octalactone, γ-nonalactone, γ-decalactone, γ-undecalactone, δ-decalactone, coumarin, dihydrocoumarin, jasmolactone, jasmine lactone, sugar lactone, cyclopentadecanolide, cyclohexanone. Sadecanolide, 12-cyclopentadecanolide, cyclohexadecenolide, 12-oxa-16-hexadecanolide, 11-oxa-16-hexadecanolide, 10-oxa-16-hexadecanolide, ethylene brush note, ethylenedodecanedioate And aliphatic lactones and aromatic lactone compounds.

含窒素化合物類としては、アセチルピロール、インドール、スカトール、インドレン、2−アセチルピリジン、マリティマ、6−メチルキノリン、6−イソプロピルキノリン、6−イソブチルキノリン、2−アセチルピラジン、2,3−ジメチルピラジン、2−イソプロピル−3−メトキシピラジン、2−イソブチル−3−メトキシピラジン、2−sec−ブチル−3−メトキシピラジン、トリメチルピラジン、ゲラニルニトリル、シトロネリルニトリル、5−フェニル−3−メチル−2−ペンテンニトリル、3,7−ジメチル−2,6−ノナジエンニトリル、シナモンニトリル、クミンニトリル、ドデカンニトリル、トリデセン−2−ニトリル、5−メチル−3−ヘプタノンオキシムなどの含窒素化合物が挙げられる。   Examples of nitrogen-containing compounds include acetylpyrrole, indole, skatole, indolene, 2-acetylpyridine, maritima, 6-methylquinoline, 6-isopropylquinoline, 6-isobutylquinoline, 2-acetylpyrazine, 2,3-dimethylpyrazine, 2-Isopropyl-3-methoxypyrazine, 2-isobutyl-3-methoxypyrazine, 2-sec-butyl-3-methoxypyrazine, trimethylpyrazine, geranylnitrile, citronellylnitrile, 5-phenyl-3-methyl-2-pentene Nitrogen-containing compounds such as nitrile, 3,7-dimethyl-2,6-nonadiene nitrile, cinnamon nitrile, cumin nitrile, dodecane nitrile, tridecene-2-nitrile, 5-methyl-3-heptanone oxime and the like can be mentioned.

これらのうち、代表的なものとして、アセチルセドレン、イソイースーパー(商標名)、イソ吉草酸エチル、イソ吉草酸ベンジル、エチルバニリン、エチレンブラシレート、1−オクテン−3−オール、ガラクソライド(商標名)、カンファー、ケイヒ酸メチル、ゲラニオール、酢酸ゲラニル、酢酸ベンジル、酢酸リナリル、サンダロール(商標名)、シクラメンアルデヒド、シクロペンタデカノリッド、シトラール、シトロネラール、シトロネロール、ジヒドロジャスモン酸メチル、シスジャスミン、ダマスコン、ターピオール、トナリッド(商標名)、バクダノール、バニリン、ヒドロキシシトロネラール、フェニルアセトアルデヒド、2−フェニルエタノール、ヘキシルシンナミックアルデヒド、シス−3−ヘキセノール、ヘリオトロピン、メチルアトラトレート、メチルイオノン、メントール、イオノン、リナロール、リラール(商標名)、コバノール(商標名)、リリアール(商標名)、ローズオキサイドが例示できる。   Among these, representative examples include acetyl cedrene, IsoEsuper (trade name), ethyl isovalerate, benzyl isovalerate, ethyl vanillin, ethylene brushate, 1-octen-3-ol, galaxolide (trademark) Name), camphor, methyl cinnamate, geraniol, geranyl acetate, benzyl acetate, linalyl acetate, sandalol (trade name), cyclamenaldehyde, cyclopentadecanolide, citral, citronellal, citronellol, methyl dihydrojasmonate, cisjasmine, Damascon, Turpiol, Tonalid (trade name), Vacdanol, Vanillin, Hydroxycitronellal, Phenylacetaldehyde, 2-Phenylethanol, Hexylcinnamic aldehyde, Cis-3-hexenol, Heliotro Emissions, methyl ATRA preparative rates, methyl ionone, menthol, ionone, linalool, lyral (trade name), Kobanoru (trade name), Lilial (brand name), rose oxide can be exemplified.

これらの中でも、香料として、テルペン炭化水素、テルペンアルコール、テルペン類のオキサイド、テルペン系アルデヒド、テルペンケトン、テルペン系カルボン酸、テルペン系ラクトン、テルペン系カルボン酸エステル等のテルペン化合物及び/又は脂肪族エステル、フラン系カルボン酸族エステル、脂肪族環状カルボン酸エステル、シクロヘキシルカルボン酸族エステル、テルペン系カルボン酸エステル、芳香族カルボン酸エステル等のエステル化合物を使用することが好ましい。   Among these, as perfumes, terpene hydrocarbons, terpene alcohols, terpene oxides, terpene aldehydes, terpene ketones, terpene carboxylic acids, terpene lactones, terpene carboxylic esters and the like terpene compounds and / or aliphatic esters It is preferable to use ester compounds such as furan carboxylic acid esters, aliphatic cyclic carboxylic acid esters, cyclohexyl carboxylic acid esters, terpene carboxylic acid esters, and aromatic carboxylic acid esters.

また、本発明における香料として、耐熱性香料を用いることが好ましい。耐熱性香料を用いることにより、レーザー彫刻時において芳香を発散することにより樹脂の分解による悪臭をマスキングし、しかも、常温においてはほとんど芳香を発散せず長期保存の可能なレーザー彫刻層とすることができる。
ここで、耐熱性香料とは、レーザー彫刻作業時において芳香を発散することにより樹脂の分解等による悪臭をマスキングし、且つ、常温においてはほとんど芳香を発散せず長期保存が可能である香料のことを言う。
Moreover, it is preferable to use a heat-resistant fragrance | flavor as a fragrance | flavor in this invention. By using heat-resistant fragrances, it is possible to mask the bad odor caused by the decomposition of the resin by releasing fragrance at the time of laser engraving, and to make a laser engraved layer that can be stored for a long time with little odor emission at room temperature it can.
Here, the heat-resistant fragrance is a fragrance that masks the bad odor caused by decomposition of the resin by releasing the fragrance during the laser engraving work and that can be stored for a long time with little fragrance being emitted at room temperature. Say.

耐熱性香料として、具体的には、以下に示すような、ヘリオトロープ系、ジャスミン系、ローズ系、オレンジフラワー系、アンバー系、ムスク系の群からなる化合物から選ばれた1種以上の香料成分が好ましく使用される。
また、さらに具体的な香料として、下記のパチュリ油を主体とするオリエンタルベースに、下記のローズ系、アンバー系、ムスク系、及びジャスミン系からなる群から得られる香料成分を、溶剤のジオクチルフタレート(DOP)と共に上乗せしたタブ(TABU)タイプの香料がある。
オリエンタルベース:パチュリ油、ハーコリン(メチルアビエテート・methylabietate)、バニリン、エチルバニリン、クマリン
ローズ系香料成分:フェニルエチルアルコール、ゲラニオール、イソ−ボルニルメトキシシクロヘキサノール(iso−Bornyl methoxycyclohexanol)
アンバー系香料成分:テトラハイドロパラメチルキノリン
ムスク系香料成分:ガラクソリッド、ムスクケトン
ジャスミン系香料成分:α−アミルシンナムアルデヒド、メチルジヒドロジャスモネート
Specifically, as the heat-resistant fragrance, one or more fragrance components selected from the group consisting of heliotrop, jasmine, rose, orange flower, amber, and musk are shown below. Preferably used.
Further, as a more specific fragrance, an oriental base mainly composed of the following patchouli oil, a fragrance component obtained from the group consisting of the following rose, amber, musk, and jasmine, a dioctyl phthalate solvent ( There is a fragrance of the tab (TABU) type added with DOP.
Oriental base: patchouli oil, hercoline (methyl abieticate), vanillin, ethyl vanillin, coumarin rose fragrance ingredients: phenylethyl alcohol, geraniol, iso-bornylmethoxycyclohexanol (iso-Bornyl methoxycyclohexanol)
Amber fragrance ingredient: Tetrahydroparamethylquinoline Musk fragrance ingredient: Garac solid, musk ketone Jasmine fragrance ingredient: α-amylcinnamaldehyde, methyl dihydrojasmonate

また、下記のヘリオトロープ系の香料成分を主香調とし、ジャスミン系の香料成分、さらに、高調性、拡散性を付与するため、ローズ系の香料成分やオレンジフラワー系の香料成分を、溶媒のDOPと一緒に加えたアメシスト(AMETHYST)タイプの香料も好ましいものとして挙げられる。
ヘリオトロープ系香料成分:ヘリオトロピン、ムスクケトン、クマリン、エチルバニリン、アセチルセドレン、ハーコリン(メチルアビエテート)、オイゲノール、メチルヨノン
ローズ系香料成分:ダマスコン−β、ダマスコン−α、イソ−ボルニルメトキシシクロヘキサノール
オレンジフラワー系香料成分:メチルアンスラニレート、γ−ウンデカラクトン、γ−ノナラクトン
ジャスミン系香料成分:メチルジヒドロジャスモネート
In addition, the following heliotrope-based fragrance components are used as the main fragrance, and jasmine-based fragrance components, as well as rose-based fragrance components and orange flower-based fragrance components, are added to the solvent DOP in order to impart harmonicity and diffusibility. Amethyst type fragrances added together with are also preferred.
Heliotrope fragrance ingredients: heliotropin, musk ketone, coumarin, ethyl vanillin, acetyl cedrene, hercoline (methyl abieticate), eugenol, methyl ionone Rose fragrance ingredients: Damascon-β, Damascon-α, iso-bornylmethoxycyclohexanol Orange Flower perfume ingredients: methyl anthranilate, γ-undecalactone, γ-nonalactone Jasmine perfume ingredients: methyl dihydrojasmonate

更に、その他の耐熱性香料として、6−ヒドロキシアルカン酸や、6−(5−および/または6−アルケノイロキシ)アルカン酸6−(5−および/または6−アルケノイロキシ)アルカン酸を用いることも好ましい。   Furthermore, it is also preferable to use 6-hydroxyalkanoic acid or 6- (5- and / or 6-alkenoyloxy) alkanoic acid 6- (5- and / or 6-alkenoyloxy) alkanoic acid as another heat-resistant fragrance.

香料の含有量は、本発明におけるレリーフ形成層に対し、0.003重量%〜1.5重量%が好ましく、0.005質量%〜1.0重量%がより好ましい。香料成分がこのような範囲を下回るとマスキング効果を充分に発揮することができず、また、上記範囲を上回ると、香料の香りが強くなりすぎ作業環境の改善につながらない、また、彫刻感度が低くなるおそれが生じる。   The content of the fragrance is preferably 0.003% by weight to 1.5% by weight, and more preferably 0.005% by weight to 1.0% by weight with respect to the relief forming layer in the present invention. If the fragrance component is below such a range, the masking effect cannot be fully exerted, and if it exceeds the above range, the fragrance of the fragrance becomes too strong and does not lead to improvement of the working environment, and the engraving sensitivity is low. May arise.

以下、アクリル臭に対する香料について詳述する。
前述した(A)重合性化合物の中でも、アクリル酸エステル系モノマー、メタクリル酸エステル系モノマーは、本発明におけるレリーフ形成層を構成する重要な原料の1つであると共に、アクリル臭として臭気を有するものである。これらのモノマーは、レリーフ形成層が、光や熱により架橋、硬化した後でも、微量(100ppb)残存していると臭気を与える。
Hereinafter, the fragrance | flavor with respect to an acrylic odor is explained in full detail.
Among the polymerizable compounds (A) described above, the acrylic acid ester monomer and the methacrylic acid ester monomer are one of important raw materials constituting the relief forming layer in the present invention and have an odor as an acrylic odor. It is. These monomers give an odor when a slight amount (100 ppb) remains even after the relief forming layer is crosslinked and cured by light or heat.

特にこのようなアクリル臭を有するレリーフ形成層に対しては、下記a群及びb群の香料を用いることにより、アクリル臭を低減することが可能となる。
a群:オレンジノートを有する香料群から選ばれる少なくとも1種の香料
b群:グリーンノートを有する香料群から選ばれる少なくとも1種の香料
In particular, for a relief forming layer having such an acrylic odor, it is possible to reduce the acrylic odor by using the following perfumes of group a and group b.
Group a: at least one fragrance selected from a fragrance group having an orange note b group: at least one fragrance selected from a fragrance group having a green note

オレンジノートを有する香料群(a群)には、例えば、オレンジオイルバレンシア、ベルガモットオイル、ネロリオイル、ペチグレンオイル、d−リモネン、リナロール、オレンジフラワーアブソリュート、リナリルアセテート、メチルアンスラニレート、オウランチオール、メチルベータナフチルケトン、ヤラヤラなどが挙げられ、特に好ましいのは、オレンジオイルバレンシア又はベルガモットオイルである。
これらは単独で使用してもよいし、2種以上混合して使用してもよい。
このa群から選ばれる香料の添加量は、十分なマスキング効果と適度な芳香性、更には、彫刻感度の点から、レリーフ形成層の質量に対して、0.001質量%〜3.0質量%が好ましく、0.003質量%〜1.5質量%がより好ましく、0.005質量%〜1.0質量%が最も好ましい。
Fragrance groups having orange note (group a) include, for example, orange oil valencia, bergamot oil, neroli oil, pettigren oil, d-limonene, linalool, orange flower absolute, linalyl acetate, methylanthranilate, uranium thiol, Examples thereof include methyl beta naphthyl ketone and arayara, and orange oil Valencia or bergamot oil is particularly preferable.
These may be used alone or in combination of two or more.
The addition amount of the fragrance selected from this a group is 0.001% by mass to 3.0% by mass with respect to the mass of the relief forming layer from the viewpoint of sufficient masking effect and appropriate fragrance, and further, engraving sensitivity. % Is preferable, 0.003 mass% to 1.5 mass% is more preferable, and 0.005 mass% to 1.0 mass% is most preferable.

また、グリーンノートを有する香料群(b群)には、例えば、シス−3−ヘキセノール、シス−3−ヘキセニルアセテート、フェニルアセトアルデヒド、ジメチルテトラハイドロベンズアルデヒド、メチルフェニルカルビニルアセテート、メチルオクチンカーボネート、アリルブチレート、クミンアルデヒド、アリルシクロヘキシルオキシアセテート、ブチルオルトブチルグリコレート、ピラジン、エチルベンゾエートなどが挙げられ、特に好ましいのは、シス−3−ヘキセノール、シス−3−ヘキセニルアセテート、フェニルアセトアルデヒド、ジメチルテトラハイドロベンズアルデヒド、メチルフェニルカルビニルアセテート、メチルオクチンカーボネートである。これらのグリーンノートは、ローズやゼラニウム、バイオレットリーフなどの天然香料にも存在する香料成分であるが、その由来については特に限定するものではない。
これらは単独で使用してもよいし、2種以上混合して使用してもよい。
このb群から選ばれる香料の添加量は、十分なマスキング効果と適度な芳香性、更には、彫刻感度の点から、レリーフ形成層の質量に対して、0.001質量%〜3.0質量%が好ましく、0.003質量%〜1.5質量%がより好ましく、0.005質量%〜1.0質量%が最も好ましい。
Further, the fragrance group (group b) having a green note includes, for example, cis-3-hexenol, cis-3-hexenyl acetate, phenylacetaldehyde, dimethyltetrahydrobenzaldehyde, methylphenylcarbinyl acetate, methyloctyne carbonate, allyl butyrate. Rate, cuminaldehyde, allylcyclohexyloxyacetate, butyl orthobutyl glycolate, pyrazine, ethyl benzoate, etc., and particularly preferred are cis-3-hexenol, cis-3-hexenyl acetate, phenylacetaldehyde, dimethyltetrahydrobenzaldehyde. , Methyl phenylcarbinyl acetate, methyl octyne carbonate. These green notes are fragrance components that are also present in natural fragrances such as rose, geranium, and violet leaf, but their origins are not particularly limited.
These may be used alone or in combination of two or more.
The addition amount of the fragrance selected from this b group is 0.001% by mass to 3.0% by mass with respect to the mass of the relief forming layer from the viewpoint of sufficient masking effect and appropriate fragrance, and further engraving sensitivity. % Is preferable, 0.003 mass% to 1.5 mass% is more preferable, and 0.005 mass% to 1.0 mass% is most preferable.

また、a群とb群の香料の好ましい質量比は、十分なマスキング効果と香りのバランスの点から、a群:b群=150:1〜1:1が好ましく、a群:b群=100:1〜1:1がより好ましい。   Moreover, the preferable mass ratio of the fragrance | flavor of a group and b group is preferable from the point of sufficient masking effect and the balance of fragrance, a group: b group = 150: 1-1: 1, a group: b group = 100 : 1-1: 1 are more preferable.

本発明において、実際のレリーフ形成層においての香料の役割は、レーザー照射時に発生する臭気のマスキング、即ち、アクリル臭の中和の他に、レーザーの非照射部から香料が香ることで、臭気の低減効果もあるため、例えば、上記a群の香料のオレンジノート、b群の香料のグリーンノートを有する香料以外に、従来より知られている前述した香料成分を自由に用いることができる。   In the present invention, the role of the fragrance in the actual relief forming layer is to mask the odor generated during the laser irradiation, that is, to neutralize the acrylic odor, and the fragrance is scented from the non-irradiated portion of the laser. Since there is also a reduction effect, for example, in addition to the fragrance having the orange note of the fragrance of the a group and the green note of the fragrance of the b group, conventionally known fragrance components described above can be used freely.

以下、本発明におけるレリーフ形成層に好適に用いられる任意成分について説明する。
任意成分としては、(D)700nm〜1300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤や、重合開始剤等が好ましく用いられる。
Hereinafter, the arbitrary components suitably used for the relief forming layer in the present invention will be described.
As the optional component, (D) a photothermal conversion agent capable of absorbing light having a wavelength of 700 nm to 1300 nm, a polymerization initiator, and the like are preferably used.

<(D)光熱変換剤>
本発明におけるレリーフ形成層は、(D)光熱変換剤を含有することが好ましい。光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することでレリーフ形成層の熱分解を促進すると考えられる。ゆえに、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
<(D) Photothermal conversion agent>
The relief forming layer in the present invention preferably contains (D) a photothermal conversion agent. The photothermal conversion agent is considered to promote thermal decomposition of the relief forming layer by absorbing laser light and generating heat. Therefore, it is preferable to select a photothermal conversion agent that absorbs light having a laser wavelength used for engraving.

波長700nm〜1300nmの赤外線を発するレーザー(YAGレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等)を光源としてレーザー彫刻に用いる場合には、本発明におけるレリーフ形成層は、700nm〜1300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤を含有することが好ましい。
本発明における光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
When a laser (YAG laser, semiconductor laser, fiber laser, surface emitting laser, etc.) emitting an infrared ray having a wavelength of 700 nm to 1300 nm is used as a light source for laser engraving, the relief forming layer in the present invention is a light having a wavelength of 700 nm to 1300 nm. It is preferable to contain a photothermal conversion agent capable of absorbing water.
Various dyes or pigments are used as the photothermal conversion agent in the present invention.

光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   Among the photothermal conversion agents, as the dye, commercially available dyes and known ones described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, diimmonium compounds, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes And the like.

本発明において好ましく用いられる染料としては、特開2008−63554号公報の段落〔0124〕〜〔0137〕に記載の染料を挙げることができる。
本発明における光熱変換剤として好適もの1つは、彫刻感度が高い点から、シアニン系化合物及びフタロシアニン系化合物から選択される少なくとも1種の化合物である。更に、これらの光熱変換剤の熱分解温度が、バインダーポリマーとして好適な親水性ポリマーの熱分解温度同等以上という組み合わせ(条件)で使用する場合に更に彫刻感度が高くなる傾向であり好ましい。
Examples of the dye preferably used in the present invention include the dyes described in paragraphs [0124] to [0137] of JP-A-2008-63554.
One suitable photothermal conversion agent in the present invention is at least one compound selected from cyanine compounds and phthalocyanine compounds from the viewpoint of high engraving sensitivity. Further, when the photothermal conversion agent is used in a combination (condition) in which the thermal decomposition temperature of the hydrophilic polymer suitable as the binder polymer is equal to or higher than the thermal decomposition temperature, the engraving sensitivity tends to be further increased, which is preferable.

また、本発明において用いられる光熱変換剤のうち、染料としては、波長700nm〜1300nmに吸収極大を有する染料が好ましい。
本発明で好ましく用いうる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、インドリウム系色素、ベンズインドリウム系色素、ベンゾチアゾリウム系色素、キノリニウム系色素、顕色剤と反応させたフタリド化合物等のうち、700nm〜1300nmに極大吸収波長を有するものが挙げられる。置換基の種類及び分子内での位置、共役結合の数、対イオンの種類、色素分子の存在する周囲の環境などにより、光吸収特性が極めて大きく変化する。
Of the photothermal conversion agents used in the present invention, the dye is preferably a dye having an absorption maximum at a wavelength of 700 nm to 1300 nm.
Dyes that can be preferably used in the present invention include cyanine dyes such as heptamethine cyanine dyes, oxonol dyes such as pentamethine oxonol dyes, indolium dyes, benzindolinium dyes, benzothiazolium dyes, quinolinium Among the phthalide compounds and the like reacted with a system dye and a developer, those having a maximum absorption wavelength at 700 nm to 1300 nm can be mentioned. The light absorption characteristics vary greatly depending on the type of substituent and position in the molecule, the number of conjugate bonds, the type of counterion, the surrounding environment in which the dye molecule is present, and the like.

また、一般に市販されているレーザー色素、過飽和吸収色素、近赤外線吸収色素を使用することもできる。例えば、レーザー色素として、アメリカン・ダイ・ソース社(カナダ国)の商標「ADS740PP」、「ADS745HT」、「ADS760MP」、「ADS740WS」、「ADS765WS」、「ADS745HO」、「ADS790NH」、「ADS800NH」、株式会社林原生物化学研究所社製の商標「NK−3555」、「NK−3509」、「NK−3519」を挙げることができる。また、近赤外線吸収色素として、アメリカン・ダイ・ソース社(カナダ国)商標「ADS775MI」、「ADS775MP」、「ADS775HI」、「ADS775PI」、「ADS775PP」、「ADS780MT」、「ADS780BP」、「ADS793EI」、「ADS798MI」、「ADS798MP」、「ADS800AT」、「ADS805PI」、「ADS805PP」、「ADS805PA」、「ADS805PF」、「ADS812MI」、「ADS815EI」、「ADS818HI」、「ADS818HT」、「ADS822MT」、「ADS830AT」、「ADS838MT」、「ADS840MT」、「ADS845BI」、「ADS905AM」、「ADS956BI」、「ADS1040T」、「ADS1040P」、「ADS1045P」、「ADS1050P」、「ADS1060A」、「ADS1065A」、「ADS1065P」、「ADS1100T」、「ADS1120F」、「ADS1120P」、「ADS780WS」、「ADS785WS」、「ADS790WS」、「ADS805WS」、「ADS820WS」、「ADS830WS」、「ADS850WS」、「ADS780HO」、「ADS810CO」、「ADS820HO」、「ADS821NH」、「ADS840NH」、「ADS880MC」、「ADS890MC」、「ADS920MC」、山本化成株式会社製、商標「YKR−2200」、「YKR−2081」、「YKR−2900」、「YKR−2100」、「YKR−3071」、有本化学工業株式会社製、商標「SDO−1000B」、株式会社林原生物化学研究所社製、商標「NK−3508」、「NKX−114」を挙げることができる。ただし、これらのみに限定されるものではない。   Further, commercially available laser dyes, supersaturated absorbing dyes, and near infrared absorbing dyes can also be used. For example, as a laser dye, trade marks “ADS740PP”, “ADS745HT”, “ADS760MP”, “ADS740WS”, “ADS765WS”, “ADS745NH”, “ADS790NH”, “ADS800NH” of American Die Source (Canada), Trademarks “NK-3555”, “NK-3509”, and “NK-3519” manufactured by Hayashibara Biochemical Laboratories, Inc. can be mentioned. In addition, as a near-infrared absorbing pigment, trade names “ADS775MI”, “ADS775MP”, “ADS775HI”, “ADS775PI”, “ADS775PP”, “ADS780MT”, “ADS780BP”, “ADS793EI”, trade names “ADS775MI”, “ADS775MP”, “ADS775HI” , “ADS798MI”, “ADS798MP”, “ADS800AT”, “ADS805PI”, “ADS805PP”, “ADS805PA”, “ADS805PF”, “ADS812MI”, “ADS815EI”, “ADS818HI”, “ADS818HT”, “ADS8” ADS830AT, ADS838MT, ADS840MT, ADS845BI, ADS905AM, ADS956BI, ADS1040T, "ADS1040P", "ADS1045P", "ADS1050P", "ADS1060A", "ADS1065A", "ADS1065P", "ADS1100T", "ADS1120F", "ADS1120P", "ADS780WS", "ADS785WS", "ADS790WS", "ADS790WS", "ADS790WS" , “ADS820WS”, “ADS830WS”, “ADS850WS”, “ADS780HO”, “ADS810CO”, “ADS820HO”, “ADS821NH”, “ADS840NH”, “ADS880MC”, “ADS890MC”, “Yamamoto Co., Ltd.” , Trademarks “YKR-2200”, “YKR-2081”, “YKR-2900”, “YKR-2100”, “YKR-3071”, Arimoto Made by Manabu Industry Co., Ltd., trademark "SDO-1000B", Hayashibara Biochemical Laboratories Inc., trademark "NK-3508", mention may be made of the "NKX-114". However, it is not limited only to these.

本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Among the photothermal conversion agents used in the present invention, commercially available pigments and color index (CI) manuals, “latest pigment manuals” (edited by the Japan Pigment Technical Association, published in 1977), “latest pigment application” The pigments described in “Technology” (CMC Publishing, 1986) and “Printing Ink Technology” CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

カーボンブラックは、レリーフ形成層用塗布液組成物中における分散性などが安定である限り、ASTMによる分類のほか、用途(例えば、カラー用、ゴム用、乾電池用など)の如何に拘らずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。   As long as the dispersibility in the coating liquid composition for the relief forming layer is stable, carbon black is classified according to ASTM, regardless of the use (for example, for color, for rubber, for dry batteries, etc.). It can be used. Carbon black includes, for example, furnace black, thermal black, channel black, lamp black, acetylene black and the like. In order to facilitate dispersion, black colorants such as carbon black can be used as color chips or color pastes previously dispersed in nitrocellulose or a binder, if necessary. Such chips and pastes can be easily obtained as commercial products.

本発明においては、比較的低い比表面積及び比較的低いDBP吸収を有するカーボンブラックや比表面積の大きい微細化されたカーボンブラックまでを使用することも可能である。好適なカーボンブラックの例は、Printex(登録商標)U、Printex(登録商標)A、又はSpezialschwarz(登録商標)4(Degussaより)を含む。   In the present invention, it is also possible to use carbon black having a relatively low specific surface area and relatively low DBP absorption and even finer carbon black having a large specific surface area. Examples of suitable carbon blacks include Printex® U, Printex® A, or Specialschwarz® 4 (from Degussa).

本発明に適用しうるカーボンブラックとしては、光熱変換により発生した熱を周囲のポリマー等に効率よく伝えることで彫刻感度が向上するという観点で、比表面積が少なくとも150m/g及びDBP数が少なくとも150ml/100gである、伝導性カーボンブラックが好ましい。 The carbon black applicable to the present invention has a specific surface area of at least 150 m 2 / g and a DBP number of at least from the viewpoint of improving engraving sensitivity by efficiently transferring heat generated by photothermal conversion to surrounding polymers. Conductive carbon black, which is 150 ml / 100 g, is preferred.

この比表面積は好ましくは、少なくとも250、特に好ましくは少なくとも500m/gである。DBP数は好ましくは少なくとも200、特に好ましくは少なくとも250ml/100gである。上述したカーボンブラックは酸性の又は塩基性のカーボンブラックであってよい。カーボンブラックは、好ましくは塩基性のカーボンブラックである。異なるバインダーの混合物も当然に、使用され得る。 This specific surface area is preferably at least 250, particularly preferably at least 500 m 2 / g. The DBP number is preferably at least 200, particularly preferably at least 250 ml / 100 g. The carbon black described above may be acidic or basic carbon black. The carbon black is preferably basic carbon black. Of course, mixtures of different binders can also be used.

約1500m/gにまで及ぶ比表面積及び約550ml/100gにまで及ぶDBP数を有する適当な伝導性カーボンブラックが、例えば、Ketjennlack(登録商標)EC300J、Ketjennlack(登録商標)EC600J(Akzoより)、Prinrex(登録商標)XE(Degussaより)又はBlack Pearls(登録商標)2000(Cabotより)、ケッチェンブラック(ライオン(株)製)の名称で、商業的に入手可能である。 Suitable conductive carbon blacks having a specific surface area up to about 1500 m 2 / g and a DBP number up to about 550 ml / 100 g are for example Ketjenluck® EC300J, Ketjenluck® EC600J (from Akzo), It is commercially available under the names Princex® XE (from Degussa) or Black Pearls® 2000 (from Cabot), Ketjen Black (manufactured by Lion Corporation).

レリーフ形成層における光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、レリーフ形成層全質量に対して0.01質量%〜20質量%の範囲が好ましく、より好ましくは0.05質量%〜10質量%、特に好ましくは0.1質量%〜5質量%の範囲である。   The content of the photothermal conversion agent in the relief forming layer varies greatly depending on the molecular extinction coefficient inherent to the molecule, but is preferably in the range of 0.01% by mass to 20% by mass with respect to the total mass of the relief forming layer. Preferably it is 0.05 mass%-10 mass%, Most preferably, it is the range of 0.1 mass%-5 mass%.

<(E)重合開始剤>
本発明におけるレリーフ形成層は、(E)重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤は当業者間で公知のものを制限なく使用することができる。具体的には、例えば、Bruce M. Monroeら著、Chemical Revue, 93, 435 (1993) やR.S.Davidson著、Journal of Photochemistry and biology A:Chemistry,73.81 (1993); J.P.Faussier, “Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications”:Rapra Review vol.9, Report, Rapra Technology(1998); M.Tsunooka et al., Prog.Polym.Sci., 21, 1 (1996)等に多く記載されている。また、F.D.Saeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990); G.G.Maslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993); H.B.Shuster et al,JACS, 112,6329 (1990); I.D.F.Eaton et al, JACS, 102, 3298 (1980)等に記載されているような、酸化的若しくは還元的に結合解裂を生じる化合物群も知られる。
<(E) Polymerization initiator>
The relief forming layer in the present invention preferably contains (E) a polymerization initiator.
As the polymerization initiator, those known to those skilled in the art can be used without limitation. Specifically, for example, Bruce M. Monroe et al., Chemical Revue, 93, 435 (1993) and RSD Davidson, Journal of Photochemistry and biology A: Chemistry, 73.81 (1993); JPFaussier, “Photoinitiated Polymerization-Theory and Applications ": Rapra Review vol. 9, Report, Rapra Technology (1998); M. Tsunooka et al., Prog. Polym. Sci., 21, 1 (1996). FDSaeva, Topics in Current Chemistry, 156, 59 (1990); GGMaslak, Topics in Current Chemistry, 168, 1 (1993); HBShuster et al, JACS, 112,6329 (1990); IDFEaton et al, JACS, 102 , 3298 (1980) and the like, a group of compounds that cause oxidative or reductive bond cleavage is also known.

以下、好ましい重合開始剤の具体例に関し、光及び/又は熱のエネルギーによってラジカルを発生し、重合性化合物の重合反応を開始、促進させる化合物であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。   Hereinafter, a specific example of a preferable polymerization initiator will be described in detail with respect to a radical polymerization initiator which is a compound that generates radicals by light and / or heat energy and initiates and accelerates a polymerization reaction of a polymerizable compound. Are not limited by these statements.

本発明において、好ましいラジカル重合開始剤としては、(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(c)有機過酸化物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物、(l)アゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記(a)〜(l)の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   In the present invention, preferred radical polymerization initiators include (a) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (c) organic peroxides, (d) thio compounds, (e) hexaarylbiimidazole compounds, (F) ketoxime ester compound, (g) borate compound, (h) azinium compound, (i) metallocene compound, (j) active ester compound, (k) compound having carbon halogen bond, (l) azo compound, etc. Is mentioned. Specific examples of the above (a) to (l) are given below, but the present invention is not limited to these.

本発明においては、感度とレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物がより好ましく、(c)有機過酸化物が特に好ましい。
通常、レリーフのエッジ形状を良化させるべく硬度を上げると彫刻感度が下がるが、、前述した、重合性化合物の好ましい態様として挙げられた含硫黄多官能モノマーと上記のような好ましい重合開始剤とを用いることで、彫刻感度を下げることなくエッジ形状を良化させることができる。これはおそらく、重合開始剤中の酸素原子や窒素原子が含硫黄多官能モノマーの硫黄原子との相互作用を形成し、両成分が近接して存在することで重合度が上がり硬度が上がるため、エッジ形状が良化すると共に、また、含硫黄多官能モノマーの低温熱分解特性により、重合度が上がることによる感度の低下を抑制しているものと予想される。
In the present invention, from the viewpoint of improving sensitivity and relief edge shape, (c) organic peroxides and (l) azo compounds are more preferable, and (c) organic peroxides are particularly preferable.
Usually, engraving sensitivity decreases when the hardness is increased to improve the edge shape of the relief. However, the above-described sulfur-containing polyfunctional monomer mentioned as a preferred embodiment of the polymerizable compound and the preferred polymerization initiator as described above By using, the edge shape can be improved without lowering the engraving sensitivity. This is probably because the oxygen atom and nitrogen atom in the polymerization initiator form an interaction with the sulfur atom of the sulfur-containing polyfunctional monomer, and both components are close to each other, increasing the degree of polymerization and increasing the hardness. The edge shape is improved, and the low temperature thermal decomposition characteristics of the sulfur-containing polyfunctional monomer are expected to suppress a decrease in sensitivity due to an increase in the degree of polymerization.

前記(a)芳香族ケトン類、(b)オニウム塩化合物、(d)チオ化合物、(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケトオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、(j)活性エステル化合物、及び(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開2008−63554号公報の段落〔0074〕〜〔0118〕に挙げれている化合物を好ましく用いることができる。
また、(c)有機過酸化物及び(l)アゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。
(A) aromatic ketones, (b) onium salt compounds, (d) thio compounds, (e) hexaarylbiimidazole compounds, (f) ketoxime ester compounds, (g) borate compounds, (h) azinium compounds , (I) metallocene compounds, (j) active ester compounds, and (k) compounds having a carbon halogen bond are preferably the compounds listed in paragraphs [0074] to [0118] of JP-A-2008-63554. Can be used.
In addition, (c) the organic peroxide and (l) the azo compound are preferably the following compounds.

(c)有機過酸化物
本発明に用いうるラジカル重合開始剤として好ましい(c)有機過酸化物としては、分子中に酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス(ターシャリイブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリイブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−キサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリイブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオキシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネート、3,3’4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ
−(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等がある。
(C) Organic peroxide Preferred as a radical polymerization initiator that can be used in the present invention (c) Organic peroxide includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule. Examples thereof include methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tertiary butyl peroxy) -3,3. 5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (tertiarybutylperoxy) butane, tertiary butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene Hydroperoxide, parameter hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl Cumyl peroxide, dicumyl peroxide, bis (tertiarybutylperoxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (tertiarybutylperoxy) hexane, 2,5-xanoyl peroxide, peroxy Succinic oxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, meta-toluoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxy Carbonate, dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tertiary butyl peroxyacetate, tertiary butyl peroxypivalate, tertiary butyl peroxyneodecanoate, tarsha Tributyl peroxyoctanoate, tertiary butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tertiary butyl peroxylaurate, tertiary carbonate, 3,3'4,4'-tetra- (t -Butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-te Tra- (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) ) Benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

中でも、3,3’4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好ましい。   Among them, 3,3′4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4 4'-tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'4,4'-tetra- (cumylper) Peroxyesters such as (oxycarbonyl) benzophenone, 3,3′4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t-butyldiperoxyisophthalate are preferred.

(l)アゾ系化合物
本発明に用いうるラジカル重合開始剤として好ましい(l)アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスプロピオニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等を挙げることができる。
(L) Azo-based compound Preferred as a radical polymerization initiator usable in the present invention (l) As the azo-based compound, 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobispropionitrile, 1 , 1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′- Azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate, 2,2′-azobis (2-methylpropionamide) Oxime), 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2′-azobis {2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2- Hydro Ethyl] propionamide}, 2,2′-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) propionamide], 2,2′-azobis (N-butyl-2-methylpropionamide), 2,2 '-Azobis (N-cyclohexyl-2-methylpropionamide), 2,2'-azobis [N- (2-propenyl) -2-methylpropionamide], 2,2'-azobis (2,4,4- Trimethylpentane) and the like.

本発明における重合開始剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用することも可能である。
重合開始剤は、レリーフ形成層の全質量に対し、好ましくは0.01質量%〜10質量%、より好ましくは0.1質量%〜3質量%の割合で添加することができる。
The polymerization initiator in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The polymerization initiator can be added in a proportion of preferably 0.01% by mass to 10% by mass, more preferably 0.1% by mass to 3% by mass with respect to the total mass of the relief forming layer.

<その他の添加剤>
本発明におけるレリーフ形成層は、可塑剤を含有することが好ましい。
可塑剤は、レリーフ形成層を柔軟化する作用を有するものであり、バインダーポリマーに対して相溶性のよいものである必要がある。
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート等や、ポリエチレングリコール類、ポリプロピレングリコール(モノオール型やジオール型)、ポリプロピレングリコール(モノオール型やジオール型)好ましく用いられる。
<Other additives>
The relief forming layer in the present invention preferably contains a plasticizer.
The plasticizer has an action of softening the relief forming layer and needs to be compatible with the binder polymer.
As the plasticizer, for example, dioctyl phthalate, didodecyl phthalate or the like, polyethylene glycols, polypropylene glycol (monool type or diol type), polypropylene glycol (monool type or diol type) are preferably used.

本発明におけるレリーフ形成層は、彫刻感度向上のための添加剤として、ニトロセルロースや高熱伝導性物質を加えることがより好ましい。
ニトロセルロースは自己反応性化合物であるため、レーザー彫刻時、自身が発熱し、共存する親水性ポリマー等のバインダーポリマーの熱分解をアシストする。その結果、彫刻感度が向上すると推定される。
また、高熱伝導性物質は、熱伝達を補助する目的で添加され、熱伝導性物質としては、金属粒子等の無機化合物、導電性ポリマー等の有機化合物が挙げられる。
金属粒子としては、粒径がマイクロメートルオーダーから数ナノメートルオーダーの、金微粒子、銀微粒子、銅微粒子が好ましい導電性ポリマーとしては、特に共役ポリマーが好ましく、具体的には、ポリアニリン、ポリチオフェンが挙げられる。
また、共増感剤を用いることで、レリーフ形成層を光硬化させる際の感度を更に向上させることができる。
In the relief forming layer of the present invention, it is more preferable to add nitrocellulose or a highly heat conductive substance as an additive for improving engraving sensitivity.
Since nitrocellulose is a self-reactive compound, it generates heat during laser engraving and assists in thermal decomposition of a binder polymer such as a hydrophilic polymer. As a result, it is estimated that the engraving sensitivity is improved.
Moreover, a highly heat conductive substance is added in order to assist heat transfer, and examples of the heat conductive substance include inorganic compounds such as metal particles and organic compounds such as conductive polymers.
As the metal particles, the conductive polymer is preferably a gold fine particle, silver fine particle, or copper fine particle having a particle size of micrometer order to several nanometer order. Particularly preferred is a conjugated polymer, and specific examples include polyaniline and polythiophene. It is done.
Moreover, the sensitivity at the time of photocuring a relief forming layer can be further improved by using a co-sensitizer.

更に、レリーフ形成層は少量の熱重合禁止剤を含んでいてもよい。この熱重合禁止剤は、レリーフ形成層の製造中或いは保存中において重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために用いられる。
更に、レリーフ形成層の着色を目的として染料若しくは顔料等の着色剤を添加してもよい。これにより、画像部の視認性や、画像濃度測定機適性といった性質を向上させることができる。
更に、レリーフ形成層の硬化した際の物性を改良するために、充填剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
Furthermore, the relief forming layer may contain a small amount of a thermal polymerization inhibitor. This thermal polymerization inhibitor is used to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during the production or storage of the relief forming layer.
Furthermore, a coloring agent such as a dye or a pigment may be added for the purpose of coloring the relief forming layer. Thereby, properties such as the visibility of the image portion and the suitability of the image density measuring device can be improved.
Furthermore, in order to improve the physical properties when the relief forming layer is cured, a known additive such as a filler may be added.

<レリーフ印刷版原版の構成>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、前述のような各成分から構成されるレリーフ形成層を有する。このレリーフ形成層は、支持体上に設けられることが好ましい。
ここで、本発明において「レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版」とは、架橋性を有するレリーフ形成層が、光及び熱の少なくとも一方により硬化された状態のものをいう。その後、このレリーフ印刷版原版をレーザー彫刻することにより「レリーフ印刷版」が作製される。
<Configuration of relief printing plate precursor>
The relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a relief forming layer composed of the aforementioned components. This relief forming layer is preferably provided on a support.
Here, in the present invention, the “relief printing plate precursor for laser engraving” refers to a state in which a relief forming layer having crosslinkability is cured by at least one of light and heat. Thereafter, the relief printing plate precursor is laser engraved to produce a “relief printing plate”.

本発明のレリーフ印刷版原版は、必要により、支持体とレリーフ形成層との間に接着層を有していてもよいし、また、レリーフ形成層上にスリップコート層、保護フィルムを有していてもよい。
以下、本発明のレリーフ印刷版原版の構成要素について説明する。
The relief printing plate precursor of the present invention may have an adhesive layer between the support and the relief forming layer, if necessary, and also has a slip coat layer and a protective film on the relief forming layer. May be.
Hereinafter, components of the relief printing plate precursor of the present invention will be described.

<レリーフ形成層>
レリーフ形成層は、前述のような各成分から構成され、光及び熱の少なくとも一方により硬化する層、即ち、架橋性を有する層であることが好ましい。
本発明のレリーフ印刷版原版によるレリーフ印刷版の作製態様としては、レリーフ形成層を架橋させ、次いでレーザー彫刻することによりレリーフ層を形成することでレリーフ印刷版を作製する態様であることが好ましい。レリーフ形成層を架橋することにより、印刷時におけるレリーフ層の摩耗を防ぐことができ、また、レーザー彫刻後にシャープな形状のレリーフ層を有するレリーフ印刷版を得ることができる。
<Relief forming layer>
The relief forming layer is preferably composed of the above-described components and is a layer that is cured by at least one of light and heat, that is, a layer having crosslinkability.
The production mode of the relief printing plate using the relief printing plate precursor of the present invention is preferably a mode in which the relief printing plate is produced by forming a relief layer by crosslinking the relief forming layer and then laser engraving. By crosslinking the relief forming layer, wear of the relief layer during printing can be prevented, and a relief printing plate having a relief layer having a sharp shape after laser engraving can be obtained.

なお、レリーフ形成層は、レリーフ形成層用塗布液組成物を用い、これをシート状或いはスリーブ状に成形することで形成することができる。   In addition, a relief forming layer can be formed by using the coating liquid composition for relief forming layers, and shape | molding this to a sheet form or a sleeve form.

<支持体>
本発明のレリーフ印刷版原版に使用しうる支持体について説明する。
本発明のレリーフ印刷版原版に支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル(例えばPET、PBT、PAN)やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)が挙げられる。支持体としては、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムやスチール基板が好ましく用いられる。支持体の形態は、レリーフ形成層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。
<Support>
The support that can be used for the relief printing plate precursor of the present invention will be described.
The material used for the support in the relief printing plate precursor of the present invention is not particularly limited, but those having high dimensional stability are preferably used. For example, metals such as steel, stainless steel and aluminum, polyester (for example, PET, PBT, PAN) ) And plastic resins such as polyvinyl chloride, synthetic rubbers such as styrene-butadiene rubber, and plastic resins reinforced with glass fibers (such as epoxy resins and phenol resins). As the support, a PET (polyethylene terephthalate) film or a steel substrate is preferably used. The form of the support is determined depending on whether the relief forming layer is a sheet or a sleeve.

<接着層>
本発明のレリーフ印刷版原版において、レリーフ形成層と支持体の間には、両層間の接着力を強化する目的で接着層を設けてもよい。
<Adhesive layer>
In the relief printing plate precursor of the present invention, an adhesive layer may be provided between the relief forming layer and the support for the purpose of enhancing the adhesive force between the two layers.

接着層に使用しうる材料は、レリーフ形成層が架橋された後において接着力を強固にするものであればよく、レリーフ形成層が架橋される前も接着力が強固であることが好ましい。ここで、接着力とは支持体/接着層間及び接着層/レリーフ形成層間の接着力の両者を意味する。   The material that can be used for the adhesive layer may be any material that strengthens the adhesive force after the relief forming layer is crosslinked, and preferably has a strong adhesive force before the relief forming layer is crosslinked. Here, the adhesive force means both the adhesive force between the support / adhesive layer and the adhesive layer / relief forming layer.

支持体/接着層間の接着力は、支持体/接着層/レリーフ形成層からなる積層体から接着層及びレリーフ形成層を400mm/分の速度で剥離する際、サンプル1cm幅当たりの剥離力が1.0N/cm以上又は剥離不能であることが好ましく、3.0N/cm以上又は剥離不能であることがより好ましい。   When the adhesive layer and the relief forming layer are peeled from the laminate comprising the support / adhesive layer / relief forming layer at a rate of 400 mm / min, the peel force per 1 cm width of the sample is 1 It is preferably 0.0 N / cm or more or non-peeling, and more preferably 3.0 N / cm or more or non-peeling.

接着層/レリーフ形成層の接着力は、接着層/レリーフ形成層から接着層を400mm/分の速度で剥離する際、サンプル1cm幅当たりの剥離力が1.0N/cm以上又は剥離不能であることが好ましく、3.0N/cm以上又は剥離不能であることがより好ましい。   The adhesive force of the adhesive layer / relief forming layer is such that when the adhesive layer is peeled from the adhesive layer / relief forming layer at a rate of 400 mm / min, the peel force per 1 cm width of the sample is 1.0 N / cm or more or cannot be peeled off. It is preferable that it is 3.0 N / cm or more, or more preferably non-peelable.

接着層に使用しうる材料(接着剤)としては、例えば、I.Skeist編、「Handbook of Adhesives」、第2版(1977)に記載のものを用いることができる。   Examples of materials (adhesives) that can be used for the adhesive layer include: Those described in the edition of Skeist, “Handbook of Adhesives”, the second edition (1977) can be used.

<保護フィルム、スリップコート層>
レリーフ形成層は、レーザー彫刻後レリーフが造形される部分(レリーフ層)となり、そのレリーフ層表面はインキ着肉部として機能する。架橋後のレリーフ形成層は架橋により強化されているので、レリーフ形成層表面に印刷に影響を及ぼすほどの傷や凹みが発生することはほとんどない。しかし、架橋前のレリーフ形成層は強度が不足している場合が多く、表面に傷や凹みが入りやすい。かかる観点からは、レリーフ形成層表面への傷・凹み防止の目的で、レリーフ形成層表面に保護フィルムを設けてもよい。
<Protective film, slip coat layer>
The relief forming layer becomes a portion (relief layer) where the relief is formed after laser engraving, and the surface of the relief layer functions as an ink deposition part. Since the relief forming layer after cross-linking is reinforced by cross-linking, the surface of the relief forming layer hardly causes scratches or dents that affect printing. However, the relief forming layer before cross-linking is often insufficient in strength, and the surface is likely to have scratches and dents. From such a viewpoint, a protective film may be provided on the surface of the relief forming layer for the purpose of preventing scratches or dents on the surface of the relief forming layer.

保護フィルムは、薄すぎると傷・凹み防止の効果が得られず、厚すぎると取り扱いが不便になり、コスト高にもなる。よって、保護フィルムの厚さは25μm〜500μmが好ましく、50μm〜200μmがより好ましい。   If the protective film is too thin, the effect of preventing scratches and dents cannot be obtained. If the protective film is too thick, handling becomes inconvenient and the cost increases. Therefore, the thickness of the protective film is preferably 25 μm to 500 μm, and more preferably 50 μm to 200 μm.

保護フィルムは、印刷版の保護フィルムとして公知の材質、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)のようなポリエステル系フィルム、PE(ポリエチレン)やPP(ポリプロピレン)のようなポリオレフィン系フィルムを用いることができる。またフィルムの表面はプレーンでもよいし、マット化されていてもよい。   As the protective film, a known material as a protective film for a printing plate, for example, a polyester film such as PET (polyethylene terephthalate), or a polyolefin film such as PE (polyethylene) or PP (polypropylene) can be used. The surface of the film may be plain or matted.

レリーフ形成層上に保護フィルムを設ける場合、保護フィルムは剥離可能でなければならない。   When providing a protective film on a relief forming layer, the protective film must be peelable.

保護フィルムが剥離不可能な場合や、逆にレリーフ形成層に接着しにくい場合には、両層間にスリップコート層を設けてもよい。   When the protective film cannot be peeled or when it is difficult to adhere to the relief forming layer, a slip coat layer may be provided between both layers.

スリップコート層に使用される材料は、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、部分鹸化ポリビニルアルコール、ヒドロシキアルキルセルロース、アルキルセルロース、ポリアミド樹脂など、水に溶解又は分散可能で、粘着性の少ない樹脂を主成分とすることが好ましい。これらの中で、粘着性の面から、鹸化度60モル%〜99モル%の部分鹸化ポリビニルアルコール、アルキル基の炭素数が1〜5のヒドロキシアルキルセルロース及びアルキルセルロースが特に好ましく用いられる。   The material used for the slip coat layer is a resin that can be dissolved or dispersed in water, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, partially saponified polyvinyl alcohol, hydroxyalkyl cellulose, alkyl cellulose, polyamide resin, etc. It is preferable that Of these, partially saponified polyvinyl alcohol having a saponification degree of 60 mol% to 99 mol%, hydroxyalkyl cellulose having 1 to 5 carbon atoms in the alkyl group, and alkyl cellulose are particularly preferably used from the viewpoint of tackiness.

レリーフ形成層(及びスリップコート層)/保護フィルムから保護フィルムを200mm/分の速度で剥離する時、1cm当たりの剥離力が5mN/cm〜200mN/cmであることが好ましく、10mN/cm〜150mN/cmが更に好ましい。5mN/cm以上であれば、作業中に保護フィルムが剥離することなく作業でき、200mN/cm以下であれば無理なく保護フィルムを剥離することができる。   When the protective film is peeled from the relief forming layer (and slip coat layer) / protective film at a speed of 200 mm / min, the peel force per 1 cm is preferably 5 mN / cm to 200 mN / cm, preferably 10 mN / cm to 150 mN. / Cm is more preferable. If it is 5 mN / cm or more, it can work without peeling off the protective film during the work, and if it is 200 mN / cm or less, the protective film can be peeled without difficulty.

−レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製方法−
次に、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製方法について説明する。
レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層の形成は、特に限定されるものではないが、例えば、レリーフ形成層用塗布液組成物を調製し、このレリーフ形成層用塗布液組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法が挙げられる。また、レリーフ形成層用塗布液組成物を、支持体上に流延し、これをオーブン中で乾燥して塗布液組成物から溶媒を除去する方法でもよい。
その後、必要に応じてレリーフ形成層の上に保護フィルムをラミネートしてもよい。ラミネートは、加熱したカレンダーロールなどで保護フィルムとレリーフ形成層を圧着することや、表面に少量の溶媒を含浸させたレリーフ形成層に保護フィルムを密着させることよって行うことができる。
保護フィルムを用いる場合には、先ず保護フィルム上にレリーフ形成層を積層し、次いで支持体をラミネートする方法を採ってもよい。
接着層を設ける場合は、接着層を塗布した支持体を用いることで対応できる。スリップコート層を設ける場合は、スリップコート層を塗布した保護フィルムを用いることで対応できる。
-Preparation of relief printing plate precursor for laser engraving-
Next, a method for producing a relief printing plate precursor for laser engraving will be described.
Formation of the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving is not particularly limited. For example, a relief forming layer coating solution composition is prepared, and a solvent is removed from the relief forming layer coating solution composition. The method of melt-extruding on a support body after removing is mentioned. Alternatively, the relief forming layer coating solution composition may be cast on a support and dried in an oven to remove the solvent from the coating solution composition.
Thereafter, a protective film may be laminated on the relief forming layer as necessary. Lamination can be performed by pressure-bonding the protective film and the relief forming layer with a heated calendar roll or the like, or by bringing the protective film into close contact with the relief forming layer impregnated with a small amount of solvent on the surface.
When using a protective film, you may take the method of laminating | stacking a relief forming layer on a protective film first, and laminating a support body then.
When providing an adhesive layer, it can respond by using the support body which apply | coated the adhesive layer. When providing a slip coat layer, it can respond by using the protective film which apply | coated the slip coat layer.

レリーフ形成層用塗布液組成物は、例えば、バインダーポリマー、及び、任意成分としての、光熱変換剤、可塑剤を適当な溶媒に溶解させ、次いで、重合性化合物及び重合開始剤を溶解させることによって製造できる。   The coating composition for the relief forming layer is prepared, for example, by dissolving a binder polymer and optional photothermal conversion agent and plasticizer in an appropriate solvent, and then dissolving the polymerizable compound and the polymerization initiator. Can be manufactured.

溶媒成分のほとんどは、レリーフ印刷版原版を製造する段階で除去する必要があるので、溶媒としては揮発しやすい低分子アルコール(例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、プロピレングリコ−ルモノメチルエーテル)等を用い、且つ、溶媒の全添加量をできるだけ少なく抑えることが好ましい。系を高温にすることで、溶媒の添加量を抑制することができるが、温度が高すぎると重合性化合物が重合反応し易くなるため、重合性化合物及び/又は重合開始剤の添加後の塗布液組成物の調製温度は30℃〜80℃が好ましい。   Since most of the solvent components need to be removed at the stage of producing the relief printing plate precursor, low-molecular alcohols (e.g., methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, propylene glycol monomethyl ether, which are easily volatile) are used as the solvent. Etc.) and the total amount of the solvent added is preferably kept as small as possible. The amount of the solvent added can be suppressed by raising the temperature of the system, but if the temperature is too high, the polymerizable compound is likely to undergo a polymerization reaction, so that the coating after the addition of the polymerizable compound and / or polymerization initiator is performed. The preparation temperature of the liquid composition is preferably 30 ° C to 80 ° C.

ここで、本発明において、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版といった場合、前述のように、レリーフ形成層が架橋された状態までを指す。レリーフ形成層を架橋する方法には、レリーフ形成層を活性光線の照射及び/又は加熱により架橋する工程(後述の本発明のレリーフ印刷版の製造方法における工程(1))を行うことが好ましい。   Here, in the present invention, in the case of a relief printing plate precursor for laser engraving, as described above, it refers to the state in which the relief forming layer is crosslinked. In the method of crosslinking the relief forming layer, it is preferable to perform a step of crosslinking the relief forming layer by irradiation with actinic rays and / or heating (step (1) in the method for producing a relief printing plate of the present invention described later).

本発明のレリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層の厚さは、架橋の前後において、0.05mm以上10mm以下が好ましく、より好ましくは0.05mm以上7mm以下、特に好ましくは0.05mm以上3mm以下である。   The thickness of the relief forming layer in the relief printing plate precursor of the present invention is preferably from 0.05 mm to 10 mm, more preferably from 0.05 mm to 7 mm, particularly preferably from 0.05 mm to 3 mm, before and after crosslinking. is there.

[レリーフ印刷版及びその製造]
本発明のレリーフ印刷版の製造方法は、(1)本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における未架橋のレリーフ形成層を活性光線の照射及び加熱の少なくとも一方により架橋する工程(以下、適宜「工程(1)」と称する。)、及び(2)架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程(以下、適宜「工程(2)」と称する。)、を含むことを特徴とする。本発明のレリーフ印刷版の製造方法により、支持体上にレリーフ層を有する本発明のレリーフ印刷版を製造することができる。
[Relief printing plate and its manufacture]
The method for producing a relief printing plate of the present invention comprises (1) a step of crosslinking an uncrosslinked relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention by at least one of irradiation with actinic rays and heating (hereinafter referred to as “ And (2) a step of laser engraving the crosslinked relief forming layer to form a relief layer (hereinafter referred to as “step (2)” as appropriate). Features. By the method for producing a relief printing plate of the present invention, the relief printing plate of the present invention having a relief layer on a support can be produced.

<工程(1)>
本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版は、前述のように、架橋により硬化された状態のレリーフ形成層を有する。このようなレリーフ形成層を得るためには、本発明のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版における未架橋のレリーフ形成層を活性光線の照射及び/又は加熱により架橋する工程を用いることが好ましい。
本発明における「架橋」とは、バインダーポリマー同士を連結する架橋反応を含む概念であり、また、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物同士の重合反応やバインダーポリマーと重合性化合物の反応によるレリーフ形成層の硬化反応をも含む概念である。
<Step (1)>
The relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention has a relief forming layer cured by crosslinking as described above. In order to obtain such a relief forming layer, it is preferable to use a step of crosslinking the uncrosslinked relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving of the present invention by irradiation with active light and / or heating.
The term “crosslinking” in the present invention is a concept including a crosslinking reaction for linking binder polymers, and a relief by a polymerization reaction between polymerizable compounds having an ethylenically unsaturated bond or a reaction between a binder polymer and a polymerizable compound. It is a concept that includes the curing reaction of the forming layer.

上記のように、工程(1)では、未架橋のレリーフ形成層の架橋は、活性光線の照射、及び/又は、熱により行われる。
工程(1)において、光により架橋する工程と、熱により架橋する工程とが併用される場合には、これらの工程は、互いに同時工程でも別時工程としてもよい。
As described above, in the step (1), crosslinking of the uncrosslinked relief forming layer is performed by irradiation with actinic rays and / or heat.
In the step (1), when the step of crosslinking by light and the step of crosslinking by heat are used in combination, these steps may be simultaneous with each other or separate steps.

工程(1)は、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版のレリーフ形成層を、照射及び加熱の少なくとも一方により架橋する工程である。
レリーフ形成層は、好ましくは、重合性化合物、バインダーポリマー、光熱変換剤、及び重合開始剤を含むものであり、工程(1)は重合開始剤の作用で重合性化合物をポリマー化し、架橋を形成する工程である。
重合開始剤はラジカル発生剤であることが好ましく、該ラジカル発生剤は、ラジカルを発生するきっかけが光か熱かによって、光重合開始剤と熱重合開始剤に大別される。
Step (1) is a step of crosslinking the relief forming layer of the relief printing plate precursor for laser engraving by at least one of irradiation and heating.
The relief forming layer preferably contains a polymerizable compound, a binder polymer, a photothermal conversion agent, and a polymerization initiator, and in step (1), the polymerizable compound is polymerized by the action of the polymerization initiator to form a crosslink. It is a process to do.
The polymerization initiator is preferably a radical generator, and the radical generator is roughly classified into a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator depending on whether the trigger for generating radicals is light or heat.

レリーフ形成層が光重合開始剤を含有する場合には、光重合開始剤のトリガーとなる活性光線をレリーフ形成層に照射することで、レリーフ形成層を架橋することができる(光により架橋する工程)。
活性光線の照射は、レリーフ形成層全面に行うのが一般的である。活性光線としては可視光、紫外光或いは電子線が挙げられるが、紫外光が最も一般的である。レリーフ形成層の支持体側を裏面とすれば、表面に活性光線を照射するだけでもよいが、支持体が活性光線を透過する透明なフィルムならば、更に裏面からも活性光線を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下では重合阻害が生じる恐れがあるので、レリーフ形成層に塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、活性光線の照射を行ってもよい。
When the relief-forming layer contains a photopolymerization initiator, the relief-forming layer can be crosslinked by irradiating the relief-forming layer with an actinic ray that triggers the photopolymerization initiator (step of crosslinking by light ).
The irradiation with actinic light is generally performed on the entire surface of the relief forming layer. Visible light, ultraviolet light, or an electron beam is mentioned as actinic light, but ultraviolet light is the most common. If the support side of the relief forming layer is the back side, the surface may only be irradiated with actinic rays, but if the support is a transparent film that transmits actinic rays, it is preferable to irradiate the back side with actinic rays. . When the protective film exists, the irradiation from the surface may be performed while the protective film is provided, or may be performed after the protective film is peeled off. Since polymerization inhibition may occur in the presence of oxygen, actinic rays may be irradiated after the relief forming layer is covered with a vinyl chloride sheet and evacuated.

レリーフ形成層が熱重合開始剤を含有する場合には(上記の光重合開始剤が熱重合開始剤にもなりえる)、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を加熱することで、レリーフ形成層を架橋することができる(熱により架橋する工程)。加熱手段としては、印刷版原版を熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。   When the relief forming layer contains a thermal polymerization initiator (the above-mentioned photopolymerization initiator can also be a thermal polymerization initiator), the relief forming layer is crosslinked by heating the relief printing plate precursor for laser engraving. (Step of crosslinking by heat). Examples of the heating means include a method of heating the printing plate precursor in a hot air oven or a far infrared oven for a predetermined time, and a method of contacting the heated roll for a predetermined time.

工程(1)が、光により架橋する工程である場合は、活性光線を照射する装置が比較的高価であるものの、印刷版原版が高温になることがないので、印刷版原版の原材料の制約がほとんどない。
工程(1)が、熱により架橋する工程である場合には、特別高価な装置を必要としない利点があるが、印刷版原版が高温になるので、高温で柔軟になる熱可塑性ポリマーは加熱中に変形する可能性がある等、使用する原材料は慎重に選択する必要がある。
熱架橋の際には、熱重合開始剤を加え得る。熱重合開始剤としては、遊離基重合(free radical polymerization)用の商業的な熱重合開始剤として使用され得る。このような熱重合開始剤としては、例えば、適当な過酸化物、ヒドロペルオキシド又はアゾ基を含む化合物が挙げられる。代表的な加硫剤も架橋用に使用できる。熱架橋性(heat−curable)の樹脂、例えば、エポキシ樹脂を架橋成分として層に加えることにより熱架橋も実施され得る。
In the case where the step (1) is a step of crosslinking by light, an apparatus for irradiating actinic rays is relatively expensive, but the printing plate precursor does not become high temperature, so there are restrictions on the raw materials of the printing plate precursor. rare.
When step (1) is a step of crosslinking by heat, there is an advantage that an extra expensive apparatus is not required, but since the printing plate precursor becomes high temperature, the thermoplastic polymer that becomes flexible at high temperature is being heated. The raw materials to be used must be carefully selected.
A thermal polymerization initiator can be added during the thermal crosslinking. As the thermal polymerization initiator, it can be used as a commercial thermal polymerization initiator for free radical polymerization. Examples of such a thermal polymerization initiator include a compound containing a suitable peroxide, hydroperoxide, or azo group. Representative vulcanizing agents can also be used for crosslinking. Thermal crosslinking can also be performed by adding a heat-curable resin, such as an epoxy resin, as a crosslinking component to the layer.

工程(1)におけるレリーフ形成層の架橋方法としは、レリーフ形成層を表面から内部まで均一に硬化(架橋)可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。
レリーフ形成層を架橋することで、第1にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第2にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。未架橋のレリーフ形成層をレーザー彫刻すると、レーザー照射部の周辺に伝播した余熱により、本来意図していない部分が溶融、変形しやすく、シャープなレリーフ層が得られない場合がある。また、素材の一般的な性質として、低分子なものほど固形ではなく液状になり、すなわち粘着性が強くなる傾向がある。レリーフ形成層を彫刻する際に発生する彫刻カスは、低分子の材料を多く用いるほど粘着性が強くなる傾向がある。低分子である重合性化合物は架橋することで高分子になるため、発生する彫刻カスは粘着性が少なくなる傾向がある。
As a crosslinking method of the relief forming layer in the step (1), crosslinking by heat is preferable from the viewpoint that the relief forming layer can be uniformly cured (crosslinked) from the surface to the inside.
By crosslinking the relief forming layer, there is an advantage that the relief formed first after laser engraving becomes sharp, and second, the adhesiveness of engraving residue generated during laser engraving is suppressed. When an uncrosslinked relief-forming layer is laser engraved, unintended portions are likely to melt and deform due to residual heat that has propagated around the laser-irradiated portion, and a sharp relief layer may not be obtained. In addition, as a general property of a material, a material having a low molecular weight tends to be liquid rather than solid, that is, the adhesiveness tends to be strong. The engraving residue generated when engraving the relief forming layer tends to become more tacky as more low-molecular materials are used. Since the polymerizable compound which is a low molecule becomes a polymer by crosslinking, the generated engraving residue tends to be less tacky.

<工程(2)>
本発明のレリーフ印刷版の製造方法において、前記した工程(1)の後、(2)架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程を行うことを特徴とする。本発明のレリーフ印刷版の製造方法により、支持体上にレリーフ層を有する本発明のレリーフ印刷版を製造することができる。
<Step (2)>
In the method for producing a relief printing plate of the present invention, the step (1) is followed by (2) a step of forming a relief layer by laser engraving a crosslinked relief forming layer. By the method for producing a relief printing plate of the present invention, the relief printing plate of the present invention having a relief layer on a support can be produced.

本発明のレリーフ印刷版の製造方法では、工程(2)に次いで、更に、必要に応じて下記工程(3)〜工程(5)を含んでもよい。
工程(3): 彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程(リンス工程)。
工程(4): 彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程(乾燥工程)。
工程(5): 彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程(後架橋工程)。
In the method for producing a relief printing plate of the present invention, following the step (2), the following steps (3) to (5) may be further included as necessary.
Step (3): A step of rinsing the surface of the engraved relief layer with water or a liquid containing water as a main component (rinsing step).
Step (4): A step of drying the engraved relief layer (drying step).
Step (5): A step of imparting energy to the relief layer after engraving and further crosslinking the relief layer (post-crosslinking step).

工程(2)では、前記工程(1)で架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、架橋されたレリーフ形成層に対して形成したい画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成する。好ましくは、形成したい画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、レリーフ形成層に対して走査照射する工程が挙げられる。
この工程(2)には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやYAGレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、レリーフ形成層中の分子は分子切断或いはイオン化されて選択的な除去、すなわち彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を3次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く或いはショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度でレリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。このような工程(2)に用いられる赤外レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザーが好ましく用いられる。
Step (2) is a step of forming a relief layer by laser engraving the relief forming layer crosslinked in step (1). Specifically, the relief layer is formed by engraving the crosslinked relief forming layer by irradiating a laser beam corresponding to the image to be formed. Preferably, a step of controlling the laser head with a computer based on digital data of an image to be formed and scanning and irradiating the relief forming layer is exemplified.
In this step (2), an infrared laser is preferably used. When irradiated with an infrared laser, the molecules in the relief forming layer undergo molecular vibrations and generate heat. When a high-power laser such as a carbon dioxide laser or a YAG laser is used as an infrared laser, a large amount of heat is generated in the laser irradiation part, and molecules in the relief forming layer are selectively removed by molecular cutting or ionization, that is, Sculpture is made. The advantage of laser engraving is that the engraving depth can be set arbitrarily, so that the structure can be controlled three-dimensionally. For example, a portion that prints fine halftone dots can be engraved shallowly or with a shoulder so that the relief does not fall down due to printing pressure. As a result, the ink is less likely to be buried in the groove, and it is possible to suppress the crushing of the extracted characters.
In particular, when engraving with an infrared laser corresponding to the absorption wavelength of the photothermal conversion agent, the relief forming layer can be selectively removed with higher sensitivity, and a relief layer having a sharp image can be obtained. As the infrared laser used in the step (2), a carbon dioxide laser or a semiconductor laser is preferable from the viewpoint of productivity, cost, and the like. In particular, a semiconductor infrared laser with a fiber is preferably used.

彫刻表面に彫刻カスが付着している場合は、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流す工程(3)を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式或いは搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスする工程(3)を行った場合、彫刻されたレリーフ形成層を乾燥してリンス液を揮発させる工程(4)を追加することが好ましい。
更に、必要に応じてレリーフ形成層を更に架橋させる工程(5)を追加してもよい。追加の架橋工程(5)を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
When engraving residue is attached to the engraving surface, a step (3) of rinsing the engraving residue by rinsing the engraving surface with water or a liquid containing water as a main component may be added. As a means of rinsing, there is a method of washing with tap water, a method of spraying high-pressure water, and a known batch type or conveying type brush type washing machine as a photosensitive resin relief printing machine. For example, when the engraving residue cannot be removed, a rinsing solution to which a surfactant is added may be used.
When the step (3) of rinsing the engraved surface is performed, it is preferable to add a step (4) of drying the engraved relief forming layer and volatilizing the rinse liquid.
Furthermore, you may add the process (5) which further bridge | crosslinks a relief forming layer as needed. By performing the additional crosslinking step (5), the relief formed by engraving can be further strengthened.

以上のようにして、支持体上にレリーフ層を有する、本発明のレリーフ印刷版が得られる。
レリーフ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々のフレキソ印刷適性を満たす観点からは、0.05mm以上10mm以下が好ましく、より好ましくは0.05mm以上7mm以下、特に好ましくは0.05mm以上0.3mm以下である。
As described above, the relief printing plate of the present invention having a relief layer on a support is obtained.
The thickness of the relief layer of the relief printing plate is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.05 mm or more from the viewpoint of satisfying various flexographic printing aptitudes such as abrasion resistance and ink transferability. 7 mm or less, particularly preferably 0.05 mm or more and 0.3 mm or less.

また、レリーフ印刷版が有するレリーフ層のショアA硬度は、50°以上90°以下であることが好ましい。
レリーフ層のショアA硬度が50°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアA硬度が90°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。
なお、本明細書におけるショアA硬度は、測定対象の表面に圧子(押針又はインデンタと呼ばれる)を押し込み変形させ、その変形量(押込み深さ)を測定して、数値化するデュロメータ(スプリング式ゴム硬度計)により測定した値である。
The Shore A hardness of the relief layer of the relief printing plate is preferably 50 ° or more and 90 ° or less.
When the Shore A hardness of the relief layer is 50 ° or more, even if the fine halftone dots formed by engraving are subjected to the strong printing pressure of the relief printing press, they do not collapse and can be printed normally. In addition, when the Shore A hardness of the relief layer is 90 ° or less, it is possible to prevent faint printing in a solid portion even in flexographic printing with a kiss touch.
The Shore A hardness in the present specification is a durometer (spring type) in which an indenter (called a push needle or indenter) is pushed and deformed on the surface of the object to be measured, and the amount of deformation (pushing depth) is measured and digitized. It is a value measured by a rubber hardness meter.

本発明の方法で製造されたレリーフ印刷版は、凸版用印刷機による油性インキやUVインキでの印刷が可能であり、また、フレキソ印刷機によるUVインキでの印刷も可能である。   The relief printing plate produced by the method of the present invention can be printed with oil-based ink or UV ink by a letterpress printing machine, and can also be printed with UV ink by a flexographic printing machine.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.

まず、実施例、比較例で用いる含硫黄多官能モノマーM1、含硫黄多官能モノマーM2、及び多官能モノマーCの合成例を示す。   First, synthesis examples of the sulfur-containing polyfunctional monomer M1, the sulfur-containing polyfunctional monomer M2, and the polyfunctional monomer C used in Examples and Comparative Examples are shown.

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM1の合成〕
撹拌羽及び冷却管をつけた500mLの3つ口フラスコ中に、3,3’−チオジプロピオン酸(和光純薬製、89.05g)、メタクリル酸グリシジル(和光純薬製、156.26g)、1−メトキシ−2−プロパノール(日本乳化剤(株)製、27.78g),テトラエチルアンモニウムブロミド(東京化成製、4.20g)、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピリジン1−オキシル フリーラジカル(東京化成製、0.5
0g)を入れて、80℃で4時間撹拌した。この溶液に、水(500g)と酢酸エチル(500g)を加え分液ロートに移して激しく撹拌した後、水層を除去した、続いて、飽和炭酸ナトリウム水溶液(200g)を加え激しく撹拌した後、水層を除去した。続いて、飽和食塩水(200g)を加え激しく撹拌した後、水層を除去した。有機層を1Lのエルレンマイヤーフラスコに移した後、硫酸マグネシウム(100g)を加え乾燥させた。濾過により硫酸マグネシウムを除き、減圧下で酢酸エチルを除去することで、下記構造の含硫黄多官能モノマーM1(233.04g)を得た。得られた含硫黄多官能モノマーM1M1の構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of sulfur-containing polyfunctional monomer M1]
In a 500 mL three-necked flask equipped with a stirring blade and a condenser tube, 3,3′-thiodipropionic acid (Wako Pure Chemicals, 89.05 g), glycidyl methacrylate (Wako Pure Chemicals, 156.26 g) 1-methoxy-2-propanol (Nippon Emulsifier Co., Ltd., 27.78 g), tetraethylammonium bromide (Tokyo Kasei Co., Ltd., 4.20 g), 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpyridine 1 -Oxyl free radical (Tokyo Chemical Industry, 0.5
0 g) was added and stirred at 80 ° C. for 4 hours. To this solution, water (500 g) and ethyl acetate (500 g) were added, transferred to a separatory funnel and stirred vigorously, and then the aqueous layer was removed. Subsequently, a saturated aqueous sodium carbonate solution (200 g) was added and stirred vigorously. The aqueous layer was removed. Subsequently, saturated brine (200 g) was added and stirred vigorously, and then the aqueous layer was removed. After the organic layer was transferred to a 1 L Erlenmeyer flask, magnesium sulfate (100 g) was added and dried. Magnesium sulfate was removed by filtration and ethyl acetate was removed under reduced pressure to obtain sulfur-containing polyfunctional monomer M1 (233.04 g) having the following structure. The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer M1M1 was identified by 1 H NMR.

Figure 2009298109
Figure 2009298109

〔合成例:含硫黄多官能モノマーM2の合成〕
下記構造の含硫黄多官能モノマーM2は、前記含硫黄多官能モノマーM1と同様の合成法を適用し、「3,3’−チオジプロピオン酸」を、それぞれ、「3,3’−ジチオジプロピオン酸」に代えて、合成した。得られた含硫黄多官能モノマーM2の構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of sulfur-containing polyfunctional monomer M2]
For the sulfur-containing polyfunctional monomer M2 having the following structure, a synthesis method similar to that for the sulfur-containing polyfunctional monomer M1 is applied, and "3,3'-thiodipropionic acid" Instead of “propionic acid”, synthesis was performed. The structure of the obtained sulfur-containing polyfunctional monomer M2 was identified by 1 H NMR.

Figure 2009298109
Figure 2009298109

〔合成例:多官能モノマーCの合成〕
下記構造の多官能モノマーCは、前記含硫黄多官能モノマーM1と同様の合成法を適用し、「3,3’−チオジプロピオン酸」を「ピメリン酸」に代えて、合成した。得られた多官能モノマーCの構造は、H NMRにより同定した。
[Synthesis Example: Synthesis of Polyfunctional Monomer C]
The polyfunctional monomer C having the following structure was synthesized by applying the same synthesis method as that of the sulfur-containing polyfunctional monomer M1 and replacing “3,3′-thiodipropionic acid” with “pimelic acid”. The structure of the obtained polyfunctional monomer C was identified by 1 H NMR.

Figure 2009298109
Figure 2009298109

[実施例1]
1.レリーフ形成層用塗布液組成物の調製
撹拌羽及び冷却管をつけた3つ口フラスコ中に、バインダーポリマーとしてゴーセナールT−215(日本合成化学工業(株)製、PVA誘導体)36g、光熱変換剤としてケッチェンブラックEC600JD(カーボンブラック、ライオン(株)製)を0.75g、可塑剤としてジエチレングリコール20g、溶媒として水35g及びエタノール12gを入れ、撹拌しながら70℃で120分間加熱しポリマーを溶解させた。更に、前述のようにして合成した含硫黄多官能モノマーM1を32g、重合開始剤としてパーブチルZ(日本油脂(株)製)を1.8g、下記表1に記載の香料(表1に記載の量:レリーフ形成層用塗布液組成物全量に対する香料の量(質量%))を添加して30分間撹拌し、流動性のあるレリーフ形成層用塗布液組成物1を得た。
[Example 1]
1. Preparation of coating composition for relief forming layer 36 g of GOHSENAL T-215 (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., PVA derivative) as a binder polymer in a three-necked flask equipped with stirring blades and cooling tubes, photothermal conversion agent Ketjen Black EC600JD (carbon black, manufactured by Lion Co., Ltd.) 0.75g, 20g of diethylene glycol as plasticizer, 35g of water and 12g of ethanol as solvent, heated at 70 ° C for 120 minutes with stirring to dissolve the polymer It was. Furthermore, 32 g of the sulfur-containing polyfunctional monomer M1 synthesized as described above, 1.8 g of perbutyl Z (manufactured by NOF Corporation) as a polymerization initiator, and the fragrances described in Table 1 below (described in Table 1) Amount: A fragrance amount (mass%) based on the total amount of the coating liquid composition for the relief forming layer was added and stirred for 30 minutes to obtain a flowable coating liquid composition 1 for the relief forming layer.

2.レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版の作製
PET基板上に所定厚のスペーサー(枠)を設置し、上記より得られたレリーフ形成層用塗布液組成物1をスペーサー(枠)から流出しない程度に静かに流延し、65℃のオーブン中で4時間乾燥させて、厚さが凡そ1mmのレリーフ形成層を設けた。
得られたレリーフ形成層を、100℃で3時間加熱してレリーフ形成層を熱架橋し、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を得た。
2. Preparation of relief printing plate precursor for laser engraving A spacer (frame) of a predetermined thickness is placed on a PET substrate, and the coating liquid composition 1 for relief forming layer obtained above is gently so as not to flow out of the spacer (frame). It was cast and dried in an oven at 65 ° C. for 4 hours to provide a relief forming layer having a thickness of about 1 mm.
The obtained relief forming layer was heated at 100 ° C. for 3 hours to thermally cross-link the relief forming layer to obtain a relief printing plate precursor for laser engraving.

3.レリーフ印刷版の作製
架橋後のレリーフ形成層に対し、近赤外レーザー彫刻機として、最大出力16Wの半導体レーザー(レーザー発振波長840nm)を装備した“FD−100”((株)東成エレクトロビーム製)を用い、彫刻条件を、レーザー出力:15W、走査速度:100mm/秒、ピッチ間隔:0.15mmに設定し、2cm四方のベタ部分を彫刻することにより、レリーフ層を形成し、レリーフ印刷版1を得た。
3. Preparation of relief printing plate “FD-100” (manufactured by Tosei Electrobeam Co., Ltd.) equipped with a semiconductor laser with a maximum output of 16 W (laser oscillation wavelength 840 nm) as a near-infrared laser engraving machine for the relief forming layer after crosslinking. ), The engraving conditions are set to laser output: 15 W, scanning speed: 100 mm / sec, pitch interval: 0.15 mm, and a relief layer is formed by engraving a solid portion of 2 cm square to form a relief printing plate 1 was obtained.

レリーフ印刷版1が有するレリーフ層の厚さは1.45mmであった。
また、レリーフ層のショアA硬度を、前述の測定方法により測定したところ、63°であった。なお、レリーフ層のショア硬度Aの測定は、後述する各実施例及び比較例においても同様に行った。
The thickness of the relief layer of the relief printing plate 1 was 1.45 mm.
Moreover, when the Shore A hardness of the relief layer was measured by the above-mentioned measuring method, it was 63 °. In addition, the measurement of the Shore hardness A of a relief layer was similarly performed also in each Example and comparative example which are mentioned later.

[実施例2〜8、比較例1〜3]
実施例1で用いた「含硫黄多官能モノマーM1」を、下記表1に記載の多官能モノマーに変更し、また、香料及びその添加量を下記表1に記載のように代えてレーザー彫刻用樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した後、該レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版からレリーフ印刷版2〜8、C1〜C3を作製した。
ここで、実施例6〜8においては、香料は下記表1に記載の1種のみ使用した。
また、得られたレリーフ印刷版2〜8、C1〜C3が有するレリーフ層の厚さ、及びショアA硬度は、下記表1に示す通りである。
[Examples 2-8, Comparative Examples 1-3]
The “sulfur-containing polyfunctional monomer M1” used in Example 1 was changed to the polyfunctional monomer described in Table 1 below, and the fragrance and the amount added were changed as shown in Table 1 below for laser engraving. Except that the resin composition was prepared, a relief printing plate precursor for laser engraving was prepared in the same manner as in Example 1, and then relief printing plates 2 to 8 and C1 to C3 were prepared from the relief printing plate precursor for laser engraving. did.
Here, in Examples 6-8, only 1 type of fragrance | flavor described in following Table 1 was used.
Further, the thicknesses of the relief layers and Shore A hardness of the obtained relief printing plates 2 to 8 and C1 to C3 are as shown in Table 1 below.

[実施例9〜16、比較例4〜6]
実施例1で用いた「含硫黄多官能モノマーM1」を、下記表1に記載の多官能モノマーに変更し、また、香料及びその添加量を下記表1に記載のように代えてレーザー彫刻用樹脂組成物を調製した以外は、実施例1と同様にして、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版を作製した。
ここで、実施例14〜16においては、香料は下記表1に記載の1種のみ使用した。
得られたレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版に対し、下記のように炭酸ガスレーザー彫刻機を用いてレーザー彫刻を行った以外は、実施例1と同様にして、レリーフ印刷版9〜16、C4〜C6を作製した。
即ち、炭酸ガスレーザー彫刻機として、最大出力30Wの炭酸ガスレーザーを装備した“COレーザーマーカーML−Z9500”((株)キーエンス製)を用いた。彫刻条件は、レーザー出力:15W、走査速度:100mm/秒、ピッチ間隔:0.15mmに設定し、2cm四方のベタ部分を彫刻し、レリーフ印刷版を得た。
ここで、得られたレリーフ印刷版9〜16、C4〜C6が有するレリーフ層の厚さ、及びショアA硬度は、下記表1に示す通りである。
[Examples 9 to 16, Comparative Examples 4 to 6]
The “sulfur-containing polyfunctional monomer M1” used in Example 1 was changed to the polyfunctional monomer described in Table 1 below, and the fragrance and the amount added were changed as shown in Table 1 below for laser engraving. A relief printing plate precursor for laser engraving was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin composition was prepared.
Here, in Examples 14-16, only 1 type of fragrance | flavor described in following Table 1 was used.
The relief printing plate precursor for laser engraving was used in the same manner as in Example 1 except that laser engraving was performed using a carbon dioxide laser engraving machine as follows, and relief printing plates 9 to 16 and C4 to C4 were used. C6 was produced.
That is, “CO 2 laser marker ML-Z9500” (manufactured by Keyence Corporation) equipped with a carbon dioxide laser with a maximum output of 30 W was used as a carbon dioxide laser engraving machine. Engraving conditions were set such that the laser output was 15 W, the scanning speed was 100 mm / second, and the pitch interval was 0.15 mm, and a solid portion of 2 cm square was engraved to obtain a relief printing plate.
Here, the thicknesses of the relief layers and the Shore A hardness of the obtained relief printing plates 9 to 16 and C4 to C6 are as shown in Table 1 below.

<評価>
−彫刻深さ−
レリーフ印刷版1〜16、C1〜C6が有するレリーフ層の「彫刻深さ」を、以下のように測定した。ここで、「彫刻深さ」とは、レリーフ層の断面を観察した場合の、彫刻された位置(高さ)と彫刻されていない位置(高さ)との差をいう。本実施例における「彫刻深さ」は、レリーフ層の断面を、超深度カラー3D形状測定顕微鏡VK9510((株)キーエンス製)にて観察することにより測定した。彫刻深さが大きいことは、彫刻感度が高いことを意味する。結果を表1に示す。
<Evaluation>
-Sculpture depth-
The “engraving depth” of the relief layers of the relief printing plates 1 to 16 and C1 to C6 was measured as follows. Here, “sculpture depth” refers to the difference between the engraved position (height) and the unengraved position (height) when the cross section of the relief layer is observed. The “engraving depth” in this example was measured by observing the cross section of the relief layer with an ultra-deep color 3D shape measuring microscope VK9510 (manufactured by Keyence Corporation). A large engraving depth means high engraving sensitivity. The results are shown in Table 1.

−臭気性評価−
前述の方法でレーザー彫刻中の印刷版原版について、臭気を嗅いで官能評価を行い、以下のようにして臭気のレベルを評価した。結果を表1に示す。
専門パネラー6人で下記評価基準(評価点)にて評価した。
評価基準(評価点):
○:6人中4人以上が臭気低減効果を認めた。
△:6人中2人以上が臭気低減効果を認めた。
×:臭気低減効果が認められなかった
なお、評価点が△以上の場合、実用使用上問題がないと考えられる。
ここで、上記の「臭気低減効果」とは、香料が添加されているレリーフ印刷版原版と、香料が添加されていないだけでその他の組成は全く同じレリーフ印刷版原版と、の両方を前述の方法でレーザー彫刻して、その際の臭気を比較して得られる効果のことを言う。
-Odor evaluation-
The printing plate precursor during laser engraving by the above-described method was subjected to sensory evaluation by smelling odor, and the odor level was evaluated as follows. The results are shown in Table 1.
Six professional panelists evaluated the following evaluation criteria (evaluation points).
Evaluation criteria (evaluation points):
○: Four or more out of six people recognized the odor reduction effect.
(Triangle | delta): Two or more of six persons recognized the odor reduction effect.
X: The odor reduction effect was not recognized. In addition, when an evaluation score is more than (triangle | delta), it is thought that there is no problem in practical use.
Here, the above-mentioned “odor reduction effect” refers to both a relief printing plate precursor to which a fragrance is added and a relief printing plate precursor having the same composition except that no fragrance is added. It means the effect obtained by laser engraving with the method and comparing the odors at that time.

Figure 2009298109
Figure 2009298109

表1に示されるように、香料の添加により、レーザー彫刻時の臭気が抑制されていることが確認できた。また、彫刻深さはいずれも100μmを超えており、彫刻感度が充分に高いことが分かる。
特に、重合性化合物として硫黄原子を有する重合性化合物(含硫黄多官能モノマー)を用いた際には、彫刻深さが特に大きく、また、顕著な臭気抑制効果が表れることが確認できた。
As shown in Table 1, it was confirmed that the odor during laser engraving was suppressed by the addition of the fragrance. In addition, the engraving depth exceeds 100 μm, and it can be seen that the engraving sensitivity is sufficiently high.
In particular, when a polymerizable compound having a sulfur atom (a sulfur-containing polyfunctional monomer) was used as the polymerizable compound, it was confirmed that the engraving depth was particularly large and a remarkable odor suppressing effect was exhibited.

Claims (13)

(A)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、(B)バインダーポリマー、及び、(C)香料を少なくとも含有するレリーフ形成層を有するレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   (A) A relief printing plate precursor for laser engraving having a relief forming layer containing at least a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) a binder polymer, and (C) a fragrance. 前記(A)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物が、分子内に硫黄原子を有する化合物である請求項1に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   The relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 1, wherein the polymerizable compound (A) having an ethylenically unsaturated bond is a compound having a sulfur atom in the molecule. 前記(C)香料が天然香料を含む請求項1又は請求項2に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   The relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 1, wherein the fragrance (C) includes a natural fragrance. 前記(C)香料が合成香料を含む請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   The relief printing plate precursor for laser engraving according to any one of claims 1 to 3, wherein the fragrance (C) includes a synthetic fragrance. 前記(C)香料がエステル化合物を含む請求項1又は請求項2に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   The relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 1, wherein the fragrance (C) contains an ester compound. 前記(C)香料がテルペン化合物を含む請求項1、請求項2、又は請求項5に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   The relief printing plate precursor for laser engraving according to claim 1, wherein the fragrance (C) contains a terpene compound. (D)700nm〜1300nmの波長の光を吸収可能な光熱変換剤を更に含有する請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   (D) The relief printing plate precursor for laser engraving according to any one of claims 1 to 6, further comprising a photothermal conversion agent capable of absorbing light having a wavelength of 700 nm to 1300 nm. 前記レリーフ形成層が、光及び熱の少なくとも一方により硬化する請求項1〜請求項7いずれか1項に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版。   The relief printing plate precursor for laser engraving according to any one of claims 1 to 7, wherein the relief forming layer is cured by at least one of light and heat. (1)請求項1〜請求項8のいずれか1項に記載のレーザー彫刻用レリーフ印刷版原版におけるレリーフ形成層を光及び熱の少なくとも一方により架橋する工程、及び、
(2)架橋されたレリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程、
を含むレリーフ印刷版の製造方法。
(1) The step of crosslinking the relief forming layer in the relief printing plate precursor for laser engraving according to any one of claims 1 to 8 by at least one of light and heat, and
(2) forming a relief layer by laser engraving a crosslinked relief forming layer;
A method for producing a relief printing plate comprising
前記(1)工程が、前記レリーフ形成層を熱により架橋する工程である請求項9に記載のレリーフ印刷版の製造方法。   The method for producing a relief printing plate according to claim 9, wherein the step (1) is a step of crosslinking the relief forming layer with heat. 請求項9又は請求項10に記載のレリーフ印刷版の製造方法により製造された、レリーフ層を有するレリーフ印刷版。   The relief printing plate which has a relief layer manufactured by the manufacturing method of the relief printing plate of Claim 9 or Claim 10. 前記レリーフ層の厚みが、0.05mm以上10mm以下である請求項11に記載のレリーフ印刷版。   The relief printing plate according to claim 11, wherein the thickness of the relief layer is from 0.05 mm to 10 mm. 前記レリーフ層のショアA硬度が、50°以上90°以下である請求項11又は請求項12に記載のレリーフ印刷版。   The relief printing plate according to claim 11, wherein the Shore A hardness of the relief layer is from 50 ° to 90 °.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011136431A (en) * 2009-12-25 2011-07-14 Fujifilm Corp Heat-crosslinkable resin composition for laser engraving, relief printing plate original plate for laser engraving and method for manufacturing the same, relief printing plate and method for making the same
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WO2014199966A1 (en) 2013-06-12 2014-12-18 富士フイルム株式会社 Artificial nail removal method, artificial nail composition, artificial nail, artificial nail forming method, and nail art kit

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