JP2009295370A - Substrate cutting method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of cutting a substrate having a plurality of panel formation regions to efficiently manufacture a plurality of display devices with multiple panels. <P>SOLUTION: The substrate cutting method comprises a step of providing a display part 231 in each of the plurality of panel formation regions 615 of a large base substrate 620 and providing an extraction part 130 while extending an electrode, a step of providing a protecting member 310 on an opposite face 131 of a large sealing substrate 610, a step of pasting the large base substrate 620 and the large sealing substrate 610 to each other via a sealing material 110, a first cutting step of cutting the large base substrate 620 and the large sealing substrate 610 at their predetermined positions to obtain individual display panels, and a second cutting step of cutting the end material part of the large sealing substrate 610. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板切断方法に関し、より具体的には、貼り合わせた複数のパネル形成領域を有する2枚の基板を切断して複数の表示装置を製造する基板切断方法に関する。   The present invention relates to a substrate cutting method, and more specifically to a substrate cutting method for manufacturing a plurality of display devices by cutting two substrates having a plurality of bonded panel forming regions.

複数の表示画素を備える表示部の各表示画素に発光素子として有機エレクトロルミネセンス素子を有する有機エレクトロルミネセンス表示装置の製造方法では、特許文献1に示されるように、1つの有機エレクトロルミネセンス表示装置のパネルサイズよりも十分に大きな、複数のパネル形成領域を有する2枚の基板を用い、これらの基板を貼り合わせた後、パネル形成領域毎に切断することで、複数個の有機エレクトロルミネセンス表示装置を製造する、多面取りと呼ばれる製造方法がある。   In a method for manufacturing an organic electroluminescence display device having an organic electroluminescence element as a light emitting element in each display pixel of a display unit having a plurality of display pixels, as shown in Patent Document 1, one organic electroluminescence display is provided. By using two substrates having a plurality of panel formation regions that are sufficiently larger than the panel size of the device, these substrates are bonded together, and then cut into each panel formation region, so that a plurality of organic electroluminescence There is a manufacturing method called multi-chamfering for manufacturing a display device.

この多面取りの製造方法では、まず、複数のパネル形成領域に区画された大型ベース基板の、複数のパネル形成領域のそれぞれに、有機エレクトロルミネセンス層を対向する電極で挟んで形成された発光素子を有する表示部を設けるとともに、表示部の一方の電極を延長して引き出し部を形成する。   In this multi-cavity manufacturing method, first, a light-emitting element formed by sandwiching an organic electroluminescent layer between electrodes facing each other in a plurality of panel formation regions of a large base substrate partitioned into a plurality of panel formation regions And a lead portion is formed by extending one electrode of the display portion.

そして、大型ベース基板と大型封止基板とを、封止材で表示部を封止するとともに、引き出し部を封止材の外側に露出させるようにして、封止材を介して貼り合わせる。   Then, the large base substrate and the large sealing substrate are bonded together through the sealing material so that the display portion is sealed with the sealing material and the lead-out portion is exposed to the outside of the sealing material.

そして、大型ベース基板及び大型封止基板をパネル形成領域毎に切断して、複数の有機エレクトロルミネセンス表示パネルを得る。さらに、大型ベース基板の各パネル形成領域の引き出し部に端子を接続するための空間を形成するために、大型封止基板の各パネル形成領域の、引き出し部に対向する部分である端材部を切断する。   And a large sized base substrate and a large sized sealing substrate are cut | disconnected for every panel formation area, and a some organic electroluminescent display panel is obtained. Furthermore, in order to form a space for connecting a terminal to the drawer portion of each panel formation region of the large base substrate, an end material portion which is a portion facing each of the panel formation regions of the large sealing substrate is provided. Disconnect.

このとき、大型封止基板の端材部を切断することにより、端材部が、大型ベース基板に設けられている引き出し部に接触することで、引き出し部が損傷することがある。   At this time, by cutting the end material portion of the large-sized sealing substrate, the end material portion may come into contact with the drawer portion provided on the large-sized base substrate, so that the drawer portion may be damaged.

特開2003−181825号公報JP 2003-181825 A

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、複数のパネル形成領域を有する2枚の基板を貼り合わせて所定の箇所を切断することで個々の表示パネルを得る基板切断方法において、表示部が形成される一方の基板の各パネル形成領域における表示部に接続される電極が設けられる引き出し部の損傷を防止することで、歩留まりの低下を抑制して表示パネルの生産効率を向上させることを目的とするものである。また、本発明は、2枚の大型基板を貼り合わせて所定の箇所を切断することで個々の表示パネルを得る基板切断方法において、効率よく、個々の基板を製造する方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of such a problem, and in a substrate cutting method for obtaining individual display panels by bonding two substrates having a plurality of panel formation regions and cutting a predetermined portion. In addition, by preventing damage to the lead part provided with the electrode connected to the display part in each panel formation region of one substrate on which the display part is formed, the yield reduction is suppressed and the production efficiency of the display panel is improved. The purpose is to make it. Another object of the present invention is to provide a method for efficiently manufacturing individual substrates in a substrate cutting method for obtaining individual display panels by bonding two large substrates and cutting predetermined portions. It is what.

上記目的を達成するため、本発明の基板切断方法は、各々が表示部と前記表示部に接続される電極が設けられる引き出し部とを有する複数のパネル形成領域に区画された第1基板の該各パネル形成領域に、前記第1基板の前記複数のパネル形成領域に対応する複数のパネル形成領域に区画された第2基板の該各パネル形成領域を対向させ、前記第1基板の前記各パネル形成領域の前記引き出し部と該引き出し部に対向する前記第2基板の前記各パネル形成領域の対向面との間に保護部材を介在させて、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、前記第2基板の前記各パネル形成領域の前記対向面をなす端材部を切断する切断工程と、を有する、ことを特徴とする。   In order to achieve the above object, a substrate cutting method according to the present invention includes a first substrate partitioned into a plurality of panel formation regions each having a display portion and a lead portion provided with an electrode connected to the display portion. Each panel forming region of the second substrate partitioned into a plurality of panel forming regions corresponding to the plurality of panel forming regions of the first substrate is opposed to each panel forming region, and each panel of the first substrate The first substrate and the second substrate are bonded together with a protective member interposed between the drawer portion in the formation region and the opposing surface of each panel formation region of the second substrate facing the drawer portion. And a cutting step of cutting an end material portion that forms the facing surface of each panel forming region of the second substrate.

また、前記保護部材は、前記第2基板の前記端材部を切断したときに該端材部が前記第1基板に該保護部材を介して接触して、該第1基板に与える衝撃を吸収する緩衝材である、ことも可能である。   The protective member absorbs an impact applied to the first substrate by the end member contacting the first substrate through the protective member when the end member of the second substrate is cut. It is also possible to be a cushioning material.

また、前記保護部材は、前記第2基板の前記各パネル形成領域の前記対向面に付着されて形成されていることも可能である。   The protective member may be formed by being attached to the facing surface of each panel forming region of the second substrate.

また、前記保護部材は、球状の複数の微粒子を前記対向面に散布することによって形成されていることも可能である。   The protective member may be formed by dispersing a plurality of spherical fine particles on the facing surface.

また、前記球状の複数の微粒子は、弾性率が、10%K値で、1GPaから10GPaの樹脂であることも可能である。   The plurality of spherical fine particles may be a resin having a modulus of elasticity of 10% K and 1 GPa to 10 GPa.

また、前記保護部材は、前記第2基板の前記各パネル形成領域の前記対向面以外の部分にマスクを設けて前記球状の複数の微粒子が前記対向面以外の部分に付着しないようにして、前記球状の複数の微粒子を前記第2基板の前記対向面側に散布することも可能である。   Further, the protective member is provided with a mask in a portion other than the facing surface of each panel forming region of the second substrate so that the plurality of spherical fine particles do not adhere to a portion other than the facing surface, It is also possible to disperse a plurality of spherical fine particles on the opposite surface side of the second substrate.

また、前記保護部材は、シート状の樹脂材料を前記対向面に貼り付けることで形成されていることも可能である。   Moreover, the said protection member can also be formed by affixing a sheet-like resin material on the said opposing surface.

また、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程は、前記第1基板の前記各パネル形成領域の前記表示部と前記第2基板の前記各パネル形成領域の前記表示部と対向する領域とを封止材で封止して貼り合わせ、前記引き出し部を前記封止材の外側に露出させる工程を含むことも可能である。   Further, the step of bonding the first substrate and the second substrate opposes the display portion in each panel formation region of the first substrate and the display portion in each panel formation region of the second substrate. It is also possible to include a step of sealing and bonding the region with a sealing material and exposing the lead portion to the outside of the sealing material.

また、貼り合わせた前記第1基板と前記第2基板とを前記各パネル形成領域で切断して、個々の複数の表示パネルを得る工程を含むことも可能である。   It is also possible to include a step of cutting the bonded first substrate and second substrate at the panel forming regions to obtain a plurality of individual display panels.

また、前記対向面は、前記第2基板を前記各パネル形成領域に切断した後の、前記封止材の外側から前記各パネル形成領域の端部までの領域である、ことも可能である。   Moreover, the said opposing surface can also be an area | region from the outer side of the said sealing material to the edge part of each said panel formation area after cut | disconnecting the said 2nd board | substrate to each said panel formation area.

また、前記第1基板に形成された前記表示部は、有機エレクトロルミネセンス層を有してなる発光素子を有することも可能である。   The display unit formed on the first substrate may include a light emitting element having an organic electroluminescence layer.

本発明に係る基板切断方法によれば、複数のパネル形成領域を有する2枚の基板を貼り合わせて所定の箇所を切断することで個々の表示パネルを得る基板切断方法において、表示部が形成される一方の基板の各パネル形成領域における表示部に接続される電極が設けられる引き出し部の損傷を防止することで、歩留まりの低下を抑制して、効率よく、個々の基板を製造することができる。   According to the substrate cutting method of the present invention, in the substrate cutting method for obtaining individual display panels by bonding two substrates having a plurality of panel formation regions and cutting a predetermined portion, a display unit is formed. By preventing damage to the lead portion provided with the electrode connected to the display portion in each panel forming region of one substrate, it is possible to efficiently manufacture individual substrates while suppressing a decrease in yield. .

(実施形態1)
〔有機EL表示装置〕
本実施形態に係る基板切断方法により製造される有機エレクトロルミネセンス(以下、ELとする。)表示装置800を説明する。有機EL表示装置800は、図1(a)に示されるように、ベース基板160と、封止基板140と、表示部231と、を有する。
(Embodiment 1)
[Organic EL display device]
An organic electroluminescence (hereinafter referred to as EL) display device 800 manufactured by the substrate cutting method according to this embodiment will be described. As shown in FIG. 1A, the organic EL display device 800 includes a base substrate 160, a sealing substrate 140, and a display unit 231.

表示部231は、下部電極(陽極)210と、有機EL発光層220と、下部電極210に対向する上部電極(陰極)230と、をこの順で積層して構成される。   The display unit 231 is configured by laminating a lower electrode (anode) 210, an organic EL light emitting layer 220, and an upper electrode (cathode) 230 facing the lower electrode 210 in this order.

ベース基板160は、後述するように、大型ベース基板(第1基板)620を図2(c)に示すようなそれぞれのパネル形成領域615に分割したものである。また、封止基板140は、後述するように、大型封止基板(第2基板)610を図3(a)に示すようにそれぞれのパネル形成領域615に分割したものである。   As will be described later, the base substrate 160 is obtained by dividing a large base substrate (first substrate) 620 into respective panel formation regions 615 as shown in FIG. Further, the sealing substrate 140 is obtained by dividing a large-sized sealing substrate (second substrate) 610 into respective panel formation regions 615 as shown in FIG.

下部電極210の図面右側の端部は、右側に延長され、引き出し部130を形成している。引き出し部130には端子等を接続することができる。   An end of the lower electrode 210 on the right side of the drawing is extended to the right side to form a lead portion 130. A terminal or the like can be connected to the drawer portion 130.

下部電極210は、例えばドープ酸化インジウム(ITO)、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化インジウム(In)等の透明導電材料から形成される。上部電極230は、電子注入をしやすくするため、例えば、AlLi、FLi、MgIn、Li、Na、Mg、Ca等の金属を単体であるいは合金で用いることができる。ベース基板160は、ガラス基板である。 The lower electrode 210 is made of a transparent conductive material such as doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide, or indium oxide (In 2 O 3 ). In order to facilitate the electron injection, the upper electrode 230 can use, for example, a metal such as AlLi, FLi, MgIn, Li, Na, Mg, Ca alone or in an alloy. The base substrate 160 is a glass substrate.

図1(a)のX−X断面である図1(b)に示すように、表示部231は、封止材110で囲まれることにより封止されており、これにより表示部231は外部の水蒸気から保護される。   As shown in FIG. 1B, which is an XX cross section of FIG. 1A, the display portion 231 is sealed by being surrounded by a sealing material 110, whereby the display portion 231 is externally provided. Protected from water vapor.

封止基板140の下側内面には凹み部171が設けられており、この凹み部171には例えば乾燥シート170が貼り付けられている。乾燥シート170は、封止材110で囲まれている内部の空間を乾燥状態に保つ。   A recess 171 is provided on the lower inner surface of the sealing substrate 140, and for example, a dry sheet 170 is attached to the recess 171. The dry sheet 170 keeps the internal space surrounded by the sealing material 110 in a dry state.

〔有機EL表示装置を製造する基板の切断方法〕
次に、2枚の基板を貼り合わせ、その後切断することにより、上述した有機EL表示装置800を製造する方法を説明する。
[Cutting method of substrate for manufacturing organic EL display device]
Next, a method for manufacturing the above-described organic EL display device 800 by bonding two substrates and then cutting the substrate will be described.

まず、ガラス基板で形成されている大型ベース基板(第1基板)620を用意する。この大型ベース基板620は、図2(a)に示されるように、複数のパネル形成領域615に区画されている。   First, a large base substrate (first substrate) 620 formed of a glass substrate is prepared. The large base substrate 620 is partitioned into a plurality of panel forming regions 615 as shown in FIG.

大型ベース基板620の上に、下部電極210をフォトリソグラフィー処理により形成する。下部電極210の厚さは例えば30nm〜100nmである。なお、ウエットエッチング処理若しくはドライエッチング処理等を施すことにより下部電極210を形成することも可能である。   A lower electrode 210 is formed on the large base substrate 620 by photolithography. The thickness of the lower electrode 210 is, for example, 30 nm to 100 nm. Note that the lower electrode 210 can also be formed by performing a wet etching process or a dry etching process.

そして、下部電極210の上に有機EL発光層形成用の塗布液を塗布する。塗布は、ノズルコータから連続的に塗布する。塗布は、窒素ガス雰囲気中で行うことが望ましい。有機EL発光材料は酸素や水蒸気等に接触すると特性変化を生じることがありうる。そのため、窒素ガス雰囲気中で塗布することで、有機EL発光材料の特性変化を起こりにくくすることが可能となる。   Then, a coating liquid for forming an organic EL light emitting layer is applied on the lower electrode 210. Application is continuously performed from a nozzle coater. The application is desirably performed in a nitrogen gas atmosphere. The organic EL light emitting material may change its characteristics when it comes into contact with oxygen, water vapor or the like. Therefore, it becomes possible to make the characteristic change of the organic EL light emitting material difficult to occur by applying in a nitrogen gas atmosphere.

有機EL発光層形成用の塗布液が塗布された後は、窒素雰囲気中でホットプレートによる乾燥、あるいは、真空中でのシーズヒータによる乾燥を行い、残留液体の除去をすることで、有機EL発光層220が形成される。   After the coating liquid for forming the organic EL light emitting layer is applied, it is dried with a hot plate in a nitrogen atmosphere or dried with a sheathed heater in a vacuum to remove the residual liquid, thereby emitting organic EL light. Layer 220 is formed.

次に、図2(b)に示されるように、有機EL発光層220の上に、膜厚が例えば100nmの上部電極230を形成する。上部電極230は、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を用いて形成することができる。これにより、図2(c)に示されるように、大型ベース基板620のそれぞれのパネル形成領域615に、有機EL素子からなる発光素子を有する複数の表示画素を備える表示部231が形成される。なお、わかりやすく表示するために、個々のパネル形成領域615を実線で区切っている。   Next, as illustrated in FIG. 2B, the upper electrode 230 having a thickness of, for example, 100 nm is formed on the organic EL light emitting layer 220. The upper electrode 230 can be formed using, for example, a resistance heating vapor deposition method, an electron beam vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like. As a result, as shown in FIG. 2C, a display portion 231 including a plurality of display pixels each having a light emitting element made of an organic EL element is formed in each panel formation region 615 of the large base substrate 620. Note that the individual panel formation regions 615 are separated by solid lines for easy-to-understand display.

次に、図3(a)に示すように、例えばガラス基板で形成されている大型封止基板(第2基板)610を用意する。この大型封止基板610は例えば大型ベース基板620と同じ大きさを有する。この大型封止基板610も、上記大型ベース基板620と同様に複数のパネル形成領域615に区画されている(ここで、大型ベース基板62の各パネル形成領域と大型封止基板610の各パネル形成領域とは1:1に対応しているものであるため、便宜上、両基板のパネル形成領域に同じ符号を付けて示している)。
そして、図3(b)に示すように、大型封止基板610上に、各パネル形成領域615における対向面131に対応する領域である開口部132を有するとともに、それ以外の部分を遮蔽する、例えば金属材料からなるマスク330を配置する。対向面131は、図6に示すように、大型ベース基板620と大型封止基板610とを封止材110を介して貼り合わせた場合に、引き出し部130に対向する面である。
Next, as shown in FIG. 3A, for example, a large sealing substrate (second substrate) 610 formed of a glass substrate is prepared. The large sealing substrate 610 has the same size as the large base substrate 620, for example. The large sealing substrate 610 is also divided into a plurality of panel formation regions 615 as in the case of the large base substrate 620 (here, each panel formation region of the large base substrate 62 and each panel formation of the large sealing substrate 610). Since the area corresponds to 1: 1, for convenience, the panel formation areas of both substrates are denoted by the same reference numerals).
And as shown in FIG.3 (b), while having the opening part 132 which is an area | region corresponding to the opposing surface 131 in each panel formation area | region 615 on the large sized sealing substrate 610, the other part is shielded. For example, a mask 330 made of a metal material is disposed. As shown in FIG. 6, the facing surface 131 is a surface that faces the drawing portion 130 when the large base substrate 620 and the large sealing substrate 610 are bonded together via the sealing material 110.

そして、図4に示すように、対向面131側に散布装置320から保護部材310を散布する。マスク330が対向面131以外の部分を被覆しているから、対向面131以外の部分に保護部材310が散布されることはない。その後、マスク330を外すことによって、対向面131上にのみ保護部材310が散布される。なお、大型封止基板610のそれぞれのパネル形成領域615に対応する部分が、有機EL表示装置800の封止基板140となる。   And as shown in FIG. 4, the protection member 310 is spread | dispersed from the spreading | diffusion apparatus 320 to the opposing surface 131 side. Since the mask 330 covers a portion other than the facing surface 131, the protective member 310 is not sprayed on the portion other than the facing surface 131. Thereafter, the protective member 310 is spread only on the facing surface 131 by removing the mask 330. In addition, the part corresponding to each panel formation area 615 of the large sized sealing substrate 610 becomes the sealing substrate 140 of the organic EL display device 800.

次に、対向面131に保護部材310を設けた大型封止基板610を、水分1ppm未満の窒素雰囲気において、100〜120℃にて数分間加熱処理を行う。この加熱処理により、大型封止基板610や保護部材310に吸着している水分を除去する。これにより保護部材310を大型封止基板610に付着させる。その後は、図5に示すように、大型封止基板610の各パネル形成領域615に設けられている凹み部171に、乾燥シート170を貼り付ける。   Next, the large-sized sealing substrate 610 provided with the protective member 310 on the facing surface 131 is subjected to heat treatment at 100 to 120 ° C. for several minutes in a nitrogen atmosphere with a moisture content of less than 1 ppm. By this heat treatment, moisture adsorbed on the large sealing substrate 610 and the protective member 310 is removed. As a result, the protection member 310 is attached to the large-sized sealing substrate 610. After that, as shown in FIG. 5, the dry sheet 170 is attached to the recess 171 provided in each panel formation region 615 of the large-sized sealing substrate 610.

次に、図6に示すように、大型封止基板610と大型ベース基板620とを封止材110を介して貼り合わせる。大型封止基板610と大型ベース基板620との貼り合わせは、引き出し部130を封止材110の外側に露出させるように行う。なお、図6においては、わかりやすく表示するために、個々のパネル形成領域615を実線で区切っている。   Next, as shown in FIG. 6, the large-sized sealing substrate 610 and the large-sized base substrate 620 are bonded together with the sealing material 110 interposed therebetween. The large sealing substrate 610 and the large base substrate 620 are bonded to each other so that the lead-out portion 130 is exposed to the outside of the sealing material 110. In FIG. 6, the individual panel formation regions 615 are separated by solid lines for easy understanding.

次に、図7に示すように、大型封止基板610及び大型ベース基板620を、長手方向のライン351と短手方向のライン352とで切断する。このようにして、図8に示すように、個々の複数のパネル形成領域615に分割する。   Next, as shown in FIG. 7, the large sealing substrate 610 and the large base substrate 620 are cut along a longitudinal line 351 and a lateral line 352. In this way, as shown in FIG. 8, the panel is divided into a plurality of individual panel formation regions 615.

そして、図9に示すように、切断具360でスクライブ溝331を形成する。
切断具360としては、ダイヤモンドカッター等の治具を用いることが可能である。
Then, as shown in FIG. 9, the scribe groove 331 is formed by the cutting tool 360.
As the cutting tool 360, a jig such as a diamond cutter can be used.

その後は、図10に示すように、ブレイク治具340で押圧する。ブレイク治具340の押圧力による曲げ応力によってスクライブ溝331を境に、端材部350を切り離す。   After that, as shown in FIG. The end material part 350 is cut off with the scribe groove 331 as a boundary by the bending stress caused by the pressing force of the break jig 340.

端材部350を切り離す工程において、端材部350の下面(対向面131)に保護部材310が設けてある。従って、たとえ端材部350が引き出し部130に接触したとしても、保護部材310が端材部350と引き出し部130との間で緩衝材として機能するので、引き出し部130を損傷させにくい。   In the step of separating the end material portion 350, the protection member 310 is provided on the lower surface (opposing surface 131) of the end material portion 350. Therefore, even if the end material portion 350 comes into contact with the drawer portion 130, the protection member 310 functions as a buffer material between the end material portion 350 and the drawer portion 130, so that the drawer portion 130 is hardly damaged.

また、図8に示すように、封止材110の外側から封止基板140の端部までの概ね全面に亘って保護部材310を設ける。従って、切り離された端材部350のどの部分も引き出し部130に直接接触しないようにすることができて、引き出し部130を損傷させにくい。   Further, as shown in FIG. 8, a protective member 310 is provided over substantially the entire surface from the outside of the sealing material 110 to the end of the sealing substrate 140. Therefore, any part of the cut off end material part 350 can be prevented from directly contacting the drawer part 130, and the drawer part 130 is hardly damaged.

保護部材310は、例えば球状の複数の微粒子である。この球状の微粒子は、直径が5μmから15μmとすることが好ましい。直径が5μmよりも小さくなると保護部材としての厚みが小さくなり、保護層としての役割が低下する可能性がある。一方、直径が15μmよりも大きくなると封止材110の厚みより保護部材310の微粒子による厚みが大きくなって、封止基板140とベース基板160との封止材110を介した接着性が悪くなる可能性がある。   The protection member 310 is, for example, a plurality of spherical fine particles. The spherical fine particles preferably have a diameter of 5 μm to 15 μm. When the diameter is smaller than 5 μm, the thickness as the protective member is reduced, and the role as the protective layer may be reduced. On the other hand, when the diameter is larger than 15 μm, the thickness due to the fine particles of the protective member 310 is larger than the thickness of the sealing material 110, and the adhesion between the sealing substrate 140 and the base substrate 160 through the sealing material 110 is deteriorated. there is a possibility.

球状の微粒子は樹脂で形成することが可能である。例えば、ジビニルベンゼン重合体、ポリイソプレン−ブタジエン共重合体等の高分子系樹脂で形成される粒子を使用することが可能である。   Spherical fine particles can be formed of a resin. For example, it is possible to use particles formed of a high molecular resin such as a divinylbenzene polymer and a polyisoprene-butadiene copolymer.

また、球状の微粒子はシリカ微粒子を用いることも可能である。シリカ微粒子は、例えば、アルキルシリケートを合成することで生成されるシリカ粒子を用いることができる。なお、アルキルシリケートとは、テトラアルコキシシランを出発物質とするアルコキシシランオリゴマーである。   Further, silica fine particles can be used as the spherical fine particles. As the silica fine particles, for example, silica particles generated by synthesizing alkyl silicate can be used. The alkyl silicate is an alkoxysilane oligomer starting from tetraalkoxysilane.

球状の微粒子を樹脂で形成する場合、球状の微粒子の弾性率が、10%K値(粒子径を10%圧縮するために必要な圧力)で、1GPaから10GPaの樹脂を用いることが好ましい。弾性率が1GPaよりも小さいと、保護層としての衝撃を緩和することが困難となるおそれがあるからである。一方、弾性率が10%K値で10GPaよりも大きいと、緩衝材としての機能が低下し、引き出し部を損傷させるおそれがある。なお、球状の微粒子としてシリカ微粒子を用いる場合でも、球状の微粒子の弾性率は、10%K値で1GPaから10GPaのものを用いることが好ましい。   When the spherical fine particles are formed of a resin, it is preferable to use a resin of 1 GPa to 10 GPa with the elastic modulus of the spherical fine particles being 10% K value (pressure required to compress the particle diameter by 10%). This is because if the elastic modulus is less than 1 GPa, it may be difficult to mitigate the impact as the protective layer. On the other hand, if the elastic modulus is greater than 10 GPa at a 10% K value, the function as a cushioning material is lowered, and the drawer portion may be damaged. Even when silica fine particles are used as the spherical fine particles, the elastic modulus of the spherical fine particles is preferably 1 GPa to 10 GPa at a 10% K value.

球状の微粒子の対向面131への散布は、1mmあたり50個から150個の密度で散布することが好ましい。1mmあたり50個よりも散布量が少ないと、保護部材310としての衝撃を吸収する度合いが少なくなる可能性があるからである。一方、1mmあたり150個よりも散布量が多いと、材料使用量が多くなり、製造コストが上昇することになる。 The spherical fine particles are preferably sprayed on the facing surface 131 at a density of 50 to 150 per 1 mm 2 . This is because if the spraying amount is less than 50 per 1 mm 2, the degree of absorbing the impact as the protective member 310 may be reduced. On the other hand, if the amount of application is larger than 150 per 1 mm 2 , the amount of material used increases and the manufacturing cost increases.

(実施形態2)
上述の実施形態では、封止基板140の下側内面には凹み部171が設けられており、凹み部171には乾燥シート170が貼り付けられていた。もっともこのような実施形態に限定されない。
(Embodiment 2)
In the above-described embodiment, the recessed portion 171 is provided on the lower inner surface of the sealing substrate 140, and the dry sheet 170 is attached to the recessed portion 171. However, the present invention is not limited to such an embodiment.

図11に示すように、封止基板140は凹み部171を有しない面一のものを使用することができる。実施形態2の封止基板140では凹み部171を形成しないので中央部分の厚みが端部よりも薄くなることはない。そのため、図10に示すような端材部350を切断する工程において、封止基板140の変形が起こりにくい。   As shown in FIG. 11, the same sealing substrate 140 that does not have the recess 171 can be used. In the sealing substrate 140 according to the second embodiment, since the recessed portion 171 is not formed, the thickness of the central portion is not thinner than the end portion. Therefore, in the step of cutting the end material portion 350 as shown in FIG.

なお、図11に示すように、表示部231と封止材110との間の隙間には、樹脂290が充填されている。樹脂290により、表示部231が外部の水蒸気に接触することを防止することができる。   As shown in FIG. 11, a resin 290 is filled in a gap between the display portion 231 and the sealing material 110. The resin 290 can prevent the display portion 231 from coming into contact with external water vapor.

(実施形態3)
上述の実施形態では、保護部材310は、球状の微粒子を対向面131に塗布した。もっともこのような実施形態に限定されない。図12に示すように、保護部材310として、弾性を有する薄膜状の樹脂シートを対向面131に貼り付けることも可能である。弾性を有する薄膜状の樹脂シートとしてはシリコーン樹脂シートを用いることができる。
なお、上記各実施形態では、一方の基板の表示部の各表示画素が有機EL素子からなる発光素子を備える有機EL表示装置について説明したが、本発明はこれに限るものではなく、発光素子が有機EL素子以外の、例えば無機EL素子、発光ダイオード等のものからなるものであってもよい。更に、本発明は2枚の基板を貼り合わせて所定の箇所を切断することによって個々の表示パネルを得て、一方の基板の一端に表示部に接続される電極が設けられる引き出し部を有するものに好適に適用することができるものであって、発光素子を一方の基板に形成するものの他、貼り合わせた2枚の基板間の封止材で封止された領域に液晶を封入し、一方の基板の一端に接続用の電極が設けられる液晶表示パネルに対しても好適に適用することができる。
(Embodiment 3)
In the above-described embodiment, the protective member 310 applied spherical fine particles to the facing surface 131. However, the present invention is not limited to such an embodiment. As shown in FIG. 12, an elastic thin film resin sheet can be attached to the facing surface 131 as the protection member 310. As the thin resin sheet having elasticity, a silicone resin sheet can be used.
In each of the embodiments described above, the organic EL display device including the light emitting element in which each display pixel of the display portion of one substrate includes the organic EL element is described. However, the present invention is not limited to this, and the light emitting element is not limited to this. Other than the organic EL element, for example, an inorganic EL element, a light emitting diode or the like may be used. Furthermore, the present invention provides an individual display panel by bonding two substrates and cutting a predetermined portion, and has a lead-out portion in which an electrode connected to the display portion is provided at one end of one substrate In addition to forming the light emitting element on one substrate, liquid crystal is sealed in a region sealed with a sealing material between two bonded substrates, The present invention can also be suitably applied to a liquid crystal display panel in which a connection electrode is provided at one end of the substrate.

(a)は、本発明の基板切断方法により製造された有機EL表示装置の断面図であり、(b)は、図1(a)におけるX−X線での断面図である。(A) is sectional drawing of the organic electroluminescence display manufactured by the board | substrate cutting method of this invention, (b) is sectional drawing in the XX line in Fig.1 (a). (a)は、大型ベース基板の断面図であり、(b)は、大型ベース基板のそれぞれのパネル形成領域に表示部を設けている様子を説明する図であり、(c)は、それぞれのパネル形成領域を拡大して説明する図である。(A) is sectional drawing of a large sized base board, (b) is a figure explaining a mode that the display part is provided in each panel formation area of a large sized base board, (c) is each figure. It is a figure which expands and demonstrates a panel formation area. (a)は、大型封止基板を説明する図であり、(b)は開口部を有するマスクを説明する図である。(A) is a figure explaining a large sized sealing substrate, (b) is a figure explaining the mask which has an opening part. 大型封止基板に保護部材を散布する様子を説明する図である。It is a figure explaining a mode that a protection member is spread on a large-sized sealing board. 大型封止基板の凹み部に乾燥シートを貼り付ける様子を説明する図である。It is a figure explaining a mode that a dry sheet is affixed on the dent part of a large sized sealing substrate. 大型封止基板と大型ベース基板とを封止材を介在させて積層させる様子を説明する図である。It is a figure explaining a mode that a large sized sealing substrate and a large sized base substrate are laminated | stacked with a sealing material interposed. それぞれのパネル形成領域に分割される大型封止基板及び大型ベース基板を説明する図である。It is a figure explaining the large sized sealing substrate and large sized base board | substrate divided | segmented into each panel formation area. それぞれのパネル形成領域に分割された基板を説明する図である。It is a figure explaining the board | substrate divided | segmented into each panel formation area. 端材部を分割するスクライブ溝を設ける様子を説明する図である。It is a figure explaining a mode that the scribe groove | channel which divides an end material part is provided. 端材部を分割する様子を説明する図である。It is a figure explaining a mode that an end material part is divided | segmented. 別実施形態の封止基板を使用する様子を説明する図である。It is a figure explaining a mode that the sealing substrate of another embodiment is used. 別実施形態の保護部材を使用する様子を説明する図である。It is a figure explaining a mode that the protection member of another embodiment is used.

符号の説明Explanation of symbols

110…封止材、130…引き出し部、131…対向面、140…封止基板、160…ベース基板、170…乾燥シート、171…凹み部、210…下部電極、220…有機EL発光層、230…上部電極、231…表示部、310…保護部材、320…散布装置、330…マスク、340…ブレイク治具、350…端材部、360…切断具、610…大型封止基板、620…大型ベース基板、800…有機EL表示装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 110 ... Sealing material, 130 ... Lead-out part, 131 ... Opposite surface, 140 ... Sealing substrate, 160 ... Base substrate, 170 ... Drying sheet, 171 ... Recessed part, 210 ... Lower electrode, 220 ... Organic EL light emitting layer, 230 ... Upper electrode, 231 ... Display part, 310 ... Protection member, 320 ... Dispersing device, 330 ... Mask, 340 ... Break jig, 350 ... End material part, 360 ... Cutting tool, 610 ... Large sealing substrate, 620 ... Large Base substrate, 800 ... organic EL display device

Claims (11)

各々が表示部と前記表示部に接続される電極が設けられる引き出し部とを有する複数のパネル形成領域に区画された第1基板の該各パネル形成領域に、前記第1基板の前記複数のパネル形成領域に対応する複数のパネル形成領域に区画された第2基板の該各パネル形成領域を対向させ、前記第1基板の前記各パネル形成領域の前記引き出し部と該引き出し部に対向する前記第2基板の前記各パネル形成領域の対向面との間に保護部材を介在させて、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程と、
前記第2基板の前記各パネル形成領域の前記対向面をなす端材部を切断する切断工程と、
を含むことを特徴とする基板切断方法。
The plurality of panels of the first substrate in each panel formation region of the first substrate partitioned into a plurality of panel formation regions each having a display portion and a lead portion provided with an electrode connected to the display portion The panel formation regions of the second substrate partitioned into a plurality of panel formation regions corresponding to the formation regions are opposed to each other, and the drawer portions of the panel formation regions of the first substrate are opposed to the drawer portions. A step of bonding the first substrate and the second substrate with a protective member interposed between the opposing surfaces of the panel formation regions of the two substrates;
A cutting step of cutting an end material portion forming the facing surface of each panel forming region of the second substrate;
A substrate cutting method comprising:
前記保護部材は、前記第2基板の前記端材部を切断したときに該端材部が前記第1基板に該保護部材を介して接触して、該第1基板に与える衝撃を吸収する緩衝材であることを特徴とする請求項1記載の基板切断方法。   The protection member is a buffer that absorbs an impact applied to the first substrate by the end material portion contacting the first substrate through the protection member when the end material portion of the second substrate is cut. The substrate cutting method according to claim 1, wherein the substrate cutting method is a material. 前記保護部材は、前記第2基板の前記各パネル形成領域の前記対向面に付着されて形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板切断方法。   The substrate cutting method according to claim 1, wherein the protective member is formed by being attached to the facing surface of each panel forming region of the second substrate. 前記保護部材は、球状の複数の微粒子を前記対向面に散布することによって形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板切断方法。   4. The substrate cutting method according to claim 1, wherein the protective member is formed by dispersing a plurality of spherical fine particles on the facing surface. 5. 前記球状の複数の微粒子は、弾性率が、10%K値で、1GPaから10GPaの樹脂であることを特徴とする請求項4記載の基板切断方法。   The substrate cutting method according to claim 4, wherein the plurality of spherical fine particles are a resin having a modulus of elasticity of 10% K and 1 GPa to 10 GPa. 前記保護部材は、前記第2基板の前記各パネル形成領域の前記対向面以外の部分にマスクを設けて前記球状の複数の微粒子が前記対向面以外の部分に付着しないようにして、前記球状の複数の微粒子を前記第2基板の前記対向面側に散布することによって形成されていることを特徴とする請求項4又は5に記載の基板切断方法。   The protective member is provided with a mask in a portion of the second substrate other than the facing surface of each panel forming region so that the plurality of spherical fine particles do not adhere to the portion other than the facing surface. The substrate cutting method according to claim 4, wherein the substrate cutting method is formed by dispersing a plurality of fine particles on the opposite surface side of the second substrate. 前記保護部材は、シート状の樹脂材料を前記対向面に貼り付けることで形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板切断方法。   The substrate cutting method according to claim 1, wherein the protective member is formed by sticking a sheet-like resin material to the facing surface. 前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程は、前記第1基板の前記各パネル形成領域の前記表示部と前記第2基板の前記各パネル形成領域の前記表示部と対向する領域とを封止材で封止して貼り合わせ、前記引き出し部を前記封止材の外側に露出させる工程を含むことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の基板切断方法。   The step of bonding the first substrate and the second substrate includes: the display portion of each panel formation region of the first substrate; and the region facing the display portion of each panel formation region of the second substrate; The substrate cutting method according to any one of claims 1 to 7, further comprising a step of sealing the substrates together with a sealing material and attaching the drawn portions to the outside of the sealing material. 貼り合わせた前記第1基板と前記第2基板とを前記各パネル形成領域で切断して、個々の複数の表示パネルを得る工程を含むことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の基板切断方法。   9. The method according to claim 1, further comprising a step of cutting the bonded first substrate and the second substrate in the panel forming regions to obtain a plurality of individual display panels. 10. The substrate cutting method according to claim 1. 前記対向面は、前記第2基板を前記各パネル形成領域に切断した後の、前記封止材の外側から前記各パネル形成領域の端部までの領域である、ことを特徴とする請求項8に記載の基板切断方法。   The said opposing surface is an area | region from the outer side of the said sealing material after the said 2nd board | substrate is cut | disconnected to each said panel formation area to the edge part of each said panel formation area, It is characterized by the above-mentioned. The substrate cutting method according to claim 1. 前記第1基板に形成された前記表示部は、有機エレクトロルミネセンス層を有してなる発光素子を有することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の基板切断方法。   11. The substrate cutting method according to claim 1, wherein the display unit formed on the first substrate includes a light-emitting element including an organic electroluminescence layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2013065267A1 (en) * 2011-11-01 2013-05-10 シャープ株式会社 Thin film transistor substrate, liquid crystal display device, and method for manufacturing thin film transistor substrate

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