JP2009283824A - Electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents

Electronic component and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2009283824A
JP2009283824A JP2008136551A JP2008136551A JP2009283824A JP 2009283824 A JP2009283824 A JP 2009283824A JP 2008136551 A JP2008136551 A JP 2008136551A JP 2008136551 A JP2008136551 A JP 2008136551A JP 2009283824 A JP2009283824 A JP 2009283824A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electronic component
insulating layer
magnetic layer
coil
firing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008136551A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4692574B2 (en
Inventor
Junji Kurobe
淳司 黒部
Daiji Kono
大司 河野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2008136551A priority Critical patent/JP4692574B2/en
Priority to CN200910141888XA priority patent/CN101615499B/en
Publication of JP2009283824A publication Critical patent/JP2009283824A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4692574B2 publication Critical patent/JP4692574B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component which hardly provides the erroneous determination of exposure failure, and to provide a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: A layered product 12 is constituted by laminating a plurality of magnetic layers 16, 17. A plurality of coil electrodes 18 are laminated with the magnetic layer 16 to constitute a coil L. In the z axis direction of the layered product 12, within a range from surfaces positioned at both ends to at least 5 μm is constituted of a porous insulating layer 17 whose void ratio is ≥3.0% to t≤35.0%. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品及びその製造方法に関し、積層体内にコイルを内蔵している電子部品及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an electronic component and a manufacturing method thereof, and relates to an electronic component in which a coil is built in a laminate and a manufacturing method thereof.

従来の電子部品としては、例えば、特許文献1に記載の積層インダクターが知られている。該積層インダクターでは、複数の絶縁層と複数のコイル形成用導電パターンとが交互に積層されている。複数のコイル形成用導電パターンは、互いに接続されて、一つのコイルを構成している。また、積層方向の最も上側及び下側に設けられているコイル形成用導電パターンは、絶縁層からなる積層体の側面に引き出されており、該積層体の側面に形成されている外部電極に接続されている。   As a conventional electronic component, for example, a multilayer inductor described in Patent Document 1 is known. In the multilayer inductor, a plurality of insulating layers and a plurality of coil forming conductive patterns are alternately stacked. The plurality of coil forming conductive patterns are connected to each other to form one coil. The coil forming conductive patterns provided on the uppermost and lower sides in the laminating direction are drawn out to the side surface of the laminated body made of an insulating layer and connected to the external electrodes formed on the side surface of the laminated body. Has been.

以上のように構成された積層インダクターでは、完成後に外観選別が行われる。より詳細には、CCD等の撮像素子により積層インダクターの上面が撮影され、得られた画像を解析して、積層インダクターの外観不良の発生の有無が判定される。積層インダクターの外観不良としては、例えば、積層方向の最も上側のコイル形成用導電パターンが、圧着工程や焼成工程において、積層方向の最上層の絶縁層を突き破って外部に露出してしまう不良(以下、露出不良と称す)がある。   In the multilayer inductor configured as described above, appearance selection is performed after completion. More specifically, the upper surface of the multilayer inductor is photographed by an image pickup device such as a CCD, and the obtained image is analyzed to determine whether or not an appearance defect of the multilayer inductor has occurred. As the appearance defect of the multilayer inductor, for example, the uppermost coil-forming conductive pattern in the stacking direction breaks through the uppermost insulating layer in the stacking direction and is exposed to the outside in the crimping process or firing process (hereinafter referred to as the following) , Referred to as poor exposure).

ところで、前記積層インダクターでは、以下に説明するように、外観選別において露出不良の誤判定が発生するおそれがある。より詳細には、コイル形成用導電パターンの積層数が増えると、数多くのコイル形成用導電パターンが積層方向に重なる。そのため、コイル形成用導電パターンが形成されている領域の積層方向の厚みと、コイル形成用導電パターンが形成されていない領域の積層方向の厚みとに大きさの差が発生する。これにより、積層インダクターの上面において、コイル形成用導電パターンの形状に沿って大きな凹凸が発生する。   By the way, in the multilayer inductor, as described below, there is a risk of erroneous determination of poor exposure in appearance selection. More specifically, as the number of coil-forming conductive patterns increases, a number of coil-forming conductive patterns overlap in the stacking direction. Therefore, a difference in size occurs between the thickness in the stacking direction of the region where the coil forming conductive pattern is formed and the thickness in the stacking direction of the region where the coil forming conductive pattern is not formed. As a result, large irregularities occur along the shape of the coil-forming conductive pattern on the upper surface of the multilayer inductor.

ここで、積層インダクターの上面は、滑らかな光沢を有した面である。故に、このような凹凸が発生していると、撮像素子によって得られた画像において、突出している部分が明るくなり、その周囲が暗くなってしまう。その結果、外観選別において、露出不良が発生していないにもかかわらず、明るくなっている部分においてコイル形成用電極パターンが露出していると誤判定されるおそれがある。
特開昭55−91103号公報
Here, the upper surface of the multilayer inductor is a surface having a smooth gloss. Therefore, when such unevenness is generated, the protruding portion becomes brighter and the surrounding area becomes darker in the image obtained by the image sensor. As a result, in the appearance selection, there is a possibility that it may be erroneously determined that the coil forming electrode pattern is exposed in a bright portion even though no exposure failure has occurred.
JP 55-91103 A

そこで、本発明の目的は、露出不良の誤判定が発生しにくい電子部品及びその製造方法を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an electronic component that is less prone to misjudgment of exposure failure and a method for manufacturing the same.

本発明の一形態に係る電子部品は、複数の絶縁層が積層されてなる積層体と、前記絶縁層と共に積層されコイルを構成している複数の内部電極と、を備え、前記積層体の積層方向において、両端に位置する面から少なくとも5μmまでの範囲内は、空隙率が3.0%以上35.0%以下であるポーラス状の前記絶縁層により構成されていること、を特徴とする。   An electronic component according to an aspect of the present invention includes: a stacked body in which a plurality of insulating layers are stacked; and a plurality of internal electrodes that are stacked together with the insulating layers to form a coil. In the direction, the range from the surface located at both ends to at least 5 μm is constituted by the porous insulating layer having a porosity of 3.0% or more and 35.0% or less.

本発明によれば、両端に位置する面から少なくとも5μmまでの範囲内は、空隙率が3.0%以上35.0%以下であるポーラス状の前記絶縁層により構成されているので、露出不良の誤判定を抑制することができる。   According to the present invention, the range from the surface located at both ends to at least 5 μm is constituted by the porous insulating layer having a porosity of 3.0% or more and 35.0% or less. Can be suppressed.

以下に、本発明の一実施形態に係る電子部品及びその製造方法について説明する。   Below, the electronic component which concerns on one Embodiment of this invention, and its manufacturing method are demonstrated.

(電子部品の構成)
図1(a)は、電子部品10の外観斜視図である。図1(b)は、電子部品10のA−Aにおける断面構造図である。図2は、電子部品10の積層体12の分解斜視図である。以下、電子部品10の積層方向をz軸方向と定義し、電子部品10の長辺に沿った方向をx軸方向と定義し、電子部品10の短辺に沿った方向をy軸方向と定義する。なお、図1(b)では、各層の境界線が点線により示されているが、実際には、視認できるような境界線が存在しない場合も存在する。
(Configuration of electronic parts)
FIG. 1A is an external perspective view of the electronic component 10. FIG. 1B is a cross-sectional structure diagram taken along the line AA of the electronic component 10. FIG. 2 is an exploded perspective view of the multilayer body 12 of the electronic component 10. Hereinafter, the stacking direction of the electronic component 10 is defined as the z-axis direction, the direction along the long side of the electronic component 10 is defined as the x-axis direction, and the direction along the short side of the electronic component 10 is defined as the y-axis direction. To do. In addition, in FIG.1 (b), although the boundary line of each layer is shown with the dotted line, there may exist a boundary line which can be visually recognized actually.

電子部品10は、図1(a)に示すように、内部にコイルLを含む直方体状の積層体12と、x軸方向の両端に位置する積層体12の側面に形成された2つの外部電極14a,14bとを備えている。   As shown in FIG. 1A, the electronic component 10 includes a rectangular parallelepiped laminated body 12 including a coil L therein, and two external electrodes formed on side surfaces of the laminated body 12 positioned at both ends in the x-axis direction. 14a, 14b.

積層体12は、以下に説明するように、複数のコイル電極と複数の磁性体層とが積層されて構成されている。積層体12は、図1(b)及び図2に示すように、強磁性のフェライト(例えば、Ni−Zn−Cuフェライト又はNi−Znフェライト等)からなる複数の絶縁層(磁性体層16a〜16h,17a,17b)及びコイル電極18a〜18gが積層されることにより構成されている。以下では、個別の磁性体層16a〜16h,17a,17b及びコイル電極18a〜18gを指す場合には、参照符号の後ろにアルファベットを付し、これらを総称する場合には、参照符号の後ろのアルファベットを省略する。   The laminated body 12 is configured by laminating a plurality of coil electrodes and a plurality of magnetic layers, as will be described below. As shown in FIGS. 1B and 2, the laminate 12 includes a plurality of insulating layers (magnetic layers 16 a to 16 a) made of ferromagnetic ferrite (for example, Ni—Zn—Cu ferrite or Ni—Zn ferrite). 16h, 17a, 17b) and coil electrodes 18a-18g are laminated. Hereinafter, when referring to the individual magnetic layers 16a to 16h, 17a and 17b and the coil electrodes 18a to 18g, an alphabet is added after the reference symbol, and when these are collectively referred to, Omit the alphabet.

磁性体層16は、長方形状を有する層であり、焼成後の空隙率が0%以上0.5%以下である相対的に密に構成されたポーラス状となっていない層である。空隙率とは、ポア面積率で定義されている。ポア面積率とは、フェライトからなる積層体12の幅方向と厚み方向とで規定される断面を鏡面研磨し、収束イオンビーム加工(FIB加工)した面を走査顕微鏡(SEM)により観察し、焼結後のフェライト中のポア面積率を測定したものである。なお、磁性体層16の空隙率で最も好ましい値は、0%である。磁性体層16a〜16hは、図1(b)及び図2に示すように、この順に上から積層されている。   The magnetic layer 16 is a layer having a rectangular shape, and is a relatively densely structured layer that is not porous and has a porosity after firing of 0% to 0.5%. The porosity is defined by the pore area ratio. The pore area ratio means that the cross section defined by the width direction and the thickness direction of the laminated body 12 made of ferrite is mirror-polished, the surface subjected to focused ion beam processing (FIB processing) is observed with a scanning microscope (SEM), and sintered. The pore area ratio in the ferrite after sintering is measured. The most preferable value of the porosity of the magnetic layer 16 is 0%. As shown in FIGS. 1B and 2, the magnetic layers 16 a to 16 h are laminated from the top in this order.

磁性体層16b〜16gにはそれぞれ、図2に示すように、磁性体層16b〜16gをz軸方向に貫通するビアホール導体b1〜b6が形成されている。   As shown in FIG. 2, via hole conductors b1 to b6 that penetrate the magnetic layers 16b to 16g in the z-axis direction are formed in the magnetic layers 16b to 16g, respectively.

更に、磁性体層16b〜16hの主面上にはそれぞれ、図1(b)及び図2に示すように、コイルLを構成しているコイル電極18a〜18gが形成されている。各コイル電極18a〜18gは、Agからなる導電性材料からなり、「コ」字状を有している。すなわち、コイル電極18a〜18gは、3/4ターン分の長さを有している。また、積層方向において最も下側及び最も上側に形成されたコイル電極18a,18gはそれぞれ、外部電極14a,14bに接続されている。なお、コイル電極18a〜18gは、Pd,Au,Pt等を主成分とする貴金属やこれらの合金などの導電性材料により形成されていてもよい。また、コイル電極18a〜18gは、3/4ターンに限らない。   Furthermore, coil electrodes 18a to 18g constituting the coil L are formed on the main surfaces of the magnetic layers 16b to 16h, respectively, as shown in FIGS. Each coil electrode 18a-18g consists of an electroconductive material which consists of Ag, and has "U" shape. That is, the coil electrodes 18a to 18g have a length corresponding to 3/4 turns. The coil electrodes 18a and 18g formed on the lowermost side and the uppermost side in the stacking direction are connected to the external electrodes 14a and 14b, respectively. The coil electrodes 18a to 18g may be formed of a conductive material such as a noble metal mainly composed of Pd, Au, Pt or the like, or an alloy thereof. The coil electrodes 18a to 18g are not limited to 3/4 turns.

以上のように構成された磁性体層16a〜16hがこの順に積層方向の上側から積層されることにより、コイル電極18a〜18gは、ビアホール導体b1〜b6により互いに隣り合うもの同士で接続されて、コイルLを構成している。   When the magnetic layers 16a to 16h configured as described above are stacked in this order from the upper side in the stacking direction, the coil electrodes 18a to 18g are connected to each other by the via-hole conductors b1 to b6, A coil L is configured.

磁性体層17は、図1(a)に示すように、z軸方向に5μm以上の厚みD1,D2を有する長方形状を有する層である。更に、磁性体層17は、磁性体層16よりも高い空隙率を有する層であり、具体的には、焼成後の空隙率が3%以上35.0%以下である相対的に疎に構成されているポーラス状の層である。磁性体層17aは、図1(b)及び図2に示すように、z軸方向の最も上側に積層されている。また、磁性体層17bは、図1(b)及び図2に示すようにz軸方向の最も下側に積層されている。   As shown in FIG. 1A, the magnetic layer 17 is a layer having a rectangular shape with thicknesses D1 and D2 of 5 μm or more in the z-axis direction. Further, the magnetic layer 17 is a layer having a higher porosity than the magnetic layer 16, and specifically, a relatively sparse configuration in which the porosity after firing is 3% or more and 35.0% or less. It is a porous layer. As shown in FIGS. 1B and 2, the magnetic layer 17 a is laminated on the uppermost side in the z-axis direction. Further, the magnetic layer 17b is laminated on the lowermost side in the z-axis direction as shown in FIGS.

(効果)
以上のように構成された電子部品10によれば、以下に説明するように、露出不良の誤判定を抑制することができる。より詳細には、露出不良が発生している場合には、磁性体層17を突き破って、コイル電極18が外部に露出するようになる。この場合、コイル電極18は、磁性体層17に比べて強い光沢を有しているため、撮像素子によって得られた画像において、コイル電極18が露出した部分が、その他の部分に比べて明るくなる。そこで、露出不良の判定は、該画像において大きなコントラストが発生しているか否かを判定することによって行われる。
(effect)
According to the electronic component 10 configured as described above, it is possible to suppress misjudgment of exposure failure as described below. More specifically, when exposure failure occurs, the magnetic layer 17 is broken through and the coil electrode 18 is exposed to the outside. In this case, since the coil electrode 18 has a stronger gloss than the magnetic layer 17, a portion where the coil electrode 18 is exposed in the image obtained by the imaging element becomes brighter than the other portions. . Therefore, the determination of poor exposure is performed by determining whether a large contrast is generated in the image.

しかしながら、従来の電子部品(例えば、特許文献1に記載の積層インダクター)では、多数のコイル電極が積層方向に重なった場合には、電子部品の上面において、コイル電極の形状に沿って大きな凹凸が発生してしまう。その結果、撮像素子によって得られた画像において、突出している部分が明るくなり、その周囲が暗くなってしまう。その結果、外観選別において、露出不良が発生していないにもかかわらず、明るくなっている部分においてコイル電極が露出していると誤判定されるおそれがある。   However, in a conventional electronic component (for example, the multilayer inductor described in Patent Document 1), when a large number of coil electrodes overlap in the stacking direction, large irregularities are formed along the shape of the coil electrode on the upper surface of the electronic component. Will occur. As a result, in the image obtained by the image sensor, the protruding portion becomes bright and the surroundings become dark. As a result, in the appearance selection, there is a possibility that it may be erroneously determined that the coil electrode is exposed in a bright portion even though no exposure failure has occurred.

一方、本実施形態に係る電子部品10では、z軸方向の最も上側及びz軸方向の最も下側に配置された磁性体層17は、磁性体層16よりも高い空隙率を有している。故に、磁性体層16は、磁性体層17よりも光を反射しにくい。そのため、コイル電極18の積層数が増加して、積層体12の上面及び下面に大きな凹凸が発生したとしても、電子部品10において露出不良が発生していない場合には、撮像素子によって得られた画像において、突出している部分とその周囲との間におけるコントラストが小さく抑制される。その結果、外観選別において、露出不良が発生していないにもかかわらず、明るくなっている部分においてコイル電極18が露出していると誤判定されることが抑制される。   On the other hand, in the electronic component 10 according to the present embodiment, the magnetic layer 17 disposed on the uppermost side in the z-axis direction and the lowermost side in the z-axis direction has a higher porosity than the magnetic layer 16. . Therefore, the magnetic layer 16 is less likely to reflect light than the magnetic layer 17. Therefore, even when the number of coil electrodes 18 increased and large irregularities occurred on the upper surface and the lower surface of the multilayer body 12, when no exposure failure occurred in the electronic component 10, it was obtained by the imaging device. In the image, the contrast between the protruding portion and the periphery thereof is suppressed to be small. As a result, in the appearance selection, it is suppressed that the coil electrode 18 is erroneously determined to be exposed in a bright portion even though no exposure failure has occurred.

更に、電子部品10において露出不良が発生している場合には、相対的に光を反射しにくい磁性体層17から光沢を有するコイル電極18が露出する。故に、電子部品10では、従来の電子部品のように相対的に光を反射しやすい磁性体層からコイル電極が露出している場合に比べて、コイル電極18が露出している部分とそれ以外の部分との間でより大きなコントラストが発生する。その結果、電子部品10では、従来の電子部品に比べて、外観選別において、より精度良く露出不良を判定することが可能となる。   Further, when an exposure failure occurs in the electronic component 10, the glossy coil electrode 18 is exposed from the magnetic layer 17 that is relatively difficult to reflect light. Therefore, in the electronic component 10, compared with the case where the coil electrode is exposed from a magnetic layer that is relatively easy to reflect light as in the conventional electronic component, the portion where the coil electrode 18 is exposed and the rest A greater contrast is generated between these parts. As a result, in the electronic component 10, it is possible to determine the exposure failure with higher accuracy in the appearance selection as compared with the conventional electronic component.

また、外部電極14a,14bは、ポーラス状の磁性体層17に接触するように形成されている。そのため、外部電極14a,14bの一部が、磁性体層17が有する微細な孔に入り込むようになる。すなわち、外部電極14a,14bと磁性体層17との間において、アンカー効果が発生する。一方、従来の電子部品では、外部電極が接触している磁性体層は、ポーラス状となっていないため、前記のようなアンカー効果は発生しない。故に、電子部品10では、従来の電子部品に比べて外部電極14a,14bがより強固に積層体12に固着するようになる。   The external electrodes 14 a and 14 b are formed so as to contact the porous magnetic layer 17. Therefore, a part of the external electrodes 14a and 14b enters into the fine holes of the magnetic layer 17. That is, an anchor effect is generated between the external electrodes 14 a and 14 b and the magnetic layer 17. On the other hand, in the conventional electronic component, since the magnetic layer in contact with the external electrode is not porous, the anchor effect as described above does not occur. Therefore, in the electronic component 10, the external electrodes 14 a and 14 b are more firmly fixed to the multilayer body 12 than the conventional electronic component.

また、以下に説明するように、電子部品10では、従来の電子部品に比べて、積層体12の面取りのためのバレル加工を短時間で行うことが可能となる。より詳細には、z軸方向の最も上側の層及びz軸方向の最も下側の層にポーラス状の磁性体層17が用いられている。故に、積層体12のz軸方向の上面及び下面における稜線は、ポーラス状の磁性体層17により形成されている。ポーラス状の磁性体層17は、ポーラス状ではない磁性体層に比べて削り易い。故に、電子部品10は、従来の電子部品に比べて短時間でバレル加工を行うことが可能となる。   Further, as will be described below, in the electronic component 10, it is possible to perform barrel processing for chamfering the laminated body 12 in a shorter time than in the conventional electronic component. More specifically, the porous magnetic layer 17 is used for the uppermost layer in the z-axis direction and the lowermost layer in the z-axis direction. Therefore, the ridge lines on the upper surface and the lower surface in the z-axis direction of the multilayer body 12 are formed by the porous magnetic layer 17. The porous magnetic layer 17 is easier to cut than a non-porous magnetic layer. Therefore, the electronic component 10 can be barreled in a shorter time than a conventional electronic component.

(第1の製造方法)
以下に、前記電子部品10の第1の製造方法について図1及び図2を参照しながら説明する。
(First manufacturing method)
Below, the 1st manufacturing method of the said electronic component 10 is demonstrated, referring FIG.1 and FIG.2.

まず、磁性体層16となるべきセラミックグリーンシートは、以下のようにして作製される。酸化第二鉄(Fe23)を45mol%、酸化亜鉛(ZnO)を5mol%、酸化ニッケル(NiO)を40mol%、及び、酸化銅(CuO)を10mol%の比率で秤量したそれぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を800℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、0.5μmの粒径のフェライトセラミック粉末を得る。 First, a ceramic green sheet to be the magnetic layer 16 is produced as follows. Each material weighed 45 mol% ferric oxide (Fe 2 O 3 ), 5 mol% zinc oxide (ZnO), 40 mol% nickel oxide (NiO), and 10 mol% copper oxide (CuO). Is put into a ball mill as a raw material and wet blended. The obtained mixture is dried and pulverized, and the obtained powder is calcined at 800 ° C. for 1 hour. The obtained calcined powder is wet pulverized by a ball mill, dried and crushed to obtain a ferrite ceramic powder having a particle diameter of 0.5 μm.

このフェライトセラミック粉末に対して結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材、分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、シート状に形成して乾燥させ、磁性体層16となるべきセラミックグリーンシートを作製する。   A binder (vinyl acetate, water-soluble acrylic, etc.), a plasticizer, a wetting material, and a dispersing agent are added to the ferrite ceramic powder, followed by mixing with a ball mill, and then defoaming is performed under reduced pressure. The obtained ceramic slurry is formed into a sheet shape by the doctor blade method and dried to produce a ceramic green sheet to be the magnetic layer 16.

一方、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートの作製では、前記フェライトセラミック粉末に対して、結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材、分散剤及び樹脂ビーズを加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、5μm以上の厚みのシート状に形成して乾燥させ、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートを作製する。   On the other hand, in the production of the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17, a binder (vinyl acetate, water-soluble acrylic, etc.), a plasticizer, a wetting material, a dispersing agent and resin beads are added to the ferrite ceramic powder. Mixing is performed with a ball mill, and then defoaming is performed under reduced pressure. The obtained ceramic slurry is formed into a sheet having a thickness of 5 μm or more by a doctor blade method and dried to produce a ceramic green sheet to be the magnetic layer 17.

次に、磁性体層16b〜16gとなるべきセラミックグリーンシートのそれぞれに、ビアホール導体b1〜b6を形成する。具体的には、磁性体層16b〜16gとなるべきセラミックグリーンシートにレーザビームを照射してビアホールを形成する。次に、このビアホールに対して、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などの導電性ペーストを印刷塗布などの方法により充填する。   Next, via-hole conductors b1 to b6 are formed in the ceramic green sheets to be the magnetic layers 16b to 16g, respectively. Specifically, a via hole is formed by irradiating a ceramic green sheet to be the magnetic layers 16b to 16g with a laser beam. Next, the via hole is filled with a conductive paste such as Ag, Pd, Cu, Au or an alloy thereof by a method such as printing.

次に、磁性体層16b〜16hとなるべきセラミックグリーンシート上に、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などを主成分とする導電性ペーストをスクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法などの方法で塗布することにより、コイル電極18a〜18gを形成する。なお、コイル電極18a〜18gを形成する工程とビアホールに対して導電性ペーストを充填する工程とは、同じ工程において行われてもよい。   Next, a conductive paste mainly composed of Ag, Pd, Cu, Au, or an alloy thereof is applied to the ceramic green sheets to be the magnetic layers 16b to 16h by a method such as a screen printing method or a photolithography method. By applying, the coil electrodes 18a to 18g are formed. The step of forming the coil electrodes 18a to 18g and the step of filling the via hole with the conductive paste may be performed in the same step.

次に、各セラミックグリーンシートを積層する。具体的には、磁性体層17bとなるべきセラミックグリーンシートを配置する。次に、磁性体層17bとなるべきセラミックグリーンシート上に、磁性体層16hとなるべきセラミックグリーンシートの配置及び仮圧着を行う。この後、磁性体層16g、16f,16e、16d,16c,16b,16a,17aとなるべきセラミックグリーンシートについても同様にこの順番に積層及び仮圧着する。これにより、磁性体層16,17及びコイル電極18が積層されて、マザー積層体が形成される。このマザー積層体には、静水圧プレスなどにより本圧着が施される。   Next, each ceramic green sheet is laminated. Specifically, a ceramic green sheet to be the magnetic layer 17b is disposed. Next, the ceramic green sheet to be the magnetic layer 16h is disposed and temporarily pressed onto the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17b. Thereafter, the ceramic green sheets to be the magnetic layers 16g, 16f, 16e, 16d, 16c, 16b, 16a, and 17a are similarly laminated and temporarily pressed in this order. Thereby, the magnetic layers 16 and 17 and the coil electrode 18 are laminated to form a mother laminated body. The mother laminate is subjected to main pressure bonding by a hydrostatic pressure press or the like.

次に、マザー積層体をギロチンカットにより0.6mm×0.3mm×0.3mmの寸法の積層体12にカットする。これにより未焼成の積層体12が得られる。この未焼成の積層体12には、脱バインダー処理及び焼成がなされる。脱バインダー処理は、例えば、低酸素雰囲気中において500℃で2時間の条件で行う。焼成は、例えば、890℃で2.5時間の条件で行う。焼成の際に、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートに含まれている樹脂ビーズが焼失する。その結果、磁性体層17は、z軸方向の厚みが5μm以上であって、かつ、焼成後の空隙率が3.0%以上35.0%以下であるポーラス状の層となる。   Next, the mother laminate is cut into a laminate 12 having dimensions of 0.6 mm × 0.3 mm × 0.3 mm by guillotine cutting. Thereby, the unfired laminated body 12 is obtained. The unfired laminate 12 is subjected to binder removal processing and firing. The binder removal treatment is performed, for example, in a low oxygen atmosphere at 500 ° C. for 2 hours. Firing is performed, for example, at 890 ° C. for 2.5 hours. At the time of firing, the resin beads contained in the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17 are burned out. As a result, the magnetic layer 17 is a porous layer having a thickness in the z-axis direction of 5 μm or more and a porosity after firing of 3.0% or more and 35.0% or less.

以上の工程により、焼成された積層体12が得られる。積層体12には、バレル加工が施されて、面取りが行われる。その後、積層体12の表面には、例えば、浸漬法等の方法により主成分が銀である電極ペーストが塗布及び焼き付けされることにより、外部電極14a,14bとなるべき銀電極が形成される。銀電極の乾燥は、120℃で10分間行われ、銀電極の焼き付けは、800℃で60分間行われる。   The fired laminated body 12 is obtained through the above steps. The laminated body 12 is subjected to barrel processing to be chamfered. Thereafter, an electrode paste whose main component is silver is applied and baked on the surface of the laminate 12 by, for example, a dipping method or the like, thereby forming silver electrodes to be the external electrodes 14a and 14b. The silver electrode is dried at 120 ° C. for 10 minutes, and the silver electrode is baked at 800 ° C. for 60 minutes.

最後に、銀電極の表面に、Niめっき/Snめっきを施すことにより、外部電極14a,14bを形成する。以上の工程を経て、図1に示すような電子部品10が完成する。   Finally, the external electrodes 14a and 14b are formed by performing Ni plating / Sn plating on the surface of the silver electrode. Through the above steps, the electronic component 10 as shown in FIG. 1 is completed.

(第2の製造方法)
次に、前記電子部品10の第2の製造方法について説明する。なお、第1の製造方法と第2の製造方法とは、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートの作製工程においてのみ相違点が存在する。より具体的には、第2の製造方法において、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートは、磁性体層16となるべきセラミックグリーンシートよりも粗い粒径のフェライトセラミック粉末により作製される。以下に、詳しく説明する。
(Second manufacturing method)
Next, a second manufacturing method of the electronic component 10 will be described. The first manufacturing method and the second manufacturing method are different only in the process of manufacturing the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17. More specifically, in the second manufacturing method, the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17 is made of a ferrite ceramic powder having a coarser particle diameter than the ceramic green sheet to be the magnetic layer 16. This will be described in detail below.

まず、酸化第二鉄(Fe23)を45mol%、酸化亜鉛(ZnO)を5mol%、酸化ニッケル(NiO)を40mol%、及び、酸化銅(CuO)を10mol%の比率で秤量したそれぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を800℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、0.5μmより大きな粒径のフェライトセラミック粉末を得る。 First, 45 mol% of ferric oxide (Fe 2 O 3 ), 5 mol% of zinc oxide (ZnO), 40 mol% of nickel oxide (NiO), and 10 mol% of copper oxide (CuO) were respectively weighed. This material is used as a raw material in a ball mill and wet blended. The obtained mixture is dried and pulverized, and the obtained powder is calcined at 800 ° C. for 1 hour. The obtained calcined powder is wet pulverized by a ball mill, dried and then pulverized to obtain a ferrite ceramic powder having a particle size larger than 0.5 μm.

このフェライトセラミック粉末に対して結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材、分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、シート状に形成して乾燥させ、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートを作製する。   A binder (vinyl acetate, water-soluble acrylic, etc.), a plasticizer, a wetting material, and a dispersing agent are added to the ferrite ceramic powder, followed by mixing with a ball mill, and then defoaming is performed under reduced pressure. The obtained ceramic slurry is formed into a sheet shape by the doctor blade method and dried to produce a ceramic green sheet to be the magnetic layer 17.

以上のように、第2の製造方法にて作製される磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートに用いられるフェライト粉末の粒径は、磁性体層16となるべきセラミックグリーンシートに用いられるフェライト粉末の粒径(0.5μm)よりも大きい。故に、磁性体層17のセラミックは、磁性体層16のセラミックに比べて焼結が甘くなり焼結密度が低くなる。そのため、焼成後において、磁性体層17は、磁性体層16よりも大きな空隙率を有するようになる。   As described above, the particle size of the ferrite powder used for the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17 produced by the second manufacturing method is the same as that for the ceramic green sheet to be the magnetic layer 16. Larger than the particle size (0.5 μm). Therefore, the ceramic of the magnetic layer 17 is sweeter than the ceramic of the magnetic layer 16 and the sintered density is lowered. Therefore, after firing, the magnetic layer 17 has a larger porosity than the magnetic layer 16.

(実施例及び実験)
以下に、前記電子部品10の第1の実施例ないし第4の実施例及び第1の実施例ないし第4の実施例を用いて行った実験について説明する。
(Examples and experiments)
In the following, experiments conducted using the first to fourth embodiments and the first to fourth embodiments of the electronic component 10 will be described.

第1の実施例に係る電子部品10は、第2の製造方法によって作製を行った。具体的には、チップサイズを0.6mm×0.3mm×0.3mmとし、ターン数を19.5ターンとし、磁性体層17a,17bの焼成後の厚みを5μmとした。また、磁性体層16となるべきセラミックグリーンシートのフェライト粉末の粒径を0.5μmとし、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートのフェライト粉末の粒径を1.4μmとした。以上の条件により得られた第1の実施例に係る電子部品10の磁性体層17は、3.0%の空隙率を有していた。また、磁性体層16は、0.1%の空隙率を有していた。   The electronic component 10 according to the first example was manufactured by the second manufacturing method. Specifically, the chip size was 0.6 mm × 0.3 mm × 0.3 mm, the number of turns was 19.5 turns, and the thickness of the magnetic layers 17a and 17b after firing was 5 μm. Further, the particle size of the ferrite powder of the ceramic green sheet to be the magnetic layer 16 was 0.5 μm, and the particle size of the ferrite powder of the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17 was 1.4 μm. The magnetic layer 17 of the electronic component 10 according to the first example obtained under the above conditions had a porosity of 3.0%. The magnetic layer 16 had a porosity of 0.1%.

第2の実施例に係る電子部品10は、第1の製造方法によって作製を行った。具体的には、チップサイズを0.6mm×0.3mm×0.3mmとし、ターン数を19.5ターンとし、磁性体層17a,17bの焼成後の厚みを5μmとした。また、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートの作製において、フェライト粉末と樹脂ビーズとを8:2の割合で混合した。以上の条件により得られた第2の実施例に係る電子部品10の磁性体層17は、15.0%の空隙率を有していた。また、磁性体層16は、0.1%の空隙率を有していた。   The electronic component 10 according to the second example was manufactured by the first manufacturing method. Specifically, the chip size was 0.6 mm × 0.3 mm × 0.3 mm, the number of turns was 19.5 turns, and the thickness of the magnetic layers 17a and 17b after firing was 5 μm. Further, in the production of the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17, the ferrite powder and the resin beads were mixed at a ratio of 8: 2. The magnetic layer 17 of the electronic component 10 according to the second example obtained under the above conditions had a porosity of 15.0%. The magnetic layer 16 had a porosity of 0.1%.

第3の実施例に係る電子部品10は、第2の製造方法によって作製を行った。具体的には、チップサイズを0.6mm×0.3mm×0.3mmとし、ターン数を19.5ターンとし、磁性体層17a,17bの焼成後の厚みを5μmとした。また、磁性体層16となるべきセラミックグリーンシートのフェライト粉末の粒径を0.5μmとし、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートのフェライト粉末の粒径を2.2μmとした。以上の条件により得られた第3の実施例に係る電子部品10の磁性体層17は、25.0%の空隙率を有していた。また、磁性体層16は、0.1%の空隙率を有していた。   The electronic component 10 according to the third example was manufactured by the second manufacturing method. Specifically, the chip size was 0.6 mm × 0.3 mm × 0.3 mm, the number of turns was 19.5 turns, and the thickness of the magnetic layers 17a and 17b after firing was 5 μm. Further, the particle size of the ferrite powder of the ceramic green sheet to be the magnetic layer 16 was 0.5 μm, and the particle size of the ferrite powder of the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17 was 2.2 μm. The magnetic layer 17 of the electronic component 10 according to the third example obtained under the above conditions had a porosity of 25.0%. The magnetic layer 16 had a porosity of 0.1%.

第4の実施例に係る電子部品10は、第1の製造方法によって作製を行った。具体的には、チップサイズを0.6mm×0.3mm×0.3mmとし、ターン数を19.5ターンとし、磁性体層17a,17bの焼成後の厚みを5μmとした。また、磁性体層17となるべきセラミックグリーンシートの作製において、フェライト粉末と樹脂ビーズとを6:4の割合で混合した。以上の条件により得られた第4の実施例に係る電子部品10の磁性体層17は、35.0%の空隙率を有していた。また、磁性体層16は、0.1%の空隙率を有していた。   The electronic component 10 according to the fourth example was manufactured by the first manufacturing method. Specifically, the chip size was 0.6 mm × 0.3 mm × 0.3 mm, the number of turns was 19.5 turns, and the thickness of the magnetic layers 17a and 17b after firing was 5 μm. Further, in the production of the ceramic green sheet to be the magnetic layer 17, the ferrite powder and the resin beads were mixed at a ratio of 6: 4. The magnetic layer 17 of the electronic component 10 according to the fourth example obtained under the above conditions had a porosity of 35.0%. The magnetic layer 16 had a porosity of 0.1%.

次に、電子部品10が奏する効果をより明確にするために、以下に示す実験を行った。より詳細には、第1の実施例ないし第4の実施例に係る電子部品10をそれぞれ、100000個ずつ作製した。また、比較例に係る電子部品として、第1の実施例ないし第4の実施例に係る電子部品10の磁性体層17が磁性体層16に置換された電子部品を作製した。より詳細には、チップサイズが0.6mm×0.3mm×0.3mmであり、ターン数が19.5ターンであり、全ての層が磁性体層16からなる電子部品を100000個作製した。そして、第1の実施例ないし第4の実施例に係る電子部品10及び比較例に係る電子部品に対して露出不良の判定を行って、露出不良率を計測した。また、これらの電子部品の外部電極と積層体との固着力を測定した。更に、バレル加工において、積層体の角が所定の曲率を有するのに必要な時間を計測した。以下に示す表1は、実験結果を示した表である。   Next, in order to clarify the effect of the electronic component 10, the following experiment was performed. More specifically, 100,000 electronic parts 10 according to the first to fourth examples were produced. In addition, as an electronic component according to the comparative example, an electronic component in which the magnetic layer 17 of the electronic component 10 according to the first to fourth examples was replaced with the magnetic layer 16 was manufactured. More specifically, 100000 electronic parts having a chip size of 0.6 mm × 0.3 mm × 0.3 mm, a turn number of 19.5 turns, and all layers made of the magnetic layer 16 were produced. Then, the exposure failure rate was determined for the electronic component 10 according to the first to fourth examples and the electronic component according to the comparative example, and the exposure failure rate was measured. Further, the adhesion force between the external electrode and the laminate of these electronic components was measured. Furthermore, in barrel processing, the time required for the corners of the laminate to have a predetermined curvature was measured. Table 1 shown below is a table showing experimental results.

Figure 2009283824
Figure 2009283824

表1に示す実験結果より、磁性体層17の空隙率を3.0%以上35.0%以下とすることにより、比較例に係る電子部品に比べて、第1の実施例ないし第4の実施例に係る電子部品10の方が、露出不良率が低下していることが理解できる。これは、以下に説明するように、第1の実施例ないし第4の実施例に係る電子部品10では、比較例に係る電子部品に比べて、外観選別の判定精度が向上したことを意味している。より詳細には、比較例に係る電子部品では、露出不良と判定された電子部品の中には、露出不良が発生していないにもかかわらず誤判定により露出不良と判定されていた電子部品も含まれていたと考えられる。これに対して、第1の実施例ないし第4の実施例に係る電子部品10では、露出不良率が低下している。これは、電子部品10の露出不良の判定では、従来、露出不良と誤判定されていた電子部品が、露出不良ではないと正確に判定されるようになったことを意味している。   From the experimental results shown in Table 1, by setting the porosity of the magnetic layer 17 to 3.0% or more and 35.0% or less, the first to fourth examples are compared with the electronic component according to the comparative example. It can be understood that the electronic component 10 according to the example has a lower exposure defect rate. As described below, this means that in the electronic component 10 according to the first to fourth examples, the accuracy of appearance selection is improved as compared with the electronic component according to the comparative example. ing. More specifically, in the electronic component according to the comparative example, among the electronic components determined to be poorly exposed, there are electronic components that were determined to be poorly exposed by misjudgment even though no poor exposure occurred. It is thought that it was included. On the other hand, in the electronic component 10 according to the first to fourth embodiments, the exposure failure rate is reduced. This means that, in the determination of the poor exposure of the electronic component 10, an electronic component that has been erroneously determined as an exposure failure in the past is now accurately determined as not being an exposure failure.

また、表1に示す実験結果よれば、第1の実施例ないし第4の実施例に係る電子部品10では、比較例に係る電子部品に比べて、外部電極の固着力が向上していることが理解できる。同様に、表1に示す実験結果によれば、第1の実施例ないし第4の実施例に係る電子部品10では、比較例に係る電子部品に比べて、バレル加工に必要な時間も短縮化されていることが理解できる。   In addition, according to the experimental results shown in Table 1, the electronic component 10 according to the first to fourth examples has improved adhesion of the external electrode compared to the electronic component according to the comparative example. Can understand. Similarly, according to the experimental results shown in Table 1, in the electronic component 10 according to the first to fourth embodiments, the time required for barrel processing is shortened as compared with the electronic component according to the comparative example. I can understand that.

(その他の実施形態)
なお、電子部品10では、磁性体層17a,17bの厚みは、5μmであるとしたが、該磁性体層17a,17bの厚みはこれに限らない。磁性体層17a,17bの厚みは、少なくとも5μm以上であればよい。
(Other embodiments)
In the electronic component 10, the thickness of the magnetic layers 17 a and 17 b is 5 μm, but the thickness of the magnetic layers 17 a and 17 b is not limited to this. The thickness of the magnetic layers 17a and 17b may be at least 5 μm or more.

また、磁性体層17は、積層体12のz軸方向の両端において1枚ずつ積層されているが、磁性体層17は、積層体12のz軸方向の両端において複数枚積層されていてもよい。すなわち、電子部品10では、積層体12においてz軸方向の両端に位置する面から少なくとも5μmまでの範囲内が、空隙率が3.0%以上35.0%以下の磁性体層17により構成されていれば、磁性体層17の枚数は何枚であってもよい。   Further, the magnetic layer 17 is laminated one by one at both ends in the z-axis direction of the laminate 12, but a plurality of the magnetic layers 17 may be laminated at both ends in the z-axis direction of the laminate 12. Good. In other words, in the electronic component 10, the magnetic layer 17 having a porosity of 3.0% or more and 35.0% or less is formed in the range from the surface located at both ends in the z-axis direction to at least 5 μm in the laminate 12. If so, the number of magnetic layers 17 may be any number.

また、磁性体層17は、積層体12のz軸方向の両端において複数層積層される場合であっても、磁性体層17が積層されている領域内には、コイル電極18が設けられていないことが好ましい。磁性体層17は、ポーラス状であるので、磁性体層16に比べて、低い透磁率を有している。故に、磁性体層17が積層されている領域内にコイル電極18が設けられると、コイルLのインダクタンスが低下してしまうからである。   In addition, even when a plurality of magnetic layers 17 are stacked at both ends of the stacked body 12 in the z-axis direction, the coil electrode 18 is provided in the region where the magnetic layers 17 are stacked. Preferably not. Since the magnetic layer 17 is porous, it has a lower magnetic permeability than the magnetic layer 16. Therefore, if the coil electrode 18 is provided in the region where the magnetic layer 17 is laminated, the inductance of the coil L is reduced.

また、電子部品10は、シート積層法により作製されているが、該電子部品10の製造方法はこれに限らない。電子部品10は、例えば、転写法や印刷法によって作製されてもよい。   Moreover, although the electronic component 10 is produced by the sheet | seat lamination method, the manufacturing method of this electronic component 10 is not restricted to this. The electronic component 10 may be produced by, for example, a transfer method or a printing method.

図1(a)は、一実施形態に係る電子部品の外観斜視図である。図1(b)は、一実施形態に係る電子部品のA−Aにおける断面構造図である。FIG. 1A is an external perspective view of an electronic component according to an embodiment. FIG. 1B is a cross-sectional structural view taken along line AA of the electronic component according to the embodiment. 図1に示す電子部品の積層体の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the laminated body of the electronic component shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

L コイル
10 電子部品
12 積層体
14a,14b 外部電極
16a〜16h,17a,17b 磁性体層
18a〜18g コイル電極
L coil 10 Electronic component 12 Laminated body 14a, 14b External electrode 16a-16h, 17a, 17b Magnetic body layer 18a-18g Coil electrode

Claims (5)

複数の絶縁層が積層されてなる積層体と、
前記絶縁層と共に積層されコイルを構成している複数の内部電極と、
を備え、
前記積層体の積層方向において、両端に位置する面から少なくとも5μmまでの範囲内は、空隙率が3.0%以上35.0%以下であるポーラス状の前記絶縁層により構成されていること、
を特徴とする電子部品。
A laminate formed by laminating a plurality of insulating layers;
A plurality of internal electrodes laminated with the insulating layer to form a coil;
With
In the stacking direction of the stacked body, the range from the surface located at both ends to at least 5 μm is constituted by the porous insulating layer having a porosity of 3.0% or more and 35.0% or less,
Electronic parts characterized by
前記積層体を構成する前記絶縁層の内、ポーラス状となっていない前記絶縁層は、0%以上0.5%以下の空隙率を有していること、
を特徴とする請求項1に記載の電子部品。
Among the insulating layers constituting the laminate, the insulating layer that is not porous has a porosity of 0% or more and 0.5% or less,
The electronic component according to claim 1.
ポーラス状の前記絶縁層が積層されている領域内には、前記内部電極は設けられていないこと、
を特徴とする請求項1又は請求項2のいずれかに記載の電子部品。
The internal electrode is not provided in the region where the porous insulating layer is laminated,
The electronic component according to claim 1, wherein:
第1の絶縁層を作製する工程と、
焼成後の空隙率が3.0%以上35.0%以下であるポーラス状の層となるように、前記第1の絶縁層よりも荒い粒径を有する原料からなる第2の絶縁層を作製する工程と、
前記第1の絶縁層とコイルを構成する内部電極とを積層する工程と、
前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側及び下側に、焼成後の積層方向の厚みが5μm以上となるように前記第2の絶縁層を積層する工程と、
前記第1の絶縁層、前記第2の絶縁層及び前記内部電極からなる積層体を焼成する工程と、
を備えること、
を特徴とする電子部品の製造方法。
Producing a first insulating layer;
A second insulating layer made of a raw material having a grain size coarser than that of the first insulating layer is prepared so that a porous layer having a porosity of 3.0% or more and 35.0% or less after firing is formed. And the process of
Laminating the first insulating layer and the internal electrode constituting the coil;
Laminating the second insulating layer on the upper side and the lower side in the laminating direction from the first insulating layer so that the thickness in the laminating direction after firing is 5 μm or more;
Firing a laminate comprising the first insulating layer, the second insulating layer, and the internal electrode;
Providing
A method of manufacturing an electronic component characterized by the above.
第1の絶縁層を作製する工程と、
焼成後の空隙率が3.0%以上35.0%以下であるポーラス状の層となるように、樹脂ビーズが混合された原料からなる第2の絶縁層を作製する工程と、
複数の第1の絶縁層とコイルを構成する内部電極とを積層する工程と、
前記第1の絶縁層よりも積層方向の上側及び下側に、焼成後の積層方向の厚みが5μm以上となるように、前記第2の絶縁層を積層する工程と、
前記第1の絶縁層、前記第2の絶縁層及び前記内部電極からなる積層体を焼成する工程と、
を備えること、
を特徴とする電子部品の製造方法。
Producing a first insulating layer;
Producing a second insulating layer made of a raw material mixed with resin beads so that a porous layer having a porosity after firing of 3.0% or more and 35.0% or less;
Laminating a plurality of first insulating layers and internal electrodes constituting a coil;
Laminating the second insulating layer on the upper side and the lower side of the laminating direction from the first insulating layer so that the thickness in the laminating direction after firing is 5 μm or more;
Firing a laminate comprising the first insulating layer, the second insulating layer, and the internal electrode;
Providing
A method of manufacturing an electronic component characterized by the above.
JP2008136551A 2008-05-26 2008-05-26 Electronic component and manufacturing method thereof Active JP4692574B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008136551A JP4692574B2 (en) 2008-05-26 2008-05-26 Electronic component and manufacturing method thereof
CN200910141888XA CN101615499B (en) 2008-05-26 2009-05-21 Electronic component and manufacture method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008136551A JP4692574B2 (en) 2008-05-26 2008-05-26 Electronic component and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009283824A true JP2009283824A (en) 2009-12-03
JP4692574B2 JP4692574B2 (en) 2011-06-01

Family

ID=41453942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008136551A Active JP4692574B2 (en) 2008-05-26 2008-05-26 Electronic component and manufacturing method thereof

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4692574B2 (en)
CN (1) CN101615499B (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011091378A (en) * 2009-09-24 2011-05-06 Ngk Insulators Ltd Coil-buried inductor and method of manufacturing the same
JP2013055333A (en) * 2011-08-31 2013-03-21 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Magnetic substrate and method for manufacturing the same
US9099234B2 (en) 2011-12-22 2015-08-04 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Filter for removing noise and method of manufacturing the same
JP2017208525A (en) * 2016-05-16 2017-11-24 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Common mode filter
JP2018083079A (en) * 2016-11-22 2018-05-31 佛山市▲順▼▲徳▼区美的▲電▼▲熱▼▲電▼器制造有限公司Foshan Shunde Midea Electrical Heating Appliances Manufacturing Co.,Limited Compact-structure magnetically conductive coating layer, method of manufacturing compact-structure magnetically conductive coating layer, pot body, and cooking appliance
CN112309672A (en) * 2019-07-31 2021-02-02 株式会社村田制作所 Coil component
US11482364B2 (en) * 2017-11-29 2022-10-25 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayer coil component

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2722857B1 (en) 2011-06-15 2017-09-27 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayer coil part
KR20130123252A (en) * 2012-05-02 2013-11-12 삼성전기주식회사 Layered inductor and manufacturing method fo the same
JP6284797B2 (en) * 2014-03-20 2018-02-28 新光電気工業株式会社 Inductor, coil substrate, and method of manufacturing coil substrate
US10777342B2 (en) * 2016-06-15 2020-09-15 Taiyo Yuden Co., Ltd. Coil component and method for manufacturing the same

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0670927B2 (en) * 1988-09-01 1994-09-07 松下電器産業株式会社 Transformer
JPH07201570A (en) * 1993-12-28 1995-08-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Thick film multilayer inductor
JP2002217038A (en) * 2001-01-23 2002-08-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ceramic electronic component
JP2005038904A (en) * 2003-07-15 2005-02-10 Murata Mfg Co Ltd Laminated ceramic electronic component and its manufacturing method
JP2005051195A (en) * 2003-07-16 2005-02-24 Murata Mfg Co Ltd Method of manufacturing laminated ceramic electronic component
JP2007109935A (en) * 2005-10-14 2007-04-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic component and manufacturing method thereof
JP2007194387A (en) * 2006-01-19 2007-08-02 Murata Mfg Co Ltd Electronic component and method of manufacturing the same
WO2007148556A1 (en) * 2006-06-23 2007-12-27 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayered ceramic electronic part

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0670927B2 (en) * 1988-09-01 1994-09-07 松下電器産業株式会社 Transformer
JPH07201570A (en) * 1993-12-28 1995-08-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Thick film multilayer inductor
JP2002217038A (en) * 2001-01-23 2002-08-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd Ceramic electronic component
JP2005038904A (en) * 2003-07-15 2005-02-10 Murata Mfg Co Ltd Laminated ceramic electronic component and its manufacturing method
JP2005051195A (en) * 2003-07-16 2005-02-24 Murata Mfg Co Ltd Method of manufacturing laminated ceramic electronic component
JP2007109935A (en) * 2005-10-14 2007-04-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electronic component and manufacturing method thereof
JP2007194387A (en) * 2006-01-19 2007-08-02 Murata Mfg Co Ltd Electronic component and method of manufacturing the same
WO2007148556A1 (en) * 2006-06-23 2007-12-27 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayered ceramic electronic part

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011091378A (en) * 2009-09-24 2011-05-06 Ngk Insulators Ltd Coil-buried inductor and method of manufacturing the same
JP2013055333A (en) * 2011-08-31 2013-03-21 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd Magnetic substrate and method for manufacturing the same
KR101506760B1 (en) * 2011-08-31 2015-03-30 삼성전기주식회사 Magnetic substrate and method for manufacturing magnetic substrate
US9099234B2 (en) 2011-12-22 2015-08-04 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Filter for removing noise and method of manufacturing the same
JP2017208525A (en) * 2016-05-16 2017-11-24 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Common mode filter
JP2018083079A (en) * 2016-11-22 2018-05-31 佛山市▲順▼▲徳▼区美的▲電▼▲熱▼▲電▼器制造有限公司Foshan Shunde Midea Electrical Heating Appliances Manufacturing Co.,Limited Compact-structure magnetically conductive coating layer, method of manufacturing compact-structure magnetically conductive coating layer, pot body, and cooking appliance
JP6990565B2 (en) 2016-11-22 2022-01-12 佛山市▲順▼▲徳▼区美的▲電▼▲熱▼▲電▼器制造有限公司 Densely structured conductive coating layer, method of manufacturing densely structured magnetically conductive coating layer, pot body, and cooking utensils
US11482364B2 (en) * 2017-11-29 2022-10-25 Murata Manufacturing Co., Ltd. Multilayer coil component
CN112309672A (en) * 2019-07-31 2021-02-02 株式会社村田制作所 Coil component

Also Published As

Publication number Publication date
CN101615499B (en) 2011-09-28
CN101615499A (en) 2009-12-30
JP4692574B2 (en) 2011-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4692574B2 (en) Electronic component and manufacturing method thereof
JP4201043B2 (en) Laminated coil
JP4100459B2 (en) Multilayer coil component and manufacturing method thereof
JP5626834B2 (en) Manufacturing method of open magnetic circuit type multilayer coil parts
US8237528B2 (en) Electronic component
KR101319059B1 (en) Electronic component and method for producing the same
US8395471B2 (en) Electronic component
KR101449132B1 (en) Electronic component and method for manufacturing the same
US20140253276A1 (en) Laminated inductor
JP4596008B2 (en) Laminated coil
KR20120123594A (en) Electronic component and method for manufacturing same
US8143988B2 (en) Multilayer inductor
JP6065439B2 (en) Multilayer coil component and manufacturing method thereof
US8143989B2 (en) Multilayer inductor
JP2018056513A (en) Electronic component
WO2009130935A1 (en) Electronic part
JP7468613B2 (en) Coil parts
JP5327231B2 (en) Electronic components
WO2010010799A1 (en) Electronic component and method for manufacturing same
JP2009176829A (en) Electronic component
JP6318537B2 (en) Inductor manufacturing method and inductor
JP5402077B2 (en) Electronic components
JP2009290121A (en) Method of manufacturing electronic component
JP5316356B2 (en) Manufacturing method of electronic parts
JP5293471B2 (en) Manufacturing method of electronic parts

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100309

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100507

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110125

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110207

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4692574

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150