JP2009267109A - Flexible wiring board, flexible semiconductor device and liquid crystal display apparatus - Google Patents

Flexible wiring board, flexible semiconductor device and liquid crystal display apparatus Download PDF

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龍男 片岡
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexible wiring board which can be easily manufactured without requiring complicated manufacturing processes, and which can efficiently discharge heat generated from the electronic component when an electronic component is mounted. <P>SOLUTION: The flexible wiring board includes a flexible insulating substrate where an outer lead forming area and an electronic component mounting area are adjacently formed through a first bending portion formed between both the areas, and a wiring pattern is formed on one surface of the flexible insulating substrate. One end portion of the wiring pattern formed on the flexible wiring board forms an outer lead, the other end forms an inner lead, and the flexible wiring board is formed so as to be bent to a predetermined shape. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品を実装して通電した際に電子部品から発生する熱を効率的に放出することができるフレキシブル配線基板、このフレキシブル配線基板に半導体が実装されたフレキシブル半導体装置およびこのフレキシブル半導体装置を有する液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a flexible wiring board capable of efficiently releasing heat generated from an electronic component when the electronic component is mounted and energized, a flexible semiconductor device having a semiconductor mounted on the flexible wiring board, and the flexible semiconductor The present invention relates to a liquid crystal display device having the device.

周知のように、フレキシブル配線基板は、駆動用ドライバーIC等の電子部品が実装されて、液晶テレビ、プラズマディスプレイおよび有機ELテレビなどの表示装置に使用されている。   As is well known, the flexible wiring board is mounted on a display device such as a liquid crystal television, a plasma display, and an organic EL television, on which electronic components such as a driver IC for driving are mounted.

このようなフレキシブル配線基板には、TAB(Tape Automated Bonding)テープ、TCP(Tape Carrier Package)およびCOF(Chip On Film)等があり、その特性を有効に利用できるように使用されている。   Such flexible wiring boards include TAB (Tape Automated Bonding) tape, TCP (Tape Carrier Package), COF (Chip On Film), and the like, which are used so that their characteristics can be used effectively.

また、フレキシブル基板は、絶縁基板として可撓性を有する樹脂フィルムを使用することから、優れた可撓性を有しており、折り曲げて使用するなど、その形態を変化させて使用することが可能である。このような特性を利用して、フレキシブル基板は、半導体を搭載して、液晶テレビ、プラズマディスプレイあるいは有機ELテレビ等の液晶表示装置の縁部にある透明電極とACF接続され、表示装置の裏側に折り曲げられて表示装置に組み込
むことが可能であり、表示装置の枠体の幅を狭くして表示面をより大きくし、枠体をより狭くした表示装置に利用されている。
In addition, since the flexible substrate uses a flexible resin film as the insulating substrate, it has excellent flexibility, and can be used by changing its form, such as bending it. It is. Utilizing such characteristics, the flexible substrate is mounted with a semiconductor and is ACF-connected to a transparent electrode at the edge of a liquid crystal display device such as a liquid crystal television, a plasma display, or an organic EL television, and on the back side of the display device. It can be bent and incorporated in a display device, and is used for a display device in which the frame body of the display device is narrowed to make the display surface larger and the frame body narrower.

特に、COFは、デバイスホールを有するTABテープなどに比べて、デバイスホールがないことからフライングリードを形成する必要がなく、形成された配線パターン全てが配線パターンの底部で基材フィルムに支えられていることから、COF基板は、ファインピッチ化が比較的容易であるとともに、折り曲げ信頼性および実装作業性が高いことから、液晶表示装置のフレキシブル配線基板として、多く採用されている。   In particular, COF has no device hole as compared to TAB tape having device holes, so there is no need to form flying leads, and all the formed wiring patterns are supported by the base film at the bottom of the wiring pattern. Therefore, the COF substrate is widely adopted as a flexible wiring substrate of a liquid crystal display device because it is relatively easy to make a fine pitch and has high bending reliability and mounting workability.

ところが、COFのように配線パターンを細線化することは高性能の電子部品を組み込むためには、非常に重要な技術であるが、一方で、配線パターンは、電子部品で発生した熱を放熱するための放熱回路としても作用しており、COFのように形成される配線パターンが細線化するに伴って、電子部品で発生した熱を放出する能力が低下してきている。加えて、電子部品の性能は高くなり、かつ小型化しているために、電子部品を駆動させることにより生ずる高集積化した電子部品からの発熱量は多くなる傾向があり、COFのように配線パターンが細線化されたフレキシブル配線基板においては、放熱効率という観点からみると、配線パターンの細線化は、熱の放熱効率を低下させることになる。   However, thinning a wiring pattern such as COF is a very important technology for incorporating high-performance electronic components. On the other hand, a wiring pattern dissipates heat generated in electronic components. As the wiring pattern formed like a COF is thinned, the ability to release heat generated in the electronic component is decreasing. In addition, since the performance of electronic components is high and the size is reduced, the amount of heat generated from highly integrated electronic components generated by driving the electronic components tends to increase. In a flexible wiring board in which is thinned, from the viewpoint of heat dissipation efficiency, the thinning of the wiring pattern decreases the heat dissipation efficiency.

また、図10に示すように、たとえば従来の表示装置においては、ICが実装されたCOFタイプのフレキシブル配線基板39が組み込まれた液晶表示装置40の内部構造を有している。ここで、発熱体となる電子部品(IC)Eは、円弧状に折り曲げられたフレキシブル配線基板39の円弧状の内側に配置されている。図10に示されているように昨今の電子機器では、装置の小型化やコンパクト化のために、装置内に組み込まれる電子部品(IC)Eが実装されたフレキシブル配線基板39は、円弧状に折り曲げられ、電子部品(IC)Eは、フレキシブル配線基板39の円弧状の内側に配置するとともに、その周囲をリジット配線基板(入力手段34)や表示手段35等の各種構造体に囲まれるように配置されおり、放熱を有効に行うための特別なスペースを確保することができなくなってき
ている。
As shown in FIG. 10, for example, a conventional display device has an internal structure of a liquid crystal display device 40 in which a COF type flexible wiring substrate 39 on which an IC is mounted is incorporated. Here, the electronic component (IC) E serving as a heating element is disposed inside the arc of the flexible wiring board 39 bent in an arc. As shown in FIG. 10, in recent electronic devices, the flexible wiring board 39 on which an electronic component (IC) E incorporated in the device is mounted in an arc shape in order to reduce the size and size of the device. The bent electronic component (IC) E is arranged inside the arcuate shape of the flexible wiring board 39, and its periphery is surrounded by various structures such as the rigid wiring board (input means 34) and the display means 35. Therefore, it has become impossible to secure a special space for effectively radiating heat.

こうした状況下で、駆動用ドライバーIC等の電子部品を駆動させると、通電時における駆動用ドライバーICの表面の最大温度は、100℃付近にも達することがあり、こうした発熱によって、電子部品が誤作動することがあり、また、この発熱が電子機器の故障の原因となる。   Under such circumstances, when an electronic component such as a driver IC for driving is driven, the maximum temperature of the surface of the driver IC when energized may reach around 100 ° C. This heat generation may cause a failure of the electronic device.

このために電子部品を筐体の内壁面にポリイミドフィルムなどからなるフレキシブル配線基板の絶縁基板を介して当接するように配置し、電子部品で発生した熱を絶縁基板を介して筐体内周壁面に配置された導電性金属からなる放熱体に移行させて放熱を行う方法が知られている。   For this purpose, the electronic component is arranged so as to abut on the inner wall surface of the housing through an insulating substrate of a flexible wiring board made of polyimide film or the like, and heat generated by the electronic component is applied to the inner peripheral wall surface of the housing through the insulating substrate. There is known a method of transferring heat to a radiator made of a conductive metal that is disposed.

即ち、図10に示すように、液晶表示装置40の縁部の表面には、液晶表示装置40の透明電極が配置されており、本発明のフレキシブル配線基板の出力側アウターリードがこの透明電極と異方導電接着(ACF)される。このようなフレキシブル配線基板にいては、透明電極と電気的とACF接続するために、配線パターンは、フレキシブル配線基板の絶縁基板の内側表面に形成されおり、この配線パターンの絶縁基板の内側の面、即ち、表示手段35が配置されている面に配線パターンに形成されインナーリード17a、17b
に電子部品Eが実装されて筐体38に沿って折り曲げられて使用されている。そして、このようにしてフレキシブル配線基板を折り曲げて使用することによって、配線パターンの先端であるインナーリードに実装されたフレキシブル配線基板の表示手段35側に、電子部品Eが、フィルムキャリアテープ、表示装置35、入力手段(通常は、リジット型配線基板34)などの種々の部材に囲まれた位置に配置されている。
That is, as shown in FIG. 10, the transparent electrode of the liquid crystal display device 40 is disposed on the surface of the edge of the liquid crystal display device 40, and the output-side outer lead of the flexible wiring board of the present invention is connected to the transparent electrode. Anisotropic conductive bonding (ACF) is performed. In such a flexible wiring board, the wiring pattern is formed on the inner surface of the insulating substrate of the flexible wiring board in order to make an ACF connection with the transparent electrode, and the inner surface of the insulating substrate of the wiring pattern. That is, the inner leads 17a and 17b are formed in a wiring pattern on the surface on which the display means 35 is disposed.
The electronic component E is mounted on the board and bent along the housing 38 for use. Then, by bending and using the flexible wiring board in this way, the electronic component E is placed on the display means 35 side of the flexible wiring board mounted on the inner lead that is the tip of the wiring pattern, and the film carrier tape, display device 35. It is disposed at a position surrounded by various members such as input means (usually a rigid wiring board 34).

従って、電子部品Eが駆動することによって生ずる熱は、絶縁基板に囲繞された部分から放出されにくいために、電子部品Eが配置された部分の温度が非常に高くなる。即ち、図10のように、液晶表示装置40内部には、フレキシブル配線基板等の各構造体が近接・密集しているために、電子部品Eから生じた熱は内部に滞留しやすく、電子部品が実装された部分の温度が高くなる。こうして電子部品Eを通電することにより電子部品Eに発生する熱を、放出させるために、電子部品Eが実装されている配線パターンの裏面と筐体38との間に放熱用金属板36のような放熱手段を配置して、電子部品Eにより通電することにより発生する熱を筐体38外部に放出させようする試みがなされている。しかしながら、図10に示すように放熱用金属板36を介して電子部品から発生する熱を放出させようとしても、電子部品Eと放熱用金属板36とが直接接触しているのではなく、絶縁基板であるポリイミドフィルムを介して電子部品Eと放熱用金属板36とが接触しており、このポリイミド等の絶縁基板は熱導電性が低く、電子部品Eで発生した熱を充分に放熱用金属板36に伝達させることができず、放熱性は不充分であった。殊に、電子部品が高密度化し電子部品の単位体積当たりの発熱量が高くなると共に、フレキシブル配線基板に形成されている配線パターンの線幅が狭くなり、フレキシブル配線基板に形成された配線パターンも放熱手段として充分には機能しなくなってきている。   Therefore, since the heat generated by driving the electronic component E is difficult to be released from the portion surrounded by the insulating substrate, the temperature of the portion where the electronic component E is disposed becomes very high. That is, as shown in FIG. 10, since each structure such as a flexible wiring board is close and dense inside the liquid crystal display device 40, the heat generated from the electronic component E tends to stay in the electronic component E. The temperature of the part where is mounted becomes high. In order to release the heat generated in the electronic component E by energizing the electronic component E in this way, a heat radiation metal plate 36 is provided between the back surface of the wiring pattern on which the electronic component E is mounted and the housing 38. Attempts have been made to dispose heat generated by energizing the electronic component E to the outside of the housing 38 by arranging a heat dissipating means. However, as shown in FIG. 10, when the heat generated from the electronic component is released through the heat radiating metal plate 36, the electronic component E and the heat radiating metal plate 36 are not in direct contact but are insulated. The electronic component E and the heat radiating metal plate 36 are in contact with each other through a polyimide film as a substrate. The insulating substrate such as polyimide has low thermal conductivity, and the heat generated in the electronic component E is sufficiently radiated. The heat could not be transmitted to the plate 36 and heat dissipation was insufficient. In particular, the density of electronic components is increased and the amount of heat generated per unit volume of the electronic components is increased, and the line width of the wiring pattern formed on the flexible wiring board is reduced, and the wiring pattern formed on the flexible wiring board is also reduced. It is no longer fully functioning as a heat dissipation means.

このようなフレキシブル配線基板において、導電性金属層(配線パターンあるいはダミー配線)の厚みを大きくして、配線パターンを放熱手段として利用してフレキシブル配線基板自身の放熱性を向上させることも考えられるが、こうした試みは、電子装置の小型、軽量化に反するものであり、現にこうしたフレキシブル配線基板を製造して電子部品表面の温度を測定してみても、改良前の場合に比べ、改善効果は数%の低下にとどまり、放熱性は、予定している程度には依然として改善されない。   In such a flexible wiring board, it is possible to increase the thickness of the conductive metal layer (wiring pattern or dummy wiring) and improve the heat dissipation of the flexible wiring board itself by using the wiring pattern as a heat dissipation means. Such an attempt is contrary to the reduction in size and weight of electronic devices. Even if such a flexible wiring board is actually manufactured and the temperature of the surface of the electronic component is measured, there are several improvements compared to the case before the improvement. The heat dissipation is still not improved to the expected extent.

さらに、放熱に関しては、以下に例示するように、放熱プレート、スルーホール、内層回路や最外層回路、放熱用金属板等の放熱手段を介して、放熱させることができるプリン
ト基板が提案されている。
Furthermore, regarding heat dissipation, as exemplified below, a printed circuit board that can dissipate heat through heat dissipation means such as a heat dissipation plate, a through hole, an inner layer circuit, an outermost layer circuit, and a heat dissipation metal plate has been proposed. .

特許文献1(特開2001−284748号公報)には、アルミニウムや鉄製などの放熱プレートを有する電子部品が基板の表面に面実装され、さらに基板の裏面側で、電子部品に対応する位置に、放熱手段を貼り合わせ、この放熱プレートおよび放熱手段を介して放熱を行うプリント基板が開示されている。   In Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-284748), an electronic component having a heat dissipation plate such as aluminum or iron is surface-mounted on the surface of the substrate, and further on the back side of the substrate at a position corresponding to the electronic component, There is disclosed a printed circuit board in which heat radiating means is bonded and heat is radiated through the heat radiating plate and the heat radiating means.

特許文献2(特開平5−343821号公報)には、電子部品が実装される部品接続用導体パターン部が対向する空隙部に設けられた放熱用ランド部および放熱用ランド部内に設けられたスルーホールを介して放熱することができるプリント基板が開示されている。   In Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 5-343821), a heat radiation land portion provided in a gap portion facing a component connecting conductor pattern portion on which an electronic component is mounted and a through hole provided in the heat radiation land portion are disclosed. A printed circuit board that can dissipate heat through a hole is disclosed.

特許文献3(特開平11−274669号公報)には、両面または多層プリント配線板にあって、基板端部に露出した内層回路や最外層回路を通じて放熱を行い、また基板端部に形成された回路、この内層回路や最外層回路を介して放熱を行うことを特徴とするプリント配線板が開示されている。   Patent Document 3 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-274669) discloses a double-sided or multi-layer printed wiring board that dissipates heat through an inner layer circuit or an outermost layer circuit exposed at the end of the substrate and is formed at the end of the substrate. There is disclosed a printed wiring board characterized in that heat is radiated through a circuit, the inner layer circuit and the outermost layer circuit.

特許文献4(特開平7−235737号公報)では、基材に穿設された開口と、開口内に挿嵌された放熱用金属板を有し、この放熱用金属板を介して放熱を行うことができるプリント基板が開示されている。   In patent document 4 (Unexamined-Japanese-Patent No. 7-235737), it has the opening pierced in the base material, and the heat radiating metal plate inserted in the opening, and radiates heat through this heat radiating metal plate. A printed circuit board that can be used is disclosed.

しかしながら、これらの特許文献に開示されたプリント配線基板を曲げようとした場合、曲げる位置は、上述の放熱手段を避けなければならない。つまり、これらのプリント配線基板は設計自由度が著しく制約され、これらのプリント配線基板を液晶表示装置に使用した場合、装置の小型化やコンパクト化が困難になってしまう。   However, when the printed wiring board disclosed in these patent documents is to be bent, the bending position must avoid the above-described heat dissipation means. That is, the design flexibility of these printed wiring boards is remarkably restricted, and when these printed wiring boards are used in a liquid crystal display device, it is difficult to reduce the size and size of the device.

また、放熱手段の形状、硬さおよび厚さにもよるが、一般に折り曲げが困難となり、リジッドタイプであるPCBのような平坦な基板への適用に限定される。
さらに、これらのプリント配線基板は、製造時において所定の放熱手段を形成するための工程が必要となり、製造工程が煩雑になるとともに、コストアップの原因となる。
Although it depends on the shape, hardness, and thickness of the heat dissipation means, it is generally difficult to bend and is limited to application to a flat substrate such as a rigid type PCB.
Furthermore, these printed wiring boards require a process for forming a predetermined heat dissipation means during manufacturing, which complicates the manufacturing process and increases costs.

すなわち、製造が容易であるとともに、フレキシブル配線基板の柔軟性と、表示装置に組み込んだ際の放熱特性とを両立することに関しては、改善の余地があった。
特開2001−284748号公報 特開平5−343821号公報 特開平11−274669号公報 特開平7−235737号公報
In other words, there is room for improvement in terms of both easy manufacture and compatibility between the flexibility of the flexible wiring board and the heat dissipation characteristics when incorporated in a display device.
JP 2001-284748 A JP-A-5-343821 Japanese Patent Laid-Open No. 11-274669 JP-A-7-235737

本発明は、複雑な製造工程を経ることなく、容易に製造することができ、電子部品を実装した場合、電子部品から発生する熱を効率的に放出することができるフレキシブル配線基板を提供することを目的とする。   The present invention provides a flexible wiring board that can be easily manufactured without going through a complicated manufacturing process and that can efficiently release heat generated from the electronic component when the electronic component is mounted. With the goal.

また、そのようなフレキシブル配線基板を備えることにより電子部品から発生する熱を効率的に放出することができるフレキシブル半導体装置、および、このフレキシブル半導体装置を実装した放熱性が著しく高い液晶表示装置を提供することを目的とする。   In addition, by providing such a flexible wiring board, a flexible semiconductor device capable of efficiently releasing heat generated from an electronic component, and a liquid crystal display device with extremely high heat dissipation mounted with the flexible semiconductor device are provided. The purpose is to do.

本発明のフレキシブル配線基板は、可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の略半分を占有するアウターリード形成領域と、該可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅
方向の残りの略半分を占有する電子部品実装領域とが、両領域の間に形成された第1折り曲げ部を介して隣接する可撓性絶縁基板と、該可撓性絶縁基板の一方の面に配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板であり、該フレキシブル配線基板に形成された配線パターンの一方の端部を、入力側アウターリードおよび出力側アウターリードからなるアウターリードとし、他端を、入力側インナーリードおよび出力側インナーリードからなるインナーリードとすると共に、該入力側インナーリードおよび入力側アウターリードが形成された配線パターンと、出力側インナーリードおよび出力側アウターリードが形成された配線パターンとは、電子部品実装領域に形成された電子部品実装予定部に、電子部品が実装されることにより、電気的に連結可能に形成されてなり、該フレキシブル配線基板は、可撓性絶縁基板の配線パターンが形成されていない面が当接して配線パターンが外側に位置するように第1折り曲げ部で略180度折り曲げ可能に形成されていると共に、該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板を、電子部品実装領域を外側にして、該略180度折り曲げられる第1折り曲げ部に対して直行する方向にアウターリードが対面するように第2の折り曲げが可能なように形成されていることを特徴としている。
The flexible wiring board of the present invention includes an outer lead forming region that occupies approximately half of the tape width direction perpendicular to the feeding direction of the flexible substrate, and the remaining tape width direction perpendicular to the feeding direction of the flexible substrate. An electronic component mounting area that occupies substantially half of the flexible insulating substrate that is adjacent to each other via a first bent portion formed between the two regions, and a wiring pattern on one surface of the flexible insulating substrate One end of the wiring pattern formed on the flexible wiring board is an outer lead composed of an input side outer lead and an output side outer lead, and the other end is an input side inner lead and A wiring pattern in which the input side inner lead and the input side outer lead are formed, and the output side The wiring pattern in which the inner lead and the output-side outer lead are formed is formed so as to be electrically connectable by mounting the electronic component on the electronic component mounting scheduled portion formed in the electronic component mounting region. The flexible wiring board is formed so that it can be bent approximately 180 degrees at the first bent portion so that the surface of the flexible insulating substrate on which the wiring pattern is not formed comes into contact and the wiring pattern is located outside. The flexible printed circuit board bent approximately 180 degrees is subjected to a second bend such that the outer lead faces in a direction perpendicular to the first bent portion bent approximately 180 degrees with the electronic component mounting area on the outside. It is characterized by being formed as possible.

また、上記フレキシブル配線基板は、上記アウターリード形成領域に、入力側アウターリードと、出力側アウターリードが、該フレキシブル配線基板の対する縁部に対峙するように形成されてなり、アウターリード領域から入力側アウターリードを形成する配線パターンが引き回されて第1折り曲げ部を超えて電子部品実装領域の電子部品実装予定部で入力側インナーリードを形成すると共に、アウター領域から出力側アウターリードを形成する配線パターンが引き回されて第1折り曲げ部13を超えて電子部品実装予定部の電子部品実装予定部で出力側インナーリードを形成することが好ましい。   Further, the flexible wiring board is formed such that an input-side outer lead and an output-side outer lead are formed in the outer lead forming area so as to face the edge of the flexible wiring board. The wiring pattern for forming the outer outer lead is routed to form the input inner lead at the electronic component mounting planned portion in the electronic component mounting region beyond the first bent portion, and the output outer lead from the outer region. It is preferable that the output-side inner lead is formed at the electronic component mounting scheduled portion of the electronic component mounting planned portion beyond the first bent portion 13 by the wiring pattern being routed.

また、上記フレキシブル配線基板は、上記フレキシブル配線基板の送り方向における可撓性絶縁基板の幅がアウターリード形成領域で最も広く形成されており、該フレキシブル配線基板の幅が、第1折り曲げ部および電子部品実装領域で、アウターリード形成領域10aのフレキシブル配線基板の幅(100%)に対して85〜95%に減少するように送り方向の前後の縁部に可撓性絶縁基板の切欠き部が形成されていることが好ましい。   In the flexible wiring board, the width of the flexible insulating board in the feeding direction of the flexible wiring board is formed to be the widest in the outer lead forming region, and the width of the flexible wiring board is set to be the first bent portion and the electronic In the component mounting area, the notch portions of the flexible insulating substrate are formed at the front and rear edges in the feed direction so as to decrease to 85 to 95% with respect to the width (100%) of the flexible wiring board in the outer lead formation region 10a. Preferably it is formed.

また、上記フレキシブル配線基板は、上記該フレキシブル配線基板の可撓性絶縁基板の配線パターンが形成されていない面に、該可撓性基板が第1折り曲げ部で略180度折り曲げられたときに、この折り曲げ状態を維持するために可撓性絶縁基板の裏面の一部に接着剤が配置可能に形成されていることが好ましい。   Further, when the flexible substrate is bent at about 180 degrees at the first bent portion on the surface of the flexible wiring substrate on which the wiring pattern of the flexible insulating substrate is not formed, In order to maintain this bent state, it is preferable that an adhesive be formed on a part of the back surface of the flexible insulating substrate so as to be disposed.

また、本発明のフレキシブル半導体装置は、可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の略半分を占有するアウターリード形成領域と、該可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の残りの略半分を占有する電子部品実装領域とが、両領域の間に形成された第1折り曲げ部を介して隣接する可撓性絶縁基板と、該可撓性絶縁基板の一方の面に配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板であり、該フレキシブル配線基板に形成された配線パターンの一方の端部を、入力側アウターリードおよび出力側アウターリードからなるアウターリードとし、他端を、入力側インナーリードおよび出力側インナーリードからなるインナーリードとすると共に、該入力側インナーリードおよび入力側アウターリードが形成された配線パターンと、出力側インナーリードおよび出力側アウターリードが形成された配線パターンとは、電子部品実装領域に形成された電子部品実装予定部に実装された電子部品によって電気的に接続されてなり、該電子部品が実装されたフレキシブル配線基板は、可撓性絶縁基板の配線パターンが形成されていない面が当接して配線パターンが外側に位置するように第1折り曲げ部で略180度折り曲げられていると共に、該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板を、電子部品実装領域の電子部品実装予定部に実装された電子部品が外側に位置するように、第1折り曲げ部で該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板が、第1折り曲げ部に対して直行する方向にアウターリード
が対面するように再び折り曲げられていることを特徴としている。
The flexible semiconductor device according to the present invention includes an outer lead formation region that occupies substantially half of the tape width direction orthogonal to the feeding direction of the flexible substrate, and a tape width direction orthogonal to the feeding direction of the flexible substrate. An electronic component mounting area that occupies the remaining half is adjacent to a flexible insulating substrate via a first bent portion formed between the two regions, and wiring is provided on one surface of the flexible insulating substrate. A flexible wiring board on which a pattern is formed. One end of the wiring pattern formed on the flexible wiring board is an outer lead composed of an input-side outer lead and an output-side outer lead, and the other end is an input-side inner A wiring pattern in which the input side inner lead and the input side outer lead are formed, and an inner lead consisting of a lead and an output side inner lead; The wiring pattern in which the output side inner lead and the output side outer lead are formed is electrically connected by the electronic component mounted on the electronic component mounting planned portion formed in the electronic component mounting region. The mounted flexible wiring board is bent at approximately 180 degrees at the first bent portion so that the surface of the flexible insulating substrate on which the wiring pattern is not formed contacts and the wiring pattern is located outside. The flexible wiring board bent at about 180 degrees at the first bent portion so that the electronic component mounted on the electronic component mounting planned portion in the electronic component mounting area is positioned outside. However, the outer lead is bent again so as to face in a direction perpendicular to the first bent portion. That.

また、上記フレキシブル半導体装置は、上記第1折り曲げ部で可撓性絶縁基板の裏面側が当接するように略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板の可撓性絶縁基板の裏面側に接着剤が配置され、該接着剤によって、当接した可撓性絶縁基板の少なくとも一部が相互に貼着されていることが好ましい。
また、本発明に係る表示装置は、可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の略半分を占有するアウターリード形成領域と、該可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の残りの略半分を占有する電子部品実装領域とが、両領域の間に形成された第1折り曲げ部を介して隣接する可撓性絶縁基板と、該可撓性絶縁基板の一方の面に配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板であり、該フレキシブル配線基板に形成された配線パターンの一方の端部を、入力側アウターリードおよび出力側アウターリードからなるアウターリードとし、他端を、入力側インナーリードおよび出力側インナーリードからなるインナーリードとすると共に、該入力側インナーリードおよび入力側アウターリードが形成された配線パターンと、出力側インナーリードおよび出力側アウターリードが形成された配線パターンとは、電子部品実装領域に形成された電子部品実装予定部に実装された電子部品によって電気的に接続されてなり、該電子部品が実装されたフレキシブル配線基板は、可撓性絶縁基板の配線パターンが形成されていない面が当接して配線パターンが外側に位置するように第1折り曲げ部で略180度折り曲げられていると共に、該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板を、電子部品実装領域の電子部品実装予定部に実装された電子部品が外側に位置するように、第1折り曲げ部で該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板が、第1折り曲げ部に対して直行する方向にアウターリードが対面するように再び折り曲げられてフレキシブル半導体装置を形成してなり、該フレキシブル半導体装置の出力側アウターリードと、表示装置に形成された透明電極との間に異方導電性接着剤により電気的に接続が確立されていると共に、入力側アウターリードが、表示装置を駆動させる電子部品回路と電気的に接続されていてなり、該フレキシブル半導体に実装された半導体が、放熱用金属板に当接されていることを特徴とする。
In the flexible semiconductor device, an adhesive is disposed on the back side of the flexible insulating substrate of the flexible wiring board that is bent by about 180 degrees so that the back side of the flexible insulating substrate is in contact with the first bent portion. It is preferable that at least a part of the abutting flexible insulating substrates is adhered to each other by the adhesive.
In addition, the display device according to the present invention includes an outer lead formation region that occupies substantially half of the tape width direction orthogonal to the flexible substrate feed direction, and a tape width direction orthogonal to the flexible substrate feed direction. An electronic component mounting area that occupies the remaining half is adjacent to a flexible insulating substrate via a first bent portion formed between the two regions, and wiring is provided on one surface of the flexible insulating substrate. A flexible wiring board on which a pattern is formed. One end of the wiring pattern formed on the flexible wiring board is an outer lead composed of an input-side outer lead and an output-side outer lead, and the other end is an input-side inner In addition to an inner lead composed of a lead and an output-side inner lead, a wiring pattern in which the input-side inner lead and the input-side outer lead are formed; The wiring pattern in which the outer lead and the output-side outer lead are formed is electrically connected by the electronic component mounted on the electronic component mounting planned portion formed in the electronic component mounting region, and the electronic component is mounted. The flexible wiring board is bent at approximately 180 degrees at the first bent portion so that the surface of the flexible insulating substrate on which the wiring pattern is not formed contacts and the wiring pattern is located on the outside. The flexible wiring board that is bent at the first bent portion at approximately 180 degrees so that the electronic component mounted on the electronic component mounting scheduled portion in the electronic component mounting area is located outside the bent flexible wiring board is A flexible semiconductor device is formed by being bent again so that the outer leads face each other in a direction perpendicular to the bent portion. The electrical connection between the output-side outer lead of the flexible semiconductor device and the transparent electrode formed on the display device is established by an anisotropic conductive adhesive, and the input-side outer lead is displayed. The semiconductor device is electrically connected to an electronic component circuit for driving the device, and a semiconductor mounted on the flexible semiconductor is in contact with a metal plate for heat dissipation.

また、上記表示装置は、上記放熱用金属板が、表示装置の筐体の縁部内側に配置され、該放熱用金属板に当接する電子部品から発生する熱を、該放熱用金属板の熱伝導性を利用して、表示装置の筐体外部に排出させることが好ましい。   Further, in the display device, the heat radiating metal plate is disposed inside the edge of the housing of the display device, and heat generated from an electronic component in contact with the heat radiating metal plate is converted to heat of the heat radiating metal plate. It is preferable to discharge to the outside of the housing of the display device using conductivity.

また、上記表示装置が、液晶表示装置、プラズマ表示装置、あるいは、有機EL表示装置のいずれかであることが好ましい。   The display device is preferably a liquid crystal display device, a plasma display device, or an organic EL display device.

本発明のフレキシブル配線基板によれば、複雑な製造工程を経ることなく、容易に製造される。そして、電子部品を実装したフレキシブル半導体を所定の位置で折り曲げて使用することにより、発熱体となる電子部品を最も外側に位置させることができ、筐体の内周壁面に配置された放熱性金属板に直接接触させて、電子部品で発生した熱を効率よく放出させることができる。   According to the flexible wiring board of the present invention, it is easily manufactured without going through a complicated manufacturing process. And, by bending and using the flexible semiconductor with electronic parts mounted at a predetermined position, the electronic parts that become the heating elements can be positioned on the outermost side, and the heat dissipating metal disposed on the inner peripheral wall surface of the housing By directly contacting the plate, the heat generated in the electronic component can be released efficiently.

また、本発明のフレキシブル半導体装置および表示装置を用いることにより、軽量で、小型化された電子部品を実装した非常に配線幅の狭い配線パターンを有する半導体装置を用いたとしても、電子部品から発生する熱を効率的に電子装置の外に放出させることができる。   In addition, by using the flexible semiconductor device and the display device of the present invention, even if a semiconductor device having a wiring pattern with a very narrow wiring width on which a lightweight and miniaturized electronic component is mounted is generated from the electronic component. Heat can be efficiently released out of the electronic device.

次に本発明のフレキシブル配線基板、フレキシブル半導体装置および表示装置について具体的に説明する。
本発明のフレキシブル配線基板の平面図を図1(1)に示し、付番10は、本発明のフレキシブル配線基板の上面である。また、図1(2)は、図1(1)で示された矢印Xから矢印Yに一点鎖線で示すフレキシブル配線基板10の断面を模式的に示す断面図である。
Next, the flexible wiring board, flexible semiconductor device, and display device of the present invention will be specifically described.
A plan view of the flexible wiring board of the present invention is shown in FIG. 1 (1), and reference numeral 10 is the upper surface of the flexible wiring board of the present invention. FIG. 1B is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the flexible wiring board 10 indicated by a one-dot chain line from the arrow X to the arrow Y shown in FIG.

本発明のフレキシブル配線基板10は、図1(1)に示すように、所定の幅を有する可撓性絶縁基板12からなる可撓性絶縁テープの両側縁部に一定の間隔で形成されたスプロケットホール22の間に、アウターリード形成領域Aと電子部品実装領域Bとが第1の折り曲げ部Dを介して隣接する構成を有している。また、電子部品実装領域Bには、電子部品を実装するための電子部品実装用底部Cが形成されている。   As shown in FIG. 1 (1), a flexible wiring board 10 of the present invention is a sprocket formed at regular intervals on both side edges of a flexible insulating tape comprising a flexible insulating substrate 12 having a predetermined width. Between the holes 22, the outer lead formation region A and the electronic component mounting region B are adjacent to each other via the first bent portion D. In the electronic component mounting area B, an electronic component mounting bottom C for mounting the electronic component is formed.

本発明のフレキシブル配線基板10は、可撓性絶縁基板12の一方の表面に配線パターン14が形成されており、この配線パターンの一方の端部は、アウターリードを形成し、他の端部はインナーリードを形成している。また、フレキシブル配線基板10に形成された配線パターン14の一方の端部がアウターリード16を形成し、他端がインナーリード17を形成する。   In the flexible wiring board 10 of the present invention, a wiring pattern 14 is formed on one surface of a flexible insulating substrate 12, one end of this wiring pattern forms an outer lead, and the other end is Inner leads are formed. One end of the wiring pattern 14 formed on the flexible wiring board 10 forms the outer lead 16 and the other end forms the inner lead 17.

この配線パターン14には、入力側配線パターン14aと、出力側配線パターン14b
とがある。アウターリード形成領域Aには、配線パターン14aの一方の端部が、入力側
アウターリード16aが形成されている。
The wiring pattern 14 includes an input side wiring pattern 14a and an output side wiring pattern 14b.
There is. In the outer lead formation region A, an input side outer lead 16a is formed at one end of the wiring pattern 14a.

一方の端部が入力側アウターリード16aを形成する入力側配線パターン14aは、アウターリード形成領域Aを引き回され、第1の折り曲げ部Dを超えて、アウターリード形成
領域Aに隣接する電子部品実装領域Bに引き回される。電子部品実装領域Bには、電子部品が実装されるべき電子部品実装予定部Cが形成されており、上記の入力側配線パターン14aの他の端部は、この電子部品実装予定部Cで入力側インナーリード17aを形成し
ている。
The input-side wiring pattern 14a, one end of which forms the input-side outer lead 16a, is routed through the outer lead formation region A and is adjacent to the outer lead formation region A beyond the first bent portion D. It is routed to the mounting area B. In the electronic component mounting area B, an electronic component mounting scheduled portion C where the electronic component is to be mounted is formed, and the other end portion of the input side wiring pattern 14a is input by the electronic component mounting planned portion C. A side inner lead 17a is formed.

同様に、アウターリード形成領域Aで、一方の端部が出力側アウターリード16bを形成する出力側配線パターン14bはアウターリード領域Aを引き回されて、第1の折り曲
げ部Dを超えてアウターリード領域A隣接する電子部品実装領域Bに引き回される。電子部品実装領域Bには、上述のように電子部品実装予定部Cが形成されており、出力側配線パターン14bの他の端部は、電子部品実装予定部C内で出力側インナーリード17bを形成している。
Similarly, in the outer lead formation region A, the output-side wiring pattern 14b, one end of which forms the output-side outer lead 16b, is routed around the outer lead region A so that the outer lead extends beyond the first bent portion D. The region A is routed to the adjacent electronic component mounting region B. In the electronic component mounting area B, the electronic component mounting scheduled portion C is formed as described above, and the other end of the output side wiring pattern 14b is connected to the output side inner lead 17b in the electronic component mounting planned portion C. Forming.

本発明のフレキシブル配線基板10に形成された電子部品実装予定部Bに、電子部品Eを実装することにより、上記の入力側配線パターン14aと出力側配線パターン14bと
は電気的に接続可能に形成されている。
By mounting the electronic component E on the electronic component mounting scheduled portion B formed on the flexible wiring board 10 of the present invention, the input side wiring pattern 14a and the output side wiring pattern 14b are formed so as to be electrically connectable. Has been.

このようなフレキシブル配線基板は、例えば図2に示されるように、可撓性絶縁基板の表面に形成された導電性金属層を所望の形状にエッチングすることにより形成することができる。   Such a flexible wiring board can be formed, for example, by etching a conductive metal layer formed on the surface of a flexible insulating substrate into a desired shape, as shown in FIG.

即ち、本発明のフレキシブル配線基板は、図2(a)に示される可撓性絶縁板12と導電性金属層20とを有する層を形成する樹脂フィルムである。
また、ここで使用される可撓性絶縁基板12を形成する樹脂の例としては、前掲のポリイミドのほかに、ポリエステル、ポリアミド、ポリアミドイミド、液晶ポリマーおよびガラス繊維含有エポキシ樹脂などを挙げることができる。特に本発明ではポリイミドを用いることが好ましい。
That is, the flexible wiring board of the present invention is a resin film that forms a layer having the flexible insulating plate 12 and the conductive metal layer 20 shown in FIG.
Examples of the resin forming the flexible insulating substrate 12 used here include polyester, polyamide, polyamideimide, liquid crystal polymer, and glass fiber-containing epoxy resin in addition to the polyimide described above. . In the present invention, it is particularly preferable to use polyimide.

本発明で可撓性絶縁基板12を構成するポリイミドの例としては、ピロメリット酸2無水物と芳香族ジアミンとから合成される全芳香族ポリイミド、ビフェニルテトラカルボン酸2無水物と芳香族ジアミンとから合成されるビフェニル骨格を有する全芳香族ポリイミドを挙げることができる。特に本発明ではビフェニル骨格を有する全芳香族ポリイミド(例;商品名:ユーピレックス、宇部興産(株)製)が好ましく使用される。このような可撓性絶縁基板から形成されるフィルムの平均厚さが、通常は8〜50μm、好ましくは16〜40μm程度の薄いポリイミドフィルムを使用する。ただし、このような厚さのポリイミドフィルムを用いる場合には、単独でハンドリングすることが困難になることがあるために、ポリイミドフィルムの裏面側(配線パターンが形成される面と反対の面)に補強フィルムとしてPETフィルムを剥離可能に積層した複合基板フィルムを用いることもできる。なお、このような補強フィルムは、PETフィルムの他に、例えば支持体用ポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)以外のポリエステルフィルムを剥離可能に貼着して使用することができる。   Examples of the polyimide constituting the flexible insulating substrate 12 in the present invention include a wholly aromatic polyimide synthesized from pyromellitic dianhydride and aromatic diamine, biphenyltetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine, And wholly aromatic polyimides having a biphenyl skeleton synthesized from In particular, in the present invention, a wholly aromatic polyimide having a biphenyl skeleton (eg, trade name: Upilex, manufactured by Ube Industries, Ltd.) is preferably used. A thin polyimide film having an average thickness of 8 to 50 μm, preferably 16 to 40 μm, is usually used. However, when using a polyimide film with such a thickness, it may be difficult to handle alone, so the back side of the polyimide film (the surface opposite to the surface on which the wiring pattern is formed) A composite substrate film obtained by laminating a PET film so as to be peelable can also be used as the reinforcing film. In addition to such a PET film, for example, such a reinforcing film can be used by releasably attaching a polyester film other than a polyimide film for a support and polyethylene terephthalate (PET).

ここで使用することができる積層体としては、可撓性絶縁基板の表面にシード層、導電性金属層を順次形成する。ここで、シード層とは、通常は、ニッケル、クロム、銅などのシード金属のスパッタリング層であり、その厚さは通常は20〜300Aの範囲内、好ましくは30〜250Aの範囲内にある。このシード層の表面には導電性金属からなる導電性金属層20が形成されており、この導電性金属層20の厚さは通常は0.1〜2μm、好ましくは0.1〜1.5μmの範囲内にある。このような可撓性絶縁基板およびシード層を有する基板としては、エスパーフレックス(商品名:住友金属鉱山(株))、ダイヤファイン(商品名:三菱伸銅(株))、マキナス(商品名:日鉱金属株式会社)が挙げられる。   As a laminate that can be used here, a seed layer and a conductive metal layer are sequentially formed on the surface of a flexible insulating substrate. Here, the seed layer is usually a sputtering layer of a seed metal such as nickel, chromium, or copper, and the thickness thereof is usually in the range of 20 to 300A, preferably in the range of 30 to 250A. A conductive metal layer 20 made of a conductive metal is formed on the surface of the seed layer. The thickness of the conductive metal layer 20 is usually 0.1 to 2 μm, preferably 0.1 to 1.5 μm. It is in the range. Examples of such a flexible insulating substrate and a substrate having a seed layer include Esperflex (trade name: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.), Diafine (trade name: Mitsubishi Shindoh Co., Ltd.), and Macinas (trade name: Nikko Metal Co., Ltd.).

なお、この導電性金属層20を形成する導電性金属は、配線パターンを形成する金属と同一であっても異なっていてもよい。また、導電性金属層20を形成する金属と、配線パターンを形成する金属とが同一である場合、導電性金属層20は配線パターンに一体化されてしまい、両者の境界を識別することができなくなることもある。ここで導電性金属層20を形成する金属としては、銅あるいは銅合金を挙げることができる。   The conductive metal that forms the conductive metal layer 20 may be the same as or different from the metal that forms the wiring pattern. Further, when the metal forming the conductive metal layer 20 and the metal forming the wiring pattern are the same, the conductive metal layer 20 is integrated into the wiring pattern, and the boundary between the two can be identified. Sometimes it disappears. Here, examples of the metal forming the conductive metal layer 20 include copper and a copper alloy.

上記図2(a)に示した可撓性絶縁基板の一方の面に、図2(b)に示すように、銅あるいは銅合金等の導電性金属からなる導電性金属層20を形成する。この導電性金属層20は、蒸着法、昇華−堆積法、電解メッキ法、無電解メッキ法など種々の方法で形成することができる。   As shown in FIG. 2B, a conductive metal layer 20 made of a conductive metal such as copper or a copper alloy is formed on one surface of the flexible insulating substrate shown in FIG. The conductive metal layer 20 can be formed by various methods such as vapor deposition, sublimation-deposition, electrolytic plating, and electroless plating.

また、上記のように可撓性絶縁基板の一方の面に導電性金属層を形成させる代わりに、銅箔の一方の表面にポリイミド前駆体溶液を塗布した後に、乾燥および硬化させて可撓性絶縁基板層を形成し、可撓性絶縁基板12と導電性金属層20とからなる積層体を形成することもできる。このようにして銅箔の一方の表面に導電性金属層を有する積層体として市販されている積層体(商品名:エスパネックス、新日鉄化学(株))を使用することもできる。   Also, instead of forming a conductive metal layer on one surface of the flexible insulating substrate as described above, the polyimide precursor solution is applied to one surface of the copper foil, and then dried and cured to be flexible. It is also possible to form an insulating substrate layer and to form a laminate composed of the flexible insulating substrate 12 and the conductive metal layer 20. Thus, the laminated body (brand name: Espanex, Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) marketed as a laminated body which has an electroconductive metal layer on one surface of copper foil can also be used.

次に、図2(c)に示すように、パンチング等によって、導電性金属層20及び可撓性絶縁基板12を貫通して、スプロケットホール22を形成する。このスプロケットホール22は、可撓性絶縁基板12の表面上(導電性金属層20側)から形成してもよく、逆に、可撓性絶縁基板12の裏面から形成してもよい。また、スプロケットホール22は、可撓性絶縁基板12表面に導電性金属層20を形成する前に、予め可撓性絶縁基板12に形成されていてもよい。上記のようにシード層および導電性金属層20をスパッタリング法で製造する場合、スパッタリング面積がある程度広い方が有利であるので、形成しようとする電子部品実装用フィルムキャリアテープの幅よりも幅の広い可撓性絶縁基板12を用
いてスパッタリングを行った後、所定の幅になるようにスリットすることが好ましい。
Next, as shown in FIG. 2C, a sprocket hole 22 is formed through the conductive metal layer 20 and the flexible insulating substrate 12 by punching or the like. The sprocket holes 22 may be formed on the surface of the flexible insulating substrate 12 (on the conductive metal layer 20 side), or conversely, may be formed from the back surface of the flexible insulating substrate 12. The sprocket hole 22 may be formed in the flexible insulating substrate 12 in advance before forming the conductive metal layer 20 on the surface of the flexible insulating substrate 12. When the seed layer and the conductive metal layer 20 are produced by the sputtering method as described above, since it is advantageous that the sputtering area is somewhat large, the width is wider than the width of the film carrier tape for mounting electronic components to be formed. After performing sputtering using the flexible insulating substrate 12, it is preferable to slit so as to have a predetermined width.

上記の例は、可撓性絶縁基板の一方の面に導電性金属層を配置した積層体の例であるが、芯材とし、この芯材である可撓性絶縁基板の両面に導電性金属層を配置した二層積層積層体を使用して、この二層積層体の一方の面に形成された導電性金属層を用いて配線パターンを形成することができる。また、このような二層積層積層体を折り曲げ部に残して、フレキシブル配線基板を折曲げた際に、基板の弾性による曲げ変形の戻り(スプリングバック)を防止することができる。   The above example is an example of a laminate in which a conductive metal layer is disposed on one surface of a flexible insulating substrate. However, the core material is a conductive metal on both surfaces of the flexible insulating substrate. A wiring pattern can be formed using a conductive metal layer formed on one surface of the two-layer laminate using the two-layer laminate in which the layers are arranged. Further, when such a two-layer laminate is left in the bent portion and the flexible wiring board is bent, it is possible to prevent the bending deformation from returning due to the elasticity of the board (spring back).

次に、図2(d)〜(h)に示されるように、一般的なフォトリソグラフィー法を用いて、導電性金属層20を選択的にエッチングして配線パターン14が形成される。
まず、図2(d)に示すように配線パターン14が形成される領域に亘って、例えば、ネガ型フォトレジスト材料塗布溶液を塗布して感光性樹脂層24を形成する。このとき、ポジ型フォトレジスト材料を用いてもよい。
Next, as shown in FIGS. 2D to 2H, the conductive metal layer 20 is selectively etched using a general photolithography method to form the wiring pattern 14.
First, as shown in FIG. 2D, a photosensitive resin layer 24 is formed by applying, for example, a negative photoresist material coating solution over a region where the wiring pattern 14 is formed. At this time, a positive photoresist material may be used.

また、この感光性樹脂層24を形成する場合、感光性樹脂と溶媒とからなる樹脂組成物を塗布して形成してもよいし、感光性樹脂からなるシート(ドライフィルム)を打ち抜いてこれを貼着して形成してもよい。   Moreover, when forming this photosensitive resin layer 24, you may form by apply | coating the resin composition which consists of photosensitive resin and a solvent, or it punches out the sheet | seat (dry film) which consists of photosensitive resin, and this is formed. You may stick and form.

感光性樹脂と溶媒とからなる樹脂組成物を塗布して形成する場合、トンネル型加熱炉等の公知の乾燥手段により、溶媒成分を除去して乾燥硬化させることができる。一方、ネガ型フォトレジストが塗布されたドライフィルムをラミネートして感光性樹脂層を形成する場合、溶剤の除去時間等を必要とせず、効率よく感光性樹脂層24を形成することができる。   When a resin composition composed of a photosensitive resin and a solvent is applied and formed, the solvent component can be removed and dried and cured by a known drying means such as a tunnel-type heating furnace. On the other hand, when a photosensitive resin layer is formed by laminating a dry film coated with a negative photoresist, the photosensitive resin layer 24 can be efficiently formed without requiring a solvent removal time or the like.

感光性樹脂層24の厚さは、形成しようとする配線パターンの厚さに合わせて適宜設定することができるが、乾燥厚さで通常は2〜25μm、好ましくは4〜20μmの範囲内にある。   The thickness of the photosensitive resin layer 24 can be appropriately set according to the thickness of the wiring pattern to be formed, but is usually in the range of 2 to 25 μm, preferably 4 to 20 μm in terms of dry thickness. .

感光性樹脂層24を形成した後、図2(e)に示すように、スプロケットホール22内に位置決めピンを挿入して可撓性絶縁基板12の位置決めを行い、上記のようにして形成された感光性樹脂層24の表面に所定の回路を描画したフォトマスク28を配置して光源から照射光26を照射して、感光性樹脂層24を形成する感光性樹脂を露光・イメージングする。   After forming the photosensitive resin layer 24, the flexible insulating substrate 12 is positioned by inserting positioning pins into the sprocket holes 22 as shown in FIG. A photomask 28 on which a predetermined circuit is drawn is arranged on the surface of the photosensitive resin layer 24, and the irradiation light 26 is irradiated from the light source to expose and image the photosensitive resin forming the photosensitive resin layer 24.

ここで露光に用いる照射光26は、比較的波長の短い光、例えば紫外線を用いることにより、よりシャープに感光することができる。また、一般に紫外光によって感光する感光性樹脂は、可視光によっては感光され易いので、露光室はUVカットした状態に保持しなければならない。紫外線を使用して露光する場合、照射する紫外線量は、用いる感光性樹脂によって異なるが、通常は、50〜3000mJ/cm2、好ましくは80〜2500
mJ/cm2の範囲内にある。このような照射線量の紫外線を照射することにより、予定
している部分の感光性樹脂を確実に硬化させることができる。
The irradiation light 26 used for exposure here can be exposed more sharply by using light having a relatively short wavelength, for example, ultraviolet rays. In general, a photosensitive resin that is exposed to ultraviolet light is easily exposed to visible light, so the exposure chamber must be kept in a UV-cut state. In the case of exposure using ultraviolet rays, the amount of ultraviolet rays to be irradiated varies depending on the photosensitive resin used, but is usually 50 to 3000 mJ / cm 2 , preferably 80 to 2500.
It is in the range of mJ / cm 2 . By irradiating with such an irradiation dose of ultraviolet rays, the photosensitive resin of the planned portion can be reliably cured.

このように露光して感光性樹脂を硬化させた後、例えばアルカリ金属の炭酸塩の水溶液などにより現像すると、図2(f)に示すように、感光性樹脂の硬化体(マスキング材)24aが残存して、導電性金属層20の表面に所望の配線パターン(感光性樹脂の硬化体からなる所定のパターン)が形成されるようになる。   When the photosensitive resin is cured by exposure as described above, and developed with an aqueous solution of an alkali metal carbonate, for example, as shown in FIG. 2 (f), a cured body (masking material) 24a of the photosensitive resin is obtained. Remaining, a desired wiring pattern (a predetermined pattern made of a cured body of a photosensitive resin) is formed on the surface of the conductive metal layer 20.

次に、こうして形成された感光性樹脂の硬化体からなる所定のパターンをマスキング材として、このマスキング材によって被覆されていない導電性金属層20を選択的にエッチ
ング液で溶解して除去する(図2(g))。ここで使用することができるエッチング液としては、過硫酸カリウム(K228)を主成分として例えば100〜200g/リット
ルの濃度で含有するエッチング液や塩化第2銅エッチング液が挙げられる。
Next, the conductive metal layer 20 not covered with the masking material is selectively dissolved with an etching solution and removed by using a predetermined pattern made of the cured photosensitive resin thus formed as a masking material (see FIG. 2 (g)). Examples of the etching solution that can be used here include an etching solution containing potassium persulfate (K 2 S 2 O 8 ) as a main component and a concentration of, for example, 100 to 200 g / liter, and cupric chloride etching solution. .

さらに、図2(h)に示すように、感光性樹脂の硬化体からなる所定のパターンからなるマスキング材を、アルカリ金属水酸化物等のアルカリ成分を含有する剥離剤にて溶解除去することにより、配線パターン14を形成する。ここで、使用する剥離剤として、水酸化ナトリウム水溶液のようなアルカリ水溶液である。   Further, as shown in FIG. 2 (h), the masking material having a predetermined pattern made of a cured product of the photosensitive resin is dissolved and removed with a release agent containing an alkali component such as an alkali metal hydroxide. Then, the wiring pattern 14 is formed. Here, the release agent to be used is an alkaline aqueous solution such as an aqueous sodium hydroxide solution.

こうして形成された配線パターンに、図2(i)で示すように、インナーリードおよびアウターリードが露出するようにソルダーレジスト層32を形成する。ここで形成されるソルダーレジストの平均厚さは、通常5〜45μmの厚さの範囲内にあるが、上述の第1の折り曲げ部Dの部分がより折り曲げやすくなるように、第1の折り曲げ部Dにおけるソルダーレジストインキの塗布厚さを他の部分よりも相対的に薄くすることもできる。   As shown in FIG. 2I, a solder resist layer 32 is formed on the wiring pattern thus formed so that the inner lead and the outer lead are exposed. The average thickness of the solder resist formed here is usually in the range of 5 to 45 μm, but the first bent portion is more easily bent so that the portion of the first bent portion D can be bent more easily. The coating thickness of the solder resist ink in D can also be made relatively thinner than other portions.

このようなソルダーレジスト層は、上述のようにソルダーレジストインキをスクリーンマスクを用いて塗布することにより形成することもできるし、予め所定の形状に打ち抜いたソルダーレジストフィルムを貼着することにより形成することもできる。   Such a solder resist layer can be formed by applying a solder resist ink using a screen mask as described above, or can be formed by sticking a solder resist film punched into a predetermined shape in advance. You can also.

また、ソルダーレジスト層32を形成することなく、配線パターン14全体に薄いメッキ層を形成した後、上述の方法に従って、ソルダーレジスト層を形成し、ソルダーレジスト層から露出したインナーリードおよびアウターリードの表面に改めてメッキ処理をしてもよい。   Further, after forming a thin plating layer on the entire wiring pattern 14 without forming the solder resist layer 32, the solder resist layer is formed according to the above-described method, and the surfaces of the inner leads and outer leads exposed from the solder resist layer are formed. Alternatively, plating may be performed.

ここで行われるメッキ処理の例としては、錫メッキ処理、ニッケルメッキ処理、金メッキ処理、ニッケル−金メッキ処理、半田メッキ処理、鉛フリー半田メッキ処理、銀メッキ処理など種々のメッキ処理を挙げることができる。特に、電子部品実装領域において、バンプ電極が金バンプ電極である場合には、金と共晶物を形成してバンプ電極とインナーリードとの間で確実な電気的接続を形成するために、錫メッキ層を形成することが好ましい。また、メッキ層は、単層である必要はなく、同一の金属からなる多層メッキ層であってもよいし、異なる金属が積層された異種金属多層メッキ層であってもよい。   Examples of the plating process performed here include various plating processes such as a tin plating process, a nickel plating process, a gold plating process, a nickel-gold plating process, a solder plating process, a lead-free solder plating process, and a silver plating process. . In particular, in the electronic component mounting region, when the bump electrode is a gold bump electrode, in order to form a eutectic material with gold and form a reliable electrical connection between the bump electrode and the inner lead, It is preferable to form a plating layer. Moreover, the plating layer does not need to be a single layer, and may be a multilayer plating layer made of the same metal, or may be a dissimilar metal multilayer plating layer in which different metals are laminated.

このような工程を経て製造されたフレキシブル配線基板10には、図1(1)に示すように、可撓性絶縁基板12上に導電性金属層20に由来するインナーリード側配線パターン14aとアウターリード側配線パターン14bとが形成される。   As shown in FIG. 1 (1), the flexible wiring board 10 manufactured through such a process includes an inner lead side wiring pattern 14 a derived from the conductive metal layer 20 on the flexible insulating substrate 12 and an outer layer. Lead-side wiring pattern 14b is formed.

インナーリード形成領域Aに設けられた入力側配線パターン14aの先端は、ソルダー
レジスト層32から露出して入力側インナーリード17aを形成し、ソルダーレジスト層32に覆われた入力側配線パターン14aは、インナーリード形成領域Aを引き回された
後、第1の折り曲げ部Dを超えて電子部品実装領域Bに引き回される。この電子部品実装領域Bには電子部品実装予定部Cが形成されており、アウターリード形成領域Aから第1
の折り曲げ部Dを跨いで電子部品実装領域Bに引き回された入力側配線パターン14aは
、その先端は、電子部品実装予定部Cには臨んで張り出して入力側インナーリード17aを形成する。
The tip of the input side wiring pattern 14a provided in the inner lead formation region A is exposed from the solder resist layer 32 to form the input side inner lead 17a. The input side wiring pattern 14a covered with the solder resist layer 32 is: After being routed through the inner lead formation region A, the region is routed to the electronic component mounting region B beyond the first bent portion D. In this electronic component mounting region B, an electronic component mounting scheduled portion C is formed.
The input-side wiring pattern 14a routed to the electronic component mounting region B across the bent portion D extends to face the electronic component mounting planned portion C to form the input-side inner lead 17a.

他方、上記の入力側配線パターン14aと同様に、アウターリード形成領域10aには
、出力側配線パターン14bが形成され、この先端には、通常は、入力側アウターリード16aに対峙する位置に出力側アウターリード16bが形成されている。この出力側配線パターン14bは、アウターリード形成領域Aの表面を引き回され、折り曲げ部Dを乗り越えて電子部品実装領域Bに引き回れる。上述のように電子部品実装領域Bには、電子部品
実装予定部Cが形成されており、この電子部品実装予定部Cに張り出して形成された入力側インナーリード17aが形成性されている電子部品実装予定部Cの縁部と、出力側インナーリード17bが形成されている電子部品実装予定部Cの縁部とが対峙している。
On the other hand, similarly to the input side wiring pattern 14a, an output side wiring pattern 14b is formed in the outer lead forming region 10a, and the output side is usually at a position facing the input side outer lead 16a. Outer leads 16b are formed. The output side wiring pattern 14b is routed around the surface of the outer lead formation region A, gets over the bent portion D, and is routed to the electronic component mounting region B. As described above, the electronic component mounting area B is formed with the electronic component mounting planned portion C, and the input-side inner lead 17a formed so as to protrude from the electronic component mounting planned portion C is formed. The edge portion of the planned mounting portion C and the edge portion of the electronic component mounting planned portion C where the output-side inner leads 17b are formed face each other.

このようにして電子部品実装領域Bに形成された電子部品実装予定部Cに入力側インナーリー部17aと、出力側インナーリー部17bとは対峙して形成されており、本発明のフレキシブル配線基板においては、入力側インナーリード17aと、出力側インナーリード17bとは、この電子部品実装予定部18内で電気的に絶縁状態にある。   In this way, the input-side inner part 17a and the output-side inner part 17b are formed opposite to the electronic part mounting scheduled part C formed in the electronic part mounting region B, and the flexible wiring board of the present invention is formed. In FIG. 5, the input-side inner lead 17a and the output-side inner lead 17b are electrically insulated in the electronic component mounting scheduled portion 18.

なお、本発明のフレキシブル配線基板において、出力側配線パターン14bの出力側アウターリード16bおよび出力側インナーリード17b、並びに、入力側配線パターン1
4aの入力側アウターリード16aおよび出力側インナーリード17bの上面を除き、配線パターンの表面はソルダーレジストで被覆されている。
In the flexible wiring board of the present invention, the output side outer lead 16b and the output side inner lead 17b of the output side wiring pattern 14b, and the input side wiring pattern 1
The surface of the wiring pattern is covered with a solder resist except for the upper surfaces of the input side outer leads 16a and the output side inner leads 17b.

なお、本発明のフレキシブル配線基板は、通常は上記のようにアウターリード形成領域Aに、入力側アウターリード16a、出力側アウターリード16bを有するものであるが
、図3に示すように、入力側アウターリード16aあるいは出力側アウターリード16b
のいずれか一方が、電子部品実装領域Bに形成されていてもよい。
The flexible wiring board of the present invention usually has the input side outer lead 16a and the output side outer lead 16b in the outer lead formation region A as described above. However, as shown in FIG. Outer lead 16a or output-side outer lead 16b
Any one of these may be formed in the electronic component mounting region B.

図3には、出力側アウターリード16bが電子部品実装領域Bに形成された態様が示されている。図4に上記図1(2)に示したフレキシブル配線基板に電子部品Eを実装した本発明のフレキシブル半導体装置の例を示す。   FIG. 3 shows a mode in which the output-side outer lead 16b is formed in the electronic component mounting region B. FIG. 4 shows an example of the flexible semiconductor device of the present invention in which the electronic component E is mounted on the flexible wiring board shown in FIG.

図4に示すように、本発明のフレキシブル半導体装置は、アウターリード形成領域Aに、入力側アウターリード16aおよび出力側アウターリード16bが形成され、このアウ
ターリード16a、16bに接続している配線パターン14a、14bは、アウターリード形成領域Aを引き回された後、第1の折り曲げ部Dを超えて電子部品実装予定部Cが形成された電子部品実装領域Bで引き回されて、その先端は電子部品実装予定部Cに形成された入力側インナーリード17a、出力側インナーリード17bを形成している。図4に
は、電子部品Eおよび、電子部品実装領域Bの縁部に切欠き部Fが形成された態様が示されている。
As shown in FIG. 4, in the flexible semiconductor device of the present invention, an input-side outer lead 16a and an output-side outer lead 16b are formed in the outer lead formation region A, and the wiring pattern is connected to the outer leads 16a and 16b. 14a and 14b are routed around the outer lead formation region A, and then routed around the electronic component mounting region B where the electronic component mounting planned portion C is formed beyond the first bent portion D. An input-side inner lead 17a and an output-side inner lead 17b formed in the electronic component mounting portion C are formed. FIG. 4 shows an aspect in which a notch F is formed at the edge of the electronic component E and the electronic component mounting region B.

このような本発明のプリント配線基板の電子部品実装予定部Cに電子部品を実装することにより、このプリント配線基板をフレキシブル半導体装置として使用することができる。即ち、上記のようにして一端をアウターリードとし、他端をインナーリードとする配線パターンを二系列形成し、電子部品実装領域Cに形成されている電子部品実装予定部Cに所定の電子部品Eを実装する。この電子部品の実装には、可撓性絶縁基板の下面からボンディングツールを当接して、加熱しながら加圧し、さらに必要により超音波をかけることにより、たとえば電子部品のバンプ電極が金バンプ電極であり、インナーリード17a、17bの表面に錫メッキが施されている場合、加熱・加圧によって、金錫共晶物が生成し、電子部品Eと電子部品実装予定部Cにあるインナーリード17a、17bとの間に電気
的接続が形成される。
By mounting an electronic component on the electronic component mounting scheduled portion C of the printed wiring board of the present invention, the printed wiring board can be used as a flexible semiconductor device. That is, as described above, two series of wiring patterns having one end as an outer lead and the other end as an inner lead are formed, and a predetermined electronic component E is formed in an electronic component mounting planned portion C formed in the electronic component mounting region C. Is implemented. For mounting of this electronic component, a bonding tool is brought into contact with the lower surface of the flexible insulating substrate, heated and pressurized, and further subjected to ultrasonic waves as necessary. For example, the bump electrode of the electronic component is a gold bump electrode. Yes, when tin plating is applied to the surfaces of the inner leads 17a and 17b, a gold-tin eutectic is generated by heating and pressurization, and the inner leads 17a in the electronic component E and the electronic component mounting portion C, An electrical connection is formed with 17b.

この時の圧力は、通常は5〜50mg/μm2、好ましくは10〜40mg/μm2の範囲内に設定され、また、温度は、通常は400〜480℃、好ましくは410〜460℃の範囲内に設定される。また、超音波を使用する場合には、振幅0.5〜10μm、好まし
くは0.8〜8μmの超音波を使用する。このような条件で、0.1〜1秒で電子部品の
実装が完了する。
The pressure at this time is usually set in the range of 5 to 50 mg / μm 2 , preferably 10 to 40 mg / μm 2 , and the temperature is usually in the range of 400 to 480 ° C., preferably 410 to 460 ° C. Set in. Moreover, when using an ultrasonic wave, an ultrasonic wave with an amplitude of 0.5 to 10 μm, preferably 0.8 to 8 μm is used. Under such conditions, mounting of the electronic component is completed in 0.1 to 1 second.

上記のようにして電子部品を本発明のフレキシブル配線基板に実装した後、フレキシブ
ル配線基板と電子部品との接合状態を確実にするために、接合部分に熱硬化性樹脂からなる封止樹脂を充填して加熱硬化させる。このときの加熱硬化温度は、用いる封止樹脂によって異なるが、通常は80〜170℃、好ましくは90〜160℃の範囲内の温度にあり、この温度で加熱時間は通常は30〜300分間、好ましくは50〜240分間の範囲内にある。
After mounting the electronic component on the flexible wiring board of the present invention as described above, the bonding portion is filled with a sealing resin made of a thermosetting resin in order to ensure the bonding state between the flexible wiring board and the electronic component. And cured by heating. The heating and curing temperature at this time varies depending on the sealing resin used, but is usually 80 to 170 ° C., preferably 90 to 160 ° C., and the heating time is usually 30 to 300 minutes at this temperature. Preferably it is in the range of 50 to 240 minutes.

このように本発明のフレキシブル半導体装置は、アウターリード形成領域Aに入力側アウターリード16aおよび出力側アウターリード16bを有し、第1の折り曲げ部Dを介して電子部品実装領域Bが隣接した構成を有しており、電子部品実装用領域Bに形成された電子部品実装用底部Cには、インナーリードと電子部品に形成されたバンプ電極との間に電気的接合が形成されている。そして、この接合部分は通常は封止樹脂によって封止されて電子部品とフレキシブル配線基板とが一体化されている。   As described above, the flexible semiconductor device of the present invention has the input-side outer lead 16a and the output-side outer lead 16b in the outer lead forming region A, and the electronic component mounting region B is adjacent to the first bent portion D. In the electronic component mounting bottom C formed in the electronic component mounting region B, an electrical connection is formed between the inner lead and the bump electrode formed on the electronic component. And this junction part is normally sealed with sealing resin, and the electronic component and the flexible wiring board are integrated.

上記のような構成を有する半導体装置は、通常の半導体装置とは異なる方法で折り曲げて使用する。
まず、図4に示すように、本発明の半導体装置は、フレキシブル配線基板を形成するのに使用したスプロケットホールを含む外周部を切除するとともに、電子部品実装領域BのMD方向の前後部に切欠き部Fを形成する。この切欠き幅は、通常はフレキシブル配線基板のMD方向の最も長い部分の長さを100%としたときに、通常は85〜95%に設定される。この切欠き部Fを形成することにより、第1の折り曲げ部Dによる折り曲げを容
易にすると共に、異方導電接着を行う際に、アウターリードに直接熱および圧力をかけることができる。
The semiconductor device having the above configuration is used by being bent by a method different from that of a normal semiconductor device.
First, as shown in FIG. 4, the semiconductor device of the present invention cuts out the outer peripheral portion including the sprocket hole used to form the flexible wiring board, and cuts the front and rear portions in the MD direction of the electronic component mounting region B. A notch F is formed. This notch width is normally set to 85 to 95% when the length of the longest portion of the flexible wiring board in the MD direction is 100%. By forming the notch F, the first bent portion D can be easily bent, and heat and pressure can be directly applied to the outer lead when performing anisotropic conductive bonding.

また、この切欠き部Fは通常は2〜10mm、好ましくは3〜8mmの範囲内にある。こ
のような幅で切欠き部Fを形成することにより異方導電接着の際に使用する治具を容易に使用することができ、より高い精度で異方導電接着を行うことができる。
The notch F is usually in the range of 2 to 10 mm, preferably 3 to 8 mm. By forming the notch F with such a width, a jig used for anisotropic conductive bonding can be easily used, and anisotropic conductive bonding can be performed with higher accuracy.

上記のようにして第1の折り曲げ部Dで本発明の半導体(フレキシブル配線基板)を二つに折り曲げた状態を図5に示す。即ち、本発明では、電子部品E、配線パターン14a
、14b、入力側アウターリード16a、出力側アウターリード16bが外側になり、配線パターンが形成されていない絶縁フィルムの裏面が当接するように略180°折り曲げ、即ち二つに折り曲げる。このとき、アウターリード形成領域Aと電子部品実装領域Bとは略同一の面積を占有することから、折り曲げられたそれぞれの片は略同一の大きさになる。そして、この折り曲げ作業に際しては、電子部品実装領域Bの両側に切欠き部Fを形成することに第1折り曲げ部Dの位置が明確になり、より安定的に第1の折り曲げを行うことができる。また、液晶パネル等の表示手段や入力手段であるプリント基板との接続も容易に行うことができる。
FIG. 5 shows a state where the semiconductor (flexible wiring board) of the present invention is bent in two at the first bent portion D as described above. That is, in the present invention, the electronic component E, the wiring pattern 14a
, 14b, the input side outer lead 16a and the output side outer lead 16b are on the outside, and are bent approximately 180 °, that is, bent in two, so that the back surface of the insulating film on which no wiring pattern is formed abuts. At this time, since the outer lead formation region A and the electronic component mounting region B occupy substantially the same area, the bent pieces have substantially the same size. In this bending operation, the positions of the first bent portions D are made clear by forming the notches F on both sides of the electronic component mounting region B, and the first bending can be performed more stably. . Further, it can be easily connected to a display means such as a liquid crystal panel or a printed circuit board as input means.

なお、図5のように第1の折り曲げ部Dで本発明の半導体(フレキシブル配線基板)を折り曲げると、可撓性絶縁フィルムの有している弾性によって、本発明の半導体を図5も示すような形態に固定できないことがある。この場合には、電子部品Eが実装されている面とは反対の面に、たとえば両面接着テープなどを用いて本発明の半導体が図5に示される形態を保持するようにすることができる。また、絶縁基板の両面の導電性金属箔を積層した積層体を使用した場合には、第1の折り曲げ部分Dの裏面に、あるいはさらに、第2
の折り曲げ部の裏面に導電性金属箔を所定の幅で残すことにより、この裏面の導電性金属箔が屈曲して可撓性絶縁フィルムの弾性による復元力に勝ることがあり、安定した形状の図5示す形状を維持することができる。
As shown in FIG. 5, when the semiconductor (flexible wiring board) of the present invention is bent at the first bent portion D, the semiconductor of the present invention is also shown in FIG. 5 due to the elasticity of the flexible insulating film. May not be able to be fixed in any form. In this case, the semiconductor of the present invention can be held in the form shown in FIG. 5 by using, for example, a double-sided adhesive tape on the surface opposite to the surface on which the electronic component E is mounted. In addition, when a laminated body in which conductive metal foils on both sides of an insulating substrate are laminated is used, the second bent portion D is formed on the back surface of the first bent portion D, or in addition,
By leaving the conductive metal foil with a predetermined width on the back surface of the bent portion, the conductive metal foil on the back surface may bend and overcome the restoring force due to the elasticity of the flexible insulating film. The shape shown in FIG. 5 can be maintained.

上記のように第1の折り曲げ部Dを折り曲げた後、図6に示すように、電子部品Eが外側に位置するように、電子部品Eの両脇で、入力側アウターリード14aおよび出力側ア
ウターリードが該略電子部品Eの幅に近似する間隙を形成して対峙するように、第1の折り曲げ部Dに対して直交するように二か所で90度づつ第2の折り曲げを行う。このように二か所で略90度つづ第2の折り曲げを行うことにより、電子部品Eは、「コ」字型に折り曲げられた縦線の部分の外部に露出するように配置され、こうして配置された電子部品Eの周囲には電子部品Eから発生する熱を隠蔽するものがなく、高い効率で放熱することができる。
After the first bent portion D is bent as described above, the input-side outer leads 14a and the output-side outer leads are placed on both sides of the electronic component E so that the electronic component E is located outside as shown in FIG. The second bend is performed 90 degrees at two positions so as to be perpendicular to the first bend portion D so that the leads are opposed to each other so as to form a gap approximating the width of the electronic component E. In this way, by performing the second bending at approximately 90 degrees in two places, the electronic component E is disposed so as to be exposed to the outside of the portion of the vertical line folded in the “U” shape, and thus disposed. There is nothing that hides the heat generated from the electronic component E around the electronic component E, and the heat can be radiated with high efficiency.

このようにして第1の折り曲げを行った後、第2の折り曲げを行った半導体装置は、たとえば図7に示すように電子装置に組み込むことができる。図7は、本発明の半導体装置を表示装置を駆動させるための半導体として使用する例を示すものである。   After performing the first bending in this way, the semiconductor device subjected to the second bending can be incorporated into an electronic device as shown in FIG. 7, for example. FIG. 7 shows an example in which the semiconductor device of the present invention is used as a semiconductor for driving a display device.

即ち、図7において、入力手段34の端子部分に図6に示すように2回の折り曲げを経て「コ」字型に形成された本発明の半導体装置10は、本発明の半導体装置10の入力側アウターリード16aと入力手段に形成された電極とが電気的接合が形成できるように配
置され、通常の場合は、異方導電接着される。こうして入力側アウターリード16aに入
力された電気信号は、配線パターンから入力側インナーリード17aを経て電子部品Eに
供給される。この電子部品Eに入力された電子信号は、電子部品E内で処理されることにより、電子部品Eは発熱する。
That is, in FIG. 7, the semiconductor device 10 of the present invention formed in a “U” shape by bending the terminal portion of the input means 34 twice as shown in FIG. 6 is the input of the semiconductor device 10 of the present invention. The outer outer lead 16a and the electrode formed on the input means are arranged so that electrical connection can be formed, and in an ordinary case, anisotropic conductive bonding is performed. The electrical signal thus input to the input side outer lead 16a is supplied from the wiring pattern to the electronic component E via the input side inner lead 17a. The electronic signal input to the electronic component E is processed in the electronic component E, so that the electronic component E generates heat.

一方、この表示装置の筺体38の内面には放熱用金属板36が配置されており、この放熱用金属板36に電子部品Eの外側面が当接されている。この放熱用金属板36は、表示装置においては、より放熱効率が良い部分にまで延設されており、電子部品Eとの接触により集熱した熱を例えば放熱効率のよい、表示装置裏面の上部などで放熱する。   On the other hand, a heat radiating metal plate 36 is disposed on the inner surface of the housing 38 of the display device, and the outer surface of the electronic component E is in contact with the heat radiating metal plate 36. In the display device, the heat radiating metal plate 36 is extended to a portion where the heat dissipation efficiency is better, and the heat collected by the contact with the electronic component E is, for example, the upper portion on the rear surface of the display device where the heat dissipation efficiency is good. Dissipate heat.

他方、電子部品Eで処理された電気信号は、出力側インナーリード17bを通って配線パターン14bを介して出力側アウターリード16bに到達し、この電気信号は、出力側アウターリード16bと表示装置35に形成されたITO等の透明電極を例えば異方導電接着することによって接続して表示装置35に導入して、この表示装置35を制御する。   On the other hand, the electrical signal processed by the electronic component E passes through the output-side inner lead 17b and reaches the output-side outer lead 16b via the wiring pattern 14b, and this electrical signal is transmitted to the output-side outer lead 16b and the display device 35. The transparent electrode made of ITO or the like is connected by, for example, anisotropic conductive bonding and introduced into the display device 35 to control the display device 35.

表示装置35には通常は40万〜500万画素のピクセルが形成されており、表示装置の各ピクセルは、表示装置の底部縁の筺体内、および、側部縁の筺体内に配置された本発明の半導体装置によって制御されている。   The display device 35 is usually formed with pixels of 400,000 to 5 million pixels, and each pixel of the display device is a book placed in a housing at the bottom edge and a housing at the side edge of the display device. It is controlled by the semiconductor device of the invention.

また、放熱用金属板36を用いないで、電子部品Eを筐体38に高熱伝導性シートを介して接触させてもよい。この場合、高熱伝導性シートと、電子部品あるいは筐体との間に空気が入らないように接触させることが好ましい。   Further, the electronic component E may be brought into contact with the casing 38 via a high thermal conductive sheet without using the heat radiating metal plate 36. In this case, it is preferable to make contact between the high thermal conductivity sheet and the electronic component or the housing so that air does not enter.

なお、上記本発明のフレキシブル配線基板、半導体装置、表示装置の説明において、特に必要にない個所では、ソルダーレジスト層、メッキ層などは省略して図示している。
上述の表示装置の例としては、液晶表示装置、プラズマ表示装置、有機EL表示装置等が挙げられる。
In the description of the flexible wiring board, the semiconductor device, and the display device of the present invention, the solder resist layer, the plating layer, and the like are omitted where not particularly necessary.
Examples of the above display device include a liquid crystal display device, a plasma display device, an organic EL display device, and the like.

このように本発明のフレキシブル配線基板を用いることにより、表示装置を駆動させる電子部品近傍の温度を10〜35℃程度低く抑えることができることから、温度上昇による表示装置の誤作動が少なく、しかも表示装置を長期間安定に使用することができる。   As described above, by using the flexible wiring board of the present invention, the temperature in the vicinity of the electronic component for driving the display device can be suppressed to about 10 to 35 ° C., so that the malfunction of the display device due to the temperature rise is small and the display is performed. The apparatus can be used stably for a long time.

次に本発明の実施例および比較例を示して本発明のフレキシブル配線基板について、具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
[実施例1]
35μm厚のポリイミド層と8μmの銅層からなるCCL基板(エスパーフレックス、住友金属鉱山(株)製)を幅70mmにスリットした後、金型を配置しパンチングマシンで、CCL基板にスプロケットホール(1.981mm角、4.75mmピッチ)を形成した。
Next, although the Example of this invention and a comparative example are shown and the flexible wiring board of this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited by these.
[Example 1]
After slitting a CCL substrate (Esperflex, manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) consisting of a 35 μm thick polyimide layer and an 8 μm copper layer to a width of 70 mm, a mold is placed and a punching machine is used to sprocket holes (1 .981 mm square, 4.75 mm pitch).

次いで、このCCL基板に、ポジティブ型フォトレジスト溶液(FR1000、ロームアンドハース社製)を、ロールコーターによりCCL基板の銅面側に厚さ4〜5μmとなるように塗布し、トンネル型加熱炉に供して、100℃で1分間、フォトレジスト溶液の溶媒成分を蒸発させ、フォトレジスト成分を乾燥・硬化させて感光性樹脂層を形成した。なお、フォトレジスト溶液を塗布する際は、フォトレジスト溶液がスプロケットホール上には塗布されないように、60mm幅のロールコーターで塗布した。   Next, a positive type photoresist solution (FR1000, manufactured by Rohm and Haas) is applied to the CCL substrate by a roll coater so as to have a thickness of 4 to 5 μm on the copper surface side of the CCL substrate. Then, the solvent component of the photoresist solution was evaporated at 100 ° C. for 1 minute, and the photoresist component was dried and cured to form a photosensitive resin layer. In addition, when apply | coating a photoresist solution, it apply | coated with the roll coater of width 60mm so that a photoresist solution may not be apply | coated on a sprocket hole.

その後、出力側アウターリードおよび入力側アウターリードを備えた幅30mmのアウターリード形成領域と、入力側インナーリードおよび出力側インナーリードに電子部品を実装する部位(実装予定部)を備えた幅30mmの実装予定域が、描画されたガラス製フォトマスク(最小ピッチ30μm)を介してウシオ電機(株)社製の紫外線露光装置で紫外線を照射し、基板表面に形成された感光性樹脂層をイメージングした。   Thereafter, an outer lead forming area having a width of 30 mm provided with an output outer lead and an input outer lead, and a part having a width of 30 mm provided with a part for mounting an electronic component on the input inner lead and the output inner lead (part to be mounted). The area to be mounted is irradiated with ultraviolet rays by a UV exposure apparatus manufactured by USHIO INC. Through a drawn glass photomask (minimum pitch 30 μm), and the photosensitive resin layer formed on the substrate surface is imaged. .

露光・イメージング後、現像し、レジストパターンを形成した。その後、塩化第2銅エッチング液でスプレーエッチングして、配線パターンを形成し、水酸化ナトリウム溶液でレジストを剥離した。   After exposure and imaging, development was performed to form a resist pattern. Thereafter, spray etching was performed with a cupric chloride etchant to form a wiring pattern, and the resist was stripped with a sodium hydroxide solution.

次に、無電解メッキ液に浸漬して、回路パターン表面に錫めっき層を形成した。
最後に、ソルダーレジストをスクリーン印刷し、常法に従ってソルダーレジスト層を形成して、COF基板を得た。
Next, it was immersed in an electroless plating solution to form a tin plating layer on the circuit pattern surface.
Finally, a solder resist was screen printed, and a solder resist layer was formed according to a conventional method to obtain a COF substrate.

作成したCOF基板は、アウターリード形成領域および実装予定域の間を、配線パターンが形成されていない可撓性絶縁基板面が当接するように折曲できるとともに、可撓性絶縁基板面が当接するように180度折曲られたCOF基板を、可撓性絶縁基板が当接して形成された折曲部と直行し、実装予定部が外側に位置するように二か所で90度折曲させることができた。   The prepared COF substrate can be bent between the outer lead formation region and the planned mounting region so that the flexible insulating substrate surface on which the wiring pattern is not formed contacts, and the flexible insulating substrate surface contacts. The COF substrate bent 180 degrees in this way is perpendicular to the bent portion formed by contacting the flexible insulating substrate, and is bent 90 degrees at two locations so that the mounting planned portion is located outside. I was able to.

この場合、電子部品が、フレキシブル配線基板と、入力側アウターリードに接続された入力手段と、出力側アウターリードに接続された表示手段とに囲まれる構造にならず、図7に示すように、電子部品を放熱用金属板に、直接あるいは高熱伝導性シートを介して接触させることができた。   In this case, the electronic component does not have a structure surrounded by the flexible wiring board, the input unit connected to the input side outer lead, and the display unit connected to the output side outer lead, as shown in FIG. The electronic component could be brought into contact with the heat-dissipating metal plate directly or via a high thermal conductive sheet.

この構造を想定して、以下の工程により、発熱体42が両面粘着シート43を介して放放熱用金属板36およびCOF基板44に固定された構造体を形成し(図8(1))、放熱性試験に供した。   Assuming this structure, a structure in which the heat generating element 42 is fixed to the metal plate 36 for heat release / radiation and the COF substrate 44 via the double-sided adhesive sheet 43 is formed by the following steps (FIG. 8 (1)), It used for the heat dissipation test.

まず、以下に示すような、COF基板、発熱体、放熱用金属板および両面粘着シートを用意した。
COF基板:70mm×223mm×43μm厚さ(ポリイミド層35μmおよび銅層8μm)のエスパーフレックス(住友金属鉱山(株)製)
発熱体:50mm×15mm底部幅(10mm上部幅)×10mm高さ、抵抗値15Ωの発熱体(ARCOL社製)
放熱用金属板:300mm×460mm×1.6mm厚さ、鉄製放熱用金属板
両面粘着シート:25mm×70mm×40μm厚さの両面粘着シート
次いで、COF基板上に発熱体が固定される部分として、エッチングにより銅層を除去し、10mm×40mmのポリイミド露出部分を形成した。
First, a COF substrate, a heating element, a heat radiating metal plate, and a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet as shown below were prepared.
COF substrate: Esperflex (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) with a thickness of 70 mm × 223 mm × 43 μm (polyimide layer 35 μm and copper layer 8 μm)
Heating element: 50 mm × 15 mm bottom width (10 mm upper width) × 10 mm height, resistance 15Ω heating element (manufactured by ARCOL)
Heat dissipation metal plate: 300 mm × 460 mm × 1.6 mm thickness, iron heat dissipation metal plate Double-sided adhesive sheet: 25 mm × 70 mm × 40 μm-thick double-sided adhesive sheet Next, as a part where the heating element is fixed on the COF substrate, The copper layer was removed by etching, and a 10 mm × 40 mm polyimide exposed portion was formed.

また、発熱体を、両面粘着シートを介して放熱用金属板に固定し、さらに、放熱用金属板が固定された発熱体の面とは別の面を、同様の両面粘着シート43を介して、COF基板44のポリイミド露出部分に固定し、図8(1)の付け番48aに示すような構造体1を形成した。   Further, the heating element is fixed to the heat radiating metal plate via the double-sided adhesive sheet, and a surface different from the surface of the heating element to which the heat radiating metal plate is fixed is interposed via the similar double-sided adhesive sheet 43. The structure 1 as shown by the number 48a in FIG. 8 (1) was formed by fixing to the exposed portion of the polyimide on the COF substrate 44.

作成した構造体1の発熱体42に、整流器により1Aの電流を通電した。通電から30分まで5分ごと、発熱体42の表面温度を、発熱体側面から20mm離れた位置において赤外線温度計(IR−100:Custom社製)で測定した。なお、測定時の雰囲気温度は25℃であり、相対湿度(RH)は28%であった。   A current of 1 A was applied to the heating element 42 of the produced structure 1 by a rectifier. The surface temperature of the heating element 42 was measured with an infrared thermometer (IR-100: manufactured by Custom) at a position 20 mm away from the side surface of the heating element every 5 minutes from energization to 30 minutes. In addition, the atmospheric temperature at the time of a measurement was 25 degreeC, and relative humidity (RH) was 28%.

得られた結果は、図9のA(破線部分)に示す。
なお、ここで電子部品の代わりに発熱体を用いたのは、電子部品は種類、処理信号などによって発熱量が著しく変動し、このように発熱量が変動する電子部品を使用したのでは、本発明のフレキシブル配線基板の有する放熱特性を精度よく測定することができないので、一定の電流を流すことによる発熱量が一定である発熱体を電子部品に見立てることで、本発明のフレキシブル配線基板の有する放熱性を正確に測定するためである。
[比較例1]
導電金属層を有するCCL基板を幅35mmにスリットし、出力側アウターリードおよび入力側アウターリードが対向する領域間に、入力側インナーリード、出力側インナーリード、実装予定部を形成した以外は実施例1と同様にCOF基板を製造した。
The obtained result is shown in A (broken line part) of FIG.
Note that the heating element was used instead of the electronic component here because the amount of heat generated by the electronic component varies significantly depending on the type, processing signal, etc. Since the heat dissipation characteristic of the flexible wiring board of the invention cannot be measured with high accuracy, the flexible wiring board of the invention has the heat generating element that generates a constant amount of heat generated by flowing a constant current as an electronic component. This is to accurately measure the heat dissipation.
[Comparative Example 1]
Example except that a CCL substrate having a conductive metal layer is slit to a width of 35 mm, and an input side inner lead, an output side inner lead, and a portion to be mounted are formed between regions where the output side outer lead and the input side outer lead face each other. A COF substrate was produced in the same manner as in Example 1.

実装予定部に電子部品を実装したCOF基板2は、図10で示すように、電子部品Eが、ポリイミド基板と、入力手段34と、表示手段35とに囲まれていた。また、電子部品Eは、放熱用金属板36に直接接触しておらず、COF基板を構成するポリイミドフィルム基板を介して接触していた。   As shown in FIG. 10, the COF substrate 2 on which the electronic component is mounted on the part to be mounted has the electronic component E surrounded by the polyimide substrate, the input unit 34, and the display unit 35. Further, the electronic component E was not in direct contact with the heat radiating metal plate 36, but was in contact with the polyimide film substrate constituting the COF substrate.

この構造を想定して、以下の工程により、放熱用金属板36上に、両面粘着シート43を介してCOF基板44を配置し、このCOF基板44のポリイミドフィルム基板に、発熱体42が両面粘着シート43を介して固定され、さらに、銅積層板46の銅面側で発熱体42の上面が覆われている構造体を形成し(図8b)、放熱性試験に供した。   Assuming this structure, the COF substrate 44 is disposed on the heat radiating metal plate 36 via the double-sided adhesive sheet 43 by the following steps, and the heating element 42 is attached to the polyimide film substrate of the COF substrate 44 by double-sided adhesive. A structure that was fixed through the sheet 43 and further covered with the upper surface of the heating element 42 on the copper surface side of the copper laminate 46 was formed (FIG. 8b) and subjected to a heat dissipation test.

まず、実施例1と同様のCOF基板、発熱体、放熱用金属板および両面粘着シートとともに、以下の被覆用銅積層板を用意した。
放熱用金属板36上に、両面粘着シートを介してCOF基板のポリイミドフィルム面を固定し、COF基板上(銅面)に予めエッチングにより形成しておいたポリイミド露出部分に、両面粘着シートを介して発熱体を固定した。
First, the following coating copper laminated plates were prepared together with the same COF substrate, heating element, heat radiating metal plate and double-sided adhesive sheet as in Example 1.
The polyimide film surface of the COF substrate is fixed on the heat radiating metal plate 36 via the double-sided adhesive sheet, and the polyimide exposed portion previously formed by etching on the COF substrate (copper surface) is interposed via the double-sided adhesive sheet. The heating element was fixed.

さらに、発熱体およびCOF基板を被覆用銅積層板の銅層面で被覆して、被覆用銅積層板と発熱体およびCOF基板の接触部分を10mm×40mmの両面粘着シートで固定して、図8(2)の付け番48bに示すような構造体2を得た。   Further, the heating element and the COF substrate are coated with the copper layer surface of the coating copper laminate, and the contact portion between the coating copper laminate, the heating element and the COF substrate is fixed with a double-sided adhesive sheet of 10 mm × 40 mm, and FIG. The structure 2 as shown in the number 48b of (2) was obtained.

作成した構造体2の発熱体に、整流器により1Aの電流を通電し、通電から30分まで5分ごと、発熱体42の表面温度を、実施例1と同様の条件で測定した。
得られた結果は、図9のB(実線部分)に示す。
A current of 1 A was applied to the created heating element of the structure 2 by a rectifier, and the surface temperature of the heating element 42 was measured under the same conditions as in Example 1 every 5 minutes from the energization.
The obtained results are shown in FIG. 9B (solid line part).

図9に示されるように、構造体1では、COF基板に固定された発熱体は直接的に放熱用金属板に接触しているために、効率的に放熱することができ、試験直後(5分後)から30分後まで、若干の表面温度の上昇はみられるものの、発熱体の表面温度は80℃未満(最高温度:76.8℃)に抑えられていた。   As shown in FIG. 9, in the structure 1, since the heating element fixed to the COF substrate is in direct contact with the heat radiating metal plate, it can efficiently dissipate heat immediately after the test (5 The surface temperature of the heating element was suppressed to less than 80 ° C. (maximum temperature: 76.8 ° C.), although a slight increase in surface temperature was observed from 30 minutes to 30 minutes later.

一方、従来の構造を想定した構造体2の場合、発熱体は試験直後(5分後)から発熱体の表面温度が80℃を超える高温であった。さらに、試験開始後から経時的に表面温度が上昇し、試験開始30分後には、構造体1における発熱体の表面温度(76.8℃)と比べて20℃以上高い、97.3℃に達していた。この理由は、発熱体が熱伝導性の低い可撓性絶縁基板(ポリイミドフィルム)やその他の構造体に囲まれているために熱が滞留し、さらには、放熱用金属板へ熱を効果的に放出できなかったためであると考えられる。   On the other hand, in the case of the structure 2 assuming a conventional structure, the heating element had a surface temperature exceeding 80 ° C. immediately after the test (after 5 minutes). Furthermore, the surface temperature increased with time after the start of the test, and after 30 minutes from the start of the test, the surface temperature of the heating element in the structure 1 was higher by 20 ° C. or higher to 97.3 ° C. Had reached. The reason for this is that the heat generating element is surrounded by a flexible insulating substrate (polyimide film) with low thermal conductivity and other structures, and heat is retained, and further, heat is effectively applied to the metal plate for heat dissipation. This is thought to be because it was not able to be released.

本発明のフレキシブル配線基板によれば、複雑な製造工程を経ることなく、容易に製造することができ、電子部品を実装した場合、電子部品から発生する熱を効率的に放出することができるフレキシブル配線基板を提供することができる。   According to the flexible wiring board of the present invention, the flexible wiring board can be easily manufactured without going through a complicated manufacturing process, and the heat generated from the electronic component can be efficiently released when the electronic component is mounted. A wiring board can be provided.

また、そのようなフレキシブル配線基板を備えることにより、電子部品から発生する熱を効率的に放出することができるフレキシブル半導体装置や、放熱性が著しく高い液晶表示装置を提供することができる。   In addition, by providing such a flexible wiring board, it is possible to provide a flexible semiconductor device capable of efficiently releasing heat generated from electronic components and a liquid crystal display device with extremely high heat dissipation.

図1(1)は、本発明のフレキシブル配線基板を上面からみた状態を示す図である。また、図1(2)は、図1(1)の矢印部分におけるフレキシブル配線基板の断面図を示す図である。FIG. 1A is a view showing a state of the flexible wiring board of the present invention as viewed from above. Moreover, FIG.1 (2) is a figure which shows sectional drawing of the flexible wiring board in the arrow part of FIG.1 (1). 図2は、図1に示したフレキシブル配線基板を製造する工程の例を示す断面図である。2 is a cross-sectional view showing an example of a process for manufacturing the flexible wiring board shown in FIG. 図3は、本発明のフレキシブル配線基板の別の態様を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing another aspect of the flexible wiring board of the present invention. 図4は、フレキシブル配線基板に電子部品が搭載された本発明のフレキシブル半導体装置の例を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing an example of the flexible semiconductor device of the present invention in which electronic components are mounted on a flexible wiring board. 図5は、図4に示したフレキシブル半導体装置を第1の折り曲げ部で180度曲げた状態を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a state where the flexible semiconductor device shown in FIG. 4 is bent 180 degrees at the first bent portion. 図6は、図5に示した、第1の折り曲げ部で180度曲げた本発明のフレキシブル半導体装置を、電子部品Eが外側に面するように電子部品Eの脇で90度づつ二か所で折り曲げた本発明の半導体装置の例を示す斜視図である。FIG. 6 shows the flexible semiconductor device of the present invention bent 180 degrees at the first bent portion shown in FIG. 5 at two positions 90 degrees beside the electronic component E so that the electronic component E faces outward. It is a perspective view which shows the example of the semiconductor device of this invention bent by FIG. 図7は、図6に示した本発明のフレキシブル半導体装置を表示装置に組み込んだ状態を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state in which the flexible semiconductor device of the present invention shown in FIG. 6 is incorporated in a display device. 図8(1)は、本発明のフレキシブル配線基板を用いて形成された本発明のフレキシブル半導体装置における表面温度とその経時的変化の関係を表すための試験装置(構造体1)を模式的に示す図であり、図8(2)は従来の半導体装置に模して、電子部品の代わりに上記図8(1)で使用した発熱体を実装した従来のフレキシブル配線基板の表面温度とその経時的変化の関係を表すための試験装置(構造体2)を模式的に示す図である。FIG. 8 (1) schematically shows a test apparatus (structure 1) for representing the relationship between the surface temperature and its change over time in the flexible semiconductor device of the present invention formed using the flexible wiring board of the present invention. FIG. 8 (2) shows the surface temperature of a conventional flexible wiring board on which a heating element used in FIG. 8 (1) is mounted instead of an electronic component, and its aging, similar to a conventional semiconductor device. It is a figure which shows typically the test device (structure 2) for expressing the relationship of a mechanical change. 図9は、本発明のフレキシブル配線基板に電子部品を実装したときの発熱状態および従来の従来のフレキシブル配線基板に電子部品を実装したときの発熱状態を示すグラフである。FIG. 9 is a graph showing a heat generation state when an electronic component is mounted on the flexible wiring board of the present invention and a heat generation state when the electronic component is mounted on a conventional conventional flexible wiring board. 図10は、従来の表示装置における半導体装置の設置状態を示す図である。FIG. 10 is a diagram illustrating an installation state of a semiconductor device in a conventional display device.

符号の説明Explanation of symbols

A:アウターリード形成領域
B:電子部品実装領域
C:電子部品実装予定部
D:第1の折り曲げ部
E:電子部品
F:切欠き部
10:本発明のフレキシブル配線基板
10c:配線パターン面
11:本発明の別の態様のフレキシブル配線基板
12:可撓性絶縁基板
14a:入力側配線パターン
14b:出力側配線パターン
16:アウターリード
16a:入力側アウターリード
16b:出力側アウターリード
17:インナーリード
17a:入力側インナーリード
17b:出力側インナーリード
20:導電性金属層
22:スプロケットホール
24:感光性樹脂層
24a:感光性樹脂の硬化体(マスキング材)
26:照射光
28:フォトマスク
32:ソルダーレジスト層
33:本発明のフレキシブル配線基板を備えた液晶装置
34:入力手段
35:表示手段
36:放熱用金属板
38:筐体
39:従来のフレキシブル配線基板
40:従来の液晶表示装置
42:発熱体
43:両面粘着シート
44:COF基板
46:銅積層板
48a:構造体1
48b:構造体2
A: outer lead formation region B: electronic component mounting region C: electronic component mounting planned portion D: first bent portion E: electronic component F: notch portion 10: flexible wiring board 10c of the present invention: wiring pattern surface 11: Another embodiment of the flexible wiring board 12: flexible insulating board 14a: input side wiring pattern 14b: output side wiring pattern 16: outer lead 16a: input side outer lead 16b: output side outer lead 17: inner lead 17a : Input-side inner lead 17b: output-side inner lead 20: conductive metal layer 22: sprocket hole 24: photosensitive resin layer 24a: photosensitive resin cured body (masking material)
26: Irradiation light 28: Photomask 32: Solder resist layer 33: Liquid crystal device 34 equipped with the flexible wiring board of the present invention 34: Input means 35: Display means 36: Metal plate 38 for heat dissipation: Housing 39: Conventional flexible wiring Substrate 40: conventional liquid crystal display device 42: heating element 43: double-sided adhesive sheet 44: COF substrate 46: copper laminate 48a: structure 1
48b: Structure 2

Claims (9)

可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の略半分を占有するアウターリード形成領域と、該可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の残りの略半分を占有する電子部品実装領域とが、両領域の間に形成された第1折り曲げ部を介して隣接する可撓性絶縁基板と、該可撓性絶縁基板の一方の面に配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板であり、
該フレキシブル配線基板に形成された配線パターンの一方の端部を、入力側アウターリードおよび出力側アウターリードからなるアウターリードとし、他端を、入力側インナーリードおよび出力側インナーリードからなるインナーリードとすると共に、
該入力側インナーリードおよび入力側アウターリードが形成された配線パターンと、出力側インナーリードおよび出力側アウターリードが形成された配線パターンとは、電子部品実装領域に形成された電子部品実装予定部に、電子部品が実装されることにより、電気的に連結可能に形成されてなり、
該フレキシブル配線基板は、可撓性絶縁基板の配線パターンが形成されていない面が当接して配線パターンが外側に位置するように第1折り曲げ部で略180度折り曲げ可能に形成されていると共に、該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板を、電子部品実装領域を外側にして、該略180度折り曲げられる第1折り曲げ部に対して直行する方向にアウターリードが対面するように第2の折り曲げが可能なように形成されていることを特徴とするフレキシブル配線基板。
Outer lead formation region occupying approximately half of the tape width direction orthogonal to the feeding direction of the flexible substrate, and electronic component mounting occupying substantially the other half of the tape width direction orthogonal to the feeding direction of the flexible substrate A flexible insulating substrate adjacent to each other through a first bent portion formed between the two regions, and a flexible wiring substrate having a wiring pattern formed on one surface of the flexible insulating substrate ,
One end of the wiring pattern formed on the flexible wiring board is an outer lead composed of an input outer lead and an output outer lead, and the other end is an inner lead composed of an input inner lead and an output inner lead. And
The wiring pattern in which the input side inner lead and the input side outer lead are formed and the wiring pattern in which the output side inner lead and the output side outer lead are formed are formed on the electronic component mounting planned portion formed in the electronic component mounting region. By being mounted with electronic components, it is formed to be electrically connectable,
The flexible wiring board is formed so that it can be bent approximately 180 degrees at the first bent portion so that the surface of the flexible insulating substrate on which the wiring pattern is not formed comes into contact and the wiring pattern is located outside. The flexible printed circuit board bent approximately 180 degrees is subjected to a second bend such that the outer lead faces in a direction perpendicular to the first bent portion bent approximately 180 degrees with the electronic component mounting area on the outside. A flexible wiring board characterized by being formed as possible.
上記アウターリード形成領域に、入力側アウターリードと、出力側アウターリードが、該フレキシブル配線基板の対する縁部に対峙するように形成されてなり、アウターリード領域から入力側アウターリードを形成する配線パターンが引き回されて第1折り曲げ部を超えて電子部品実装領域の電子部品実装予定部で入力側インナーリードを形成すると共に、アウターリード領域から出力側アウターリードを形成する配線パターンが引き回されて第1折り曲げ部を超えて電子部品実装予定部の電子部品実装予定部で出力側インナーリードを形成することを特徴とする請求項第1項記載のフレキシブル配線基板。   In the outer lead formation region, an input side outer lead and an output side outer lead are formed so as to face the edge of the flexible wiring board, and a wiring pattern for forming an input side outer lead from the outer lead region The input inner lead is formed in the electronic component mounting planned portion of the electronic component mounting region beyond the first bent portion, and the wiring pattern forming the output outer lead is routed from the outer lead region. 2. The flexible wiring board according to claim 1, wherein an output-side inner lead is formed at an electronic component mounting scheduled portion of the electronic component mounting planned portion beyond the first bent portion. 上記フレキシブル配線基板の送り方向におけるアウターリード形成領域の長さが最も広く形成されており、該フレキシブル配線基板の幅が、第1折り曲げ部から電子部品実装領域にわたって、アウターリード形成領域のフレキシブル配線基板の幅(100%)に対して85〜95%に減少するように送り方向の前後の縁部に可撓性絶縁基板の切欠き部が形成されていることを特徴とする請求項第1項記載のフレキシブル配線基板。   The length of the outer lead forming region in the feeding direction of the flexible wiring substrate is formed to be the widest, and the width of the flexible wiring substrate extends from the first bent portion to the electronic component mounting region in the outer lead forming region. 2. A notch portion of a flexible insulating substrate is formed at the front and rear edge portions in the feed direction so as to decrease to 85 to 95% with respect to the width (100%). The flexible wiring board as described. 上記該フレキシブル配線基板の可撓性絶縁基板の配線パターンが形成されていない面に、該可撓性基板が第1折り曲げ部で略180度折り曲げられたときに、この折り曲げ状態を維持するために可撓性絶縁基板の裏面の一部に接着剤が配置可能に形成されていることを特徴とする請求項第1項記載のフレキシブル配線基板。   In order to maintain this bent state when the flexible substrate is bent at approximately 180 degrees at the first bent portion on the surface of the flexible wiring substrate on which the wiring pattern of the flexible insulating substrate is not formed. 2. The flexible wiring board according to claim 1, wherein an adhesive is formed on a part of the back surface of the flexible insulating substrate so as to be disposed. 可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の略半分を占有するアウターリード形成領域と、該可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の残りの略半分を占有する電子部品実装領域とが、両領域の間に形成された第1折り曲げ部を介して隣接する可撓性絶縁基板と、該可撓性絶縁基板の一方の面に配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板であり、該フレキシブル配線基板に形成された配線パターンの一方の端部を、入力側アウターリードおよび出力側アウターリードからなるアウターリードとし、他端を、入力側インナーリードおよび出力側インナーリードからなるインナーリードとすると共に、
該入力側インナーリードおよび入力側アウターリードが形成された配線パターンと、出力側インナーリードおよび出力側アウターリードが形成された配線パターンとは、電子部品実装領域に形成された電子部品実装予定部に実装された電子部品によって電気的に接続
されてなり、
該電子部品が実装されたフレキシブル配線基板は、可撓性絶縁基板の配線パターンが形成されていない面が当接して配線パターンが外側に位置するように第1折り曲げ部で略180度折り曲げられていると共に、該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板を、電子部品実装領域の電子部品実装予定部に実装された電子部品が外側に位置するように、第1折り曲げ部で該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板が、第1折り曲げ部に対して直行する方向にアウターリードが対面するように再び折り曲げられていることを特徴とするフレキシブル半導体装置。
Outer lead formation region occupying approximately half of the tape width direction orthogonal to the feeding direction of the flexible substrate, and electronic component mounting occupying substantially the other half of the tape width direction orthogonal to the feeding direction of the flexible substrate A flexible insulating substrate adjacent to each other through a first bent portion formed between the two regions, and a flexible wiring substrate having a wiring pattern formed on one surface of the flexible insulating substrate One end of the wiring pattern formed on the flexible wiring board is an outer lead composed of an input outer lead and an output outer lead, and the other end is an inner lead composed of an input inner lead and an output inner lead. And
The wiring pattern in which the input side inner lead and the input side outer lead are formed and the wiring pattern in which the output side inner lead and the output side outer lead are formed are formed on the electronic component mounting planned portion formed in the electronic component mounting region. Electrically connected by the mounted electronic components,
The flexible wiring board on which the electronic component is mounted is bent by approximately 180 degrees at the first bending portion so that the surface of the flexible insulating substrate on which the wiring pattern is not formed contacts and the wiring pattern is located outside. In addition, the flexible printed circuit board bent at about 180 degrees is bent at about 180 degrees at the first bent portion so that the electronic component mounted on the electronic component mounting planned portion in the electronic component mounting area is located outside. A flexible semiconductor device, wherein the flexible wiring board is bent again so that the outer leads face each other in a direction perpendicular to the first bent portion.
上記第1折り曲げ部で可撓性絶縁基板の裏面側が当接するように略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板の可撓性絶縁基板の裏面側に接着剤が配置され、該接着剤によって、当接した可撓性絶縁基板の少なくとも一部が相互に貼着されていることを特徴とする請求項第5項記載のフレキシブル半導体装置。   An adhesive is disposed on the back side of the flexible insulating substrate of the flexible wiring board that is bent at approximately 180 degrees so that the back side of the flexible insulating substrate abuts at the first bent portion. 6. The flexible semiconductor device according to claim 5, wherein at least a part of the flexible insulating substrates are attached to each other. 可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の略半分を占有するアウターリード形成領域と、該可撓性基板の送り方向に直行するテープ幅方向の残りの略半分を占有する電子部品実装領域とが、両領域の間に形成された第1折り曲げ部を介して隣接する可撓性絶縁基板と、該可撓性絶縁基板の一方の面に配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板であり、該フレキシブル配線基板に形成された配線パターンの一方の端部を、入力側アウターリードおよび出力側アウターリードからなるアウターリードとし、他端を、入力側インナーリードおよび出力側インナーリードからなるインナーリードとすると共に、 該入力側インナーリードおよび入力側アウターリードが形成された配線パターンと、出力側インナーリードおよび出力側アウターリードが形成された配線パターンとは、電子部品実装領域に形成された電子部品実装予定部に実装された電子部品によって電気的に接続されてなり、
該電子部品が実装されたフレキシブル配線基板は、可撓性絶縁基板の配線パターンが形成されていない面が当接して配線パターンが外側に位置するように第1折り曲げ部で略180度折り曲げられていると共に、該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板を、電子部品実装領域の電子部品実装予定部に実装された電子部品が外側に位置するように、第1折り曲げ部で該略180度折り曲げられたフレキシブル配線基板が、第1折り曲げ部に対して直行する方向にアウターリードが対面するように再び折り曲げられてフレキシブル半導体装置を形成してなり、
該フレキシブル半導体装置の出力側アウターリードと、表示装置に形成された透明電極との間に異方導電性接着剤により電気的に接続が確立されていると共に、入力側アウターリードが、表示装置を駆動させる電子部品回路と電気的に接続されていてなり、
該フレキシブル半導体に実装された半導体が、放熱用金属板に当接されていることを特徴とする表示装置。
Outer lead formation region occupying approximately half of the tape width direction orthogonal to the feeding direction of the flexible substrate, and electronic component mounting occupying substantially the other half of the tape width direction orthogonal to the feeding direction of the flexible substrate A flexible insulating substrate adjacent to each other through a first bent portion formed between the two regions, and a flexible wiring substrate having a wiring pattern formed on one surface of the flexible insulating substrate One end of the wiring pattern formed on the flexible wiring board is an outer lead composed of an input outer lead and an output outer lead, and the other end is an inner lead composed of an input inner lead and an output inner lead. A wiring pattern formed with the input inner lead and the input outer lead, and the output inner lead and the output outer. -The wiring pattern on which the lead is formed is electrically connected by the electronic component mounted on the electronic component mounting planned portion formed in the electronic component mounting region,
The flexible wiring board on which the electronic component is mounted is bent by approximately 180 degrees at the first bending portion so that the surface of the flexible insulating substrate on which the wiring pattern is not formed contacts and the wiring pattern is located outside. In addition, the flexible printed circuit board bent at about 180 degrees is bent at about 180 degrees at the first bent portion so that the electronic component mounted on the electronic component mounting planned portion in the electronic component mounting area is located outside. The flexible printed circuit board is bent again so that the outer leads face each other in a direction perpendicular to the first bent portion to form a flexible semiconductor device,
An electrical connection is established with an anisotropic conductive adhesive between the output-side outer lead of the flexible semiconductor device and the transparent electrode formed on the display device, and the input-side outer lead is connected to the display device. It is electrically connected to the electronic component circuit to be driven,
A display device, wherein a semiconductor mounted on the flexible semiconductor is in contact with a metal plate for heat dissipation.
上記放熱用金属板が、表示装置の筐体の縁部内側に配置され、該放熱用金属板に当接する電子部品から発生する熱を、該放熱用金属板の熱伝導性を利用して、表示装置の筐体外部に排出させることを特徴とする請求項第7項記載の表示装置。   The heat dissipating metal plate is disposed inside the edge of the housing of the display device, and heat generated from electronic components in contact with the heat dissipating metal plate is utilized using the thermal conductivity of the heat dissipating metal plate, The display device according to claim 7, wherein the display device is discharged outside the housing of the display device. 上記表示装置が、液晶表示装置、プラズマ表示装置、あるいは、有機EL表示装置のいずれかであることを特徴とする請求項第7項記載の表示装置。   8. The display device according to claim 7, wherein the display device is a liquid crystal display device, a plasma display device, or an organic EL display device.
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