JP2009265639A - Method of manufacturing liquid crystal display - Google Patents

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Hiroaki Nishikubo
宏昭 西窪
Takahiro Kimura
貴弘 木村
Kazuki Naoki
一樹 直木
Kyo Shibahara
亨 芝原
Katsumi Hara
勝巳 原
Michio Doi
道雄 土井
Masayoshi Kuzawa
昌祥 九澤
Hideaki Kato
秀明 加藤
Ryusuke Hayashi
隆介 林
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Natoco Co Ltd
Nagase and Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Natoco Co Ltd
Nagase and Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a liquid crystal display, for manufacturing a high-quality liquid crystal display by properly arranging spacer particles. <P>SOLUTION: The method of the manufacturing liquid crystal display includes: a spacer region forming step (S1) of forming a spacer region containing spacer particles by jetting a spacer particle dispersion liquid wherein spacer particles are dispersed over a transparent substrate by an inkjet system, a drying step (S3) of heating the transparent substrate where the spacer region is formed to vaporize a volatile component of the spacer particle dispersion liquid and fix the spacer particles in the spacer region on the transparent substrate, and a cleaning and removing step of cleaning the transparent substrate where the spacer particles are fixed with a liquid to remove spacer particles which are not in the spacer region. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

この発明は、基板間にスペーサ粒子を介在させることにより液晶層封入用のギャップを形成する液晶表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device in which a gap for enclosing a liquid crystal layer is formed by interposing spacer particles between substrates.

液晶表示装置は、2枚の基板の間に、透明電極、カラーフィルターおよびブラックマトリックスが配置され、さらに透明電極間の空間に液晶が封入された構成を有する。このときに、2枚の基板の間隔を規制し、液晶層の厚みを適正にするために、スペーサが形成される。   The liquid crystal display device has a configuration in which a transparent electrode, a color filter, and a black matrix are disposed between two substrates, and liquid crystal is sealed in a space between the transparent electrodes. At this time, a spacer is formed in order to regulate the distance between the two substrates and make the thickness of the liquid crystal layer appropriate.

従来、このスペーサは、フォトリソ法を利用して形成されていたが、マスクを使用した工程が必要となり作業工程が煩雑となるばかりではなく、材料の使用効率が悪いという問題がある。このため、基板にインクジェット方式でスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出することにより、スペーサ粒子でスペーサを形成する液晶表示装置の製造方法が提案されている(特許文献1参照)。   Conventionally, this spacer has been formed by using a photolithographic method. However, there is a problem that a process using a mask is required and the work process is complicated, and the use efficiency of the material is poor. For this reason, a method of manufacturing a liquid crystal display device in which spacers are formed with spacer particles by discharging a spacer particle dispersion liquid in which spacer particles are dispersed by an inkjet method on a substrate has been proposed (see Patent Document 1).

特開2005−4094号公報JP 2005-4094 A

インクジェット方式で液体を吐出したときには、サテライトと呼称される主液滴とは分離した微小な液滴が発生する。インクジェット方式においては、インクジェットノズルと基板とを相対的に移動させながら液体を吐出する方式であるため、サテライトと呼称される液滴は、主液滴とは異なる位置に滴下される。   When liquid is ejected by the ink jet method, minute droplets separated from main droplets called satellites are generated. In the ink jet system, since the liquid is ejected while relatively moving the ink jet nozzle and the substrate, a droplet called a satellite is dropped at a position different from the main droplet.

このため、スペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液をインクジェットヘッドにより吐出した場合、スペーサとなるスペーサ領域以外の領域に滴下したサテライトにスペーサ粒子が存在する場合がある。このようなスペーサ粒子が液晶表示装置におけるカラーフィルター部分に存在すると、その部分の液晶分子が正常な配向動作を実行できないことから、光漏れや光抜けといった品質低下の原因となる。   For this reason, when the spacer particle dispersion liquid in which the spacer particles are dispersed is discharged by the ink jet head, the spacer particles may be present in the satellite dripped in the region other than the spacer region to be the spacer. If such spacer particles are present in the color filter portion of the liquid crystal display device, the liquid crystal molecules in that portion cannot perform normal alignment operation, which causes quality deterioration such as light leakage and light leakage.

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、スペーサ粒子を適正に配置することにより高品質な液晶表示装置を製造することが可能な液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of manufacturing a high-quality liquid crystal display device by appropriately arranging spacer particles. And

請求項1に記載の発明は、基板間にスペーサ粒子を介在させることにより液晶層封入用のギャップを形成する液晶表示装置の製造方法であって、基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出することによりスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成するスペーサ領域形成工程と、前記スペーサ領域が形成された基板を乾燥させることにより、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるとともに、前記スペーサ領域のスペーサ粒子と基板を固着させる乾燥工程と、前記スペーサ粒子が固着した基板を液体で洗浄することにより、前記スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子を除去する洗浄除去工程とを備えることを特徴とする。   The invention according to claim 1 is a method of manufacturing a liquid crystal display device in which a gap for enclosing a liquid crystal layer is formed by interposing spacer particles between substrates, and the spacer particles are dispersed on the substrate by an ink jet method. A spacer region forming step of forming a spacer region containing spacer particles by discharging the spacer particle dispersion, and evaporating volatile components from the spacer particle dispersion by drying the substrate on which the spacer region is formed, A drying step of fixing the spacer particles and the substrate in the spacer region, and a cleaning and removing step of removing the spacer particles existing outside the spacer region by cleaning the substrate to which the spacer particles are fixed with a liquid. Features.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記洗浄除去工程においては、基板に対して、前記スペーサ領域のスペーサ粒子の大部分は除去されないが、前記スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子は除去される程度の圧力の液体を基板の表面に吐出する。   According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, in the cleaning and removing step, most of the spacer particles in the spacer region are not removed from the substrate, but are present outside the spacer region. The spacer particles are ejected to the surface of the substrate with a liquid having a pressure enough to be removed.

請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記液体は純水であり、前記洗浄除去工程においては、基板を水平方向に搬送しながら基板に向けて高圧の純水を噴出する。   According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the liquid is pure water, and in the cleaning and removing step, high-pressure pure water is applied toward the substrate while the substrate is conveyed in the horizontal direction. Erupts.

請求項4に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記液体は純水中に気体を混合させたものであり、前記洗浄除去工程においては、基板を水平方向に搬送しながら基板に向けて気体を混合させた高圧の純水を噴出する。   According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the liquid is obtained by mixing a gas in pure water. In the cleaning and removing step, the substrate is conveyed while being transported in the horizontal direction. High-pressure pure water mixed with gas is spouted toward

請求項5に記載の発明は、請求項2乃至請求項4のいずれかに記載の発明において、前記乾燥工程は、基板を第1の温度で加熱するプリベーク工程と、基板を前記第1の温度よりも高い第2の温度で加熱するポストベーク工程とから構成される。   The invention according to claim 5 is the invention according to any one of claims 2 to 4, wherein the drying step includes a pre-bake step of heating the substrate at a first temperature, and the substrate at the first temperature. And a post-baking step of heating at a higher second temperature.

請求項6に記載の発明は、請求項2乃至請求項5のいずれかに記載の発明において、前記スペーサ領域形成工程において必要な量より多量のスペーサ分散液を吐出することにより、乾燥工程終了後に必要な量より多量のスペーサ粒子を基板に固着させるとともに、前記洗浄除去工程において前記必要な量を越えた余分なスペーサ粒子を前記スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子とともに除去する。   According to a sixth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the second to fifth aspects, after the drying step is completed, a larger amount of the spacer dispersion is discharged than is necessary in the spacer region forming step. A larger amount of spacer particles than the necessary amount are fixed to the substrate, and excess spacer particles exceeding the necessary amount are removed together with the spacer particles existing outside the spacer region in the cleaning and removing step.

請求項1および請求項2に記載の発明によれば、スペーサ粒子を適正に配置することができ、高品質な液晶表示装置を製造することが可能となる。   According to the first and second aspects of the invention, the spacer particles can be properly arranged, and a high-quality liquid crystal display device can be manufactured.

請求項3に記載の発明によれば、高圧の純水により、スペーサ領域のスペーサ粒子の大部分を残したまま、スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子を良好に除去することが可能となる。   According to the third aspect of the present invention, it is possible to satisfactorily remove the spacer particles existing outside the spacer region while leaving most of the spacer particles in the spacer region with high-pressure pure water.

請求項4に記載の発明によれば、高圧の気体を混合させた純水により、スペーサ領域のスペーサ粒子の大部分を残したまま、スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子を良好に除去することが可能となる。   According to the fourth aspect of the present invention, the pure water mixed with the high-pressure gas can satisfactorily remove the spacer particles existing outside the spacer region while leaving most of the spacer particles in the spacer region. It becomes possible.

請求項5に記載の発明によれば、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるてスペーサ粒子を十分に凝縮させた後、それらのスペーサ粒子と基板を十分に固着させることが可能となる。   According to the fifth aspect of the present invention, it is possible to sufficiently fix the spacer particles and the substrate after the spacer particles are sufficiently condensed by evaporating the volatile component from the spacer particle dispersion.

請求項6に記載の発明によれば、スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子を除去するときに、スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子とともにスペーサ領域に存在する必要な量を越えた余分なスペーサ粒子が除去されても、スペーサ領域において必要な量のスペーサ粒子を確保することができる。   According to the invention described in claim 6, when removing the spacer particles existing outside the spacer region, extra spacer particles exceeding the necessary amount existing in the spacer region together with the spacer particles existing outside the spacer region are present. Even if removed, a necessary amount of spacer particles can be secured in the spacer region.

この発明に係る液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。3 is a flowchart showing a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention. 表面にスペーサ粒子分散液が吐出された後の透明基板1の一部を示す部分表面図である。It is a partial surface view which shows a part of transparent substrate 1 after spacer particle dispersion liquid is discharged to the surface. 透明基板1を洗浄装置により洗浄する状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state which wash | cleans the transparent substrate 1 with a washing | cleaning apparatus. 透明基板1を洗浄装置により洗浄する状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which wash | cleans the transparent substrate 1 with a washing | cleaning apparatus. 純水吐出ノズル3と透明基板1との距離H1を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the distance H1 of the pure water discharge nozzle 3 and the transparent substrate 1. FIG. この発明の第2実施形態において透明基板1を洗浄装置により洗浄する状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state which wash | cleans the transparent substrate 1 in 2nd Embodiment of this invention with a washing | cleaning apparatus. この発明の第2実施形態において透明基板1を洗浄装置により洗浄する状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which wash | cleans the transparent substrate 1 with a washing | cleaning apparatus in 2nd Embodiment of this invention. 二流体ノズル8を備えたスプレーパイプ2の概要図である。It is a schematic diagram of the spray pipe 2 provided with the two-fluid nozzle 8. FIG. 二流体ノズル8の一部を破断した斜視図である。It is the perspective view which fractured | ruptured a part of two fluid nozzle 8. FIG. 二流体ノズル8と透明基板1との距離H2を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the distance H2 of the two-fluid nozzle 8 and the transparent substrate 1. FIG.

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、この発明に係る液晶表示装置の製造方法を示すフローチャートである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a flowchart showing a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.

この液晶表示装置の製造方法は、液晶の封入工程等の前工程として実行されるものであり、透明基板間にスペーサ粒子を介在させることにより液晶層封入用のギャップを形成するためのものである。   This method of manufacturing a liquid crystal display device is executed as a pre-process such as a liquid crystal encapsulation process, and is for forming a gap for encapsulating a liquid crystal layer by interposing spacer particles between transparent substrates. .

この発明に係る液晶表示装置の製造方法を実行するときには、最初に、スペーサ領域生成工程を実行する(ステップS1)。このスペーサ領域生成工程においては、透明基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出することによりスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成する。このときには、多数のインクジェットノズルを列設したインクジェットヘッドを透明基板に対して相対的に移動することにより、透明基板の表面にスペーサ粒子分散液を吐出するインクジェット方式の画像記録装置が使用される。   When the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is executed, first, a spacer region generation step is executed (step S1). In this spacer region generating step, a spacer region containing spacer particles is formed by discharging a spacer particle dispersion liquid in which spacer particles are dispersed by an inkjet method on a transparent substrate. In this case, an ink jet type image recording apparatus is used in which a spacer particle dispersion is discharged onto the surface of a transparent substrate by moving an ink jet head in which a large number of ink jet nozzles are arranged relative to the transparent substrate.

図2は、表面にスペーサ粒子分散液が吐出された後の透明基板1の一部を示す部分表面図である。   FIG. 2 is a partial surface view showing a part of the transparent substrate 1 after the spacer particle dispersion is discharged onto the surface.

この透明基板1の表面には、それぞれレッドのカラーフィルターの領域Rと、グリーンのカラーフィルターの領域Gと、ブルーのカラーフィルターの領域Bと、これらの領域を区画するブラックマトリックス7の領域とが構成される。そして、スペーサ粒子分散液は、ブラックマトリックス7の領域に向けて吐出され、そこにスペーサ領域5が形成される。   On the surface of the transparent substrate 1, there are a red color filter region R, a green color filter region G, a blue color filter region B, and a black matrix 7 region defining these regions. Composed. Then, the spacer particle dispersion is discharged toward the region of the black matrix 7 to form the spacer region 5 there.

このとき、インクジェット方式でスペーサ粒子分散液を吐出したときには、サテライトと呼称される主液滴とは分離した極微小な液滴が発生する。そして、インクジェットノズルと透明基板とを相対的に移動させながらスペーサ粒子分散液を吐出することから、サテライトと呼称される液滴は主液滴とは異なる位置に滴下される。この液滴にスペーサ粒子が存在していた場合には、図2における拡大図に示すように、スペーサ領域5から分離したスペーサ粒子6が透明基板1上に存在することになる。このようなスペーサ粒子6がカラーフィルター領域に存在すると、その部分の液晶分子が正常な配向動作を実行できないことから、光漏れや光抜けといった品質低下の原因となる。このため、この発明においては、後段の洗浄工程において、このスペーサ粒子6を除去するようにしている。   At this time, when the spacer particle dispersion is ejected by the ink jet method, extremely small droplets separated from main droplets called satellites are generated. Then, since the spacer particle dispersion is discharged while relatively moving the ink jet nozzle and the transparent substrate, a droplet called a satellite is dropped at a position different from the main droplet. When spacer particles are present in this droplet, the spacer particles 6 separated from the spacer region 5 are present on the transparent substrate 1 as shown in the enlarged view of FIG. When such spacer particles 6 are present in the color filter region, the liquid crystal molecules in that portion cannot perform normal alignment operation, which causes a deterioration in quality such as light leakage and light leakage. For this reason, in the present invention, the spacer particles 6 are removed in the subsequent cleaning step.

再度、図1を参照して、スペーサ領域生成工程に引き続き、乾燥工程を実行する(ステップS2)。この乾燥工程においては、透明基板1をホットプレートに搬送し、この透明基板1をホットプレート上で摂氏100度〜摂氏200度程度まで加熱することにより、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるとともに、スペーサ領域5のスペーサ粒子を透明基板1に固着させる工程である。   Referring to FIG. 1 again, a drying process is executed following the spacer region generation process (step S2). In this drying step, the transparent substrate 1 is transported to a hot plate, and the transparent substrate 1 is heated to about 100 degrees Celsius to about 200 degrees Celsius on the hot plate, thereby evaporating volatile components from the spacer particle dispersion. In this step, the spacer particles in the spacer region 5 are fixed to the transparent substrate 1.

この工程においては、最初にスペーサ粒子分散液から揮発成分が蒸発することから、表面張力によりスペーサ領域5のスペーサ粒子同士が互いに集まって接触する。そして、それらが焼成されて互いに固着するとともに、透明基板1の表面に対しても強い力で固着する。このとき、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子は、単一でそこに存在することから、透明基板1の表面に固定はされるが強い力で固着することはない。   In this step, since the volatile components are first evaporated from the spacer particle dispersion, the spacer particles in the spacer region 5 gather together and come into contact with each other due to surface tension. Then, they are baked and fixed to each other, and are also fixed to the surface of the transparent substrate 1 with a strong force. At this time, since the spacer particles existing outside the spacer region 5 are single and exist there, they are fixed to the surface of the transparent substrate 1 but are not fixed with a strong force.

なお、この乾燥工程は、基板を第1の温度で加熱するプリベーク工程と、基板を前記第1の温度よりも高い第2の温度で加熱するポストベーク工程とから構成されることが好ましい。このような構成とすることにより、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるてスペーサ粒子を十分に凝縮させた後、それらのスペーサ粒子と基板を十分に固着させることが可能となる。   In addition, it is preferable that this drying process is comprised from the prebaking process which heats a board | substrate at 1st temperature, and the post-baking process which heats a board | substrate at 2nd temperature higher than said 1st temperature. With such a configuration, it is possible to sufficiently fix the spacer particles and the substrate after the spacer particles are sufficiently condensed by evaporating the volatile component from the spacer particle dispersion.

乾燥工程が終了すれば、洗浄除去工程を実行する(ステップS3)。この洗浄除去工程は、透明基板1を洗浄装置まで搬送し、乾燥焼成後の透明基板1を高圧の純水で洗浄することにより、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6を除去する工程である。   When the drying process is completed, a cleaning removal process is executed (step S3). This washing and removing step is a step of removing the spacer particles 6 other than the spacer region 5 by transporting the transparent substrate 1 to the washing device and washing the dried and baked transparent substrate 1 with high-pressure pure water. .

図3は透明基板1を洗浄装置により洗浄する状態を示す模式図であり、図4はその平面図である。また、図5は、純水吐出ノズル3と透明基板1との距離H1を示す説明図である。   FIG. 3 is a schematic view showing a state in which the transparent substrate 1 is cleaned by a cleaning apparatus, and FIG. 4 is a plan view thereof. FIG. 5 is an explanatory diagram showing the distance H1 between the pure water discharge nozzle 3 and the transparent substrate 1. FIG.

乾燥焼成後の透明基板1は、複数の搬送ローラ4により図3および図4で示す矢印方向に搬送される。そして、その透明基板1の上方に配置された複数の純水吐出ノズル3を備えたスプレーパイプ2から、搬送中の透明基板1の表面に高圧の純水が噴出される。なお、図4においては、純水吐出ノズル3の位置を模式的に示しているが、この純水吐出ノズル3は、スプレーパイプ2の下面に配設されている。   The transparent substrate 1 after drying and firing is transported in the direction of the arrow shown in FIGS. 3 and 4 by a plurality of transport rollers 4. Then, high-pressure pure water is ejected from the spray pipe 2 provided with a plurality of pure water discharge nozzles 3 disposed above the transparent substrate 1 onto the surface of the transparent substrate 1 being conveyed. In FIG. 4, the position of the pure water discharge nozzle 3 is schematically shown, but the pure water discharge nozzle 3 is disposed on the lower surface of the spray pipe 2.

このとき透明基板1に吐出される純水の圧力は、図2に示すスペーサ領域5のスペーサ粒子の大部分は除去されないが、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6は除去される程度の圧力である。すなわち、スペーサ領域5においては、乾燥工程においてスペーサ粒子が互いに強く固着するとともに、透明基板1の表面に対しても強い力で固着する。これに対して、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6は、透明基板1の表面に固定はされるが強い力で固着することはない。このため、透明基板1に吐出される純水の圧力、透明基板1の搬送速度、および、図5に示す透明基板1の表面と純水吐出ノズル3との距離H1等を適切に制御することにより、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6を選択的に除去することが可能となる。   At this time, the pressure of the pure water discharged to the transparent substrate 1 is such that most of the spacer particles in the spacer region 5 shown in FIG. 2 are not removed, but the spacer particles 6 other than the spacer region 5 are removed. It is. That is, in the spacer region 5, the spacer particles firmly adhere to each other in the drying process, and also adhere to the surface of the transparent substrate 1 with a strong force. On the other hand, the spacer particles 6 other than the spacer region 5 are fixed to the surface of the transparent substrate 1 but are not fixed with a strong force. For this reason, the pressure of pure water discharged to the transparent substrate 1, the transport speed of the transparent substrate 1, the distance H1 between the surface of the transparent substrate 1 and the pure water discharge nozzle 3 shown in FIG. Thus, it is possible to selectively remove the spacer particles 6 that exist outside the spacer region 5.

実際には、例えば、透明基板1を毎秒3mmの速度で搬送しながら、透明基板1の表面と純水吐出ノズル3との距離H1を50mmとして、純水吐出ノズル3から圧力が5MPa(メガパスカル)の純水を噴出した場合に、スペーサ領域5のスペーサ粒子の大部分を除去することなく、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6を除去することが可能であった。   Actually, for example, while transporting the transparent substrate 1 at a speed of 3 mm per second, the distance H1 between the surface of the transparent substrate 1 and the pure water discharge nozzle 3 is set to 50 mm, and the pressure from the pure water discharge nozzle 3 is 5 MPa (megapascals). ), The spacer particles 6 other than the spacer region 5 can be removed without removing most of the spacer particles in the spacer region 5.

また、別の実験によれば、スペーサ領域5のスペーサ粒子の大部分を除去することなく、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6を好適に除去するための条件として、透明基板1の搬送速度は毎分50cm乃至300cmとすることが好ましく、純水の圧力は2.5MPa乃至10.0MPaとすることが好ましく、透明基板1の表面と純水吐出ノズル3との距離H1は15mm乃至60mmとすることが好ましいことが確認されている。   Further, according to another experiment, the transport speed of the transparent substrate 1 is preferably used as a condition for suitably removing the spacer particles 6 other than the spacer region 5 without removing most of the spacer particles in the spacer region 5. Is preferably 50 cm to 300 cm per minute, the pressure of pure water is preferably 2.5 MPa to 10.0 MPa, and the distance H1 between the surface of the transparent substrate 1 and the pure water discharge nozzle 3 is 15 mm to 60 mm. It has been confirmed that this is preferable.

なお、上述したスペーサ領域生成工程においては、スペーサ領域5に対して必要な量より多量のスペーサ分散液を吐出することにより、乾燥工程終了後に必要な量より多量のスペーサ粒子を基板に固着させている。そして、洗浄除去工程において必要な量より多量のスペーサ粒子をスペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6とともに除去している。   In the spacer region generation step described above, a larger amount of spacer dispersion is discharged to the spacer region 5 than necessary to fix a larger amount of spacer particles to the substrate after the drying step. Yes. Then, a larger amount of spacer particles than are necessary in the washing and removing process are removed together with the spacer particles 6 that exist outside the spacer region 5.

洗浄除去工程においては、スペーサ領域5におけるスペーサ粒子の一部も除去されるが、除去されるスペーサ粒子はスペーサ領域5の最も外側に配置されたスペーサ粒子であることが多い。このため、スペーサ領域5に対して必要な量より多量のスペーサ分散液を吐出した後、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させてスペーサ粒子を凝縮させたときに、スペーサ粒子の占める面積を必要な面積より大きくしておく。このような状態で洗浄除去工程を実行した場合には、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6とともにスペーサ領域5の最も外側に配置されたスペーサ粒子も除去されることになる。このため、スペーサ領域において必要な量のスペーサ粒子を確保することができる。   In the washing and removing process, a part of the spacer particles in the spacer region 5 is also removed, but the spacer particles to be removed are often spacer particles arranged on the outermost side of the spacer region 5. For this reason, the area occupied by the spacer particles is required when the spacer particles are condensed by evaporating volatile components from the spacer particle dispersion after discharging a larger amount of spacer dispersion than necessary to the spacer region 5. Keep the area larger. When the washing and removing process is executed in such a state, the spacer particles arranged on the outermost side of the spacer region 5 are also removed together with the spacer particles 6 other than the spacer region 5. Therefore, a necessary amount of spacer particles can be secured in the spacer region.

以上の工程が完了すれば、透明基板1上には、スペーサ領域5のみにスペーサ粒子が存在することになる。このため、スペーサ粒子を適正に配置することが可能となる。そして、その後連続して、液晶表示装置の製造工程を順次実行することにより、高品質な液晶表示装置を製造することが可能となる。   When the above steps are completed, spacer particles exist only in the spacer region 5 on the transparent substrate 1. For this reason, it becomes possible to arrange | position spacer particle | grains appropriately. Subsequently, by successively executing the manufacturing process of the liquid crystal display device successively, it becomes possible to manufacture a high quality liquid crystal display device.

次に、この発明の他の実施形態について説明する。図6は、この発明の第2実施形態において透明基板1を洗浄装置により洗浄する状態を示す模式図であり、図7はその平面図である。   Next, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 6 is a schematic view showing a state in which the transparent substrate 1 is cleaned by a cleaning apparatus in the second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a plan view thereof.

上述した実施形態においては、高圧の純水を透明基板1の表面に噴出して、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6を洗浄除去している。これに対して、この第2実施形態においては、気体と純水とが混合された流体を形成する二流体ノズル8を使用し、高圧の気体と高圧の純水とが混合された流体により、透明基板1を洗浄除去処理するようにしている。   In the embodiment described above, high-pressure pure water is jetted onto the surface of the transparent substrate 1 to clean and remove the spacer particles 6 that exist outside the spacer region 5. On the other hand, in the second embodiment, a two-fluid nozzle 8 that forms a fluid in which gas and pure water are mixed is used, and a fluid in which high-pressure gas and high-pressure pure water are mixed, The transparent substrate 1 is cleaned and removed.

乾燥焼成後の透明基板1は、複数の搬送ローラ4により図6および図7で示す矢印方向に搬送される。そして、その透明基板1の上方に配置された複数の二流体ノズル8を備えたスプレーパイプ2から、搬送中の透明基板1の表面に高圧の気体を混合させた高圧の純水が噴出される。なお、図7においては、二流体ノズル8の位置を模式的に示しているが、この二流体ノズル8は、スプレーパイプ2の下面に配設されている。   The transparent substrate 1 after drying and baking is conveyed in the direction of the arrow shown in FIGS. And from the spray pipe 2 provided with the several 2 fluid nozzle 8 arrange | positioned above the transparent substrate 1, the high pressure pure water which mixed the high pressure gas on the surface of the transparent substrate 1 in conveyance is ejected. . In FIG. 7, the position of the two-fluid nozzle 8 is schematically shown, but the two-fluid nozzle 8 is disposed on the lower surface of the spray pipe 2.

図8は二流体ノズル8を備えたスプレーパイプ2の概要図であり、図9は二流体ノズル8の一部を破断した斜視図である。さらに、図10は、二流体ノズル8と透明基板1との距離H2を示す説明図である。   FIG. 8 is a schematic view of the spray pipe 2 provided with the two-fluid nozzle 8, and FIG. 9 is a perspective view in which a part of the two-fluid nozzle 8 is broken. Further, FIG. 10 is an explanatory diagram showing a distance H2 between the two-fluid nozzle 8 and the transparent substrate 1. FIG.

図8に示すように、二流体ノズル8は、スプレーパイプ2に、下を向く状態で16個配設されている。そして、スプレーパイプ2には、気体の流入管85と純水の流入管86とが配設されている。図9に示すように、二流体ノズル8は、流入管85から供給された気体と、流入管86から供給された純水とを混合して、吐出口84より吐出する構成を有する。   As shown in FIG. 8, 16 two-fluid nozzles 8 are arranged on the spray pipe 2 so as to face downward. The spray pipe 2 is provided with a gas inflow pipe 85 and a pure water inflow pipe 86. As shown in FIG. 9, the two-fluid nozzle 8 has a configuration in which the gas supplied from the inflow pipe 85 and the pure water supplied from the inflow pipe 86 are mixed and discharged from the discharge port 84.

このような二流体ノズル8から透明基板1に吐出される気体を混合させた純水の圧力は、上述した実施形態と同様、図2に示すスペーサ領域5のスペーサ粒子の大部分は除去されないが、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6は除去される程度の圧力である。   The pressure of pure water mixed with the gas discharged from the two-fluid nozzle 8 to the transparent substrate 1 does not remove most of the spacer particles in the spacer region 5 shown in FIG. 2 as in the above-described embodiment. The spacer particles 6 other than the spacer region 5 are at such a pressure that they are removed.

実際には、例えば、透明基板1を毎分200cmの速度で搬送しながら、透明基板1の表面と二流体ノズル8との距離H2を50mmとして、二流体ノズル8から圧力が0.4MPaの純水と圧力が0.4MPaの空気とを混合したものを噴出する動作を2回繰り返した後に透明基板1を観察したところ、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6が除去される確率は51.0%であり、スペーサ領域5のスペーサ粒子が除去されずに残っている確率は99.2%であった。   Actually, for example, while transporting the transparent substrate 1 at a speed of 200 cm per minute, the distance H2 between the surface of the transparent substrate 1 and the two-fluid nozzle 8 is set to 50 mm, and the pressure from the two-fluid nozzle 8 is 0.4 MPa. When the transparent substrate 1 was observed after repeating the operation of ejecting a mixture of water and air having a pressure of 0.4 MPa twice, the probability that the spacer particles 6 other than the spacer region 5 were removed was 51. The probability that the spacer particles in the spacer region 5 remain without being removed was 99.2%.

また、これと同一の条件で、透明基板1の搬送速度を毎分100cmとしたところ、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6が除去される確率は79.0%であり、スペーサ領域5のスペーサ粒子が除去されずに残っている確率は95.4%であった。   Further, when the transport speed of the transparent substrate 1 is set to 100 cm / min under the same conditions, the probability that the spacer particles 6 other than the spacer region 5 are removed is 79.0%. The probability that the spacer particles remained without being removed was 95.4%.

また、別の実験によれば、スペーサ領域5のスペーサ粒子の大部分を除去することなく、スペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6を好適に除去するための条件として、透明基板1の搬送速度は毎分50cm乃至300cmとすることが好ましく、純水および気体の圧力は0.1MPa乃至1.0MPaとすることが好ましく、透明基板1の表面と純水吐出ノズル3との距離H1は15mm乃至60mmとすることが好ましいことが確認されている。   Further, according to another experiment, the transport speed of the transparent substrate 1 is preferably used as a condition for suitably removing the spacer particles 6 other than the spacer region 5 without removing most of the spacer particles in the spacer region 5. Is preferably 50 cm to 300 cm per minute, the pressure of pure water and gas is preferably 0.1 MPa to 1.0 MPa, and the distance H1 between the surface of the transparent substrate 1 and the pure water discharge nozzle 3 is 15 mm to It has been confirmed that the thickness is preferably 60 mm.

なお、上述した実施形態においては、基板を純水で洗浄することによりスペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6を除去する洗浄除去工程において、透明基板1に対して、スペーサ領域5のスペーサ粒子の大部分は除去されないがスペーサ領域5以外に存在するスペーサ粒子6は除去される程度の圧力の純水または気体を混合させた純水を透明基板1の表面に吐出するようにしている。しかしながら、この発明はそのような形態に限定されるものではない。   In the embodiment described above, in the cleaning and removing step of removing the spacer particles 6 other than the spacer regions 5 by cleaning the substrate with pure water, the spacer particles in the spacer regions 5 are removed from the transparent substrate 1. Most of the spacer particles 6 that are not removed but are present outside the spacer region 5 are discharged onto the surface of the transparent substrate 1 with pure water at a pressure sufficient to remove the spacer particles 6. However, the present invention is not limited to such a form.

すなわち、微細な気体を純水中に溶かし込んだマイクロバブル洗浄液を利用して透明基板1を洗浄除去処理するようにしてもよい。また、超音波振動が付与された純水により透明基板1を洗浄除去処理することも可能である。さらには、純水以外の薬液等の液体を用いてもよい。   That is, the transparent substrate 1 may be cleaned and removed using a microbubble cleaning solution in which a fine gas is dissolved in pure water. It is also possible to clean and remove the transparent substrate 1 with pure water to which ultrasonic vibration is applied. Furthermore, a liquid such as a chemical solution other than pure water may be used.

さらに、上述した実施形態における乾燥工程では、透明基板1をホットプレートに搬送して加熱することによりスペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるとともに、スペーサ領域5のスペーサ粒子を透明基板1に固着させたが、本発明の乾燥工程はこれに限らず、真空乾燥やその他の乾燥方法により透明基板1におけるスペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させた後に、透明基板1を加熱することによりスペーサ領域5のスペーサ粒子を透明基板1に固着させるようにしてもよい。   Furthermore, in the drying process in the above-described embodiment, the transparent substrate 1 is transported to a hot plate and heated to evaporate volatile components from the spacer particle dispersion and to fix the spacer particles in the spacer region 5 to the transparent substrate 1. However, the drying process of the present invention is not limited to this, and after the volatile components are evaporated from the spacer particle dispersion in the transparent substrate 1 by vacuum drying or other drying methods, the transparent substrate 1 is heated to thereby form the spacer region 5. The spacer particles may be fixed to the transparent substrate 1.

1 透明基板
2 スプレーパイプ
3 純水吐出ノズル
4 搬送ローラ
5 スペーサ領域
6 スペーサ粒子
7 ブラックマトリックス
8 二流体ノズル
84 吐出口
85 気体の流入管
86 液体の流入管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 2 Spray pipe 3 Pure water discharge nozzle 4 Conveyance roller 5 Spacer area 6 Spacer particle 7 Black matrix 8 Two-fluid nozzle 84 Discharge port 85 Gas inflow pipe 86 Liquid inflow pipe

Claims (6)

基板間にスペーサ粒子を介在させることにより液晶層封入用のギャップを形成する液晶表示装置の製造方法であって、
基板上にインクジェット方式によりスペーサ粒子を分散させたスペーサ粒子分散液を吐出することによりスペーサ粒子を含むスペーサ領域を形成するスペーサ領域形成工程と、
前記スペーサ領域が形成された基板を乾燥させることにより、スペーサ粒子分散液から揮発成分を蒸発させるとともに、前記スペーサ領域のスペーサ粒子と基板を固着させる乾燥工程と、
前記スペーサ粒子が固着した基板を液体で洗浄することにより、前記スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子を除去する洗浄除去工程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal display device that forms a gap for enclosing a liquid crystal layer by interposing spacer particles between substrates,
A spacer region forming step of forming a spacer region containing spacer particles by discharging a spacer particle dispersion in which spacer particles are dispersed by an inkjet method on a substrate;
Drying the substrate on which the spacer region is formed, evaporating volatile components from the spacer particle dispersion, and fixing the spacer particles in the spacer region and the substrate;
By washing the substrate to which the spacer particles are fixed with a liquid, a cleaning and removing step of removing the spacer particles existing outside the spacer region;
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記洗浄除去工程においては、基板に対して、前記スペーサ領域のスペーサ粒子の大部分は除去されないが、前記スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子は除去される程度の圧力の液体を基板の表面に吐出する液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 1,
In the cleaning and removing step, most of the spacer particles in the spacer region are not removed from the substrate, but a liquid having a pressure sufficient to remove spacer particles other than the spacer region is discharged onto the surface of the substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display device.
請求項2に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記液体は純水であり、前記洗浄除去工程においては、基板を水平方向に搬送しながら基板に向けて高圧の純水を噴出する液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 2,
The liquid is pure water, and in the cleaning and removing step, a method of manufacturing a liquid crystal display device in which high-pressure pure water is ejected toward the substrate while the substrate is conveyed in the horizontal direction.
請求項2に記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記液体は純水中に気体を混合させたものであり、前記洗浄除去工程においては、基板を水平方向に搬送しながら基板に向けて気体を混合させた高圧の純水を噴出する液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 2,
The liquid is a liquid in which pure water is mixed with gas, and in the cleaning and removing step, a liquid crystal display device that ejects high-pressure pure water in which gas is mixed toward the substrate while the substrate is transported horizontally. Manufacturing method.
請求項2乃至請求項4のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記乾燥工程は、基板を第1の温度で加熱するプリベーク工程と、基板を前記第1の温度よりも高い第2の温度で加熱するポストベーク工程とから構成される液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device in any one of Claims 2 thru | or 4,
The said drying process is a manufacturing method of the liquid crystal display device comprised from the prebaking process which heats a board | substrate at 1st temperature, and the post-baking process which heats a board | substrate at 2nd temperature higher than said 1st temperature.
請求項2乃至請求項5のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法において、
前記スペーサ領域形成工程において必要な量より多量のスペーサ分散液を吐出することにより、乾燥工程終了後に必要な量より多量のスペーサ粒子を基板に固着させるとともに、前記洗浄除去工程において前記必要な量を越えた余分なスペーサ粒子を前記スペーサ領域以外に存在するスペーサ粒子とともに除去する液晶表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device in any one of Claims 2 thru | or 5,
By discharging a larger amount of the spacer dispersion than the amount required in the spacer region forming step, a larger amount of spacer particles than the amount necessary after the drying step is fixed to the substrate, and the necessary amount in the cleaning and removing step is increased. A method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein excess spacer particles that have exceeded are removed together with spacer particles that exist outside the spacer region.
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