JP2009263635A - Thermoplastic resin composition, process for producing the same, and electronic component for surface mounting - Google Patents

Thermoplastic resin composition, process for producing the same, and electronic component for surface mounting Download PDF

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Yasuyuki Yoshino
泰之 芳野
Hirokiyo Nakase
広清 中瀬
Hiroaki Negishi
浩明 根岸
Yohei Yamaguchi
洋平 山口
Shinya Gibo
新也 宜保
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat-resistant resin composition which can hold a chlorine atom content within a thermoplastic resin composition to ≤900 ppm, which is an unprecedentedly low level, and has both heat-resistance and flame retardancy, and to provide its production process and an electronic component for surface mounting. <P>SOLUTION: The resin composition comprises a polyarylene sulfide resin (A) and polyamide (B) as essential components, wherein the content of the polyamide (B) based on 100 pts.mass of the composition is 10-30 pts.mass, and the extraction rate is less than 7 mass% when the composition is extracted with hexafluoro isopropanol at 70°C for 15 minutes. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明はポリアリーレンスルフィド樹脂とポリアミドとを含む樹脂組成物、その製造方法、及び表面実装用電子部品に関する。   The present invention relates to a resin composition containing a polyarylene sulfide resin and polyamide, a method for producing the same, and an electronic component for surface mounting.

ポリフェニレンスルフィド樹脂に代表されるポリアリーレンスルフィド樹脂は高い融点と、優れた難燃性、耐薬品性を有し、成形時の流動性も良好であるため、主に射出成形用エンジニアリングプラスチックとして各種電子部品、機械部品、自動車部品に広く使われている。   Polyarylene sulfide resins typified by polyphenylene sulfide resins have a high melting point, excellent flame resistance and chemical resistance, and good fluidity during molding. Widely used in parts, machine parts and automobile parts.

近年、電気・電子工業の分野では、製品の小型化や生産性の向上に伴い、樹脂系電子部品のプリント基板上への実装方式が所謂サーフェスマウント方式(以下「SMT方式」と略記する。)と呼ばれる表面実装方式に移行している。このSMT方式により電子部品を基板上に実装する技術は、従来、錫−鉛共晶はんだ(融点184℃)が一般的であったが、近年、環境汚染の問題から、その代替材料として錫をベースに数種類の金属を添加した所謂鉛フリーはんだが利用されている。   In recent years, in the field of electrical and electronic industries, with the miniaturization of products and the improvement of productivity, the mounting method of resin-based electronic components on a printed circuit board is a so-called surface mount method (hereinafter abbreviated as “SMT method”). It has shifted to the surface mounting method called. Conventionally, a tin-lead eutectic solder (melting point: 184 ° C.) is generally used as a technology for mounting electronic components on a substrate by this SMT method. However, in recent years, tin has been used as an alternative material due to environmental pollution problems. So-called lead-free solder in which several kinds of metals are added to the base is used.

かかる鉛フリーはんだは、錫−鉛共晶はんだよりも融点が高く、例えば、錫−銀共晶はんだの場合には融点220℃にも達する為、表面実装時には加熱炉(リフロー炉)の温度を更に上昇させなければならず、コネクター等の樹脂系電子部品をはんだ付けする際、加熱炉(リフロー炉)内において当該電子部品が融解又は変形を生じてしまうという問題があった。よって、表面実装用電子部品用の樹脂材料には耐熱性の高いものが強く求められていた。   Such lead-free solder has a higher melting point than tin-lead eutectic solder. For example, in the case of tin-silver eutectic solder, the melting point reaches 220 ° C. There is a problem that when the resin-based electronic component such as the connector is soldered, the electronic component is melted or deformed in the heating furnace (reflow furnace). Therefore, a resin material having high heat resistance has been strongly demanded as a resin material for surface mount electronic components.

そこで、高耐熱性の樹脂材料としてポリアリーレンスルフィド樹脂と芳香族ポリアミドとを溶融混練することによって得られる樹脂組成物が知られている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。しかしながら、ポリアリーレンスルフィド樹脂と芳香族ポリアミドとは一般に相溶性が低く、両者を均一混合することが困難な為、芳香族ポリアミド自体の弱点である吸湿性の低さが顕著に現われてしまい、加熱炉(リフロー炉)を通過した電子部品の外観にブリスターが発生し易くなる、といった問題があった。更に、組成物中の芳香族ポリアミドの分散性が低いことから、やはり芳香族ポリアミドの弱点である易燃焼性が発現されやすく成形品の難燃性の低下を招いていた。   Then, the resin composition obtained by melt-kneading polyarylene sulfide resin and aromatic polyamide is known as a highly heat-resistant resin material (for example, refer patent document 1 and patent document 2). However, polyarylene sulfide resins and aromatic polyamides are generally poorly compatible and it is difficult to uniformly mix them, so the low hygroscopicity, which is a weak point of the aromatic polyamides, appears significantly. There has been a problem that blisters are likely to occur in the appearance of the electronic component that has passed through the furnace (reflow furnace). Furthermore, since the dispersibility of the aromatic polyamide in the composition is low, flammability, which is also a weak point of the aromatic polyamide, tends to be exhibited, resulting in a decrease in flame retardancy of the molded product.

更に近年、電気・電子工業の分野では、環境負荷低減の観点からハロゲンフリー材料への切り替えが急ピッチで進んでおり、例えばJPCA(ES−1−1999)、IEC(61249−2−21)、IPC(4101B)などの電機・電子部品のガイドラインには、塩素原子を微量分析した際の含有量を900ppm以下にすることが強く求められている。しかしながら、ポリアリーレンスルフィド樹脂は、パラジクロロベンゼンを原料とするために末端にクロル基が残存してしまい、ハロゲンフリー材料として使用することが困難なものであった。この点に関して、上記したポリアリーレンサルファイドと芳香族ポリアミドとを配合した材料は、芳香族ポリアミドの配合によってポリアリーレンサルファイドが希釈されることから材料中の塩素原子含有量を低減させる有効な手段ではある。
しかしながら、ポリアリーレンスルフィド樹脂自体、通常、数千ppm程度の塩素原子を含有することから、ポリアミドを配合して希釈化しても前記した材料中の塩素原子含有量900ppm以下という基準をクリアすることは困難であった。これを改善するには、ポリアリーレンスルフィド樹脂を洗浄し、塩素原子量を低減させる方法もあるが、この場合、塩素原子量のみならず、ポリアミド成分との反応性を有する官能基の量も同時に低減してしまうため、ポリアリーレンスルフィド樹脂とポリアミド成分との相溶性の低下を招き上記した難燃性の低下を招くものであった。
Furthermore, in recent years, in the field of electrical and electronic industries, switching to halogen-free materials has been proceeding at a rapid pace from the viewpoint of reducing the environmental load. For example, JPCA (ES-1-1999), IEC (61249-2-21), The guidelines for electrical and electronic parts such as IPC (4101B) strongly demand that the content of chlorine atoms in a trace analysis be 900 ppm or less. However, since the polyarylene sulfide resin uses paradichlorobenzene as a raw material, a chloro group remains at the terminal, making it difficult to use it as a halogen-free material. In this regard, the material in which the polyarylene sulfide and the aromatic polyamide are blended is an effective means for reducing the chlorine atom content in the material because the polyarylene sulfide is diluted by the blending of the aromatic polyamide. .
However, since the polyarylene sulfide resin itself usually contains about several thousand ppm of chlorine atoms, even if the polyamide is blended and diluted, the above-mentioned criteria of chlorine atom content in the material of 900 ppm or less can be cleared. It was difficult. In order to improve this, there is a method in which the polyarylene sulfide resin is washed to reduce the amount of chlorine atoms, but in this case, not only the amount of chlorine atoms but also the amount of functional groups having reactivity with the polyamide component is simultaneously reduced. As a result, the compatibility between the polyarylene sulfide resin and the polyamide component is reduced, and the flame retardancy is reduced as described above.

特開平2−123159号公報JP-A-2-123159 特開平5−5060号公報JP-A-5-5060

従って、本発明が解決しようとする課題は、熱可塑性樹脂組成物中の塩素原子含有率を900ppm以下という従来になく低い水準にコントロールすることができると共に、耐熱性及び難燃性を兼備した耐熱性樹脂組成物、その製造方法、及び、表面実装用電子部品を提供することにある。   Accordingly, the problem to be solved by the present invention is that the chlorine atom content in the thermoplastic resin composition can be controlled to an unprecedented low level of 900 ppm or less, and has both heat resistance and flame resistance. It is in providing a conductive resin composition, its manufacturing method, and an electronic component for surface mounting.

本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、ポリアリーレンスルフィド樹脂とポリアミド成分とを配合した熱可塑性樹脂組成物において、ヘキサフルオロイソプロパノールで70℃15分間抽出した際の抽出率を7質量%以下に低減させることにより、組成物中の塩素原子含有率を低減させると共に、成形品に優れたリフロー耐熱性と難燃性を付与できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have determined that the extraction rate when extracted with hexafluoroisopropanol at 70 ° C. for 15 minutes in a thermoplastic resin composition containing a polyarylene sulfide resin and a polyamide component is 7 mass. %, The inventors have found that the chlorine atom content in the composition can be reduced and that excellent reflow heat resistance and flame retardancy can be imparted to the molded product, and the present invention has been completed.

即ち、本発明は、ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)、及び、ポリアミド(B)を必須成分とする樹脂組成物であって、該組成物100質量部あたりの前記ポリアミド(B)の含有量が10〜30質量部であり、且つ、該組成物をヘキサフルオロイソプロパノールで70℃15分間抽出した際の抽出率が7質量%以下であることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物に関する。   That is, the present invention is a resin composition comprising a polyarylene sulfide resin (A) and a polyamide (B) as essential components, and the content of the polyamide (B) per 100 parts by mass of the composition is 10 It relates to a thermoplastic resin composition characterized in that it is -30 parts by mass and the extraction rate when the composition is extracted with hexafluoroisopropanol at 70 ° C for 15 minutes is 7% by mass or less.

本発明は、更に、ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)と、ポリアミド(B)とを、配合成分の合計質量100質量部あたり前記ポリアミド(B)が10〜30質量部となる割合で二軸混練押出機に投入し、樹脂成分の吐出量(kg/hr)とスクリュー回転数(rpm)との比率(吐出量/スクリュー回転数)が0.02〜0.2(kg/hr・rpm)なる条件下に溶融混練し、吐出される樹脂温度が345〜370℃の範囲にあることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物の製造方法に関する。   In the present invention, the polyarylene sulfide resin (A) and the polyamide (B) are further biaxially kneaded and extruded at a ratio of 10 to 30 parts by mass of the polyamide (B) per 100 parts by mass of the total mass of the blended components. The condition that the ratio (discharge amount / screw rotation number) of the resin component discharge amount (kg / hr) and the screw rotation speed (rpm) is 0.02 to 0.2 (kg / hr · rpm). The present invention relates to a method for producing a thermoplastic resin composition, characterized in that the temperature of the resin melted and kneaded below and discharged is in the range of 345 to 370 ° C.

本発明は、更に、前記熱可塑性樹脂組成物の成形物と、金属端子とを必須の構成要素とすることを特徴とする表面実装用電子部品に関する。   The present invention further relates to a surface-mounting electronic component characterized in that a molded product of the thermoplastic resin composition and a metal terminal are essential components.

本発明によれば、熱可塑性樹脂組成物中の塩素原子含有率を900ppm以下という従来になく低い水準にコントロールすることができると共に、優れた耐熱性及び難燃性を兼備した熱可塑性樹脂組成物、その製造方法、及び、表面実装用電子部品を提供できる。   According to the present invention, a thermoplastic resin composition that can control the chlorine atom content in the thermoplastic resin composition to an unprecedented low level of 900 ppm or less, and has excellent heat resistance and flame retardancy. , Its manufacturing method, and electronic components for surface mounting can be provided.

従って、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、SMT方式におけるプリント基板上へのはんだ付けに供されるコネクター、スイッチ、リレー、コイルボビン、コンデンサー等に特に有用である。   Therefore, the thermoplastic resin composition of the present invention is particularly useful for connectors, switches, relays, coil bobbins, capacitors, etc. used for soldering onto a printed circuit board in the SMT method.

図1は耐ブリスター性試験における赤外線加熱炉内の温度プロファイルを示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing a temperature profile in an infrared heating furnace in a blister resistance test.

本発明で用いるポリアリーレンスルフィド樹脂(A)は、特に限定されるものではないが、ゲル浸透クロマトグラフィーを用いて測定において分子量25,000〜40,000の範囲にピークを有し、かつ、非ニュートン指数が0.9〜1.3の範囲にあるものが好ましい。このように、分子量が比較的高く、かつ、非ニュートン指数が0.9〜1.3の範囲にある所謂リニア構造を有するポリアリーレンスルフィド樹脂(A)は、樹脂中の塩素原子量はより低いものとなる。更に、ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)は、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比率(Mw/Mn)が5〜10の範囲にあることがポリアミド(B)との反応性も良好となり、成形品の耐熱性や機械的強度に優れた性能を発現させることができる点から好ましい。かかる本発明の特長がより顕著なものとなる点から、ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)は、ゲル浸透クロマトグラフィー測定において分子量25,000〜40,000の範囲にピークを有し、Mw/Mnが6.5〜8.5の範囲にあり、かつ、非ニュートン指数が1.0〜1.2の範囲にあるものがとりわけ好ましい。   The polyarylene sulfide resin (A) used in the present invention is not particularly limited, but has a peak in the molecular weight range of 25,000 to 40,000 in measurement using gel permeation chromatography, and non- Those having a Newton index in the range of 0.9 to 1.3 are preferred. Thus, the polyarylene sulfide resin (A) having a so-called linear structure having a relatively high molecular weight and a non-Newtonian index in the range of 0.9 to 1.3 has a lower chlorine atom weight in the resin. It becomes. Further, the polyarylene sulfide resin (A) has a reactivity with the polyamide (B) such that the ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) is in the range of 5-10. It is preferable from the viewpoint that performances excellent in heat resistance and mechanical strength of the molded product can be exhibited. The polyarylene sulfide resin (A) has a peak in a molecular weight range of 25,000 to 40,000 in gel permeation chromatography measurement, and Mw / Mn is from the point that the features of the present invention become more remarkable. Particularly preferred are those in the range of 6.5 to 8.5 and the non-Newtonian index in the range of 1.0 to 1.2.

また、前記ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)は、熱可塑性樹脂組成物中の塩素原子量の低減の観点から塩素原子含有量1,500〜2,000ppmのものであることが好ましい。   The polyarylene sulfide resin (A) preferably has a chlorine atom content of 1,500 to 2,000 ppm from the viewpoint of reducing the amount of chlorine atoms in the thermoplastic resin composition.

更に、前記ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)は、該樹脂中のNa含有量が1000ppm以下、特に500ppm以下であることが好ましい。このように、ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)中のNa含有量を低減させることによりポリアミド(B)やカップリング剤などの他の配合成分との反応性が良好となり、前記抽出率の低下に寄与し難燃性が一層良好なものとなる。   Further, the polyarylene sulfide resin (A) preferably has a Na content of 1000 ppm or less, particularly 500 ppm or less. Thus, by reducing the Na content in the polyarylene sulfide resin (A), the reactivity with other compounding components such as polyamide (B) and a coupling agent is improved, contributing to a decrease in the extraction rate. The flame retardancy will be even better.

前記ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)は、その溶融粘度η(A)の範囲は、350℃、100sec−1のせん断速度条件で、25〜100Pa・sの範囲であることがポリアミド(B)との相溶性の点から好ましい。 The polyarylene sulfide resin (A) has a melt viscosity η (A) in the range of 25 to 100 Pa · s at 350 ° C. and a shear rate of 100 sec −1 with the polyamide (B). It is preferable from the viewpoint of compatibility.

前記ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)(以下「PAS樹脂(A)」と略記する。)の樹脂構造は、芳香族環と硫黄原子とが結合した構造を繰り返し単位として有するものであり、具体的には、下記構造式(1)   The polyarylene sulfide resin (A) (hereinafter abbreviated as “PAS resin (A)”) has a structure in which an aromatic ring and a sulfur atom are bonded as a repeating unit. Is the following structural formula (1)

Figure 2009263635
(式中、R及びRは、それぞれ独立的に水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、ニトロ基、アミノ基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基を表す。)
で表される構造部位を繰り返し単位とする樹脂である。
Figure 2009263635
(In the formula, R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a nitro group, an amino group, a phenyl group, a methoxy group, or an ethoxy group.)
It is resin which makes the structural site represented by a repeating unit.

ここで、前記構造式(1)で表される構造部位は、特に該式中のR及びRは、前記PAS樹脂(A)の機械的強度の点から水素原子であることが好ましく、その場合、下記構造式(2)で表されるパラ位で結合するもの、及び下記構造式(3)で表されるメタ位で結合するものが挙げられる。 Here, in the structural part represented by the structural formula (1), R 5 and R 6 in the formula are preferably hydrogen atoms from the viewpoint of the mechanical strength of the PAS resin (A), In that case, what couple | bonds in the para position represented by following Structural formula (2) and what couple | bonds in the meta position represented by following Structural formula (3) are mentioned.

Figure 2009263635
Figure 2009263635

これらの中でも、特に繰り返し単位中の芳香族環に対する硫黄原子の結合は前記構造式(2)で表されるパラ位で結合した構造であることが前記PAS樹脂(A)の耐熱性や結晶性の面で好ましい。   Among these, the heat resistance and crystallinity of the PAS resin (A) include that the bond of the sulfur atom to the aromatic ring in the repeating unit is a structure bonded at the para position represented by the structural formula (2). It is preferable in terms of

また、前記PAS樹脂(A)は、前記構造式(1)で表される構造部位のみならず、下記の構造式(4)〜(7)   In addition, the PAS resin (A) includes not only the structural portion represented by the structural formula (1) but also the following structural formulas (4) to (7).

Figure 2009263635
で表される構造部位を、前記構造式(1)で表される構造部位との合計の30モル%以下で含んでいてもよい。特に本発明では上記構造式(4)〜(7)で表される構造部位は10モル%以下であることが、PAS樹脂(A)の耐熱性、機械的強度の点から好ましい。
前記PAS樹脂(A)中に、上記構造式(4)〜(7)で表される構造部位を含む場合、それらの結合様式としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体の何れであってもよい。
Figure 2009263635
The structural site represented by the formula (1) may be included in an amount of 30 mol% or less of the total with the structural site represented by the structural formula (1). In particular, in the present invention, the structural site represented by the structural formulas (4) to (7) is preferably 10 mol% or less from the viewpoint of the heat resistance and mechanical strength of the PAS resin (A).
In the case where the PAS resin (A) includes a structural portion represented by the structural formulas (4) to (7), the bonding mode thereof is either a random copolymer or a block copolymer. Also good.

また、前記PAS樹脂(A)は、その分子構造中に、下記構造式(8)   The PAS resin (A) has the following structural formula (8) in its molecular structure.

Figure 2009263635
で表される3官能性の構造部位、或いは、ナフチルスルフィド結合などを有していてもよいが、他の構造部位との合計モル数に対して、1モル%以下であること、特に実質的には含まれないことがPAS樹脂(A)中の塩素原子含有量低減の観点から好ましい。
Figure 2009263635
May have a trifunctional structural site represented by the formula (1) or a naphthyl sulfide bond, etc., but it is 1 mol% or less, particularly substantially, relative to the total number of moles with other structural sites. It is preferable that it is not contained in the viewpoint of reducing the chlorine atom content in the PAS resin (A).

かかるPAS樹脂(A)は、例えば下記(1)〜(4)によって製造することができる。
(1)N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶剤やスルホラン等のスルホン系溶媒中で硫化ナトリウムとp−ジクロルベンゼンを反応させる方法、
(2)p−ジクロルベンゼンを硫黄と炭酸ソーダの存在下で重合させる方法、
(3)極性溶媒中で硫化ナトリウムあるいは水硫化ナトリウムと水酸化ナトリウム又は硫化水素と水酸化ナトリウムの存在下で重合させる方法、
(4)p−クロルチオフェノールの自己縮合による方法
Such a PAS resin (A) can be produced by, for example, the following (1) to (4).
(1) A method of reacting sodium sulfide and p-dichlorobenzene in an amide solvent such as N-methylpyrrolidone or dimethylacetamide or a sulfone solvent such as sulfolane,
(2) A method of polymerizing p-dichlorobenzene in the presence of sulfur and sodium carbonate,
(3) A method of polymerizing in the presence of sodium sulfide or sodium hydrosulfide and sodium hydroxide or hydrogen sulfide and sodium hydroxide in a polar solvent,
(4) Method by self-condensation of p-chlorothiophenol

これらの中でも(1)のN−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶剤やスルホラン等のスルホン系溶媒中で硫化ナトリウムとp−ジクロルベンゼンを反応させる方法が反応の制御が容易であり、工業的生産性に優れる点から好ましい。   Among these, the method of (1) reacting sodium sulfide and p-dichlorobenzene in an amide solvent such as N-methylpyrrolidone or dimethylacetamide or a sulfone solvent such as sulfolane is easy to control the reaction. From the viewpoint of excellent productivity.

また、リニアかつ高分子量のPAS樹脂(A)を工業的に効率よく製造できる点から前記方法(1)のなかでも、特に、固形のアルカリ金属硫化物、ジクロルベンゼン、アルカリ金属水硫化物、有機酸アルカリ金属塩を必須成分とする反応スラリーを調整し、これを加熱して不均一系で重合を行う方法が特に好ましい。かかる重合方法は具体的には、   Among the methods (1), a linear and high molecular weight PAS resin (A) can be industrially efficiently produced. Among the methods (1), solid alkali metal sulfide, dichlorobenzene, alkali metal hydrosulfide, A method in which a reaction slurry containing an organic acid alkali metal salt as an essential component is prepared, and heated to perform polymerization in a heterogeneous system is particularly preferable. Specifically, such a polymerization method includes:

工程1:
含水アルカリ金属硫化物、又は、
含水アルカリ金属水硫化物及びアルカリ金属水酸化物と、
N−メチルピロリドンと、
非加水分解性有機溶媒とを、
脱水させ乍ら反応させて、スラリー(I)を製造する工程、
工程2:
次いで、前記スラリー(I)中、
ジクロルベンゼンと、
前記アルカリ金属水硫化物と、
前記N−メチルピロリドンの加水分解物のアルカリ金属塩と
を、反応させて重合を行う工程、
を必須の製造工程とする方法が生産性の点から好ましい。
Step 1:
Hydrous alkali metal sulfide, or
Hydrous alkali metal hydrosulfide and alkali metal hydroxide;
N-methylpyrrolidone and
A non-hydrolyzable organic solvent,
A step of producing a slurry (I) by reacting while dehydrating,
Step 2:
Next, in the slurry (I),
Dichlorobenzene,
The alkali metal hydrosulfide;
A step of reacting the alkali metal salt of the hydrolyzate of N-methylpyrrolidone to perform polymerization,
Is preferable from the viewpoint of productivity.

ここで用いる含水アルカリ金属硫化物は、例えば硫化リチウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、硫化ルビジウム、硫化セシウム等の化合物の液状又は固体状の含水物が挙げられ、その固形分濃度は10〜80質量%、特に35〜65質量%であることが好ましい。   Examples of the hydrated alkali metal sulfide used here include liquid or solid hydrates of compounds such as lithium sulfide, sodium sulfide, potassium sulfide, rubidium sulfide, and cesium sulfide, and the solid content concentration thereof is 10 to 80% by mass. In particular, it is preferably 35 to 65% by mass.

また、前記含水アルカリ金属水硫化物としては、例えば、水硫化リチウム、水硫化ナトリウム、水硫化カリウム、水硫化ルビジウム及び水硫化セシウム等の化合物の液状又は固体状の含水物が挙げられ、その固形分濃度は10〜80質量%であることが好ましい。これらの中でも水硫化リチウムの含水物と水硫化ナトリウムの含水物が好ましく、特に水硫化ナトリウムの含水物が好ましい。   Examples of the hydrous alkali metal hydrosulfide include liquid or solid hydrates of compounds such as lithium hydrosulfide, sodium hydrosulfide, potassium hydrosulfide, rubidium hydrosulfide, and cesium hydrosulfide. The partial concentration is preferably 10 to 80% by mass. Among these, hydrated lithium hydrosulfide and hydrated sodium hydrosulfide are preferable, and hydrated sodium hydrosulfide is particularly preferable.

更に、前記アルカリ金属水酸化物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、及びこれらの水溶液が挙げられる。なお、該水溶液を用いる場合には、濃度20質量%以上の水溶液であることが工程1の脱水処理が容易である点から好ましい。これらの中でも特に水酸化リチウムと水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムが好ましく、特に水酸化ナトリウムが好ましい。   Furthermore, examples of the alkali metal hydroxide include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, rubidium hydroxide, cesium hydroxide, and aqueous solutions thereof. In addition, when using this aqueous solution, it is preferable that it is an aqueous solution with a density | concentration of 20 mass% or more from the point that the spin-drying | dehydration process of the process 1 is easy. Among these, lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide are particularly preferable, and sodium hydroxide is particularly preferable.

また、前記PAS樹脂(A)は、ゲル浸透クロマトグラフィーを用いた分子量、及び、分子量分布(Mw/Mn)は次の条件にて測定することができる。
[ゲル浸透クロマトグラフィーによる測定条件]
装置;超高温ポリマー分子量分布測定装置(センシュウ科学社製SSC−7000)
カラム ;UT−805L(昭和電工社製)
カラム温度;210℃
溶媒 ;1−クロロナフタレン
測定方法:UV検出器(360nm)で6種類の単分散ポリスチレンを校正に用いて分子量分布とピーク分子量を測定する。この方法により測定された分子量が、25000〜30000の範囲にピークを有するものが好ましく、より好ましくは26000〜29000である。また、芳香族ポリアミド(B)との相溶性の点から、フローテスターによる溶融粘度が、40〜60Pa・S、更に好ましくは45〜55Pa・Sの範囲にあるものが好ましい。なお、測定は高化式フローテスターを用いて、300℃、剪断速度100sec−1、ノズル孔径0.5mm、長さ1.0mmで測定した値である。
The PAS resin (A) can be measured for the molecular weight using gel permeation chromatography and the molecular weight distribution (Mw / Mn) under the following conditions.
[Measurement conditions by gel permeation chromatography]
Apparatus: Ultra-high temperature polymer molecular weight distribution measuring apparatus (SSC-7000 manufactured by Senshu Kagaku Co., Ltd.)
Column: UT-805L (made by Showa Denko KK)
Column temperature: 210 ° C
Solvent: 1-chloronaphthalene Measuring method: The molecular weight distribution and the peak molecular weight are measured using 6 types of monodisperse polystyrene for calibration with a UV detector (360 nm). The molecular weight measured by this method preferably has a peak in the range of 25000 to 30000, more preferably 26000 to 29000. Further, from the viewpoint of compatibility with the aromatic polyamide (B), those having a melt viscosity by a flow tester in the range of 40 to 60 Pa · S, more preferably 45 to 55 Pa · S are preferable. In addition, a measurement is the value measured using the Koka type flow tester at 300 degreeC, shear rate 100sec < -1 >, nozzle hole diameter 0.5mm, and length 1.0mm.

以上詳述したPAS樹脂(A)は、更に、残存金属イオン量を低減して耐湿特性を改善するとともに、重合の際副生する低分子量不純物の残存量を低減できる点から、該PAS樹脂(A)を製造した後に、酸で処理し、次いで、水で洗浄されたものであることが好ましい。   The PAS resin (A) described in detail above further reduces moisture content by reducing the amount of residual metal ions, and further reduces the residual amount of low molecular weight impurities by-produced during polymerization. It is preferable that after A) is produced, it is treated with an acid and then washed with water.

ここで使用し得る酸は、酢酸、塩酸、硫酸、リン酸、珪酸、炭酸、プロピル酸がPAS樹脂(A)の分解することなく残存金属イオン量を効率的に低減できる点から好ましく、なかでも酢酸、塩酸が好ましい。   The acid that can be used here is preferable in that acetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, silicic acid, carbonic acid, and propyl acid can efficiently reduce the amount of residual metal ions without decomposition of the PAS resin (A). Acetic acid and hydrochloric acid are preferred.

酸処理の方法は、酸または酸水溶液にPAS樹脂を浸漬する方法が挙げられる。この際、必要に応じさらに攪拌または加熱してもよい。   Examples of the acid treatment method include a method of immersing the PAS resin in an acid or an aqueous acid solution. At this time, further stirring or heating may be performed as necessary.

ここで、前記酸処理の具体的方法は、酢酸を用いる場合を例に挙げれば、まずpH4の酢酸水溶液を80〜90℃に加熱し、その中にPAS樹脂(A)を浸漬し、20〜40分間攪拌する方法が挙げられる。本発明ではこのようにして十分な酸処理を施すことにより、前記したPAS樹脂(A)中のNa含有量を低減させることができる。   Here, as a specific method of the acid treatment, for example, in the case of using acetic acid, first, an aqueous acetic acid solution having a pH of 4 is heated to 80 to 90 ° C., and the PAS resin (A) is immersed in the solution. The method of stirring for 40 minutes is mentioned. In this invention, Na content in the above-mentioned PAS resin (A) can be reduced by performing sufficient acid treatment in this way.

このようにして酸処理されたPAS樹脂(A)は、残存している酸または塩等を物理的に除去するため、次いで、水または温水で数回洗浄する。このときに使用される水としては、蒸留水または脱イオン水であることが好ましい。   The acid-treated PAS resin (A) is then washed several times with water or warm water in order to physically remove the remaining acid or salt. The water used at this time is preferably distilled water or deionized water.

また、前記酸処理に供せられるPAS樹脂(A)は、粉粒体であることが好ましく、具体的には、ペレットのような粒状体でも、重合した後のスラリ−状態体にあるものでもよい。   Further, the PAS resin (A) to be subjected to the acid treatment is preferably a powder, specifically, a granular material such as a pellet or a polymer in a slurry state after polymerization. Good.

次に、本発明に使用するポリアミド(B)は、特に限定されるものではないが、280〜330℃の融点を有するものが、PAS樹脂(A)との相溶性が良好となる他、成形品の耐熱性も良好となる点から好ましい。特にこれらの効果が顕著となる点からポリアミド(B)の融点は290〜330℃であることが好ましく、特に、310〜330℃であることが好ましい。   Next, the polyamide (B) used in the present invention is not particularly limited, but the one having a melting point of 280 to 330 ° C. has good compatibility with the PAS resin (A) and is molded. It is preferable from the point that the heat resistance of the product is also good. In particular, the melting point of the polyamide (B) is preferably 290 to 330 ° C., particularly preferably 310 to 330 ° C., from the viewpoint that these effects become remarkable.

かかるポリアミド(B)は、具体的には、アジピン酸とエチレンジアミンとの重合体であるポリアミド26、アジピン酸とテトラメチレンジアミンとの重合体であるポリアミド46、ε−カプロラクタム重合体であるナイロン6、ウンデカンラクタム重合体であるナイロン11、ラウリルラクタム重合体であるナイロン12、ヘキサメチレンジアミン/アジピン酸共縮合体であるナイロン66、ヘキサメチレンジアミン/セバシン酸共縮合体であるナイロン610などの脂肪族ポリアミド、或いは芳香族ポリアミドが挙げられるが、ポリアミド46及びポリアミド26等の脂肪族炭化水素部位の炭素原子数が2〜4である脂肪族ポリアミド、或いは、芳香族ポリアミドであることがPAS樹脂(A)との相溶性が良好となり、成形品の耐熱性が良好となる点、特に表面実装用電子部品用途におけるリフロー後の耐熱性が良好となる点から好ましい。   Specifically, the polyamide (B) is polyamide 26 which is a polymer of adipic acid and ethylenediamine, polyamide 46 which is a polymer of adipic acid and tetramethylenediamine, nylon 6 which is an ε-caprolactam polymer, Aliphatic polyamides such as nylon 11 which is an undecane lactam polymer, nylon 12 which is a lauryl lactam polymer, nylon 66 which is a hexamethylenediamine / adipic acid cocondensate, and nylon 610 which is a hexamethylenediamine / sebacic acid cocondensate Or an aromatic polyamide, but the PAS resin (A) is an aliphatic polyamide having 2 to 4 carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon moiety such as polyamide 46 and polyamide 26, or an aromatic polyamide. Good compatibility with the heat resistance of the molded product Point becomes good, from the viewpoint of heat resistance after reflow is improved in electronic component applications, particularly for surface mounting.

ここで用いられる芳香族ポリアミドは、具体的には、下記構造式a   Specifically, the aromatic polyamide used here has the following structural formula a.

Figure 2009263635

で表されるテレフタル酸アミド構造を繰り返し構造単位の一つとして有するものである。
前記構造式a中、Rは炭素原子数2〜12アルキレン基を表す。かかるテレフタル酸アミド構造は、具体的には、テレフタル酸、又はテレフタル酸ジハライドと、炭素原子数2〜12の脂肪族ジアミンとの反応によって形成されるものである。ここで用いる炭素原子数2〜12の脂肪族ジアミンは、具体的には、エチレンジアミン、プロパンジアミン、1,4−ブタンジアミン、1,6−ヘキサンジアミン、1,7−ヘプタンジアミン、1,8−オクタンジアミン、1,9−ノナンジアミン、1,10−デカンジアミン、1,11−ウンデカンジアミン、1,12−ドデカンジアミン等の直鎖状脂肪族アルキレンジアミン;1−ブチル−1,2−エタンジアミン、1,1−ジメチル−1,4−ブタンジアミン、1−エチル−1,4−ブタンジアミン、1,2−ジメチル−1,4−ブタンジアミン、1,3−ジメチル−1,4−ブタンジアミン、1,4−ジメチル−1,4−ブタンジアミン、2,3−ジメチル−1,4−ブタンジアミン、2−メチル−1,5−ペンタンジアミン、3−メチル−1,5−ペンタンジアミン、2,5−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン、2,4−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン、3,3−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン、2,2−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジアミン、2,4,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジアミン、2,4−ジエチル−1,6−ヘキサンジアミン、2,2−ジメチル−1,7−ヘプタンジアミン、2,3−ジメチル−1,7−ヘプタンジアミン、2,4−ジメチル−1,7−ヘプタンジアミン、2,5−ジメチル−1,7−ヘプタンジアミン、2−メチル−1,8−オクタンジアミン、3−メチル−1,8−オクタンジアミン、4−メチル−1,8−オクタンジアミン、1,3−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、1,4−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、2,4−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、3,4−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、4,5−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、2,2−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、3,3−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、4,4−ジメチル−1,8−オクタンジアミン、5−メチル−1,9−ノナンジアミン等の分岐鎖状脂肪族アルキレンジアミン;シクロヘキサンジアミン、メチルシクロヘキサンジアミン、イソホロンジアミン、ノルボルナンジメチルアミン、トリシクロデカンジメチルアミン等の脂環族ジアミン類が挙げられる。
Figure 2009263635

As a repeating structural unit.
In the structural formula a, R represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. Specifically, the terephthalic acid amide structure is formed by a reaction between terephthalic acid or terephthalic acid dihalide and an aliphatic diamine having 2 to 12 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic diamine having 2 to 12 carbon atoms used herein include ethylenediamine, propanediamine, 1,4-butanediamine, 1,6-hexanediamine, 1,7-heptanediamine, and 1,8- Linear aliphatic alkylenediamine such as octanediamine, 1,9-nonanediamine, 1,10-decanediamine, 1,11-undecanediamine, 1,12-dodecanediamine; 1-butyl-1,2-ethanediamine, 1,1-dimethyl-1,4-butanediamine, 1-ethyl-1,4-butanediamine, 1,2-dimethyl-1,4-butanediamine, 1,3-dimethyl-1,4-butanediamine, 1,4-dimethyl-1,4-butanediamine, 2,3-dimethyl-1,4-butanediamine, 2-methyl-1,5-pentanediamine, 3- Til-1,5-pentanediamine, 2,5-dimethyl-1,6-hexanediamine, 2,4-dimethyl-1,6-hexanediamine, 3,3-dimethyl-1,6-hexanediamine, 2, 2-dimethyl-1,6-hexanediamine, 2,2,4-trimethyl-1,6-hexanediamine, 2,4,4-trimethyl-1,6-hexanediamine, 2,4-diethyl-1,6 -Hexanediamine, 2,2-dimethyl-1,7-heptanediamine, 2,3-dimethyl-1,7-heptanediamine, 2,4-dimethyl-1,7-heptanediamine, 2,5-dimethyl-1 , 7-heptanediamine, 2-methyl-1,8-octanediamine, 3-methyl-1,8-octanediamine, 4-methyl-1,8-octanediamine, 1,3-dimethyl-1, -Octanediamine, 1,4-dimethyl-1,8-octanediamine, 2,4-dimethyl-1,8-octanediamine, 3,4-dimethyl-1,8-octanediamine, 4,5-dimethyl-1 , 8-octanediamine, 2,2-dimethyl-1,8-octanediamine, 3,3-dimethyl-1,8-octanediamine, 4,4-dimethyl-1,8-octanediamine, 5-methyl-1 Branched aliphatic alkylene diamines such as 1,9-nonanediamine; and alicyclic diamines such as cyclohexanediamine, methylcyclohexanediamine, isophoronediamine, norbornanedimethylamine, and tricyclodecanedimethylamine.

これらの中でも特に耐湿性と機械的強度の点から炭素原子数4〜8の直鎖状脂肪族アルキレンジアミン、炭素原子数5〜10の分岐鎖状脂肪族アルキレンジアミンが好ましい。   Among these, a linear aliphatic alkylene diamine having 4 to 8 carbon atoms and a branched aliphatic alkylene diamine having 5 to 10 carbon atoms are particularly preferable from the viewpoint of moisture resistance and mechanical strength.

また、前記芳香族ポリアミドは、テレフタル酸アミド構造の他に、下記構造式b   The aromatic polyamide has the following structural formula b in addition to the terephthalic acid amide structure.

Figure 2009263635
(式中、Rは構造式aのおけるRと同義である。)
で表されるイソフタル酸アミド構造を有することが、前記芳香族ポリアミド自体の融点を下げてPAS樹脂(A)との相溶性を改善できる点から好ましい。
Figure 2009263635
(Wherein R has the same meaning as R in structural formula a)
Is preferable from the viewpoint that the melting point of the aromatic polyamide itself can be lowered to improve the compatibility with the PAS resin (A).

更に、前記芳香族ポリアミドは、テレフタル酸アミド構造の他に、下記構造式c   Further, the aromatic polyamide has the following structural formula c in addition to the terephthalic acid amide structure.

Figure 2009263635
(式中、Rは構造式aのおけるRと同義であり、Rは、炭素原子数4〜10の脂肪族炭化水素基を表す。)で表される酸アミド構造を有していてもよい。
Figure 2009263635
(Wherein R has the same meaning as R in structural formula a, and R 2 represents an aliphatic hydrocarbon group having 4 to 10 carbon atoms). Good.

ここで、上記構造式cで表される酸アミド構造は、炭素原子数4〜10の脂肪族ジカルボン酸、その酸エステル化物、その酸無水物、又はその酸ハライドと、炭素原子数2〜12の脂肪族ジアミンとの反応によって形成されるものである。ここで用いる炭素原子数4〜10の脂肪族ジカルボン酸は、具体的には、マロン酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、2−メチルアジピン酸、トリメチルアジピン酸、ピメリン酸、2,2−ジメチルグルタル酸、3,3−ジエチルコハク酸、アゼライン酸、セバシン酸、スベリン酸等の脂肪族ジカルボン酸;1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸類が挙げられる。   Here, the acid amide structure represented by the structural formula c includes an aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 10 carbon atoms, an acid esterified product thereof, an acid anhydride thereof, or an acid halide thereof and 2 to 12 carbon atoms. It is formed by reaction with an aliphatic diamine. Specifically, the aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 10 carbon atoms used here is malonic acid, dimethylmalonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, 2-methyladipic acid, trimethyladipic acid, pimelic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as 2,2-dimethylglutaric acid, 3,3-diethylsuccinic acid, azelaic acid, sebacic acid and suberic acid; fats such as 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Aliphatic dicarboxylic acids such as cyclic dicarboxylic acids.

上記した炭素原子数4〜10の脂肪族ジカルボン酸の酸エステル化物は、具体的には、メチルエステル体、エチルエステル体、t−ブチルエステル体等が挙げられ、また、前記脂肪族ジカルボン酸の酸ハライドを構成するハロゲン原子は臭素原子、塩素原子が挙げられる。   Specific examples of the acid esterified product of the aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 10 carbon atoms include methyl ester, ethyl ester, t-butyl ester, and the like. Examples of the halogen atom constituting the acid halide include a bromine atom and a chlorine atom.

前記芳香族ポリアミドは、上述したとおり前記構造式a、構造式b、構造式cで表されるアミド構造を構造部位として有するものが好ましいが、ジカルボン酸1分子と、ジアミン1分子とから構成される酸アミド構造を1単位とした場合に、該芳香族ポリアミド(B)を構成する全酸アミド構造に対して前記テレフタル酸アミド構造は65モル%以上、イソフタル酸アミド構造は20モル%以上、脂肪族炭化水素酸アミド構造は10モル%以上含まれていることが、耐熱性改善の効果が顕著になる点から好ましい。
更に前記芳香族ポリアミドは、耐熱性と耐湿性とのバランスから
前記構造式aで表されるテレフタル酸アミド構造を65〜70モル%、
前記構造式bで表されるイソフタル酸アミド構造を20〜25モル%、
前記構造式cで表される酸アミド構造を5〜15モル%、
で構成されるポリアミドが好ましい。
As described above, the aromatic polyamide preferably has an amide structure represented by the structural formula a, structural formula b, or structural formula c as a structural site, and is composed of one dicarboxylic acid molecule and one diamine molecule. When the acid amide structure is 1 unit, the terephthalic acid amide structure is 65 mol% or more and the isophthalic acid amide structure is 20 mol% or more with respect to the total acid amide structure constituting the aromatic polyamide (B). It is preferable that the aliphatic hydrocarbon acid amide structure is contained in an amount of 10 mol% or more from the viewpoint that the effect of improving the heat resistance becomes remarkable.
Furthermore, the aromatic polyamide has a terephthalic acid amide structure represented by the structural formula a of 65 to 70 mol% from the balance between heat resistance and moisture resistance.
20-25 mol% of isophthalic acid amide structure represented by the structural formula b,
5-15 mol% of an acid amide structure represented by the structural formula c,
Polyamide composed of

また、本発明に使用するポリアミド(B)は、前記PAS樹脂(A)への分散性の点から、その溶融粘度ηが350℃、100sec−1のせん断速度条件で、25〜100Pa・sであることが好ましく、更に、このポリアミドの溶融粘度をη、前記したPAS樹脂(A)の溶融粘度をηとした場合に、η/ηの値が0.9〜5.0、特に0.9〜3.0の範囲であることが該ポリアミドとPAS樹脂(A)との相溶性の点から好ましい。前記ポリアミドは、更にTg90〜140℃であることが耐熱性の点から好ましい。 The polyamide (B) used in the present invention has a melt viscosity η of 350 ° C. and a shear rate of 100 sec −1 at 25 to 100 Pa · s from the viewpoint of dispersibility in the PAS resin (A). Preferably, the value of η B / η A is 0.9 to 5.0 when the melt viscosity of the polyamide is η B and the melt viscosity of the PAS resin (A) is η A. In particular, the range of 0.9 to 3.0 is preferable from the viewpoint of compatibility between the polyamide and the PAS resin (A). The polyamide preferably has a Tg of 90 to 140 ° C. from the viewpoint of heat resistance.

前記ポリアミド(B)は、例えば、以下の(1)乃至(3)の方法によって製造することができる。
(1)ジカルボン酸成分の酸ハライドと、炭素原子数2〜12の脂肪族ジアミンを含むジアミン成分とを、お互いに相溶しない二種の溶媒に溶解した後、アルカリおよび触媒量の第4級アンモニウム塩の存在下に2液を混合、撹拌して重縮合反応を行う界面重合法。
(2)ジカルボン酸成分の酸ハライドと、炭素原子数2〜12の脂肪族ジアミンを含むジアミン成分とを第3級アミンなどの酸を受容するアルカリ性化合物の存在下、有機溶媒中で反応せしめる溶液重合法。
(3)ジカルボン酸成分のジエステル化物と、芳香族ジアミンを原料として溶融状態でアミド交換反応する溶融重合法。
The polyamide (B) can be produced, for example, by the following methods (1) to (3).
(1) After dissolving an acid halide of a dicarboxylic acid component and a diamine component containing an aliphatic diamine having 2 to 12 carbon atoms in two kinds of solvents that are not compatible with each other, an alkali and a catalytic amount of quaternary An interfacial polymerization method in which two liquids are mixed and stirred in the presence of an ammonium salt to carry out a polycondensation reaction.
(2) A solution in which an acid halide of a dicarboxylic acid component and a diamine component containing an aliphatic diamine having 2 to 12 carbon atoms are reacted in an organic solvent in the presence of an alkaline compound that accepts an acid such as a tertiary amine. Polymerization method.
(3) A melt polymerization method in which an amide exchange reaction is performed in a molten state using a diesterified product of a dicarboxylic acid component and an aromatic diamine as raw materials.

本発明の熱可塑性樹脂組成物におけるPAS樹脂(A)とポリアミド(B)との配合割合は、前記した通り、本発明の熱可塑性樹脂組成物100質量部、即ち後述する他の配合成分も含む組成物総質量100質量あたりの前記ポリアミド(B)の配合量が10〜30質量部となる範囲、好ましくは12〜22質量部となる範囲である。このような範囲に調節することにより組成物中の塩素原子量を有効に低減できる他、耐熱性や難燃性を高度に兼備させることができる。本発明では特にPAS樹脂(A)とポリアミド(B)との配合割合が、PAS樹脂(A)/ポリアミド(B)の質量比で95/5〜60/40の範囲であること、なかでも80/20〜60/40の範囲であることが耐熱性及び難燃性のバランスに優れる点から好ましい。   As described above, the blending ratio of the PAS resin (A) and the polyamide (B) in the thermoplastic resin composition of the present invention includes 100 parts by mass of the thermoplastic resin composition of the present invention, that is, other blending components described later. The amount of the polyamide (B) is 100 to 30 parts by mass, preferably 12 to 22 parts by mass per 100 parts by mass of the total composition. By adjusting to such a range, the amount of chlorine atoms in the composition can be effectively reduced, and heat resistance and flame retardancy can be combined at a high level. In the present invention, the blending ratio of the PAS resin (A) and the polyamide (B) is in the range of 95/5 to 60/40 in terms of the mass ratio of the PAS resin (A) / polyamide (B). The range of / 20 to 60/40 is preferable from the viewpoint of excellent balance between heat resistance and flame retardancy.

また、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、該組成物100質量部あたりの前記ポリアミド(B)の含有量が10〜30質量部であり、且つ、該組成物をヘキサフルオロイソプロパノールで70℃15分間抽出した際の抽出率が7質量%以下であることを特徴としている。ここで、該組成物をヘキサフルオロイソプロパノールで70℃15分間抽出した際の抽出率とは、ヘキサフルオロイソプロパノールで抽出される成分の質量を組成物総質量で除した値であり、具体的には、下記の測定方法から求めることができる。なお、ポリアミドは、ヘキサフルオロイソプロパノールに溶解するものであるが、樹脂組成物中のポリアミドの含有量より、ヘキサフルオロイソプロパノールで抽出されるポリアミドの量が低いということは、樹脂組成物中でポリアミドより溶解しにくい形態となっていることを示唆し、良好なPAS樹脂/ポリアミドのポリマーアロイを形成しているものと推測され、このことにより、耐熱性が向上するものと考えられる。特に、本発明のポリアリーレンスルフィド樹脂中のポリアミド(B)の含有量をX(質量%)とし、該組成物をヘキサフルオロイソプロパノールで70℃15分間抽出した際の抽出率をY(質量%)とした場合に、Y/Xの値が0.01〜0.40の範囲にあることが好ましい。   In the thermoplastic resin composition of the present invention, the content of the polyamide (B) per 100 parts by mass of the composition is 10 to 30 parts by mass, and the composition is hexafluoroisopropanol at 70 ° C. 15 It is characterized in that the extraction rate when extracted for a minute is 7% by mass or less. Here, the extraction rate when the composition is extracted with hexafluoroisopropanol at 70 ° C. for 15 minutes is a value obtained by dividing the mass of the component extracted with hexafluoroisopropanol by the total mass of the composition. It can be determined from the following measurement method. Polyamide is soluble in hexafluoroisopropanol, but the amount of polyamide extracted with hexafluoroisopropanol is lower than the polyamide content in the resin composition. This suggests that it is in a form that is difficult to dissolve, and that it is presumed that a good polymer alloy of PAS resin / polyamide is formed, and this is considered to improve heat resistance. In particular, the content of polyamide (B) in the polyarylene sulfide resin of the present invention is X (mass%), and the extraction rate when the composition is extracted with hexafluoroisopropanol at 70 ° C. for 15 minutes is Y (mass%). In this case, the value of Y / X is preferably in the range of 0.01 to 0.40.

(ヘキサフルオロイソプロパノール抽出率の求め方)
該組成物のペレットを、凍結粉砕機を用いて凍結粉砕し、目開き500μmの篩を通し、その後、20mlサンプル管に該粉砕試料約1gを精密に秤量し、ヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)を4ml加える。次に、試料とHFIPの入った該サンプル管を70℃で15分超音波洗浄機にて超音波処理する。更に、質量を精密に秤量したフィルターに、該超音波処理液を定量的に移し、ろ過した。その後、フィルターごと乾燥、秤量し、濾過残の質量を測定する。処理前に秤量した質量とこの乾燥後の質量(フィルターの質量は除く。)との差が抽出成分の質量であり、これを処理前に秤量した質量で除した値を百分率で示した値を抽出率とする。
(How to determine the extraction rate of hexafluoroisopropanol)
The pellet of the composition is freeze-ground using a freeze-pulverizer, passed through a sieve having an opening of 500 μm, and then about 1 g of the ground sample is precisely weighed into a 20-ml sample tube, and 4 ml of hexafluoroisopropanol (HFIP) is added. Add. Next, the sample tube containing the sample and HFIP is sonicated with an ultrasonic cleaner at 70 ° C. for 15 minutes. Furthermore, the sonication liquid was quantitatively transferred to a filter with a precisely weighed mass and filtered. Then, the filter is dried and weighed, and the mass of the filtration residue is measured. The difference between the mass weighed before the treatment and the mass after drying (excluding the mass of the filter) is the mass of the extracted component, and the value obtained by dividing this by the mass weighed before the treatment is expressed as a percentage. The extraction rate.

本発明では更に反応性官能基含有オルガノシラン(C)を併用することにより、PAS樹脂(A)とポリアミド(B)との相溶性が向上し、耐熱性及び難燃性の改善効果が一層顕著なものとなる点から好ましい。ここで、反応性官能基含有オルガノシラン(C)の配合割合は、本発明の熱可塑性樹脂組成物100質量部あたり0.01〜2質量部となる割合で含有することが好ましい。   In the present invention, by further using the reactive functional group-containing organosilane (C), the compatibility between the PAS resin (A) and the polyamide (B) is improved, and the effect of improving heat resistance and flame retardancy is more remarkable. It is preferable from the point which becomes a thing. Here, the compounding ratio of the reactive functional group-containing organosilane (C) is preferably contained at a ratio of 0.01 to 2 parts by mass per 100 parts by mass of the thermoplastic resin composition of the present invention.

反応性官能基含有オルガノシラン(C)中の反応性官能基は、具体的には、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基が挙げられる。かかる反応性官能基含有オルガノシラン(C)は、具体的には、前記した各種反応性官能基と共に、Si原子上にアルコキシ基を2個以上有するシラン化合物である。ここで、該アルコキシ基は炭素原子数1〜6のアルコキシ基、或いは、該アルコキシ基を繰り返し単位として2単位乃至6単位で構成されるポリアルキレンオキシ基が挙げられる。このような化合物としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4エポキシシクロヘキシル)トリメトキシシランなどが挙げられる。   Specific examples of the reactive functional group in the reactive functional group-containing organosilane (C) include an epoxy group, an amino group, and an isocyanate group. The reactive functional group-containing organosilane (C) is specifically a silane compound having two or more alkoxy groups on the Si atom together with the various reactive functional groups described above. Here, examples of the alkoxy group include an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a polyalkyleneoxy group composed of 2 to 6 units using the alkoxy group as a repeating unit. Examples of such compounds include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, and 3-isocyanatopropyltriethoxy. Silane, 2- (3,4 epoxy cyclohexyl) trimethoxysilane, etc. are mentioned.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、上記した反応性官能基含有オルガノシラン(C)と共に、或いはこれに代えて、ノボラッククレゾール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂を架橋剤として用いることもできる。   The thermoplastic resin composition of the present invention uses an epoxy resin such as a novolak cresol type epoxy resin or a phenol novolak type epoxy resin as a crosslinking agent together with or in place of the reactive functional group-containing organosilane (C). You can also.

また、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、PAS樹脂(A)、芳香族ポリアミド(B)、更に望ましくは前記反応性官能基含有オルガノシラン(C)の各成分に加え、更にハイドロタルサイト類化合物(D)を併用することが前記PAS樹脂(A)と前記芳香族ポリアミドとの溶融混練時或いは成形物のリフロー炉における熱処理時におけるポリマー成分の熱分解を抑制して、優れた機械的強度や難燃性の一層の向上が図れる点、及び、熱処理後の成形物外観を改善効果が一層顕著なものとなる点から好ましい。   In addition, the thermoplastic resin composition of the present invention includes a PAS resin (A), an aromatic polyamide (B), and more preferably each component of the reactive functional group-containing organosilane (C), and further hydrotalcites. Combining the compound (D) suppresses thermal decomposition of the polymer component during the melt-kneading of the PAS resin (A) and the aromatic polyamide or during the heat treatment in the reflow furnace of the molded product, and has excellent mechanical strength. In view of further improving the flame retardancy and the effect of improving the appearance of the molded article after heat treatment, it is preferable.

ここで用いるハイドロタルサイト類化合物(D)は、2価の金属イオンと3価の金属イオンの水酸化物を層状結晶構造として有し、該層状結晶構造の層間に陰イオンを含む構造を有する無機化合物、或いは、その焼成物である。かかるハイドロタルサイト類化合物(D)を構成する2価の金属イオンは、例えば、Mg2+、Mn2+、Fe2+、Co2+、Ni2+、Cu2+、及びZn2+が挙げられ、3価の金属イオンはAl3+、Fe3+、Cr3+、Co3+、及びIn3+が挙げられる。また、陰イオンは、OH、F、Cl、Br、NO 、CO 、SO 2−、Fe(CN) 3−及びCHCOO、モリブテン酸イオン、ポリモリブテン酸イオン、バナジウム酸イオン、ポリバナジウム酸イオンが挙げられる。 The hydrotalcite compound (D) used here has a layered crystal structure of a divalent metal ion and a trivalent metal ion hydroxide, and has a structure including an anion between the layers of the layered crystal structure. It is an inorganic compound or a fired product thereof. Examples of the divalent metal ions constituting the hydrotalcite compound (D) include Mg 2+ , Mn 2+ , Fe 2+ , Co 2+ , Ni 2+ , Cu 2+ , and Zn 2+. The ions include Al 3+ , Fe 3+ , Cr 3+ , Co 3+ , and In 3+ . Further, the anions include OH , F , Cl , Br , NO 3 , CO 3 , SO 4 2− , Fe (CN) 6 3− and CH 3 COO , molybdate, polymolybtenene. Acid ions, vanadate ions, and polyvanadate ions may be mentioned.

これらの中でも、特に、ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)に起因する酸成分とのイオン交換能に優れ、ガス発生防止効果が顕著である点から、3価の金属イオンはAl3+であって、陰イオンはCO であることが好ましく、具体的には、例えば下記式
2+ 1−xAl(OH)・(COX/2mHO 式1
(式1中、M2+はMg,Ca及びZnよりなる群から選ばれた二価金属イオンを示し、そしてx及びmは、0<x<0.5かつ0≦m≦2を満足する数値である。)
で表される化合物であることが好ましい。
Among these, in particular, the trivalent metal ion is Al 3+ because it is excellent in ion exchange ability with the acid component derived from the polyarylene sulfide resin (A) and has a remarkable effect of preventing gas generation. The ion is preferably CO 3 , specifically, for example, the following formula M 2+ 1-x Al x (OH) 2. (CO 3 ) X / 2 mH 2 O Formula 1
(In Formula 1, M 2+ represents a divalent metal ion selected from the group consisting of Mg, Ca and Zn, and x and m are numerical values satisfying 0 <x <0.5 and 0 ≦ m ≦ 2. .)
It is preferable that it is a compound represented by these.

前記式1を満足する化合物は、例えば、
Mg2+ Al(OH)16・(CO)・4H
で表される天然ハイドロタルサイトの他、
Mg0.7Al0.3(OH)(CO0.15・0.54HO、
Mg4.5Al(OH)13CO・3.5HO、
Mg4.3Al(OH)12.6CO・3.5HO、
Mg4.2Al(OH)12.4CO
ZnAl(OH)16CO・4HO、
CaAl(OH)16CO・4HO等が挙げられる。
これらのなかでも特に本発明ではガス発生防止の点から下記式2
Mg2+ 1−xAl(OH)・(COX/2mHO 式2
(式2中、x及びmは、0<x<0.5かつ0≦m≦2を満足する数値である。)
で表されるMg−Al系ハイドロタルサイト様化合物であることが特に好ましい。
The compound satisfying the formula 1 is, for example,
Mg 2+ 6 Al 2 (OH) 16 · (CO 3) · 4H 2 O
In addition to natural hydrotalcite represented by
Mg 0.7 Al 0.3 (OH) 2 (CO 3 ) 0.15 · 0.54H 2 O,
Mg 4.5 Al 2 (OH) 13 CO 3 · 3.5H 2 O,
Mg 4.3 Al 2 (OH) 12.6 CO 3 · 3.5H 2 O,
Mg 4.2 Al 2 (OH) 12.4 CO 3 ,
Zn 6 Al 2 (OH) 16 CO 3 .4H 2 O,
Examples thereof include Ca 6 Al 2 (OH) 16 CO 3 .4H 2 O.
Among these, in the present invention, in order to prevent gas generation, the following formula 2
Mg 2+ 1-x Al x (OH) 2. (CO 3 ) X / 2 mH 2 O Formula 2
(In Formula 2, x and m are numerical values satisfying 0 <x <0.5 and 0 ≦ m ≦ 2.)
It is particularly preferable that the Mg-Al hydrotalcite-like compound represented by

前記ハイドロタルサイト類化合物(D)の配合量は、ガス発生防止効果が顕著なものとなる点から本発明の熱可塑性樹脂組成物中0.1〜1.0質量%、或いは、前記PAS樹脂(A)及び前記芳香族ポリアミドの合計質量100質量部に対して0.01〜5質量部であることが好ましく、特に0.1〜2質量部であることが好ましい。   The blending amount of the hydrotalcite compound (D) is 0.1 to 1.0% by mass in the thermoplastic resin composition of the present invention, or the PAS resin from the viewpoint that the effect of preventing gas generation is remarkable. It is preferable that it is 0.01-5 mass parts with respect to 100 mass parts of total mass of (A) and the said aromatic polyamide, and it is especially preferable that it is 0.1-2 mass parts.

本発明では、上記各成分に加え、更に繊維状強化材(E−1)又は無機質フィラー(E−2)を配合することが成形物の機械的強度の点から好ましい。   In the present invention, it is preferable from the viewpoint of the mechanical strength of the molded product that a fibrous reinforcing material (E-1) or an inorganic filler (E-2) is further blended in addition to the above components.

前記繊維状強化材(E−1)は、例えば、ガラス繊維、PAN系又はピッチ系の炭素繊維、シリカ繊維、シリカ・アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化ホウ素繊維、窒化ケイ素繊維、ホウ素繊維、ホウ酸アルミニウム繊維、チタン酸カリウム繊維、更にステンレス、アルミニウム、チタン、銅、真ちゅう等の金属の繊維状物の無機質繊維状物質、及びアラミド繊維等の有機質繊維状物質等が挙げられる。   Examples of the fibrous reinforcing material (E-1) include glass fibers, PAN-based or pitch-based carbon fibers, silica fibers, silica-alumina fibers, zirconia fibers, boron nitride fibers, silicon nitride fibers, boron fibers, and boric acid. Examples thereof include aluminum fibers, potassium titanate fibers, inorganic fibrous materials such as stainless steel, aluminum, titanium, copper, brass and other metallic fibrous materials, and organic fibrous materials such as aramid fibers.

また、無機質フィラー(E−2)は、例えば、マイカ、タルク、ワラステナイト、セリサイト、カオリン、クレー、ベントナイト、アスベスト、アルミナシリケート、ゼオライト、パイロフィライトなどの珪酸塩や炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ドロマイトなどの炭酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどの硫酸塩、アルミナ、酸化マグネシウム、シリカ、ジルコニア、チタニア、酸化鉄などの金属酸化物、ガラスビーズ、セラミックビーズ、窒化ホウ素、炭化珪素、燐酸カルシウムなどが挙げられる。これらの繊維状強化材(E−1)、無機質フィラー(E−2)は、単独使用でも2種以上を併用してもよい。   The inorganic filler (E-2) includes, for example, silicates such as mica, talc, wollastonite, sericite, kaolin, clay, bentonite, asbestos, alumina silicate, zeolite, pyrophyllite, calcium carbonate, magnesium carbonate, Carbonate such as dolomite, sulfate such as calcium sulfate and barium sulfate, metal oxide such as alumina, magnesium oxide, silica, zirconia, titania and iron oxide, glass beads, ceramic beads, boron nitride, silicon carbide, calcium phosphate, etc. Is mentioned. These fibrous reinforcing materials (E-1) and inorganic fillers (E-2) may be used alone or in combination of two or more.

本発明に使用する繊維状強化材(E−1)又は無機質フィラー(E−2)の配合量は、PAS樹脂(A)と芳香族ポリアミド(B)との合計量100質量部に対し、1〜200重量部の範囲であることが好ましい。また繊維状強化材(E−1)又は無機質フィラー(E−2)は、本発明の耐熱性樹脂成形物品の性能を損なわない範囲で、シランカップリング剤あるいはチタンカップリング剤等の表面処理剤で表面処理を施したものであってもよい。   The amount of the fibrous reinforcing material (E-1) or inorganic filler (E-2) used in the present invention is 1 with respect to 100 parts by mass of the total amount of the PAS resin (A) and the aromatic polyamide (B). It is preferable to be in the range of ~ 200 parts by weight. The fibrous reinforcing material (E-1) or the inorganic filler (E-2) is a surface treatment agent such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent as long as the performance of the heat-resistant resin molded article of the present invention is not impaired. The surface treatment may be performed.

更に、本発明の熱可塑性樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、酸化防止剤又は安定剤(F)を併用することが前記PAS樹脂(A)と前記芳香族ポリアミドとの溶融混練時或いは成形物のリフロー炉における熱処理時におけるポリマー成分の熱分解を抑制して、優れた機械的強度や難燃性の一層の向上が図れる点、及び、熱処理後の成形物外観を改善効果が一層顕著なものとなる点から好ましい。酸化防止剤又は安定剤には、例えば、フェノール系(ヒンダードフェノール類など)、アミン系(ヒンダードアミン類など)、リン系、イオウ系、ヒドロキノン系、キノリン系酸化防止剤(又は安定剤)などが含まれる。   Furthermore, in the thermoplastic resin composition of the present invention, an antioxidant or a stabilizer (F) may be used in combination with the PAS resin (A) and the aromatic polyamide as long as the effects of the present invention are not impaired. Suppressing the thermal decomposition of polymer components during melt-kneading or heat treatment in the reflow oven of the molded product, further improving the mechanical strength and flame retardancy, and improving the appearance of the molded product after heat treatment This is preferable because the effect becomes more remarkable. Antioxidants or stabilizers include, for example, phenolic (such as hindered phenols), amine (such as hindered amines), phosphorus, sulfur, hydroquinone, and quinoline antioxidants (or stabilizers). included.

長期間安定に耐熱性を維持するために酸化防止剤又は安定剤を含んでいてもよい。酸化防止剤又は安定剤には、例えば、フェノール系(ヒンダードフェノール類など)、アミン系(ヒンダードアミン類など)、リン系、イオウ系、ヒドロキノン系、キノリン系酸化防止剤(又は安定剤)などが含まれる。   In order to maintain heat resistance stably for a long period of time, an antioxidant or a stabilizer may be included. Antioxidants or stabilizers include, for example, phenolic (such as hindered phenols), amine (such as hindered amines), phosphorus, sulfur, hydroquinone, and quinoline antioxidants (or stabilizers). included.

フェノール系酸化防止剤には、ヒンダードフェノール類、例えば、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−オクタデシル−3−(4’,5’−ジ−t−ブチルフェノール)プロピオネート、n−オクタデシル−3−(4’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェノール)プロピオネート、ステアリル−2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノール)プロピオネート、ジステアリル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、3,9−ビス{2−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェノール)ブタンなどが含まれる。   Phenol antioxidants include hindered phenols such as 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-methylenebis (2,6-di-tert-butylphenol). 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3 , 5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol tetrakis [ 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4) Hydroxyphenyl) propionate], n-octadecyl-3- (4 ′, 5′-di-t-butylphenol) propionate, n-octadecyl-3- (4′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenol) ) Propionate, stearyl-2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenol) propionate, distearyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzylphosphonate, 2-t-butyl- 6- (3-tert-butyl-5-methyl-2-hydroxybenzyl) -4-methylphenyl acrylate, N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocin Namamide), 3,9-bis {2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy ] -1,1-dimethylethyl} -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 1,1, 3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenol) butane and the like are included.

ヒンダードフェノール類の中でも、例えば、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]などのC〜C10アルキレンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−分岐C〜Cアルキル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート];トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]などのジ又はトリオキシC〜Cアルキレンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−分岐C〜Cアルキル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート];グリセリントリス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]などのC〜Cアルキレントリオール−ビス[3−(3,5−ジ−分岐C〜Cアルキル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート];ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]などのC〜Cアルキレンテトラオールテトラキス[3−(3,5−ジ−分岐C〜Cアルキル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]などが好ましい。 Among the hindered phenols, e.g., 1,6-hexanediol - bis [3- (3,5-di -t- butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] C 2 -C 10 alkylene diols, such as - bis [ 3- (3,5-di - branched C 3 -C 6 alkyl-4-hydroxyphenyl) propionate]; triethylene glycol - bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate ] di- or Toriokishi C 2 -C 4 alkylene diol such as - bis [3- (3,5-di - branched C 3 -C 6 alkyl-4-hydroxyphenyl) propionate]; glycerin tris [3- (3,5 - di -t- butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] C 3, such as -C 8 alkylene triol - bis [3- (3 5-di - branched C 3 -C 6 alkyl-4-hydroxyphenyl) propionate]; pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di -t- butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] C 4, such as -C 8 alkylene tetrols tetrakis [3- (3,5-di - branched C 3 -C 6 alkyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and the like are preferable.

アミン系酸化防止剤には、ヒンダードアミン類、例えば、トリ又はテトラC〜Cアルキルピペリジン又はその誘導体[例えば、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−フェノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなど]、ビス(トリ、テトラ又はペンタC〜Cアルキルピペリジン)C〜C20アルキレンジカルボン酸エステル[例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)オギサレート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)マロネート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)アジペート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)テレフタレート]、1,2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルオキシ)エタン、フェニル−1−ナフチルアミン、フェニル−2−ナフチルアミン、N,N’−ジフェニル−1,4−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−シクロヘキシル−1,4−フェニレンジアミンなどが含まれる。 Amine-based antioxidants include hindered amines such as tri- or tetra-C 1 -C 3 alkyl piperidines or derivatives thereof [eg 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy- 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-phenoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, bis (tri-, tetra- or penta-C 1 -C 3 alkyl piperidine) C 2 -C 20 Alkylene dicarboxylic acid esters [for example, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) ogisalate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) malonate, bis (2,2 , 6,6-tetramethyl-4-piperidyl) adipate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate , Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) terephthalate], 1,2-bis (2,2 , 6,6-tetramethyl-4-piperidyloxy) ethane, phenyl-1-naphthylamine, phenyl-2-naphthylamine, N, N′-diphenyl-1,4-phenylenediamine, N-phenyl-N′-cyclohexyl- 1,4-phenylenediamine and the like are included.

リン系安定剤(又は酸化防止剤)には、例えば、トリイソデシルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル)ジトリデシルホスファイト、トリス(分岐C〜Cアルキルフェニル)ホスファイト[例えば、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−アミルフェニル)ホスファイト、トリス(2−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス[2−(1,1−ジメチルプロピル)−フェニル]ホスファイト、トリス[2,4−(1,1−ジメチルプロピル)−フェニル]ホスファイトなど]、ビス(2−t−ブチルフェニル)フェニルホスファイト、トリス(2−シクロヘキシルフェニル)ホスファイト、トリス(2−t−ブチル−4−フェニルフェニル)ホスファイト、ビス(C〜Cアルキルアリール)ペンタエリスリトールジホスファイト[例えば、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトなど]、トリフェニルホスフェート系安定剤(例えば、4−フェノキシ−9−α−(4−ヒドロキシフェニル)−p−クメニルオキシ−3,5,8,10−テトラオキサ−4,9−ジホスファピロ[5,5]ウンデカン、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフェートなど)、ジホスフォナイト系安定剤(例えば、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル)−4,4’−ビフェニレンジホスフォナイトなど)などが含まれる。リン系安定剤は、通常、分岐C〜Cアルキルフェニル基(特に、t−ブチルフェニル基)を有している。 Examples of the phosphorus stabilizer (or antioxidant) include triisodecyl phosphite, trisnonyl phenyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, 2,2-methylene bis (4,6-di-). t-butylphenyl) octyl phosphite, 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenyl) ditridecyl phosphite, tris (branched C 3 -C 6 alkylphenyl) phosphite [e.g., tris ( 2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, tris (2-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-amylphenyl) phosphite, tris (2- t-butylphenyl) phosphite, tris [2- (1,1-dimethylpropyl) -phenyl] phospho Sphite, tris [2,4- (1,1-dimethylpropyl) -phenyl] phosphite, etc.], bis (2-tert-butylphenyl) phenyl phosphite, tris (2-cyclohexylphenyl) phosphite, tris (2 -t- butyl-4-phenylphenyl) phosphite, bis (C 3 -C 9 alkylaryl) pentaerythritol diphosphite [e.g., bis (2,4-di -t- butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol Diphosphite, bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (nonylphenyl) pentaerythritol diphosphite, etc.] , Triphenyl phosphate stabilizers (e.g., -Phenoxy-9-α- (4-hydroxyphenyl) -p-cumenyloxy-3,5,8,10-tetraoxa-4,9-diphosphapyro [5,5] undecane, tris (2,4-di-t- Butylphenyl) phosphate), diphosphonite stabilizers (for example, tetrakis (2,4-di-t-butyl) -4,4′-biphenylenediphosphonite) and the like. The phosphorus-based stabilizer usually has a branched C 3 to C 6 alkylphenyl group (particularly a t-butylphenyl group).

ヒドロキノン系酸化防止剤には、例えば、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノンなどが含まれ、キノリン系酸化防止剤には、例えば、6−エトキシ−2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリンなどが含まれ,イオウ系酸化防止剤には、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネートなどが含まれる。 Examples of the hydroquinone antioxidant include 2,5-di-t-butylhydroquinone, and examples of the quinoline antioxidant include 6-ethoxy-2,2,4-trimethyl-1,2. -Dihydroquinoline and the like are included, and sulfur-based antioxidants include, for example, dilauryl thiodipropionate, distearyl thiodipropionate, and the like.

これらの酸化防止剤又は安定剤は単独で、又は二種以上使用できる。前記酸化防止剤又は安定剤(F)の配合量は、ガス発生防止効果が顕著なものとなる点から本発明の熱可塑性樹脂組成物中0.1〜1.0質量%、或いは、前記PAS樹脂(A)及び前記芳香族ポリアミドの合計質量100質量部に対して0.01〜5質量部であることが好ましく、特に0.1〜2質量部であることが好ましい。   These antioxidants or stabilizers can be used alone or in combination of two or more. The blending amount of the antioxidant or stabilizer (F) is 0.1 to 1.0% by mass in the thermoplastic resin composition of the present invention, or the PAS from the point that the effect of preventing gas generation becomes remarkable. The amount is preferably 0.01 to 5 parts by mass, particularly preferably 0.1 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total mass of the resin (A) and the aromatic polyamide.

更に、本発明の熱可塑性樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、1)リン酸類、亜リン酸類および次亜リン酸類、2)リン酸金属塩類、亜リン酸金属塩類および次亜リン酸金属塩類、および3)リン酸エステルおよび亜リン酸エステル類等のリン酸化合物、亜リン酸化合物、次亜リン酸化合物から選ばれる1種以上のリン化合物(G)を併用することが、前記PAS樹脂(A)と前記芳香族ポリアミドとの溶融混練時或いは成形物のリフロー炉における熱処理時におけるポリマー成分の熱分解を抑制して、優れた機械的強度や難燃性の一層の向上が図れる点、及び、熱処理後の成形物外観を改善効果が一層顕著なものとなる点から好ましい。   Furthermore, the thermoplastic resin composition of the present invention includes 1) phosphoric acids, phosphorous acids and hypophosphorous acids, 2) metal phosphates, metal phosphites, and the like as long as the effects of the present invention are not impaired. Metal salt of hypophosphite, and 3) one or more phosphorous compounds (G) selected from phosphoric acid compounds such as phosphoric acid esters and phosphorous acid esters, phosphorous acid compounds and hypophosphorous acid compounds are used in combination Suppresses thermal decomposition of the polymer component during the melt-kneading of the PAS resin (A) and the aromatic polyamide or during heat treatment of the molded product in a reflow furnace, and has excellent mechanical strength and flame retardancy. It is preferable from the standpoint that the improvement can be achieved and the effect of improving the appearance of the molded article after the heat treatment becomes more remarkable.

前記1)のリン酸類、亜リン酸類および次亜リン酸類とは、例えばリン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロ亜リン酸、二亜リン酸などを挙げることができる。
前記2)のリン酸金属塩類、亜リン酸金属塩類および次亜リン酸金属塩類とは、前記1)のリン化合物と周期律表第1族及び第2族、マンガン、亜鉛、アルミニウム、アンモニア、アルキルアミン、シクロアルキルアミン、ジアミンとの塩を挙げることができる。
前記3)のリン酸エステルおよび亜リン酸エステル類とは下記一般式で表される。
リン酸エステル;(OR)PO(OH)3−n
亜リン酸エステル;(OR)P(OH)3−n
Examples of 1) phosphoric acid, phosphorous acid and hypophosphorous acid include phosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, pyrophosphorous acid, diphosphorous acid and the like.
The metal phosphate, metal phosphite, and metal hypophosphite of 2) above are the phosphorus compound of 1) and Groups 1 and 2 of the periodic table, manganese, zinc, aluminum, ammonia, Mention may be made of salts with alkylamines, cycloalkylamines and diamines.
The phosphoric acid esters and phosphites of 3) are represented by the following general formula.
Phosphate ester; (OR) n PO (OH) 3-n
Phosphite; (OR) n P (OH) 3-n

ここで、nは1、2あるいは3を表し、Rはアルキル基、フェニル基、あるいはそれらの基の一部が炭化水素基などで置換されたアルキル基を表す。nが2以上の場合、前記一般式内の複数の(RO)基は同じでも異なっていてもよい。
前記Rとしては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、ノニル基、デシル基、ステアリル基、オレイル基などの脂肪族基、フェニル基、ビフェニル基などの芳香族基、あるいはヒドロキシル基、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基などの置換基を有する芳香族基などをあげることができる。
Here, n represents 1, 2 or 3, and R represents an alkyl group, a phenyl group, or an alkyl group in which a part of these groups is substituted with a hydrocarbon group or the like. When n is 2 or more, a plurality of (RO) groups in the general formula may be the same or different.
As R, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-octyl group, nonyl group, decyl group, stearyl group, oleyl group And an aliphatic group such as an aliphatic group such as phenyl group and biphenyl group, or an aromatic group having a substituent such as hydroxyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, methoxy group and ethoxy group. .

本発明の好ましいリン化合物は、リン酸金属塩類、亜リン酸金属塩類あるいは次亜リン酸金属塩類から選ばれる1種以上である。中でも、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸から選ばれるリン化合物と、周期律表第1族及び第2族、マンガン、亜鉛、アルミニウムから選ばれる金属との塩であることが好ましく、より好ましくは次亜リン酸カルシウムである。 The preferred phosphorus compound of the present invention is at least one selected from metal phosphates, metal phosphites or metal hypophosphites. Among them, a salt of a phosphorus compound selected from phosphoric acid, phosphorous acid, and hypophosphorous acid and a metal selected from Groups 1 and 2 of the periodic table, manganese, zinc, and aluminum is more preferable. Preferably it is calcium hypophosphite.

前記リン化合物の配合量は、ガス発生防止効果が顕著なものとなる点から本発明の熱可塑性樹脂組成物中0.1〜1.0質量%、或いは、前記PAS樹脂(A)及び前記芳香族ポリアミドの合計質量100質量部に対して0.01〜5質量部であることが好ましく、特に0.1〜2質量部であることが好ましい。   The compounding amount of the phosphorus compound is 0.1 to 1.0% by mass in the thermoplastic resin composition of the present invention, or the PAS resin (A) and the fragrance, from the viewpoint that the gas generation prevention effect becomes remarkable. It is preferable that it is 0.01-5 mass parts with respect to 100 mass parts of total mass of a group polyamide, and it is especially preferable that it is 0.1-2 mass parts.

更に、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、塩素原子含有量規制の観点から、耐熱樹脂組成物中に含まれる塩素原子含有量が900ppm以下になるように配合することが好ましい。ここで耐熱樹脂組成物中に含まれる塩素原子含有量とは、樹脂成分のみならず、全ての配合成分が含まれている状態での塩素原子含有量であり、塩素原子の定量は、試料を密閉石英管内で燃焼(900℃、Ar−O雰囲気)処理し、発生したガスを純水に吸収させた後、イオンクロマトグラフ法による塩化物イオンを測定することで行うことができる。 Furthermore, the thermoplastic resin composition of the present invention is preferably blended so that the chlorine atom content contained in the heat-resistant resin composition is 900 ppm or less from the viewpoint of regulating the chlorine atom content. Here, the chlorine atom content contained in the heat-resistant resin composition is the chlorine atom content in a state in which not only the resin component but also all compounding components are contained. It can be performed by performing combustion (900 ° C., Ar—O 2 atmosphere) in a sealed quartz tube, absorbing the generated gas in pure water, and measuring chloride ions by ion chromatography.

更に、本発明の熱可塑性樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、加工熱安定剤、可塑剤、離型剤、着色剤、滑剤、耐候性安定剤、発泡剤、防錆剤、ワックスを適量添加してもよい。   Furthermore, the thermoplastic resin composition of the present invention includes a processing heat stabilizer, a plasticizer, a mold release agent, a colorant, a lubricant, a weathering stabilizer, a foaming agent, and an anticorrosive agent as long as the effects of the present invention are not impaired. An appropriate amount of an agent and wax may be added.

更に、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、要求される特性に合わせてその他の樹脂成分を適宜配合してもよい。ここで使用し得る樹脂成分としては、エチレン、ブチレン、ペンテン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルなどの単量体の単独重合体または共重合体、ポリウレタン、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート・ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリアリルサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、液晶ポリマー、ポリアリールエーテルなどの単独重合体、ランダム共重合体またはブロック共重合体、グラフト共重合体等が挙げられる。   Furthermore, the thermoplastic resin composition of the present invention may be appropriately blended with other resin components in accordance with required properties. Examples of the resin component that can be used here include ethylene, butylene, pentene, butadiene, isoprene, chloroprene, styrene, α-methylstyrene, vinyl acetate, vinyl chloride, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, (meth) acrylonitrile, and the like. Monomer homopolymer or copolymer, Polyester such as polyurethane, polyester, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyacetal, polycarbonate, polysulfone, polyallylsulfone, polyethersulfone, polyphenylene ether, polyetherketone, polyether Single weight of ether ketone, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, silicone resin, epoxy resin, phenoxy resin, liquid crystal polymer, polyaryl ether, etc. Body, a random copolymer or a block copolymer and a graft copolymer, and the like.

以上詳述した耐熱性樹脂組成物を製造する方法は、具体的には、PAS樹脂(A)およびポリアミド(B)を、配合成分の合計質量100質量部あたり前記ポリアミド(B)が10〜30質量部となる割合で二軸混練押出機に投入し、樹脂成分の吐出量(kg/hr)とスクリュー回転数(rpm)との比率(吐出量/スクリュー回転数)が0.02〜0.2(kg/hr・rpm)、吐出される樹脂温度が345〜370℃の範囲となるようになる条件下に溶融混練する方法が挙げられる。   Specifically, the method for producing the heat-resistant resin composition described in detail above includes the PAS resin (A) and the polyamide (B), wherein the polyamide (B) is 10 to 30 per 100 parts by mass of the total mass of the blending components. The ratio of the resin component discharge rate (kg / hr) to the screw rotation speed (rpm) (discharge amount / screw rotation speed) is 0.02 to 0.02. 2 (kg / hr · rpm), and a method of melt-kneading under the condition that the temperature of the discharged resin is in the range of 345 to 370 ° C.

この際、二軸混練押出機に投入し、上記製造方法につき更に詳述すれば、PAS樹脂(A)およびポリアミド(B)を、更に必要に応じてその他の配合成分をタンブラー又はヘンシェルミキサーなどで均一に混合、次いで、2軸押出機に投入し、設定温度300℃、
樹脂温度360℃程度の温度条件下に溶融混練する方法が挙げられる。
この際、樹脂成分の吐出量は回転数150〜250rpmで5〜50kg/hrの範囲となる。なかでも特に分散性の点から10〜30kg/hrであることが好ましい。よって、樹脂成分の吐出量(kg/hr)とスクリュー回転数(rpm)との比率(吐出量/スクリュー回転数)は、特に0.08〜0.14(kg/hr・rpm)であることが好ましい。
At this time, the mixture is put into a twin-screw kneading extruder, and the production method will be described in more detail. PAS resin (A) and polyamide (B), and if necessary, other blending components are added using a tumbler or Henschel mixer. Mix evenly, then feed into twin screw extruder, set temperature 300 ° C,
A method of melt-kneading under a temperature condition of a resin temperature of about 360 ° C. can be mentioned.
At this time, the discharge amount of the resin component is in the range of 5 to 50 kg / hr at a rotational speed of 150 to 250 rpm. Especially, it is preferable that it is 10-30 kg / hr from a dispersible point. Therefore, the ratio (discharge amount / screw rotation number) between the resin component discharge amount (kg / hr) and the screw rotation speed (rpm) is particularly 0.08 to 0.14 (kg / hr · rpm). Is preferred.

また、前記配合成分のうち繊維状強化材(E−1)は、前記2軸押出機のサイドフィーダーから該押出機内に投入することが該繊維状強化材(E−1)の分散性が良好となる点から好ましい。かかるサイドフィーダーの位置は、前記2軸押出機のスクリュー全長に対する、押出機樹脂投入部から該サイドフィーダーまでの距離の比率が、0.1〜0.6であることが好ましい。中でも0.2〜0.4であることが特に好ましい。   In addition, the fibrous reinforcing material (E-1) among the above-mentioned blending components can be introduced into the extruder from the side feeder of the twin-screw extruder so that the dispersibility of the fibrous reinforcing material (E-1) is good. It is preferable from the point which becomes. The position of the side feeder is preferably such that the ratio of the distance from the extruder resin charging part to the side feeder with respect to the total screw length of the biaxial extruder is 0.1 to 0.6. Among these, 0.2 to 0.4 is particularly preferable.

このようにして溶融混練された耐熱性樹脂組成物はペレットとして得られ、次いで、これを成形機に供して溶融成形することにより、目的とする成形物が得られる。   The heat-resistant resin composition melt-kneaded in this manner is obtained as pellets, and then subjected to melt molding using a molding machine to obtain the desired molded product.

ここで溶融成形する方法は、例えば、射出成形、押出成形、圧縮成形等が挙げられるが、このうち表面実装用電子部品の成型用としては射出成形が特に好ましい。   Examples of the melt molding method include injection molding, extrusion molding, and compression molding. Among these, injection molding is particularly preferable for molding of electronic components for surface mounting.

このようにして得られる成形物は、耐熱性に優れ、高温域での弾性率が高い為、はんだ付けされる成形物に好ましく使用することができる。特に、前記した通り、表面実装用の電子部品用途においては、加熱炉(リフロー炉)内の基体の表面温度が280℃以上の高温になるところ、従来のPAS樹脂では融解又は変形が見られるのに対して、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、成形物品が融解又は変形を生じることなく該基体にはんだ付けすることが可能である。なお、上記のはんだ付けされる基体の表面温度とは、表面実装方式におけるはんだ付け工程において、実際に測定される基体の表面上の温度である。該基体の具体例としては、SMT方式におけるプリント印刷された配線基板や回路基板等が挙げられる。   The molded product thus obtained is excellent in heat resistance and has a high elastic modulus in a high temperature range, and therefore can be preferably used for a molded product to be soldered. In particular, as described above, in the surface mount electronic component application, the surface temperature of the substrate in the heating furnace (reflow furnace) becomes a high temperature of 280 ° C. or higher, but the conventional PAS resin is melted or deformed. In contrast, the thermoplastic resin composition of the present invention can be soldered to the substrate without the molded article melting or deforming. The surface temperature of the substrate to be soldered is a temperature actually measured on the surface of the substrate in the soldering process in the surface mounting method. Specific examples of the substrate include printed circuit boards and circuit boards in the SMT method.

また、上記した表面実装方式での加熱炉(リフロー炉)中での加熱方式には、(1)ヒーター上を移動する耐熱ベルトの上に基板を載せて加熱する熱伝導方式、(2)約220℃の沸点を有するフッ素系液体の凝集時の潜熱を利用するベーパーフェイズソルダリング(VPS)方式、(3)熱風を強制的に循環させているところを通す熱風対流熱伝達方式、(4)赤外線により基板の上部又は上下両面から加熱する赤外線方式、(5)熱風による加熱と赤外線による加熱を組み合わせて用いる方式等が挙げられる。   Further, the heating method in the heating furnace (reflow furnace) in the surface mounting method described above includes (1) a heat conduction method in which a substrate is heated on a heat-resistant belt moving on the heater, and (2) about Vapor phase soldering (VPS) method using latent heat when a fluorine-based liquid having a boiling point of 220 ° C. is condensed, (3) Hot air convection heat transfer method through which hot air is forced to circulate, (4) Examples include an infrared method in which heating is performed from the upper or upper and lower surfaces of the substrate with infrared rays, and (5) a method using a combination of heating with hot air and heating with infrared rays.

本発明の熱可塑性樹脂組成物の成形物品は、例えば、精密部品、各種電気・電子部品、機械部品、自動車用部品、建築、サニタリー、スポーツ、雑貨等の幅広い分野において使用することができるが、特に難燃性、耐熱性、剛性等々に優れるため、とりわけ、前記した通り、表面実装用電子部品として有用である。   The molded article of the thermoplastic resin composition of the present invention can be used in a wide range of fields such as precision parts, various electrical / electronic parts, machine parts, automotive parts, architecture, sanitary, sports, miscellaneous goods, etc. Particularly, since it is excellent in flame retardancy, heat resistance, rigidity, etc., it is particularly useful as an electronic component for surface mounting as described above.

ここで、本発明の表面実装用電子部品は、前記した耐熱性樹脂組成物の成形物と、金属端子とを必須の構成要素とするもので、プリント印刷された配線基板や回路基板上に表面実装方式によって固定されるものである。この電子部品を表面実装方式で基板に固定させるには、該電子部品の金属端子がハンダボールを介して基板上の通電部に接するように基板表面に載せて、上記した加熱方式によってリフロー炉内で加熱することによって、該電子部品を基板にハンダ付けする方法が挙げられる。   Here, the electronic component for surface mounting according to the present invention has the above-described molded product of the heat-resistant resin composition and a metal terminal as essential components, and is printed on a printed circuit board or circuit board. It is fixed by the mounting method. In order to fix the electronic component to the substrate by the surface mounting method, the metal terminal of the electronic component is placed on the surface of the substrate so as to be in contact with the current-carrying portion on the substrate through the solder ball, and the inside of the reflow furnace is performed by the heating method described above. There is a method in which the electronic component is soldered to the substrate by heating at a temperature.

かかる表面実装用の電子部品は、具体的には、表面実装方式対応用のコネクター、スイッチ、センサー、抵抗器、リレー、コンデンサー、ソケット、ジャック、ヒューズホルダー、コイルボビン、ICやLEDのハウジング等が挙げられる。   Specific examples of such surface mounting electronic components include connectors, switches, sensors, resistors, relays, capacitors, sockets, jacks, fuse holders, coil bobbins, IC and LED housings, and the like for surface mounting systems. It is done.

また、本発明の製造方法で得られる耐熱性樹脂成形物品は、所謂ハロゲン系銅や酸化アンチモン或いは金属水酸化物といった難燃剤を添加することなく、UL耐炎性試験規格UL−94(アンダーライターズ ラボラトリーズ,インコーポレイテッド,(UL)スタンダード No.94)において、V−0に相当する高い難燃性を達成せしめるものである。   In addition, the heat-resistant resin molded article obtained by the production method of the present invention does not contain a flame retardant such as so-called halogenated copper, antimony oxide or metal hydroxide, without adding a UL flame resistance test standard UL-94 (Underwriters). Laboratories, Incorporated, (UL) Standard No. 94) achieves high flame retardancy equivalent to V-0.

以下に、実施例により本発明を更に詳しく説明する。
実施例1〜8及び比較例1〜4
表1及び表2に記載する配合比率に従い、ポリアリーレンスルフィド樹脂、ポリアミド及びその他配合材料(ガラス繊維チョップドストランドを除く)をタンブラーで均一に混合した。その後、東芝機械(株)製ベント付き2軸押出機「TEM−35B」に前記配合材料を投入し、また、サイドフィーダー(スクリュー全長に対する樹脂投入部から該サイドフィーダーまでの距離の比率:0.28)から繊維径10μm、長さ3mmのガラス繊維チョップドストランドを上記配合材料60質量部に対して40質量部の割合で供給しながら、樹脂成分吐出量15kg/hr、スクリュー回転数150rpm、樹脂成分の吐出量(kg/hr)とスクリュー回転数(rpm)との比率(吐出量/スクリュー回転数)=0.1(kg/hr・rpm)、最大トルク53(Å)、設定樹脂温度320℃で溶融混練して樹脂組成物のペレットを得た。
次いで、このペレットを用いて各種評価試験を行った。結果を表1及び表2に示す。
なお、各評価試験方法、性状値評価方法は以下の通りである。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
Examples 1-8 and Comparative Examples 1-4
According to the blending ratios described in Tables 1 and 2, polyarylene sulfide resin, polyamide and other blending materials (excluding glass fiber chopped strands) were uniformly mixed with a tumbler. Thereafter, the blended material was charged into a vented twin-screw extruder “TEM-35B” manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd., and the side feeder (the ratio of the distance from the resin charging portion to the side feeder relative to the total length of the screw: 0. 0). 28) while supplying a glass fiber chopped strand having a fiber diameter of 10 μm and a length of 3 mm at a rate of 40 parts by mass with respect to 60 parts by mass of the above compounded material, a resin component discharge rate of 15 kg / hr, a screw rotation speed of 150 rpm, a resin component Ratio (kg / hr) to screw rotation speed (rpm) (discharge volume / screw rotation speed) = 0.1 (kg / hr · rpm), maximum torque 53 (Å), set resin temperature 320 ° C. And kneaded to obtain pellets of the resin composition.
Next, various evaluation tests were performed using the pellets. The results are shown in Tables 1 and 2.
Each evaluation test method and property value evaluation method are as follows.

[溶融粘度の測定]
350℃において、L/D=40/1のキャピラリーを用いて、東洋精機製作所製キャビラログラフ1Bにて、せん断速度100sec−1における溶融粘度を測定した。
[Measurement of melt viscosity]
At 350 ° C., the melt viscosity at a shear rate of 100 sec −1 was measured with a capillary graph 1B manufactured by Toyo Seiki Seisakusho using a capillary with L / D = 40/1.

[ヘキサフルオロイソプロパノール抽出率の求め方]
該組成物のペレットを、凍結粉砕機を用いて凍結粉砕し、目開き500μmの篩を通し、その後、20mlサンプル管に該粉砕試料約1gを精密に秤量し、ヘキサフルオロイソプロパノール(HFIP)を4ml加える。次に、試料とHFIPの入った該サンプル管を70℃で15分超音波洗浄機にて超音波処理する。更に、質量を精密に秤量したフィルターに、該超音波処理液を定量的に移し、ろ過した。その後、フィルターごと乾燥、秤量し、濾過残の質量を測定する。処理前に秤量した質量とこの乾燥後の質量(フィルターの質量は除く。)との差が抽出成分の質量であり、これを処理前に秤量した質量で除した値を百分率で示した値を抽出率とする。
[How to determine the extraction rate of hexafluoroisopropanol]
The pellet of the composition is freeze-ground using a freeze-pulverizer, passed through a sieve having an opening of 500 μm, and then about 1 g of the ground sample is precisely weighed into a 20-ml sample tube, and 4 ml of hexafluoroisopropanol (HFIP) is added. Add. Next, the sample tube containing the sample and HFIP is sonicated with an ultrasonic cleaner at 70 ° C. for 15 minutes. Furthermore, the sonication liquid was quantitatively transferred to a filter with a precisely weighed mass and filtered. Then, the filter is dried and weighed, and the mass of the filtration residue is measured. The difference between the mass weighed before the treatment and the mass after drying (excluding the mass of the filter) is the mass of the extracted component, and the value obtained by dividing this by the mass weighed before the treatment is expressed as a percentage. The extraction rate.

[燃焼試験]
UL−94垂直試験に準拠して燃焼試験を行い、難燃性を評価した。
[Combustion test]
A flame test was performed based on the UL-94 vertical test to evaluate flame retardancy.

[含有クロル量の測定]
樹脂組成物ペレットを密閉石英管内で燃焼(900℃、Ar−O雰囲気)処理し、発生したガスを純水に吸収させてイオンクロマトグラフ法により塩化物イオンを定量して、含有クロル量を算出した。
〈処理装置〉
ダイアインスツルメンツ社製 燃焼ガス吸収装置「AQF−100」
ダイオネクス社製 イオンクロマトグラフ「ICS−3000」
[Measurement of chloro content]
The resin composition pellet is burned (900 ° C., Ar—O 2 atmosphere) in a sealed quartz tube, the generated gas is absorbed in pure water, and chloride ions are quantified by ion chromatography to determine the amount of chloro contained. Calculated.
<Processing equipment>
Combustion gas absorber "AQF-100" manufactured by Dia Instruments
Ion chromatograph "ICS-3000" manufactured by Dionex

[耐ブリスター性試験]
樹脂組成物ペレットを射出成形機を用いて成形し、形状が縦50mm×横10mm×高さ8mm、0.8mm厚さの箱形コネクターを作成した。次いでこの箱形コネクターを赤外線加熱炉(山陽精工製、SMTスコープ)を用いて、図1に示す温度プロファイルに従ってリフロー工程を行った。評価は加熱後に箱形コネクターを目視観察し、下記の2段階の基準で評価した。
A:外観に変化なし。 B:ブリスター又は融解が観察された。
[Blister resistance test]
The resin composition pellets were molded using an injection molding machine to form a box connector having a shape of 50 mm long × 10 mm wide × 8 mm high and 0.8 mm thick. Next, the box connector was subjected to a reflow process using an infrared heating furnace (manufactured by Sanyo Seiko, SMT scope) according to the temperature profile shown in FIG. Evaluation was made by visually observing the box-shaped connector after heating, and evaluated according to the following two-stage criteria.
A: No change in appearance. B: Blister or melting was observed.

Figure 2009263635
Figure 2009263635

Figure 2009263635
Figure 2009263635

表1及び表2中の配合樹脂、材料は下記のものである。
(1)PPS−1:ポリフェニレンスルフィド(DIC株式会社製「DSP LR−1G」;非ニュートン指数1.1、ピーク分子量28,000、Mw/Mn=7.5、Na含有量300ppm、溶融粘度35Pa・s)
(2)PPS−2:リニア型ポリフェニレンスルフィド(DIC株式会社製「LR−3G」;非ニュートン指数1.2、ピーク分子量34000、Mw/Mn=7.6、Na含有量300ppm、溶融粘度85Pa・s)
(3)PA6T−1:テレフタル酸65モル%、イソフタル酸25モル%、アジピン酸10モル%を必須の単量体成分として反応させた芳香族ポリアミド(融点312℃、重量平均分子量42000、溶融粘度82Pa・s)
(4)PA6T−2:テレフタル酸66モル%、イソフタル酸23モル%、アジピン酸11モル%を必須の単量体成分として反応させた芳香族ポリアミド(融点310℃、重量平均分子量33000、溶融粘度50Pa・s)
(5)PA6T−3:テレフタル酸64モル%、イソフタル酸34モル%、アジピン酸2モル%を必須の単量体成分として反応させた芳香族ポリアミド(融点320℃、重量平均分子量27000、溶融粘度45Pa・s)
(6)PA46:アジピン酸50モル%、テトラメチレンジアミン50モル%を必須の単量体成分として反応させたポリアミド(融点293℃、重量平均分子量38000、溶融粘度65Pa・s)
(7)PA6T−4:テレフタル酸52モル%、イソフタル酸3モル%、アジピン酸37モル%を必須の単量体成分として反応させた芳香族ポリアミド(融点308℃、重量平均分子量31000、溶融粘度29Pa・s)
(8)Si−1:エポキシシラン(γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)
(9)Si−2:3−アミノプロピルトリメトキシシラン
(10)Si−3:N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリエトキシシラン
(11)Si−4:3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン
(12)Si−5:2−(3,4エポキシシクロヘキシル)トリメトキシシラン
(13)ADD−1:ヒンダードフェノール系酸化防止剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製「イルガノックス 1098」)
(14)ADD−2:リン系加工熱安定剤ビス(株式会社ADEKA製「アデカスタブ PEP−36」;2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト)
(15)ADD−3:ハイドロタルサイト(協和化学工業株式会社製「DHT−4A」)
(16)GF:ガラス繊維チョップドストランド(繊維径10μm、長さ3mm)
The compounded resins and materials in Tables 1 and 2 are as follows.
(1) PPS-1: Polyphenylene sulfide (“DSP LR-1G” manufactured by DIC Corporation; non-Newtonian index 1.1, peak molecular weight 28,000, Mw / Mn = 7.5, Na content 300 ppm, melt viscosity 35 Pa・ S)
(2) PPS-2: Linear polyphenylene sulfide (“LR-3G” manufactured by DIC Corporation; non-Newton index 1.2, peak molecular weight 34000, Mw / Mn = 7.6, Na content 300 ppm, melt viscosity 85 Pa · s)
(3) PA6T-1: aromatic polyamide obtained by reacting 65 mol% terephthalic acid, 25 mol% isophthalic acid and 10 mol% adipic acid as essential monomer components (melting point 312 ° C, weight average molecular weight 42000, melt viscosity 82Pa · s)
(4) PA6T-2: Aromatic polyamide (melting point 310 ° C., weight average molecular weight 33,000, melt viscosity) obtained by reacting 66 mol% terephthalic acid, 23 mol% isophthalic acid and 11 mol% adipic acid as essential monomer components 50 Pa · s)
(5) PA6T-3: Aromatic polyamide (melting point 320 ° C., weight average molecular weight 27000, melt viscosity) obtained by reacting 64 mol% terephthalic acid, 34 mol% isophthalic acid, and 2 mol% adipic acid as essential monomer components 45 Pa · s)
(6) PA46: polyamide obtained by reacting 50 mol% adipic acid and 50 mol% tetramethylenediamine as essential monomer components (melting point 293 ° C., weight average molecular weight 38000, melt viscosity 65 Pa · s)
(7) PA6T-4: Aromatic polyamide (melting point 308 ° C., weight average molecular weight 31000, melt viscosity) obtained by reacting terephthalic acid 52 mol%, isophthalic acid 3 mol%, and adipic acid 37 mol% as essential monomer components 29Pa · s)
(8) Si-1: Epoxysilane (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane)
(9) Si-2: 3-aminopropyltrimethoxysilane (10) Si-3: N-2 (aminoethyl) 3-aminopropyltriethoxysilane (11) Si-4: 3-isocyanatopropyltriethoxysilane ( 12) Si-5: 2- (3,4 epoxy cyclohexyl) trimethoxysilane (13) ADD-1: hindered phenol antioxidant (“Irganox 1098” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
(14) ADD-2: Phosphorus-based processing heat stabilizer bis (“ADEKA STAB PEP-36” manufactured by ADEKA Corporation; 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite)
(15) ADD-3: Hydrotalcite (“DHT-4A” manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.)
(16) GF: Glass fiber chopped strand (fiber diameter 10 μm, length 3 mm)

Claims (15)

ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)、及び、ポリアミド(B)を必須成分とする樹脂組成物であって、該組成物100質量部あたりの前記ポリアミド(B)の含有量が10〜30質量部であり、且つ、該組成物をヘキサフルオロイソプロパノールで70℃15分間抽出した際の抽出率が7質量%以下であることを特徴とする熱可塑性樹脂組成物。   A resin composition comprising a polyarylene sulfide resin (A) and a polyamide (B) as essential components, wherein the content of the polyamide (B) per 100 parts by mass of the composition is 10 to 30 parts by mass. And the extraction rate at the time of extracting this composition with hexafluoroisopropanol at 70 degreeC for 15 minute (s) is 7 mass% or less, The thermoplastic resin composition characterized by the above-mentioned. 前記ポリアミド(B)が、融点280〜330℃の範囲にあるものである請求項1記載の熱可塑性樹脂組成物。   The thermoplastic resin composition according to claim 1, wherein the polyamide (B) has a melting point in the range of 280 to 330 ° C. ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)、及び、ポリアミド(B)を必須成分とする樹脂組成物100質量部あたりの前記ポリアミド(B)の含有量をX(質量%)とし、該組成物をヘキサフルオロイソプロパノールで70℃15分間抽出した際の抽出率をY(質量%)とした場合に、Y/Xの値が0.01〜0.40の範囲にある請求項1記載の熱可塑性樹脂組成物。   The content of the polyamide (B) per 100 parts by mass of the resin composition containing the polyarylene sulfide resin (A) and the polyamide (B) as essential components is X (mass%), and the composition is hexafluoroisopropanol. The thermoplastic resin composition according to claim 1, wherein the value of Y / X is in the range of 0.01 to 0.40, where Y (mass%) is the extraction rate when extracted at 70 ° C for 15 minutes. 350℃、100sec−1のせん断速度条件で、ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)の溶融粘度をη、融点が280〜330℃の範囲にあるポリアミド(B)の溶融粘度をηとした場合に、η/ηの値が0.9〜5.0である、請求項1〜3のいずれか1項記載の熱可塑性樹脂組成物。 When the melt viscosity of the polyarylene sulfide resin (A) is η A and the melt viscosity of the polyamide (B) having a melting point in the range of 280 to 330 ° C. is η B under the shear rate conditions of 350 ° C. and 100 sec −1. The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the value of η B / η A is 0.9 to 5.0. ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)、及び、融点が280〜330℃の範囲にあるポリアミド(B)に加え、反応性官能基含有オルガノシラン(C)を、該組成物100質量部あたり0.01〜2質量部となる割合で含有するものである請求項1〜3のいずれか1項記載の熱可塑性樹脂組成物。   In addition to the polyarylene sulfide resin (A) and the polyamide (B) having a melting point in the range of 280 to 330 ° C., the reactive functional group-containing organosilane (C) is added in an amount of 0.01 to 100 parts by mass per 100 parts by mass of the composition. The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermoplastic resin composition is contained in a proportion of 2 parts by mass. ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)が、Na含有量1,000ppm以下のものである請求項1〜5のいずれか1項記載の熱可塑性樹脂組成物。   The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the polyarylene sulfide resin (A) has a Na content of 1,000 ppm or less. 前記ポリアミド(B)が、下記構造式a
Figure 2009263635

(式中、Rは炭素原子数2〜12のアルキレン基を表す。)
で表されるテレフタル酸アミド構造(a)を65〜75モル%、下記構造式b
Figure 2009263635

(式中、Rは炭素原子数2〜12のアルキレン基を表す。)
で表されるイソフタル酸アミド構造(b)を20〜25モル%、及び下記構造式c
Figure 2009263635
(式中、Rは炭素原子数2〜12のアルキレン基を表し、Rは炭素原子数4〜10の脂肪族炭化水素基を表す。)
で表される脂肪族炭化水素構造(c)を5〜15モル%となる割合で有するものである請求項1〜6のいずれか1項記載の熱可塑性樹脂組成物。
The polyamide (B) has the following structural formula a
Figure 2009263635

(In the formula, R 1 represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms.)
The terephthalic acid amide structure (a) represented by the formula: 65 to 75 mol%, the following structural formula b
Figure 2009263635

(In the formula, R 1 represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms.)
20 to 25 mol% of the isophthalic acid amide structure (b) represented by the formula:
Figure 2009263635
(In the formula, R 1 represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms, and R 2 represents an aliphatic hydrocarbon group having 4 to 10 carbon atoms.)
The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 6, which has an aliphatic hydrocarbon structure (c) represented by formula (5) at a ratio of 5 to 15 mol%.
前記ポリアミド(B)が、脂肪族炭化水素部位の炭素原子数が2〜4である脂肪族ポリアミドである、請求項1〜7の何れか1つに記載の熱可塑性樹脂組成物。   The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein the polyamide (B) is an aliphatic polyamide having 2 to 4 carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon moiety. 前記した反応性官能基含有オルガノシラン(C)中の反応性官能基が、エポキシ基、アミノ基、イソシアネート基から選ばれる少なくとも1種である請求項5に記載の熱可塑性樹脂組成物。   The thermoplastic resin composition according to claim 5, wherein the reactive functional group in the reactive functional group-containing organosilane (C) is at least one selected from an epoxy group, an amino group, and an isocyanate group. 上記各成分に加え、繊維状強化材(E−1)又は無機質フィラー(E−2)を、該組成物100質量部あたり、5〜50質量部となる割合で含有する請求項1〜9のいずれか1項記載の熱可塑性樹脂組成物。   The fiber reinforcing material (E-1) or inorganic filler (E-2) is contained in a proportion of 5 to 50 parts by mass per 100 parts by mass of the composition in addition to the above components. The thermoplastic resin composition according to any one of claims. ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)とポリアミド(B)とを、全配合成分の合計質量100質量部あたり前記ポリアミド(B)の配合量が10〜30質量部となる割合で二軸混練押出機に投入し、樹脂成分の吐出量(kg/hr)とスクリュー回転数(rpm)との比率(吐出量/スクリュー回転数)が0.02〜0.2(kg/hr・rpm)、吐出される樹脂温度が345〜370℃の範囲となるようになる条件下に溶融混練することを特徴とする熱可塑性樹脂組成物の製造方法。   The polyarylene sulfide resin (A) and the polyamide (B) are charged into the twin-screw kneading extruder at a ratio of 10 to 30 parts by mass of the polyamide (B) per 100 parts by mass of the total mass of all the ingredients. The ratio of the resin component discharge rate (kg / hr) to the screw speed (rpm) (discharge rate / screw speed) is 0.02 to 0.2 (kg / hr · rpm) A method for producing a thermoplastic resin composition, comprising melt-kneading under conditions where a temperature is in a range of 345 to 370 ° C. 前記ポリアミド(B)が、融点280〜330℃の範囲にあるものである請求項11記載の熱可塑性樹脂組成物の製造方法。   The method for producing a thermoplastic resin composition according to claim 11, wherein the polyamide (B) has a melting point in the range of 280 to 330 ° C. ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)、及び、ポリアミド(B)に加え、反応性官能基含有オルガノシラン(C)を、配合成分の合計質量100質量部あたり0.01〜2質量部となる割合で用いる請求項11又は12記載の熱可塑性樹脂組成物の製造方法。   In addition to the polyarylene sulfide resin (A) and the polyamide (B), the reactive functional group-containing organosilane (C) is used at a ratio of 0.01 to 2 parts by mass per 100 parts by mass of the total mass of the ingredients. The manufacturing method of the thermoplastic resin composition of Claim 11 or 12. 上記各成分に加え、繊維状強化材(E−1)又は無機質フィラー(E−2)を、配合成分の合計質量100質量部あたり5〜50質量部となる割合で用いる請求項11〜13のいずれか1項記載の熱可塑性樹脂組成物の製造方法。   The fiber reinforcing material (E-1) or inorganic filler (E-2) is used in a proportion of 5 to 50 parts by mass per 100 parts by mass of the total mass of the blending components in addition to the above components. The manufacturing method of the thermoplastic resin composition of any one of Claims. 請求項1〜10のいずれか1項記載の熱可塑性樹脂組成物の成形物と、金属端子とを必須の構成要素とすることを特徴とする表面実装用電子部品。   An electronic component for surface mounting comprising the molded product of the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 10 and a metal terminal as essential components.
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