JP2009259990A - Semiconductor module - Google Patents

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Osamu Usui
修 碓井
Takeshi Oi
健史 大井
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor module with high reliability, the module being obtained by equalizing currents flowing to respective semiconductor switch elements constituting the semiconductor module. <P>SOLUTION: The semiconductor module includes IGBT chips 2a and 2b which are connected in parallel, an emitter relay conductor 11a for connecting emitter terminals 9a to an emitter electrode of IGBT chips 2a and 2b, a gate relay conductor 18 for connecting gate terminals 20 to a gate electrode, and a control emitter relay conductor 19 for connecting a control emitter terminal 21 to a control emitter electrode. The gate relay conductor 18 is constituted so that a potential difference equal to a potential difference generated between the control emitter electrodes of the IGBT chips 2a and 2b may be generated between the gate electrodes of the IGBT chips 2a and 2b with induced electromotive force generated in the emitter relay conductor 11a or control emitter relay conductor 19. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

この発明は、IGBT(insulated gate bipolar transistor)等の電圧駆動型半導体スイッチ素子からなる半導体モジュールに関するものであり、特に半導体モジュールの配線構造に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor module composed of a voltage-driven semiconductor switching element such as an insulated gate bipolar transistor (IGBT), and more particularly to a wiring structure of the semiconductor module.

複数の半導体スイッチ素子が並列に接続された半導体モジュールにおいては、主電流により各半導体スイッチ素子のゲート・エミッタ間に誘導起電力が発生すると、各半導体スイッチ素子間においてゲート・エミッタ間電圧に差が発生し、各半導体スイッチ素子に流れる電流が不均一となり、半導体モジュールの信頼性が低下するという問題があった。   In a semiconductor module in which a plurality of semiconductor switch elements are connected in parallel, when an induced electromotive force is generated between the gate and emitter of each semiconductor switch element due to the main current, there is a difference in the gate-emitter voltage between the semiconductor switch elements. As a result, there is a problem that the current flowing through each semiconductor switching element becomes non-uniform and the reliability of the semiconductor module is lowered.

このような問題点を解決するための従来技術として、並列に接続された半導体スイッチ素子のエミッタ間接続導体に発生するリアクトル成分の電圧降下に相当する電圧を発生させる電圧源と、電圧源を介して半導体スイッチ素子を駆動する駆動手段を有し、リアクトル成分によるエミッタ電位の降下を電圧源によってゲート電位に加えることにより、各半導体スイッチ素子のゲート・エミッタ間電圧を均一にしたものがあった(特許文献1参照)。   As a conventional technique for solving such a problem, a voltage source that generates a voltage corresponding to a voltage drop of a reactor component generated in an inter-emitter connection conductor of semiconductor switch elements connected in parallel, and a voltage source There is a driving means for driving the semiconductor switch element, and a gate-emitter voltage of each semiconductor switch element is made uniform by applying a drop of the emitter potential due to the reactor component to the gate potential by a voltage source ( Patent Document 1).

特開平7−177727号公報(図1)Japanese Patent Laid-Open No. 7-177727 (FIG. 1)

上記特許文献1における各半導体スイッチ素子のエミッタ間接続導体に発生するリアクトル成分の電圧降下に相当する電圧をゲート電位に加える構造においては、主電流が流れるエミッタ側共通端子をゲート・エミッタ間電圧の基準電位とし、各半導体スイッチ素子のエミッタ配線における自己インダクタンスの差に起因して発生するゲート・エミッタ間の電圧差を均一にするものである。   In the structure in which the voltage corresponding to the voltage drop of the reactor component generated in the connection conductor between the emitters of each semiconductor switch element in Patent Document 1 is applied to the gate potential, the emitter-side common terminal through which the main current flows is connected to the gate-emitter voltage. The reference potential is used, and the voltage difference between the gate and the emitter generated due to the difference in self-inductance in the emitter wiring of each semiconductor switch element is made uniform.

このような構造は、各半導体スイッチ素子のエミッタ配線の自己インダクタンスの差に起因して発生するゲート・エミッタ間の電圧差を均等化するものであるため、各半導体スイッチ素子のエミッタ配線と他配線との相互インダクタンス差に起因して発生するゲート・エミッタ間の電圧差を均一にすることはできなかった。   Such a structure equalizes the voltage difference between the gate and the emitter caused by the difference in self-inductance of the emitter wiring of each semiconductor switch element. The voltage difference between the gate and the emitter generated due to the mutual inductance difference cannot be made uniform.

また、エミッタ配線における自己インダクタンスのばらつきを避けるために、大電流である主電流が流れるエミッタ配線とは別に各半導体チップのエミッタ電極から微小な電流が流れる制御エミッタ配線を設けて、これをゲート・エミッタ間電圧の基準電位として、自己インダクタンスの影響を受けないようにした構造においては、上記特許文献1に示されたような各半導体スイッチ素子のエミッタ配線の自己インダクタンスの差に起因して発生する電圧降下をゲート電位に加える構造では、ゲート・エミッタ間の電圧を均等化し、各半導体スイッチ素子に流れる電流を同一にすることはできなかった。   In addition, in order to avoid variations in self-inductance in the emitter wiring, a control emitter wiring through which a minute current flows from the emitter electrode of each semiconductor chip is provided separately from the emitter wiring through which the main current, which is a large current, flows. In a structure that is not affected by the self-inductance as the reference potential of the emitter-to-emitter voltage, it is generated due to the difference in self-inductance of the emitter wiring of each semiconductor switch element as shown in Patent Document 1 above. In the structure in which the voltage drop is applied to the gate potential, it is impossible to equalize the voltage between the gate and the emitter and make the current flowing through each semiconductor switch element the same.

各半導体スイッチ素子に流れる電流が相違し、特定の半導体スイッチ素子に電流が集中すると、その半導体スイッチ素子の温度が上昇し、高温、低温を繰り返すことによって半導体モジュールの寿命が短くなったり、短絡した場合の耐久性を低下させてしまうという問題点があった。   If the current flowing through each semiconductor switch element is different and the current concentrates on a specific semiconductor switch element, the temperature of the semiconductor switch element rises, and the life of the semiconductor module is shortened or short-circuited by repeating high and low temperatures. In this case, there is a problem that durability of the case is lowered.

この発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、各半導体スイッチ素子に流れる電流を均一にし、寿命が長く信頼性の高い半導体モジュールを提供することを目的としたものである。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and has an object to provide a semiconductor module having a long life and high reliability by making the current flowing through each semiconductor switching element uniform. It is.

この発明に係る半導体モジュールは、複数の半導体スイッチ素子が並列に接続されるとともに、半導体スイッチ素子のコレクタ電極とコレクタ端子とを接続するコレクタ側配線と、半導体スイッチ素子のエミッタ電極とエミッタ端子とを接続するエミッタ側配線と、半導体スイッチ素子のゲート電極とゲート端子とを接続するゲート側配線と、半導体スイッチ素子の制御エミッタ電極と制御エミッタ端子とを接続する制御エミッタ側配線とを備えているものであって、エミッタ側配線および/または制御エミッタ側配線において発生する誘導起電力により生ずる複数の半導体スイッチ素子の制御エミッタ電極間の電位差と同等の電位差が複数の半導体スイッチ素子のゲート電極間に発生するように、ゲート側配線を形成したものである。   In the semiconductor module according to the present invention, a plurality of semiconductor switch elements are connected in parallel, a collector-side wiring connecting the collector electrode and the collector terminal of the semiconductor switch element, and an emitter electrode and an emitter terminal of the semiconductor switch element Equipped with emitter-side wiring to be connected, gate-side wiring for connecting the gate electrode and gate terminal of the semiconductor switch element, and control emitter-side wiring for connecting the control emitter electrode and control emitter terminal of the semiconductor switch element A potential difference equivalent to the potential difference between the control emitter electrodes of the plurality of semiconductor switch elements generated by the induced electromotive force generated in the emitter side wiring and / or the control emitter side wiring is generated between the gate electrodes of the plurality of semiconductor switch elements. Thus, the gate side wiring is formed.

この発明に係る半導体モジュールによれば、複数の半導体スイッチ素子が並列に接続されるとともに、半導体スイッチ素子のコレクタ電極とコレクタ端子とを接続するコレクタ側配線と、半導体スイッチ素子のエミッタ電極とエミッタ端子とを接続するエミッタ側配線と、半導体スイッチ素子のゲート電極とゲート端子とを接続するゲート側配線と、半導体スイッチ素子の制御エミッタ電極と制御エミッタ端子とを接続する制御エミッタ側配線とを備えているものであって、エミッタ側配線および/または制御エミッタ側配線において発生する誘導起電力により生ずる複数の半導体スイッチ素子の制御エミッタ電極間の電位差と同等の電位差が複数の半導体スイッチ素子のゲート電極間に発生するように、ゲート側配線を形成したので、各半導体スイッチ素子に印加されるゲート電圧のばらつきを小さくし、流れる電流を同一にし、信頼性の高い半導体モジュールを得ることができる。   According to the semiconductor module of the present invention, the plurality of semiconductor switch elements are connected in parallel, the collector-side wiring connecting the collector electrode and the collector terminal of the semiconductor switch element, and the emitter electrode and the emitter terminal of the semiconductor switch element An emitter-side wiring for connecting the gate electrode and the gate terminal of the semiconductor switch element, and a control emitter-side wiring for connecting the control emitter electrode and the control emitter terminal of the semiconductor switch element. A potential difference equivalent to the potential difference between the control emitter electrodes of the plurality of semiconductor switch elements generated by the induced electromotive force generated in the emitter side wiring and / or the control emitter side wiring is between the gate electrodes of the plurality of semiconductor switch elements. As the gate side wiring is formed, The gate voltage applied to the body switch element can be reduced, the flowing current can be made the same, and a highly reliable semiconductor module can be obtained.

実施の形態1.
以下この発明の一実施形態を図に基づいて説明する。図1はこの発明の実施の形態1による半導体モジュール1の内部配線構造を示す斜視図、図2は図1においてコレクタ側配線のみを取り出して示した斜視図、図3はエミッタ側配線及び制御エミッタ側配線のみを示す斜視図、図4は同じく平面図、図5はゲート側配線のみを示す斜視図、図6は同じく平面図、図7はコレクタ側配線における電流の経路を示すための平面図、図8はエミッタ側配線における電流の経路を示すための平面図、図9は半導体モジュール1の簡略回路図である。
Embodiment 1 FIG.
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a perspective view showing an internal wiring structure of a semiconductor module 1 according to Embodiment 1 of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing only a collector side wiring in FIG. 1, and FIG. 3 is an emitter side wiring and a control emitter. 4 is a plan view, FIG. 5 is a perspective view showing only the gate side wiring, FIG. 6 is a plan view, and FIG. 7 is a plan view showing a current path in the collector side wiring. 8 is a plan view for showing a current path in the emitter-side wiring, and FIG. 9 is a simplified circuit diagram of the semiconductor module 1.

図において、半導体スイッチ素子を構成する複数(図1では2個)のIGBTチップ2a,2bはコレクタパターン3a,3b上に載置されるとともに、各IGBTチップ2a,2bのコレクタ電極とコレクタパターン3a,3bははんだ等により接続されている。コレクタパターン3a,3bとエミッタパターン4a,4bは絶縁板5a,5b上に配置されるとともに、コレクタパターン3a,3bとエミッタパターン4a,4bとの間には一定の絶縁距離が設けられている。絶縁板5a,5bはベース板6上に配置されている。ベース板6は半導体モジュール1を構成する基板であり、IGBTチップ2a,2bは半導体モジュール1の基板上に設置されることになる。   In the figure, a plurality (two in FIG. 1) of IGBT chips 2a, 2b constituting the semiconductor switch element are placed on the collector patterns 3a, 3b, and the collector electrodes and collector patterns 3a of the IGBT chips 2a, 2b. , 3b are connected by solder or the like. The collector patterns 3a and 3b and the emitter patterns 4a and 4b are disposed on the insulating plates 5a and 5b, and a certain insulating distance is provided between the collector patterns 3a and 3b and the emitter patterns 4a and 4b. The insulating plates 5a and 5b are disposed on the base plate 6. The base plate 6 is a substrate constituting the semiconductor module 1, and the IGBT chips 2 a and 2 b are installed on the substrate of the semiconductor module 1.

エミッタパターン4a,4bとIGBTチップ2a,2bのエミッタ電極はボンディングワイヤ7a,7bによって接続される。コレクタ端子8aとコレクタパターン3a,3bはコレクタ中継導体10aを介して接続され、これによりコレクタ側配線が構成される。又エミッタ端子9aとエミッタパターン4a,4bはエミッタ中継導体11aを介して接続され、これによりエミッタ側配線が構成されている。   The emitter patterns 4a and 4b and the emitter electrodes of the IGBT chips 2a and 2b are connected by bonding wires 7a and 7b. The collector terminal 8a and the collector patterns 3a and 3b are connected via a collector relay conductor 10a, thereby forming a collector side wiring. The emitter terminal 9a and the emitter patterns 4a and 4b are connected via an emitter relay conductor 11a, thereby forming an emitter-side wiring.

IGBTチップ2a,2bの制御用の配線であるゲート中継導体18と制御エミッタ中継導体19はベース板6に対して平行になるように配置されるとともに、一定の距離をあけて配置されている。ゲート中継導体18にはゲート電源接続用の正極側端子であるゲート端子20が配置されるとともに、制御エミッタ中継導体19にはゲート電源接続用の負極側端子である制御エミッタ端子21が配置される。   The gate relay conductor 18 and the control emitter relay conductor 19, which are control wires for the IGBT chips 2 a and 2 b, are arranged so as to be parallel to the base plate 6 and arranged at a certain distance. The gate relay conductor 18 is provided with a gate terminal 20 which is a positive terminal for connecting a gate power source, and the control emitter relay conductor 19 is provided with a control emitter terminal 21 which is a negative terminal for connecting a gate power source. .

図5に示すように、ゲート中継導体18とIGBTチップ2a,2bのゲート電極は、ゲートワイヤ12a,12b、ゲートパターン14a,14b、ゲートピン16a,16bを介して接続され、これらによりゲート側配線が構成されている。又図3に示すように、制御エミッタ中継導体19とIGBTチップ2a,2bの制御エミッタ電極は、制御エミッタワイヤ13a,13b、制御エミッタパターン15a,15b、制御エミッタピン17a,17bを介して接続され、これらにより制御エミッタ側配線が構成されている。   As shown in FIG. 5, the gate relay conductor 18 and the gate electrodes of the IGBT chips 2a and 2b are connected to each other through gate wires 12a and 12b, gate patterns 14a and 14b, and gate pins 16a and 16b. It is configured. As shown in FIG. 3, the control emitter relay conductor 19 and the control emitter electrodes of the IGBT chips 2a and 2b are connected via control emitter wires 13a and 13b, control emitter patterns 15a and 15b, and control emitter pins 17a and 17b. These constitute the control emitter side wiring.

ゲートパターン14a,14bと制御エミッタパターン15a,15bは絶縁板5c,5d上で一定の絶縁距離を隔てて配置される。そしてコレクタ電極とエミッタ電極間には主電流が流れるとともに、この主電流を通電させ、又遮断するための電圧信号がゲート電極と制御エミッタ電極間に加えられる。   The gate patterns 14a and 14b and the control emitter patterns 15a and 15b are arranged on the insulating plates 5c and 5d with a certain insulating distance therebetween. A main current flows between the collector electrode and the emitter electrode, and a voltage signal for energizing and interrupting the main current is applied between the gate electrode and the control emitter electrode.

IGBTチップ2a,2b、コレクタパターン3a,3b、エミッタパターン4a,4b、絶縁板5a,5b,5c,5d、ゲートパターン14a,14b、制御エミッタパターン15a,15bはベース板6上に載置される。図6に示すように、ゲート中継導体18は略ロの字型に形成されるとともに、図4に示すように、制御エミッタ中継導体19は略コの字型に形成され、ゲート中継導体18と制御エミッタ中継導体19はプリント基板等によりほぼ同一寸法に形成されるとともに、互いに平行に、かつ基板となるベース板6側から見て積層されるように配置される。   IGBT chips 2a and 2b, collector patterns 3a and 3b, emitter patterns 4a and 4b, insulating plates 5a, 5b, 5c and 5d, gate patterns 14a and 14b, and control emitter patterns 15a and 15b are placed on the base plate 6. . As shown in FIG. 6, the gate relay conductor 18 is formed in a substantially U shape, and as shown in FIG. 4, the control emitter relay conductor 19 is formed in a substantially U shape. The control emitter relay conductors 19 are formed to have substantially the same dimensions by a printed circuit board or the like, and are arranged in parallel to each other and stacked so as to be seen from the base plate 6 side serving as a substrate.

ゲート中継導体18の一部分であって、制御エミッタ中継導体19と重なり合っていない部分は、エミッタ中継導体11aに接近して配置される。図2においては、コレクタ側の配線であるコレクタパターン3a,3b、コレクタ端子8a、コレクタ中継導体10aのみを取り出して示している。   A portion of the gate relay conductor 18 that does not overlap the control emitter relay conductor 19 is disposed close to the emitter relay conductor 11a. In FIG. 2, only the collector patterns 3a and 3b, the collector terminal 8a, and the collector relay conductor 10a, which are collector-side wirings, are shown.

又図3においては、エミッタ側の配線であるエミッタパターン4a,4b、ボンディングワイヤ7a,7b、エミッタ端子9a、エミッタ中継導体11a、制御エミッタ側の配線である制御エミッタワイヤ13a,13b、制御エミッタパターン15a,15b、制御エミッタピン17a,17b、制御エミッタ中継導体19のみを取り出して示している。   In FIG. 3, emitter patterns 4a and 4b which are wiring on the emitter side, bonding wires 7a and 7b, emitter terminal 9a, emitter relay conductor 11a, control emitter wires 13a and 13b which are wiring on the control emitter side, and control emitter pattern. Only 15a, 15b, control emitter pins 17a, 17b, and control emitter relay conductor 19 are shown.

図4に示すように、エミッタ側配線と制御エミッタ側配線は、IGBTチップ2a,2bのエミッタ電極、ボンディングワイヤ7a,7b、エミッタパターン4a,4b、エミッタ中継導体11a、制御エミッタワイヤ13a,13b、制御エミッタパターン15a,15b、制御エミッタピン17a,17b、制御エミッタ中継導体19によって閉ループを形成している。   As shown in FIG. 4, the emitter-side wiring and the control emitter-side wiring include the emitter electrodes of the IGBT chips 2a and 2b, bonding wires 7a and 7b, emitter patterns 4a and 4b, emitter relay conductor 11a, control emitter wires 13a and 13b, The control emitter patterns 15a and 15b, the control emitter pins 17a and 17b, and the control emitter relay conductor 19 form a closed loop.

図5においては、ゲート側の配線であるゲートワイヤ12a,12b、ゲートピン16a,16b、ゲート中継導体18のみを取り出して示している。更に図6に示すように、ゲート側配線は閉ループを形成している。   In FIG. 5, only the gate wires 12a and 12b, the gate pins 16a and 16b, and the gate relay conductor 18 which are the wirings on the gate side are shown. Further, as shown in FIG. 6, the gate-side wiring forms a closed loop.

図7において、主電流は、コレクタ端子8aから半導体モジュール内に入り、コレクタ中継導体10aで2方向に分流し、コレクタパターン3a,3bを通って、IGBTチップ2a,2bのコレクタ電極に流れ込む。図8において、IGBTチップ2a,2bのエミッタ電極から流れ出た電流は、ボンディングワイヤ7a,7b、エミッタパターン4a,4bを通り、エミッタ中継導体11aにおいて、分流されていた電流が合流し、エミッタ端子9aから半導体モジュール1の外に流れ出る。   In FIG. 7, the main current enters the semiconductor module from the collector terminal 8a, is divided in two directions by the collector relay conductor 10a, and flows into the collector electrodes of the IGBT chips 2a and 2b through the collector patterns 3a and 3b. In FIG. 8, the current flowing out from the emitter electrodes of the IGBT chips 2a and 2b passes through the bonding wires 7a and 7b and the emitter patterns 4a and 4b. Flows out of the semiconductor module 1.

矢印Aで示されるコレクタ中継導体10aを流れる電流経路と、矢印Bで示されるエミッタ中継導体11aを流れる電流経路は半導体モジュールの対称線29に対して非対称の関係となる。これに対して、図7において、矢印Aを除く電流経路は対称線29に対し対称の関係となっており、又図8において、矢印Bを除く電流経路は対称線29に対し対称の関係となっている。なお、対称線29は、IGBTチップ2a,2bを結ぶ線分の垂直二等分線によって定義される。   The current path flowing through the collector relay conductor 10a indicated by the arrow A and the current path flowing through the emitter relay conductor 11a indicated by the arrow B are asymmetric with respect to the symmetry line 29 of the semiconductor module. On the other hand, in FIG. 7, the current path except for the arrow A has a symmetric relationship with respect to the symmetric line 29, and in FIG. It has become. The symmetry line 29 is defined by a vertical bisector that connects the IGBT chips 2a and 2b.

半導体モジュール1には周波数の大きな電流が流れるので、電流により形成される磁束は時間とともに変化し、他の配線に誘導起電力を発生させる場合がある。誘導起電力がゲート配線やエミッタ配線に発生すると、並列接続されたIGBTチップ2a,2bのゲート−エミッタ間電圧を不均等にさせる場合があり、この場合、並列接続されたIGBTチップ2a,2bに流れる電流が不均一になる。   Since a large frequency current flows through the semiconductor module 1, the magnetic flux formed by the current changes with time, and an induced electromotive force may be generated in another wiring. When the induced electromotive force is generated in the gate wiring or emitter wiring, the gate-emitter voltage of the IGBT chips 2a and 2b connected in parallel may be made uneven. In this case, the IGBT chips 2a and 2b connected in parallel The flowing current becomes uneven.

矢印Aと矢印Bを除く電流経路は対称線29に対し対称の関係となっており、又図4,図6において、ボンディングワイヤ7a,7b、エミッタパターン4a,4b、エミッタ中継導体11a、制御エミッタワイヤ13a,13b、制御エミッタパターン15a,15b、制御エミッタピン17a,17b、制御エミッタ中継導体19からなるエミッタ側配線と、ゲートワイヤ12a,12b、ゲートピン16a,16b、ゲート中継導体18からなるゲート側配線も対称線29に対しほぼ対称となるよう形成されているので、矢印Aと矢印Bを除く電流によってエミッタ側配線とゲート側配線に発生する誘導起電力においては、対称線29を対称にして左右ほぼ同等に発生し、従ってIGBT2a、2bのゲート・エミッタ間電圧に対してほぼ同等な影響を及ぼすため、問題とはならない。   The current paths excluding the arrows A and B are symmetrical with respect to the symmetry line 29. In FIGS. 4 and 6, the bonding wires 7a and 7b, the emitter patterns 4a and 4b, the emitter relay conductor 11a, the control emitter Emitter-side wiring composed of wires 13a and 13b, control emitter patterns 15a and 15b, control emitter pins 17a and 17b, control emitter relay conductor 19, and gate side composed of gate wires 12a and 12b, gate pins 16a and 16b, and gate relay conductor 18 Since the wiring is also formed so as to be substantially symmetric with respect to the symmetric line 29, in the induced electromotive force generated in the emitter side wiring and the gate side wiring by the current excluding the arrows A and B, the symmetric line 29 is made symmetric. It is generated almost equally on the left and right, so the gate-emitter voltage of IGBTs 2a and 2b For pot equivalent effect, not a problem.

一方、矢印Aと矢印Bで示される電流は対称線29に対し非対称の関係となっており、対称線29を対称にして左右のエミッタ側配線とゲート側配線に大きさの異なる誘導起電力を発生させる。特に矢印Aと矢印Bの電流と平行な関係に位置するエミッタ側配線とゲート側配線に発生する誘導起電力が大きい。これは矢印Aと矢印Bにより示される電流によって発生する磁束の影響を最も受けやすいからである。   On the other hand, the currents indicated by the arrows A and B have an asymmetric relationship with respect to the symmetric line 29. The symmetric lines 29 are symmetric, and induced electromotive forces having different magnitudes are generated on the left and right emitter side wirings and gate side wirings. generate. In particular, the induced electromotive force generated in the emitter-side wiring and the gate-side wiring located in a parallel relationship with the currents of the arrows A and B is large. This is because it is most susceptible to magnetic flux generated by the currents indicated by arrows A and B.

そこで以上の点を考慮し、本発明においては、ゲート中継導体18をエミッタ中継導体11a及び制御エミッタ中継導体19に対して平行になるように、積層させて配置したものである。このように構成したことにより、図4に示すように、矢印Aと矢印Bで示されるコレクタ側配線やエミッタ側配線に流れる主電流の時間変化によって磁束が鎖交すると、エミッタ側配線及び制御エミッタ側配線には誘導起電力CとDが発生する。また、図6において、矢印Aと矢印Bで示されるコレクタ側配線やエミッタ側配線に流れる主電流の時間変化によって磁束が鎖交すると、ゲート側配線にも誘導起電力EとFが発生する。   Therefore, in consideration of the above points, in the present invention, the gate relay conductor 18 is laminated and arranged so as to be parallel to the emitter relay conductor 11a and the control emitter relay conductor 19. With this configuration, as shown in FIG. 4, when the magnetic flux is interlinked by the time change of the main current flowing in the collector side wiring and the emitter side wiring indicated by arrows A and B, the emitter side wiring and the control emitter Inductive electromotive forces C and D are generated in the side wiring. In FIG. 6, when the magnetic flux is linked by the time change of the main current flowing through the collector side wiring and the emitter side wiring indicated by the arrows A and B, induced electromotive forces E and F are also generated in the gate side wiring.

ゲート側配線とエミッタ側配線及び制御エミッタ側配線は上述のように接近して積層させるように配置されているので、磁束によって発生する誘導起電力CとE、DとFはほぼ同等である。また、誘導起電力CとEの大きさは、矢印Aと矢印Bにより示される電流に近いため、DとFより大きい。IGBTチップ2aと2bの制御エミッタ電極は、誘導起電力Cが発生するエミッタ中継導体11aと誘導起電力Dが発生する制御エミッタ中継導体19の間に位置しているので、IGBTチップ2aと2bの制御エミッタ電極間の電圧差(電位差)をV1とすると、D<V1<Cとなる。また、IGBTチップ2aと2bのゲート電極は、誘導起電力Eが発生するゲート中継導体18と誘導起電力Fが発生するゲート中継導体18の間に位置しているので、IGBTチップ2aと2bのゲート電極間の電圧差(電位差)をV2とすると、F<V2<Eとなる。CとE、DとFの値はほぼ同等であり、かつIGBTチップ2a、2bそれぞれのゲート電極と制御エミッタ電極はほぼ同じ位置に存在しているので、IGBTチップ2aと2bのゲート電極間に発生する電圧差V2とIGBTチップ2aと2bの制御エミッタ電極間に発生する電圧差V1もほぼ同等となる(V1≒V2)。   Since the gate side wiring, the emitter side wiring, and the control emitter side wiring are arranged so as to be stacked close to each other as described above, the induced electromotive forces C and E, D, and F generated by the magnetic flux are substantially equal. The induced electromotive forces C and E are larger than D and F because they are close to the currents indicated by the arrows A and B. Since the control emitter electrodes of the IGBT chips 2a and 2b are located between the emitter relay conductor 11a where the induced electromotive force C is generated and the control emitter relay conductor 19 where the induced electromotive force D is generated, the IGBT chips 2a and 2b have a control emitter electrode. If the voltage difference (potential difference) between the control emitter electrodes is V1, D <V1 <C. The gate electrodes of the IGBT chips 2a and 2b are located between the gate relay conductor 18 where the induced electromotive force E is generated and the gate relay conductor 18 where the induced electromotive force F is generated. When the voltage difference (potential difference) between the gate electrodes is V2, F <V2 <E. Since the values of C and E, D and F are substantially equal, and the gate electrodes and control emitter electrodes of the IGBT chips 2a and 2b exist at substantially the same position, the gate electrodes of the IGBT chips 2a and 2b are between the gate electrodes. The generated voltage difference V2 and the voltage difference V1 generated between the control emitter electrodes of the IGBT chips 2a and 2b are substantially equal (V1≈V2).

従って、IGBTチップ2aにおけるゲート・エミッタ間の電圧とIGBTチップ2bにおけるゲート・エミッタ間の電圧も等しくなり、IGBTチップ2aとIGBTチップ2bに流れる電流を均等にすることができる。   Therefore, the gate-emitter voltage in the IGBT chip 2a and the gate-emitter voltage in the IGBT chip 2b are also equal, and the currents flowing in the IGBT chip 2a and the IGBT chip 2b can be equalized.

実施の形態2.
図10はこの発明の実施の形態2による半導体モジュールの内部配線構造を示す斜視図である。本実施形態による半導体モジュールは、ベース板6、ベース板6上の第1の半導体モジュール27、第2の半導体モジュール28、ゲート中継導体182、制御エミッタ中継導体192で構成されている。第1の半導体モジュール27内の部品と第2の半導体モジュール28内の部品は、同一の材料及び寸法で構成されるとともに、同一の配置構成を施されている。
Embodiment 2. FIG.
10 is a perspective view showing an internal wiring structure of a semiconductor module according to Embodiment 2 of the present invention. The semiconductor module according to this embodiment includes a base plate 6, a first semiconductor module 27 on the base plate 6, a second semiconductor module 28, a gate relay conductor 182, and a control emitter relay conductor 192. The parts in the first semiconductor module 27 and the parts in the second semiconductor module 28 are made of the same material and dimensions, and have the same arrangement.

第1の半導体モジュール27内では、複数の半導体スイッチ素子からなるIGBTチップ2a,2bがコレクタパターン3a,3b上に載置されるとともに、第2のモジュール28内ではIGBTチップ2c,2dがコレクタパターン3c,3d上に載置される。そして各IGBTチップ2a,2b,2c,2dのコレクタ電極とコレクタパターン3a,3b,3c,3dははんだ等により接続されている。   In the first semiconductor module 27, IGBT chips 2a, 2b made of a plurality of semiconductor switch elements are placed on the collector patterns 3a, 3b, and in the second module 28, the IGBT chips 2c, 2d are collector patterns. It is mounted on 3c, 3d. The collector electrodes of the IGBT chips 2a, 2b, 2c, 2d and the collector patterns 3a, 3b, 3c, 3d are connected by solder or the like.

コレクタパターン3a,3b,3c,3dとエミッタパターン4a,4b,4c,4dは絶縁板5a,5b,5e,5f上に配置されるとともに、コレクタパターン3a,3b,3c,3dとエミッタパターン4a,4b,4c,4dとの間には一定の絶縁距離が設けられている。   Collector patterns 3a, 3b, 3c, 3d and emitter patterns 4a, 4b, 4c, 4d are arranged on insulating plates 5a, 5b, 5e, 5f, and collector patterns 3a, 3b, 3c, 3d and emitter patterns 4a, 4d A constant insulation distance is provided between 4b, 4c and 4d.

エミッタパターン4a,4b,4c,4dとIGBTチップ2a,2b,2c,2dのエミッタ電極はボンディングワイヤ7a,7b,7c,7dによって接続される。コレクタ端子8a,8bとコレクタパターン3a,3b,3c,3dはコレクタ中継導体10a,10bを介して接続されることにより、コレクタ側配線が構成される。又エミッタ端子9a,9bとエミッタパターン4a,4b,4c,4dはエミッタ中継導体11a,11bを介して接続されることにより、エミッタ側配線が構成される。   The emitter patterns 4a, 4b, 4c, 4d and the emitter electrodes of the IGBT chips 2a, 2b, 2c, 2d are connected by bonding wires 7a, 7b, 7c, 7d. The collector terminals 8a and 8b and the collector patterns 3a, 3b, 3c, and 3d are connected via the collector relay conductors 10a and 10b, thereby forming a collector-side wiring. The emitter terminals 9a, 9b and the emitter patterns 4a, 4b, 4c, 4d are connected via the emitter relay conductors 11a, 11b, thereby forming an emitter side wiring.

当該半導体モジュールのコレクタ端子8aとコレクタ端子8bとは外部配線(図示せず)によって並列に接続されるとともに、エミッタ端子9aとエミッタ端子9bも外部配線(図示せず)によって並列に接続される。従って半導体モジュール内のIGBTチップ2a,2b,2c,2dは互いに並列に接続されることとなる。   The collector terminal 8a and the collector terminal 8b of the semiconductor module are connected in parallel by an external wiring (not shown), and the emitter terminal 9a and the emitter terminal 9b are also connected in parallel by an external wiring (not shown). Therefore, the IGBT chips 2a, 2b, 2c, 2d in the semiconductor module are connected in parallel to each other.

IGBTチップ2a,2b,2c,2dの制御用の配線であるゲート中継導体182と制御エミッタ中継導体192はベース板6に対して平行になるように、かつベース板6側から見て重なるように配置されるとともに、一定の距離をあけて配置されている。ゲート中継導体182にはゲート電源接続用の正極側端子であるゲート端子20が配置され、制御エミッタ中継導体192にはゲート電源接続用の負極側端子である制御エミッタ端子21が配置される。   The gate relay conductor 182 and the control emitter relay conductor 192, which are control wires for the IGBT chips 2a, 2b, 2c, and 2d, are parallel to the base plate 6 and overlapped when viewed from the base plate 6 side. In addition to being arranged, they are arranged at a certain distance. The gate relay conductor 182 is provided with a gate terminal 20 which is a positive terminal for connecting a gate power source, and the control emitter relay conductor 192 is provided with a control emitter terminal 21 which is a negative terminal for connecting a gate power source.

ゲート中継導体182とIGBTチップ2a,2b,2c,2dのゲート電極は、ゲートワイヤ12a,12b,12c,12d、ゲートパターン14a,14b,14c,14d、ゲートピン16a,16b,16c,16dを介して接続されることによりゲート側配線が構成される。又制御エミッタ中継導体192とIGBTチップ2a,2b,2c,2dの制御エミッタ電極は、制御エミッタワイヤ13a,13b,13c,13d、制御エミッタパターン15a,15b,15c,15d、制御エミッタピン17a,17b,17c,17dを介して接続されることにより制御エミッタ側配線が構成される。   The gate relay conductor 182 and the gate electrodes of the IGBT chips 2a, 2b, 2c, and 2d are connected to the gate wires 12a, 12b, 12c, and 12d, the gate patterns 14a, 14b, 14c, and 14d, and the gate pins 16a, 16b, 16c, and 16d. The gate side wiring is configured by the connection. The control emitter relay conductor 192 and the control emitter electrodes of the IGBT chips 2a, 2b, 2c, 2d are control emitter wires 13a, 13b, 13c, 13d, control emitter patterns 15a, 15b, 15c, 15d, and control emitter pins 17a, 17b. , 17c, 17d to form a control emitter side wiring.

ゲートパターン14a,14b,14c,14d、制御エミッタパターン15a,15b,15c,15dは絶縁板5c,5d,5g,5h上で一定の絶縁距離を隔てて配置される。図11はエミッタ側配線及び制御エミッタ側配線のみを示す平面図である。   The gate patterns 14a, 14b, 14c, and 14d and the control emitter patterns 15a, 15b, 15c, and 15d are arranged on the insulating plates 5c, 5d, 5g, and 5h with a predetermined insulation distance. FIG. 11 is a plan view showing only the emitter-side wiring and the control emitter-side wiring.

図12はゲート側配線のみを示す平面図である。ゲート中継導体182と制御エミッタ中継導体192はプリント基板等により形成されるとともに、互いに平行に、かつ積層されるように配置される。又ゲート中継導体182の一部分であって、制御エミッタ中継導体192と重なり合っていない部分は、エミッタ中継導体11a,11bに対して平行、かつ積層されるように配置される。   FIG. 12 is a plan view showing only the gate-side wiring. The gate relay conductor 182 and the control emitter relay conductor 192 are formed of a printed circuit board or the like, and are arranged in parallel with each other and stacked. Further, a part of the gate relay conductor 182 that does not overlap the control emitter relay conductor 192 is arranged so as to be parallel to and stacked on the emitter relay conductors 11a and 11b.

対称線29に対し、非対称な電流経路は矢印A,Bと矢印G,Hであり、対称線29を対称にして左右のエミッタ側配線とゲート側配線に大きさの異なる誘導起電力を発生させる。特に矢印A,Bと矢印G,Hの電流と平行な関係に位置するエミッタ側配線とゲート側配線に発生する誘導起電力が大きい。   Asymmetrical current paths with respect to the symmetric line 29 are arrows A and B and arrows G and H. The symmetric line 29 is symmetric to generate induced electromotive forces having different sizes in the left and right emitter side wirings and gate side wirings. . In particular, the induced electromotive force generated in the emitter-side wiring and the gate-side wiring located in a parallel relationship with the currents of arrows A and B and arrows G and H is large.

また、本実施形態においては、対称線29に対し、非対称な電流経路が多く形成される複雑な構造のため、これらと平行をなすエミッタ側配線とゲート側配線には多くの電流成分による誘導起電力が発生し、ゲート電極と制御エミッタ電極間の電圧を均等化することは一層困難となる。   In the present embodiment, because of the complicated structure in which many asymmetric current paths are formed with respect to the symmetric line 29, the emitter-side wiring and the gate-side wiring parallel to these lines are induced by many current components. Power is generated and it becomes more difficult to equalize the voltage between the gate electrode and the control emitter electrode.

そこで以上の点を考慮し、本実施形態においては、ゲート中継導体182を略日の字型に構成するとともに、エミッタ中継導体11a,11bと制御エミッタ中継導体192に接近させて配置したものである。   Therefore, in consideration of the above points, in the present embodiment, the gate relay conductor 182 is configured in a substantially Japanese character shape, and is disposed close to the emitter relay conductors 11a and 11b and the control emitter relay conductor 192. .

このように構成したことにより、エミッタ側配線には誘導起電力C,D,Iが発生し、ゲート側配線には誘導起電力E,F,Jが発生する。ゲート側配線とエミッタ側配線は上述のように接近して配置されているので、磁束によって発生する誘導起電力CとE、DとF、IとJはほぼ同等である。   With this configuration, induced electromotive forces C, D, and I are generated in the emitter-side wiring, and induced electromotive forces E, F, and J are generated in the gate-side wiring. Since the gate-side wiring and the emitter-side wiring are arranged close to each other as described above, the induced electromotive forces C and E, D and F, and I and J generated by the magnetic flux are almost equal.

従って、対称線29に対し、非対称な電流経路が多く形成される構造であっても、IGBTチップ2a,2b,2c,2dのゲート電極間に発生する電圧とIGBTチップ2a,2b,2c,2dの制御エミッタ電極間に発生する電圧をほぼ同等にすることができるので、IGBTチップ2a,2b,2c,2dのゲート電極と制御エミッタ電極間の電圧を均等にし、IGBTチップ2a,2b,2c,2dに流れる電流を均等にすることができる。上記実施の形態1,2においては、IGBTチップを2個又は4個並列に設けた場合を示したが、IGBTチップを6,8・・・・・と増やすこともでき、それに伴いゲート中継導体の形体を形成することができる。   Therefore, even if the structure has many asymmetric current paths with respect to the symmetric line 29, the voltage generated between the gate electrodes of the IGBT chips 2a, 2b, 2c, 2d and the IGBT chips 2a, 2b, 2c, 2d. Since the voltages generated between the control emitter electrodes of the IGBT chips 2a, 2b, 2c and 2d can be made substantially equal, the voltages between the gate electrodes and the control emitter electrodes of the IGBT chips 2a, 2b, 2c and 2d can be made equal. The current flowing through 2d can be made uniform. In the first and second embodiments, the case where two or four IGBT chips are provided in parallel has been shown. However, the number of IGBT chips can be increased to 6, 8,. Can be formed.

実施の形態3.
図13はこの発明の実施の形態3による半導体モジュールの内部配線構造を示す斜視図、図14はエミッタ側配線及び制御エミッタ側配線のみを示す平面図、図15はゲート側配線のみを示す平面図である。
Embodiment 3 FIG.
13 is a perspective view showing an internal wiring structure of a semiconductor module according to Embodiment 3 of the present invention, FIG. 14 is a plan view showing only the emitter-side wiring and the control emitter-side wiring, and FIG. 15 is a plan view showing only the gate-side wiring. It is.

矢印Aと矢印Bを除く電流経路は対称線29に対し対称の関係となっており、またエミッタ側配線とゲート側配線も対称線29に対しほぼ対称となるよう形成されている。これに対して、矢印A,Bで示される電流経路は半導体モジュールの対称線29に対して非対称の関係になっており、対称線29を対称にして左右のエミッタ側配線とゲート側配線に大きさの異なる誘導起電力を発生させる。特に矢印Aと矢印Bの電流と平行な関係に位置し、かつ矢印Aと矢印Bの径路長と同一の径路長を有するエミッタ側配線とゲート側配線に発生する誘導起電力が大きい。   The current paths excluding the arrows A and B are symmetrical with respect to the symmetry line 29, and the emitter side wiring and the gate side wiring are formed so as to be substantially symmetrical with respect to the symmetry line 29. On the other hand, the current paths indicated by the arrows A and B have an asymmetric relationship with respect to the symmetry line 29 of the semiconductor module. Different induced electromotive forces are generated. In particular, the induced electromotive force generated in the emitter-side wiring and the gate-side wiring, which is located in a parallel relationship with the currents of the arrows A and B and has the same path length as the arrows A and B, is large.

そこで以上の点を考慮し、本発明においては、図14,15に示すように、ゲート中継導体183とエミッタ中継導体11aと制御エミッタ中継導体19のうち、矢印Aと矢印Bの電流と平行な関係に位置し、かつ矢印Aと矢印Bの径路長と同一の径路長を有する部分を互いに接近して積層されるように配置した。即ち本実施形態においては、図5,図6に示すようにゲート中継導体全体を略ロの字型に構成するのではなく、矢印Aと矢印Bの径路長と同一の径路長を有する部分にのみ対応するように略ロの字型を形成したものである。   Therefore, in consideration of the above points, in the present invention, as shown in FIGS. 14 and 15, the gate relay conductor 183, the emitter relay conductor 11 a, and the control emitter relay conductor 19 are parallel to the currents of the arrows A and B. The portions located in the relationship and having the same path length as the arrow A and the arrow B are arranged so as to be stacked close to each other. That is, in the present embodiment, as shown in FIGS. 5 and 6, the entire gate relay conductor is not formed in a substantially square shape, but in a portion having the same path length as that of the arrows A and B. Is formed in a substantially square shape so as to correspond only to.

上記のように構成したことにより、エミッタ側配線には誘導起電力C,Dが発生し、ゲート側配線には誘導起電力E,Fが発生する。ゲート側配線とエミッタ側配線は上述のように接近して配置されているので、磁束によって発生する誘導起電力CとE、DとFはほぼ同等である。   With the above configuration, induced electromotive forces C and D are generated in the emitter side wiring, and induced electromotive forces E and F are generated in the gate side wiring. Since the gate-side wiring and the emitter-side wiring are arranged close as described above, the induced electromotive forces C and E, D, and F generated by the magnetic flux are almost equal.

従って、IGBTチップ2aと2bのゲート電極間に発生する電圧とIGBTチップ2aと2bの制御エミッタ電極間に発生する電圧をほぼ同等にすることができるので、IGBTチップ2aと2bのゲート電極と制御エミッタ電極間の電圧を均等にし、IGBTチップ2aと2bに流れる電流を均等にすることができるとともに、実施の形態1の場合に比べて、ゲート中継導体183のサイズを小型化することができるので、図1に示されるような構造を有するゲート中継導体18では設置スペースの関係上ゲート中継導体18を設置できないような場合でも、図13に示すようにゲート中継導体183を構成することにより設置スペースの制約があるような場合でもゲート中継導体183を設置することができる。   Accordingly, since the voltage generated between the gate electrodes of the IGBT chips 2a and 2b and the voltage generated between the control emitter electrodes of the IGBT chips 2a and 2b can be made substantially equal, the gate electrodes of the IGBT chips 2a and 2b and the control are controlled. Since the voltage between the emitter electrodes can be made uniform, the current flowing through the IGBT chips 2a and 2b can be made uniform, and the size of the gate relay conductor 183 can be reduced as compared with the case of the first embodiment. Even if the gate relay conductor 18 having the structure as shown in FIG. 1 cannot be installed due to the installation space, the installation space can be obtained by configuring the gate relay conductor 183 as shown in FIG. The gate relay conductor 183 can be installed even in a case where there are restrictions.

この発明の実施の形態1による半導体モジュール1の内部配線構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the internal wiring structure of the semiconductor module 1 by Embodiment 1 of this invention. コレクタ側配線のみを取り出して示した斜視図である。It is the perspective view which took out and showed only the collector side wiring. エミッタ側配線及び制御エミッタ側配線のみを示す斜視図である。It is a perspective view which shows only an emitter side wiring and a control emitter side wiring. エミッタ側配線及び制御エミッタ側配線のみを示す平面図である。It is a top view which shows only an emitter side wiring and a control emitter side wiring. ゲート側配線のみを示す斜視図である。It is a perspective view which shows only gate side wiring. ゲート側配線のみを示す平面図である。It is a top view which shows only gate side wiring. コレクタ側配線における電流の経路を示すための平面図である。It is a top view for showing the course of the current in a collector side wiring. エミッタ側配線における電流の経路を示すための平面図である。It is a top view for showing the path | route of the electric current in emitter side wiring. 半導体モジュールの簡略回路図である。It is a simplified circuit diagram of a semiconductor module. この発明の実施の形態2による半導体モジュールの内部配線構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the internal wiring structure of the semiconductor module by Embodiment 2 of this invention. エミッタ側配線及び制御エミッタ側配線のみを示す平面図である。It is a top view which shows only an emitter side wiring and a control emitter side wiring. ゲート側配線のみを示す平面図である。It is a top view which shows only gate side wiring. この発明の実施の形態3による半導体モジュールの内部配線構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the internal wiring structure of the semiconductor module by Embodiment 3 of this invention. エミッタ側配線及び制御エミッタ側配線のみを示す平面図である。It is a top view which shows only an emitter side wiring and a control emitter side wiring. ゲート側配線のみを示す平面図である。It is a top view which shows only gate side wiring.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体モジュール、2a,2b,2c,2d IGBTチップ、
8a,8b コレクタ端子、9a,9b エミッタ端子、20 ゲート端子、
21 制御エミッタ端子、29 対称線。
1 Semiconductor module, 2a, 2b, 2c, 2d IGBT chip,
8a, 8b collector terminal, 9a, 9b emitter terminal, 20 gate terminal,
21 Control emitter terminal, 29 symmetry line.

Claims (3)

複数の半導体スイッチ素子が並列に接続されるとともに、上記半導体スイッチ素子のコレクタ電極とコレクタ端子とを接続するコレクタ側配線と、上記半導体スイッチ素子のエミッタ電極とエミッタ端子とを接続するエミッタ側配線と、上記半導体スイッチ素子のゲート電極とゲート端子とを接続するゲート側配線と、上記半導体スイッチ素子の制御エミッタ電極と制御エミッタ端子とを接続する制御エミッタ側配線とを備えた半導体モジュールにおいて、上記エミッタ側配線および/または上記制御エミッタ側配線において発生する誘導起電力により生ずる上記複数の半導体スイッチ素子の上記制御エミッタ電極間の電位差と同等の電位差が上記複数の半導体スイッチ素子の上記ゲート電極間に発生するように、上記ゲート側配線を形成したことを特徴とする半導体モジュール。 A plurality of semiconductor switch elements connected in parallel; a collector-side wiring connecting the collector electrode and the collector terminal of the semiconductor switch element; and an emitter-side wiring connecting the emitter electrode and the emitter terminal of the semiconductor switch element; A semiconductor module comprising: a gate-side wiring that connects a gate electrode and a gate terminal of the semiconductor switch element; and a control emitter-side wiring that connects a control emitter electrode and a control emitter terminal of the semiconductor switch element. A potential difference equivalent to a potential difference between the control emitter electrodes of the plurality of semiconductor switch elements generated by the induced electromotive force generated in the side wiring and / or the control emitter side wiring is generated between the gate electrodes of the plurality of semiconductor switch elements. So that the gate-side wiring was formed A semiconductor module characterized by that. 上記エミッタ側配線または上記制御エミッタ側配線の一部又は全部と上記ゲート側配線の一部又は全部とは互いに平行になるように、かつ、上記半導体スイッチ素子が設置される基板側から見て重なるように、配置されていることを特徴とする請求項1記載の半導体モジュール。 Part or all of the emitter-side wiring or the control emitter-side wiring and part or all of the gate-side wiring are parallel to each other and overlap each other when viewed from the substrate side on which the semiconductor switch element is installed. The semiconductor module according to claim 1, wherein the semiconductor module is arranged as described above. 上記コレクタ側配線及び上記エミッタ側配線に流れる電流経路であって、当該半導体モジュールの対称線に対して対称関係にない電流経路に対応する位置に上記ゲート側配線を形成したことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の半導体モジュール。 The gate-side wiring is formed at a position corresponding to a current path that flows through the collector-side wiring and the emitter-side wiring and is not symmetrical with respect to the symmetry line of the semiconductor module. The semiconductor module according to claim 1 or 2.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPWO2014014012A1 (en) * 2012-07-19 2016-07-07 三菱電機株式会社 Power semiconductor module
US11271043B2 (en) 2017-04-19 2022-03-08 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor module and power conversion apparatus

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2014014012A1 (en) * 2012-07-19 2016-07-07 三菱電機株式会社 Power semiconductor module
US11271043B2 (en) 2017-04-19 2022-03-08 Mitsubishi Electric Corporation Semiconductor module and power conversion apparatus

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