JP2009259614A - Manufacturing method of electro-optical device - Google Patents

Manufacturing method of electro-optical device Download PDF

Info

Publication number
JP2009259614A
JP2009259614A JP2008107552A JP2008107552A JP2009259614A JP 2009259614 A JP2009259614 A JP 2009259614A JP 2008107552 A JP2008107552 A JP 2008107552A JP 2008107552 A JP2008107552 A JP 2008107552A JP 2009259614 A JP2009259614 A JP 2009259614A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
manufacturing
electro
optical device
solvent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008107552A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideyuki Kimura
秀之 木村
Takuya Sonoyama
卓也 園山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2008107552A priority Critical patent/JP2009259614A/en
Publication of JP2009259614A publication Critical patent/JP2009259614A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an electro-optical device capable of suppressing thickness unevenness of a functional layer in a display region. <P>SOLUTION: The manufacturing method of an organic EL device 100 as the electro-optical device is provided with a first liquid ejection process in which a liquid body 33 containing a constituent material of an organic functional layer 30 and solvent is ejected on each of a plurality of pixel 2 regions, a second liquid ejection process in which a liquid body 44 containing at least a solvent is ejected on each of a plurality of liquid receiving regions 6 arranged on a member 40, and a drying process in which the liquid body 33 and the liquid body 44 are dried by arranging a face of the substrate 10 on which the liquid body 33 is ejected and a face of the member 40 on which the liquid body 44 is ejected in opposition each other so that the surrounding of the display region E may be surrounded by the plurality of liquid receiving regions 6. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、電気光学装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an electro-optical device.

有機EL方式の電気光学装置の製造方法として、有機機能層を液滴吐出法により形成する方法が知られている。液滴吐出法では、有機機能層の構成材料を溶媒に溶解または分散させた液状体を所定の領域、例えば表示に寄与する表示領域内の画素の領域に選択的に配置し、この液状体から溶媒を蒸発させて有機機能層を形成する。このため、製造プロセスを簡易にするとともに原材料の使用量を少なくすることができる。   As a method for manufacturing an organic EL type electro-optical device, a method of forming an organic functional layer by a droplet discharge method is known. In the droplet discharge method, a liquid material in which the constituent material of the organic functional layer is dissolved or dispersed in a solvent is selectively disposed in a predetermined region, for example, a pixel region in the display region contributing to display, and the liquid material is used. The organic functional layer is formed by evaporating the solvent. For this reason, the manufacturing process can be simplified and the amount of raw materials used can be reduced.

一方で、有機機能層を液滴吐出法により形成する方法では、表示領域内の周辺部に配置された液状体の乾燥が中央部よりも速くなる傾向がある。これは、表示領域内において、中央部ではそれぞれの画素が互いに隣り合っているため蒸発する溶媒分子が多く存在するが、表示領域の周囲に液状体が配置されていないので、周辺部では蒸発する溶媒分子が少なくなり蒸発が中央部よりも速くなるからである。その結果、表示領域内における画素間で有機機能層の膜厚ムラが生じてしまう。このような膜厚ムラがあると、有機機能層に流れる電流に差異が生じて、有機機能層が発光したときの輝度ムラや発光色ムラ等の表示ムラの原因となる。   On the other hand, in the method of forming the organic functional layer by the droplet discharge method, the liquid disposed in the peripheral portion in the display region tends to be dried faster than the central portion. This is because, in the display area, each pixel is adjacent to each other in the center portion, so there are many solvent molecules that evaporate. However, since no liquid material is arranged around the display area, it evaporates in the peripheral portion. This is because there are fewer solvent molecules and evaporation is faster than in the center. As a result, film thickness unevenness of the organic functional layer occurs between pixels in the display area. When there is such film thickness unevenness, a difference occurs in the current flowing through the organic functional layer, which causes display unevenness such as luminance unevenness and light emission color unevenness when the organic functional layer emits light.

そこで、表示領域に位置する画素と略同一の面積を有し表示に寄与しないダミー画素を表示領域の周囲に配置し、表示領域に位置する画素に形成する有機機能層の構成材料を含む液状体をこのダミー画素に配置することで、表示領域の中央部と周辺部とにおいて有機機能層の膜厚ムラが生じることを防止あるいは抑制する構成が提案されている(例えば特許文献1)。   Therefore, a liquid material including a constituent material of an organic functional layer formed on a pixel located in the display region, in which dummy pixels that have substantially the same area as the pixel located in the display region and do not contribute to display are arranged around the display region. Has been proposed to prevent or suppress the occurrence of unevenness in the film thickness of the organic functional layer in the central portion and the peripheral portion of the display region (for example, Patent Document 1).

また、ダミー画素を配置することによる有機機能層の膜厚ムラの防止・抑制効果を高めるために、ダミー画素に吐出する単位面積あたりの溶媒の量を表示領域の画素に吐出する単位面積あたりの溶媒の量よりも多くする構成(例えば特許文献2)や、ダミー画素に吐出する単位面積あたりの液状体の量を表示領域の画素に吐出する単位面積あたりの液状体の量以上とする構成(例えば特許文献3)が提案されている。   Further, in order to increase the effect of preventing and suppressing the unevenness of the film thickness of the organic functional layer due to the arrangement of the dummy pixels, the amount of the solvent per unit area discharged to the dummy pixels is reduced per unit area discharged to the pixels of the display region. A configuration in which the amount of the liquid material is larger than the amount of the solvent (for example, Patent Document 2), or a configuration in which the amount of the liquid material per unit area ejected to the dummy pixels is equal to or greater than the amount of the liquid material per unit area ejected to the pixels in the display region. For example, Patent Document 3) has been proposed.

一方、乾燥装置による乾燥方法の工夫で有機機能層の膜厚ムラを防止する方法として、基板上の液状体が配置された領域を複数に区分けし、区分けされた領域毎の排気量をそれぞれ独立して制御可能な部材を備えた乾燥装置が提案されている(例えば特許文献4)。また、整流板やヒータを用いて基板の温度分布を均一にして乾燥させる乾燥装置が提案されている(例えば特許文献5)。   On the other hand, as a method of preventing unevenness in the thickness of the organic functional layer by devising a drying method using a drying device, the area on which the liquid material is arranged on the substrate is divided into a plurality of areas, and the exhaust amount in each divided area is independent. Thus, a drying apparatus provided with a controllable member has been proposed (for example, Patent Document 4). In addition, a drying apparatus has been proposed that uses a current plate or a heater to dry the substrate with a uniform temperature distribution (for example, Patent Document 5).

特開2002−252083号公報JP 2002-252083 A 特開2006−3870号公報JP 2006-3870 A 特開2001−188117号公報JP 2001-188117 A 特開2006−261027号公報JP 2006-261027 A 特開2006−210496号公報JP 2006-210496 A

しかしながら、上述のようにダミー画素の領域をある程度大きくすると、表示領域の面積が相対的に小さくなり、電気光学装置を備えた電子機器が大型化するという課題がある。また、ダミー画素に吐出する単位面積あたりの溶媒または液状体の量を多くすると、液状体が溢れて表示領域に位置する画素に広がってしまい、製造歩留りが低下するという課題がある。一方、上述のような乾燥装置による乾燥方法では、溶媒種、液状体の量、基板サイズ、配置等が変更される度に精密な調整が必要となり、乾燥工程が煩雑化するという課題がある。   However, if the area of the dummy pixel is increased to some extent as described above, there is a problem that the area of the display area is relatively reduced, and the electronic apparatus including the electro-optical device is increased in size. Further, when the amount of the solvent or liquid material per unit area discharged to the dummy pixel is increased, the liquid material overflows and spreads over the pixels located in the display region, and there is a problem that the manufacturing yield decreases. On the other hand, in the drying method using the above-described drying apparatus, precise adjustment is required every time the solvent species, the amount of liquid, the substrate size, the arrangement, and the like are changed, and there is a problem that the drying process becomes complicated.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例に係る電気光学装置の製造方法は、基板上の機能領域に配置された複数の画素の領域のそれぞれに機能層を形成する電気光学装置の製造方法であって、前記複数の画素の領域のそれぞれに、前記機能層の構成材料と第1の溶媒とを含む第1の液状体を吐出する第1の液状体吐出工程と、少なくとも1枚の部材上に配置された複数の液受容領域のそれぞれに、少なくとも第2の溶媒を含む第2の液状体を吐出する第2の液状体吐出工程と、前記基板の前記第1の液状体が吐出された面と前記少なくとも1枚の部材の前記第2の液状体が吐出された面とを、前記機能領域の周囲が前記複数の液受容領域のうちの少なくとも一部の前記液受容領域で囲まれるように対向させて、前記第1の液状体と前記第2の液状体とを乾燥させる乾燥工程と、を備えたことを特徴とする。   Application Example 1 A method for manufacturing an electro-optical device according to this application example is a method for manufacturing an electro-optical device in which a functional layer is formed in each of a plurality of pixel regions arranged in a functional region on a substrate. A first liquid discharge step of discharging a first liquid including the constituent material of the functional layer and a first solvent in each of the plurality of pixel regions; and disposed on at least one member. A second liquid material discharge step for discharging a second liquid material containing at least a second solvent to each of the plurality of liquid receiving regions; a surface of the substrate on which the first liquid material is discharged; The surface of the at least one member on which the second liquid material is discharged is opposed so that the periphery of the functional region is surrounded by at least some of the liquid receiving regions of the plurality of liquid receiving regions. And drying the first liquid and the second liquid. And that the drying step, characterized by comprising a.

この方法によれば、乾燥工程において、基板上の機能領域の周囲を囲むように、部材上の液受容領域が位置する。したがって、画素の領域に吐出された第1の液状体から第1の溶媒が蒸発する際、その周囲に、液受容領域に吐出された第2の液状体から蒸発する第2の溶媒の分子が存在する。これにより、機能領域の周辺部における溶媒分子が多くなり、周辺部における第1の溶媒の蒸発が抑えられるので、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキが抑えられる。この結果、機能領域内に形成される機能層の画素間での膜厚ムラを抑えることができる。   According to this method, in the drying process, the liquid receiving region on the member is positioned so as to surround the periphery of the functional region on the substrate. Therefore, when the first solvent evaporates from the first liquid ejected to the pixel region, molecules of the second solvent evaporating from the second liquid ejected to the liquid receiving region are present around the first solvent. Exists. As a result, the number of solvent molecules in the peripheral part of the functional region increases, and evaporation of the first solvent in the peripheral part is suppressed. Therefore, there is a variation in the drying speed of the first liquid material between the peripheral part and the central part of the functional region. It can be suppressed. As a result, it is possible to suppress film thickness unevenness between pixels of the functional layer formed in the functional region.

さらに、この方法によれば、表示に寄与しないダミー画素が配置された非表示領域を基板上に設けることなく、機能領域内で機能層の膜厚ムラが抑えられるので、電気光学装置の表示に寄与する機能領域の相対面積を従来より大きくできる。また、電気光学装置の製造工程において、基板に部材を対向させる簡易な構成により、画素間での膜厚ムラを抑えて乾燥を行うことができる。   Further, according to this method, since the non-display area in which the dummy pixels that do not contribute to the display are arranged is not provided on the substrate, the thickness unevenness of the functional layer can be suppressed in the functional area. The relative area of the contributing functional region can be made larger than before. Further, in the manufacturing process of the electro-optical device, it is possible to perform drying while suppressing unevenness in film thickness between pixels by a simple configuration in which a member is opposed to a substrate.

[適用例2]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記乾燥工程では、前記機能領域の周囲が前記複数の液受容領域のうちのすべての前記液受容領域で囲まれるように対向させてもよい。   Application Example 2 In the electro-optical device manufacturing method according to the application example, in the drying step, the functional area is surrounded by all the liquid receiving areas of the plurality of liquid receiving areas. You may make it oppose.

この方法によれば、乾燥工程において、第2の溶媒の分子のほとんどが機能領域の周囲に分布する。これにより、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。したがって、機能領域内に形成される機能層の画素間での膜厚ムラをより抑えることができる。   According to this method, most of the molecules of the second solvent are distributed around the functional region in the drying step. Thereby, the dispersion | variation in the drying speed of a 1st liquid can be restrained smaller by the peripheral part and center part of a functional area | region. Therefore, it is possible to further suppress film thickness unevenness between pixels of the functional layer formed in the functional region.

[適用例3]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記第2の液状体吐出工程では、1枚の前記部材に前記複数の液受容領域が配置されており、前記乾燥工程では、前記基板と前記1枚の前記部材とを対向させてもよい。   [Application Example 3] A method of manufacturing an electro-optical device according to the application example described above, wherein, in the second liquid material discharge step, the plurality of liquid receiving regions are arranged on one member, and the drying is performed. In the step, the substrate and the one member may be opposed to each other.

この方法によれば、1枚の部材上に機能領域に対応する領域の周囲を囲むように液受容領域を配置しておき、部材上のこの領域が基板上の機能領域に平面視で重なるように基板と部材とを対向させれば、基板上の機能領域の周囲を囲むように、部材上の液受容領域を位置させることができる。   According to this method, the liquid receiving area is arranged on one member so as to surround the area corresponding to the functional area, and this area on the member overlaps the functional area on the substrate in plan view. If the substrate and the member are opposed to each other, the liquid receiving region on the member can be positioned so as to surround the periphery of the functional region on the substrate.

[適用例4]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記第2の液状体吐出工程では、複数の前記部材のそれぞれに前記複数の液受容領域が分かれて配置されており、前記乾燥工程では、前記基板と前記複数の前記部材とを対向させてもよい。   Application Example 4 In the electro-optical device manufacturing method according to the application example, in the second liquid material discharge step, the plurality of liquid receiving regions are separately arranged on each of the plurality of members. In the drying step, the substrate and the plurality of members may be opposed to each other.

この方法によれば、基板上の機能領域を複数の部材で囲むように配置することで、基板上の機能領域をこれらの部材で遮ることなく、機能領域の周囲を囲むように液受容領域を位置させることができる。このため、機能領域における第1の溶媒の蒸発を早めることができる。これにより、第1の溶媒が蒸発するまで、機能領域の周囲に第2の溶媒の分子が存在するので、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。さらに、部材の第2の液状体が吐出された面に付着した異物が落下しても、その異物が基板の表面に付着するのを回避できる。   According to this method, by arranging the functional area on the substrate so as to be surrounded by a plurality of members, the liquid receiving area is surrounded so as to surround the functional area without blocking the functional area on the substrate with these members. Can be positioned. For this reason, the evaporation of the first solvent in the functional region can be accelerated. Thereby, since the molecule | numerator of the 2nd solvent exists in the circumference | surroundings of a functional area | region until the 1st solvent evaporates, the dispersion | variation in the drying speed of a 1st liquid body is more more with the peripheral part and center part of a functional area | region. It can be kept small. Furthermore, even if the foreign matter adhering to the surface of the member on which the second liquid material is discharged falls, the foreign matter can be prevented from adhering to the surface of the substrate.

[適用例5]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記複数の液受容領域の配置ピッチは、前記複数の画素の領域の配置ピッチよりも小さくてもよい。   Application Example 5 In the method of manufacturing the electro-optical device according to the application example, the arrangement pitch of the plurality of liquid receiving regions may be smaller than the arrangement pitch of the plurality of pixel regions.

この方法によれば、液受容領域の配置密度が画素の配置密度よりも高い。したがって、液受容領域当たりの第2の液状体の吐出量と画素の領域当たりの第1の液状体の吐出量とが略同量であっても、機能領域の周囲における単位面積当たりの第2の溶媒の量を機能領域内における単位面積当たりの第1の溶媒の量よりも多くできる。これにより、機能領域の周辺部における溶媒分子がより多くなるので、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   According to this method, the arrangement density of the liquid receiving regions is higher than the arrangement density of the pixels. Therefore, even if the discharge amount of the second liquid material per liquid receiving region and the discharge amount of the first liquid material per pixel region are substantially the same, the second liquid unit per unit area around the functional region is the same. The amount of the solvent can be larger than the amount of the first solvent per unit area in the functional region. Thereby, since there are more solvent molecules in the peripheral part of the functional region, the variation in the drying speed of the first liquid material can be further reduced between the peripheral part and the central part of the functional region.

[適用例6]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記複数の液受容領域のそれぞれの面積は、前記複数の画素の領域のそれぞれの面積よりも大きくてもよい。   Application Example 6 In the electro-optical device manufacturing method according to the application example described above, the area of each of the plurality of liquid receiving regions may be larger than the area of each of the plurality of pixel regions.

この方法によれば、液受容領域の面積が画素の領域の面積よりも大きいので、液受容領域の配置ピッチが画素の領域の配置ピッチと略同一であっても、機能領域の周囲における単位面積当たりの第2の溶媒の量を機能領域内における単位面積当たりの第1の溶媒の量よりも多くできる。これにより、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   According to this method, since the area of the liquid receiving area is larger than the area of the pixel area, even if the arrangement pitch of the liquid receiving area is substantially the same as the arrangement pitch of the pixel area, the unit area around the functional area The amount of the second solvent per unit can be larger than the amount of the first solvent per unit area in the functional region. Thereby, the dispersion | variation in the drying speed of a 1st liquid can be restrained smaller by the peripheral part and center part of a functional area | region.

[適用例7]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記複数の液受容領域は、帯状に形成されていてもよい。   Application Example 7 In the method of manufacturing the electro-optical device according to the application example described above, the plurality of liquid receiving regions may be formed in a belt shape.

この方法によれば、液受容領域が帯状に形成されているので、機能領域の周囲における単位面積当たりの第2の溶媒の量をより多くできる。これにより、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   According to this method, since the liquid receiving region is formed in a band shape, the amount of the second solvent per unit area around the functional region can be increased. Thereby, the dispersion | variation in the drying speed of a 1st liquid can be restrained smaller by the peripheral part and center part of a functional area | region.

[適用例8]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記複数の液受容領域の単位面積当たりに吐出される前記第2の液状体の量は、前記複数の画素の領域の単位面積当たりに吐出される前記第1の液状体の量よりも多くてもよい。   Application Example 8 In the method of manufacturing the electro-optical device according to the application example, the amount of the second liquid material ejected per unit area of the plurality of liquid receiving regions is a region of the plurality of pixels. The amount of the first liquid material discharged per unit area may be larger.

この方法によれば、液受容領域の面積および配置ピッチのそれぞれが、画素の領域の面積および配置ピッチのそれぞれと略同一であっても、機能領域の周囲における単位面積当たりの第2の溶媒の量を機能領域内における単位面積当たりの第1の溶媒の量よりも多くできる。これにより、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   According to this method, even if each of the area of the liquid receiving region and the arrangement pitch is substantially the same as each of the area of the pixel region and each of the arrangement pitch, the second solvent per unit area around the functional region. The amount can be greater than the amount of the first solvent per unit area in the functional region. Thereby, the dispersion | variation in the drying speed of a 1st liquid can be restrained smaller by the peripheral part and center part of a functional area | region.

[適用例9]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記第2の溶媒の沸点は、前記第1の溶媒の沸点よりも高くてもよい。   Application Example 9 In the electro-optical device manufacturing method according to the application example described above, the boiling point of the second solvent may be higher than the boiling point of the first solvent.

この方法によれば、第2の溶媒の蒸発速度は第1の溶媒の蒸発速度よりも遅くなる。これにより、第1の溶媒が蒸発するまで、機能領域の周囲に第2の溶媒の分子が存在するので、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   According to this method, the evaporation rate of the second solvent is slower than the evaporation rate of the first solvent. Thereby, since the molecule | numerator of the 2nd solvent exists in the circumference | surroundings of a functional area | region until the 1st solvent evaporates, the dispersion | variation in the drying speed of a 1st liquid body is more more with the peripheral part and center part of a functional area | region. It can be kept small.

[適用例10]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記第2の溶媒の蒸気圧は、前記第1の溶媒の蒸気圧よりも低くてもよい。   Application Example 10 In the method of manufacturing the electro-optical device according to the application example, the vapor pressure of the second solvent may be lower than the vapor pressure of the first solvent.

この方法によれば、第2の溶媒の蒸発速度は第1の溶媒の蒸発速度よりも遅くなる。これにより、第1の溶媒が蒸発するまで、機能領域の周囲に第2の溶媒の分子が存在するので、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   According to this method, the evaporation rate of the second solvent is slower than the evaporation rate of the first solvent. Thereby, since the molecule | numerator of the 2nd solvent exists in the circumference | surroundings of a functional area | region until the 1st solvent evaporates, the dispersion | variation in the drying speed of a 1st liquid body is more more with the peripheral part and center part of a functional area | region. It can be kept small.

[適用例11]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記第2の液状体は機能層の構成材料を含み、前記第2の液状体に含まれる前記機能層の構成材料の濃度は、前記第1の液状体に含まれる前記機能層の構成材料の濃度よりも高くてもよい。   Application Example 11 In the method of manufacturing an electro-optical device according to the application example, the second liquid material includes a constituent material of the functional layer, and the constituent material of the functional layer included in the second liquid material May be higher than the concentration of the constituent material of the functional layer contained in the first liquid.

この方法によれば、第2の液状体に含まれる機能層の構成材料の濃度は、第1の液状体に含まれる機能層の構成材料の濃度よりも高い。液状体が乾燥するとき、液状体中の溶媒が液状体の表面に液膜を作り、この液膜が蒸気化して大気中または減圧雰囲気中に蒸発する。この溶媒の液膜が蒸発すると、液状体表面で機能層の構成材料の濃度が上昇するが、溶媒の蒸発熱により液状体表面の温度が低下し液状体表面で濃度がさらに上昇するので、液状体内部の溶媒の蒸発が遅くなる。したがって、第2の溶媒の蒸発速度を第1の溶媒の蒸発速度よりも遅くできる。これにより、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   According to this method, the concentration of the constituent material of the functional layer contained in the second liquid is higher than the concentration of the constituent material of the functional layer contained in the first liquid. When the liquid is dried, the solvent in the liquid forms a liquid film on the surface of the liquid, and the liquid film evaporates and evaporates in the atmosphere or in a reduced-pressure atmosphere. When the liquid film of the solvent evaporates, the concentration of the constituent material of the functional layer increases on the liquid surface, but the temperature of the liquid surface decreases due to the heat of evaporation of the solvent and the concentration further increases on the liquid surface. Evaporation of the solvent inside the body is slow. Therefore, the evaporation rate of the second solvent can be made slower than the evaporation rate of the first solvent. Thereby, the dispersion | variation in the drying speed of a 1st liquid can be restrained smaller by the peripheral part and center part of a functional area | region.

[適用例12]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記第2の液状体は前記第2の溶媒からなっていてもよい。   Application Example 12 In the method of manufacturing the electro-optical device according to the application example, the second liquid material may include the second solvent.

この方法によれば、第2の液状体が機能層の構成材料を含んでいなくても、機能領域の周囲に第2の溶媒の分子を分布させることができる。これにより、機能領域の周辺部における第1の溶媒の蒸発が抑えられるので、機能領域の周辺部と中央部とで第1の液状体の乾燥速度のバラツキが抑えられる。   According to this method, the molecules of the second solvent can be distributed around the functional region even if the second liquid does not contain the constituent material of the functional layer. Thereby, since the evaporation of the first solvent in the peripheral part of the functional region is suppressed, variation in the drying speed of the first liquid material is suppressed in the peripheral part and the central part of the functional region.

[適用例13]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記第1の液状体は、前記機能層の構成材料として、有機EL素子を構成する機能層のうち少なくとも発光層形成材料を含んでいてもよい。   [Application Example 13] A method for manufacturing an electro-optical device according to the application example, wherein the first liquid material forms at least a light emitting layer among functional layers constituting an organic EL element as a constituent material of the functional layer. It may contain material.

この方法によれば、表示に寄与する機能領域に配置された画素の領域に形成される有機EL素子の発光層の膜厚ムラが抑えられるので、表示ムラのない有機EL装置を提供できる。   According to this method, since the film thickness unevenness of the light emitting layer of the organic EL element formed in the pixel region disposed in the functional region contributing to display can be suppressed, an organic EL device free from display unevenness can be provided.

[適用例14]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法であって、前記第1の液状体は、前記機能層の構成材料として、カラーフィルタの着色層形成材料を含んでいてもよい。   Application Example 14 In the electro-optical device manufacturing method according to the application example, the first liquid material may include a color layer forming material for a color filter as a constituent material of the functional layer.

この方法によれば、表示に寄与する機能領域に配置された画素の領域に形成される着色層の膜厚ムラが抑えられるので、色ムラのないカラーフィルタを備えた電気光学装置を提供できる。   According to this method, film thickness unevenness of the colored layer formed in the pixel region disposed in the functional region contributing to display can be suppressed, so that an electro-optical device including a color filter without color unevenness can be provided.

以下に、本実施の形態について、電気光学装置として有機エレクトロルミネセンス装置(以下有機EL装置と呼ぶ)およびカラーフィルタを備えた液晶装置を製造する場合を例に、図面を参照して説明する。なお、参照する図面において、構成をわかりやすく示すため、構成要素の膜厚や寸法の比率等は適宜異ならせてある。   Hereinafter, the present embodiment will be described with reference to the drawings, taking as an example a case where a liquid crystal device including an organic electroluminescence device (hereinafter referred to as an organic EL device) and a color filter as an electro-optical device is manufactured. In the drawings to be referred to, in order to show the configuration in an easy-to-understand manner, film thicknesses of components, ratios of dimensions, and the like are appropriately changed.

(第1の実施形態)
第1の実施形態では、電気光学装置としての有機EL装置を製造する場合について説明する。
(First embodiment)
In the first embodiment, a case where an organic EL device as an electro-optical device is manufactured will be described.

<有機EL装置>
まず、第1の実施形態に係る有機EL装置の構成について図を参照して説明する。図1は、第1の実施形態に係る有機EL装置を示す平面図である。図2は、第1の実施形態に係る有機EL装置の回路構成図である。図3は、第1の実施形態に係る有機EL装置の概略構成を示す断面図である。詳しくは、図1のA−A’線に沿った部分断面図である。なお、図1では、以下の位置関係の説明に必要な構成要素以外は図示を省略する。
<Organic EL device>
First, the configuration of the organic EL device according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing the organic EL device according to the first embodiment. FIG. 2 is a circuit configuration diagram of the organic EL device according to the first embodiment. FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of the organic EL device according to the first embodiment. Specifically, it is a partial cross-sectional view along the line AA ′ in FIG. In FIG. 1, illustration is omitted except for the components necessary for the following description of the positional relationship.

有機EL装置100は、図1に示すように、基板10と、基板10上に位置する機能領域としての表示領域Eを有している。表示領域Eは、有機EL装置100の表示に実質的に寄与する領域である。   As shown in FIG. 1, the organic EL device 100 includes a substrate 10 and a display area E as a functional area located on the substrate 10. The display area E is an area that substantially contributes to the display of the organic EL device 100.

表示領域Eには、赤(R)、緑(G)、青(B)の表示に寄与する画素2R,2G,2B(対応する色について区別しない場合には単に画素2とも呼ぶ)が複数配置されている。画素2は、有機EL装置100の表示の最小単位であり、間隔を置いてマトリクス状に配置されている。なお、X軸は画素2の行方向を示し、Y軸は画素2の列方向を示している。   In the display region E, a plurality of pixels 2R, 2G, and 2B that contribute to the display of red (R), green (G), and blue (B) (also simply referred to as pixel 2 if the corresponding colors are not distinguished) are arranged. Has been. The pixels 2 are the minimum unit of display of the organic EL device 100 and are arranged in a matrix at intervals. The X axis indicates the row direction of the pixels 2, and the Y axis indicates the column direction of the pixels 2.

画素2は、有機エレクトロルミネセンス素子(以下有機EL素子と呼ぶ)8を表示素子として備えており、R、G、Bのそれぞれに発光する有機EL素子8R,8G,8Bにより得られた光を表示光として出力するようになっている。画素2R,2G,2Bから画素群4が構成されている。有機EL装置100では、画素群4において画素2R,2G,2Bのそれぞれの表示の輝度を適宜変えることで、種々の色の表示を行うことができる。   The pixel 2 includes an organic electroluminescence element (hereinafter referred to as an organic EL element) 8 as a display element, and the light obtained by the organic EL elements 8R, 8G, and 8B that emit light to R, G, and B, respectively. It is designed to output as display light. A pixel group 4 is composed of the pixels 2R, 2G, and 2B. In the organic EL device 100, various colors can be displayed by appropriately changing the display brightness of each of the pixels 2R, 2G, and 2B in the pixel group 4.

基板10上には、バンク部28が設けられている。バンク部28は、略格子状に形成されており、画素2のそれぞれの領域を区画している。画素2の領域は、例えば四隅が丸い四角形である。画素2の領域は、円形、長円形、またはその他の形状であってもよい。   A bank unit 28 is provided on the substrate 10. The bank part 28 is formed in a substantially lattice shape, and partitions each area of the pixel 2. The region of the pixel 2 is, for example, a quadrangle with rounded corners. The region of the pixel 2 may be circular, oval, or other shape.

次に、図2を参照して、有機EL装置100の回路構成を説明する。図2に示すように、有機EL装置100は、基板10上に画素2のそれぞれに対応して設けられた、スイッチング用TFT(薄膜トランジスタ)11,12と、保持容量13と、陽極として機能する画素電極24と、陰極として機能する共通電極36と、機能層としての有機機能層30と、を備えている。画素電極24と、共通電極36と、有機機能層30と、によって有機EL素子8が構成される。   Next, the circuit configuration of the organic EL device 100 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, the organic EL device 100 includes a switching TFT (thin film transistor) 11, 12, a storage capacitor 13, and a pixel functioning as an anode, which are provided on the substrate 10 corresponding to each pixel 2. The electrode 24, the common electrode 36 which functions as a cathode, and the organic functional layer 30 as a functional layer are provided. The pixel electrode 24, the common electrode 36, and the organic functional layer 30 constitute the organic EL element 8.

基板10上には、さらに、データ線駆動回路14と、走査線駆動回路15と、X軸方向に沿って延びる複数の走査線16と、Y軸方向に沿って延びる複数の信号線17と、信号線17に並列に延びる複数の電源線18と、が設けられている。なお、図1と同様に、X軸は画素2の行方向を示し、Y軸は画素2の列方向を示している。走査線駆動回路15には走査線16が接続されており、走査線16を介して走査信号がスイッチング用TFT11のゲート電極に供給される。   On the substrate 10, further, a data line driving circuit 14, a scanning line driving circuit 15, a plurality of scanning lines 16 extending along the X-axis direction, and a plurality of signal lines 17 extending along the Y-axis direction, A plurality of power supply lines 18 extending in parallel with the signal lines 17 are provided. As in FIG. 1, the X axis indicates the row direction of the pixels 2, and the Y axis indicates the column direction of the pixels 2. A scanning line 16 is connected to the scanning line driving circuit 15, and a scanning signal is supplied to the gate electrode of the switching TFT 11 via the scanning line 16.

一方、データ線駆動回路14には信号線17が接続されており、スイッチング用TFT11がオン状態になると、信号線17を介して供給される画像信号が保持容量13に保持され、この保持容量13の状態に応じてスイッチング用TFT12のオン・オフ状態が決まる。そして、スイッチング用TFT12を介して電源線18に電気的に接続したとき、電源線18から画素電極24に駆動電流が流れ、さらに有機機能層30を通じて共通電極36に電流が流れる。有機機能層30は、画素電極24と共通電極36との間に流れる電流量に応じた輝度で発光する。   On the other hand, a signal line 17 is connected to the data line driving circuit 14, and when the switching TFT 11 is turned on, an image signal supplied via the signal line 17 is held in the holding capacitor 13. Depending on the state, the on / off state of the switching TFT 12 is determined. When electrically connected to the power supply line 18 via the switching TFT 12, a drive current flows from the power supply line 18 to the pixel electrode 24, and further a current flows to the common electrode 36 through the organic functional layer 30. The organic functional layer 30 emits light with a luminance corresponding to the amount of current flowing between the pixel electrode 24 and the common electrode 36.

次に、図3を参照して、有機EL装置100の構造を説明する。有機EL装置100は、有機機能層30から発した光が基板10側に射出されるボトムエミッション方式である。なお、図3では、画素電極24を駆動するためのスイッチング用TFT12を有するTFT素子部20と回路層22とを示すが、それ以外の素子、配線、接続部等の詳細は省略する。   Next, the structure of the organic EL device 100 will be described with reference to FIG. The organic EL device 100 is a bottom emission method in which light emitted from the organic functional layer 30 is emitted to the substrate 10 side. In FIG. 3, the TFT element portion 20 having the switching TFT 12 for driving the pixel electrode 24 and the circuit layer 22 are shown, but details of other elements, wiring, connection portions, and the like are omitted.

有機EL装置100は、基板10上に、TFT素子部20と、回路層22と、画素電極24と、バンク部28と、有機機能層30と、共通電極36と、封止層38と、を備えている。   The organic EL device 100 includes a TFT element unit 20, a circuit layer 22, a pixel electrode 24, a bank unit 28, an organic functional layer 30, a common electrode 36, and a sealing layer 38 on a substrate 10. I have.

基板10は、透光性を有する材料からなる。透光性を有する材料としては、例えばガラス、石英、樹脂(プラスチック、プラスチックフィルム)等があげられる。   The substrate 10 is made of a light-transmitting material. Examples of the light-transmitting material include glass, quartz, and resin (plastic and plastic film).

TFT素子部20は、画素2のそれぞれに対応して設けられており、画素2のそれぞれの領域に重ならないように配置されている。   The TFT element portion 20 is provided corresponding to each of the pixels 2 and is disposed so as not to overlap each region of the pixel 2.

画素電極24は、回路層22上に画素2のそれぞれに対応して形成されている。画素電極24は、例えば、四角形であり、画素2の領域よりも一回り大きな領域を有している。画素電極24は、画素2と同じ形状であってもよい。画素電極24は、透光性導電材料からなり、例えばITO(Indium Tin Oxide)からなる。画素電極24は、回路層22に設けられたコンタクトホールを介してTFT素子部20に接続されている。   The pixel electrode 24 is formed on the circuit layer 22 so as to correspond to each of the pixels 2. The pixel electrode 24 is, for example, a quadrangle, and has a region that is slightly larger than the region of the pixel 2. The pixel electrode 24 may have the same shape as the pixel 2. The pixel electrode 24 is made of a translucent conductive material, for example, ITO (Indium Tin Oxide). The pixel electrode 24 is connected to the TFT element unit 20 through a contact hole provided in the circuit layer 22.

バンク部28は、回路層22上に形成されている。バンク部28は、無機バンク層26と有機バンク層27とが積層されて構成されている。無機バンク層26は、画素2に対応した複数の開口部26aを有している。無機バンク層26は、開口部26aの周囲に沿って画素電極24の周縁部に所定幅で重なる部分を有している。無機バンク層26は、例えばSiO2等の無機材料からなる。無機バンク層26の膜厚は、例えば50nm〜200nmである。 The bank unit 28 is formed on the circuit layer 22. The bank unit 28 is configured by laminating an inorganic bank layer 26 and an organic bank layer 27. The inorganic bank layer 26 has a plurality of openings 26 a corresponding to the pixels 2. The inorganic bank layer 26 has a portion that overlaps the peripheral edge of the pixel electrode 24 with a predetermined width along the periphery of the opening 26a. The inorganic bank layer 26 is made of an inorganic material such as SiO 2 . The film thickness of the inorganic bank layer 26 is, for example, 50 nm to 200 nm.

有機バンク層27は、無機バンク層26と同様に、画素2に対応した複数の開口部27aを有している。開口部27aは無機バンク層26の開口部26aよりも広くなっている。有機バンク層27は、画素電極24の周縁部に重なっていてもよい。有機バンク層27は、例えばアクリル樹脂等の有機材料からなる。有機バンク層27は、フッ素系樹脂等の撥液性を有する材料で構成されていてもよい。有機バンク層27の膜厚は、例えば0.1μm〜3.5μmである。   Similar to the inorganic bank layer 26, the organic bank layer 27 has a plurality of openings 27 a corresponding to the pixels 2. The opening 27 a is wider than the opening 26 a of the inorganic bank layer 26. The organic bank layer 27 may overlap the peripheral edge of the pixel electrode 24. The organic bank layer 27 is made of an organic material such as acrylic resin. The organic bank layer 27 may be made of a material having liquid repellency such as a fluorine resin. The film thickness of the organic bank layer 27 is, for example, 0.1 μm to 3.5 μm.

なお、バンク部28は無機バンク層26を有する構成に限定されない。しかしながら、有機機能層30を形成する液状体との親液性を高め、有機機能層30がバンク部28近傍まで形成されることによって画素電極24と共通電極36との短絡を防止するため、バンク部28が無機バンク層26を有する構成であることが好ましい。   The bank unit 28 is not limited to the configuration having the inorganic bank layer 26. However, in order to increase the lyophilicity with the liquid forming the organic functional layer 30 and prevent the short circuit between the pixel electrode 24 and the common electrode 36 by forming the organic functional layer 30 to the vicinity of the bank portion 28, the bank It is preferable that the portion 28 has the inorganic bank layer 26.

有機機能層30は、バンク部28で囲まれた画素2のそれぞれの領域に形成され、画素電極24上に位置している。有機機能層30は、順に積層された正孔注入輸送層32と発光層34とで構成されている。有機機能層30では、正孔注入輸送層32から注入される正孔と、共通電極36から注入される電子とが発光層34で再結合することにより発光が得られる。発光層34は、R、G、Bのそれぞれに発光する発光層34R,34G,34B(対応する色について区別しない場合には単に発光層34とも呼ぶ)の3種類を有しており、それぞれ画素2R,2G,2Bに対応している。   The organic functional layer 30 is formed in each region of the pixel 2 surrounded by the bank unit 28 and is located on the pixel electrode 24. The organic functional layer 30 includes a hole injection transport layer 32 and a light emitting layer 34 that are sequentially stacked. In the organic functional layer 30, light emission is obtained by recombination of holes injected from the hole injection transport layer 32 and electrons injected from the common electrode 36 in the light emitting layer 34. The light emitting layer 34 has three types of light emitting layers 34R, 34G, and 34B that emit light to each of R, G, and B (also simply referred to as the light emitting layer 34 when the corresponding colors are not distinguished). It corresponds to 2R, 2G, 2B.

正孔注入輸送層32の材料は、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体を用いることができる。正孔注入輸送層32の材料は、ポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸(PSS)等の混合物であってもよいし、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体であってもよい。正孔注入輸送層32の膜厚は、例えば50nm〜70nmである。   As the material of the hole injecting and transporting layer 32, for example, a polythiophene derivative such as polyethylene dioxythiophene (PEDOT) can be used. The material of the hole injecting and transporting layer 32 may be a mixture of a polythiophene derivative and polystyrene sulfonic acid (PSS), or may be polystyrene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, or a derivative thereof. The film thickness of the hole injection transport layer 32 is, for example, 50 nm to 70 nm.

発光層34の材料は、R、G、Bに発光する(ポリ)フルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、PEDOT等のポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)等を用いることができる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いてもよい。発光層34の膜厚は、例えば50nm〜80nmである。   The material of the light emitting layer 34 is (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinyl which emits light to R, G, and B. Polythiophene derivatives such as carbazole (PVK) and PEDOT, polymethylphenylsilane (PMPS), and the like can be used. Further, these polymer materials include polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, nile red, coumarin 6, quinacridone. For example, a low molecular material such as the like may be doped. The film thickness of the light emitting layer 34 is, for example, 50 nm to 80 nm.

なお、有機機能層30は、正孔注入輸送層32と発光層34とのほかに電子注入輸送層を備えた構成であってもよい。   The organic functional layer 30 may have a configuration including an electron injecting and transporting layer in addition to the hole injecting and transporting layer 32 and the light emitting layer 34.

共通電極36は、バンク部28と有機機能層30との全体を覆うように形成されている。共通電極36は、図示しないが、例えば、膜厚2nm〜5nmのLiF層と、膜厚100nm〜1000nmのAl層と、が順に積層され構成されている。この構成により、共通電極36は電子注入層および反射層を兼ねている。   The common electrode 36 is formed so as to cover the entire bank portion 28 and the organic functional layer 30. Although not shown, the common electrode 36 is configured by, for example, sequentially laminating a LiF layer having a thickness of 2 nm to 5 nm and an Al layer having a thickness of 100 nm to 1000 nm. With this configuration, the common electrode 36 also serves as an electron injection layer and a reflection layer.

共通電極36は、封止層38に覆われている。封止層38は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、液状ガラス等からなり、さらにガラス、金属、樹脂フィルム、プラスチック、その他の封止部材を積層接着してもよい。   The common electrode 36 is covered with a sealing layer 38. The sealing layer 38 is made of epoxy resin, acrylic resin, liquid glass, or the like, and glass, metal, resin film, plastic, or other sealing members may be laminated and bonded.

本実施形態の有機EL装置100においては、有機機能層30から基板10側に発した光が基板10側に射出されるとともに、有機機能層30から共通電極36側に発した光が共通電極36により反射されて、基板10側に射出される。   In the organic EL device 100 of the present embodiment, light emitted from the organic functional layer 30 to the substrate 10 side is emitted to the substrate 10 side, and light emitted from the organic functional layer 30 to the common electrode 36 side is emitted from the common electrode 36. And is emitted to the substrate 10 side.

有機EL装置100は、有機機能層30から発した光が封止層38側に射出されるトップエミッション方式の有機EL装置であってもよい。有機EL装置100がトップエミッション方式である場合、基板10は透明な材料および不透明な材料のいずれを用いてもよい。TFT素子部20は、画素2のそれぞれの領域に重なっていてもよい。また、トップエミッション方式である場合、共通電極36には透光性を有する導電材料が用いられ、封止層38には透光性を有する材料が用いられる。   The organic EL device 100 may be a top emission type organic EL device in which light emitted from the organic functional layer 30 is emitted to the sealing layer 38 side. When the organic EL device 100 is a top emission method, the substrate 10 may use either a transparent material or an opaque material. The TFT element unit 20 may overlap each region of the pixel 2. In the case of the top emission method, a light-transmitting conductive material is used for the common electrode 36, and a light-transmitting material is used for the sealing layer 38.

<有機EL装置の製造方法>
次に、第1の実施形態に係る有機EL装置の製造方法について図を参照して説明する。図4は、第1の実施形態に係る有機EL装置の製造方法を説明するフローチャートである。図5は、液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図である。図6は、乾燥工程における蒸気圧の分布を示すグラフである。
<Method for manufacturing organic EL device>
Next, a method for manufacturing the organic EL device according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a flowchart illustrating a method for manufacturing the organic EL device according to the first embodiment. FIG. 5 is a plan view and a cross-sectional view for explaining the liquid material arranging step and the drying step. FIG. 6 is a graph showing the distribution of vapor pressure in the drying process.

図4に示すように、有機EL装置の製造方法は、回路層形成工程S10と、画素電極形成工程S20と、バンク部形成工程S30と、有機機能層30を形成する正孔注入輸送層形成工程S40と発光層形成工程S50と、共通電極形成工程S60と、封止層形成工程S70と、を含んでいる。   As shown in FIG. 4, the organic EL device manufacturing method includes a circuit layer forming step S10, a pixel electrode forming step S20, a bank part forming step S30, and a hole injection transport layer forming step for forming the organic functional layer 30. S40, the light emitting layer forming step S50, the common electrode forming step S60, and the sealing layer forming step S70 are included.

回路層形成工程S10では、基板10上に、TFT素子部20等を含む回路層22を形成する。次に、画素電極形成工程S20では、回路層22上に画素電極24を形成する。回路層22および画素電極24を形成する方法は、公知の方法を適用すればよい。画素電極24は、TFT素子部20に接続されるようにする。   In the circuit layer forming step S <b> 10, the circuit layer 22 including the TFT element unit 20 and the like is formed on the substrate 10. Next, in the pixel electrode formation step S <b> 20, the pixel electrode 24 is formed on the circuit layer 22. As a method for forming the circuit layer 22 and the pixel electrode 24, a known method may be applied. The pixel electrode 24 is connected to the TFT element unit 20.

次に、バンク部形成工程S30では、回路層22上に無機バンク層26を形成し、無機バンク層26上に有機バンク層27を形成する。これにより、バンク部28が形成される。続いて、次の正孔注入輸送層形成工程S40に先立って、画素電極24と無機バンク層26との表面にO2プラズマ処理等の親液化処理を施す。この処理により、有機機能層30の材料を含む液状体と無機バンク層26との親液性が高められるので、有機機能層30を無機バンク層26近傍まで形成することで、画素電極24と共通電極36との短絡を防止できる。また、有機バンク層27の表面にCF4プラズマ処理等の撥液化処理を施す。 Next, in the bank part forming step S <b> 30, the inorganic bank layer 26 is formed on the circuit layer 22, and the organic bank layer 27 is formed on the inorganic bank layer 26. Thereby, the bank part 28 is formed. Subsequently, prior to the next hole injection / transport layer forming step S40, the surface of the pixel electrode 24 and the inorganic bank layer 26 is subjected to lyophilic treatment such as O 2 plasma treatment. By this treatment, the lyophilicity between the liquid containing the material of the organic functional layer 30 and the inorganic bank layer 26 is improved. Therefore, the organic functional layer 30 is formed up to the vicinity of the inorganic bank layer 26, so A short circuit with the electrode 36 can be prevented. Further, the surface of the organic bank layer 27 is subjected to lyophobic treatment such as CF 4 plasma treatment.

次に、正孔注入輸送層形成工程S40では、画素電極24上に正孔注入輸送層32を形成する。この工程は、第1の液状体吐出工程と、第2の液状体吐出工程と、乾燥工程と、を含んでいる。第1の液状体吐出工程は、基板10の画素電極24上に、第1の液状体としての液状体33(図5参照)を吐出する工程である。乾燥工程は、部材としての対向部材40(図5参照)を用いて液状体33を乾燥させる工程である。第2の液状体吐出工程は、対向部材40上に第2の液状体としての液状体44(図5参照)を吐出する工程である。   Next, in the hole injection / transport layer forming step S <b> 40, the hole injection / transport layer 32 is formed on the pixel electrode 24. This process includes a first liquid discharge process, a second liquid discharge process, and a drying process. The first liquid material discharge step is a step of discharging the liquid material 33 (see FIG. 5) as the first liquid material onto the pixel electrode 24 of the substrate 10. The drying step is a step of drying the liquid 33 using the facing member 40 (see FIG. 5) as a member. The second liquid material discharge step is a step of discharging the liquid material 44 (see FIG. 5) as the second liquid material onto the facing member 40.

正孔注入輸送層形成工程S40の各工程について説明する前に、まず、対向部材40の構成について説明する。図5(a)は対向部材40を示す図であり、図5(b)は有機EL装置100の基板10を示す図である。また、図5(c)は、乾燥工程における基板10と対向部材40との配置を示す図であり、詳しくは、図5(a)および(b)のB−B’線に沿った断面を示している。なお、ここでは、説明に必要な構成要素のみを図示し、それらの形状を簡略化して示してある。   Before describing each step of the hole injecting and transporting layer forming step S40, first, the configuration of the facing member 40 will be described. FIG. 5A is a diagram illustrating the facing member 40, and FIG. 5B is a diagram illustrating the substrate 10 of the organic EL device 100. FIG. 5C is a diagram showing the arrangement of the substrate 10 and the counter member 40 in the drying process. Specifically, the cross section along the line BB ′ in FIGS. 5A and 5B is shown. Show. Here, only components necessary for the description are illustrated, and their shapes are simplified.

図5(a)に示すように、対向部材40は、平面を有する板状の材料からなる。対向部材40の材料は、基板10と同じ材料であってもよいし、透光性を有していない樹脂板や金属板等であってもよい。対向部材40は、少なくとも基板10上の表示領域Eよりも大きな表面を有している。対向部材40の表面上には、基板10上の表示領域Eと略同一の形状および面積を有する領域E’の周囲を囲むように、複数の液受容領域6が配置されている。本実施形態では、液受容領域6のそれぞれは、基板10上の表示領域Eに配置された画素2の行方向および列方向のそれぞれに沿って、画素2の配置ピッチと略同一の配置ピッチで一列に配置されている。   As shown to Fig.5 (a), the opposing member 40 consists of a plate-shaped material which has a plane. The material of the facing member 40 may be the same material as the substrate 10 or may be a resin plate or a metal plate that does not have translucency. The facing member 40 has a surface that is at least larger than the display area E on the substrate 10. On the surface of the opposing member 40, a plurality of liquid receiving regions 6 are arranged so as to surround a region E ′ having substantially the same shape and area as the display region E on the substrate 10. In the present embodiment, each of the liquid receiving regions 6 has an arrangement pitch substantially the same as the arrangement pitch of the pixels 2 along the row direction and the column direction of the pixels 2 arranged in the display region E on the substrate 10. Arranged in a row.

対向部材40の表面上には、液受容領域6のそれぞれの領域を区画するバンク部42が設けられている。バンク部42の開口部の形状、すなわち液受容領域6の領域の形状は、画素2の領域の形状と略同一である。また、液受容領域6の領域の面積は、画素2の領域の面積と略同一である。対向部材40の表面は、親液化処理等により、バンク部42の開口部において良好な親液性を有している。なお、対向部材40の表面上にバンク部42を設けない構成であってもよいし、吐出された液状体44が液受容領域6から広がるのを防止するため、対向部材40の表面上にバンク部42が設けられていることが好ましい。   On the surface of the facing member 40, bank portions 42 that partition the respective regions of the liquid receiving region 6 are provided. The shape of the opening of the bank portion 42, that is, the shape of the region of the liquid receiving region 6 is substantially the same as the shape of the region of the pixel 2. Further, the area of the liquid receiving region 6 is substantially the same as the area of the pixel 2 region. The surface of the facing member 40 has good lyophilicity at the opening of the bank part 42 by lyophilic treatment or the like. The bank part 42 may not be provided on the surface of the opposing member 40, and the bank 44 may be provided on the surface of the opposing member 40 in order to prevent the discharged liquid material 44 from spreading from the liquid receiving region 6. It is preferable that the part 42 is provided.

次に、第1の液状体吐出工程および第2の液状体吐出工程について説明する。第1の液状体吐出工程では、図5(b)に示すように、液滴吐出法としてのインクジェット法により、画素2のそれぞれの領域に液状体33を吐出する。液状体33は、正孔注入輸送層32の構成材料として、例えばPEDOTを重量比で0.5%程度含んでおり、第1の溶媒として、例えばエチレングリコールを含んでいる。第2の液状体吐出工程では、図5(a)に示すように、液滴吐出法としてのインクジェット法により、液受容領域6のそれぞれの領域に液状体44を吐出する。液状体44は、液状体33と略同一の構成を有している。   Next, the first liquid discharge process and the second liquid discharge process will be described. In the first liquid material discharge step, as shown in FIG. 5B, the liquid material 33 is discharged to each region of the pixel 2 by an inkjet method as a droplet discharge method. The liquid 33 contains, for example, about 0.5% by weight of PEDOT as a constituent material of the hole injection / transport layer 32, and contains, for example, ethylene glycol as the first solvent. In the second liquid material discharge step, as shown in FIG. 5A, the liquid material 44 is discharged to each region of the liquid receiving region 6 by an ink jet method as a droplet discharge method. The liquid material 44 has substantially the same configuration as the liquid material 33.

ここで、本実施形態では、液受容領域6のそれぞれの単位面積当たりに吐出される液状体44の量は、画素2のそれぞれの領域の単位面積当たりに吐出される液状体33の量よりも多いものとする。なお、第1の液状体吐出工程と第2の液状体吐出工程とは、どちらか一方の工程を先に行ってもよいし、両方の工程を並行して行ってもよい。   Here, in this embodiment, the amount of the liquid material 44 discharged per unit area of the liquid receiving region 6 is larger than the amount of the liquid material 33 discharged per unit area of each region of the pixel 2. Many. In addition, either a 1st liquid body discharge process and a 2nd liquid body discharge process may be performed first, and both processes may be performed in parallel.

第1の液状体吐出工程および第2の液状体吐出工程の後に、乾燥工程を行う。乾燥工程では、図5(c)に示すように、基板10の液状体33が吐出された面と対向部材40の液状体44が吐出された面とを対向させて配置し、液状体33と液状体44とを乾燥させる。より具体的には、基板10を重力方向の下方側に配置し、対向部材40を重力方向の上方側に配置する。また、対向部材40を、基板10上の表示領域Eと対向部材40上の領域E’とが平面視で重なるように、すなわち、基板10上の表示領域Eに配置された画素2の周囲が液受容領域6で囲まれるように配置する。   A drying process is performed after a 1st liquid body discharge process and a 2nd liquid body discharge process. In the drying step, as shown in FIG. 5C, the surface of the substrate 10 from which the liquid material 33 is discharged and the surface of the counter member 40 from which the liquid material 44 is discharged are arranged to face each other. The liquid 44 is dried. More specifically, the substrate 10 is disposed on the lower side in the gravity direction, and the opposing member 40 is disposed on the upper side in the gravity direction. Further, the counter member 40 is arranged such that the display area E on the substrate 10 and the area E ′ on the counter member 40 overlap in plan view, that is, the periphery of the pixel 2 arranged in the display area E on the substrate 10 is It arrange | positions so that it may be enclosed by the liquid receiving area | region 6. FIG.

このとき、基板10の表面と対向部材40の表面との間に、空隙Dを隔てるものとする。空隙Dは、例えば4mm以下であり、可能な限り小さいことが好ましい。空隙Dが4mmよりも大きいと、液状体44から蒸発する溶媒分子により表示領域Eの周辺部における液状体33の溶媒の蒸発を抑える効果が減少するからである。なお、対向部材40を、このように液状体44が重力方向下方を向いた状態で配置しても、対向部材40の表面が良好な親液性を有しているので、液状体44はその表面張力により対向部材40から離脱せず落下しない。   At this time, the gap D is separated between the surface of the substrate 10 and the surface of the facing member 40. The space | gap D is 4 mm or less, for example, and it is preferable that it is as small as possible. This is because if the gap D is larger than 4 mm, the effect of suppressing the evaporation of the solvent of the liquid material 33 in the peripheral portion of the display area E by the solvent molecules evaporated from the liquid material 44 decreases. Even if the facing member 40 is arranged in such a state that the liquid material 44 is directed downward in the direction of gravity, the surface of the facing member 40 has good lyophilicity. It does not detach from the facing member 40 due to surface tension and does not fall.

次に、図6を参照して、乾燥工程における蒸気圧の分布ついて説明する。図6(a)は、対向部材40において、液状体44から蒸発する溶媒の蒸気圧の分布を示す図である。図6(b)は、基板10において、液状体33から蒸発する溶媒の蒸気圧の分布を示す図である。図6(c)は、基板10と対向部材40とを対向配置した状態において、液状体33および液状体44から蒸発する溶媒の蒸気圧の分布を示す図である。また、図6(a),(b),(c)のいずれも、図5(a)および(b)のB−B’線に沿った断面における蒸気圧の分布を示している。   Next, the vapor pressure distribution in the drying process will be described with reference to FIG. FIG. 6A is a diagram showing the vapor pressure distribution of the solvent evaporating from the liquid material 44 in the facing member 40. FIG. 6B is a diagram showing the distribution of vapor pressure of the solvent evaporating from the liquid material 33 in the substrate 10. FIG. 6C is a diagram illustrating a distribution of vapor pressures of the solvent evaporating from the liquid 33 and the liquid 44 in a state where the substrate 10 and the facing member 40 are disposed to face each other. 6A, 6B, and 6C show the vapor pressure distribution in the cross section along the line B-B 'in FIGS. 5A and 5B.

図6(b)に示すように、基板10においては、表示領域E内の画素2の領域に吐出された液状体33から蒸発する溶媒分子が存在する。一方、図6(a)に示すように、対向部材40においては、領域E’の周囲を囲むように、液受容領域6の領域に吐出された液状体44から蒸発する溶媒分子が存在する。したがって、図6(c)に示すように、基板10の液状体33が吐出された面と対向部材40の液状体44が吐出された面とを対向配置した状態では、液状体33から蒸発する溶媒分子の周囲に、液状体44から蒸発する溶媒分子が存在する。これにより、表示領域Eの周辺部における液状体33の溶媒の蒸発が抑えられるので、表示領域Eの周辺部と中央部とで液状体33の乾燥速度のバラツキが抑えられる。この結果、表示領域E内に形成される正孔注入輸送層32の画素2間での膜厚ムラを抑えることができる。   As shown in FIG. 6B, in the substrate 10, there are solvent molecules that evaporate from the liquid material 33 that is ejected to the area of the pixel 2 in the display area E. On the other hand, as shown in FIG. 6A, in the facing member 40, there are solvent molecules that evaporate from the liquid 44 discharged to the liquid receiving region 6 so as to surround the region E ′. Therefore, as shown in FIG. 6C, in a state where the surface of the substrate 10 from which the liquid material 33 is discharged and the surface of the counter member 40 from which the liquid material 44 is discharged are disposed opposite to each other, the liquid material 33 evaporates. Solvent molecules that evaporate from the liquid 44 exist around the solvent molecules. Thereby, since evaporation of the solvent of the liquid 33 in the periphery of the display area E is suppressed, variation in the drying speed of the liquid 33 is suppressed between the periphery and the center of the display area E. As a result, film thickness unevenness between the pixels 2 of the hole injection transport layer 32 formed in the display region E can be suppressed.

また、液受容領域6の単位面積当たりに吐出される液状体44の量は、画素2の領域の単位面積当たりに吐出される液状体33の量よりも多いので、図6(c)に示すように、対向部材40の領域E’(表示領域E)の周囲における溶媒分子の蒸気圧は、基板10の表示領域E内における溶媒分子の蒸気圧よりも大きい。そして、液状体33が乾燥するまで、表示領域Eの周囲に液状体44から蒸発する溶媒分子が存在するので、表示領域Eの周辺部と中央部とで液状体33の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。以上の正孔注入輸送層形成工程S40により、画素2の領域に正孔注入輸送層32が形成される。   Further, since the amount of the liquid material 44 ejected per unit area of the liquid receiving region 6 is larger than the amount of the liquid material 33 ejected per unit area of the pixel 2 region, it is shown in FIG. As described above, the vapor pressure of the solvent molecules around the region E ′ (display region E) of the facing member 40 is larger than the vapor pressure of the solvent molecules in the display region E of the substrate 10. Since the solvent molecules evaporate from the liquid material 44 exist around the display area E until the liquid material 33 is dried, the variation in the drying speed of the liquid material 33 is further increased between the peripheral portion and the central portion of the display region E. It can be kept small. Through the hole injection / transport layer formation step S40 described above, the hole injection / transport layer 32 is formed in the region of the pixel 2.

なお、乾燥工程において、基板10と対向部材40とを、基板10および対向部材40の互いに対向する面が重力方向に沿うように配置してもよい。基板10と対向部材40とをこのように配置すれば、対向部材40の基板10に対向する面に付着した異物が落下した場合に、その異物が基板10の表面に付着するのを回避できる。   In the drying step, the substrate 10 and the facing member 40 may be arranged so that the mutually facing surfaces of the substrate 10 and the facing member 40 are along the direction of gravity. If the substrate 10 and the facing member 40 are arranged in this way, it is possible to prevent the foreign matter from adhering to the surface of the substrate 10 when the foreign matter attached to the surface of the facing member 40 facing the substrate 10 falls.

次に、発光層形成工程S50では、正孔注入輸送層32上に発光層34を形成する。この工程は、正孔注入輸送層形成工程S40と同様に、第1の液状体吐出工程と、第2の液状体吐出工程と、乾燥工程と、を含んでいる。発光層形成工程S50では、液状体33が正孔注入輸送層32の構成材料と溶媒との代わりに発光層34の構成材料と溶媒とを含んでいる点が異なるが、それ以外は正孔注入輸送層形成工程S40と共通するので、共通する事項についての説明を省略する。   Next, in the light emitting layer forming step S <b> 50, the light emitting layer 34 is formed on the hole injecting and transporting layer 32. This step includes a first liquid discharge step, a second liquid discharge step, and a drying step, similar to the hole injection transport layer formation step S40. The light emitting layer forming step S50 is different in that the liquid 33 contains the constituent material and the solvent of the light emitting layer 34 instead of the constituent material and the solvent of the hole injection and transport layer 32. Since it is common with transport layer formation process S40, description about a common matter is abbreviate | omitted.

発光層形成工程S50では、液状体33は、発光層34の構成材料として例えばPF発光材料を含んでおり、溶媒として例えばテトラリンを含んでいる。液状体44は、液状体33と略同一の構成を有している。   In the light emitting layer forming step S50, the liquid 33 includes, for example, a PF light emitting material as a constituent material of the light emitting layer 34, and includes, for example, tetralin as a solvent. The liquid material 44 has substantially the same configuration as the liquid material 33.

発光層形成工程S50においても、正孔注入輸送層32と同様に、発光層34の画素2間での膜厚ムラを抑えることができる。上述の正孔注入輸送層形成工程S40と発光層形成工程S50とにより、表示領域E内で膜厚ムラを抑えて有機機能層30を形成することができる。   Also in the light emitting layer forming step S50, similarly to the hole injecting and transporting layer 32, the film thickness unevenness between the pixels 2 of the light emitting layer 34 can be suppressed. By the hole injection transport layer forming step S40 and the light emitting layer forming step S50 described above, the organic functional layer 30 can be formed while suppressing the film thickness unevenness in the display region E.

次の共通電極形成工程S60では、有機機能層30とバンク部28とを覆うように共通電極36を形成する。共通電極36を形成する方法は、例えば蒸着法を適用する。最後に、封止層形成工程S70では、共通電極36上に封止層38を形成する。以上により、有機EL装置100を製造することができる。   In the next common electrode forming step S <b> 60, the common electrode 36 is formed so as to cover the organic functional layer 30 and the bank portion 28. As a method for forming the common electrode 36, for example, an evaporation method is applied. Finally, in the sealing layer forming step S70, the sealing layer 38 is formed on the common electrode 36. Thus, the organic EL device 100 can be manufactured.

以上の有機EL装置100の製造方法によれば、表示に寄与する表示領域Eに配置された画素2の領域に形成される有機機能層30の膜厚ムラが抑えられるので、表示ムラのない有機EL装置100を提供できる。また、表示に寄与しないダミー画素が配置された非表示領域を基板10上に設けることなく、表示領域E内で有機機能層30の膜厚ムラが抑えられるので、有機EL装置100の表示に寄与する表示領域Eの相対面積を非表示領域を設ける場合に比べて大きくできる。   According to the manufacturing method of the organic EL device 100 described above, the unevenness of the film thickness of the organic functional layer 30 formed in the region of the pixel 2 arranged in the display region E that contributes to display can be suppressed. The EL device 100 can be provided. In addition, since the non-display area in which the dummy pixels that do not contribute to the display are arranged is not provided on the substrate 10, the film thickness unevenness of the organic functional layer 30 can be suppressed in the display area E, which contributes to the display of the organic EL device 100. The relative area of the display area E to be made can be made larger than when a non-display area is provided.

有機EL装置100の製造工程においては、非表示領域を必要としないので、ダミー画素に配置された液状体が溢れて表示領域に広がってしまうことによる製造歩留り低下を回避できる。また、乾燥工程では、基板10に対向部材40を対向させる簡易な構成により、表示領域E内で有機機能層30の膜厚ムラを抑えて乾燥を行うことができる。   In the manufacturing process of the organic EL device 100, since a non-display area is not required, it is possible to avoid a decrease in manufacturing yield due to the liquid material arranged in the dummy pixels overflowing and spreading into the display area. Further, in the drying process, it is possible to perform drying while suppressing the uneven thickness of the organic functional layer 30 in the display region E with a simple configuration in which the facing member 40 is opposed to the substrate 10.

なお、有機EL装置100の表示領域Eの周囲に、ダミー画素が配置された非表示領域を設けてもよい。本実施形態の有機EL装置100の製造方法によれば、有機EL装置100に非表示領域を設ける場合、非表示領域を従来より小さくすることができる。また、対向部材40は、領域E’内に開口部を有する「ロ」の字形状であってもよい。対向部材40がこのような形状であると、乾燥工程において、基板10上の表示領域Eが対向部材40によって遮られずに雰囲気に開放されるので、液状体33の乾燥を早めることができる。あるいは、対向部材40において、領域E’内に液受容領域6が配置されていてもよい。ただし、この場合、領域E’内に吐出する液状体44の量を、領域E’の周囲に吐出する液状体44の量よりも少なくするとともに、領域E’内に吐出された液状体44と液状体33とが互いに接触しないように、基板10と対向部材40とを対向させることが好ましい。   A non-display area where dummy pixels are arranged may be provided around the display area E of the organic EL device 100. According to the method for manufacturing the organic EL device 100 of the present embodiment, when providing a non-display region in the organic EL device 100, the non-display region can be made smaller than before. Further, the opposing member 40 may have a “B” shape having an opening in the region E ′. When the facing member 40 has such a shape, the display area E on the substrate 10 is opened to the atmosphere without being blocked by the facing member 40 in the drying process, so that the drying of the liquid 33 can be accelerated. Alternatively, in the facing member 40, the liquid receiving region 6 may be disposed in the region E ′. However, in this case, the amount of the liquid material 44 discharged into the region E ′ is smaller than the amount of the liquid material 44 discharged around the region E ′, and the liquid material 44 discharged into the region E ′ It is preferable that the substrate 10 and the facing member 40 face each other so that the liquid material 33 does not contact each other.

(第2の実施形態)
<有機EL装置の製造方法>
次に、第2の実施形態に係る有機EL装置の製造方法について図を参照して説明する。第2の実施形態に係る有機EL装置は、第1の実施形態の有機EL装置と同様の構成を有している。第2の実施形態に係る有機EL装置の製造方法は、第1の実施形態で説明した製造工程と同じ工程からなる。本実施形態では、第1の実施形態に係る有機EL装置の製造方法に対して、液状体の乾燥工程で複数の対向部材を用いる点が異なるが、その他の方法は同じである。図7は、第2の実施形態に係る乾燥工程を説明する平面図および断面図である。第1の実施形態と共通する構成要素については同一の符号を付しその説明を省略する。
(Second Embodiment)
<Method for manufacturing organic EL device>
Next, a method for manufacturing an organic EL device according to the second embodiment will be described with reference to the drawings. The organic EL device according to the second embodiment has the same configuration as the organic EL device of the first embodiment. The manufacturing method of the organic EL device according to the second embodiment includes the same steps as the manufacturing steps described in the first embodiment. This embodiment is different from the method for manufacturing the organic EL device according to the first embodiment in that a plurality of opposing members are used in the liquid drying process, but the other methods are the same. FIG. 7 is a plan view and a cross-sectional view illustrating a drying process according to the second embodiment. Constituent elements common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

図7(a)に示すように、複数の対向部材40a,40b,40c,40dは、それぞれ基板10の外周の4辺に対応している。対向部材40a,40b,40c,40dのそれぞれには、液受容領域6が画素2の配置ピッチと略同一の配置ピッチで一列に配置されている。   As shown in FIG. 7A, the plurality of facing members 40a, 40b, 40c, and 40d correspond to the four sides of the outer periphery of the substrate 10, respectively. In each of the facing members 40 a, 40 b, 40 c, and 40 d, the liquid receiving regions 6 are arranged in a line at an arrangement pitch that is substantially the same as the arrangement pitch of the pixels 2.

図7(c)に示すように、乾燥工程においては、複数の対向部材40a,40b,40c,40dを基板10に対向配置して、基板10上の液状体33と対向部材40a,40b,40c,40d上の液状体44とを乾燥させる。このとき、対向部材40a,40b,40c,40dのそれぞれを、基板10の外周の4辺の周囲に、液状体44が吐出された面が重力方向に沿って位置するように配置する。これにより、基板10上の表示領域Eに配置された画素2の周囲が液受容領域6で囲まれる。   As shown in FIG. 7C, in the drying process, a plurality of facing members 40a, 40b, 40c, and 40d are arranged to face the substrate 10, and the liquid 33 on the substrate 10 and the facing members 40a, 40b, and 40c. , 40d is dried. At this time, each of the facing members 40a, 40b, 40c, and 40d is disposed around the four sides of the outer periphery of the substrate 10 so that the surface on which the liquid material 44 is discharged is positioned along the direction of gravity. Thereby, the periphery of the pixel 2 arranged in the display area E on the substrate 10 is surrounded by the liquid receiving area 6.

第2の実施形態の製造方法によれば、乾燥工程において、複数の対向部材40a,40b,40c,40dを用いるので、基板10上の表示領域Eに対して対向部材40a,40b,40c,40dのそれぞれの配置を個別に調整できる。そして、基板10上の表示領域Eが対向部材40a,40b,40c,40dによって遮られずに雰囲気に開放されるので、液状体33の乾燥を早めることができる。さらに、対向部材40a,40b,40c,40dの液状体44が吐出された面に付着した異物が落下しても、その異物が基板10の表面に付着するのを回避できる。   According to the manufacturing method of the second embodiment, since the plurality of facing members 40a, 40b, 40c, and 40d are used in the drying process, the facing members 40a, 40b, 40c, and 40d with respect to the display region E on the substrate 10 are used. The arrangement of each can be adjusted individually. Since the display area E on the substrate 10 is opened to the atmosphere without being blocked by the facing members 40a, 40b, 40c, and 40d, the drying of the liquid 33 can be accelerated. Furthermore, even if the foreign matter adhering to the surface on which the liquid material 44 of the opposing members 40a, 40b, 40c, and 40d is dropped, the foreign matter can be prevented from adhering to the surface of the substrate 10.

また、対向部材40a,40b,40c,40d上に液状体44を吐出する際、対向部材40a,40b,40c,40dを基板10の周囲に配置すれば、基板10上に液状体33の吐出を行う第1の液状体吐出工程において、対向部材40a,40b,40c,40d上に液状体44の吐出を行うことができる。   Further, when the liquid material 44 is discharged onto the facing members 40a, 40b, 40c, and 40d, the liquid material 33 is discharged onto the substrate 10 if the facing members 40a, 40b, 40c, and 40d are disposed around the substrate 10. In the first liquid discharge process, the liquid 44 can be discharged onto the opposing members 40a, 40b, 40c, and 40d.

なお、本実施形態において、対向部材40a,40b,40c,40dを、液状体44が吐出された面と基板10の液状体33が吐出された面とが互いに平行になるように、重力方向の上方側に配置してもよい。対向部材40a,40b,40c,40dをこのように配置しても、上述と同様の効果が得られる。   In the present embodiment, the opposing members 40a, 40b, 40c, and 40d are arranged in the direction of gravity so that the surface from which the liquid material 44 is discharged and the surface from which the liquid material 33 is discharged from the substrate 10 are parallel to each other. It may be arranged on the upper side. Even if the opposing members 40a, 40b, 40c, and 40d are arranged in this manner, the same effects as described above can be obtained.

(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態では、電気光学装置としてのカラーフィルタを備えた液晶装置を製造する場合について説明する。
(Third embodiment)
Next, in the third embodiment, a case where a liquid crystal device including a color filter as an electro-optical device is manufactured will be described.

<カラーフィルタを備えた液晶装置>
まず、第3の実施形態に係る電気光学装置としてのカラーフィルタを備えた液晶装置の構成の一例について図を参照して説明する。図8は、第3の実施形態に係る液晶装置を示す平面図である。図9は、第3の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図である。詳しくは、図8のC−C’線に沿った部分断面図である。なお、図8では、以下の位置関係の説明に必要な構成要素のみを図示している。
<Liquid crystal device with color filter>
First, an example of the configuration of a liquid crystal device including a color filter as an electro-optical device according to a third embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a plan view showing the liquid crystal device according to the third embodiment. FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of the liquid crystal device according to the third embodiment. Specifically, FIG. 9 is a partial cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. In FIG. 8, only components necessary for the following description of the positional relationship are shown.

第3の実施形態に係る液晶装置200は、図9に示すように、TFT素子部20を備えた基板10と、カラーフィルタ80を備えた基板70と、基板10と基板70との間に位置する液晶層90と、を備えたアクティブマトリクス方式の液晶装置である。   As shown in FIG. 9, the liquid crystal device 200 according to the third embodiment is positioned between the substrate 10 including the TFT element unit 20, the substrate 70 including the color filter 80, and the substrate 10 and the substrate 70. And an active matrix type liquid crystal device.

図8に示すように、表示領域Eには、R、G、Bの表示に寄与する画素3R,3G,3B(対応する色について区別しない場合には単に画素3とも呼ぶ)が複数配置されている。画素3は、液晶装置200の表示の最小単位であり、間隔を置いてマトリクス状に配置されている。画素3R,3G,3Bから画素群5が構成されている。液晶装置200では、画素群5において画素3R,3G,3Bのそれぞれの表示の輝度を適宜変えることで、種々の色の表示を行うことができる。   As shown in FIG. 8, in the display area E, a plurality of pixels 3R, 3G, and 3B that contribute to the display of R, G, and B (also simply referred to as the pixel 3 when corresponding colors are not distinguished) are arranged. Yes. The pixels 3 are the minimum unit of display of the liquid crystal device 200 and are arranged in a matrix at intervals. A pixel group 5 is composed of the pixels 3R, 3G, and 3B. In the liquid crystal device 200, various colors can be displayed by appropriately changing the display brightness of the pixels 3R, 3G, and 3B in the pixel group 5.

基板70上には、バンク74が設けられている。バンク74は、略格子状に形成されており、画素3のそれぞれの領域を区画している。バンク74は、画素3に対応する開口部を複数有している。開口部は、例えば四角形である。   A bank 74 is provided on the substrate 70. The bank 74 is formed in a substantially lattice shape, and partitions each region of the pixel 3. The bank 74 has a plurality of openings corresponding to the pixels 3. The opening is, for example, a quadrangle.

次に、図9を参照して、液晶装置200の構造を説明する。基板10は、透光性を有する材料からなる。基板10上には、複数のTFT素子部20を含む回路層22が設けられている。回路層22上には、TFT素子部20のそれぞれに接続された複数の画素電極24が設けられている。画素電極24は、例えばITOからなる。   Next, the structure of the liquid crystal device 200 will be described with reference to FIG. The substrate 10 is made of a light-transmitting material. A circuit layer 22 including a plurality of TFT element portions 20 is provided on the substrate 10. On the circuit layer 22, a plurality of pixel electrodes 24 connected to each of the TFT element units 20 are provided. The pixel electrode 24 is made of, for example, ITO.

基板70は、透光性を有する材料からなる。基板70の液晶層90側には、カラーフィルタ80と、オーバーコート層82と、共通電極84と、が積層されて設けられている。カラーフィルタ80は、樹脂層72と、バンク74と、着色層76と、を備えている。   The substrate 70 is made of a light-transmitting material. A color filter 80, an overcoat layer 82, and a common electrode 84 are stacked on the liquid crystal layer 90 side of the substrate 70. The color filter 80 includes a resin layer 72, a bank 74, and a colored layer 76.

樹脂層72は、例えば透光性を有するアクリル樹脂やポリイミド系樹脂等の有機材料からなる。バンク74は、樹脂層72上に形成されている。バンク74は、例えばアクリル樹脂等の有機材料からなる。なお、樹脂層72とバンク74との間に、バンク74と重なるように、遮光層が設けられていてもよい。   The resin layer 72 is made of an organic material such as a translucent acrylic resin or polyimide resin. The bank 74 is formed on the resin layer 72. The bank 74 is made of an organic material such as acrylic resin. A light shielding layer may be provided between the resin layer 72 and the bank 74 so as to overlap the bank 74.

着色層76は、バンク74で囲まれた領域に形成され、樹脂層72上に位置している。R、G、Bの3色のそれぞれに対応する着色層76R,76G,76Bと、3つの画素電極24との組み合わせにより、3色の画素3R,3G,3Bがそれぞれ構成される。   The colored layer 76 is formed in a region surrounded by the bank 74 and is located on the resin layer 72. Three color pixels 3R, 3G, and 3B are configured by combinations of the colored layers 76R, 76G, and 76B corresponding to the three colors R, G, and B and the three pixel electrodes 24, respectively.

オーバーコート層82は、カラーフィルタ80を覆うように形成されている。共通電極84は、オーバーコート層82上に形成されている。共通電極84は、例えばITOからなる。   The overcoat layer 82 is formed so as to cover the color filter 80. The common electrode 84 is formed on the overcoat layer 82. The common electrode 84 is made of, for example, ITO.

液晶層90は、基板10と基板70との間に位置している。基板10の液晶層90に接する側には、図示しないが、回路層22と画素電極24とを覆うように配向膜が形成されている。基板70の液晶層90に接する側には、図示しないが、共通電極84を覆うように配向膜が形成されている。液晶層90は、これらの配向膜に施された配向処理によって配向方向が規制されている。また、図示しないが、基板10の液晶層90と反対側および基板70の液晶層90と反対側には、それぞれ偏光板が配置されている。   The liquid crystal layer 90 is located between the substrate 10 and the substrate 70. Although not shown, an alignment film is formed on the side of the substrate 10 in contact with the liquid crystal layer 90 so as to cover the circuit layer 22 and the pixel electrode 24. Although not shown, an alignment film is formed on the side of the substrate 70 in contact with the liquid crystal layer 90 so as to cover the common electrode 84. The alignment direction of the liquid crystal layer 90 is regulated by the alignment treatment performed on these alignment films. Although not shown, polarizing plates are disposed on the opposite side of the substrate 10 from the liquid crystal layer 90 and on the opposite side of the substrate 70 from the liquid crystal layer 90, respectively.

<カラーフィルタの製造方法>
本実施形態の液晶装置200が備えるカラーフィルタ80の製造方法として、上記の実施形態の有機EL装置100の製造方法を適用することができる。有機EL装置100の製造方法を適用してカラーフィルタ80を形成する場合は、液状体33および液状体44が含む機能層の構成材料を、所定の色光(例えば、R、G、Bの3色のいずれか)の着色層形成材料とすればよい。
<Color filter manufacturing method>
As a method of manufacturing the color filter 80 included in the liquid crystal device 200 of the present embodiment, the method of manufacturing the organic EL device 100 of the above embodiment can be applied. When the color filter 80 is formed by applying the manufacturing method of the organic EL device 100, the constituent material of the functional layer included in the liquid material 33 and the liquid material 44 is set to a predetermined color light (for example, three colors of R, G, and B). Any one of them may be used as the colored layer forming material.

第3の実施形態によれば、表示に寄与する画素の領域に形成される着色層76の膜厚ムラが抑えられるので、色ムラのないカラーフィルタ80を備えた液晶装置200を提供できる。なお、上記で説明されていない構成および製造方法については、公知の構成および製造方法を適用すればよい。   According to the third embodiment, since the film thickness unevenness of the colored layer 76 formed in the pixel region contributing to display can be suppressed, the liquid crystal device 200 including the color filter 80 without color unevenness can be provided. In addition, what is necessary is just to apply a well-known structure and manufacturing method about the structure and manufacturing method which are not demonstrated above.

本実施形態では、液晶装置200がカラーフィルタ80を備えた構成について説明したが、この形態に限定されない。上記の実施形態の有機EL装置100が、本実施形態のカラーフィルタ80を備えた構成としてもよい。有機EL装置100の発光層34が白色に発光する場合、カラーフィルタ80と組み合わせて、R、G、Bの3色が得られる構成とすることができる。   In the present embodiment, the configuration in which the liquid crystal device 200 includes the color filter 80 has been described, but the present invention is not limited to this configuration. The organic EL device 100 according to the above embodiment may include the color filter 80 according to this embodiment. When the light emitting layer 34 of the organic EL device 100 emits white light, the color filter 80 can be combined to obtain three colors of R, G, and B.

以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, various deformation | transformation can be added with respect to the said embodiment in the range which does not deviate from the meaning of this invention. As modifications, for example, the following can be considered.

(変形例1)
上記実施形態の電気光学装置の製造方法において、液受容領域6の単位面積当たりに吐出される液状体44の量は、対向部材40(対向部材40a,40b,40c,40d)上の液受容領域6のそれぞれについて略同一であったが、この形態に限定されない。液受容領域6の単位面積当たりに吐出される液状体44の量は、対向部材40(対向部材40a,40b,40c,40d)上の位置によって異なっていてもよい。
(Modification 1)
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the above embodiment, the amount of the liquid 44 discharged per unit area of the liquid receiving region 6 is the liquid receiving region on the facing member 40 (facing members 40a, 40b, 40c, 40d). Although it was substantially the same about each of 6, it is not limited to this form. The amount of the liquid 44 ejected per unit area of the liquid receiving region 6 may vary depending on the position on the facing member 40 (facing members 40a, 40b, 40c, 40d).

図10は、変形例1に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図である。図10(a)および(b)に示すように、画素2の領域の形状および液受容領域6の形状は、ともに楕円形状であり略同一の面積を有している。また、画素2の領域および液受容領域6のそれぞれの楕円形状の長軸方向は、ともに同一方向に沿っている。基板10上の表示領域Eは長方形状を有しており、その長辺方向は液受容領域6(画素2の領域)の楕円形状の長軸方向に沿っている。図10(a)に示すように、対向部材40上には、領域E’の長辺側に液受容領域6aが位置しており、領域E’の短辺側に液受容領域6bが位置している。   FIG. 10 is a plan view and a cross-sectional view illustrating a liquid material arranging step and a drying step according to Modification 1. As shown in FIGS. 10A and 10B, the shape of the region of the pixel 2 and the shape of the liquid receiving region 6 are both elliptical and have substantially the same area. The major axis directions of the elliptical shapes of the pixel 2 region and the liquid receiving region 6 are both in the same direction. The display region E on the substrate 10 has a rectangular shape, and the long side direction thereof is along the elliptical long axis direction of the liquid receiving region 6 (the region of the pixel 2). As shown in FIG. 10A, on the facing member 40, the liquid receiving area 6a is located on the long side of the area E ′, and the liquid receiving area 6b is located on the short side of the area E ′. ing.

このとき、第2の液状体吐出工程において、液受容領域6bの単位面積当たりに吐出される液状体44bの量が、液受容領域6aの単位面積当たりに吐出される液状体44aの量と同じであっても、上述の実施形態と同様の効果が得られる。しかしながら、このように、画素2の領域が楕円形状や長方形状を有している場合、画素2の領域内においてその長軸に沿った方向で膜厚ムラが生じ易い傾向がある。   At this time, in the second liquid discharge process, the amount of the liquid 44b discharged per unit area of the liquid receiving region 6b is the same as the amount of the liquid 44a discharged per unit area of the liquid receiving region 6a. Even so, the same effect as the above-described embodiment can be obtained. However, when the region of the pixel 2 has an elliptical shape or a rectangular shape as described above, the film thickness tends to be uneven in the direction along the major axis in the region of the pixel 2.

このような場合、液受容領域6bの単位面積当たりに吐出される液状体44bの量が、液受容領域6aの単位面積当たりに吐出される液状体44aの量よりも多いことが好ましい。領域E’の短辺側に位置する液受容領域6bの単位面積当たりに吐出される液状体44bの量を液状体44aの量よりも多くすることで、画素2の長軸方向の両側(表示領域Eの短辺側)において蒸発する溶媒の量を多くできるので、長軸に沿った方向での膜厚ムラを抑えることができる。   In such a case, the amount of the liquid 44b discharged per unit area of the liquid receiving region 6b is preferably larger than the amount of the liquid 44a discharged per unit area of the liquid receiving region 6a. By making the amount of the liquid 44b discharged per unit area of the liquid receiving region 6b located on the short side of the region E ′ larger than the amount of the liquid 44a, both sides of the pixel 2 in the long axis direction (display Since the amount of the solvent that evaporates on the short side of the region E can be increased, film thickness unevenness in the direction along the long axis can be suppressed.

(変形例2)
上記実施形態の電気光学装置の製造方法において、液受容領域6の配置ピッチは、画素2の配置ピッチと略同一であったが、この形態に限定されない。液受容領域6の配置ピッチが、画素2の配置ピッチよりも小さい構成であってもよい。
(Modification 2)
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the above embodiment, the arrangement pitch of the liquid receiving regions 6 is substantially the same as the arrangement pitch of the pixels 2, but is not limited to this configuration. The arrangement pitch of the liquid receiving regions 6 may be smaller than the arrangement pitch of the pixels 2.

図11は、変形例2に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図である。図11(a)に示すように、液受容領域6の配置ピッチは、画素2の領域の配置ピッチよりも小さくなっている。このような方法によれば、液受容領域6の配置密度が画素2の配置密度よりも高いので、液受容領域6当たりの液状体44の吐出量と画素2の領域当たりの液状体33の吐出量とが略同量であっても、表示領域Eの周囲における単位面積当たりの溶媒の量を表示領域E内における単位面積当たりの溶媒の量よりも多くできる。これにより、液状体33が乾燥するまで、表示領域Eの周囲に液状体44から蒸発する溶媒分子が存在するので、表示領域Eの周辺部と中央部とで液状体33の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   FIG. 11 is a plan view and a cross-sectional view illustrating a liquid material arranging step and a drying step according to Modification 2. As shown in FIG. 11A, the arrangement pitch of the liquid receiving areas 6 is smaller than the arrangement pitch of the areas of the pixels 2. According to such a method, since the arrangement density of the liquid receiving area 6 is higher than the arrangement density of the pixel 2, the discharge amount of the liquid 44 per liquid receiving area 6 and the discharge of the liquid 33 per area of the pixel 2. Even if the amount is substantially the same, the amount of the solvent per unit area around the display region E can be made larger than the amount of the solvent per unit area in the display region E. As a result, solvent molecules that evaporate from the liquid material 44 exist around the display area E until the liquid material 33 is dried. Therefore, variation in the drying speed of the liquid material 33 between the peripheral portion and the central portion of the display region E is prevented. It can be kept smaller.

(変形例3)
上記実施形態の電気光学装置の製造方法において、液受容領域6の領域の面積は、画素2の領域の面積と略同一であったが、この形態に限定されない。液受容領域6の領域の面積が、画素2の領域の面積よりも大きい構成であってもよい。
(Modification 3)
In the electro-optical device manufacturing method of the above embodiment, the area of the liquid receiving region 6 is substantially the same as the area of the pixel 2, but is not limited to this form. The area of the liquid receiving region 6 may be larger than the area of the pixel 2 region.

図12は、変形例3に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図である。図12(a)に示すように、液受容領域6の面積は、画素2の領域の面積よりも大きくなっている。このような方法によれば、液受容領域6の単位面積当たりに吐出される液状体44の量が、画素2の領域の単位面積当たりに吐出される液状体33の量と同じであっても、表示領域Eの周囲における単位面積当たりの溶媒の量を表示領域E内における単位面積当たりの溶媒の量よりも多くできる。これにより、表示領域Eの周辺部と中央部とで液状体33の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   FIG. 12 is a plan view and a cross-sectional view illustrating a liquid material arranging step and a drying step according to Modification 3. As shown in FIG. 12A, the area of the liquid receiving region 6 is larger than the area of the pixel 2 region. According to such a method, even if the amount of the liquid 44 discharged per unit area of the liquid receiving region 6 is the same as the amount of the liquid 33 discharged per unit area of the pixel 2 region. The amount of the solvent per unit area around the display area E can be made larger than the amount of the solvent per unit area in the display area E. Thereby, the dispersion | variation in the drying speed of the liquid 33 can be suppressed smaller between the peripheral part and the center part of the display area E.

(変形例4)
上記実施形態の電気光学装置の製造方法において、液受容領域6の領域の形状は、画素2の領域の形状と略同一であったが、この形態に限定されない。液受容領域6が帯状に形成された構成であってもよい。
(Modification 4)
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the above embodiment, the shape of the liquid receiving region 6 is substantially the same as the shape of the pixel 2 region, but is not limited to this form. The liquid receiving region 6 may be formed in a strip shape.

図13は、変形例4に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図である。図13(a)に示すように、対向部材40上には、領域E’の周囲に沿って、領域E’の長辺側に液受容領域6cが位置しており、領域E’の短辺側に液受容領域6dが位置している。液受容領域6cと液受容領域6dとは、それぞれ領域E’の長辺または短辺に沿って、ともに平面視帯状に形成されている。   FIG. 13 is a plan view and a cross-sectional view illustrating a liquid material arranging step and a drying step according to Modification 4. As shown in FIG. 13 (a), the liquid receiving region 6c is located on the long side of the region E ′ along the periphery of the region E ′ on the facing member 40, and the short side of the region E ′. The liquid receiving area 6d is located on the side. The liquid receiving area 6c and the liquid receiving area 6d are each formed in a band shape in plan view along the long side or the short side of the area E '.

このような方法によれば、帯状に形成された液受容領域6c,6dのそれぞれに液状体44c,44dを吐出することにより、表示領域Eの周囲における単位面積当たりの溶媒の量をより多くできる。なお、液受容領域6c(6d)が、表示領域Eの周囲を囲んで「ロ」の字型に形成されていてもよい。   According to such a method, the amount of the solvent per unit area around the display area E can be increased by discharging the liquid materials 44c and 44d to the liquid receiving areas 6c and 6d formed in a band shape. . The liquid receiving area 6c (6d) may be formed in a “B” shape so as to surround the display area E.

(変形例5)
上記実施形態の電気光学装置の製造方法において、液受容領域6は領域E’の周囲に一列に配置されていたが、この形態に限定されない。複数列の液受容領域6が領域E’の周囲に配置された構成であってもよい。
(Modification 5)
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the above embodiment, the liquid receiving regions 6 are arranged in a line around the region E ′, but the present invention is not limited to this configuration. A configuration in which a plurality of rows of liquid receiving regions 6 are arranged around the region E ′ may be employed.

図14は、変形例5に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図である。図14(a)に示すように、対向部材40上には、領域E’の周囲に、2列の液受容領域6が位置している。このような方法によれば、液受容領域6の面積が画素2の領域の面積と略同一であって、液受容領域6の単位面積当たりに吐出される液状体44の量が、画素2の領域の単位面積当たりに吐出される液状体33の量と同じであっても、領域E’の周囲における液状体44の総量をより多くできる。これにより、液状体33が乾燥するまで、表示領域Eの周囲に液状体44から蒸発する溶媒分子が存在するので、表示領域Eの周辺部と中央部とで液状体33の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。   FIG. 14 is a plan view and a cross-sectional view illustrating a liquid material arranging step and a drying step according to Modification 5. As shown in FIG. 14A, two rows of liquid receiving regions 6 are located on the opposing member 40 around the region E ′. According to such a method, the area of the liquid receiving region 6 is substantially the same as the area of the pixel 2, and the amount of the liquid 44 discharged per unit area of the liquid receiving region 6 is the same as that of the pixel 2. Even if the amount of the liquid 33 discharged per unit area of the region is the same, the total amount of the liquid 44 around the region E ′ can be increased. As a result, solvent molecules that evaporate from the liquid material 44 exist around the display area E until the liquid material 33 is dried. Therefore, variation in the drying speed of the liquid material 33 between the peripheral portion and the central portion of the display region E is prevented. It can be kept smaller.

(変形例6)
上記実施形態および変形例の電気光学装置の製造方法において、液状体44は、液状体33と略同一の構成を有していたが、この形態に限定されない。液状体44に含まれる溶媒が液状体33に含まれる溶媒と異なっており、液状体44に含まれる溶媒の沸点が液状体33に含まれる溶媒の沸点よりも高い構成であってもよい。
(Modification 6)
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the above-described embodiment and the modification, the liquid material 44 has substantially the same configuration as the liquid material 33, but is not limited to this configuration. The solvent contained in the liquid material 44 is different from the solvent contained in the liquid material 33, and the boiling point of the solvent contained in the liquid material 44 may be higher than the boiling point of the solvent contained in the liquid material 33.

例えば、正孔注入輸送層形成工程S40において、液状体33は、第1の溶媒としてエチレングリコールを含んでおり、液状体44は、第2の溶媒としてジエチレングリコールを含んでいる。液状体33に溶媒として含まれるエチレングリコールは、沸点が198℃である。一方、液状体44に溶媒として含まれるジエチレングリコールは、沸点が245℃である。   For example, in the hole injecting and transporting layer forming step S40, the liquid material 33 contains ethylene glycol as the first solvent, and the liquid material 44 contains diethylene glycol as the second solvent. Ethylene glycol contained as a solvent in the liquid 33 has a boiling point of 198 ° C. On the other hand, diethylene glycol contained as a solvent in the liquid 44 has a boiling point of 245 ° C.

この構成によれば、液状体44に含まれる溶媒の沸点は液状体33に含まれる溶媒の沸点よりも高いので、液状体44の蒸発速度は液状体33の蒸発速度よりも遅い。これにより、乾燥工程において、液状体33が乾燥するまで、表示領域Eの周囲に液状体44から蒸発する溶媒分子が存在するので、表示領域Eの周辺部と中央部とで液状体33の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。したがって、表示領域E内で正孔注入輸送層32の膜厚ムラをより小さく抑えることができる。   According to this configuration, since the boiling point of the solvent contained in the liquid material 44 is higher than the boiling point of the solvent contained in the liquid material 33, the evaporation speed of the liquid material 44 is slower than the evaporation speed of the liquid material 33. Thereby, in the drying step, solvent molecules evaporating from the liquid material 44 exist around the display area E until the liquid material 33 is dried. Therefore, the liquid material 33 is dried at the periphery and the center of the display area E. The variation in speed can be further reduced. Therefore, the film thickness unevenness of the hole injection transport layer 32 in the display region E can be further reduced.

また、液状体44の蒸発速度は液状体33の蒸発速度よりも遅いので、液受容領域6の単位面積当たりに吐出される液状体44の量を、画素2の領域の単位面積当たりに吐出される液状体33の量より多くしなくても、表示領域E内における画素2間で膜厚ムラを抑えることができる。   Further, since the evaporation rate of the liquid 44 is slower than the evaporation rate of the liquid 33, the amount of the liquid 44 discharged per unit area of the liquid receiving region 6 is discharged per unit area of the pixel 2 region. Even if the amount is not larger than the amount of the liquid material 33, the film thickness unevenness between the pixels 2 in the display region E can be suppressed.

(変形例7)
上記実施形態および変形例の電気光学装置の製造方法において、液状体44に含まれる溶媒が液状体33に含まれる溶媒と異なっており、液状体44の溶媒の蒸気圧は液状体33の溶媒の蒸気圧よりも低い構成であってもよい。
(Modification 7)
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the embodiment and the modification, the solvent contained in the liquid material 44 is different from the solvent contained in the liquid material 33, and the vapor pressure of the solvent in the liquid material 44 is the same as that of the solvent in the liquid material 33. The structure may be lower than the vapor pressure.

例えば、正孔注入輸送層形成工程S40において、液状体33は、第1の溶媒としてトリエチレングリコールジメチルエーテルを含んでおり、液状体44は、第2の溶媒としてエチレングリコールを含んでいる。液状体33に溶媒として含まれるトリエチレングリコールジメチルエーテルは、蒸気圧が20℃において1.22hPaである。一方、液状体44に溶媒として含まれるエチレングリコールは、蒸気圧が20℃において0.05hPaである。   For example, in the hole injection transport layer forming step S40, the liquid 33 contains triethylene glycol dimethyl ether as the first solvent, and the liquid 44 contains ethylene glycol as the second solvent. Triethylene glycol dimethyl ether contained as a solvent in the liquid 33 has a vapor pressure of 1.22 hPa at 20 ° C. On the other hand, ethylene glycol contained as a solvent in the liquid 44 has a vapor pressure of 0.05 hPa at 20 ° C.

この構成によれば、液状体44に含まれる溶媒の蒸気圧は、液状体33に含まれる溶媒の蒸気圧よりも低いので、液状体44の蒸発速度は液状体33の蒸発速度よりも遅い。これにより、乾燥工程において、液状体33が乾燥するまで、表示領域Eの周囲に液状体44から蒸発する溶媒分子が存在するので、表示領域Eの周辺部と中央部とで液状体33の乾燥速度のバラツキをより小さく抑えることができる。したがって、表示領域E内で正孔注入輸送層32の膜厚ムラをより小さく抑えることができる。   According to this configuration, since the vapor pressure of the solvent contained in the liquid material 44 is lower than the vapor pressure of the solvent contained in the liquid material 33, the evaporation speed of the liquid material 44 is slower than the evaporation speed of the liquid material 33. Thereby, in the drying step, solvent molecules evaporating from the liquid material 44 exist around the display area E until the liquid material 33 is dried. Therefore, the liquid material 33 is dried at the periphery and the center of the display area E. The variation in speed can be further reduced. Therefore, the film thickness unevenness of the hole injection transport layer 32 in the display region E can be further reduced.

(変形例8)
上記実施形態および変形例の電気光学装置の製造方法において、液状体44が有機機能層の構成材料を含んでいない構成であってもよい。液状体44が有機機能層の構成材料を含んでいなくても、液状体44の溶媒が蒸発することにより、機能領域Eの周囲に溶媒分子を分布させることができるので、同様の効果が得られる。
(Modification 8)
In the method for manufacturing the electro-optical device according to the above-described embodiment and the modification, the liquid material 44 may have a configuration not including the constituent material of the organic functional layer. Even if the liquid material 44 does not contain the constituent material of the organic functional layer, the solvent of the liquid material 44 evaporates, so that the solvent molecules can be distributed around the functional region E. Therefore, the same effect can be obtained. It is done.

(変形例9)
上記実施形態および変形例の電気光学装置の製造方法において、液状体44に含まれる有機機能層の材料の濃度が液状体33に含まれる有機機能層の材料の濃度よりも高い構成であってもよい。
(Modification 9)
In the method of manufacturing the electro-optical device according to the embodiment and the modified example, the organic functional layer material concentration included in the liquid material 44 may be higher than the organic functional layer material concentration included in the liquid material 33. Good.

例えば、正孔注入輸送層形成工程S40において、液状体33は、正孔注入輸送層32の材料を重量比で0.3%〜1.2%程度含んでいる。一方、液状体44は、正孔注入輸送層32の材料を重量比で2%〜3%程度含んでいる。液状体44に含まれる機能層の構成材料の濃度は、液状体33に含まれる機能層の構成材料の濃度よりも1.5%程度高いことが好ましい。   For example, in the hole injecting and transporting layer forming step S40, the liquid 33 contains about 0.3% to 1.2% by weight of the material of the hole injecting and transporting layer 32. On the other hand, the liquid 44 contains about 2% to 3% of the material of the hole injecting and transporting layer 32 by weight. The concentration of the constituent material of the functional layer included in the liquid material 44 is preferably about 1.5% higher than the concentration of the constituent material of the functional layer included in the liquid material 33.

ここで、液状体が乾燥するとき、液状体中の溶媒が液状体の表面に液膜を作り、この液膜が蒸気化して大気中または減圧雰囲気中に蒸発する。液状体表面で溶媒の液膜が蒸発すると、液状体表面で機能層の構成材料の濃度が上昇するが、溶媒の蒸発熱により液状体表面の温度が低下して液状体表面で濃度がさらに上昇することにより、液状体内部の溶媒の蒸発が遅くなる。これを繰り返すことで、液状体内部の溶媒の蒸発は時間経過とともにさらに遅くなる。   Here, when the liquid is dried, the solvent in the liquid forms a liquid film on the surface of the liquid, and the liquid film is vaporized and evaporated in the atmosphere or in a reduced pressure atmosphere. When the liquid film of the solvent evaporates on the liquid surface, the concentration of the constituent material of the functional layer increases on the liquid surface, but the temperature of the liquid surface decreases due to the evaporation heat of the solvent, and the concentration further increases on the liquid surface. By doing so, the evaporation of the solvent inside the liquid is delayed. By repeating this, the evaporation of the solvent inside the liquid is further delayed over time.

このため、液状体44に含まれる正孔注入輸送層32の構成材料の濃度が液状体33よりも高ければ、液状体44の方が液状体33よりも時間経過にともなう蒸発量の減少が大きくなるので、液状体44は液状体33に比べて完全に蒸発するまでにより長い時間を要する。したがって、液状体44の蒸発速度が液状体33の蒸発速度よりも遅くなるので、表示領域E内で正孔注入輸送層32の膜厚ムラをより小さく抑えることができる。   For this reason, if the concentration of the constituent material of the hole injection / transport layer 32 contained in the liquid material 44 is higher than that of the liquid material 33, the liquid material 44 has a larger decrease in evaporation amount over time than the liquid material 33. Therefore, it takes a longer time for the liquid 44 to evaporate completely than the liquid 33. Therefore, since the evaporation rate of the liquid 44 is slower than the evaporation rate of the liquid 33, the film thickness unevenness of the hole injection / transport layer 32 in the display region E can be further reduced.

第1の実施形態に係る有機EL装置を示す平面図。1 is a plan view showing an organic EL device according to a first embodiment. 第1の実施形態に係る有機EL装置の回路構成図。1 is a circuit configuration diagram of an organic EL device according to a first embodiment. 第1の実施形態に係る有機EL装置の概略構成を示す断面図。1 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of an organic EL device according to a first embodiment. 第1の実施形態に係る有機EL装置の製造方法を説明するフローチャート。6 is a flowchart illustrating a method for manufacturing the organic EL device according to the first embodiment. 液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図。The top view and sectional drawing explaining a liquid body arrangement | positioning process and a drying process. 乾燥工程における蒸気圧の分布を示すグラフ。The graph which shows distribution of the vapor pressure in a drying process. 第2の実施形態に係る乾燥工程を説明する平面図および断面図。The top view and sectional drawing explaining the drying process which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施形態に係る液晶装置を示す平面図。FIG. 6 is a plan view showing a liquid crystal device according to a third embodiment. 第3の実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す断面図。Sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal device which concerns on 3rd Embodiment. 変形例1に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図。The top view and sectional drawing explaining the liquid body arrangement | positioning process and drying process which concern on the modification 1. FIG. 変形例2に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図。The top view and sectional drawing explaining the liquid body arrangement | positioning process and drying process which concern on the modification 2. FIG. 変形例3に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図。The top view and sectional drawing explaining the liquid body arrangement | positioning process and drying process which concern on the modification 3. FIG. 変形例4に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図。The top view and sectional drawing explaining the liquid body arrangement | positioning process and drying process which concern on the modification 4. FIG. 変形例5に係る液状体配置工程および乾燥工程を説明する平面図および断面図。The top view and sectional drawing explaining the liquid body arrangement | positioning process and drying process which concern on the modification 5. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

2,3…画素、4,5…画素群、6,6a,6b,6c,6d…液受容領域、8…有機EL素子、10…基板、11,12…スイッチング用TFT、13…保持容量、14…データ線駆動回路、15…走査線駆動回路、16…走査線、17…信号線、18…電源線、20…TFT素子部、22…回路層、24…画素電極、26…無機バンク層、26a…開口部、27…有機バンク層、27a…開口部、28…バンク部、30…有機機能層、32…正孔注入輸送層、33…液状体、34…発光層、36…共通電極、38…封止層、40,40a,40b,40c,40d…対向部材、42…バンク部、44,44a,44b,44c,44d…液状体、70…基板、72…樹脂層、74…バンク、76…着色層、80…カラーフィルタ、82…オーバーコート層、84…共通電極、90…液晶層、100…有機EL装置、200…液晶装置。   2, 3 ... Pixels, 4, 5 ... Pixel group, 6, 6a, 6b, 6c, 6d ... Liquid receiving region, 8 ... Organic EL element, 10 ... Substrate, 11, 12 ... Switching TFT, 13 ... Retention capacitance, DESCRIPTION OF SYMBOLS 14 ... Data line drive circuit, 15 ... Scanning line drive circuit, 16 ... Scanning line, 17 ... Signal line, 18 ... Power supply line, 20 ... TFT element part, 22 ... Circuit layer, 24 ... Pixel electrode, 26 ... Inorganic bank layer 26a ... opening, 27 ... organic bank layer, 27a ... opening, 28 ... bank part, 30 ... organic functional layer, 32 ... hole injection transport layer, 33 ... liquid, 34 ... light emitting layer, 36 ... common electrode 38 ... Sealing layer, 40, 40a, 40b, 40c, 40d ... Opposing member, 42 ... Bank part, 44, 44a, 44b, 44c, 44d ... Liquid, 70 ... Substrate, 72 ... Resin layer, 74 ... Bank 76 ... colored layer, 80 ... color filter, 82 ... Bakoto layer, 84 ... common electrode, 90 ... liquid crystal layer, 100 ... organic EL device, 200 ... liquid crystal device.

Claims (14)

基板上の機能領域に配置された複数の画素の領域のそれぞれに機能層を形成する電気光学装置の製造方法であって、
前記複数の画素の領域のそれぞれに、前記機能層の構成材料と第1の溶媒とを含む第1の液状体を吐出する第1の液状体吐出工程と、
少なくとも1枚の部材上に配置された複数の液受容領域のそれぞれに、少なくとも第2の溶媒を含む第2の液状体を吐出する第2の液状体吐出工程と、
前記基板の前記第1の液状体が吐出された面と前記少なくとも1枚の部材の前記第2の液状体が吐出された面とを、前記機能領域の周囲が前記複数の液受容領域のうちの少なくとも一部の前記液受容領域で囲まれるように対向させて、前記第1の液状体と前記第2の液状体とを乾燥させる乾燥工程と、を備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an electro-optical device that forms a functional layer in each of a plurality of pixel regions arranged in a functional region on a substrate,
A first liquid discharge step of discharging a first liquid containing the constituent material of the functional layer and a first solvent into each of the plurality of pixel regions;
A second liquid material discharge step of discharging a second liquid material containing at least a second solvent to each of a plurality of liquid receiving regions arranged on at least one member;
The surface of the substrate on which the first liquid material is discharged and the surface of the at least one member on which the second liquid material is discharged are arranged around the functional region among the plurality of liquid receiving regions. And a drying step of drying the first liquid and the second liquid so as to face each other so as to be surrounded by at least a part of the liquid receiving region. Manufacturing method.
請求項1に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記乾燥工程では、前記機能領域の周囲が前記複数の液受容領域のうちのすべての前記液受容領域で囲まれるように対向させることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing the electro-optical device according to claim 1,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein in the drying step, the functional area is opposed to be surrounded by all the liquid receiving areas of the plurality of liquid receiving areas.
請求項1または2に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第2の液状体吐出工程では、1枚の前記部材に前記複数の液受容領域が配置されており、
前記乾燥工程では、前記基板と前記1枚の前記部材とを対向させることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing the electro-optical device according to claim 1, wherein:
In the second liquid material discharge step, the plurality of liquid receiving regions are disposed on one member.
In the drying step, the substrate and the one piece of the member are opposed to each other.
請求項1または2に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第2の液状体吐出工程では、複数の前記部材のそれぞれに前記複数の液受容領域が分かれて配置されており、
前記乾燥工程では、前記基板と前記複数の前記部材とを対向させることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing the electro-optical device according to claim 1, wherein:
In the second liquid material discharge step, the plurality of liquid receiving regions are separately arranged in each of the plurality of members,
In the drying step, the substrate and the plurality of members are opposed to each other, and the electro-optical device manufacturing method is characterized in that:
請求項1から4のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記複数の液受容領域の配置ピッチは、前記複数の画素の領域の配置ピッチよりも小さいことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1,
An electro-optical device manufacturing method, wherein an arrangement pitch of the plurality of liquid receiving regions is smaller than an arrangement pitch of the plurality of pixel regions.
請求項1から5のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記複数の液受容領域のそれぞれの面積は、前記複数の画素の領域のそれぞれの面積よりも大きいことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
An electro-optical device manufacturing method according to claim 1,
An electro-optical device manufacturing method, wherein each of the plurality of liquid receiving regions has a larger area than each of the plurality of pixel regions.
請求項1から6のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記複数の液受容領域は、帯状に形成されていることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the plurality of liquid receiving regions are formed in a band shape.
請求項1から7のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記複数の液受容領域の単位面積当たりに吐出される前記第2の液状体の量は、前記複数の画素の領域の単位面積当たりに吐出される前記第1の液状体の量よりも多いことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing an electro-optical device according to any one of claims 1 to 7,
The amount of the second liquid material ejected per unit area of the plurality of liquid receiving regions is larger than the amount of the first liquid material ejected per unit area of the plurality of pixel regions. A method for manufacturing an electro-optical device.
請求項1から8のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第2の溶媒の沸点は、前記第1の溶媒の沸点よりも高いことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the boiling point of the second solvent is higher than the boiling point of the first solvent.
請求項1から9のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第2の溶媒の蒸気圧は、前記第1の溶媒の蒸気圧よりも低いことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing an electro-optical device according to any one of claims 1 to 9,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein a vapor pressure of the second solvent is lower than a vapor pressure of the first solvent.
請求項1から10のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第2の液状体は機能層の構成材料を含み、
前記第2の液状体に含まれる前記機能層の構成材料の濃度は、前記第1の液状体に含まれる前記機能層の構成材料の濃度よりも高いことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1,
The second liquid includes a constituent material of the functional layer,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the concentration of the constituent material of the functional layer contained in the second liquid is higher than the concentration of the constituent material of the functional layer contained in the first liquid. .
請求項1から10のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第2の液状体は前記第2の溶媒からなることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
The method for manufacturing an electro-optical device according to claim 1,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the second liquid material includes the second solvent.
請求項1から12のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第1の液状体は、前記機能層の構成材料として、有機EL素子を構成する機能層のうち少なくとも発光層形成材料を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
The method of manufacturing an electro-optical device according to any one of claims 1 to 12,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the first liquid includes at least a light emitting layer forming material among functional layers constituting an organic EL element as a constituent material of the functional layer.
請求項1から12のいずれか1項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第1の液状体は、前記機能層の構成材料として、カラーフィルタの着色層形成材料を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
The method of manufacturing an electro-optical device according to any one of claims 1 to 12,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the first liquid includes a color layer forming material of a color filter as a constituent material of the functional layer.
JP2008107552A 2008-04-17 2008-04-17 Manufacturing method of electro-optical device Withdrawn JP2009259614A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008107552A JP2009259614A (en) 2008-04-17 2008-04-17 Manufacturing method of electro-optical device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008107552A JP2009259614A (en) 2008-04-17 2008-04-17 Manufacturing method of electro-optical device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009259614A true JP2009259614A (en) 2009-11-05

Family

ID=41386787

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008107552A Withdrawn JP2009259614A (en) 2008-04-17 2008-04-17 Manufacturing method of electro-optical device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009259614A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5343815B2 (en) Organic EL device, organic EL device manufacturing method, organic EL device, electronic device
KR101325577B1 (en) Organic electro luminescence device and method of manufacturing the same
KR101921374B1 (en) High resolution organic light-emitting diode devices
US11164922B2 (en) Method of fabricating light-emitting display device
KR101926225B1 (en) High resolution organic light-emitting diode devices
US20170287993A1 (en) Display panel and method for manufacturing same
JP2009081097A (en) Electrooptical device and electronic apparatus
JP5233285B2 (en) Electro-optical device manufacturing method and electro-optical device
US7294960B2 (en) Organic electroluminescent device with HIL/HTL specific to each RGB pixel
JP4432358B2 (en) Manufacturing method of electro-optical device
JP2004319119A (en) Display device and its manufacturing method
KR20140115840A (en) Organic light emitting diode, organic light emitting display panel having the organic light emitting diode and fabricating method for the organic light emitting display panel
JP4604778B2 (en) Organic EL devices, electronic devices
JP4760037B2 (en) Manufacturing method of organic EL device
JP2006261026A (en) Manufacturing method of electro-optical device and electro-optical device
JP2011146184A (en) Manufacturing method of organic el device, organic el device, and electronic apparatus
JP2006172854A (en) Pattern formation board, electro-optical device and manufacturing method of electro-optical device
JP2009211904A (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP2009259614A (en) Manufacturing method of electro-optical device
JP2004198486A (en) Image display element and its manufacturing method
JP5056268B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
JP2006269325A (en) Droplet discharging head, manufacturing method of electro-optic device, and electro-optic device
JP2005259718A (en) Organic electroluminescent device and manufacturing method of the same
JP2005259717A (en) Manufacturing method of organic electroluminescent device
JP2009277570A (en) Organic el device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20110705