JP2009255506A - Original plate of lithographic printing plate and lithographic printing method - Google Patents

Original plate of lithographic printing plate and lithographic printing method Download PDF

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崇徳 森
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豊尚 大屋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an original plate of a lithographic printing plate capable of controlling the remaining of minute image recording layers, controlled in the retaining of minute image recording layers and having an excellent shelf life by setting the total sum of halide ions including in individual layers on a support to 0-5.0 μmol/m<SP>2</SP>. <P>SOLUTION: In the original plate of the lithographic printing plate having at least an undercoating layer, the image recording layer and a protective layer including a laminated compound in this order named on a support, the total sum of the halide ions included in the respective layers on the support is set to be 0-5.0 μmol/m<SP>2</SP>. Preferably, the undercoating layer or the image recording layer includes a compound represented by a formula X(-Y)n, wherein X is an n-valent group which is obtained by removing n hydrogen atoms from aliphatic hydrocarbon or the like, Y represents -COOM or the like, M represents a hydrogen atom of the like and n represents an integer from 1 through 20. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、平版印刷版原版に関する。詳しくは、レーザーによる画像記録が可能であり、機上現像またはガム現像が可能な平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor capable of image recording with a laser and capable of on-press development or gum development.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部となる画像記録層を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させる方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). As described above, a difference in ink adhesion is caused on the surface of a lithographic printing plate, and after ink is applied only to an image portion, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, after exposing a lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the image recording layer to be an image portion is left, and other unnecessary image recording layers are washed with an alkaline developer or an organic solvent. Plate making is performed by a method of exposing the surface of the hydrophilic support by dissolving and removing to obtain a lithographic printing plate.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な画像記録層を現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化しまたは簡易化することが課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   In the conventional plate making process of a lithographic printing plate precursor, after exposure, a step of dissolving and removing unnecessary image recording layers with a developer or the like is necessary, but such additional wet processing is made unnecessary or Simplification is cited as one of the issues. In particular, in recent years, disposal of waste liquids discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and therefore, the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

これに対して、簡易な製版方法の一つとして、平版印刷版原版の画像記録層の除去を通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で非画像部に対応する画像記録層を除去し平版印刷版を得る、機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤または湿し水とインキとの乳化物に溶解しまたは分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤等の浸透によって画像記録層の凝集力または画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。
また、簡易な製版方法のもう一つの方法として、現像処理工程における画像記録層不要部分の除去を、従来の高アルカリ性現像液に替えて、従来アルカリ現像の後に施されていたフィニッシング処理用のガム液で行うガム現像と呼ばれる方法も提案されている。
なお、本発明においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置(通常は自動現像機)を使用し、液体(通常はアルカリ性現像液やガム現像液など)を接触させることにより、平版印刷版原版のレーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体(通常は印刷インキおよび/または湿し水)を接触させることにより、平版印刷版原版の赤外線レーザー未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法および工程を指す。
上記「現像処理工程」を経る処理のうち、現像液としてガム液を使用する現像を特に「ガム現像」と呼ぶ。
On the other hand, as one simple plate-making method, an image recording layer that can remove the image recording layer of a lithographic printing plate precursor in a normal printing process is used. A method called on-press development has been proposed in which an image recording layer corresponding to a portion is removed to obtain a lithographic printing plate.
As a specific method for on-press development, for example, a method using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in a dampening water, an ink solvent, or an emulsion of a dampening water and an ink. , A method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or a blanket cylinder of a printing press, cohesion of the image recording layer by penetration of dampening water, ink solvent, etc., or between the image recording layer and the support. There is a method in which the image recording layer is mechanically removed by weakening the adhesive force and then contacting with rollers or a blanket cylinder.
Further, as another simple plate-making method, the removal of the unnecessary portion of the image recording layer in the development processing step is replaced with a conventional highly alkaline developer, and a finishing gum conventionally applied after alkali development. A method called gum development performed with a solution has also been proposed.
In the present invention, unless otherwise specified, the “development process step” means that an apparatus other than a printing press (usually an automatic developing machine) is used, and a liquid (usually an alkaline developer, a gum developer, etc. ) Is contacted to remove the laser unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and expose the hydrophilic support surface. “On-press development” refers to a liquid (usually, using a printing press) It refers to a method and process for removing the infrared laser unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and exposing the hydrophilic support surface by contacting with a printing ink and / or fountain solution.
Of the processes through the “development process step”, development using a gum solution as a developer is particularly referred to as “gum development”.

一方、近年、画像情報をコンピュータで電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート(CTP)技術が注目されてきている。したがって、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。
上述したように、近年、製版作業の簡素化、乾式化および無処理化は、地球環境への配慮とデジタル化への適合化との両面から、従来にも増して、強く望まれるようになってきている。
On the other hand, in recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer have become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization techniques are put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate (CTP) technology has been attracting attention. Therefore, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.
As described above, in recent years, the simplification, drying, and no processing of plate making operations have become more desirable than ever in terms of both consideration for the global environment and adaptation to digitalization. It is coming.

上述の要望に適応した平版印刷版原版として、光または熱重合性の画像記録層を有する機上現像型の平版印刷版原版などが用いられる。これらの平版印刷版原版では、アルカリ現像液を使用せずに印刷機上の印刷インキや湿し水を用いた温和な条件で未露光部分を除去するため、未露光部分が完全に除去しきれずに微小の画像記録層が残存する場合があり、特に、製造後の平版印刷版を高温・高湿条件で長期間保存することによりその程度が増加する場合があった。この微小の画像記録層の残存は結果として印刷物の微小点状汚れを引き起こすため実用上の大きな問題となり、この改善が重要な技術課題の一つとなっている。   As a lithographic printing plate precursor adapted to the above-mentioned demand, an on-press development type lithographic printing plate precursor having a photo- or heat-polymerizable image recording layer is used. In these planographic printing plate precursors, the unexposed areas cannot be completely removed because the unexposed areas are removed under mild conditions using printing ink or fountain solution on the printing machine without using an alkaline developer. In some cases, a minute image recording layer may remain, and in particular, the degree may increase when the lithographic printing plate after production is stored for a long time under high temperature and high humidity conditions. The remaining of the minute image recording layer results in the occurrence of minute dot-like stains on the printed matter, which is a serious problem in practical use. This improvement is one of the important technical issues.

この課題を改善するため、例えば現像促進作用のある化合物の添加が提案されている。(例えば、特許文献1参照)この技術は、現像性の向上により微小の画像記録層の残存を抑制することが可能であるが、使用条件によっては耐刷性が低下する場合があった。また、平版印刷版原版を長期間保存した際に、微小の画像記録層の残存を抑制する効果が低下する場合があった。このように、微小の画像記録層の残存抑制を、耐刷性や保存性とともに優れたレベルに維持するという点では未だ不十分であるのが実情であり、その改善が望まれていた。
特開2001−171250号公報 特開2005−99113号公報
In order to improve this problem, for example, the addition of a compound having a development promoting action has been proposed. (For example, refer to Patent Document 1) Although this technique can suppress the remaining of a minute image recording layer by improving developability, printing durability may be deteriorated depending on use conditions. Further, when the planographic printing plate precursor is stored for a long period of time, the effect of suppressing the remaining of the minute image recording layer may be reduced. As described above, the fact that the suppression of the remaining of the minute image recording layer is maintained at an excellent level together with the printing durability and the storage stability is still insufficient, and the improvement has been desired.
JP 2001-171250 A JP 2005-99113 A

本発明の目的は、支持体上に、下塗り層、画像記録層、および保護層をこの順に有する平版印刷版原版において、微小の画像記録層の残存抑制を、耐刷性や保存性とともに優れたレベルに維持できる平版印刷版原版、並びにそれを用いた平版印刷方法を提供することにある。   The object of the present invention is to improve the residual suppression of a minute image recording layer, together with printing durability and storage stability, in a lithographic printing plate precursor having an undercoat layer, an image recording layer, and a protective layer in this order on a support. An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that can be maintained at a level, and a lithographic printing method using the same.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、支持体上に少なくとも下塗り層、画像記録層および層状化合物を含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版において、支持体上の各層に含まれるハロゲン化物イオンの合計を0ないし5.0μmol/m2
することによって、微小の画像記録層の残存を抑制でき、更に、特定の化合物を下塗り層および画像記録層の少なくとも一方に含有させることによりその効果が一層高まるという予想外の効果を見出し、微小の画像記録層の残存が少ない、保存性に優れた平版印刷版原版を完成させた。本発明は以下のとおりである。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention provide a lithographic printing plate precursor having a protective layer containing at least an undercoat layer, an image recording layer and a layered compound in this order on the support. By setting the total of halide ions contained in each layer to 0 to 5.0 μmol / m 2 , it is possible to suppress the remaining of the minute image recording layer, and to add a specific compound to at least one of the undercoat layer and the image recording layer. An unexpected effect that the effect is further enhanced by the inclusion was found, and a lithographic printing plate precursor excellent in preservability with little residual image recording layer was completed. The present invention is as follows.

1.支持体上に少なくとも下塗り層、画像記録層および層状化合物を含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版であって、支持体上の各層に含まれるハロゲン化物イオンの合計が、0ないし5.0μmol/mであることを特徴とする平版印刷版原版。
2.下塗り層および画像記録層の少なくとも一方に、下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする前記1記載の平版印刷版原版。
一般式(1) X(−Y)
1. A lithographic printing plate precursor having in this order at least an undercoat layer, an image recording layer and a protective layer containing a layered compound on a support, and the total of halide ions contained in each layer on the support is 0 to 5. A lithographic printing plate precursor characterized by being 0 μmol / m 2 .
2. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein a compound represented by the following general formula (1) is contained in at least one of the undercoat layer and the image recording layer.
General formula (1) X (-Y) n

式中、Xは、炭素原子数1〜30を含む脂肪族もしくは芳香族炭化水素、炭素原子数1〜30および窒素原子数1〜8を含む脂肪族アミン、炭素原子数1〜30および酸素原子数1〜10の脂肪族エーテルならびに炭素原子数1〜30を含む複素環化合物から選ばれる化合物からn個の水素原子を除いたn価の基を表す。Xで表される基は、さらに置換基を有してもよい。Yは−COOM、−OP=O(OM)、または、−P=O(OM)を表し、Mは水素原子または対カチオンを表す。nは1〜20の整数を表す。 In the formula, X is an aliphatic or aromatic hydrocarbon containing 1 to 30 carbon atoms, an aliphatic amine containing 1 to 30 carbon atoms and 1 to 8 nitrogen atoms, 1 to 30 carbon atoms and an oxygen atom. It represents an n-valent group obtained by removing n hydrogen atoms from a compound selected from aliphatic ethers of 1 to 10 and heterocyclic compounds containing 1 to 30 carbon atoms. The group represented by X may further have a substituent. Y represents —COOM, —OP═O (OM) 2 , or —P═O (OM) 2 , and M represents a hydrogen atom or a counter cation. n represents an integer of 1 to 20.

3.前記一般式(1)で表される化合物において、nが2〜10であることを特徴とする前記1または2に記載の平版印刷版原版。
4.前記画像記録層が、さらに(A)増感色素、(B)重合開始剤、および(C)重合性化合物を含有することを特徴とする前記1〜3のいずれかに記載の平版印刷版原版。
5.前記画像記録層が、さらに、バインダーポリマーを含有することを特徴とする前記1〜4のいずれかに記載の平版印刷版原版。
6.前記(A)増感色素が赤外線吸収剤であることを特徴とする前記1〜5のいずれかにに記載の平版印刷版原版。
7.前記画像記録層が、さらに、マイクロカプセルまたはミクロゲルを含有することを特徴とする前記1〜6のいずれかに記載の平版印刷版原版。
8.前記画像記録層が、印刷インキおよび湿し水のうちの少なくともいずれかにより除去可能であることを特徴とする前記1〜7のいずれかに記載の平版印刷版原版。
9.支持体がアルミニウムであって、支持体中の鉄含有量が 0.07〜0.25質量%の範囲であることを特徴とする前記1〜8のいずれかに記載の平版印刷版原版。
10.支持体中の鉄含有量が0.07〜0.15質量%の範囲であることを特徴とする前記11記載の平版印刷版原版。
11.支持体がアルミニウムであって、支持体中のマグネシウム含有量が0.005〜0.20質量%の範囲であることを特徴とする前記1〜10のいずれかに記載の平版印刷版原版。
12.前記1〜11に記載の平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光した後に印刷機に装着するか、印刷機に装着した後に赤外線レーザーにより画像露光し、印刷インキと湿し水とを供給して機上現像処理を行い、印刷することを特徴とする平版印刷方法。
3. 3. The lithographic printing plate precursor as described in 1 or 2 above, wherein n is 2 to 10 in the compound represented by the general formula (1).
4). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 3 above, wherein the image recording layer further contains (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound. .
5. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 4 above, wherein the image recording layer further contains a binder polymer.
6). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 5 above, wherein the (A) sensitizing dye is an infrared absorber.
7). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 6 above, wherein the image recording layer further contains a microcapsule or a microgel.
8). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 7 above, wherein the image recording layer is removable by at least one of printing ink and fountain solution.
9. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 8 above, wherein the support is aluminum, and the iron content in the support is in the range of 0.07 to 0.25% by mass.
10. The lithographic printing plate precursor as described in 11 above, wherein the iron content in the support is in the range of 0.07 to 0.15 mass%.
11. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 10 above, wherein the support is aluminum, and the magnesium content in the support is in the range of 0.005 to 0.20 mass%.
12 The lithographic printing plate precursor as described in 1 to 11 above is image-exposed with an infrared laser and then attached to a printing machine, or image-exposed with an infrared laser after being attached to a printing machine, and printing ink and dampening water are supplied. A lithographic printing method comprising performing on-press development and printing.

本発明では、平版印刷版原版の支持体上の各層に含まれるハロゲン化物イオンの合計を5.0μmol/m以下にすることによって、微小の画像記録層の残存を抑制できた。
その理由の詳細は明らかではないが、一般にハロゲン化物イオンは金属の腐食を加速させることから、ハロゲン化物イオンが本発明の範囲を超える場合には、基板の腐食が高温・高湿条件で進行し、基板の表面の状態が変化することで画像記録層が残存しやすくなっていることが推定され、ハロゲン化物イオンの量を上記範囲にすることによってこのような劣化の進行が遅くなると考えられる。
さらに、一般式(1)の化合物は支持体表面への吸着性を有するので、下塗り層および画像記録層の少なくとも一方に含有させることによって支持体表面に吸着し、腐食防止剤として機能することにより、ハロゲン化物イオン量限定の効果と相まって、保存安定性を向上させているものと推定される。
In the present invention, the remaining of the fine image recording layer can be suppressed by making the total of halide ions contained in each layer on the support of the planographic printing plate precursor not more than 5.0 μmol / m 2 .
Although the details of the reason are not clear, since halide ions generally accelerate the corrosion of metals, if halide ions exceed the scope of the present invention, the corrosion of the substrate proceeds under high temperature and high humidity conditions. It is presumed that the image recording layer is likely to remain by changing the surface state of the substrate, and it is considered that the progress of such deterioration is slowed by setting the amount of halide ions in the above range.
Furthermore, since the compound of the general formula (1) has adsorptivity to the support surface, it can be adsorbed on the support surface by being contained in at least one of the undercoat layer and the image recording layer and function as a corrosion inhibitor. It is presumed that the storage stability is improved in combination with the effect of limiting the amount of halide ions.

本発明によれば、支持体上の各層に含まれるハロゲン化物イオンの合計を0ないし5.
0μmol/mとすることによって、微小の画像記録層の残存を抑制でき、微小の画像記録層の残存が抑制された、保存性に優れた平版印刷版原版を得ることができる。
According to the present invention, the total number of halide ions contained in each layer on the support is 0 to 5.
By setting the concentration to 0 μmol / m 2 , it is possible to suppress the remaining of the minute image recording layer, and it is possible to obtain a lithographic printing plate precursor excellent in storage stability in which the remaining of the minute image recording layer is suppressed.

〔平版印刷版原版〕
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に少なくとも下塗り層、画像記録層および層状化合物を含有する保護層をこの順に有し、支持体上の各層に含まれるハロゲン化物イオンの合計が0ないし5.0μmol/mであることを特徴とする。また、本発明の平版印刷
版原版は、下塗り層および画像記録層の少なくとも一方に、一般式(1)で表される化合物を含有することが好ましい。
なお、支持体上に少なくとも下塗り層、画像記録層および層状化合物を含有する保護層をこの順に有するとは、支持体上に少なくとも上記成分を含有する層を設けていることを表し、目的に応じて更に設けられる層の存在を否定するものではない。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor according to the invention has at least an undercoat layer, an image recording layer and a protective layer containing a layered compound in this order on a support, and the total of halide ions contained in each layer on the support is 0 to 0. It is 5.0 μmol / m 2 . The lithographic printing plate precursor according to the invention preferably contains a compound represented by the general formula (1) in at least one of the undercoat layer and the image recording layer.
Note that having a protective layer containing at least an undercoat layer, an image recording layer, and a layered compound in this order on the support means that a layer containing at least the above components is provided on the support, depending on the purpose. This does not deny the existence of additional layers.

ここでいう、支持体上の各層に含まれるハロゲン化物イオンの合計とは、支持体上の全層に含まれるフッ化物イオン(F)、塩化物イオン(Cl)、臭化物イオン(Br)、およびヨウ化物イオン(I)のモル数を合計したものを表す。
支持体上の各層に含まれるハロゲン化物イオンの合計は、好ましくは0ないし4.0μ
mol/m、さらに好ましくは0ないし3μmol/m、特に好ましくは0ないし2.0μmol/mである。
Here, the total of halide ions contained in each layer on the support means fluoride ions (F ), chloride ions (Cl ), bromide ions (Br ) contained in all layers on the support. ), And the total number of moles of iodide ion (I ).
The total of halide ions contained in each layer on the support is preferably 0 to 4.0 μm.
mol / m 2 , more preferably 0 to 3 μmol / m 2 , particularly preferably 0 to 2.0 μmol / m 2 .

ハロゲン化物イオン濃度を上記範囲とする方法としては、(1)ハロゲン化物イオンを含まない構造の化合物を使用する、(2)各化合物や調製用の溶剤中に、不純物や対イオンとして含有されるハロゲン化物イオンを可能な限り低減する、および、(3)基板表面に付着したハロゲン化物イオンを十分洗浄する、などの手段が挙げられる。   As a method for setting the halide ion concentration within the above range, (1) a compound having a structure not containing halide ions is used, and (2) each compound or a solvent for preparation is contained as an impurity or counter ion. Examples thereof include reducing the halide ions as much as possible and (3) sufficiently washing the halide ions attached to the substrate surface.

(1)の方法としてより具体的には、バインダーポリマー、増感色素、重合開始剤、感脂化剤、現像促進剤、重合性化合物、下塗り化合物、界面活性剤、着色剤、保護層用バインダー、層状化合物、低分子親水性化合物、本発明の特定化合物などの添加剤について、例えば以下の方法によりハロゲン化物イオンをなくすことができる。
対イオンとしてハロゲン化物イオンが含まれる場合には、ハロゲン化物イオン以外の対イオンをあらかじめ用いるか、一旦ハロゲン化物イオンを対イオンとする化合物を製造した後に、塩交換、イオン交換などの方法により、ハロゲン化物イオン以外のイオンに置換することができる。あるいは、オニウム型(アンモニウム、スルホニウム、アジニウム、ヨードニウム、ホスホニウム)などのイオン型の化合物(例えば、重合開始剤、増感色素、感脂化剤、塩構造の低分子親水性化合物(現像促進剤)、など)を用いる代わりに、非イオン型の代替化合物を用いてもよい。
More specifically, the method (1) includes a binder polymer, a sensitizing dye, a polymerization initiator, a sensitizer, a development accelerator, a polymerizable compound, an undercoat compound, a surfactant, a colorant, and a protective layer binder. With regard to additives such as layered compounds, low molecular weight hydrophilic compounds, and specific compounds of the present invention, halide ions can be eliminated, for example, by the following method.
When a halide ion is included as a counter ion, a counter ion other than the halide ion is used in advance, or after producing a compound having a halide ion as a counter ion once, by a method such as salt exchange or ion exchange, Substitution can be made with ions other than halide ions. Alternatively, ionic type compounds such as onium type (ammonium, sulfonium, azinium, iodonium, phosphonium) (for example, polymerization initiator, sensitizing dye, sensitizer, low molecular weight hydrophilic compound having a salt structure (development accelerator) , Etc.) may be used instead of nonionic alternative compounds.

(2)の方法としてより具体的には、不純物、副生成物、あるいは、製造時の触媒の残渣などとしてハロゲン化物イオンが含まれる場合には、再結晶、再沈殿、イオン交換、塩交換、イオン交換、透析、逆浸透法、カラムクロマトグラフィー、サイズ排除クロマトグラフィー、吸着(シリカゲル、アルミナ、ゼオライト、ハイドロタルサイト、その他の吸着剤など)、洗浄、昇華、蒸留などの方法で除去する方法が好ましく用いられるほか、反応時の溶媒、原料、装置などに起因するハロゲン化物イオンの量を低減させることもまた有効である。
硝酸銀溶液を添加するなどの方法により、ハロゲン化物イオンを難溶解性塩として沈殿させ、これを除去する方法もまた好ましく用いられる。
More specifically, in the method (2), when halide ions are contained as impurities, by-products, or catalyst residues during production, recrystallization, reprecipitation, ion exchange, salt exchange, Removal methods such as ion exchange, dialysis, reverse osmosis, column chromatography, size exclusion chromatography, adsorption (silica gel, alumina, zeolite, hydrotalcite, other adsorbents), washing, sublimation, distillation, etc. Besides being preferably used, it is also effective to reduce the amount of halide ions resulting from the solvent, raw materials, equipment, etc. during the reaction.
A method of precipitating halide ions as a hardly soluble salt by a method such as adding a silver nitrate solution and removing it is also preferably used.

本発明におけるハロゲン化物イオンの濃度は、従来公知の方法で測定することができるが、具体的には、例えば、イオンクロマトグラフィー法で定量する方法、硝酸銀水溶液
で滴定する方法などの測定手法を目的により選択すればよい。
このような測定方法で検出されたハロゲ化物ンイオン濃度が上記範囲である場合、本発明の平版印刷版原版であることになる。また、本発明の平版印刷版原版は、支持体上に複数の層が塗布されたものであり、複数の層全体としてのハロゲン化物イオン濃度が上記の範囲である必要がある。
個別の素材および層全体のハロゲン化物イオン濃度の測定は、次のようにして行うことができる。
The concentration of halide ions in the present invention can be measured by a conventionally known method. Specifically, for example, a method of quantifying by ion chromatography, an aqueous silver nitrate solution
A measuring method such as a titration method may be selected depending on the purpose.
When the halide ion concentration detected by such a measurement method is in the above range, the lithographic printing plate precursor according to the invention is used. Moreover, the lithographic printing plate precursor according to the present invention has a plurality of layers coated on a support, and the halide ion concentration as a whole of the plurality of layers needs to be in the above range.
Measurement of the halide ion concentration of the individual material and the whole layer can be performed as follows.

(ハロゲン化物イオン濃度の測定方法)
(1)素材(例えばイオン系界面活性剤およびバインダーポリマー)中のハロゲン化物イオン測定試料の作製
試料3.0gを100mlビーカーに取り、溶媒60mlを加えた後、超音波を30分間照射した。溶媒は、試料が完全に溶解するように、イオン交換水またはイオン交換水に有機溶媒、例えばメタノール、MFG(2−メトキシ−1−プロパノール)などを加えた混合溶媒から選択する。
(2)平版印刷版原版の基板上の全層からのハロゲン化物イオン測定試料の作製
平版印刷版原版1500cmをメタノール:水混合溶媒(容量比=7:3)1Lに6時間浸漬して基板上の各層からハロゲン化物イオンを溶出させた。減圧にて抽出液から溶媒を除去し、更にイオン交換水8mlを加えた後、超音波を30分間照射した。
ODS前処理ディスクを通した後にイオン交換水を加え、全量を10mlとした。
(3)イオンクロマトグラフィー
上記(1)および(2)記載の方法により作製した試料について、東ソー製LC-8020イ
オンクロマトグラフィー装置(カラム:東ソー製IC-Anion-PW、移動層:東ソー製アニオ
ン標準溶離液、温度:35℃、流速:1.2ml/min)を用いて、ハロゲン化物イオンを定量した。平版印刷版原版から抽出した試料については1mあたりに換算を行った。
(Measurement method of halide ion concentration)
(1) Preparation of halide ion measurement sample in material (for example, ionic surfactant and binder polymer) A sample of 3.0 g was placed in a 100 ml beaker, 60 ml of solvent was added, and then ultrasonic waves were applied for 30 minutes. The solvent is selected from ion-exchanged water or a mixed solvent obtained by adding an organic solvent such as methanol, MFG (2-methoxy-1-propanol) or the like to ion-exchanged water so that the sample is completely dissolved.
(2) Preparation of halide ion measurement samples from all layers on the lithographic printing plate precursor substrate The lithographic printing plate precursor 1500 cm 2 was immersed in 1 L of methanol: water mixed solvent (volume ratio = 7: 3) for 6 hours. Halide ions were eluted from the upper layers. The solvent was removed from the extract under reduced pressure, and 8 ml of ion exchange water was further added, followed by irradiation with ultrasonic waves for 30 minutes.
After passing through the ODS pretreatment disk, ion exchange water was added to make the total volume 10 ml.
(3) Ion Chromatography Samples prepared by the methods described in (1) and (2) above were prepared using a Tosoh LC-8020 ion chromatography device (column: IC-Anion-PW manufactured by Tosoh, moving layer: anion standard manufactured by Tosoh). The eluent, temperature: 35 ° C., flow rate: 1.2 ml / min) was used to quantify halide ions. The sample extracted from the lithographic printing plate precursor was converted per 1 m 2 .

上記のようにしてハロゲン化物イオン濃度を上記範囲内にすることにより、非画像部の汚れや画像欠陥のない経時安定性に優れた平版印刷版原版が得られる。   By setting the halide ion concentration in the above range as described above, a lithographic printing plate precursor having excellent non-image area stains and image defects and excellent temporal stability can be obtained.

〔一般式(1)で表される化合物〕
本発明では、下塗り層および画像記録層の少なくとも一方に、下記一般式(1)で表される化合物(以下、特定化合物とも称する。)を含有することが好ましい。
[Compound represented by the general formula (1)]
In the present invention, it is preferable that at least one of the undercoat layer and the image recording layer contains a compound represented by the following general formula (1) (hereinafter also referred to as a specific compound).

一般式(1) X(−Y) General formula (1) X (-Y) n

式中、Xは、炭素原子数1〜30を含む脂肪族もしくは芳香族炭化水素、炭素原子数1〜30および窒素原子数1〜8を含む脂肪族アミン、炭素原子数1〜30および酸素原子数1〜10の脂肪族エーテルならびに炭素原子数1〜30を含む複素環化合物から選ばれる化合物からn個の水素原子を除いたn価の基を表す。Xで表される基は、さらに置換基を有してもよい。Yは−COOM、−OP=O(OM)、または、−P=O(OM)を表し、Mは水素原子または対カチオンを表す。nは1〜20の整数を表す。特にYが−COOMであり、Mが水素原子、nが2〜10の化合物が好ましい。 In the formula, X is an aliphatic or aromatic hydrocarbon containing 1 to 30 carbon atoms, an aliphatic amine containing 1 to 30 carbon atoms and 1 to 8 nitrogen atoms, 1 to 30 carbon atoms and an oxygen atom. It represents an n-valent group obtained by removing n hydrogen atoms from a compound selected from aliphatic ethers of 1 to 10 and heterocyclic compounds containing 1 to 30 carbon atoms. The group represented by X may further have a substituent. Y represents —COOM, —OP═O (OM) 2 , or —P═O (OM) 2 , and M represents a hydrogen atom or a counter cation. n represents an integer of 1 to 20. Particularly preferred is a compound wherein Y is —COOM, M is a hydrogen atom, and n is 2 to 10.

Xが脂肪族炭化水素からの基を表すとき、炭素原子数は1〜20がより好ましく、特に好ましくは1〜16である。
上記脂肪族炭化水素の好ましい例としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、2−エチルヘキサン、デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカン、オクタデカン、エチレン、プロピレン、2−メチルプロピレン、アセチレン、メチルアセチレンなどを挙げることができる。
When X represents a group derived from an aliphatic hydrocarbon, the number of carbon atoms is more preferably from 1 to 20, and particularly preferably from 1 to 16.
Preferred examples of the aliphatic hydrocarbon include methane, ethane, propane, butane, pentane, hexane, cyclohexane, octane, 2-ethylhexane, decane, dodecane, tetradecane, hexadecane, octadecane, ethylene, propylene, and 2-methylpropylene. Acetylene, methylacetylene and the like.

Xが芳香族炭化水素からの基を表すとき、炭素原子数は6〜20が好ましく、6〜18がより好ましく、特に好ましくは6〜12である。
上記芳香族炭化水素の好ましい例としては、ベンゼン、ナフタレンが挙げられる。なかでも好ましいXとしては、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。
When X represents a group derived from an aromatic hydrocarbon, the number of carbon atoms is preferably 6-20, more preferably 6-18, and particularly preferably 6-12.
Preferable examples of the aromatic hydrocarbon include benzene and naphthalene. Among them, preferred X is a phenyl group or a naphthyl group.

Xが炭素原子数1〜30および窒素原子数1〜8を含む脂肪族アミンからの基を表すとき、炭素原子数は1〜20および窒素原子数1〜5がより好ましい。
上記脂肪族アミンの好ましい例として、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、N,N−ジメチルエチルアミン、N,N−ジメチルプロピルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、1,2−ビス(ジメチルアミノ)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N−ビス(2−ジメチルアミノエチル)メチルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチル−1,2−ジアミノプロパン、 N,N,N’,N’−テトラメチル−1,3−ジアミノプロパン、 N,N,N’,N’−テトラメチル−1,6−ヘキサメチレンジアミン、N,N’−ビス(2−ジメチルアミノエチル)−N,N’−ジメチルエチレンジアミン、1,2−ビス[(2−ジメチルアミノエチル)オキシ]エチレン、などが挙げられる。
なかでも好ましいXとして、上記アミン分子中の各メチル基から1個の水素原子を除いた残基を挙げることができる。
When X represents a group from an aliphatic amine containing 1 to 30 carbon atoms and 1 to 8 nitrogen atoms, the number of carbon atoms is more preferably 1 to 20 and 1 to 5 nitrogen atoms.
Preferred examples of the aliphatic amine include methylamine, ethylamine, propylamine, dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, N, N-dimethylethylamine, N, N-dimethylpropylamine, trimethylamine, triethylamine, 1,2-bis. (Dimethylamino) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine, N, N-bis (2-dimethylaminoethyl) methylamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1, 2-diaminopropane, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,3-diaminopropane, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,6-hexamethylenediamine, N, N ′ -Bis (2-dimethylaminoethyl) -N, N'-dimethylethylenediamine, 1,2-bis [(2-dimethylaminoethyl) oxy] ethylene, and the like.
Among them, preferred X is a residue obtained by removing one hydrogen atom from each methyl group in the amine molecule.

Xが炭素原子数1〜30および酸素原子数1〜10の脂肪族エーテルからの基を表すとき、脂肪族エーテルとしてはオキシエチレン基を有する化合物が好ましい。このようなエーテルとしては、エチレングリコールまたはポリエチレングリコールのアルキルメチルエーテルもしくはアルキルエチルエーテル、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルの飽和もしくは不飽和脂肪酸エステルなどが好ましいものとして挙げられる。
なかでも好ましいXとして、上記アルキルメチルエーテルもしくはアルキルエチルエーテルのメチル基もしくはエチル基から1個の水素原子を除いた1価の基が挙げられる。
When X represents a group derived from an aliphatic ether having 1 to 30 carbon atoms and 1 to 10 oxygen atoms, the aliphatic ether is preferably a compound having an oxyethylene group. Preferred examples of such ether include alkyl methyl ether or alkyl ethyl ether of ethylene glycol or polyethylene glycol, saturated or unsaturated fatty acid ester of polyethylene glycol monoalkyl ether, and the like.
Among them, preferred X is a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from the methyl group or ethyl group of the above alkyl methyl ether or alkyl ethyl ether.

Xが複素環化合物からの基(複素環基)を表すとき、3〜8員環であることが好ましく、3〜6員環であることがさらに好ましく、5〜6員環であることが特に好ましい。また、複素環を構成するヘテロ原子の種類としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を含むことが好ましい。
好ましい複素環基の例としては、ピロリニル、フラニル、チオフェニル、ベンゾピロリニル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル、ピラゾリニル、イソキサゾリニル、イソチアゾリニル、インダゾリニル、ベンゾイソキサゾリニル、ベンゾイソチアゾリニル、イミダゾリニル、オキサゾリニル、チアゾリニル、ベンズイミダゾリニル、ベンズオキサゾリニル、ベンゾチアゾリニル、ピリジニル、キノリニル、イソキノリニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、アシリジニル、フェナントリジニル、カルバゾリニル、プリニル、ピラニル、ピペリジニル、ピペラジリニル、モルホリニル、インドリニル、インドリジニル、シンノリニル、アクリジニル、フェノチアジニル、テトラゾリニル、トリアジニル、などが挙げられる。
When X represents a group (heterocyclic group) from a heterocyclic compound, it is preferably a 3- to 8-membered ring, more preferably a 3- to 6-membered ring, and particularly preferably a 5- to 6-membered ring. preferable. Moreover, as a kind of hetero atom which comprises a heterocyclic ring, it is preferable that a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom is included.
Examples of preferred heterocyclic groups include pyrrolinyl, furanyl, thiophenyl, benzopyrrolinyl, benzofuranyl, benzothiophenyl, pyrazolinyl, isoxazolinyl, isothiazolinyl, indazolinyl, benzisoxazolinyl, benzisothiazolinyl, imidazolinyl, oxazolinyl, thiazolinyl , Benzimidazolinyl, benzoxazolinyl, benzothiazolinyl, pyridinyl, quinolinyl, isoquinolinyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, phthalazinyl, quinazolinyl, quinoxalinyl, acylidinyl, phenanthridinyl, carbazolinyl, purinyl, pyranidinyl, pyranyl, piperidinyl , Morpholinyl, indolinyl, indolizinyl, cinnolinyl, acridinyl, phenothiazinyl, tetrazo Cycloalkenyl, triazinyl, and the like.

Xで表される基は更に1個または複数個の置換基を有することができる。
置換基の例としては、カルボン酸エステル基(例えば、カルボン酸アルキルエステル基として、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プルピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、2−ヒドロキシエトキシカルボニル、2−メトキシエトキシカルボニル、アルコキシポリ(エチレンオキシ)カルボニル、アシルアミノポリ(エチレンオキシ)カルボニルなど、カルボン酸アリールエステル基として、フェノキシカルボニルなど)、直鎖、分岐または環状のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、ドデシルなど)、アリール基(フェニルなど)、アルキニル基、複素環基、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−Iなど)、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、スルホ基、スルホナート基、
The group represented by X can further have one or more substituents.
Examples of substituents include carboxylic acid ester groups (for example, carboxylic acid alkyl ester groups such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propyloxycarbonyl, isopropyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, octyloxycarbonyl, cyclohexyloxy Phenoxy as carboxylic acid aryl ester groups such as carbonyl, 2-ethylhexyloxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, 2-hydroxyethoxycarbonyl, 2-methoxyethoxycarbonyl, alkoxypoly (ethyleneoxy) carbonyl, acylaminopoly (ethyleneoxy) carbonyl, etc. Carbonyl), linear, branched or cyclic alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, hexyl) Cyclohexyl, octyl, dodecyl, etc.), aryl groups (eg, phenyl), alkynyl groups, heterocyclic groups, halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I, etc.), hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, mercapto groups , Alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, sulfo group, sulfonate group,

アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、カルバモイルオキシ基、Ν−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイト基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−Ν−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、 Amino group, N-alkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, carbamoyloxy group, Ν-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkyl Carbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-aryl Acylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-aryl Ureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, '-Alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N ', N'-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-Ν-alkylureido group, N′-aryl-N-arylureido group, N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group,

アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、 Alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N -Aryloxycarbonylamino group, formyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group Alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoy Group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfa A moyl group, an N, N-diarylsulfamoyl group, an N-alkyl-N-arylsulfamoyl group,

ジアルキルホスフォノ基(−PO(alkyl))、ジアリールホスフォノ基(−PO(aryl))、アルキルアリールホスフォノ基(−PO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基(−POH(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−POH(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO)およびその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO(alkyl))、ジアリールホスフォノオキシ基(−OPO(aryl))、アルキルアリールホスフォノオキシ基(−OPO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPOH(alkyl))およびその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPOH(aryl))およびその共役塩基基(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、 Dialkyl phosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono group (—PO 3 (aryl) 2 ), alkylaryl phosphono group (—PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkylphosphonate group), monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonate) Group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonatooxy group), dialkyl phosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diaryl phosphono oxy group (-OPO 3 (aryl) 2) , alkylaryl phosphonooxy group (-OPO alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphonooxy group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (Aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonatooxy group),

アルコキシシリル基、シアノ基、ニトロ基、オニウム基〔好ましくは、周期律表第V族あるいは第VI族の原子からなるオニウム基であり、より好ましくはアンモニウム、ホスホニウムあるいはスルホニウムであり、特に好ましくはアンモニウムである。オニウムの対カチオンとしては任意のものを選択できるが、好ましい例としては、ハロゲン化物イオン(フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンなど)、硫酸イオン、スルホン酸イオン(メタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオンなど)、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ホウ酸イオン、リン酸イオン、リン酸水素イオン、リン酸二水素イオンなどを挙げることができる。〕などが挙げられる。これらの基は組み合わされて複合置換基を形成していてもよい。 Alkoxysilyl group, cyano group, nitro group, onium group [preferably an onium group consisting of atoms of Group V or VI of the periodic table, more preferably ammonium, phosphonium or sulfonium, particularly preferably ammonium It is. Any onium counter cation can be selected, but preferred examples include halide ions (fluoride ions, chloride ions, bromide ions, iodide ions, etc.), sulfate ions, sulfonate ions (methanesulfonic acid). Ions, benzenesulfonate ions, p-toluenesulfonate ions, etc.), tetrafluoroborate ions, hexafluorophosphate ions, borate ions, phosphate ions, hydrogen phosphate ions, dihydrogen phosphate ions, etc. Can do. And the like. These groups may be combined to form a composite substituent.

一般式(1)におけるYは、−COOM、−OP=O(OM)、または、−P=O(OM)を表し、Mは水素原子または対カチオンを表す。nは1〜20の整数を表す。より好ましくは、nは2〜10である。nが2以上であるとは、1分子中にYで表される基が複数個存在していることを示している。Mは水素原子、または電荷を中和するに必要な対イオンを表す。Mは1価以外の価数を有するカチオン種であってもよく、対カチオンが複数種存在する複塩であってもよい。 Y in the general formula (1) represents -COOM, -OP = O (OM) 2 , or -P = O (OM) 2 , and M represents a hydrogen atom or a counter cation. n represents an integer of 1 to 20. More preferably, n is 2-10. n being 2 or more indicates that a plurality of groups represented by Y are present in one molecule. M represents a hydrogen atom or a counter ion necessary for neutralizing the electric charge. M may be a cation species having a valence other than monovalent, or may be a double salt having a plurality of counter cations.

Mとしては水素原子、または任意のカチオン種を選択することができるが、好ましい例としては、水素原子、アルカリ金属イオン(リチウム、ナトリウム、カリウムなど)、2族の金属イオン(マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなど)、その他の金属イオン(アルミニウム、チタン、鉄、亜鉛など)、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオン(メチルアンモニウム、エチルアンモニウム、ジエチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ピリジニウム、モルホリニウム、グアニジニウムなど)、ホスホニウムイオン、スルホニウムイオンなどを挙げることができる。更に好ましくは、水素原子、アルカリ金属イオン、アンモニウムイオン、または、有機アンモニウムイオンであり、特に好ましくは、水素原子、ナトリウムイオン、カリウムイオンである。   As M, a hydrogen atom or any cation species can be selected. Preferred examples include a hydrogen atom, an alkali metal ion (lithium, sodium, potassium, etc.), a group 2 metal ion (magnesium, calcium, strontium). , Barium, etc.), other metal ions (aluminum, titanium, iron, zinc, etc.), ammonium ions, organic ammonium ions (methylammonium, ethylammonium, diethylammonium, dimethylammonium, trimethylammonium, triethylammonium, tetraethylammonium, tetramethyl) Ammonium, tetrabutylammonium, pyridinium, morpholinium, guanidinium, etc.), phosphonium ions, sulfonium ions, and the like. More preferred are hydrogen atoms, alkali metal ions, ammonium ions, or organic ammonium ions, and particularly preferred are hydrogen atoms, sodium ions, and potassium ions.

以下に、一般式(1)で表される化合物の好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the preferable example of a compound represented by General formula (1) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2009255506
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本発明における特定化合物を下塗り層および画像記録層の少なくとも一方に含有させる方法としては、種々の方法が選択されうる。
すなわち、水、メタノール、エタノール、メチルエチルケトン、アセトニトリル、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシドなどの有機溶剤、それらの混合溶剤、あるいはこれら有機溶剤と水との混合溶剤に、本発明における特定化合物を少なくとも含むように溶解させた溶液を下塗り層または、画像記録層として塗布、乾燥して設ける方法を好ましい例として用いることができる。
また、水、メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤、それらの混合溶剤、あるいはこれら有機溶剤と水との混合溶剤に、本発明における特定化合物を少なくとも含むように溶解させた溶液に支持体を浸漬し、必要により適切な溶媒などによって洗浄を行った後に、乾燥して下塗り層を設ける方法も選択できる。
Various methods can be selected as a method for incorporating the specific compound in the present invention into at least one of the undercoat layer and the image recording layer.
That is, the specific compound in the present invention is added to water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, acetonitrile, an organic solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethyl sulfoxide, a mixed solvent thereof, or a mixed solvent of these organic solvent and water. As a preferred example, a method in which a solution dissolved so as to contain at least an undercoat layer or an image recording layer is applied and dried.
Further, the support is immersed in a solution prepared by dissolving at least the specific compound in the present invention in an organic solvent such as water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, a mixed solvent thereof, or a mixed solvent of these organic solvent and water. In addition, a method of drying and providing an undercoat layer after washing with an appropriate solvent, if necessary, can be selected.

前者の方法では、特定化合物の濃度が、好ましくは0.005〜20質量%、更に好ましくは0.01〜10質量%、特に好ましくは0.05〜5質量%の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。
また、後者の方法では、特定化合物の濃度は0.01〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.05〜5質量%である。また、浸漬温度は、20〜90℃が好ましく、より好ましくは25〜50℃であり、また、浸漬時間は0.1秒〜20分が好ましく、より好ましくは2秒〜1分である。
In the former method, a solution having a specific compound concentration of preferably 0.005 to 20% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass, and particularly preferably 0.05 to 5% by mass is applied by various methods. it can. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used.
In the latter method, the concentration of the specific compound is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.05 to 5% by mass. The immersion temperature is preferably 20 to 90 ° C, more preferably 25 to 50 ° C, and the immersion time is preferably 0.1 second to 20 minutes, more preferably 2 seconds to 1 minute.

また、上記の方法に用いられる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、リン酸、硫酸、硝酸などの無機酸、ニトロベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などの有機スルホン酸、フェニルスルホン酸などの有機ホスホン酸、安息香酸、フマル酸、リンゴ酸、サリチル酸などの有機カルボン酸など種々有機酸性物質等によりpHが調整されていてもよい。この場合、溶液のpHは、0〜12が好ましく、より好ましくはpH=1〜10の範囲である。   The solution used in the above method is a basic substance such as ammonia, triethylamine, triethanolamine, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, or an inorganic acid such as phosphoric acid, sulfuric acid, nitric acid. PH is adjusted by various organic acidic substances such as organic sulfonic acids such as nitrobenzenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid, organic phosphonic acids such as phenylsulfonic acid, benzoic acid, fumaric acid, malic acid, salicylic acid and other organic carboxylic acids. May be. In this case, the pH of the solution is preferably from 0 to 12, more preferably from pH = 1 to 10.

本発明の平版印刷版原版において、本発明における特定化合物は1種のみ用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、本発明における特定化合物は下塗り層と画像記録層の少なくとも一方に含まれていればよいが、下塗り層に含まれていることがより好ましく、その添加量および種類は、適宜任意の組み合わせを選択することができる。   In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the specific compound in the invention may be used alone or in combination of two or more. Further, the specific compound in the present invention may be contained in at least one of the undercoat layer and the image recording layer, but is more preferably contained in the undercoat layer, and the addition amount and type thereof are arbitrarily combined. You can choose.

本発明における特定化合物の乾燥後の添加量は、1〜100mg/mが好ましく、更に好ましくは2〜50mg/mであり、特に好ましくは4〜30mg/mである。添加量が1mg/mよりも少ないと、本発明の効果が十分に得られない場合がある。また、100mg/mより多くても同様である。 Amount after drying of the specific compound in the present invention is preferably from 1 to 100 mg / m 2, more preferably from 2 to 50 mg / m 2, particularly preferably from 4 to 30 mg / m 2. If the amount added is less than 1 mg / m 2 , the effects of the present invention may not be sufficiently obtained. Moreover, even if it exceeds 100 mg / m < 2 >, it is the same.

以下、本発明の平版印刷版原版の上記特定化合物以外の好ましい態様を詳しく説明する。   Hereinafter, preferred embodiments other than the specific compound of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.

〔支持体〕
本発明における支持体は、特に限定されないが、アルミニウム板が好ましい。アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
[Support]
The support in the present invention is not particularly limited, but an aluminum plate is preferable. The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

<アルミニウム板>
本発明に用いられるアルミニウム板の組成は特に限定されないが、鉄(Fe)の含有量が0.25質量%以下であることが好ましく、さらにFeの含有量が0.15質量%以下であることがより好ましい。
アルミニウム板のFe含有量をこの範囲にすることによって、アルミニウム支持体の腐食が抑制され、その結果、腐食に伴う汚れを一層軽減できる。
一方、完全な純粋なアルミニウムは精錬技術上、製造困難である。また鉄含有量が低下し過ぎた場合、強度不足を生じ、平版印刷版原版製造時の搬送不良や印刷時の版切れを起こすことが知られている。そのため、鉄(Fe)の含有量は0.07質量%以上であることが望ましい。
<Aluminum plate>
The composition of the aluminum plate used in the present invention is not particularly limited, but the iron (Fe) content is preferably 0.25% by mass or less, and the Fe content is 0.15% by mass or less. Is more preferable.
By setting the Fe content of the aluminum plate within this range, corrosion of the aluminum support is suppressed, and as a result, contamination due to corrosion can be further reduced.
On the other hand, perfect pure aluminum is difficult to manufacture due to refining technology. Further, it is known that when the iron content is excessively reduced, the strength is insufficient, and conveyance failure during lithographic printing plate precursor production and plate breakage during printing are caused. Therefore, the iron (Fe) content is desirably 0.07% by mass or more.

本発明においては、異元素をわずかに含有するものを用いてもよい。例えば、アルミニウムハンドブック第4版(1990年、軽金属協会発行)に記載されている従来公知の素材、例えば、JIS1050材、JIS1100材、JIS1070材、Mnを含むJIS3004材、国際登録合金3103A等を用いることができる。また、引張強度を増す目的で、これらのアルミニウム合金に0.1質量%以上のマグネシウムを添加したAl−Mg系合金、Al−Mn−Mg系合金(JIS3005材)を用いることもできる。更に、ZrやSiを含むAl−Zr系合金やAl−Si系合金を用いることもできる。更に、Al−Mg−Si系合金を用いることもできる。   In the present invention, those slightly containing foreign elements may be used. For example, a conventionally known material described in the aluminum handbook 4th edition (1990, issued by Light Metal Association), for example, JIS1050 material, JIS1100 material, JIS1070 material, JIS3004 material containing Mn, internationally registered alloy 3103A, etc. Can do. For the purpose of increasing the tensile strength, an Al—Mg alloy or an Al—Mn—Mg alloy (JIS 3005 material) obtained by adding 0.1 mass% or more of magnesium to these aluminum alloys can also be used. Furthermore, an Al—Zr alloy or an Al—Si alloy containing Zr or Si can also be used. Furthermore, an Al—Mg—Si based alloy can also be used.

本発明においては、このようなアルミニウム合金としては、Si、Cu、およびMgを含有するのが好ましい。具体的には、Siを0.01〜0.2質量%、Cuを0.005〜0.035質量%、Mgを0.005〜0.2質量%含有し、残部がAlと不可避不純物からなるアルミニウム合金を用いるのが好ましい。   In the present invention, such an aluminum alloy preferably contains Si, Cu, and Mg. Specifically, Si is contained in an amount of 0.01 to 0.2 mass%, Cu is contained in an amount of 0.005 to 0.035 mass%, Mg is contained in an amount of 0.005 to 0.2 mass%, and the balance is made of Al and inevitable impurities. It is preferable to use an aluminum alloy.

JIS1050材に関しては、特開昭59−153861号、特開昭61−51395号、特開昭62−146694号、特開昭60−215725号、特開昭60−215726号、特開昭60−215727号、特開昭60−216728号、特開昭61−272367号、特開昭58−11759号、特開昭58−42493号、特開昭58−221254号、特開昭62−148295号、特開平4−254545号、特開平4−165041号、特公平3−68939号、特開平3−234594号、特公平1−47545号および特開昭62−140894号の各公報に記載されている。また、特公平1−35910号公報、特公昭55−28874号公報等に記載された技術も知られている。   Regarding JIS 1050 materials, JP-A-59-153861, JP-A-61-51395, JP-A-62-146694, JP-A-60-215725, JP-A-60-215726, JP-A-60- No. 215727, JP-A-60-216728, JP-A-61-272367, JP-A-58-11759, JP-A-58-42493, JP-A-58-212254, JP-A-62-148295 JP-A-4-254545, JP-A-4-165441, JP-B-3-68939, JP-A-3-234594, JP-B-1-47545, and JP-A-62-140894. Yes. In addition, techniques described in Japanese Patent Publication No. 1-35910 and Japanese Patent Publication No. 55-28874 are also known.

JIS1070材に関しては、特開平7−81260号、特開平7−305133号、特開平8−49034号、特開平8−73974号、特開平8−108659号および特開平8−92679号の各公報に記載されている。   Regarding the JIS 1070 material, each of JP-A-7-81260, JP-A-7-305133, JP-A-8-49034, JP-A-8-73974, JP-A-8-108659, and JP-A-8-92679 is disclosed. Are listed.

Al−Mg系合金に関しては、特公昭62−5080号、特公昭63−60823号、特公平3−61753号、特開昭60−203496号、特開昭60−203497号、特公平3−11635号、特開昭61−274993号、特開昭62−23794号、特開昭63−47347号、特開昭63−47348号、特開昭63−47349号、特開昭64−1293号、特開昭63−135294号、特開昭63−87288号、特公平4−73392号、特公平7−100844号、特開昭62−149856号、特公平4−73394号、特開昭62−181191号、特公平5−76530号、特開昭63−30294号および特公平6−37116号の各公報に記載されている。また、特開平2−215599号公報、特開昭61−201747号公報等にも記載されている。   Regarding Al-Mg alloys, JP-B-62-5080, JP-B-63-60823, JP-B-3-61753, JP-A-60-203396, JP-A-60-203497, JP-B-3-11635 are used. JP, 61-274993, JP 62-23794, JP 63-47347, JP 63-47348, JP 63-47349, JP 64-1293, JP-A 63-135294, JP-A 63-87288, JP 4-73392, JP 7-100904, JP 62-149856, JP 4-73394, JP 62-62 181911, JP-B-5-76530, JP-A-63-30294 and JP-B-6-37116. Also described in JP-A-2-215599, JP-A-61-201747, and the like.

Al−Mn系合金に関しては、特開昭60−230951号、特開平1−306288号および特開平2−293189号の各公報に記載されている。また、特公昭54−42284号、特公平4−19290号、特公平4−19291号、特公平4−19292号、特開昭61−35995号、特開昭64−51992号、特開平4−226394号の各公報、米国特許第5,009,722号明細書、同第5,028,276号明細書等にも記載されている。   Al-Mn alloys are described in JP-A-60-230951, JP-A-1-306288, and JP-A-2-293189. In addition, JP-B-54-42284, JP-B-4-19290, JP-B-4-19291, JP-B-4-19292, JP-A-61-35995, JP-A-64-51992, JP-A-4-19592, No. 226394, US Pat. No. 5,009,722, US Pat. No. 5,028,276 and the like.

Al−Mn−Mg系合金に関しては、特開昭62−86143号公報および特開平3−222796号公報に記載されている。また、特公昭63−60824号、特開昭60−63346号、特開昭60−63347号、特開平1−293350号の各公報、欧州特許第223,737号、米国特許第4,818,300号、英国特許第1,222,777号の各明細書等にも記載されている。   The Al—Mn—Mg alloy is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-86143 and Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 3-2222796. JP-B 63-60824, JP-A 60-63346, JP-A 60-63347, JP-A-1-293350, European Patent No. 223,737, US Pat. No. 4,818, No. 300, British Patent No. 1,222,777, etc.

Al−Zr系合金に関しては、特公昭63−15978号公報および特開昭61−51395号公報に記載されている。また、特開昭63−143234号、特開昭63−143235号の各公報等にも記載されている。   Al-Zr alloys are described in Japanese Patent Publication No. 63-15978 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-51395. Also described in JP-A-63-143234 and JP-A-63-143235.

Al−Mg−Si系合金に関しては、英国特許第1,421,710号明細書等に記載されている。   The Al—Mg—Si alloy is described in British Patent 1,421,710.

アルミニウム合金を板材とするには、例えば、下記の方法を採用することができる。まず、所定の合金成分含有量に調整したアルミニウム合金溶湯に、常法に従い、清浄化処理を行い、鋳造する。清浄化処理には、溶湯中の水素等の不要ガスを除去するために、フラックス処理、アルゴンガス、塩素ガス等を用いる脱ガス処理、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォームフィルタ等のいわゆるリジッドメディアフィルタや、アルミナフレーク、アルミナボール等をろ材とするフィルターや、グラスクロスフィルタ等を用いるフィルタリング処理、あるいは、脱ガス処理とフィルタリング処理を組み合わせた処理が行われる。   In order to use an aluminum alloy as a plate material, for example, the following method can be employed. First, a molten aluminum alloy adjusted to a predetermined alloy component content is subjected to a cleaning process and cast according to a conventional method. In the cleaning process, in order to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, flux treatment, degassing process using argon gas, chlorine gas, etc., so-called rigid media filter such as ceramic tube filter, ceramic foam filter, A filtering process using a filter using alumina flakes, alumina balls or the like as a filter medium, a glass cloth filter or the like, or a process combining degassing process and filtering process is performed.

これらの清浄化処理は、溶湯中の非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥や、溶湯に溶け込んだガスによる欠陥を防ぐために実施されることが好ましい。溶湯のフィルタリングに関しては、特開平6−57432号、特開平3−162530号、特開平5−140659号、特開平4−231425号、特開平4−276031号、特開平5−311261号、特開平6−136466号の各公報等に記載されている。また、溶湯の脱ガスに関しては、特開平5−51659号公報、実開平5−49148号公報等に記載されている。特開平7−40017号公報には、溶湯の脱ガスに関する技術が記載されている。   These cleaning treatments are preferably performed in order to prevent defects caused by foreign matters such as non-metallic inclusions and oxides in the molten metal and defects caused by gas dissolved in the molten metal. Regarding filtering of the molten metal, JP-A-6-57432, JP-A-3-162530, JP-A-5-140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-276031, JP-A-5-311261, JP-A-5-311261 6-136466 and the like. Further, the degassing of the molten metal is described in JP-A-5-51659, Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-49148, and the like. Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-40017 describes a technique related to degassing of a molten metal.

ついで、上述したように清浄化処理を施された溶湯を用いて鋳造を行う。鋳造方法に関しては、DC鋳造法に代表される固体鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代表される駆動鋳型を用いる方法がある。
DC鋳造においては、冷却速度が0.5〜30℃/秒の範囲で凝固することが好ましい。0.5〜30℃/秒の範囲であると粗大な金属間化合物が形成されることがなく好ましい。DC鋳造を行った場合、板厚300〜800mmの鋳塊を製造することができる。その鋳塊を、常法に従い、必要に応じて面削を行い、通常、表層の1〜30mm、好ましくは1〜10mmを切削する。その前後において、必要に応じて、均熱化処理を行う。均熱化処理を行う場合、金属間化合物が粗大化しないように、450〜620℃で1〜48時間の熱処理を行うことが好ましい。熱処理が1時間以上であれば、均熱化処理の効果が十分となり好ましい。なお、均熱処理を行わない場合には、コストを低減させることができるという利点がある。
Next, casting is performed using the molten metal that has been subjected to the cleaning treatment as described above. As for the casting method, there are a method using a solid mold typified by a DC casting method and a method using a driving mold typified by a continuous casting method.
In DC casting, it is preferable to solidify at a cooling rate of 0.5 to 30 ° C./second. A range of 0.5 to 30 ° C./second is preferable because a coarse intermetallic compound is not formed. When DC casting is performed, an ingot having a thickness of 300 to 800 mm can be manufactured. The ingot is chamfered as necessary according to a conventional method, and usually 1 to 30 mm, preferably 1 to 10 mm, of the surface layer is cut. Before and after that, soaking treatment is performed as necessary. When performing a soaking treatment, it is preferable to perform a heat treatment at 450 to 620 ° C. for 1 to 48 hours so that the intermetallic compound does not become coarse. If heat processing is 1 hour or more, the effect of soaking | uniform-heating process will become enough, and it is preferable. In addition, when soaking is not performed, there is an advantage that the cost can be reduced.

その後、熱間圧延、冷間圧延を行ってアルミニウム板の圧延板とする。熱間圧延の開始温度は350〜500℃が適当である。熱間圧延の前もしくは後、またはその途中において、中間焼鈍処理を行ってもよい。中間焼鈍処理の条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて280〜600℃で2〜20時間が好ましく、より好ましくは350〜500℃で2〜10時間加熱するか、連続焼鈍炉を用いて好ましくは400〜600℃で6分以下、より好ましくは450〜550℃で2分以下加熱するかである。連続焼鈍炉を用いて10〜200℃/秒の昇温速度で加熱して、結晶組織を細かくすることもできる。   Then, hot rolling and cold rolling are performed to obtain a rolled aluminum plate. An appropriate starting temperature for hot rolling is 350 to 500 ° C. An intermediate annealing treatment may be performed before or after hot rolling or in the middle thereof. The conditions for the intermediate annealing treatment are preferably 2 to 20 hours at 280 to 600 ° C. using a batch annealing furnace, more preferably 2 to 10 hours at 350 to 500 ° C., or preferably using a continuous annealing furnace. Heating is performed at 400 to 600 ° C. for 6 minutes or less, more preferably 450 to 550 ° C. for 2 minutes or less. The crystal structure can be made finer by heating at a heating rate of 10 to 200 ° C./second using a continuous annealing furnace.

以上の工程によって、所定の厚さ、例えば、0.1〜0.5mmに仕上げられたアルミニウム板は、更にローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置によって平面性を改善してもよい。平面性の改善は、アルミニウム板をシート状にカットした後に行ってもよいが、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状態で行うことが好ましい。また、所定の板幅に加工するため、スリッタラインを通してもよい。また、アルミニウム板同士の摩擦による傷の発生を防止するために、アルミニウム板の表面に薄い油膜を設けてもよい。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、不揮発性のものが適宜用いられる。   The flatness of the aluminum plate finished to a predetermined thickness, for example, 0.1 to 0.5 mm by the above steps may be further improved by a correction device such as a roller leveler or a tension leveler. The flatness may be improved after the aluminum plate is cut into a sheet shape, but in order to improve the productivity, it is preferably performed in a continuous coil state. Further, a slitter line may be used for processing into a predetermined plate width. Moreover, in order to prevent generation | occurrence | production of the damage | wound by friction between aluminum plates, you may provide a thin oil film on the surface of an aluminum plate. As the oil film, a volatile or non-volatile film is appropriately used as necessary.

一方、連続鋳造法としては、双ロール法(ハンター法)、3C法に代表される冷却ロールを用いる方法、双ベルト法(ハズレー法)、アルスイスキャスターII型に代表される冷却ベルトや冷却ブロックを用いる方法が、工業的に行われている。連続鋳造法を用いる場合には、冷却速度が100〜1000℃/秒の範囲で凝固することが好ましい。連続鋳造法は、一般的には、DC鋳造法に比べて冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対する合金成分固溶度を高くすることができるという特徴を有する。連続鋳造法に関しては、特開平3−79798号、特開平5−201166号、特開平5−156414号、特開平6−262203号、特開平6−122949号、特開平6−210406号、特開平6−26308号の各公報等に記載されている。   On the other hand, as the continuous casting method, a twin roll method (hunter method), a method using a cooling roll typified by the 3C method, a double belt method (Hazley method), a cooling belt or a cooling block typified by Al-Swiss Caster II type The method using is industrially performed. In the case of using a continuous casting method, it is preferable to solidify at a cooling rate of 100 to 1000 ° C./second. Since the continuous casting method generally has a higher cooling rate than the DC casting method, it has a feature that the solid solubility of the alloy component in the aluminum matrix can be increased. As for the continuous casting method, JP-A-3-79798, JP-A-5-201166, JP-A-5-156414, JP-A-6-262203, JP-A-6-122949, JP-A-6-210406, JP-A-6-210406. It describes in each gazette of 6-26308.

連続鋳造を行った場合において、例えば、ハンター法等の冷却ロールを用いる方法を用いると、板厚1〜10mmの鋳造板を直接、連続鋳造することができ、熱間圧延の工程を省略することができるというメリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ベルトを用いる方法を用いると、板厚10〜50mmの鋳造板を鋳造することができ、一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に圧延することで、板厚1〜10mmの連続鋳造圧延板が得られる。   When continuous casting is performed, for example, if a method using a cooling roll such as a Hunter method is used, a cast plate having a thickness of 1 to 10 mm can be directly cast continuously, and the hot rolling step is omitted. The advantage of being able to In addition, when a method using a cooling belt such as the Husley method is used, a cast plate having a thickness of 10 to 50 mm can be cast. Generally, a hot rolling roll is arranged immediately after casting and continuously rolled. Thus, a continuous cast and rolled plate having a thickness of 1 to 10 mm is obtained.

これらの連続鋳造圧延板は、DC鋳造について説明したのと同様に、冷間圧延、中間焼鈍、平面性の改善、スリット等の工程を経て、所定の厚さ、例えば、0.1〜0.5mmの板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼鈍条件および冷間圧延条件については、特開平6−220593号、特開平6−210308号、特開平7−54111号、特開平8−92709号の各公報等に記載されている。   These continuous cast and rolled plates are subjected to processes such as cold rolling, intermediate annealing, improvement of flatness, slits, and the like in the same manner as described for DC casting. Finished to a thickness of 5 mm. Regarding the intermediate annealing condition and the cold rolling condition when the continuous casting method is used, JP-A-6-220593, JP-A-6-210308, JP-A-7-54111, JP-A-8-92709, etc. It is described in.

本発明に用いられるアルミニウム板は、JISに規定されるH18の調質が行われているのが好ましい。   The aluminum plate used in the present invention is preferably subjected to H18 tempering as defined in JIS.

このようにして製造されるアルミニウム板に更に腰の強さを求める場合は、MgやMnを添加したアルミニウム材料を採用することができる。腰を強くすると印刷機の版胴へのフィットしやすさが劣ってくるため、用途に応じて、材質および微量成分の添加量が適宜選択される。これらに関して、特開平7−126820号公報、特開昭62−140894号公報等に記載されている。
本発明において、アルミニウム支持体の腐食に影響せず、腰の強さを向上させるのにMgが最適であることを見出した。本発明に用いられるマグネシウム(Mg)の含有量は0.2質量%以下であることが好ましい。マグネシウムの添加量が0.2質量%いかであれば、十分な腰の強さが得られ、裁断工程に支障を来たさず好ましい。
Fe含有量を低下させた場合、アルミニウム支持体の強度が低下することが知られている。強度補填策としては数々の金属成分の添加が公知であるが、本発明ではマグネシウム添加が強度と微小点状汚れ性の両立の点で好ましいことことを見出している。
マグネシウム添加が0.005質量%以上であれば、十分な強度向上が見られ好ましい。
In the case where the firmness of the aluminum plate thus manufactured is further required, an aluminum material to which Mg or Mn is added can be employed. If the waist is strengthened, the ease of fitting to the plate cylinder of the printing press becomes inferior, so the material and the amount of trace components added are appropriately selected according to the application. These are described in JP-A Nos. 7-126820 and 62-140894.
In the present invention, it has been found that Mg is optimal for improving the strength of the waist without affecting the corrosion of the aluminum support. The content of magnesium (Mg) used in the present invention is preferably 0.2% by mass or less. If the added amount of magnesium is 0.2% by mass, it is preferable that sufficient strength of the waist is obtained and the cutting process is not hindered.
It is known that when the Fe content is lowered, the strength of the aluminum support is lowered. Addition of various metal components is known as a strength compensation measure, but in the present invention, it has been found that the addition of magnesium is preferable in terms of both strength and fine spot-like soiling properties.
If magnesium addition is 0.005 mass% or more, sufficient strength improvement is seen and it is preferable.

アルミニウム板の結晶組織は、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理を行った場合、アルミニウム板の表面の結晶組織が面質不良の発生の原因となることがあるので、表面においてあまり粗大でないことが好ましい。アルミニウム板の表面の結晶組織は、幅が200μm以下であるのが好ましく、100μm以下であるのがより好ましく、50μm以下であるのが更に好ましく、また、結晶組織の長さが5000μm以下であるのが好ましく、1000μm以下であるのがより好ましく、500μm以下であるのが更に好ましい。これらに関しては、特開平6−218495号、特開平7−39906号、特開平7−124609号の各公報等に記載がある。   The crystal structure of the aluminum plate may cause poor surface quality when the surface of the aluminum plate is subjected to chemical or electrochemical surface roughening. It is preferably not too coarse. The crystal structure on the surface of the aluminum plate preferably has a width of 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, still more preferably 50 μm or less, and the length of the crystal structure is 5000 μm or less. Is preferably 1000 μm or less, and more preferably 500 μm or less. These are described in JP-A-6-218495, JP-A-7-39906, JP-A-7-124609, and the like.

アルミニウム板の合金成分分布は、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理を行った場合、アルミニウム板表面の合金成分の不均一な分布に起因して面質不良が発生することがあるので、表面においてあまり不均一でないことが好ましい。これらに関しては、特開平6−48058号、特開平5−301478号、特開平7−132689号の各公報等に記載されている。   The alloy component distribution of the aluminum plate may cause poor surface quality due to non-uniform distribution of the alloy component on the surface of the aluminum plate when chemical surface roughening treatment or electrochemical surface roughening treatment is performed. For this reason, it is preferable that the surface is not very uneven. These are described in JP-A-6-48058, JP-A-5-301478, JP-A-7-132688, and the like.

アルミニウム板の金属間化合物は、その金属間化合物のサイズや密度が、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理に影響を与える場合がある。これらに関しては、特開平7−138687号、特開平4−254545号の各公報等に記載されている。   In the intermetallic compound of the aluminum plate, the size and density of the intermetallic compound may affect the chemical roughening treatment or the electrochemical roughening treatment. These are described in JP-A-7-138687 and JP-A-4-254545.

本発明に用いられるアルミニウム板は、連続した帯状のシート材または板材である。すなわち、アルミニウムウェブであってもよく、製品として出荷される平版印刷版原版に対応する大きさ等に裁断された枚葉状シートであってもよい。
アルミニウム板の表面のキズは平版印刷版用支持体に加工した場合に欠陥となる可能性があるため、平版印刷版用支持体とする表面処理工程の前の段階でのキズの発生は可能な限り抑制する必要がある。そのためには安定した形態で運搬時に傷付きにくい荷姿であることが好ましい。
アルミニウムウェブの場合、アルミニウムの荷姿としては、例えば、鉄製パレットにハードボードとフェルトとを敷き、製品両端に段ボールドーナツ板を当て、ポリチュ−ブで全体を包み、コイル内径部に木製ドーナツを挿入し、コイル外周部にフェルトを当て、帯鉄で絞め、その外周部に表示を行う。また、包装材としては、ポリエチレンフィルム、緩衝材としては、ニードルフェルト、ハードボードを用いることができる。この他にもいろいろな形態があるが、安定して、キズも付かず運送等が可能であればこの方法に限るものではない。
The aluminum plate used in the present invention is a continuous belt-like sheet material or plate material. That is, it may be an aluminum web or a sheet-like sheet cut to a size corresponding to a planographic printing plate precursor shipped as a product.
Since scratches on the surface of the aluminum plate may become defects when processed into a lithographic printing plate support, it is possible to generate scratches at the stage prior to the surface treatment process for making a lithographic printing plate support It is necessary to suppress as much as possible. For that purpose, it is preferable that the package has a stable form and is hardly damaged during transportation.
In the case of an aluminum web, for example, the packaging of aluminum is, for example, laying a hardboard and felt on an iron pallet, applying cardboard donut plates to both ends of the product, wrapping the whole with a polytube, and inserting a wooden donut into the inner diameter of the coil Then, a felt is applied to the outer periphery of the coil, the band iron is used to squeeze it, and the display is performed on the outer periphery. Moreover, a polyethylene film can be used as the packaging material, and needle felt and hard board can be used as the cushioning material. There are various other forms, but the present invention is not limited to this method as long as it is stable and can be transported without being damaged.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および画像記録層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it is easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image recording layer and the support. Prior to the roughening treatment of the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、アルミニウムの圧延段階において凹凸を設けたロールで凹凸形状を転写する転写法も用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Moreover, the transcription | transfer method which transfers an uneven | corrugated shape with the roll which provided the unevenness | corrugation in the rolling stage of aluminum can also be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、さらに、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/dm、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/mであるのが好ましく、1.5〜4.0g/mであるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions of anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などを一層改良するため、必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろん、これら拡大処理、封孔処理はこれらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。例えば、封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔でも可能である。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is. However, in order to further improve the adhesiveness with the upper layer, hydrophilicity, dirt resistance, heat insulation and the like. If necessary, it is immersed in an aqueous solution containing a hydrophilic compound and a micropore enlargement treatment or sealing treatment of an anodized film described in JP-A-2001-253181 or JP-A-2001-322365. The surface hydrophilization treatment to be performed can be appropriately selected and performed. Of course, the enlargement process and the sealing process are not limited to those described above, and any conventionally known methods can be performed. For example, as the sealing treatment, in addition to the vapor sealing, a single treatment with fluorinated zirconic acid, a treatment with sodium fluoride, and a vapor sealing with addition of lithium chloride are possible.

本発明に用いられる封孔処理は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができるが、なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。   The sealing treatment used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Among them, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and hot water. Sealing treatment is preferred. Each will be described below.

<1>無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。なかでも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。
<1> Sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferably exemplified.
Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zirconate fluoride, titanate fluoride, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate It is done. Of these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.

水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.05質量%以上であるのがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、1質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. Further, in terms of stain resistance, it is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less.

無機フッ素化合物を含有する水溶液は、さらに、リン酸塩化合物を含有するのが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性および耐汚れ性を向上させることができる。   It is preferable that the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound further contains a phosphate compound. When the phosphate compound is contained, the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, so that on-machine developability and stain resistance can be improved.

リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。なかでも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組み合わせは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有するのが好ましい。
Suitable examples of the phosphate compound include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.
Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, phosphotungstic acid, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Of these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.
The combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound and contains at least sodium dihydrogen phosphate as the phosphate compound. Is preferred.

水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性および耐汚れ性の向上の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのがより好ましく、また、溶解性の点で、20質量%以下であるのが好ましく、5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, from the viewpoint of improving on-press developability and stain resistance. Further, in terms of solubility, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比が、1/200〜10/1であるのが好ましく、1/30〜2/1であるのがより好ましい。
また、水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、40℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましい。
また、水溶液は、pH1以上であるのが好ましく、pH2以上であるのがより好ましく、また、pH11以下であるのが好ましく、pH5以下であるのがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で1回または複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
The ratio of each compound in the aqueous solution is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to 2/1. Is more preferable.
The temperature of the aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower.
The aqueous solution preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.
The method for sealing with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and examples thereof include an immersion method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.
Of these, the dipping method is preferred. When the treatment is performed using the dipping method, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, and preferably 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.

<2>水蒸気による封孔処理
水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧または常圧の水蒸気を連続的にまたは非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。
水蒸気の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、105℃以下であるのが好ましい。
水蒸気の圧力は、(大気圧−50mmAq)から(大気圧+300mmAq)までの範囲(1.008×105 〜1.043×105 Pa)であるのが好ましい。
また、水蒸気を接触させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
<2> Sealing treatment with water vapor Sealing treatment with water vapor includes, for example, a method in which pressurized or normal pressure water vapor is brought into contact with the anodized film continuously or discontinuously.
The temperature of the water vapor is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 105 ° C. or lower.
The water vapor pressure is preferably in the range (1.008 × 10 5 to 1.043 × 10 5 Pa) from (atmospheric pressure−50 mmAq) to (atmospheric pressure + 300 mmAq).
Further, the time for which the water vapor is contacted is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, more preferably 20 seconds or shorter.

<3>熱水による封孔処理
熱水による封孔処理としては、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。
熱水は、無機塩(例えば、リン酸塩)または有機塩を含有していてもよい。
熱水の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましい。
また、熱水に浸漬させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
<3> Sealing treatment with hot water Examples of the sealing treatment with hot water include a method in which an aluminum plate on which an anodized film is formed is immersed in hot water.
The hot water may contain an inorganic salt (for example, phosphate) or an organic salt.
The temperature of the hot water is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower.
Further, the time of immersion in hot water is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, more preferably 100 seconds or shorter, and even more preferably 20 seconds or shorter.

前記親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。   The hydrophilization treatment is described in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate methods. In this method, the support is subjected to immersion treatment or electrolytic treatment with an aqueous solution such as sodium silicate. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲で、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。   The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the image recording layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.

〔バックコート層〕
支持体に表面処理を施した後または下塗り層(後述)を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコート層を設けることができる。
バックコート層としては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。なかでも、Si(OCH、Si(OC、Si(OC、Si(OC等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat layer]
After the surface treatment is applied to the support or after an undercoat layer (described later) is formed, a backcoat layer can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat layer include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organic metal compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174, and the like. Preferable examples include a coating layer made of a metal oxide. Of these, the use of silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4 is inexpensive. It is preferable in that it is easily available.

〔下塗り層〕
本発明の平版印刷版原版においては、画像記録層と支持体との間に下塗り層を設ける。この下塗り層には、前述のように本発明の特定化合物が含有されていてもよい。以下では特定化合物以外の成分について説明する。
下塗り層は、未露光部において、画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、機上現像性が向上する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散せず効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点がある。
下塗り層用化合物(下塗り化合物)としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物等が好適に挙げられる。
最も好ましい下塗り化合物としては、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、および架橋性基を有するモノマーを共重合した高分子樹脂が挙げられる。
(Undercoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer is provided between the image recording layer and the support. This undercoat layer may contain the specific compound of the present invention as described above. Below, components other than a specific compound are demonstrated.
Since the undercoat layer tends to cause the image recording layer to peel off from the support in the unexposed area, the on-press developability is improved. In addition, in the case of infrared laser exposure, since the undercoat layer functions as a heat insulating layer, the heat generated by exposure does not diffuse to the support and can be used efficiently, so that the sensitivity can be increased. is there.
Specific examples of the undercoat layer compound (undercoat compound) include silane coupling agents having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, Preferable examples include phosphorus compounds having an ethylenic double bond reactive group described in Kaihei 2-304441.
The most preferable undercoat compound includes a polymer resin obtained by copolymerizing a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group.

下塗り用高分子樹脂の必須成分は、親水性支持体表面への吸着性基である。親水性支持体表面への吸着性の有無に関しては、例えば以下のような方法で判断できる。
試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布夜を作製し、その塗布夜を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように支持体上に塗布・乾燥させる。次に試験化合物を塗布した支
持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定などで実施できる。支持体吸着性がある化合物は、上記のような洗浄処理を行っても1mg/m2
以上残存する化合物である。
An essential component of the undercoat polymer resin is an adsorptive group on the hydrophilic support surface. The presence or absence of adsorptivity on the surface of the hydrophilic support can be determined by the following method, for example.
A coating night is prepared by dissolving the test compound in a readily soluble solvent, and the coating night is coated and dried on the support so that the coating amount after drying is 30 mg / m 2 . Next, the support on which the test compound is applied is sufficiently washed with an easily soluble solvent, and then the residual amount of the test compound that has not been removed by washing is measured to calculate the amount of adsorption of the support. Here, the measurement of the remaining amount may be performed by directly quantifying the amount of the remaining compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. The compound can be quantified by, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, liquid chromatography measurement and the like. The compound having the support adsorptivity is 1 mg / m 2 even after the washing treatment as described above.
These are the remaining compounds.

親水性支持体表面への吸着性基は、親水性支持体表面に存在する物質(例えば、金属、金属酸化物)あるいは官能基(例えば、ヒドロキシ基)と、化学結合(例えば、イオン結合
、水素結合、配位結合、分子間力による結合)を引き起こすことができる官能基である。
吸着性基は、酸基またはカチオン性基が好ましい。
酸基は、酸解離定数(pKa)が7以下であることが好ましい。酸基の例は、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基、−SOH、−OSOH、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−および−COCHCOCHを含む。なかでも−OPOおよび−POが特に好ましい。またこれら酸基は、金属塩であっても構わない。
カチオン性基は、オニウム基であることが好ましい。オニウム基の例は、アンモニウム基、ホスホニウム基、アルソニウム基、スチボニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、スタンノニウム基、ヨードニウム基を含む。アンモニウム基、ホスホニウム基およびスルホニウム基が好ましく、アンモニウム基およびホスホニウム基がさらに好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。
The adsorptive group on the surface of the hydrophilic support is a substance (for example, metal, metal oxide) or a functional group (for example, hydroxy group) existing on the surface of the hydrophilic support, and a chemical bond (for example, ionic bond, hydrogen). Bond, coordination bond, bond by intermolecular force).
The adsorptive group is preferably an acid group or a cationic group.
The acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less. Examples of the acid group include a phenolic hydroxy group, a carboxyl group, -SO 3 H, -OSO 3 H , -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 - and -COCH 2 COCH 3 is included. Among them -OPO 3 H 2 and -PO 3 H 2 are particularly preferred. These acid groups may be metal salts.
The cationic group is preferably an onium group. Examples of the onium group include an ammonium group, a phosphonium group, an arsonium group, a stibonium group, an oxonium group, a sulfonium group, a selenonium group, a stannonium group, and an iodonium group. An ammonium group, a phosphonium group and a sulfonium group are preferred, an ammonium group and a phosphonium group are more preferred, and an ammonium group is most preferred.

吸着性基を有するモノマーの特に好ましい例としては、下記式(U1)または(U2)で表される化合物が挙げられる。   Particularly preferable examples of the monomer having an adsorptive group include compounds represented by the following formula (U1) or (U2).

Figure 2009255506
Figure 2009255506

上式中、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基である。R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基であることが好ましく、水素原子または炭素原子数が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチル基であることが最も好ましい。RおよびRは、水素原子であることが特に好ましい。Zは、親水性支持体表面に吸着する官能基である。
式(U1)において、Xは、酸素原子(−O−)またはイミノ(−NH−)である。Xは、酸素原子であることがさらに好ましい。式(U1)において、Lは、2価の連結基である。Lは、2価の脂肪族基(アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(アリレン基、置換アリレン基)または2価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子(−O−)、硫黄原子(―S―)、イミノ(−NH−)、置換イミノ(−NR−、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)またはカルボニル(−CO−)との組み合わせであることが好ましい。
脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20が好ましく、1乃至15がさらに好ましく、1乃至10が最も好ましい。脂肪族基は、不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、芳香族基および複素環基を含む。
芳香族基の炭素原子数は、6乃至20が好ましく、6乃至15がさらに好ましく、6乃至10が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
複素環基は、複素環として5員環または6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、オキソ基(=O)、チオキソ基(=S)、イミノ基(=NH)、置換イミノ基(=N−R、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
Lは、複数のポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。言い換えると、Lは、−(OCHCH)−(nは2以上の整数)を含むことが好ましい。
式(U2)において、Yは炭素原子または窒素原子である。Y=窒素原子でY上にLが連結し四級ピリジニウム基になった場合、それ自体が吸着性を示すことからZは必須ではなく、Zが水素原子でもよい。Lは式(U1)の場合と同じ2価の連結基または単結合を表す。
In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 , R 2 and R 3 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferred is a hydrogen atom or a methyl group. R 2 and R 3 are particularly preferably a hydrogen atom. Z is a functional group that adsorbs to the surface of the hydrophilic support.
In the formula (U1), X is an oxygen atom (—O—) or imino (—NH—). X is more preferably an oxygen atom. In the formula (U1), L is a divalent linking group. L is a divalent aliphatic group (alkylene group, substituted alkylene group, alkenylene group, substituted alkenylene group, alkynylene group, substituted alkynylene group), divalent aromatic group (arylene group, substituted arylene group) or divalent Or an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (—S—), an imino (—NH—), a substituted imino (—NR—, where R is an aliphatic group, an aromatic group. Or a combination with a heterocyclic group) or carbonyl (—CO—).
The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The number of carbon atoms in the aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and most preferably 1 to 10. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The number of carbon atoms in the aromatic group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 15, and most preferably 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered ring as the heterocycle. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, aliphatic ring or aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, an oxo group (═O), a thioxo group (═S), an imino group (═NH), a substituted imino group (═N—R, R is an aliphatic group, aromatic Group or heterocyclic group), aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group.
L is preferably a divalent linking group containing a plurality of polyoxyalkylene structures. The polyoxyalkylene structure is more preferably a polyoxyethylene structure. In other words, L preferably contains — (OCH 2 CH 2 ) n — (n is an integer of 2 or more).
In the formula (U2), Y is a carbon atom or a nitrogen atom. When Y is a nitrogen atom and L is connected to Y to form a quaternary pyridinium group, Z itself is adsorbable, so Z is not essential, and Z may be a hydrogen atom. L represents the same divalent linking group or single bond as in formula (U1).

吸着性の官能基については、前述した通りである。
以下に、式(U1)または(U2)で表される代表的な化合物の例を示す。
The adsorptive functional group is as described above.
Examples of typical compounds represented by formula (U1) or (U2) are shown below.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

本発明に用いることができる下塗り用高分子樹脂の親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホ基、リン酸基等が好適に挙げられる。なかでも高親水性を示すスルホ基を有するモノマーが好ましい。スルホ基を有するモノマーの具体例としては、メタリルオキシベンゼンスルホン酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、アリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、p-スチレンスルホン酸、メタリルスルホン酸、アクリルアミドt-ブチルスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(3−アクリロイルオキシプロピル)ブチルスルホン酸のナトリウム塩、アミン塩が挙げられる。なかでも親水性能および合成の取り扱いから2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩が好ましい。   Examples of the hydrophilic group of the undercoat polymer resin that can be used in the present invention include a hydroxy group, a carboxyl group, a carboxylate group, a hydroxyethyl group, a polyoxyethyl group, a hydroxypropyl group, a polyoxypropyl group, and an amino group. Preferred examples include a group, aminoethyl group, aminopropyl group, ammonium group, amide group, carboxymethyl group, sulfo group, and phosphate group. Among these, a monomer having a sulfo group exhibiting high hydrophilicity is preferable. Specific examples of the monomer having a sulfo group include methallyloxybenzenesulfonic acid, allyloxybenzenesulfonic acid, allylsulfonic acid, vinylsulfonic acid, p-styrenesulfonic acid, methallylsulfonic acid, acrylamide t-butylsulfonic acid, Examples include 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, (3-acryloyloxypropyl) butylsulfonic acid sodium salt, and amine salt. Of these, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt is preferred in view of hydrophilic performance and handling of synthesis.

本発明の下塗り層用の水溶性高分子樹脂は、架橋性基を有することが好ましい。架橋性基によって画像部との密着の向上が得られる。下塗り層用の高分子樹脂に架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の側鎖中に導入したり、高分子樹脂の極性置換基と対荷電を有する置換基とエチレン性不飽和結合を有する化合物で塩構造を形成させたりして導入することができる。   The water-soluble polymer resin for the undercoat layer of the present invention preferably has a crosslinkable group. The crosslinkable group can improve the adhesion with the image area. In order to make the polymer resin for the undercoat layer crosslinkable, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond is introduced into the side chain of the polymer, or the polar substituent of the polymer resin is countercharged. Or a compound having an ethylenically unsaturated bond may be introduced by forming a salt structure.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。   Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−CH=CH、−C(CH)=CH、−(CH)CR=CR、−(CHO)CHCR=CR、−(CHCHO)CHCR=CR、−(CH)NH−CO−O−CHCR=CR、−(CH)−O−CO−CR=CR、および(CHCHO)−X(式中、R〜Rはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、RとRまたはRとは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CH=CH、−C(CH)=CH、−CHCH=CH(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CHCHO−CHCH=CH、−CHC(CH)=CH、−CHCH=CH−C、−CHCHOCOCH=CH−C、−CHCHNHCOO−CHCH=CH、およびCHCHO−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH=CH、−C(CH)=CH、−CHCH=CH、−CHCHO−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CHCHOCO−CH=CHが挙げられる。
下塗り層用高分子樹脂の架橋性基を有するモノマーとしては、上記架橋性基を有するアクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドが好適である。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, -CH = CH 2, -C ( CH 3) = CH 2, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - ( CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3 ,-(CH 2 ) n -O-CO-CR 1 = CR 2 R 3 and (CH 2 CH 2 O) 2 -X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom Represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may be bonded to each other to form a ring. Represents an integer of 1 to 10. X represents a dicyclopentadienyl residue. it can.
Specific examples of the ester residue include —CH═CH 2 , —C (CH 3 ) ═CH 2 , —CH 2 CH═CH 2 (described in Japanese Patent Publication No. 7-21633), —CH. 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 NHCOO-CH 2 CH = CH 2, and CH 2 CH (wherein, X represents a dicyclopentadienyl residue.) 2 O-X and the like.
Specific examples of the amide residue include —CH═CH 2 , —C (CH 3 ) ═CH 2 , —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 O—Y (wherein Y is a cyclohexene residue) the represented), -. CH 2 CH 2 OCO-CH = CH 2 and the like.
As the monomer having a crosslinkable group of the polymer resin for the undercoat layer, an ester or amide of acrylic acid or methacrylic acid having the crosslinkable group is preferable.

下塗り層用高分子樹脂中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、高分子樹脂1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と汚れ性の両立、および良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the polymer resin for the undercoat layer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol per 1 g of the polymer resin. Preferably it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol. Within this range, both good sensitivity and dirtiness and good storage stability can be obtained.

下塗り層用の高分子樹脂は、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均モル質量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均モル質量/数平均モル質量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
下塗り層用の高分子樹脂は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
下塗り用高分子樹脂は単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
The polymer resin for the undercoat layer preferably has a mass average molar mass of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molar mass of 1000 or more is preferable. More preferably, it is ˜250,000. The polydispersity (mass average molar mass / number average molar mass) is preferably 1.1 to 10.
The polymer resin for the undercoat layer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.
The undercoat polymer resin may be used alone or in combination of two or more.

下塗り層用塗布液は、上記下塗り用の高分子樹脂を有機溶媒(例えばメタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトンなど)および/または水に溶解して得られる。下塗り層用塗布液には、赤外線吸収剤を含有させることもできる。
下塗り層塗布液を支持体に塗布する方法としては、公知の種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/mであるのが好ましく、1〜30mg/mであるのがより好ましい。
The undercoat layer coating solution is obtained by dissolving the undercoat polymer resin in an organic solvent (for example, methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, etc.) and / or water. The undercoat layer coating solution may contain an infrared absorber.
Various known methods can be used as a method of applying the undercoat layer coating solution to the support. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

〔画像記録層〕
本発明の画像記録層は、前述のように本発明の特定化合物を含んでよい。以下では特定化合物以外の構成成分などについて説明する。
本発明の画像記録層は、(A)増感色素、(B)重合開始剤、および(C)重合性化合物を含有することが好ましく、更にバインダーポリマーを含有することが更に好ましく、更に、マイクロカプセルまたはミクロゲルを含有することが特に好ましい。
本発明の画像記録層は、これらの要素の他に、必要に応じて他の成分を含有することができる。また、本発明の画像記録層は、上記のような成分で構成される機上現像またはガム現像可能な画像記録層であることが好ましい。
(Image recording layer)
The image recording layer of the present invention may contain the specific compound of the present invention as described above. Hereinafter, components other than the specific compound will be described.
The image recording layer of the present invention preferably contains (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound, more preferably a binder polymer, and further a micro It is particularly preferred to contain capsules or microgels.
In addition to these elements, the image recording layer of the present invention may contain other components as necessary. The image recording layer of the present invention is preferably an image recording layer composed of the above components and capable of on-press development or gum development.

<(A)増感色素>
本発明の画像記録層に用いられる増感色素としては、画像露光に使用する光源の波長、用途等に応じて適宜選択されるものであり、特に限定されるものではない。例えば、赤外線吸収剤や、350nm〜450nmの光を吸収する増感色素等が好ましく挙げられる。本発明に用いられる増感色素としては、イオン性化合物である場合には、ハロゲン化物イオンを有さないものを使用する必要がある。
<(A) Sensitizing dye>
The sensitizing dye used in the image recording layer of the present invention is appropriately selected according to the wavelength, use, etc. of the light source used for image exposure, and is not particularly limited. For example, an infrared absorber and a sensitizing dye that absorbs light of 350 nm to 450 nm are preferable. As the sensitizing dye used in the present invention, when it is an ionic compound, it is necessary to use a sensitizing dye having no halide ions.

(赤外線吸収剤)
赤外線吸収剤は、赤外線レーザーに対する感度を高めるために用いられる成分である。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料または顔料であるのが好ましい。
(Infrared absorber)
An infrared absorber is a component used to increase sensitivity to an infrared laser. The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat. The infrared absorbent used in the present invention is preferably a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料および例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号に記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, 58-181690, JP-A-58-194595, etc., methine dyes, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59- No. 73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent 434,875 And cyanine dyes described in 1).

また、米国特許第5,156,938号に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号に記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載のピリリウム系化合物、特開昭59−216146号に記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に記載のピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Further, near infrared absorption sensitizers described in US Pat. No. 5,156,938 are also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium described in US Pat. No. 3,881,924. Salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyrylium compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in U.S. Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salt described in No. 5 and the pyrylium compounds described in JP-B Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. Another example of a preferable dye is a near infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

また、上記赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。   Other preferable examples of the infrared absorbing dye include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(i)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferable, and one particularly preferable example is a cyanine dye represented by the following general formula (i).

Figure 2009255506
Figure 2009255506

一般式(i)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、−X2−L1または下記構造式(ia)で示される基を表す。X2は、酸素原子、窒素原子または硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環基またはヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa-は後述するZa-と同義である。Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、アミノ基またはハロゲン原子を表す。 In formula (i), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, a group represented by -X 2 -L 1 or the following structural formula (ia). X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring group having a hetero atom or a hetero atom having 1 to 12 carbon atoms. A hydrocarbon group is shown. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se. Xa has the same meaning as Za described later. R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an amino group, or a halogen atom.

Figure 2009255506
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1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合して5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the image recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring. It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基、ナフタレン環基が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R、Rは、それぞれ同じでも異なっていてもよく、炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(i)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring group and a naphthalene ring group. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (i) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, in view of the storage stability of the image recording layer coating solution. , Hexafluorophosphate ions, and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(i)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号の段落番号[0017]〜[0019]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (i) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.

また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開2002−278057号に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。   Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、ロソ顔料、ニトロ顔料、天然料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments Roso pigments, nitro pigments, natural materials, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1〜1μmの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の画像記録層中での良好な安定性と均一性が得られる。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 1 μm. Within this range, good stability and uniformity of the pigment dispersion in the image recording layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インキ製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。赤外線吸収剤はマイクロカプセルに内包させて添加することもできる。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986). The infrared absorbing agent can be added by being encapsulated in microcapsules.

添加量としては、画像記録層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で0.1〜1.5の範囲にあるように添加することが好ましく、より好ましくは、0.2〜1.2の範囲、更に好ましくは、0.3〜1.0の範囲である。この範囲で、画像記録層の深さ方向での均一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。
画像記録層の吸光度は、画像記録層に添加する赤外線吸収剤の量と画像記録層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの画像記録層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
The addition amount is preferably such that the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the image recording layer is in the range of 0.1 to 1.5 by reflection measurement. , 0.2 to 1.2, and more preferably 0.3 to 1.0. Within this range, a uniform polymerization reaction in the depth direction of the image recording layer proceeds, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained.
The absorbance of the image recording layer can be adjusted by the amount of infrared absorber added to the image recording layer and the thickness of the image recording layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, an image recording layer having a thickness appropriately determined in a range in which the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is set to the optical density. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.

(350nm〜450nmの光を吸収する増感色素)
350nm〜450nmの光を吸収する増感色素としては、350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素が好ましい。この様な増感色素としては、例えば、下記一般式(I)に示されるメロシアニン色素類、下記一般式(II)で示されるベンゾピラン類、クマリン類、下記一般式(III)で示される芳香族ケトン類、下記一般式(IV)で示さ
れるアントラセン類等を挙げることができる。
(Sensitizing dye that absorbs light of 350 nm to 450 nm)
As the sensitizing dye that absorbs light of 350 nm to 450 nm, a sensitizing dye having a maximum absorption in the wavelength range of 350 to 450 nm is preferable. Examples of such sensitizing dyes include merocyanine dyes represented by the following general formula (I), benzopyrans and coumarins represented by the following general formula (II), and aromatics represented by the following general formula (III). Examples include ketones and anthracenes represented by the following general formula (IV).

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(I)中、AはS原子もしくはNR6を表し、R6は一価の非金属原子団を表し、Yは隣接するAおよび隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、X1、X2はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、あるいはX1、X2は互いに結合して色素の酸性核を形成してもよい。 In the formula (I), A represents an S atom or NR 6 , R 6 represents a monovalent non-metallic atomic group, and Y forms a basic nucleus of the dye together with the adjacent A and the adjacent carbon atom. Represents a non-metallic atomic group, X 1 and X 2 each independently represent a monovalent non-metallic atomic group, or X 1 and X 2 may combine with each other to form an acidic nucleus of the dye.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(II)中、=Zはオキソ基、チオキソ基、イミノ基または上記部分構造式(I’)で表されるアルキリデン基を表し、X1、X2は一般式(I)と同義であり、R7〜R12はそれぞれ独立に一価の非金属原子団を表す。 In formula (II), = Z represents an oxo group, a thioxo group, an imino group or an alkylidene group represented by the partial structural formula (I ′), and X 1 and X 2 have the same meanings as in general formula (I) , R 7 to R 12 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(III)中、Ar3は芳香族基またはヘテロ芳香族基を表し、R13は一価の非金属原子団を表す。好ましいR13は芳香族基またはヘテロ芳香族基である。また、Ar3とR13が互いに結合して環を形成してもよい。 In the formula (III), Ar 3 represents an aromatic group or a heteroaromatic group, and R 13 represents a monovalent nonmetallic atomic group. Preferred R 13 is an aromatic group or a heteroaromatic group. Ar 3 and R 13 may be bonded to each other to form a ring.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(IV)中、X3、X4、R14〜R21はそれぞれ独立に、1価の非金属原子団を表す。好ましいX3、X4はハメットの置換基定数が負の電子供与性基である。 In the formula (IV), X 3 , X 4 and R 14 to R 21 each independently represents a monovalent nonmetallic atomic group. Preferred X 3 and X 4 are electron donating groups having a negative Hammett's substituent constant.

一般式(I)から(IV)における、X1からX4、R6からR21で表される一価の非金属原子団の好ましい例としては、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ビフェニル基等)、ヘテロアリール基(例えば、チオフェン、ピロール、フラン等)、アルケニル基(例えばビニル基、1−プロペニル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1−プロピニル基等)、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アシル基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基などの窒素原子含有基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アルキルスルフィニル基、スルホ基(−SO3H)およびその共役塩基基(スルホナト基)、アルコキシスルホニル基などの硫黄原子含有基、ホスホノ基(−PO32)およびその共役塩基基(ホスホナト基)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)などの燐原子含有基等が挙げられ、一価の非金属原子団のうち、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基が特に好ましい。 In the general formulas (I) to (IV), preferred examples of the monovalent nonmetallic atomic group represented by X 1 to X 4 and R 6 to R 21 include a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, Ethyl group, propyl group, t-butyl group, cyclohexyl group, etc.), aryl group (eg, phenyl group, biphenyl group, etc.), heteroaryl group (eg, thiophene, pyrrole, furan, etc.), alkenyl group (eg, vinyl group, 1-propenyl group etc.), alkynyl group (eg ethynyl group, 1-propynyl group etc.), halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, amino group, Nitrogen atom-containing groups such as cyano group, nitro group, acyl group, N-alkylamino group, N, N-diarylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, Kirujichio group, an aryl dithio group, alkylsulfinyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group (a sulfonato group), alkoxycarbonyl sulfur atom containing groups such alkoxy sulfonyl group, a phosphono group (-PO 3 H 2) and its Examples thereof include phosphorus atom-containing groups such as conjugated base groups (phosphonate groups) and dialkylphosphono groups (—PO 3 (alkyl) 2 ). Among monovalent nonmetallic atomic groups, a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group , A halogen atom, an alkoxy group, and an acyl group are particularly preferable.

一般式(I)におけるYが隣接するAおよび隣接炭素原子と共同して形成する色素の塩基性核としては、5、6、7員の含窒素あるいは含硫黄複素環が挙げられ、5、6員の複素環好ましい。   Examples of the basic nucleus of the dye formed by Y in the general formula (I) together with the adjacent A and adjacent carbon atoms include 5, 6 and 7-membered nitrogen-containing or sulfur-containing heterocycles. A membered heterocycle is preferred.

含窒素複素環の例としては、例えば、L.G.Brooker et al.,J.Am.Chem.Soc.,73,5326−5358(1951)および参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成するものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。具体例としては、チアゾール類、ベンゾチアゾール類、ナフトチアゾール類、チアナフテノ−7’,6’,4,5−チアゾール類、オキサゾール類、ベンゾオキサゾール類、ナフトオキサゾール類、セレナゾール類、ベンゾセレナゾール類、ナフトセレナゾール類、チアゾリン類、2−キノリン類、4−キノリン類、1−イソキノリン類、3−イソキノリン類、ベンズイミダゾール類、3,3−ジアルキルインドレニン類、2−ピリジン類、4−ピリジン類等を挙げることができる。   Examples of nitrogen-containing heterocycles include L.I. G. Brooker et al. , J .; Am. Chem. Soc. 73, 5326-5358 (1951) and those known to constitute basic nuclei in the merocyanine dyes described in References can be suitably used. Specific examples include thiazoles, benzothiazoles, naphthothiazoles, thianaphtheno-7 ′, 6 ′, 4,5-thiazoles, oxazoles, benzoxazoles, naphthoxazoles, selenazoles, benzoselenazoles, Naphthoselenazoles, thiazolines, 2-quinolines, 4-quinolines, 1-isoquinolines, 3-isoquinolines, benzimidazoles, 3,3-dialkylindolenines, 2-pyridines, 4-pyridines Etc.

また、含硫黄複素環の例としては、例えば、特開平3−296759号公報記載の色素類におけるジチオール部分構造をあげることができる。具体例としては、ベンゾジチオール類、ナフトジチオール類、ジチオール類等を挙げることができる。   Examples of the sulfur-containing heterocycle include a dithiol partial structure in dyes described in JP-A-3-296759. Specific examples include benzodithiols, naphthodithiols, dithiols and the like.

以上述べた複素環に関する説明に用いた記述は、便宜上、慣例上、複素環母骨格の名称を用いたが、増感色素の塩基性骨格部分構造をなす場合は例えばベンゾチアゾール骨格の場合は3−置換−2(3H)−ベンゾチアゾリリデン基のように、不飽和度を一つ下げたアルキリデン型の置換基の形で導入される。   For the sake of convenience, the description of the heterocyclic ring described above used the name of the heterocyclic mother skeleton for the sake of convenience. However, in the case of forming the basic skeleton partial structure of the sensitizing dye, for example, 3 for the benzothiazole skeleton. -Introduced in the form of an alkylidene-type substituent with one degree of unsaturation, such as a substituted-2 (3H) -benzothiazolidene group.

さらに、下記一般式(V)〜(XI)で示される増感色素も用いることができる。   Furthermore, sensitizing dyes represented by the following general formulas (V) to (XI) can also be used.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(V)中、R1〜R14は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。但し、R1〜R10の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
式(VI)中、R15〜R32は各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。但し、R15〜R24の少なくとも一つは炭素数2以上のアルコキシ基を表す。
In formula (V), R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group or a halogen atom. However, at least one of R 1 to R 10 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.
In the formula (VI), R 15 to R 32 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, or a halogen atom. However, at least one of R 15 to R 24 represents an alkoxy group having 2 or more carbon atoms.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(VII)中、R1、R2およびR3は各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、−NR45基または−OR6基を表し、R4、R5およびR6は各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはアラルキル基を表し、k、mおよびnは各々0〜5の整数を表す。 In formula (VII), R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a —NR 4 R 5 group or a —OR 6 group, and R 4 , R 5 And R 6 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and k, m and n each represents an integer of 0 to 5.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(VIII)中、X1、X2はそれぞれ独立に酸素原子、硫黄原子、-CR11R12-またはNR13-
を表す。但し、少なくともいずれか一方は酸素原子、硫黄原子またはNR13-である。Yは酸素原子、硫黄原子または=NR14を表す。R1〜R14はそれぞれ独立に水素原子または一価の非金属原子団を表す。あるいはR1〜R14はそれぞれ互いに結合して、脂肪族性または芳香族性の環を形成していてもよい。
Wherein (VIII), X 1, X 2 are each independently an oxygen atom, a sulfur atom, -CR 11 R 12 - or NR 13 -
Represents. Provided that at least one is an oxygen atom, a sulfur atom or NR 13 - a. Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or = NR 14. R 1 to R 14 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group. Alternatively, R 1 to R 14 may be bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(IX)中、A1 およびA2 は各々炭素原子またはヘテロ原子を表す。Q1はA1、A2およびこれらに隣接する炭素原子とともに複素環を形成するのに必要な非金属原子団を表す。X1およびX2は各々シアノ基または置換カルボニル基を表すか、あるいはX1とX2とが互いに結合して環を形成していてもよい。 In formula (IX), A 1 And A 2 Each represents a carbon atom or a heteroatom. Q 1 represents a nonmetallic atomic group necessary for forming a heterocyclic ring together with A 1 , A 2 and the carbon atoms adjacent to them. X 1 and X 2 each represent a cyano group or a substituted carbonyl group, or X 1 and X 2 may be bonded to each other to form a ring.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(X)中、Xはそれぞれ独立に酸素原子または硫黄原子を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8はそれぞれ独立に水素原子または一価の非金属原子団を表す。 In the formula (X), each X independently represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom or a single atom. Represents a valent nonmetallic atomic group.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(XI)中、Xは酸素原子または硫黄原子を表し、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、およびR8はそれぞれ独立に水素原子または一価の非金属原子団を表し、Aは炭素数20以下のアリール基またはヘテロアリール基を表す。 In the formula (XI), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are each independently a hydrogen atom or a monovalent Represents a non-metallic atomic group, and A represents an aryl group or heteroaryl group having 20 or less carbon atoms.

350nmから450nmの波長域に吸収極大を持つ増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は下記一般式(XII)で表される色素である。   Of the sensitizing dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 350 nm to 450 nm, a dye more preferable from the viewpoint of high sensitivity is a dye represented by the following general formula (XII).

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(XII)中、Aは芳香族環基または複素環基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子またはN−R3を表す。R1、R2およびR3はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、あるいはAとR1またはR2とR3が互いに結合して、脂肪族性または芳香族性の環を形成してもよい。) In the formula (XII), A represents an aromatic ring group or a heterocyclic group, and X represents an oxygen atom, a sulfur atom or N—R 3 . R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group, or A and R 1 or R 2 and R 3 are bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring. It may be formed. )

一般式(XII)について更に詳しく説明する。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、芳香族複素環残基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子を表す。 The general formula (XII) will be described in more detail. R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a monovalent nonmetallic atomic group, preferably an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aromatic heterocyclic residue, an alkoxy group, an alkylthio group, a hydroxy group Represents a halogen atom.

1、R2およびR3の好ましい例について具体的に述べる。
1、R2およびR3として好ましいアルキル基としては、炭素原子数20までの直鎖状、分岐状または環状のアルキル基が好ましく、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチル基、イソペンチル基等を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。
Preferable examples of R 1 , R 2 and R 3 will be specifically described.
Preferred alkyl groups as R 1 , R 2 and R 3 are preferably linear, branched or cyclic alkyl groups having up to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, A t-butyl group, an isopentyl group, etc. can be mentioned. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

1、R2およびR3として好ましい置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価
の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基などの窒素原子含有基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アルキルスルフィニル基、スルホ基(−SO3H)およびその共役塩基基(スルホナト基)、アルコキシスルホニル基などの硫黄原子含有基、ホスホノ基(−PO32)およびその共役塩基基(ホスホナト基)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)などの燐原子含有基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
As the substituent of the substituted alkyl group preferable as R 1 , R 2 and R 3 , a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen is used, and preferable examples include halogen atoms (—F, —Br, —Cl, -I), nitrogen group-containing groups such as hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, acyl group, cyano group, nitro group, amino group, N-alkylamino group, N, N-diarylamino group, mercapto group, alkylthio group , Arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, alkylsulfinyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (sulfonate group), alkoxysulfonyl group and other sulfur atom-containing groups, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (phosphonate group), a phosphorus atom-containing group such as a dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), An aryl group, a heteroaryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group are mentioned.

これらの置換基におけるアルキル基の例としては、前述のアルキル基と同様のものが挙げられる。これら置換基におけるアリール基の具体例としては、フェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基等を挙げることができる。   Examples of the alkyl group in these substituents include the same alkyl groups as described above. Specific examples of the aryl group in these substituents include a phenyl group, a methoxyphenyl group, and a chlorophenyl group.

これら置換基におけるヘテロアリール基の例としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環もしくは多環芳香族環基が挙げられ、好ましいヘテロアリール基の例としては、例えば、チエニル基、フリル基、ピリル基、カルバゾリル基、アクリジル基等があげられ、これらは、さらにベンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。   Examples of heteroaryl groups in these substituents include monocyclic or polycyclic aromatic ring groups containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms. Examples of preferred heteroaryl groups include, for example, thienyl. Group, furyl group, pyryl group, carbazolyl group, acridyl group and the like. These may be further benzo-fused or may have a substituent.

これら置換基におけるアルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基等が挙げられる。アシル基(G1CO−)におけるG1としては、水素ならびに上記アルキル基、下記アリール基を挙げることができる。
これら置換アルキル基の置換基の内、より好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリール基、アルケニル基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基などの窒素原子含有基、アルキルスルフィニル基、スルホ基(−SO3H)およびその共役塩基基(スルホナト基)、アルコキシスルホニル基などの硫黄原子含有基、ホスホノ基(−PO32)およびその共役塩基基(ホスホナト基)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3(alkyl)2)などの燐原子含有基等が挙げられる。
Examples of alkenyl groups in these substituents include vinyl groups and 1-propenyl groups, and examples of alkynyl groups include ethynyl groups, 1-propynyl groups, and 1-butynyl groups. Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen, the above alkyl group, and the following aryl group.
Among the substituents of these substituted alkyl groups, more preferred are a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an aryl group, an alkenyl group, N - alkylamino group, N, N-nitrogen atom-containing groups such as diarylamino group, alkylsulfinyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group (a sulfonato group), a sulfur atom-containing group such as alkoxysulfonyl And phosphorus atom-containing groups such as a phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugated base group (phosphonate group) and a dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ).

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。   On the other hand, the alkylene group in the substituted alkyl group includes a divalent residue obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having up to 20 carbon atoms, preferably a carbon atom. A linear alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a branched chain having 3 to 12 carbon atoms, and a cyclic alkylene group having 5 to 10 carbon atoms can be exemplified.

上記置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られるR1、R2およびR3で表される置換アルキル基の好ましい具体例としては、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、2−オキソエチル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、ホスフォノブチル基、ベンジル基等を挙げることができる。 Preferable specific examples of the substituted alkyl group represented by R 1 , R 2 and R 3 obtained by combining the above substituent and an alkylene group include a chloromethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group, and a phenoxymethyl group. Methylthiomethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, 2-oxoethyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, phosphonobutyl group, benzyl group and the like can be mentioned.

1、R2およびR3として好ましいアルケニル基としては、炭素数20までの直鎖状、分岐状または環状のアルケニル基が好ましく、その具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基等が挙げられる。
1、R2およびR3として好ましい置換アルケニル基としては、上記アルケニル基の炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが挙げられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。置換アルケニル基の好ましい具体例としては、スチリル基、シンナミル基等が挙げられる。
Preferred alkenyl groups as R 1 , R 2 and R 3 are preferably straight-chain, branched or cyclic alkenyl groups having up to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include vinyl groups, 1-propenyl groups, 2- A propenyl group etc. are mentioned.
Preferred substituted alkenyl groups for R 1 , R 2 and R 3 include those having a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the carbon atom of the alkenyl group. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and substituents shown in the substituted alkyl groups described above. Preferable specific examples of the substituted alkenyl group include a styryl group and a cinnamyl group.

1、R2およびR3として好ましいアリール基としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したもの等を挙げることができる。具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。 Preferred aryl groups for R 1 , R 2 and R 3 include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Can do. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group, and a phenyl group and a naphthyl group are preferable.

1、R2およびR3として好ましい置換アリール基としては、上記アリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが挙げられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、クロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メチルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等を挙げることができる。 Preferred substituted aryl groups for R 1 , R 2 and R 3 include those having a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and substituents shown in the substituted alkyl groups described above. Preferred specific examples of the substituted aryl group include a biphenyl group, a tolyl group, a chlorophenyl group, a hydroxyphenyl group, a methoxyphenyl group, a methylthiophenyl group, an ethylaminophenyl group, a benzoyloxyphenyl group, an acetylaminophenyl group, a carboxyphenyl group, A sulfophenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, a phosphonatophenyl group, etc. can be mentioned.

1、R2およびR3として好ましい芳香族複素環残基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環もしくは多環芳香族複素環基が挙げられる。芳香族複素環基の例としては、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等の複素環から誘導される基等を挙げれ、これらは、さらにベンゾ縮環してもよい。
1、R2およびR3として好ましい置換芳香族複素環残基としては、上記芳香族複素環残基の環形成原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが挙げられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
Preferred aromatic heterocyclic residues as R 1 , R 2 and R 3 include monocyclic or polycyclic aromatic heterocyclic groups containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms. Examples of aromatic heterocyclic groups include thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine , Indoel, Indazole, Purine, Quinolidine, Isoquinoline, Phthalazine, Naphthyridine, Quinazoline, Cinoline, Pteridine, Carbazole, Carboline, Phenanthrin, Acridine, Perimidine, Phenanthrolin, Phthalazine, Phenalzazine, Phenoxazine, Furazane, Phenoxazine, etc. Examples thereof include a group derived from a heterocyclic ring, and these may be further benzo-condensed.
Preferred substituted aromatic heterocyclic residues as R 1 , R 2 and R 3 have a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming atom of the aromatic heterocyclic residue. Is mentioned. Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups, and substituents shown in the substituted alkyl groups described above.

1、R2およびR3として好ましいアルコキシ基およびアルキルチオ基におけるアルキル基は、前記R1、R2およびR3として好ましいアルキル基に関して記載したものと同様である。
1、R2およびR3として好ましい置換アルコキシ基および置換アルキルチオ基における置換アルキル基は、前記R1、R2およびR3として好ましい置換アルキル基に関して記載したものと同様である。
Alkyl group in Preferred alkoxy groups and alkylthio groups as R 1, R 2 and R 3 are the same as those described for preferred alkyl groups as the R 1, R 2 and R 3.
Preferred substituted alkoxy groups for R 1 , R 2 and R 3 and substituted alkyl groups in substituted alkylthio groups are the same as those described for the substituted alkyl groups preferred as R 1 , R 2 and R 3 .

一般式(XII)におけるAで表される芳香族環基および複素環基は、各々前記R1、R2およびR3に関して記載したアリール基および芳香族複素環残基に関して記載したものと同様のものを包含する。 The aromatic ring group and heterocyclic group represented by A in the general formula (XII) are the same as those described for the aryl group and aromatic heterocyclic residue described for R 1 , R 2 and R 3 , respectively. Including things.

一般式(XII)で表される増感色素は、上述の酸性核や活性メチレン基を有する酸性核と、芳香族環または複素環との縮合反応によって得られる。具体的には、特公昭59−28329号の記載を参照して合成することができる。   The sensitizing dye represented by the general formula (XII) can be obtained by a condensation reaction between the above-described acidic nucleus or acidic nucleus having an active methylene group and an aromatic ring or a heterocyclic ring. Specifically, it can be synthesized with reference to the description of JP-B-59-28329.

以下に、一般式(XII)で表される化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、酸性核と塩基性核を結ぶ2重結合による異性体については、どちらか一方の異性体に限定されるものではない。   Although the preferable specific example of a compound represented by general formula (XII) is shown below, this invention is not limited to these. Further, the isomer by the double bond connecting the acidic nucleus and the basic nucleus is not limited to either isomer.

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増感色素について、その構造、単独使用か併用か、添加量等使用法の詳細は、平版印刷版原版の性能設計にあわせて適宜設定できる。
例えば、増感色素を2種以上併用することで、画像記録層を構成する組成物中での相溶性を高めることができる。増感色素の選択においては、感光性の他、使用する光源の発光波長でのモル吸光係数が重要な因子である。モル吸光係数の大きな色素を使用することにより、色素の添加量を比較的少なくできるので、経済的であり、かつ画像記録層の膜物性の点からも有利である。画像記録層の感光性、解像度、露光膜の物性は光源波長での吸光度に大きな影響を受けるので、これらを考慮して増感色素の添加量が適宜選択される。
About the sensitizing dye, the structure, whether it is used alone or in combination, and details of usage such as addition amount can be appropriately set according to the performance design of the lithographic printing plate precursor.
For example, compatibility in the composition constituting the image recording layer can be enhanced by using two or more sensitizing dyes in combination. In selecting a sensitizing dye, in addition to photosensitivity, the molar extinction coefficient at the emission wavelength of the light source used is an important factor. By using a dye having a large molar extinction coefficient, the amount of the dye added can be made relatively small, which is economical and advantageous from the viewpoint of film physical properties of the image recording layer. The photosensitivity of the image recording layer, the resolution, and the physical properties of the exposure film are greatly affected by the absorbance at the light source wavelength, and thus the addition amount of the sensitizing dye is appropriately selected in consideration of these.

但し、例えば5μm以上の厚い膜を硬化せしめる目的に対しては、低い吸光度の方がかえって硬化度をあげられる場合もある。比較的薄い膜厚の平版印刷版原版の場合には、増感色素の添加量は、画像記録層の極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で、好ましくは0.1から1.5の範囲、より好ましくは0.2から1.2の範囲、更に好ましくは0.3〜1.0の範囲となるように設定する。通常、画像記録層の全固形分100質量部に対し、好ましくは0.05〜30質量部、より好ましくは0.1〜20質量部、更に好ましくは0.2〜10質量部の範囲である。   However, for example, for the purpose of curing a thick film having a thickness of 5 μm or more, the degree of curing may be increased by lower absorbance. In the case of a lithographic printing plate precursor having a relatively thin film thickness, the addition amount of the sensitizing dye is such that the absorbance at the maximum absorption wavelength of the image recording layer is preferably 0.1 to 1.5 by a reflection measurement method. The range is set, more preferably in the range of 0.2 to 1.2, and still more preferably in the range of 0.3 to 1.0. Usually, it is preferably 0.05 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 20 parts by mass, and further preferably 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the image recording layer. .

<(B)重合開始剤>
本発明に用いられる重合開始剤としては、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明に使用できる重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができ、本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物は、熱エネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。本発明に係る熱ラジカル発生剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることとができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独または2種以上を併用して用いることができる。重合開始剤としてイオン性化合物を使用する場合には、ハロゲン化物イオンを有さない化合物を使用する必要がある。
<(B) Polymerization initiator>
The polymerization initiator used in the present invention is a compound that generates radicals by light, heat, or both, and initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. As the polymerization initiator that can be used in the present invention, a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, or the like can be used, and a radical that is suitably used in the present invention is generated. The compound to be used refers to a compound that initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group by generating radicals by thermal energy. As the thermal radical generator according to the present invention, a known polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, or the like can be appropriately selected and used. Moreover, the compound which generate | occur | produces a radical can be used individually or in combination of 2 or more types. When an ionic compound is used as the polymerization initiator, it is necessary to use a compound having no halide ion.

ラジカルを発生する化合物としては、例えば、有機ハロゲン化物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸塩化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。   Examples of the radical generating compound include organic halides, carbonyl compounds, organic peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic borate compounds, disulfone compounds, oximes. Examples thereof include ester compounds and onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の各公報、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)」等に記載の化合物が挙げられ、特に好ましいものとして、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、s−トリアジン化合物が挙げられる。   Specific examples of the organic halide include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, JP 48-36281, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62-58241, JP 62 -212401, JP-A-63-70243, JP-A-63-298339, M.S. P. Examples include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No 3), (1970) ”, and particularly preferable examples include oxazole compounds substituted with a trihalomethyl group and s-triazine compounds.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基が結合したs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール誘導体が挙げられる。具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ブロモフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−フルオロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリフルオロメチルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジフルオロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2,6−ジブロモフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ビフェニリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4’−クロロ−4−ビフェニリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−シアノフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−アセチルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−エトキシカルボニルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−フェノキシカルボニルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メチルスルホニルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ジメチルスルホニウムフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン・テトラフルオロボレート、2−(2,4−ジフルオロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−ジエトキシホスホリルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔4−(4−ヒドロキシフェニルカルボニルアミノ)フェニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔4−(p−メトキシフェニル)−1,3−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−(o−メトキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(3,4−エポキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−〔1−フェニル−2−(4−メトキシフェニル)ビニル〕−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(p−ヒドロキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(3,4−ジヒドロキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−(p−t−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。   More preferred examples include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives to which at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group is bonded. Specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6- (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-bromophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-fluorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- (p-trifluoromethylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2,6-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (2,6-difluorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (2,6-dibromophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (4-biphenylyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-chloro-4-biphenylyl) -4,6 Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-cyanophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-acetylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) ) -S-triazine, 2- (p-ethoxycarbonylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-phenoxycarbonylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- (p-methylsulfonylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-dimethylsulfoniumphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine tetrafluoroborate, 2- (2,4-difluorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-tria Gin, 2- (p-diethoxyphosphorylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [4- (4-hydroxyphenylcarbonylamino) phenyl] -4,6-bis (trichloro) Methyl) -s-triazine, 2- [4- (p-methoxyphenyl) -1,3-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4, 6-bis (trichloro) Methyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bi (Trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6 -Tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy -4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2- (o-methoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 2- (3,4-epoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 2- [1-phenyl-2- (4-methoxyphenyl) vinyl] -5-trichloromethyl-1,3 4-oxadiazole, 2- (p-hydroxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole, 2- (3,4-dihydroxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3 4-oxadiazole, 2- (pt-butoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadiazole and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4’−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylpheny ) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p And benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記アゾ化合物としては例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化コハク酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2, -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4 '-Tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate) , Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピロール−1−イル)フェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluoro-3- (pyrrol-1-yl) phen-1-yl, JP-A-1-304453 And iron-arene complexes described in JP-A-1-152109.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の明細書に記載の種々の化合物、具体的には、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル))4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include, for example, Japanese Patent Publication No. 6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5 '-Tetrafeni Biimidazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5 , 5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, and the like.

上記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号、特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、および、Kunz,Martin”Rad Tech’98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。   Examples of the organic borate compounds include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, and JP-A-9-188710. 2000-131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”, etc. The organic borate described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, or organic boron oxosulfonium complex, JP-A-6-175554 No. 6, JP-A-6-17555 Organoboron iodonium complex described in JP-A-9-188, organoboron phosphonium complex described in JP-A-9-188710, JP-A-6-34811, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes such as Kaihei 7-306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号、特開2003−328465号公報等に記載の化合物が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2003-328465.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物が挙げられる。具体例としては下記の構造式で示される化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCSPerkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, and JP-A 2000-66385. And compounds described in JP 2000-80068 A. Specific examples thereof include compounds represented by the following structural formula.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の各公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. 18, 387 (1974), T .; S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055 and 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104 and 143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201, 2-150848, JP-A-2-296514, iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, and 297,442 U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,73 No. 4,444, 2,833,827, German Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, and 3,604,581, the sulfonium salts described in J . V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

特に反応性、安定性の面から上記オキシムエステル化合物あるいはジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が好適なものとして挙げられる。
本発明に好適なオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩である。
In particular, the oxime ester compound, diazonium salt, iodonium salt, and sulfonium salt are preferable from the viewpoint of reactivity and stability.
Preferred onium salts for the present invention are onium salts represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III).

Figure 2009255506
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式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11−は1価の陰イオンを表し、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、焼き出し画像の視認性の面からヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and 1 carbon atom. -12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C12 An alkylamino group, a dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, a carbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, A C1-C12 thioaryl group is mentioned. Z 11- represents a monovalent anion, which is a hexafluorophosphate ion, a tetrafluoroborate ion, a sulfonate ion, a sulfinate ion, a thiosulfonate ion, or a sulfate ion, and has stability and visibility of a printed image. To hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, and sulfinate ions.

式(RI−II)中、Ar21、Ar22は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21−は1価の陰イオンを表し、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、視認性の面からヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents have 1 to 12 carbon atoms. An alkyl group, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom An alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, a dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, a carbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a sulfonyl group, and 1 carbon atom -12 thioalkyl group and C1-C12 thioaryl group are mentioned. Z 21- represents a monovalent anion, which is a hexafluorophosphate ion, a tetrafluoroborate ion, a sulfonate ion, a sulfinate ion, a thiosulfonate ion, or a sulfate ion. Hexafluorophosphate from the viewpoint of stability and visibility Ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, and carboxylate ions are preferred.

式(RI−III)中、R31、R32、R33は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基またはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、好ましくは反応性、安定性の面から、アリール基であることが望ましい。好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31−は1価の陰イオンを表し、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性、視認性の面から、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましく、より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましくは特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。以下に、本発明において重合開始剤として好適に用いられるオニウム塩の例を挙げるが、本発明はこれら制限されるものではない。 In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group which may have 1 to 6 substituents. In view of reactivity and stability, an aryl group is desirable. Preferred substituents are alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms, aryl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31- represents a monovalent anion, which is a hexafluorophosphate ion, a tetrafluoroborate ion, a sulfonate ion, a sulfinate ion, a thiosulfonate ion, or a sulfate ion. From the viewpoint of stability and visibility, hexafluorophosphate Phosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, and carboxylate ions are preferable, and carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742 are more preferable, and JP-A No. 2002-148790 is particularly preferable. Of the carboxylate ions. Examples of onium salts that can be suitably used as a polymerization initiator in the present invention will be given below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2009255506
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また下記一般式(RI−IV)のアジニウム構造の重合開始剤を使用してもよい。式中、R、R、R、R、R、およびRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、または一価の置換基を表す。Xはイオンを表す。 Moreover, you may use the polymerization initiator of the following general formula (RI-IV) of the azinium structure. In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and R 6 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent substituent. X represents an ion.

Figure 2009255506
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上記一価の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル墓、ヒドロキシ基、置換オキシ基、チオール基、チオエーテル基、シリル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、スルホ基、置換スルホニル基、スルホナト基、置換スルフィニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、等が挙げられ、導入可能な場合にはさらに置換基を有していてもよい。   Examples of the monovalent substituent include, for example, a halogen atom, amino group, substituted amino group, substituted carbonyl tomb, hydroxy group, substituted oxy group, thiol group, thioether group, silyl group, nitro group, cyano group, alkyl group, Alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, sulfo group, substituted sulfonyl group, sulfonate group, substituted sulfinyl group, phosphono group, substituted phosphono group, phosphonate group, substituted phosphonate group, etc. It may have a substituent.

また、一般式(RI−IV)で表される化合物としては、一般式(RI−IV)で表される化合物における特定構造の骨格(カチオン部)が、Rを介して結合し、カチオン部が分子中に2個以上含まれる化合物(多量体型)も包含され、このような化合物も好適に用いられる。
さらに、一般式(RI−IV)で表される化合物は、R〜Rのいずれかを介して、ポリマー側鎖に導入された化合物(ポリマー型)でもよく、好ましい態様の一つとして挙げられる。
In addition, as the compound represented by the general formula (RI-IV), a skeleton (cation part) having a specific structure in the compound represented by the general formula (RI-IV) is bonded via R 1 to form a cation part. Are included in the molecule (multimeric form), and such compounds are also preferably used.
Furthermore, the compound represented by the general formula (RI-IV) may be a compound (polymer type) introduced into the polymer side chain via any of R 1 to R 6 , and is listed as one of preferred embodiments. It is done.

以下に、一般式(RI−IV)で表される化合物の具体例〔例示化合物A−1〜A−34〕を列挙するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound represented by the general formula (RI-IV) [Exemplary Compounds A-1 to A-34] are listed below, but the scope of the present invention is not limited thereto.

Figure 2009255506
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重合開始剤としては、上記に限定されないが、特に反応性、安定性の面から、トリアジン系開始剤、有機ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩がより好ましい。また、これらの中でも赤外線吸収剤との組み合わせで焼き出し画像の視認性向上を図る観点からは、オニウム塩であって、対イオンとして無機イオン、例えば、PF 、BF など、を有するものが好ましい。さらに、発色に優れていることから、オニウムとしては、ジアリールヨードニウムが好ましい。 The polymerization initiator is not limited to the above, but a triazine-based initiator, an organic halogen compound, an oxime ester compound, a diazonium salt, an iodonium salt, and a sulfonium salt are more preferable from the viewpoints of reactivity and stability. Among these, from the viewpoint of improving the visibility of the printout image in combination with an infrared absorber, the onium salt has an inorganic ion such as PF 6 or BF 4 as a counter ion. Those are preferred. Furthermore, diaryliodonium is preferred as the onium because of its excellent color development.

これらの重合開始剤は、各々画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこに添加してもよい。     These polymerization initiators are each preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 0.8 to 20% by mass with respect to the total solid content constituting the image recording layer. Can be added at a ratio of Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

<(C)重合性化合物>
本発明に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、さらにハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
<(C) Polymerizable compound>
The polymerizable compound that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. To be elected. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxy group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。さらに、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. And those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(2)で示されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxy group are also suitable. Specific examples of such compounds are described in, for example, Japanese Patent Publication No. 48-41708. Containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following general formula (2) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule A vinyl urethane compound etc. are mentioned.

CH=C(R)COOCHCH(R)OH (2)
(ただし、RおよびRは、HまたはCHを示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (2)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。さらに、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 And urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂とアクリル酸もしくはメタクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号、各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and acrylic acid or methacrylic acid described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-B-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, specific unsaturated compounds described in each gazette, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述の保護層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
重合性化合物は、画像記録層中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%、さらに好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount and the like can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
Further, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the image recording layer. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.
The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass with respect to the nonvolatile component in the image recording layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

<その他の画像記録層成分>
本発明の画像記録層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。以下、それらについて説明する。
<Other image recording layer components>
The image recording layer of the present invention can further contain various additives as required. These will be described below.

<1>マイクロカプセルおよびミクロゲル
本発明においては、上記の画像記録層構成成分(A)〜(C)および後述のその他構成成分を画像記録層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型画像記録層である。他の一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させて画像記録層に含有させるマイクロカプセル型画像記録層である。さらに、マイクロカプセル型画像記録層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。
さらに他の態様として、画像記録層に架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様が挙げられる。該ミクロゲルは、その中および/または表面に該構成成分(A)〜(C)の一部を含有することが出来る。特に(C)重合性化合物をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。
より良好な機上現像性を得るためには、画像記録層は、マイクロカプセル型もしくはミクロゲル型画像記録層であることが好ましい。
<1> Microcapsules and microgels
In the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the above-mentioned image recording layer constituent components (A) to (C) and other constituent components described later into the image recording layer. One is a molecular dispersion type image recording layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334. In another embodiment, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or a part of the constituent components are encapsulated in microcapsules and contained in the image recording layer. It is a microcapsule type image recording layer. Further, in the microcapsule type image recording layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule-type image recording layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule.
As still another embodiment, an embodiment in which the image recording layer contains crosslinked resin particles, that is, microgel, can be mentioned. The microgel can contain a part of the constituent components (A) to (C) in and / or on the surface thereof. In particular, an embodiment in which (C) a reactive microgel is formed by having a polymerizable compound on the surface thereof is particularly preferable from the viewpoint of image forming sensitivity and printing durability.
In order to obtain better on-press developability, the image recording layer is preferably a microcapsule type or microgel type image recording layer.

画像記録層構成成分をマイクロカプセル化、もしくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。   As a method for microencapsulating or microgelling the components of the image recording layer, known methods can be applied.

例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。   For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, U.S. Pat. No. 3,287,154, JP-B-38-19574, 42-446 by the interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304 by polymer precipitation method, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol A method using a wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and a urea-formaldehyde system found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. Or urea formaldehyde-resorcino A method using a wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method using monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、後述のバインダーポリマーに導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into the below-mentioned binder polymer.

一方、ミクロゲルを調製する方法としては、特公昭38−19574号、同42−446号明細書に記載されている界面重合による造粒、特開平5−61214号明細書に記載されているような非水系分散重合による造粒を利用することが可能である。但し、これらの方法に限定されるものではない。
上記界面重合を利用する方法としては、上述した公知のマイクロカプセル製造方法を応用することができる。
On the other hand, as a method for preparing the microgel, granulation by interfacial polymerization described in JP-B-38-19574 and JP-A-42-446, as described in JP-A-5-61214, etc. It is possible to utilize granulation by non-aqueous dispersion polymerization. However, it is not limited to these methods.
As the method using the interfacial polymerization, the above-described known microcapsule production method can be applied.

本発明に用いられる好ましいミクロゲルは、界面重合により造粒され3次元架橋を有するものである。このような観点から、使用する素材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。   Preferred microgels used in the present invention are those granulated by interfacial polymerization and having three-dimensional crosslinking. From such a viewpoint, the material to be used is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and polyurea and polyurethane are particularly preferable.

上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

<2>バインダーポリマー
本発明の画像記録層には、画像記録層の膜強度を向上させるため、バインダーポリマーを用いることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
<2> Binder polymer In the image recording layer of the present invention, a binder polymer can be used in order to improve the film strength of the image recording layer. As the binder polymer that can be used in the present invention, conventionally known binder polymers can be used without limitation, and polymers having film properties are preferred. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.
The binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−CH=CH、−C(CH)=CH、−(CH2 n CR1 =CR2 3 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n −O−CO−CR1 =CR2 3 および(CH2 CH2 O)2 −X(式中、R1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 またはR3 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CH=CH、−C(CH)=CH、−CH2 CH=CH2 (特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3 )=CH2 、−CH2 CH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 およびCH2 CH2 O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH=CH、−C(CH)=CH、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, -CH = CH 2, -C ( CH 3) = CH 2, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - ( CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - ( CH 2) n -O-CO-CR 1 = CR 2 R 3 and (CH 2 CH 2 O) 2 -X ( wherein, R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, Represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may be bonded to each other to form a ring. Represents an integer of from 10 to 10. X represents a dicyclopentadienyl residue.
Specific examples of the ester residue include —CH═CH 2 , —C (CH 3 ) ═CH 2 , —CH 2 CH═CH 2 (described in Japanese Patent Publication No. 7-21633), —CH. 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, (wherein, X represents a dicyclopentadienyl residue.) -CH 2 CH 2 -NHCOO- CH 2 CH = CH 2 and CH 2 CH 2 O-X and the like.
Specific examples of the amide residue include —CH═CH 2 , —C (CH 3 ) ═CH 2 , —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue. represented), -. CH 2 CH 2 -OCO-CH = CH 2 and the like.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1〜7.0mmol、特に好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodometric titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1 to 7 per gram of the binder polymer. 0.0 mmol, particularly preferably 2.0 to 5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

バインダーポリマー中のハロゲン化物イオンの含有量は、好ましくは50×10−6mol/ g、より好ましくは20×10−6mol/ g、特に好ましくは10×10−6mol/ g、以下である。下限については含有量が少ないほど好ましい。
バインダー中のハロゲン化物イオンの量は、イオン交換樹脂や、特定の鉱物を用いたり、再沈殿による精製を行うことで削減することができる。
The content of halide ions in the binder polymer is preferably 50 × 10 −6 mol / g, more preferably 20 × 10 −6 mol / g, particularly preferably 10 × 10 −6 mol / g, or less. . About a minimum, it is so preferable that content is small.
The amount of halide ions in the binder can be reduced by using an ion exchange resin, a specific mineral, or performing purification by reprecipitation.

また、画像記録層未露光部の機上現像性向上の観点から、バインダーポリマーは、インキおよび/または湿し水に対する溶解性または分散性が高いことが好ましい。インキに対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。   Further, from the viewpoint of improving the on-press developability of the image recording layer unexposed portion, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution. In order to improve the solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably lipophilic, and in order to improve the solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. For this reason, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホ基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, and ammonium. Preferred examples include those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more , Homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均モル質量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均モル質量/数平均モル質量)は、1.1〜10であるのが好ましい。   The binder polymer preferably has a mass average molar mass of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molar mass of 1000 or more, preferably 2000 to 250,000. Is more preferable. The polydispersity (mass average molar mass / number average molar mass) is preferably 1.1 to 10.

バインダーポリマーは、市販品を購入するか、あるいは公知の方法で合成することによって入手できる。   The binder polymer can be obtained by purchasing a commercial product or synthesizing it by a known method.

バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、5〜90質量%であり、5〜80質量%であるのが好ましく、10〜70質量%であるのがより好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、(C)重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で0.5/1〜4/1となる
量で用いるのが好ましい。
これらのバインダーポリマーは、反応触媒などとして残存するハロゲン化物を、イオン交換樹脂を用いて、除去することで、不純物として残存している、ハロゲン化物イオンを減少させることができる。
The content of the binder polymer is 5 to 90% by mass, preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Further, (C) the polymerizable compound and the binder polymer are preferably used in a mass ratio of 0.5 / 1 to 4/1.
These binder polymers can reduce halide ions remaining as impurities by removing halides remaining as a reaction catalyst or the like using an ion exchange resin.

<3>界面活性剤
本発明の画像記録層には、機上現像性を促進するため、および塗布面状を向上させるため界面活性剤を用いることができる。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、イオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。界面活性剤にハロゲン化物イオンが不純物や対イオンとして含まれる場合は、脱塩、イオン交換などの方法で、除去または他の陰イオンに交換することが好ましい。
<3> Surfactant In the image recording layer of the present invention, a surfactant can be used in order to promote on-press developability and improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, ionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. When halide ions are contained as impurities or counter ions in the surfactant, it is preferable to remove or exchange with other anions by a method such as desalting or ion exchange.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるイオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。   The ionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known ionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。カチオン界面活性剤の対アニオンとしては、ハロゲン化物イオン以外のもの(硫酸イオン、硫酸水素イオン、水酸化物イオン、リン酸イオン、アルキルスルホン酸イオン、アリールスルホン酸イオンなど)を選択することが好ましい。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives. As the counter anion of the cationic surfactant, it is preferable to select one other than halide ions (sulfate ion, hydrogen sulfate ion, hydroxide ion, phosphate ion, alkyl sulfonate ion, aryl sulfonate ion, etc.). .
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

さらに好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のイオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include ionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Moreover, the fluorine-type surfactant described in each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 62-170950, 62-226143, and 60-168144 is also mentioned suitably.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜5質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<4>着色剤
本発明の画像記録層には、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
これらの着色剤を用いると、画像形成後の画像部と非画像部の区別がつきやすくなるので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合である。
<4> Colorant In the image recording layer of the present invention, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.
When these colorants are used, it is easy to distinguish between an image area after image formation and a non-image area, so it is preferable to add them. The addition amount is 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording material.

<5>焼き出し剤
本発明の画像記録層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
<5> Print-out agent To the image-recording layer of the invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added in order to produce a print-out image. As such a compound, for example, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachite Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Made by Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Made by Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、画像記録層固形分に対して0.01〜10質量%の割合である。   A suitable addition amount of the dye that changes color by an acid or radical is 0.01 to 10% by mass with respect to the solid content of the image recording layer.

<6>重合禁止剤
本発明の画像記録層には、画像記録層の製造中または保存中において(C)重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
<6> Polymerization inhibitor A small amount of a thermal polymerization inhibitor is added to the image recording layer of the present invention in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound (C) during the production or storage of the image recording layer. It is preferable to do this.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<7>高級脂肪酸誘導体等
本発明の画像記録層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
<7> Higher fatty acid derivatives and the like In the image recording layer of the present invention, a higher fatty acid derivative such as behenic acid and behenic acid amide is added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and a drying process after coating. May be unevenly distributed on the surface of the image recording layer. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<8>可塑剤
本発明の画像記録層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
<8> Plasticizer The image recording layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve the on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the image recording layer.

<9>無機微粒子
本発明の画像記録層は、硬化皮膜強度向上および機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5μm〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲であると、画像記録層中に安定に分散して、画像記録層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、40質量%以下であるのが好ましく、30質量%以下であるのがより好ましい。
<9> Inorganic fine particles The image recording layer of the present invention may contain inorganic fine particles in order to improve the cured film strength and on-press developability.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate, or a mixture thereof is preferably exemplified. These can be used for strengthening the film, strengthening the interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 μm to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion having excellent hydrophilicity, which is stably dispersed in the image recording layer, sufficiently retains the film strength of the image recording layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 40% by mass or less, and more preferably 30% by mass or less, based on the total solid content of the image recording layer.

<10>低分子親水性化合物
本発明の画像記録層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、、第4級アンモニウム塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類およびその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩等が挙げられる。
<10> Hydrophilic low molecular weight compound The image-recording layer of the invention may contain a hydrophilic low molecular weight compound in order to improve the on-press developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, quaternary ammonium salts, organic sulfonic acids such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid and the like Salts, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acids and salts thereof, organic sulfuric acids such as alkylsulfuric acid and alkylethersulfuric acid and salts thereof, and organic phosphates such as phenylphosphonic acid. Hong acids and salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids and salts thereof such as amino acids and the like.

これらの中でも有機スルホン酸、有機スルファミン酸や有機硫酸のナトリウム塩やリチウム塩が好ましく使用される。これらの化合物を画像記録層に含有することにより、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させることが可能になる。   Among these, organic sulfonic acid, organic sulfamic acid, and sodium salt or lithium salt of organic sulfuric acid are preferably used. By containing these compounds in the image recording layer, it is possible to improve the on-press developability without reducing the printing durability.

有機スルホン酸塩の具体的な化合物としては、ノルマルブチルスルホン酸ナトリウム、イソブチルスルホン酸ナトリウム、sec−ブチルスルホン酸ナトリウム、tert−ブチルスルホン酸ナトリウム、ノルマルペンチルスルホン酸ナトリウム、1−エチルプロピルスルホン酸ナトリウム、ノルマルヘキシルスルホン酸ナトリウム、1、2−ジメチルプロピルスルホン酸ナトリウム、2−エチルブチルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、ノルマルヘプチルスルホン酸ナトリウム、ノルマルオクチルスルホン酸ナトリウム、tert−オクチルスルホン酸ナトリウム、ノルマルノニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、2−メチルアリルスルホン酸ナトリウム、ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸ナトリウム、1,3−ベンゼンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,5−ベンゼントリスルホン酸トリナトリウム、p−クロロベンゼンスルホン酸ナトリウム、3,4−ジクロロベンゼンスルホン酸ナトリウム、1−ナフチルスルホン酸ナトリウム、2−ナフチルスルホン酸ナトリウム、4−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5−ナフチルジスルホン酸ジナトリウム、2,6−ナフチルジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6−ナフチルトリスルホン酸トリナトリウム、およびこれらのリチウム塩交換体などが挙げられる。   Specific examples of organic sulfonates include sodium normal butyl sulfonate, sodium isobutyl sulfonate, sodium sec-butyl sulfonate, sodium tert-butyl sulfonate, sodium normal pentyl sulfonate, and sodium 1-ethylpropyl sulfonate. Sodium hexyl sulfonate, sodium 1,2-dimethylpropyl sulfonate, sodium 2-ethylbutyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, sodium normal heptyl sulfonate, sodium normal octyl sulfonate, sodium tert-octyl sulfonate, normal Sodium nonyl sulfonate, sodium allyl sulfonate, sodium 2-methylallyl sulfonate, sodium benzene sulfonate Sodium p-toluenesulfonate, sodium p-hydroxybenzenesulfonate, sodium p-styrenesulfonate, dimethyl-5-sulfonate sodium isophthalate, disodium 1,3-benzenedisulfonate, 1,3,5-benzenetri Trisodium sulfonate, sodium p-chlorobenzenesulfonate, sodium 3,4-dichlorobenzenesulfonate, sodium 1-naphthylsulfonate, sodium 2-naphthylsulfonate, sodium 4-hydroxynaphthylsulfonate, 1,5-naphthyldisulfone Examples thereof include disodium acid, disodium 2,6-naphthyldisulfonate, trisodium 1,3,6-naphthyltrisulfonate, and lithium salt exchangers thereof.

有機スルファミン酸塩の具体的な化合物としては、ノルマルブチルスルファミン酸ナトリウム、イソブチルスルファミン酸ナトリウム、tert−ブチルスルファミン酸ナトリウム、ノルマルペンチルスルファミン酸ナトリウム、1−エチルプロピルスルファミン酸ナトリウム、ノルマルヘキシルスルファミン酸ナトリウム、1、2−ジメチルプロピルスルファミン酸ナトリウム、2−エチルブチルスルファミン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルファミン酸ナトリウム、およびこれらのリチウム塩交換体などが挙げられる。   Specific examples of the organic sulfamate include sodium normal butyl sulfamate, sodium isobutyl sulfamate, sodium tert-butyl sulfamate, sodium normal pentyl sulfamate, sodium 1-ethylpropyl sulfamate, sodium normal hexyl sulfamate, Examples include sodium 1,2-dimethylpropylsulfamate, sodium 2-ethylbutylsulfamate, sodium cyclohexylsulfamate, and lithium salt exchangers thereof.

これらの化合物は疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどなく、長鎖アルキルスルホン酸塩や長鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩などが良好に用いられる前述の界面活性剤とは明確に区別される。   These compounds have a small hydrophobic part structure and almost no surface-active action, and are clearly distinguished from the above-mentioned surfactants in which long-chain alkyl sulfonates and long-chain alkyl benzene sulfonates are used favorably. .

有機硫酸塩としては特に一般式(3)で示される化合物が好ましく使用される。   As the organic sulfate, a compound represented by the general formula (3) is particularly preferably used.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

上記一般式(3)中、Rは、置換もしくは無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、mは1〜4の整数を表し、Xは電荷を中和するのに必要な対イオン(例えば、アルカリ金属イオン(ナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン)、2属の金属イオン、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンなど)を表す。   In the general formula (3), R represents a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group or heterocyclic group, m represents an integer of 1 to 4, and X represents a charge. It represents a counter ion (for example, alkali metal ion (sodium ion, potassium ion, lithium ion), group 2 metal ion, ammonium ion, organic ammonium ion, etc.) necessary for the summation.

Rは、好ましくは、置換もしくは無置換の、直鎖状、分岐状または環状の炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数20以下のアリール基が挙げられる。置換基としては、直鎖状、分岐状または環状の炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、ハロゲン原子、炭素数20以下のアリール基が挙げられる。   R is preferably a substituted or unsubstituted, linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, carbon number Examples include 20 or less aryl groups. Examples of the substituent include a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, and an aryl having 20 or less carbon atoms. Groups.

一般式(3)で表される化合物の好ましい例としては、オキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸カリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸リチウム、トリオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、テトラオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレンヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレンオクチルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム等が挙げられる。最も好ましい化合物としては、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸ナトリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸カリウム、ジオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル硫酸リチウム、
ポリアルキレンオキシモノアルキルエーテルのスルホアルキルエーテル(例えば、4−(2−エチルヘキシルオキシ(エトキシ(エトキシ)))ブタンスルホン酸ナトリウム、4−(2−エチルヘキシルオキシ(エトキシ(エトキシ(エトキシ(エトキシ)))))ブタンスルホン酸ナトリウム、4−(オクチルオキシ(エトキシ(エトキシ)))ブタンスルホン酸ナトリウム、などが挙げられる。
Preferred examples of the compound represented by the general formula (3) include sodium oxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, sodium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, potassium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, dioxy Ethylene-2-ethylhexyl ether lithium sulfate, sodium trioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, sodium tetraoxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, sodium dioxyethylene hexyl ether sulfate, sodium dioxyethylene octyl ether sulfate, dioxyethylene Examples include sodium lauryl ether sulfate. The most preferred compounds include sodium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, potassium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate, lithium dioxyethylene-2-ethylhexyl ether sulfate,
Sulfoalkyl ethers of polyalkyleneoxy monoalkyl ethers (for example, sodium 4- (2-ethylhexyloxy (ethoxy (ethoxy))) butanesulfonate, 4- (2-ethylhexyloxy (ethoxy (ethoxy (ethoxy (ethoxy)))) )) Sodium butanesulfonate, sodium 4- (octyloxy (ethoxy (ethoxy))) butanesulfonate, and the like.

これら低分子親水性化合物の画像記録層への添加量は、画像記録層全固形分量の0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましい。より好ましくは1質量%以上10質量%以下であり、さらに好ましくは2質量%以上8質量%以下である。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。
これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The amount of these low molecular weight hydrophilic compounds added to the image recording layer is preferably 0.5% by mass or more and 20% by mass or less of the total solid content of the image recording layer. More preferably, they are 1 mass% or more and 10 mass% or less, More preferably, they are 2 mass% or more and 8 mass% or less. In this range, good on-press developability and printing durability can be obtained.
These compounds may be used alone or in combination of two or more.

<11>感脂化剤
本発明においては、着肉性を向上させるため、本発明の特定ポリマーに加えて、ホスホニウム化合物を併用してもよい。ホスホニウム化合物は無機質層状化合物の表面被覆剤(感脂化剤)として機能し、無機質層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。好適なホスホニウム化合物としては、特開2006−297907号公報に記載のホスホニウム化合物、および下記一般式(4)で表される化合物を挙げることができる。
<11> Grease-sensitizing agent In the present invention, a phosphonium compound may be used in combination with the specific polymer of the present invention in order to improve the inking property. The phosphonium compound functions as a surface coating agent (grease sensitizing agent) for the inorganic stratiform compound, and prevents deterioration of the inking property during printing by the inorganic stratiform compound. Suitable phosphonium compounds include phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and compounds represented by the following general formula (4).

Figure 2009255506
Figure 2009255506

式(4)中、Ar1〜Ar6は、各々独立にアリール基または複素環基を表し、Lは2価の連結基を表し、Xn−はn価の対イオンを表し、nは1〜3の整数を表し、mはn x m=2を満たす数を表す。 In formula (4), Ar 1 to Ar 6 each independently represents an aryl group or a heterocyclic group, L represents a divalent linking group, X n− represents an n-valent counter ion, and n represents 1 Represents an integer of ˜3, and m represents a number satisfying nx m = 2.

ここでアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジメチルアミノフェニル基などが好適なものとして挙げられる。複素環基としては、ピリジル基、キノリル基、ピリミジニル基、チエニル基、フリル基などが挙げられる。Lは炭素数が6〜15の連結基中であることが好ましく、より好ましくは、炭素数6〜12の連結基である。   Here, as the aryl group, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, dimethoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dimethylaminophenyl A group and the like are preferable. Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group, a quinolyl group, a pyrimidinyl group, a thienyl group, and a furyl group. L is preferably a linking group having 6 to 15 carbon atoms, more preferably a linking group having 6 to 12 carbon atoms.

n−の好ましいものとしては、スルホン酸イオン、カルボン酸イオン、硫酸エステルイオン、PF 、BF 、などが挙げられる。なかでもスルホン酸イオン、カルボン酸イオン、PF 、BF が特に好ましい。 Preferred examples of X n- include sulfonate ion, carboxylate ion, sulfate ion, PF 6 , BF 4 , and the like. Of these, sulfonate ions, carboxylate ions, PF 6 and BF 4 are particularly preferable.

一般式(4)で表されるホスホニウム化合物の具体例を以下に示す。   Specific examples of the phosphonium compound represented by the general formula (4) are shown below.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

Figure 2009255506
Figure 2009255506

画像記録層への上記ホスホニウム化合物の添加量は、画像記録層固形分の0.01〜20質量%が好ましく、0.05〜10質量%がさらに好ましく、0.1〜5質量%が最も好ましい。これらの範囲内で印刷途中の良好なインキ着肉性が得られる。   The amount of the phosphonium compound added to the image recording layer is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass, and most preferably 0.1 to 5% by mass based on the solid content of the image recording layer. . Within these ranges, good ink fillability during printing can be obtained.

本感脂化剤は、画像記録層だけではなく保護層に添加することもできる。   The present sensitizer can be added not only to the image recording layer but also to the protective layer.

<12>共増感剤
本発明の画像記録層には、感度を一層向上させる、または酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する連鎖移動剤または共増感剤などと呼ばれる公知の化合物を加えてもよい。
<12> Co-sensitizer For the image recording layer of the present invention, a known compound called a chain transfer agent or a co-sensitizer having an effect of further improving sensitivity or suppressing inhibition of polymerization by oxygen is used. May be added.

この様な化合物の例としては、アミン類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Society」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−20189号、特開昭51−82102号、特開昭52−134692号、特開昭59−138205号、特開昭60−84305号、特開昭62−18537号、特開昭64−33104号、Research Disclosure 33825号記載の化合物、等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、N−フェニルグリシン、N−フェニルアスパラギン酸、およびp−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチオジメチルアニリン等のN,N−ジアルキルアニリン誘導体、等が挙げられる。   Examples of such compounds include amines such as MR Sander et al., “Journal of Polymer Society”, Vol. 10, page 3173 (1972), Japanese Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Publication No. 51-82102, Japanese Patent Publication No. 52-134692, JP-A-59-138205, JP-A-60-84305, JP-A-62-18537, JP-A-64-33104, Research Disclosure 33825, and the like, and the like. Specifically, N, N-dialkylaniline derivatives such as triethanolamine, N-phenylglycine, N-phenylaspartic acid, and p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline, etc. , Etc.

連鎖移動剤として作用する別の例としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が挙げられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、または、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。   Another example of acting as a chain transfer agent is a group of compounds having SH, PH, SiH, GeH in the molecule. These can donate hydrogen to low activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals.

本発明の画像記録層には、特に、チオール化合物(例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類、2−メルカプトベンズチアゾール類、2−メルカプトベンズオキサゾール類、3−メルカプトトリアゾール類、5−メルカプトテトラゾール類、等)を連鎖移動剤として好ましく用いることができる。   In the image recording layer of the present invention, in particular, thiol compounds (for example, 2-mercaptobenzimidazoles, 2-mercaptobenzthiazoles, 2-mercaptobenzoxazoles, 3-mercaptotriazoles, 5-mercaptotetrazoles, etc.) ) Can be preferably used as a chain transfer agent.

なかでも、特開2006−091479号公報等に記載の下記一般式(5)で表されるチオール化合物が特に好適に使用される。連鎖移動剤としてこのチオール化合物を用いることによって、臭気の問題、および画像記録層から蒸発や他の層への拡散による感度減少を回避し、保存安定性に優れ、さらには高感度で高耐刷の平版印刷版原版が得られる。   Especially, the thiol compound represented by following General formula (5) as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-091479 etc. is used especially suitably. By using this thiol compound as a chain transfer agent, it avoids odor problems and sensitivity reduction due to evaporation from the image recording layer and diffusion to other layers, and it has excellent storage stability and high sensitivity and high printing durability. A lithographic printing plate precursor is obtained.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

一般式(5)中、Rは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環または6員環の複素環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。   In general formula (5), R represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, and A has a carbon atom together with an N = CN moiety. It represents an atomic group that forms a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring, and A may further have a substituent.

さらに好ましくは下記一般式(5A)または一般式(5B)で表されるものが使用される。   More preferably, those represented by the following general formula (5A) or general formula (5B) are used.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

一般式(5A)および式(5B)中、Rは水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表し、Xはハロゲン原子、アルコキシル基、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基を表す。   In general formula (5A) and formula (5B), R represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, X represents a halogen atom, an alkoxyl group, An alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent is represented.

具体的化合例としては、1−メチル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−プロピル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−ヘキシル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−ヘキシル−2−メルカプト−5−クロルベンゾイミダゾール、1−ペンチル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−オクチル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−オクチル−2−メルカプト−5−メトキシベンゾイミダゾール、1−シクロヘキシル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−フェニル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−フェニル−2−メルカプト−5−メチルスルホニルベンゾイミダゾール、1−(p−トリル)−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−メトキシエチル−2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−ブチル−2−メルカプトナフトイミダゾール、1−メチル−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、1−ブチル−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、1−ヘプチル−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、1−フェニル−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、1−ベンジル−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、1−フェネチル−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、1−シクロヘキシルル−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、1−フェネチル−2−メルカプト−5−(3−フルオロフェニル)−1,3,5−トリアゾール、1−フェネチル−2−メルカプト−5−(3−トリフルオロメチルフェニル)−1,3,5−トリアゾール、1−ベンジル−2−メルカプト−5−(p−トリル)−1,3,5−トリアゾール、1−ベンジル−2−メルカプト−5−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアゾール、1−ベンジル−2−メルカプト−5−(p−トリフルオロメチルフェニル)−1,3,5−トリアゾール、1−ベンジル−2−メルカプト−5−(3,5−ジクロロフェニル)−1,3,5−トリアゾール、1−フェニル−2−メルカプト−5−(p−トリル)−1,3,5−トリアゾール、1−フェニル−2−メルカプト−5−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアゾール、1−(1−ナフチル)−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、1−(4−ブロモフェニル)−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、1−(4−トリフルオロフェニル)−2−メルカプト−5−フェニル−1,3,5−トリアゾール、6−ブロモ−2−メルカプト−ベンゾイミダゾール、などが挙げられる。   Specific examples include 1-methyl-2-mercaptobenzimidazole, 1-propyl-2-mercaptobenzimidazole, 1-hexyl-2-mercaptobenzimidazole, 1-hexyl-2-mercapto-5-chlorobenzimidazole. 1-pentyl-2-mercaptobenzimidazole, 1-octyl-2-mercaptobenzimidazole, 1-octyl-2-mercapto-5-methoxybenzimidazole, 1-cyclohexyl-2-mercaptobenzimidazole, 1-phenyl-2 -Mercaptobenzimidazole, 1-phenyl-2-mercapto-5-methylsulfonylbenzimidazole, 1- (p-tolyl) -2-mercaptobenzimidazole, 1-methoxyethyl-2-mercaptobenzimidazole, 1- Til-2-mercaptonaphthimidazole, 1-methyl-2-mercapto-5-phenyl-1,3,5-triazole, 1-butyl-2-mercapto-5-phenyl-1,3,5-triazole, 1- Heptyl-2-mercapto-5-phenyl-1,3,5-triazole, 1-phenyl-2-mercapto-5-phenyl-1,3,5-triazole, 1-benzyl-2-mercapto-5-phenyl- 1,3,5-triazole, 1-phenethyl-2-mercapto-5-phenyl-1,3,5-triazole, 1-cyclohexyl-2-mercapto-5-phenyl-1,3,5-triazole, 1 -Phenethyl-2-mercapto-5- (3-fluorophenyl) -1,3,5-triazole, 1-phenethyl-2-mercapto-5- (3 Trifluoromethylphenyl) -1,3,5-triazole, 1-benzyl-2-mercapto-5- (p-tolyl) -1,3,5-triazole, 1-benzyl-2-mercapto-5- (4 -Methoxyphenyl) -1,3,5-triazole, 1-benzyl-2-mercapto-5- (p-trifluoromethylphenyl) -1,3,5-triazole, 1-benzyl-2-mercapto-5 (3,5-dichlorophenyl) -1,3,5-triazole, 1-phenyl-2-mercapto-5- (p-tolyl) -1,3,5-triazole, 1-phenyl-2-mercapto-5 (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazole, 1- (1-naphthyl) -2-mercapto-5-phenyl-1,3,5-triazole, 1- (4-bromopheny ) -2-mercapto-5-phenyl-1,3,5-triazole, 1- (4-trifluorophenyl) -2-mercapto-5-phenyl-1,3,5-triazole, 6-bromo-2 -Mercapto-benzimidazole, etc.

これらの連鎖移動剤の使用量は画像記録層の全固形分の質量に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0〜10質量%である。   The amount of these chain transfer agents used is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 15% by mass, based on the total solid content of the image recording layer. More preferably, it is 1.0-10 mass%.

<画像記録層の形成>
本発明の画像記録層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の画像記録層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散または溶解した塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer of the present invention is applied by preparing a coating solution by dispersing or dissolving each of the necessary components in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The image recording layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeating a plurality of coatings and dryings.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等が挙げられる。
Further, the coating amount (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the image recording layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層の上に層状化合物を含有する保護層を有する。保護層(オーバーコート層とも呼ばれる。)は、酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層での傷の発生防止、高照度レーザー露光時のアブレーション防止などの機能も有する。以下、保護層成分等について説明する。
[Protective layer]
The lithographic printing plate precursor according to the invention has a protective layer containing a layered compound on the image recording layer. The protective layer (also referred to as an overcoat layer) has a function of suppressing an image formation inhibition reaction by blocking oxygen, and also has a function of preventing scratches in the image recording layer and preventing ablation at the time of high-illuminance laser exposure. Hereinafter, the protective layer components and the like will be described.

通常、平版印刷版の露光処理は大気中で実施する。露光処理によって生じる画像記録層中での画像形成反応は、大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物によって阻害され得る。保護層は、この酸素、塩基性物質等の低分子化合物が画像記録層へ混入することを防止し、結果として大気中での画像形成阻害反応を抑制する。従って、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性を低くすることであり、さらに、露光に用いられる光の透過性が良好で、画像記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものである。このような特性を有する保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特公昭55−49729号公報に記載されている。   Usually, the exposure processing of a lithographic printing plate is carried out in the atmosphere. The image forming reaction in the image recording layer caused by the exposure process can be inhibited by low molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere. The protective layer prevents low molecular compounds such as oxygen and basic substances from entering the image recording layer, and as a result, suppresses image formation inhibition reaction in the air. Therefore, the property desired for the protective layer is to reduce the permeability of low-molecular compounds such as oxygen, and furthermore, the transparency of light used for exposure is good, and the adhesiveness with the image recording layer is excellent. And it can be easily removed in an on-press development process after exposure. The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

本発明の層状化合物とは薄い平板状の形状を有する粒子であり、気体拡散の経路長を制御することによるガスバリア性によって、薄層での酸素遮断性を可能にする。層状化合物としては無機化合物が好ましい。例えば、下記一般式
A(B,C)2〜510(OH,F,O)
〔ただし、AはLi,K,Na,Ca,Mg,有機カチオンの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウムなどが挙げられる。
上記天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、およびNaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、NaまたはLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNaまたはLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg/5Li/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。また合成スメクタイトも有用である。
The layered compound of the present invention is a particle having a thin flat plate shape, and enables oxygen barrier in a thin layer by gas barrier property by controlling the path length of gas diffusion. As the layer compound, an inorganic compound is preferable. For example, the following general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
[However, A is any of Li, K, Na, Ca, Mg, organic cation, B and C are any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.
Examples of the natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and sericite. In addition, examples of the synthetic mica include non-swelling mica such as fluorine phlogopite mica 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 / 5Li 1/8 (Si 4 O 10) swelling mica F 2. Synthetic smectite is also useful.

上記の層状化合物のなかでも、合成の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、雲母、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘土鉱物類等は、10〜15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+、アミン塩、第4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩およびスルホニウム塩等の有機カチオンの陽イオンを吸着している。これらの層状化合物は水により膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベントナイトおよび膨潤性合成雲母はこの傾向が強い。 Of the above layered compounds, fluorine-based swellable mica, which is a synthetic layered compound, is particularly useful. That is, swellable clay minerals such as mica, montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite, etc. have a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 to 15 mm, and metal atom substitution in the lattice is other than It is significantly larger than clay minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charge, and in order to compensate for it, organic cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , Mg 2+ , amine salts, quaternary ammonium salts, phosphonium salts and sulfonium salts are used between Adsorbs cations. These layered compounds swell with water. If shear is applied in this state, it will easily cleave and form a stable sol in water. Bentonite and swelling synthetic mica have this tendency.

層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。粒子径が0.3μmよりも小さいと酸素や水分の透過の抑制が不十分であり、効果を十分に発揮できない。また20μmよりも大きいと塗布液中での分散安定性が不十分であり、安定的な塗布を行うことができない問題が生じる。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。
As the shape of the layered compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the better, the better the plane size as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.
As for the particle diameter of the layered compound, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. When the particle diameter is smaller than 0.3 μm, the suppression of permeation of oxygen and moisture is insufficient, and the effect cannot be sufficiently exhibited. On the other hand, if it is larger than 20 μm, the dispersion stability in the coating solution is insufficient, resulting in a problem that stable coating cannot be performed. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among the inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。   When the inorganic layered compound particles having such a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration is prevented, and even when stored for a long time under high-humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor does not deteriorate due to changes in humidity, and the storage stability is excellent.

次に、層状化合物を保護層に用いる場合の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に先に層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の5〜10質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。   Next, an example of a general dispersion method when a layered compound is used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable laminar compound mentioned above as a preferred laminar compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 5 to 10% by mass of the inorganic stratiform compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled and has very good storage stability. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with a binder solution.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計量が上記の質量比であることが好ましい。   It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by mass ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

上記無機層状化合物は、保護層だけではなく画像記録層に添加することもできる。無機層状化合物の画像記録層への添加は、耐刷性、重合効率(感度)および経時安定性の向上に有用である。
画像記録層への無機層状化合物の添加量は、画像記録層の固形分に対して0.1〜50質量%が好ましく、0.3〜30質量%がさらに好ましく、1〜10質量%が最も好ましい。
The inorganic layered compound can be added not only to the protective layer but also to the image recording layer. Addition of an inorganic layered compound to the image recording layer is useful for improving printing durability, polymerization efficiency (sensitivity), and stability over time.
The amount of the inorganic stratiform compound added to the image recording layer is preferably from 0.1 to 50 mass%, more preferably from 0.3 to 30 mass%, most preferably from 1 to 10 mass%, based on the solid content of the image recording layer. preferable.

保護層に用いられるバインダーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができる。具体的には例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、水溶性セルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビアゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、セロハン等のポリマー等が挙げられる。これらは、必要に応じて2種以上を併用して用いることもできる。   As the binder used in the protective layer, any of water-soluble polymers and water-insoluble polymers can be appropriately selected and used. Specifically, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, polyacrylic acid, polyacrylamide, partially saponified product of polyvinyl acetate, ethylene-vinyl alcohol copolymer, water-soluble cellulose derivative, gelatin, starch Examples thereof include water-soluble polymers such as derivatives and gum arabic, and polymers such as polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, polyvinyl chloride, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, and cellophane. These may be used in combination of two or more as required.

上記中で比較的有用な素材としては、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビアゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒として塗布可能であり、かつ、印刷時における湿し水により容易に除去されるという観点から、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾールが好ましい。その中でも、ポリビニルアルコール(PVA)は、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。   A relatively useful material among the above is a water-soluble polymer compound having excellent crystallinity. Specifically, water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, and polyacrylic acid, gelatin, gum arabic, and the like are suitable. Among these, water can be applied as a solvent, and at the time of printing Polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and polyvinyl imidazole are preferable from the viewpoint that they are easily removed by the fountain solution. Among them, polyvinyl alcohol (PVA) gives the best results for basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.

保護層に用い得るポリビニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を含有していてもよい。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のイオンで変性されたイオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のイオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、さらにはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記イオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等も好ましく用いられる。   The polyvinyl alcohol that can be used in the protective layer may be partially substituted with esters, ethers, and acetals as long as they contain a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units having the required water solubility. Similarly, a part may contain other copolymerization components. For example, various hydrophilic modification sites such as ion modification sites modified with ions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the above-mentioned ion-modified site, the above-mentioned cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the ion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, and the like are preferably used.

これらポリビニルアルコールとしては71〜100モル%加水分解された重合度300〜2400の範囲の化合物が好適に挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105,PVA−110, PVA−117, PVA−117H,PVA−120,PVA−124, PVA−124H, PVA−CS, PVA−CST, PVA−HC, PVA−203, PVA−204, PVA−205, PVA−210, PVA−217, PVA−220, PVA−224, PVA−217EE, PVA−217E, PVA−220E, PVA−224E, PVA−405, PVA−420, PVA−613, L−8等が挙げられる。また変性ポリビニルアルコールとしては、いずれもクラレ(株)製の、イオン変性部位を有すKL−318、KL−118、KM−618、KM−118、SK−5102、カチオン変性部位を有すC−318、C−118、CM−318、末端チオール変性部位を有すM−205、M−115、末端スルフィド変性部位を有すMP−103、MP−203、MP−102、MP−202、高級脂肪酸とのエステル変性部位を末端に有すHL−12E、HL−1203、その他反応性シラン変性部位を有すR−1130、R−2105、R−2130等が挙げられる。   Preferred examples of the polyvinyl alcohol include compounds having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like. Moreover, as modified polyvinyl alcohol, all made by Kuraray Co., Ltd., KL-318, KL-118, KM-618, KM-118, SK-5102 having an ion-modified site, C- having a cation-modified site. 318, C-118, CM-318, M-205, M-115 having terminal thiol modification site, MP-103, MP-203, MP-102, MP-202 having terminal sulfide modification site, higher fatty acid And HL-12E, HL-1203 having an ester-modified site at the end, and R-1130, R-2105, R-2130 having other reactive silane-modified sites.

保護層の他の添加物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を上記水溶性または水不溶性ポリマーに対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のイオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を添加することができる。これら活性剤の添加量は上記水溶性または水不溶性ポリマーに対して0.1〜100質量%添加することができる。   As other additives for the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the water-soluble or water-insoluble polymer to give flexibility. An ionic surfactant such as sodium alkyl sulfonate; an amphoteric surfactant such as alkylaminocarboxylate and alkylaminodicarboxylate; and a nonionic surfactant such as polyoxyethylene alkylphenyl ether can be added. These active agents can be added in an amount of 0.1 to 100% by mass with respect to the water-soluble or water-insoluble polymer.

また、画像部との密着性を良化させるため、例えば、特開昭49−70702号公報および英国特許出願公開第1303578号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、画像記録層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。   In order to improve the adhesion to the image area, for example, JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1303578 include an acrylic polymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesion can be obtained by mixing 20 to 60% by mass of a water-based emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer and the like, and laminating the mixture on an image recording layer. Any of these known techniques can be used in the present invention.

さらに、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.

保護層の形成は、上記保護層成分を溶媒に分散または溶解して調製された保護層塗布液を、画像記録層上に塗布、乾燥して行われる。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。
この保護層塗布液には、塗布性を向上させためのイオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤や皮膜の物性改良のため水溶性可塑剤などの公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、画像記録層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。
保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号明細書または特公昭55−49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。
The protective layer is formed by applying and drying a protective layer coating solution prepared by dispersing or dissolving the protective layer component in a solvent on the image recording layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water.
This protective layer coating solution includes known ionic surfactants for improving coating properties, nonionic surfactants, cationic surfactants, fluorine-based surfactants and water-soluble plasticizers for improving physical properties of films. Additives can be added. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, a known additive for improving the adhesion with the image recording layer and the temporal stability of the coating solution may be added to the coating solution.
The method for applying the protective layer is not particularly limited, and a known method such as the method described in US Pat. No. 3,458,311 or Japanese Patent Publication No. 55-49729 can be applied. . Specific examples of the protective layer include blade coating, air knife coating, gravure coating, roll coating coating, spray coating, dip coating, and bar coating.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.02〜3g/mの範囲であることが好ましく、0.05〜1g/mの範囲がより好ましく、最も好ましくは0.1〜0.4g/mの範囲である。 The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, more preferably in the range of 0.05 to 1 g / m 2, and most preferably 0. The range is 1 to 0.4 g / m 2 .

〔製版方法〕
本発明の平版印刷版原版は、画像露光後、機上現像またはガム現像によって製版されることが好ましい。
[Plate making method]
The lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably made by on-press development or gum development after image exposure.

(画像露光)
本発明の平版印刷版原版の露光光源としては、例えば、カーボンアーク、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、紫外光レーザー、可視光レーザー、赤外光レーザーが挙げられる。特にレーザーが好ましく、760〜1200nmの赤外線を放射する固体レーザーおよび半導体レーザー、250〜420nmの光を放射する半導体レーザーなどが挙げられる。レーザーを用いる場合は、デジタルデータに従って、画像様に走査露光することが好ましい。また、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
赤外線レーザーを用いる場合は、1画素あたりの露光時間は、20μs以内であるのが好ましい。また、照射エネルギー量は、10〜300mJ/cm2 であるのが好ましい。
紫外線レーザーを用いる場合は、画素滞留時間は、酸素との競争反応を最小限に抑えるため、短いほど好ましく、1ミリ秒以下が好ましい。より好ましくは500μs以下、最も好ましくは100μs以下である。エネルギー量は0.1〜10mJ/cm2であることが好ましい。
(Image exposure)
Examples of the exposure light source of the lithographic printing plate precursor according to the present invention include carbon arc, high-pressure mercury lamp, xenon lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp, halogen lamp, ultraviolet laser, visible light laser, and infrared light laser. It is done. A laser is particularly preferable, and examples thereof include a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light of 760 to 1200 nm, and a semiconductor laser that emits light of 250 to 420 nm. When a laser is used, it is preferable to perform imagewise scanning exposure according to digital data. In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device.
When an infrared laser is used, the exposure time per pixel is preferably within 20 μs. Moreover, it is preferable that irradiation energy amount is 10-300 mJ / cm < 2 >.
When an ultraviolet laser is used, the pixel residence time is preferably as short as possible in order to minimize the competitive reaction with oxygen, and is preferably 1 millisecond or less. More preferably, it is 500 μs or less, and most preferably 100 μs or less. The amount of energy is preferably 0.1 to 10 mJ / cm 2 .

(機上現像方法)
平版印刷版原版を画像露光する工程と、露光後の平版印刷版原版になんらの現像処理を施すことなく、印刷インキと湿し水とを供給して、印刷する印刷工程とを有し、該印刷工程の途上において平版印刷版原版の未露光部分が除去されることを特徴とする。画像様の露光は、まず、平版印刷版原版を印刷機に装着して行ってもよく、露光後の平版印刷版原版を印刷機に装着してもよく、その後、該印刷機を用い、印刷インキと湿し水とを供給してそのまま印刷することにより、印刷途上の初期の段階で機上現像処理、すなわち、未露光領域の画像記録層が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出して湿し水受容領域となり、印刷することができる。
以下、さらに詳細に説明する。
(On-press development method)
A step of performing image exposure of the lithographic printing plate precursor, and a printing step of printing by supplying printing ink and dampening water without performing any development treatment on the exposed lithographic printing plate precursor, An unexposed portion of the lithographic printing plate precursor is removed during the printing process. The imagewise exposure may be performed by first mounting the lithographic printing plate precursor on a printing machine, or the exposed lithographic printing plate precursor may be mounted on a printing machine, and then printing using the printing machine. By supplying ink and fountain solution and printing as it is, on-machine development processing at the initial stage of printing, that is, the image recording layer in the unexposed area is removed, and accordingly the hydrophilic support surface is formed. Exposed to become dampening water receiving area and can be printed.
This will be described in more detail below.

露光された平版印刷版原版は、印刷機の版胴に装着される。レーザー露光装置付きの印刷機の場合は、平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着したのち画像露光される。明室での作業のしやすさの観点から、赤外感光性の平版印刷版原版を用い、赤外線レーザーで露光するのが好ましい。   The exposed lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of a printing press. In the case of a printing press equipped with a laser exposure device, image exposure is performed after a lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of the printing press. From the viewpoint of ease of work in a bright room, it is preferable to use an infrared-sensitive lithographic printing plate precursor and expose with an infrared laser.

平版印刷版原版を赤外線レーザーで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく湿し水と印刷インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水および/または印刷インキによって、未硬化の画像記録層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の画像記録層に着肉して印刷が開始される。   After exposing the lithographic printing plate precursor imagewise with an infrared laser and supplying it with dampening water and printing ink without going through a development process such as a wet development process, the exposed part of the image recording layer The image recording layer cured by exposure forms a printing ink receiving portion having an oleophilic surface. On the other hand, in the unexposed area, the uncured image recording layer is removed by dissolution or dispersion by the supplied dampening water and / or printing ink, and a hydrophilic surface is exposed in that area. As a result, the fountain solution adheres to the exposed hydrophilic surface, and the printing ink is deposited on the image recording layer in the exposed area and printing is started.

ここで、最初に版面に供給されるのは、湿し水でもよく、印刷インキでもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給するのが好ましい。湿し水および印刷インキとしては、通常の平版印刷用の湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
Here, dampening water or printing ink may be supplied to the printing plate first, but printing is first performed in order to prevent the dampening water from being contaminated by the removed image recording layer components. It is preferable to supply ink. As the fountain solution and printing ink, normal lithographic fountain solution and printing ink are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

(ガム現像方法)
画像様露光後、ガム液を用いて未露光部画像記録層の除去(現像)を行ってもよい。その後印刷に用いられる。本発明において、ガム液とは親水性樹脂を含有する水溶液を意味する。親水性樹脂を含有させることにより、未露光部画像記録層が除去され露出した親水性支持体を保護したり、画像部を保護したりすることが可能である。
ガム液には一般的に不感脂化作用の強いアラビアガムがしばしば使われ、アラビアガムの約15〜20質量%の水溶液をガム液とすることが多い。アラビアガム以外にも種々の水溶性樹脂が不感脂化剤として用いられる。例えば、デキストリン、ステラビック、ストラクタン、アルギン酸塩類、ポリアクリル酸塩類、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、カルボキシアルキルセルロース塩、大豆のオカラから抽出した水溶性多糖類が好ましく、また、プルランまたはプルラン誘導体、ポリビニルアルコールも好ましい。
(Gum development method)
After imagewise exposure, the unexposed area image recording layer may be removed (developed) using a gum solution. It is then used for printing. In the present invention, the gum solution means an aqueous solution containing a hydrophilic resin. By including a hydrophilic resin, it is possible to protect the exposed hydrophilic support from which the unexposed image recording layer has been removed, or to protect the image area.
Generally gum arabic with a strong desensitizing action is often used for the gum solution, and an aqueous solution of about 15 to 20% by mass of gum arabic is often used as the gum solution. In addition to gum arabic, various water-soluble resins are used as a desensitizing agent. For example, water-soluble polysaccharides extracted from dextrin, steravic, structan, alginates, polyacrylates, hydroxyethylcellulose, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide, methylcellulose, hydroxypropylcellulose, hydroxymethylcellulose, carboxyalkylcellulose salts, soybean okara In addition, pullulan or pullulan derivatives and polyvinyl alcohol are also preferable.

さらに、変成澱粉誘導体としてブリティッシュガム等の焙焼澱粉、酵素デキストリンおよびシャーディンガーデキストリン等の酵素変成デキストリン、可溶化澱粉に示される酸化澱粉、変成アルファー化澱粉および無変成アルファー化澱粉等のアルファー化澱粉、燐酸澱粉、脂肪澱粉、硫酸澱粉、硝酸澱粉、キサントゲン酸澱粉およびカルバミン酸澱粉等のエステル化澱粉、カルボキシアルキル澱粉、ヒドロキシアルキル澱粉、スルフォアルキル澱粉、シアノエチル澱粉、アリル澱粉、ベンジル澱粉、カルバミルエチル澱粉、ジアルキルアミノ澱粉等のエーテル化澱粉、メチロール架橋澱粉、ヒドロキシアルキル架橋澱粉、燐酸架橋澱粉、ジカルボン酸架橋澱粉等の架橋澱粉、澱粉ポリアクリロアミド共重合体、澱粉ポリアクリル酸共重合体、澱粉ポリ酢酸ビニル共重合体、澱粉ポリアクリロニトリル共重合体、カオチン性澱粉ポリアクリル酸エステル共重合体、カオチン性澱粉ビニルポリマー共重合体、澱粉ポリスチレンマレイン酸共重合体、澱粉ポリエチレンオキサイド共重合体、澱粉ポリプロピレン共重合体等の澱粉グラフト重合体が好ましい。   Further, as modified starch derivatives, roasted starch such as British gum, enzyme modified dextrins such as enzyme dextrin and shardinger dextrin, oxidized starch shown in solubilized starch, modified starch pregelatinized and unmodified gelatinized starch , Phosphate starch, fat starch, sulfate starch, nitrate starch, xanthate starch, carbamic acid starch and other esterified starch, carboxyalkyl starch, hydroxyalkyl starch, sulfoalkyl starch, cyanoethyl starch, allyl starch, benzyl starch, carbamyl Etherified starch such as ethyl starch and dialkylamino starch, methylol cross-linked starch, hydroxyalkyl cross-linked starch, cross-linked starch such as phosphoric acid cross-linked starch and dicarboxylic acid cross-linked starch, starch polyacrylamide copolymer, starch polyacrylic acid copolymer Starch polyvinyl acetate copolymer, starch polyacrylonitrile copolymer, chaotic starch polyacrylate copolymer, chaotic starch vinyl polymer copolymer, starch polystyrene maleic acid copolymer, starch polyethylene oxide copolymer, Starch graft polymers such as starch polypropylene copolymers are preferred.

また天然高分子化合物としては、かんしょ澱粉、ばれいしょ澱粉、タピオカ澱粉、小麦澱粉およびコーンスターチ等の澱粉類、カラジーナン、ラミナラン、海ソウマンナン、ふのり、アイリッシュモス、寒天およびアルギン酸ナトリウム等の藻類から得られるもの、トロロアオイ、マンナン、クインスシード、ペクチン、トラガカントガム、カラヤガム、キサンチンガム、グアービンガム、ローカストビンガム、キャロブガム、ベンゾインガム等の植物性粘質物、デキストラン、グルカン、レバン等のホモ多糖ならびにサクシノグルカンおよびサンタンガム等のヘトロ多糖等の微生物粘質物、にかわ、ゼラチン、カゼインおよびコラーゲン等の蛋白質が好ましい。   Natural polymers include starches such as candy starch, potato starch, tapioca starch, wheat starch and corn starch, carrageenan, laminaran, seaweed mannan, funari, Irish moss, agar and algae such as sodium alginate. , Plant mucilage such as troroaoy, mannan, quince seed, pectin, tragacanth gum, karaya gum, xanthine gum, guar bin gum, locust bin gum, carob gum, benzoin gum, homopolysaccharides such as dextran, glucan, levan and succinoglucan and santangum Preferred are microbial mucilages such as hetropolysaccharides, proteins such as glue, gelatin, casein and collagen.

これらの水溶性樹脂は2種以上組み合わせても使用でき、ガム液中に好ましくは1〜50質量%、より好ましくは3〜30質量%の範囲で含有させることができる。   These water-soluble resins can be used in combination of two or more, and can be contained in the gum solution in an amount of preferably 1 to 50% by mass, more preferably 3 to 30% by mass.

本発明に使用されるガム液には、上記の不感脂化剤の他にpH調整剤、界面活性剤、防腐剤、防黴剤、親油性物質、湿潤剤、キレート剤、消泡剤などを含有させておくことができる。   The gum solution used in the present invention contains a pH adjuster, surfactant, preservative, antifungal agent, lipophilic substance, wetting agent, chelating agent, antifoaming agent, etc. in addition to the above desensitizing agent. It can be contained.

ガム液はpH3〜12の範囲で使用することが有利であり、そのため一般にpH調整剤が添加されている。pHを中性〜弱酸性にするためには一般的にガム液中に鉱酸、有機酸または無機塩等を添加し調節する。その添加量は0.01〜2質量%である。例えば鉱酸としては硝酸、硫酸、リン酸、メタリン酸等が挙げられる。有機酸としては酢酸、蓚酸、マロン酸、p−トルエンスルホン酸、レブリン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸、またグリシン、α−アラニン、β−アラニンなどのアミノ酸等が挙げられる。無機塩としては硝酸マグネシウム、第1リン酸ナトリウム、第2リン酸ナトリウム、硫酸ニッケル、ヘキサメタリン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム等が挙げられる。鉱酸、有機酸または無機塩等の少なくとも1種もしくは2種以上を併用してもよい。   The gum solution is advantageously used in a pH range of 3 to 12, and therefore a pH adjuster is generally added. In order to make the pH neutral to weakly acidic, a mineral acid, organic acid, inorganic salt or the like is generally added to the gum solution and adjusted. The addition amount is 0.01-2 mass%. For example, the mineral acid includes nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, metaphosphoric acid, and the like. Examples of the organic acid include acetic acid, succinic acid, malonic acid, p-toluenesulfonic acid, levulinic acid, phytic acid, organic phosphonic acid, and amino acids such as glycine, α-alanine, and β-alanine. Inorganic salts include magnesium nitrate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, nickel sulfate, sodium hexametaphosphate, sodium tripolyphosphate, and the like. You may use together at least 1 sort (s) or 2 or more types, such as a mineral acid, an organic acid, or an inorganic salt.

本発明のガム液に含有させる界面活性剤としては、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤およびノニオン界面活性剤が挙げられる。アニオン界面活性剤としては脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、α−オレフィンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらのなかでもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類およびα−オレフィンスルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、が特に好ましく用いられる。   Examples of the surfactant contained in the gum solution of the present invention include anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and nonionic surfactants. Anionic surfactants include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, α-olefin sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, alkyl diphenyl ether disulfonates, linear alkyl benzene sulfonates, branched Chain alkylbenzene sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, sodium N-methyl-N-oleyl taurate, disodium N-alkylsulfosuccinate monoamide Salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate esters, alkyl sulfate esters, polyoxy Ethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene Examples thereof include alkyl phenyl ether phosphate esters, saponification products of styrene-maleic anhydride copolymers, partial saponification products of olefin-maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfate esters, alkyl naphthalene sulfonates, α-olefin sulfonates, and alkyl diphenyl ether disulfonates are particularly preferably used.

カチオン界面活性剤としては、アルキルアミン塩類、第4級アンモニウム塩類等が用いられる。   As the cationic surfactant, alkylamine salts, quaternary ammonium salts and the like are used.

両性界面活性剤としては、アルキルカルボキシベタイン類、アルキルイミダゾリン類、アルキルアミノカルボン酸類等が用いられる。   As the amphoteric surfactant, alkyl carboxybetaines, alkyl imidazolines, alkylaminocarboxylic acids and the like are used.

ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリプロピレングリコールの分子量200〜5000、トリメチロールプロパン、グリセリンまたはソルビトールのポリオキシエチレンまたはポリオキシプロピレンの付加物、アセチレングリコール系等が挙げられる。又、弗素系、シリコン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。   Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ether, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters , Pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol monofatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters , Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanol Mido, N, N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamine, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polypropylene glycol molecular weight 200-5000, trimethylolpropane, glycerin or sorbitol poly Examples include adducts of oxyethylene or polyoxypropylene, and acetylene glycols. Fluorine-based and silicon-based nonionic surfactants can also be used in the same manner.

該界面活性剤は二種以上併用することができる。使用量は特に限定する必要はないが、好ましい範囲としてはガム液の全質量に基づいて0.01〜20質量%が適当であり、好ましくは0.05〜10質量%である。   Two or more surfactants can be used in combination. The amount used is not particularly limited, but a preferable range is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 10% by mass based on the total mass of the gum solution.

また、防腐剤としては繊維、木材加工、食品、医薬、化粧品、農薬分野等で使用されている公知の物が使用できる。例えば第4級アンモニウム塩、一価フェノール誘導体、二価フェノール誘導体、多価フェノール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾロピリミジン誘導体、一価ナフトール、カーボネート類、スルホン誘導体、有機スズ化合物、シクロペンタン誘導体、フェニル誘導体、フェノールエーテル誘導体、フェノールエステル誘導体、ヒドロキシルアミン誘導体、ニトリル誘導体、ナフタリン類、ピロール誘導体、キノリン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、第2級アミン、1,3,5トリアジン誘導体、チアジアゾール誘導体、アニリド誘導体、ピロール誘導体、ハロゲン誘導体、二価アルコール誘導体、ジチオール類、シアン酸誘導体、チオカルバミド酸誘導体、ジアミン誘導体、イソチアゾール誘導体、一価アルコール、飽和アルデヒド、不飽和モノカルボン酸、飽和エーテル、不飽和エーテル、ラクトン類、アミノ酸誘導体、ヒダントイン、シアヌール酸誘導体、グアニジン誘導体、ピリジン誘導体、飽和モノカルボン酸、ベンゼンカルボン酸誘導体、ヒドロキシカルボン酸誘導体、ビフェニル、ヒドロキサム酸誘導体、芳香族アルコール、ハロゲノフェノール誘導体、ベンゼンカルボン酸誘導体、メルカプトカルボン酸誘導体、第4級アンモニウム塩誘導体、トリフェニルメタン誘導体、ヒノキチオール、フラン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリジン誘導体、イソキノリン誘導体、アルシン誘導体、チオカルバミン酸誘導体、リン酸エステル、ハロゲノベンゼン誘導体、キノン誘導体、ベンゼンスルホン酸誘導体、モノアミン誘導体、有機リン酸エステル、ピペラジン誘導体、フェナジン誘導体、ピリミジン誘導体、チオファネート誘導体、イミダゾリン誘導体、イソオキサゾール誘導体、アンモニウム塩誘導体等の公知の防腐剤が使用できる。特に好ましい防腐剤として、ピリジンチオール−1−オキシドの塩、サリチル酸およびその塩、1,3,5−トリスヒドロキシエチルヘキサヒドロ−S−トリアジン、1,3,5−トリスヒドロキシメチルヘキサヒドロ−S−トリアジン、1,2−ベンズイソチアゾリン−3−オン、5−クロル−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、2−ブロモ−2−ニトロ−1,3−プロパンジオールが挙げられる。好ましい添加量は、細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、使用時のガム液に対して0.01〜4質量%の範囲が好ましく、また種々のカビ、細菌に対して効力のあるように2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。   As the preservative, known materials used in the fields of fiber, wood processing, food, medicine, cosmetics, agricultural chemicals and the like can be used. For example, quaternary ammonium salts, monohydric phenol derivatives, dihydric phenol derivatives, polyhydric phenol derivatives, imidazole derivatives, pyrazolopyrimidine derivatives, monovalent naphthols, carbonates, sulfone derivatives, organotin compounds, cyclopentane derivatives, phenyl derivatives , Phenol ether derivatives, phenol ester derivatives, hydroxylamine derivatives, nitrile derivatives, naphthalenes, pyrrole derivatives, quinoline derivatives, benzothiazole derivatives, secondary amines, 1,3,5 triazine derivatives, thiadiazole derivatives, anilide derivatives, pyrrole derivatives , Halogen derivatives, dihydric alcohol derivatives, dithiols, cyanic acid derivatives, thiocarbamic acid derivatives, diamine derivatives, isothiazole derivatives, monohydric alcohols, saturated aldehydes, Japanese monocarboxylic acid, saturated ether, unsaturated ether, lactone, amino acid derivative, hydantoin, cyanuric acid derivative, guanidine derivative, pyridine derivative, saturated monocarboxylic acid, benzenecarboxylic acid derivative, hydroxycarboxylic acid derivative, biphenyl, hydroxamic acid derivative , Aromatic alcohols, halogenophenol derivatives, benzenecarboxylic acid derivatives, mercaptocarboxylic acid derivatives, quaternary ammonium salt derivatives, triphenylmethane derivatives, hinokitiol, furan derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives, isoquinoline derivatives, arsine derivatives, thiocarbamine Acid derivatives, phosphate esters, halogenobenzene derivatives, quinone derivatives, benzenesulfonic acid derivatives, monoamine derivatives, organophosphate esters, piperazine derivatives , Phenazine derivatives, pyrimidine derivatives, thiophanate derivatives, imidazoline derivatives, isoxazole derivatives, known preservatives such as ammonium salt derivatives can be used. Particularly preferred preservatives include pyridinethiol-1-oxide salts, salicylic acid and its salts, 1,3,5-trishydroxyethylhexahydro-S-triazine, 1,3,5-trishydroxymethylhexahydro-S- Examples include triazine, 1,2-benzisothiazolin-3-one, 5-chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one, and 2-bromo-2-nitro-1,3-propanediol. The preferred addition amount is an amount that exerts stability against bacteria, molds, yeasts, etc., and varies depending on the types of bacteria, molds, yeasts, but 0.01 to The range of 4% by mass is preferable, and it is preferable to use two or more preservatives in combination so as to be effective against various molds and bacteria.

ガム液には親油性物質を含有させておくこともできる。好ましい親油性物質には、例えばオレイン酸、ラノリン酸、吉草酸、ノニル酸、カプリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸などのような炭素数が5〜25の有機カルボン酸、ひまし油などが含まれる。これらの親油性物質は単独もしくは2以上を組み合わせて使用することができる。ガム液中に含ませる親油性物質は、その総質量に対して0.005〜10質量%、より好ましくは0.05〜5質量%の範囲である。   The gum solution can also contain a lipophilic substance. Preferred lipophilic substances include organic carboxylic acids having 5 to 25 carbon atoms such as oleic acid, lanolinic acid, valeric acid, nonylic acid, capric acid, myristic acid, palmitic acid, castor oil and the like. These lipophilic substances can be used alone or in combination of two or more. The lipophilic substance contained in the gum solution is in the range of 0.005 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 5% by mass, based on the total mass.

その他、ガム液には必要により湿潤剤としてグリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン等を添加することができる。これらの湿潤剤は単独で用いてもよいが、2種以上併用してもよい。これらの湿潤剤の好ましい使用量としては0.1〜5質量%である。   In addition, glycerin, ethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, diglycerin, etc. may be added as a wetting agent to the gum solution as necessary. it can. These wetting agents may be used alone or in combination of two or more. The preferred use amount of these wetting agents is 0.1 to 5% by mass.

また、ガム液にはキレート化合物を添加してもよい。通常、ガム液は通常濃縮液として市販され、使用時に水道水、井戸水等を加えて希釈して使用される。この希釈する水道水や井戸水に含まれているカルシウムイオン等が印刷に悪影響を与え、印刷物を汚れ易くする原因となることもあるので、キレート化合物を添加して、上記欠点を解消することができる。好ましいキレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることが出来る。上記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。これらキレート剤はガム液組成中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。添加量としては使用時のガム液に対して0.001〜1.0質量%が適当である。   A chelate compound may be added to the gum solution. Usually, the gum solution is usually marketed as a concentrated solution, and is used after being diluted by adding tap water, well water or the like at the time of use. Calcium ions contained in the diluted tap water and well water may adversely affect printing and may cause the printed matter to become dirty. Therefore, the above disadvantages can be eliminated by adding a chelate compound. . Preferred chelate compounds include, for example, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, hydroxyethylethylenediaminetrimethyl Acetic acid, potassium salt, sodium salt; nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium Examples thereof include organic phosphonic acids such as salts and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Organic amine salts are also effective in place of the sodium and potassium salts of the chelating agents. These chelating agents are selected so that they are stably present in the gum solution composition and do not impair the printability. The addition amount is suitably 0.001 to 1.0 mass% with respect to the gum solution at the time of use.

また、ガム液には消泡剤を添加することもでき、特にシリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型および可溶化型等がいずれも使用できる。好ましくは使用時のガム液に対して0.001〜1.0質量%の範囲が最適である。   An antifoaming agent can be added to the gum solution, and a silicon antifoaming agent is particularly preferable. Among them, an emulsified dispersion type and a solubilized type can be used. Preferably, the range of 0.001 to 1.0 mass% is optimal with respect to the gum solution at the time of use.

ガム液の残余の成分は水である。ガム液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさない程度が適当である。ガム液は乳化分散型として調製してもよく、その油相としては有機溶剤が用いられ、又、前述したような界面活性剤の助けを借りて、可溶化型(乳化型)にしてもよい。   The remaining component of the gum solution is water. It is advantageous in terms of transportation that the gum solution is a concentrated solution in which the water content is less than at the time of use, and is diluted with water at the time of use. In this case, the degree of concentration is appropriate such that each component does not cause separation or precipitation. The gum solution may be prepared as an emulsified dispersion type, an organic solvent is used as its oil phase, and it may be made into a solubilized type (emulsified type) with the aid of a surfactant as described above. .

有機溶剤としては、20℃で水に対する溶解性が5質量%以下で沸点160℃以上の有機溶剤であることが好ましい。例えば、ジブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ−n−オクチルフタレート、ジ(2−エチルヘキシル)フタレート、ジノニルフタレート、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブチルベンジルフタレートなどのフタル酸ジエステル剤、例えば、ジオクチルアジペート、ブチルグリコールアジペート、ジオクチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ(2−エチルヘキシル)セバケート、ジオクチルセバケートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、例えば、エポキシ化大豆油などのエポキシ化トリグリセリド類、例えば、トリクレジルホスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリスクロルエチルフォスフェートなどの燐酸エステル類、例えば、安息香酸ベンジルなどの安息香酸エステル類などの凝固点が15℃以下で、1気圧下での沸点が300℃以上の可塑剤が含まれる。   The organic solvent is preferably an organic solvent having a solubility in water at 20 ° C. of 5% by mass or less and a boiling point of 160 ° C. or more. For example, phthalic acid diester agents such as dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, di-n-octyl phthalate, di (2-ethylhexyl) phthalate, dinonyl phthalate, didecyl phthalate, dilauryl phthalate, butyl benzyl phthalate, etc. , Aliphatic dibasic esters such as butyl glycol adipate, dioctyl azelate, dibutyl sebacate, di (2-ethylhexyl) sebacate, dioctyl sebacate, for example, epoxidized triglycerides such as epoxidized soybean oil, The freezing point of phosphoric acid esters such as cresyl phosphate, trioctyl phosphate, trischlor ethyl phosphate, for example, benzoic acid esters such as benzyl benzoate is 15 ° C. or less, Boiling point at atmospheric pressure include 300 ° C. or more plasticizers.

その他アルコール系としては、2−オクタノール、2−エチルヘキサノール、ノナノール、n−デカノール、ウンデカノール、n−ドデカノール、トリメチルノニルアルコール、テトラデカノール、ベンジルアルコール等が挙げられる。グリコール系としてはエチレングリコールイソアミルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテルエチレングリコールヘキシルエーテル、オクチレングリコール等が挙げられる。   Examples of other alcohols include 2-octanol, 2-ethylhexanol, nonanol, n-decanol, undecanol, n-dodecanol, trimethylnonyl alcohol, tetradecanol, and benzyl alcohol. Examples of glycols include ethylene glycol isoamyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol hexyl ether, and octylene glycol.

上記化合物を選択するときの条件としては臭気が特に挙げられる。これら溶剤の使用量の好ましい範囲は版面保護剤の0.1〜5質量%でより好ましい範囲は0.5〜3質量%である。これらの溶剤は1種もしくは2種以上併用することもできる。   Odor is particularly mentioned as a condition when selecting the compound. A preferable range of the amount of these solvents used is 0.1 to 5% by mass of the plate surface protecting agent, and a more preferable range is 0.5 to 3% by mass. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられるガム液は、水相を温度40℃±5℃に調製し、高速攪拌し、水相の中に調製した油相をゆっくり滴下し充分攪拌後、圧力式のホモジナイザーを通して乳化 分散することによって作製される。   The gum solution used in the present invention is prepared by preparing a water phase at a temperature of 40 ° C. ± 5 ° C., stirring at a high speed, slowly dropping the prepared oil phase into the water phase, stirring sufficiently, and then emulsifying and dispersing through a pressure type homogenizer. It is produced by doing.

本発明の製版方法としては、上記のガム液を用いた未露光部画像記録層の除去工程に続いて、水洗工程や、さらに引き続いてガム液による非画像部の不感脂化工程、を適宜行うことが出来る。   As the plate making method of the present invention, following the removal process of the unexposed area image recording layer using the above-described gum solution, a water washing process and further a desensitization process of the non-image area with the gum liquid are appropriately performed. I can do it.

本発明のガム現像処理は、ガム液などの供給手段および擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開2006−235227号公報等に記載の自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。   The gum development processing of the present invention can be suitably carried out by an automatic processor equipped with a supply means such as a gum solution and a rubbing member. Examples of the automatic processor include an automatic processor described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-235227 that performs rubbing while conveying a lithographic printing plate precursor after image recording. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable.

本発明に好ましく使用できる回転ブラシロールは、画像部の傷つき難さ、さらには、平版印刷版原版支持体の腰の強さ等を考慮して適宜選択することができる。
上記回転ブラシロールとしては、ブラシ素材をプラスチックまたは金属のロールに植え付けて形成された公知のものが使用できる。例えば、特開昭58−159533号公報や、特開平3−100554号公報記載のものや、実公昭62−167253号公報に記載されているような、ブラシ素材を列状に植え込んだ金属またはプラスチックの溝型材を芯となるプラスチックまたは金属のロールに隙間なく放射状に巻き付けたブラシロールが使用できる。
また、ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、および、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は、20〜400μm、毛の長さは、5〜30mmのものが好適に使用できる。
さらに、回転ブラシロールの外径は、30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は、0.1〜5m/secが好ましい。
The rotating brush roll that can be preferably used in the present invention can be appropriately selected in consideration of the difficulty of scratching the image area and the stiffness of the lithographic printing plate precursor support.
As the rotating brush roll, a known one formed by planting a brush material on a plastic or metal roll can be used. For example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-159533, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-100554, or Japanese Utility Model Publication No. 62-167253, metal or plastic in which brush materials are implanted in rows. A brush roll can be used in which the groove mold material is radially wound around a plastic or metal roll as a core without a gap.
The brush material includes plastic fibers (for example, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides such as nylon 6.6 and nylon 6.10, polyacrylonitrile, poly (meth) acrylate, etc. Acrylic and polyolefin synthetic fibers such as polypropylene and polystyrene) can be used. For example, the fiber has a hair diameter of 20 to 400 μm and a hair length of 5 to 30 mm. Can be used.
Furthermore, the outer diameter of the rotating brush roll is preferably 30 to 200 mm, and the peripheral speed at the tip of the brush rubbing the plate surface is preferably 0.1 to 5 m / sec.

本発明に用いる回転ブラシロールの回転方向は、本発明の平版印刷版原版の搬送方向に対し、同一方向であっても、逆方向であってもよいが、図1に例示した自動処理機のように、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが、同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが好ましい。これにより、未露光部の画像記録層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。   The rotating direction of the rotating brush roll used in the present invention may be the same or opposite to the conveying direction of the planographic printing plate precursor of the present invention. Thus, when two or more rotating brush rolls are used, it is preferable that at least one rotating brush roll rotates in the same direction and at least one rotating brush roll rotates in the opposite direction. This further ensures the removal of the image recording layer in the unexposed area. Furthermore, it is also effective to swing the rotating brush roll in the direction of the rotation axis of the brush roll.

本発明においては、現像槽にて現像と不感脂化処理を行う。この後、連続して乾燥処理を行ってもよいが、現像後に、水洗処理またはさらなる不感脂化処理を行ってから、乾燥処理を行ってもよい。本発明のガム現像に用いられるガム液や、後工程の水洗水の温度は、それぞれ別々に任意の温度で使用できるが、好ましくは10℃〜50℃である。   In the present invention, development and desensitization are performed in a developing tank. Thereafter, a drying treatment may be performed continuously, but after the development, a water washing treatment or a further desensitization treatment may be performed before the drying treatment. The gum solution used in the gum development of the present invention and the temperature of the washing water in the post-process can be used separately at any temperature, but are preferably 10 ° C to 50 ° C.

なお、本発明のガム現像方法において、ガム現像後の任意の場所に乾燥工程を設けることも可能である。乾燥工程は、一般にローラーニップで処理液のほとんどを除去した後に、任意の温度の乾燥風を吹き付けることにより行われる。   In the gum development method of the present invention, it is possible to provide a drying step at any location after gum development. The drying step is generally performed by blowing a drying air having an arbitrary temperature after most of the processing liquid is removed by a roller nip.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

(素材中のハロゲン化物イオン量の測定方法)
前記の要領で試料を作製し、硝酸銀水溶液(0.01mol/L)による滴定法(京都電子工業製 自動滴定装置AT−30)により、ハロゲン化物イオンの量を定量した。
(Method of measuring the amount of halide ions in the material)
Samples were prepared as described above, and the amount of halide ions was quantified by titration with an aqueous silver nitrate solution (0.01 mol / L) (automatic titrator AT-30 manufactured by Kyoto Electronics Industry).

(ハロゲン化物イオンの除去)
(1)イオン系界面活性剤
(a)市販界面活性剤の脱塩精製
界面活性剤A〔竹本油脂(株)製パイオニンA−24−EA(40質量%水溶液)、ハロゲン化物イオン濃度160×10−6mol/g〕を、脱塩装置(ASTOM社製・Micro Acilyzer S3)にて脱塩精製し、界面活性剤B〔ハロゲン化物イオン濃度80×10−6mol/gの試料(40質量%水溶液)〕と界面活性剤C〔ハロゲン化物イオン濃度10×10−6mol/gの試料(40質量%水溶液)〕を作製した。
(Removal of halide ions)
(1) Ionic surfactant (a) Desalting and purification of commercially available surfactant Surfactant A [Pionine A-24-EA (40% by mass aqueous solution) manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd., halide ion concentration 160 × 10 -6 mol / g] was desalted and purified with a desalting apparatus (ASTOM Corp., Micro Alyzer S3), and a sample of surfactant B [halide ion concentration 80 × 10 -6 mol / g (40 mass%) Aqueous solution)] and surfactant C [sample with a halide ion concentration of 10 × 10 −6 mol / g (40 mass% aqueous solution)].

(b)ハロゲン化物イオンを実質的に含有しない界面活性剤Dの合成
ジエチレングリコールモノ(2−エチルヘキシル)エーテル 500質量部水酸化ナトリウム 92質量部、トルエン 1490質量部を反応容器に取り、90℃で1時間攪拌した。1,4−ブタンサルトン 312質量部を、内温を100℃以下に保ちながら滴下した。滴下終了後、内温を90℃に保ちながら、更に5時間攪拌した。反応容器を冷却後、アセトニトリル 11200質量部を攪拌しながら添加し、晶析を行った。遠心ろ過により結晶を分取した後、アセトニトリルで結晶洗浄を行い、更に、真空乾燥して、界面活性剤D:Sodium 4-(2-(2-(2-エチルヘキシルオキシ)エトキシ)エトキシ)ブタン-1-スルホン酸ナトリウム 720質量部を得た。ハロゲン化物イオンは検出限界以下であった。
(B) Synthesis of Surfactant D Substantially Not Containing Halide Ion Diethylene glycol mono (2-ethylhexyl) ether 500 parts by mass Sodium hydroxide 92 parts by mass, toluene 1490 parts by mass in a reaction vessel, 1 at 90 ° C. Stir for hours. 312 parts by mass of 1,4-butanesultone was added dropwise while keeping the internal temperature at 100 ° C. or lower. After completion of the dropwise addition, the mixture was further stirred for 5 hours while maintaining the internal temperature at 90 ° C. After cooling the reaction vessel, 11200 parts by mass of acetonitrile was added with stirring to perform crystallization. After separating the crystals by centrifugal filtration, the crystals are washed with acetonitrile, and further dried under vacuum to obtain a surfactant D: Sodium 4- (2- (2- (2- (ethylhexyloxy) ethoxy) ethoxy) butane- 720 parts by mass of sodium 1-sulfonate was obtained. Halide ions were below the detection limit.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

(2)バインダーポリマー
<バインダーポリマーA−1の合成>
コンデンサー、攪拌器を取り付けた500mlフラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール:156.28g入れ、窒素気流下、70℃まで加熱した。メタクリル酸メチル:50.06g、ジエチレングリコールモノメチルエーテル:75.29g、メタクリル酸:8.61g、V−601:1.382gの1−メトキシ−2−プロパノール:156.28g溶液を2.5時間かけて滴下した。滴下終了後、2時間、70℃で撹拌した後、V−601:1.151gを加え、90℃まで昇温し、更に2時間攪拌した。室温まで反応溶液を冷却した後、グリシジルメタクリレート:15.64g、p−メトキシフェノール:0.2992g、テトラエチルアンモニウムブロミド:1.496gを加え、再び90℃まで加熱し、8時間攪拌し、バインダーポリマーA−1(24質量%MFG溶液)を得た。得られたバインダーポリマーA−1(24質量%MFG溶液)のハロゲン化物濃度は、9.6×10−6mol/gであった。
(2) Binder polymer <Synthesis of binder polymer A-1>
1-Methoxy-2-propanol: 156.28 g was placed in a 500 ml flask equipped with a condenser and a stirrer, and heated to 70 ° C. under a nitrogen stream. Methyl methacrylate: 50.06 g, diethylene glycol monomethyl ether: 75.29 g, methacrylic acid: 8.61 g, V-601: 1.382 g of 1-methoxy-2-propanol: 156.28 g solution over 2.5 hours It was dripped. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 70 ° C., V-601: 1.151 g was added, the temperature was raised to 90 ° C., and the mixture was further stirred for 2 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, glycidyl methacrylate: 15.64 g, p-methoxyphenol: 0.2992 g, tetraethylammonium bromide: 1.496 g were added, heated again to 90 ° C., stirred for 8 hours, and binder polymer A -1 (24 mass% MFG solution) was obtained. The halide concentration of the obtained binder polymer A-1 (24% by mass MFG solution) was 9.6 × 10 −6 mol / g.

<バインダーポリマーA−2の合成>
コンデンサー、攪拌器を取り付けた500mlフラスコに、1−メトキシ−2−プロパノール:156.28g入れ、窒素気流下、70℃まで加熱した。メタクリル酸メチル:50.06g、ジエチレングリコールモノメチルエーテル:75.29g、メタクリル酸:8.61g、V−601:1.382gの1−メトキシ−2−プロパノール:156.28g溶液を2.5時間かけて滴下した。滴下終了後、2時間、70℃で撹拌した後、V−601:1.151gを加え、90℃まで昇温し、更に2時間攪拌した。室温まで反応溶液を冷却した後、グリシジルメタクリレート:15.64g、p−メトキシフェノール:0.2992g、テトラエチルアンモニウムブロミド:0.748gを加え、再び90℃まで加熱し、8時間攪拌し、バインダーポリマーA−2(24質量%MFG溶液)を得た。得られたバインダーポリマーA−2(24質量%MFG溶液)のハロゲン化物濃度は、3.8×10−6mol/gであった。
<Synthesis of Binder Polymer A-2>
1-Methoxy-2-propanol: 156.28 g was placed in a 500 ml flask equipped with a condenser and a stirrer, and heated to 70 ° C. under a nitrogen stream. Methyl methacrylate: 50.06 g, diethylene glycol monomethyl ether: 75.29 g, methacrylic acid: 8.61 g, V-601: 1.382 g of 1-methoxy-2-propanol: 156.28 g solution over 2.5 hours It was dripped. After completion of dropping, the mixture was stirred for 2 hours at 70 ° C., V-601: 1.151 g was added, the temperature was raised to 90 ° C., and the mixture was further stirred for 2 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, glycidyl methacrylate: 15.64 g, p-methoxyphenol: 0.2992 g, tetraethylammonium bromide: 0.748 g were added, heated again to 90 ° C., stirred for 8 hours, and binder polymer A -2 (24 mass% MFG solution) was obtained. The resulting binder polymer A-2 (24% by mass MFG solution) had a halide concentration of 3.8 × 10 −6 mol / g.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

得られたバインダーポリマーA−1、A−2を、ポリスチレンを標準物質としたゲルバミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により、質量平均モル質量を測定した結果、いずれも200,000であり、正常に重合が行われていることが確認された。また、酸価滴定の結果、いずれもカルボキシル基が残存していないことが確認された。   As a result of measuring the mass average molar mass of the obtained binder polymers A-1 and A-2 by gel permeation chromatography method (GPC) using polystyrene as a standard substance, both were 200,000, It was confirmed that polymerization was taking place. Further, as a result of acid value titration, it was confirmed that no carboxyl group remained.

(1)再沈殿法による精製(バインダーポリマーB)
上記バインダーポリマーA−2(24質量%MFG溶液)100質量部を水1000質量部に加え、再沈殿を行った。得られた固形物を脱液した後に、アセトン200質量部に溶解した。この溶液を水1000質量部に加えて再沈殿を行った後、得られた固形物を脱液した。アセトン溶液からの再沈殿を再度行い、得られた固形物を脱液した後に真空乾燥して、バインダーポリマーBを得た。ハロゲン化物イオンは検出限界以下であった。
(1) Purification by reprecipitation method (binder polymer B)
100 parts by mass of the binder polymer A-2 (24% by mass MFG solution) was added to 1000 parts by mass of water, and reprecipitation was performed. The obtained solid was drained and then dissolved in 200 parts by mass of acetone. This solution was added to 1000 parts by mass of water for reprecipitation, and then the obtained solid was drained. Reprecipitation from the acetone solution was performed again, and the resulting solid was drained and then vacuum dried to obtain binder polymer B. Halide ions were below the detection limit.

(2)イオン交換樹脂による精製(バインダーポリマーC)
上記バインダーポリマーA−2(24質量%MFG溶液)100質量部に、陰イオン交換樹脂(AmberlystA−26 OH型)10質量部を加え、室温で1時間攪拌した後にイオン交換樹脂を濾過により除去した。この溶液に、更に陽イオン交換樹脂(Amberlyst15 H型)10質量部を加え、室温で1時間攪拌した後にイオン交換樹脂を濾過により除去して、バインダーポリマー溶液Cを得た。ハロゲン化物イオンは検出限界以下であった。
(2) Purification by ion exchange resin (binder polymer C)
10 parts by mass of an anion exchange resin (Amberlyst A-26 OH type) was added to 100 parts by mass of the binder polymer A-2 (24% by mass MFG solution), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and then the ion exchange resin was removed by filtration. . To this solution was further added 10 parts by mass of a cation exchange resin (Amberlyst 15 H type), and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and then the ion exchange resin was removed by filtration to obtain a binder polymer solution C. Halide ions were below the detection limit.

[実施例1〜10および比較例1〜4]
1.平版印刷版原版(1)〜(10)および(R1)の作製
(1)支持体の作製
ケイ素0.080質量%、鉄0.280質量%、銅0.005質量%、マンガン0.001質量%、マグネシウム0.001質量%、クロム0.001質量%、亜鉛0.003質量%、チタン0.021質量%、残部がアルミニウムからなる組成の(以下、アルミ1と称する)の厚み0.3mmのアルミニウム板を用い、表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温は50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
[Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4]
1. Production of lithographic printing plate precursors (1) to (10) and (R1) (1) Production of support 0.080% by mass of silicon, 0.280% by mass of iron, 0.005% by mass of copper, 0.001% by mass of manganese %, Magnesium 0.001% by mass, Chromium 0.001% by mass, Zinc 0.003% by mass, Titanium 0.021% by mass, balance of aluminum (hereinafter referred to as Aluminum 1) 0.3 mm thickness In order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, after degreasing at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, three bundled nylon brushes having a bristle diameter of 0.3 mm And a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm, the aluminum surface was grained and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 .
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (containing 0.5% by mass aluminum ions), and the liquid temperature was 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

さらに、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体1を作製した。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。さらに、下記下塗り液(1)を乾燥塗布量が12mg/mになるよう塗布して以下の実験に用いる支持体2を得た。 Further, in a 0.5% by mass aqueous solution of hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C., nitric acid electrolysis is performed under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate is an anode An electrochemical surface roughening treatment was performed in the same manner, followed by washing with water by spraying. This plate was provided with a DC anodized film of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolyte, washed with water and dried. A support 1 was prepared. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm. Furthermore, to obtain a support 2 used in the following experiments was applied to a dry coating amount of the following undercoat liquid (1) is 12 mg / m 2.

−下塗り液(1)−
・下塗り化合物(1)(Mw:60,000) 0.017g
・本発明の特定化合物(表1に種類と量を記載)
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
-Undercoat liquid (1)-
・ Undercoat compound (1) (Mw: 60,000) 0.017 g
Specific compounds of the present invention (types and amounts are listed in Table 1)
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

Figure 2009255506
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(2)画像記録層および保護層の形成
上記下塗り層形成済みの支持体2上に、下記組成の画像記録層塗布液1をバー塗布した後、100℃で60秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。引き続き、下記組成の保護層塗布液1を前記画像記録層上にバー塗布し、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.160g/mの保護層を形成することで本発明の平版印刷版原版(1)〜(10)と比較例用(R1)を得た。
なお、画像記録層塗布液1は、下記感光液およびミクロゲル液を塗布直前に混合し、攪拌することにより得た。
(2) Formation of Image Recording Layer and Protective Layer On the support 2 on which the undercoat layer has been formed, the image recording layer coating solution 1 having the following composition is bar-coated, followed by oven drying at 100 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount. An image recording layer of 1.0 g / m 2 was formed. Subsequently, the protective layer coating solution 1 having the following composition is bar-coated on the image recording layer and oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.160 g / m 2. Lithographic printing plate precursors (1) to (10) and Comparative Example (R1) were obtained.
The image recording layer coating solution 1 was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution and microgel solution immediately before coating.

−感光液−
(D)バインダーポリマー(表1に種類を記載) 0.177g
(A)重合開始剤(例示化合物I−28) 0.142g
(B)赤外線吸収剤(1) 0.0308g
(C)重合性化合物(アロニックスM−215(東亜合成(株)製) 0.319g
フッ素系界面活性剤(1)(Mw 1.3万) 0.004g
イオン系界面活性剤(表1に種類を記載) 0.125g
メチルエチルケトン 2.554g
1−メトキシ−2−プロパノール 7.023g
-Sensitive solution-
(D) Binder polymer (types listed in Table 1) 0.177 g
(A) Polymerization initiator (Exemplary Compound I-28) 0.142 g
(B) Infrared absorber (1) 0.0308 g
(C) Polymerizable compound (Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)) 0.319 g
Fluorosurfactant (1) (Mw 13,000) 0.004g
Ionic surfactant (type listed in Table 1) 0.125 g
Methyl ethyl ketone 2.554g
1-methoxy-2-propanol 7.023 g

−ミクロゲル液−
ミクロゲル分散液(1) 1.800g
水 1.678g
-Microgel solution-
Microgel dispersion (1) 1.800 g
1.678g of water

なお、前記感光液に使用するミクロゲル液に用いるミクロゲル分散液(1)の合成およびその他の化合物の構造を以下に示す。   The synthesis of the microgel dispersion (1) used in the microgel solution used in the photosensitive solution and the structures of other compounds are shown below.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

Figure 2009255506
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(ミクロゲル分散液(1)の合成)
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N、75質量%酢酸エチル溶液)10.0g、重合性化合物としてアロニックスM−215(東亜合成(株)製)6.00g、パイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.12gを酢酸エチル16.67gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で2時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル分散液の固形分濃度を、21質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、ミクロゲル分散液(1)を得た。平均粒径は0.23μmであった。
(Synthesis of microgel dispersion (1))
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N, 75% by mass ethyl acetate solution) 10.0 g, as a polymerizable compound Aronix M-215 (Toa Synthesis Co., Ltd.) 6.00 g and Piionin A-41C (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.12 g were dissolved in ethyl acetate 16.67 g. As an aqueous phase component, 37.5 g of a 4 mass% aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 2 hours. The microgel dispersion thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration was 21% by mass to obtain a microgel dispersion (1). The average particle size was 0.23 μm.

−保護層塗布液1−
・下記層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール 0.06g
(PVA105、(株)クラレ製、けん化度98.5モル%、重合度500)
・ポリビニルピロリドン 0.01g
(ポリビニルピロリドンK30、東京化成工業(株)製、分子量Mw=4万)
・ビニルピロリドン/酢酸ビニル共重合体 0.01g
(LUVITEC VA64W、ISP社製、共重合比=6/4)
・ノニオン系界面活性剤 0.013g
(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
・イオン交換水 6.0g
−Protective layer coating solution 1−
-1.5 g of the following layered compound dispersion (1)
・ Polyvinyl alcohol 0.06g
(PVA105, manufactured by Kuraray Co., Ltd., saponification degree 98.5 mol%, polymerization degree 500)
・ Polyvinylpyrrolidone 0.01g
(Polyvinylpyrrolidone K30, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight Mw = 40,000)
・ Vinyl pyrrolidone / vinyl acetate copolymer 0.01g
(LUVITEC VA64W, manufactured by ISP, copolymerization ratio = 6/4)
・ Nonionic surfactant 0.013g
(Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Ion-exchanged water 6.0g

(層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散無機粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of layered compound dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed inorganic particles was 100 or more.

2.比較例用平版印刷版原版(R2)〜(R4)の作製
比較用の平版印刷版原版(R1)で用いた下塗り層塗布液1に、ハロゲン化物イオンの量が表1記載の値になるように、塩化カリウムを添加した以外は平版印刷版原版(R1)と同様にして比較用の平版印刷版原版(R2)、臭化カリウムを添加した以外は平版印刷版原版(R1)と同様にして比較用の平版印刷版原版(R3)を作製した。
また、比較用の平版印刷版原版(R2)の下塗り層塗布液から本発明の特定化合物を除いた下塗り層塗布液を用いた以外は平版印刷版原版(R2)と同様にして比較用の平版印刷版原版(R4)を作製した。
2. Preparation of Lithographic Printing Plate Precursors (R2) to (R4) for Comparative Examples In the undercoat layer coating solution 1 used in the lithographic printing plate precursor (R1) for comparison, the amount of halide ions is as shown in Table 1. In the same manner as in the lithographic printing plate precursor (R1) except that potassium chloride is added, in the same manner as in the lithographic printing plate precursor (R1) except that potassium bromide is added. A lithographic printing plate precursor (R3) for comparison was prepared.
Further, a lithographic plate for comparison was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (R2) except that an undercoat layer coating solution obtained by removing the specific compound of the present invention from the undercoat layer coating solution for comparison lithographic printing plate precursor (R2) was used. A printing plate precursor (R4) was prepared.

3.平版印刷版原版のハロゲン化物イオン濃度の測定
上記のようにして作製した平版印刷版原版支持体上の各層のハロゲン化物イオン総量を前述の方法で測定し、表1に示した。
3. Measurement of halide ion concentration of lithographic printing plate precursor The total amount of halide ions of each layer on the lithographic printing plate precursor support prepared as described above was measured by the method described above and shown in Table 1.

4.平版印刷版原版の評価
得られた平版印刷版原版(1)〜(10)および(R1)〜(R4)を水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力11.7W、外面ドラム回転数250rpm、解像度2400dpiの条件で露光した後、下記のように、機上現像性、耐刷性および微小点状汚れ性を評価した。結果を表1に示す。
4). Evaluation of lithographic printing plate precursor The obtained lithographic printing plate precursors (1) to (10) and (R1) to (R4) were output on a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser, and the output was 11.7 W. After exposure under the conditions of a drum rotational speed of 250 rpm and a resolution of 2400 dpi, on-machine developability, printing durability and minute spot-like stain resistance were evaluated as follows. The results are shown in Table 1.

(機上現像性の評価)
露光済みの平版印刷版原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時6,000枚の印刷速度で印刷を行った。この時、画像記録層の未露光部(非画像部)に、インキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として評価した。枚数が少ないほど、機上現像性に優れると評価する。
(Evaluation of on-press developability)
The exposed lithographic printing plate precursor is attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing, and is dampened with water (EU-3 (Effect manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) were used, and after supplying dampening water and ink, 6,000 sheets per hour Printing was performed at a printing speed. At this time, the number of print sheets required until the ink was not transferred to the unexposed portion (non-image portion) of the image recording layer was evaluated as on-press developability. The smaller the number, the better the on-press developability.

(耐刷性の評価)
さらに印刷を続け、印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下する。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。枚数が多いほど、耐刷性に優れると評価する。
(Evaluation of printing durability)
When printing is continued and the number of printed sheets is increased, the image recording layer is gradually worn and the ink acceptability is lowered, so that the ink density on the printing paper is lowered. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. The larger the number of sheets, the better the printing durability.

(微小点状汚れ性の評価)
作製した平版印刷版原版を温度60℃、湿度70%の条件下2.5日保存したのちに印刷機にかけて印刷物を作製し、印刷物の非画像部であるべき部分(印刷版の未露光部)に発生した微小点状汚れについて80cmあたりの個数を数えた。個数が少ないほど、微小点状汚れ防止性に優れると評価する。
(Evaluation of minute spot stains)
The prepared lithographic printing plate precursor is stored for 2.5 days under conditions of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 70%, and then printed on a printing machine to produce a printed material, which should be a non-image portion of the printed material (unexposed portion of the printing plate) The number per minute of 80 cm 2 was counted for the minute spot-like stains generated on the surface. It is evaluated that the smaller the number, the better the prevention of minute spot-like stains.

Figure 2009255506
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表1から以下のことが分かる。ハロゲン化物イオンの含有量が本発明の範囲外である比較例1〜4は微小点状汚れの個数が非常に多いのに対して、ハロゲン化物イオンの含有量を本発明の範囲に制御した本発明の平版印刷版原版は、優れた微小点状汚れ防止性を示す。比較例1〜4の範囲内ではハロゲン化物イオンの量を削減しても微小点状汚れの発生を抑制する効果は小さいが、本発明の範囲内までハロゲン化物イオンの量を削減すると、微小点状汚れは極めて効果的に抑制されるという予想外の効果を示す。
また、本発明の平版印刷版(8)〜(10)を比較すると、本発明の特定化合物により、微小点状汚れが更に効果的に抑制されていることが分かる。これに対し、比較例2と比較例4を比較すると、本発明の特定化合物の抑制効果は観察されておらず、本発明の特定化合物は、ハロゲン化物イオンの量を本発明の範囲内に制御したときに、特異的にその効果を抑制するという予想外の優れた効果を示すことがわかる。
本発明の平版印刷版原版は、耐刷性、機上現像性も良好である。以上から、本発明の効果は明らかである。
Table 1 shows the following. In Comparative Examples 1 to 4 in which the content of halide ions is outside the range of the present invention, the number of minute spot-like stains is very large, whereas the content of halide ions is controlled within the range of the present invention. The lithographic printing plate precursor according to the invention exhibits excellent fine dot stain resistance. In the range of Comparative Examples 1 to 4, even if the amount of halide ions is reduced, the effect of suppressing the occurrence of minute spot-like stains is small, but when the amount of halide ions is reduced to the range of the present invention, Contamination stains have the unexpected effect of being very effectively suppressed.
Further, when comparing the lithographic printing plates (8) to (10) of the present invention, it can be seen that the fine spot-like stains are more effectively suppressed by the specific compound of the present invention. On the other hand, when Comparative Example 2 and Comparative Example 4 are compared, the inhibitory effect of the specific compound of the present invention is not observed, and the specific compound of the present invention controls the amount of halide ions within the scope of the present invention. When it does, it turns out that the unexpected outstanding effect of suppressing the effect specifically is shown.
The lithographic printing plate precursor according to the invention has good printing durability and on-press developability. From the above, the effect of the present invention is clear.

[実施例21〜23および比較例5〜7]
1.平版印刷版原版(21)〜(23)および(R5)〜(R7)の作製
前記のアルミニウム支持体1上に、以下の組成の下塗り層塗布液2を塗布し、100℃にて3分間乾燥した。得られた下塗り層の塗布量は、19mg/mであった。
同様にして、比較用の平版印刷版原版(R5)〜(R7)を作成した。
[Examples 21 to 23 and Comparative Examples 5 to 7]
1. Preparation of planographic printing plate precursors (21) to (23) and (R5) to (R7) On the aluminum support 1, the undercoat layer coating solution 2 having the following composition was applied and dried at 100 ° C. for 3 minutes. did. The coating amount of the obtained undercoat layer was 19 mg / m 2 .
Similarly, lithographic printing plate precursors (R5) to (R7) for comparison were prepared.

−下塗り層塗布液2−
・下塗り化合物(1) 2.5g
・特定化合物(表2に記載) 2.5g
・N−メチルピロリドン 49.0g
・メタノール 450.0g
・水 1.5g
-Undercoat layer coating solution 2-
・ Undercoat compound (1) 2.5 g
・ Specific compounds (described in Table 2) 2.5 g
・ N-methylpyrrolidone 49.0g
・ Methanol 450.0g
・ Water 1.5g

上記のようにして得られた下塗り層上に、以下の組成を有する画像記録層塗布液2を塗布し、80℃にて1分間乾燥した。得られた画像記録層の塗布量は、1.25g/mであった。 On the undercoat layer obtained as described above, an image recording layer coating solution 2 having the following composition was applied and dried at 80 ° C. for 1 minute. The coating amount of the obtained image recording layer was 1.25 g / m 2 .

−画像記録層塗布液2−
・バインダーポリマー(表2に記載) 0.54g
・重合性化合物(1) 0.48g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート
(アロニックスM−315、東亜合成(株)製)
・下記増感色素(1) 0.07g
・下記重合開始剤(1) 0.11g
・下記共増感剤(1) 0.07g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g〔顔料:15質量部、分散剤としてアリルメタクリレート/メタクリル酸
(80/20)共重合体:10質量部、溶剤としてシクロヘキサノン/
メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15
質量部/20質量部/40質量部〕
・メチルエチルケトン 4.80g
・ジメチルスルホキシド 4.80g
-Image recording layer coating solution 2-
・ Binder polymer (described in Table 2) 0.54 g
・ Polymerizable compound (1) 0.48 g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (Aronix M-315, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ The following sensitizing dye (1) 0.07 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.11 g
・ The following co-sensitizer (1) 0.07 g
Ε-phthalocyanine pigment dispersion 0.40 g [pigment: 15 parts by mass, allyl methacrylate / methacrylic acid (80/20) copolymer as dispersant: 10 parts by mass, cyclohexanone as solvent /
Methoxypropyl acetate / 1-methoxy-2-propanol = 15
Part by mass / 20 parts by mass / 40 parts by mass]
・ Methyl ethyl ketone 4.80g
・ Dimethyl sulfoxide 4.80g

Figure 2009255506
Figure 2009255506

画像記録層上に、以下の組成を有する保護層塗布液2を、バーを用いて塗布した後、125℃で70秒間乾燥して、塗布量が0.70g/m2の保護層を形成し、平版印刷版原版(21)〜(23)および(R5)〜(R7)を作製した。 A protective layer coating solution 2 having the following composition was applied onto the image recording layer using a bar, and then dried at 125 ° C. for 70 seconds to form a protective layer having a coating amount of 0.70 g / m 2. The lithographic printing plate precursors (21) to (23) and (R5) to (R7) were prepared.

−保護層塗布液2−
・ポリビニルアルコール(けん化度:98モル%、重合度:500) 40g
・ポリビニルピロリドン(分子量:5万) 5g
・ポリ〔ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1)〕(分子量:7万) 0.5g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製) 0.5g
・水 950g
-Protective layer coating solution2-
Polyvinyl alcohol (saponification degree: 98 mol%, polymerization degree: 500) 40 g
・ Polyvinylpyrrolidone (molecular weight: 50,000) 5g
・ Poly [vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)] (molecular weight: 70,000) 0.5 g
・ Surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.) 0.5g
・ 950g of water

得られた平版印刷版原版について、支持体上の各層のハロゲン化物イオン総量を、実施例1と同様にして測定した。結果を表2に示す。   For the obtained lithographic printing plate precursor, the total amount of halide ions of each layer on the support was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

2.平版印刷版原版の評価
上記平版印刷版原版について、出力100mWの405nm半導体レーザーを用いて、エネルギー密度を変えて画像様露光を行った。
その後、下記水溶液A(pH=5)を用い、図1に示す構造の自動現像処理機を使用し、図中14の現像部分に現像液として水溶液Aを用いて現像及び不感脂化を同時に行い、図中16及び図中18の水洗および不感脂化処理は行わず、図中20にて乾燥処理を行い、平版印刷版を作製した。自動現像処理機は、回転ブラシロールを2本有し、1本目の回転ブラシロールは、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径90mmのブラシロールで、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.94m/sec)させ、2本目の回転ブラシロールは、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径60mmのブラシロールで、搬送方向と反対方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.63m/sec)させた。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minにて実施した。
2. Evaluation of Planographic Printing Plate Precursor The above lithographic printing plate precursor was subjected to imagewise exposure using a 405 nm semiconductor laser with an output of 100 mW while changing the energy density.
Then, using the following aqueous solution A (pH = 5), using an automatic development processor having the structure shown in FIG. 1, development and desensitization were simultaneously performed using the aqueous solution A as a developer at the development portion 14 in the figure. The water washing and desensitization treatments of 16 and 18 in the figure were not performed, and a drying process was performed in 20 in the figure to prepare a lithographic printing plate. The automatic processor has two rotating brush rolls, and the first rotating brush roll is a brush roll having an outer diameter of 90 mm in which fibers made of polybutylene terephthalate (hair diameter: 200 μm, hair length: 17 mm) are implanted. The second rotating brush roll was made of polybutylene terephthalate fiber (hair diameter 200 μm, hair length), with 200 rotations per minute in the same direction as the transport direction (peripheral speed 0.94 m / sec at the tip of the brush). 17 mm) was implanted with a 60 mm outer diameter brush roll at 200 revolutions per minute (peripheral speed of the brush tip of 0.63 m / sec) in the direction opposite to the conveying direction. The transportation of the planographic printing plate precursor was carried out at a transportation speed of 100 cm / min.

水溶液Aは、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして、版面に供給した。水溶液Aのタンク容量は、10リットルであった。   The aqueous solution A was showered from the spray pipe with a circulation pump and supplied to the plate surface. The tank capacity of the aqueous solution A was 10 liters.

(水溶液A)
・水 100.00g
・ドデシルトリメチルアンモニウムスルホネート 5.00g
・アラビアガム 1.00g
(オキシエチレン平均数n=13)
・ヒドドキシプロピルスターチ 1.00g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム 0.05g
(Aqueous solution A)
・ Water 100.00g
・ Dodecyltrimethylammonium sulfonate 5.00g
・ Arabic gum 1.00g
(Average number of oxyethylene n = 13)
・ Hydoxypropyl starch 1.00g
・ Primary ammonium phosphate 0.05g
・ Citric acid 0.05g
・ Ethylenediaminetetraacetate tetrasodium 0.05g

次いで、平版印刷版を、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mに取り付け、湿し水(EU−3(富士フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、毎時6000枚の印刷速度で印刷を行った。   Next, the planographic printing plate is attached to a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg, and dampening water (EU-3 (Etchi solution manufactured by FUJIFILM Corporation) / water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio). ) And TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and printing was performed at a printing speed of 6000 sheets per hour.

耐刷性および微小点状汚れを下記のように評価した。結果を表4に示す。
(A)耐刷性
上記の印刷を行い、印刷枚数が増加すると、徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷物におけるインキ濃度が低下した。同一露光量(エネルギー密度)で露光した印刷版において、インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により耐刷性を相対評価した。すなわち、平版印刷版21を基準(100)とし、以下の式に従い計算した。数字が大きいことは耐刷性が高いことを表している。
耐刷性=(対象平版印刷版の耐刷枚数)/(基準平版印刷版の耐刷枚数)×100
Printing durability and minute spot-like stains were evaluated as follows. The results are shown in Table 4.
(A) Printing durability When the above-mentioned printing was performed and the number of printed sheets increased, the image recording layer was gradually worn out and the ink receptivity was lowered, so that the ink density in the printed material was lowered. In a printing plate exposed at the same exposure amount (energy density), the printing durability was relatively evaluated based on the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. That is, the lithographic printing plate 21 was used as a reference (100), and calculation was performed according to the following formula. Large numbers indicate high printing durability.
Printing durability = (Number of printing durability of target lithographic printing plate) / (Number of printing durability of standard lithographic printing plate) × 100

(B)微小点状汚れ
得られた平版印刷版原版を、60℃相対湿度75%に設定した恒温恒湿槽中に3日間放置した後、上記と同様に現像した。印刷紙面上の80cmの範囲内における微小点状汚れの個数を数えた。これらの結果を表2に示す。
(B) Fine dot-like stain The obtained lithographic printing plate precursor was left in a constant temperature and humidity chamber set at 60 ° C. and a relative humidity of 75% for 3 days, and then developed in the same manner as described above. The number of minute spot-like stains within the range of 80 cm 2 on the printing paper surface was counted. These results are shown in Table 2.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

表2から明らかなように、本発明の平版印刷版原版は耐刷性が高く、保存後のポツ汚れが少ない優れたものであることが分かる。また、現像処理後に平版印刷版の非画像部を目視確認したところ、画像記録層の残存は観察されなかった。   As is apparent from Table 2, the lithographic printing plate precursor according to the present invention has high printing durability and is excellent in that it has little fouling after storage. Further, when the non-image portion of the lithographic printing plate was visually confirmed after the development treatment, no residual image recording layer was observed.

[実施例31]
実施例1の平版印刷版原版を実施例1記載の方法により露光し、実施例21と同様の現像条件で現像した。実施例1と同様に評価したところ、本発明の平版印刷版原版は、保存後の微小点状汚れの個数が8個であり、ポツ汚れの発生が少ない好ましい結果を与えた。
[Example 31]
The lithographic printing plate precursor of Example 1 was exposed by the method described in Example 1 and developed under the same development conditions as in Example 21. When evaluated in the same manner as in Example 1, the lithographic printing plate precursor according to the present invention had 8 fine dot-like stains after storage, and gave favorable results with less occurrence of spot stains.

[実施例41〜46および比較例8〜10]
1.平版印刷版原版(41)〜(46)および(R8)の作製
(1)支持体の作製
アルミニウム板として、アルミ1に加えて、下記表3に記載のアルミ2〜6を用いた以外は、前記支持体1の作製と同様の手順で直流陽極酸化被膜の形成、水洗、乾燥まで行った。
これらの基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
[Examples 41 to 46 and Comparative Examples 8 to 10]
1. Production of lithographic printing plate precursors (41) to (46) and (R8) (1) Production of support As aluminum plate, in addition to aluminum 1, except that aluminum 2-6 described in Table 3 below was used, The same procedure as the production of the support 1 was followed until the formation of the DC anodized film, washing with water and drying.
When the center line average roughness (Ra) of these substrates was measured using a needle having a diameter of 2 μm, it was 0.51 μm.

さらに、これらに、前記支持体2の作製と同様に、前記下塗り液(1)を乾燥塗布量が12mg/mになるよう塗布して以下の実験に用いる支持体を得た。但し、前記下塗り液(1)中の「本発明の特定化合物」は、下記表4に記載の種類、量のものを用いた。 Further, in the same manner as in the production of the support 2, the undercoat liquid (1) was applied so that the dry coating amount was 12 mg / m 2 to obtain a support used in the following experiments. However, the “specific compounds of the present invention” in the undercoat liquid (1) were of the types and amounts described in Table 4 below.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

(2)画像記録層および保護層の形成
上記下塗り層形成済みの支持体上に、実施例1〜10と同様に前記画像記録層塗布液1を用いて乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。但し、前記画像記録層塗布液1中の、「バインダーポリマー」及び「イオン系界面活性剤」は、下記表4に記載の種類、量のものを用いた。引き続き、実施例1〜10と同様に前記保護層塗布液1を用いて、前記画像記録層上に乾燥塗布量0.160g/mの保護層を形成することで本発明の平版印刷版原版(41)〜(46)と比較例用(R8)を得た。
(2) Formation of Image Recording Layer and Protective Layer A dry coating amount of 1.0 g / m 2 was applied on the support on which the undercoat layer had been formed using the image recording layer coating solution 1 in the same manner as in Examples 1-10. An image recording layer was formed. However, the “binder polymer” and the “ionic surfactant” in the image recording layer coating solution 1 were of the types and amounts described in Table 4 below. Subsequently, the lithographic printing plate precursor according to the invention is formed by forming a protective layer having a dry coating amount of 0.160 g / m 2 on the image recording layer using the protective layer coating solution 1 in the same manner as in Examples 1 to 10. (41) to (46) and Comparative Example (R8) were obtained.

2.比較例用平版印刷版原版(R9)〜(R10)の作製
比較用の平版印刷版原版(R8)で用いた下塗り層塗布液1に、ハロゲン化物イオンの量が表14記載の値になるように、塩化カリウムを添加した以外は平版印刷版原版(R18)と同様にして比較用の平版印刷版原版(R9)を作製した。
また、比較用の平版印刷版原版(R9)の下塗り層塗布液から本発明の特定化合物を除いた下塗り層塗布液を用いた以外は平版印刷版原版(R9)と同様にして比較用の平版印刷版原版(R10)を作製した。
2. Preparation of lithographic printing plate precursors (R9) to (R10) for comparative examples In the undercoat layer coating solution 1 used in the comparative lithographic printing plate precursor (R8), the amount of halide ions is as shown in Table 14 A comparative lithographic printing plate precursor (R9) was prepared in the same manner as the lithographic printing plate precursor (R18) except that potassium chloride was added.
Further, a lithographic plate for comparison is used in the same manner as the lithographic printing plate precursor (R9) except that an undercoat layer coating solution obtained by removing the specific compound of the present invention from the undercoat layer coating solution for comparison is used. A printing plate precursor (R10) was prepared.

3.平版印刷版原版のハロゲン化物イオン濃度の測定
上記のようにして作製した平版印刷版原版支持体上の各層のハロゲン化物イオン総量を前述の方法で測定し、表4に示した。
3. Measurement of halide ion concentration of lithographic printing plate precursor The total amount of halide ions of each layer on the lithographic printing plate precursor support prepared as described above was measured by the method described above and shown in Table 4.

4.平版印刷版原版の評価
得られた平版印刷版原版(41)〜(46)および(R8)〜(R10)を実施例1〜10と同様に露光した後、実施例1〜10と同様に機上現像性、耐刷性および微小点状汚れ性を評価した。結果を表4に示す。
4). Evaluation of lithographic printing plate precursor The obtained lithographic printing plate precursors (41) to (46) and (R8) to (R10) were exposed in the same manner as in Examples 1 to 10, and then the same as in Examples 1 to 10. The top developability, printing durability and minute spot-like stain resistance were evaluated. The results are shown in Table 4.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

表4から以下のことが分かる。ハロゲン化物イオンの含有量が本発明の範囲外である比較例8〜10は微小点状汚れの個数が非常に多いのに対して、ハロゲン化物イオンの含有量を本発明の範囲に制御した本発明の平版印刷版原版は、優れた微小点状汚れ防止性を示す。
さらに本発明の平版印刷版(41)〜(44)と平版印刷版(46)を比較すると、アルミ支持体中のFe含有量を低下させることで、より一層微小点汚れが抑制されていることも分かる。
またアルミ材5を用いて作製された平版印刷版(45)は鉄含有量が少ないために腰の強さが弱いことが分かる。
ここで腰の強さとは、引張試験により求められた引張強さを言う。引張試験とは、試験片を一定の速度で引張り、伸び、引張応力、引張強さなどを測定する試験であり、JIS Z 2241(金属材料引張試験方法)に基づいて行われる。引張試験に用いられる測定器として、市販のテンシロンやオートグラフなどの引張試験機が挙げられる。
本発明の平版印刷版原版は、耐刷性、機上現像性及び強度も良好である。以上から、本発明の効果は明らかである。
Table 4 shows the following. In Comparative Examples 8 to 10, in which the content of halide ions is outside the range of the present invention, the number of minute spot-like stains is very large, whereas the content of halide ions is controlled within the range of the present invention. The lithographic printing plate precursor according to the invention exhibits excellent fine dot stain resistance.
Further, when comparing the lithographic printing plates (41) to (44) and the lithographic printing plate (46) of the present invention, it is possible to further suppress fine spot contamination by reducing the Fe content in the aluminum support. I understand.
Further, it can be seen that the planographic printing plate (45) produced using the aluminum material 5 has low waist strength because of its low iron content.
Here, the waist strength refers to the tensile strength obtained by a tensile test. The tensile test is a test in which a test piece is pulled at a constant speed and measured for elongation, tensile stress, tensile strength, and the like, and is performed based on JIS Z 2241 (metal material tensile test method). Examples of measuring instruments used for the tensile test include commercially available tensile testers such as Tensilon and Autograph.
The lithographic printing plate precursor according to the invention also has good printing durability, on-press developability and strength. From the above, the effect of the present invention is clear.

[実施例51〜56および比較例11]
1.平版印刷版原版(51)〜(56)および(R11)の作製
前記表3のアルミ2〜6上に、前記下塗り層塗布液2を実施例21〜23と同様に塗布した。但し、前記下塗り層塗布液2中の「特定化合物」は、下記表5に記載のものを用いた。このようにして、支持体を得た。
[Examples 51 to 56 and Comparative Example 11]
1. Preparation of lithographic printing plate precursors (51) to (56) and (R11) The undercoat layer coating solution 2 was applied to the aluminum 2 to 6 in Table 3 in the same manner as in Examples 21 to 23. However, the “specific compounds” in the undercoat layer coating solution 2 were those listed in Table 5 below. In this way, a support was obtained.

上記のようにして得られた下塗り層上に、前記画像記録層塗布液2を実施例21〜23と同様に塗布した。但し、前記画像記録層塗布液2中の「バインダーポリマー」は、下記表5に記載のものを用いた。   On the undercoat layer obtained as described above, the image recording layer coating solution 2 was applied in the same manner as in Examples 21-23. However, as the “binder polymer” in the image recording layer coating solution 2, those shown in Table 5 below were used.

画像記録層上に、実施例21〜23と同様に保護層塗布液2を用いて保護層を形成し、平版印刷版原版(51)〜(56)および(R11)を作製した。   A protective layer was formed on the image recording layer using the protective layer coating solution 2 in the same manner as in Examples 21 to 23, and lithographic printing plate precursors (51) to (56) and (R11) were produced.

得られた平版印刷版原版について、支持体上の各層のハロゲン化物イオン総量を、実施例1と同様にして測定した。結果を表5に示す。   For the obtained lithographic printing plate precursor, the total amount of halide ions of each layer on the support was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 5.

2.平版印刷版原版の評価
上記平版印刷版原版について、実施例21〜23と同様に、現像、印刷を行い、耐刷性および微小点状汚れを評価した。結果を表5に示す。
2. Evaluation of lithographic printing plate precursor The lithographic printing plate precursor was developed and printed in the same manner as in Examples 21 to 23 to evaluate printing durability and minute spot-like stains. The results are shown in Table 5.

Figure 2009255506
Figure 2009255506

表5から明らかなように、本発明の平版印刷版原版は耐刷性が維持しつつ、保存後のポツ汚れが少ない優れたものであることが分かる。また、現像処理後に平版印刷版の非画像部を目視確認したところ、画像記録層の残存は観察されなかった。   As can be seen from Table 5, the lithographic printing plate precursor according to the present invention is excellent in that it retains the printing durability and has little fouling after storage. Further, when the non-image portion of the lithographic printing plate was visually confirmed after the development treatment, no residual image recording layer was observed.

[実施例61]
実施例41の平版印刷版原版を実施例41記載の方法により露光し、実施例51と同様の現像条件で現像した。実施例41と同様に評価したところ、本発明の平版印刷版原版は、保存後の微小点状汚れの個数が8個であり、ポツ汚れの発生が少ない好ましい結果を与えた。
[Example 61]
The planographic printing plate precursor of Example 41 was exposed by the method described in Example 41 and developed under the same development conditions as in Example 51. When evaluated in the same manner as in Example 41, the lithographic printing plate precursor of the present invention had 8 fine dot-like stains after storage, and gave favorable results with less occurrence of spot stains.

本発明に係る平版印刷版の自動現像装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the automatic image development apparatus of the lithographic printing plate which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 自動現像装置
10 現像処理部
12 印刷版
14 現像部
16 水洗部
18 不感脂化処理部
20 乾燥部
24 現像槽
141,142 ブラシローラ(擦り部材)
200 前処理部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Automatic developing device 10 Development processing part 12 Printing plate 14 Developing part 16 Washing part 18 Desensitizing treatment part 20 Drying part 24 Developing tank 141, 142 Brush roller (rubbing member)
200 Pre-processing section

Claims (12)

支持体上に少なくとも下塗り層、画像記録層および層状化合物を含有する保護層をこの順に有する平版印刷版原版であって、支持体上の各層に含まれるハロゲン化物イオンの合計が、0ないし5.0μmol/mであることを特徴とする平版印刷版原版。 A lithographic printing plate precursor having in this order at least an undercoat layer, an image recording layer and a protective layer containing a layered compound on a support, and the total of halide ions contained in each layer on the support is 0 to 5. A lithographic printing plate precursor characterized by being 0 μmol / m 2 . 下塗り層および画像記録層の少なくとも一方に、下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする請求項1記載の平版印刷版原版。
一般式(1) X(−Y)
(式中、Xは、炭素原子数1〜30を含む脂肪族もしくは芳香族炭化水素、炭素原子数1〜30および窒素原子数1〜8を含む脂肪族アミン、炭素原子数1〜30および酸素原子数1〜10の脂肪族エーテルならびに炭素原子数1〜30を含む複素環化合物から選ばれる化合物からn個の水素原子を除いたn価の基を表す。Xで表される基は、さらに置換基を有してもよい。Yは−COOM、−OP=O(OM)、または、−P=O(OM)を表し、Mは水素原子または対カチオンを表す。nは1〜20の整数を表す。)
The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein a compound represented by the following general formula (1) is contained in at least one of the undercoat layer and the image recording layer.
General formula (1) X (-Y) n
Wherein X is an aliphatic or aromatic hydrocarbon containing 1 to 30 carbon atoms, an aliphatic amine containing 1 to 30 carbon atoms and 1 to 8 nitrogen atoms, 1 to 30 carbon atoms and oxygen. An n-valent group obtained by removing n hydrogen atoms from a compound selected from an aliphatic ether having 1 to 10 atoms and a heterocyclic compound having 1 to 30 carbon atoms. May have a substituent, Y represents —COOM, —OP═O (OM) 2 , or —P═O (OM) 2 , M represents a hydrogen atom or a counter cation, and n represents 1 to 1 Represents an integer of 20.)
前記一般式(1)で表される化合物において、nが2〜10であることを特徴とする請求項1または2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1 or 2, wherein in the compound represented by the general formula (1), n is 2 to 10. 前記画像記録層が、さらに(A)増感色素、(B)重合開始剤、および(C)重合性化合物を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate according to claim 1, wherein the image recording layer further contains (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, and (C) a polymerizable compound. Original edition. 前記画像記録層が、さらに、バインダーポリマーを含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, wherein the image recording layer further contains a binder polymer. 前記(A)増感色素が赤外線吸収剤であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかにに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 5, wherein the (A) sensitizing dye is an infrared absorber. 前記画像記録層が、さらに、マイクロカプセルまたはミクロゲルを含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein the image recording layer further contains a microcapsule or a microgel. 前記画像記録層が、印刷インキおよび湿し水のうちの少なくともいずれかにより除去可能であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 7, wherein the image recording layer is removable by at least one of printing ink and fountain solution. 支持体がアルミニウムであって、支持体中の鉄含有量が 0.07〜0.25質量%の範囲であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 8, wherein the support is aluminum, and the iron content in the support is in the range of 0.07 to 0.25% by mass. 支持体中の鉄含有量が0.07〜0.15質量%の範囲であることを特徴とする請求項11記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 11, wherein the iron content in the support is in the range of 0.07 to 0.15 mass%. 支持体がアルミニウムであって、支持体中のマグネシウム含有量が0.005〜0.20質量%の範囲であることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 10, wherein the support is aluminum, and the magnesium content in the support is in the range of 0.005 to 0.20 mass%. 請求項1〜11に記載の平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光した後に印刷機に装着するか、印刷機に装着した後に赤外線レーザーにより画像露光し、印刷インキと湿し水とを供給して機上現像処理を行い、印刷することを特徴とする平版印刷方法。   The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 11 is image-exposed with an infrared laser and then attached to a printing machine, or image-exposed with an infrared laser after being attached to a printing machine, and printing ink and fountain solution are supplied. Then, the lithographic printing method is characterized by performing on-press development and printing.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2019146769A1 (en) * 2018-01-29 2019-08-01 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate original plate, and method for producing lithographic printing plate
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