JP2009255503A - Manufacturing method of plastic molded product and plastic molded product - Google Patents

Manufacturing method of plastic molded product and plastic molded product Download PDF

Info

Publication number
JP2009255503A
JP2009255503A JP2008246113A JP2008246113A JP2009255503A JP 2009255503 A JP2009255503 A JP 2009255503A JP 2008246113 A JP2008246113 A JP 2008246113A JP 2008246113 A JP2008246113 A JP 2008246113A JP 2009255503 A JP2009255503 A JP 2009255503A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent conductive
plastic molded
refractive index
molded product
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008246113A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5417787B2 (en
Inventor
Takayuki Uegaki
孝幸 植垣
Jun Hasegawa
準 長谷川
Yutaka Kobayashi
裕 小林
Tsutomu Shirai
励 白井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2008246113A priority Critical patent/JP5417787B2/en
Publication of JP2009255503A publication Critical patent/JP2009255503A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5417787B2 publication Critical patent/JP5417787B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plastic molded product having a transparent and conductive layer, capable of being manufactured at low cost and showing high design. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the plastic molded product comprises a process of arranging a transparent and conductive film in a cavity of a molding mold, the transparent and conductive film having a thin film laminate composed of a transparent and conductive layer and at least one of a high refractive index layer and a low refractive index layer both having different refractive indexes from each other on a transparent base material, a process of injecting a thermoplastic material in the cavity of the molding mold, and a process of taking out the laminate of the thermoplastic molded product of the transparent and conductive film or the plastic molded article from the molding mold. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明電極、タッチパネル部材、電磁波遮蔽部材、建材、携帯ゲーム機部材、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、パーソナルコンピューター部材、カーナビゲーション部材として有用な透明導電層を備えるプラスチック成形品に関するものである。   The present invention includes a transparent conductive layer useful as a transparent electrode, a touch panel member, an electromagnetic shielding member, a building material, a portable game machine member, an automobile member, a vehicle member, a household appliance member, a mobile phone member, a personal computer member, and a car navigation member. It relates to plastic molded products.

近年、携帯ゲーム機や携帯電話、機器操作パネル等のディスプレイを有する電化製品において、ディスプレイ部にタッチパネルを有するものが増加しており、建材用途としての単純な電源スイッチやボタン等にも透明導電層を備えるタッチパネルが使用されるようになっている。これらの外装部材には射出成形により成形されたプラスチック成形品が一般的に用いられており、通常、タッチパネル部と筐体部(スイッチやディスプレイ部周辺の外装部)とは別個に成形され、スイッチやディスプレイの筐体部表面に別途作製したタッチパネルを貼りあわせて作製されている。しかし、この方法では製造工程の手順が多く製造コストがかさむため、製造工程の簡略化が求められている。   In recent years, electrical appliances having a display such as a portable game machine, a mobile phone, and an apparatus operation panel have been increasing in number having a touch panel in the display portion, and a transparent conductive layer is also used for a simple power switch or button as a building material. The touch panel provided with is used. For these exterior members, plastic molded products molded by injection molding are generally used. Usually, the touch panel part and the casing part (exterior part around the switch and the display part) are molded separately, and the switch And a touch panel separately manufactured on the surface of the casing of the display. However, since this method requires many manufacturing process steps and increases manufacturing costs, it is required to simplify the manufacturing process.

また、製品の意匠性の面からディスプレイの外枠の細枠化や、枠を一体化するベゼルレスな構造や、ディスプレイ部と筺体部とを区別している境界部を視認しにくくしたいという要望があり、それはタッチパネル搭載の製品についても同様である。しかし、従来の製造方法ではタッチパネルをディスプレイやスイッチの枠に後からはめ込むため、ベゼルレスで一体感の高い構造を作ることが困難である。   In addition, there is a demand to make the outer frame of the display thinner, the bezelless structure that integrates the frame, and the boundary part that distinguishes the display part and the housing part from the viewpoint of product design. The same applies to products equipped with touch panels. However, in the conventional manufacturing method, since the touch panel is fitted into the frame of the display or the switch later, it is difficult to make a bezel-less and highly integrated structure.

特開2007−12354号公報JP 2007-12354 A

射出成形によりプラスチック成形体を作製し、該プラスチック成形体と透明導電層を備える機能性部材を貼りあわせて組み合わせてプラスチック成形品とする方法では、工程が多く製造コストがかさむといった問題があった。また、意匠性の高い一体感のある構造とすることは困難であった。   In the method of producing a plastic molded body by injection molding and bonding the plastic molded body and a functional member having a transparent conductive layer and combining them to form a plastic molded product, there are problems in that there are many steps and the manufacturing cost is increased. Also, it has been difficult to achieve a structure with a sense of unity that has a high design.

本発明にあっては、上記問題点に着目し、透明導電層を備えるプラスチック成形品であって、製造コストが低く、また、意匠性の高いプラスチック成形品を提供することを課題とする。   In the present invention, focusing on the above problems, it is an object of the present invention to provide a plastic molded product having a transparent conductive layer and having a low production cost and a high design property.

上記課題を解決するために請求項1に係る発明としては、透明導電層を備えるプラスチック成形品の製造方法であって、成形用金型の空洞内に、透明基材上に透明導電層と、互いの屈折率が異なる高屈折率層若しくは低屈折率層を少なくとも1層備える薄膜積層体を備える透明導電性フィルムを配置する工程と、成形用金型の空洞内に熱可塑性プラスチック材料を射出し熱可塑性プラスチック成形体を形成する工程と、成形用金型から透明導電性フィルムと熱可塑性プラスチック成形体の積層品であるプラスチック成形品を取り出す工程とを備えることを特徴とするプラスチック成形品の製造方法とした。   In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is a method for producing a plastic molded article provided with a transparent conductive layer, wherein a transparent conductive layer is formed on a transparent substrate in a cavity of a molding die, Disposing a transparent conductive film comprising a thin film laminate comprising at least one high refractive index layer or low refractive index layer having different refractive indices, and injecting a thermoplastic material into a cavity of a molding die Production of a plastic molded article comprising the steps of forming a thermoplastic molded article and taking out a plastic molded article that is a laminate of a transparent conductive film and a thermoplastic molded article from a molding die It was a method.

また、請求項2に係る発明としては、前記成形用金型の空洞壁面が凹凸構造を備えており、且つ、前記成形用金型の空洞内部に透明導電性フィルムを配置する工程が、前記成形用金型の凹凸構造を備える空洞壁面と前記透明導電性フィルムが接するように透明導電性フィルムを前記成形用金型の空洞内部に配置する工程であることを特徴とする請求項1記載のプラスチック成形品の製造方法とした。   According to a second aspect of the present invention, the step of arranging the transparent conductive film inside the cavity of the molding die, wherein the cavity wall surface of the molding die is provided with an uneven structure. 2. The plastic according to claim 1, which is a step of disposing a transparent conductive film inside the cavity of the molding die so that the hollow wall surface provided with the concave-convex structure of the mold is in contact with the transparent conductive film. It was set as the manufacturing method of the molded article.

また、請求項3に係る発明としては、請求項1または請求項2記載の製造方法により成形され、前記熱可塑性プラスチック成形体の表面に透明導電性フィルムを備えることを特徴とするプラスチック成形品とした。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a plastic molded article which is molded by the manufacturing method according to the first or second aspect and has a transparent conductive film on the surface of the thermoplastic molded article. did.

また、請求項4に係る発明としては、請求項2記載の製造方法により製造されたプラスチック成形品であって、前記熱可塑性プラスチック成形体の表面に透明導電性フィルムを備え、且つ、前記熱可塑性プラスチック成形体の凹凸構造に対応して前記透明導電膜がパターニングされることを特徴とするプラスチック成形品とした。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a plastic molded article produced by the production method according to the second aspect, comprising a transparent conductive film on a surface of the thermoplastic molded article, and the thermoplastic The plastic molded product is characterized in that the transparent conductive film is patterned in accordance with the uneven structure of the plastic molded body.

また、請求項5に係る発明としては、前記透明導電性フィルムが設けられた箇所のプラスチック成形品表面の視感平均反射率が、5%以上90%以下であることを特徴とする請求項3または請求項4記載のプラスチック成形品とした。   The invention according to claim 5 is characterized in that the average visual reflectance of the surface of the plastic molded article at the place where the transparent conductive film is provided is 5% or more and 90% or less. Or it was set as the plastic molded product of Claim 4.

また、請求項6に係る発明としては、前記透明導電性フィルムが透明基材よりも表面側に薄膜積層体を備え、且つ、前記透明導電性フィルムが設けられた箇所のプラスチック成形品表面の視感平均反射率が0.1%以上3%以下であることを特徴とする請求項3または請求項4記載のプラスチック成形品とした。   According to a sixth aspect of the present invention, the transparent conductive film has a thin-film laminate on the surface side of the transparent substrate, and the surface of the plastic molded product at the location where the transparent conductive film is provided. The plastic molded article according to claim 3 or 4, wherein the sensitive average reflectance is 0.1% or more and 3% or less.

また、請求項7に係る発明としては、前記透明基材の一方の面に防眩性ハードコート層を備え、且つ、前記透明導電性フィルムが設けられたプラスチック成形品のトータルへイズが7%以上40%以下であることを特徴とする請求項3から6のいずれかに記載のプラスチック成形品とした。   According to a seventh aspect of the present invention, the total haze of a plastic molded article provided with an antiglare hard coat layer on one surface of the transparent base material and provided with the transparent conductive film is 7%. The plastic molded product according to any one of claims 3 to 6, wherein the plastic molded product is 40% or less.

上記構成のプラスチック成形品の製造方法とすることにより、製造コストが低く、また、意匠性の高いプラスチック成形品を得ることができた。   By adopting the method for producing a plastic molded article having the above-described configuration, it was possible to obtain a plastic molded article having low production cost and high design properties.

本発明のプラスチック成形品について説明する。   The plastic molded product of the present invention will be described.

図1は、本発明のプラスチック成形品に用いる透明導電性フィルムの一態様を示す説明断面図である。
本発明の透明導電性フィルムにあっては、少なくとも透明基材11上に透明導電層12と薄膜積層体13を備える。薄膜積層体は高屈折率層と低屈折率層のうち少なくとも1層を備え、図1の薄膜積層体13にあっては2層の高屈折率層14で低屈折率層15で狭持した構造を備える。
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing one embodiment of a transparent conductive film used in the plastic molded article of the present invention.
In the transparent conductive film of this invention, the transparent conductive layer 12 and the thin film laminated body 13 are provided on the transparent base material 11 at least. The thin film laminate includes at least one of a high refractive index layer and a low refractive index layer. In the thin film laminate 13 of FIG. 1, the high refractive index layer 14 is sandwiched by the low refractive index layer 15. Provide structure.

本発明にあっては、透明導電層12は導電性を有する層であり、得られるプラスチック成形品において各種電気機器の電極や電気配線として機能する。また、透明導電層12は、得られるプラスチック成形品において、電磁波遮蔽層として機能させることもできる。   In the present invention, the transparent conductive layer 12 is a conductive layer, and functions as an electrode or electrical wiring of various electrical devices in the obtained plastic molded product. Further, the transparent conductive layer 12 can also function as an electromagnetic wave shielding layer in the obtained plastic molded product.

一方、薄膜積層体は高屈折率層をまたは低屈折率層を少なくとも1層ずつ備える積層体であり、高屈折率層と低屈折率層の光学干渉により金属光沢を備えるハーフミラー層、反射防止層、着色層として機能させることができ、得られるプラスチック成形品の意匠性を向上させることができる。薄膜積層体は、高屈折率層もしくは低屈折率層の単層構造、高屈折率層と低屈折率層の積層構造を選択することが可能である。薄膜積層体にハーフミラー層、反射防止層、着色層としての機能を付与させる場合には、光学シミュレーション法により薄膜積層体の高屈折率層、低屈折率層の光学膜厚を調整することにより実現することができる。   On the other hand, a thin film laminate is a laminate comprising at least one high refractive index layer or at least one low refractive index layer, a half mirror layer having a metallic luster due to optical interference between the high refractive index layer and the low refractive index layer, and antireflection It can function as a layer or a colored layer, and can improve the design of the resulting plastic molded product. For the thin film laminate, a single layer structure of a high refractive index layer or a low refractive index layer, or a laminated structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer can be selected. When the thin film stack is provided with functions as a half mirror layer, an antireflection layer, and a colored layer, the optical film thickness is adjusted by adjusting the optical film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer of the thin film stack. Can be realized.

本発明のプラスチック成形品に用いる透明導電性フィルムにあっては、透明基材の少なくとも一方の面に透明導電層12と薄膜積層体13を備える。図1(a)の透明導電性フィルム1にあっては、透明基材11の一方の面に、透明基材11側から順に、高屈折率層14、低屈折率層15、高屈折率層14で構成される薄膜積層体13と、透明導電層12を備える。図1(b)の透明導電性フィルム1にあっては、透明基材11の一方の面に、透明基材11側から順に、透明導電層12と、高屈折率層14、低屈折率層15、高屈折率層14で構成される薄膜積層体13とを備える。また、図1(c)の透明導電フィルム1にあっては、透明基材11の一方の面に透明導電層12を有し、透明導電層12形成面と反対側の面に高屈折率層14、低屈折率層15、高屈折率層14で構成される薄膜積層体13を備える。また、本発明の透明導電フィルムにあっては、透明基材11の両方の面に、透明導電層12を備えていても良い。同様に、透明基材11の両方の面に、薄膜積層体13を備えていても良い。また、透明基材11の一方の面に透明導電層12を2層以上有していても良く、同様に、透明基材11の一方の面に薄膜積層体13を2層以上有していても良い。また、本発明の透明導電性フィルムにあっては、透明導電層12が、薄膜積層体13の高屈折率層14を兼ねていても良い。   In the transparent conductive film used for the plastic molded article of the present invention, the transparent conductive layer 12 and the thin film laminate 13 are provided on at least one surface of the transparent substrate. In the transparent conductive film 1 in FIG. 1A, a high refractive index layer 14, a low refractive index layer 15, and a high refractive index layer are sequentially formed on one surface of the transparent substrate 11 from the transparent substrate 11 side. The thin film laminated body 13 comprised by 14 and the transparent conductive layer 12 are provided. In the transparent conductive film 1 in FIG. 1B, a transparent conductive layer 12, a high refractive index layer 14, and a low refractive index layer are sequentially formed on one surface of the transparent substrate 11 from the transparent substrate 11 side. 15 and a thin film laminate 13 composed of the high refractive index layer 14. Moreover, in the transparent conductive film 1 of FIG.1 (c), it has the transparent conductive layer 12 in one surface of the transparent base material 11, and a high refractive index layer in the surface on the opposite side to the transparent conductive layer 12 formation surface. 14, a thin film laminate 13 including a low refractive index layer 15 and a high refractive index layer 14 is provided. In the transparent conductive film of the present invention, the transparent conductive layer 12 may be provided on both surfaces of the transparent substrate 11. Similarly, the thin film laminate 13 may be provided on both surfaces of the transparent substrate 11. Further, two or more transparent conductive layers 12 may be provided on one surface of the transparent substrate 11, and similarly, two or more thin film laminates 13 are provided on one surface of the transparent substrate 11. Also good. In the transparent conductive film of the present invention, the transparent conductive layer 12 may also serve as the high refractive index layer 14 of the thin film laminate 13.

また、図2に示すように、透明基材11の一方の面に防眩性ハードコート層16を備えてもよい。図2は、防眩性ハードコート層16を有した透明導電性フィルムの一態様を示す説明断面図である。本発明の防眩性ハードコート層は、表面凹凸を有するハードコート層であり、鉛筆等による引っ掻き傷、スチールウールによる擦り傷等の機械的外傷から基材の表面防護をすることができ、また、ギラツキを抑えたマット感のある金属光沢を得られ、且つ、筺体部とディスプレイ部の境界部を目立ち難くするために用いられる。   In addition, as shown in FIG. 2, an antiglare hard coat layer 16 may be provided on one surface of the transparent substrate 11. FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing an embodiment of a transparent conductive film having an antiglare hard coat layer 16. The antiglare hard coat layer of the present invention is a hard coat layer having surface irregularities, and can protect the surface of the substrate from mechanical trauma such as scratches by pencils, scratches by steel wool, etc. It is used for obtaining a matte metallic luster with less glare and making the boundary between the housing part and the display part inconspicuous.

図2(a)の透明導電性フィルム1にあっては、透明基材11の一方の面に、透明基材11側から順に、防眩性ハードコート層16と、高屈折率層14、低屈折率層15、高屈折率層14で構成される薄膜積層体13と、透明導電層12を備える。図2(b)の透明導電性フィルム1にあっては、透明基材11の一方の面に、透明基材11側から順に、防眩性ハードコート層16と、透明導電層12と、高屈折率層14、低屈折率層15、高屈折率層14で構成される薄膜積層体13とを備える。また、図1(c)の透明導電フィルム1にあっては、透明基材11の一方の面に防眩性ハードコート層16と透明導電層12を有し、透明導電層12形成面と反対側の面に高屈折率層14、低屈折率層15、高屈折率層14で構成される薄膜積層体13を備える。
図2における防眩性ハードコート層16は透明導電層12が積層されている面の透明基材11上に積層されているが、これに限定されるものではなく、透明導電層12が積層された面と反対側の透明基材11上に積層しても良い。
In the transparent conductive film 1 of FIG. 2A, an antiglare hard coat layer 16, a high refractive index layer 14, and a low refractive index layer are formed on one surface of the transparent substrate 11 in this order from the transparent substrate 11 side. A thin film laminate 13 composed of a refractive index layer 15 and a high refractive index layer 14 and a transparent conductive layer 12 are provided. In the transparent conductive film 1 of FIG. 2B, an antiglare hard coat layer 16, a transparent conductive layer 12, and a high layer are formed on one surface of the transparent substrate 11 in order from the transparent substrate 11 side. A thin film laminate 13 including a refractive index layer 14, a low refractive index layer 15, and a high refractive index layer 14. Moreover, in the transparent conductive film 1 of FIG.1 (c), it has the anti-glare hard-coat layer 16 and the transparent conductive layer 12 in one surface of the transparent base material 11, and is opposite to the transparent conductive layer 12 formation surface. A thin film laminate 13 including a high refractive index layer 14, a low refractive index layer 15, and a high refractive index layer 14 is provided on the side surface.
The antiglare hard coat layer 16 in FIG. 2 is laminated on the transparent substrate 11 on the surface on which the transparent conductive layer 12 is laminated, but is not limited thereto, and the transparent conductive layer 12 is laminated. You may laminate | stack on the transparent base material 11 on the opposite side to the surface.

図3に、本発明のプラスチック成形品の説明断面図を示した。本発明のプラスチック成形品にあっては、透明導電性フィルム1と熱可塑性プラスチック材料からなる熱可塑性プラスチック成形体2を積層してなる。図3(a−1)、(a−2)は、図1(a)に示した透明導電性フィルム1を備えたプラスチック成形品3である。図3(b−1)、(b−2)は、図1(b)に示した透明導電性フィルム1を備えたプラスチック成形品3である。図3(c−1)、(c−2)は、図1(c)に示した透明導電性フィルム1を備えたプラスチック成形品3である。図3に示したように、本発明のプラスチック成形品3にあっては、透明導電層12を透明基材フィルム11と熱可塑性プラスチック成形体2の間に設けても良いし、透明導電層12を透明基材11の熱可塑性プラスチック積層体2形成面と反対側の面に設けても構わない。同様に、本発明のプラスチック成形品3にあっては、薄膜積層体13を透明基材フィルム11と熱可塑性プラスチック成形体2の間に設けても良いし、薄膜積層体13を透明基材11の熱可塑性プラスチック積層体2形成面と反対側の面に設けても構わない。   FIG. 3 shows an explanatory sectional view of the plastic molded product of the present invention. In the plastic molded product of the present invention, a transparent conductive film 1 and a thermoplastic molded body 2 made of a thermoplastic material are laminated. 3 (a-1) and 3 (a-2) show a plastic molded product 3 provided with the transparent conductive film 1 shown in FIG. 1 (a). 3 (b-1) and 3 (b-2) show a plastic molded product 3 provided with the transparent conductive film 1 shown in FIG. 1 (b). 3 (c-1) and 3 (c-2) show a plastic molded product 3 provided with the transparent conductive film 1 shown in FIG. 1 (c). As shown in FIG. 3, in the plastic molded article 3 of the present invention, the transparent conductive layer 12 may be provided between the transparent base film 11 and the thermoplastic molded article 2, or the transparent conductive layer 12. May be provided on the surface of the transparent substrate 11 opposite to the surface on which the thermoplastic plastic laminate 2 is formed. Similarly, in the plastic molded article 3 of the present invention, the thin film laminate 13 may be provided between the transparent substrate film 11 and the thermoplastic plastic molded body 2, or the thin film laminate 13 may be provided as the transparent substrate 11. It may be provided on the surface opposite to the surface on which the thermoplastic laminate 2 is formed.

本発明のプラスチック成形品3の構成は、成形品の用途によって適用される。例えば、抵抗膜方式のタッチパネル部材として本発明のプラスチック成形品を用いる場合にあっては、プラスチック成形品3表面に透明導電層12を備える図3(a−1)、(c−1)に示したプラスチック成形品を用いることができる。静電容量方式のタッチパネル部材として本発明のプラスチック成形品を用いる場合にあっては、プラスチック成形品3表面に透明導電層12を有する構造に限定されない。   The configuration of the plastic molded product 3 of the present invention is applied depending on the use of the molded product. For example, in the case where the plastic molded product of the present invention is used as a resistive film type touch panel member, the transparent molded layer 12 is provided on the surface of the plastic molded product 3 as shown in FIGS. 3 (a-1) and 3 (c-1). Plastic molded products can be used. When the plastic molded product of the present invention is used as a capacitive touch panel member, the structure is not limited to the structure having the transparent conductive layer 12 on the surface of the plastic molded product 3.

また、本発明のプラスチック成形品にあっては、他の機能層を設けていても構わない。例えば、プラスチック成形品表面にハードコート層を設けることにより、プラスチック成形品表面の耐擦傷性を向上させることができる。また、プラスチック成形品表面に防汚層を設けることにより、プラスチック成形品表面の防汚性を向上させることができる。また、他の機能層は、各層間に設けられていても構わない。   In the plastic molded product of the present invention, other functional layers may be provided. For example, by providing a hard coat layer on the surface of the plastic molded product, the scratch resistance of the surface of the plastic molded product can be improved. Moreover, by providing the antifouling layer on the surface of the plastic molded product, the antifouling property on the surface of the plastic molded product can be improved. Other functional layers may be provided between the respective layers.

本発明のプラスチック成形体の製造方法について説明する。   The manufacturing method of the plastic molding of this invention is demonstrated.

図4に、本発明のプラスチック成形品の製造方法の説明図を示した。本発明のプラスチック成形品にあっては以下の工程により製造される。
・工程1
成形用金型4の空洞41内に透明導電性フィルム1を配置する工程(図4(1)、(2))
・工程2
成形用金型4の空洞41内に熱可塑性プラスチック材料を射出する工程(図4(3))
・工程3
成形用金型4から透明導電性フィルム1の熱可塑性プラスチック成形体2の積層品であるプラスチック成形品3を取り出す工程(図4(4))
FIG. 4 shows an explanatory view of the method for producing a plastic molded product of the present invention. The plastic molded product of the present invention is manufactured by the following steps.
Process 1
Step of disposing the transparent conductive film 1 in the cavity 41 of the molding die 4 (FIGS. 4 (1) and (2))
Process 2
A step of injecting a thermoplastic material into the cavity 41 of the molding die 4 (FIG. 4 (3))
Process 3
A step of taking out a plastic molded product 3 which is a laminate of the thermoplastic molded product 2 of the transparent conductive film 1 from the molding die 4 (FIG. 4 (4)).

以上の方法により透明導電層を備えるプラスチック成形体を製造することにより、製造コストが低く、また、意匠性の高いプラスチック成形品を得ることができた。本発明のプラスチック成形品にあっては、透明導電性フィルム1とプラスチック成形体2が一体成形されているので、ベゼルレスで一体感の高いプラスチック成形品とすることができる。透明導電層を有していることにより、透明導電層を電極、電気配線、電磁波遮蔽層として機能させることにより、高付加価値のプラスチック成形品とすることができる。   By producing a plastic molded article having a transparent conductive layer by the above method, a plastic molded article with low production cost and high designability could be obtained. In the plastic molded product of the present invention, since the transparent conductive film 1 and the plastic molded product 2 are integrally molded, it is possible to obtain a plastic molded product with a bezel-less and high unity feeling. By having the transparent conductive layer, the transparent conductive layer can be made to function as an electrode, an electrical wiring, and an electromagnetic wave shielding layer, whereby a high-value-added plastic molded product can be obtained.

本発明にあっては、更に、薄膜積層体を備える透明導電性フィルムを用いることにより、プラスチック成形品の意匠性を向上させることができる。薄膜積層体は、高屈折率層と低屈折率層の光の干渉により、ハーフミラー層、反射防止層、着色層として機能させることができ、プラスチック成形品の意匠性を向上させることができる。なお、プラスチック成形品を反射防止層として機能させる場合には、本発明のプラスチック成形品は図3(b−1)、(c−2)に示したような、プラスチック成形の表面に薄膜積層体を備えることが好ましい。   In this invention, the design property of a plastic molded product can be improved further by using a transparent conductive film provided with a thin film laminated body. The thin film laminate can function as a half mirror layer, an antireflection layer, and a colored layer by interference of light between the high refractive index layer and the low refractive index layer, and can improve the design of the plastic molded product. When the plastic molded product functions as an antireflection layer, the plastic molded product of the present invention is a thin film laminate on the surface of the plastic molded product as shown in FIGS. 3 (b-1) and (c-2). It is preferable to provide.

図5に、本発明のプラスチック成形品の製造方法の別の態様の説明図を示した。図5のプラスチック成形品の製造方法にあっては、成形用金型の壁面が凹凸構造を備えることを特徴とする、そして、熱可塑性プラスチック材料を金型内に射出する工程(図5(3))において、熱可塑性プラスチック材料を射出する際の金型内の圧力により金型壁面の凹凸構造と隣接している透明導電層は破断され、パターニングすることができる。したがって、得られるプラスチック成形品は、金型壁面の凹凸構造に対応して透明導電層がパターニングされたプラスチック成形品とすることができる。言い換えると、プラスチック成形品表面の凹凸構造に対応して透明導電層がパターニングされたプラスチック成形品とすることができる。本製造方法を用いることにより、透明導電層のパターニングを低コストでおこなうことができる。   FIG. 5 shows an explanatory view of another aspect of the method for producing a plastic molded product of the present invention. In the method of manufacturing a plastic molded article in FIG. 5, the wall surface of the molding die has an uneven structure, and a step of injecting a thermoplastic material into the mold (FIG. 5 (3) )), The transparent conductive layer adjacent to the concavo-convex structure on the mold wall surface is broken by the pressure in the mold when the thermoplastic material is injected, and can be patterned. Therefore, the obtained plastic molded product can be a plastic molded product in which the transparent conductive layer is patterned corresponding to the uneven structure of the mold wall surface. In other words, a plastic molded product having a transparent conductive layer patterned corresponding to the uneven structure on the surface of the plastic molded product can be obtained. By using this production method, the transparent conductive layer can be patterned at a low cost.

金型内壁面の凹凸構造の高さとしては0.5mm以上であることが好ましい。これよりも低いと、透明導電層を完全に破断できない可能性があるためである。   The height of the uneven structure on the inner wall surface of the mold is preferably 0.5 mm or more. If it is lower than this, the transparent conductive layer may not be completely broken.

図5に示したような、本発明のプラスチック成形品の製造方法を用いることにより、パターニングを必要とする電極、電気配線としての透明導電層を備えるプラスチック成形品を容易に作成することができる。例えば、プラスチック成形品の透明導電層を静電容量結合方式のタッチパネルの電極として用いることで、表面保護性能、意匠性を付加した、複数のチャンネルを有するデジタルタッチパネルを作製することができる。   By using the method for producing a plastic molded product of the present invention as shown in FIG. 5, it is possible to easily produce a plastic molded product having electrodes that require patterning and a transparent conductive layer as electrical wiring. For example, by using a transparent conductive layer of a plastic molded product as an electrode of a capacitively coupled touch panel, a digital touch panel having a plurality of channels to which surface protection performance and design properties are added can be manufactured.

なお、図5にあっては、透明導電性フィルムがその透明導電層12と成形用金型の凹凸構造が対向するように成形用金型の空洞内に配置されることが好ましい。このような、配置とすることにより透明導電層12のパターニングを容易とすることができる。ただし、透明基材と成形用金型の凹凸構造の高さを考慮することにより、透明導電性フィルム1の透明導電層12と成形用金型の凹凸構造の間に透明基材11を挟むように、成形用金型の空洞内に透明導電性フィルムを配置しても、透明導電層をパターニングすることができる。   In FIG. 5, the transparent conductive film is preferably disposed in the cavity of the molding die so that the transparent conductive layer 12 and the uneven structure of the molding die face each other. With such an arrangement, the transparent conductive layer 12 can be easily patterned. However, the transparent base material 11 is sandwiched between the transparent conductive layer 12 of the transparent conductive film 1 and the concave / convex structure of the molding die by considering the height of the concave / convex structure of the transparent base material and the molding die. Even if a transparent conductive film is disposed in the cavity of the molding die, the transparent conductive layer can be patterned.

本発明のプラスチック成形品にあっては、透明導電性フィルムが設けられた箇所のプラスチック成形品表面の視感反射率を5%以上90%以下の範囲内とすることが好ましい。薄膜積層体を着色層として機能させた場合、視感平均反射率を5%以上90%以下の範囲内とすることにより、得られるプラスチック成形品は金属光沢を有する色彩を有することができる。また、視感平均反射率を20%以上90%の範囲内にすることにより、ハーフミラー性能を有することができ、プラスチック成形品に加飾性、意匠性を付与することができる。本発明におけるプラスチック成形品の視感反射率は、分光光度計により求められる可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、プラスチック成形品表面に対しての垂直方向から入射角度は5度に設定され、光源としてD65光源を用い、2度視野の条件下で求められる。表面の視感平均反射率を5%以上90%以下の範囲内とするにあっては、光学シミュレーション法により薄膜積層体の高屈折率層、低屈折率層の光学膜厚を調整することにより実現することができる。なお、高屈折率層と低屈折率層を少なくとも各1層以上有する薄膜積層体と透明導電層が隣接する場合には透明導電層を含めた形で光学シミュレーション法により透明導電層、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚を決定することが好ましい。   In the plastic molded product of the present invention, it is preferable that the luminous reflectance of the plastic molded product surface where the transparent conductive film is provided is in the range of 5% to 90%. When the thin film laminate is made to function as a colored layer, the plastic molded product obtained can have a color having a metallic luster by setting the visual average reflectance within the range of 5% to 90%. Moreover, by setting the luminous average reflectance within the range of 20% or more and 90%, it is possible to have half mirror performance and to impart decorativeness and design to a plastic molded product. The luminous reflectance of the plastic molded product in the present invention is a reflectance value obtained by calibrating the reflectance of each wavelength of visible light obtained by a spectrophotometer with the relative luminous sensitivity and averaging it. At this time, the incident angle is set to 5 degrees from the direction perpendicular to the surface of the plastic molded product, and the D65 light source is used as the light source, and the angle is obtained under the condition of a 2-degree visual field. In order to make the surface luminous average reflectance within the range of 5% or more and 90% or less, by adjusting the optical film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer of the thin film laminate by an optical simulation method. Can be realized. When a thin film laminate having at least one high refractive index layer and at least one low refractive index layer and a transparent conductive layer are adjacent to each other, the transparent conductive layer and the high refractive index are formed by an optical simulation method including the transparent conductive layer. It is preferable to determine the optical film thickness of the layer and the low refractive index layer.

また、光学シミュレーション法により高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚を設計することで、任意の色の調整が可能となる。薄膜積層体を着色層として機能させることで、L表色系における彩度Cが0から100の範囲で要求する色をもつ加飾性のある透明導電膜付きプラスチック成形品とすることができる。なお、薄膜積層体は、着色せず、無色に近い層とすることも可能である。 In addition, any color can be adjusted by designing the optical film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer by the optical simulation method. By making the thin film laminate function as a colored layer, a plastic molded article with a transparent conductive film having a decorative color having a color saturation C * in the range of 0 to 100 in the L * a * b * color system It can be. Note that the thin film laminate can be a colorless layer without being colored.

ここで、視感平均反射率が90%を超えてしまう場合には、プラスチック成形品の透過率が下がりすぎてしまい、ディスプレイ部材としての使用が困難となる。一方、視感平均反射率が5%に満たない場合には、十分な金属光沢を有する色彩が得られず、ハーフミラー性能を有するプラスチック成形品とすることが困難となる。   Here, if the luminous average reflectance exceeds 90%, the transmittance of the plastic molded product is too low, making it difficult to use as a display member. On the other hand, when the luminous average reflectance is less than 5%, a color having a sufficient metallic luster cannot be obtained, and it becomes difficult to obtain a plastic molded product having a half mirror performance.

また、本発明のプラスチック成形品にあっては、透明導電性フィルムが透明基材よりも表面側に薄膜積層体を備え、且つ、透明導電性フィルムが設けられた箇所のプラスチック成形品表面の視感平均反射率が、0.1%以上3%以下の範囲内であることが好ましい。視感平均反射率を0.1%以上3%以下の範囲内とすることにより、得られるプラスチック成形品は反射防止性能を有することができ、プラスチック成形品に視認性を付与することができる。表面の視感平均反射率を0.1%以上3%以下の範囲内とするにあっては、光学シミュレーション法により薄膜積層体の高屈折率層、低屈折率層の光学膜厚を調整することにより実現することができる。なお、高屈折率層と低屈折率層を少なくとも各1層以上有する薄膜積層体と透明導電層が隣接する場合には透明導電層を含めた形で光学シミュレーション法により透明導電層、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚を決定することが好ましい。   In the plastic molded article of the present invention, the transparent conductive film has a thin film laminate on the surface side of the transparent substrate, and the surface of the plastic molded article where the transparent conductive film is provided is viewed. The sensitive average reflectance is preferably in the range of 0.1% to 3%. By setting the luminous average reflectance within the range of 0.1% or more and 3% or less, the obtained plastic molded article can have antireflection performance, and visibility can be imparted to the plastic molded article. In order to make the surface luminous average reflectance within the range of 0.1% or more and 3% or less, the optical film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer of the thin film laminate is adjusted by an optical simulation method. Can be realized. When a thin film laminate having at least one high refractive index layer and at least one low refractive index layer and a transparent conductive layer are adjacent to each other, the transparent conductive layer and the high refractive index are formed by an optical simulation method including the transparent conductive layer. It is preferable to determine the optical film thickness of the layer and the low refractive index layer.

ここで、プラスチック成形品表面において外部から入る光の反射を防止し、特に視認性をもたせるためには視感平均反射率は0.1%以上3%以下の範囲内であることが好ましい。0.1%未満の視感平均反射率を得ようとすると、薄膜積層体の層数が多くなるため生産性が悪く反射率の再現性が劣る場合がある。一方、視感平均反射率が3%を超えるような場合にあっては、十分な反射防止性能を有するプラスチック成形品とすることができない場合がある。   Here, in order to prevent reflection of light entering from the outside on the surface of the plastic molded product, and in particular to provide visibility, the visual average reflectance is preferably in the range of 0.1% to 3%. When trying to obtain a luminous average reflectance of less than 0.1%, the number of layers of the thin film laminate increases, so that productivity is poor and reproducibility of reflectance may be poor. On the other hand, when the luminous average reflectance exceeds 3%, it may not be possible to obtain a plastic molded product having sufficient antireflection performance.

また、本発明のプラスチック成形品にあっては、透明基材の一方の面に防眩性ハードコート層を備え、且つ、透明導電性フィルムが設けられたプラスチック成形品のトータルへイズは7%以上40%以下の範囲内であることが好ましい。7%未満であると光の散乱現象によるディスプレイ部と筐体部との境界を目立たなくする効果が得られにくく、40%より大きいとディスプレイ部での透過率を低下させてしまう。トータルヘイズは、ヘイズメータを用いてJIS 7105に準じて測定したものである。   In the plastic molded article of the present invention, the total haze of the plastic molded article provided with the antiglare hard coat layer on one surface of the transparent substrate and provided with the transparent conductive film is 7%. It is preferable that it is in the range of 40% or less. If it is less than 7%, it is difficult to obtain an effect of making the boundary between the display unit and the housing unit inconspicuous due to the light scattering phenomenon, and if it exceeds 40%, the transmittance in the display unit is lowered. Total haze is measured according to JIS 7105 using a haze meter.

本発明のプラスチック成形体についてさらに詳細に説明する。   The plastic molded body of the present invention will be described in more detail.

(透明基材)
ここで、透明基材としてはポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィン;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル;ポリアミド;ポリイミド;ポリアリレート;ポリカーボネート;ポリアクリレート;ポリエーテルスルフォン、これらの共重合体の無延伸あるいは延伸フィルムを用いることが出来る。また、透明性の高い他のプラスチックフィルムを用いることも出来る。この内ポリエチレンテレフタレートなどを用いることができる。透明基材の厚さは、目的の用途に応じて適宜選択され、通常5μm以上200μm以下の範囲のプラスチックフィルムを好適に用いることができる。
(Transparent substrate)
Here, the transparent substrate is a polyolefin such as polyethylene or polypropylene; a polyester such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, or polyethylene naphthalate; polyamide; polyimide; polyarylate; polycarbonate; polyacrylate; A non-stretched or stretched film can be used. Also, other highly transparent plastic films can be used. Of these, polyethylene terephthalate can be used. The thickness of the transparent substrate is appropriately selected according to the intended use, and a plastic film in the range of usually 5 μm or more and 200 μm or less can be suitably used.

透明基材には、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が含有されていてもよい。なお、この透明基材は、易接着処理、プラズマ処理、コロナ処理などの表面処理が施されていてもよい。   The transparent substrate may contain known additives such as ultraviolet absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants and the like. In addition, this transparent base material may be subjected to surface treatment such as easy adhesion treatment, plasma treatment, and corona treatment.

(透明導電層)
また、透明導電層を形成する透明導電性材料としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛等の酸化物あるいはその混合酸化物等をあげることができる。特に酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物(ITO)が好適に用いられる。
(Transparent conductive layer)
Examples of the transparent conductive material for forming the transparent conductive layer include oxides such as indium oxide, tin oxide, and zinc oxide, or mixed oxides thereof. In particular, a mixed oxide (ITO) of indium oxide and tin oxide is preferably used.

また、この透明導電性材料には、必要に応じて、Al、Zr、Ga、Si、W等の添加物を含有させることができる。本発明の透明導電層の製造方法については特に限定はないが、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法等の真空成膜法により透明基材上に成膜されることが好ましく用いることができる。   In addition, the transparent conductive material can contain additives such as Al, Zr, Ga, Si, and W as required. The method for producing the transparent conductive layer of the present invention is not particularly limited, but it is preferably used that a film is formed on a transparent substrate by a vacuum film formation method such as a sputtering method, a vapor deposition method, an ion plating method, or a CVD method. be able to.

透明導電層を静電容量結合方式タッチパネルの電極として用いる場合には、その表面抵抗値を100〜1500Ω/□の範囲内とすることが好ましい。   When the transparent conductive layer is used as an electrode of a capacitively coupled touch panel, the surface resistance value is preferably in the range of 100 to 1500 Ω / □.

(薄膜積層体)
本発明における薄膜積層体は、高屈折率層単層、または、低屈折率層単層、または、高屈折率薄膜と低屈折率薄膜とを各1層以上交互に積層した積層構造を備える。薄膜積層体を積層構造とすることにより、薄膜積層体の反射防止性能、ハーフミラー性能、着色性能を向上させることができる。しかしながら、高屈折率層と低屈折率層の層数を増加させた場合には製造コストが向上する。
(Thin film laminate)
The thin film laminate in the present invention has a high refractive index layer single layer, a low refractive index layer single layer, or a laminated structure in which one or more high refractive index thin films and low refractive index thin films are alternately laminated. By making a thin film laminated body into a laminated structure, the antireflection performance, half mirror performance, and coloring performance of the thin film laminated body can be improved. However, when the number of high refractive index layers and low refractive index layers is increased, the manufacturing cost is improved.

本発明の薄膜積層体における高屈折率層とは、光の波長550nmでの屈折率が1.75以上2.4以下であり、消衰係数が0.5以下の層とすることが好ましい。   The high refractive index layer in the thin film laminate of the present invention is preferably a layer having a refractive index of 1.75 to 2.4 at a light wavelength of 550 nm and an extinction coefficient of 0.5 or less.

高屈折率層形成材料としては、例えば、インジウム、錫、チタン、珪素、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、マグネシウム、ビスマス、セリウム、クロム、白金、炭素、タンタル、アルミニウム、ゲルマニウム、ガリウム、アンチモン、ネオジウム、ランタン、トリウム、ハフニウム、イットリウム、ロジウム、セレニウム、ユーロピウム、イッテルビウム、スカンジウム、プラセオジウム、サマリウム等の元素、または、これらの元素の酸化物、弗化物、硫化物、窒化物、または、酸化物、弗化物、硫化物、窒化物の混合物等が挙げられる。酸化物、弗化物、硫化物、窒化物の化学組成は、化学量論的な組成と一致しなくてもよい。なお、高屈折率層を複数層設ける場合、高屈折率層形成材料は同一であってもよいし、異なっていても構わない。   Examples of the material for forming a high refractive index layer include indium, tin, titanium, silicon, zinc, zirconium, niobium, magnesium, bismuth, cerium, chromium, platinum, carbon, tantalum, aluminum, germanium, gallium, antimony, neodymium, and lanthanum. , Thorium, hafnium, yttrium, rhodium, selenium, europium, ytterbium, scandium, praseodymium, samarium, etc., or oxides, fluorides, sulfides, nitrides or oxides, fluorides of these elements, Examples thereof include a mixture of sulfides and nitrides. The chemical composition of oxides, fluorides, sulfides, and nitrides may not match the stoichiometric composition. When a plurality of high refractive index layers are provided, the high refractive index layer forming material may be the same or different.

本発明の薄膜積層体における低屈折率層とは、光の波長550nmでの屈折率が1.3以上1.75未満、消衰係数が0.5以下の層とすることが好ましい。   The low refractive index layer in the thin film laminate of the present invention is preferably a layer having a refractive index of 1.3 to 1.75 and an extinction coefficient of 0.5 or less at a light wavelength of 550 nm.

低屈折率層形成材料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、窒化チタン、弗化マグネシウム、弗化バリウム、弗化カルシウム、弗化ハフニウム、弗化ランタン、弗化ナトリウム、弗化アルミニウム、弗化炭素、弗化鉛、弗化ストロンチウム、弗化イッテルビウム、弗化ネオジウム、弗化リチウム、弗化サマリウム等の化合物、または、これら化合物の混合物等が挙げられる。これら化合物の化学組成は、化学量論的な組成と一致しなくてもよい。なお、低屈折率層を複数層設ける場合、低屈折率層形成材料は同一であってもよいし、異なっていても構わない。   Examples of the material for forming the low refractive index layer include silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium nitride, magnesium fluoride, barium fluoride, calcium fluoride, hafnium fluoride, lanthanum fluoride, sodium fluoride, aluminum fluoride. , Carbon fluoride, lead fluoride, strontium fluoride, ytterbium fluoride, neodymium fluoride, lithium fluoride, samarium fluoride, or a mixture of these compounds. The chemical composition of these compounds may not match the stoichiometric composition. When providing a plurality of low refractive index layers, the low refractive index layer forming material may be the same or different.

本発明における高屈折率層および低屈折率層は、蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の真空成膜法により形成されること好ましい。   The high refractive index layer and the low refractive index layer in the present invention are preferably formed by a vacuum film forming method such as a vapor deposition method, a sputtering method, a plasma CVD method, an ion plating method, an ion beam assist method.

また高屈折率層及び低屈折率層の屈折率および消衰係数の光学定数に関しては、分光エリプソメトリー法を用いて、薄膜積層体の表面から反射してくる光の偏光状態の変化を測定することで求めることが可能である。消衰係数に関しては、0.5より大きくなると光の吸収が大きくなるため、本発明の光反射性能を有するような高屈折率層および低屈折率層の形成材料として好ましくない。   For the optical constants of the refractive index and extinction coefficient of the high refractive index layer and the low refractive index layer, the change in the polarization state of the light reflected from the surface of the thin film stack is measured using a spectroscopic ellipsometry method. Can be obtained. With respect to the extinction coefficient, if it is greater than 0.5, light absorption increases, which is not preferable as a material for forming the high refractive index layer and the low refractive index layer having the light reflection performance of the present invention.

(熱可塑性プラスチック材料)
本発明における熱可塑性プラスチック材料としては、アクリル;ポリカーボネート(PC);ポリエチレンテレフタレート(PET);ポリ塩化ビニル(PVC);ポリプロピレン;ポリエチレン;ポリスチレン;ポリスチロール;ナイロン、及びこれらの混合材料が用いられるが、これに限定されるものではない。
(Thermoplastic material)
As the thermoplastic material in the present invention, acrylic, polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PVC), polypropylene, polyethylene, polystyrene, polystyrene, nylon, and a mixed material thereof may be used. However, the present invention is not limited to this.

(防眩性ハードコート層)
本発明の防眩性ハードコート層は、表面凹凸を有しており、表面凹凸の形成方法としては、成膜した樹脂材料にエンボス加工を施す方法や、樹脂材料に粒子を混入する方法等を用いることができる。
(Anti-glare hard coat layer)
The antiglare hard coat layer of the present invention has surface unevenness, and as a method for forming the surface unevenness, there are a method of embossing the formed resin material, a method of mixing particles in the resin material, and the like. Can be used.

防眩性ハードコート層に用いられる樹脂材料としては、適度な硬度および機械的強度を有するものであればよく、アクリル系樹脂、有機珪素系樹脂、ポリシロキサン等の材料が挙げられる。   The resin material used for the antiglare hard coat layer is not particularly limited as long as it has an appropriate hardness and mechanical strength, and examples thereof include materials such as acrylic resins, organosilicon resins, and polysiloxanes.

アクリル系樹脂としては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングロリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−(メタ)アクリロイルオキシプロピオネート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチル)イソシアネートジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2,3−ビス(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシメチル[2.2.1]ヘプタン、ポリ1,2−ブタジエンジ(メタ)アクリレート、1,2−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、10−デカンジオール(メタ)アクリレート、3,8−ビス(メタ)アクリロイルオキシメチルトリシクロ[5.2.10]デカン、水素添加ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、1,4−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート等の混合物が挙げられる。   Examples of acrylic resins include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, and triethylene. Glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycolic di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol bis β- (meth) acryloyloxypropionate, Trimethylolethane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, (2-hydroxyethyl) isocyanate di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, 2,3-bis (meth) acryloyloxyethyloxymethyl [2.2.1] heptane, poly 1,2-butadiene di (Meth) acrylate, 1,2-bis (meth) acryloyloxymethylhexane, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecane ethylene glycol di (meth) acrylate, 10-decanediol (meth) acrylate, 3,8-bis (Meth) acryloyloxymethyltricyclo [5.2.10] decane, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) propane, 1,4- Bis ((meth) acryloyl Examples thereof include a mixture of oxymethyl) cyclohexane, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A diglycidyl ether di (meth) acrylate, epoxy-modified bisphenol A di (meth) acrylate and the like.

有機珪素系樹脂としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタイソプロキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等の混合物が挙げられる。   Examples of the organosilicon resin include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapentaisoproxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, Examples thereof include a mixture of butoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, and the like.

防眩性ハードコート層に用いられる粒子としては、アクリル粒子、アクリル−スチレン粒子、ポリスチレン粒子、ポリカーボネート粒子、メラミン粒子といった有機粒子や、シリカ粒子タルク、各種アルミノケイ酸塩、カオリンクレー、MgAlハイドロタルサイト、などの無機粒子が挙げられる。粒子の平均粒子径としては、1〜20μm程度であることが好ましい。1μm以下であると、光の散乱現象を生じさせるほどの凹凸を防眩性ハードコート層表面に形成することが困難であり、携帯ゲーム機や携帯電話等のディスプレイ部と筐体部との境界を目立たなくする効果が得られにくく、20μm以上であるとディスプレイ部の透過率を低下させてしまう。   Particles used in the antiglare hard coat layer include organic particles such as acrylic particles, acrylic-styrene particles, polystyrene particles, polycarbonate particles, melamine particles, silica particle talc, various aluminosilicates, kaolin clay, MgAl hydrotalcite And inorganic particles. The average particle diameter of the particles is preferably about 1 to 20 μm. If the thickness is 1 μm or less, it is difficult to form unevenness on the surface of the antiglare hard coat layer that causes light scattering, and the boundary between the display unit and the case unit of a portable game machine or mobile phone It is difficult to obtain the effect of making the image inconspicuous, and if it is 20 μm or more, the transmittance of the display unit is lowered.

また、本発明の防眩性ハードコート層においては、粒子の樹脂材料に対する含有量は0.1wt%以上30wt%以下であることが好ましい。粒子の樹脂材料に対する含有量が0.1wt%に満たない場合、十分な外光写り込み防止性を有することができなくなってしまう場合がある。また、粒子の樹脂材料に対する含有量が30wt%を超えるような場合、防眩性ハードコート層を塗工するための塗液中に粒子の含有量が多くなりすぎてしまい、塗液の保存安定性が失われてしまうことがあり、外観不良および表面高度の低下が発生しやすくなってしまう。   In the antiglare hard coat layer of the present invention, the content of the particles with respect to the resin material is preferably 0.1 wt% or more and 30 wt% or less. When the content of the particles with respect to the resin material is less than 0.1 wt%, it may not be possible to have sufficient external light reflection prevention properties. In addition, when the content of the particles with respect to the resin material exceeds 30 wt%, the content of the particles is excessively increased in the coating liquid for coating the antiglare hard coat layer, and the storage stability of the coating liquid is increased. May be lost, and appearance defects and a decrease in surface height are likely to occur.

また、本発明の防眩性ハードコート層においては、樹脂材料中に他の機能性添加剤を加えても良い。但し、光の拡散性に影響を与えてはならない。機能性添加剤としては、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、防汚剤、撥水剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤などを使用できる。本発明の防眩性ハードコート層は、帯電防止機能、紫外線吸収機能、赤外線吸収機能、防汚機能、撥水機能といった、防眩ハードコート機能以外の機能を有していても構わない。   In the antiglare hard coat layer of the present invention, other functional additives may be added to the resin material. However, it should not affect the light diffusivity. As the functional additive, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an antifouling agent, a water repellent, a refractive index adjuster, an adhesion improver, a curing agent, and the like can be used. The antiglare hard coat layer of the present invention may have functions other than the antiglare hard coat function such as an antistatic function, an ultraviolet absorbing function, an infrared absorbing function, an antifouling function, and a water repellent function.

本発明に用いられる防眩性ハードコート層の膜厚は、平均膜厚で0.5μm以上、好ましくは3μm以上20μm以下、より好ましくは3μm以上8μm以下である。なお、本発明において、防眩性ハードコート層の平均膜厚とは表面凹凸のある防眩性ハードコート層の膜厚の平均値のことである。平均膜厚は、電子マイクロメーター、全自動微細形状測定機により求めることができる。   The film thickness of the antiglare hard coat layer used in the present invention is 0.5 μm or more, preferably 3 μm or more and 20 μm or less, more preferably 3 μm or more and 8 μm or less in average film thickness. In the present invention, the average film thickness of the antiglare hard coat layer is the average value of the film thickness of the antiglare hard coat layer having surface irregularities. The average film thickness can be determined by an electronic micrometer or a fully automatic fine shape measuring instrument.

本発明に用いられる防眩性ハードコート層の表面硬度(鉛筆硬度)は、2H以上であることが好ましい。2Hに満たない場合、ディスプレイ用途において傷が入りやすく、耐擦傷性が不十分である。さらに、防眩性ハードコート層の表面硬度(鉛筆硬度)は4H以上であることが好ましい。
なお、鉛筆硬度とは、JIS K 5400に準じた鉛筆硬度試験によって得られる値である。鉛筆硬度試験は、鉛筆硬度試験の測定操作を5回繰り返して行い、2回以上傷等の外観異常が認められなかった場合に、その試験時に使用した鉛筆の硬度を鉛筆硬度とするものである。
The surface hardness (pencil hardness) of the antiglare hard coat layer used in the present invention is preferably 2H or more. When it is less than 2H, it is easy to be damaged in display applications, and the scratch resistance is insufficient. Furthermore, the surface hardness (pencil hardness) of the antiglare hard coat layer is preferably 4H or more.
The pencil hardness is a value obtained by a pencil hardness test according to JIS K 5400. In the pencil hardness test, the measurement operation of the pencil hardness test is repeated five times, and when no abnormality in appearance such as a scratch is observed two or more times, the pencil hardness used in the test is taken as the pencil hardness. .

本発明に用いられる防眩性ハードコート層は、グラビアコート法、スプレーコート法、エアナイフコート法、ロールブラッシュ法、カーテンコート法、含浸コート法等の従来公知の方法で成膜され、熱硬化、紫外線硬化、電離放射線硬化法を用いて硬化させることによって形成される。   The antiglare hard coat layer used in the present invention is formed by a conventionally known method such as a gravure coating method, a spray coating method, an air knife coating method, a roll brush method, a curtain coating method, an impregnation coating method, and the like. It is formed by curing using ultraviolet curing or ionizing radiation curing.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples.

(実施例1)
透明基材として100μm厚のPETフィルムを用い、基材フィルムの一方の面に薄膜積層体と透明導電層を順に積層した。薄膜積層体を形成するにあっては、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層を順に積層した。
まず、透明基材上に高屈折率層として物理膜厚131nmの二酸化チタン(TiO)からなる高屈折率層(波長550nmの光の屈折率2.32、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、高屈折率層上に低屈折率層として物理膜厚65nmの二酸化珪素(SiO)からなる低屈折率層(波長550nmの光の屈折率1.46、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、低屈折率層上に高屈折率層として物理膜厚152nmの二酸化チタン(TiO)からなる高屈折率層(波長550nmの光の屈折率2.32、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
さらに、高屈折率層上に透明導電層形成材料として酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるITOを用い、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜しことにより透明導電層を形成した。このとき、透明導電層の膜厚は20nm、表面抵抗値300Ω/□とした。
以上により透明導電性フィルムを作製した。
Example 1
A PET film having a thickness of 100 μm was used as a transparent substrate, and a thin film laminate and a transparent conductive layer were sequentially laminated on one surface of the substrate film. In forming the thin film laminate, a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a high refractive index layer were sequentially laminated.
First, a high refractive index layer (refractive index of light with a wavelength of 550 nm: 2.32, extinction coefficient: 0) made of titanium dioxide (TiO 2 ) having a physical film thickness of 131 nm as a high refractive index layer is formed on a transparent substrate by a sputtering method. Formed.
Next, a low refractive index layer (refractive index 1.46 of light having a wavelength of 550 nm, extinction coefficient 0) made of silicon dioxide (SiO 2 ) having a physical thickness of 65 nm is sputtered on the high refractive index layer as a low refractive index layer. Formed by the method.
Next, a high refractive index layer (refractive index of light having a wavelength of 550 nm: 2.32, extinction coefficient: 0) made of titanium dioxide (TiO 2 ) having a physical thickness of 152 nm is sputtered as a high refractive index layer on the low refractive index layer. Formed by the method.
Furthermore, ITO, which is a mixed oxide of indium oxide and tin oxide, was used as a transparent conductive layer forming material on the high refractive index layer, and was formed by direct current magnetron sputtering to form a transparent conductive layer. At this time, the film thickness of the transparent conductive layer was 20 nm, and the surface resistance value was 300Ω / □.
The transparent conductive film was produced by the above.

次に、射出成形機を用意し、熱可塑性プラスチック材料としてポリカーボネート(PC)を用い、得られた透明導電性フィルムを透明導電層が金型壁面と対向するように配置し、ポリカーボネートを金型内部に射出することにより、表面に透明導電層を有する透明導電層付きプラスチック成形品を得た。
得られたプラスチック成形品の、入射角5°、波長380〜780nmにおける視感平均反射率および色度を、分光光度計U−4000(日立製作所製)を用いて測定したところ、視感平均反射率は24%、L=55.94、a=−1.85、b=−29.40の色度及びC=29.46の彩度となった。得られたプラスチック成形品は、透明導電層を有しており、また、青色の彩色をもち、ハーフミラー性能を有しており意匠性が高く、また、ベゼルレスで一体感の高いプラスチック成形品となった。
Next, an injection molding machine is prepared, polycarbonate (PC) is used as the thermoplastic material, the obtained transparent conductive film is arranged so that the transparent conductive layer faces the mold wall surface, and the polycarbonate is placed inside the mold. The plastic molded product with a transparent conductive layer having a transparent conductive layer on the surface was obtained.
When the average luminous reflectance and chromaticity at an incident angle of 5 ° and a wavelength of 380 to 780 nm of the obtained plastic molded product were measured using a spectrophotometer U-4000 (manufactured by Hitachi, Ltd.), the luminous average reflection was measured. The rate was 24%, L * = 55.94, a * = − 1.85, b * = − 29.40 chromaticity and C * = 29.46 saturation. The obtained plastic molded article has a transparent conductive layer, has a blue color, has a half mirror performance, has a high design, and is a bezel-less plastic molded article having a high unity feeling. became.

(実施例2)
透明基材として100μm厚のPETフィルムを用い、透明基材の一方の面に薄膜積層体を積層し、もう一方の面に透明導電層を積層した。薄膜積層体を形成するにあっては、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層を順に積層した。
まず、透明基材上に高屈折率層として物理膜厚99nmの二酸化チタン(TiO)からなる高屈折率層(波長550nmの光の屈折率2.32、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、高屈折率層上に低屈折率層として物理膜厚74nmの二酸化珪素(SiO)からなる低屈折率層(波長550nmの光の屈折率1.46、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、低屈折率層上に高屈折率層として物理膜厚47nmの二酸化チタン(TiO)からなる高屈折率層(波長550nmの光の屈折率2.32、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、薄膜積層体が形成された面と反対側の透明基材面に透明導電層を形成した。高屈折率層上に透明導電層形成材料として酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるITOを用い、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜しことにより透明導電層を形成した。このとき、透明導電層の膜厚は20nm、表面抵抗値300Ω/□とした。
以上により透明導電性フィルムを作製した。
(Example 2)
A 100 μm thick PET film was used as a transparent substrate, a thin film laminate was laminated on one surface of the transparent substrate, and a transparent conductive layer was laminated on the other surface. In forming the thin film laminate, a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a high refractive index layer were sequentially laminated.
First, a high refractive index layer (refractive index of light with a wavelength of 550 nm: 2.32, extinction coefficient: 0) made of titanium dioxide (TiO 2 ) having a physical thickness of 99 nm is formed on the transparent substrate by a sputtering method. Formed.
Next, a low-refractive index layer (refractive index of 1.46 light having a wavelength of 550 nm, extinction coefficient of 0) made of silicon dioxide (SiO 2 ) having a physical thickness of 74 nm is sputtered on the high-refractive index layer as a low refractive index layer. Formed by the method.
Next, a high refractive index layer (refractive index of light having a wavelength of 550 nm: 2.32, extinction coefficient: 0) made of titanium dioxide (TiO 2 ) having a physical thickness of 47 nm is sputtered on the low refractive index layer as a high refractive index layer. Formed by the method.
Next, a transparent conductive layer was formed on the transparent substrate surface opposite to the surface on which the thin film laminate was formed. On the high refractive index layer, ITO, which is a mixed oxide of indium oxide and tin oxide, was used as a transparent conductive layer forming material, and a transparent conductive layer was formed by forming a film by a direct current magnetron sputtering method. At this time, the film thickness of the transparent conductive layer was 20 nm, and the surface resistance value was 300Ω / □.
The transparent conductive film was produced by the above.

次に、射出成形機を用意し、熱可塑性プラスチック材料としてポリカーボネート(PC)を用い、得られた透明導電性フィルムを薄膜積層体が金型壁面と対向するように配置し、ポリカーボネートを金型内部に射出することにより、表面に薄膜積層体を有し、透明基材とプラスチック成形体間に透明導電層を有する透明導電層付きプラスチック成形品を得た。
得られたプラスチック成形品の、入射角5°、波長380〜780nmにおける視感平均反射率および色度を、分光光度計U−4000(日立製作所製)を用いて測定したところ、視感平均反射率は40%、L=69.55、a=−7.99、b=7.65の色度及びC=11.06の彩度となった。得られたプラスチック成形品は、透明導電層を有しており、また、ハーフミラー性能を有しており意匠性が高く、さらには、ベゼルレスで一体感の高いプラスチック成形品とすることができた。
Next, an injection molding machine is prepared, polycarbonate (PC) is used as the thermoplastic material, the obtained transparent conductive film is arranged so that the thin film laminate faces the mold wall surface, and the polycarbonate is placed inside the mold. To obtain a plastic molded article with a transparent conductive layer having a thin film laminate on the surface and having a transparent conductive layer between the transparent substrate and the plastic molded article.
When the average luminous reflectance and chromaticity at an incident angle of 5 ° and a wavelength of 380 to 780 nm of the obtained plastic molded product were measured using a spectrophotometer U-4000 (manufactured by Hitachi, Ltd.), the luminous average reflection was measured. The rate was 40%, L * = 69.55, a * = − 7.99, b * = 7.65 chromaticity and C * = 11.06 saturation. The obtained plastic molded article has a transparent conductive layer, has a half mirror performance, has high designability, and can be a plastic molded article with a bezel-less and high unity feeling. .

(実施例3)
透明導電性フィルムは実施例1で得られた透明導電性フィルムを用いた。
(Example 3)
The transparent conductive film obtained in Example 1 was used as the transparent conductive film.

次に、射出成形機を用意し、熱可塑性プラスチック材料としてポリカーボネート(PC)を用い、得られた透明導電性フィルムを透明導電層が金型壁面と対向するように配置し、ポリカーボネートを金型内部に射出することにより、表面に透明導電層を有する透明導電層付きプラスチック成形品を得た。このとき、射出成型機の金型として、高さ0.5mmの直線状の段差を備える金型を用い、段差を備える金型壁面と透明導電性フィルムの透明導電層が対向するようにし、ポリカーボネートを金型内部に射出した。   Next, an injection molding machine is prepared, polycarbonate (PC) is used as the thermoplastic material, the obtained transparent conductive film is arranged so that the transparent conductive layer faces the mold wall surface, and the polycarbonate is placed inside the mold. The plastic molded product with a transparent conductive layer having a transparent conductive layer on the surface was obtained. At this time, a mold having a linear step with a height of 0.5 mm is used as the mold of the injection molding machine, the mold wall surface having the step and the transparent conductive layer of the transparent conductive film face each other, and the polycarbonate Was injected into the mold.

得られたプラスチック成形品は、金型の段差部分で透明導電層が破断され、プラスチック成形品の凹凸構造に追従して透明導電層がパターニングされていることが確認された。   In the obtained plastic molded product, it was confirmed that the transparent conductive layer was broken at the step portion of the mold, and the transparent conductive layer was patterned following the uneven structure of the plastic molded product.

(実施例4)
透明基材として100μm厚のPETフィルムを用い、透明基材の一方の面に薄膜積層体を積層し、もう一方の面に透明導電層を積層した。薄膜積層体を形成するにあっては、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層を順に積層した。
まず、透明基材上に高屈折率層として物理膜厚30nmの二酸化チタン(TiO)からなる高屈折率層(波長550nmの光の屈折率2.32、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、高屈折率層上に低屈折率層として物理膜厚21nmの二酸化珪素(SiO)からなる低屈折率層(波長550nmの光の屈折率1.46、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、低屈折率層上に高屈折率層として物理膜厚62nmの二酸化チタン(TiO)からなる高屈折率層(波長550nmの光の屈折率2.32、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、高屈折率層上に低屈折率層として物理膜厚94nmの二酸化珪素(SiO)からなる低屈折率層(波長550nmの光の屈折率1.46、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、薄膜積層体が形成された面と反対側の透明基材面に透明導電層を形成した。高屈折率層上に透明導電層形成材料として酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるITOを用い、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜しことにより透明導電層を形成した。このとき、透明導電層の膜厚は20nm、表面抵抗値300Ω/□とした。
以上により透明導電性フィルムを作製した。
Example 4
A 100 μm thick PET film was used as a transparent substrate, a thin film laminate was laminated on one surface of the transparent substrate, and a transparent conductive layer was laminated on the other surface. In forming the thin film laminate, a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a high refractive index layer were sequentially laminated.
First, a high refractive index layer (refractive index of light with a wavelength of 550 nm: 2.32, extinction coefficient: 0) made of titanium dioxide (TiO 2 ) having a physical thickness of 30 nm as a high refractive index layer is formed on a transparent substrate by sputtering. Formed.
Next, a low refractive index layer (refractive index 1.46 of light having a wavelength of 550 nm, extinction coefficient 0) made of silicon dioxide (SiO 2 ) having a physical thickness of 21 nm is sputtered on the high refractive index layer as a low refractive index layer. Formed by the method.
Next, a high refractive index layer (refractive index of light with a wavelength of 550 nm: 2.32, extinction coefficient: 0) made of titanium dioxide (TiO 2 ) having a physical thickness of 62 nm is sputtered on the low refractive index layer as a high refractive index layer. Formed by the method.
Next, a low refractive index layer (refractive index of 1.46 light having a wavelength of 550 nm, extinction coefficient of 0) made of silicon dioxide (SiO 2 ) having a physical thickness of 94 nm is sputtered on the high refractive index layer as a low refractive index layer. Formed by the method.
Next, a transparent conductive layer was formed on the transparent substrate surface opposite to the surface on which the thin film laminate was formed. On the high refractive index layer, ITO, which is a mixed oxide of indium oxide and tin oxide, was used as a transparent conductive layer forming material, and a transparent conductive layer was formed by forming a film by a direct current magnetron sputtering method. At this time, the film thickness of the transparent conductive layer was 20 nm, and the surface resistance value was 300Ω / □.
The transparent conductive film was produced by the above.

次に、射出成形機を用意し、熱可塑性プラスチック材料としてポリカーボネート(PC)を用い、得られた透明導電性フィルムを薄膜積層体が金型壁面と対向するように配置し、ポリカーボネートを金型内部に射出することにより、表面に薄膜積層体を有し、透明基材とプラスチック成形体間に透明導電層を有する透明導電層付きプラスチック成形品を得た。
得られたプラスチック成形品の、入射角5°、波長380〜780nmにおける視感平均反射率および色度を、分光光度計U−4000(日立製作所製)を用いて測定したところ、視感平均反射率は1.3%、L=11.15、a=13.50、b=−22.31の色度及びC=26.08の彩度となった。得られたプラスチック成形品は、透明導電層を有しており、また、反射防止性能を有しており、太陽光、蛍光灯等の外光の映りこみを防止することができ視認性が高く、さらには、ベゼルレスで一体感の高いプラスチック成形品とすることができた。
Next, an injection molding machine is prepared, polycarbonate (PC) is used as the thermoplastic material, the obtained transparent conductive film is arranged so that the thin film laminate faces the mold wall surface, and the polycarbonate is placed inside the mold. To obtain a plastic molded article with a transparent conductive layer having a thin film laminate on the surface and having a transparent conductive layer between the transparent substrate and the plastic molded article.
When the average luminous reflectance and chromaticity at an incident angle of 5 ° and a wavelength of 380 to 780 nm of the obtained plastic molded product were measured using a spectrophotometer U-4000 (manufactured by Hitachi, Ltd.), the luminous average reflection was measured. The rate was 1.3%, L * = 11.15, a * = 13.50, b * = − 22.31 chromaticity and C * = 26.08 saturation. The obtained plastic molded article has a transparent conductive layer and antireflection performance, and can prevent reflection of external light such as sunlight and fluorescent lamps, and has high visibility. In addition, it was a bezel-less plastic molded product with a high sense of unity.

(実施例5)
透明基材として100μm厚のPETフィルムを用い、透明基材の一方の面に防眩性ハードコート層、薄膜積層体、透明導電層の順で積層した。薄膜積層体を形成するにあっては、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層を順に積層した。
まず、透明基材上に高屈折率層として物理膜厚58nmの二酸化チタン(TiO)からなる高屈折率層(波長550nmの光の屈折率2.32、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、高屈折率層上に低屈折率層として物理膜厚90nmの二酸化珪素(SiO)からなる低屈折率層(波長550nmの光の屈折率1.46、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
次に、低屈折率層上に高屈折率層として物理膜厚93nmの二酸化チタン(TiO)からなる高屈折率層(波長550nmの光の屈折率2.32、消衰係数0)をスパッタリング法により形成した。
さらに、高屈折率層上に透明導電層形成材料として酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるITOを用い、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜しことにより透明導電層を形成した。このとき、透明導電層の膜厚は20nm、表面抵抗値300Ω/□とした。
(Example 5)
A 100 μm-thick PET film was used as a transparent substrate, and an antiglare hard coat layer, a thin film laminate, and a transparent conductive layer were laminated in this order on one surface of the transparent substrate. In forming the thin film laminate, a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a high refractive index layer were sequentially laminated.
First, a high refractive index layer (refractive index of light with a wavelength of 550 nm: 2.32, extinction coefficient: 0) made of titanium dioxide (TiO 2 ) having a physical thickness of 58 nm as a high refractive index layer is formed on a transparent substrate by a sputtering method. Formed.
Next, a low-refractive index layer (refractive index of light of wavelength 550 nm 1.46, extinction coefficient 0) made of silicon dioxide (SiO 2 ) having a physical thickness of 90 nm is sputtered on the high-refractive index layer as a low-refractive index layer. Formed by the method.
Next, a high refractive index layer (refractive index of light having a wavelength of 550 nm: 2.32, extinction coefficient: 0) made of titanium dioxide (TiO 2 ) having a physical thickness of 93 nm is sputtered on the low refractive index layer as a high refractive index layer. Formed by the method.
Furthermore, ITO, which is a mixed oxide of indium oxide and tin oxide, was used as a transparent conductive layer forming material on the high refractive index layer, and was formed by direct current magnetron sputtering to form a transparent conductive layer. At this time, the film thickness of the transparent conductive layer was 20 nm, and the surface resistance value was 300Ω / □.

次に、射出成形機を用意し、熱可塑性プラスチック材料としてポリカーボネート(PC)を用い、得られた透明導電性フィルムを透明導電層が金型壁面と対向するように配置し、ポリカーボネートを金型内部に射出することにより、表面に透明導電層を有する透明導電層付きプラスチック成形品を得た。
得られたプラスチック成形品の、入射角5°、波長380〜780nmにおける視感平均反射率および色度を、分光光度計U−4000(日立製作所製)を用いて測定したところ、視感平均反射率は24%、L=56.33、a=44.36、b=−1.46の色度及びC=44.38の彩度となった。また、得られたプラスチック成形品のトータルへイズをヘイズメータNDH−2000(日本電色製)を用いて測定したところ、トータルヘイズは10%であった。プラスチック成形品は、透明導電層を有しており、高級感のあるマット調の金属光沢と、赤色の彩色を有し、意匠性が高く、また、ベゼルレスで一体感の高いプラスチック成形品となった。
Next, an injection molding machine is prepared, polycarbonate (PC) is used as the thermoplastic material, the obtained transparent conductive film is arranged so that the transparent conductive layer faces the mold wall surface, and the polycarbonate is placed inside the mold. The plastic molded product with a transparent conductive layer having a transparent conductive layer on the surface was obtained.
When the average luminous reflectance and chromaticity at an incident angle of 5 ° and a wavelength of 380 to 780 nm of the obtained plastic molded product were measured using a spectrophotometer U-4000 (manufactured by Hitachi, Ltd.), the luminous average reflection was measured. The rate was 24%, L * = 56.33, a * = 44.36, b * = − 1.46 chromaticity and C * = 44.38 saturation. Moreover, when the total haze of the obtained plastic molded product was measured using a haze meter NDH-2000 (manufactured by Nippon Denshoku), the total haze was 10%. The plastic molded product has a transparent conductive layer, has a high-quality matte metallic luster and a red color, has a high design, and is a bezel-less plastic molded product with a high sense of unity. It was.

図1は本発明のプラスチック成形品に用いる透明導電性フィルムの一態様の説明断面図である。FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view of one embodiment of a transparent conductive film used in the plastic molded article of the present invention. 図2は本発明のプラスチック成形品に用いる透明導電性フィルムの一態様の説明断面図である。FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view of one embodiment of a transparent conductive film used in the plastic molded article of the present invention. 図3は本発明のプラスチック成形品の説明断面図である。FIG. 3 is an explanatory sectional view of the plastic molded article of the present invention. 図4は本発明のプラスチック成形品の製造方法の説明図である。FIG. 4 is an explanatory view of the method for producing a plastic molded product of the present invention. 図5は本発明のプラスチック成形品の製造方法の別の態様の説明図である。FIG. 5 is an explanatory view of another embodiment of the method for producing a plastic molded product of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明導電性フィルム
11 透明基材
12 透明導電層
13 薄膜積層体
14 高屈折率層
15 低屈折率層
16 防眩性ハードコート層
2 熱可塑性プラスチック成形体
3 プラスチック成形品
4 金型
41 金型空洞
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent conductive film 11 Transparent base material 12 Transparent conductive layer 13 Thin film laminated body 14 High refractive index layer 15 Low refractive index layer 16 Anti-glare hard coat layer 2 Thermoplastic plastic molded body 3 Plastic molded product 4 Mold 41 Mold cavity

Claims (7)

透明導電層を備えるプラスチック成形品の製造方法であって、
成形用金型の空洞内に、透明基材上に透明導電層と、互いの屈折率が異なる高屈折率層若しくは低屈折率層を少なくとも1層備える薄膜積層体を備える透明導電性フィルムを配置する工程と、
成形用金型の空洞内に熱可塑性プラスチック材料を射出し熱可塑性プラスチック成形体を形成する工程と、
成形用金型から透明導電性フィルムと熱可塑性プラスチック成形体の積層品であるプラスチック成形品を取り出す工程とを
備えることを特徴とするプラスチック成形品の製造方法。
A method for producing a plastic molded article comprising a transparent conductive layer,
A transparent conductive film including a transparent conductive layer and a thin film laminate including at least one high refractive index layer or low refractive index layer having different refractive indexes on a transparent base material is disposed in a cavity of a molding die. And a process of
A step of injecting a thermoplastic material into a mold cavity to form a thermoplastic molded body;
A method for producing a plastic molded product comprising the step of taking out a plastic molded product, which is a laminate of a transparent conductive film and a thermoplastic molded product, from a molding die.
前記成形用金型の空洞壁面が凹凸構造を備えており、且つ、
前記成形用金型の空洞内部に透明導電性フィルムを配置する工程が、前記成形用金型の凹凸構造を備える空洞壁面と前記透明導電性フィルムが接するように透明導電性フィルムを前記成形用金型の空洞内部に配置する工程であることを特徴とする請求項1記載のプラスチック成形品の製造方法。
The cavity wall surface of the molding die has an uneven structure, and
The step of disposing the transparent conductive film inside the cavity of the molding die is configured so that the transparent conductive film is in contact with the cavity wall surface provided with the concave-convex structure of the molding die. 2. The method for producing a plastic molded product according to claim 1, wherein the method is a step of arranging the mold inside a cavity of the mold.
請求項1または請求項2記載の製造方法により成形され、前記熱可塑性プラスチック成形体の表面に透明導電性フィルムを備えることを特徴とするプラスチック成形品。   A plastic molded article, which is molded by the production method according to claim 1 or 2, and comprises a transparent conductive film on a surface of the thermoplastic molded article. 請求項2記載の製造方法により製造されたプラスチック成形品であって、前記熱可塑性プラスチック成形体の表面に透明導電性フィルムを備え、且つ、前記熱可塑性プラスチック成形体の凹凸構造に対応して前記透明導電膜がパターニングされることを特徴とするプラスチック成形品。   A plastic molded article produced by the production method according to claim 2, comprising a transparent conductive film on a surface of the thermoplastic molded article, and corresponding to the concavo-convex structure of the thermoplastic molded article. A plastic molded product, wherein a transparent conductive film is patterned. 前記透明導電性フィルムが設けられた箇所のプラスチック成形品表面の視感平均反射率が、5%以上90%以下であることを特徴とする請求項3または請求項4記載のプラスチック成形品。   The plastic molded article according to claim 3 or 4, wherein the average visual reflectance of the surface of the plastic molded article at a location where the transparent conductive film is provided is 5% or more and 90% or less. 前記透明導電性フィルムが透明基材よりも表面側に薄膜積層体を備え、且つ、
前記透明導電性フィルムが設けられた箇所のプラスチック成形品表面の視感平均反射率が0.1%以上3%以下であることを特徴とする請求項3または請求項4記載のプラスチック成形品。
The transparent conductive film comprises a thin film laminate on the surface side of the transparent substrate, and
The plastic molded article according to claim 3 or 4, wherein a visual average reflectance of the surface of the plastic molded article at a location where the transparent conductive film is provided is 0.1% or more and 3% or less.
前記透明基材の一方の面に防眩性ハードコート層を備え、且つ、
前記透明導電性フィルムが設けられたプラスチック成形品のトータルへイズが7%以上40%以下であることを特徴とする請求項3から6のいずれかに記載のプラスチック成形品。
Provided with an antiglare hard coat layer on one surface of the transparent substrate, and
The plastic molded product according to any one of claims 3 to 6, wherein a total haze of the plastic molded product provided with the transparent conductive film is 7% or more and 40% or less.
JP2008246113A 2008-03-18 2008-09-25 Method for producing plastic molded article and plastic molded article Expired - Fee Related JP5417787B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008246113A JP5417787B2 (en) 2008-03-18 2008-09-25 Method for producing plastic molded article and plastic molded article

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008069007 2008-03-18
JP2008069007 2008-03-18
JP2008246113A JP5417787B2 (en) 2008-03-18 2008-09-25 Method for producing plastic molded article and plastic molded article

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009255503A true JP2009255503A (en) 2009-11-05
JP5417787B2 JP5417787B2 (en) 2014-02-19

Family

ID=41383562

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008246113A Expired - Fee Related JP5417787B2 (en) 2008-03-18 2008-09-25 Method for producing plastic molded article and plastic molded article

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5417787B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013008099A (en) * 2011-06-22 2013-01-10 Reiko Co Ltd Optical adjustment film, transparent conductive film using the same, transparent conductive laminate and touch panel
CN103660133A (en) * 2013-11-26 2014-03-26 东莞劲胜精密组件股份有限公司 IML (in molding label) structure and injection molding method
JP2016049748A (en) * 2014-09-02 2016-04-11 日油株式会社 Antiglare film for insert molding and resin molded article prepared therewith

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07162104A (en) * 1993-12-02 1995-06-23 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd Circuit board and its manufacture
JPH11138677A (en) * 1997-11-12 1999-05-25 Toppan Printing Co Ltd Conductive reflection preventing film and its manufacture
JP2000208983A (en) * 1999-01-08 2000-07-28 Teijin Ltd Transparent electric field wave shielding structure and manufacture thereof
JP2002270997A (en) * 2001-03-08 2002-09-20 Hitachi Ltd Method for manufacturing wiring board
JP2003151357A (en) * 2001-11-16 2003-05-23 Bridgestone Corp Transparent conducting plate, its manufacturing method and touch panel
JP2004013604A (en) * 2002-06-07 2004-01-15 Alps Electric Co Ltd Tablet and its manufacturing method
JP2004090311A (en) * 2002-08-30 2004-03-25 Nissha Printing Co Ltd Method for manufacturing photoconductive plate for front light device
JP2004152221A (en) * 2002-11-01 2004-05-27 Bridgestone Corp Manufacturing method of electrode substrate for touch panel
JP2006184849A (en) * 2004-11-30 2006-07-13 Toppan Printing Co Ltd Antireflection stack, optically functional filter, optical display device and optical article
JP2006190512A (en) * 2005-01-04 2006-07-20 Teijin Ltd Transparent conductive laminate and transparent touch panel using it
JP2007069604A (en) * 2005-08-10 2007-03-22 Toray Ind Inc Pattern forming method, pattern forming sheet and optically functional sheet formed using it
JP2007206146A (en) * 2006-01-31 2007-08-16 Toppan Printing Co Ltd Antireflection film, method of manufacturing the same and display equipped with the antireflection film

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07162104A (en) * 1993-12-02 1995-06-23 Sankyo Seiki Mfg Co Ltd Circuit board and its manufacture
JPH11138677A (en) * 1997-11-12 1999-05-25 Toppan Printing Co Ltd Conductive reflection preventing film and its manufacture
JP2000208983A (en) * 1999-01-08 2000-07-28 Teijin Ltd Transparent electric field wave shielding structure and manufacture thereof
JP2002270997A (en) * 2001-03-08 2002-09-20 Hitachi Ltd Method for manufacturing wiring board
JP2003151357A (en) * 2001-11-16 2003-05-23 Bridgestone Corp Transparent conducting plate, its manufacturing method and touch panel
JP2004013604A (en) * 2002-06-07 2004-01-15 Alps Electric Co Ltd Tablet and its manufacturing method
JP2004090311A (en) * 2002-08-30 2004-03-25 Nissha Printing Co Ltd Method for manufacturing photoconductive plate for front light device
JP2004152221A (en) * 2002-11-01 2004-05-27 Bridgestone Corp Manufacturing method of electrode substrate for touch panel
JP2006184849A (en) * 2004-11-30 2006-07-13 Toppan Printing Co Ltd Antireflection stack, optically functional filter, optical display device and optical article
JP2006190512A (en) * 2005-01-04 2006-07-20 Teijin Ltd Transparent conductive laminate and transparent touch panel using it
JP2007069604A (en) * 2005-08-10 2007-03-22 Toray Ind Inc Pattern forming method, pattern forming sheet and optically functional sheet formed using it
JP2007206146A (en) * 2006-01-31 2007-08-16 Toppan Printing Co Ltd Antireflection film, method of manufacturing the same and display equipped with the antireflection film

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013008099A (en) * 2011-06-22 2013-01-10 Reiko Co Ltd Optical adjustment film, transparent conductive film using the same, transparent conductive laminate and touch panel
CN103660133A (en) * 2013-11-26 2014-03-26 东莞劲胜精密组件股份有限公司 IML (in molding label) structure and injection molding method
JP2016049748A (en) * 2014-09-02 2016-04-11 日油株式会社 Antiglare film for insert molding and resin molded article prepared therewith

Also Published As

Publication number Publication date
JP5417787B2 (en) 2014-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5151234B2 (en) Decorative molded products
US11137521B2 (en) Antireflective film-attached transparent substrate, and display apparatus using same
TWI545591B (en) Transparent conductive film and touch panel
TWI486973B (en) Transparent conductive multilayered film, producing method of the same, and touch panel containing the same
TWI531939B (en) Touch panels
JP2006184849A (en) Antireflection stack, optically functional filter, optical display device and optical article
CN105210137A (en) Display device with capacitive touch panel
KR20180116566A (en) Lamination system
JP5417787B2 (en) Method for producing plastic molded article and plastic molded article
JP6186805B2 (en) Touch panel
JP5262039B2 (en) Optical thin film laminate
JP2009078436A (en) Two-color molding and its manufacturing method
KR20150086205A (en) Barrier film and method for preparing the same
JP2004361662A (en) Conductive transparent layered body
JP5293448B2 (en) Decorative housing, decorative film, and electronic equipment
KR101565855B1 (en) Transparent conductive optical sheet having high invisibility of pattern
KR20190049277A (en) Optical antireflection film and manufacturing method of the same
TW202229929A (en) Optical laminate and article
KR20180064958A (en) Cover glass with color coating
TW201336092A (en) Optical member
TW202120324A (en) Laminate and article
JP2008307880A (en) Two-color molded article and manufacturing method thereof
KR101606172B1 (en) Substrate for display unit
US20230229037A1 (en) Anti-reflective film-attached transparent substrate and image display device
CN220381558U (en) Electronic equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110825

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130402

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130527

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131022

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131104

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5417787

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees