JP2009250635A - X-ray inspection device - Google Patents

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拓右 久保
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an X-ray inspection device capable of properly dealing with the lowering problem of a detection capacity caused by polarization without stopping the operation of a production line on the assumption that a direct conversion type X-ray sensor is used. <P>SOLUTION: The X-ray inspection device 1 includes an X-ray irradiation part 7, an X-ray detection part 8 having the X-ray sensor of a type which directly converts X rays to an electric signal, a belt conveyor 6 for feeding an article 12 so that the article 12 passes through the X-ray irradiation region 100 between the X-ray irradiation part 7 and the X-ray detection part 8 and a control part 60 for controlling the bias voltage applied to the X-ray sensor. The X-ray detection part 8 has the X-ray line sensor 8A arranged on the feed route of the article 12 and the X-ray line sensor 8B arranged in parallel to the X-ray line sensor 8A on the downstream side of the X-ray line sensor 8A. The control part 60 can independently apply bias voltage to the X-ray line sensors 8A and 8B. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、X線検査装置に関する。   The present invention relates to an X-ray inspection apparatus.

従来より、食品業界においては、食品への異物混入の有無を検査するためのX線検査装置に用いられるX線センサとして、間接変換方式のX線センサが広く使用されてきた。間接変換方式のX線センサでは、検査対象物を透過してきたX線はシンチレータによって可視光に変換され、シンチレータから発せられた可視光はフォトダイオードによって電気信号に変換される。   Conventionally, in the food industry, indirect conversion type X-ray sensors have been widely used as X-ray sensors used in X-ray inspection apparatuses for inspecting the presence or absence of foreign matters in food. In an indirect conversion type X-ray sensor, X-rays that have passed through an inspection object are converted into visible light by a scintillator, and visible light emitted from the scintillator is converted into an electrical signal by a photodiode.

ところが、間接変換方式のX線センサでは、シンチレータ内部での光の散乱等に起因して空間分解能が低下するため、異物の検出性能が低いという欠点があった。その一方で、食品の安全に対する消費者の要求により、食品向けのX線検査装置においても高い検出性能が求められるようになってきた。間接変換方式のX線センサにおいても、照射するX線量を多くすることで、検出性能を高めることは可能である。しかしながら、照射X線量を多くすると、シンチレータを透過してフォトダイオードに照射されるX線量も増大する。その結果、フォトダイオードの耐久性が低下し、部品交換の頻度が高くなるため、ユーザの経済的負担が大きくなってしまう。   However, the indirect conversion type X-ray sensor has a drawback in that the foreign matter detection performance is low because the spatial resolution is reduced due to scattering of light inside the scintillator. On the other hand, due to consumer demands for food safety, high detection performance has been required even for food X-ray inspection apparatuses. Even in an indirect conversion type X-ray sensor, it is possible to increase detection performance by increasing the X-ray dose. However, when the irradiation X-ray dose is increased, the X-ray dose that passes through the scintillator and is applied to the photodiode also increases. As a result, the durability of the photodiode is lowered and the frequency of parts replacement is increased, which increases the user's economic burden.

このような事情から、食品業界においても今後は、間接変換方式ではなく直接変換方式のX線センサの実用化が期待されている。直接変換方式のX線センサは、現在では主に医療分野でCT装置等に使用されており、テルル化カドミウム(CdTe)を用いた半導体センサ(CdTeセンサ)が知られている。例えば下記特許文献1に、CdTeセンサを用いたCT装置の一例が開示されている。直接変換方式のX線センサは、シンチレータを備えておらず、検査対象物を透過してきたX線は、直接的に電気信号に変換される。直接変換方式のX線センサは、シンチレータによる光の散乱の影響がないために空間分解能が高く、しかもX線の変換効率も高いため、間接変換方式のX線センサと比べて、少ない照射X線量で高精細な画像を得ることができる。そのため、照射X線量を抑えることができるため、X線の照射に起因する半導体センサの耐久性の低下も抑制できる。   Under such circumstances, the food industry is expected to put the X-ray sensor of the direct conversion method into practical use instead of the indirect conversion method. The direct conversion type X-ray sensor is currently used mainly for CT apparatus in the medical field, and a semiconductor sensor (CdTe sensor) using cadmium telluride (CdTe) is known. For example, Patent Document 1 below discloses an example of a CT apparatus using a CdTe sensor. The direct conversion type X-ray sensor does not include a scintillator, and the X-ray transmitted through the inspection object is directly converted into an electric signal. The direct conversion type X-ray sensor has a high spatial resolution because it is not affected by light scattering by the scintillator, and also has a high X-ray conversion efficiency. Therefore, compared with the indirect conversion type X-ray sensor, the irradiation X-ray dose is small. High-definition images can be obtained. Therefore, since the irradiation X-ray dose can be suppressed, it is possible to suppress a decrease in durability of the semiconductor sensor due to the X-ray irradiation.

特開2003−294844号公報JP 2003-294844 A

上記のように食品業界においても直接変換方式のX線センサの実用化が期待されているが、食品業界で直接変換方式のX線センサを使用する場合、特有の問題がある。つまり、食品業界では、医療分野のCT装置等とは異なり、X線検査装置が長時間連続して使用されるという事情がある。食品工場によっては終日稼働される製造ラインもあり、そのような製造ラインに組み込まれたX線検査装置は、必然的に終日稼働されることになる。   As described above, the direct conversion type X-ray sensor is expected to be put into practical use also in the food industry, but there is a particular problem when the direct conversion type X-ray sensor is used in the food industry. In other words, in the food industry, unlike CT apparatuses in the medical field, there is a situation in which X-ray inspection apparatuses are used continuously for a long time. Some food factories have a production line that operates all day, and an X-ray inspection apparatus incorporated in such a production line inevitably operates all day.

直接変換方式のX線センサが連続して長時間使用されると、分極(ポラリゼーション)の影響が大きくなる。分極が生じると、X線センサの感度が低下し、その結果、X線検査装置の検出性能も低下する。従って、食品業界において直接変換方式のX線センサを使用する場合には、製造ラインの連続稼働を維持しつつも、分極に起因する検出性能の低下の問題に適切に対処する必要がある。   When the direct conversion type X-ray sensor is continuously used for a long time, the influence of polarization (polarization) becomes large. When polarization occurs, the sensitivity of the X-ray sensor decreases, and as a result, the detection performance of the X-ray inspection apparatus also decreases. Therefore, when a direct conversion type X-ray sensor is used in the food industry, it is necessary to appropriately cope with the problem of deterioration in detection performance due to polarization while maintaining continuous operation of the production line.

本発明はかかる事情に鑑みて成されたものであり、直接変換方式のX線センサの使用を前提として、製造ラインの稼働を停止させることなく、分極に起因する検出性能の低下の問題に適切に対処し得る、X線検査装置を得ることを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and is suitable for the problem of deterioration in detection performance due to polarization without stopping the operation of the production line on the premise of using a direct conversion type X-ray sensor. An object is to obtain an X-ray inspection apparatus capable of coping with the above.

第1の発明に係るX線検査装置は、検査対象である物品にX線を照射し、前記物品を透過してきたX線を検出することにより、前記物品に対する検査を実行するX線検査装置であって、X線照射部と、X線を直接的に電気信号に変換するタイプのX線センサを有するX線検出部と、前記物品が前記X線照射部と前記X線検出部との間のX線照射領域を通過するように、前記物品を搬送する搬送部と、前記X線センサへ印加するバイアス電圧を制御する制御部とを備え、前記X線検出部は、前記物品の搬送経路上に配設された第1のX線センサと、前記第1のX線センサよりも下流側で前記第1のX線センサに隣接して配設された第2のX線センサとを有し、前記制御部は、前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサに対して、バイアス電圧を独立に印加可能であることを特徴とする。   An X-ray inspection apparatus according to a first aspect of the present invention is an X-ray inspection apparatus that inspects an article by irradiating the article to be inspected with X-rays and detecting the X-ray transmitted through the article. An X-ray irradiation unit, an X-ray detection unit having an X-ray sensor of a type that directly converts X-rays into an electrical signal, and the article between the X-ray irradiation unit and the X-ray detection unit A transport unit that transports the article so as to pass through the X-ray irradiation region, and a control unit that controls a bias voltage applied to the X-ray sensor, wherein the X-ray detection unit includes a transport path of the article A first X-ray sensor disposed above, and a second X-ray sensor disposed adjacent to the first X-ray sensor on the downstream side of the first X-ray sensor. And the control unit biases the first X-ray sensor and the second X-ray sensor. Characterized in that it is capable of applying pressure independently.

第2の発明に係るX線検査装置は、第1の発明に係るX線検査装置において特に、前記制御部は、前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサに対して、交互にバイアス電圧を印加することを特徴とする。   The X-ray inspection apparatus according to a second aspect of the invention is the X-ray inspection apparatus according to the first aspect of the invention, and in particular, the control unit alternates with respect to the first X-ray sensor and the second X-ray sensor. A bias voltage is applied to the capacitor.

第3の発明に係るX線検査装置は、第2の発明に係るX線検査装置において特に、前記制御部は、バイアス電圧の印加先を前記第2のX線センサから前記第1のX線センサに切り換える際、前記第1のX線センサに対してバイアス電圧の印加を開始してから所定時間が経過するまで、前記第2のX線センサに対してバイアス電圧を継続して印加することを特徴とする。   The X-ray inspection apparatus according to a third aspect of the invention is the X-ray inspection apparatus according to the second aspect of the invention. In particular, the control unit applies a bias voltage application destination from the second X-ray sensor to the first X-ray. When switching to the sensor, the bias voltage is continuously applied to the second X-ray sensor until a predetermined time elapses after the application of the bias voltage to the first X-ray sensor is started. It is characterized by.

第4の発明に係るX線検査装置は、第2又は第3の発明に係るX線検査装置において特に、前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサからそれぞれ出力されたデータを記憶する記憶部をさらに備えることを特徴とする。   The X-ray inspection apparatus according to the fourth invention is the X-ray inspection apparatus according to the second or third invention, in particular, the data output from the first X-ray sensor and the second X-ray sensor, respectively. It further comprises a storage unit for storing.

第5の発明に係るX線検査装置は、第1の発明に係るX線検査装置において特に、前記X線検出部は、前記第2のX線センサよりも下流側で前記第2のX線センサに隣接して配設された第3のX線センサをさらに有し、前記制御部は、前記第1のX線センサ、前記第2のX線センサ、及び前記第3のX線センサに対して、バイアス電圧を独立に印加可能であることを特徴とする。   The X-ray inspection apparatus according to a fifth aspect of the invention is the X-ray inspection apparatus according to the first aspect of the invention, in particular, the X-ray detector is the second X-ray on the downstream side of the second X-ray sensor. And a third X-ray sensor disposed adjacent to the sensor, wherein the control unit includes the first X-ray sensor, the second X-ray sensor, and the third X-ray sensor. On the other hand, the bias voltage can be applied independently.

第6の発明に係るX線検査装置は、第5の発明に係るX線検査装置において特に、前記制御部は、前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサに対して、交互にバイアス電圧を印加し、前記第3のX線センサに対して、前記第1のX線センサと共通にバイアス電圧を印加することを特徴とする。   The X-ray inspection apparatus according to a sixth aspect of the invention is the X-ray inspection apparatus according to the fifth aspect of the invention, in particular, the control unit alternately with respect to the first X-ray sensor and the second X-ray sensor. A bias voltage is applied to the third X-ray sensor, and a bias voltage is applied to the third X-ray sensor in common with the first X-ray sensor.

第7の発明に係るX線検査装置は、第5の発明に係るX線検査装置において特に、前記制御部は、前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサに対して、交互にバイアス電圧を印加し、バイアス電圧の印加先を前記第2のX線センサから前記第1のX線センサに切り換える際、少なくとも、前記第1のX線センサに対してバイアス電圧の印加を開始してから所定時間が経過するまで、前記第3のX線センサに対してバイアス電圧を印加することを特徴とする。   The X-ray inspection apparatus according to a seventh aspect of the invention is the X-ray inspection apparatus according to the fifth aspect of the invention, in particular, the control unit alternately with respect to the first X-ray sensor and the second X-ray sensor. When a bias voltage is applied to the first X-ray sensor, the bias voltage is applied to at least the first X-ray sensor when the application destination of the bias voltage is switched from the second X-ray sensor to the first X-ray sensor. Then, a bias voltage is applied to the third X-ray sensor until a predetermined time elapses.

第8の発明に係るX線検査装置は、第5〜第7のいずれか一つの発明に係るX線検査装置において特に、前記第1のX線センサ、前記第2のX線センサ、及び前記第3のX線センサからそれぞれ出力されたデータを記憶する記憶部をさらに備えることを特徴とする。   An X-ray inspection apparatus according to an eighth invention is the X-ray inspection apparatus according to any one of the fifth to seventh inventions, in particular, the first X-ray sensor, the second X-ray sensor, and the A storage unit is further provided for storing data respectively output from the third X-ray sensor.

第1〜第8の発明に係るX線検査装置によれば、X線センサへのバイアス電圧の印加を停止することにより、それまでの連続使用によってX線センサに分極が生じていたとしても、X線センサの特性を初期特性に回復させることができる。また、複数のX線センサの各々に対してバイアス電圧を独立に印加可能であるため、バイアス印加の停止期間が重複しないようにタイミングを制御することにより、バイアス印加の停止動作は、製造ラインを停止させることなく実行可能となる。そのため、X線検査装置がボトルネックとなって製造ライン全体の稼働が停止するという事態の発生を回避できる。   According to the X-ray inspection apparatus according to the first to eighth inventions, even if polarization has occurred in the X-ray sensor by continuous use until then, by stopping the application of the bias voltage to the X-ray sensor, The characteristics of the X-ray sensor can be restored to the initial characteristics. In addition, since a bias voltage can be independently applied to each of a plurality of X-ray sensors, the bias application stop operation is performed by controlling the timing so that the bias application stop period does not overlap. It can be executed without stopping. Therefore, it is possible to avoid the occurrence of a situation where the operation of the entire production line is stopped due to the X-ray inspection apparatus becoming a bottleneck.

特に第2の発明に係るX線検査装置によれば、第1及び第2のX線センサに対して交互にバイアス電圧を印加することにより、バイアス印加の停止期間が重複することを回避できる。   In particular, according to the X-ray inspection apparatus according to the second invention, it is possible to avoid overlapping bias application stop periods by alternately applying a bias voltage to the first and second X-ray sensors.

特に第3の発明に係るX線検査装置によれば、バイアス電圧の印加先を下流側の第2のX線センサから上流側の第1のX線センサに切り換える際、第1のX線センサに対してバイアス電圧の印加を開始してから所定時間が経過するまで、第2のX線センサに対してバイアス電圧を継続して印加する。これにより、物品に未検査の領域が発生することを回避できる。   In particular, according to the X-ray inspection apparatus according to the third aspect of the invention, when the bias voltage application destination is switched from the downstream second X-ray sensor to the upstream first X-ray sensor, the first X-ray sensor is used. The bias voltage is continuously applied to the second X-ray sensor until a predetermined time elapses after the application of the bias voltage is started. Thereby, it is possible to avoid the occurrence of an uninspected area in the article.

特に第4の発明に係るX線検査装置によれば、第1及び第2のX線センサの各出力データを記憶部に一時的に記憶することによって、記憶部からのデータ出力の際に、第1のX線センサの出力データと第2のX線センサの出力データとの同期をとることが可能となり、これらの出力データに基づく画像の作成が容易となる。   In particular, according to the X-ray inspection apparatus according to the fourth invention, by temporarily storing each output data of the first and second X-ray sensors in the storage unit, at the time of data output from the storage unit, It becomes possible to synchronize the output data of the first X-ray sensor and the output data of the second X-ray sensor, and it becomes easy to create an image based on these output data.

特に第5の発明に係るX線検査装置によれば、X線センサを3個(又は3組)備えることで、2個(又は2組)の場合と比較して、バイアス印加の停止期間を重複させないタイミング制御のバリエーションを広げることができる。   In particular, according to the X-ray inspection apparatus according to the fifth aspect of the invention, by providing three (or three sets) of X-ray sensors, the bias application stop period can be reduced compared to the case of two (or two sets). Variations in timing control that do not overlap can be expanded.

特に第6の発明に係るX線検査装置によれば、最上流の第1のX線センサと中央の第2のX線センサとに対して交互にバイアス電圧が印加され、最下流の第3のX線センサに対しては、第1のX線センサと共通にバイアス電圧が印加される。これにより、物品に未検査の領域が発生することを回避できる。   In particular, according to the X-ray inspection apparatus of the sixth invention, a bias voltage is alternately applied to the most upstream first X-ray sensor and the central second X-ray sensor, and the most downstream third X-ray sensor is applied. A bias voltage is applied to the X-ray sensor in common with the first X-ray sensor. Thereby, it is possible to avoid the occurrence of an uninspected area in the article.

特に第7の発明に係るX線検査装置によれば、最上流の第1のX線センサと中央の第2のX線センサとに対して、交互にバイアス電圧が印加される。また、バイアス電圧の印加先を第2のX線センサから第1のX線センサに切り換える際、少なくとも、第1のX線センサに対してバイアス電圧の印加を開始してから所定時間が経過するまで、最下流の第3のX線センサに対してバイアス電圧が印加される。これにより、物品に未検査の領域が発生することを回避できる。   In particular, according to the X-ray inspection apparatus according to the seventh aspect of the invention, the bias voltage is alternately applied to the uppermost first X-ray sensor and the center second X-ray sensor. Further, when switching the application destination of the bias voltage from the second X-ray sensor to the first X-ray sensor, at least a predetermined time elapses after the application of the bias voltage to the first X-ray sensor is started. Until the most downstream third X-ray sensor is applied. Thereby, it is possible to avoid the occurrence of an uninspected area in the article.

特に第8の発明に係るX線検査装置によれば、第1〜第3のX線センサの各出力データを記憶部に一時的に記憶することによって、記憶部からのデータ出力の際に、第1〜第3のX線センサの各出力データの同期をとることが可能となり、これらの出力データに基づく画像の作成が容易となる。   In particular, according to the X-ray inspection apparatus according to the eighth invention, by temporarily storing each output data of the first to third X-ray sensors in the storage unit, at the time of data output from the storage unit, It is possible to synchronize the output data of the first to third X-ray sensors, and it becomes easy to create an image based on these output data.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、異なる図面において同一の符号を付した要素は、同一又は相応する要素を示すものとする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the element which attached | subjected the same code | symbol in different drawing shall show the same or corresponding element.

図1は、本発明に係るX線検査装置1の全体構成を模式的に示す正面図である。図1に示すように、X線検査装置1は、上部筐体2、シールドボックス3、及び下部筐体4を備えている。上部筐体2には、タッチパネル機能付きのモニタ、つまり表示・入力部5が設けられている。   FIG. 1 is a front view schematically showing the overall configuration of an X-ray inspection apparatus 1 according to the present invention. As shown in FIG. 1, the X-ray inspection apparatus 1 includes an upper housing 2, a shield box 3, and a lower housing 4. The upper housing 2 is provided with a monitor with a touch panel function, that is, a display / input unit 5.

シールドボックス3は、X線が外部に漏洩することを防止する機能を有する。シールドボックス3内には、X線照射部7とX線検出部8とが配設されている。X線照射部7は、検査対象物である食品等の物品12に対してX線を照射する。X線検出部8は、X線照射部7から照射されて物品12を透過してきたX線を検出する。物品12内に異物が混入していると、その異物の混入箇所において、X線検出部8が検出するX線の強度が極端に低下する。これにより、異物の大きさや混入箇所を特定することができる。   The shield box 3 has a function of preventing X-rays from leaking to the outside. An X-ray irradiation unit 7 and an X-ray detection unit 8 are disposed in the shield box 3. The X-ray irradiation unit 7 irradiates the article 12 such as food that is the inspection target with X-rays. The X-ray detection unit 8 detects X-rays that have been irradiated from the X-ray irradiation unit 7 and transmitted through the article 12. If foreign matter is mixed in the article 12, the intensity of X-rays detected by the X-ray detection unit 8 is extremely reduced at the portion where the foreign matter is mixed. Thereby, the magnitude | size and mixing location of a foreign material can be specified.

また、シールドボックス3内には、ベルトコンベア6が配設されている。ベルトコンベア6は、物品12がX線照射部7とX線検出部8との間のX線照射領域100(図2参照)を通過するように、矢印Hで示す搬送方向に物品12を搬送する。ベルトコンベア6の上流端部(即ち物品搬入口17付近のシールドボックス3の外部)には、X線検査装置1の上流の処理装置からX線検査装置1に物品12が供給されたことを検知するためのフォトセンサ15が設けられている。つまり、フォトセンサ15は、物品12がベルトコンベア6の上流端に到達したことを検出することができる。シールドボックス3には、ベルトコンベア6の上流端近傍に物品搬入口17が、下流端近傍に物品搬出口18が、それぞれ設けられている。   A belt conveyor 6 is disposed in the shield box 3. The belt conveyor 6 conveys the article 12 in the conveyance direction indicated by the arrow H so that the article 12 passes through the X-ray irradiation region 100 (see FIG. 2) between the X-ray irradiation unit 7 and the X-ray detection unit 8. To do. It is detected that the article 12 is supplied to the X-ray inspection apparatus 1 from the processing apparatus upstream of the X-ray inspection apparatus 1 at the upstream end of the belt conveyor 6 (that is, outside the shield box 3 near the article carry-in entrance 17). A photo sensor 15 is provided. That is, the photo sensor 15 can detect that the article 12 has reached the upstream end of the belt conveyor 6. The shield box 3 is provided with an article carry-in port 17 near the upstream end of the belt conveyor 6 and an article carry-out port 18 near the downstream end.

下部筐体4内には、X線検査装置1の動作制御やデータ処理を行うためのコンピュータ9が配設されている。   A computer 9 for performing operation control and data processing of the X-ray inspection apparatus 1 is disposed in the lower housing 4.

ベルトコンベア6の上流側には、物品12を上流の処理装置からX線検査装置1に搬入するためのベルトコンベア10が設けられている。ベルトコンベア6の下流側には、検査後の物品12をX線検査装置1から搬出するためのベルトコンベア11が設けられている。ベルトコンベア11には、X線検査装置1による検査の結果に基づいて良品と不良品とを振り分けるための任意の振分機構20が配設されている。   On the upstream side of the belt conveyor 6, a belt conveyor 10 for carrying the article 12 from the upstream processing apparatus to the X-ray inspection apparatus 1 is provided. A belt conveyor 11 for carrying out the inspected article 12 from the X-ray inspection apparatus 1 is provided on the downstream side of the belt conveyor 6. The belt conveyor 11 is provided with an arbitrary sorting mechanism 20 for sorting non-defective products and defective products based on the result of inspection by the X-ray inspection apparatus 1.

図2は、図1に示したシールドボックス3の内部構成を示す斜視図である。ベルトコンベア6の上方には、X線照射部7としてのX線照射器(以下「X線照射器7」とも称す)が配設されている。ベルトコンベア6の下方には、X線検出部8が配設されている。図2においてX線照射領域100として示すように、X線照射器7は、X線検出部8に向かって、扇形状にX線を照射する。   FIG. 2 is a perspective view showing an internal configuration of the shield box 3 shown in FIG. An X-ray irradiator (hereinafter also referred to as “X-ray irradiator 7”) as an X-ray irradiator 7 is disposed above the belt conveyor 6. Below the belt conveyor 6, an X-ray detector 8 is disposed. As shown as an X-ray irradiation region 100 in FIG. 2, the X-ray irradiator 7 emits X-rays in a fan shape toward the X-ray detector 8.

実施の形態1.
図3は、図2に示したX線検出部8の構成の第1の例を示す斜視図であり、図4は、図2に示したX線検出部8の構成の第2の例を示す斜視図である。本実施の形態1では、X線検出部8が2本のX線ラインセンサ8A,8Bを備えて構成されている例について説明する。
Embodiment 1 FIG.
FIG. 3 is a perspective view showing a first example of the configuration of the X-ray detection unit 8 shown in FIG. 2, and FIG. 4 shows a second example of the configuration of the X-ray detection unit 8 shown in FIG. It is a perspective view shown. In the first embodiment, an example in which the X-ray detection unit 8 is configured to include two X-ray line sensors 8A and 8B will be described.

図3,4を参照して、矢印Hで示す物品の搬送経路上(厳密には搬送経路の下方)にX線ラインセンサ8Aが配設されており、また、X線ラインセンサ8Aよりも下流側でX線ラインセンサ8Aに隣接して、X線ラインセンサ8Bが配設されている。具体的に、X線ラインセンサ8Bは、X線ラインセンサ8Aに平行に配設されている。図3に示した例では、X線ラインセンサ8A,8Bは別体のX線変換膜41A,41Bをそれぞれ備えており、図4に示した例では、X線ラインセンサ8A,8Bは一体のX線変換膜41を共通して備えている。   Referring to FIGS. 3 and 4, an X-ray line sensor 8A is disposed on the article conveyance path indicated by arrow H (strictly below the conveyance path), and downstream of X-ray line sensor 8A. An X-ray line sensor 8B is disposed adjacent to the X-ray line sensor 8A on the side. Specifically, the X-ray line sensor 8B is disposed in parallel to the X-ray line sensor 8A. In the example shown in FIG. 3, the X-ray line sensors 8A and 8B are provided with separate X-ray conversion films 41A and 41B, respectively. In the example shown in FIG. 4, the X-ray line sensors 8A and 8B are integrated. An X-ray conversion film 41 is provided in common.

図3,4を参照して、X線ラインセンサ8A,8Bは、直線状に並設された複数のX線検出素子をそれぞれ備えている。各X線ラインセンサ8A,8Bにおいて、複数のX線検出素子は、ベルトコンベア6の物品載置面の放線方向(Z軸方向)と、ベルトコンベア6による物品12の搬送方向(Y軸方向)とに直交する方向(X軸方向)に沿って並設されている。   3 and 4, X-ray line sensors 8A and 8B each include a plurality of X-ray detection elements arranged in a straight line. In each X-ray line sensor 8 </ b> A, 8 </ b> B, the plurality of X-ray detection elements are the radial direction (Z-axis direction) of the article placement surface of the belt conveyor 6 and the conveyance direction (Y-axis direction) of the article 12 by the belt conveyor 6. Are arranged side by side along a direction (X-axis direction) orthogonal to.

X線ラインセンサ8Aは、複数のX線検出素子に共通するバイアス電極40Aと、各X線検出素子毎に設けられた画素電極42Aとを備えている。同様に、X線ラインセンサ8Bは、複数のX線検出素子に共通するバイアス電極40Bと、各X線検出素子毎に設けられた画素電極42Bとを備えている。図4に示した例では、X線変換膜41上に全面的に形成した金属等の導電膜をフォトリソグラフィ技術等を用いてパターニングすることによって、電気的及び物理的に互いに分離されたバイアス電極40A,40Bを形成することができる。   The X-ray line sensor 8A includes a bias electrode 40A common to a plurality of X-ray detection elements and a pixel electrode 42A provided for each X-ray detection element. Similarly, the X-ray line sensor 8B includes a bias electrode 40B common to a plurality of X-ray detection elements and a pixel electrode 42B provided for each X-ray detection element. In the example shown in FIG. 4, bias electrodes which are electrically and physically separated from each other by patterning a conductive film such as metal formed on the entire surface of the X-ray conversion film 41 using a photolithography technique or the like. 40A and 40B can be formed.

X線ラインセンサ8A,8Bは直接変換方式のX線センサであり、X線変換膜(41,41A,41B)は例えばCdTe又はCdZnTeによって構成されている。各X線検出素子は、バイアス電極を通過してX線変換膜に照射されたX線を、X線変換膜によって直接的に電気信号に変換する。直接変換方式のX線センサでは、バイアス電圧が印加されたX線変換膜にX線が照射されると、照射されたX線量に応じてX線変換膜内に電荷(電子−正孔対)が励起され、電流が流れる。その電流値が電流/電圧変換回路によって電圧値に変換されて、データとして出力される。   The X-ray line sensors 8A and 8B are direct conversion type X-ray sensors, and the X-ray conversion films (41, 41A, 41B) are made of, for example, CdTe or CdZnTe. Each X-ray detection element directly converts X-rays that have passed through the bias electrode and applied to the X-ray conversion film into an electrical signal by the X-ray conversion film. In a direct conversion type X-ray sensor, when an X-ray conversion film to which a bias voltage is applied is irradiated with X-rays, charges (electron-hole pairs) are generated in the X-ray conversion film according to the irradiated X-ray dose. Is excited and a current flows. The current value is converted into a voltage value by a current / voltage conversion circuit and output as data.

図5は、X線ラインセンサ8A,8Bへのバイアス印加回路を示す回路図である。電源30は、X線ラインセンサ8A,8Bのバイアス電極40A,40Bに印加すべきバイアス電圧を供給する。電源30とX線ラインセンサ8Aとの間には、トランジスタ又は半導体リレー等から成るスイッチ31Aが接続されている。スイッチ31AがONされている場合には、電源30からX線ラインセンサ8Aにバイアス電圧が印加され、一方、スイッチ31AがOFFされている場合には、電源30からX線ラインセンサ8Aにバイアス電圧は印加されない。同様に、電源30とX線ラインセンサ8Bとの間にはスイッチ31Bが接続されており、スイッチ31BのON/OFFによって、電源30からX線ラインセンサ8Bへのバイアス電圧の印加の有無を制御できる。   FIG. 5 is a circuit diagram showing a bias application circuit to the X-ray line sensors 8A and 8B. The power supply 30 supplies a bias voltage to be applied to the bias electrodes 40A and 40B of the X-ray line sensors 8A and 8B. A switch 31A composed of a transistor or a semiconductor relay is connected between the power supply 30 and the X-ray line sensor 8A. When the switch 31A is ON, a bias voltage is applied from the power source 30 to the X-ray line sensor 8A. On the other hand, when the switch 31A is OFF, the bias voltage is applied from the power source 30 to the X-ray line sensor 8A. Is not applied. Similarly, a switch 31B is connected between the power supply 30 and the X-ray line sensor 8B, and whether or not a bias voltage is applied from the power supply 30 to the X-ray line sensor 8B is controlled by turning on / off the switch 31B. it can.

X線ラインセンサ8A,8Bには、電流/電圧変換回路8AA,8BBがそれぞれ接続されている。電流/電圧変換回路8AA,8BBは、X線ラインセンサ8A,8Bを流れた電流値を電圧値に変更して、データ(電圧信号)としてそれぞれ出力する。   Current / voltage conversion circuits 8AA and 8BB are connected to the X-ray line sensors 8A and 8B, respectively. The current / voltage conversion circuits 8AA and 8BB change the current values flowing through the X-ray line sensors 8A and 8B to voltage values and output the data (voltage signals), respectively.

電流/電圧変換回路8AA,8BBから出力されたデータは、記憶部としてのメモリ35A,35Bにそれぞれ入力される。メモリ35A,35Bは、例えばレジスタ又はRAMによって構成されており、電流/電圧変換回路8AA,8BBからそれぞれ入力したデータを一時的に保持可能である。メモリ35A,35Bから出力されたデータはコンピュータ9に入力され、コンピュータ9によって物品12の画像が作成される。   Data output from the current / voltage conversion circuits 8AA and 8BB is input to memories 35A and 35B as storage units, respectively. The memories 35A and 35B are configured by, for example, a register or a RAM, and can temporarily hold data input from the current / voltage conversion circuits 8AA and 8BB, respectively. Data output from the memories 35A and 35B is input to the computer 9, and an image of the article 12 is created by the computer 9.

図6は、本実施の形態1に係るX線検査装置1の機能構成を示すブロック図である。コンピュータ9は、CPU51と、CPU51によって参照可能な、RAM又はROM等のメモリ52とを備えている。コンピュータ9には、X線照射器7、メモリ35A,35B、表示・入力部5、フォトセンサ15、スイッチ31A,31B、及び振分機構20が接続されている。メモリ35A,35Bには、電流/電圧変換回路8AA,8BBがそれぞれ接続されている。   FIG. 6 is a block diagram showing a functional configuration of the X-ray inspection apparatus 1 according to the first embodiment. The computer 9 includes a CPU 51 and a memory 52 such as a RAM or a ROM that can be referred to by the CPU 51. An X-ray irradiator 7, memories 35 </ b> A and 35 </ b> B, a display / input unit 5, a photo sensor 15, switches 31 </ b> A and 31 </ b> B, and a distribution mechanism 20 are connected to the computer 9. Current / voltage conversion circuits 8AA and 8BB are connected to the memories 35A and 35B, respectively.

ところで、直接変換方式のX線センサでは、バイアス電圧を連続して印加し続けることにより、分極が生じてX線センサの感度が低下することが知られている。以下では、分極が感度に及ぼす影響が顕著となる臨界の連続印加時間を限界時間Tmaxと称する。つまり、限界時間Tmax以上の時間、連続してX線ラインセンサ8A,8Bにバイアス電圧を印加し続けることにより、分極の影響が大きくなってX線センサの感度が低下する。但し、現実的には限界時間Tmaxとして明確な臨界値が存在するわけではなく、X線検査装置又はX線センサの開発段階での実験又はシミュレーション等によって、X線センサの感度が低下し始めた時点(又は低下し始める直前の時点)での連続印加時間の値が、限界時間Tmaxとして設定される。   By the way, in the direct conversion type X-ray sensor, it is known that when a bias voltage is continuously applied, polarization occurs and the sensitivity of the X-ray sensor decreases. Hereinafter, a critical continuous application time in which the influence of polarization on sensitivity is significant is referred to as a limit time Tmax. That is, by continuously applying the bias voltage to the X-ray line sensors 8A and 8B for a time equal to or longer than the limit time Tmax, the influence of polarization increases and the sensitivity of the X-ray sensor decreases. However, in reality, there is no clear critical value as the limit time Tmax, and the sensitivity of the X-ray sensor has started to decrease due to experiments or simulations at the development stage of the X-ray inspection apparatus or X-ray sensor. The value of the continuous application time at the time point (or the time point immediately before starting to decrease) is set as the limit time Tmax.

製造ラインの稼働にあたって、物品12がX線検査装置1に供給されない休止期間が頻繁に存在すれば、各休止期間内にX線ラインセンサ8A,8Bへのバイアス電圧の印加を停止することにより、X線ラインセンサ8A,8Bを分極状態から回復させることができる。しかし、食品工場によっては終日連続稼働される製造ラインもあり、そのような製造ラインに組み込まれたX線検査装置1では、休止期間が存在しないため、分極状態からの回復動作を行うことができない。そこで、本実施の形態1に係るX線検査装置1では、X線ラインセンサ8A,8Bに対してバイアス電圧を独立に印加可能とし、一方のX線ラインセンサによってX線の検出動作を実行しつつ、他方のX線ラインセンサに関して分極状態からの回復動作を実行する。以下、具体的に説明する。   In operation of the production line, if there are frequent rest periods in which the article 12 is not supplied to the X-ray inspection apparatus 1, by stopping application of the bias voltage to the X-ray line sensors 8A and 8B within each rest period, The X-ray line sensors 8A and 8B can be recovered from the polarization state. However, some food factories have production lines that are continuously operated throughout the day, and the X-ray inspection apparatus 1 incorporated in such a production line does not have a rest period and therefore cannot perform a recovery operation from the polarization state. . Therefore, in the X-ray inspection apparatus 1 according to the first embodiment, a bias voltage can be independently applied to the X-ray line sensors 8A and 8B, and an X-ray detection operation is executed by one X-ray line sensor. Meanwhile, the recovery operation from the polarization state is executed for the other X-ray line sensor. This will be specifically described below.

図7は、分極状態からの回復動作に関連する構成を示すブロック図である。制御部60は、図1,6に示したコンピュータ9の機能として実現される。制御部60は、信号S1Aによってスイッチ31AのON/OFFを制御可能である。同様に、制御部60は、信号S1Bによってスイッチ31BのON/OFFを制御可能である。   FIG. 7 is a block diagram showing a configuration related to the recovery operation from the polarization state. The control unit 60 is realized as a function of the computer 9 shown in FIGS. The controller 60 can control ON / OFF of the switch 31A by the signal S1A. Similarly, the control unit 60 can control ON / OFF of the switch 31B by the signal S1B.

図8は、本実施の形態1に係るX線検査装置1の動作を示すタイミングチャートである。図8の(A)は、スイッチ31AのON/OFFの状態を示しており、波形のハイレベル時はON状態を、ローレベル時はOFF状態を、それぞれ示している。図8の(B)は、スイッチ31BのON/OFFの状態を示しており、波形のハイレベル時はON状態を、ローレベル時はOFF状態を、それぞれ示している。   FIG. 8 is a timing chart showing the operation of the X-ray inspection apparatus 1 according to the first embodiment. FIG. 8A shows the ON / OFF state of the switch 31A, and shows the ON state when the waveform is at a high level and the OFF state when the waveform is at a low level. FIG. 8B shows the ON / OFF state of the switch 31B, showing the ON state when the waveform is at a high level and the OFF state when the waveform is at a low level.

図8の(C)は、バイアス電極40Aへのバイアス電圧の印加状態を示しており、波形のハイレベル時は所定のバイアス電圧が印加されている状態を、ローレベル時は印加電圧がゼロである状態を、それぞれ示している。図8の(D)は、バイアス電極40Bへのバイアス電圧の印加状態を示しており、波形のハイレベル時は所定のバイアス電圧が印加されている状態を、ローレベル時は印加電圧がゼロである状態を、それぞれ示している。図8の(C)及び(D)において、ハイレベル−ローレベル間の遷移が傾斜しているのは、バイアス電圧の安定時間を考慮したものである。   FIG. 8C shows a state in which a bias voltage is applied to the bias electrode 40A. A predetermined bias voltage is applied when the waveform is at a high level, and an applied voltage is zero when the waveform is at a low level. Each state is shown. FIG. 8D shows a state in which a bias voltage is applied to the bias electrode 40B. When the waveform is at a high level, a predetermined bias voltage is applied, and when the waveform is at a low level, the applied voltage is zero. Each state is shown. In (C) and (D) of FIG. 8, the transition between the high level and the low level is inclined in consideration of the stabilization time of the bias voltage.

図8の(E)は、X線ラインセンサ8A(厳密には電流/電圧変換回路8AA)からのデータ出力状態を示しており、波形のハイレベル時はデータが出力されている状態を、ローレベル時はデータが出力されていない状態を、それぞれ示している。図8の(F)は、X線ラインセンサ8B(厳密には電流/電圧変換回路8BB)からのデータ出力状態を示しており、波形のハイレベル時はデータが出力されている状態を、ローレベル時はデータが出力されていない状態を、それぞれ示している。   FIG. 8E shows the data output state from the X-ray line sensor 8A (strictly, the current / voltage conversion circuit 8AA). When the waveform is at high level, the data output state is At the level, it shows the state where no data is output. FIG. 8F shows the data output state from the X-ray line sensor 8B (strictly, the current / voltage conversion circuit 8BB). When the waveform is at a high level, the data output state is At the level, it shows the state where no data is output.

図8の(G)は、メモリ35Aからのデータ出力状態を示しており、波形のハイレベル時はデータが出力されている状態を、ローレベル時はデータが出力されていない状態を、それぞれ示している。図8の(H)は、メモリ35Bからのデータ出力状態を示しており、波形のハイレベル時はデータが出力されている状態を、ローレベル時はデータが出力されていない状態を、それぞれ示している。   FIG. 8G shows a data output state from the memory 35A, which shows a state in which data is output when the waveform is at a high level and a state in which no data is output when the waveform is at a low level. ing. FIG. 8H shows a data output state from the memory 35B, and shows a state where data is output when the waveform is at a high level, and a state where data is not output when the waveform is at a low level. ing.

図8の(A)及び(B)に示すように、スイッチ31A,31Bが交互にON/OFFされることにより、図8の(C)及び(D)に示すように、バイアス電極40A,40Bには交互にバイアス電圧が印加されている。   As shown in FIGS. 8A and 8B, when the switches 31A and 31B are alternately turned ON / OFF, the bias electrodes 40A and 40B are turned on as shown in FIGS. A bias voltage is alternately applied to.

また、バイアス電圧の印加先が下流側のX線ラインセンサ8Bから上流側のX線ラインセンサ8Aに切り換わる際には、スイッチ31AがONされるのと同時にスイッチ31BがOFFされるのではなく、スイッチ31AがONされてから所定時間が経過するまでは、スイッチ31BはONされたままである。例えば、時刻T3においてスイッチ31AがONされても、時刻T5まではスイッチ31BはONされている。これにより、例えば時刻T4においてX線ラインセンサ8Aからのデータ出力が開始された後に、時刻T5においてX線ラインセンサ8Bからのデータ出力が停止されている。この所定時間は、バイアス電圧の安定時間とベルトコンベア6の搬送速度とに基づいて設定される。少なくとも、バイアス電圧の安定時間と、物品12内の同一箇所がX線ラインセンサ8Aの上方からX線ラインセンサ8Bの上方に進行するのに必要な時間(「到達所要時間」と称す)との合計以上の時間が、この所定時間として設定される。スイッチの切り換えタイミングではなくバイアス電圧の印加タイミングを基準とすると、バイアス電極40Aへのバイアス電圧の印加が開始されてから、上記到達所要時間以上の所定時間が経過するまでは、バイアス電極40Bへのバイアス電圧の印加が継続されている、ということになる。   Further, when the application destination of the bias voltage is switched from the downstream X-ray line sensor 8B to the upstream X-ray line sensor 8A, the switch 31B is not turned OFF at the same time as the switch 31A is turned ON. The switch 31B remains on until a predetermined time elapses after the switch 31A is turned on. For example, even if the switch 31A is turned on at time T3, the switch 31B is turned on until time T5. Thereby, for example, after data output from the X-ray line sensor 8A is started at time T4, data output from the X-ray line sensor 8B is stopped at time T5. This predetermined time is set based on the stabilization time of the bias voltage and the conveyance speed of the belt conveyor 6. At least the stabilization time of the bias voltage and the time required for the same location in the article 12 to travel from above the X-ray line sensor 8A to above the X-ray line sensor 8B (referred to as “required time required”). A time longer than the total is set as the predetermined time. When the bias voltage application timing is used as a reference instead of the switch switching timing, the bias voltage is applied to the bias electrode 40B from the start of application of the bias voltage to the bias electrode 40A until a predetermined time longer than the required time has elapsed. This means that the application of the bias voltage is continued.

また、図8の(E)及び(F)に示すように、X線ラインセンサ8Aに関するデータ出力期間の始点及び終点と、X線ラインセンサ8Bに関するデータ出力期間の終点及び始点とはそれぞれ一致しないが、図8の(G)及び(H)に示すように、メモリ35Aに関するデータ出力期間の始点及び終点と、メモリ35Bに関するデータ出力期間の終点及び始点とはそれぞれ一致している。つまり、メモリ35A,35Bを経由することにより、X線ラインセンサ8A,8Bに関してデータ出力期間(即ち、コンピュータ9へのデータ入力期間)の同期がとられている。図9を参照してさらに具体的に説明する。   Further, as shown in FIGS. 8E and 8F, the start point and end point of the data output period related to the X-ray line sensor 8A do not match the end point and start point of the data output period related to the X-ray line sensor 8B, respectively. However, as shown in FIGS. 8G and 8H, the start and end points of the data output period related to the memory 35A coincide with the end point and start point of the data output period related to the memory 35B, respectively. That is, the data output period (that is, the data input period to the computer 9) is synchronized with respect to the X-ray line sensors 8A and 8B through the memories 35A and 35B. More specific description will be given with reference to FIG.

図9は、メモリ35A,35Bによるデータ出力の同期を説明するための図である。図9の(A)は、X線ラインセンサ8A,8Bと物品12との相対的な位置関係を示している。便宜上、物品12を、進行方向の先頭から順に、先端部分L、中央部分M、及び後端部分Nに分けている。時刻T01では、X線ラインセンサ8Aの上方に先端部分Lが位置しており、時刻T02では、X線ラインセンサ8A,8Bの各上方に中央部分M及び先端部分Lがそれぞれ位置しており、時刻T03では、X線ラインセンサ8A,8Bの各上方に後端部分N及び中央部分Mがそれぞれ位置しており、時刻T04では、X線ラインセンサ8Bの上方に後端部分Nが位置している。   FIG. 9 is a diagram for explaining data output synchronization by the memories 35A and 35B. FIG. 9A shows the relative positional relationship between the X-ray line sensors 8A and 8B and the article 12. For convenience, the article 12 is divided into a front end portion L, a central portion M, and a rear end portion N in order from the head in the traveling direction. At time T01, the tip portion L is located above the X-ray line sensor 8A, and at time T02, the center portion M and the tip portion L are located above the X-ray line sensors 8A and 8B, respectively. At time T03, the rear end portion N and the central portion M are located above the X-ray line sensors 8A and 8B, respectively, and at time T04, the rear end portion N is located above the X-ray line sensor 8B. Yes.

図9の(B)は、図9の(A)に対応して、メモリ35A,35Bへのデータ入力を示している。メモリ35Aには、時刻T01において先端部分Lに関するデータが、時刻T02において中央部分Mに関するデータが、時刻T03において後端部分Nに関するデータが、それぞれ入力される。また、メモリ35Bには、時刻T02において先端部分Lに関するデータが、時刻T03において中央部分Mに関するデータが、時刻T04において後端部分Nに関するデータが、それぞれ入力される。つまり、メモリ35A,35Bへのデータ入力の時点では、データの同期がとられていない。   FIG. 9B shows data input to the memories 35A and 35B in correspondence with FIG. 9A. Data relating to the front end portion L at time T01, data relating to the central portion M at time T02, and data relating to the rear end portion N at time T03 are input to the memory 35A. In addition, the memory 35B receives data related to the front end portion L at time T02, data related to the central portion M at time T03, and data related to the rear end portion N at time T04. That is, the data is not synchronized at the time of data input to the memories 35A and 35B.

図9の(C)は、メモリ35A,35Bからのデータ出力を示している。メモリ35A,35Bからは、時刻T03において先端部分Lに関するデータが、時刻T04において中央部分Mに関するデータが、時刻T05において後端部分Nに関するデータが、それぞれ出力される。つまり、メモリ35A,35Bからのデータ出力の時点では、データの同期がとられている。なお、下流側のX線ラインセンサ8Bに対応するメモリ35Bは省略することもでき、この場合は、メモリ35Aから出力されたデータと、X線ラインセンサ8Bから出力されたデータとの間で同期がとられる。例えば、時刻T02において、メモリ35Aから先端部分Lに関するデータが出力されるとともに、X線ラインセンサ8Bから先端部分Lに関するデータが出力され、両データが同期してコンピュータ9に入力されることとなる。   FIG. 9C shows data output from the memories 35A and 35B. From the memories 35A and 35B, data related to the leading end portion L is output at time T03, data related to the central portion M is output at time T04, and data related to the trailing end portion N is output at time T05. That is, the data is synchronized at the time of data output from the memories 35A and 35B. The memory 35B corresponding to the downstream X-ray line sensor 8B can be omitted. In this case, the data output from the memory 35A and the data output from the X-ray line sensor 8B are synchronized. Is taken. For example, at time T02, data related to the tip portion L is output from the memory 35A, and data related to the tip portion L is output from the X-ray line sensor 8B, and both data are input to the computer 9 in synchronization. .

このように本実施の形態1に係るX線検査装置1によれば、X線ラインセンサ8A,8Bへのバイアス電圧の印加を停止することにより、それまでの連続使用によってX線ラインセンサ8A,8Bに分極が生じていたとしても、X線ラインセンサ8A,8Bの特性を初期特性に回復させることができる。また、2本のX線ラインセンサ8A,8Bの各々に対してバイアス電圧を独立に印加可能であるため、バイアス印加の停止期間が重複しないようにタイミングを制御することにより、バイアス印加の停止動作は、製造ラインを停止させることなく実行可能となる。そのため、X線検査装置1がボトルネックとなって製造ライン全体の稼働が停止するという事態の発生を回避できる。   As described above, according to the X-ray inspection apparatus 1 according to the first embodiment, by stopping the application of the bias voltage to the X-ray line sensors 8A and 8B, the X-ray line sensors 8A and 8A, Even if polarization occurs in 8B, the characteristics of the X-ray line sensors 8A and 8B can be restored to the initial characteristics. In addition, since the bias voltage can be independently applied to each of the two X-ray line sensors 8A and 8B, the bias application stop operation is performed by controlling the timing so that the bias application stop periods do not overlap. Can be executed without stopping the production line. Therefore, it is possible to avoid a situation in which the operation of the entire production line is stopped due to the X-ray inspection apparatus 1 becoming a bottleneck.

また、本実施の形態1に係るX線検査装置1によれば、X線ラインセンサ8A,8Bに対して交互にバイアス電圧を印加することにより、バイアス印加の停止期間が重複することを回避できる。   In addition, according to the X-ray inspection apparatus 1 according to the first embodiment, it is possible to avoid overlapping bias application stop periods by alternately applying a bias voltage to the X-ray line sensors 8A and 8B. .

また、本実施の形態1に係るX線検査装置1によれば、バイアス電圧の印加先を下流側のX線ラインセンサ8Bから上流側のX線ラインセンサ8Aに切り換える際、X線ラインセンサ8Aに対してバイアス電圧の印加を開始してから所定時間が経過するまで、X線ラインセンサ8Bに対してバイアス電圧を継続して印加する。これにより、物品12に未検査の領域が発生することを回避できる。   Further, according to the X-ray inspection apparatus 1 according to the first embodiment, when the application destination of the bias voltage is switched from the downstream X-ray line sensor 8B to the upstream X-ray line sensor 8A, the X-ray line sensor 8A. The bias voltage is continuously applied to the X-ray line sensor 8B until a predetermined time elapses after the application of the bias voltage is started. Thereby, it can avoid that the area | region which is not test | inspected generate | occur | produces in the articles | goods 12. FIG.

また、本実施の形態1に係るX線検査装置1によれば、X線ラインセンサ8A,8Bの各出力データをメモリ35A,35Bに一時的に記憶することによって、メモリ35A,35Bからのデータ出力の際に、X線ラインセンサ8Aの出力データとX線ラインセンサ8Bの出力データとの同期をとることが可能となる。その結果、コンピュータ9において、これらの出力データに基づく画像の作成が容易となる。   In addition, according to the X-ray inspection apparatus 1 according to the first embodiment, the output data of the X-ray line sensors 8A and 8B are temporarily stored in the memories 35A and 35B, whereby the data from the memories 35A and 35B is stored. When outputting, the output data of the X-ray line sensor 8A and the output data of the X-ray line sensor 8B can be synchronized. As a result, the computer 9 can easily create an image based on these output data.

実施の形態2.
図10は、図2に示したX線検出部8の構成の第3の例を示す斜視図であり、図11は、図2に示したX線検出部8の構成の第4の例を示す斜視図である。本実施の形態2では、X線検出部8が3本のX線ラインセンサ8A〜8Cを備えて構成されている例について説明する。
Embodiment 2. FIG.
FIG. 10 is a perspective view illustrating a third example of the configuration of the X-ray detection unit 8 illustrated in FIG. 2, and FIG. 11 illustrates a fourth example of the configuration of the X-ray detection unit 8 illustrated in FIG. It is a perspective view shown. In the second embodiment, an example in which the X-ray detection unit 8 is configured to include three X-ray line sensors 8A to 8C will be described.

図10,11を参照して、矢印Hで示す物品の搬送経路上(厳密には搬送経路の下方)にX線ラインセンサ8Aが配設されており、また、X線ラインセンサ8Aよりも下流側でX線ラインセンサ8Aに隣接して(例えば平行に)、X線ラインセンサ8Bが配設されており、さらに、X線ラインセンサ8Bよりも下流側でX線ラインセンサ8Bに隣接して(例えば平行に)、X線ラインセンサ8Cが配設されている。図10に示した例では、X線ラインセンサ8A,8B,8Cは別体のX線変換膜41A,41B,41Cをそれぞれ備えており、図11に示した例では、X線ラインセンサ8A〜8Cは一体のX線変換膜41を共通して備えている。   Referring to FIGS. 10 and 11, an X-ray line sensor 8A is disposed on the article conveyance path indicated by arrow H (strictly below the conveyance path), and downstream of X-ray line sensor 8A. An X-ray line sensor 8B is disposed adjacent to (for example, parallel to) the X-ray line sensor 8A on the side, and further adjacent to the X-ray line sensor 8B on the downstream side of the X-ray line sensor 8B. An X-ray line sensor 8C is disposed (for example, in parallel). In the example shown in FIG. 10, the X-ray line sensors 8A, 8B, and 8C are provided with separate X-ray conversion films 41A, 41B, and 41C, respectively. In the example shown in FIG. 8C includes an integral X-ray conversion film 41 in common.

図10,11を参照して、X線ラインセンサ8A〜8Cは、直線状に並設された複数のX線検出素子をそれぞれ備えている。各X線ラインセンサ8A〜8Cにおいて、複数のX線検出素子は、図中に示すX軸方向に沿って並設されている。   Referring to FIGS. 10 and 11, X-ray line sensors 8 </ b> A to 8 </ b> C are each provided with a plurality of X-ray detection elements arranged in a straight line. In each of the X-ray line sensors 8A to 8C, a plurality of X-ray detection elements are arranged in parallel along the X-axis direction shown in the drawing.

X線ラインセンサ8A,8Bの構造は、図3,4に示した構造と同様である。X線ラインセンサ8Cは、直接変換方式のX線センサであり、複数のX線検出素子に共通するバイアス電極40Cと、各X線検出素子毎に設けられた画素電極42Cとを備えている。図11に示した例では、X線変換膜41上に全面的に形成した金属等の導電膜をフォトリソグラフィ技術等を用いてパターニングすることによって、電気的及び物理的に互いに分離されたバイアス電極40A〜40Cを形成することができる。   The structures of the X-ray line sensors 8A and 8B are the same as those shown in FIGS. The X-ray line sensor 8C is a direct conversion type X-ray sensor, and includes a bias electrode 40C common to a plurality of X-ray detection elements and a pixel electrode 42C provided for each X-ray detection element. In the example shown in FIG. 11, bias electrodes electrically and physically separated from each other by patterning a conductive film made of metal or the like formed entirely on the X-ray conversion film 41 using a photolithography technique or the like. 40A-40C can be formed.

図12は、X線ラインセンサ8A〜8Cへのバイアス印加回路を示す回路図である。電源30は、X線ラインセンサ8A,8B,8Cのバイアス電極40A,40B,40Cに印加すべきバイアス電圧を供給する。電源30とX線ラインセンサ8A,8B,8Cとの間にはスイッチ31A,31B,31Cがそれぞれ接続されており、スイッチ31A,31B,31CのON/OFFによって、電源30からX線ラインセンサ8A,8B,8Cへのバイアス電圧の印加の有無をそれぞれ制御できる。   FIG. 12 is a circuit diagram showing a bias application circuit to the X-ray line sensors 8A to 8C. The power supply 30 supplies a bias voltage to be applied to the bias electrodes 40A, 40B, and 40C of the X-ray line sensors 8A, 8B, and 8C. Switches 31A, 31B, and 31C are connected between the power supply 30 and the X-ray line sensors 8A, 8B, and 8C, respectively, and the X-ray line sensor 8A from the power supply 30 is turned on / off by the switches 31A, 31B, and 31C. , 8B, 8C can be controlled respectively.

X線ラインセンサ8A,8B,8Cには、電流/電圧変換回路8AA,8BB,8CCがそれぞれ接続されている。電流/電圧変換回路8AA,8BB,8CCは、X線ラインセンサ8A,8B,8Cを流れた電流値を電圧値に変更して、データ(電圧信号)としてそれぞれ出力する。   Current / voltage conversion circuits 8AA, 8BB, and 8CC are connected to the X-ray line sensors 8A, 8B, and 8C, respectively. The current / voltage conversion circuits 8AA, 8BB, and 8CC change the current values flowing through the X-ray line sensors 8A, 8B, and 8C to voltage values, and output the data (voltage signals), respectively.

電流/電圧変換回路8AA,8BB,8CCから出力されたデータは、記憶部としてのメモリ35A,35B,35Cにそれぞれ入力される。メモリ35A,35B,35Cは、例えばレジスタ又はRAMによって構成されており、電流/電圧変換回路8AA,8BB,8CCからそれぞれ入力したデータを一時的に保持可能である。メモリ35A〜35Cから出力されたデータはコンピュータ9に入力され、コンピュータ9によって物品12の画像が作成される。   Data output from the current / voltage conversion circuits 8AA, 8BB, and 8CC are input to memories 35A, 35B, and 35C as storage units, respectively. The memories 35A, 35B, and 35C are configured by, for example, a register or a RAM, and can temporarily hold data input from the current / voltage conversion circuits 8AA, 8BB, and 8CC, respectively. Data output from the memories 35 </ b> A to 35 </ b> C is input to the computer 9, and an image of the article 12 is created by the computer 9.

図13は、本実施の形態2に係るX線検査装置1の機能構成を示すブロック図である。図6に示した構成に対して、メモリ35C、電流/電圧変換回路8CC、及びスイッチ31Cが追加されている。   FIG. 13 is a block diagram showing a functional configuration of the X-ray inspection apparatus 1 according to the second embodiment. A memory 35C, a current / voltage conversion circuit 8CC, and a switch 31C are added to the configuration shown in FIG.

図14は、分極状態からの回復動作に関連する構成を示すブロック図である。図7に示した構成に対して、スイッチ31Cが追加されている。制御部60は、信号S1Cによってスイッチ31CのON/OFFを制御可能である。   FIG. 14 is a block diagram showing a configuration related to the recovery operation from the polarization state. A switch 31C is added to the configuration shown in FIG. The controller 60 can control ON / OFF of the switch 31C by the signal S1C.

図15は、本実施の形態2に係るX線検査装置1の第1の動作例を示すタイミングチャートである。図15の(A)はスイッチ31AのON/OFFの状態を、図15の(B)はスイッチ31BのON/OFFの状態を、図15の(C)はスイッチ31CのON/OFFの状態を、それぞれ示している。波形のハイレベル時はON状態を、ローレベル時はOFF状態を、それぞれ示している。   FIG. 15 is a timing chart showing a first operation example of the X-ray inspection apparatus 1 according to the second embodiment. 15A shows the ON / OFF state of the switch 31A, FIG. 15B shows the ON / OFF state of the switch 31B, and FIG. 15C shows the ON / OFF state of the switch 31C. , Respectively. When the waveform is at the high level, the ON state is shown, and when the waveform is at the low level, the OFF state is shown.

図15の(D)はバイアス電極40Aへのバイアス電圧の印加状態を、図15の(E)はバイアス電極40Bへのバイアス電圧の印加状態を、図15の(F)はバイアス電極40Cへのバイアス電圧の印加状態を、それぞれ示している。波形のハイレベル時は所定のバイアス電圧が印加されている状態を、ローレベル時は印加電圧がゼロである状態を、それぞれ示している。   15D shows the bias voltage application state to the bias electrode 40A, FIG. 15E shows the bias voltage application state to the bias electrode 40B, and FIG. 15F shows the bias voltage application state to the bias electrode 40C. The application state of the bias voltage is shown respectively. When the waveform is at a high level, a state where a predetermined bias voltage is applied is shown, and when the waveform is at a low level, a state where the applied voltage is zero is shown.

図15の(G)はX線ラインセンサ8A(厳密には電流/電圧変換回路8AA)からのデータ出力状態を、図15の(H)はX線ラインセンサ8B(厳密には電流/電圧変換回路8BB)からのデータ出力状態を、図15の(I)はX線ラインセンサ8C(厳密には電流/電圧変換回路8CC)からのデータ出力状態を、それぞれ示している。波形のハイレベル時はデータが出力されている状態を、ローレベル時はデータが出力されていない状態を、それぞれ示している。   15G shows the data output state from the X-ray line sensor 8A (strictly, the current / voltage conversion circuit 8AA), and FIG. 15H shows the X-ray line sensor 8B (strictly, the current / voltage conversion). The data output state from the circuit 8BB) and FIG. 15I show the data output state from the X-ray line sensor 8C (strictly, the current / voltage conversion circuit 8CC). When the waveform is at a high level, the data is being output, and when the waveform is at a low level, the data is not being output.

図15の(J)はメモリ35Aからのデータ出力状態を、図15の(K)はメモリ35Bからのデータ出力状態を、図15の(L)はメモリ35Cからのデータ出力状態を、それぞれ示している。波形のハイレベル時はデータが出力されている状態を、ローレベル時はデータが出力されていない状態を、それぞれ示している。   (J) in FIG. 15 shows a data output state from the memory 35A, (K) in FIG. 15 shows a data output state from the memory 35B, and (L) in FIG. 15 shows a data output state from the memory 35C. ing. When the waveform is at a high level, the data is being output, and when the waveform is at a low level, the data is not being output.

図15の(A)〜(C)に示すように、スイッチ31A,31Cとスイッチ31Bとが交互にON/OFFされることにより、図15の(D)〜(F)に示すように、バイアス電極40A,40Cとバイアス電極40Bとに、交互にバイアス電圧が印加されている。   As shown in FIGS. 15A to 15C, when the switches 31A and 31C and the switch 31B are alternately turned ON / OFF, as shown in FIGS. Bias voltages are alternately applied to the electrodes 40A and 40C and the bias electrode 40B.

また、図15の(G)〜(I)に示すように、X線ラインセンサ8Aに関するデータ出力期間の終点と、X線ラインセンサ8Bに関するデータ出力期間の始点とは一致せず、また、X線ラインセンサ8Bに関するデータ出力期間の終点と、X線ラインセンサ8Cに関するデータ出力期間の始点とは一致しない。一方、図15の(J)〜(L)に示すように、メモリ35Aに関するデータ出力期間の終点と、メモリ35Bに関するデータ出力期間の始点とは一致しており、また、メモリ35Bに関するデータ出力期間の終点と、メモリ35Cに関するデータ出力期間の始点とは一致している。つまり、メモリ35A〜35Cを経由することにより、X線ラインセンサ8A〜8Cに関してデータ出力期間(即ち、コンピュータ9へのデータ入力期間)の同期がとられている。図16を参照してさらに具体的に説明する。   Further, as shown in FIGS. 15G to 15I, the end point of the data output period related to the X-ray line sensor 8A does not coincide with the start point of the data output period related to the X-ray line sensor 8B. The end point of the data output period related to the line line sensor 8B does not coincide with the start point of the data output period related to the X-ray line sensor 8C. On the other hand, as shown in FIGS. 15J to 15L, the end point of the data output period related to the memory 35A coincides with the start point of the data output period related to the memory 35B, and the data output period related to the memory 35B. And the start point of the data output period related to the memory 35C coincide with each other. That is, the data output period (that is, the data input period to the computer 9) is synchronized with respect to the X-ray line sensors 8A to 8C by passing through the memories 35A to 35C. A more specific description will be given with reference to FIG.

図16は、メモリ35A〜35Cによるデータ出力の同期を説明するための図である。図16の(A)は、X線ラインセンサ8A〜8Cと物品12との相対的な位置関係を示している。時刻T01では、X線ラインセンサ8Aの上方に先端部分Lが位置しており、時刻T02では、X線ラインセンサ8A,8Bの各上方に中央部分M及び先端部分Lがそれぞれ位置しており、時刻T03では、X線ラインセンサ8A,8B,8Cの各上方に後端部分N、中央部分M、及び先端部分Lがそれぞれ位置しており、時刻T04では、X線ラインセンサ8B,8Cの各上方に後端部分N及び中央部分Mがそれぞれ位置しており、時刻T05では、X線ラインセンサ8Cの上方に後端部分Nが位置している。   FIG. 16 is a diagram for explaining synchronization of data output by the memories 35A to 35C. FIG. 16A shows the relative positional relationship between the X-ray line sensors 8A to 8C and the article 12. At time T01, the tip portion L is located above the X-ray line sensor 8A, and at time T02, the center portion M and the tip portion L are located above the X-ray line sensors 8A and 8B, respectively. At time T03, the rear end portion N, the central portion M, and the front end portion L are located above the X-ray line sensors 8A, 8B, and 8C, respectively. At time T04, the X-ray line sensors 8B, 8C The rear end portion N and the central portion M are located above, respectively, and at the time T05, the rear end portion N is located above the X-ray line sensor 8C.

図16の(B)は、図16の(A)に対応して、メモリ35A〜35Cへのデータ入力を示している。メモリ35Aには、時刻T01において先端部分Lに関するデータが、時刻T02において中央部分Mに関するデータが、時刻T03において後端部分Nに関するデータが、それぞれ入力される。また、メモリ35Bには、時刻T02において先端部分Lに関するデータが、時刻T03において中央部分Mに関するデータが、時刻T04において後端部分Nに関するデータが、それぞれ入力される。また、メモリ35Cには、時刻T03において先端部分Lに関するデータが、時刻T04において中央部分Mに関するデータが、時刻T05において後端部分Nに関するデータが、それぞれ入力される。つまり、メモリ35A〜35Cへのデータ入力の時点では、データの同期がとられていない。   FIG. 16B shows data input to the memories 35A to 35C in correspondence with FIG. Data relating to the front end portion L at time T01, data relating to the central portion M at time T02, and data relating to the rear end portion N at time T03 are input to the memory 35A. In addition, the memory 35B receives data related to the front end portion L at time T02, data related to the central portion M at time T03, and data related to the rear end portion N at time T04. In addition, data relating to the leading end portion L at time T03, data relating to the central portion M at time T04, and data relating to the trailing end portion N at time T05 are input to the memory 35C. That is, the data is not synchronized at the time of data input to the memories 35A to 35C.

図16の(C)は、メモリ35A〜35Cからのデータ出力を示している。メモリ35A〜35Cからは、時刻T04において先端部分Lに関するデータが、時刻T05において中央部分Mに関するデータが、時刻T06において後端部分Nに関するデータが、それぞれ出力される。つまり、メモリ35A〜35Cからのデータ出力の時点では、データの同期がとられている。なお、最下流のX線ラインセンサ8Cに対応するメモリ35Cは省略することもでき、この場合は、メモリ35A,35Bから出力されたデータと、X線ラインセンサ8Cから出力されたデータとの間で同期がとられる。例えば、時刻T03において、メモリ35A,35Bから先端部分Lに関するデータが出力されるとともに、X線ラインセンサ8Cから先端部分Lに関するデータが出力され、全データが同期してコンピュータ9に入力されることとなる。   FIG. 16C shows data output from the memories 35A to 35C. From the memories 35A to 35C, data related to the leading end portion L is output at time T04, data related to the central portion M is output at time T05, and data related to the trailing end portion N is output at time T06. That is, the data is synchronized at the time of data output from the memories 35A to 35C. Note that the memory 35C corresponding to the most downstream X-ray line sensor 8C can be omitted, and in this case, between the data output from the memories 35A and 35B and the data output from the X-ray line sensor 8C. Is synchronized. For example, at time T03, data related to the tip portion L is output from the memories 35A and 35B, data related to the tip portion L is output from the X-ray line sensor 8C, and all data is input to the computer 9 in synchronization. It becomes.

図17は、本実施の形態2に係るX線検査装置1の第2の動作例を示すタイミングチャートである。図15と同様に、図17の(A),(B),(C)はスイッチ31A,31B,31CのON/OFFの状態を、図17の(D),(E),(F)はバイアス電極40A,40B,40Cへのバイアス電圧の印加状態を、図17の(G),(H),(I)はX線ラインセンサ8A,8B,8Cからのデータ出力状態を、図17の(J),(K),(L)はメモリ35A,35B,35Cからのデータ出力状態を、それぞれ示している。   FIG. 17 is a timing chart showing a second operation example of the X-ray inspection apparatus 1 according to the second embodiment. As in FIG. 15, (A), (B), and (C) in FIG. 17 show the ON / OFF states of the switches 31A, 31B, and 31C, and (D), (E), and (F) in FIG. The bias voltage application state to the bias electrodes 40A, 40B, and 40C is shown in FIGS. 17 (G), (H), and (I), and the data output states from the X-ray line sensors 8A, 8B, and 8C are shown in FIG. (J), (K), and (L) indicate the data output states from the memories 35A, 35B, and 35C, respectively.

図17の(A)及び(B)に示すように、スイッチ31A,31Bが交互にON/OFFされることにより、図17の(D)及び(E)に示すように、バイアス電極40A,40Bには交互にバイアス電圧が印加されている。   As shown in FIGS. 17A and 17B, when the switches 31A and 31B are alternately turned ON / OFF, the bias electrodes 40A and 40B are turned on as shown in FIGS. A bias voltage is alternately applied to.

また、バイアス電圧の印加先が下流側のX線ラインセンサ8Bから上流側のX線ラインセンサ8Aに切り換わる際には、スイッチ31AがON、スイッチ31BがOFFされてから所定時間が経過するまでの間、スイッチ31CがONされている。例えば、時刻T7においてスイッチ31AがON、スイッチ31BがOFFされると、時刻T7から所定時間が経過するまでの間、スイッチ31CがONされている。但し、スイッチ31CがONされるタイミングは、スイッチ31BがOFFされるタイミングより前であっても良い。この所定時間は、バイアス電圧の安定時間とベルトコンベア6の搬送速度とに基づいて設定される。少なくとも、バイアス電圧の安定時間と、物品12内の同一箇所がX線ラインセンサ8Bの上方からX線ラインセンサ8Cの上方に進行するのに必要な時間(到達所要時間)との合計以上の時間が、この所定時間として設定される。スイッチの切り換えタイミングではなくバイアス電圧の印加タイミングを基準とすると、バイアス電極40Aへのバイアス電圧の印加が開始されてから、上記到達所要時間以上の所定時間が経過するまでは、バイアス電極40Cへのバイアス電圧の印加が継続されている、ということになる。   Further, when the application destination of the bias voltage is switched from the downstream X-ray line sensor 8B to the upstream X-ray line sensor 8A, the switch 31A is turned ON and a predetermined time elapses after the switch 31B is turned OFF. During this period, the switch 31C is ON. For example, when the switch 31A is turned on and the switch 31B is turned off at time T7, the switch 31C is turned on until a predetermined time elapses from time T7. However, the timing at which the switch 31C is turned on may be before the timing at which the switch 31B is turned off. This predetermined time is set based on the stabilization time of the bias voltage and the conveyance speed of the belt conveyor 6. At least a time longer than the sum of the stabilization time of the bias voltage and the time required for the same location in the article 12 to travel from above the X-ray line sensor 8B to above the X-ray line sensor 8C (required time required). Is set as the predetermined time. If the bias voltage application timing is used as a reference instead of the switch switching timing, the bias voltage 40C is applied to the bias electrode 40C until a predetermined time longer than the required arrival time elapses after the application of the bias voltage to the bias electrode 40A is started. This means that the application of the bias voltage is continued.

また、図17の(G)〜(I)に示すように、X線ラインセンサ8Aに関するデータ出力期間の終点と、X線ラインセンサ8Bに関するデータ出力期間の始点とは一致せず、また、X線ラインセンサ8Bに関するデータ出力期間の終点と、X線ラインセンサ8Cに関するデータ出力期間の始点とは一致しない。一方、図17の(J)〜(L)に示すように、メモリ35Aに関するデータ出力期間の終点と、メモリ35Bに関するデータ出力期間の始点とは一致しており、また、メモリ35Bに関するデータ出力期間の終点と、メモリ35Cに関するデータ出力期間の始点とは一致しており、さらに、メモリ35Cに関するデータ出力期間の終点と、メモリ35Aに関するデータ出力期間の始点とは一致している。つまり、メモリ35A〜35Cを経由することにより、X線ラインセンサ8A〜8Cに関してデータ出力期間(即ち、コンピュータ9へのデータ入力期間)の同期がとられている。   As shown in FIGS. 17G to 17I, the end point of the data output period for the X-ray line sensor 8A does not coincide with the start point of the data output period for the X-ray line sensor 8B. The end point of the data output period related to the line line sensor 8B does not coincide with the start point of the data output period related to the X-ray line sensor 8C. On the other hand, as shown in FIGS. 17J to 17L, the end point of the data output period related to the memory 35A coincides with the start point of the data output period related to the memory 35B, and the data output period related to the memory 35B. And the start point of the data output period related to the memory 35C are coincident with the end point of the data output period related to the memory 35C and the start point of the data output period related to the memory 35A. That is, the data output period (that is, the data input period to the computer 9) is synchronized with respect to the X-ray line sensors 8A to 8C by passing through the memories 35A to 35C.

このように本実施の形態2に係るX線検査装置1によれば、X線ラインセンサ8A〜8Cへのバイアス電圧の印加を停止することにより、それまでの連続使用によってX線ラインセンサ8A〜8Cに分極が生じていたとしても、X線ラインセンサ8A〜8Cの特性を初期特性に回復させることができる。また、3本のX線ラインセンサ8A〜8Cの各々に対してバイアス電圧を独立に印加可能であるため、バイアス印加の停止期間が重複しないようにタイミングを制御することにより、バイアス印加の停止動作は、製造ラインを停止させることなく実行可能となる。そのため、X線検査装置1がボトルネックとなって製造ライン全体の稼働が停止するという事態の発生を回避できる。   As described above, according to the X-ray inspection apparatus 1 according to the second embodiment, by stopping the application of the bias voltage to the X-ray line sensors 8A to 8C, the X-ray line sensors 8A to 8C are continuously used until then. Even if polarization occurs in 8C, the characteristics of the X-ray line sensors 8A to 8C can be restored to the initial characteristics. Also, since a bias voltage can be independently applied to each of the three X-ray line sensors 8A to 8C, the bias application stop operation is performed by controlling the timing so that the bias application stop periods do not overlap. Can be executed without stopping the production line. Therefore, it is possible to avoid a situation in which the operation of the entire production line is stopped due to the X-ray inspection apparatus 1 becoming a bottleneck.

また、本実施の形態2に係るX線検査装置1によれば、X線ラインセンサを3本備えることで、2本の場合と比較して、バイアス印加の停止期間を重複させないタイミング制御のバリエーションを広げることができる。   Further, according to the X-ray inspection apparatus 1 according to the second embodiment, by providing three X-ray line sensors, a variation in timing control that does not overlap the bias application stop period compared to the case of two X-ray line sensors. Can be spread.

また、本実施の形態2に係るX線検査装置1の第1の動作例(図15)によれば、最上流のX線ラインセンサ8Aと中央のX線ラインセンサ8Bとに対して交互にバイアス電圧が印加され、最下流のX線ラインセンサ8Cに対しては、X線ラインセンサ8Aと共通にバイアス電圧が印加される。これにより、物品12に未検査の領域が発生することを回避できる。   Further, according to the first operation example (FIG. 15) of the X-ray inspection apparatus 1 according to the second embodiment, the most upstream X-ray line sensor 8A and the central X-ray line sensor 8B are alternately arranged. A bias voltage is applied, and a bias voltage is applied to the most downstream X-ray line sensor 8C in common with the X-ray line sensor 8A. Thereby, it can avoid that the area | region which is not test | inspected generate | occur | produces in the articles | goods 12. FIG.

また、本実施の形態2に係るX線検査装置1の第2の動作例(図17)によれば、最上流のX線ラインセンサ8Aと中央のX線ラインセンサ8Bとに対して、交互にバイアス電圧が印加される。また、バイアス電圧の印加先をX線ラインセンサ8BからX線ラインセンサ8Aに切り換える際には、少なくとも、X線ラインセンサ8Aに対してバイアス電圧の印加を開始してから所定時間が経過するまで、最下流のX線ラインセンサ8Cに対してバイアス電圧が印加される。これにより、物品12に未検査の領域が発生することを回避できる。   Further, according to the second operation example (FIG. 17) of the X-ray inspection apparatus 1 according to the second embodiment, the most upstream X-ray line sensor 8A and the central X-ray line sensor 8B are alternately arranged. A bias voltage is applied to. Further, when switching the application destination of the bias voltage from the X-ray line sensor 8B to the X-ray line sensor 8A, at least until a predetermined time elapses after the application of the bias voltage to the X-ray line sensor 8A is started. A bias voltage is applied to the most downstream X-ray line sensor 8C. Thereby, it can avoid that the area | region which is not inspected in the articles | goods 12 generate | occur | produces.

また、本実施の形態2に係るX線検査装置1によれば、X線ラインセンサ8A〜8Cの各出力データをメモリ35A〜35Cに一時的に記憶することによって、メモリ35A〜35Cからのデータ出力の際に、X線ラインセンサ8A〜8Cの各出力データの同期をとることが可能となる。その結果、コンピュータ9において、これらの出力データに基づく画像の作成が容易となる。   Further, according to the X-ray inspection apparatus 1 according to the second embodiment, the output data of the X-ray line sensors 8A to 8C is temporarily stored in the memories 35A to 35C, whereby the data from the memories 35A to 35C is stored. When outputting, it is possible to synchronize the output data of the X-ray line sensors 8A to 8C. As a result, the computer 9 can easily create an image based on these output data.

変形例.
以下、上記実施の形態1,2の変形例について説明する。
Modified example.
Hereinafter, modifications of the first and second embodiments will be described.

X線ラインセンサの本数は、上記の2本又は3本に限らず、4本以上であっても良い。   The number of X-ray line sensors is not limited to the above two or three, but may be four or more.

物品の搬送経路に沿って並設する複数のX線センサの各々は、ラインセンサ(複数のX線検出素子が一列状に並設されたX線センサ)に限らず、エリアセンサ(複数のX線検出素子が行列状に並設されたX線センサ)であっても良い。理論的には、少なくとも1個のX線検出素子を含む第1のX線センサと、少なくとも1個のX線検出素子を含む第2のX線センサとを、物品の搬送経路に沿って並設すれば、本発明の効果を発揮することが可能である。   Each of the plurality of X-ray sensors arranged in parallel along the article conveyance path is not limited to a line sensor (an X-ray sensor in which a plurality of X-ray detection elements are arranged in a line), but is an area sensor (a plurality of X-ray sensors). An X-ray sensor in which line detection elements are arranged in a matrix may be used. Theoretically, a first X-ray sensor including at least one X-ray detection element and a second X-ray sensor including at least one X-ray detection element are arranged in parallel along the conveyance path of the article. If provided, the effects of the present invention can be exhibited.

分極状態からの回復動作は、ベルトコンベア6上に物品12が存在していない期間内に実行しても良い。ベルトコンベア6上に物品12が存在しているか否かは、フォトセンサ15によって検出することができる。   The recovery operation from the polarization state may be executed within a period in which the article 12 is not present on the belt conveyor 6. Whether or not the article 12 is present on the belt conveyor 6 can be detected by the photosensor 15.

図18は、X線ラインセンサ8へのバイアス印加の停止動作を具体的に説明するための図である。図18において、X線ラインセンサ8は上記実施の形態1,2のX線ラインセンサ8A〜8Cに相当し、スイッチ31は上記実施の形態1,2のスイッチ31A〜31Cに相当する。スイッチ31は、端子71A〜71Cを有している。スイッチ31をONする場合には端子71Aと端子71Bとが接続され、スイッチ31をOFFする場合には端子71Aと端子71Cとが接続される。X線ラインセンサ8へのバイアス電圧の印加を停止するということは、図18の(A)〜(D)においてスイッチ31をOFF状態に切り換えることを意味する。   FIG. 18 is a diagram for specifically explaining the operation of stopping the application of bias to the X-ray line sensor 8. In FIG. 18, the X-ray line sensor 8 corresponds to the X-ray line sensors 8A to 8C of the first and second embodiments, and the switch 31 corresponds to the switches 31A to 31C of the first and second embodiments. The switch 31 has terminals 71A to 71C. When the switch 31 is turned on, the terminals 71A and 71B are connected, and when the switch 31 is turned off, the terminals 71A and 71C are connected. Stopping the application of the bias voltage to the X-ray line sensor 8 means that the switch 31 is switched to the OFF state in (A) to (D) of FIG.

図18の(A)において、電源70Aは、電源30と同一極性の微小電圧(例えば0.1V)を供給しており、端子71Aと端子71Cとが接続されても、X線ラインセンサ8には十分なバイアス電圧が供給されないため、X線ラインセンサ8は動作しない。図18の(B)において、端子71Cは電気的にフローティングな状態であり、端子71Aと端子71Cとが接続されても、X線ラインセンサ8には十分なバイアス電圧が供給されないため、X線ラインセンサ8は動作しない。図18の(C)において、端子71CにはGND電位が供給されており、端子71Aと端子71Cとが接続されても、X線ラインセンサ8には十分なバイアス電圧が供給されないため、X線ラインセンサ8は動作しない。図18の(D)において、電源70Cは、電源30とは逆極性の微小電圧(例えば−0.1V)を供給しており、端子71Aと端子71Cとが接続されても、X線ラインセンサ8には十分なバイアス電圧が供給されないため、X線ラインセンサ8は動作しない。   In FIG. 18A, the power source 70A supplies a minute voltage (for example, 0.1 V) having the same polarity as that of the power source 30, and even if the terminal 71A and the terminal 71C are connected to the X-ray line sensor 8. Since a sufficient bias voltage is not supplied, the X-ray line sensor 8 does not operate. In FIG. 18B, the terminal 71C is in an electrically floating state, and even if the terminal 71A and the terminal 71C are connected, a sufficient bias voltage is not supplied to the X-ray line sensor 8. The line sensor 8 does not operate. In FIG. 18C, the GND potential is supplied to the terminal 71C, and even if the terminal 71A and the terminal 71C are connected, a sufficient bias voltage is not supplied to the X-ray line sensor 8. The line sensor 8 does not operate. In FIG. 18D, the power source 70C supplies a minute voltage (for example, −0.1 V) having a polarity opposite to that of the power source 30. Even if the terminal 71A and the terminal 71C are connected, the X-ray line sensor is supplied. Since a sufficient bias voltage is not supplied to 8, the X-ray line sensor 8 does not operate.

本発明に係るX線検査装置の全体構成を模式的に示す正面図である。It is a front view which shows typically the whole structure of the X-ray inspection apparatus which concerns on this invention. 図1に示したシールドボックスの内部構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the internal structure of the shield box shown in FIG. 図2に示したX線検出部の構成の第1の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the 1st example of a structure of the X-ray detection part shown in FIG. 図2に示したX線検出部の構成の第2の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the 2nd example of a structure of the X-ray detection part shown in FIG. X線ラインセンサへのバイアス印加回路を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the bias application circuit to an X-ray line sensor. 本発明の実施の形態1に係るX線検査装置の機能構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the function structure of the X-ray inspection apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 分極状態からの回復動作に関連する構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure relevant to the recovery operation from a polarization state. 本発明の実施の形態1に係るX線検査装置の動作を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows operation | movement of the X-ray inspection apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. メモリによるデータ出力の同期を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the synchronization of the data output by a memory. 図2に示したX線検出部の構成の第3の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the 3rd example of a structure of the X-ray detection part shown in FIG. 図2に示したX線検出部の構成の第4の例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the 4th example of a structure of the X-ray detection part shown in FIG. X線ラインセンサへのバイアス印加回路を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the bias application circuit to an X-ray line sensor. 本発明の実施の形態2に係るX線検査装置の機能構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the function structure of the X-ray inspection apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. 分極状態からの回復動作に関連する構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure relevant to the recovery operation from a polarization state. 本発明の実施の形態2に係るX線検査装置の第1の動作例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the 1st operation example of the X-ray inspection apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. メモリによるデータ出力の同期を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the synchronization of the data output by a memory. 本発明の実施の形態2に係るX線検査装置の第2の動作例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows the 2nd operation example of the X-ray inspection apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. X線ラインセンサへのバイアス印加の停止動作を具体的に説明するための図である。It is a figure for demonstrating concretely the stop operation | movement of the bias application to a X-ray line sensor.

符号の説明Explanation of symbols

1 X線検査装置
6 ベルトコンベア
7 X線照射部
8 X線検出部
8A〜8C X線ラインセンサ
9 コンピュータ
12 物品
35A〜35C メモリ
60 制御部
100 X線照射領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 X-ray inspection apparatus 6 Belt conveyor 7 X-ray irradiation part 8 X-ray detection part 8A-8C X-ray line sensor 9 Computer 12 Goods 35A-35C Memory 60 Control part 100 X-ray irradiation area | region

Claims (8)

検査対象である物品にX線を照射し、前記物品を透過してきたX線を検出することにより、前記物品に対する検査を実行するX線検査装置であって、
X線照射部と、
X線を直接的に電気信号に変換するタイプのX線センサを有するX線検出部と、
前記物品が前記X線照射部と前記X線検出部との間のX線照射領域を通過するように、前記物品を搬送する搬送部と、
前記X線センサへ印加するバイアス電圧を制御する制御部と
を備え、
前記X線検出部は、
前記物品の搬送経路上に配設された第1のX線センサと、
前記第1のX線センサよりも下流側で前記第1のX線センサに隣接して配設された第2のX線センサと
を有し、
前記制御部は、前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサに対して、バイアス電圧を独立に印加可能である、X線検査装置。
An X-ray inspection apparatus that performs an inspection on the article by irradiating the article to be inspected with X-rays and detecting the X-ray transmitted through the article,
An X-ray irradiation unit;
An X-ray detector having an X-ray sensor of a type that directly converts X-rays into an electrical signal;
A transport unit that transports the product such that the product passes through an X-ray irradiation region between the X-ray irradiation unit and the X-ray detection unit;
A control unit for controlling a bias voltage applied to the X-ray sensor,
The X-ray detection unit
A first X-ray sensor disposed on the conveyance path of the article;
A second X-ray sensor disposed adjacent to the first X-ray sensor on the downstream side of the first X-ray sensor;
The control unit is an X-ray inspection apparatus capable of independently applying a bias voltage to the first X-ray sensor and the second X-ray sensor.
前記制御部は、前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサに対して、交互にバイアス電圧を印加する、請求項1に記載のX線検査装置。   The X-ray inspection apparatus according to claim 1, wherein the control unit alternately applies a bias voltage to the first X-ray sensor and the second X-ray sensor. 前記制御部は、バイアス電圧の印加先を前記第2のX線センサから前記第1のX線センサに切り換える際、前記第1のX線センサに対してバイアス電圧の印加を開始してから所定時間が経過するまで、前記第2のX線センサに対してバイアス電圧を継続して印加する、請求項2に記載のX線検査装置。   The controller, when switching the application destination of the bias voltage from the second X-ray sensor to the first X-ray sensor, starts applying the bias voltage to the first X-ray sensor and then performs a predetermined operation. The X-ray inspection apparatus according to claim 2, wherein a bias voltage is continuously applied to the second X-ray sensor until time elapses. 前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサからそれぞれ出力されたデータを記憶する記憶部をさらに備える、請求項2又は3に記載のX線検査装置。   The X-ray inspection apparatus according to claim 2, further comprising a storage unit that stores data respectively output from the first X-ray sensor and the second X-ray sensor. 前記X線検出部は、前記第2のX線センサよりも下流側で前記第2のX線センサに隣接して配設された第3のX線センサをさらに有し、
前記制御部は、前記第1のX線センサ、前記第2のX線センサ、及び前記第3のX線センサに対して、バイアス電圧を独立に印加可能である、請求項1に記載のX線検査装置。
The X-ray detection unit further includes a third X-ray sensor disposed adjacent to the second X-ray sensor on the downstream side of the second X-ray sensor,
2. The X according to claim 1, wherein the controller can independently apply a bias voltage to the first X-ray sensor, the second X-ray sensor, and the third X-ray sensor. Line inspection device.
前記制御部は、
前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサに対して、交互にバイアス電圧を印加し、
前記第3のX線センサに対して、前記第1のX線センサと共通にバイアス電圧を印加する、請求項5に記載のX線検査装置。
The controller is
Alternately applying a bias voltage to the first X-ray sensor and the second X-ray sensor;
The X-ray inspection apparatus according to claim 5, wherein a bias voltage is applied to the third X-ray sensor in common with the first X-ray sensor.
前記制御部は、
前記第1のX線センサ及び前記第2のX線センサに対して、交互にバイアス電圧を印加し、
バイアス電圧の印加先を前記第2のX線センサから前記第1のX線センサに切り換える際、少なくとも、前記第1のX線センサに対してバイアス電圧の印加を開始してから所定時間が経過するまで、前記第3のX線センサに対してバイアス電圧を印加する、請求項5に記載のX線検査装置。
The controller is
Alternately applying a bias voltage to the first X-ray sensor and the second X-ray sensor;
When switching the application destination of the bias voltage from the second X-ray sensor to the first X-ray sensor, at least a predetermined time has elapsed since the application of the bias voltage to the first X-ray sensor was started. The X-ray inspection apparatus according to claim 5, wherein a bias voltage is applied to the third X-ray sensor until this is done.
前記第1のX線センサ、前記第2のX線センサ、及び前記第3のX線センサからそれぞれ出力されたデータを記憶する記憶部をさらに備える、請求項5〜7のいずれか一つに記載のX線検査装置。   8. The storage device according to claim 5, further comprising a storage unit that stores data output from each of the first X-ray sensor, the second X-ray sensor, and the third X-ray sensor. The X-ray inspection apparatus described.
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