JP2009248311A - Droplet ejecting device and its control method - Google Patents

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JP2009248311A
JP2009248311A JP2008094736A JP2008094736A JP2009248311A JP 2009248311 A JP2009248311 A JP 2009248311A JP 2008094736 A JP2008094736 A JP 2008094736A JP 2008094736 A JP2008094736 A JP 2008094736A JP 2009248311 A JP2009248311 A JP 2009248311A
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cap
ejection head
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JP2008094736A
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Minoru Koyama
実 小山
Kiyoshi Mitsui
清 三井
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To maintain a satisfactory ejection state of a nozzle even when a nozzle surface of an ejection head is exposed to the outside air during washing operation of a cap, and also to finish maintenance processing of the ejection head to be performed when restarting operation and when starting up a device in a short time. <P>SOLUTION: While the inside of the cap 48 of a capping unit 15 is washed, the ejection head 3 is made to retreat to a maintenance area other than a capping area, and is finely vibrated while it retreats. When finishing the operation after washing the inside of the cap 48, power supply is turned off after the cap 48 is made to abut on the nozzle surface 2 of the ejection head 3, and when restarting the operation, the maintenance processing of the ejection head 3 is carried out. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液滴吐出装置及びその制御方法に関する。   The present invention relates to a droplet discharge device and a control method thereof.

従来より、インクジェットヘッド(吐出ヘッド)のノズル面に設けられた複数のノズル
からインク(機能液)の液滴を吐出し、用紙(記録媒体)に着弾させて描画を行うインク
ジェットプリンタ(液滴吐出装置)がある。近年、このようなインクジェットプリンタに
端を発したインクジェット技術の革新が進み、カラーフィルタや看板、衣料などの分野へ
の展開も盛んとなっている。
Conventionally, an ink jet printer (droplet discharge) that performs drawing by discharging ink (functional liquid) droplets from a plurality of nozzles provided on the nozzle surface of an ink jet head (discharge head) and landing on a paper (recording medium) Device). In recent years, the innovation of ink-jet technology originated from such an ink-jet printer has progressed, and the development in fields such as color filters, signboards, and clothing has also become active.

ところで、このような液滴吐出装置では、吐出ヘッドのノズル面が外気に晒された状態
にあるために、このノズル面に設けられた複数のノズルのうち、吐出動作を行わないノズ
ルについては、内部のインクの乾燥が進み粘度が増すことによって、インクの吐出量にバ
ラツキが生じたり、インクの着弾精度の低下を招いたりするなどの問題が発生することが
ある。
By the way, in such a droplet discharge device, since the nozzle surface of the discharge head is exposed to the outside air, among the plurality of nozzles provided on this nozzle surface, for the nozzle that does not perform the discharge operation, As the ink in the interior progresses and the viscosity increases, problems such as variations in the ink ejection amount and a decrease in ink landing accuracy may occur.

そこで、液滴吐出装置では、ノズルから吐出される液滴の良好な吐出状態を維持又は回
復するためのメンテナンス処理を定期的に行っている。その具体的なメンテナンス処理と
しては、例えば、インクの増粘が進まないように各ノズルからインクを吐出させるフラッ
シング動作や、ノズルを吸引することによってノズル内の増粘したインクを除去する吸引
動作、ノズル面をワイプ部材で払拭することによってノズル面に付着した付着物を除去す
るワイピング動作などがある(例えば、特許文献1,2を参照)。
特開2003−191481号公報 特開2007−185795号公報
Therefore, in the droplet discharge device, maintenance processing for maintaining or recovering a good discharge state of the droplets discharged from the nozzles is periodically performed. Specific maintenance processes include, for example, a flushing operation for ejecting ink from each nozzle so that the ink does not increase in viscosity, and a suction operation for removing the thickened ink in the nozzle by sucking the nozzle. There is a wiping operation for removing deposits attached to the nozzle surface by wiping the nozzle surface with a wipe member (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
JP 2003-191481 A JP 2007-185795 A

ところで、上述した吸引動作では、吐出ヘッドのノズル面を覆うキャップを介してノズ
ルを吸引し、このノズルを介して吸引されたインクをキャップの底面に接続されたチュー
ブ等を介して廃インクタンクへと回収する。その後、廃インクタンクに回収されたインク
は、内容物によってリサイクルや焼却などの処分に回される。
By the way, in the above-described suction operation, the nozzle is sucked through a cap that covers the nozzle surface of the ejection head, and the ink sucked through the nozzle is sent to a waste ink tank through a tube or the like connected to the bottom surface of the cap. And collect. Thereafter, the ink collected in the waste ink tank is sent to disposal such as recycling or incineration depending on the contents.

このような廃インクの回収手段では、チューブ内のインクが乾燥により固化して目詰ま
り等を引き起こすことがないよう定期的にキャップ内を洗浄する作業が必要となる。しか
しながら、キャップの洗浄作業中は、吐出ヘッドのノズル面が外気に晒された状態となる
ため、ノズル内のインクの乾燥が進み粘度が増すことによって、ノズルの吐出特性が低下
することは避けられない。また、その後にノズルの吐出状態を良好に回復するためのメン
テナンス処理に時間がかかり、その結果、生産性が低下してしまうおそれもある。
In such waste ink collecting means, it is necessary to periodically clean the inside of the cap so that the ink in the tube does not solidify by drying and cause clogging or the like. However, since the nozzle surface of the discharge head is exposed to the outside air during the cap cleaning operation, it is unavoidable that the discharge characteristics of the nozzle deteriorate due to the drying of the ink in the nozzle and the increase in viscosity. Absent. Further, it takes time for maintenance processing to recover the discharge state of the nozzles afterwards, and as a result, the productivity may be lowered.

そこで、本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、キャップの
洗浄作業中に吐出ヘッドのノズル面が外気に晒される場合でも、ノズルの良好な吐出状態
を維持することができ、作業の再開時や装置の立上げ時に行う吐出ヘッドのメンテナンス
処理を短時間で完了することができる液滴吐出装置及びその制御方法を提供することを目
的とする。
Therefore, the present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and maintains a good discharge state of the nozzle even when the nozzle surface of the discharge head is exposed to the outside air during the cap cleaning operation. It is an object of the present invention to provide a droplet discharge device that can be completed in a short time, and a control method thereof, which can be completed when the operation is resumed or the device is started up.

上記目的を達成するために、本発明に係る液滴吐出装置は、複数のノズルが設けられた
ノズル面を有し、当該ノズル面の各ノズルから機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、吐
出ヘッドのノズル面に接触可能なキャップを有し、当該キャップを介してノズルを吸引す
るキャッピングユニットと、吐出ヘッドのノズル面をワイプ部材で払拭するワイピングユ
ニットと、吐出ヘッドのノズルから吐出された液滴を吐出対象物に着弾させる着弾エリア
と、キャッピングユニットが設けられたキャッピングエリア及びワイピングユニットが設
けられたワイピングエリアを含むメンテナンスエリアとの間で、吐出ヘッドを相対的に移
動させる移動手段と、吐出ヘッドに微振動を付与する微振動付与手段と、吐出ヘッド、キ
ャッピングユニット、ワイピングユニット、移動手段、及び微振動付与手段を含む各部の
制御を行う制御手段とを備え、制御手段からの指令に基づいて、キャッピングユニットの
キャップ内を洗浄している間、吐出ヘッドがキャッピングエリア以外のメンテナンスエリ
アに待避されて、待避中に微振動付与手段が吐出ヘッドに対して微振動を付与し、キャッ
プ内を洗浄した後、作業を終了する場合は、吐出ヘッドのノズル面にキャップを当接させ
た後に電源を落とし、作業を再開する場合は、吐出ヘッドのメンテナンス処理を実行する
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, a droplet discharge device according to the present invention has a nozzle surface provided with a plurality of nozzles, and discharges a droplet of a functional liquid from each nozzle of the nozzle surface; A capping unit that has a cap that can contact the nozzle surface of the ejection head, sucks the nozzle through the cap, a wiping unit that wipes the nozzle surface of the ejection head with a wipe member, and ejected from the nozzle of the ejection head Moving means for relatively moving the discharge head between a landing area for landing a droplet on a discharge target, and a maintenance area including a capping area provided with a capping unit and a wiping area provided with a wiping unit; , Microvibration imparting means for imparting microvibration to the ejection head, ejection head, capping unit, wipe pin A control unit that controls each unit including the unit, the moving unit, and the microvibration applying unit. While the cap of the capping unit is being cleaned based on a command from the control unit, the discharge head is located outside the capping area. When the work is finished after the fine vibration applying means gives a fine vibration to the discharge head and the inside of the cap is cleaned during the save, the cap is applied to the nozzle surface of the discharge head. When the power is turned off after the contact, and the work is resumed, a maintenance process for the ejection head is performed.

この液滴吐出装置では、キャッピングユニットのキャップ内を洗浄している間、吐出ヘ
ッドがキャッピングエリア以外のメンテナンスエリアに待避されて、待避中に微振動付与
手段が吐出ヘッドに対して微振動を付与することによって、キャップの洗浄作業中に吐出
ヘッドのノズル面が外気に晒される場合でも、ノズル内で機能液の増粘が進まないように
ノズル内の機能液を微振動させながら、ノズルの良好な吐出状態を維持することができる
。そして、キャップ内を洗浄した後、作業を終了する場合は、吐出ヘッドのノズル面にキ
ャップを当接させた後に電源を落とし、作業を再開する場合は、吐出ヘッドのメンテナン
ス処理を実行することで、作業の再開時や装置の立上げ時に行う吐出ヘッドのメンテナン
ス処理を短時間で完了することができる。
In this droplet discharge device, while the cap of the capping unit is being cleaned, the discharge head is retracted to a maintenance area other than the capping area, and the micro-vibration applying means applies micro vibration to the discharge head during the retract. As a result, even when the nozzle surface of the discharge head is exposed to the outside air during the cap cleaning operation, the nozzles function well while finely vibrating the functional liquid in the nozzle so that the thickening of the functional liquid does not progress inside the nozzle. A proper discharge state can be maintained. When the work is to be finished after cleaning the inside of the cap, the power is turned off after the cap is brought into contact with the nozzle surface of the ejection head, and when the work is resumed, the maintenance process for the ejection head is performed. The maintenance process of the discharge head, which is performed when the operation is resumed or when the apparatus is started up, can be completed in a short time.

また、本発明に係る液滴吐出装置の制御方法は、複数のノズルが設けられたノズル面を
有し、当該ノズル面の各ノズルから機能液の液滴を吐出する吐出ヘッドと、吐出ヘッドの
ノズル面に接触可能なキャップを有し、当該キャップを介してノズルを吸引するキャッピ
ングユニットと、吐出ヘッドのノズル面をワイプ部材で払拭するワイピングユニットと、
吐出ヘッドのノズルから吐出された液滴を吐出対象物に着弾させる着弾エリアと、キャッ
ピングユニットが設けられたキャッピングエリア及びワイピングユニットが設けられたワ
イピングエリアを含むメンテナンスエリアとの間で、吐出ヘッドを相対的に移動させる移
動手段とを備えた液滴吐出装置の制御方法であって、キャッピングユニットのキャップ内
を洗浄している間、吐出ヘッドをキャッピングエリア以外のメンテナンスエリアに待避さ
せ、待避中に吐出ヘッドに対して微振動を付与し、キャップ内を洗浄した後、作業を終了
する場合は、吐出ヘッドのノズル面にキャップを当接させた後に電源を落とし、作業を再
開する場合は、吐出ヘッドのメンテナンス処理を実行することを特徴とする。
Also, a method for controlling a droplet discharge apparatus according to the present invention includes a discharge head that has a nozzle surface provided with a plurality of nozzles, discharges functional liquid droplets from each nozzle on the nozzle surface, A capping unit that has a cap that can contact the nozzle surface and sucks the nozzle through the cap; a wiping unit that wipes the nozzle surface of the ejection head with a wipe member;
The ejection head is placed between a landing area where droplets ejected from the nozzle of the ejection head land on the ejection target, and a maintenance area including a capping area where the capping unit is provided and a wiping area where the wiping unit is provided. A method for controlling a droplet discharge device having a moving means for relatively moving, wherein the discharge head is retracted to a maintenance area other than the capping area while the cap of the capping unit is being cleaned, When the work is to be finished after applying a slight vibration to the discharge head and cleaning the inside of the cap, when the cap is brought into contact with the nozzle surface of the discharge head, the power is turned off and the work is resumed. A head maintenance process is executed.

この液滴吐出装置の制御方法では、キャッピングユニットのキャップ内を洗浄している
間、吐出ヘッドをキャッピングエリア以外のメンテナンスエリアに待避させ、待避中に吐
出ヘッドに対して微振動を付与することによって、キャップの洗浄作業中に吐出ヘッドの
ノズル面が外気に晒される場合でも、ノズル内で機能液の増粘が進まないようにノズル内
の機能液を微振動させながら、ノズルの良好な吐出状態を維持することができる。そして
、キャップ内を洗浄した後、作業を終了する場合は、吐出ヘッドのノズル面にキャップを
当接させた後に電源を落とし、作業を再開する場合は、吐出ヘッドのメンテナンス処理を
実行することで、作業の再開時や装置の立上げ時に行う吐出ヘッドのメンテナンス処理を
短時間で完了することができる。
In this droplet discharge device control method, while the cap of the capping unit is being cleaned, the discharge head is retracted to a maintenance area other than the capping area, and a fine vibration is applied to the discharge head during the retract. Even when the nozzle surface of the discharge head is exposed to the outside air during the cap cleaning operation, the nozzle is in a good discharge state while slightly vibrating the functional liquid in the nozzle so that the thickening of the functional liquid does not progress inside the nozzle. Can be maintained. When the work is to be finished after cleaning the inside of the cap, the power is turned off after the cap is brought into contact with the nozzle surface of the ejection head, and when the work is resumed, the maintenance process for the ejection head is performed. The maintenance process of the discharge head, which is performed when the operation is resumed or when the apparatus is started up, can be completed in a short time.

なお、上記メンテナンス処理としては、上記キャッピングユニットによる吸引動作と、
上記ワイピングユニットによるワイピング動作と、上記吐出ヘッドのノズルから液滴を吐
出させるフラッシング動作とのうち何れか1つ以上を実行することができる。
As the maintenance process, a suction operation by the capping unit,
Any one or more of a wiping operation by the wiping unit and a flushing operation for discharging droplets from the nozzles of the discharge head can be executed.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
なお、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参
照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内の所定方向をX軸方向、
水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれ
と直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸ま
わりの回転(傾斜)方向をそれぞれ、θ、θ、及びθ方向とする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. And the predetermined direction in the horizontal plane is the X-axis direction,
In the horizontal plane, the direction orthogonal to the X-axis direction is defined as the Y-axis direction, and the direction orthogonal to each of the X-axis direction and the Y-axis direction (that is, the vertical direction) is defined as the Z-axis direction. In addition, the rotation (inclination) directions around the X axis, the Y axis, and the Z axis are the θ X , θ Y , and θ Z directions, respectively.

図1は、本実施形態に係る液滴吐出装置IJを示す概略構成図、図2は、本実施形態に
係る液滴吐出装置IJの一部を示す斜視図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a droplet discharge device IJ according to this embodiment, and FIG. 2 is a perspective view showing a part of the droplet discharge device IJ according to this embodiment.

液滴吐出装置IJは、機能液の液滴Dを基板(吐出対象物)Pに吐出することによって
、基板Pにデバイスパターン(描画パターン)を形成する。液滴吐出装置IJは、機能液
の液滴Dを吐出するノズル1が形成されたノズル面2を有する吐出ヘッド3と、ノズル面
2と対向する第1位置A1を含む所定領域で吐出ヘッド3に対して移動可能であり、Y軸
に沿って配置された複数の移動体4、5、6、7と、複数の移動体4、5、6、7をY軸
に沿って移動させる駆動装置8と、吐出ヘッド3に流路を介して接続され、吐出ヘッド3
に供給するための機能液を収容する機能液収容装置9と、液滴吐出装置IJ全体の動作を
制御する制御装置(制御手段)10とを備えている。
The droplet discharge device IJ forms a device pattern (drawing pattern) on the substrate P by discharging the droplet D of the functional liquid onto the substrate (discharge target) P. The droplet discharge device IJ has a discharge head 3 in a predetermined area including a discharge head 3 having a nozzle surface 2 on which a nozzle 1 for discharging a droplet D of a functional liquid is formed, and a first position A1 facing the nozzle surface 2. And a plurality of moving bodies 4, 5, 6, 7 arranged along the Y axis, and a drive device that moves the plurality of moving bodies 4, 5, 6, 7 along the Y axis 8 is connected to the discharge head 3 through a flow path, and the discharge head 3
A functional liquid storage device 9 that stores the functional liquid to be supplied to the liquid and a control device (control means) 10 that controls the operation of the entire droplet discharge device IJ.

本実施形態の液滴吐出装置IJは、複数の吐出ヘッド3を備えたマルチヘッドタイプの
液滴吐出装置であり、複数の吐出ヘッド3を支持するキャリッジ部材11を有する。また
、液滴吐出装置IJは、吐出ヘッド3の駆動を制御する駆動回路を含む制御器12を有す
る。制御器12は、制御装置10の指令に基づいて、吐出ヘッド3を駆動する。
The droplet discharge device IJ of this embodiment is a multi-head type droplet discharge device including a plurality of discharge heads 3 and includes a carriage member 11 that supports the plurality of discharge heads 3. Further, the droplet discharge device IJ includes a controller 12 including a drive circuit that controls the drive of the discharge head 3. The controller 12 drives the ejection head 3 based on a command from the control device 10.

基板Pは、例えば特開2006−114593号公報、特開2006−261146号
公報等に開示されているような、低温同時焼成セラミックス(LTCC:Low Temperatur
e Co-fired Ceramics)多層回路基板を形成するための基板であって、焼成前のLTCC
基板(グリーンシート)を含む。
The substrate P is made of low temperature co-fired ceramics (LTCC: Low Temperatur, as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2006-114593 and 2006-261146.
e Co-fired Ceramics) is a substrate for forming multilayer circuit boards, which is the LTCC before firing.
Includes substrate (green sheet).

本実施形態においては、機能液として、金属微粒子(導電性微粒子)を所定の分散媒に
分散したものを用いる。本実施形態においては、液滴吐出装置IJが、焼成前のLTCC
基板(グリーンシート)に、金属微粒子を含む機能液の液滴Dを吐出して、その液滴Dで
基板(グリーンシート)に配線パターンを形成する場合を例にして説明する。
In the present embodiment, a functional liquid in which metal fine particles (conductive fine particles) are dispersed in a predetermined dispersion medium is used. In the present embodiment, the droplet discharge device IJ has the LTCC before firing.
An example will be described in which a droplet D of a functional liquid containing metal fine particles is discharged onto a substrate (green sheet) and a wiring pattern is formed on the substrate (green sheet) with the droplet D.

液滴吐出装置IJは、4つの移動体4、5、6、7を有する。第1移動体4は、Y軸に
沿って配置された4つの移動体のうち、最も−Y側に配置されており、第4移動体7は、
最も+Y側に配置されている。すなわち、第1移動体4と第2移動体5とは、Y軸に沿っ
て配置された4つの移動体4、5、6、7のうち、Y軸方向に関して両端に配置されてい
る。第2移動体5及び第3移動体6は、第1移動体4と第4移動体7との間に配置されて
いる。
第2移動体5は、第3移動体6の−Y側に配置されている。
The droplet discharge device IJ has four moving bodies 4, 5, 6, and 7. The first moving body 4 is arranged closest to the −Y side among the four moving bodies arranged along the Y axis, and the fourth moving body 7 is
It is arranged on the most + Y side. That is, the 1st moving body 4 and the 2nd moving body 5 are arrange | positioned at both ends regarding the Y-axis direction among the four moving bodies 4, 5, 6, and 7 arrange | positioned along the Y-axis. The second moving body 5 and the third moving body 6 are disposed between the first moving body 4 and the fourth moving body 7.
The second moving body 5 is disposed on the −Y side of the third moving body 6.

第1移動体4は、液滴Dでパターンが形成される基板Pを保持しながら移動可能である
。第2、第3、第4移動体5、6、7は、吐出ヘッド3をメンテナンスするメンテナンス
ユニットを含む。具体的に、第2移動体5は、吐出ヘッド3のノズル1から吐出される液
滴Dの着弾精度を測定する着弾精度測定ユニット13を含む。第3移動体6は、吐出ヘッ
ド3のノズル面2に付着した付着物(異物)を除去するワイピングユニット14を含む。
第4移動体7は、吐出ヘッド3のノズル面2を覆うキャッピングユニット15を含む。
The first moving body 4 is movable while holding the substrate P on which a pattern is formed with the droplets D. The second, third, and fourth moving bodies 5, 6, and 7 include a maintenance unit that maintains the ejection head 3. Specifically, the second moving body 5 includes a landing accuracy measuring unit 13 that measures the landing accuracy of the droplet D discharged from the nozzle 1 of the discharge head 3. The third moving body 6 includes a wiping unit 14 that removes deposits (foreign matter) attached to the nozzle surface 2 of the ejection head 3.
The fourth moving body 7 includes a capping unit 15 that covers the nozzle surface 2 of the ejection head 3.

液滴吐出装置IJは、各移動体4、5、6、7を移動可能に支持する支持面16を有す
るベース部材17を備えている。各移動体4、5、6、7のそれぞれは、支持面16に沿
って移動可能である。支持面16は、XY平面とほぼ平行である。また、ベース部材17
の支持面16と、その支持面16と対向する各移動体4、5、6、7の対向面との間にエ
アベアリングが形成されている。各移動体4、5、6、7は、エアベアリングにより、支
持面16に対して非接触で支持される。
The droplet discharge device IJ includes a base member 17 having a support surface 16 that movably supports the moving bodies 4, 5, 6, and 7. Each of the moving bodies 4, 5, 6, 7 is movable along the support surface 16. The support surface 16 is substantially parallel to the XY plane. Further, the base member 17
An air bearing is formed between the support surface 16 and the opposing surfaces of the moving bodies 4, 5, 6, 7 facing the support surface 16. Each moving body 4, 5, 6, 7 is supported in a non-contact manner with respect to the support surface 16 by an air bearing.

また、液滴吐出装置IJは、複数の移動体4、5、6、7のY軸方向への移動を案内す
るガイド部材18を備えている。ガイド部材18は、Y軸方向に長い棒状の部材であり、
支持面16の上に配置されている。ガイド部材18の両端は、ガイド部材18の外側に配
置された支持部材19で支持されている。支持部材19は、床面20に支持されている。
また、ベース部材17は、床面20に支持されている支持部材21で支持されている。
The droplet discharge device IJ includes a guide member 18 that guides the movement of the plurality of moving bodies 4, 5, 6, 7 in the Y-axis direction. The guide member 18 is a rod-like member that is long in the Y-axis direction,
It is disposed on the support surface 16. Both ends of the guide member 18 are supported by support members 19 disposed outside the guide member 18. The support member 19 is supported on the floor surface 20.
The base member 17 is supported by a support member 21 supported by the floor surface 20.

駆動装置8は、リニアモータを含み、複数の移動体4、5、6、7のそれぞれを独立し
て移動可能である。駆動装置8は、ガイド部材18に配置されたリニアモータの固定子2
2と、ガイド部材18と対向する各移動体4、5、6、7の対向面のそれぞれに配置され
たリニアモータの可動子23、24、25、26とを有する。制御装置10は、リニアモ
ータを含む駆動装置8を用いて、各移動体4、5、6、7のそれぞれをベース部材17上
で独立して移動可能である。
The driving device 8 includes a linear motor and can move each of the plurality of moving bodies 4, 5, 6, 7 independently. The drive device 8 includes a linear motor stator 2 disposed on the guide member 18.
2 and linear motor movers 23, 24, 25, 26 arranged on the opposing surfaces of the movable bodies 4, 5, 6, 7 facing the guide member 18. The control device 10 can move each of the moving bodies 4, 5, 6, and 7 independently on the base member 17 using a driving device 8 including a linear motor.

また、駆動装置8は、複数の移動体4、5、6、7をY軸方向に移動させることによっ
て、各移動体4、5、6、7を第1位置A1へと移動させることが可能である。換言する
と、この駆動装置8は、移動手段として上記吐出ヘッド3を各移動体4、5、6、7に対
して相対的に移動させることが可能である。
Further, the driving device 8 can move each of the moving bodies 4, 5, 6, 7 to the first position A1 by moving the plurality of moving bodies 4, 5, 6, 7 in the Y-axis direction. It is. In other words, the driving device 8 can move the ejection head 3 as a moving means relative to the moving bodies 4, 5, 6, 7.

なお、液滴吐出装置IJは、例えば、基板P、着弾精度測定ユニット13、ワイピング
ユニット14、キャッピングユニット15などの各ユニットに対する吐出ヘッド3の相対
的な位置関係を変更できる構成であればよい。すなわち、吐出ヘッド3を相対的に移動さ
せる移動手段としては、上記固定された吐出ヘッド3に対向して配置された各ユニット(
移動体4〜7)を移動させる構成以外にも、固定された各ユニットに対向して配置された
吐出ヘッド3を移動させる構成としてもよい。また、吐出ヘッド3と、これに対向する各
ユニット(移動体4〜7)との両方を移動可能とし、互いの相対的な位置関係を変更する
構成としてもよい。また、吐出ヘッド3及び各ユニットの移動方向は、一方向のみに限定
されるものではなく、平面的に交わる二方向としてもよい。さらに、吐出ヘッド3の移動
方向と各ユニットの移動方向とが平面的に交わる方向となることで、互いの相対的な位置
関係を変更する構成としてもよい。
The droplet discharge device IJ may have any configuration that can change the relative positional relationship of the discharge head 3 with respect to each unit such as the substrate P, the landing accuracy measurement unit 13, the wiping unit 14, and the capping unit 15. That is, as a moving means for relatively moving the ejection head 3, each unit (facing to the fixed ejection head 3) (
In addition to the configuration in which the moving bodies 4 to 7) are moved, the configuration may be such that the ejection head 3 arranged to face each fixed unit is moved. Moreover, it is good also as a structure which enables movement of both the discharge head 3 and each unit (moving bodies 4-7) which opposes this, and changes mutual relative positional relationship. Further, the moving direction of the ejection head 3 and each unit is not limited to only one direction, and may be two directions that intersect in a plane. Furthermore, it is good also as a structure which changes a mutual relative positional relationship by becoming the direction where the moving direction of the discharge head 3 and the moving direction of each unit cross in a plane.

また、液滴吐出装置IJは、吐出ヘッド3と別の位置に配置され、第1移動体4に基板
Pを搬入する動作、及び第1移動体4から基板Pを搬出する動作の少なくとも一方を実行
する基板搬送装置27を備えている。基板搬送装置27の近傍には、基板Pを収容可能な
基板収容装置28が配置されている。
The droplet discharge device IJ is disposed at a position different from the discharge head 3 and performs at least one of the operation of loading the substrate P into the first moving body 4 and the operation of unloading the substrate P from the first moving body 4. A substrate transfer device 27 is provided. In the vicinity of the substrate transfer device 27, a substrate accommodation device 28 capable of accommodating the substrate P is disposed.

基板搬送装置27は、Y軸方向に関して第1位置A1と異なる第2位置A2に配置され
た第1移動体4に基板Pを搬入する動作、及び第1移動体4から基板Pを搬出する動作の
少なくとも一方を実行する。第1位置A1と第2位置A2とは、Y軸方向に関して離れて
いる。第1位置A1は、第2位置A2の+Y側の位置である。第1移動体4は、吐出ヘッ
ド3のノズル面2と対向する第1位置A1と、基板搬送装置27の近傍の第2位置A2と
の間を、ベース部材17の支持面16に沿って移動可能である。
The substrate transfer device 27 performs an operation of loading the substrate P into the first moving body 4 disposed at the second position A2 different from the first position A1 with respect to the Y-axis direction, and an operation of unloading the substrate P from the first moving body 4. Execute at least one of the following. The first position A1 and the second position A2 are separated with respect to the Y-axis direction. The first position A1 is a position on the + Y side of the second position A2. The first moving body 4 moves along the support surface 16 of the base member 17 between the first position A1 facing the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the second position A2 in the vicinity of the substrate transport device 27. Is possible.

基板搬送装置27は、例えば基板収容装置28に収容されている基板Pを、第2位置A
2に配置された第1移動体4に搬入可能である。また、基板搬送装置27は、第2位置A
2に配置された第1移動体4より基板Pを搬出し、基板収容装置28に収容可能である。
For example, the substrate transfer device 27 moves the substrate P accommodated in the substrate accommodation device 28 to the second position A.
It is possible to carry in the first moving body 4 arranged in 2. Further, the substrate transfer device 27 is moved to the second position A.
The substrate P can be unloaded from the first moving body 4 arranged at 2 and accommodated in the substrate accommodating device 28.

また、液滴吐出装置IJは、第1移動体4の移動経路の少なくとも一部に配置され、第
1移動体4の熱の周囲への放散を遮る断熱部材29を備えている。断熱部材29は、第1
移動体4を含む各移動体5、6、7の移動を妨げないように、ベース部材17の所定位置
に取り付けられている。
In addition, the droplet discharge device IJ includes a heat insulating member 29 that is disposed in at least a part of the moving path of the first moving body 4 and blocks heat dissipation of the first moving body 4 to the surroundings. The heat insulating member 29 is the first
The base member 17 is attached to a predetermined position so as not to hinder the movement of the mobile bodies 5, 6, 7 including the mobile body 4.

また、液滴吐出装置IJは、上述の吐出ヘッド3、キャリッジ部材11、移動体4、5
、6、7、ベース部材17、ガイド部材18、基板搬送装置27、基板収容装置28、断
熱部材29、機能液収容装置9、制御器12、及び制御装置10等の各機器、部材等を収
容するチャンバ本体30と、チャンバ本体30の内側の空間の環境(温度、湿度、クリー
ン度等)を調整可能な空調装置31とを有するチャンバ装置32を備えている。
Further, the droplet discharge device IJ includes the above-described discharge head 3, carriage member 11, moving bodies 4, 5.
, 6, 7, base member 17, guide member 18, substrate transfer device 27, substrate storage device 28, heat insulating member 29, functional liquid storage device 9, controller 12, control device 10, and other devices, members, etc. And a chamber device 32 having a chamber body 30 and an air conditioner 31 capable of adjusting the environment (temperature, humidity, cleanliness, etc.) of the space inside the chamber body 30.

図3及び図4を参照しながら、吐出ヘッド3について説明する。図3は、キャリッジ部
材11に支持された複数の吐出ヘッド3を下側から見た図、図4は、吐出ヘッド3の構造
の一例を説明するための断面図である。
The ejection head 3 will be described with reference to FIGS. 3 and 4. FIG. 3 is a view of the plurality of ejection heads 3 supported by the carriage member 11 as viewed from below, and FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining an example of the structure of the ejection head 3.

吐出ヘッド3は、ピエゾ素子(圧電素子)33に所定の駆動信号を供給して、そのピエ
ゾ素子33を変形させることによって、機能液を収容したキャビティ34の圧力を可撓性
の振動板(膜)35を介して変動させ、その圧力の変動を利用して、ノズル1より機能液
の液滴Dを吐出する、いわゆる電気機械変換方式の吐出ヘッドである。制御器12は、制
御装置10の指令に基づいて、吐出ヘッド3の駆動を制御する制御手段である。具体的に
、制御器12は、吐出ヘッド3のピエゾ素子33に所定の駆動信号を供給して、その駆動
信号に応じた大きさの液滴Dをノズル1のそれぞれより吐出させる。
The ejection head 3 supplies a predetermined drive signal to a piezo element (piezoelectric element) 33 and deforms the piezo element 33 so that the pressure of the cavity 34 containing the functional liquid is changed to a flexible diaphragm (film). ) And a discharge head of a so-called electromechanical conversion system that discharges the liquid droplet D of the functional liquid from the nozzle 1 using the pressure fluctuation. The controller 12 is a control unit that controls driving of the ejection head 3 based on a command from the control device 10. Specifically, the controller 12 supplies a predetermined drive signal to the piezo element 33 of the discharge head 3 and discharges droplets D having a size corresponding to the drive signal from each of the nozzles 1.

また、制御器12は、微振動付与手段として、吐出ヘッド3のピエゾ素子33に微振動
を発生させるための駆動信号(微振動電圧波形)を供給し、ノズル1から液滴Dが吐出さ
れない程度にピエゾ素子33を振動させる。これにより、吐出ヘッド3に微振動を付与す
ることができ、このような微振動が付与された吐出ヘッド3では、ノズル1内で機能液の
増粘が進まないようにノズル1内の機能液を微振動させながら、ノズル1から吐出される
液滴Dの良好な状態を維持することができる。
Further, the controller 12 supplies a drive signal (microvibration voltage waveform) for generating a microvibration to the piezo element 33 of the ejection head 3 as a microvibration applying unit, and the droplet D is not ejected from the nozzle 1. The piezo element 33 is vibrated. As a result, it is possible to apply a slight vibration to the discharge head 3, and in the discharge head 3 to which such a fine vibration is applied, the functional liquid in the nozzle 1 is prevented from increasing in viscosity within the nozzle 1. Can be maintained in a good state of the droplet D ejected from the nozzle 1.

図3に示すように、液滴吐出装置IJは、複数の吐出ヘッド3を有する。複数の吐出ヘ
ッド3は、キャリッジ部材11に支持されている。吐出ヘッド3は、機能液の液滴Dを吐
出するノズル1が形成されたノズル面2を有する。ノズル面2は、所定方向に長い形状(
本実施形態においてはほぼ長方形状)を有する。ノズル1は、ノズル面2において、所定
方向(ノズル面2の長手方向)に沿って複数形成されている。本実施形態においては、複
数のノズル1が並ぶ所定方向は、XY平面内においてX軸方向に対して傾斜する方向であ
る。
As shown in FIG. 3, the droplet discharge device IJ has a plurality of discharge heads 3. The plurality of ejection heads 3 are supported by the carriage member 11. The discharge head 3 has a nozzle surface 2 on which a nozzle 1 for discharging a droplet D of a functional liquid is formed. The nozzle surface 2 is long in a predetermined direction (
In this embodiment, it has a substantially rectangular shape). A plurality of nozzles 1 are formed on the nozzle surface 2 along a predetermined direction (longitudinal direction of the nozzle surface 2). In the present embodiment, the predetermined direction in which the plurality of nozzles 1 are arranged is a direction inclined with respect to the X-axis direction in the XY plane.

図4に示すように、吐出ヘッド3は、ヘッド本体36と、ヘッド本体36の下端に配置
されたプレート部材(ノズルプレート)37とを有する。ノズル1は、プレート部材37
に形成されている。プレート部材37は、上下方向に貫通する孔を複数有する。ノズル1
は、その孔の下端に配置されている。ノズル面2は、プレート部材37に配置されている
As shown in FIG. 4, the ejection head 3 includes a head main body 36 and a plate member (nozzle plate) 37 disposed at the lower end of the head main body 36. The nozzle 1 is a plate member 37.
Is formed. The plate member 37 has a plurality of holes penetrating in the vertical direction. Nozzle 1
Is disposed at the lower end of the hole. The nozzle surface 2 is disposed on the plate member 37.

吐出ヘッド3(プレート部材37)のノズル面2は、下側(−Z側)に向いている。吐
出ヘッド3からの液滴Dが吐出(供給)される基板Pの表面は、吐出ヘッド3のノズル面
2と対向するように、上側(+Z側)に向いている。第1移動体4は、基板Pの表面が上
側(+Z側)を向くように、基板Pを保持する。また、吐出ヘッド3のノズル面2は、X
Y平面とほぼ平行である。第1移動体4は、基板Pの表面とXY平面とがほぼ平行となる
ように、基板Pを保持する。制御装置10は、吐出ヘッド3のノズル面2と第1移動体4
に保持された基板Pの表面との間の距離(プラテンギャップ)を所定の値(例えば600
μm)に維持した状態で、ノズル1より基板Pに液滴Dを吐出する。
The nozzle surface 2 of the discharge head 3 (plate member 37) faces downward (−Z side). The surface of the substrate P on which the droplets D from the ejection head 3 are ejected (supplied) is directed upward (+ Z side) so as to face the nozzle surface 2 of the ejection head 3. The first moving body 4 holds the substrate P so that the surface of the substrate P faces upward (+ Z side). The nozzle surface 2 of the ejection head 3 is X
It is almost parallel to the Y plane. The first moving body 4 holds the substrate P so that the surface of the substrate P and the XY plane are substantially parallel. The control device 10 includes the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the first moving body 4.
A distance (platen gap) between the substrate P and the surface of the substrate P held at a predetermined value (for example, 600)
In the state maintained at μm), the droplet D is discharged from the nozzle 1 onto the substrate P.

また、吐出ヘッド3は、プレート部材37(ノズル1)の上方に形成されたキャビティ
(空間)34と、キャビティ34の上方に配置された可撓性の板(振動板)35と、振動
板35の上方に配置されたピエゾ素子33とを有する。キャビティ34は、複数のノズル
1のそれぞれに対応するように複数形成されている。キャビティ34は、流路を介して機
能液収容装置9と接続される。キャビティ34は、機能液収容装置9からの機能液を収容
し、ノズル1に供給する。
Further, the ejection head 3 includes a cavity (space) 34 formed above the plate member 37 (nozzle 1), a flexible plate (vibrating plate) 35 disposed above the cavity 34, and a vibrating plate 35. And a piezo element 33 disposed above the piezo-electric element. A plurality of cavities 34 are formed so as to correspond to each of the plurality of nozzles 1. The cavity 34 is connected to the functional liquid storage device 9 through a flow path. The cavity 34 stores the functional liquid from the functional liquid storage device 9 and supplies it to the nozzle 1.

振動板35は、上下方向に振動することによって、キャビティ34の圧力(容積)を変
動可能である。ピエゾ素子33は、振動板35を上下方向に振動可能である。ピエゾ素子
33は、複数のノズル1のそれぞれに対応するように複数配置されている。ピエゾ素子3
3は、制御器12からの駆動信号に基づいて振動板35を振動させ、キャビティ34の圧
力を変動させることによって、ノズル1より機能液の液滴Dを吐出させる。
The diaphragm 35 can vary the pressure (volume) of the cavity 34 by vibrating in the vertical direction. The piezo element 33 can vibrate the diaphragm 35 in the vertical direction. A plurality of piezo elements 33 are arranged so as to correspond to each of the plurality of nozzles 1. Piezo element 3
3, the vibration plate 35 is vibrated on the basis of the drive signal from the controller 12, and the pressure of the cavity 34 is fluctuated to discharge the functional liquid droplet D from the nozzle 1.

また、制御器12は、例えば特開2001−58433号公報に開示されているように
、ピエゾ素子33に供給する駆動信号(駆動波形)を調整して、ノズル1のそれぞれから
吐出される液滴Dの量(大きさ、体積)を調整可能である。
Further, the controller 12 adjusts the drive signal (drive waveform) supplied to the piezo element 33 as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-58433, and droplets ejected from each of the nozzles 1. The amount (size, volume) of D can be adjusted.

液滴吐出装置IJは、図1に示すように、複数の吐出ヘッド3を、それら複数の吐出ヘ
ッド3の位置がほぼ動かないように保持する保持装置38を備えている。保持装置38は
、キャリッジ部材11と、そのキャリッジ部材11を支持する支持機構39とを含む。支
持機構39は、チャンバ本体30の天井面(内面)に固定されている。すなわち、複数の
吐出ヘッド3は、キャリッジ部材11及び支持機構39を含む保持装置38を介して、チ
ャンバ本体30の天井面(内面)に対してほぼ動かないように保持されている。
As illustrated in FIG. 1, the droplet discharge device IJ includes a holding device 38 that holds the plurality of discharge heads 3 so that the positions of the plurality of discharge heads 3 do not substantially move. The holding device 38 includes a carriage member 11 and a support mechanism 39 that supports the carriage member 11. The support mechanism 39 is fixed to the ceiling surface (inner surface) of the chamber body 30. That is, the plurality of ejection heads 3 are held so as not to move substantially with respect to the ceiling surface (inner surface) of the chamber body 30 via the holding device 38 including the carriage member 11 and the support mechanism 39.

支持機構39は、キャリッジ部材11を微動可能なアクチュエータを含む。支持機構3
9は、キャリッジ部材11を、X軸、Y軸、Z軸、θ、θ、及びθ方向の6自由度
の方向に微動可能である。
The support mechanism 39 includes an actuator that can finely move the carriage member 11. Support mechanism 3
9, the carriage member 11 can be finely moved in directions of six degrees of freedom in the X axis, Y axis, Z axis, θ X , θ Y , and θ Z directions.

次に、図5を参照しながら、第1移動体4について説明する。図5(A)は、第1移動
体4を示す斜視図、図5(B)は、第1移動体4を−Y側から見た図である。
Next, the first moving body 4 will be described with reference to FIG. FIG. 5A is a perspective view showing the first moving body 4, and FIG. 5B is a view of the first moving body 4 as viewed from the −Y side.

第1移動体4は、液滴Dでパターンが形成される基板Pを保持しながら移動可能である
。第1移動体4は、リニアモータの可動子23を有する第1可動部材40と、第1可動部
材40に搭載され、基板Pを保持する保持機構41を有するホルダ部材42とを備える。
ベース部材17の支持面16と対向する第1可動部材40の下面には、エアベアリング4
3が形成されている。第1可動部材40は、エアベアリング43により、支持面16に対
して非接触で支持される。第1移動体4のホルダ部材42は、基板Pの表面と吐出ヘッド
3のノズル面2とが対向するように、且つ、基板Pの表面とXY平面とがほぼ平行となる
ように、基板Pを保持する。
The first moving body 4 is movable while holding the substrate P on which a pattern is formed with the droplets D. The first movable body 4 includes a first movable member 40 having a mover 23 of a linear motor, and a holder member 42 having a holding mechanism 41 mounted on the first movable member 40 and holding the substrate P.
On the lower surface of the first movable member 40 facing the support surface 16 of the base member 17, the air bearing 4
3 is formed. The first movable member 40 is supported by the air bearing 43 without contact with the support surface 16. The holder member 42 of the first moving body 4 is configured so that the surface of the substrate P and the nozzle surface 2 of the ejection head 3 face each other, and the surface of the substrate P and the XY plane are substantially parallel. Hold.

上述のように、本実施形態の基板Pはグリーンシートを含み、そのグリーンシートには
厚み方向に貫通する孔(ビア)が形成されている。基板P(グリーンシート)の裏面には
、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)で形成されたフィルムFが貼り付けられ
ており、第1移動体4のホルダ部材42は、フィルムFに支持された状態の基板Pを保持
する。すなわち、本実施形態においては、第1移動体4のホルダ部材42は、フィルムF
を介して基板P(グリーンシート)を保持する。
As described above, the substrate P of the present embodiment includes a green sheet, and a hole (via) penetrating in the thickness direction is formed in the green sheet. A film F formed of, for example, polyethylene terephthalate (PET) is attached to the back surface of the substrate P (green sheet), and the holder member 42 of the first moving body 4 is a substrate supported by the film F. Hold P. That is, in the present embodiment, the holder member 42 of the first moving body 4 is the film F.
The substrate P (green sheet) is held via

第1可動部材40の下面には、ガイド部材18を配置可能な凹部44が形成されている
。第1可動部材40の凹部44の内面は、ガイド部材18と対向する。上述のように、ガ
イド部材18には、リニアモータの固定子22が配置されている。ガイド部材18と対向
する第1可動部材40の凹部44の内面には、リニアモータの可動子23が配置される。
固定子22及び可動子23を含む駆動装置8は、第1可動部材40をY軸方向に移動可能
である。また、第1可動部材40のY軸方向への移動に伴って、その第1可動部材40に
搭載されているホルダ部材42(基板P)も、第1可動部材40と一緒にY軸方向に移動
する。
A concave portion 44 in which the guide member 18 can be disposed is formed on the lower surface of the first movable member 40. The inner surface of the recess 44 of the first movable member 40 faces the guide member 18. As described above, the linear motor stator 22 is disposed on the guide member 18. A mover 23 of a linear motor is disposed on the inner surface of the recess 44 of the first movable member 40 facing the guide member 18.
The drive device 8 including the stator 22 and the mover 23 can move the first movable member 40 in the Y-axis direction. As the first movable member 40 moves in the Y-axis direction, the holder member 42 (substrate P) mounted on the first movable member 40 also moves in the Y-axis direction together with the first movable member 40. Moving.

第1可動部材40とホルダ部材42との間には、複数のアクチュエータ45が配置され
ている。アクチュエータ45は、例えばピエゾ素子を含む。制御装置10は、これらアク
チュエータ45を制御することによって、第1可動部材40上で、基板Pを保持したホル
ダ部材42を移動(微動)可能である。基板Pを保持したホルダ部材42は、アクチュエ
ータ45によって、第1可動部材40上で、X軸、Y軸、Z軸、θ、θ、及びθ
向の6自由度の方向に移動(微動)可能である。
A plurality of actuators 45 are disposed between the first movable member 40 and the holder member 42. The actuator 45 includes, for example, a piezo element. The control device 10 can move (finely move) the holder member 42 holding the substrate P on the first movable member 40 by controlling these actuators 45. The holder member 42 holding the substrate P is moved by the actuator 45 on the first movable member 40 in directions of six degrees of freedom in the X axis, Y axis, Z axis, θ X , θ Y , and θ Z directions ( Fine movement) is possible.

吐出ヘッド3から吐出された液滴Dを基板Pに供給するために、制御装置10は、駆動
装置8を用いて第1移動体4を移動して、吐出ヘッド3のノズル面2と対向する第1位置
A1に、第1移動体4(ホルダ部材42)に保持されている基板Pを配置する。また、制
御装置10は、第1可動部材40とホルダ部材42との間に配置されているアクチュエー
タ45を用いて、ノズル面2のノズル1から吐出された液滴Dが基板Pの所定位置に供給
されるように、吐出ヘッド3のノズル面2と第1移動体4に保持されている基板Pの表面
との間の距離(プラテンギャップ)、吐出ヘッド3のノズル面2と第1移動体4に保持さ
れている基板Pの表面との傾斜方向(θ、θ方向)の位置関係、及び回転方向(θ
方向)の位置関係を調整する。制御装置10は、アクチュエータ45を用いて、吐出ヘッ
ド3のノズル面2と基板Pの表面とがほぼ平行となるように、且つ、プラテンギャップが
所定の値になるように、吐出ヘッド3のノズル面2と第1移動体4に保持されている基板
Pの表面との位置関係を調整する。
In order to supply the droplets D ejected from the ejection head 3 to the substrate P, the control device 10 moves the first moving body 4 using the driving device 8 and faces the nozzle surface 2 of the ejection head 3. The board | substrate P currently hold | maintained at the 1st moving body 4 (holder member 42) is arrange | positioned in 1st position A1. In addition, the control device 10 uses the actuator 45 disposed between the first movable member 40 and the holder member 42 so that the droplet D ejected from the nozzle 1 on the nozzle surface 2 is placed at a predetermined position on the substrate P. The distance (platen gap) between the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the surface of the substrate P held by the first moving body 4, the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the first moving body, as supplied. 4, the positional relationship in the tilt direction (θ X , θ Y direction) with the surface of the substrate P held by 4, and the rotation direction (θ Z
(Direction) is adjusted. The control device 10 uses the actuator 45 to make the nozzles of the ejection head 3 so that the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the surface of the substrate P are substantially parallel and the platen gap is a predetermined value. The positional relationship between the surface 2 and the surface of the substrate P held by the first moving body 4 is adjusted.

また、吐出ヘッド3のノズル面2と対向可能なホルダ部材42の上面のうち、基板Pを
保持する保持機構41のY軸方向両側には、フラッシングエリア46が設けられている。
フラッシングエリア46は、吐出ヘッド3のノズル2から吐出された液滴Dを吸収可能な
多孔部材の上面で形成されている。多孔部材は、例えばスポンジ状の部材を含む。制御装
置10は、吐出ヘッド3より基板Pに液滴Dを供給する前に、吐出ヘッド3のノズル1と
ホルダ部材42のフラッシングエリア46とを対向させた状態で、ノズル1より液滴Dを
予め吐出する動作、いわゆるフラッシング動作を実行する。
Further, flushing areas 46 are provided on both sides in the Y-axis direction of the holding mechanism 41 that holds the substrate P on the upper surface of the holder member 42 that can face the nozzle surface 2 of the ejection head 3.
The flushing area 46 is formed on the upper surface of a porous member capable of absorbing the droplet D ejected from the nozzle 2 of the ejection head 3. The porous member includes, for example, a sponge-like member. The controller 10 supplies the droplet D from the nozzle 1 with the nozzle 1 of the ejection head 3 and the flushing area 46 of the holder member 42 facing each other before supplying the droplet D to the substrate P from the ejection head 3. An operation of discharging in advance, a so-called flushing operation is performed.

また、第1移動体4は、基板Pを加熱する加熱装置47を有する。加熱装置47は、ホ
ルダ部材42に設けられている。制御装置10は、ホルダ部材42の加熱装置47を用い
て、そのホルダ部材42に保持されている基板Pを加熱可能である。
Further, the first moving body 4 includes a heating device 47 that heats the substrate P. The heating device 47 is provided on the holder member 42. The control device 10 can heat the substrate P held by the holder member 42 using the heating device 47 of the holder member 42.

加熱装置47は、吐出ヘッド3のノズル1より吐出され、基板Pに供給された(接触し
た)液滴Dに含まれる液体成分を瞬時に気化可能である。液滴吐出装置IJは、加熱装置
47を用いて基板Pを加熱しつつ、その加熱された基板Pに吐出ヘッド3のノズル1より
液滴Dを供給することによって、基板Pに接触した液滴Dを瞬時に乾燥可能である。
The heating device 47 can instantaneously vaporize the liquid component contained in the droplet D discharged from the nozzle 1 of the discharge head 3 and supplied (contacted) to the substrate P. The droplet discharge device IJ uses the heating device 47 to heat the substrate P, and supplies the droplet D to the heated substrate P from the nozzle 1 of the discharge head 3 to thereby contact the substrate P with the droplet D. D can be dried instantly.

また、基板Pを加熱しつつ、その基板Pに液滴Dを供給することにより、ピニング現象
を生じさせることができる。基板Pに供給された後の液滴Dの乾燥過程においては、液滴
Dの周縁部における固形分濃度が飽和濃度に達すると、その周縁部において固形分が局所
的に析出する。すると、その析出した固形分によって液滴Dの周縁部がピン止めされたよ
うな状態となり、それ以降の乾燥に伴う液滴Dの収縮(外径の収縮)が抑制される。この
ように、周縁部に析出した固形分によって乾燥に伴う液滴Dの収縮が抑制される現象(ピ
ニング現象)を生じさせることによって、基板Pに形成される描画パターン(本実施形態
においては配線パターン)のエッジ(外形)を良好に規定することができる。
Further, by supplying the droplet D to the substrate P while heating the substrate P, the pinning phenomenon can be caused. In the drying process of the droplet D after being supplied to the substrate P, when the solid content concentration at the peripheral portion of the droplet D reaches the saturation concentration, the solid content locally precipitates at the peripheral portion. Then, the peripheral portion of the droplet D is pinned by the deposited solid content, and the contraction of the droplet D (outer diameter contraction) accompanying the subsequent drying is suppressed. In this way, a drawing pattern (in this embodiment, a wiring) formed on the substrate P by causing a phenomenon (pinning phenomenon) in which the shrinkage of the droplet D due to drying is suppressed by the solid content deposited on the peripheral edge portion. The edge (outer shape) of the (pattern) can be well defined.

なお、例えば特開2005−28276号公報、特開2005−144324号公報等
に開示されているように、基板Pの表面に配置された液滴Dの乾燥条件、対流条件等を調
整して、基板Pに吐出(供給)された液滴Dに、ピニング現象を生じさせるようにしても
よい。
For example, as disclosed in JP-A-2005-28276, JP-A-2005-144324, etc., adjusting the drying conditions, convection conditions, etc. of the droplets D arranged on the surface of the substrate P, You may make it produce the pinning phenomenon in the droplet D discharged (supplied) to the substrate P.

以下の説明において、第1移動体4の基板Pを第1位置A1に配置して、吐出ヘッド3
のノズル1から吐出された液滴Dを基板Pに着弾させて基板Pにパターンを形成する工程
を適宜、描画工程(着弾工程)と称し、そのような動作が行われる領域(第1移動体4)
は、本発明の描画エリア(着弾エリア)に対応する。
In the following description, the substrate P of the first moving body 4 is disposed at the first position A1, and the ejection head 3 is disposed.
The step of causing the droplets D discharged from the nozzle 1 to land on the substrate P and forming a pattern on the substrate P is appropriately referred to as a drawing step (landing step), and a region in which such an operation is performed (first moving body). 4)
Corresponds to the drawing area (landing area) of the present invention.

次に、図6及び図7を参照しながら、第2移動体5について説明する。図6は、第2移
動体5を−X側から見た図、図7は、第2移動体5の動作の一例を説明するための図であ
る。第2移動体5は、吐出ヘッド3のノズル1から吐出される液滴Dの着弾精度を測定す
る着弾精度測定ユニット13を含む。
Next, the 2nd mobile body 5 is demonstrated, referring FIG.6 and FIG.7. FIG. 6 is a diagram of the second moving body 5 as viewed from the −X side, and FIG. 7 is a diagram for explaining an example of the operation of the second moving body 5. The second moving body 5 includes a landing accuracy measuring unit 13 that measures the landing accuracy of the droplet D discharged from the nozzle 1 of the discharge head 3.

着弾精度測定ユニット13は、図6に示すように、吐出ヘッド3のノズル面2と対向し
た状態で、ノズル面2に対して相対的に移動可能な記録面70を有する帯状のシート部材
71と、シート部材71の記録面70を送るための送り機構72と、シート部材71及び
送り機構72を収容するハウジング部材73とを有する。また、シート部材71の少なく
とも一部は、吐出ヘッド3と対向可能なハウジング部材73の上面に形成された開口73
aより露出しており、吐出ヘッド3のノズル面2と対向可能である。
As shown in FIG. 6, the landing accuracy measuring unit 13 includes a belt-like sheet member 71 having a recording surface 70 that is movable relative to the nozzle surface 2 in a state of facing the nozzle surface 2 of the ejection head 3. And a feeding mechanism 72 for feeding the recording surface 70 of the sheet member 71 and a housing member 73 for accommodating the sheet member 71 and the feeding mechanism 72. Further, at least a part of the sheet member 71 is an opening 73 formed on the upper surface of the housing member 73 that can face the ejection head 3.
It is exposed from a and can face the nozzle surface 2 of the ejection head 3.

シート部材71は、吐出ヘッド3の各ノズル1から吐出された液滴Dの着弾位置が記録
可能な記録媒体(測定部材)として、例えばロール紙などの記録紙を用いることができる
For the sheet member 71, for example, a recording paper such as a roll paper can be used as a recording medium (measuring member) on which the landing positions of the droplets D discharged from the nozzles 1 of the discharge head 3 can be recorded.

送り機構72は、シート部材71を供給する供給リール74と、供給リール74から供
給されたシート部材71を巻き取る巻取リール75と、これら供給リール74及び巻取リ
ール75を回転させる回転モータ等のアクチュエータ76、77とを有し、制御装置10
がアクチュエータ76、77を制御することによって、シート部材71を供給リール74
から巻取リール75へと送ることができる。
The feed mechanism 72 includes a supply reel 74 that supplies the sheet member 71, a take-up reel 75 that takes up the sheet member 71 supplied from the supply reel 74, a rotation motor that rotates the supply reel 74 and the take-up reel 75, and the like. Actuators 76 and 77, and the control device 10
Controls the actuators 76 and 77 to feed the sheet member 71 to the supply reel 74.
To the take-up reel 75.

第2移動体5は、リニアモータの可動子24を有する第2可動部材78を有し、着弾精
度測定ユニット13のハウジング部材73は、第2可動部材78上に搭載されている。上
述の第1可動部材40と同様、ベース部材17の支持面16と対向する第2可動部材78
の下面にはエアベアリングが形成されており、第2可動部材78は、支持面16に対して
非接触で支持される。また、上述の第1可動部材40と同様、第2可動部材78の下面に
は、ガイド部材18を配置可能な凹部が形成されており、可動子24は、ガイド部材18
と対向する第2可動部材78の凹部の内面に配置されている。固定子22及び可動子24
を含む駆動装置8は、第2可動部材78をY軸方向に移動可能である。また、第2可動部
材78のY軸方向への移動に伴って、その第2可動部材78に搭載されている着弾精度測
定ユニット13のハウジング部材73も、第2可動部材78と一緒にY軸方向に移動する
The second moving body 5 includes a second movable member 78 having a linear motor movable element 24, and the housing member 73 of the landing accuracy measuring unit 13 is mounted on the second movable member 78. Similar to the first movable member 40 described above, the second movable member 78 facing the support surface 16 of the base member 17.
An air bearing is formed on the lower surface of the second movable member 78, and the second movable member 78 is supported in a non-contact manner with respect to the support surface 16. Similarly to the first movable member 40 described above, a recess in which the guide member 18 can be disposed is formed on the lower surface of the second movable member 78.
Are disposed on the inner surface of the concave portion of the second movable member 78 facing each other. Stator 22 and mover 24
Can move the second movable member 78 in the Y-axis direction. As the second movable member 78 moves in the Y-axis direction, the housing member 73 of the landing accuracy measuring unit 13 mounted on the second movable member 78 also moves together with the second movable member 78 in the Y-axis direction. Move in the direction.

また、上述の第1移動体4と同様、第2可動部材78とハウジング部材73との間には
複数のアクチュエータ79が配置されている。制御装置10は、これらアクチュエータ7
9を制御することによって、第2可動部材78上で、ハウジング部材73を移動(微動)
可能である。ハウジング部材73は、アクチュエータ79によって、第2可動部材78上
で、X軸、Y軸、Z軸、θ、θ、及びθ方向の6自由度の方向に移動(微動)可能
である。また、着弾精度測定ユニット13のシート部材71及びローラを含む送り機構7
2は、ハウジング部材73の移動に伴って、第2可動部材78上で、ハウジング部材73
と一緒に移動する。
Further, similarly to the first moving body 4 described above, a plurality of actuators 79 are arranged between the second movable member 78 and the housing member 73. The control device 10 includes these actuators 7
9, the housing member 73 is moved (finely moved) on the second movable member 78.
Is possible. The housing member 73 can be moved (finely moved) on the second movable member 78 by the actuator 79 in directions of six degrees of freedom in the X axis, Y axis, Z axis, θ X , θ Y , and θ Z directions. . Further, the feed mechanism 7 including the sheet member 71 of the landing accuracy measuring unit 13 and a roller.
2 on the second movable member 78 as the housing member 73 moves.
Move with.

吐出ヘッド3の各ノズル1から吐出される液滴Dの着弾精度を測定するために、先ず、
制御装置10は、駆動装置8を用いて第2移動体5を移動して、吐出ヘッド3のノズル面
2と対向する第1位置A1に、第2移動体5の着弾精度測定ユニット13を配置する。
In order to measure the landing accuracy of the droplet D ejected from each nozzle 1 of the ejection head 3, first,
The control device 10 moves the second moving body 5 using the driving device 8 and arranges the landing accuracy measuring unit 13 of the second moving body 5 at the first position A1 facing the nozzle surface 2 of the ejection head 3. To do.

次に、制御装置10は、第2可動部材78とハウジング部材73との間に配置されてい
るアクチュエータ79を用いて、吐出ヘッド3のノズル面2とシート部材71の記録面7
0とが平行となるように、その位置関係を調整する。
Next, the control device 10 uses the actuator 79 disposed between the second movable member 78 and the housing member 73 to use the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the recording surface 7 of the sheet member 71.
The positional relationship is adjusted so that 0 is parallel.

そして、着弾精度測定ユニット13は、図7に示すように、供給リール74と巻取リー
ル75との間のシート部材71に対して吐出ヘッド3の各ノズル1から液滴Dを吐出し、
シート部材71の記録面70に着弾させる。そして、このシート部材71の記録面70に
記録された液滴Dの着弾位置から、各ノズル1から吐出される液滴Dの着弾精度を測定す
ることができる。
Then, as shown in FIG. 7, the landing accuracy measuring unit 13 discharges the droplet D from each nozzle 1 of the discharge head 3 to the sheet member 71 between the supply reel 74 and the take-up reel 75,
It is landed on the recording surface 70 of the sheet member 71. The landing accuracy of the droplet D ejected from each nozzle 1 can be measured from the landing position of the droplet D recorded on the recording surface 70 of the sheet member 71.

以下の説明において、第2移動体5を第1位置A1に配置して、吐出ヘッド3のノズル
1から吐出される液滴Dの着弾精度を測定する工程を適宜、着弾精度測定工程と称し、そ
のような動作が行われる領域(第2移動体5)は、本発明の着弾精度測定エリアに対応す
る。
In the following description, the step of measuring the landing accuracy of the droplet D discharged from the nozzle 1 of the discharge head 3 by arranging the second moving body 5 at the first position A1 is appropriately referred to as a landing accuracy measurement step. The region (second moving body 5) where such an operation is performed corresponds to the landing accuracy measurement area of the present invention.

次に、図8及び図9を参照しながら、第3移動体6について説明する。図8は、第3移
動体6を−X側から見た図、図9は、第3移動体6の動作の一例を説明するための図であ
る。第3移動体6は、吐出ヘッド3のノズル面2に付着した付着物(異物)を除去するワ
イピングユニット14を含む。吐出ヘッド3のノズル面2に付着した付着物(異物)は、
機能液の液滴Dが付着したもの等を含む。
Next, the third moving body 6 will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is a view of the third moving body 6 as viewed from the −X side, and FIG. 9 is a view for explaining an example of the operation of the third moving body 6. The third moving body 6 includes a wiping unit 14 that removes deposits (foreign matter) attached to the nozzle surface 2 of the ejection head 3. Deposits (foreign matter) adhering to the nozzle surface 2 of the discharge head 3 are
Including functional liquid droplets D attached thereto.

ワイピングユニット14は、図8に示すように、吐出ヘッド3のノズル面2と対向した
状態で、ノズル面2に対して相対的に移動可能なワイピング面57aを有する帯状のワイ
プ部材57と、ワイプ部材57のワイピング面57aを移動(走行)させるための駆動機
構58と、ワイプ部材57及び駆動機構58を収容するハウジング部材59とを有する。
また、ワイプ部材57の少なくとも一部は、吐出ヘッド3と対向可能なハウジング部材5
9の上面に形成された開口60より露出(突出)しており、吐出ヘッド3のノズル面2と
対向可能である。
As shown in FIG. 8, the wiping unit 14 includes a belt-like wipe member 57 having a wiping surface 57a that is movable relative to the nozzle surface 2 in a state of facing the nozzle surface 2 of the ejection head 3, and a wipe. It has a drive mechanism 58 for moving (running) the wiping surface 57 a of the member 57, and a housing member 59 that houses the wipe member 57 and the drive mechanism 58.
Further, at least a part of the wiping member 57 is a housing member 5 that can face the ejection head 3.
9 is exposed (projects) from an opening 60 formed on the upper surface of the nozzle 9 and can face the nozzle surface 2 of the ejection head 3.

ワイプ部材57は、液体を吸収可能な材料、例えば液体を吸収可能な不織布などからな
る。また、ワイプ部材57は、例えばポリエステル等の織布であってもよい。
The wipe member 57 is made of a material that can absorb liquid, for example, a nonwoven fabric that can absorb liquid. The wipe member 57 may be a woven fabric such as polyester.

駆動機構58は、ワイプ部材57を供給する供給リール61と、供給リール61から供
給されたワイプ部材57を巻き取る巻取リール62と、これら供給リール61及び巻取リ
ール62を回転させる回転モータ等のアクチュエータ64、65とを有し、制御装置10
がアクチュエータ64、65を制御することによって、ワイプ部材57を供給リール61
から巻取リール62へと所定速度で移動(走行)させることができる。
The drive mechanism 58 includes a supply reel 61 that supplies the wipe member 57, a take-up reel 62 that takes up the wipe member 57 supplied from the supply reel 61, a rotation motor that rotates the supply reel 61 and the take-up reel 62, and the like. Actuators 64 and 65, and the control device 10
Controls the actuators 64, 65, thereby wiping the wipe member 57 into the supply reel 61.
To the take-up reel 62 at a predetermined speed.

また、ワイピングユニット14は、吐出ヘッド3のノズル面2に最も近い位置に配置さ
れ、吐出ヘッド3のノズル面2と対向するワイプ部材57のワイピング面57aと反対側
の面を支持する払拭ローラ63と、供給リール61と払拭ローラ63との間でワイプ部材
57の張力を調整可能な一対のテンションローラ68と、巻取リール62と払拭ローラ6
3との間でワイプ部材57の移動(走行)を案内するガイドローラ69とを備える。
Further, the wiping unit 14 is disposed at a position closest to the nozzle surface 2 of the ejection head 3, and a wiping roller 63 that supports a surface opposite to the wiping surface 57 a of the wiping member 57 facing the nozzle surface 2 of the ejection head 3. A pair of tension rollers 68 capable of adjusting the tension of the wipe member 57 between the supply reel 61 and the wiping roller 63, the take-up reel 62 and the wiping roller 6
3 and a guide roller 69 that guides the movement (running) of the wipe member 57.

第3移動体6は、リニアモータの可動子25を有する第3可動部材66を有し、ワイピ
ングユニット14のハウジング部材59は、第3可動部材66上に搭載されている。上述
の第1可動部材40と同様、ベース部材17の支持面16と対向する第3可動部材66の
下面にはエアベアリングが形成されており、第3可動部材66は、支持面16に対して非
接触で支持される。また、上述の第1可動部材40と同様、第3可動部材66の下面には
、ガイド部材18を配置可能な凹部が形成されており、可動子25は、ガイド部材18と
対向する第3可動部材66の凹部の内面に配置されている。固定子22及び可動子25を
含む駆動装置8は、第3可動部材66をY軸方向に移動可能である。また、第3可動部材
66のY軸方向への移動に伴って、その第3可動部材66に搭載されているワイピングユ
ニット14のハウジング部材59も、第3可動部材66と一緒にY軸方向に移動する。
The third moving body 6 includes a third movable member 66 having a linear motor movable element 25, and the housing member 59 of the wiping unit 14 is mounted on the third movable member 66. Similar to the first movable member 40 described above, an air bearing is formed on the lower surface of the third movable member 66 facing the support surface 16 of the base member 17, and the third movable member 66 is in contact with the support surface 16. Supported without contact. Similarly to the first movable member 40 described above, a concave portion in which the guide member 18 can be disposed is formed on the lower surface of the third movable member 66, and the movable element 25 is a third movable member facing the guide member 18. The member 66 is disposed on the inner surface of the recess. The drive device 8 including the stator 22 and the movable element 25 can move the third movable member 66 in the Y-axis direction. As the third movable member 66 moves in the Y-axis direction, the housing member 59 of the wiping unit 14 mounted on the third movable member 66 also moves in the Y-axis direction together with the third movable member 66. Moving.

また、上述の第1移動体4と同様、第3可動部材66とハウジング部材59との間には
複数のアクチュエータ67が配置されている。制御装置10は、これらアクチュエータ6
7を制御することによって、第3可動部材66上で、ハウジング部材59を移動(微動)
可能である。ハウジング部材59は、アクチュエータ67によって、第3可動部材66上
で、X軸、Y軸、Z軸、θ、θ、及びθ方向の6自由度の方向に移動(微動)可能
である。また、ワイピングユニット14のワイプ部材57及びローラを含む駆動機構58
は、ハウジング部材59の移動に伴って、第3可動部材66上で、ハウジング部材59と
一緒に移動する。
Further, similarly to the first moving body 4 described above, a plurality of actuators 67 are arranged between the third movable member 66 and the housing member 59. The control device 10 includes these actuators 6
7, the housing member 59 is moved (finely moved) on the third movable member 66.
Is possible. The housing member 59 can be moved (finely moved) on the third movable member 66 by the actuator 67 in directions of six degrees of freedom in the X axis, Y axis, Z axis, θ X , θ Y , and θ Z directions. . The driving mechanism 58 includes a wipe member 57 of the wiping unit 14 and a roller.
Moves along with the housing member 59 on the third movable member 66 as the housing member 59 moves.

ワイプ部材57で吐出ヘッド3のノズル面2を払拭するために、先ず、制御装置10は
、駆動装置8を用いて第3移動体6を移動して、吐出ヘッド3のノズル面2と対向する第
1位置A1に、第3移動体6のワイピングユニット14を配置する。
In order to wipe the nozzle surface 2 of the ejection head 3 with the wipe member 57, first, the control device 10 moves the third moving body 6 using the driving device 8 to face the nozzle surface 2 of the ejection head 3. The wiping unit 14 of the third moving body 6 is disposed at the first position A1.

次に、制御装置10は、第3可動部材66とハウジング部材59との間に配置されてい
るアクチュエータ67を用いて、ワイピング面57aでノズル面2を払拭できるように、
吐出ヘッド3のノズル面2と払拭ローラ63に支持されている部分のワイプ部材57のワ
イピング面57aとの位置関係を調整する。具体的に、アクチュエータ67によりハウジ
ング部材59がZ軸方向に移動するのに伴って、ワイプ部材57を支持する払拭ローラ6
3もZ軸方向に移動する。そして、吐出ヘッド3のノズル面2と払拭ローラ63の外周面
に掛け合わされたワイプ部材57のワイピング面57aとを所定の圧力で接触させる。
Next, the control device 10 can wipe the nozzle surface 2 with the wiping surface 57a using the actuator 67 disposed between the third movable member 66 and the housing member 59.
The positional relationship between the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the wiping surface 57a of the wipe member 57 at the portion supported by the wiping roller 63 is adjusted. Specifically, the wiping roller 6 that supports the wipe member 57 as the housing member 59 is moved in the Z-axis direction by the actuator 67.
3 also moves in the Z-axis direction. Then, the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the wiping surface 57 a of the wiping member 57 that is engaged with the outer peripheral surface of the wiping roller 63 are brought into contact with each other with a predetermined pressure.

次に、制御装置10は、供給リール61及び巻取リール62を駆動して、吐出ヘッド3
のノズル面2に対してワイプ部材57のワイピング面57aを移動(走行)させる。
Next, the control device 10 drives the supply reel 61 and the take-up reel 62 to discharge the ejection head 3.
The wiping surface 57a of the wiping member 57 is moved (traveled) with respect to the nozzle surface 2.

そして、ワイピングユニット14は、図9に示すように、吐出ヘッド3のノズル面2と
払拭ローラ63の外周面に掛け合わされたワイプ部材57のワイピング面57aとを接触
させた状態で、この吐出ヘッド3のノズル面2に対してワイプ部材57を相対的に移動(
走行)させながら、ノズル面2をワイプ部材57のワイピング面57aで払拭することに
よって、このノズル面2に付着した付着物(異物)を除去するワイピング動作を行う。
Then, as shown in FIG. 9, the wiping unit 14 is in a state where the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the wiping surface 57 a of the wiping member 57 engaged with the outer peripheral surface of the wiping roller 63 are in contact with each other. 3 move the wipe member 57 relative to the nozzle surface 2 (
The wiping operation is performed to remove deposits (foreign matter) adhering to the nozzle surface 2 by wiping the nozzle surface 2 with the wiping surface 57a of the wiping member 57.

本実施形態において、ワイピングユニット14は、供給リール61と巻取リール62と
の間で走行されるワイプ部材57によって吐出ヘッド3のノズル面2を払拭する構成のた
め、ワイプ部材57のワイピング面57aを常に吐出ヘッド3のノズル面2を払拭するの
に適した状態に保つことができる。そして、液体を吸収可能な材料からなるワイプ部材5
7によって、吐出ヘッド3のノズル面2に付着した液滴D等の付着物を適切に払拭し除去
することができる。
In the present embodiment, the wiping unit 14 has a configuration in which the nozzle surface 2 of the ejection head 3 is wiped by the wipe member 57 that travels between the supply reel 61 and the take-up reel 62, and therefore the wiping surface 57 a of the wipe member 57. Can always be kept in a state suitable for wiping the nozzle surface 2 of the ejection head 3. And the wipe member 5 which consists of material which can absorb a liquid
7, the adhering matter such as the droplet D adhering to the nozzle surface 2 of the ejection head 3 can be appropriately wiped and removed.

以下の説明において、第3移動体6を第1位置A1に配置して、吐出ヘッド3のノズル
面2に付着した付着物(異物)をワイプ部材57で除去する工程を適宜、ワイピング工程
と称し、そのようなワイピング動作が行われる領域(第3移動体6)は、本発明のワイピ
ングエリアに対応する。
In the following description, the process of disposing the third moving body 6 at the first position A1 and removing the adhering matter (foreign matter) adhering to the nozzle surface 2 of the ejection head 3 with the wipe member 57 is appropriately referred to as a wiping process. The region where the wiping operation is performed (third moving body 6) corresponds to the wiping area of the present invention.

次に、図10及び図11を参照しながら、第4移動体7について説明する。図10、第
4移動体7を−X側から見た図、図11は、第4移動体7の動作の一例を説明するための
図である。第4移動体7は、吐出ヘッド3のノズル面2を覆うキャッピングユニット15
を含む。
Next, the 4th moving body 7 is demonstrated, referring FIG.10 and FIG.11. FIG. 10 is a diagram of the fourth moving body 7 viewed from the −X side, and FIG. 11 is a diagram for explaining an example of the operation of the fourth moving body 7. The fourth moving body 7 includes a capping unit 15 that covers the nozzle surface 2 of the ejection head 3.
including.

キャッピングユニット15は、吐出ヘッド3のノズル面2を覆うキャップ48を備える
。キャップ48は、吐出ヘッド3と対向可能な上面と、その上面に形成され、吐出ヘッド
3のノズル面2との間で密閉された空間49を形成可能なキャップ部50とを有する。キ
ャップ部50は、キャップ48の上面に形成された凹部(溝)を含み、その凹部によって
、吐出ヘッド3のノズル面2との間で空間49を形成可能である。キャップ部50は、複
数の吐出ヘッド3に対応するように、複数設けられている。
The capping unit 15 includes a cap 48 that covers the nozzle surface 2 of the ejection head 3. The cap 48 includes an upper surface that can face the ejection head 3, and a cap portion 50 that is formed on the upper surface and can form a sealed space 49 between the nozzle surface 2 of the ejection head 3. The cap portion 50 includes a recess (groove) formed on the upper surface of the cap 48, and a space 49 can be formed between the cap portion 50 and the nozzle surface 2 of the ejection head 3. A plurality of cap portions 50 are provided so as to correspond to the plurality of ejection heads 3.

図11に示すように、キャッピングユニット15は、吐出ヘッド3のノズル面2の全て
をキャップ部(凹部)50の内側に配置可能である。キャッピングユニット15は、例え
ばキャップ部(凹部)50の内側面の上端と、ノズル面2の外側の吐出ヘッド3(プレー
ト部材37)の側面とを接触させることによって、空間49を形成する。
As shown in FIG. 11, the capping unit 15 can arrange all the nozzle surfaces 2 of the ejection head 3 inside the cap portion (recessed portion) 50. For example, the capping unit 15 forms the space 49 by bringing the upper end of the inner side surface of the cap part (concave portion) 50 into contact with the side surface of the ejection head 3 (plate member 37) outside the nozzle surface 2.

また、キャッピングユニット15は、キャップ部(凹部)50の底面に形成され、空間
49の流体を吸引可能な吸引口53と、吸引口53と流路54を介して接続された真空シ
ステム(吸引手段)55とを有する。
The capping unit 15 is formed on the bottom surface of the cap portion (recessed portion) 50 and has a suction port 53 capable of sucking the fluid in the space 49, and a vacuum system (suction means) connected via the suction port 53 and the flow path 54. 55).

第4移動体7は、リニアモータの可動子24を有する第4可動部材51を有し、キャッ
ピングユニット15のキャップ48は、第4可動部材51上に搭載されている。上述の第
1可動部材40と同様、ベース部材17の支持面16と対向する第4可動部材51の下面
にはエアベアリングが形成されており、第4可動部材51は、支持面16に対して非接触
で支持される。また、上述の第1可動部材40と同様、第4可動部材51の下面には、ガ
イド部材18を配置可能な凹部が形成されており、可動子24は、ガイド部材18と対向
する第4可動部材51の凹部の内面に配置されている。固定子22及び可動子24を含む
駆動装置8は、第4可動部材51をY軸方向に移動可能である。また、第4可動部材51
のY軸方向への移動に伴って、その第4可動部材51に搭載されているキャッピングユニ
ット15のキャップ48も、第4可動部材51と一緒にY軸方向に移動する。
The fourth moving body 7 includes a fourth movable member 51 having a linear motor movable element 24, and the cap 48 of the capping unit 15 is mounted on the fourth movable member 51. Similar to the first movable member 40 described above, an air bearing is formed on the lower surface of the fourth movable member 51 facing the support surface 16 of the base member 17, and the fourth movable member 51 is in contact with the support surface 16. Supported without contact. Similarly to the first movable member 40 described above, a concave portion in which the guide member 18 can be disposed is formed on the lower surface of the fourth movable member 51, and the movable element 24 is a fourth movable member facing the guide member 18. It is disposed on the inner surface of the recess of the member 51. The drive device 8 including the stator 22 and the mover 24 can move the fourth movable member 51 in the Y-axis direction. The fourth movable member 51
With the movement in the Y-axis direction, the cap 48 of the capping unit 15 mounted on the fourth movable member 51 also moves in the Y-axis direction together with the fourth movable member 51.

また、上述の第1移動体4と同様、第4可動部材51とキャップ48との間には複数の
アクチュエータ52が配置されている。制御装置10は、これらアクチュエータ52を制
御することによって、第4可動部材51上で、キャップ48を移動(微動)可能である。
キャップ48は、アクチュエータ52によって、第4可動部材51上で、X軸、Y軸、Z
軸、θ、θ、及びθ方向の6自由度の方向に移動(微動)可能である。
Further, similarly to the first moving body 4 described above, a plurality of actuators 52 are arranged between the fourth movable member 51 and the cap 48. The control device 10 can move (finely move) the cap 48 on the fourth movable member 51 by controlling these actuators 52.
The cap 48 is moved on the fourth movable member 51 by the actuator 52 on the X axis, Y axis, and Z axis.
It can move (finely move) in the direction of 6 degrees of freedom in the axis, θ X , θ Y , and θ Z directions.

キャップ48で吐出ヘッド3のノズル面2を覆うために、制御装置10は、駆動装置8
を用いて第4移動体7を移動して、吐出ヘッド3のノズル面2と対向する第1位置A1に
、第4移動体7のキャッピングユニット15を配置する。そして、制御装置10は、第4
可動部材51とキャップ48との間に配置されているアクチュエータ52を用いて、吐出
ヘッド3のノズル面2とキャップ48のキャップ部50との間に空間49が形成されるよ
うに、吐出ヘッド3のノズル面2とキャップ48のキャップ部50との位置関係を調整す
る。例えば、制御装置10は、アクチュエータ52を用いて、キャップ48を+Z方向に
移動する。これにより、ノズル面2がキャップ部50の内側に配置され、キャップ部50
の内側面の上端と、ノズル面2の外側の吐出ヘッド3(プレート部材37)の側面とが接
触し、空間49が形成される。
In order to cover the nozzle surface 2 of the ejection head 3 with the cap 48, the control device 10 includes a drive device 8.
The fourth moving body 7 is moved using the capping unit 15 of the fourth moving body 7 at the first position A1 facing the nozzle surface 2 of the ejection head 3. And the control apparatus 10 is 4th.
Using the actuator 52 disposed between the movable member 51 and the cap 48, the ejection head 3 is formed so that a space 49 is formed between the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the cap portion 50 of the cap 48. The positional relationship between the nozzle surface 2 and the cap portion 50 of the cap 48 is adjusted. For example, the control device 10 uses the actuator 52 to move the cap 48 in the + Z direction. Thereby, the nozzle surface 2 is arrange | positioned inside the cap part 50, and the cap part 50 is arranged.
The upper end of the inner surface of this nozzle is in contact with the side surface of the ejection head 3 (plate member 37) outside the nozzle surface 2 to form a space 49.

キャッピングユニット15は、吐出ヘッド3のノズル面2とキャップ部50との間で空
間49を形成した状態で、真空システム55を駆動することによって、空間49の流体を
吸引口53を介して吸引可能である。キャッピングユニット15は、吸引口53より空間
49の流体(主に気体)を吸引して、空間49を負圧にすることができる。キャッピング
ユニット15は、空間49を負圧にすることによって、キャビティ34等、吐出ヘッド3
の内部の機能液を、ノズル1を介して吸引する吸引動作を行うことが可能である。キャッ
ピングユニット15は、空間49の流体を吸引することによって、吐出ヘッド3の内部に
おいて、ノズル1に向かう機能液の流れを生成できる。 そして、吸引された機能液(廃
液)は、最終的に廃インクタンク(図示せず。)へと回収されることになる。
The capping unit 15 can suck the fluid in the space 49 through the suction port 53 by driving the vacuum system 55 in a state where the space 49 is formed between the nozzle surface 2 of the ejection head 3 and the cap unit 50. It is. The capping unit 15 can suck the fluid (mainly gas) in the space 49 from the suction port 53 to make the space 49 have a negative pressure. The capping unit 15 makes the discharge head 3 such as the cavity 34 by making the space 49 negative pressure.
It is possible to perform a suction operation for sucking the functional liquid inside the nozzle 1 through the nozzle 1. The capping unit 15 can generate the flow of the functional liquid toward the nozzle 1 inside the ejection head 3 by sucking the fluid in the space 49. The sucked functional liquid (waste liquid) is finally collected into a waste ink tank (not shown).

なお、図10及び図11を参照して説明したキャッピングユニット15は、主に吐出ヘ
ッド3の機能液を吸引する吸引機能を有するが、ノズル面2(ノズル1)の乾燥を抑制す
る機能(保湿機能)を有していてもよい。例えば、キャップ部50の内側に湿った多孔部
材(メッシュ部材)を配置し、その湿った多孔部材を含むキャップ部50と吐出ヘッド3
のノズル面2とを対向させることによって、ノズル面2の乾燥を抑制できる。すなわち、
ノズル面2とキャップ部50とで形成される空間49の内側に、湿った多孔部材を配置す
ることによって、ノズル面2の乾燥を抑制できる。
The capping unit 15 described with reference to FIGS. 10 and 11 has a suction function for mainly sucking the functional liquid of the ejection head 3, but a function for suppressing drying of the nozzle surface 2 (nozzle 1) (moisturizing). Function). For example, a wet porous member (mesh member) is disposed inside the cap unit 50, and the cap unit 50 and the ejection head 3 including the wet porous member.
By making the nozzle surface 2 face each other, drying of the nozzle surface 2 can be suppressed. That is,
By disposing the wet porous member inside the space 49 formed by the nozzle surface 2 and the cap portion 50, drying of the nozzle surface 2 can be suppressed.

以下の説明において、第4移動体7を第1位置A1に配置して、吐出ヘッド3のノズル
面2を覆うキャップ48を介してノズル1を吸引する工程を適宜、キャッピング工程と称
し、そのような吸引動作が行われる領域(第4移動体7)は、本発明のキャッピングエリ
アに対応する。
In the following description, the step of arranging the fourth moving body 7 at the first position A1 and sucking the nozzle 1 through the cap 48 that covers the nozzle surface 2 of the ejection head 3 is appropriately referred to as a capping step. The region (fourth moving body 7) where a simple suction operation is performed corresponds to the capping area of the present invention.

また、以下の説明において、上記吸引動作、上記ワイピング動作、及び上記フラッシン
グ動作をまとめて吐出ヘッド3のメンテナンス処理と称し、これらのメンテナンス処理が
行われる領域は、本発明のメンテナンスエリアに対応する。
In the following description, the suction operation, the wiping operation, and the flushing operation are collectively referred to as a maintenance process for the ejection head 3, and a region where these maintenance processes are performed corresponds to the maintenance area of the present invention.

次に、図12及び図13を参照しながら、断熱部材29について説明する。図12は、
断熱部材29を示す斜視図、図13は、断熱部材29を−Y側から見た図である。
Next, the heat insulating member 29 will be described with reference to FIGS. 12 and 13. FIG.
The perspective view which shows the heat insulation member 29, FIG. 13 is the figure which looked at the heat insulation member 29 from the -Y side.

断熱部材29は、第1移動体4を含む各移動体5、6、7の移動経路の少なくとも一部
に配置されている。断熱部材29は、第1移動体4の熱の周囲への放散を遮る。上述のよ
うに、第1移動体4(ホルダ部材42)は、基板Pを加熱する加熱装置47を含む。断熱
部材29は、加熱装置47を含む第1移動体4から発する熱の周囲への放散を遮る。
The heat insulating member 29 is disposed on at least a part of the moving path of each moving body 5, 6, 7 including the first moving body 4. The heat insulating member 29 blocks the diffusion of the heat of the first moving body 4 to the surroundings. As described above, the first moving body 4 (holder member 42) includes the heating device 47 that heats the substrate P. The heat insulating member 29 blocks heat radiating from the first moving body 4 including the heating device 47 to the surroundings.

断熱部材29は、第1位置A1以外の移動体4、5、6、7の移動経路に配置される。
すなわち、断熱部材29は、吐出ヘッド3を用いた処理が実行される第1位置A1には配
置されない。これにより、吐出ヘッド3と各移動体4、5、6、7との協働による各種処
理(パターン形成処理、メンテナンス処理等)の実行は妨げられない。
The heat insulating member 29 is arranged on the moving path of the moving bodies 4, 5, 6, 7 other than the first position A <b> 1.
That is, the heat insulating member 29 is not disposed at the first position A1 where the process using the ejection head 3 is performed. Thereby, execution of various processing (pattern formation processing, maintenance processing, etc.) by the cooperation of the ejection head 3 and each of the moving bodies 4, 5, 6, 7 is not hindered.

また、断熱部材29は、基板搬送装置27による処理が実行される第2位置A2にも配
置されない。すなわち、断熱部材29は、第1位置A1及び第2位置A2以外の移動体4
、5、6、7の移動経路に配置される。これにより、第2位置A2に配置された第1移動
体4に対する基板搬送装置27による基板Pの搬入動作、及び第1移動体4からの基板P
の搬出動作は妨げられない。
Further, the heat insulating member 29 is not arranged at the second position A2 where the processing by the substrate transfer device 27 is executed. That is, the heat insulating member 29 is a moving body 4 other than the first position A1 and the second position A2.
5, 6, 7 are arranged on the movement route. As a result, the loading operation of the substrate P by the substrate transfer device 27 to the first moving body 4 arranged at the second position A2 and the substrate P from the first moving body 4 are performed.
The unloading operation is not hindered.

断熱部材29は、ベース部材17上の各移動体4、5、6、7と離れた位置で、移動体
4、5、6、7を囲むように配置される。断熱部材29は、各移動体4、5、6、7が移
動可能な内部空間80を形成する。具体的には、断熱部材29は、ベース部材17の支持
面16との間で、各移動体4、5、6、7が移動可能(配置可能)な内部空間80を形成
する。断熱部材29は、内部空間80に配置されている第1移動体4の熱の外部空間81
への放散を遮る。外部空間81は、内部空間80に対して断熱部材29の外側の空間であ
る。外部空間81は、チャンバ本体30(チャンバ本体30の内面)と断熱部材29(断
熱部材29の外面)との間の空間を含む。
The heat insulating member 29 is arranged so as to surround the moving bodies 4, 5, 6, 7 at positions away from the moving bodies 4, 5, 6, 7 on the base member 17. The heat insulating member 29 forms an internal space 80 in which each moving body 4, 5, 6, 7 can move. Specifically, the heat insulating member 29 forms an internal space 80 in which each of the moving bodies 4, 5, 6, 7 can move (can be arranged) with the support surface 16 of the base member 17. The heat insulating member 29 is a heat outer space 81 of the first moving body 4 disposed in the inner space 80.
Block the release to The external space 81 is a space outside the heat insulating member 29 with respect to the internal space 80. The external space 81 includes a space between the chamber body 30 (the inner surface of the chamber body 30) and the heat insulating member 29 (the outer surface of the heat insulating member 29).

チャンバ装置32の空調装置31は、少なくとも外部空間81の温度を調整する。これ
により、チャンバ本体30内の各機器、部材は、所望の環境(温度)に配置される。
The air conditioner 31 of the chamber device 32 adjusts at least the temperature of the external space 81. Thereby, each apparatus and member in the chamber body 30 are arranged in a desired environment (temperature).

断熱部材29は、断熱性を有し、内部空間80に配置されている第1移動体4の熱の外
部空間81への放散を遮ることができる材料で形成されている。断熱部材29は、例えば
発泡スチロール、発泡ウレタン等、断熱性を有する合成樹脂製である。
The heat insulating member 29 has a heat insulating property, and is formed of a material that can block the diffusion of heat from the first moving body 4 disposed in the internal space 80 to the external space 81. The heat insulating member 29 is made of a synthetic resin having heat insulating properties such as, for example, styrene foam or urethane foam.

断熱部材29は、トンネル状であり、断熱部材29のY軸方向の両側には、各移動体4
、5、6、7が通過可能な開口(出入口)82が形成されている。開口82は、断熱部材
29によって形成される内部空間80と外部空間81とを連通するように形成されている
The heat insulating member 29 has a tunnel shape, and each moving body 4 is provided on both sides of the heat insulating member 29 in the Y-axis direction.
An opening (entrance / exit) 82 through which 5, 6, 7 can pass is formed. The opening 82 is formed so as to communicate the internal space 80 and the external space 81 formed by the heat insulating member 29.

次に、上述の構成を有する液滴吐出装置IJを用いてデバイスを製造する手順の一例に
ついて説明する。
Next, an example of a procedure for manufacturing a device using the droplet discharge apparatus IJ having the above-described configuration will be described.

制御装置10は、駆動装置8を制御して、第2位置A2に第1移動体4を配置する。制
御装置10は、基板搬送装置27を用いて、第2位置A2に配置された第1移動体4に基
板Pを搬入する。制御装置10は、駆動装置8を制御して、基板Pを保持した第1移動体
4を、第1位置A1に移動する。
The control device 10 controls the driving device 8 to place the first moving body 4 at the second position A2. The control device 10 loads the substrate P into the first moving body 4 disposed at the second position A2 using the substrate transport device 27. The control device 10 controls the driving device 8 to move the first moving body 4 holding the substrate P to the first position A1.

図14は、基板Pを保持した第1移動体4が第1位置A1に配置されている状態を示す
模式図である。制御装置10は、吐出ヘッド3のノズル面2と対向する第1位置A1に、
基板Pを保持した第1移動体4を配置する。そして、制御装置10は、制御器12及び駆
動装置8を制御して、第1移動体4の基板Pを吐出ヘッド3のノズル1に対してY軸方向
に移動しつつ、吐出ヘッド3のノズル1より、基板Pに液滴Dを吐出(供給)する。これ
により、基板Pには、液滴Dによりパターンが形成される。制御装置10は、加熱装置4
7で基板Pを加熱しつつ、その基板Pに液滴Dを吐出する。
FIG. 14 is a schematic diagram illustrating a state in which the first moving body 4 holding the substrate P is disposed at the first position A1. The control device 10 has a first position A1 that faces the nozzle surface 2 of the ejection head 3,
The first moving body 4 holding the substrate P is disposed. Then, the control device 10 controls the controller 12 and the driving device 8 to move the substrate P of the first moving body 4 in the Y-axis direction with respect to the nozzle 1 of the discharge head 3, while the nozzle of the discharge head 3. 1, droplets D are discharged (supplied) onto the substrate P. Thereby, a pattern is formed on the substrate P by the droplets D. The control device 10 includes a heating device 4
7, while the substrate P is heated, the droplets D are discharged onto the substrate P.

本実施形態においては、複数の吐出ヘッド3のノズル1のうち、最も+X側のノズル1
と最も−X側のノズル1との距離と、基板PのX軸方向の大きさとはほぼ等しい。したが
って、液滴吐出装置IJは、第1移動体4の基板Pを吐出ヘッド3のノズル1に対してY
軸方向に移動しつつ吐出ヘッド3のノズル1より基板Pに液滴Dを吐出(供給)する際、
基板PのY軸方向への1回のみの移動によって、基板Pの表面のほぼ全域に液滴Dを供給
できる。
In the present embodiment, among the nozzles 1 of the plurality of ejection heads 3, the most + X side nozzle 1
And the distance between the nozzle 1 closest to the −X side and the size of the substrate P in the X-axis direction are substantially equal. Accordingly, the droplet discharge device IJ moves the substrate P of the first moving body 4 to Y with respect to the nozzle 1 of the discharge head 3.
When ejecting (supplying) droplets D to the substrate P from the nozzle 1 of the ejection head 3 while moving in the axial direction,
By moving the substrate P only once in the Y-axis direction, the droplet D can be supplied to almost the entire surface of the substrate P.

なお、液滴吐出装置IJは、第1移動体4の基板Pを吐出ヘッド3のノズル1に対して
Y軸方向に移動しつつ吐出ヘッド3のノズル1より基板Pに液滴Dを吐出(供給)する動
作を複数回繰り返してもよい。例えば、基板Pを+Y方向に移動しつつ液滴Dを吐出する
動作と、基板Pを−Y方向に移動しつつ液滴Dを吐出する動作とを複数回繰り返してもよ
い。また、例えば特開2004−146796号公報等に開示されているように、基板P
のY軸方向への移動毎に、基板PのX軸方向に関する位置を僅かな距離(例えば1つのピ
クセル分)だけ変化させてもよい。これらの場合も、ノズル1からの液滴Dの吐出量を安
定させるために、フラッシングエリア46に対してフラッシング(予備吐出)を適宜行う
ことが好ましい。
The droplet discharge device IJ discharges the droplet D onto the substrate P from the nozzle 1 of the discharge head 3 while moving the substrate P of the first moving body 4 in the Y axis direction with respect to the nozzle 1 of the discharge head 3 ( Supply) may be repeated a plurality of times. For example, the operation of discharging the droplet D while moving the substrate P in the + Y direction and the operation of discharging the droplet D while moving the substrate P in the −Y direction may be repeated a plurality of times. Further, as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-146996, the substrate P
The position of the substrate P in the X-axis direction may be changed by a slight distance (for example, one pixel) every time the substrate P moves in the Y-axis direction. Also in these cases, in order to stabilize the discharge amount of the droplets D from the nozzle 1, it is preferable to appropriately perform flushing (preliminary discharge) on the flushing area 46.

なお、上述のように、基板Pは、焼結前のLTCC基板(グリーンシート)であって、
フィルムFに支持されている。液滴吐出装置IJは、フィルムFに支持された状態の基板
P(グリーンシート)に液滴Dを吐出する。
As described above, the substrate P is an LTCC substrate (green sheet) before sintering,
Supported by film F. The droplet discharge device IJ discharges the droplet D onto the substrate P (green sheet) supported by the film F.

基板Pに対する液滴Dの吐出動作が終了した後、制御装置10は、第1移動体4から基
板Pを搬出するために、駆動装置8を制御して、第1移動体4を第2位置A2に移動する
。駆動装置8は、複数の移動体4、5、6、7を−Y方向(第1位置A1から第2位置A
2へ向かう方向)に一緒に移動する。
After the operation of ejecting the droplets D on the substrate P is completed, the control device 10 controls the driving device 8 to carry the substrate P out of the first moving body 4 to move the first moving body 4 to the second position. Move to A2. The driving device 8 moves the plurality of moving bodies 4, 5, 6, 7 in the −Y direction (from the first position A 1 to the second position A
Move in the direction of 2).

第1位置A1と第2位置A2との間の第1移動体4の移動経路には断熱部材29が配置
されているので、第1位置A1と第2位置A2との間を移動する第1移動体4の熱が外部
空間73へ放散されることを抑制できる。
Since the heat insulating member 29 is arranged in the moving path of the first moving body 4 between the first position A1 and the second position A2, the first moving between the first position A1 and the second position A2. It can suppress that the heat of the mobile body 4 is dissipated to the external space 73.

図15は、基板Pを保持した第1移動体4が第2位置A2に配置されている状態を示す
模式図である。基板Pを保持可能な第1移動体4は、複数(4つ)の移動体4、5、6、
7のうち、最も−Y側(第2位置A2側)に配置されている移動体である。図15に示す
ように、第1移動体4が第2位置A2に配置されているときに、複数(4つ)の移動体4
、5、6、7のうち、最も+Y側(第1位置A1側)に配置されている第4移動体7が第
1位置A1に配置されるように、各移動体4、5、6、7の大きさ、数、及び第1位置A
1と第2位置A2との距離等が設定されている。したがって、図15に示すように、第1
移動体4が第2位置A2に配置されているとき、第1位置A1には第4移動体7が配置さ
れる。
FIG. 15 is a schematic diagram illustrating a state in which the first moving body 4 holding the substrate P is disposed at the second position A2. The first moving body 4 that can hold the substrate P includes a plurality of (four) moving bodies 4, 5, 6,
7 is a moving body arranged closest to the −Y side (second position A2 side). As shown in FIG. 15, when the first moving body 4 is arranged at the second position A2, a plurality (four) of moving bodies 4 are disposed.
5, 6, 7, each moving body 4, 5, 6, so that the fourth moving body 7 disposed on the most + Y side (first position A <b> 1 side) is disposed at the first position A <b> 1. 7 size, number, and first position A
The distance between 1 and the second position A2 is set. Therefore, as shown in FIG.
When the moving body 4 is disposed at the second position A2, the fourth moving body 7 is disposed at the first position A1.

制御装置10は、基板搬送装置27を用いて、第2位置A2に配置された第1移動体4
から基板Pを搬出するとともに、その第1移動体4に新たな基板Pを搬入する。
The control device 10 uses the substrate transfer device 27 and the first moving body 4 disposed at the second position A2.
Then, the substrate P is unloaded and a new substrate P is loaded into the first moving body 4.

一方、制御装置10は、第1位置A1に配置された第4移動体7を用いて、吐出ヘッド
3のキャッピング工程を実行する。具体的に、制御装置10は、第1位置A1に配置され
た第4移動体7のキャッピングユニット15を用いて、吐出ヘッド3のノズル面2をキャ
ップ48で覆うと共に、このキャップ48を介して吐出ヘッド3のノズル1を吸引する吸
引動作を実行する。
On the other hand, the control device 10 executes the capping process of the ejection head 3 using the fourth moving body 7 disposed at the first position A1. Specifically, the control device 10 covers the nozzle surface 2 of the ejection head 3 with a cap 48 using the capping unit 15 of the fourth moving body 7 disposed at the first position A1, and through the cap 48, A suction operation for sucking the nozzle 1 of the discharge head 3 is executed.

また、制御装置10は、第1位置A1に配置された第4移動体7による吐出ヘッド3に
対する吸引動作と、第2位置A2に配置された第1移動体4を用いた基板Pの搬出、搬入
処理の少なくとも一部とを並行して実行可能である。これにより、液滴吐出装置IJの処
理効率を向上できる。
Further, the control device 10 performs a suction operation on the ejection head 3 by the fourth moving body 7 disposed at the first position A1, and unloading the substrate P using the first moving body 4 disposed at the second position A2. It is possible to execute at least a part of the carry-in process in parallel. Thereby, the processing efficiency of the droplet discharge device IJ can be improved.

第4移動体7のキャッピングユニット15を用いたキャッピング工程が終了した後、制
御装置10は、駆動装置8を制御して、複数の移動体4、5、6、7を+Y方向(第2位
置A2から第1位置A1へ向かう方向)に一緒に移動し、第1位置A1に第3移動体6を
配置する。制御装置10は、第1位置A1に配置された第3移動体6を用いて、吐出ヘッ
ド3のワイピング工程を実行する。具体的に、制御装置10は、第1位置A1に配置され
た第3移動体6のワイピングユニット14を用いて、吐出ヘッド3のノズル面2をワイプ
部材57のワイピング面57aで払拭することによって、このノズル面2に付着した付着
物(異物)を除去するワイピング動作を実行する。
After the capping step using the capping unit 15 of the fourth moving body 7 is completed, the control device 10 controls the driving device 8 to move the plurality of moving bodies 4, 5, 6, 7 to the + Y direction (second position). The third moving body 6 is arranged at the first position A1 by moving together in the direction from the A2 toward the first position A1. The control device 10 performs the wiping process of the ejection head 3 using the third moving body 6 disposed at the first position A1. Specifically, the control device 10 wipes the nozzle surface 2 of the ejection head 3 with the wiping surface 57a of the wiping member 57 using the wiping unit 14 of the third moving body 6 disposed at the first position A1. Then, a wiping operation for removing the deposit (foreign matter) adhering to the nozzle surface 2 is executed.

本実施形態においては、ワイピングユニット14によるワイピング動作の前に、キャッ
ピングユニット15による吸引動作が実行されている。この場合、何らかの理由で、ノズ
ル面2に機能液の液滴が付着したり、残留したりする可能性がある。また、ノズル面2に
付着した液滴Dを放置しておくと、その機能液の液滴Dが固化(析出)し、異物化する可
能性がある。固化した機能液がノズル1の近傍に移動したり、ノズル1に入り込むと、ノ
ズル1の吐出不良が生じる可能性がある。制御装置10は、ワイピングユニット14を用
いて、このような吐出ヘッド3のノズル面2に付着した液滴等の付着物を適切に除去する
ことができる。
In the present embodiment, the suction operation by the capping unit 15 is performed before the wiping operation by the wiping unit 14. In this case, there is a possibility that functional liquid droplets may adhere to or remain on the nozzle surface 2 for some reason. Further, if the droplet D adhering to the nozzle surface 2 is allowed to stand, the droplet D of the functional liquid may solidify (precipitate) and become foreign matter. If the solidified functional liquid moves to the vicinity of the nozzle 1 or enters the nozzle 1, there is a possibility that a discharge failure of the nozzle 1 occurs. Using the wiping unit 14, the control device 10 can appropriately remove such deposits such as droplets attached to the nozzle surface 2 of the ejection head 3.

ここで、吐出ヘッド3のノズル面2は、撥液性を有することが好ましい。特に、吐出ヘ
ッド3のノズル面2は、機能液の液滴Dに対して撥液性を有することが好ましい。ノズル
面2の表面は、プレート部材37に被覆された撥液性材料の膜で形成されている。本実施
形態においては一例として、プレート部材37はステンレスで形成されており、そのステ
ンレス製のプレート部材37のノズル面2には、ポリマー重合シリコン膜等のシリコン樹
脂の膜及びシリコン系シランカップリング剤の膜が形成されている。具体的には、ポリマ
ー重合シリコン膜がノズル面2上に形成され、そのポリマー重合シリコン膜の上に、シラ
ンカップリング剤の膜が形成されている。
Here, the nozzle surface 2 of the ejection head 3 preferably has liquid repellency. In particular, the nozzle surface 2 of the ejection head 3 preferably has liquid repellency with respect to the functional liquid droplets D. The surface of the nozzle surface 2 is formed of a film of a liquid repellent material covered with a plate member 37. In this embodiment, as an example, the plate member 37 is made of stainless steel, and a silicon resin film such as a polymer-polymerized silicon film and a silicon-based silane coupling agent are formed on the nozzle surface 2 of the plate member 37 made of stainless steel. The film is formed. Specifically, a polymer-polymerized silicon film is formed on the nozzle surface 2, and a silane coupling agent film is formed on the polymer-polymerized silicon film.

すなわち、ノズル面2を撥液性にする撥液処理の一例として、プラズマ重合を用いた手
法を用いることができる。プラズマ重合を用いた撥液処理は、シリコンを含む原料液の蒸
気を、プラズマ処理装置においてプラズマ化する工程を有する。原料液の蒸気をプラズマ
化することにより活性化され、その活性化されたシリコン材料がプレート部材37の表面
に到達すると、それらシリコンは、プレート部材37上において互いに重合し、撥液性を
有するシリコン重合膜(ポリマー重合シリコン膜)となる。そして、その形成されたシリ
コン重合膜(ポリマー重合シリコン膜)の上に、シリコン系シランカップリング剤の膜が
形成される。
That is, as an example of the liquid repellent treatment that makes the nozzle surface 2 liquid repellent, a technique using plasma polymerization can be used. The liquid repellent treatment using plasma polymerization includes a step of converting a raw material liquid vapor containing silicon into plasma in a plasma treatment apparatus. When the activated silicon material reaches the surface of the plate member 37, the silicon is polymerized with each other on the plate member 37 to form liquid-repellent silicon. It becomes a polymerized film (polymer polymerized silicon film). Then, a silicon-based silane coupling agent film is formed on the formed silicon polymer film (polymer polymer silicon film).

なお、プラズマ重合を用いた撥液処理としては、C10、C16等の直鎖状P
FC(ポリフルオロカーボン)からなる原料液の蒸気を、プラズマ処理装置においてプラ
ズマ化するようにしてもよい。直鎖状PFCの蒸気をプラズマ化することにより、直鎖P
FCの結合が一部切断されて活性化する。このようにして結合の一部が切断され、活性化
したPFCがプレート部材37の表面に到達すると、それらPFCは、プレート部材37
上において互いに重合し、撥液性を有するフッ素樹脂重合膜となる。
In addition, as the liquid repellent treatment using plasma polymerization, linear P such as C 4 F 10 , C 8 F 16, etc.
You may make it make the vapor | steam of the raw material liquid which consists of FC (polyfluorocarbon) into plasma in a plasma processing apparatus. By converting the vapor of linear PFC into plasma, linear P
FC bonds are partially broken and activated. When a part of the bond is cut in this way and the activated PFC reaches the surface of the plate member 37, the PFC is transferred to the plate member 37.
The above polymerizes each other to form a fluororesin polymer film having liquid repellency.

なお、この場合の撥液処理の原料液としては、例えばデカトリエンを用いることもでき
る。その場合、プラズマ処理によって活性化させたCF4または酸素を添加することによ
り、得られる重合膜に撥液性を付与することができ、これによって撥液の重合膜を形成す
ることができる。また、撥液処理の原料液としてはフルオロカーボンを用いることもでき
る。その場合、プラズマ化によって活性化したCF4を添加することにより、プラズマ化
によって原料液であるフルオロカーボン中のフッ素の一部が離脱したとしても、上述の活
性なフッ素が得られる重合膜中に取り込まれるため、形成するフッ素樹脂重合膜の撥液性
を高めることができる。
In this case, for example, decatriene can be used as a raw material liquid for the liquid repellent treatment. In that case, by adding CF4 or oxygen activated by plasma treatment, liquid repellency can be imparted to the resulting polymer film, and thus a liquid-repellent polymer film can be formed. Moreover, fluorocarbon can also be used as a raw material liquid for the liquid repellent treatment. In that case, by adding CF4 activated by the plasma, even if a part of the fluorine in the fluorocarbon which is the raw material liquid is released by the plasma, the above-mentioned active fluorine is taken into the polymer film obtained. Therefore, the liquid repellency of the fluororesin polymer film to be formed can be improved.

ノズル面2を撥液性にすることにより、液体はノズル面2で拡がらず、玉のような形状
で、ノズル面2に残留する。すなわち、ノズル面2を撥液性にすることによって、吸引動
作の際に液滴Dが付着しにくくすると共に、ノズル面2に液滴Dが付着した場合でも、ワ
イピングユニット14を用いて吐出ヘッド3のノズル面2に付着した液滴等の付着物を容
易に除去することができる。
By making the nozzle surface 2 liquid repellent, the liquid does not spread on the nozzle surface 2 but remains on the nozzle surface 2 in a ball-like shape. That is, by making the nozzle surface 2 liquid repellent, the droplets D are less likely to adhere during the suction operation, and even when the droplets D adhere to the nozzle surface 2, the wiping unit 14 is used to discharge the head. 3 and the attached matter such as droplets attached to the nozzle surface 2 can be easily removed.

上述のように、本実施形態のノズル面2にはポリマー重合シリコン膜等のシリコン樹脂
の膜及びシリコン系シランカップリング剤の膜が形成されており、機能液は、保湿効果の
ある材料が含有された水を主成分とする分散媒に銀微粒子を分散したものを含む。そのた
め、ノズル面2は、機能液に対して非常に高い撥液性を有する。また、本実施形態の機能
液に含まれる界面活性剤の量は微量であり、機能液は高い表面張力を有する。したがって
、機能液はノズル面2で拡がらず、玉のような形状で、ノズル面2に残留する。したがっ
て、ワイピングユニット14は、ノズル面2とワイピング面57aとを離した状態で、ノ
ズル面2の機能液の液滴とワイピング面57aとを円滑に接触させることができる。この
ように、ワイピングユニット14は、機能液の液滴(液体状の異物)を円滑に除去できる
。また、ワイピングユニット14は、機能液の液滴が固化したもの(固体状の異物)であ
ってもその異物を良好に除去でき、その異物がノズル1に入り込むことを抑制できる。
As described above, a silicon resin film such as a polymer-polymerized silicon film and a silicon-based silane coupling agent film are formed on the nozzle surface 2 of the present embodiment, and the functional liquid contains a material having a moisturizing effect. In this case, a dispersion medium containing water as a main component in which silver fine particles are dispersed is included. Therefore, the nozzle surface 2 has very high liquid repellency with respect to the functional liquid. Further, the amount of the surfactant contained in the functional liquid of the present embodiment is very small, and the functional liquid has a high surface tension. Therefore, the functional liquid does not spread on the nozzle surface 2 but remains on the nozzle surface 2 in a ball-like shape. Therefore, the wiping unit 14 can smoothly contact the functional liquid droplets on the nozzle surface 2 and the wiping surface 57a in a state where the nozzle surface 2 and the wiping surface 57a are separated from each other. In this manner, the wiping unit 14 can smoothly remove the functional liquid droplets (liquid foreign matter). Further, the wiping unit 14 can satisfactorily remove the foreign matter even if the liquid droplet of the functional liquid is solidified (solid foreign matter), and can prevent the foreign matter from entering the nozzle 1.

なお、機能液の液滴Dは、上記吸引動作を実行しなくても、何らかの原因でノズル面2
に付着する可能性もある。したがって、ワイピングユニット14は、上記吸引動作の後に
限定されることなく、ノズル面2に付着した機能液の液滴Dを除去するワイピング動作を
実行することができる。
It should be noted that the liquid droplet D of the functional liquid does not cause the above suction operation to be performed for some reason on the nozzle surface 2.
There is also the possibility of sticking to. Therefore, the wiping unit 14 can execute a wiping operation for removing the functional liquid droplets D attached to the nozzle surface 2 without being limited to after the suction operation.

また、吐出ヘッド3のノズル面2に付着する付着物(異物)としては、例えば基板Pか
ら発生する異物(パーティクル)、あるいはチャンバ本体31内を浮遊する異物(パーテ
ィクル)などの可能性もある。ワイピングユニット14は、それら付着物についても適切
に除去することができる。
Further, as the deposit (foreign matter) adhering to the nozzle surface 2 of the ejection head 3, for example, there is a possibility of a foreign matter (particle) generated from the substrate P or a foreign matter (particle) floating in the chamber body 31. The wiping unit 14 can also remove these deposits appropriately.

第3移動体6による吐出ヘッド3に対するワイピング処理が終了した後、制御装置10
は、駆動装置8を制御して、複数の移動体4、5、6、7を+Y方向(第2位置A2から
第1位置A1へ向かう方向)に一緒に移動し、第1位置A1に第2移動体5を配置する。
制御装置10は、第1位置A1に配置された第2移動体5を用いて、吐出ヘッド3の着弾
精度測定工程を実行する。具体的に、制御装置10は、第1位置A1に配置された第2移
動体5の着弾精度測定ユニット13を用いて、吐出ヘッド3の各ノズル1から吐出された
機能液の液滴Dをシート部材71の記録面70に着弾させる。そして、このシート部材7
1の記録面70に記録された液滴Dの着弾位置から、各ノズル1から吐出される液滴Dの
着弾精度を測定する。
After the wiping process for the ejection head 3 by the third moving body 6 is completed, the control device 10
Controls the driving device 8 to move the plurality of moving bodies 4, 5, 6, and 7 together in the + Y direction (the direction from the second position A2 toward the first position A1) and to the first position A1. Two moving bodies 5 are arranged.
The control device 10 executes the landing accuracy measurement process of the ejection head 3 using the second moving body 5 arranged at the first position A1. Specifically, the control device 10 uses the landing accuracy measurement unit 13 of the second moving body 5 disposed at the first position A1 to drop the functional liquid droplet D discharged from each nozzle 1 of the discharge head 3. It is landed on the recording surface 70 of the sheet member 71. And this sheet member 7
The landing accuracy of the droplet D discharged from each nozzle 1 is measured from the landing position of the droplet D recorded on one recording surface 70.

上記着弾精度測定工程が終了した後、制御装置10は、駆動装置8を制御して、複数の
移動体4、5、6、7を+Y方向(第2位置A2から第1位置A1へ向かう方向)に一緒
に移動し、第1位置A1に第1移動体4を配置する。制御装置10は、第1位置A1に配
置された第1移動体4に保持されている基板Pに対して、吐出ヘッド3より液滴Dを吐出
する処理(パターン形成処理)を開始する。第1移動体4は、吐出ヘッド3と協働して、
液滴Dで基板Pにパターンを形成する描画工程を実行する。
After the landing accuracy measurement step is completed, the control device 10 controls the drive device 8 to move the plurality of moving bodies 4, 5, 6, and 7 in the + Y direction (the direction from the second position A2 toward the first position A1). ) And move the first moving body 4 to the first position A1. The control device 10 starts a process (pattern forming process) for ejecting the droplets D from the ejection head 3 to the substrate P held by the first moving body 4 arranged at the first position A1. The first moving body 4 cooperates with the ejection head 3,
A drawing process for forming a pattern on the substrate P with the droplets D is executed.

本実施形態においては、複数(例えば10〜20枚程度)の基板P(グリーンシート)
に対して液滴Dが吐出され、各基板Pに液滴Dでパターンが形成される。液滴Dでパター
ンが形成された後の基板Pからは、フィルムFが取り除かれる。そして、液滴Dで形成さ
れたパターンを有する複数の基板Pが積層され、その基板Pの積層体が形成される。その
後、基板Pの積層体が加熱処理される。これにより、基板P上の液滴Dが乾燥、焼成され
るとともに、基板P(グリーンシート)も焼成される。これにより、所定の配線パターン
を有するLTCC基板(LTCC多層回路基板)が形成される。
In the present embodiment, a plurality of (for example, about 10 to 20) substrates P (green sheets)
A droplet D is discharged on the substrate P, and a pattern is formed on each substrate P with the droplet D. The film F is removed from the substrate P after the pattern is formed with the droplets D. Then, a plurality of substrates P having a pattern formed by droplets D are stacked, and a stacked body of the substrates P is formed. Thereafter, the laminated body of the substrates P is heat-treated. Thereby, the droplets D on the substrate P are dried and fired, and the substrate P (green sheet) is also fired. Thereby, an LTCC substrate (LTCC multilayer circuit substrate) having a predetermined wiring pattern is formed.

ところで、液滴吐出装置IJでは、上記キャッピングユニット15において、流路54
内の機能液が乾燥により固化して目詰まり等を引き起こすことがないよう定期的にキャッ
プ48内を洗浄する作業が必要となる。
By the way, in the droplet discharge device IJ, in the capping unit 15, the flow path 54
It is necessary to periodically clean the inside of the cap 48 so that the functional liquid inside does not solidify by drying and cause clogging.

そこで、本実施形態に係る液滴吐出装置IJでは、図16示すフローチャートに従って
、定期的なキャップ48内の洗浄作業を行う。なお、このキャップ48内の洗浄作業は、
主に装置の立下げ時に行うが、キャップ洗浄シーケンスとして一定時間が経過する毎に実
施してもよい。例えば24時間稼働の場合は、1日1回定期的に洗浄作業を行うようにす
る。
Therefore, in the droplet discharge device IJ according to the present embodiment, a regular cleaning operation in the cap 48 is performed according to the flowchart shown in FIG. The cleaning operation in the cap 48 is performed as follows.
Although it is performed mainly when the apparatus is lowered, it may be performed every time a certain time elapses as a cap cleaning sequence. For example, in the case of operation for 24 hours, the cleaning operation is periodically performed once a day.

キャップ48内の洗浄作業を行う際は、先ず、ステップS1において、吐出ヘッド3を
キャッピングエリア以外のメンテナンスエリアに待避させる。吐出ヘッド3を待避させる
メンテナンスエリアとしては、ワイピングエリア及び着弾精度測定エリアがある。この場
合、吐出ヘッド3のノズル面2と対向する第1位置A1に、第3移動体6のワイピングユ
ニット14又は第2移動体5の着弾精度測定ユニット13を配置すればよい。吐出ヘッド
3に対しては、微振動を付与することが好ましい。吐出ヘッド3に微振動を付与する場合
、吐出ヘッド3が相対的に移動している間は、上述した制御装置10からの指令(エンコ
ーダ入力)により、制御器12がピエゾ素子33に微振動を発生させるための駆動信号(
微振動電圧波形)を供給することができる。
When performing the cleaning operation in the cap 48, first, in step S1, the ejection head 3 is retracted to a maintenance area other than the capping area. The maintenance area for retracting the ejection head 3 includes a wiping area and a landing accuracy measurement area. In this case, the wiping unit 14 of the third moving body 6 or the landing accuracy measuring unit 13 of the second moving body 5 may be disposed at the first position A1 facing the nozzle surface 2 of the ejection head 3. It is preferable to apply fine vibration to the ejection head 3. When applying a slight vibration to the ejection head 3, the controller 12 causes the piezoelectric element 33 to vibrate slightly according to the command (encoder input) from the control device 10 while the ejection head 3 is relatively moving. Drive signal to generate (
Fine vibration voltage waveform).

次に、ステップS2において、待避中の吐出ヘッド3に対して微振動を付与する。吐出
ヘッド3が停止している間は、エンコーダ入力によるピエゾ素子33の駆動が停止される
ものの、キャップ洗浄モードとして、制御装置10からの指令に基づき、制御器12がピ
エゾ素子33に微振動を発生させるための駆動信号(微振動電圧波形)を供給すればよい
。なお、ステップS1とステップS2との微振動付与開始の順序については、特に限定さ
れるものではなく、吐出ヘッド3の待避と、吐出ヘッド3の微振動の付与とが逆であって
も同時であってもよい。
Next, in step S <b> 2, a slight vibration is applied to the evacuating ejection head 3. While the ejection head 3 is stopped, the drive of the piezo element 33 by the encoder input is stopped, but the controller 12 causes the piezo element 33 to vibrate slightly based on a command from the control device 10 as a cap cleaning mode. What is necessary is just to supply the drive signal (microvibration voltage waveform) for generating. Note that the order in which the minute vibration is applied in step S1 and step S2 is not particularly limited. Even if the withdrawal of the ejection head 3 and the application of the minute vibration of the ejection head 3 are reversed, the order is the same. There may be.

次に、ステップS3において、キャップ48の吸引を開始した後、ステップS4に進み
、キャップ48内の洗浄作業を行う。このキャップ48の洗浄作業は、手動又は自動によ
り行うことができ、例えば水に界面活性剤などの添加剤を入れた洗浄液をキャップ48の
キャップ部50内に流しながら洗浄を行う。
Next, in step S3, after the suction of the cap 48 is started, the process proceeds to step S4, and the inside of the cap 48 is cleaned. The cleaning operation of the cap 48 can be performed manually or automatically. For example, the cleaning operation is performed while flowing a cleaning liquid in which an additive such as a surfactant is added into water into the cap portion 50 of the cap 48.

また、キャップ48(具体的にはキャップ部50)内を洗浄している間、メンテナンス
エリアに待避された吐出ヘッド3に対しては、上述したように微振動を付与する。これに
より、吐出ヘッド3では、ノズル1内で機能液の増粘が進まないようにノズル1内の機能
液を微振動させながら、ノズル1から吐出される液滴Dの良好な状態を維持することがで
きる。
Further, while cleaning the inside of the cap 48 (specifically, the cap portion 50), the ejection head 3 retracted in the maintenance area is given fine vibration as described above. As a result, the ejection head 3 maintains a good state of the liquid droplets D ejected from the nozzle 1 while slightly vibrating the functional liquid in the nozzle 1 so that the thickening of the functional liquid does not proceed in the nozzle 1. be able to.

次に、ステップS5において、キャップ48内の洗浄が完了したか否かの確認を行う。
具体的には、自動で洗浄する場合にはキャップ部50の数(すなわち、吐出ヘッド3の数
)に応じて定められた一定時間(例えば1ヘッドにつき1分。)が経過した後、リミッタ
が作動して、洗浄液の注入が停止し、ステップS6に進む。一方、手動の場合にはオペレ
ータが実際にキャップ48内の洗浄が完了したかを確認し、洗浄が完了した場合は、ステ
ップS6に進み、洗浄が不十分の場合は、再びステップS4に戻って、キャップ48内の
洗浄作業を繰り返す。
Next, in step S5, it is confirmed whether or not the cleaning of the cap 48 has been completed.
Specifically, in the case of automatic cleaning, after a certain time (for example, 1 minute per head) determined according to the number of cap portions 50 (that is, the number of ejection heads 3) has elapsed, the limiter is turned on. In operation, the injection of the cleaning liquid stops, and the process proceeds to step S6. On the other hand, in the case of manual operation, the operator confirms whether or not the cleaning inside the cap 48 is actually completed. If the cleaning is completed, the process proceeds to step S6. If the cleaning is insufficient, the process returns to step S4 again. The cleaning operation in the cap 48 is repeated.

次に、ステップS6において、キャップ48の吸引を停止した後、ステップS7に進み
、吐出ヘッド3に対する微振動の付与を停止する。そして、ステップS8に進み、キャッ
プ48内を洗浄した後に作業を終了するか否かの確認を行う。この確認作業は、オペレー
タの判断により行うことができ、作業を終了する場合は、ステップS9に進み、作業を再
開する場合は、ステップS11に進む。また、この判断はフローチャートの開始時に作業
終了フラグとして引数で与えられていてもよく、例えば作業終了フラグがONであればス
テップS9に進み、作業終了フラグがOFFであればステップS11に進むという処理を
自動で行うことができる。
Next, in step S6, after stopping the suction of the cap 48, the process proceeds to step S7, and the application of fine vibration to the ejection head 3 is stopped. Then, the process proceeds to step S8, and it is confirmed whether or not the operation is to be ended after the inside of the cap 48 is cleaned. This confirmation work can be performed at the operator's discretion. When the work is finished, the process proceeds to step S9, and when the work is resumed, the process proceeds to step S11. This determination may be given as an argument as a work end flag at the start of the flowchart. For example, if the work end flag is ON, the process proceeds to step S9. If the work end flag is OFF, the process proceeds to step S11. Can be performed automatically.

ステップS9において、作業を終了する場合は、吐出ヘッド3をキャッピングエリアに
戻す。この場合、吐出ヘッド3のノズル面2と対向する第1位置A1に、第4移動体7の
キャッピングユニット15を配置する。このとき、吐出ヘッド3に対しては、微振動を付
与することが好ましい。そして、ステップS10に進み、吐出ヘッド3のノズル面2にキ
ャップ48を当接させた後、装置の電源を落とすことで作業が終了する。作業終了後は、
吐出ヘッド3のノズル面2がキャップ48により覆われているため、ノズル面2(ノズル
1)の乾燥を抑制することができる。
In step S9, when the work is finished, the ejection head 3 is returned to the capping area. In this case, the capping unit 15 of the fourth moving body 7 is disposed at the first position A1 facing the nozzle surface 2 of the ejection head 3. At this time, it is preferable to apply fine vibration to the ejection head 3. Then, the process proceeds to step S10, the cap 48 is brought into contact with the nozzle surface 2 of the ejection head 3, and then the operation is ended by turning off the power of the apparatus. After work is complete
Since the nozzle surface 2 of the discharge head 3 is covered with the cap 48, drying of the nozzle surface 2 (nozzle 1) can be suppressed.

一方、ステップS11において、作業を再開する場合は、吐出ヘッドのメンテナンス処
理を実行する。このメンテナンス処理は、第1位置A1に配置された第4移動体7のキャ
ッピングユニット15を用いて、吐出ヘッド3のノズル面2をキャップ48で覆うと共に
、このキャップ48を介して吐出ヘッド3のノズル1を吸引する吸引動作を実行する。そ
の後、第1位置A1に配置された第3移動体6のワイピングユニット14を用いて、吐出
ヘッド3のノズル面2をワイプ部材57のワイピング面57aで払拭することによって、
このノズル面2に付着した付着物(異物)を除去するワイピング動作を実行する。なお、
この吸引動作は必ずしも強制ではなく、任意に実行することができる。すなわち、吸引動
作を実行せずにワイピング動作だけのメンテナンス処理としてもよい。
On the other hand, when the operation is resumed in step S11, a discharge head maintenance process is executed. In this maintenance process, the capping unit 15 of the fourth moving body 7 disposed at the first position A1 is used to cover the nozzle surface 2 of the ejection head 3 with a cap 48, and through the cap 48, the ejection head 3 A suction operation for sucking the nozzle 1 is executed. After that, by wiping the nozzle surface 2 of the ejection head 3 with the wiping surface 57a of the wiping member 57 using the wiping unit 14 of the third moving body 6 arranged at the first position A1,
A wiping operation for removing the deposit (foreign matter) adhering to the nozzle surface 2 is executed. In addition,
This suction operation is not necessarily forced and can be performed arbitrarily. That is, it is good also as a maintenance process only of wiping operation | movement, without performing suction operation.

また、ステップS12に進み、第1位置A1に配置された第4移動体7のキャッピング
ユニット15を用いて、吐出ヘッド3のノズル1からキャップ48に対して液滴Dを吐出
するフラッシング動作を行ってもよい。なお、このフラッシング動作は必ずしも強制では
なく、任意に実行することができる。そして、メンテナンス処理が完了した後は、通常の
描画シーケンスに戻ることになる。
In step S12, a flushing operation for discharging the droplet D from the nozzle 1 of the discharge head 3 to the cap 48 is performed using the capping unit 15 of the fourth moving body 7 arranged at the first position A1. May be. Note that this flushing operation is not necessarily compulsory and can be arbitrarily executed. Then, after the maintenance process is completed, the normal drawing sequence is resumed.

以上のように、本発明によれば、キャップ48内の洗浄作業中に吐出ヘッド3のノズル
面2が外気に晒される場合でも、ノズル1内で機能液の増粘が進まないようにノズル1内
の機能液を微振動させながら、ノズル1の良好な吐出状態を維持することが可能である。
そして、キャップ48内を洗浄した後、作業を終了する場合は、吐出ヘッド3のノズル面
2にキャップ48を当接させた後に電源を落とし、作業を再開する場合は、吐出ヘッド3
のメンテナンス処理を実行することで、作業の再開時や装置の立上げ時に行う吐出ヘッド
3のメンテナンス処理を短時間で完了することができる。したがって、本発明によれば、
ノズル1の良好な吐出状態を回復するためのメンテナンス時間を短縮することができ、そ
の結果、生産性を更に向上させることが可能である。
As described above, according to the present invention, even when the nozzle surface 2 of the ejection head 3 is exposed to the outside air during the cleaning operation in the cap 48, the nozzle 1 is prevented from increasing in viscosity in the nozzle 1. It is possible to maintain a good discharge state of the nozzle 1 while slightly vibrating the functional liquid inside.
When the work is to be finished after cleaning the inside of the cap 48, the power is turned off after the cap 48 is brought into contact with the nozzle surface 2 of the discharge head 3, and the work is resumed when the work is resumed.
By executing this maintenance process, it is possible to complete the maintenance process of the ejection head 3 performed at the time of resuming the work or starting up the apparatus in a short time. Therefore, according to the present invention,
Maintenance time for recovering the good discharge state of the nozzle 1 can be shortened, and as a result, productivity can be further improved.

なお、本実施形態において、上記のキャッピング工程、ワイピング工程、着弾精度測定
工程、描画工程、及びフラッシング工程の順序はほんの一例であって、これら各工程の順
序や組合せについては任意に変更して実施することが可能である。また、第1移動体4、
第2移動体5、第3移動体6、第4移動体7に対する基板P、着弾精度測定ユニット13
、ワイピングユニット14、及びキャッピングユニット15の配置についても任意に変更
して実施することが可能である。
In this embodiment, the order of the capping step, wiping step, landing accuracy measurement step, drawing step, and flushing step is merely an example, and the order and combination of these steps are arbitrarily changed. Is possible. In addition, the first moving body 4,
Substrate P and landing accuracy measuring unit 13 for second moving body 5, third moving body 6, and fourth moving body 7.
The arrangement of the wiping unit 14 and the capping unit 15 can be arbitrarily changed and implemented.

また、上記メンテナンス処理は、第1移動体4から基板Pを搬出する動作、及び第1移
動体4に基板Pを搬入する動作毎に実行されるが、例えば、ロット毎、所定時間間隔毎に
メンテナンス処理を実行するようにしてもよい。
In addition, the maintenance process is performed for each operation of unloading the substrate P from the first moving body 4 and for each operation of loading the substrate P into the first moving body 4. For example, for each lot, every predetermined time interval Maintenance processing may be executed.

なお、上述の実施形態においては、基板がLTCC基板(グリーンシート)であり、基
板に配線パターン(回路パターン)を形成する場合を例にして説明したが、基板としては
、グリーンシートのみならず、ガラス基板、半導体ウエハ等、製造するデバイスに応じて
、適宜選択可能である。また、使用される機能液の導電性微粒子としても、銀のみならず
、例えば特開2005−34837号公報等に開示されているような、金、銅、パラジウ
ム、及びニッケル等の金属微粒子であってもよいし、導電性ポリマーであってもよい。ま
た、使用される分散媒も、導電性微粒子に応じて適宜選択可能である。また、配線パター
ンのみならず、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)の少なくとも一部を
形成することもできる。
In the above-described embodiment, the case where the substrate is an LTCC substrate (green sheet) and a wiring pattern (circuit pattern) is formed on the substrate has been described as an example. However, the substrate is not limited to a green sheet, Depending on the device to be manufactured, such as a glass substrate or a semiconductor wafer, it can be appropriately selected. Further, the conductive fine particles of the functional liquid used are not only silver but also metal fine particles such as gold, copper, palladium, and nickel as disclosed in, for example, JP-A-2005-34837. It may be a conductive polymer. Moreover, the dispersion medium used can also be suitably selected according to electroconductive fine particles. In addition to the wiring pattern, at least a part of a thin film transistor (TFT) can be formed.

また、液滴吐出装置を用いて製造可能なデバイスとしては、回路基板に限られず、例え
ばカラーフィルタ、配向膜等、液晶装置の少なくとも一部を形成することができるし、有
機EL装置の少なくとも一部を形成することもできる。
A device that can be manufactured using a droplet discharge device is not limited to a circuit board, and can form at least a part of a liquid crystal device, such as a color filter or an alignment film, or at least one of organic EL devices. A part can also be formed.

本実施形態に係る液滴吐出装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the droplet discharge apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る液滴吐出装置の一部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a part of droplet discharge device concerning this embodiment. キャリッジ部材に支持された複数の吐出ヘッドを下側から見た図である。It is the figure which looked at the some discharge head supported by the carriage member from the lower side. 吐出ヘッドの構造の一例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating an example of the structure of a discharge head. 第1移動体の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a 1st moving body. 第2移動体の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a 2nd moving body. 第2移動体の動作の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of operation | movement of a 2nd moving body. 第3移動体の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a 3rd moving body. 第3移動体の動作の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of operation | movement of a 3rd moving body. 第4移動体の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a 4th moving body. 第4移動体の動作の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of operation | movement of a 4th moving body. 断熱部材を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a heat insulation member. 断熱部材を示す側面図である。It is a side view which shows a heat insulation member. 本実施形態に係る液滴吐出装置の動作の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of operation | movement of the droplet discharge apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る液滴吐出装置の動作の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of operation | movement of the droplet discharge apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る液滴吐出装置の動作フローを示す図である。It is a figure which shows the operation | movement flow of the droplet discharge apparatus which concerns on this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1…ノズル、2…ノズル面、3…吐出ヘッド、4…第1移動体、5…第2移動体、6…
第3移動体、7…第4移動体、8…駆動装置、9…機能液収容装置、10…制御装置、1
2…制御器(制御手段)、13…着弾精度測定ユニット、14…ワイピングユニット、1
5…キャッピングユニット、33…ピエゾ素子(微振動発生手段)、48…キャップ、I
J…液滴吐出装置、A1…第1位置、A2…第2位置、D…液滴、P…基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Nozzle, 2 ... Nozzle surface, 3 ... Discharge head, 4 ... 1st moving body, 5 ... 2nd moving body, 6 ...
3rd moving body, 7 ... 4th moving body, 8 ... Drive apparatus, 9 ... Functional liquid storage apparatus, 10 ... Control apparatus, 1
2 ... Controller (control means), 13 ... Landing accuracy measuring unit, 14 ... Wiping unit, 1
5 ... Capping unit, 33 ... Piezo element (microvibration generating means), 48 ... Cap, I
J: Droplet ejection device, A1: First position, A2: Second position, D: Droplet, P: Substrate

Claims (2)

複数のノズルが設けられたノズル面を有し、当該ノズル面の各ノズルから機能液の液滴
を吐出する吐出ヘッドと、
前記吐出ヘッドのノズル面に接触可能なキャップを有し、当該キャップを介してノズル
を吸引するキャッピングユニットと、
前記吐出ヘッドのノズル面をワイプ部材で払拭するワイピングユニットと、
前記吐出ヘッドのノズルから吐出された液滴を吐出対象物に着弾させる着弾エリアと、
前記キャッピングユニットが設けられたキャッピングエリア及び前記ワイピングユニット
が設けられたワイピングエリアを含むメンテナンスエリアとの間で、前記吐出ヘッドを相
対的に移動させる移動手段と、
前記吐出ヘッドに微振動を付与する微振動付与手段と、
前記吐出ヘッド、前記キャッピングユニット、前記ワイピングユニット、前記移動手段
、及び前記微振動付与手段を含む各部の制御を行う制御手段とを備え、
前記制御手段からの指令に基づいて、前記キャッピングユニットのキャップ内を洗浄し
ている間、前記吐出ヘッドが前記キャッピングエリア以外のメンテナンスエリアに待避さ
れて、待避中に前記微振動付与手段が前記吐出ヘッドに対して微振動を付与し、
前記キャップ内を洗浄した後、作業を終了する場合は、前記吐出ヘッドのノズル面に前
記キャップを当接させた後に電源を落とし、作業を再開する場合は、前記吐出ヘッドのメ
ンテナンス処理を実行することを特徴とする液滴吐出装置。
An ejection head having a nozzle surface provided with a plurality of nozzles, and ejecting droplets of functional liquid from each nozzle on the nozzle surface;
A capping unit having a cap that can contact the nozzle surface of the discharge head, and sucking the nozzle through the cap;
A wiping unit for wiping the nozzle surface of the ejection head with a wipe member;
A landing area for landing droplets discharged from the nozzles of the discharge head on a discharge target;
Moving means for relatively moving the ejection head between a capping area in which the capping unit is provided and a maintenance area including a wiping area in which the wiping unit is provided;
Fine vibration applying means for applying fine vibration to the ejection head;
Control means for controlling each part including the ejection head, the capping unit, the wiping unit, the moving means, and the fine vibration applying means,
Based on a command from the control unit, the cleaning head is retracted to a maintenance area other than the capping area while the cap of the capping unit is being cleaned, and the micro-vibration applying unit is configured to discharge the discharge during the retracting. Give a slight vibration to the head,
When the work is finished after cleaning the inside of the cap, the power is turned off after the cap is brought into contact with the nozzle surface of the discharge head, and when the work is resumed, the maintenance process of the discharge head is executed. A droplet discharge apparatus characterized by the above.
複数のノズルが設けられたノズル面を有し、当該ノズル面の各ノズルから機能液の液滴
を吐出する吐出ヘッドと、
前記吐出ヘッドのノズル面に接触可能なキャップを有し、当該キャップを介してノズル
を吸引するキャッピングユニットと、
前記吐出ヘッドのノズル面をワイプ部材で払拭するワイピングユニットと、
前記吐出ヘッドのノズルから吐出された液滴を吐出対象物に着弾させる着弾エリアと、
前記キャッピングユニットが設けられたキャッピングエリア及び前記ワイピングユニット
が設けられたワイピングエリアを含むメンテナンスエリアとの間で、前記吐出ヘッドを相
対的に移動させる移動手段とを備えた液滴吐出装置の制御方法であって、
前記キャッピングユニットのキャップ内を洗浄している間、前記吐出ヘッドを前記キャ
ッピングエリア以外のメンテナンスエリアに待避させ、待避中に前記吐出ヘッドに対して
微振動を付与し、
前記キャップ内を洗浄した後、作業を終了する場合は、前記吐出ヘッドのノズル面に前
記キャップを当接させた後に電源を落とし、作業を再開する場合は、前記吐出ヘッドのメ
ンテナンス処理を実行することを特徴とする液滴吐出装置の制御方法。
An ejection head having a nozzle surface provided with a plurality of nozzles, and ejecting droplets of functional liquid from each nozzle on the nozzle surface;
A capping unit having a cap that can contact the nozzle surface of the discharge head, and sucking the nozzle through the cap;
A wiping unit for wiping the nozzle surface of the ejection head with a wipe member;
A landing area for landing droplets discharged from the nozzles of the discharge head on a discharge target;
A method for controlling a droplet discharge apparatus, comprising: a moving unit that relatively moves the discharge head between a capping area provided with the capping unit and a maintenance area including a wiping area provided with the wiping unit. Because
While cleaning the inside of the cap of the capping unit, the discharge head is retracted to a maintenance area other than the capping area, and a slight vibration is applied to the discharge head during the retracting,
When the work is finished after cleaning the inside of the cap, the power is turned off after the cap is brought into contact with the nozzle surface of the discharge head, and when the work is resumed, the maintenance process of the discharge head is executed. A method for controlling a droplet discharge device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013103389A (en) * 2011-11-11 2013-05-30 Mimaki Engineering Co Ltd Maintenance device and liquid droplet ejection device
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