JP2009247916A - Wiping unit for droplet discharging head, droplet discharging apparatus and method of cleaning droplet discharging head - Google Patents

Wiping unit for droplet discharging head, droplet discharging apparatus and method of cleaning droplet discharging head Download PDF

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JP2009247916A
JP2009247916A JP2008094725A JP2008094725A JP2009247916A JP 2009247916 A JP2009247916 A JP 2009247916A JP 2008094725 A JP2008094725 A JP 2008094725A JP 2008094725 A JP2008094725 A JP 2008094725A JP 2009247916 A JP2009247916 A JP 2009247916A
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Japan
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wiping
droplet discharge
cleaning member
discharge head
unit
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Toru Shinohara
亨 篠原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiping unit for a droplet discharging head which can carry out many wiping operations nearly simultaneously with a simple configuration, a droplet discharging apparatus and a method of cleaning the droplet discharging head. <P>SOLUTION: The wiping unit for the droplet discharging head carries out operations of wiping the nozzle surface by pressing a wiping sheet 34 toward the nozzle surface of the droplet discharging head and sliding, and has a first pressing roller 29 and a second pressing roller 30 for pressing the wiping sheet 34 toward the droplet discharging head, a cleaning member supplying device 43 for supplying the wiping sheet 34 to the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 and a cleaning member recovering device 44 for recovering the wiping sheet 34 supplied to the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30. The wiping sheet 34 is supplied so as to pass through the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 in this order. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液滴吐出ヘッドのワイピングユニット、液滴吐出装置、液滴吐出ヘッドのク
リーニング方法にかかわり、特に、簡便な構成で生産性良く液滴吐出ヘッドを清掃する装
置に関するものである。
The present invention relates to a droplet discharge head wiping unit, a droplet discharge device, and a droplet discharge head cleaning method, and more particularly to an apparatus for cleaning a droplet discharge head with a simple configuration and high productivity.

従来、ワークに対して液滴を吐出する装置として、インクジェット式の液滴吐出装置が
知られている。液滴吐出装置は、基板等のワークを載置してワークを一方向に移動させる
テーブルと、テーブルの上方位置において、テーブルの移動方向と直交する方向に配置さ
れるガイドレールに沿って移動するキャリッジとを備えている。キャリッジはインクジェ
ットヘッド(以下、液滴吐出ヘッドと称す)を配置し、ワークに対して液滴を吐出して、
塗布していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, an ink jet type droplet discharge device is known as a device for discharging droplets to a workpiece. The droplet discharge device moves along a table on which a workpiece such as a substrate is placed and the workpiece is moved in one direction, and a guide rail arranged in a direction perpendicular to the moving direction of the table at a position above the table. And a carriage. The carriage is provided with an inkjet head (hereinafter referred to as a droplet discharge head), which discharges droplets onto the workpiece,
It was applied.

この液滴吐出ヘッドが吐出する機能液を液滴吐出ヘッドに充填するときや、液滴吐出ヘ
ッドの流路内に固形物が析出したとき等、吸引ユニットを用いて液滴吐出ヘッドの流路内
の機能液を吸引する。このとき、液滴吐出ヘッドにおいてノズルが形成されているノズル
面が機能液により汚れるので、清掃部材をノズル面に押し当てて機能液を拭き取るワイピ
ングユニットが特許文献1に紹介されている。
When filling the droplet discharge head with the functional liquid discharged by this droplet discharge head, or when solid matter is deposited in the channel of the droplet discharge head, the flow path of the droplet discharge head using the suction unit Aspirate the functional fluid inside. At this time, since the nozzle surface on which the nozzles are formed in the droplet discharge head is contaminated with the functional liquid, Patent Document 1 introduces a wiping unit that presses the cleaning member against the nozzle surface to wipe off the functional liquid.

特開2005−22251号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-22251

ワークの大きさが液滴吐出ヘッドより大きいとき、効率良く機能液を塗布するために、
液滴吐出装置には多数の液滴吐出ヘッドが搭載される。このとき、多数の液滴吐出ヘッド
を効率良く拭くためには、多数のワイピングユニットを配置する必要がある。ワイピング
ユニットを多数配置すると、装置が複雑になるので、簡便な構成で多数の液滴吐出ヘッド
を効率良く拭くワイピングユニットが望まれていた。
When the size of the workpiece is larger than the droplet discharge head, in order to apply the functional liquid efficiently,
A large number of droplet ejection heads are mounted on the droplet ejection apparatus. At this time, in order to wipe a large number of droplet discharge heads efficiently, it is necessary to arrange a large number of wiping units. When a large number of wiping units are arranged, the apparatus becomes complicated. Therefore, a wiping unit that efficiently wipes a large number of droplet discharge heads with a simple configuration has been desired.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の
形態又は適用例として実現することが可能である。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]
本適用例にかかる液滴吐出ヘッドのワイピングユニットは、液滴吐出ヘッドのノズル面
に清掃部材を押圧して摺動することにより前記ノズル面の払拭動作を行う液滴吐出ヘッド
のワイピングユニットであって、前記清掃部材を前記液滴吐出ヘッドに押圧する複数の押
圧部と、前記押圧部に前記清掃部材を供給する供給部と、前記押圧部に供給される前記清
掃部材を回収する回収部と、を有し、前記清掃部材は複数の前記押圧部を順次通過して供
給されることを特徴とする。
[Application Example 1]
The wiping unit for a droplet discharge head according to this application example is a wiping unit for a droplet discharge head that performs a wiping operation on the nozzle surface by pressing and sliding a cleaning member against the nozzle surface of the droplet discharge head. A plurality of pressing portions that press the cleaning member against the droplet discharge head, a supply portion that supplies the cleaning member to the pressing portion, and a recovery portion that collects the cleaning member supplied to the pressing portion; The cleaning member is supplied by sequentially passing through the plurality of pressing portions.

ここで、ノズル面は液滴吐出ヘッドのノズルが形成されている面を示す。この液滴吐出
ヘッドのワイピングユニットによれば、清掃部材は供給部から供給され、複数の押圧部を
通過した後、回収部に回収される。そして、各押圧部においてノズル面の払拭動作が行わ
れる。このとき、押圧部は供給部と回収部の数より多い数配置することができる。従って
、各1つの供給部と回収部とに対して1つの押圧部を配置する場合に比べて、簡便な構成
で多くの払拭動作を略同時に行うことができる。
Here, the nozzle surface indicates the surface on which the nozzles of the droplet discharge head are formed. According to the wiping unit of the droplet discharge head, the cleaning member is supplied from the supply unit, passes through the plurality of pressing units, and is then collected by the collection unit. And the wiping operation | movement of a nozzle surface is performed in each press part. At this time, the number of pressing parts can be more than the number of supply parts and recovery parts. Therefore, many wiping operations can be performed substantially simultaneously with a simple configuration as compared with the case where one pressing unit is arranged for each one supply unit and collection unit.

[適用例2]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのワイピングユニットにおいて、前記供給部と前記
回収部とを制御する清掃部材制御部を有し、前記清掃部材制御部は、1つの前記押圧部が
払拭動作に用いた前記清掃部材の場所を他の前記押圧部が払拭動作に用いずに回収する制
御を行うことを特徴とする。
[Application Example 2]
The wiping unit of the droplet discharge head according to the application example described above includes a cleaning member control unit that controls the supply unit and the recovery unit, and the cleaning member control unit uses one pressing unit for wiping operation. Control which collects the place of the cleaning member which had been used, without using the other pressing part for wiping operation is performed.

この液滴吐出ヘッドのワイピングユニットによれば、一度払拭動作に用いた清掃部材は
別の押圧部により払拭動作に用いられることがない。従って、ノズル面の払拭動作により
清掃部材に付着した付着物が、他のノズル面に再度付着することがない。その結果、ノズ
ル面に付着する付着物をノズル面から減らすことができる。
According to the wiping unit of the droplet discharge head, the cleaning member once used for the wiping operation is not used for the wiping operation by another pressing portion. Therefore, the adhering matter adhering to the cleaning member by the wiping operation of the nozzle surface does not adhere again to the other nozzle surfaces. As a result, deposits adhering to the nozzle surface can be reduced from the nozzle surface.

[適用例3]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのワイピングユニットにおいて、前記ノズル面と前
記清掃部材とを相対移動させるテーブルを有し、前記テーブルが前記清掃部材と前記ノズ
ル面とを摺動させながら往復して払拭動作を行うことを特徴とする。
[Application Example 3]
The wiping unit of the droplet discharge head according to the application example described above includes a table that relatively moves the nozzle surface and the cleaning member, and the table reciprocates while sliding the cleaning member and the nozzle surface. A wiping operation is performed.

この液滴吐出ヘッドのワイピングユニットによれば、往復して払拭動作を行う。ノズル
がある場所を清掃部材が摺動するとき、ノズル内側面のうち、清掃部材が進行する方向の
側面の方が、清掃部材が進行する方向と逆方向の側面に比べて、ノズルの付着物を払拭し
易くなっている。この方法では、2方向に清掃部材が進行して払拭動作を行う。従って、
ノズルと清掃部材とを1方向のみ摺動する場合に比べて、品質良くノズル面を清掃するこ
とができる。
According to the wiping unit of the droplet discharge head, the wiping operation is performed by reciprocating. When the cleaning member slides in the place where the nozzle is located, the side surface in the direction in which the cleaning member advances among the inner side surfaces of the nozzle, compared with the side surface in the direction opposite to the direction in which the cleaning member advances, It is easy to wipe off. In this method, the cleaning member advances in two directions to perform the wiping operation. Therefore,
Compared with the case where the nozzle and the cleaning member slide in only one direction, the nozzle surface can be cleaned with high quality.

[適用例4]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのワイピングユニットにおいて、前記清掃部材に洗
浄液を供給する洗浄液供給部を有し、複数の前記押圧部のうち少なくとも1つは前記洗浄
液が含浸された前記清掃部材を用いて払拭動作を行うことを特徴とする。
[Application Example 4]
In the wiping unit of the liquid droplet ejection head according to the application example described above, the wiping unit includes a cleaning liquid supply unit that supplies a cleaning liquid to the cleaning member, and at least one of the plurality of pressing units includes the cleaning member impregnated with the cleaning liquid. And performing a wiping operation.

この液滴吐出ヘッドのワイピングユニットによれば、洗浄液が清掃部材を介してノズル
面に塗布される。そして、ノズル面に付着物が存在するとき、洗浄液は付着物に塗布され
る。そして、洗浄液がノズル面の付着物をノズル面から剥離することにより付着物を除去
し易くすることができる。
According to the wiping unit of the droplet discharge head, the cleaning liquid is applied to the nozzle surface via the cleaning member. When the deposit is present on the nozzle surface, the cleaning liquid is applied to the deposit. And it can make it easy to remove a deposit | attachment because a cleaning liquid peels the deposit | attachment of a nozzle surface from a nozzle surface.

[適用例5]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのワイピングユニットにおいて、複数の前記押圧部
のうち少なくとも1つは乾燥している前記清掃部材を用いて払拭動作を行うことを特徴と
する。
[Application Example 5]
In the wiping unit of the droplet discharge head according to the application example described above, at least one of the plurality of pressing portions performs a wiping operation using the cleaning member that is dry.

ここで、乾燥している清掃部材は水分を全く含まない清掃部材ではなく、液状体を吸収
可能な程度に乾燥している清掃部材を示している。この液滴吐出ヘッドのワイピングユニ
ットによれば、ノズル面に付着する液状体を吸収することにより、ノズル面から液状体を
除去することができる。
Here, the dry cleaning member is not a cleaning member that does not contain water at all, but a cleaning member that is dry enough to absorb the liquid material. According to the wiping unit of the droplet discharge head, the liquid material can be removed from the nozzle surface by absorbing the liquid material adhering to the nozzle surface.

[適用例6]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのワイピングユニットにおいて、複数の前記押圧部
のうち少なくとも1つには乾燥している前記清掃部材が供給され、前記清掃部材制御部は
、前記洗浄液が含浸された前記清掃部材が前記押圧部に供給される速度と、乾燥している
前記清掃部材が前記押圧部に供給される速度と、を制御することを特徴とする。
[Application Example 6]
In the wiping unit of the droplet discharge head according to the application example, at least one of the plurality of pressing portions is supplied with the dry cleaning member, and the cleaning member control unit is impregnated with the cleaning liquid. The speed at which the cleaning member is supplied to the pressing portion and the speed at which the dry cleaning member is supplied to the pressing portion are controlled.

この液滴吐出ヘッドのワイピングユニットによれば、洗浄液が含浸された清掃部材がノ
ズル面を摺動する速度と、乾燥している清掃部材がノズル面を摺動する速度と、が制御さ
れる。従って、洗浄液が含浸された清掃部材をノズル面に摺動させるときに最適な速度と
、乾燥している清掃部材が液状体を吸収するときに最適な速度と、が異なる場合にも各清
掃部材を最適な速度で摺動することができる。
According to the wiping unit of the droplet discharge head, the speed at which the cleaning member impregnated with the cleaning liquid slides on the nozzle surface and the speed at which the dry cleaning member slides on the nozzle surface are controlled. Accordingly, even when the optimum speed when the cleaning member impregnated with the cleaning liquid is slid on the nozzle surface and the optimum speed when the dry cleaning member absorbs the liquid material, each cleaning member is also different. Can be slid at an optimum speed.

[適用例7]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのワイピングユニットにおいて、前記供給部と前記
回収部とが前記清掃部材に張力を加えることを特徴とする。
[Application Example 7]
In the wiping unit of the droplet discharge head according to the application example, the supply unit and the recovery unit apply tension to the cleaning member.

この液滴吐出ヘッドのワイピングユニットによれば、清掃部材に張力が加えられている
ことから、清掃部材は弛まない状態となっている。清掃部材が弛んだ状態で、液滴吐出ヘ
ッドに清掃部材を摺動させるとき、清掃部材が液滴吐出ヘッドに引っ掛かることがある。
このとき、所定の速度で払拭動作ができなくなる場合がある。従って、清掃部材に張力を
加えることにより、品質良く払拭動作を行うことができる。
According to the wiping unit of this droplet discharge head, since the tension is applied to the cleaning member, the cleaning member is not loosened. When the cleaning member is slid on the droplet discharge head with the cleaning member slackened, the cleaning member may be caught on the droplet discharge head.
At this time, the wiping operation may not be performed at a predetermined speed. Therefore, the wiping operation can be performed with high quality by applying tension to the cleaning member.

[適用例8]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのワイピングユニットにおいて、前記清掃部材の供
給量を検出する供給量検出部を有し、前記供給量検出部が検出する前記供給量を用いて、
前記清掃部材制御部が前記供給量を制御することを特徴とする。
[Application Example 8]
In the wiping unit of the droplet discharge head according to the application example, the liquid discharge head includes a supply amount detection unit that detects a supply amount of the cleaning member, and uses the supply amount detected by the supply amount detection unit.
The cleaning member control unit controls the supply amount.

この液滴吐出ヘッドのワイピングユニットによれば、精度よく検出される清掃部材の供
給量を用いて、供給量を制御することから、清掃部材の供給量を精度良く制御することが
できる。その結果、液滴吐出ヘッドのワイピングユニットは清掃部材の適切な供給量にお
いて払拭動作を行うことができる。
According to the wiping unit of the droplet discharge head, the supply amount is controlled using the supply amount of the cleaning member that is detected with high accuracy, so that the supply amount of the cleaning member can be accurately controlled. As a result, the wiping unit of the droplet discharge head can perform the wiping operation with an appropriate supply amount of the cleaning member.

[適用例9]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのワイピングユニットにおいて、前記液滴吐出ヘッ
ドが複数存在するとき、複数の前記押圧部は複数の前記液滴吐出ヘッドと対向する場所に
配置されていることを特徴とする。
[Application Example 9]
In the liquid droplet ejection head wiping unit according to the application example described above, when there are a plurality of the liquid droplet ejection heads, the plurality of pressing portions are arranged at locations facing the plurality of the liquid droplet ejection heads. And

この液滴吐出ヘッドのワイピングユニットによれば、液滴吐出ヘッドが配置されている
場所や押圧部が配置されている場所を調整することなく、複数の液滴吐出ヘッドに対して
略同時に払拭動作を行うことができる。従って、複数の液滴吐出ヘッドを同時に払拭動作
を行う場合、生産性良く払拭動作を行うことができる。
According to the wiping unit of the droplet discharge head, the wiping operation is performed almost simultaneously on the plurality of droplet discharge heads without adjusting the location where the droplet discharge head is arranged or the location where the pressing portion is arranged. It can be performed. Therefore, when performing the wiping operation for a plurality of droplet discharge heads simultaneously, the wiping operation can be performed with high productivity.

[適用例10]
本適用例にかかる液滴吐出装置は、液滴吐出ヘッドと前記液滴吐出ヘッドのノズル面に
清掃部材を押圧することにより前記ノズル面の払拭動作を行う液滴吐出ヘッドのワイピン
グユニットとを有する液滴吐出装置であって、前記ワイピングユニットは、前記清掃部材
を前記液滴吐出ヘッドに押圧する複数の押圧部と、前記押圧部に前記清掃部材を供給する
供給部と、前記押圧部に供給される前記清掃部材を回収する回収部とを有し、前記清掃部
材は複数の前記押圧部を順次通過して供給されることを特徴とする。
[Application Example 10]
A droplet discharge device according to this application example includes a droplet discharge head and a wiping unit of the droplet discharge head that performs a wiping operation of the nozzle surface by pressing a cleaning member against the nozzle surface of the droplet discharge head. A droplet discharge device, wherein the wiping unit supplies a plurality of pressing portions that press the cleaning member against the droplet discharge head, a supply portion that supplies the cleaning member to the pressing portion, and a supply to the pressing portion. And a recovery part for recovering the cleaning member, wherein the cleaning member is supplied through a plurality of the pressing parts sequentially.

この液滴吐出装置によれば、清掃部材は供給部から供給され、複数の押圧部を通過した
後、回収部に回収される。そして、各押圧部においてノズル面の払拭動作が行われる。こ
のとき、押圧部は供給部と回収部の数より多く配置することができる。従って、各1つの
供給部と回収部とに対して1つの押圧部を配置する場合に比べて、簡便な構成で多くの払
拭動作を略同時に行うことができる。その結果、液滴吐出装置は生産性良くノズル面を清
掃できるワイピングユニットを備えた装置とすることができる。
According to this droplet discharge device, the cleaning member is supplied from the supply unit, passes through the plurality of pressing units, and is then collected by the collection unit. And the wiping operation | movement of a nozzle surface is performed in each press part. At this time, more pressing parts can be arranged than the number of supply parts and recovery parts. Therefore, many wiping operations can be performed substantially simultaneously with a simple configuration as compared with the case where one pressing unit is arranged for each one supply unit and collection unit. As a result, the droplet discharge device can be a device including a wiping unit that can clean the nozzle surface with high productivity.

[適用例11]
本適用例にかかる液滴吐出ヘッドのクリーニング方法は、液滴吐出ヘッドのノズル面に
清掃部材を押圧することにより前記ノズル面の払拭動作を行うワイピングユニットを用い
た液滴吐出ヘッドのクリーニング方法であって、前記ワイピングユニットは、前記清掃部
材を前記液滴吐出ヘッドに押圧する押圧部を複数有し、前記清掃部材を複数の前記押圧部
に供給する供給工程と、前記清掃部材を複数の前記液滴吐出ヘッドに押圧して払拭する払
拭工程と、を有し、前記供給工程において、前記清掃部材は複数の前記押圧部を順次通過
して供給されることを特徴とする。
[Application Example 11]
The droplet discharge head cleaning method according to this application example is a droplet discharge head cleaning method using a wiping unit that performs a wiping operation of the nozzle surface by pressing a cleaning member against the nozzle surface of the droplet discharge head. The wiping unit includes a plurality of pressing portions that press the cleaning member against the droplet discharge head, a supply step of supplying the cleaning member to the plurality of pressing portions, and a plurality of the cleaning members. A wiping process of pressing and wiping the liquid droplet ejection head, wherein the cleaning member is supplied by sequentially passing through the plurality of pressing parts.

この液滴吐出ヘッドのクリーニング方法によれば、清掃部材は供給部から複数の押圧部
を通過して供給される。そして、各押圧部においてノズル面の払拭動作が行われる。この
とき、1つの清掃部材を複数の押圧部に供給する為、1回の供給により複数の押圧部に清
掃部材を供給することができる。従って、複数の押圧部にそれぞれ清掃部材を供給する方
法に比べて、簡便に清掃部材を供給することができる。その結果、簡便な方法で生産性良
く複数の押圧部にそれぞれ清掃部材を供給することができる。
According to this droplet discharge head cleaning method, the cleaning member is supplied from the supply section through the plurality of pressing sections. And the wiping operation | movement of a nozzle surface is performed in each press part. At this time, since one cleaning member is supplied to the plurality of pressing portions, the cleaning member can be supplied to the plurality of pressing portions by one supply. Therefore, the cleaning member can be easily supplied as compared with the method of supplying the cleaning member to each of the plurality of pressing portions. As a result, the cleaning member can be supplied to each of the plurality of pressing portions with high productivity by a simple method.

[適用例12]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのクリーニング方法において、前記ワイピングユニ
ットは、1つの前記押圧部が払拭動作に用いた前記清掃部材の場所を他の前記押圧部が払
拭動作に用いずに回収することを特徴とする。
[Application Example 12]
In the droplet discharge head cleaning method according to the application example described above, the wiping unit collects the location of the cleaning member used by one of the pressing units for the wiping operation without using the other pressing units for the wiping operation. It is characterized by that.

この液滴吐出ヘッドのクリーニング方法によれば、一度払拭動作に用いた清掃部材は別
の押圧部により払拭動作に用いられることがない。従って、ノズル面の払拭動作により清
掃部材に付着した付着物が、他のノズル面に再度付着することがない。その結果、ノズル
面に付着する付着物をノズル面から減らすことができる。
According to this droplet discharge head cleaning method, the cleaning member once used for the wiping operation is not used for the wiping operation by another pressing portion. Therefore, the adhering matter adhering to the cleaning member by the wiping operation of the nozzle surface does not adhere again to the other nozzle surfaces. As a result, deposits adhering to the nozzle surface can be reduced from the nozzle surface.

[適用例13]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのクリーニング方法において、前記ワイピングユニ
ットは、前記清掃部材を前記ノズル面に摺動させながら往復して払拭動作を行うことを特
徴とする。
[Application Example 13]
In the droplet discharge head cleaning method according to the application example described above, the wiping unit performs a wiping operation by reciprocating while sliding the cleaning member on the nozzle surface.

この液滴吐出ヘッドのクリーニング方法によれば、ワイピングユニットは往復して払拭
動作を行う。この方法では、2方向に清掃部材が進行して払拭動作を行う。従って、ノズ
ルと清掃部材とを1方向のみ摺動する場合に比べて、品質良くノズル面を清掃することが
できる。
According to this droplet discharge head cleaning method, the wiping unit reciprocates to perform the wiping operation. In this method, the cleaning member advances in two directions to perform the wiping operation. Therefore, it is possible to clean the nozzle surface with higher quality than when the nozzle and the cleaning member slide in only one direction.

[適用例14]
上記適用例にかかる液滴吐出ヘッドのクリーニング方法において、前記清掃部材に洗浄
液を供給する洗浄液供給工程を有し、前記払拭工程では、複数の前記押圧部のうち少なく
とも1つは乾燥している前記清掃部材を用いて払拭動作を行い、複数の前記押圧部のうち
少なくとも1つは前記洗浄液が含浸された前記清掃部材を用いて払拭動作を行い、前記洗
浄液が含浸された前記清掃部材が前記ノズル面を摺動する速度と、乾燥している前記清掃
部材が前記ノズル面を摺動する速度と、が異なる速度にて払拭動作を行うことを特徴とす
る。
[Application Example 14]
In the droplet discharge head cleaning method according to the application example described above, the method includes a cleaning liquid supply process for supplying a cleaning liquid to the cleaning member, and in the wiping process, at least one of the plurality of pressing portions is dry. A wiping operation is performed using a cleaning member, and at least one of the plurality of pressing portions performs a wiping operation using the cleaning member impregnated with the cleaning liquid, and the cleaning member impregnated with the cleaning liquid is the nozzle The wiping operation is performed at a speed different from the speed at which the surface slides and the speed at which the dry cleaning member slides at the nozzle face.

この液滴吐出ヘッドのクリーニング方法によれば、洗浄液が清掃部材を介してノズル面
に塗布される。そして、ノズル面に付着物が存在するとき、洗浄液は付着物に塗布される
。この洗浄液がノズル面の付着物をノズル面から剥離することにより付着物を除去し易く
することができる。そして、洗浄液が含浸された清掃部材がノズル面を摺動する速度と、
乾燥している清掃部材がノズル面を摺動する速度と、が異なる速度にて払拭動作が行われ
る。従って、ノズル面に洗浄液を塗布するときに最適な速度と、乾燥している清掃部材が
液状体を吸収するときに最適な速度と、が異なる場合にも各清掃部材を最適な速度で摺動
することができる。
According to this droplet discharge head cleaning method, the cleaning liquid is applied to the nozzle surface via the cleaning member. When the deposit is present on the nozzle surface, the cleaning liquid is applied to the deposit. This cleaning liquid peels off the deposit on the nozzle surface from the nozzle surface, thereby facilitating removal of the deposit. And the speed at which the cleaning member impregnated with the cleaning liquid slides on the nozzle surface,
The wiping operation is performed at a speed different from the speed at which the dry cleaning member slides on the nozzle surface. Therefore, even when the optimum speed when applying the cleaning liquid to the nozzle surface is different from the optimum speed when the dry cleaning member absorbs the liquid material, each cleaning member is slid at the optimum speed. can do.

以下、具体化した実施形態について図面に従って説明する。
尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材
毎に縮尺を異ならせて図示している。
Hereinafter, specific embodiments will be described with reference to the drawings.
In addition, each member in each drawing is illustrated with a different scale for each member in order to make the size recognizable on each drawing.

(第1の実施形態)
本実施形態における液滴吐出装置と、この液滴吐出装置が備える特徴的なワイピングユ
ニットと、このワイピングユニットを用いて液滴吐出ヘッドを清掃する場合の例について
図1〜図8に従って説明する。
(First embodiment)
An example in which the droplet discharge device according to the present embodiment, a characteristic wiping unit provided in the droplet discharge device, and a droplet discharge head are cleaned using the wiping unit will be described with reference to FIGS.

(液滴吐出装置及びワイピングユニット)
まず、ワークに液滴を吐出して塗布する液滴吐出装置1について図1〜図6に従って説
明する。液滴吐出装置に関しては様々な種類の装置があるが、インクジェット法を用いた
装置が好ましい。インクジェット法は微小液滴の吐出が可能であるため、微細加工に適し
ている。
(Droplet discharge device and wiping unit)
First, a droplet discharge device 1 that discharges and applies droplets to a workpiece will be described with reference to FIGS. There are various types of droplet discharge devices, but a device using an ink jet method is preferable. The ink jet method is suitable for microfabrication because it can eject fine droplets.

図1は、液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図である。図1に示すように、液滴吐出装
置1は、直方体形状に形成された基台2を備えている。この基台2の長手方向をY方向と
し、同Y方向と直交する方向をX方向とする。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing the configuration of the droplet discharge device. As shown in FIG. 1, the droplet discharge device 1 includes a base 2 formed in a rectangular parallelepiped shape. The longitudinal direction of the base 2 is defined as the Y direction, and the direction orthogonal to the Y direction is defined as the X direction.

基台2の上面2aには、Y方向に延びる一対の案内レール3a,3bが同Y方向全幅に
わたり凸設されている。その基台2の上側には、一対の案内レール3a,3bに対応する
図示しない直動機構を備えたステージ4が取付けられている。そのステージ4の直動機構
は、例えば、案内レール3a,3bに沿ってY方向に延びるリニアモータを備えた直動機
構である。そして、この直動機構に所定のステップ数に相対する駆動信号がリニアモータ
に入力されると、リニアモータが前進又は後退して、ステージ4が同ステップ数に相当す
る分だけ、Y軸方向に沿って所定の速度で往動又は復動する。この動作によりステージ4
がY方向に走査するようになっている。
On the upper surface 2a of the base 2, a pair of guide rails 3a and 3b extending in the Y direction are provided so as to protrude over the entire width in the Y direction. On the upper side of the base 2, a stage 4 having a linear motion mechanism (not shown) corresponding to the pair of guide rails 3a and 3b is attached. The linear motion mechanism of the stage 4 is, for example, a linear motion mechanism including a linear motor extending in the Y direction along the guide rails 3a and 3b. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the linear motion mechanism, the linear motor moves forward or backward, and the stage 4 moves in the Y-axis direction by an amount corresponding to the number of steps. Advancing or returning at a predetermined speed along. This action causes stage 4
Scans in the Y direction.

そのステージ4の上面には、載置面5が形成され、その載置面5には、図示しない吸引
式の基板チャック機構が設けられている。そして、載置面5に基板6を載置すると、基板
チャック機構によって、その基板6が載置面5の所定の位置に位置決め固定されるように
なっている。
A placement surface 5 is formed on the upper surface of the stage 4, and a suction-type substrate chuck mechanism (not shown) is provided on the placement surface 5. When the substrate 6 is placed on the placement surface 5, the substrate 6 is positioned and fixed at a predetermined position on the placement surface 5 by the substrate chuck mechanism.

基台2のX方向両側には、一対の支持台7a,7bが立設され、その一対の支持台7a
,7bには、X方向に延びる案内部材8が架設されている。案内部材8の上側には、吐出
する機能液を供給可能に収容する収容タンク9が配設されている。
A pair of support bases 7a and 7b are erected on both sides in the X direction of the base 2, and the pair of support bases 7a.
7b is provided with a guide member 8 extending in the X direction. On the upper side of the guide member 8, a storage tank 9 that stores the functional liquid to be discharged is provided.

一方、その案内部材8の下側には、X方向に延びる案内レール10がX方向全幅にわた
り凸設されている。そして、案内レール10に沿って略直方体形状に形成されたテーブル
としてのキャリッジ11が配置されている。キャリッジ11はステージ4の直動機構と同
様な機構を備え、X方向に走査可能となっている。そして、キャリッジ11の下面には、
液滴吐出ヘッド12が凸設されている。ステージ4が基板6をY方向に走査して、キャリ
ッジ11が液滴吐出ヘッド12をX方向に走査する。そして、液滴吐出ヘッド12は基板
6上の所望の場所に液状体を吐出して塗布することが可能になっている。
On the other hand, on the lower side of the guide member 8, a guide rail 10 extending in the X direction is provided so as to protrude over the entire width in the X direction. A carriage 11 as a table formed in a substantially rectangular parallelepiped shape is arranged along the guide rail 10. The carriage 11 has a mechanism similar to the linear motion mechanism of the stage 4 and can scan in the X direction. On the lower surface of the carriage 11,
A droplet discharge head 12 is provided in a protruding manner. The stage 4 scans the substrate 6 in the Y direction, and the carriage 11 scans the droplet discharge head 12 in the X direction. The droplet discharge head 12 can discharge and apply a liquid material to a desired location on the substrate 6.

基台2に対して、X方向と逆方向の側面であってキャリッジ11の移動範囲と対向する
場所には、保守装置13が配置され、保守装置13には液滴吐出ヘッド12をクリーニン
グする機構が配置されている。この保守装置13は直方体形状に形成された基台14を備
えている。基台14の上面14aには、Y方向に延びる一対の案内レール15a,15b
が同Y方向全幅にわたり凸設されている。その基台14の上側には、一対の案内レール1
5a,15bに対応する図示しない直動機構を備えたテーブルとしての保守ステージ16
が配置されている。保守ステージ16はステージ4と同様な直動機構を備え、保守ステー
ジ16は案内レール15a,15bに沿って移動可能になっている。
A maintenance device 13 is disposed on the side opposite to the base 2 in the direction opposite to the X direction and opposite the movement range of the carriage 11. The maintenance device 13 has a mechanism for cleaning the droplet discharge head 12. Is arranged. The maintenance device 13 includes a base 14 formed in a rectangular parallelepiped shape. On the upper surface 14a of the base 14, a pair of guide rails 15a and 15b extending in the Y direction.
Is projected over the entire width in the Y direction. On the upper side of the base 14, a pair of guide rails 1
Maintenance stage 16 as a table having a linear motion mechanism (not shown) corresponding to 5a and 15b.
Is arranged. The maintenance stage 16 includes a linear motion mechanism similar to that of the stage 4, and the maintenance stage 16 is movable along the guide rails 15a and 15b.

保守ステージ16上のY方向側には吐出受部17が配置され、吐出受部17には凹状に
形成された受皿と受皿の上に配置されたスポンジ状の吸収マットが配置されている。そし
て、吐出受部17が液滴吐出ヘッド12に対向する場所に位置するように保守ステージ1
6を移動した後、液滴吐出ヘッド12から液状体を吐出する。このとき、吐出された液状
体が吐出受部17に吸収されるようになっている。一方、保守ステージ16上のY方向と
逆方向の側には払拭装置18が配置され、払拭装置18が液滴吐出ヘッド12に付着した
機能液や塵を拭き取ることが可能になっている。この払拭装置18、保守ステージ16、
基台14等からワイピングユニット19が構成されている。
A discharge receiving portion 17 is disposed on the Y-direction side on the maintenance stage 16, and a receiving tray formed in a concave shape and a sponge-like absorption mat disposed on the receiving tray are disposed in the discharge receiving portion 17. The maintenance stage 1 is positioned so that the discharge receiving portion 17 is located at a position facing the droplet discharge head 12.
After moving 6, the liquid material is discharged from the droplet discharge head 12. At this time, the discharged liquid material is absorbed by the discharge receiving portion 17. On the other hand, a wiping device 18 is disposed on the side of the maintenance stage 16 opposite to the Y direction, so that the wiping device 18 can wipe off functional liquid and dust adhering to the droplet discharge head 12. This wiping device 18, maintenance stage 16,
A wiping unit 19 is composed of the base 14 and the like.

図2(a)は、キャリッジを示す模式平面図である。図2(a)に示すように、1つの
キャリッジ11には、3個の液滴吐出ヘッド12が略Y方向において等間隔に配列して配
置されている。3個の液滴吐出ヘッド12は赤色、青色、緑色の機能液が供給されている
。そして、この各色の機能液を吐出する液滴吐出ヘッド12はそれぞれX方向に千鳥状に
配列して配置されている。
FIG. 2A is a schematic plan view showing the carriage. As shown in FIG. 2A, one droplet 11 has three droplet discharge heads 12 arranged at regular intervals in the substantially Y direction. The three droplet discharge heads 12 are supplied with red, blue and green functional liquids. The droplet discharge heads 12 that discharge the functional liquids of the respective colors are arranged in a staggered manner in the X direction.

そして、液滴吐出ヘッド12の表面にはノズルプレート20が配置され、ノズルプレー
ト20にはノズル21が複数形成されている。ノズル21の数は、吐出するパターンと基
板6の大きさに合わせて設定すればよく、本実施形態においては、例えば、1個のノズル
プレート20にはノズル21の配列が1列形成され、各列には11個のノズル21が配置
されている。
A nozzle plate 20 is disposed on the surface of the droplet discharge head 12, and a plurality of nozzles 21 are formed on the nozzle plate 20. The number of nozzles 21 may be set in accordance with the pattern to be ejected and the size of the substrate 6. In this embodiment, for example, one nozzle plate 20 is formed with one array of nozzles 21, Eleven nozzles 21 are arranged in the row.

図2(b)は、液滴吐出ヘッドの構造を説明するための要部模式断面図である。図2(
b)に示すように、液滴吐出ヘッド12は、ノズルプレート20を備え、ノズルプレート
20には、ノズル21が形成されている。ノズルプレート20の上側であって、ノズル2
1と対向する位置には、ノズル21と連通する圧力室としてのキャビティ22が形成され
ている。そして、液滴吐出ヘッド12のキャビティ22には、図示しない供給装置に貯留
されている液状体としての機能液23が図示しない流路を介して供給される。
FIG. 2B is a schematic cross-sectional view of the main part for explaining the structure of the droplet discharge head. FIG.
As shown in b), the droplet discharge head 12 includes a nozzle plate 20, and a nozzle 21 is formed on the nozzle plate 20. Nozzle 2 above nozzle plate 20
A cavity 22 serving as a pressure chamber communicating with the nozzle 21 is formed at a position facing 1. The functional liquid 23 as a liquid material stored in a supply device (not shown) is supplied to the cavity 22 of the droplet discharge head 12 via a flow path (not shown).

キャビティ22の上側には、上下方向(Z方向)に振動して、キャビティ22内の容積
を拡大縮小する振動板24と、上下方向に伸縮して振動板24を振動させる駆動部として
の圧電素子25が配設されている。そして、液滴吐出ヘッド12が圧電素子25を制御駆
動するためのノズル駆動信号を受けると、圧電素子25が伸張して、振動板24がキャビ
ティ22内の容積を拡大縮小してキャビティ22を加圧する。その結果、液滴吐出ヘッド
12のノズル21からは、縮小した容積分の機能液23が液滴26として吐出される。こ
の液滴吐出ヘッド12において、ノズル21、キャビティ22、振動板24、圧電素子2
5等により液滴吐出素子27が構成され、1つの液滴吐出ヘッド12には複数の液滴吐出
素子27が配列して形成されている。また、ノズルプレート20において、液滴26が吐
出される側の面をノズル面20aとする。
Above the cavity 22, a vibration plate 24 that vibrates in the vertical direction (Z direction) and expands and contracts the volume in the cavity 22, and a piezoelectric element as a drive unit that expands and contracts in the vertical direction to vibrate the vibration plate 24. 25 is arranged. When the droplet discharge head 12 receives a nozzle drive signal for controlling and driving the piezoelectric element 25, the piezoelectric element 25 expands, and the diaphragm 24 expands and contracts the volume in the cavity 22 to add the cavity 22. Press. As a result, the functional liquid 23 corresponding to the reduced volume is discharged as droplets 26 from the nozzles 21 of the droplet discharge head 12. In this droplet discharge head 12, the nozzle 21, the cavity 22, the diaphragm 24, and the piezoelectric element 2
The droplet discharge element 27 is composed of 5 or the like, and a plurality of droplet discharge elements 27 are arranged in one droplet discharge head 12. In addition, in the nozzle plate 20, a surface on the side where the droplets 26 are discharged is referred to as a nozzle surface 20a.

図3(a)は、払拭装置を示す概略斜視図である。図3(a)に示すように、払拭装置
18は直方体に形成された筐体28を備えている。そして、筐体28の上面28aには押
圧部としての第1押圧ローラ29と押圧部としての第2押圧ローラ30の2つの押圧ロー
ラが配置されている。この第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30は円柱状に形成さ
れ、円柱状の半径方向の一部が筐体28から突出して配置されている。そして、ノズル面
20aに付着した機能液23を払拭するとき、この第1押圧ローラ29及び第2押圧ロー
ラ30をノズル面20aに押圧する。第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30のX方
向の長さは液滴吐出ヘッド12のX方向の長さより長く形成されており、1つの押圧部が
1つの液滴吐出ヘッド12を払拭することができるようになっている。
Fig.3 (a) is a schematic perspective view which shows a wiping apparatus. As shown to Fig.3 (a), the wiping apparatus 18 is provided with the housing | casing 28 formed in the rectangular parallelepiped. Two pressing rollers, a first pressing roller 29 as a pressing portion and a second pressing roller 30 as a pressing portion, are arranged on the upper surface 28a of the housing 28. The first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 are formed in a columnar shape, and a part of the columnar radial direction protrudes from the housing 28. When the functional liquid 23 adhered to the nozzle surface 20a is wiped off, the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 are pressed against the nozzle surface 20a. The length of the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 in the X direction is longer than the length of the droplet discharge head 12 in the X direction, and one pressing portion wipes one droplet discharge head 12. Be able to.

図3(b)は、払拭装置とキャリッジを示す模式側面図である。図3(b)に示すよう
に、Y方向に配列する液滴吐出ヘッド12の間隔は、第1押圧ローラ29と第2押圧ロー
ラ30との間隔と同じ間隔に配置されている。そして、第1押圧ローラ29及び第2押圧
ローラ30は各々液滴吐出ヘッド12と対向する場所に配置することが可能となっている
FIG. 3B is a schematic side view showing the wiping device and the carriage. As shown in FIG. 3B, the interval between the droplet discharge heads 12 arranged in the Y direction is the same as the interval between the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30. The first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 can each be disposed at a location facing the droplet discharge head 12.

図4(a)は、払拭装置の構造を示す模式上面図であり、図4(b)は、払拭装置の構
造を示す模式側面図である。そして、図4(b)は、図4(a)におけるA−A’から見
た図を示している。図4(a)及び図4(b)に示すように、払拭装置18は基台31を
備えている。そして、基台31上には第1側板32及び第2側板33が立設されている。
第1側板32及び第2側板33は長方形の板であり、第1側板32及び第2側板33は平
行に配置されている。
FIG. 4A is a schematic top view showing the structure of the wiping device, and FIG. 4B is a schematic side view showing the structure of the wiping device. And FIG.4 (b) has shown the figure seen from AA 'in Fig.4 (a). As shown in FIGS. 4A and 4B, the wiping device 18 includes a base 31. A first side plate 32 and a second side plate 33 are erected on the base 31.
The first side plate 32 and the second side plate 33 are rectangular plates, and the first side plate 32 and the second side plate 33 are arranged in parallel.

第1側板32において、Y方向と逆方向の下側には清掃部材としてのワイピングシート
34が巻かれている供給ロール35が配置されている。このワイピングシート34は引張
り強度があり、機能液23及び洗浄液を吸収し易い材料であれば良い。ワイピングシート
34の材料として、例えば、ポリエステル繊維やポリプロピレン繊維からなるシートや綿
布、あるいはポリエステルとポリアミドとが積層された構造を有する繊維からなるシート
等を用いることができる。特に、ポリエステルとポリアミドとの積層構造を有する繊維か
らなる織布を用いるとき、洗浄液を用いた払拭動作において良好にノズル面20aの汚れ
を拭き取ることができるのに加え、ノズル面20aに洗浄液が付着し難くなり、ノズル面
20aの清浄度を向上できるという利点が得られる。本実施形態では、例えば、ポリエス
テルとポリアミドとの積層構造を有する繊維からなる織布を採用している。
In the first side plate 32, a supply roll 35 around which a wiping sheet 34 as a cleaning member is wound is disposed below the Y direction. The wiping sheet 34 may be any material that has tensile strength and can easily absorb the functional liquid 23 and the cleaning liquid. As the material of the wiping sheet 34, for example, a sheet or cotton cloth made of polyester fiber or polypropylene fiber, or a sheet made of fiber having a structure in which polyester and polyamide are laminated can be used. In particular, when a woven fabric made of fibers having a laminated structure of polyester and polyamide is used, the cleaning liquid adheres to the nozzle surface 20a in addition to being able to wipe off dirt on the nozzle surface 20a well in the wiping operation using the cleaning liquid. This is advantageous in that the cleanliness of the nozzle surface 20a can be improved. In this embodiment, for example, a woven fabric made of fibers having a laminated structure of polyester and polyamide is employed.

供給ロール35は軸方向が基台31と平行に配置され、供給ロール35の軸には供給モ
ータ36が接続されている。供給モータ36はサーボモータであり、内部にエンコーダを
備えている。そして、供給モータ36は回転角度、回転速度、トルク等の信号を入力して
所定の条件にて回転する。
The supply roll 35 is arranged with its axial direction parallel to the base 31, and a supply motor 36 is connected to the shaft of the supply roll 35. The supply motor 36 is a servo motor and includes an encoder inside. The supply motor 36 receives signals such as a rotation angle, a rotation speed, and torque and rotates under predetermined conditions.

供給ロール35の上側には第1アイドルプーリ37が配置され、供給モータ36の上側
のY方向には第2押圧ローラ30が配置されている。第1アイドルプーリ37はワイピン
グシート34の進行方向を変更するために配置されている。そして、第1アイドルプーリ
37にはロータリーエンコーダ等からなる供給量検出部としての供給量検出装置38が配
置され、第1アイドルプーリ37の回転角度を検出することによりワイピングシート34
が第1アイドルプーリ37を通過する量である供給量を検出可能となっている。
A first idle pulley 37 is disposed above the supply roll 35, and a second pressing roller 30 is disposed in the Y direction above the supply motor 36. The first idle pulley 37 is arranged to change the traveling direction of the wiping sheet 34. The first idle pulley 37 is provided with a supply amount detection device 38 as a supply amount detection unit composed of a rotary encoder or the like. By detecting the rotation angle of the first idle pulley 37, the wiping sheet 34 is provided.
Can detect the supply amount that passes through the first idle pulley 37.

第2押圧ローラ30はワイピングシート34を液滴吐出ヘッド12のノズル面20aに
押圧する部材であり、弾性のある材料が好ましく、天然ゴム、ウレタン、シリコンゴム等
の材料に添加物を加えて硬度を調整した物を用いることができる。本実施形態では、例え
ば、天然ゴムに添加剤を加えたものを採用している。そして、第2押圧ローラ30は図示
しないバネによりZ方向に加勢されている。
The second pressing roller 30 is a member that presses the wiping sheet 34 against the nozzle surface 20a of the liquid droplet ejection head 12, and is preferably an elastic material. The hardness is obtained by adding an additive to a material such as natural rubber, urethane, or silicon rubber. The thing which adjusted can be used. In the present embodiment, for example, natural rubber added with an additive is employed. The second pressing roller 30 is urged in the Z direction by a spring (not shown).

第2押圧ローラ30のY方向には第1押圧ローラ29が配置され、第1押圧ローラ29
と第2押圧ローラ30との間の下側には第2アイドルプーリ39が配置されている。そし
て、ワイピングシート34は第2押圧ローラ30、第2アイドルプーリ39、第1押圧ロ
ーラ29の順に通過するように配置されている。このワイピングシート34が第2アイド
ルプーリ39を通過するように配置されることにより、第2押圧ローラ30から第1押圧
ローラ29までのワイピングシート34の長さを長く設定することが可能になっている。
A first pressing roller 29 is disposed in the Y direction of the second pressing roller 30, and the first pressing roller 29
A second idle pulley 39 is disposed below the second pressure roller 30. The wiping sheet 34 is arranged so as to pass through the second pressing roller 30, the second idle pulley 39, and the first pressing roller 29 in this order. By disposing the wiping sheet 34 so as to pass through the second idle pulley 39, the length of the wiping sheet 34 from the second pressing roller 30 to the first pressing roller 29 can be set longer. Yes.

第1押圧ローラ29は、第2押圧ローラ30と同様に、ワイピングシート34を液滴吐
出ヘッド12のノズル面20aに押圧する部材であり、第2押圧ローラ30と同様の材料
を用いることができる。本実施形態では、例えば、天然ゴムに添加剤を加えたものを採用
している。そして、第1押圧ローラ29は図示しないバネによりZ方向に加勢されている
The first pressing roller 29 is a member that presses the wiping sheet 34 against the nozzle surface 20 a of the droplet discharge head 12, similarly to the second pressing roller 30, and the same material as the second pressing roller 30 can be used. . In the present embodiment, for example, natural rubber added with an additive is employed. The first pressing roller 29 is urged in the Z direction by a spring (not shown).

第1押圧ローラ29のY方向の下側には第3アイドルプーリ40が配置され、第3アイ
ドルプーリ40の下側には回収ロール41が配置されている。そして、第1押圧ローラ2
9を通過するワイピングシート34は第3アイドルプーリ40を経て回収ロール41に巻
き取られる。第3アイドルプーリ40は第1アイドルプーリ37と同様にワイピングシー
ト34の進行方向を変更するために配置されている。
A third idle pulley 40 is disposed below the first pressing roller 29 in the Y direction, and a collection roll 41 is disposed below the third idle pulley 40. And the first pressing roller 2
The wiping sheet 34 passing through 9 is wound around the collection roll 41 via the third idle pulley 40. The third idle pulley 40 is arranged to change the traveling direction of the wiping sheet 34 as with the first idle pulley 37.

回収ロール41には回収モータ42が配置されている。回収モータ42は、供給モータ
36と同様に、サーボモータであり、内部にエンコーダを備えている。そして、回収モー
タ42は回転角度、回転速度、トルク等の信号を入力して所定の条件にて回転する。
A collection motor 42 is disposed on the collection roll 41. Similar to the supply motor 36, the collection motor 42 is a servo motor and includes an encoder therein. Then, the recovery motor 42 receives signals such as a rotation angle, a rotation speed, and torque and rotates under predetermined conditions.

払拭装置18において、供給ロール35、供給モータ36、第1アイドルプーリ37等
により供給部としての清掃部材供給装置43が構成されている。そして、第3アイドルプ
ーリ40、回収ロール41、回収モータ42等により回収部としての清掃部材回収装置4
4が構成されている。
In the wiping device 18, a cleaning member supply device 43 as a supply unit is configured by the supply roll 35, the supply motor 36, the first idle pulley 37, and the like. And the cleaning member collection | recovery apparatus 4 as a collection part by the 3rd idle pulley 40, the collection | recovery roll 41, the collection | recovery motor 42, etc.
4 is configured.

第1押圧ローラ29の下側にはワイピングシート34に洗浄液45を噴出する洗浄液用
ノズル46が配置され、第2アイドルプーリ39の下側には洗浄液供給装置47が配置さ
れている。そして、洗浄液用ノズル46と洗浄液供給装置47とはチューブ48により接
続されている。洗浄液供給装置47は洗浄液45を収納する容器とポンプを備えている。
そして、洗浄液供給装置47のポンプが洗浄液45を加圧することにより、チューブ48
を介して洗浄液45を洗浄液用ノズル46に送る。送られた洗浄液45は洗浄液用ノズル
46から噴出されて、ワイピングシート34に塗布される。そして、塗布された洗浄液4
5はワイピングシート34に含浸し、第1押圧ローラ29は洗浄液45が含浸しているワ
イピングシート34をノズル面20aに押圧しながら払拭運動をするようになっている。
この洗浄液用ノズル46、洗浄液供給装置47、チューブ48等により洗浄液供給部が構
成されている。
A cleaning liquid nozzle 46 that ejects the cleaning liquid 45 onto the wiping sheet 34 is disposed below the first pressing roller 29, and a cleaning liquid supply device 47 is disposed below the second idle pulley 39. The cleaning liquid nozzle 46 and the cleaning liquid supply device 47 are connected by a tube 48. The cleaning liquid supply device 47 includes a container for storing the cleaning liquid 45 and a pump.
Then, the pump of the cleaning liquid supply device 47 pressurizes the cleaning liquid 45, so that the tube 48
Then, the cleaning liquid 45 is sent to the cleaning liquid nozzle 46. The sent cleaning liquid 45 is ejected from the cleaning liquid nozzle 46 and applied to the wiping sheet 34. And the applied cleaning solution 4
5 is impregnated in the wiping sheet 34, and the first pressing roller 29 performs a wiping motion while pressing the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 against the nozzle surface 20a.
The cleaning liquid supply section is constituted by the cleaning liquid nozzle 46, the cleaning liquid supply device 47, the tube 48, and the like.

図5は、洗浄液を含浸したワイピングシートを示す図であり、回収ロール41に巻き取
られたワイピングシート34を示している。図5に示すように、ワイピングシート34に
は洗浄液45を含浸した含浸領域34aと洗浄液45を含浸していない乾燥領域34bと
が交互に配置されている。そして、ワイピングシート34の長手方向における含浸領域3
4aの長さと乾燥領域34bの長さとが略同じ長さとなっている。そして、含浸領域34
aと乾燥領域34bとを合わせた領域を1回あたりの清掃領域34cとし、ワイピングシ
ート34には1回あたりの清掃領域34cが配列して形成される。
FIG. 5 is a view showing a wiping sheet impregnated with the cleaning liquid, and shows the wiping sheet 34 wound around the collection roll 41. As shown in FIG. 5, the wiping sheet 34 is alternately provided with impregnation regions 34 a impregnated with the cleaning liquid 45 and dry regions 34 b not impregnated with the cleaning liquid 45. Then, the impregnation region 3 in the longitudinal direction of the wiping sheet 34
The length of 4a is substantially the same as the length of the drying region 34b. And the impregnation region 34
The combined area of “a” and the dry area 34 b is defined as a cleaning area 34 c per time, and the cleaning area 34 c per time is arranged and formed on the wiping sheet 34.

第1押圧ローラ29が含浸領域34aを用いて払拭動作をした後、乾燥領域34bは第
1押圧ローラ29を通過する。そして、次の含浸領域34aが第1押圧ローラ29の場所
に移動する。このとき、第2押圧ローラ30が用いた乾燥領域34bは第1押圧ローラ2
9において払拭動作に使用されることなく回収される。
After the first pressing roller 29 performs the wiping operation using the impregnation region 34 a, the drying region 34 b passes through the first pressing roller 29. Then, the next impregnation region 34 a moves to the place of the first pressing roller 29. At this time, the drying area 34 b used by the second pressing roller 30 is the first pressing roller 2.
9 is collected without being used for the wiping operation.

図6は、液滴吐出装置の電気制御ブロック図である。図6において、液滴吐出装置1の
制御装置51はプロセッサとして各種の演算処理を行うCPU(演算処理装置)52と各
種情報を記憶するメモリ53とを有する。
FIG. 6 is an electric control block diagram of the droplet discharge device. In FIG. 6, the control device 51 of the droplet discharge device 1 includes a CPU (arithmetic processing device) 52 that performs various arithmetic processes as a processor and a memory 53 that stores various kinds of information.

主走査駆動装置54、副走査駆動装置55、液滴吐出ヘッド12を駆動するヘッド駆動
回路56は、入出力インターフェース57及びデータバス58を介してCPU52に接続
されている。さらに、入力装置59、ディスプレイ装置60、供給駆動装置61、回収駆
動装置62も入出力インターフェース57及びデータバス58を介してCPU52に接続
されている。さらに、供給量検出装置38、液供給駆動装置63、保守ステージ駆動装置
64も入出力インターフェース57及びデータバス58を介してCPU52に接続されて
いる。
The main scanning drive device 54, the sub-scanning drive device 55, and the head drive circuit 56 that drives the droplet discharge head 12 are connected to the CPU 52 via an input / output interface 57 and a data bus 58. Further, an input device 59, a display device 60, a supply drive device 61, and a collection drive device 62 are also connected to the CPU 52 via an input / output interface 57 and a data bus 58. Further, a supply amount detection device 38, a liquid supply drive device 63, and a maintenance stage drive device 64 are also connected to the CPU 52 via an input / output interface 57 and a data bus 58.

主走査駆動装置54はステージ4の移動を制御する装置であり、副走査駆動装置55は
キャリッジ11の移動を制御する装置である。主走査駆動装置54がステージ4の移動を
制御し、副走査駆動装置55がキャリッジ11の移動を制御することにより、液滴吐出ヘ
ッド12を基板6に対して所望の位置に移動及び停止することが可能となっている。
The main scanning drive device 54 is a device that controls the movement of the stage 4, and the sub-scanning drive device 55 is a device that controls the movement of the carriage 11. The main scanning drive device 54 controls the movement of the stage 4, and the sub-scanning drive device 55 controls the movement of the carriage 11, thereby moving and stopping the droplet discharge head 12 to a desired position with respect to the substrate 6. Is possible.

ヘッド駆動回路56は液滴吐出ヘッド12を駆動する回路である。そして、CPU52
が指示する駆動電圧、吐出数、吐出間隔等の吐出条件に従って、ヘッド駆動回路56は液
滴吐出ヘッド12を駆動する。
The head drive circuit 56 is a circuit that drives the droplet discharge head 12. And CPU52
The head drive circuit 56 drives the droplet discharge head 12 according to the discharge conditions such as the drive voltage, the number of discharges, and the discharge interval.

入力装置59は液滴26を吐出する各種加工条件を入力する装置であり、例えば、基板
6に液滴26を吐出する座標を図示しない外部装置から受信し、入力する装置である。デ
ィスプレイ装置60は加工条件や作業状況を表示する装置であり、ディスプレイ装置60
に表示される情報を基に、操作者は入力装置59を用いて操作を行う。
The input device 59 is a device that inputs various processing conditions for discharging the droplets 26. For example, the input device 59 is a device that receives and inputs coordinates for discharging the droplets 26 on the substrate 6 from an external device (not shown). The display device 60 is a device that displays processing conditions and work conditions.
The operator performs an operation using the input device 59 based on the information displayed on the screen.

供給駆動装置61は清掃部材供給装置43を駆動する装置であり、CPU52が指示す
る供給の開始と停止、供給速度等の供給条件に従って、供給駆動装置61は清掃部材供給
装置43を駆動する。回収駆動装置62は清掃部材回収装置44を駆動する装置であり、
CPU52が指示する回収の開始と停止、回収速度等の回収条件に従って、回収駆動装置
62は清掃部材回収装置44を駆動する。供給量検出装置38はワイピングシート34の
供給量を検出して、検出した供給量のデータをCPU52に出力する。
The supply drive device 61 is a device that drives the cleaning member supply device 43, and the supply drive device 61 drives the cleaning member supply device 43 in accordance with supply conditions such as supply start and stop, supply speed, and the like that the CPU 52 instructs. The recovery drive device 62 is a device that drives the cleaning member recovery device 44.
The recovery drive device 62 drives the cleaning member recovery device 44 in accordance with recovery conditions such as the start and stop of recovery, the recovery speed, etc. indicated by the CPU 52. The supply amount detection device 38 detects the supply amount of the wiping sheet 34 and outputs data of the detected supply amount to the CPU 52.

液供給駆動装置63は洗浄液供給装置47を駆動する装置であり、CPU52が指示す
る洗浄液45の供給の開始と停止、供給量等の供給条件に従って、液供給駆動装置63は
洗浄液供給装置47を駆動する。そして、所定の供給条件で洗浄液45が洗浄液用ノズル
46からワイピングシート34に噴出され、塗布されるようになっている。保守ステージ
駆動装置64は保守ステージ16移動と停止を制御する装置である。
The liquid supply driving device 63 drives the cleaning liquid supply device 47. The liquid supply driving device 63 drives the cleaning liquid supply device 47 in accordance with supply conditions such as the start and stop of supply of the cleaning liquid 45 and the supply amount indicated by the CPU 52. To do. The cleaning liquid 45 is ejected from the cleaning liquid nozzle 46 to the wiping sheet 34 under a predetermined supply condition and applied. The maintenance stage driving device 64 is a device that controls the movement and stoppage of the maintenance stage 16.

メモリ53は、RAM、ROM等といった半導体メモリや、ハードディスク、CD−R
OMといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、液滴吐出装置1における動作
の制御手順が記述されたプログラムソフト65を記憶する記憶領域が設定される。さらに
、基板6内における吐出位置の座標データである吐出位置データ66を記憶するための記
憶領域も設定される。さらに、吐出する機能液23の量に対応する吐出波形データ67を
記憶するための記憶領域も設定される。さらに、ワイピングシート34を第1押圧ローラ
29及び第2押圧ローラ30に供給するときの供給速度、供給量、ワイピングシート34
に加える張力等の清掃部材管理データ68を記憶するための記憶領域も設定される。他に
も、吐出する液滴吐出ヘッド12を払拭する速度、回数等の清掃条件管理データ69を記
憶するための記憶領域も設定される。他にも、基板6を主走査方向(Y方向)へ移動する
主走査移動量と、キャリッジ11を副走査方向(X方向)へ移動する副走査移動量とを記
憶するための記憶領域や、CPU52のためのワークエリアやテンポラリファイル等とし
て機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。
The memory 53 is a semiconductor memory such as a RAM or a ROM, a hard disk, a CD-R.
It is a concept including an external storage device such as OM. Functionally, a storage area for storing the program software 65 in which the operation control procedure in the droplet discharge device 1 is described is set. Further, a storage area for storing discharge position data 66 that is coordinate data of the discharge position in the substrate 6 is also set. Further, a storage area for storing the discharge waveform data 67 corresponding to the amount of the functional liquid 23 to be discharged is also set. Further, the supply speed and supply amount when supplying the wiping sheet 34 to the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30, the wiping sheet 34.
A storage area for storing the cleaning member management data 68 such as tension applied to is also set. In addition, a storage area for storing cleaning condition management data 69 such as the speed and the number of times of wiping the droplet discharge head 12 to be discharged is also set. In addition, a storage area for storing a main scanning movement amount for moving the substrate 6 in the main scanning direction (Y direction) and a sub scanning movement amount for moving the carriage 11 in the sub scanning direction (X direction); A storage area that functions as a work area for the CPU 52, a temporary file, and other various storage areas are set.

CPU52はメモリ53内に記憶されたプログラムソフト65に従って、基板6におけ
る表面の所定位置に機能液23を液滴26にして吐出するための制御や液滴吐出ヘッド1
2を保守するための制御を行うものである。具体的な機能実現部として、液滴吐出ヘッド
12において液滴26を吐出するための演算を行う吐出演算部70等を有する。吐出演算
部70を詳しく分割すれば、吐出演算部70は基板6を主走査方向(Y方向)へ所定の速
度で走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部71を有する。加えて、吐出
演算部70は液滴吐出ヘッド12を副走査方向(X方向)へ所定の副走査移動量で移動さ
せるための制御を演算する副走査制御演算部72を有する。さらに、吐出演算部70は液
滴吐出ヘッド12内に複数あるノズルの内、どのノズルを作動させて機能液23を吐出す
るかを制御するための演算を行う吐出制御演算部73等といった各種の機能演算部を有す
る。
In accordance with the program software 65 stored in the memory 53, the CPU 52 performs control for ejecting the functional liquid 23 as droplets 26 at predetermined positions on the surface of the substrate 6 and the droplet ejection head 1.
Control for maintaining 2 is performed. As a specific function realization unit, the liquid droplet ejection head 12 includes an ejection computation unit 70 that performs computations for ejecting the droplets 26. If the discharge calculation unit 70 is divided in detail, the discharge calculation unit 70 has a main scanning control calculation unit 71 for calculating control for scanning and moving the substrate 6 in the main scanning direction (Y direction) at a predetermined speed. In addition, the ejection calculation unit 70 includes a sub-scanning control calculation unit 72 that calculates control for moving the droplet discharge head 12 in the sub-scanning direction (X direction) by a predetermined sub-scanning movement amount. Further, the discharge calculation unit 70 includes various control units such as a discharge control calculation unit 73 that performs calculation for controlling which nozzle among a plurality of nozzles in the droplet discharge head 12 is operated to discharge the functional liquid 23. It has a function calculation unit.

吐出演算部70の他にも、CPU52は液滴吐出ヘッド12を清掃する制御を行う清掃
演算部74を有する。清掃演算部74を詳しく分割すれば、清掃演算部74はワイピング
シート34の供給と回収の制御を行う清掃部材制御部としての清掃部材制御演算部75を
有する。清掃部材制御演算部75は供給駆動装置61にワイピングシート34の供給量、
供給速度、供給開始、供給停止等の指示を出力する。さらに、清掃部材制御演算部75は
回収駆動装置62に回収速度等の指示を出力する。
In addition to the discharge calculation unit 70, the CPU 52 has a cleaning calculation unit 74 that performs control for cleaning the droplet discharge head 12. If the cleaning calculation unit 74 is divided in detail, the cleaning calculation unit 74 has a cleaning member control calculation unit 75 as a cleaning member control unit that controls supply and recovery of the wiping sheet 34. The cleaning member control calculation unit 75 supplies the supply drive device 61 with the supply amount of the wiping sheet 34,
Outputs instructions for supply speed, supply start, supply stop, etc. Further, the cleaning member control calculation unit 75 outputs an instruction such as a recovery speed to the recovery drive device 62.

さらに、清掃部材制御演算部75は供給駆動装置61及び回収駆動装置62にワイピン
グシート34の張力の指示を出力する。そして、供給駆動装置61は清掃部材供給装置4
3が備えるサーボモータに通電する電流量を制御し、回収駆動装置62は清掃部材回収装
置44が備えるサーボモータに通電する電流量を制御する。そして、清掃部材制御演算部
75が指示した供給及び回収速度、張力にて、清掃部材供給装置43及び清掃部材回収装
置44はワイピングシート34を供給及び回収することが可能になっている。
Further, the cleaning member control calculation unit 75 outputs an instruction for the tension of the wiping sheet 34 to the supply driving device 61 and the recovery driving device 62. The supply driving device 61 is provided with the cleaning member supply device 4.
3 controls the amount of current to be supplied to the servo motor provided in the control unit 3, and the recovery drive device 62 controls the amount of current supplied to the servo motor provided in the cleaning member recovery device 44. The cleaning member supply device 43 and the cleaning member recovery device 44 can supply and recover the wiping sheet 34 at the supply and recovery speed and tension specified by the cleaning member control calculation unit 75.

さらに、清掃演算部74はステージ制御演算部76を有する。ステージ制御演算部76
は保守ステージ駆動装置64に移動と停止の指示を出力する。そして、保守ステージ駆動
装置64は、払拭装置18を液滴吐出ヘッド12と対向する場所と待機場所との間で移動
させる制御や、払拭装置18を液滴吐出ヘッド12と対向する場所で往復運動させる制御
を行う。
Further, the cleaning calculation unit 74 has a stage control calculation unit 76. Stage control calculation unit 76
Outputs an instruction to move and stop to the maintenance stage driving device 64. The maintenance stage driving device 64 controls the wiping device 18 to move between a place facing the droplet discharge head 12 and a standby place, and reciprocates the wiping device 18 at a place facing the droplet discharge head 12. To control.

(液滴吐出ヘッドの清掃及び吐出方法)
次に、上述した液滴吐出装置1を用いて、液滴吐出ヘッド12のノズル面20aを清掃
した後、基板6に機能液23を塗布する製造方法について図7及び図8にて説明する。図
7は、液滴吐出ヘッドの清掃及び基板に機能液を塗布する製造工程を示すフローチャート
であり、図8は、液滴吐出ヘッドの清掃及び基板に機能液を塗布する方法を説明する図で
ある。
(Cleaning and discharging method of droplet discharge head)
Next, a manufacturing method for applying the functional liquid 23 to the substrate 6 after cleaning the nozzle surface 20a of the droplet discharge head 12 using the droplet discharge device 1 described above will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a flowchart showing a manufacturing process for cleaning the droplet discharge head and applying the functional liquid to the substrate. FIG. 8 is a diagram for explaining a method for cleaning the droplet discharge head and applying the functional liquid to the substrate. is there.

ステップS1は、吐出洗浄工程に相当し、液滴吐出ヘッドから吐出受部に機能液を吐出
して、液滴吐出ヘッドの流路内の機能液を排出する工程である。次にステップS2及びス
テップS3に移行する。ステップS2は、供給工程に相当し、第1押圧ローラ及び第2押
圧ローラに汚れていない未使用のワイピングシートを供給する工程である。次に、ステッ
プS4に移行する。ステップS3は、洗浄液供給工程に相当し、ワイピングシートに洗浄
液を塗布する工程であり、ステップS2と同時に実施される工程である。次にステップS
4移行する。ステップS4は、ヘッド移動工程に相当し、払拭する予定の液滴吐出ヘッド
と対向する場所に第1押圧ローラ又は第2押圧ローラを移動する工程である。次に、乾い
たワイピングシートを用いて払拭するとき、ステップS5に移行し、洗浄液を用いて払拭
するとき、ステップS6及びステップS7に移行する。ステップS5は、乾式払拭工程に
相当し、乾いたワイピングシートを第2押圧ローラでノズル面に押圧して払拭する工程で
ある。次にステップS8に移行する。ステップS6は、湿式払拭工程に相当し、洗浄液が
含浸されたワイピングシートを第1押圧ローラでノズル面に押圧して払拭する工程である
。次にステップS8移行する。ステップS7は、洗浄液供給工程に相当し、ワイピングシ
ートに洗浄液を塗布する工程であり、ステップS6と同時に実施される工程である。次に
ステップS8移行する。ステップS5とステップS6とは同時に行われることもあり、一
方のステップのみ行われることもある。ステップS5からステップS7を合わせてステッ
プS11の払拭工程とする。
Step S1 corresponds to a discharge cleaning step, and is a step of discharging the functional liquid from the droplet discharge head to the discharge receiving portion and discharging the functional liquid in the flow path of the droplet discharge head. Next, the process proceeds to step S2 and step S3. Step S <b> 2 corresponds to a supplying step, and is a step of supplying an unused wiping sheet that is not soiled on the first pressing roller and the second pressing roller. Next, the process proceeds to step S4. Step S3 corresponds to a cleaning liquid supply process, is a process of applying a cleaning liquid to the wiping sheet, and is a process performed simultaneously with step S2. Next step S
4. Move. Step S4 corresponds to a head moving step, and is a step of moving the first pressing roller or the second pressing roller to a location facing the droplet discharge head to be wiped. Next, when wiping using a dry wiping sheet, the process proceeds to step S5, and when wiping using a cleaning liquid, the process proceeds to step S6 and step S7. Step S5 corresponds to a dry wiping process, and is a process of wiping the dry wiping sheet by pressing it against the nozzle surface with the second pressing roller. Next, the process proceeds to step S8. Step S6 corresponds to a wet wiping process, and is a process in which a wiping sheet impregnated with a cleaning liquid is pressed against the nozzle surface by a first pressing roller and wiped. Next, the process proceeds to step S8. Step S7 corresponds to a cleaning liquid supply process, which is a process of applying the cleaning liquid to the wiping sheet, and is a process performed simultaneously with step S6. Next, the process proceeds to step S8. Step S5 and step S6 may be performed simultaneously, or only one step may be performed. Steps S5 to S7 are combined to form the wiping process of step S11.

ステップS8は払拭終了判断工程に相当し、払拭する予定の液滴吐出ヘッドを総て払拭
したかの判断を行う。払拭する予定の液滴吐出ヘッドがまだあると判断するとき、ステッ
プS2に移行し、総ての液滴吐出ヘッドを払拭したと判断するとき、ステップS9に移行
する。ステップS9は塗布工程に相当し、基板に機能液を吐出して塗布する工程である。
以上で、液滴吐出ヘッドのノズル面を清掃した後、基板に機能液を塗布する製造工程を終
了する。
Step S8 corresponds to a wiping end determination step, and it is determined whether all droplet discharge heads scheduled to be wiped have been wiped. When it is determined that there are still droplet discharge heads to be wiped, the process proceeds to step S2, and when it is determined that all the droplet discharge heads have been wiped, the process proceeds to step S9. Step S9 corresponds to an application process, which is a process for discharging and applying a functional liquid to the substrate.
Thus, after cleaning the nozzle surface of the droplet discharge head, the manufacturing process for applying the functional liquid to the substrate is completed.

次に、図8を用いて、図7に示したステップと対応させて、液滴吐出ヘッドのノズル面
を清掃した後、基板に機能液を塗布する製造方法を詳細に説明する。図8(a)はステッ
プS1に対応する図である。図8(a)に示すように、制御装置51はキャリッジ11と
保守ステージ16とを駆動して、液滴吐出ヘッド12を吐出受部17の吸収マット17a
と対向する場所に移動する。そして、液滴吐出ヘッド12のノズル21から液滴26を吸
収マット17aに吐出する。吐出することにより、液滴吐出ヘッド12内の流路にある機
能液23を排出する。そして、機能液23に含まれる気泡や析出物を機能液23と一緒に
排出する。尚、キャリッジ11には9個の液滴吐出ヘッド12が配置されているが、図に
は1つの列を形成する3個の液滴吐出ヘッド12のみ掲載し、他の液滴吐出ヘッド12は
省略している。この3個の液滴吐出ヘッド12を右から順に右液滴吐出ヘッド12a、中
液滴吐出ヘッド12b、左液滴吐出ヘッド12cとする。
Next, a manufacturing method for applying the functional liquid to the substrate after cleaning the nozzle surface of the droplet discharge head will be described in detail with reference to FIG. 8 in correspondence with the steps shown in FIG. FIG. 8A is a diagram corresponding to step S1. As shown in FIG. 8A, the control device 51 drives the carriage 11 and the maintenance stage 16 so that the droplet discharge head 12 is moved to the absorption mat 17a of the discharge receiving portion 17.
And move to the opposite location. Then, the droplet 26 is discharged from the nozzle 21 of the droplet discharge head 12 to the absorption mat 17a. By discharging, the functional liquid 23 in the flow path in the droplet discharge head 12 is discharged. Then, bubbles and precipitates contained in the functional liquid 23 are discharged together with the functional liquid 23. Although nine droplet ejection heads 12 are arranged on the carriage 11, only three droplet ejection heads 12 forming one row are shown in the figure, and the other droplet ejection heads 12 are Omitted. The three droplet discharge heads 12 are referred to as a right droplet discharge head 12a, a middle droplet discharge head 12b, and a left droplet discharge head 12c in order from the right.

図8(b)はステップS2に対応する図である。図8(b)に示すように、払拭装置1
8の第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30に未使用のワイピングシート34を供給
する。このとき、洗浄液用ノズル46によって洗浄液45が吹き付けられることにより、
洗浄液45を含浸したワイピングシート34が第1押圧ローラ29に供給される。一方、
第2押圧ローラ30には乾燥したワイピングシート34が供給される。このとき、図5に
おけるワイピングシート34の1回あたりの清掃領域34cが清掃部材供給装置43から
供給され、すでに使用したワイピングシート34が清掃部材回収装置44により回収され
る。このとき、ステップS3が並行して行われる。図4(b)に示すように、洗浄液用ノ
ズル46からワイピングシート34に洗浄液45が噴出されることにより、洗浄液45が
ワイピングシート34に塗布される。そして、洗浄液45を含浸しているワイピングシー
ト34が第1押圧ローラ29に供給される。
FIG. 8B is a diagram corresponding to step S2. As shown in FIG. 8 (b), the wiping device 1
The unused wiping sheet 34 is supplied to the first first pressing roller 29 and the second pressing roller 30. At this time, the cleaning liquid 45 is sprayed by the cleaning liquid nozzle 46,
The wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 is supplied to the first pressing roller 29. on the other hand,
A dried wiping sheet 34 is supplied to the second pressing roller 30. At this time, the cleaning area 34 c for each wiping sheet 34 in FIG. 5 is supplied from the cleaning member supply device 43, and the already used wiping sheet 34 is recovered by the cleaning member recovery device 44. At this time, step S3 is performed in parallel. As shown in FIG. 4B, the cleaning liquid 45 is applied to the wiping sheet 34 by ejecting the cleaning liquid 45 from the cleaning liquid nozzle 46 onto the wiping sheet 34. Then, the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 is supplied to the first pressing roller 29.

図8(c)はステップS4及びステップS6に対応する図である。まず、3つの配列の
うち、1つの配列の液滴吐出ヘッド12におけるノズル面20aの払拭を行う。ステップ
S4において、図8(c)に示すように、キャリッジ11と保守ステージ16とを駆動す
ることにより、右液滴吐出ヘッド12aを第1押圧ローラ29と対向する場所に移動する
。そして、ステップS6において、払拭動作を行う。このとき、洗浄液45が含浸された
ワイピングシート34を第1押圧ローラ29が右液滴吐出ヘッド12aのノズル面20a
に押圧する。
FIG. 8C is a diagram corresponding to step S4 and step S6. First, wiping of the nozzle surface 20a in the droplet discharge heads 12 of one of the three arrays is performed. In step S4, as shown in FIG. 8 (c), the carriage 11 and the maintenance stage 16 are driven to move the right droplet discharge head 12a to a location facing the first pressing roller 29. In step S6, a wiping operation is performed. At this time, the first pressing roller 29 passes the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 from the nozzle surface 20a of the right droplet discharge head 12a.
Press on.

そして、第1押圧ローラ29を回転させながら、保守ステージ16を往復動作すること
により、払拭装置18が払拭運動を行う。清掃部材供給装置43がワイピングシート34
を供給して、清掃部材回収装置44がワイピングシート34を回収することにより、未使
用のワイピングシート34を第1押圧ローラ29に供給しながら払拭運動を行う。ワイピ
ングシート34に含浸している洗浄液45はノズル面20aに塗布される。そして、洗浄
液45がノズル面20aに付着する付着物に浸透することにより、付着物がノズル面20
aから剥離され易くなる。
The wiping device 18 performs wiping motion by reciprocating the maintenance stage 16 while rotating the first pressing roller 29. The cleaning member supply device 43 is connected to the wiping sheet 34.
, And the cleaning member collecting device 44 collects the wiping sheet 34, thereby performing a wiping motion while supplying the unused wiping sheet 34 to the first pressing roller 29. The cleaning liquid 45 impregnated in the wiping sheet 34 is applied to the nozzle surface 20a. Then, the cleaning liquid 45 penetrates into the attached matter adhering to the nozzle surface 20 a, so that the attached matter becomes the nozzle surface 20.
It becomes easy to peel from a.

ステップS6と並行してステップS7が行われる。図4(b)に示すように、洗浄液用
ノズル46からワイピングシート34に洗浄液45が噴出されることにより、洗浄液45
がワイピングシート34に塗布される。そして、洗浄液45を含浸しているワイピングシ
ート34が第1押圧ローラ29に供給される。所定の時間、払拭運動を行った後、ステッ
プS8において、他の液滴吐出ヘッド12を払拭する判断を行う。
Step S7 is performed in parallel with step S6. As shown in FIG. 4B, the cleaning liquid 45 is ejected from the cleaning liquid nozzle 46 onto the wiping sheet 34, whereby the cleaning liquid 45.
Is applied to the wiping sheet 34. Then, the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 is supplied to the first pressing roller 29. After performing the wiping motion for a predetermined time, in step S8, it is determined to wipe the other droplet discharge heads 12.

図8(d)はステップS4〜ステップS6に対応する図である。図8(d)に示すよう
に、キャリッジ11と保守ステージ16とを駆動することにより、右液滴吐出ヘッド12
aを第2押圧ローラ30と対向する場所に移動し、中液滴吐出ヘッド12bを第1押圧ロ
ーラ29と対向する場所に移動する。右液滴吐出ヘッド12aと中液滴吐出ヘッド12b
との間隔は第1押圧ローラ29と第2押圧ローラ30との間隔と略同じ間隔に配置されて
いる。従って、右液滴吐出ヘッド12aが第2押圧ローラ30と対向する場所に位置する
とき、中液滴吐出ヘッド12bは第1押圧ローラ29と対向する場所に位置することが可
能となっている。
FIG. 8D is a diagram corresponding to steps S4 to S6. As shown in FIG. 8D, the right droplet discharge head 12 is driven by driving the carriage 11 and the maintenance stage 16.
a is moved to a position facing the second pressing roller 30, and the medium droplet discharge head 12 b is moved to a position facing the first pressing roller 29. Right droplet discharge head 12a and medium droplet discharge head 12b
Is arranged at substantially the same interval as the interval between the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30. Accordingly, when the right droplet discharge head 12 a is located at a location facing the second pressing roller 30, the middle droplet ejection head 12 b can be positioned at a location facing the first pressing roller 29.

そして、ステップS6において、中液滴吐出ヘッド12bを払拭し、ステップS5にお
いて、右液滴吐出ヘッド12aを払拭する。このとき、中液滴吐出ヘッド12b及び右液
滴吐出ヘッド12aは同時に払拭される。洗浄液45が含浸されたワイピングシート34
を第1押圧ローラ29が中液滴吐出ヘッド12bのノズル面20aに押圧する。同時に、
乾燥したワイピングシート34を第2押圧ローラ30が右液滴吐出ヘッド12aのノズル
面20aに押圧する。このときにも、ステップS6と並行してステップS7が行われるこ
とにより、洗浄液45を含浸しているワイピングシート34が第1押圧ローラ29に供給
される。
In step S6, the medium droplet discharge head 12b is wiped, and in step S5, the right droplet discharge head 12a is wiped. At this time, the middle droplet ejection head 12b and the right droplet ejection head 12a are wiped simultaneously. Wiping sheet 34 impregnated with cleaning liquid 45
The first pressing roller 29 presses the nozzle surface 20a of the medium droplet discharge head 12b. at the same time,
The second pressing roller 30 presses the dried wiping sheet 34 against the nozzle surface 20a of the right droplet discharge head 12a. Also at this time, the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 is supplied to the first pressing roller 29 by performing Step S7 in parallel with Step S6.

そして、第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30を回転しながら、保守ステージ1
6が往復動作することにより、払拭装置18が払拭運動を行う。このとき、払拭運動と並
行して、第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30には未使用のワイピングシート34
が供給される。中液滴吐出ヘッド12bのノズル面20aでは洗浄液45により付着物が
剥離される。そして、右液滴吐出ヘッド12aでは、剥離された付着物、機能液23、洗
浄液45がワイピングシート34により除去される。所定の時間、払拭運動を行った後、
ステップS8において、他の液滴吐出ヘッド12を払拭する判断をする。
The maintenance stage 1 is rotated while rotating the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30.
As the 6 reciprocates, the wiping device 18 performs a wiping motion. At this time, in parallel with the wiping motion, the unused wiping sheet 34 is applied to the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30.
Is supplied. Deposits are peeled off by the cleaning liquid 45 on the nozzle surface 20a of the medium droplet discharge head 12b. In the right droplet discharge head 12a, the peeled deposits, the functional liquid 23, and the cleaning liquid 45 are removed by the wiping sheet. After performing a wiping exercise for a predetermined time,
In step S8, it is determined to wipe off the other droplet discharge heads 12.

図8(e)は、同様に、ステップS4〜ステップS6に対応する図である。図8(e)
に示すように、キャリッジ11と保守ステージ16とを駆動することにより、中液滴吐出
ヘッド12bを第2押圧ローラ30と対向する場所に移動し、左液滴吐出ヘッド12cを
第1押圧ローラ29と対向する場所に移動する。そして、洗浄液45が含浸されたワイピ
ングシート34を第1押圧ローラ29が左液滴吐出ヘッド12cのノズル面20aに押圧
する。同時に、乾燥したワイピングシート34を第2押圧ローラ30が中液滴吐出ヘッド
12bのノズル面20aに押圧する。
FIG. 8E is a diagram corresponding to step S4 to step S6 in the same manner. FIG. 8 (e)
As shown, the carriage 11 and the maintenance stage 16 are driven to move the medium droplet discharge head 12b to a location facing the second pressing roller 30, and the left droplet discharge head 12c is moved to the first pressing roller 29. And move to the opposite location. Then, the first pressing roller 29 presses the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 against the nozzle surface 20a of the left droplet discharge head 12c. At the same time, the second pressing roller 30 presses the dried wiping sheet 34 against the nozzle surface 20a of the medium droplet discharge head 12b.

そして、第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30に未使用のワイピングシート34
を供給しながら、保守ステージ16が往復動作することにより、払拭装置18が払拭運動
を行う。このときにも、ステップS6と並行してステップS7が行われることにより、洗
浄液45を含浸しているワイピングシート34が第1押圧ローラ29に供給される。所定
の時間、払拭運動を行った後、ステップS8において、他の液滴吐出ヘッド12を払拭す
る判断をする。
Then, an unused wiping sheet 34 is used for the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30.
As the maintenance stage 16 reciprocates while supplying the wiping device, the wiping device 18 performs the wiping motion. Also at this time, the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 is supplied to the first pressing roller 29 by performing Step S7 in parallel with Step S6. After performing the wiping motion for a predetermined time, it is determined in step S8 that the other liquid droplet ejection heads 12 are wiped.

図8(f)は、ステップS4及びステップS5に対応する図である。図8(f)に示す
ように、キャリッジ11と保守ステージ16とを駆動することにより、左液滴吐出ヘッド
12cを第2押圧ローラ30と対向する場所に移動する。そして、乾燥したワイピングシ
ート34を第2押圧ローラ30が左液滴吐出ヘッド12cのノズル面20aに押圧する。
このとき、第2押圧ローラ30に未使用のワイピングシート34を供給しながら、保守ス
テージ16が往復動作することにより、払拭装置18が払拭運動を行う。所定の時間、払
拭運動を行った後、ステップS8において、他の液滴吐出ヘッド12を払拭する判断をす
る。次に、液滴吐出ヘッド12の配列を変えて、順次、液滴吐出ヘッド12を払拭する。
FIG. 8F is a diagram corresponding to step S4 and step S5. As shown in FIG. 8 (f), by driving the carriage 11 and the maintenance stage 16, the left droplet discharge head 12 c is moved to a location facing the second pressing roller 30. Then, the second pressing roller 30 presses the dried wiping sheet 34 against the nozzle surface 20a of the left droplet discharge head 12c.
At this time, the wiping device 18 performs a wiping motion as the maintenance stage 16 reciprocates while supplying the unused wiping sheet 34 to the second pressing roller 30. After performing the wiping motion for a predetermined time, it is determined in step S8 that the other liquid droplet ejection heads 12 are wiped. Next, the droplet discharge heads 12 are sequentially wiped by changing the arrangement of the droplet discharge heads 12.

図8(g)はステップS9に対応する図である。図8(g)に示すように、ステージ4
の載置面5に基板6を載置する。そして、キャリッジ11及びステージ4を駆動して、機
能液23を塗布する場所と対向する場所に液滴吐出ヘッド12を移動する。次に、キャリ
ッジ11及びステージ4を移動しながら、液滴吐出ヘッド12から液滴26を吐出する。
そして、基板6に機能液23を塗布して、所定のパターンを描画する。以上の工程により
、液滴吐出ヘッド12のノズル面20aを清掃した後、基板6に機能液23を塗布する製
造工程を終了する。
FIG. 8G is a diagram corresponding to step S9. As shown in FIG.
The substrate 6 is placed on the placement surface 5. Then, the carriage 11 and the stage 4 are driven, and the droplet discharge head 12 is moved to a place opposite to the place where the functional liquid 23 is applied. Next, the droplet 26 is ejected from the droplet ejection head 12 while moving the carriage 11 and the stage 4.
Then, the functional liquid 23 is applied to the substrate 6 to draw a predetermined pattern. After the nozzle surface 20a of the droplet discharge head 12 is cleaned by the above steps, the manufacturing process for applying the functional liquid 23 to the substrate 6 is completed.

上述したように、本実施形態は、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、ワイピングシート34は清掃部材供給装置43から供給さ
れ、第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30を通過した後、清掃部材回収装置44に
回収される。そして、第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30においてノズル面20
aの払拭動作が行われる。このとき、第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30は清掃
部材供給装置43と清掃部材回収装置44の数より多く配置することができる。従って、
各1つの清掃部材供給装置43と清掃部材回収装置44とに対して1つの押圧ローラを配
置する場合に比べて、簡便な構成で多くの払拭動作を略同時に行うことができる。
As described above, the present embodiment has the following effects.
(1) According to this embodiment, the wiping sheet 34 is supplied from the cleaning member supply device 43, passes through the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30, and is then recovered by the cleaning member recovery device 44. In the first and second pressing rollers 29 and 30, the nozzle surface 20
The wiping operation of a is performed. At this time, the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 can be arranged more than the number of the cleaning member supply device 43 and the cleaning member collection device 44. Therefore,
Compared with the case where one pressing roller is arranged for each one cleaning member supply device 43 and cleaning member collection device 44, many wiping operations can be performed substantially simultaneously with a simple configuration.

(2)本実施形態によれば、一度払拭動作に用いたワイピングシート34は別の押圧ロ
ーラにより払拭動作に用いられることがない。従って、ノズル面20aの払拭動作により
ワイピングシート34に付着した付着物が、他のノズル面20aに再度付着することがな
い。その結果、ノズル面20aに付着する付着物をノズル面20aから減らすことができ
る。
(2) According to the present embodiment, the wiping sheet 34 once used for the wiping operation is not used for the wiping operation by another pressing roller. Therefore, the adhering matter adhering to the wiping sheet 34 by the wiping operation of the nozzle surface 20a does not adhere again to the other nozzle surface 20a. As a result, deposits adhering to the nozzle surface 20a can be reduced from the nozzle surface 20a.

(3)本実施形態によれば、払拭装置18が往復して払拭動作を行っている。ノズル2
1がある場所をワイピングシート34が摺動するとき、ノズル21内側面のうち、ワイピ
ングシート34が進行する方向の側面の方が、ワイピングシート34が進行する方向と逆
方向の側面に比べて、ノズル21の付着物を払拭し易くなっている。この方法では、2方
向にワイピングシート34が進行して払拭動作を行う。従って、ノズル21とワイピング
シート34とを1方向のみ摺動する場合に比べて、品質良くノズル面20aを清掃するこ
とができる。
(3) According to this embodiment, the wiping device 18 reciprocates to perform the wiping operation. Nozzle 2
When the wiping sheet 34 slides in a place where 1 is present, the side surface in the direction in which the wiping sheet 34 travels is compared with the side surface in the direction opposite to the direction in which the wiping sheet 34 travels, of the inner surface of the nozzle 21 It is easy to wipe off the deposits on the nozzle 21. In this method, the wiping sheet 34 advances in two directions to perform a wiping operation. Therefore, compared with the case where the nozzle 21 and the wiping sheet 34 slide in only one direction, the nozzle surface 20a can be cleaned with high quality.

(4)本実施形態によれば、洗浄液45がワイピングシート34を介してノズル面20
aに塗布される。そして、ノズル面20aに付着物が存在するとき、洗浄液45は付着物
に塗布される。そして、洗浄液45がノズル面20aの付着物をノズル面20aから剥離
することにより付着物を除去し易くすることができる。
(4) According to the present embodiment, the cleaning liquid 45 passes through the wiping sheet 34 and the nozzle surface 20.
It is applied to a. When the deposit is present on the nozzle surface 20a, the cleaning liquid 45 is applied to the deposit. Then, the cleaning liquid 45 can easily remove the deposits by peeling the deposits on the nozzle surface 20a from the nozzle surface 20a.

(5)本実施形態によれば、乾燥したワイピングシート34を用いてノズル面20aに
付着する機能液23や洗浄液45を吸収することにより、ノズル面20aから機能液23
や洗浄液45を除去することができる。
(5) According to the present embodiment, the functional liquid 23 and the cleaning liquid 45 adhering to the nozzle surface 20a are absorbed using the dried wiping sheet 34, whereby the functional liquid 23 is discharged from the nozzle surface 20a.
And the cleaning liquid 45 can be removed.

(6)本実施形態によれば、ワイピングシート34に張力が加えられていることから、
ワイピングシート34は弛まない状態となっている。ワイピングシート34が弛んだ状態
で、液滴吐出ヘッド12にワイピングシート34を摺動させるとき、ワイピングシート3
4が液滴吐出ヘッド12に引っ掛かることがある。このとき、所定の速度で払拭動作がで
きなくなる場合がある。従って、ワイピングシート34に張力が加えることにより、品質
良く払拭動作を行うことができる。
(6) According to this embodiment, since tension is applied to the wiping sheet 34,
The wiping sheet 34 is not loosened. When the wiping sheet 34 is slid on the droplet discharge head 12 with the wiping sheet 34 slackened, the wiping sheet 3
4 may be caught by the droplet discharge head 12. At this time, the wiping operation may not be performed at a predetermined speed. Therefore, the wiping operation can be performed with high quality by applying tension to the wiping sheet 34.

(7)本実施形態によれば、供給量検出装置38により精度よく検出されるワイピング
シート34の供給量を用いて、供給量を制御することから、ワイピングシート34の供給
量を精度良く制御することができる。その結果、払拭装置18はワイピングシート34の
適切な供給量を用いて払拭動作を行うことができる。
(7) According to this embodiment, since the supply amount is controlled using the supply amount of the wiping sheet 34 detected with high accuracy by the supply amount detection device 38, the supply amount of the wiping sheet 34 is controlled with high accuracy. be able to. As a result, the wiping device 18 can perform the wiping operation using an appropriate supply amount of the wiping sheet 34.

(8)本実施形態によれば、第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30は各々液滴吐
出ヘッド12と対向する場所に配置することが可能となっている。そして、液滴吐出ヘッ
ド12が配置されている場所や第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30が配置されて
いる場所を調整することなく、複数の液滴吐出ヘッド12に対して略同時に払拭動作を行
うことができる。従って、複数の液滴吐出ヘッド12を同時に払拭動作を行う場合、生産
性良く払拭動作を行うことができる。
(8) According to the present embodiment, the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 can be disposed at locations facing the droplet discharge head 12, respectively. Then, the plurality of droplet ejection heads 12 are wiped substantially simultaneously without adjusting the location where the droplet ejection heads 12 are arranged and the location where the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 are arranged. The action can be performed. Therefore, when performing the wiping operation for the plurality of droplet discharge heads 12 simultaneously, the wiping operation can be performed with high productivity.

(9)本実施形態によれば、押圧ローラは清掃部材供給装置43及び清掃部材回収装置
44の数より多く配置することができる。その結果、液滴吐出装置1は簡便な構成で生産
性良くノズル面20aを清掃できるワイピングユニット19を備えた装置とすることがで
きる。
(9) According to the present embodiment, more pressing rollers can be arranged than the number of cleaning member supply devices 43 and cleaning member collection devices 44. As a result, the droplet discharge device 1 can be a device that includes the wiping unit 19 that can clean the nozzle surface 20a with a simple configuration and high productivity.

(第2の実施形態)
次に、液滴吐出装置の一実施形態について図9〜図11を用いて説明する。この実施形
態が第1の実施形態と異なるところは、第1押圧ローラ29と第2押圧ローラ30とに供
給されるワイピングシート34の供給速度が異なる点にある。尚、第1の実施形態と同じ
点については説明を省略する。
(Second Embodiment)
Next, an embodiment of a droplet discharge device will be described with reference to FIGS. This embodiment is different from the first embodiment in that the supply speed of the wiping sheet 34 supplied to the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 is different. Note that description of the same points as in the first embodiment is omitted.

図9は、払拭装置の構造を示す模式側面図である。すなわち、本実施形態では、図9に
示すように、払拭装置80は中間車昇降装置81を備え、中間車昇降装置81は第2アイ
ドルプーリ39を昇降可能となっている。そして、図9(a)は、中間車昇降装置81が
第2アイドルプーリ39を上昇させたときを示し、図9(b)は、中間車昇降装置81が
第2アイドルプーリ39を下降させたときを示している。中間車昇降装置81は上下に移
動可能な直動機構を備えている。この直動機構は、例えば、案内レールと案内レールに沿
ってZ方向に延びるネジ軸(駆動軸)と、同ネジ軸と螺合するボールナットを備えたネジ
式直動機構であって、その駆動軸が、所定のパルス信号を受けてステップ単位で正逆転す
るZ軸モータに連結されている。そして、所定のステップ数に相対する駆動信号がZ軸モ
ータに入力されると、Z軸モータが正転又は逆転して、第2アイドルプーリ39が同ステ
ップ数に相当する分だけ、Z方向に沿って所定の速度で往動又は、復動するようになって
いる。
FIG. 9 is a schematic side view showing the structure of the wiping device. That is, in this embodiment, as shown in FIG. 9, the wiping device 80 includes an intermediate vehicle elevating device 81, and the intermediate vehicle elevating device 81 can raise and lower the second idle pulley 39. FIG. 9A shows a state in which the intermediate vehicle elevating device 81 raises the second idle pulley 39, and FIG. 9B shows that the intermediate vehicle elevating device 81 lowers the second idle pulley 39. Showing the time. The intermediate vehicle elevating device 81 includes a linear motion mechanism that can move up and down. This linear motion mechanism is, for example, a screw-type linear motion mechanism including a guide rail, a screw shaft (drive shaft) extending in the Z direction along the guide rail, and a ball nut screwed with the screw shaft. The drive shaft is connected to a Z-axis motor that receives a predetermined pulse signal and rotates forward and backward in steps. When a drive signal corresponding to a predetermined number of steps is input to the Z-axis motor, the Z-axis motor rotates forward or reversely, and the second idle pulley 39 corresponds to the same number of steps in the Z direction. Along the way, it moves forward or backward at a predetermined speed.

次に、清掃部材回収装置44がワイピングシート34を回収する速度、第1押圧ローラ
29を通過するワイピングシート34の速度、第2アイドルプーリ39が昇降する速度、
第2押圧ローラ30を通過するワイピングシート34の速度、清掃部材供給装置43がワ
イピングシート34を供給する速度の関係を説明する。
Next, the speed at which the cleaning member collection device 44 collects the wiping sheet 34, the speed of the wiping sheet 34 that passes through the first pressing roller 29, the speed at which the second idle pulley 39 moves up and down,
The relationship between the speed of the wiping sheet 34 passing through the second pressing roller 30 and the speed at which the cleaning member supply device 43 supplies the wiping sheet 34 will be described.

第1押圧ローラ29を通過したワイピングシート34は清掃部材回収装置44に直接回
収されるので、第1押圧ローラ29を通過するワイピングシート34の速度は、清掃部材
回収装置44がワイピングシート34を回収する速度と同じ速度となる。同様に、第2押
圧ローラ30を通過するワイピングシート34は清掃部材供給装置43に直接供給される
ので、第2押圧ローラ30を通過するワイピングシート34の速度は、清掃部材供給装置
43がワイピングシート34を供給する速度と同じ速度となる。
Since the wiping sheet 34 that has passed through the first pressing roller 29 is directly collected by the cleaning member collecting device 44, the cleaning member collecting device 44 collects the wiping sheet 34 at a speed of the wiping sheet 34 that passes through the first pressing roller 29. It will be the same speed as Similarly, since the wiping sheet 34 passing through the second pressing roller 30 is directly supplied to the cleaning member supply device 43, the speed of the wiping sheet 34 passing through the second pressing roller 30 is determined by the cleaning member supply device 43. 34 is the same as the speed at which 34 is supplied.

第2アイドルプーリ39を下降させるとき、下降速度の約2倍の速度で第1押圧ローラ
29と第2押圧ローラ30との間におけるワイピングシート34の長さが増加する。そし
て、清掃部材供給装置43が供給するワイピングシート34の速度を、清掃部材回収装置
44がワイピングシート34を回収する速度に第2アイドルプーリ39の下降速度の約2
倍の速度を加えた速度にする。このとき、ワイピングシート34を弛ませずに、所定の張
力を維持したままワイピングシート34を流動することができる。そして、ワイピングシ
ート34が第2押圧ローラ30を通過するときの速度は、ワイピングシート34が第1押
圧ローラ29を通過するときの速度に第2アイドルプーリ39の下降速度の約2倍の速度
を加えた速度にすることができる。
When the second idle pulley 39 is lowered, the length of the wiping sheet 34 between the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 increases at a speed approximately twice the lowering speed. Then, the speed of the wiping sheet 34 supplied by the cleaning member supply device 43 is set to about 2 times the lowering speed of the second idle pulley 39 to the speed at which the cleaning member collection device 44 collects the wiping sheet 34.
The speed is doubled. At this time, the wiping sheet 34 can flow while maintaining a predetermined tension without slackening the wiping sheet 34. The speed at which the wiping sheet 34 passes through the second pressing roller 30 is approximately twice the speed at which the second idle pulley 39 descends to the speed at which the wiping sheet 34 passes through the first pressing roller 29. The speed can be increased.

従って、ワイピングシート34が第2押圧ローラ30を通過するときの速度は、ワイピ
ングシート34が第1押圧ローラ29を通過するときの速度より早くすることができる。
また、第2アイドルプーリ39を上昇させるとき、ワイピングシート34が第2押圧ロー
ラ30を通過するときの速度は、ワイピングシート34が第1押圧ローラ29を通過する
ときの速度より遅くすることができる。その結果、ワイピングシート34が第2押圧ロー
ラ30を通過するときの速度と、ワイピングシート34が第1押圧ローラ29を通過する
ときの速度とを、異なる速度にすることができる。そして、第1押圧ローラ29において
ワイピングシート34がノズル面20aを摺動する速度と、第2押圧ローラ30において
ワイピングシート34がノズル面20aを摺動する速度とを異なる速度に制御することが
できる。
Therefore, the speed at which the wiping sheet 34 passes through the second pressing roller 30 can be faster than the speed at which the wiping sheet 34 passes through the first pressing roller 29.
Further, when the second idle pulley 39 is raised, the speed at which the wiping sheet 34 passes through the second pressing roller 30 can be slower than the speed at which the wiping sheet 34 passes through the first pressing roller 29. . As a result, the speed at which the wiping sheet 34 passes through the second pressing roller 30 and the speed at which the wiping sheet 34 passes through the first pressing roller 29 can be set to different speeds. The speed at which the wiping sheet 34 slides on the nozzle surface 20a in the first pressing roller 29 and the speed at which the wiping sheet 34 slides on the nozzle surface 20a in the second pressing roller 30 can be controlled to different speeds. .

図10は、洗浄液を含浸したワイピングシートを示す図である。そして、第2アイドル
プーリ39を下降しながらワイピングシート34を流動するときの図である。含浸領域3
4dはワイピングシート34が第1押圧ローラ29を通過するときに払拭運動を行う領域
であり、乾燥領域34eはワイピングシート34が第2押圧ローラ30を通過するときに
払拭運動を行う領域である。そして、含浸領域34dと乾燥領域34eとを合わせた領域
が1回あたりの清掃領域34fとなっている。
FIG. 10 is a diagram showing a wiping sheet impregnated with a cleaning liquid. And it is a figure when flowing the wiping sheet | seat 34, moving down the 2nd idle pulley 39. FIG. Impregnation area 3
4d is an area where wiping movement is performed when the wiping sheet 34 passes the first pressing roller 29, and a drying area 34e is an area where wiping movement is performed when the wiping sheet 34 passes the second pressing roller 30. And the area | region which combined the impregnation area | region 34d and the dry area | region 34e becomes the cleaning area | region 34f per time.

含浸領域34dを用いてノズル面20aを払拭する時間と乾燥領域34eを用いてノズ
ル面20aを払拭する時間は同じ時間となっている。従って、第2押圧ローラ30では、
早くワイピングシート34を移動させて、ワイピングシート34に機能液23や洗浄液4
5を吸収させている。
The time for wiping the nozzle surface 20a using the impregnation region 34d and the time for wiping the nozzle surface 20a using the drying region 34e are the same time. Therefore, in the second pressing roller 30,
The wiping sheet 34 is moved quickly, and the functional liquid 23 and the cleaning liquid 4 are moved to the wiping sheet 34.
5 is absorbed.

図11は、液滴吐出装置の電気制御ブロック図である。図11に示すように、液滴吐出
装置82が備える制御装置83は中間車昇降装置81を駆動する昇降駆動装置84と入出
力インターフェース57を介して接続されている。そして、メモリ53に格納されている
プログラムソフト85は、昇降駆動装置84を制御するためのプログラムを含んでいる。
従って、CPU52の清掃演算部86における清掃部材制御演算部87は、供給駆動装置
61、回収駆動装置62、昇降駆動装置84を制御することによりワイピングシート34
の流動速度を制御するようになっている。
FIG. 11 is an electric control block diagram of the droplet discharge device. As shown in FIG. 11, the control device 83 included in the droplet discharge device 82 is connected via an input / output interface 57 to an elevating drive device 84 that drives the intermediate vehicle elevating device 81. The program software 85 stored in the memory 53 includes a program for controlling the lifting drive device 84.
Therefore, the cleaning member control calculation unit 87 in the cleaning calculation unit 86 of the CPU 52 controls the supply driving device 61, the recovery driving device 62, and the elevation driving device 84 to control the wiping sheet 34.
It is designed to control the flow rate.

上述したように、本実施形態は、以下の効果を有する。
(1)本実施形態によれば、洗浄液45が含浸されたワイピングシート34がノズル面
20aを摺動する速度と、乾燥しているワイピングシート34がノズル面20aを摺動す
る速度と、が制御される。従って、ノズル面20aに洗浄液45を塗布するときに最適な
速度と、乾燥しているワイピングシート34が機能液23や洗浄液45を吸収するときに
最適な速度と、が異なる場合にも各ワイピングシート34を最適な速度で摺動することが
できる。
As described above, the present embodiment has the following effects.
(1) According to this embodiment, the speed at which the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 slides on the nozzle surface 20a and the speed at which the dry wiping sheet 34 slides on the nozzle surface 20a are controlled. Is done. Accordingly, each wiping sheet is also used when the optimum speed when applying the cleaning liquid 45 to the nozzle surface 20a and the optimum speed when the dry wiping sheet 34 absorbs the functional liquid 23 and the cleaning liquid 45 are different. 34 can be slid at an optimum speed.

(2)本実施形態によれば、ノズル面20aに洗浄液45を塗布するときの含浸領域3
4dに比べて、乾燥領域34eを広くすることにより、機能液23や洗浄液45を確実に
吸収することができる。
(2) According to the present embodiment, the impregnation region 3 when the cleaning liquid 45 is applied to the nozzle surface 20a.
By making the drying area 34e wider than 4d, the functional liquid 23 and the cleaning liquid 45 can be reliably absorbed.

尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良等を
加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
(変形例1)
前記第1の実施形態では、押圧ローラは第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30の
2つのローラを配置したが、3つ以上でも良い。図12(a)は、払拭装置の構造を示す
模式側面図である。図12(a)に示すように、例えば、3個の押圧部としての押圧ロー
ラ89を配置しても良い。3個の液滴吐出ヘッド12が配列しているとき、3個のノズル
面20aを同時に払拭できることから、さらに生産性良くノズル面20aを払拭すること
ができる。
The present embodiment is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be added. A modification will be described below.
(Modification 1)
In the first embodiment, the pressing roller includes two rollers, the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30, but three or more pressing rollers may be used. Fig.12 (a) is a schematic side view which shows the structure of a wiping apparatus. As shown in FIG. 12A, for example, three pressing rollers 89 as pressing portions may be arranged. When the three droplet discharge heads 12 are arranged, the three nozzle surfaces 20a can be wiped simultaneously, so that the nozzle surfaces 20a can be wiped with higher productivity.

(変形例2)
前記第1の実施形態では、清掃部材回収装置44に近い方の押圧ローラである第1押圧
ローラ29に近い場所に洗浄液用ノズル46が配置され、ワイピングシート34に洗浄液
45を塗布した。これに限らず、図12(a)に示すように、払拭装置88は、清掃部材
供給装置43に近い方の押圧ローラ89である押圧部としての右押圧ローラ89aの近く
に洗浄液用ノズル46を配置しても良い。そして、右押圧ローラ89aの近くでワイピン
グシート34に洗浄液45を塗布しても良い。このとき、ワイピングシート34の送り量
と洗浄液45を塗布するタイミングを制御することにより、中側にある押圧部としての中
押圧ローラ89b及び左側にある押圧部としての左押圧ローラ89cでは乾燥したワイピ
ングシート34にてノズル面20aを払拭することが可能である。また、洗浄液45を塗
布したワイピングシート34を中押圧ローラ89b及び左押圧ローラ89cに位置するよ
うに制御することも可能である。従って、3つの押圧ローラ89は各々乾燥したワイピン
グシート34と洗浄液45を含浸したワイピングシート34とのどちらかを用いることが
可能となっている。このとき、洗浄液用ノズル46を配置する場所は複数の場所から選択
することができる為、洗浄液用ノズル46を設置する場所を設計しやすいワイピングユニ
ットとすることができる。
(Modification 2)
In the first embodiment, the cleaning liquid nozzle 46 is disposed near the first pressing roller 29, which is the pressing roller closer to the cleaning member collecting device 44, and the cleaning liquid 45 is applied to the wiping sheet 34. Not limited to this, as shown in FIG. 12A, the wiping device 88 is configured to place the cleaning liquid nozzle 46 near the right pressing roller 89 a as a pressing portion that is a pressing roller 89 closer to the cleaning member supply device 43. It may be arranged. Then, the cleaning liquid 45 may be applied to the wiping sheet 34 near the right pressing roller 89a. At this time, by controlling the feed amount of the wiping sheet 34 and the timing of applying the cleaning liquid 45, the middle pressing roller 89b as the pressing portion on the inner side and the left pressing roller 89c as the pressing portion on the left side dry the wiping. The nozzle surface 20a can be wiped off by the sheet 34. It is also possible to control the wiping sheet 34 coated with the cleaning liquid 45 so as to be positioned on the middle pressing roller 89b and the left pressing roller 89c. Accordingly, each of the three pressing rollers 89 can use either a dry wiping sheet 34 or a wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45. At this time, since the place where the cleaning liquid nozzle 46 is arranged can be selected from a plurality of places, it is possible to provide a wiping unit in which the place where the cleaning liquid nozzle 46 is installed can be easily designed.

(変形例3)
前記第1の実施形態では、第1押圧ローラ29では洗浄液45が含浸したワイピングシ
ート34を用いて払拭運動を行った。そして、第2押圧ローラ30では乾燥したワイピン
グシート34を用いて払拭運動を行った。これ以外にも、図12(a)に示すように3つ
の押圧ローラを配置して、1つの押圧ローラは洗浄液45が含浸しているワイピングシー
ト34を用いて払拭運動を行い、2つの押圧ローラは乾燥したワイピングシート34を用
いて払拭運動を行っても良い。乾燥したワイピングシート34を用いて2回の払拭運動を
行うことにより、確実に機能液23や洗浄液45を拭き取ることができる。また、2つの
押圧ローラは洗浄液45が含浸したワイピングシート34を用いて払拭運動を行い、1つ
の押圧ローラは乾燥したワイピングシート34を用いて払拭運動を行っても良い。洗浄液
45が含浸しているワイピングシート34を用いて2回の払拭運動を行うことにより、ノ
ズル面20aに付着する付着物をさらに除去し易くすることができる。
(Modification 3)
In the first embodiment, the first pressing roller 29 performs the wiping motion using the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45. The second pressing roller 30 performed a wiping motion using the dry wiping sheet 34. In addition to this, as shown in FIG. 12A, three pressing rollers are arranged, and one pressing roller performs a wiping motion using a wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45, and two pressing rollers. May perform a wiping motion using a dry wiping sheet 34. By performing the wiping motion twice using the dried wiping sheet 34, the functional liquid 23 and the cleaning liquid 45 can be surely wiped off. Further, the two pressing rollers may perform wiping motion using the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45, and one pressing roller may perform wiping motion using the dried wiping sheet 34. By performing the wiping motion twice using the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45, it is possible to further remove the deposits attached to the nozzle surface 20a.

(変形例4)
前記第1の実施形態では、第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30がワイピングシ
ート34をノズル面20aに押圧しながら、保守ステージ16が往復運動することにより
、ノズル面20aを払拭した。例えば、図12(b)に示すように、保守ステージ16を
往復運動させずにノズル面20aを払拭しても良い。払拭装置90は第1押圧ローラ29
の代わりに押圧部としての第3押圧ローラ91を備え、第2押圧ローラ30の代わりに押
圧部としての第4押圧ローラ92を備えている。第3押圧ローラ91及び第4押圧ローラ
92を構成する材料は第1押圧ローラ29及び第2押圧ローラ30を構成する材料に比べ
て変形し易い材料によって構成されている。例えば、発泡樹脂、軟質樹脂、ゴムチューブ
に空気を入れた空気バネ等を用いることができる。本変形例においては発泡ウレタンを採
用している。第3押圧ローラ91及び第4押圧ローラ92を用いてワイピングシート34
をノズル面20aに押圧するとき、第3押圧ローラ91及び第4押圧ローラ92が変形す
る。そして、ワイピングシート34はノズル面20aの広い領域に接触可能となる。この
状態で、清掃部材供給装置43がワイピングシート34を供給し、清掃部材回収装置44
がワイピングシート34を回収することにより、ワイピングシート34をノズル面20a
に摺動させる。この方法では、保守ステージ16を往復運動させる制御が不要となるので
、簡便な制御装置にすることができる。
(Modification 4)
In the first embodiment, the maintenance surface 16 reciprocates while the first pressing roller 29 and the second pressing roller 30 press the wiping sheet 34 against the nozzle surface 20a, thereby wiping the nozzle surface 20a. For example, as shown in FIG. 12B, the nozzle surface 20a may be wiped without causing the maintenance stage 16 to reciprocate. The wiping device 90 is a first pressing roller 29.
A third pressing roller 91 as a pressing portion is provided instead of the second pressing roller, and a fourth pressing roller 92 as a pressing portion is provided instead of the second pressing roller 30. The material constituting the third pressure roller 91 and the fourth pressure roller 92 is made of a material that is more easily deformed than the material constituting the first pressure roller 29 and the second pressure roller 30. For example, a foamed resin, a soft resin, an air spring in which air is put in a rubber tube, or the like can be used. In this modified example, urethane foam is employed. Using the third pressing roller 91 and the fourth pressing roller 92, the wiping sheet 34
When the nozzle surface 20a is pressed, the third pressing roller 91 and the fourth pressing roller 92 are deformed. The wiping sheet 34 can come into contact with a wide area of the nozzle surface 20a. In this state, the cleaning member supply device 43 supplies the wiping sheet 34 and the cleaning member collection device 44.
Collects the wiping sheet 34, so that the wiping sheet 34 is removed from the nozzle surface 20 a.
To slide. In this method, control for reciprocating the maintenance stage 16 is not required, and a simple control device can be obtained.

(変形例5)
前記第1の実施形態では、供給モータ36及び回収モータ42のトルクを制御すること
により、ワイピングシート34の張力を制御した。他にも、第1アイドルプーリ37、第
2アイドルプーリ39、第3アイドルプーリ40等のアイドルプーリと接続するようにバ
ネを配置して、アイドルプーリを加勢することにより、ワイピングシート34の張力を制
御しても良い。供給モータ36及び回収モータ42の制御装置を簡便にすることができる
。他にも、ワイピングシート34の移動を制限する移動制限機構を設けて、ワイピングシ
ート34の移動と停止とを制御する。そして、この移動制限機構と、供給モータ36及び
回収モータ42のうち一方のトルクを制御することにより、ワイピングシート34の張力
を制御しても良い。この場合にも、供給モータ36及び回収モータ42の制御装置を簡便
にすることができる。
(Modification 5)
In the first embodiment, the tension of the wiping sheet 34 is controlled by controlling the torque of the supply motor 36 and the recovery motor 42. In addition, a spring is disposed so as to be connected to idle pulleys such as the first idle pulley 37, the second idle pulley 39, the third idle pulley 40, etc. You may control. The control device for the supply motor 36 and the collection motor 42 can be simplified. In addition, a movement limiting mechanism that limits the movement of the wiping sheet 34 is provided to control the movement and stop of the wiping sheet 34. The tension of the wiping sheet 34 may be controlled by controlling the torque of one of the movement limiting mechanism and the supply motor 36 and the recovery motor 42. Also in this case, the control device for the supply motor 36 and the recovery motor 42 can be simplified.

(変形例6)
前記第1の実施形態では、キャビティ22を加圧する加圧手段に、圧電素子25を用い
たが、他の方法でも良い。例えば、コイルと磁石とを用いて振動板24を変形させて、加
圧しても良い。他に、キャビティ22内にヒータ配線を配置して、ヒータ配線を加熱する
ことにより、機能液23を気化させたり、機能液23に含む気体を膨張させたりして加圧
しても良い。他にも、静電気の引力及び斥力を用いて振動板24を変形させて、加圧して
も良い。
(Modification 6)
In the first embodiment, the piezoelectric element 25 is used as the pressurizing means for pressurizing the cavity 22, but other methods may be used. For example, the diaphragm 24 may be deformed and pressurized using a coil and a magnet. In addition, the heater wiring may be disposed in the cavity 22 to heat the heater wiring, thereby vaporizing the functional liquid 23 or expanding the gas contained in the functional liquid 23 for pressurization. In addition, the diaphragm 24 may be deformed and pressurized using electrostatic attraction and repulsion.

(変形例7)
前記第1の実施形態では、洗浄液用ノズル46から洗浄液45を噴出してワイピングシ
ート34に洗浄液45を塗布したが、他の方法を用いても良い。洗浄液45を含んだ刷毛
やスポンジをワイピングシート34に接触させる方法、容器に入っている洗浄液45の中
にワイピングシート34を通過させる方法、ロールコータを用いて転写する方法等、各種
方法を用いることができる。
(Modification 7)
In the first embodiment, the cleaning liquid 45 is ejected from the cleaning liquid nozzle 46 and the cleaning liquid 45 is applied to the wiping sheet 34. However, other methods may be used. Use various methods such as a method of bringing a brush or sponge containing the cleaning liquid 45 into contact with the wiping sheet 34, a method of passing the wiping sheet 34 into the cleaning liquid 45 contained in the container, and a method of transferring using a roll coater. Can do.

(変形例8)
前記第1の実施形態では、供給モータ36及び回収モータ42にサーボモータを採用し
たが、ステッピングモータを用いても良い。ワイピングシート34の供給量の制御を簡便
に行うことができる。
(Modification 8)
In the first embodiment, servo motors are used as the supply motor 36 and the recovery motor 42, but stepping motors may be used. The supply amount of the wiping sheet 34 can be easily controlled.

(変形例9)
前記第1の実施形態では、保守ステージ16を移動させることにより、払拭装置18が
往復運動をしたが、キャリッジ11を移動させることにより、払拭装置18が往復運動を
しても良い。液滴吐出ヘッド12のノズル面20aにおける付着物が除去し易い方法を選
択するのが望ましい。
(Modification 9)
In the first embodiment, the wiping device 18 reciprocates by moving the maintenance stage 16, but the wiping device 18 may reciprocate by moving the carriage 11. It is desirable to select a method that easily removes deposits on the nozzle surface 20a of the droplet discharge head 12.

(変形例10)
前記第2の実施形態では、洗浄液45を含浸しているワイピングシート34が第1押圧
ローラ29を通過する速度より、乾燥しているワイピングシート34が第2押圧ローラ3
0を通過する速度が早くなるように設定したが、逆でも良い。つまり、洗浄液45を含浸
しているワイピングシート34が第1押圧ローラ29を通過する速度より、乾燥している
ワイピングシート34が第2押圧ローラ30を通過する速度が遅くなるように設定しても
良い。付着物の除去具合と、機能液23や洗浄液45の除去具合に合わせて調整するのが
望ましい。
(Modification 10)
In the second embodiment, since the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 passes through the first pressing roller 29, the wiping sheet 34 that is dried is the second pressing roller 3.
Although the speed of passing through 0 is set to be faster, the reverse may be possible. That is, even if the wiping sheet 34 impregnated with the cleaning liquid 45 passes through the first pressing roller 29, the speed at which the dried wiping sheet 34 passes through the second pressing roller 30 is set to be slower. good. It is desirable to adjust in accordance with how the deposits are removed and how the functional liquid 23 and the cleaning liquid 45 are removed.

第1の実施形態に係る液滴吐出装置の構成を示す概略斜視図。1 is a schematic perspective view illustrating a configuration of a droplet discharge device according to a first embodiment. (a)は、キャリッジを示す模式平面図、(b)は、液滴吐出ヘッドの構造を説明するための要部模式断面図。(A) is a schematic plan view showing a carriage, (b) is a schematic cross-sectional view of a main part for explaining the structure of a droplet discharge head. (a)は、払拭装置を示す概略斜視図、(b)は、払拭装置とキャリッジを示す模式側面図。(A) is a schematic perspective view which shows a wiping apparatus, (b) is a model side view which shows a wiping apparatus and a carriage. (a)は、払拭装置の構造を示す模式上面図、(b)は、払拭装置の構造を示す模式側面図。(A) is a schematic top view which shows the structure of a wiping apparatus, (b) is a schematic side view which shows the structure of a wiping apparatus. 洗浄液を含浸したワイピングシートを示す図。The figure which shows the wiping sheet which impregnated the washing | cleaning liquid. 液滴吐出装置の電気制御ブロック図。The electric control block diagram of a droplet discharge device. 液滴吐出ヘッドの清掃及び基板に機能液を塗布する製造工程を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing process which cleans a droplet discharge head and applies a functional liquid to a board | substrate. 液滴吐出ヘッドの清掃及び基板に機能液を塗布する方法を説明する図。The figure explaining the method of cleaning a droplet discharge head and apply | coating a functional liquid to a board | substrate. 第2の実施形態に係る払拭装置の構造を示す模式側面図。The schematic side view which shows the structure of the wiping apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 洗浄液を含浸したワイピングシートを示す図。The figure which shows the wiping sheet which impregnated the washing | cleaning liquid. 液滴吐出装置の電気制御ブロック図。The electric control block diagram of a droplet discharge device. 変形例に係る払拭装置の構造を示す模式側面図。The schematic side view which shows the structure of the wiping apparatus which concerns on a modification.

符号の説明Explanation of symbols

1…液滴吐出装置、11…テーブルとしてのキャリッジ、12…液滴吐出ヘッド、16
…テーブルとしての保守ステージ、18,80,88,90…払拭装置、19…ワイピン
グユニット、20a…ノズル面、29…押圧部としての第1押圧ローラ、30…押圧部と
しての第2押圧ローラ、34…清掃部材としてのワイピングシート、38…供給量検出部
としての供給量検出装置、43…供給部としての清掃部材供給装置、44…回収部として
の清掃部材回収装置、46…洗浄液供給部としての洗浄液用ノズル、47…洗浄液供給部
としての洗浄液供給装置、48…洗浄液供給部としてのチューブ、75…清掃部材制御部
としての清掃部材制御演算部、89…押圧部としての押圧ローラ、89a…押圧部として
の右押圧ローラ、89b…押圧部としての中押圧ローラ、89c…押圧部としての左押圧
ローラ、91…押圧部としての第3押圧ローラ、92…押圧部としての第4押圧ローラ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Droplet discharge apparatus, 11 ... Carriage as a table, 12 ... Droplet discharge head, 16
A maintenance stage as a table, 18, 80, 88, 90 ... a wiping device, 19 ... a wiping unit, 20a ... a nozzle surface, 29 ... a first pressing roller as a pressing part, 30 ... a second pressing roller as a pressing part, 34 ... a wiping sheet as a cleaning member, 38 ... a supply amount detection device as a supply amount detection unit, 43 ... a cleaning member supply device as a supply unit, 44 ... a cleaning member recovery device as a recovery unit, 46 ... as a cleaning liquid supply unit No. 47 for cleaning liquid, 47. Cleaning device for supplying cleaning liquid, 48. Tube for cleaning liquid supplying section, 75. Cleaning member control calculating section for cleaning member control section, 89. Pressing roller for pressing section, 89 a. Right pressing roller as a pressing part, 89b ... Medium pressing roller as a pressing part, 89c ... Left pressing roller as a pressing part, 91 ... As a pressing part Third pressing roller, 92 ... fourth pressing roller as a pressing portion.

Claims (14)

液滴吐出ヘッドのノズル面に清掃部材を押圧して摺動することにより前記ノズル面の払
拭動作を行う液滴吐出ヘッドのワイピングユニットであって、
前記清掃部材を前記液滴吐出ヘッドに押圧する複数の押圧部と、
前記押圧部に前記清掃部材を供給する供給部と、
前記押圧部に供給される前記清掃部材を回収する回収部と、を有し、
前記清掃部材は複数の前記押圧部を順次通過して供給されることを特徴とする液滴吐出
ヘッドのワイピングユニット。
A droplet discharge head wiping unit that performs a wiping operation of the nozzle surface by pressing and sliding a cleaning member on the nozzle surface of the droplet discharge head,
A plurality of pressing portions that press the cleaning member against the droplet discharge head;
A supply unit for supplying the cleaning member to the pressing unit;
A recovery part for recovering the cleaning member supplied to the pressing part,
The wiping unit of a droplet discharge head, wherein the cleaning member is supplied through a plurality of the pressing portions sequentially.
請求項1に記載の液滴吐出ヘッドのワイピングユニットであって、
前記供給部と前記回収部とを制御する清掃部材制御部を有し、
前記清掃部材制御部は、1つの前記押圧部が払拭動作に用いた前記清掃部材の場所を他
の前記押圧部が払拭動作に用いずに回収する制御を行うことを特徴とする液滴吐出ヘッド
のワイピングユニット。
A wiping unit for a droplet discharge head according to claim 1,
A cleaning member control unit for controlling the supply unit and the recovery unit;
The cleaning member control unit performs control to collect the location of the cleaning member used by one pressing unit for the wiping operation without using the other pressing unit for the wiping operation. Wiping unit.
請求項2に記載の液滴吐出ヘッドのワイピングユニットであって、
前記ノズル面と前記清掃部材とを相対移動させるテーブルを有し、
前記テーブルが前記清掃部材と前記ノズル面とを摺動させながら往復して払拭動作を行
うことを特徴とする液滴吐出ヘッドのワイピングユニット。
A wiping unit for a droplet discharge head according to claim 2,
A table that relatively moves the nozzle surface and the cleaning member;
A wiping unit for a droplet discharge head, wherein the table performs a wiping operation by reciprocating while sliding the cleaning member and the nozzle surface.
請求項3に記載の液滴吐出ヘッドのワイピングユニットであって、
前記清掃部材に洗浄液を供給する洗浄液供給部を有し、
複数の前記押圧部のうち少なくとも1つは前記洗浄液が含浸された前記清掃部材を用い
て払拭動作を行うことを特徴とする液滴吐出ヘッドのワイピングユニット。
A wiping unit for a droplet discharge head according to claim 3,
A cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid to the cleaning member;
At least one of the plurality of pressing portions performs a wiping operation using the cleaning member impregnated with the cleaning liquid.
請求項3に記載の液滴吐出ヘッドのワイピングユニットであって、
複数の前記押圧部のうち少なくとも1つは乾燥している前記清掃部材を用いて払拭動作
を行うことを特徴とする液滴吐出ヘッドのワイピングユニット。
A wiping unit for a droplet discharge head according to claim 3,
A wiping unit for a droplet discharge head, wherein at least one of the plurality of pressing portions performs a wiping operation using the dry cleaning member.
請求項4に記載の液滴吐出ヘッドのワイピングユニットであって、
複数の前記押圧部のうち少なくとも1つには乾燥している前記清掃部材が供給され、前
記清掃部材制御部は、前記洗浄液が含浸された前記清掃部材が前記押圧部に供給される速
度と、乾燥している前記清掃部材が前記押圧部に供給される速度と、を制御することを特
徴とする液滴吐出ヘッドのワイピングユニット。
A wiping unit for a droplet discharge head according to claim 4,
The cleaning member that is dry is supplied to at least one of the plurality of pressing parts, and the cleaning member control unit is a speed at which the cleaning member impregnated with the cleaning liquid is supplied to the pressing part, A wiping unit for a droplet discharge head, which controls a speed at which the cleaning member being dried is supplied to the pressing portion.
請求項4に記載の液滴吐出ヘッドのワイピングユニットであって、
前記供給部と前記回収部とが前記清掃部材に張力を加えることを特徴とする液滴吐出ヘ
ッドのワイピングユニット。
A wiping unit for a droplet discharge head according to claim 4,
A wiping unit for a droplet discharge head, wherein the supply unit and the recovery unit apply tension to the cleaning member.
請求項2に記載の液滴吐出ヘッドのワイピングユニットであって、
前記清掃部材の供給量を検出する供給量検出部を有し、
前記供給量検出部が検出する前記供給量を用いて、前記清掃部材制御部が前記供給量を
制御することを特徴とする液滴吐出ヘッドのワイピングユニット。
A wiping unit for a droplet discharge head according to claim 2,
A supply amount detection unit for detecting the supply amount of the cleaning member;
A wiping unit for a droplet discharge head, wherein the cleaning member control unit controls the supply amount using the supply amount detected by the supply amount detection unit.
請求項2に記載の液滴吐出ヘッドのワイピングユニットであって、
前記液滴吐出ヘッドが複数存在するとき、複数の前記押圧部は複数の前記液滴吐出ヘッ
ドと対向する場所に配置されていることを特徴とする液滴吐出ヘッドのワイピングユニッ
ト。
A wiping unit for a droplet discharge head according to claim 2,
A wiping unit for a droplet discharge head, wherein when there are a plurality of the droplet discharge heads, the plurality of pressing portions are arranged at locations facing the plurality of droplet discharge heads.
液滴吐出ヘッドと前記液滴吐出ヘッドのノズル面に清掃部材を押圧することにより前記
ノズル面の払拭動作を行う液滴吐出ヘッドのワイピングユニットとを有する液滴吐出装置
であって、
前記ワイピングユニットは、前記清掃部材を前記液滴吐出ヘッドに押圧する複数の押圧
部と、
前記押圧部に前記清掃部材を供給する供給部と、
前記押圧部に供給される前記清掃部材を回収する回収部とを有し、
前記清掃部材は複数の前記押圧部を順次通過して供給されることを特徴とする液滴吐出
装置。
A droplet discharge apparatus having a droplet discharge head and a wiping unit of a droplet discharge head that performs a wiping operation of the nozzle surface by pressing a cleaning member against the nozzle surface of the droplet discharge head,
The wiping unit includes a plurality of pressing portions that press the cleaning member against the droplet discharge head;
A supply unit for supplying the cleaning member to the pressing unit;
A recovery unit that recovers the cleaning member supplied to the pressing unit;
The droplet discharging apparatus according to claim 1, wherein the cleaning member is supplied by sequentially passing through the plurality of pressing portions.
液滴吐出ヘッドのノズル面に清掃部材を押圧することにより前記ノズル面の払拭動作を
行うワイピングユニットを用いた液滴吐出ヘッドのクリーニング方法であって、
前記ワイピングユニットは、前記清掃部材を前記液滴吐出ヘッドに押圧する押圧部を複
数有し、
前記清掃部材を複数の前記押圧部に供給する供給工程と、
前記清掃部材を複数の前記液滴吐出ヘッドに押圧して払拭する払拭工程と、を有し、
前記供給工程において、前記清掃部材は複数の前記押圧部を順次通過して供給されるこ
とを特徴とする液滴吐出ヘッドのクリーニング方法。
A method of cleaning a droplet discharge head using a wiping unit that performs a wiping operation of the nozzle surface by pressing a cleaning member against the nozzle surface of the droplet discharge head,
The wiping unit has a plurality of pressing portions that press the cleaning member against the droplet discharge head,
A supplying step of supplying the cleaning member to the plurality of pressing portions;
A wiping step of pressing and wiping the cleaning member against the plurality of droplet discharge heads,
In the supplying step, the cleaning member is supplied by sequentially passing through the plurality of pressing portions.
請求項11に記載の液滴吐出ヘッドのクリーニング方法であって、
前記ワイピングユニットは、1つの前記押圧部が払拭動作に用いた前記清掃部材の場所
を他の前記押圧部が払拭動作に用いずに回収することを特徴とする液滴吐出ヘッドのクリ
ーニング方法。
A method for cleaning a droplet discharge head according to claim 11,
The method of cleaning a droplet discharge head, wherein the wiping unit collects the location of the cleaning member used by one of the pressing portions for the wiping operation without using the other pressing portion for the wiping operation.
請求項12に記載の液滴吐出ヘッドのクリーニング方法であって、
前記ワイピングユニットは、前記清掃部材を前記ノズル面に摺動させながら往復して払
拭動作を行うことを特徴とする液滴吐出ヘッドのクリーニング方法。
A method of cleaning a droplet discharge head according to claim 12,
The method for cleaning a droplet discharge head, wherein the wiping unit performs a wiping operation by reciprocating while sliding the cleaning member on the nozzle surface.
請求項13に記載の液滴吐出ヘッドのクリーニング方法であって、
前記清掃部材に洗浄液を供給する洗浄液供給工程を有し、
前記払拭工程では、
複数の前記押圧部のうち少なくとも1つは乾燥している前記清掃部材を用いて払拭動作
を行い、
複数の前記押圧部のうち少なくとも1つは前記洗浄液が含浸された前記清掃部材を用い
て払拭動作を行い、
前記洗浄液が含浸された前記清掃部材が前記ノズル面を摺動する速度と、乾燥している
前記清掃部材が前記ノズル面を摺動する速度と、が異なる速度にて払拭動作を行うことを
特徴とする液滴吐出ヘッドのクリーニング方法。
A method for cleaning a droplet discharge head according to claim 13,
A cleaning liquid supplying step of supplying a cleaning liquid to the cleaning member;
In the wiping process,
At least one of the plurality of pressing parts performs a wiping operation using the dry cleaning member,
At least one of the plurality of pressing parts performs a wiping operation using the cleaning member impregnated with the cleaning liquid,
The speed at which the cleaning member impregnated with the cleaning liquid slides on the nozzle surface and the speed at which the dry cleaning member slides on the nozzle surface perform a wiping operation at a different speed. A method for cleaning a droplet discharge head.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101763620B1 (en) * 2010-12-20 2017-08-02 주식회사 탑 엔지니어링 Apparatus for cleaning nozzle and paste dispenser having the same
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