JP2009242944A - Fluorine gas generating apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フッ素ガスを発生させるフッ素ガス発生装置に関するものである。 The present invention relates to a fluorine gas generator that generates fluorine gas.
従来から、半導体製造装置に於いて、その装置内部のクリーニングや半導体基盤のエッチング目的でフッ素ガスが使用されており、このフッ素ガスのフッ素源としてフッ素ガス発生装置が使用されている。フッ素ガス発生装置は、フッ化水素などの溶融塩からなる電解浴を有する電解槽を有し、電解槽でフッ化水素を電解しフッ素ガスを発生させる装置が知られている。しかし、電解浴が温められるので、フッ素ガスに伴って電解浴のミストが電解槽から発生し、このミストは配管やバルブを通過するが、電解浴のミストにより配管やバルブが閉塞され、装置の連続運転が行いにくい。そこで、ミストによる閉塞を抑止するため、例えば、下記特許文献1に示すように、ガスに同伴した電解浴のミストをバルブなどに通過させる前に、フィルタによってあらかじめ除去するとともに、このフィルタを逆洗浄してフィルタに堆積したミストを洗浄し長時間の運転においても高稼動効率で作動することができるフッ素ガス生成装置が知られている。 Conventionally, in a semiconductor manufacturing apparatus, fluorine gas has been used for the purpose of cleaning the inside of the apparatus and etching of a semiconductor substrate, and a fluorine gas generator has been used as a fluorine source of this fluorine gas. A fluorine gas generator has an electrolytic bath having an electrolytic bath made of a molten salt such as hydrogen fluoride, and a device for generating fluorine gas by electrolyzing hydrogen fluoride in the electrolytic bath is known. However, since the electrolytic bath is warmed, mist of the electrolytic bath is generated from the electrolytic bath with the fluorine gas, and this mist passes through the piping and valves, but the piping and valves are blocked by the mist of the electrolytic bath, and the device It is difficult to perform continuous operation. Therefore, in order to prevent clogging by mist, for example, as shown in Patent Document 1 below, before passing the mist of the electrolytic bath accompanying the gas through a valve or the like, the filter is removed in advance and the filter is back-washed. A fluorine gas generation device is known that can clean the mist accumulated on the filter and operate with high operating efficiency even during long-time operation.
また、排出管やバルブの閉塞を抑える脱ハロゲン化処理装置が、下記特許文献2に開示されている。この装置は、反応槽の底部に設けられている排出口が、反応槽の底面と同一又は底面よりも突出する状態で底栓バルブにより閉鎖されているので、被処理液が排出管や底栓バルブに貯留することを抑止して、処理効率を高めることができる。
Further, a dehalogenation processing apparatus that suppresses blockage of a discharge pipe or a valve is disclosed in
しかしながら、上記引用文献1,2の装置においても、フィルタより上流の配管やバルブ等において電解浴や被処理液が詰まり、配管の閉塞やバルブの損傷が生じ、装置の長期間の連続運転が行いにくい。
However, even in the apparatuses of the above cited
また、電解浴となるフッ化水素を電解槽内に供給するフッ化水素供給システムにおいても、フッ化水素による配管の閉塞やバルブの損傷が生じることがある。電解槽にフッ化水素を供給しないとき、フッ化水素供給システムにおいて、フッ化水素ガスを電解槽へ供給する配管内を排気し、その後、この配管内へ不活性ガスを供給し、再び配管内を排気することを繰り返し、配管内部のガスをパージする。ここで、不活性ガスをフッ化水素ガス供給配管へ供給するとき、冷却した不活性ガスが他の配管から供給されると、他の配管に取り付けられたバルブ内部に残留したフッ化水素ガスが急激に冷却されて液化し、バルブのシール部分が腐食する。また、ガスを排気口へ送る配管の出口付近でパージガスが急激に冷却されると、パージガスに含まれたフッ化水素が液化し、配管等の腐食が起こる。また、配管の途中にマスフローコントローラーが設けられていることがあり、マスフローコントローラーの内部に残存したフッ化水素が液化すると、マスフローコントローラーの内部が腐食し、マスフローコントローラーが損傷する。したがって、これらの機器の寿命が短い。 In addition, even in a hydrogen fluoride supply system that supplies hydrogen fluoride serving as an electrolytic bath into an electrolytic cell, piping may be blocked or a valve may be damaged by hydrogen fluoride. When hydrogen fluoride is not supplied to the electrolytic cell, in the hydrogen fluoride supply system, the piping for supplying hydrogen fluoride gas to the electrolytic cell is evacuated, and then an inert gas is supplied into the piping, and again in the piping. Is repeatedly exhausted to purge the gas inside the pipe. Here, when supplying the inert gas to the hydrogen fluoride gas supply pipe, if the cooled inert gas is supplied from another pipe, the hydrogen fluoride gas remaining inside the valve attached to the other pipe Cooled rapidly and liquefied, corroding the valve seal. Further, when the purge gas is rapidly cooled in the vicinity of the outlet of the pipe that sends the gas to the exhaust port, the hydrogen fluoride contained in the purge gas is liquefied and corrosion of the pipe occurs. In addition, a mass flow controller may be provided in the middle of the piping. When hydrogen fluoride remaining in the mass flow controller is liquefied, the inside of the mass flow controller is corroded and the mass flow controller is damaged. Therefore, the lifetime of these devices is short.
また、フッ化水素が液化すると気体のときに比べて単位体積当りのモル数(分子量)が増えるため、上述のバルブ内部やマスフローコントローラーの内部の腐食が促進する。また、バルブの内部やマスフローコントローラーの内部は、配管のように直線でなく曲がり角が多いため、フッ化水素の液体と接触する確立が高く、腐食がより促進される。 Further, when hydrogen fluoride is liquefied, the number of moles (molecular weight) per unit volume is increased as compared with the case of gas, and corrosion inside the valve and the mass flow controller is promoted. In addition, since the inside of the valve and the mass flow controller are not straight like a pipe but have many bends, the probability of contact with a hydrogen fluoride liquid is high, and corrosion is further promoted.
そこで、本発明の目的は、配管の閉塞やバルブ等の機器の損傷を抑え、長時間連続運転を行うことができるフッ素ガス発生装置を提供する。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a fluorine gas generator capable of suppressing long-term continuous operation while suppressing blockage of piping and damage to equipment such as valves.
本発明のフッ素ガス発生装置は、フッ化水素を含んだ溶融塩からなる電解浴が収容された電解槽を備えたフッ素ガス発生装置であって、前記電解浴を電気分解して発生させたフッ素含有ガスを通過させる排出路と、前記フッ素含有ガスから不純物を除去する除害塔とを有し、前記排出路が、前記電解槽の気相部分と、前記除害塔とを連通するように設けられているものであり、前記排出路内壁及び/又は前記排出路を通過するガスを、前記電解浴の融点以上に加熱する第1加熱手段を有している。 A fluorine gas generator according to the present invention is a fluorine gas generator provided with an electrolytic bath in which an electrolytic bath made of a molten salt containing hydrogen fluoride is housed, and is generated by electrolyzing the electrolytic bath. An exhaust passage through which the contained gas passes and an abatement tower that removes impurities from the fluorine-containing gas, and the exhaust path communicates with the gas phase portion of the electrolytic cell and the abatement tower. It is provided and has a 1st heating means to heat the gas which passes the said discharge path inner wall and / or the said discharge path more than melting | fusing point of the said electrolytic bath.
上記構成によると、第1加熱手段により、排出路内壁及び/又は排出路が電解浴の融点(約70℃)以上、例えば、約75℃に加熱、維持されるので、電解浴から飛散したミスト状の溶融塩が排出路を通過するときに固化しない。したがって、電解浴から飛散した溶融塩により排出路に設けられた配管の閉塞やバルブ、マスフローコントローラーなどの機器の損傷を軽減でき、フッ素ガス発生装置を長期間連続的に運転することができる。 According to the above configuration, since the inner wall of the discharge path and / or the discharge path is heated and maintained at the melting point (about 70 ° C.) or more, for example, about 75 ° C. of the electrolytic bath by the first heating means, the mist scattered from the electrolytic bath When the molten salt passes through the discharge channel, it does not solidify. Therefore, blockage of piping provided in the discharge path and damage to equipment such as a valve and a mass flow controller can be reduced by molten salt scattered from the electrolytic bath, and the fluorine gas generator can be operated continuously for a long period of time.
本発明のフッ素ガス発生装置は、フッ化水素を含む溶融塩からなる電解浴が収容された電解槽を備え、前記電解浴を電気分解して発生させたフッ素含有ガスを通過させる排出路及び/又は前記電解槽にフッ化水素を供給する供給路において、前記フッ素含有ガスにミストとして含まれる溶融塩の固化及び/又は前記フッ化水素の液化が抑制されるようになされている。 A fluorine gas generator according to the present invention includes an electrolytic bath in which an electrolytic bath made of a molten salt containing hydrogen fluoride is accommodated, and a discharge path for passing a fluorine-containing gas generated by electrolyzing the electrolytic bath and / or Alternatively, in the supply path for supplying hydrogen fluoride to the electrolytic cell, solidification of the molten salt contained in the fluorine-containing gas as mist and / or liquefaction of the hydrogen fluoride is suppressed.
上記構成によると、電解浴から飛散した溶融塩が気体の状態で排出路を通過する。また、フッ化水素が気体の状態のまま供給路を通過する。このため、従来のフッ素ガス発生装置で生じた、溶融塩の固化やフッ化水素の液化による配管やバルブなどの腐食の心配がなく、フッ化水素ガス供給装置で生じた、フッ化水素の液化によるバルブなどの機器の内部がフッ化水素により腐食することを抑止できる。したがって、配管の閉塞やバルブ及びマスフローコントローラーなどの機器の損傷を軽減できるので、フッ素ガス発生装置を長期間連続的に運転することができる。 According to the above configuration, the molten salt scattered from the electrolytic bath passes through the discharge path in a gaseous state. Further, hydrogen fluoride passes through the supply path in a gaseous state. For this reason, there is no concern about corrosion of pipes and valves caused by solidification of molten salt or liquefaction of hydrogen fluoride, which occurs with conventional fluorine gas generators, and liquefaction of hydrogen fluoride that occurs with hydrogen fluoride gas supply devices It is possible to prevent the inside of equipment such as valves from being corroded by hydrogen fluoride. Therefore, blockage of piping and damage to devices such as valves and mass flow controllers can be reduced, and the fluorine gas generator can be operated continuously for a long period of time.
また、本発明のフッ素ガス発生装置は、前記除害塔より下流に設けられている圧力調節用バルブを有しており、前記圧力調節用バルブが、シール部分を有し、前記シール部分にフッ素樹脂が用いられていることが好ましい。 The fluorine gas generator of the present invention has a pressure adjusting valve provided downstream from the detoxification tower, the pressure adjusting valve has a seal portion, and the seal portion has fluorine. It is preferable that a resin is used.
上記構成によると、除害塔を通過したフッ素を含有するガスは、電解浴の融点以上に加熱されないので、電解浴の融点より低い温度になる。フッ素を含有するガスは、電解浴の融点より低い温度になると反応性が弱まるので、圧力調節用バルブを通過しても、圧力調節用バルブのシール部分のフッ素樹脂、例えば、PTFE、PCTFE(ポリ3フッ化エチレン)、PVDF(ポリフッ化ビニリデン)、PVF(ポリフッ化ビニル)や、VF2(ビニリデンフルオライド)、HFP(ヘキサフルオロポリプロピレン)、TFE(テトラフロオロエチレン)、PMVE(パーフルオロメチルビニルエーテル)等のモノマーを用いた共重合体等が侵食されにくくなり、圧力調整バルブの寿命を長くすることができる。 According to the above configuration, the gas containing fluorine that has passed through the detoxification tower is not heated to a temperature higher than the melting point of the electrolytic bath, and therefore has a temperature lower than the melting point of the electrolytic bath. Since the gas containing fluorine becomes less reactive when the temperature is lower than the melting point of the electrolytic bath, even if it passes through the pressure regulating valve, the fluororesin, for example, PTFE, PCTFE (polyethylene) in the seal portion of the pressure regulating valve. Trifluoroethylene), PVDF (polyvinylidene fluoride), PVF (polyvinyl fluoride), VF2 (vinylidene fluoride), HFP (hexafluoropolypropylene), TFE (tetrafluoroethylene), PMVE (perfluoromethyl vinyl ether) Copolymers using monomers such as are less likely to be eroded, and the life of the pressure regulating valve can be extended.
また、前記第1加熱手段が、前記排出路の外壁に接して設けられている加熱体であり、前記加熱体が、前記排出路の全長に亘って設けられていることが好ましい。この構成によると、排出路の全長に亘って第1加熱体が設けられているので、排出路の温度を均一に保つことができ、排出路の部分的な過度の温度上昇や温度不足による溶融塩の固化やフッ化水素の液化を抑止することができる。 Moreover, it is preferable that the said 1st heating means is a heating body provided in contact with the outer wall of the said discharge path, and the said heating body is provided over the full length of the said discharge path. According to this configuration, since the first heating body is provided over the entire length of the discharge path, the temperature of the discharge path can be kept uniform, and melting due to partial excessive temperature rise or insufficient temperature of the discharge path. Solidification of salt and liquefaction of hydrogen fluoride can be suppressed.
また、更に前記電解浴にフッ化水素を供給するフッ化水素供給装置を有しており、前記フッ化水素供給装置が、フッ化水素供給源と、前記フッ化水素供給源から前記電解槽にフッ化水素を供給するフッ化水素供給路と、前記フッ化水素供給路に不活性ガスを導入するパージ用ガス供給路と、前記導入された不活性ガスにより前記フッ化水素供給路からフッ化水素を排出させる不活性ガス排出経路とを有しており、前記パージ用ガス供給路及び前記不活性ガス排出経路を通過するガスをフッ化水素の沸点以上の温度に加熱する第2加熱手段を有していることが好ましい。 The apparatus further includes a hydrogen fluoride supply device that supplies hydrogen fluoride to the electrolytic bath, and the hydrogen fluoride supply device supplies a hydrogen fluoride supply source and the hydrogen fluoride supply source to the electrolytic cell. A hydrogen fluoride supply path for supplying hydrogen fluoride; a purge gas supply path for introducing an inert gas into the hydrogen fluoride supply path; and a fluorination from the hydrogen fluoride supply path by the introduced inert gas. An inert gas discharge path for discharging hydrogen, and a second heating means for heating the gas passing through the purge gas supply path and the inert gas discharge path to a temperature not lower than the boiling point of hydrogen fluoride. It is preferable to have.
上記構成によると、フッ化水素供給路をパージするとき、パージ用ガス供給路及び不活性ガス排出経路の配管、バルブ及びバルブなどの機器内部に残存したフッ化水素が固化および液化しないため、パージ用ガス供給路及び不活性ガス排出経路に設けられた配管、バルブ及びマスフローコントローラーなどの機器の損傷を抑止でき、これら配管及び機器の長寿命化を図ることができる。また、冷却された不活性ガスがパージ用ガス供給路の入口から導入されたり、不活性ガス排出経路の出口で不活性ガスが急激に冷却されたりしても、不活性ガスが加熱されるので、配管及び機器の内部に残存したフッ化水素が冷却されることがなく、配管、バルブ及びマスフローコントローラーなどの機器がフッ化水素により腐食しない。 According to the above configuration, when purging the hydrogen fluoride supply path, the hydrogen fluoride remaining in the equipment such as the purge gas supply path and the inert gas discharge path, valves and valves is not solidified and liquefied. Damage to equipment such as pipes, valves, and mass flow controllers provided in the gas supply path and inert gas discharge path can be suppressed, and the life of these pipes and equipment can be extended. Further, even if the cooled inert gas is introduced from the inlet of the purge gas supply path or the inert gas is rapidly cooled at the outlet of the inert gas discharge path, the inert gas is heated. The hydrogen fluoride remaining inside the piping and equipment is not cooled, and equipment such as piping, valves, and mass flow controllers are not corroded by hydrogen fluoride.
また、本発明にかかるガス発生装置は、前記第2加熱手段が、前記パージ用ガス供給路及び前記不活性ガス排出経路の外壁に接して設けられている第2加熱体であり、前記第2加熱体が、前記パージ用ガス供給路及び前記不活性ガス排出経路の全長に亘って設けられていることが好ましい。この構成によると、パージ用ガス供給路及び不活性ガス排出経路の全長に亘って第2加熱体が設けられているので、パージ用ガス供給路及び不活性ガス排出経路の温度を均一に保つことができ、パージ用ガス供給路及び不活性ガス排出経路の部分的な過度の温度上昇や温度不足による溶融塩の固化やフッ化水素の液化を抑止することができる。 In the gas generator according to the present invention, the second heating means is a second heating body provided in contact with outer walls of the purge gas supply path and the inert gas discharge path, It is preferable that the heating body is provided over the entire length of the purge gas supply path and the inert gas discharge path. According to this configuration, since the second heating body is provided over the entire length of the purge gas supply path and the inert gas discharge path, the temperature of the purge gas supply path and the inert gas discharge path can be kept uniform. Therefore, it is possible to suppress solid salt solidification and liquefaction of hydrogen fluoride due to partial excessive temperature rise and insufficient temperature in the purge gas supply path and the inert gas discharge path.
また、別の観点として、本発明にかかるガス発生装置は、更に前記電解浴にフッ化水素を供給するフッ化水素供給装置を有しており、前記フッ化水素供給装置が、前記フッ化水素供給源と、前記フッ化水素供給路と、前記パージ用ガス供給路と、前記不活性ガス排出経路とを有すると共に、少なくともフッ化水素供給源と、前記フッ化水素供給路と、前記パージ用ガス供給路との全てを加熱する第3加熱手段を有していることが好ましい。ここで、加熱温度は、フッ化水素の沸点以上(約20℃以上)が好ましい。これにより、フッ化水素供給源と、フッ化水素供給路と、パージ用ガス供給路と、不活性ガス排出経路との内部をフッ化水素の沸点以上(約20℃以上)に保温できる。これによって、フッ化水素供給装置の設置場所の環境温度が急激に変化しても、フッ化水素供給源と、フッ化水素供給路と、パージ用ガス供給路と、不活性ガス排出経路との内部に存在したフッ化水素が液化しない。したがって、フッ化水素による配管やバルブなどの機器の腐食を軽減でき、これらの機器の長寿命化を図ることができる。 As another aspect, the gas generator according to the present invention further includes a hydrogen fluoride supply device that supplies hydrogen fluoride to the electrolytic bath, and the hydrogen fluoride supply device includes the hydrogen fluoride. A supply source, the hydrogen fluoride supply path, the purge gas supply path, and the inert gas discharge path, and at least a hydrogen fluoride supply source, the hydrogen fluoride supply path, and the purge It is preferable to have the 3rd heating means which heats all with a gas supply path. Here, the heating temperature is preferably higher than the boiling point of hydrogen fluoride (about 20 ° C. or higher). Thereby, the inside of the hydrogen fluoride supply source, the hydrogen fluoride supply path, the purge gas supply path, and the inert gas discharge path can be kept warm above the boiling point of hydrogen fluoride (about 20 ° C. or higher). As a result, even if the environmental temperature at the place where the hydrogen fluoride supply device is installed changes suddenly, the hydrogen fluoride supply source, the hydrogen fluoride supply path, the purge gas supply path, and the inert gas discharge path The hydrogen fluoride present inside does not liquefy. Therefore, corrosion of equipment such as piping and valves due to hydrogen fluoride can be reduced, and the life of these equipment can be extended.
また、本発明にかかるガス発生装置は、第3加熱手段が、前記フッ化水素供給路及び前記パージ用ガス供給路の外壁に接して設けられている第3加熱体であり、
前記第3加熱体が、前記フッ化水素供給路及び前記パージ用ガス供給路の全長に亘って設けられていることが好ましい。この構成によると、フッ化水素供給路及びパージ用ガス供給路の全長に亘って第3加熱体が設けられているので、フッ化水素供給路及びパージ用ガス供給路の温度を均一に保つことができ、フッ化水素供給路及びパージ用ガス供給路の部分的な過度の温度上昇や温度不足による溶融塩の固化やフッ化水素の液化を抑止することができる。
Moreover, the gas generator according to the present invention is a third heating body in which the third heating means is provided in contact with outer walls of the hydrogen fluoride supply path and the purge gas supply path,
It is preferable that the third heating body is provided over the entire length of the hydrogen fluoride supply path and the purge gas supply path. According to this configuration, since the third heating body is provided over the entire length of the hydrogen fluoride supply path and the purge gas supply path, the temperature of the hydrogen fluoride supply path and the purge gas supply path can be kept uniform. Therefore, it is possible to suppress solid salt solidification and liquefaction of hydrogen fluoride due to partial excessive temperature rise and insufficient temperature in the hydrogen fluoride supply path and the purge gas supply path.
また、前記フッ化水素供給路は、その途中から電解槽に至る一部が前記不活性ガス排出経路となされ、フッ化水素の供給停止時に前記不活性ガスにより置換可能となされていることが好ましい。これによって、簡易な構成で、配管やバルブなどの機器の腐食を軽減しながら、フッ化水素供給路をパージできる。 In addition, it is preferable that a part of the hydrogen fluoride supply path from the middle to the electrolytic cell serves as the inert gas discharge path, and can be replaced by the inert gas when the supply of hydrogen fluoride is stopped. . Accordingly, the hydrogen fluoride supply path can be purged with a simple configuration while reducing corrosion of equipment such as piping and valves.
更に、前記電解浴を加熱するための槽加熱手段と、前記電解浴を冷却するための槽冷却手段とを有していることが好ましい。 Furthermore, it is preferable to have a tank heating means for heating the electrolytic bath and a tank cooling means for cooling the electrolytic bath.
上記構成によると、槽加熱手段及び槽冷却手段によって、電解槽及び電解浴の温度を適切な温度に調節、制御できるので、電解槽へのフッ化水素の供給時等に起因する電解浴の過剰な温度上昇を抑え、溶融塩に由来するミストの飛散を抑止できる。また、電解槽よりも下流に設けられている配管やバルブ等の部材が電解浴によって詰まることを抑止できる。また、電解槽を構成している図示しない部品、例えば、ガスシール部分、付属バルブ等の温度の上昇を抑止でき、これらの部品の寿命を長くすることができる。 According to the above configuration, since the temperature of the electrolytic cell and the electrolytic bath can be adjusted and controlled to an appropriate temperature by the tank heating unit and the bath cooling unit, the excess of the electrolytic bath due to the supply of hydrogen fluoride to the electrolytic cell, etc. Temperature rise can be suppressed and scattering of mist derived from molten salt can be suppressed. Moreover, it can suppress that members, such as piping and a valve | bulb provided downstream from the electrolytic cell, are clogged with an electrolytic bath. Moreover, the temperature rise of the components which are not shown in figure which comprise the electrolytic cell, for example, a gas seal part, an attached valve, etc. can be suppressed, and the lifetime of these components can be lengthened.
本発明のフッ素ガス発生装置によると、電解浴から飛散したミスト状の溶融塩や電解浴に供給されるフッ化水素が液化することを抑止できる。これによって、配管の閉塞やバルブ等の機器の損傷を低減でき、フッ素ガス発生装置を長時間連続的に運転することができる。また、フッ化水素供給装置の配管やバルブ等の内部がフッ化水素の沸点以上に加熱されているので、配管やバルブ等の内部に存在するフッ化水素が液化しない。このように、これらの機器がフッ化水素によって損傷することを軽減でき、フッ化水素供給装置の部品の長寿命化を図ることができる。 According to the fluorine gas generator of the present invention, it is possible to prevent the mist-like molten salt scattered from the electrolytic bath and hydrogen fluoride supplied to the electrolytic bath from being liquefied. Thereby, blockage of piping and damage to equipment such as valves can be reduced, and the fluorine gas generator can be operated continuously for a long time. Further, since the inside of the piping and valves of the hydrogen fluoride supply device is heated to the boiling point of hydrogen fluoride or higher, the hydrogen fluoride existing inside the piping and valves does not liquefy. Thus, damage to these devices due to hydrogen fluoride can be reduced, and the life of the components of the hydrogen fluoride supply device can be extended.
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しつつ説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
〔第1実施形態〕
ここでは、本発明に係るフッ素ガス発生装置の第1実施形態を説明する。図1は、本発明の実施形態に係る表面処理装置の主要部の概略構成図である。図1において、フッ素ガス発生装置100は、陽極室1と陰極室2とを備えた電解槽3と、電解槽3に収容されている電解浴4と、陽極室1から発生したフッ素ガスに含まれるフッ化水素ガスを除去する第1除害塔5aと、陰極室2から発生した水素ガスに含まれるフッ化水素ガスを除去する第2除害塔5bと、第1除害塔5aより下流に設けられている第1圧力調整バルブ6aと、第2除害塔5bより下流に設けられている第2圧力調整バルブ6bと、電解槽3の陽極室1側に設けられているフッ素ガス発生口7aと第1除害塔5aとの間に接続されている第1配管8aと、電解槽3の陰極室2側に設けられている水素ガス発生口7bと第2除害塔5bとの間に接続されている第2配管8bとを有している。ここで、電解槽縁切りバルブ9aと第1配管8aと除害塔入口縁切りバルブ10aとで排出路11aが構成され、電解槽縁切りバルブ9bと第2配管8bと除害塔入口縁切りバルブ10bとで排出路11bが構成されている。排出路11a、11bにはそれぞれ、第1ラインヒーター12a及び第2ラインヒーター12bが設けられている。また、電解槽3の外側には、電解浴加温ヒーター13が設けられており、電解槽3及び電解浴加温ヒーター13の外側には、さらに電解浴加温ヒーター保護カバー14が設けられている。そして、電解槽3の近傍には冷却ファン15が設けられている。
[First Embodiment]
Here, a first embodiment of the fluorine gas generator according to the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a main part of a surface treatment apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, a
電解槽3は、Ni、モネル、純鉄、ステンレス鋼等の金属や合金で形成されている。電解槽3は、モネル等からなる隔壁16によって、陽極室1及び陰極室2に分離されている。陽極室1には、陽極17が配置されている。陽極17には低分極性炭素電極やNi(ニッケル)を使用することが好ましい。陰極室2には、陰極18が配置されている。陰極18には、Niや鉄等を使用することが好ましい。陽極17と隔壁16との距離、及び陰極18と隔壁16との距離は略同じとすることが好ましい。これによって、複極化により生ずる隔壁16の溶解を生じにくくでき、電解槽3の寿命の延命効果を得ることができる。電解槽3の上蓋には、電解槽3を陽極室1と陰極室2とに分離している隔壁16と、陽極室1から発生するフッ素ガスのフッ素ガス発生口7aと、陰極室2から発生する水素ガスの水素ガス発生口7bと、電解浴4の液面高さが低下した場合に電解浴4に供給されるフッ化水素のフッ化水素供給管31が挿入されたフッ化水素導入口(図示せず)と、陽極室1の電解浴4の液面レベルを検知する第1液面検知センサ19と、陰極室2の液面レベルを5段階で検知する第2第2液面検知センサ20と、陽極室1の圧力を測定する圧力計21、陰極室2の圧力を測定する圧力計22と、電解浴4の温度を測るための図示しない温度計が設けられている。
The
電解浴4は、フッ化カリウム−フッ化水素系やフッ化アンモニウム−フッ化水素系の混合溶融塩で、電解槽3内部に満たされているものである。電解浴4に用いられる混合溶融塩は、室温より高い融点を有するものが多いので、電解槽3の外周部に電解浴加温ヒーター13が設けられている。なお、電解浴4に用いられる混合溶融塩の融点の例として、例えば、約70℃(KF・2HF)や約50℃(NH4F・2HF)がある。
The
第1除害塔5aは、陽極室1から発生する不要な成分を除去するものである。第1除害塔5aは、例えば、電解浴4にフッ化水素が含まれている場合で、電気分解によりフッ素ガスを発生させるときには、フッ素ガス及びフッ化水素に対して耐食性を有する材料、例えば、ステンレス鋼、モネル、Ni(ニッケル)で形成されていることが好ましい。また、第1除害塔5aの内部にはフッ化ナトリウム(以下、NaFとする)等の除害剤が充填されており、導入されたフッ素ガス中に含まれるフッ化水素を除去する。なお、フッ化水素が除去されたフッ素ガスは、第1除害塔下流の導出路23aを通って導出される。
The
第2除害塔5bは、陰極室2から発生する不要な成分を除去するものであり、前述した第1除害塔5aと同様に、例えば、電解浴4にフッ化水素が含まれており、電気分解により水素ガスを発生させるときには、フッ素ガス及びフッ化水素に対して耐食性を有する材料、例えば、ステンレス鋼、モネル、Niで形成されていることが好ましい。また、第2除害塔5bの内部にはNaFやCaCO3等が装填されており、導入されたガス中に含まれるフッ化水素を除去するものである。なお、フッ化水素が除去された水素ガスは、第2除害塔5b下流の導出路23bを通って導出される。
The
第1圧力調整バルブ6aは、第1除害塔5aより下流の導出路23aの途中に設けられており、圧力計21の圧力に応じて連動して開閉して陽極室1の圧力を調整するものである。これによって、陽極室1が減圧になることを抑止できる。第1圧力調整バルブ6aは、シール部分(図示せず)を有しており、このシール部分にはフッ素樹脂が用いられており、例えば、PTFE(四フッ化エチレン樹脂)、PCTFE(ポリ3フッ化エチレン)、PVDF(ポリフッ化ビニリデン)、PVF(ポリフッ化ビニル)や、VF2(ビニリデンフルオライド)、HFP(ヘキサフルオロポリプロピレン)、TFE(テトラフロオロエチレン)、PMVE(パーフルオロメチルビニルエーテル)等のモノマーを用いた共重合体等を用いることができる。このような材質を有するシール部分を備えていると、第1圧力調整バルブ6aを通過するフッ素ガスやフッ素ガスに含まれたフッ化水素によって、シール部分(図示せず)が侵食されにくくなり、第1圧力調整バルブ6aの寿命をより長くすることができる。尚、シール部分とは、第1圧力調整バルブ6aを構成している金属部材と樹脂部材との接合により第1圧力調整バルブ6aの閉動作時の締め切りの機能をする部分であり、第1圧力調整バルブ6aの例として、ダイアフラムバルブやベローズバルブが挙げられる。また、前述の閉動作時の締め切りに加え、金属部材と樹脂部材との接合により第1圧力調整バルブ6a外部と第1圧力調整バルブ6a内部との縁切りをするためのシール部分でもよく、第1圧力調整バルブ6aは、このような縁切りをするシール部分を有したボールバルブ等であってもよい。
The first
第2圧力調整バルブ6bは、第2除害塔5bより下流の導出路23bの途中に設けられており、上述の第1圧力調整バルブ6aと同様に、圧力計22の圧力に応じて連動して開閉して陰極室2の圧力を調整するものである。これによって、陰極室2が減圧になることを抑止できる。第2圧力調整バルブ6bも第1圧力調整バルブ6aと同様に、シール部分(図示せず)を有しており、このシール部分にはフッ素樹脂が用いられており、例えば、PTFE、PCTFE(ポリ3フッ化エチレン)、PVDF(ポリフッ化ビニリデン)、PVF(ポリフッ化ビニル)や、VF2(ビニリデンフルオライド)、HFP(ヘキサフルオロポリプロピレン)、TFE(テトラフロオロエチレン)、PMVE(パーフルオロメチルビニルエーテル)等のモノマーを用いた共重合体等を用いることができる。このような材質を有するシール部分を備えていると、第2圧力調整バルブ6bを通過するフッ素ガスやフッ素ガスにふくまれたフッ化水素によって、シール部分(図示せず)が侵食されにくくなり、第2圧力調整バルブ6bの寿命をより長くすることができる。
The second
第1配管8aは、フッ素ガス発生口7aと第1除害塔5aとの間に設けられている配管であり、陽極室1の気相部分と第1除害塔5aとを連通するように接続されているものである。第1配管8aに設けられている第1ラインヒーター12aによって、第1配管8a内壁及び第1配管8a内の温度が均一に温められ、第1配管8aを通過するガスは、電解浴4の融点(約70℃)以上の、例えば、約75℃に加熱、維持されている。
The
第2配管8bは、水素ガス発生口7bと第2除害塔5bとの間に設けられている配管であり、陰極室2の気相部分と第2除害塔5bとを連通するように接続されているものである。第2配管8bに設けられている第2ラインヒーター12bによって、第2配管8b内壁及び第2配管8b内の温度が均一に温められ、第2配管8bを通過するガスは、電解浴4の融点(約70℃)以上の約75℃に加熱、維持されている。
The
第1ラインヒーター12aは、フッ素ガス発生口7aから第1除害塔5a入口までの全長において、電解槽縁切りバルブ9aと第1配管8aと除害塔入口縁切りバルブ10aとが設けられている排出路11aを、螺旋状に巻き付けるようにして設けられている。図1に示すように、第1ラインヒーター12aは、電解槽縁切りバルブ9aと第1配管8aと除害塔入口縁切りバルブ10aとの外壁に接して設けられている。この第1ラインヒーター12aによって、排出路11aの内壁及び/又は排出路11a内部は電解浴4の融点以上に均一に維持、加熱されている。これにより、フッ素ガス発生口7aから発生した、電解浴4に由来するミストが、排出路11aにおいて固化することを抑止でき、陽極室1の気相部分から第1除害塔5aまでの間の排出路11aに設けられている電解槽縁切りバルブ9aと第1配管8aと除害塔入口縁切りバルブ10aとに溶融塩が詰まることを抑止できる。なお、第1ラインヒーター12aは、本実施形態に示すように巻き付けるように設けられているものに限らず、第1配管8aの延設方向に沿って、第1配管8aに接するか又は近接させて設けられた、直線状のもの、螺旋状ものを用いたり、帯状のものを巻き回すようにしたりしてもよい。また、第1ラインヒーター12aは、バルブ部分などの熱容量の大きい部位にはその熱容量に応じて加熱量を高めるようにするのが好ましい。更に、第1ラインヒーター12aとして、例えば、電熱線を包含した通常のヒーターや、シリコンゴムで絶縁被覆したリボン状のヒーター等を用いてもよい。
The
第2ラインヒーター12bは水素ガス発生口7bから第2除害塔5b入口までの全長において、電解槽縁切りバルブ9bと第2配管8bと除害塔入口縁切りバルブ10bとが設けられている排出路11bを螺旋状に巻き付けるようにして設けられているものである。図1に示すように、第2ラインヒーター12bは、電解槽縁切りバルブ9bと第1配管8bと除害塔入口縁切りバルブ10bとの外壁に接して設けられている。この第2ラインヒーター12bによって、排出路11bの内壁及び/又は排出路11a内部は電解浴4の融点以上に均一に維持、加熱されている。これにより、水素ガス発生口7bから発生した、電解浴4に由来するミストが、排出路11bにおいて固化することを抑止でき、陽極室1の気相部分から第2除害塔5bまでの間の排出路11bに設けられている電解槽縁切りバルブ9bと第2配管8bと除害塔入口縁切りバルブ10bとに溶融塩が詰まることを抑止できる。なお、第1ラインヒーター12aと同様に、第2ラインヒーター12bは、本実施形態に示すように巻き付けるように設けられているものに限らず、第2配管8bの長さ方向に平行な方向へ、第2配管8bに取り付けられているものでもよい。また、第2ラインヒーター12bとして、例えば、普通のヒーター等を用いてもよい。
The
電解浴加温ヒーター13は、電解槽3の側面を囲むように設けられており、電解槽3を介して電解浴4を加熱するものである。
The electrolytic
電解浴加温ヒーター保護カバー14は、電解槽3の側面及び電解浴加温ヒーター13の外周部を覆うように設けられているものである。なお、電解浴加温ヒーター保護カバー14は、電解浴加温ヒーター13と空間を隔てて設けられている。
The electrolytic bath warming heater
冷却ファン15は、電解槽3付近に設けられているものであり、電解浴加温ヒーター13と電解浴加温ヒーター保護カバー14との間に外部から空気を送り、電解槽3及び電解浴4を適切な温度に調整、制御するものである。これによって、電解槽3及び電解浴4が高温となりすぎることが抑えられている。また電解槽3の温度が上がると、電解槽3の蓋体と電解槽3の本体との間に設けられた樹脂製のシール材(図示せず)や絶縁シート(図示せず)の温度が上昇し、樹脂製のシール材(図示せず)や絶縁シート(図示せず)の耐久性を低下させる恐れがあるが、冷却ファン15で冷却することにより電解槽3の温度上昇が抑制されるため、これらシール材や絶縁シートの耐久性を向上させることができる。なお、冷却ファンの代わりに、槽冷却手段として、他の空冷手段や水冷手段を用いることができる。特に、本実施形態で用いている冷却ファン等の空冷手段が好適に用いられる。尚、冷却ファンは故障等による冷却不良の発生に備え、複数設置しておくことが好ましい。
The cooling
フッ化水素供給管31は、一端がフッ化水素供給装置30に接続し、他端が電解槽3の陰極室2の電解浴4中に位置する。そして、フッ化水素供給装置30から供給されたフッ化水素ガスを電解浴4へ供給する。フッ化水素供給装置30は、フッ化水素ガスボンベを有している。フッ化水素供給管31から電解槽3内へ導入されたフッ化水素は、電解浴4に溶解し、電気分解される。
One end of the hydrogen
なお、本実施形態において、不活性ガスを電解槽3の陰極室2の気相部分へ導入する配管が設けられていてもよい。これによって、陰極室2の電解浴4の液面が陽極室1よりも高くなった場合に、不活性ガスを電解槽3へ導入し、電解浴4の液面を低く抑えて、電解浴4の液面高さを制御できる。なお、不活性ガスとして、例えば窒素ガスを用いることができる。
In the present embodiment, a pipe for introducing an inert gas into the gas phase portion of the
次に、本実施形態のフッ素ガス発生装置100を運転させた際の、電解槽3から発生するガスの流れについて説明する。電解浴4の電気分解が行われ、陽極室1から発生し陽極室1に滞留したフッ素ガスやフッ化水素を含むガスは、電解浴4から飛散したミスト状の溶融塩とともにフッ素ガス発生口7aから放出される。そして、電解槽縁切りバルブ9aと第1配管8aと除害塔入口縁切りバルブ10aとを有する排出路11aを通過して第1除害塔5aへと導かれる。ここで、電解槽縁切りバルブ9aと第1配管8aと除害塔入口縁切りバルブ10aとの内部は第1ラインヒーター12aによって電解浴4の融点以上に加熱、維持されているので、陽極室1のガスは液体の状態のまま第1除害塔5aへと導かれ、フッ素ガスを含んだガス中のフッ化水素の液化及びミストの固化が抑止されている。そして、第1除害塔5aでフッ化水素が除去され、フッ素ガス発生装置100の外部へと導かれる。
Next, the flow of gas generated from the
一方、陰極室2では、電解浴4の電気分解が行われ、陰極室2から発生し陰極室2に滞留した水素ガスやフッ化水素を含むガスは、電解浴4から飛散したミスト状の溶融塩とともに水素ガス発生口7bから放出される。そして、電解槽縁切りバルブ9bと第2配管8bと除害塔入口縁切りバルブ10bとを有する排出路11bを通過して第2除害塔5bへと導かれる。ここで、電解槽縁切りバルブ9bと第2配管8bと除害塔入口縁切りバルブ10bとの内部は第2ラインヒーター12bによって電解浴4の融点以上に加熱、維持されているので、陰極室2のガスは液体の状態のまま第2除害塔5bへと導かれ、フッ素ガスを含んだガス中のフッ化水素の液化及びミストの固化が抑止されている。そして、第2除害塔5bでフッ化水素が除去され、フッ素ガス発生装置100の外部へと導かれる。
On the other hand, in the
本実施形態によると、第1ラインヒーター12a及び第2ラインヒーター12bによって、電解槽縁切りバルブ9a、第1配管8a及び除害塔入口縁切りバルブ10aが設けられた排出路11a内壁及び/又は排出路11aと、電解槽縁切りバルブ9b、第2配管8b及び除害塔入口縁切りバルブ10bが設けられた排出路11b内壁及び/又は排出路11b内が電解浴4の融点(約70℃)以上に加熱されているので、電解浴4から飛散したミスト状の溶融塩が、排出路11a、11b内壁に接触するとき及び/又は排出路11a、11b内を通過するときに固化しない。これにより、排出路11a、11bに設けられている第1配管8a,第2配管8bの閉塞及び電解槽縁切りバルブ9a,9b、除害塔入口縁切りバルブ10a,10bが損傷せず、フッ素ガス発生装置100を長期間連続的に運転することができる。
According to the present embodiment, the inner wall and / or the discharge path of the
また、第1除害塔5a,第2除害塔5bを通過したガスは、電解浴4の融点以上に加熱されないので、電解浴4の融点より低い温度になる。そして、フッ素を含有するガスは、電解浴4の融点より低い温度になると反応性が弱まるので、第1圧力調整バルブ6a,第2圧力調整バルブ6bを通過しても、バルブのシール部分のフッ素樹脂が侵食されず、第1圧力調整バルブ6a,第2圧力調整バルブ6bの寿命を長くすることができる。
In addition, the gas that has passed through the
また、電解槽縁切りバルブ9a、第1配管8a、及び除害塔入口縁切りバルブ10aが設けられた排出路11aの全長に亘って第1ラインヒーター12aが設けられ、電解槽縁切りバルブ9b、第2配管8b及び除害塔入口縁切りバルブ10bが設けられた排出路11bの全長に亘って第2ラインヒーター12bが設けられているので、電解槽縁切りバルブ9a,第1配管8a及び除害塔入口縁切りバルブ10aが設けられた排出路11a、電解槽縁切りバルブ9b、第2配管8b及び除害塔入口縁切りバルブ10bが設けられた排出路11bの温度を均一に保つことができ、排出路11a,11bの部分的な温度ムラの発生や温度不足による溶融塩の固化を抑止することができる。
Further, the
電解浴加温ヒーター13及び冷却ファン15によって、電解槽3及び電解浴4の温度を適切な温度に調節、制御できるので、電解槽へのフッ化水素の供給時等に起因する電解浴4の過剰な温度上昇を抑えて電解浴4に由来するミストの飛散を抑止できる。これによって、電解槽3よりも下流に設けられている電解槽縁切りバルブ9a,9b,第1配管8a,第2配管8b,除害塔入口縁切りバルブ10a,10b及び第1圧力調整バルブ6a,第2圧力調整バルブ6b等の部材が電解浴4によって詰まることを抑止できる。また、電解槽3を構成している図示しない部品、例えば、ガスシール部分、付属バルブ等の温度の上昇を抑止でき、これらの部品の寿命をより長くすることができる。
The temperature of the
〔参考実施形態〕
次に、本発明に係るフッ素ガス発生装置の第2実施形態を説明する。図2は、本発明の参考実施形態に係るフッ素ガス発生装置の概略構成図である。なお、第1実施形態と同様なものに関しては、同符号で示し説明を省略する。
[Reference embodiment]
Next, a second embodiment of the fluorine gas generator according to the present invention will be described. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a fluorine gas generator according to a reference embodiment of the present invention. In addition, about the thing similar to 1st Embodiment, it shows with the same code | symbol and abbreviate | omits description.
本実施形態におけるフッ素ガス発生装置200は、図2に示すように、第1実施形態において、フッ化水素供給装置30の代わりにフッ化水素供給装置230を用い、フッ化水素供給管31にラインヒーター232が巻き付けられている。また、第1ラインヒーター12a,第2ラインヒーター12b,電解浴加温ヒーター13,電解浴加温ヒーター保護カバー14及び冷却ファン15が取り付けられていない。なお、これ以外は第1実施形態とほぼ同様なものであるので説明を省略することがある。
As shown in FIG. 2, the fluorine
フッ化水素供給装置230は、フッ化水素ボンベ251と、フッ化水素供給管31と、パージガス供給管253と、ベント管254と、キャビネット255とを有している。フッ化水素ボンベ251の入口にはフッ化水素ボンベ縁切りバルブ256が取り付けられている。また、フッ化水素供給管31の途中には縁切りバルブ257が設けられおり、パージガス供給管253の途中には縁切りバルブ258が設けられおり、ベント管254の途中には縁切りバルブ259が設けられている。
The hydrogen
フッ化水素ボンベ251は、電解浴4に供給されるフッ化水素の源である。フッ化水素ボンベ251の底面及び側面にはそれぞれ、ヒーター271,272が配置されている。ヒーター271は、フッ化水素ボンベ251の底面全体を覆うように配置されている。また、ヒーター272は、フッ化水素ボンベ251の略全側面を包囲している。ヒーター271及びヒーター272によって、フッ化水素ボンベ251内部はフッ化水素の沸点以上に維持されている。これによって、フッ化水素ボンベ251内部のフッ化水素を気体状態で保管でき、フッ化水素ボンベ251からフッ化水素ガスを供給することができる。またフッ化水素ボンベ251内のフッ化水素によるガス圧を上昇させて加圧状態とし、フッ化水素ガス自身がそのガス圧により供給されるようにできる。
The
フッ化水素供給管31の一端は、フッ化水素ボンベ縁切りバルブ256を介してフッ化水素ボンベ251に接続されている。他端は、電解槽3の陰極室2側の電解浴4に配置されている。縁切りバルブ257が閉められると、フッ化水素ボンベ251からのフッ素ガスの流れが止まる。そして、フッ化水素供給管31と、縁切りバルブ257とでフッ化水素供給路を構成している。
One end of the hydrogen
パージガス供給管253は、一端が、図示しない窒素ガス源に接続されている。窒素ガス源は、キャビネット255の外部に配置されており、本実施の形態では、パージガスとして窒素ガスを使用している。パージガス供給管253の他端は、フッ化水素供給管31に接続されており、フッ化水素供給管31において縁切りバルブ256とフッ化水素用縁切りバルブ257との間に接続されている。このパージガス供給管253と、縁切りバルブ258とによって窒素ガス供給路が構成される。縁切りバルブ258が閉められると、窒素ガス源からの窒素ガスの流れが止まる。窒素ガスは、フッ化水素供給管31をパージするときやフッ化水素供給管31からフッ化水素ガスを排出するときに導入される。窒素ガス源からパージガス供給管253へ導入された窒素ガスは、フッ化水素供給管31へ導かれ、フッ化水素供給管31内に残存したフッ化水素をベント管254へ導く。
One end of the purge
ベント管254は、一端が図示しないベント口(放出口)に接続しており、他端が、パージガス供給管253に接続されている。この他端は、パージガス供給管253において縁切りバルブ258より下流の位置に接続されている。そして、ベント管254と、縁切りバルブ259とによって、窒素ガスパージ経路が構成される。ベント管254には、フッ化水素供給管31から排出されたフッ化水素ガスが流れる。このフッ化水素ガスは、窒素ガスによってフッ化水素供給管31から排出されたガスであり、窒素ガスも混在している。ベント管254を流れたフッ化水素ガスは、ベント口へ導かれ、キャビネット255外へ放出される。
The
ラインヒーター232は、フッ化水素供給管31と、パージガス供給管253と、ベント管254との側面に、配管の全長に亘って螺旋状に巻き回して取り付けられている。フッ化水素供給管31に取り付けられたラインヒーター232は、フッ化水素ボンベ縁切りバルブ256から電解槽3の入口まで取り付けられ、フッ化水素ボンベ縁切りバルブ256及び縁切りバルブ257にも巻き付けられている。パージガス供給管253に取り付けられたラインヒーター232は、図示しない窒素源の入口からフッ化水素供給管31との接続部まで取り付けられ、縁切りバルブ258にも巻き付けられている。ベント管254に取り付けられたラインヒーター232は、キャビネット255の放出口(図示せず)からパージガス供給管253との接続部まで取り付けられ、縁切りバルブ259にも巻き付けられている。また、図2に示すように、ラインヒーター232は、フッ化水素供給管31と、パージガス供給管253と、ベント管254と、フッ化水素ボンベ縁切りバルブ256と、縁切りバルブ257と、縁切りバルブ258と、縁切りバルブ259の外壁に接して設けられている。このラインヒーター232によって、フッ化水素供給管31と、パージガス供給管253と、ベント管254との内壁及び内部はフッ化水素の沸点以上(約20℃以上)に均一に加熱されている。また、フッ化水素ボンベ縁切りバルブ256、縁切りバルブ257,258,259の内部もフッ化水素の沸点以上に均一に加熱されている。尚、フッ化水素の沸点は、配管内の内圧によって変化することから、考え得る配管内の圧力を想定して加熱する温度(ラインヒーター232の加熱温度)を設定することが好ましい。
The
ラインヒーター232は、第1実施形態の第1ラインヒーターおよび第2ラインヒーターと同様に、直線状のヒーターや螺旋状のヒーターを配管の延設方向に沿って配管に接して設けたり、近接して設けたりしてもよい。また、帯状のヒーターを配管の側面に巻回してもよい。また、フッ化水素ボンベ縁切りバルブ256、縁切りバルブ257,258,259などの熱容量の大きい部位にはその熱容量に応じて加熱量が高められるように設定されていることが好ましい。なお、ラインヒーター232の代わりに、例えば、電熱線を包含した通常のヒーターや、シリコンゴムで絶縁被覆したリボン状のヒーター等を用いてもよい。
Similar to the first line heater and the second line heater of the first embodiment, the
キャビネット255には、フッ化水素ボンベ251と、フッ化水素供給管31と、パージガス供給管253と、ベント管254とが格納されている。また、キャビネット255には、キャビネット255内部へ空気を供給する空気供給口261と、キャビネット255内部の空気を排出する空気排出口262とが形成されている。そして、フッ化水素ボンベ251、配管及びバルブからフッ化水素ガスや窒素ガスが漏れたとき、空気排出口262から排出させ、その後空気供給口261から空気を導入し、キャビネット255内の環境を整える。キャビネット255は移動可能な筐体であり、環境温度の変化などに応じて、フッ化水素供給装置230の設置場所を変えることができる。
The
次に、本実施の形態におけるフッ素ガス発生装置200を作動させたときのフッ化水素供給装置230の作動及びガスの流れを説明する。
Next, the operation of the hydrogen
フッ化水素供給装置230内から陰極室2へフッ化水素を供給するため、縁切りバルブ258及び縁切りバルブ259を閉じ、フッ化水素ガスボンベ縁切りバルブ259及び縁切りバルブ259を開く。これにより、フッ化水素ボンベ251内のフッ化水素ガスが、フッ化水素供給管31を通過して陰極室2へ導入される。このとき、フッ化水素供給管31の内壁及び内部は、ラインヒーター232によってフッ化水素の沸点以上に加熱されているので、フッ化水素供給管31を通過するフッ化水素は液化しない。
In order to supply hydrogen fluoride from the hydrogen
電解槽3内でフッ化水素を含んだ溶融塩の電気分解が行われると、陽極室1では、フッ化水素を含んだフッ素ガスが発生し、発生したフッ素ガスはフッ素ガス発生口7aから放出される。これらのガスは、電解槽縁切りバルブ9aと第1配管8aと除害塔入口縁切りバルブ10aとを有する排出路11aを、通過して第1除害塔5aへ導かれる。そして、第1除害塔5aでフッ化水素が除去される。第1除害塔5aを通過したフッ素ガスは、フッ素ガス発生装置100の外部へと導かれ、貯留槽等で貯留される。
When electrolysis of the molten salt containing hydrogen fluoride is performed in the
一方、陰極室2では、フッ化水素を含んだ水素ガスが発生し、発生した水素ガスは水素ガス発生口7bから放出される。これらのガスは、電解槽縁切りバルブ9bと第2配管8bと除害塔入口縁切りバルブ10bとを有する排出路11bを、通過して第2除害塔5bへ導かれる。そして、第2除害塔5bでフッ化水素が除去される。第2除害塔5bを通過した水素ガスは、フッ素ガス発生装置100の外部へと導かれる。
On the other hand, in the
次に、電気分解を停止し、フッ化水素供給管31のパージを行う作業を説明する。フッ化水素ボンベ縁切りバルブ256、縁切りバルブ257及び縁切りバルブ258を閉じ、縁切りバルブ259を開き、フッ化水素供給管31内に残存したフッ化水素をベント口(図示せず)から放出し、フッ化水素供給管31内を排気する。そして、縁切りバルブ258を開き、縁切りバルブ259を閉じ、図示しない窒素ガス源から窒素ガスをパージガス供給管253へ導入する。窒素ガスは、パージガス供給管253を通過し、フッ化水素供給管31へ流れる。縁切りバルブ259を開くと、フッ化水素供給管31内に残存したフッ化水素ガスが、窒素ガスによってフッ化水素がベント管254へ導かれ、ベント口(図示せず)から放出される。こうして、フッ化水素供給管31内に残存したフッ化水素ガスが、フッ化水素供給管31から排出される。この窒素ガスの導入とフッ化水素供給管31内の排気を繰り返し、フッ化水素供給管31内をパージする。
Next, an operation of stopping the electrolysis and purging the hydrogen
このとき、ラインヒーター232により、パージガス供給管253,ベント管254,縁切りバルブ258及び縁切りバルブ259はフッ化水素の沸点以上(約20℃以上)に加熱されているので、配管やバルブの内部に残存したフッ化水素は、液化することなく、パージガス供給管253,ベント管254,縁切りバルブ258及び縁切りバルブ259を通過し、放出口から放出される。
At this time, the purge
以上のように、本実施の形態のフッ素ガス発生装置200では、ラインヒーター232によってパージガス供給管253,ベント管254,縁切りバルブ258及び縁切りバルブ259の内部が約20℃以上に加熱されているので、パージガス供給管253,ベント管254,縁切りバルブ258及び縁切りバルブ259の内部に残存したフッ素ガスの液化を抑止できる。これによって、パージガス供給管253の入口から冷却された窒素ガスを導入した場合でも、上述のような配管やバルブの内部に残存したフッ素ガスが液化しない。また、ベント管254の出口が急激に冷却された場合でも、窒素ガスとともにベント管254を通過したフッ素ガスが液化しない。したがって、パージガス供給管253及びベント管254の腐食や縁切りバルブ258及び縁切りバルブ259の損傷を軽減し、フッ素ガス発生装置200を長期間連続運転できる。
As described above, in the
また、ラインヒーター232が、フッ化水素供給管31,パージガス供給管253及びベント管254の全長に亘って取り付けられているので、フッ化水素供給管31,パージガス供給管253及びベント管254の内壁及び内部を均一に加熱することができ、配管内の部分的な温度ムラの発生や温度不足によるフッ化水素の固化及び液化を抑止することができる。
Further, since the
続いて、本実施の形態に種々の変更を加えた変形例について説明する。図3,4は、本発明の変形例によるフッ素ガス発生装置の概略構成図である。なお、第1実施形態及び参考実施形態と同様なものに関しては、同符号で示し説明を省略する。 Subsequently, modified examples in which various changes are made to the present embodiment will be described. 3 and 4 are schematic configuration diagrams of a fluorine gas generator according to a modification of the present invention. Note that components similar to those in the first embodiment and the reference embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
〔第1変形例〕
図3に示す第1変形例のフッ素ガス発生装置300では、図2に示す参考実施形態において、キャビネット255の側面にヒーター350が設けられている。ヒーター350は、キャビネット255の側面を包囲した中空円筒状のヒーターであり、キャビネット255の全側面を包囲している。ヒーター350はキャビネット255を外部から加熱し、キャビネット255を恒温槽にしている。これによって、キャビネット255の外部の温度に関わらず、キャビネット255内部の温度が、フッ化水素の沸点以上(20℃以上)に制御される。ヒーター350は、電熱線を包含した通常のヒーターを用いているが、キャビネット255の側面に直接巻き付けるライン状のヒーター等を用いても良い。
[First Modification]
In the
第1変形例のフッ素ガス発生装置300では、第1実施形態に係るフッ素ガス発生装置100及び参考実施形態に係るフッ素ガス発生装置200と同様な効果が得られる。また、ヒーター350によって、キャビネット255が恒温槽になっているので、フッ化水素供給装置230の設置場所の環境温度が急激に変化しても、キャビネット255内部の温度に影響しない。したがって、フッ化水素供給管31,パージガス供給管253,ベント管254,縁切りバルブ257,縁切りバルブ258及び縁切りバルブ259の内部を常に沸点以上(20℃以上)にすることができ、フッ化水素供給装置230内を通過するフッ化水素が固化及び液化しないので、フッ化水素供給装置の配管やバルブなどの機器の腐食を抑え、これらの機器の長寿命化を図れる。また、フッ化水素供給装置230内の略全側面がヒーター350により加熱されているので、フッ化水素供給装置230内を均質に加熱できる。
In the
〔第2変形例〕
第2変形例では、図4に示すように、第1実施形態において、フッ化水素供給装置30の代わりに、参考実施形態及び第1変形例において用いたフッ化水素供給装置230が用いられている。また、参考実施形態及び第1変形例におけるフッ化水素供給装置230のキャビネット255の側面に、第1変形例と同様のヒーター350が設けられている。
[Second Modification]
In the second modification, as shown in FIG. 4, in the first embodiment, the hydrogen
第2変形例のフッ素ガス発生装置400では、第1実施形態のフッ素ガス発生装置100と同様の効果が得られる。また、参考実施形態のフッ素ガス発生装置200及び第1変形例のフッ素ガス発生装置300と同様に、フッ化水素供給装置230内のフッ化水素の液化を抑止できるので、残存したフッ化水素による、フッ化水素供給管31,パージガス供給管253及びベント管254の損傷、及び、縁切りバルブ257,縁切りバルブ258及び縁切りバルブ259の損傷を抑止できる。
In the
〔第3変形例〕
第3変形例では、図5に示すように、第1実施形態において、フッ化水素供給管31の途中に、マスフローコントローラー501が設けられている。また、フッ化水素供給管31において、マスフローコントローラー501の上流の位置でパージ用ガス供給管502と接続している。また、フッ化水素供給管31及びパージ用ガス供給管502の全長に亘って、ラインヒーター510が巻き付けられている。なお、本変形例では、フッ化水素供給管31をパージするためのガスとして、窒素ガスを用いている。
[Third Modification]
In the third modification, as shown in FIG. 5, in the first embodiment, a
マスフローコントローラー501は、フッ化水素供給管31の入口から導入されたフッ化水素ガス及びパージ用ガス供給管502から導入された窒素ガスの流速及び流量を計測する。また、電解槽3へ供給するフッ化水素ガス及び窒素ガスの流速及び流量を制御する。マスフローコントローラー501は、第2液面検知センサ20及び圧力計22から指令を受けて、ガス流量を制御する。
The
陰極室2の電解浴4の液面が陽極室1の電解浴4の液面よりも高くなった場合は、圧力計21が平常時よりも高い圧力を検知し、第2液面検知センサ20が1番短いセンサ又は2番目に短いセンサにより液面高さを検知する。これらの結果が、マスフローコントローラー501に伝えられ、マスフローコントローラー501はフッ化水素の供給量を減らすとともに、窒素ガスの供給量を増やし、フッ化水素供給管31が負圧にならないようにする。一方、陰極室2の電解浴4の液面が陽極室1の電解浴4よりも低くなった場合は、圧力計21が平常時よりも低い圧力を検知し、また、第2液面検知センサ20が1番長いセンサ又は2番目に長いセンサにより液面の高さを検知する。そして、これらの結果が、マスフローコントローラー501に伝えられ、マスフローコントローラー501はフッ化水素の供給量を増やし、窒素ガスの流量を減らす。このように、電解浴4の液面の変動に応じて、電解槽3に供給するフッ化水素ガス及び窒素ガスの流速や流量を制御する。
When the liquid level of the
パージ用ガス供給管502は、一端が図示しない窒素ガス供給源に接続され、他端が縁切りバルブ503を介してフッ化水素供給管31に接続されている。縁切りバルブ503は、フッ化水素供給管31上に設けられ、フッ化水素の供給を止めるときに閉じられる。
One end of the purge
パージ用ガス供給管502から導入された窒素ガスは、フッ化水素の供給を中止したり、フッ化水素の供給量を減らしたりするときに、フッ化水素供給管31が負圧になることを防ぐために導入される。フッ化水素供給管31が負圧になると、電解浴がフッ化水素供給管31へ逆流し、逆流した電解浴がフッ化水素供給管31で固化することによって、フッ化水素供給管31が閉塞したり、マスフローコントローラー501及び縁切りバルブ503などが閉塞又は腐食したりする。このような配管や機器の閉塞や損傷を防ぐため、窒素ガスを導入し、フッ化水素供給管31内が負圧になることを防ぐ。
The nitrogen gas introduced from the purge
ラインヒーター510は、フッ化水素供給管31とパージ用ガス供給管502との全長,マスフローコントローラー501及び縁切りバルブ503,504に巻き付けられている。これによって、フッ化水素供給管31及びパージ用ガス供給管502の内壁及び内部が、フッ化水素の沸点以上の温度に加熱される。また、マスフローコントローラー501及び縁切りバルブ503,504の内部も同様にフッ化水素の沸点以上の温度に加熱される。これによって、フッ化水素供給管31とパージ用ガス供給管502との全長,マスフローコントローラー501及び縁切りバルブ503,504内に存在するフッ化水素が液化せず、フッ化水素によるこれらの配管及びバルブの腐食が起こらない。なお、本実施の形態においては、フッ化水素供給管31に巻き付けられるラインヒーター510は、電解槽3の入口まで巻き付けられている。また、配管及びバルブの周囲に、ラインヒーター510とともに保温材を取り付けてもよい。これによって、フッ化水素の沸点以上(約20℃以上)の温度を長時間安定して維持できる。
The
フッ化水素供給管31は、図示しないフッ化水素供給源から電解槽3へフッ化水素ガスを供給する配管であるが、本変形例においては、フッ化水素ガスの供給を停止する時、パージ用ガス供給管502が接続された接続位置から電解槽3に至るまでの配管(フッ化水素供給管31)が、参考実施形態及び変形例1,2におけるベント管254にもなる。電解槽3へのフッ化水素ガスの供給を停止し、パージ用ガス供給管502から窒素ガスを導入すると、窒素ガスがフッ化水素供給管31(バルブ503より下流のフッ化水素供給管31)を流れる。この窒素ガスによって(バルブ503より下流の)フッ化水素供給管31内に残存したフッ化水素ガスが電解槽3内へ送られる。フッ化水素供給管31内において、フッ化水素ガスが窒素ガスに置換されて浄化される。
The hydrogen
第3変形例のフッ素ガス発生装置500では、第1実施形態のフッ素ガス発生装置100と同様の効果が得られる。また、フッ化水素供給管31とパージ用ガス供給管502との全長、マスフローコントローラー501及び縁切りバルブ503、縁切りバルブ504の内部が、ラインヒーター510によりフッ化水素の沸点以上の温度に加熱されているので、これらの配管及びバルブに残存したフッ化水素の液化を抑止できる。また、パージ用ガス供給管502の内部が加熱されるので、加熱された窒素ガスをフッ化水素供給管31に供給できる。これによって、パージ用ガス供給管502の入口から冷却された窒素ガスが供給された場合でも、フッ化水素供給管31から導入されたフッ化水素ガスが液化しないので、フッ化水素供給管31,マスフローコントローラー501,フッ化水素ガス縁切りバルブ503の内部がフッ素ガスにより腐食せず、これらの機器の長寿命化を図ることができる。
In the
また、フッ化水素供給管31が、フッ化水素供給源から電解槽3へフッ化水素を供給するだけでなく、電解槽3へフッ化水素ガスの供給を停止するときには、ベント管として使用できるので、ベント管を設けることなく、簡易な構成によって、フッ化水素供給管31、マスフローコントローラー501、フッ化水素ガス縁切りバルブ503の腐食を軽減しながら、フッ化水素供給管31を浄化することができる。
The hydrogen
尚、上記実施形態及び変形例においては、いずれもフッ化水素供給管31の加熱は電解槽3の入り口まで行うようにしているが、電解槽3内で電解浴4より上方(上流)のフッ化水素供給管31を槽内管加熱手段(図示せず)により、電解浴4の溶融塩の融点以上に加熱するようにしておいてもよい。フッ化水素供給管31内の温度は、電解浴4の液面より上では溶融塩の温度より低くなることがあり、僅かながらであってもフッ化水素供給管31内を逆流した溶融塩が電解浴4の液面より上に逆流すると固化による閉塞が生じる恐れがある。槽内管加熱手段を設けて電解浴4の液面より上方を溶融塩の融点以上に加熱することで、上記のような閉塞の発生を未然に防ぐようにしてもよい。
In both the above embodiment and the modification, the heating of the hydrogen
次に、実施例を用いて説明する。 Next, a description will be given using an example.
(実施例1)
図1に示した本実施形態に係るフッ素ガス発生装置において、圧力調整バルブ及び冷却ファンを取り付けていないフッ素ガス発生装置の運転を行った。ここで、第1ラインヒーター及び第2ラインヒーターは、電解浴の融点以上であり、且つ、約80℃以下で加熱させた。また、第1配管及び第2配管は、配管径が9.525×10−3mのものを用いた。
Example 1
In the fluorine gas generator according to the present embodiment shown in FIG. 1, the fluorine gas generator without the pressure adjustment valve and the cooling fan was operated. Here, the first line heater and the second line heater were heated above the melting point of the electrolytic bath and at about 80 ° C. or lower. Moreover, the 1st piping and 2nd piping used the piping diameter of 9.525 * 10 < -3 > m.
(比較例1)
実施例1で使用したフッ素ガス発生装置において、第1ラインヒーター及び第2ラインヒーターを取り付けていないフッ素ガス発生装置の運転を行った。なお、第1ラインヒーター及び第2ラインヒーターを取り付けていない条件を除き、実施例1と同様の条件で運転を行った。実施例1及び比較例1の結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
In the fluorine gas generator used in Example 1, the fluorine gas generator without the first line heater and the second line heater was operated. In addition, it drive | operated on the conditions similar to Example 1 except the conditions which have not attached the 1st line heater and the 2nd line heater. The results of Example 1 and Comparative Example 1 are shown in Table 1.
表1から、実施例1は、通常用いられる配管径12.7×10−3mを有した配管よりも小さい配管径を有した配管を用いているにも関わらず、累積電気量が72000Ah以上で運転できることができた。これにより、電解浴のミストが電解槽縁切りバルブ、第1配管、第2配管及び除害塔入り口縁切りバルブで固化して詰まることが抑止されて、フッ素ガス発生装置をより長く連続して運転できることがわかった。一方、比較例1では、電解浴のミストが、解槽縁切りバルブ、第1配管、第2配管及び除害塔入り口縁切りバルブを通過する際に固化して詰まったため、累積電気量が35911Ahでフッ素ガス発生装置の運転が停止した。 From Table 1, although Example 1 uses the pipe | tube with a pipe diameter smaller than the pipe | tube with a pipe diameter of 12.7 * 10 < -3 > m normally used, accumulated electric quantity is 72000 Ah or more. I was able to drive. As a result, it is possible to prevent the mist of the electrolytic bath from being solidified and clogged by the electrolytic cell edge cutting valve, the first piping, the second piping, and the detoxification tower inlet edge cutting valve, and to be able to operate the fluorine gas generator longer and continuously. I understood. On the other hand, in Comparative Example 1, since the mist of the electrolytic bath solidified and clogged when passing through the thawing edge cutting valve, the first piping, the second piping, and the detoxification tower inlet cutting valve, the accumulated amount of electricity was 35911 Ah and fluorine. The gas generator has stopped operating.
(実施例2)
実施例1で利用したフッ素ガス発生装置において、図1に示すように第1除害塔の下流の導出路の途中に第1圧力調整バルブを設け、第2除害塔の下流の導出路の途中に第2圧力調整バルブを設け、フッ素ガス発生装置を運転させた。ここで、第1圧力調整バルブ及び第2圧力調整バルブが設けられている位置はいずれも、約35℃であった。
(Example 2)
In the fluorine gas generator used in Example 1, as shown in FIG. 1, a first pressure adjusting valve is provided in the middle of the outlet passage downstream of the first detoxification tower, and the outlet of the outlet passage downstream of the second elimination tower. A second pressure regulating valve was provided on the way to operate the fluorine gas generator. Here, both the positions where the first pressure adjustment valve and the second pressure adjustment valve were provided were about 35 ° C.
(比較例2)
実施例1で利用したフッ素ガス発生装置において、電解槽縁切りバルブと除害塔入口縁切りバルブとの間の第1ラインヒーターおよび第2ラインヒーターが取り付けられている第1配管及び第2配管のそれぞれに圧力調整バルブを設け、フッ素ガス発生装置を運転させた。ここで、圧力調整バルブの設けられているそれぞれの位置は、いずれも約70℃であった。
(Comparative Example 2)
In the fluorine gas generator used in Example 1, each of the first pipe and the second pipe to which the first line heater and the second line heater are attached between the electrolytic cell edge cutting valve and the detoxification tower inlet edge cutting valve, respectively. A pressure regulating valve was provided to operate the fluorine gas generator. Here, each position where the pressure adjusting valve was provided was about 70 ° C.
実施例2では、約6ヶ月以上圧力調整バルブを使用できることがわかった。一方、比較例2では、圧力調整バルブの寿命が約3ヶ月となり、約70℃の高温化において、フッ素ガスやフッ化水素ガスの反応性が高まり、圧力調整バルブのシール部分に用いられた樹脂が侵食されていることがわかった。 In Example 2, it was found that the pressure regulating valve could be used for about 6 months or longer. On the other hand, in Comparative Example 2, the life of the pressure regulating valve is about 3 months, and the reactivity of fluorine gas and hydrogen fluoride gas increases at a high temperature of about 70 ° C., and the resin used for the seal portion of the pressure regulating valve. Was found to have been eroded.
(実施例3)
実施例2で用いたフッ素ガス発生装置において、冷却ファンを電解槽の周辺に設けた、図1に示す本実施形態に係るフッ素ガス発生装置を用いて、フッ素ガス発生装置の運転を行った。ここで、電解浴加温ヒーターと、冷却ファンとを作動させて、電解浴温度を85〜87℃になるように調整した。
(Example 3)
In the fluorine gas generator used in Example 2, the fluorine gas generator was operated using the fluorine gas generator according to the present embodiment shown in FIG. 1 in which a cooling fan was provided around the electrolytic cell. Here, the electrolytic bath heating heater and the cooling fan were operated to adjust the electrolytic bath temperature to 85 to 87 ° C.
実施例3では、電解浴の飛散を抑えることができることがわかった。また、電解浴加温ヒーターと、冷却ファンとによって電解槽自体の温度も調整することができ、図示しない電解槽のガスシール部分や付属のバルブの劣化、腐食を抑えて、寿命を長くできることがわかった。 In Example 3, it turned out that scattering of an electrolytic bath can be suppressed. In addition, the temperature of the electrolytic cell itself can be adjusted by the electrolytic bath warming heater and the cooling fan, and the life can be extended by suppressing deterioration and corrosion of the gas seal part of the electrolytic cell (not shown) and the attached valve. all right.
(実施例4)
図2に示す参考実施形態に係るフッ素ガス発生装置を用いて、フッ化水素供給装置のサイクルパージを行った。ここで、ラインヒーター232によりフッ化水素供給管31,パージガス供給管253,ベント管254,フッ化水素ボンベ縁切りバルブ256,縁切りバルブ257,258,259の内部を20℃以上に加温した。なお、サイクルパージとは、縁切りバルブ256および縁切りバルブ257を閉じ、縁切りバルブ259を開き、フッ化水素供給管31を排気し、パージガス供給管253から窒素ガスを導入した後に縁切りバルブ259を開き、再度フッ化水素供給管31内を排気するというように、フッ化水素供給管31内の排気とフッ化水素供給管31内への窒素ガスの導入とを繰り返すことによってフッ化水素供給管31内をパージする方法である。そして、ガスベント用縁切りバルブがリークを起こすまでのメンテナンス回数を測定した。
Example 4
Using the fluorine gas generator according to the reference embodiment shown in FIG. 2, a cycle purge of the hydrogen fluoride supply device was performed. Here, the inside of the hydrogen
(実施例5)
図3に示す第1変形例に係るフッ素ガス発生装置を用いて、フッ化水素供給装置のサイクルパージ及びキャビネット内のガスフローを行った。なお、実施例4と同様に、ラインヒーターによりフッ化水素供給管31,パージガス供給管253,ベント管254,フッ化水素ボンベ縁切りバルブ256及び縁切りバルブ257,258,259の内部を20℃以上に加温した。また、キャビネット255の周囲に設けたヒーター350で加熱してキャビネット255を恒温層にし、キャビネット255内部の温度が常に20℃以上になるように設定した。そして、実施例4と同様に、ベント管254の途中に設けた縁切りバルブ259がリークを起こすまでのメンテナンス回数を測定した。
(Example 5)
Using the fluorine gas generator according to the first modification shown in FIG. 3, the cycle purge of the hydrogen fluoride supply device and the gas flow in the cabinet were performed. As in Example 4, the insides of the hydrogen
(比較例3)
図2に示す参考実施形態に係るフッ素ガス発生装置を用いて、フッ化水素供給装置のサイクルパージ及びキャビネット内のガスフローを行った。ここで、ラインヒーターによる加熱は行わなかった。なお、キャビネットの環境温度は18度であった。そして、ベント管254の途中に設けた縁切りバルブ259がリークを起こすまでのメンテナンス回数を測定した。これらの結果を表2に示す。
(Comparative Example 3)
Using the fluorine gas generator according to the reference embodiment shown in FIG. 2, the cycle purge of the hydrogen fluoride supply device and the gas flow in the cabinet were performed. Here, heating by a line heater was not performed. The environmental temperature of the cabinet was 18 degrees. And the frequency | count of the maintenance until the
表2から、ラインヒーターにより配管及びバルブの内部をフッ化水素の沸点以上の温度に設定した実施例4は、比較例3に比べメンテナンス回数が多く、バルブが損傷しにくいことがわかる。また、実施例5は、キャビネット内部がフッ化水素の沸点以上の温度に保持されているので、フッ化水素の液化をさらに防ぐことができ、バルブの寿命がさらに長くなり、メンテナンス回数がさらに増加している。これに対して、比較例3は、メンテナンス回数が少なく、配管や縁切りバルブ259内部に残存したフッ化水素が液化し、縁切りバルブ259がフッ化水素により腐食していることがわかる。これらの結果から、ラインヒーターやキャビネットの周囲にヒーターを用いることによって、フッ化水素の液化が防がれ、バルブの損傷を軽減し、バルブの長寿命化を図ることができる。
From Table 2, it can be seen that Example 4 in which the inside of the piping and the valve was set to a temperature equal to or higher than the boiling point of hydrogen fluoride by the line heater has a larger number of maintenance than the Comparative Example 3, and the valve is not easily damaged. Further, in Example 5, since the inside of the cabinet is maintained at a temperature equal to or higher than the boiling point of hydrogen fluoride, liquefaction of hydrogen fluoride can be further prevented, the life of the valve is further prolonged, and the number of maintenance is further increased. is doing. In contrast, in Comparative Example 3, it can be seen that the maintenance frequency is small, hydrogen fluoride remaining in the piping and the edge-cutting
(実施例6)
図5に示す第3変形例に係るフッ素ガス発生装置を用いて、マスフローコントローラー501の作動を調べた。なお、フッ化水素供給管31,パージ用ガス供給管502,マスフローコントローラー501及び縁切りバルブ503,504にラインヒーター510及び保温材を取り付け、内部がフッ化水素の沸点以上(約20℃以上)の温度になるようにした。なお、フッ素ガス発生装置の運転は、縁切りバルブ504を閉じ、縁切りバルブ503を開き、フッ化水素をフッ化水素供給管31へ導入した後、縁切りバルブ503を閉じ、縁切りバルブ504を開き、窒素ガスを導入することによって、フッ化水素供給管31の縁切りバルブ503より下流の位置をパージし、その後、再び、縁切りバルブ504を閉じ、ガス縁切りバルブ503を開き、フッ化水素をフッ化水素供給管31へ導入することを繰り返し行った。そして、フッ化水素ガスと窒素ガスとの導入の切り替え時のマスフローコントローラー501の作動を調べた。
(Example 6)
The operation of the
(比較例4)
図5に示す第3変形例に係るフッ素ガス発生装置を、ラインヒーター510を作動させることなく運転させた。なお、実施例6と同様に、フッ素ガス発生装置置を作動させ、マスフローコントローラー501の作動を調べた。
(Comparative Example 4)
The fluorine gas generator according to the third modification shown in FIG. 5 was operated without operating the
比較例4では、導入するガスの切り替え時にマスフローコントローラーが不安定に作動していた。これは、フッ化水素供給管やマスフローコントローラーの内部に残存したフッ化水素が液化し、このフッ化水素によりマスフローコントローラーが腐食したためと考えられる。また、フッ化水素が液化したことによってマスフローコントローラーの腐食が促進していることが考えられる。これに対して、実施例6では、比較例4のような不安定な動作は見られず、安定して作動していた。これによって、ラインヒーター及び保温材によって、フッ化水素供給管,マスフローコントローラー及び縁切りバルブ内部に存在したフッ化水素ガスが液化しなかったため、フッ化水素によるマスフローコントローラーの損傷を抑止できていることがわかる。 In Comparative Example 4, the mass flow controller was operating in an unstable manner when switching the gas to be introduced. This is presumably because the hydrogen fluoride remaining in the hydrogen fluoride supply pipe and the mass flow controller was liquefied and the mass flow controller was corroded by this hydrogen fluoride. Moreover, it is considered that the corrosion of the mass flow controller is promoted by the liquefaction of hydrogen fluoride. On the other hand, in Example 6, the unstable operation | movement like the comparative example 4 was not seen, but it operate | moved stably. As a result, the hydrogen fluoride gas existing in the hydrogen fluoride supply pipe, the mass flow controller, and the edge cutting valve was not liquefied by the line heater and the heat insulating material, so that damage to the mass flow controller due to hydrogen fluoride could be suppressed. Recognize.
以上、本発明の実施形態のフッ素ガス発生装置について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限られるものではなく、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な変更が可能なものである。例えば、図1に示す本実施形態において、槽加熱手段としてラインヒーターを用いる代わりに、電解槽縁切りバルブ、第1配管、第2配管及び除害塔入口縁切りバルブ全体を覆うシート状のヒーターを用いたり、電解槽縁切りバルブ、第1配管、第2配管及び除害塔入口縁切りバルブ全体の周りにヒーターを配置したりしてもよい。 As mentioned above, although the fluorine gas generator of embodiment of this invention was demonstrated, this invention is not limited to the above-mentioned embodiment, As long as it describes in the claim, various changes are possible. . For example, in the present embodiment shown in FIG. 1, instead of using a line heater as the tank heating means, a sheet heater that covers the entire electrolytic cell edge cutting valve, first piping, second piping, and abatement tower inlet edge cutting valve is used. Alternatively, a heater may be arranged around the entire electrolytic cell edge cutting valve, the first piping, the second piping, and the detoxification tower inlet edge cutting valve.
また、本実施形態において、槽加熱手段として、電解槽の側面を囲むように設けた電解浴加温ヒーターを用いたが、代わりに、ライン状のヒーターを用いて、電解槽に巻き付けてもよい。これによっても、同様の効果が得られる。 In the present embodiment, the electrolytic bath warming heater provided so as to surround the side surface of the electrolytic cell is used as the cell heating means. Instead, a line heater may be used to wrap around the electrolytic cell. . This also provides the same effect.
また、本実施形態において、槽冷手段として用いたファン等の空冷手段の代わりに、金属管を電解槽に巻き付けた水冷手段等を用いてもよい。 Moreover, in this embodiment, instead of air cooling means such as a fan used as a tank cooling means, a water cooling means in which a metal tube is wound around an electrolytic cell may be used.
また、本実施形態及び本変形例において、フッ化水素供給管31に巻き付けられたラインヒーター232は、フッ化水素供給管31の下流において電解槽3の入口まで巻き付けられているが、電解槽3内においてフッ化水素供給管31の電解浴4に接触する手前まで巻き付けてもよい。
Further, in the present embodiment and this modification, the
上述の実施形態及び変形例において、バルブは、手動バルブ、自動バルブ、又はこれらを合わせて用いてもよく、これらのいずれのバルブを用いても、上述の実施形態及び変形例と同様の効果が得られる。 In the embodiment and the modification described above, the valve may be a manual valve, an automatic valve, or a combination thereof. Even if any of these valves is used, the same effect as in the embodiment and the modification described above can be obtained. can get.
1 陽極室
2 陰極室
3 電解槽
4 電解浴
5a 第1除害塔
5b 第2除害塔
6a 第1圧力調整バルブ
6b 第2圧力調整バルブ
7a フッ素ガス発生口
7b 水素ガス発生口
8a 第1配管
8b 第2配管
9a、9b電解槽縁切りバルブ
10a、10b除害塔入口縁切りバルブ
11a、11b 排出路
12a 第1ラインヒーター
12b 第2ラインヒーター
13 電解浴加温ヒーター
14 電解浴加温ヒーター保護カバー
15 冷却ファン
16 隔壁
17 陽極
18 陰極
19 第1液面検知センサ
20 第2液面検知センサ
21、22 圧力計
23a、23b 導出路
30,230 フッ化水素発生装置
31 フッ化水素供給管
232 ラインヒーター
251 フッ化水素ボンベ
253 パージガス供給管
254 ベント管
257,258,259 縁切り弁
350 ヒーター
100,200,300,400,500 フッ素ガス発生装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
20 Second liquid
257, 258, 259 Edge cut
Claims (10)
前記電解浴を電気分解して発生させたフッ素含有ガスを通過させる排出路と、
前記フッ素含有ガスから不純物を除去する除害塔とを有し、
前記排出路が、前記電解槽の気相部分と、前記除害塔とを連通するように設けられているものであり、
前記排出路内壁及び/又は前記排出路を通過するガスを、前記電解浴の融点以上に加熱する第1加熱手段を有しているものであることを特徴とするフッ素ガス発生装置。 A fluorine gas generator comprising an electrolytic cell containing an electrolytic bath made of a molten salt containing hydrogen fluoride,
A discharge passage for passing a fluorine-containing gas generated by electrolyzing the electrolytic bath;
A detoxification tower for removing impurities from the fluorine-containing gas,
The discharge path is provided to communicate the gas phase portion of the electrolytic cell and the detoxification tower;
A fluorine gas generator having a first heating means for heating a gas passing through the discharge passage inner wall and / or the discharge passage to a temperature equal to or higher than a melting point of the electrolytic bath.
前記圧力調節用バルブが、シール部分を有し、
前記シール部分にフッ素樹脂が用いられていることを特徴とする請求項1に記載のフッ素ガス発生装置。 It has a pressure regulating valve provided downstream from the detoxification tower,
The pressure regulating valve has a seal portion;
The fluorine gas generator according to claim 1, wherein a fluorine resin is used for the seal portion.
前記第1加熱体が、前記排出路の全長に亘って設けられていることを特徴とする請求項1又は3に記載のフッ素ガス発生装置。 The first heating means is a first heating body provided in contact with an outer wall of the discharge path;
The said 1st heating body is provided over the full length of the said discharge path, The fluorine gas generator of Claim 1 or 3 characterized by the above-mentioned.
前記フッ化水素供給装置が、
フッ化水素供給源と、
前記フッ化水素供給源から前記電解槽にフッ化水素を供給するフッ化水素供給路と、
前記フッ化水素供給路に不活性ガスを導入するパージ用ガス供給路と、
前記導入された不活性ガスにより前記フッ化水素供給路からフッ化水素を排出させる不活性ガス排出経路とを有しており、
前記パージ用ガス供給路及び前記不活性ガス排出経路を通過するガスをフッ化水素の沸点以上の温度に加熱する第2加熱手段を有していることを特徴とする請求項1,3又は4のいずれか1項に記載のフッ素ガス発生装置。 And a hydrogen fluoride supply device for supplying hydrogen fluoride to the electrolytic bath,
The hydrogen fluoride supply device is
A hydrogen fluoride source,
A hydrogen fluoride supply path for supplying hydrogen fluoride from the hydrogen fluoride supply source to the electrolytic cell;
A purge gas supply path for introducing an inert gas into the hydrogen fluoride supply path;
An inert gas discharge path for discharging hydrogen fluoride from the hydrogen fluoride supply path by the introduced inert gas;
5. The second heating means for heating the gas passing through the purge gas supply path and the inert gas discharge path to a temperature equal to or higher than the boiling point of hydrogen fluoride. The fluorine gas generator according to any one of the above.
前記第2加熱体が、前記パージ用ガス供給路及び前記不活性ガス排出経路の全長に亘って設けられていることを特徴とする請求項5に記載のフッ素ガス発生装置。 The second heating means is a second heating body provided in contact with outer walls of the purge gas supply path and the inert gas discharge path;
The fluorine gas generator according to claim 5, wherein the second heating body is provided over the entire length of the purge gas supply path and the inert gas discharge path.
前記フッ化水素供給装置が、
前記フッ化水素供給源と、前記フッ化水素供給路と、前記パージ用ガス供給路と、前記不活性ガス排出経路とを有すると共に、少なくともフッ化水素供給源と、前記フッ化水素供給路と、前記パージ用ガス供給路との全てを加熱する第3加熱手段を有していることを特徴とする請求項1,3又は4のいずれか1項に記載のフッ素ガス発生装置。 And a hydrogen fluoride supply device for supplying hydrogen fluoride to the electrolytic bath,
The hydrogen fluoride supply device is
The hydrogen fluoride supply source, the hydrogen fluoride supply path, the purge gas supply path, and the inert gas discharge path, and at least a hydrogen fluoride supply source and the hydrogen fluoride supply path 5. The fluorine gas generator according to claim 1, further comprising third heating means for heating all of the purge gas supply path.
前記第3加熱体が、前記フッ化水素供給路及び前記パージ用ガス供給路の全長に亘って設けられていることを特徴とする請求項7に記載のフッ素ガス発生装置。 The third heating means is a third heating body provided in contact with outer walls of the hydrogen fluoride supply path and the purge gas supply path;
The fluorine gas generator according to claim 7, wherein the third heating body is provided over the entire length of the hydrogen fluoride supply path and the purge gas supply path.
前記不活性ガス排出経路において、前記フッ化水素の供給停止時に、前記フッ化水素が前記フッ化水素供給路から導入された不活性ガスに置換可能となされていることを特徴とする請求項5〜8のいずれか1項に記載のフッ素ガス発生装置。 In the hydrogen fluoride supply path, a part from the middle of the hydrogen fluoride supply path to the electrolytic cell serves as the inert gas discharge path,
6. The inert gas discharge path, wherein the hydrogen fluoride can be replaced with an inert gas introduced from the hydrogen fluoride supply path when the supply of hydrogen fluoride is stopped. The fluorine gas generator of any one of -8.
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