JP2009239051A - Substrate bonding tape - Google Patents

Substrate bonding tape Download PDF

Info

Publication number
JP2009239051A
JP2009239051A JP2008083753A JP2008083753A JP2009239051A JP 2009239051 A JP2009239051 A JP 2009239051A JP 2008083753 A JP2008083753 A JP 2008083753A JP 2008083753 A JP2008083753 A JP 2008083753A JP 2009239051 A JP2009239051 A JP 2009239051A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
bonding tape
substrate bonding
sheet
tape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008083753A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Munetoshi Irisawa
宗利 入沢
Yasuo Kaneda
安生 金田
Kunihiro Nakagawa
邦弘 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP2008083753A priority Critical patent/JP2009239051A/en
Publication of JP2009239051A publication Critical patent/JP2009239051A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate bonding tape which neither breaks nor peels and so on even when a plurality of sheet type substrates are connected into a long-sized substrate and subjected to circuit formation processing. <P>SOLUTION: The substrate bonding tape is used for a method of connecting the plurality of sheet type substrates into the long-sized substrate and performing the circuit formation processing, and has thermosetting adhesive layers stacked on a base. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、シート状基板を複数枚連結して長尺状基板にして回路形成処理を行う方法に使用する基板接合テープに関する。   The present invention relates to a substrate bonding tape used in a method of connecting a plurality of sheet-like substrates to form a long substrate to perform a circuit forming process.

近年、フレキシブル基板は、携帯電話、液晶ディスプレイ、デジタルカメラ、ハードディスクその他多くの電子機器で使用されている。その屈曲性ゆえに、ヒンジ部や可動部に使用されていて、コンパクトに機器内に基板を収納するために不可欠な存在となっている。しかし、フレキシブル基板を製造する場合、シート状基板はその屈曲性のため搬送工程において、巻き付き、落下、斜行等の搬送トラブルが多発する。屈曲性のないリジッドなプリント基板の製造で使用されている単純な搬送機構では、フレキシブル基板のシート状基板を搬送することができない。   In recent years, flexible substrates have been used in mobile phones, liquid crystal displays, digital cameras, hard disks, and many other electronic devices. Because of its flexibility, it is used for hinges and movable parts, and is indispensable for compactly storing substrates in equipment. However, when a flexible substrate is manufactured, the sheet-like substrate is flexible and frequently causes troubles such as winding, dropping, and skewing in the conveyance process. A simple transport mechanism used in manufacturing a rigid printed circuit board having no flexibility cannot transport a sheet-like substrate of a flexible substrate.

フレキシブル基板の厚みは今後ますます薄くなると予想されており、搬送性を確保するためには、ロール・トゥ・ロール加工が求められている。しかしながら、製品を最終形態に加工するまで、非常に多くの工程が存在し、すべての工程でロール・トゥ・ロール加工するには莫大な設備投資が必要である。一方、シート状基板は加工しやすく、また、品質的にもシート状基板で行った方が好ましい工程もあり、既存のシート状基板対応の設備を使用したいという要望もある。例えば、穴あけ工程は、シート状基板を重ねてドリル穿孔またはレーザー穿孔した方が効率が良い。また、めっき工程は立てかけて処理した方がめっきむらがなく、また、積層工程はシート状基板で行った方が位置合わせ精度が良い。このように、シート状基板で加工したり、長尺状基板で加工したりと、各工程に見合った状態で加工することが望まれている。   The thickness of the flexible substrate is expected to become thinner and thinner in the future, and roll-to-roll processing is required to ensure transportability. However, there are numerous processes until the product is processed into a final form, and enormous capital investment is required for roll-to-roll processing in all processes. On the other hand, the sheet-like substrate is easy to process, and there are also processes that are preferably performed on the sheet-like substrate in terms of quality, and there is a demand for using existing equipment for sheet-like substrates. For example, the drilling step is more efficient when the sheet-like substrate is stacked and drilled or laser drilled. In addition, the plating process is more uneven when treated in a standing manner, and the alignment accuracy is better when the lamination process is performed on a sheet-like substrate. Thus, it is desired to process in a state suitable for each process, such as processing with a sheet-like substrate or processing with a long substrate.

そのため、一部の工程はシート状基板で加工し、その後、シート状基板を連結して長尺状基板として加工する方法が提案されている(特許文献1〜4参照)。例えば、シート状基板をレーザー穿孔し、その後、テープで連結して長尺状基板にする。長尺状基板として、めっき工程、ドライフィルムフォトレジストのラミネートあるいは塗布工程、パターン露光工程、アルカリ現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程を経た後、シート状基板に分離するというフローが挙げられる。   Therefore, a method has been proposed in which a part of the process is processed with a sheet-like substrate, and then the sheet-like substrate is connected to be processed as a long substrate (see Patent Documents 1 to 4). For example, laser drilling is performed on a sheet-like substrate, and then connected with a tape to form a long substrate. The long substrate includes a flow of separation into a sheet-like substrate after a plating step, a dry film photoresist lamination or coating step, a pattern exposure step, an alkali development step, an etching step, and a resist stripping step.

シート状基板を連結して長尺状基板とし加工処理する場合、強いテンションやねじれやゆがみによって、基板接合テープが切断されない必要があり、また使用する薬液、例えば、有機溶剤、アルカリ液、酸液等に対して耐性が必要である。さらに、熱プレス等の高温プロセスに使用される場合もあり、高温領域においても、連結部分が剥がれない必要がある。しかしながら、特許文献1〜4に記載の基板接合テープでは、十分な接着強度、薬品耐性および高温耐性がなく、基板接合テープの剥がれや切断が発生しやすいという問題があった。
特開2004−43848号公報 特開2003−342543号公報 特開2002−164639号公報 特開平9−232724号公報
When processing a long substrate by connecting sheet-like substrates, the substrate bonding tape must not be cut due to strong tension, twisting or distortion, and chemicals used, such as organic solvents, alkaline solutions, acid solutions Tolerance is necessary. Furthermore, it may be used in a high-temperature process such as a hot press, and it is necessary that the connecting portion does not peel off even in a high-temperature region. However, the substrate bonding tapes described in Patent Documents 1 to 4 have a problem in that they do not have sufficient adhesive strength, chemical resistance, and high temperature resistance, and the substrate bonding tape is easily peeled off or cut.
JP 2004-43848 A JP 2003-342543 A JP 2002-164039 A Japanese Patent Laid-Open No. 9-232724

本発明の課題は、シート状基板を複数枚連結して長尺状基板にして回路形成処理を実施したとしても、切断および剥がれ等が発生しない基板接合テープを提供するものである。   An object of the present invention is to provide a substrate bonding tape that does not cause cutting and peeling even when a circuit forming process is performed by connecting a plurality of sheet-like substrates to form a long substrate.

本発明者らは検討した結果、課題を解決することができる本発明の基板接合テープを発明するに到った。即ち、本発明の基板接合テープは、シート状基板を複数枚連結して長尺状基板にして回路形成処理を行う方法に使用する基板接合テープであって、支持体に熱硬化性粘着層が積層されてなる基板接合テープである。   As a result of investigations, the present inventors have invented the substrate bonding tape of the present invention capable of solving the problems. That is, the substrate bonding tape of the present invention is a substrate bonding tape used in a method of performing circuit formation processing by connecting a plurality of sheet-shaped substrates to form a long substrate, and a thermosetting adhesive layer is provided on a support. This is a laminated substrate bonding tape.

また、上記支持体が銅箔である上記の基板接合テープである。   Moreover, it is said board | substrate joining tape whose said support body is copper foil.

また、上記支持体がポリイミドである上記の基板接合テープである。   Moreover, it is said board | substrate joining tape whose said support body is a polyimide.

また、上記支持体がポリエチレンナフタレートである上記の基板接合テープである。   Further, in the above substrate bonding tape, the support is polyethylene naphthalate.

また、上記熱硬化粘着層がエポキシ樹脂を含む上記の基板接合テープである。   Moreover, the said thermosetting adhesion layer is said board | substrate joining tape containing an epoxy resin.

本発明の基板接合テープを熱により貼り付けることによって、シート状基板を連結した際に、基板接合テープの熱硬化性粘着層が硬化して、強固に接合でき、接着強度が向上する。また、熱硬化性粘着層は、硬化後に熱に対して流動性が少なく、高温の回路形成工程、例えば、熱プレス、熱溶融等のプロセスに対して基板接合テープの剥がれが発生しない利点がある。また、強アルカリ液、強酸液、有機溶剤等の薬液に対して膨潤せず、該薬液を使用する工程においても、長尺状基板に強いテンションをかけることができる。   By applying the substrate bonding tape of the present invention by heat, when the sheet-like substrates are connected, the thermosetting pressure-sensitive adhesive layer of the substrate bonding tape is cured and can be firmly bonded, and the adhesive strength is improved. In addition, the thermosetting adhesive layer is less fluid with respect to heat after curing, and has an advantage that peeling of the substrate bonding tape does not occur in high-temperature circuit formation processes, for example, processes such as hot pressing and heat melting. . In addition, it does not swell with a chemical solution such as a strong alkali solution, strong acid solution, or organic solvent, and a strong tension can be applied to the long substrate even in the step of using the chemical solution.

以下、本発明の基板接合テープについて詳細に説明する。   Hereinafter, the substrate bonding tape of the present invention will be described in detail.

本発明の基板接合テープにおける支持体は、回路形成処理に耐えうる十分な強度を有しておればいかなるものであっても良い。例えば、銅、銀、アルミニウム、ステンレス、ニクロム、鉄、およびタングステン等の金属材料、銅、鉄、クロム、亜鉛、スズ等からなる合金材料等が挙げられる。また、例えば、ポリイミド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルフィド、ポリウレタン、ポリフェニレンエーテル等の樹脂フィルム等が挙げられる。また、紙、不織布、織布等が挙げられる。支持体の厚みは1〜200μmが好ましい。支持体に銅を用いることにより、基板接合テープによる接合部分の引張強度を上げることができる。また、回路導体は主に銅であることから、管理が容易となる。また、シート状基板間で導通も可能となるため、長尺状基板でのめっき工程等を容易に行うことができて好ましい。また、支持体にポリイミドやポリエチレンナフタレートを用いることにより、他の樹脂フィルムを用いた場合よりも耐熱性および引張強度に優れた基板接合テープとなるため好ましい。なお、基板接合テープによる接合部分の引張強度は、図5に示したように、ある一定の初期幅を有する基板接合テープ1で貼り合わせた2枚シート状基板2をそれぞれ180℃方向に引張り、基板接合テープが切断や剥離したときの最大荷重として表すことができる。   The support in the substrate bonding tape of the present invention may be any material as long as it has sufficient strength to withstand the circuit forming process. Examples thereof include metal materials such as copper, silver, aluminum, stainless steel, nichrome, iron, and tungsten, and alloy materials composed of copper, iron, chromium, zinc, tin, and the like. Examples thereof include resin films such as polyimide, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate, polyamide, polyetherimide, polycarbonate, polyphenylene sulfide, polyurethane, and polyphenylene ether. Moreover, paper, a nonwoven fabric, a woven fabric etc. are mentioned. The thickness of the support is preferably 1 to 200 μm. By using copper for the support, the tensile strength of the bonded portion by the substrate bonding tape can be increased. Moreover, since the circuit conductor is mainly copper, management becomes easy. Moreover, since conduction between the sheet-like substrates is possible, it is preferable because a plating process or the like on the long substrate can be easily performed. In addition, it is preferable to use polyimide or polyethylene naphthalate for the support because the substrate bonding tape is more excellent in heat resistance and tensile strength than when other resin films are used. In addition, as shown in FIG. 5, the tensile strength of the bonded portion by the substrate bonding tape is obtained by pulling the two sheet-like substrates 2 bonded together with the substrate bonding tape 1 having a certain initial width in the 180 ° C. direction, It can be expressed as the maximum load when the substrate bonding tape is cut or peeled off.

本発明の基板接合テープにおける熱硬化性粘着層は、シート状基板に貼り付け可能であり、貼り付け温度領域で粘着性を有していれば、いかなるものであっても良い。熱硬化の成分としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキド樹脂、ポリイミド、ポリウレタン等が挙げられる。これらは単独でもよいし、2種類以上混合しても良い。エポキシ樹脂は、金属への密着性に優れ、また硬化速度が速いため、好ましい。また、熱硬化前の初期接着力を向上するためにバインダーが混合されていてもよい。バインダーとしては、ブタジエン−アクリロニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンゴム、シリコーン樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォン、フェノキシ樹脂、ポリエーテルイミド、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂等が挙げられる。バインダーは、熱硬化の成分と相分離しないものを用いることが好ましい。   The thermosetting adhesive layer in the substrate bonding tape of the present invention may be any material as long as it can be attached to a sheet-like substrate and has adhesiveness in the attaching temperature region. Examples of the thermosetting component include epoxy resin, phenol resin, melamine resin, urea resin, alkyd resin, polyimide, polyurethane and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Epoxy resins are preferred because they are excellent in adhesion to metals and have a high curing rate. Further, a binder may be mixed in order to improve the initial adhesive force before thermosetting. Examples of the binder include butadiene-acrylonitrile rubber, styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene-styrene rubber, silicone resin, polycarbonate, polyether sulfone, phenoxy resin, polyetherimide, polyvinyl butyral, polyvinyl alcohol, and acrylic resin. It is preferable to use a binder that does not phase separate from the thermosetting component.

本発明の基板接合テープにおいては、基板接合テープを重ねて保管した場合のブロッキングを防止するために、熱硬化性粘着層の面に、離型紙、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等を積層しても良い。   In the substrate bonding tape of the present invention, release paper, polyethylene film, polypropylene film or the like may be laminated on the surface of the thermosetting adhesive layer in order to prevent blocking when the substrate bonding tape is stored in a stacked manner. .

本発明の基板接合テープは、シート状基板を複数枚連結して長尺状基板にする用途に使用される。図1および2は、長尺状基板の断面図である。シート状基板2の搬送方向の縁部同士、すなわち、搬送方向前辺と後辺を互いに基板接合テープ1で連結する。基板接合テープは、支持体3に熱硬化性粘着層4が積層されてなり、熱硬化性粘着層4がシート状基板2に接するように貼り付けられる。基板接合テープ1はシート状基板1の両面に貼り付けても良いし(図2)、片面だけに貼り付けても良い(図1)。図3および4は、長尺状基板の平面図であるが、シート状基板縁部の幅方向の広範囲に貼り付けても良いし(図3)、端部に貼り付けても良い(図4)。すなわち、搬送時に切断、変形、ねじれ、ゆがみ等による搬送不良が起こらない範囲でいかなる貼り付け方であってもよい。シート状基板は、重ならないように連結されるのが好ましい。実生産において縁部同士をぴったり合わせるのは困難であり、基板材料の間隔をあけて連結するのがよい。間隔はテープの長さ、幅、貼り方、材料との密着性、工程等により異なるので一概には規定できないが、10mm以下がよい。好ましくは5mm以下がよい。   The board | substrate joining tape of this invention is used for the use which connects several sheet-like board | substrates and makes it an elongate board | substrate. 1 and 2 are cross-sectional views of an elongated substrate. Edges in the conveyance direction of the sheet-like substrate 2, that is, the front side and the rear side in the conveyance direction are connected to each other by the substrate bonding tape 1. The substrate bonding tape is formed by laminating the thermosetting adhesive layer 4 on the support 3, and is attached so that the thermosetting adhesive layer 4 is in contact with the sheet-like substrate 2. The substrate bonding tape 1 may be attached to both surfaces of the sheet-like substrate 1 (FIG. 2), or may be attached to only one surface (FIG. 1). 3 and 4 are plan views of the long substrate, but it may be applied over a wide range in the width direction of the edge of the sheet-like substrate (FIG. 3) or may be attached to the end (FIG. 4). ). That is, any attachment method may be used as long as no conveyance failure occurs due to cutting, deformation, twisting, distortion, or the like during conveyance. The sheet-like substrates are preferably connected so as not to overlap. In actual production, it is difficult to fit the edges closely, and it is preferable to connect the substrate materials with a gap therebetween. The interval varies depending on the length, width, sticking method, adhesion to the material, process, etc. of the tape, and thus cannot be defined unconditionally, but it is preferably 10 mm or less. Preferably it is 5 mm or less.

本発明の基板接合テープを貼り付ける温度は、熱硬化性粘着層が硬化する温度の近傍で貼り付けることが好ましい。貼り付け装置は、ゴムローラや金属板を押し当てて貼り付ける方法等が適用できる。貼り付け条件は、基板接合テープの厚みや材質、シート状基板の厚みや材質により異なるので、一概に特定できないが、温度が60〜250℃で、0.1〜0.6MPaに加圧するのがよい。貼り付け時間は、熱硬化性粘着層が硬化するまでの時間が好ましく、1秒〜5分が好ましい。また、短時間で貼り付けた後、基板接合テープを熱硬化するために別の加熱工程を設けてもよい。   The temperature at which the substrate bonding tape of the present invention is applied is preferably applied in the vicinity of the temperature at which the thermosetting adhesive layer is cured. As the pasting device, a method of pressing a rubber roller or a metal plate and pasting it can be applied. The affixing conditions vary depending on the thickness and material of the substrate bonding tape and the thickness and material of the sheet-like substrate, and thus cannot be specified in general, but the temperature is 60 to 250 ° C. and the pressure is 0.1 to 0.6 MPa. Good. The pasting time is preferably the time until the thermosetting adhesive layer is cured, and is preferably 1 second to 5 minutes. In addition, after pasting in a short time, another heating step may be provided for thermosetting the substrate bonding tape.

シート状基板を本発明の基板接合テープによって複数枚連結した長尺状基板から回路形成するための工程としては、レーザー穿孔、ドリル穿孔、デスミア、めっき、研磨、酸洗、ドライフィルムフォトレジストの貼り付け、液状レジスト塗布、パターン露光、アルカリ現像、エッチング、レジスト剥離、ソルダレジスト塗布、シンボルマーク印刷塗布、積層、カバーレイフィルム貼り付け等が挙げられる。すべての工程を連続して、一気にロール・トゥ・ロール方式で搬送して製造してもよいが、いくつかの工程ごとに区切って、ロール・トゥ・ロール方式で搬送して製造してもよい。   As a process for forming a circuit from a long substrate in which a plurality of sheet-like substrates are connected by the substrate bonding tape of the present invention, laser drilling, drilling, desmearing, plating, polishing, pickling, and application of dry film photoresist are performed. Application, liquid resist application, pattern exposure, alkali development, etching, resist peeling, solder resist application, symbol mark printing application, lamination, coverlay film application, and the like. All processes may be manufactured continuously in a roll-to-roll process, but may be divided into several processes and manufactured by a roll-to-roll process. .

本発明に係わるシート状基板としては、回路形成用の基板であり、例えばプリント基板またはリードフレーム用基板が挙げられる。プリント基板であれば、フレキシブル基板、リジッド基板に分類され、フレキシブル基板は通常、ポリエステルやポリイミドが絶縁材料として用いられている。フレキシブル基板の絶縁層の厚さは13〜125μm程度で、その両面もしくは片面に12〜35μm程度の銅箔やステンレスが設けられており、非常に可撓性があるため、本発明の基板接合テープが好適に使用される。また、リジッド基板であったら、紙基材またはガラス基材にエポキシ樹脂またはフェノール樹脂等を浸漬させた絶縁性基板を必要枚数重ね、その片面もしくは両面に金属箔を載せ、加熱、加圧して積層されたものが挙げられる。また、内層配線パターン加工後、プリプレグ、金属箔等を積層して作製する多層用のシールド板、またスルーホールやビアホールを有する多層板も挙げられる。厚さは60μmから3.2mm程度であり、プリント基板としての最終使用形態により、その材質と厚さが選定される。これらプリント基板は、例えば「プリント回路技術便覧−第二版−」((社)プリント回路学会編、日刊工業新聞社発刊)や「多層プリント回路ハンドブック」(J.A.スカーレット編、(株)近代化学社発刊)に記載されているものを使用することができる。   The sheet-like substrate according to the present invention is a circuit-forming substrate, for example, a printed circuit board or a lead frame substrate. If it is a printed circuit board, it will be classified into a flexible circuit board and a rigid circuit board, and polyester and polyimide are usually used as an insulating material for a flexible circuit board. The thickness of the insulating layer of the flexible substrate is about 13 to 125 μm, and copper foil or stainless steel of about 12 to 35 μm is provided on both sides or one side thereof, and the substrate bonding tape of the present invention is very flexible. Are preferably used. Also, if it is a rigid substrate, the necessary number of insulating substrates dipped in epoxy resin or phenolic resin on a paper base material or glass base material are stacked, and metal foil is placed on one or both sides, and heated and pressed to laminate The thing which was done is mentioned. In addition, a multilayer shield plate produced by laminating a prepreg, a metal foil, etc. after the inner layer wiring pattern is processed, and a multilayer plate having through holes and via holes are also included. The thickness is about 60 μm to 3.2 mm, and the material and thickness are selected according to the final use form as a printed circuit board. These printed circuit boards include, for example, “Printed Circuit Technology Handbook-Second Edition” (edited by the Printed Circuit Society of Japan, published by Nikkan Kogyo Shimbun) and “Multilayer Printed Circuit Handbook” (JA Scarlet, edited by Co., Ltd.). What is described in Modern Chemical Co., Ltd.) can be used.

以下、実施例によって本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to this Example.

(実施例1)
18μm銅箔((株)日鉱マテリアルズ製)に、表1に記載のエポキシ樹脂塗布液を塗布し、メチルエチルケトンを乾燥させて熱硬化性粘着層の厚みが7μmの基板接合テープを作製した。図5に示すように、2枚のシート状基板(50mm×100mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚25μm)の50mmの辺を隣合わせ、幅15mm長さ50mmの基板接合テープを、180℃に加熱した熱ロールを3分間押し当てて貼り付け、その後、基板接合テープで接続された部分の引張強度を測定し、結果を表2に示した。引張強度は、ORIENTEC社製卓上材料試験機STA−1150を使用し、速度10mm/sec、接合部の温度を25℃として測定した。基板接合テープの切断箇所は、支持体部分であった。
Example 1
An epoxy resin coating solution shown in Table 1 was applied to 18 μm copper foil (manufactured by Nikko Materials Co., Ltd.), and methyl ethyl ketone was dried to prepare a substrate bonding tape having a thermosetting adhesive layer thickness of 7 μm. As shown in FIG. 5, a 50 mm × 100 mm double-sided copper foil thickness of 12 μm and a polyimide base material thickness of 25 μm are adjacent to each other with a 50 mm side, and a substrate bonding tape having a width of 15 mm and a length of 50 mm is obtained at 180 ° C. A heated roll was pressed against and attached for 3 minutes, and then the tensile strength of the portion connected with the substrate bonding tape was measured. The results are shown in Table 2. Tensile strength was measured using a desktop material testing machine STA-1150 manufactured by ORIENTEC, with a speed of 10 mm / sec and a junction temperature of 25 ° C. The cut portion of the substrate bonding tape was the support portion.

Figure 2009239051
Figure 2009239051

別途、シート状基板(300mm×500mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚み25μm)に、多数個の貫通孔を形成した。次に、図3に示すように、幅20mm長さ300mmの上記基板接合テープを、300mmの辺が隣り合うようにして、180℃に加熱した熱ロールを3分間押し当てて貼り付けた。連結を繰り返し、シート状基板50枚を連結した。基板接合テープは、図1のように片面だけに貼り付けた。得られた長尺状基板を金属製コアに巻き付けてロール状の長尺状基板を作製した。次に、ロール・トゥ・ロール方式の回路形成装置を用いて、以下の工程を実施した。長尺状基板に対して、銅の無電解めっき(商品名:メルプレートCU−5100、メルテックス(株)製)および電気めっき(25℃、硫酸−硫酸銅水溶液)を施し、貫通孔内および表面に銅層を形成した。次に、ドライフィルムフォトレジストをラミネートし、マスクフィルムを用いて露光を実施した。ドライフィルムフォトレジストの支持体フィルムを剥離したのち、アルカリ現像(25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を実施して、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。次いで、3質量%水酸化ナトリウム水溶液(50℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)にてレジスト剥離を実施した。すべての工程にて、基板接合テープの切断や剥離は見られず、基板のジャムも見られなかった。 Separately, a large number of through holes were formed in a sheet-like substrate (300 mm × 500 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm). Next, as shown in FIG. 3, the substrate bonding tape having a width of 20 mm and a length of 300 mm was attached by pressing a hot roll heated to 180 ° C. for 3 minutes so that the sides of 300 mm were adjacent to each other. The connection was repeated to connect 50 sheet-like substrates. The substrate bonding tape was affixed only on one side as shown in FIG. The obtained long substrate was wound around a metal core to produce a roll-shaped long substrate. Next, the following steps were performed using a roll-to-roll circuit forming apparatus. Electroless plating of copper (trade name: Melplate CU-5100, manufactured by Meltex Co., Ltd.) and electroplating (25 ° C., sulfuric acid-copper sulfate aqueous solution) are applied to the long substrate, and the inside of the through hole and A copper layer was formed on the surface. Next, a dry film photoresist was laminated, and exposure was performed using a mask film. After peeling off the dry film photoresist support film, alkali development (25 ° C., 1 mass% sodium carbonate aqueous solution) was performed to form a resist pattern. Next, an etching process was performed with a ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). Next, the resist was stripped with a 3% by mass aqueous sodium hydroxide solution (50 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). In all the processes, the substrate bonding tape was not cut or peeled, and the substrate jam was not observed.

(実施例2)
ポリイミドフィルム(厚み50μm、商品名:カプトン、東レ・デュポン(株)製)に、表1に記載のエポキシ樹脂塗布液を塗布し、メチルエチルケトンを乾燥させて熱硬化性粘着層の厚みが7μmの基板接合テープを作製した。図5に示すように、2枚のシート状基板(50mm×100mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚み25μm)の50mmの辺を隣合わせ、幅15mm長さ50mmの基板接合テープを、180℃に加熱した熱ロールを3分間押し当てて貼り付け、引張強度を測定し、表2に示した。基板接合テープの切断箇所は、支持体部分であった。
(Example 2)
A polyimide film (thickness: 50 μm, trade name: Kapton, manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) is coated with the epoxy resin coating solution shown in Table 1, dried with methyl ethyl ketone, and a thermosetting adhesive layer having a thickness of 7 μm A joining tape was produced. As shown in FIG. 5, 50 mm sides of two sheet-like substrates (50 mm × 100 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm) are adjacent to each other, and a substrate bonding tape 15 mm wide and 50 mm long is 180 ° C. A heated roll was pressed against and attached for 3 minutes, and the tensile strength was measured. The cut portion of the substrate bonding tape was the support portion.

別途、シート状基板(300mm×500mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚25μm)に銅の無電解めっき(商品名:メルプレートCU−5100、メルテックス(株)製)および電気めっき(25℃、硫酸−硫酸銅水溶液)を施した。次に、図3に示すように、幅20mm長さ300mmの上記基板接合テープを、300mmの辺が隣り合うようにして、180℃に加熱した熱ロールを3分間押し当てて貼り付けた。連結を繰り返し、シート状基板50枚を連結した。基板接合テープは、図1のように片面だけに貼り付けた。得られた長尺状基板をコアに巻き付けてロール状の長尺状基板を作製した。ロール・トゥ・ロール方式の回路形成装置を用いて以下の工程を実施した。長尺状基板に対して、ドライフィルムフォトレジストをラミネートし、マスクフィルムを用いて露光を実施した。ドライフィルムフォトレジストの支持体フィルムを剥離したのち、アルカリ現像(25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を実施して、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。次に、3質量%水酸化ナトリウム水溶液(50℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)にてレジスト剥離を実施した。すべての工程にて基板接合テープの切断や剥離は見られず、基板のジャムも見られなかった。 Separately, copper electroless plating (trade name: Melplate CU-5100, manufactured by Meltex Co., Ltd.) and electroplating (25) on a sheet-like substrate (300 mm × 500 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm) C., sulfuric acid-copper sulfate aqueous solution). Next, as shown in FIG. 3, the substrate bonding tape having a width of 20 mm and a length of 300 mm was attached by pressing a hot roll heated to 180 ° C. for 3 minutes so that the sides of 300 mm were adjacent to each other. The connection was repeated to connect 50 sheet-like substrates. The substrate bonding tape was affixed only on one side as shown in FIG. The obtained long substrate was wound around a core to produce a roll-shaped long substrate. The following steps were performed using a roll-to-roll circuit forming apparatus. A dry film photoresist was laminated on the long substrate, and exposure was performed using a mask film. After peeling off the dry film photoresist support film, alkali development (25 ° C., 1 mass% sodium carbonate aqueous solution) was performed to form a resist pattern. Next, an etching process was performed with a ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). Next, the resist was stripped with a 3% by mass aqueous sodium hydroxide solution (50 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). No cutting or peeling of the substrate bonding tape was observed in any process, and no substrate jam was observed.

(実施例3)
ポリエチレンナフタレートフィルム(厚み25μm、商品名:Q51((帝人・デュポン社製))に、表1に記載のエポキシ樹脂塗布液を塗布し、メチルエチルケトンを乾燥させて熱硬化性粘着層の厚みが7μmの基板接合テープを作製した。図5に示すように、2枚のシート状基板(50mm×100mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚み25μm)の50mmの辺を隣合わせ、幅15mm長さ50mmの基板接合テープを、180℃に加熱した熱ロールを3分間押し当てて貼り付け、引張強度を測定し、表2に示した。基板接合テープの切断箇所は、支持体部分であった。
(Example 3)
A polyethylene naphthalate film (thickness 25 μm, trade name: Q51 (manufactured by Teijin DuPont)) is coated with the epoxy resin coating solution shown in Table 1, and methyl ethyl ketone is dried to make the thermosetting adhesive layer have a thickness of 7 μm. As shown in Fig. 5, 50mm sides of two sheet-like substrates (50mm x 100mm, double-sided copper foil thickness 12µm, polyimide base material thickness 25µm) are placed next to each other, 15mm wide and 50mm long The substrate bonding tape was affixed by applying a hot roll heated to 180 ° C. for 3 minutes, and the tensile strength was measured and shown in Table 2. The cut portion of the substrate bonding tape was the support portion.

Figure 2009239051
Figure 2009239051

別途、シート状基板(300mm×500mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚25μm)に銅の無電解めっき(商品名:メルプレートCU−5100、メルテックス(株)製)および電気めっき(25℃、硫酸−硫酸銅水溶液)を施した。次に、図3に示すように、幅20mm長さ300mmの上記基板接合テープを、300mmの辺が隣り合うようにして、180℃に加熱した熱ロールを3分間押し当てて貼り付けた。連結を繰り返し、シート状基板50枚を連結した。基板接合テープは、図1のように片面だけに貼り付けた。得られた長尺状基板をコアに巻き付けてロール状の長尺状基板を作製した。ロール・トゥ・ロール方式の回路形成装置を用いて以下の工程を実施した。長尺状基板に対して、ドライフィルムフォトレジストをラミネートし、マスクフィルムを用いて露光を実施した。ドライフィルムフォトレジストの支持体フィルムを剥離したのち、アルカリ現像(25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を実施して、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。次に、3質量%水酸化ナトリウム水溶液(50℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)にてレジスト剥離を実施した。すべての工程にて基板接合テープの切断や剥離は見られず、基板のジャムも見られなかった。 Separately, copper electroless plating (trade name: Melplate CU-5100, manufactured by Meltex Co., Ltd.) and electroplating (25) on a sheet-like substrate (300 mm × 500 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm) C., sulfuric acid-copper sulfate aqueous solution). Next, as shown in FIG. 3, the substrate bonding tape having a width of 20 mm and a length of 300 mm was attached by pressing a hot roll heated to 180 ° C. for 3 minutes so that the sides of 300 mm were adjacent to each other. The connection was repeated to connect 50 sheet-like substrates. The substrate bonding tape was affixed only on one side as shown in FIG. The obtained long substrate was wound around a core to produce a roll-shaped long substrate. The following steps were performed using a roll-to-roll circuit forming apparatus. A dry film photoresist was laminated on the long substrate, and exposure was performed using a mask film. After peeling off the dry film photoresist support film, alkali development (25 ° C., 1 mass% sodium carbonate aqueous solution) was performed to form a resist pattern. Next, an etching process was performed with a ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). Next, the resist was stripped with a 3% by mass aqueous sodium hydroxide solution (50 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). No cutting or peeling of the substrate bonding tape was observed in any process, and no substrate jam was observed.

(実施例4)
ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み100μm、商品名:ルミラーS10、東レ(株)製)に、表1に記載のエポキシ樹脂塗布液を塗布し、メチルエチルケトンを乾燥させて熱硬化性粘着層の厚みが7μmの基板接合テープを作製した。図5に示すように、2枚のシート状基板(50mm×100mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚み25μm)の50mmの辺を隣合わせ、幅15mm長さ50mmの基板接合テープを、150℃に加熱した熱ロールを3分間押し当てて貼り付け、引張強度を測定し、表2に示した。基板接合テープの切断箇所は、支持体部分であった。
Example 4
A substrate in which a polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm, trade name: Lumirror S10, manufactured by Toray Industries, Inc.) is coated with the epoxy resin coating solution shown in Table 1 and methyl ethyl ketone is dried to form a thermosetting adhesive layer having a thickness of 7 μm. A joining tape was produced. As shown in FIG. 5, a 50 mm × 100 mm double-sided copper foil thickness of 12 μm and a polyimide base material thickness of 25 μm are adjacent to each other with a 50 mm side, and a substrate bonding tape having a width of 15 mm and a length of 50 mm is 150 ° C. A heated roll was pressed against and attached for 3 minutes, and the tensile strength was measured. The cut portion of the substrate bonding tape was the support portion.

別途、シート状基板(300mm×500mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚25μm)に銅の無電解めっき(商品名:メルプレートCU−5100、メルテックス(株)製)および電気めっき(25℃、硫酸−硫酸銅水溶液)を施した。次に、図3に示すように、幅20mm長さ300mmの上記基板接合テープを、300mmの辺が隣り合うようにして、150℃に加熱した熱ロールを3分間押し当てて貼り付けた。連結を繰り返し、シート状基板50枚を連結した。基板接合テープは、図1のように片面だけに貼り付けた。得られた長尺状基板をコアに巻き付けてロール状の長尺状基板を作製した。ロール・トゥ・ロール方式の回路形成装置を用いて以下の工程を実施した。長尺状基板に対して、ドライフィルムフォトレジストをラミネートし、マスクフィルムを用いて露光を実施した。ドライフィルムフォトレジストの支持体フィルムを剥離したのち、アルカリ現像(25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を実施して、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。次に、3質量%水酸化ナトリウム水溶液(50℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)にてレジスト剥離を実施した。すべての工程にて基板接合テープの切断や剥離は見られず、基板のジャムも見られなかった。 Separately, copper electroless plating (trade name: Melplate CU-5100, manufactured by Meltex Co., Ltd.) and electroplating (25) on a sheet-like substrate (300 mm × 500 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm) C., sulfuric acid-copper sulfate aqueous solution). Next, as shown in FIG. 3, the substrate bonding tape having a width of 20 mm and a length of 300 mm was attached by pressing a hot roll heated to 150 ° C. for 3 minutes so that the sides of 300 mm were adjacent to each other. The connection was repeated to connect 50 sheet-like substrates. The substrate bonding tape was affixed only on one side as shown in FIG. The obtained long substrate was wound around a core to produce a roll-shaped long substrate. The following steps were performed using a roll-to-roll circuit forming apparatus. A dry film photoresist was laminated on the long substrate, and exposure was performed using a mask film. After peeling off the dry film photoresist support film, alkali development (25 ° C., 1 mass% sodium carbonate aqueous solution) was performed to form a resist pattern. Next, an etching process was performed with a ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). Next, the resist was stripped with a 3% by mass aqueous sodium hydroxide solution (50 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). No cutting or peeling of the substrate bonding tape was observed in any process, and no substrate jam was observed.

(実施例5)
18μm銅箔((株)日鉱マテリアルズ製)に、表3に記載のアクリルウレタン樹脂塗布液を塗布し、メチルエチルケトンを乾燥させて熱硬化性粘着層の厚みが7μmの基板接合テープを作製した。図5に示すように、2枚のシート状基板(50mm×100mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚25μm)の50mmの辺を隣合わせ、幅15mm長さ50mmの基板接合テープを、150℃に加熱した熱ロールを10分間押し当てて貼り付け、基板接合テープで接続された部分の引張強度を測定し、結果を表2に示した。熱硬化性粘着層がエポキシ樹脂を含有している実施例1の基板接合テープと比較すると、実施例5の引張強度は低かった。基板接合テープの切断箇所は、支持体部分であった。
(Example 5)
An acrylic urethane resin coating solution described in Table 3 was applied to 18 μm copper foil (manufactured by Nikko Materials Co., Ltd.), and methyl ethyl ketone was dried to produce a substrate bonding tape having a thermosetting adhesive layer thickness of 7 μm. As shown in FIG. 5, 50 mm sides of two sheet-like substrates (50 mm × 100 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm) are adjacent to each other, and a substrate bonding tape 15 mm wide and 50 mm long is 150 ° C. The heated roll was pressed against and attached for 10 minutes, and the tensile strength of the portion connected with the substrate bonding tape was measured. The results are shown in Table 2. Compared to the substrate bonding tape of Example 1 in which the thermosetting adhesive layer contains an epoxy resin, the tensile strength of Example 5 was low. The cut portion of the substrate bonding tape was the support portion.

Figure 2009239051
Figure 2009239051

別途、シート状基板(300mm×500mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚25μm)に、多数個の貫通孔を形成した。次に、図3に示すように、幅20mm長さ300mmの上記基板接合テープを、300mmの辺が隣り合うようにして、150℃に加熱した熱ロールを10分間押し当てて貼り付けた。連結を繰り返し、シート状基板50枚を連結した。基板接合テープは、図1のように片面だけに貼り付けた。得られた長尺状基板を金属製コアに巻き付けてロール状の長尺状基板を作製した。次に、ロール・トゥ・ロール方式の回路形成装置を用いて、以下の工程を実施した。長尺状基板に対して、銅の無電解めっき(商品名:メルプレートCU−5100、メルテックス(株)製)および電気めっき(25℃、硫酸−硫酸銅水溶液)を施し、貫通孔内および表面に銅層を形成した。次に、ドライフィルムフォトレジストをラミネートし、マスクフィルムを用いて露光を実施した。ドライフィルムフォトレジストの支持体フィルムを剥離したのち、アルカリ現像(25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を実施して、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。次いで、3質量%水酸化ナトリウム水溶液(50℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)にてレジスト剥離を実施した。すべての工程にて、基板接合テープの切断や剥離は見られず、基板のジャムも見られなかった。 Separately, a large number of through holes were formed in a sheet-like substrate (300 mm × 500 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm). Next, as shown in FIG. 3, the substrate bonding tape having a width of 20 mm and a length of 300 mm was attached by pressing a hot roll heated to 150 ° C. for 10 minutes so that the sides of 300 mm were adjacent to each other. The connection was repeated to connect 50 sheet-like substrates. The substrate bonding tape was affixed only on one side as shown in FIG. The obtained long substrate was wound around a metal core to produce a roll-shaped long substrate. Next, the following steps were performed using a roll-to-roll circuit forming apparatus. Electroless plating of copper (trade name: Melplate CU-5100, manufactured by Meltex Co., Ltd.) and electroplating (25 ° C., sulfuric acid-copper sulfate aqueous solution) are applied to the long substrate, and the inside of the through hole and A copper layer was formed on the surface. Next, a dry film photoresist was laminated, and exposure was performed using a mask film. After peeling off the dry film photoresist support film, alkali development (25 ° C., 1 mass% sodium carbonate aqueous solution) was performed to form a resist pattern. Next, an etching process was performed with a ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). Next, the resist was stripped with a 3% by mass aqueous sodium hydroxide solution (50 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). In all the processes, the substrate bonding tape was not cut or peeled, and the substrate jam was not observed.

(比較例1)
粘着層にシリコーン系粘着剤を使用したポリイミド粘着テープ(ポリイミド基材厚50μm、住友スリーエム(株)製)を使用し、図5に示すように、2枚のシート状基板(50mm×100mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚25μm)の50mmの辺を隣合わせ、150℃に加熱した熱ロールを10分間押し当てて貼り付け、基板接合テープで接続された部分の引張強度を測定した。表2に示した通り、実施例で得られた基板接合テープよりも低い引張強度であることを確認した。また、引張強度測定時にテンションを与えると、粘着層とシート状基板の表面が滑り、支持体が切断することなく基板接合テープが剥がれた。
(Comparative Example 1)
A polyimide adhesive tape (polyimide substrate thickness 50 μm, manufactured by Sumitomo 3M Limited) using a silicone adhesive for the adhesive layer is used, and as shown in FIG. 5, two sheet-like substrates (50 mm × 100 mm, both sides) A 50 mm side of a copper foil thickness of 12 μm and a polyimide base material thickness of 25 μm was placed next to each other, a hot roll heated to 150 ° C. was pressed for 10 minutes and attached, and the tensile strength of the portion connected with the substrate bonding tape was measured. As shown in Table 2, it was confirmed that the tensile strength was lower than that of the substrate bonding tape obtained in the example. Further, when a tension was applied during the measurement of the tensile strength, the adhesive layer and the surface of the sheet-like substrate slipped, and the substrate bonding tape was peeled off without the support being cut.

別途、シート状基板(300mm×500mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚み25μm)に銅の無電解めっき(商品名:メルプレートCU−5100、メルテックス(株)製)および電気めっき(25℃、硫酸−硫酸銅水溶液)を施した。次に、図3に示すように、幅20mm長さ300mmの上記ポリイミド粘着テープを、300mmの辺が隣り合うようにして、貼り付けた。連結を繰り返し、シート状基板50枚を連結した。基板接合テープは、図1のように片面だけに貼り付けた。得られた長尺状基板をコアに巻き付けてロール状の長尺状基板を作製した。ロール・トゥ・ロール方式の回路形成装置を用いて以下の工程を実施した。長尺状基板に対して、ドライフィルムフォトレジストをラミネートし、マスクフィルムを用いて露光を実施した。ドライフィルムフォトレジストの支持体フィルムを剥離したのち、アルカリ現像(25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を実施して、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。次に、3質量%水酸化ナトリウム水溶液(50℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)にてレジスト剥離を実施した。工程内においてポリイミド粘着テープの切断が見られ、基板のジャムが発生した。 Separately, copper electroless plating (trade name: Melplate CU-5100, manufactured by Meltex Co., Ltd.) and electroplating (25) on a sheet-like substrate (300 mm × 500 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm) C., sulfuric acid-copper sulfate aqueous solution). Next, as shown in FIG. 3, the polyimide adhesive tape having a width of 20 mm and a length of 300 mm was attached so that the sides of 300 mm were adjacent to each other. The connection was repeated to connect 50 sheet-like substrates. The substrate bonding tape was affixed only on one side as shown in FIG. The obtained long substrate was wound around a core to produce a roll-shaped long substrate. The following steps were performed using a roll-to-roll circuit forming apparatus. A dry film photoresist was laminated on the long substrate, and exposure was performed using a mask film. After peeling off the dry film photoresist support film, alkali development (25 ° C., 1 mass% sodium carbonate aqueous solution) was performed to form a resist pattern. Next, an etching process was performed with a ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). Next, the resist was stripped with a 3% by mass aqueous sodium hydroxide solution (50 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). In the process, the polyimide adhesive tape was cut, and the substrate was jammed.

(比較例2)
粘着層にアクリル系粘着剤を使用した銅箔粘着テープ(銅箔厚35μm、寺岡製作所(株)製)を使用し、図5に示すように、2枚のシート状基板(50mm×100mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚25μm)の50mmの辺を隣合わせ、150℃に加熱した熱ロールを10分間押し当てて貼り付け、基板接合テープで接続された部分の引張強度を測定した。表2に示した通り、実施例の基板接合テープよりも低い引張強度であることを確認した。引張強度測定時にテンションを与えると、粘着層とシート状基板の表面が滑り、支持体が切断することなく基板接合テープが剥がれた。
(Comparative Example 2)
Using a copper foil adhesive tape (copper foil thickness 35 μm, manufactured by Teraoka Seisakusho Co., Ltd.) using an acrylic adhesive for the adhesive layer, as shown in FIG. 5, two sheet-like substrates (50 mm × 100 mm, both sides) A 50 mm side of a copper foil thickness of 12 μm and a polyimide base material thickness of 25 μm was placed next to each other, a hot roll heated to 150 ° C. was pressed for 10 minutes and attached, and the tensile strength of the portion connected with the substrate bonding tape was measured. As shown in Table 2, it was confirmed that the tensile strength was lower than that of the substrate bonding tape of the example. When tension was applied during the measurement of the tensile strength, the adhesive layer and the surface of the sheet-like substrate slipped, and the substrate bonding tape was peeled off without the support being cut.

別途、シート状基板(300mm×500mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚み25μm)に、多数個の貫通孔を形成した。次に、図3に示すように、幅20mm長さ300mmの上記銅箔粘着テープを、300mmの辺が隣り合うようにして、貼り付けた。連結を繰り返し、シート状基板50枚を連結した。銅箔粘着テープは、図1のように片面だけに貼り付けた。得られた長尺状基板を金属製コアに巻き付けてロール状の長尺状基板を作製した。ロール・トゥ・ロール方式の回路形成装置を用いて以下の工程を実施した。長尺状基板に対して、銅の無電解めっき(商品名:メルプレートCU−5100、メルテックス(株)製)および電気めっき(25℃、硫酸−硫酸銅水溶液)を施した。次に、ドライフィルムフォトレジストをラミネートし、マスクフィルムを用いて露光を実施した。ドライフィルムフォトレジストの支持体フィルムを剥離したのち、アルカリ現像(25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を実施して、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。次に、3質量%水酸化ナトリウム水溶液(50℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)にてレジスト剥離を実施した。工程内において銅箔粘着テープの切断が見られ、基板のジャムが発生した。 Separately, a large number of through holes were formed in a sheet-like substrate (300 mm × 500 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm). Next, as shown in FIG. 3, the copper foil adhesive tape having a width of 20 mm and a length of 300 mm was attached so that the sides of 300 mm were adjacent to each other. The connection was repeated to connect 50 sheet-like substrates. The copper foil adhesive tape was affixed only on one side as shown in FIG. The obtained long substrate was wound around a metal core to produce a roll-shaped long substrate. The following steps were performed using a roll-to-roll circuit forming apparatus. Electroless plating of copper (trade name: Melplate CU-5100, manufactured by Meltex Co., Ltd.) and electroplating (25 ° C., sulfuric acid-copper sulfate aqueous solution) were performed on the long substrate. Next, a dry film photoresist was laminated, and exposure was performed using a mask film. After peeling off the dry film photoresist support film, alkali development (25 ° C., 1 mass% sodium carbonate aqueous solution) was performed to form a resist pattern. Next, an etching process was performed with a ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). Next, the resist was stripped with a 3% by mass aqueous sodium hydroxide solution (50 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). In the process, cutting of the copper foil adhesive tape was observed, and jamming of the substrate occurred.

(比較例3)
粘着剤に熱硬化性粘着層樹脂ではなくアクリル系粘着剤を使用したメンディングテープ(支持体:アセテートフィルム、住友スリーエム(株)製)を使用し、図5に示すように、2枚のシート状基板(50mm×100mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚25μm)の50mmの辺を隣合わせ、150℃に加熱した熱ロールを10分間押し当てて貼り付け、基板接合テープで接続された部分の引張強度を測定した。表2に示した通り、実施例の基板接合テープよりも低い引張強度であることを確認した。基板接合テープの切断箇所は、支持体部分であった。
(Comparative Example 3)
Using a mending tape (support: acetate film, manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) that uses an acrylic adhesive instead of a thermosetting adhesive layer resin as the adhesive, two sheets are used as shown in FIG. Side of 50mm × 100mm, double-sided copper foil thickness 12μm, polyimide base material thickness 25μm side by side, a hot roll heated to 150 ° C. was pressed for 10 minutes and pasted, and connected by substrate bonding tape The tensile strength of was measured. As shown in Table 2, it was confirmed that the tensile strength was lower than that of the substrate bonding tape of the example. The cut portion of the substrate bonding tape was the support portion.

別途、シート状基板(300mm×500mm、両面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚み25μm)に銅の無電解めっき(商品名:メルプレートCU−5100、メルテックス(株)製)および電気めっき(25℃、硫酸−硫酸銅水溶液)を施した。次に、図3に示すように、幅20mm長さ300mmの上記メンディングテープを、300mmの辺が隣り合うようにして、貼り付けた。連結を繰り返し、シート状基板50枚を連結した。メンディングテープは、図1のように片面だけに貼り付けた。得られた長尺状基板をコアに巻き付けてロール状の長尺状基板を作製した。ロール・トゥ・ロール方式の回路形成装置を用いて以下の工程を実施した。長尺状基板に対して、ドライフィルムフォトレジストをラミネートし、マスクフィルムを用いて露光を実施した。マイラーフィルムを剥離したのち、アルカリ現像(25℃、1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を実施して、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄溶液(40℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)でエッチング処理を行った。次に、3質量%水酸化ナトリウム水溶液(50℃、スプレー圧:3.0kg/cm2)にてレジスト剥離を実施した。工程内においてメンディングテープの切断が見られ、基板のジャムが発生した。 Separately, copper electroless plating (trade name: Melplate CU-5100, manufactured by Meltex Co., Ltd.) and electroplating (25) on a sheet-like substrate (300 mm × 500 mm, double-sided copper foil thickness 12 μm, polyimide base material thickness 25 μm) C., sulfuric acid-copper sulfate aqueous solution). Next, as shown in FIG. 3, the above-mentioned mending tape having a width of 20 mm and a length of 300 mm was attached so that the sides of 300 mm were adjacent to each other. The connection was repeated to connect 50 sheet-like substrates. The mending tape was affixed only on one side as shown in FIG. The obtained long substrate was wound around a core to produce a roll-shaped long substrate. The following steps were performed using a roll-to-roll circuit forming apparatus. A dry film photoresist was laminated on the long substrate, and exposure was performed using a mask film. After peeling off the mylar film, alkali development (25 ° C., 1 mass% sodium carbonate aqueous solution) was performed to form a resist pattern. Next, an etching process was performed with a ferric chloride solution (40 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). Next, the resist was stripped with a 3% by mass aqueous sodium hydroxide solution (50 ° C., spray pressure: 3.0 kg / cm 2 ). In the process, cutting of the mending tape was observed, and jamming of the substrate occurred.

本発明は、回路基板、リードフレーム、光導波路などの薄いシート状基板を連結し、長尺状基板として加工する分野に利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used in the field of connecting thin sheet substrates such as circuit boards, lead frames, and optical waveguides and processing them as long substrates.

本発明の基板接合テープで貼り付けた長尺状基板の断面図。Sectional drawing of the elongate board | substrate affixed with the board | substrate joining tape of this invention. 本発明の基板接合テープで貼り付けた長尺状基板の断面図。Sectional drawing of the elongate board | substrate affixed with the board | substrate joining tape of this invention. 本発明の基板接合テープで貼り付けた長尺状基板の平面図。The top view of the elongate board | substrate affixed with the board | substrate joining tape of this invention. 本発明の基板接合テープで貼り付けた長尺状基板の平面図。The top view of the elongate board | substrate affixed with the board | substrate joining tape of this invention. 基板接合テープの引張強度を測定する際のシート状基板と基板接合テープとの連結方法と引張方向とを示した概略図。Schematic which showed the connection method and tensile direction of a sheet-like board | substrate and board | substrate joining tape at the time of measuring the tensile strength of a board | substrate joining tape.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板接合テープ
2 シート状基板
3 支持体
4 熱硬化性粘着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate joining tape 2 Sheet-like board | substrate 3 Support body 4 Thermosetting adhesion layer

Claims (5)

シート状基板を複数枚連結して長尺状基板にして回路形成処理を行う方法に使用する基板接合テープであって、支持体に熱硬化性粘着層が積層されてなる基板接合テープ。   A substrate bonding tape for use in a method of performing a circuit forming process by connecting a plurality of sheet-like substrates to form a long substrate, wherein the thermosetting adhesive layer is laminated on a support. 上記支持体が銅箔である請求項1に記載の基板接合テープ。   The substrate bonding tape according to claim 1, wherein the support is a copper foil. 上記支持体がポリイミドである請求項1に記載の基板接合テープ。   The substrate bonding tape according to claim 1, wherein the support is polyimide. 上記支持体がポリエチレンナフタレートである請求項1に記載の基板接合テープ。   The substrate bonding tape according to claim 1, wherein the support is polyethylene naphthalate. 上記熱硬化性粘着層がエポキシ樹脂を含む請求項1に記載の基板接合テープ。   The substrate bonding tape according to claim 1, wherein the thermosetting adhesive layer contains an epoxy resin.
JP2008083753A 2008-03-27 2008-03-27 Substrate bonding tape Pending JP2009239051A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008083753A JP2009239051A (en) 2008-03-27 2008-03-27 Substrate bonding tape

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008083753A JP2009239051A (en) 2008-03-27 2008-03-27 Substrate bonding tape

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009239051A true JP2009239051A (en) 2009-10-15

Family

ID=41252642

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008083753A Pending JP2009239051A (en) 2008-03-27 2008-03-27 Substrate bonding tape

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009239051A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015226671A (en) * 2014-06-02 2015-12-17 東洋ゴム工業株式会社 Seat pad

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015226671A (en) * 2014-06-02 2015-12-17 東洋ゴム工業株式会社 Seat pad

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8435376B2 (en) Carrier for manufacturing substrate and method of manufacturing substrate using the same
JP5165773B2 (en) Metal foil with carrier and method for producing laminated substrate using the same
US10336034B2 (en) Carrier-attached metal foil
US20140124475A1 (en) Method of manufacturing printed circuit board
US9758889B2 (en) Method for producing substrate formed with copper thin layer, method for manufacturing printed circuit board and printed circuit board manufactured thereby
US20190315098A1 (en) Poly-supported copper foil
JP2009239051A (en) Substrate bonding tape
JP6240007B2 (en) Method for manufacturing flexible printed circuit board and intermediate product used for manufacturing flexible printed circuit board
JP6341644B2 (en) Metal foil with carrier and method for producing laminated substrate
CN102264550A (en) Pressure-bonding-type metallic decorative plate, metallic decorative plate, and methods for manufacturing same
JP2009292892A (en) Substrate joint tape
JP2009277810A (en) Long-shaped board and board jointing tape
TWI608778B (en) Multilayer printed wiring board manufacturing method
JP4692317B2 (en) Adhesive substrate, circuit board manufacturing method, and circuit board
JP5006294B2 (en) Transport tape, transport jig plate, and flexible substrate transport method
CN113795080A (en) Surface treatment method of printed circuit board and printed circuit board
JP2011187641A (en) Method for manufacturing flexible board
JPH09232723A (en) Formation of circuit
JP7265560B2 (en) LAMINATED PRODUCT, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD
JP2006269560A (en) Process for producing flexible substrate using substrate connection tape
CN113386416B (en) Heat-conducting double-sided copper-clad plate and preparation method thereof
JP2001127119A (en) Flexible tape for forming fine pattern and its manufacturing method
JP4472609B2 (en) Printed circuit board manufacturing method using board connecting tape
JP2598694B2 (en) Laminates for flexible printed wiring boards
JP4559367B2 (en) Substrate connecting tape and printed circuit board manufacturing method using the substrate connecting tape