JP2009237009A - Liquid crystal device, electronic apparatus, and method for manufacturing liquid crystal device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は液晶装置、電子機器、及び、液晶装置の製造方法に係り、特に、液晶に電界を
付与するための第1の電極と第2の電極が液晶の一側に共に配置されてなる液晶装置の構
造に関する。
The present invention relates to a liquid crystal device, an electronic apparatus, and a manufacturing method of the liquid crystal device, and in particular, a liquid crystal in which a first electrode and a second electrode for applying an electric field to the liquid crystal are disposed on one side of the liquid crystal. It relates to the structure of the device.
一般に、液晶装置は、ガラス等よりなる透明な基板間に液晶を配置し、一対の電極によ
り液晶に所定の電界を印加することで光の透過率を制御するように構成された画素若しく
はサブ画素を備えている。この画素若しくはサブ画素は、画像を表示する液晶表示体を構
成する場合、画像の構成単位、或いは、当該構成単位内の複数の制御単位となる。
2. Description of the Related Art Generally, a liquid crystal device is a pixel or sub-pixel configured to arrange a liquid crystal between transparent substrates made of glass or the like, and to control light transmittance by applying a predetermined electric field to the liquid crystal by a pair of electrodes. It has. This pixel or sub-pixel becomes a constituent unit of an image or a plurality of control units in the constituent unit when constituting a liquid crystal display for displaying an image.
上記の液晶装置としては、液晶を挟持する一対の基板のうち、一方の基板の内面上に第
1の電極と第2の電極を共に設け、第1の電極と第2の電極の間に横方向若しくは斜め方
向の電界を形成して液晶の配向方向を制御するように構成された横方向電界制御型とでも
言うべき液晶装置、例えば、IPS(In-Plane Switching)型、或いは、FFS(Fringe
Field Switching)型の液晶装置が知られている。
As the above-described liquid crystal device, the first electrode and the second electrode are provided on the inner surface of one of the pair of substrates sandwiching the liquid crystal, and the first electrode and the second electrode are horizontally disposed. A liquid crystal device that can be said to be a lateral electric field control type configured to control the alignment direction of the liquid crystal by forming an electric field in the direction or oblique direction, for example, an IPS (In-Plane Switching) type, or an FFS (Fringe)
Field Switching type liquid crystal devices are known.
このような横方向電界制御型の液晶装置では、広い視野角を有するという利点を備える
反面、他方の基板の内面上には電極が形成されないので静電気を帯びやすくなり、他方の
基板が帯電すると液晶の配向状態が影響を受け、高画質の表示を実現することができなく
なるという欠点を有する。また、他方の基板に電極が形成されないことで、一度帯電して
しまうと静電気を容易に除去することができなくなる。そこで、他方の基板の帯電を防止
するために、他方の基板の外面上に遮光層を兼ねた金属製の導電体層、ITO(インジウ
ムスズ酸化物)等の透明導電膜よりなる導電体層、或いは、導電性粒子を混入させた偏光
板を兼ねた導電体層等を形成している(例えば、以下の特許文献1参照)。これらの導電
体層は所定の定電位、或いは、フローティング電位とされる。
Such a lateral electric field control type liquid crystal device has the advantage of having a wide viewing angle. On the other hand, no electrode is formed on the inner surface of the other substrate. The orientation state is affected, so that it is impossible to realize a high-quality display. In addition, since no electrode is formed on the other substrate, static electricity cannot be easily removed once charged. Therefore, in order to prevent charging of the other substrate, a metal conductor layer also serving as a light shielding layer on the outer surface of the other substrate, a conductor layer made of a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide), Or the conductor layer etc. which served as the polarizing plate in which the electroconductive particle was mixed are formed (for example, refer the following patent documents 1). These conductor layers are set to a predetermined constant potential or a floating potential.
一方、液晶装置としては、バックライト等の照明ユニットを併設して当該照明ユニット
からの照明光により表示を可能とする透過型液晶表示体と、外光を利用した反射光により
表示を可能とする反射型液晶表示体とがあるが、両者の利点を兼ねた構成とするために画
素若しくはサブ画素内に光透過領域と光反射領域とを設けた半透過型の液晶表示体が知ら
れている。このような半透過型の表示構造は上述の横方向電界制御型の液晶装置にも利用
される(例えば、以下の特許文献2、3参照)。
しかしながら、前述の特許文献1に記載された導電体層のうち遮光層を利用したもので
は導電体層の形成範囲を遮光範囲と一致させる必要があるために制約が多く、また、偏光
板を利用したものでは導電性粒子の混入量が少ないと効果が薄く混入量を増やすと光学機
能に影響を与えるとともに製造コストが増大するなど、設計上、機能上或いはコスト上の
障害が多く、実際の利用には適しないという問題点がある。
However, among the conductor layers described in
これに対してITO等の透明導電体を用いた導電体層を他方の基板上に形成する方法に
は上記のような問題点がないために採用しやすい。たとえば、図10に示すように、ガラ
ス等よりなる第1の基板1と第2の基板2の間に液晶3を配し、第1の基板1の内面上に
共通電極4と画素電極5を設け、各基板1,2の外面上に偏光板6、7を配置した液晶装
置において、第2の基板2の外面上にITO等の透明導電体よりなる導電体層8を全面的
に形成する。ここで、共通電極4は、サブ画素G内の光透過領域GtにおいてITO等の
透明導電体で構成される透過電極部14tとされ、光反射領域Grにおいてアルミニウム
等の金属で構成される反射電極部14rとされることで、半透過型の液晶表示体が構成さ
れる。
On the other hand, the method of forming a conductor layer using a transparent conductor such as ITO on the other substrate is easy to adopt because there is no problem as described above. For example, as shown in FIG. 10, a liquid crystal 3 is arranged between a
ところが、上記のような構成では、透明導電体よりなる導電体層8は、屈折率がガラス
等よりなる基板2よりも大きいため、照明ユニットから照射された照明光Lsがサブ画素
Gの光透過領域Gtを通過したとき、当該照明光Lsが第2の基板2と導電体層8の界面
で反射され、光反射領域Grの反射層を構成する共通電極4にて再反射して光反射領域G
rから出射することで迷光Ls′が生ずる。したがって、当該サブ画素Gが黒表示状態(
遮光状態)にある場合に迷光Ls′が入り込んでコントラストを大幅に低下させるという
問題が生ずる。これは、特に反射表示において大きく表示品位を損なう原因となる。また
、上記の透明導電体よりなる導電体層8が存在すると、外光Loが導電体層8の表面で反
射して表面反射光Lo′が生じることによって表示コントラストが低下するという問題も
ある。これらの問題は、特に反射表示が本来的に低コントラストであること、並びに、黒
表示では僅かな光漏れでも視認性を大幅に悪化させる原因になることを考慮すると、表示
品位に大きく影響を与える重大な問題点であると言える。
However, in the configuration as described above, the
The stray light Ls ′ is generated by exiting from r. Therefore, the sub-pixel G is in the black display state (
When in the light shielding state, stray light Ls' enters and a problem arises in that the contrast is greatly reduced. This is a cause of greatly impairing display quality particularly in reflective display. Further, when the
そこで、本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、第1の電極及び第2
の電極を液晶の第1の基板側に有する横方向電界制御型の液晶装置において、液晶の第2
の基板側に透明導電体よりなる導電体層を設けた場合の表示品位の悪化を抑制することの
できる構造を提供することにある。
Therefore, the present invention solves the above problems, and the problem is that the first electrode and the second electrode
In the lateral electric field control type liquid crystal device having the first electrode on the first substrate side of the liquid crystal,
An object of the present invention is to provide a structure capable of suppressing deterioration of display quality when a conductive layer made of a transparent conductive material is provided on the substrate side.
斯かる実情に鑑み、本発明の液晶装置は、第1の基板と、該第1の基板に対向する第2
の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間に配置された液晶と、前記第1の基板の
液晶側に形成され前記液晶に電界を付与するための第1の電極及び第2の電極と、前記第
2の基板に形成された透光性を有する導電体層と、を具備し、前記第1の電極と前記第2
の電極との間に電界を形成することで前記液晶の配向方向を制御可能に構成された複数の
画素若しくはサブ画素が設けられてなる表示領域を有する液晶装置において、前記導電体
層は前記表示領域に設けられるとともに前記複数の画素若しくはサブ画素の少なくとも一
部を開口する開口部を備えることを特徴とする。
In view of such a situation, the liquid crystal device of the present invention includes a first substrate and a second substrate facing the first substrate.
A substrate, a liquid crystal disposed between the first substrate and the second substrate, a first electrode formed on the liquid crystal side of the first substrate for applying an electric field to the liquid crystal, and a first electrode 2 and a light-transmitting conductor layer formed on the second substrate, the first electrode and the second electrode
In the liquid crystal device having a display region provided with a plurality of pixels or sub-pixels configured to control the alignment direction of the liquid crystal by forming an electric field between the electrode and the electrode, the conductor layer is the display An opening provided in the region and opening at least a part of the plurality of pixels or sub-pixels is provided.
この発明によれば、透光性を有する導電体層に画素若しくはサブ画素の少なくとも一部
を開口する開口部を設けることで、導電体層の界面若しくは表面の反射を低減することが
できるため、迷光や表面反射光等に起因するコントラストの低下を抑制でき、表示品位を
高めることができる。
According to this invention, by providing an opening that opens at least a part of a pixel or a sub-pixel in a light-transmitting conductive layer, reflection at the interface or surface of the conductive layer can be reduced. A reduction in contrast due to stray light, surface reflected light, or the like can be suppressed, and display quality can be improved.
本発明の一の態様においては、前記導電体層は前記第2の基板の前記液晶とは反対側の
面上に配置されている。これによれば、導電体層が第2の基板の液晶とは反対側の面(す
なわち外面)上に配置されることで透光性を有する導電体層の内面反射光や外面反射光が
強くなるため、本発明の上記構成が特に有効なものとなる。
In one aspect of the present invention, the conductor layer is disposed on the surface of the second substrate opposite to the liquid crystal. According to this, the inner surface reflection light and the outer surface reflection light of the light-transmitting conductor layer are strong because the conductor layer is disposed on the surface (that is, the outer surface) opposite to the liquid crystal of the second substrate. Therefore, the above configuration of the present invention is particularly effective.
本発明の他の態様においては、前記画素若しくはサブ画素は光透過領域と光反射領域と
を備え、前記開口部は前記光透過領域に設けられ、前記光反射領域の少なくとも一部には
設けられていない。これによれば、導電体層の開口部が光透過領域に設けられることで、
開口部には導電体層が存在しないため、光透過領域内を進行する透過光の導電体層による
反射に起因する迷光が削減されることから、反射表示への影響を低減することができる。
また、導電体層の開口部が光反射領域の少なくとも一部には設けられないことで、表示領
域内における導電体層の形成面積を増大させ、導電性を高めることができるため、静電気
による影響をさらに低減することができる。この場合に、導電体層の開口部が光透過領域
の全体に形成されることが表示品位をさらに高める上でより好ましい。また、導電体層の
開口部が光反射領域のいずれにも設けられていないことが導電体層の導電性を高めて静電
気による影響をさらに低減する上でより好ましい。
In another aspect of the present invention, the pixel or sub-pixel includes a light transmission region and a light reflection region, the opening is provided in the light transmission region, and is provided in at least a part of the light reflection region. Not. According to this, by providing the opening of the conductor layer in the light transmission region,
Since there is no conductor layer in the opening, stray light caused by reflection of the transmitted light traveling in the light transmission region by the conductor layer is reduced, so that the influence on the reflective display can be reduced.
In addition, since the opening of the conductor layer is not provided in at least a part of the light reflecting region, the formation area of the conductor layer in the display region can be increased and the conductivity can be increased. Can be further reduced. In this case, it is more preferable for the display quality to be further improved that the opening of the conductor layer is formed in the entire light transmission region. In addition, it is more preferable that the opening of the conductor layer is not provided in any of the light reflection regions in order to increase the conductivity of the conductor layer and further reduce the influence of static electricity.
本発明の別の態様においては、前記画素若しくはサブ画素は光透過領域と光反射領域と
を備え、前記開口部は前記光反射領域に設けられ、前記光透過領域の少なくとも一部には
設けられていない。これによれば、導電体層の開口部が光反射領域に設けられることで、
開口部には導電体層が存在しないため、光反射領域に入射する外光の導電体層による反射
に起因する視認性の悪化が抑制されることから、表示品位への悪影響を低減することがで
きる。また、導電体層の開口部が光透過領域の少なくとも一部には設けられないことで、
表示領域内における導電体層の形成面積を増大させ、導電性を高めることができるため、
静電気による影響をさらに低減できる。この場合に、導電体層の開口部が光反射領域の全
体に形成されることが表示品位をさらに高める上でより好ましい。また、導電体層の開口
部が光透過領域のいずれにも設けられていないことが導電体層の導電性を高めて静電気に
よる影響を更に低減する上でより好ましい。
In another aspect of the present invention, the pixel or sub-pixel includes a light transmission region and a light reflection region, the opening is provided in the light reflection region, and is provided in at least a part of the light transmission region. Not. According to this, the opening of the conductor layer is provided in the light reflection region,
Since there is no conductor layer in the opening, the deterioration of visibility due to reflection of the external light incident on the light reflection region by the conductor layer is suppressed, thereby reducing the adverse effect on display quality. it can. In addition, the opening of the conductor layer is not provided in at least a part of the light transmission region,
Since the formation area of the conductor layer in the display region can be increased and the conductivity can be increased,
The influence of static electricity can be further reduced. In this case, it is more preferable for the display quality to be further improved that the opening of the conductor layer is formed over the entire light reflection region. Further, it is more preferable that the opening of the conductor layer is not provided in any of the light transmission regions in order to increase the conductivity of the conductor layer and further reduce the influence of static electricity.
本発明のさらに別の態様においては、前記開口部は前記画素若しくはサブ画素ごとに設
けられている。これによれば、画素若しくはサブ画素ごとに導電体層に開口部が設けられ
ることで、画素若しくはサブ画素間に導電体層が存在することとなるから、表示領域内に
おける導電体層の形成面積を高めることができ、導電体層の導電性を高めて静電気による
影響をさらに効果的に防止できる。
In still another aspect of the invention, the opening is provided for each pixel or sub-pixel. According to this, since an opening is provided in the conductor layer for each pixel or sub-pixel, a conductor layer exists between the pixels or sub-pixels, so that the formation area of the conductor layer in the display region The electrical conductivity of the conductor layer can be increased and the influence of static electricity can be more effectively prevented.
本発明の異なる態様においては、前記開口部は二以上の前記画素若しくはサブ画素に亘
って一体に設けられる。これによれば、開口部が二以上の画素若しくはサブ画素に亘って
一体に設けられることで、画素若しくはサブ画素ごとに設ける場合にくらべて開口範囲が
大きく構成されるため、開口部と画素若しくはサブ画素との間の平面的な位置ずれによる
影響を低減でき、本発明の上記効果をより確実に得ることができる。
In a different aspect of the present invention, the opening is provided integrally over two or more of the pixels or sub-pixels. According to this, since the opening is integrally provided over two or more pixels or sub-pixels, the opening range is configured to be larger than that provided for each pixel or sub-pixel. It is possible to reduce the influence due to the positional deviation between the sub-pixel and the sub-pixel, and to obtain the above-described effect of the present invention more reliably.
次に、本発明の電子機器は、上記のいずれかに記載の液晶装置と、該液晶装置の制御手
段とを搭載することを特徴とする。電子機器は特に限定されないが、表示品位を高めるこ
とができる点で表示装置であることが好ましく、半透過型の液晶装置に適用することが好
ましい点で携帯電話、電子時計、携帯型情報端末等の携帯型電子機器であることが好まし
い。
Next, an electronic apparatus according to the present invention includes any of the liquid crystal devices described above and a control unit for the liquid crystal device. Although the electronic device is not particularly limited, it is preferably a display device in terms of improving display quality, and is preferably applied to a transflective liquid crystal device, such as a mobile phone, an electronic watch, a portable information terminal, etc. It is preferable to be a portable electronic device.
次に、本発明の液晶装置の製造方法は、第1の基板と、該第1の基板に対向する第2の
基板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間に配置された液晶と、前記第1の基板の液
晶側に形成され前記液晶に電界を付与するための第1の電極及び第2の電極と、前記第2
の基板に形成された透光性を有する導電体層と、を具備し、前記第1の電極と前記第2の
電極との間に電界を形成することで前記液晶の配向方向を制御可能に構成された複数の画
素若しくはサブ画素が設けられてなる表示領域を有する液晶装置の製造方法において、前
記第2の基板に前記導電体層を前記表示領域に形成する導電体層形成工程と、前記導電体
層において前記画素若しくはサブ画素の少なくとも一部に開口部を形成する開口部形成工
程と、を具備することを特徴とする。
Next, the manufacturing method of the liquid crystal device of the present invention is arranged between the first substrate, the second substrate facing the first substrate, and the first substrate and the second substrate. A liquid crystal, a first electrode and a second electrode which are formed on the liquid crystal side of the first substrate and apply an electric field to the liquid crystal;
A light-transmitting conductive layer formed on the substrate, and an orientation of the liquid crystal can be controlled by forming an electric field between the first electrode and the second electrode. In the method of manufacturing a liquid crystal device having a display region in which a plurality of configured pixels or sub-pixels are provided, a conductor layer forming step of forming the conductor layer on the second substrate on the display region; An opening forming step of forming an opening in at least a part of the pixel or the sub-pixel in the conductor layer.
本発明の一の態様においては、前記開口部形成工程では、前記導電体層の開口予定部に
選択的にエッチング剤が塗布され、該エッチング剤によって前記導電体層が除去される。
In one aspect of the present invention, in the opening forming step, an etching agent is selectively applied to a predetermined opening portion of the conductor layer, and the conductor layer is removed by the etching agent.
本発明の他の態様においては、前記開口部形成工程では、前記導電体層上に前記開口予
定部を選択的に露出するエッチングマスクが形成され、該エッチングマスクを介して前記
導電体層が除去される。当該エッチングマスクはフォトリソグラフィ技術やインクジェッ
ト技術等を用いて形成できる。
In another aspect of the present invention, in the opening forming step, an etching mask that selectively exposes the planned opening is formed on the conductor layer, and the conductor layer is removed through the etching mask. Is done. The etching mask can be formed using a photolithography technique, an inkjet technique, or the like.
本発明の別の態様においては、前記画素若しくはサブ画素の少なくとも一部を構成する
ためのアライメントマークを前記第1基板若しくは前記第2基板に形成するアライメント
マーク形成工程をさらに具備し、前記開口部形成工程では、前記アライメントマークを位
置基準として用いて前記開口部が形成される。これによれば、画素若しくはサブ画素の少
なくとも一部(例えば、第1の電極、第2の電極、遮光層、能動素子、反射層、カラーフ
ィルタ等の少なくとも一つ)を構成するためのアライメントマークを用いて導電体層をパ
ターニングして開口部を設けるので、画素若しくはサブ画素の構造と整合した位置に開口
部を設けることができる。
In another aspect of the present invention, the method further comprises an alignment mark forming step of forming an alignment mark for forming at least a part of the pixel or sub-pixel on the first substrate or the second substrate, and the opening In the forming step, the opening is formed using the alignment mark as a position reference. According to this, the alignment mark for forming at least a part of the pixel or sub-pixel (for example, at least one of the first electrode, the second electrode, the light shielding layer, the active element, the reflective layer, the color filter, etc.) Since the opening is provided by patterning the conductor layer using the layer, the opening can be provided at a position aligned with the structure of the pixel or the sub-pixel.
また、本発明のさらに別の態様においては、前記開口部形成工程が前記画素若しくはサ
ブ画素の形成後に行われ、前記開口部形成工程では、前記画素若しくはサブ画素を構成す
る構造の少なくとも一部を位置基準として用いて前記開口部が形成される。これによれば
、実際に形成された画素若しくはサブ画素を構成する構造の少なくとも一部を位置基準と
することで開口部の位置精度をさらに高めることができる。
According to still another aspect of the invention, the opening forming step is performed after the pixel or sub-pixel is formed, and in the opening forming step, at least a part of the structure constituting the pixel or sub-pixel is formed. The opening is formed using as a position reference. According to this, the position accuracy of the opening can be further increased by using at least a part of the structure forming the actually formed pixel or sub-pixel as a position reference.
次に、添付図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。図1は本発明に
係る液晶装置の実施形態のサブ画素Gの内部構造を示す拡大断面図、図2は同サブ画素G
の内部構造のうち第1の基板上の一部構造を示す拡大平面図である。
Next, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view showing the internal structure of a subpixel G of an embodiment of a liquid crystal device according to the present invention, and FIG.
It is an enlarged plan view which shows a partial structure on a 1st board | substrate among these internal structures.
本実施形態の液晶装置はガラス、プラスチック等よりなる透明な第1の基板11と第2
の基板21とを図示しないシール材等により貼り合わせ、その間に液晶30を配置してな
る。第2の基板11上にはアルミニウム等の金属よりなる走査線31、容量線32が形成
され、酸化シリコン等よりなる絶縁膜12を介して多結晶シリコン等よりなる半導体層3
3、上記と同様の金属よりなる容量電極34、信号線36が形成される。さらに層間絶縁
膜13を介して共通電極14が形成される。共通電極14はITO等の透明導電体よりな
る透過電極部14tと、アルミニウム、銀等よりなる反射電極部14rとを有し、これら
が一体に構成される。なお、図示例では共通電極14は複数のサブ画素G間に跨って一体
に構成されたものとして示されるが、サブ画素Gごとに島状に独立して形成され、図示し
ない共通線に導電接続されるように構成してもよい。
The liquid crystal device according to this embodiment includes a transparent
The
3. A
なお、上記構造において、走査線31、半導体層33、信号線36、容量電極34の間
には、半導体層33と平面的に重なる走査線31の部分をゲート電極、走査線31と半導
体層33との間の絶縁膜12の一部をゲート絶縁膜とするトランジスタ(図示例では薄膜
トランジスタ)が構成され、サブ画素Gごとに設けられる能動素子(後述する画素電極1
6への給電を行うスイッチング素子)として機能する。また、容量線32と容量電極34
とは絶縁膜12を介して対向して蓄積容量を構成する。
Note that, in the above structure, between the scanning
6 functioning as a switching element for supplying power to 6). In addition, the
Constitutes a storage capacitor across the insulating
上記構造上には層間絶縁膜15が形成され、その上にアルミニウム等の金属よりなる画
素電極16が形成される。画素電極16は光透過領域Gt及び光反射領域Gr中を延在す
る複数の延長電極部16aで構成され、これらの複数の延長電極部16aは相互に間隔を
有して平行に配置される。図示例の場合、画素電極16の各延長電極部16aはそれぞれ
図示上下方向(以下、単にY方向という。)に伸び、これらの延長電極部16aは相互に
図示左右方向(以下、単にX方向という。)に配列される。これらの延長電極部16aは
一体に接続されてコンタクトホール35を通して上記容量電極34に導電接続される。な
お、共通電極14にはコンタクトホール35の形成領域を回避する開口部が形成され、こ
れによって画素電極16と共通電極14が短絡しないように構成される。なお、柱状スペ
ーサ37は第1の基板11と第2の基板21の間隔を保持するための内部スペーサである
。
An interlayer insulating
光反射領域Grにおいて、上記画素電極16上には誘電体層17が形成され、この誘電
体層17によって光反射領域Grにおける液晶30への印加電圧を低減し、光透過領域G
tと光反射領域Grの表示態様の差異を低減している。また、最上層にはポリイミド樹脂
等よりなる配向膜18が形成され、この配向膜18によって第1の基板11の表面と平行
な面内において所定の方位角に液晶30を配向させている。さらに、第1の基板11の外
面上には偏光板28が配置される。
In the light reflection region Gr, a
A difference in display mode between t and the light reflection region Gr is reduced. An
一方、第2の基板21の内面上には、サブ画素Gごとに対応する色度を有する色フィル
タ層が配列されてなるカラーフィルタ22が形成され、その上に透明保護膜23が形成さ
れる。また、その上には光反射領域Grにおいて内部位相差板24が形成される。この内
部位相差板24は、光透過領域Gtにおいて液晶30が透過光Lt(バックライトの照明
光)に与えるリタデーションと、光反射領域Grにおいて液晶30が往復光Lr(視認側
より入射した外光)に与えるリタデーションとの関係を調整する。また、その上には上記
と同様の配向膜25が形成される。さらに、第2の基板21の外面上にはITO等の透明
導電体よりなる導電体層26が形成され、さらにその上に偏光板29が配置される。なお
、導電体層26を第2の基板21の液晶側に設けてもよい。このようにすると、当該基板
の作製工程で導電体層を形成できるため、製造工程の簡略化が可能になる。
On the other hand, on the inner surface of the
本実施形態では、図2に示すように、偏光板28、29が相互に直交する偏光透過軸2
8aと29aをそれぞれ有し、これらの偏光透過軸28a,29aのうちの一方に対して
略平行となるように液晶30の分子の初期配向方向(電圧無印加時の配向方向、図2の実
線)が設定される。このとき、透過光Ltや往復光Lrに対しては液晶30によるリタデ
ーションは生じないので、偏光板28、29により遮光され、黒表示(遮光状態)となる
。これに対して、共通電極14と画素電極16の間に所定の電位差が与えられ、横電界(
正確には斜め電界)が発生すると、図2に点線で示すように液晶30の分子軸はX方向に
向き、これによって図1に示す透過光Lt及び往復光Lrにリタデーションが生ずるので
、偏光板28、29によって光透過状態である白表示となる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 2, the polarization transmission axis 2 in which the
8a and 29a, and the initial alignment direction of the molecules of the liquid crystal 30 (the alignment direction when no voltage is applied, solid line in FIG. 2) so as to be substantially parallel to one of the polarization transmission axes 28a and 29a. ) Is set. At this time, since the retardation by the
When an oblique electric field is generated, the molecular axis of the
なお、本実施形態の場合、共通電極14と画素電極16とが一部平面的に重なるFFS
型の画素構造を有するが、上記の原理に関しては共通電極と画素電極が並行して設置され
るIPS型の画素構造と同様であり、本実施形態の代わりにIPS型の画素構造を有する
液晶装置を構成することもできる。
In the case of the present embodiment, the FFS in which the
A liquid crystal device having an IPS type pixel structure in place of the present embodiment, which has the same type of pixel structure but is similar to the IPS type pixel structure in which the common electrode and the pixel electrode are installed in parallel. Can also be configured.
図3(a)は本実施形態のサブ画素Gが配列された表示領域内の一部を示す部分平面図
、図3(b)は図3(a)に示す表示領域内の一部に対応する導電体層26の一部を示す
平面図である。本実施形態では、表示領域内には複数の上記サブ画素Gが縦横にマトリク
ス状に配列される。そして、X方向にR(赤)、G(緑)、B(青)の色フィルタ層(図
示せず)を含むサブ画素G(R)、G(G)、G(B)が順次に配列され、Y方向に同色
の色フィルタ層(図示せず)を含むサブ画素Gが配列される。すなわち、図示例ではスト
ライプ型のカラーフィルタパターンとなっている。ただし、カラーフィルタパターンとし
ては、上記ストライプ型に限らず、斜めモザイクパターンやデルタパターンなどの任意の
構成とすることができる。図示例の場合、X方向に隣接するR(赤)、G(緑)、B(青
)の色フィルタ層(図示せず)を含む三つのサブ画素G(R)、G(G)、G(B)が一
つの画素(ピクセル)Pを構成し、当該画素Pが表示領域内に形成される画像の基本単位
となる所定の色相及び明度を有する表示単位領域を構成する。
FIG. 3A is a partial plan view showing a part in the display area in which the sub-pixels G of the present embodiment are arranged, and FIG. 3B corresponds to a part in the display area shown in FIG. FIG. 6 is a plan view showing a part of a
本実施形態において、導電体層26は、図3(b)に示すように上記画素Pごとに開口
部26aを有する。この開口部26aは光透過領域Gtに存在するが、光反射領域Grに
は形成されない。すなわち、導電体層26は光透過領域Gtのほぼ全体に亘り形成され、
光反射領域Grのいずれにも形成されていない。なお、この開口部26aは上記のように
画素Pごとに形成されているので、三つのサブ画素Gに亘り一体に形成されていることに
なる。なお、導電体層26は図示しない導電経路を設けて所定の電位(例えば、接地電位
や定電位、特にパネルに供給される電位であることが好ましい。)に導電接続することが
好ましいが、フローティング電位とすることでも十分な効果が得られる。
In the present embodiment, the
It is not formed in any of the light reflection regions Gr. Since the
本実施形態では、導電体層26に開口部26aを設け、この開口部26aを光透過領域
Gtに配置しているので、図10に示す迷光Ls′が発生しなくなるため、表示コントラ
ストの低下を抑制することができる。すなわち、ITO等の透明導電体で構成される導電
体層26はガラス等よりなる第2の基板21よりも屈折率が高いため、第2の基板21と
導電体層26の界面で光が液晶30側に反射しやすくなるために従来構造では迷光Ls′
が生じ、特に反射表示では表示の輝度そのものが本来的に小さく、しかも、黒表示では僅
かな迷光でもコントラストに大きく影響するので、迷光Ls′が生ずるとコントラストの
低下が著しくなる。しかし、本実施形態では開口部26aを設けることで迷光Ls′自体
が生じ無くなるので、上記の理由による表示コントラストの低下を防止できる。特に、反
射表示を利用する際の効果はきわめて大きい。
In the present embodiment, since the
In particular, in the reflective display, the display brightness itself is inherently small, and in the black display, even a slight stray light greatly affects the contrast. Therefore, when the stray light Ls ′ is generated, the contrast is significantly reduced. However, in the present embodiment, the stray light Ls ′ itself is not generated by providing the
また、本実施形態では、光反射領域Grには開口部26aが設けられていないため、導
電体層26の開口面積を抑制して導電体層26の形成範囲を広くすることができるため、
表示領域内の導電体層26の導電性を高めることができる。ITOや酸化スズなどの透明
導電体は一定の導電性を有するもののアルミニウム等の金属に比べると高抵抗となるので
、或る程度の厚み(通常は100〜200Å程度)が必要とされるだけでなく、なるべく
広範囲に形成する必要がある。本実施形態では導電体層26に開口部26aを設ける必要
があるので、第2の基板21の帯電を防止する上で必要な導電体層26の導電性を確保す
る上では本来的に不利であるが、上記のように開口部26aの形成範囲が限定されること
で、必要な導電性を確保することが容易になる。
In the present embodiment, since the
The conductivity of the
本実施形態では複数のサブ画素Gで構成される画素Pごとに開口部26aを形成してい
るため、開口部26aのアライメント精度を画素Pの寸法に応じて確保すればよい。ただ
し、当該アライメント精度に支障がなければ、図3(b)に点線で示すように各サブ画素
Gごとにそれぞれ開口部26aを形成しても構わない。
In this embodiment, since the
なお、上記実施形態とは異なり、開口部26aを光透過領域Gtの一部にのみ形成した
り、或いは、開口部26aを光反射領域Grの一部にのみ形成しないようにした場合でも
、それぞれ程度の差はあるおのの上記の効果が得られる。また、一つの開口部を複数の画
素(或いはサブ画素)に亘るように設けてもよく、或いは、開口部を設ける画素(或いは
サブ画素)と設けない画素(或いはサブ画素)とを形成してもよく、さらには、表示領域
内で開口部の密度を変えるようにしても構わない。この点は以下の各例でも同様である。
Unlike the above-described embodiment, even when the
図4は上記とは異なる導電体層26′を有する変形例の拡大平面図である。なお、他の
構成は上記実施形態と同様である。図4(b)に示すように、導電体層26′は上記実施
形態と同様に開口部26a′を画素Pごとに有するが、当該開口部26a′は光反射領域
Grのほぼ全体に亘り設けられ、光透過領域Gtには設けられていない。この場合には、
光反射領域Grに開口部26a′が設けられることで、図8に示す表面反射光Lo′によ
る表示の視認性の悪化を防止できる。
FIG. 4 is an enlarged plan view of a modified example having a
By providing the
なお、この例においても、図4(b)に点線で示すようにサブ画素Gごとに開口部26
a′を設けることも可能である。また、開口部26a′を光反射領域Grの一部にのみ形
成したり、或いは、開口部26a′を光透過領域Gtの一部にのみ設けないようにした場
合でも、それぞれ程度の差はあるものの上記の効果が得られる。
Also in this example, as shown by the dotted line in FIG.
It is also possible to provide a ′. Further, even when the
図5はさらに異なる導電体層26″を有する変形例の拡大平面図である。なお、他の構
成は上記実施形態と同様である。図5(b)に示すように、導電体層26″は上記実施形
態と同様に開口部26a″を画素Pごとに有するが、当該開口部26a″は光透過領域G
tと光反射領域Grのほぼ全体に設けられる。この場合には、迷光Ls′及び表面反射光
Lo′を共に防止し、高い表示品位を得ることができるが、その一方で、表示領域内の導
電体層26″の導電性が或る程度低下する。
FIG. 5 is an enlarged plan view of a modified example having a further
It is provided over almost the entire t and light reflection region Gr. In this case, both the stray light Ls ′ and the surface reflected light Lo ′ can be prevented and high display quality can be obtained. On the other hand, the conductivity of the
なお、本例においても、図5(b)に点線で示すようにサブ画素Gごとに開口部26a
′を設けることも可能である。また、開口部26a″を光透過領域Gt及び光反射領域G
rのそれぞれ一部にのみ形成するように構成してもよい。この場合でも、程度の差はある
ものの表示品位の向上効果は得られ、しかも、表示領域内の導電体層26″の導電性の低
下を或る程度抑制できる。
In this example as well, an
It is also possible to provide '. Further, the
You may comprise so that it may form only in each one part of r. Even in this case, although there is a difference in degree, an effect of improving the display quality can be obtained, and furthermore, a decrease in the conductivity of the
図6は、さらに別の変形例を示す概略平面図である。この例においては、導電体層27
、27′を第2の基板21の外面上に形成するが、この導電体層27、27′には、画素
Pが配列されてなる表示領域D内において、図6(a)及び(b)に示すように、複数の
画素Pの配列方向(図示左右方向)に延長され、一体に形成された開口部27a、27a
′が設けられている。このようにすると、開口部27a、27a′の個々の開口面積が大
きくなるので、サブ画素Gや画素Pに対する位置ずれによる影響がほとんどなくなり、サ
ブ画素Gや画素Pに対する導電体層27、27′の開口範囲を安定的に最大限確保するこ
とができる。
FIG. 6 is a schematic plan view showing still another modified example. In this example, the
27 'are formed on the outer surface of the
'Is provided. In this way, the individual opening areas of the
ここで、図6(a)に示す例では、導電体層27の開口部27aを表示領域Dの所定の
配列方向に並ぶ全ての画素Pに亘り一体に設けている。一方、図6(b)に示す例では、
導電体層27′の開口部27a′を表示領域Dの所定の配列方向に並ぶ複数の画素Pに亘
って一体に設けられているが、駆動領域D内において当該配列方向に複数の開口部27a
′が形成されている。どちらの例でも、程度の差はあるものの、上述の効果を得ることが
できる。
Here, in the example shown in FIG. 6A, the opening 27 a of the
The
'Is formed. In either example, the above-described effects can be obtained although there are differences in degree.
次に、図7を参照して本発明に係る液晶装置の製造方法の実施形態について説明する。
図7(a)及び(b)は当該実施形態の導電体層26の形成方法を示す工程断面図である
。
Next, an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIG.
7A and 7B are process cross-sectional views illustrating a method for forming the
最初に、図7(a)に示すように、第2の基板21の外面上に蒸着法、スパッタリング
法等によりITOよりなる導電体層26を少なくとも表示領域D内において全面的に形成
する。次に、当該導電体層26上に、塩化第二鉄/塩酸水溶液、ヨウ素酸水溶液、リン酸
水溶液、塩酸/硝酸水溶液(王水)、シュウ酸水溶液等を含むエッチングペースト41を
印刷等によって開口予定部に選択的に塗布する。塗布方法はスクリーン印刷等の印刷法で
あることが好ましい。そして、当該エッチングペースト41による導電体層26のエッチ
ングが完了するまで放置するか、若しくは加熱処理を施し、その後、純水等で洗浄するこ
とで、図7(b)に示すように開口部26aが形成される。
First, as shown in FIG. 7A, a
図7(c)及び(d)は他の方法を示す工程断面図である。この方法では、まず、図7
(c)に示すように、上記の導電体層26を形成した後に、導電体層26上にフォトレジ
ストを塗布し、開口予定部に対応する露光マスクを用いて露光した後、現像することでエ
ッチングマスク42を形成する。エッチングマスク42には開口予定部に露出部42aが
形成されるので、このエッチングマスク42を介して導電体層26を塩化第二鉄/塩酸水
溶液、ヨウ素酸水溶液、リン酸水溶液、塩酸/硝酸水溶液(王水)、シュウ酸水溶液等を
用いてエッチングすることで、図7(d)に示すように開口部26aを形成することがで
きる。その後、剥離液を用いてエッチングマスク42を剥離、除去することで、図7(b
)に示す状態とすることができる。
7C and 7D are process cross-sectional views illustrating another method. In this method, first, FIG.
As shown in (c), after forming the
).
図7(e)はさらに別の方法を示す工程断面図である。この方法では、第2の基板21
上に導電体層26を形成した後に、インクジェットヘッド43から液滴44を吐出させ、
この液滴44が第2の基板21上で固化することで、図7(a)と同様のエッチングペー
スト45を開口予定部に塗布するか、或いは、図7(c)と同様に開口予定部に対応する
露出部45aを有するエッチングマスク45を形成する。これらの各場合のその後の処理
はそれぞれ上記と同様である。
FIG. 7E is a process cross-sectional view showing still another method. In this method, the
After the
The
上記の導電体層26の形成工程及び開口部26aの形成工程は、第2の基板21を第1
の基板11と貼り合わせる前に行ってもよく、或いは、第2の基板21を第1の基板11
に貼り合わせた後、すなわち、上記サブ画素Gや画素Pを構成するための各基板の内面構
造が形成された後に行ってもよい。
In the formation process of the
Or the
May be performed after the inner surface structure of each substrate for forming the sub-pixel G and the pixel P is formed.
前者の場合、両工程、特に開口部26aの形成工程で、図6に示す第2の基板21に設
けられたアライメントマーク21x、21y、或いは、第1の基板11に設けられたアラ
イメントマーク11x、11yを基準として位置合わせを行い、上記の処理を行う。ここ
で、アライメントマーク21x、21y、或いは、アライメントマーク11x、11yは
、それぞれサブ画素G若しくは画素Pを構成する第1の基板11若しくは第2の基板21
の内面上の構造を形成する場合に用いるアライメントマークである。例えば、上記共通電
極14、画素電極16、走査線31、容量線32、カラーフィルタ22、或いは説明を省
略した遮光層などのうち、少なくとも一つを形成する際に用いるアライメントマークが挙
げられる。
In the former case, alignment marks 21x and 21y provided on the
It is an alignment mark used when forming the structure on the inner surface of the. For example, an alignment mark used for forming at least one of the
後者の場合、両工程、特に開口部26aの形成工程は、上記アライメントマークを用い
て行ってもよいが、この外に、既に形成されたサブ画素G若しくは画素Pの構造の一部を
位置基準として実施しても構わない。例えば、上記共通電極14、画素電極16、走査線
31、容量線32、カラーフィルタ22、或いは説明を省略した遮光層などのうち、少な
くとも一つの所定部位そのものをアライメントマークとして用いる。
In the latter case, both of the steps, particularly the step of forming the
[電子機器]
最後に、上記実施形態の液晶装置100を搭載した電子機器について説明する。図8は
、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電
話機200は、複数の操作ボタン、送話口などを備えた操作部201と、受話口などを備
えた表示部202とを有し、表示部202の内部に上記実施形態に示した液晶装置100
が組み込まれてなる。そして表示部202の表面(内面)上において液晶装置100の表
示領域Dを視認することができるようになっている。この場合、携帯電話機200の内部
には、上記液晶装置100を制御する後述する表示制御回路が設けられる。この表示制御
回路は公知のドライバ回路120に対して所定の制御信号を送り、液晶装置100の表示
態様を決定する。
[Electronics]
Finally, an electronic apparatus equipped with the
Will be incorporated. The display area D of the
図9は電子機器における液晶装置100に対する制御系(表示制御系)の全体構成を示
す概略構成図である。ここに示す電子機器(上記携帯電話機200)は、表示情報出力源
291と、表示情報処理回路292と、電源回路293と、タイミングジェネレータ29
4と、照明ユニット130への電力供給を行う光源制御回路295とを含む表示制御回路
290を有する。また、液晶装置100には、上述の構成を有する液晶表示体である液晶
パネル110と、この液晶パネル110を駆動するドライバ回路120と、液晶パネル1
10を照明する照明ユニット130とが設けられている。
FIG. 9 is a schematic configuration diagram showing an overall configuration of a control system (display control system) for the
4 and a light
And an
表示情報出力源291は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memo
ry)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニ
ットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ2
94によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等
の形で表示情報を表示情報処理回路292に供給するように構成されている。
The display
ry) and the like, a storage unit composed of a magnetic recording disk, an optical recording disk, and the like, and a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal.
The display information is supplied to the display information processing circuit 292 in the form of an image signal or the like of a predetermined format based on various clock signals generated by 94.
表示情報処理回路292は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテー
ション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情
報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共にドライバ回路120へ供
給する。ドライバ回路120は走査線駆動回路及び信号線駆動回路を含む。また、電源回
路293は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
The display information processing circuit 292 includes various known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information to obtain image information. Is supplied to the
光源制御回路295は、電源回路293から供給される電圧に基づいて照明ユニット1
30の光源に電力を供給し、所定の制御信号に基づいて光源の点灯の有無及びその輝度等
を制御するようになっている。
The light
Power is supplied to 30 light sources, and whether or not the light sources are turned on and their luminances are controlled based on a predetermined control signal.
また、本発明に係る電子機器としては、図8に示す携帯電話機の他に、液晶テレビ、カ
ーナビゲーション装置、電子手帳、電卓、ワークステーション、テレビ電話、POS端末
機などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として本発明に係る液晶装
置を用いることができる。ただし、本発明は半透過型の液晶装置100の表示品位を高め
ることができるという特徴を有するため、特に、携帯電話、携帯型情報端末などといった
携帯型表示装置、カーナビゲーションや車載モニタ等の車載用表示装置に用いる場合に有
効である。
In addition to the mobile phone shown in FIG. 8, examples of the electronic apparatus according to the present invention include a liquid crystal television, a car navigation device, an electronic notebook, a calculator, a workstation, a videophone, and a POS terminal. The liquid crystal device according to the present invention can be used as a display portion of these various electronic devices. However, since the present invention has a feature that the display quality of the transflective
11、21…基板、14…共通電極、14t…透過電極部、14r…反射電極部、16…
画素電極、22…カラーフィルタ、26…導電体層、26a…開口部、31…走査線、3
2…容量線、35…半導体層、36…信号線、D…表示領域、G…サブ画素、Gt…光透
過領域、Gr…光反射領域、P…画素
DESCRIPTION OF
Pixel electrode, 22 ... color filter, 26 ... conductor layer, 26a ... opening, 31 ... scanning line, 3
2 ... capacitor line, 35 ... semiconductor layer, 36 ... signal line, D ... display region, G ... sub-pixel, Gt ... light transmission region, Gr ... light reflection region, P ... pixel
Claims (9)
板の間に配置された液晶と、前記第1の基板の前記液晶側に形成され該液晶に電界を付与
するための第1の電極及び第2の電極と、前記第2の基板に形成された透光性を有する導
電体層と、を具備し、前記第1の電極と前記第2の電極との間に電界を形成することで前
記液晶の配向方向を制御可能に構成された複数の画素またはサブ画素からなる表示領域を
有する液晶装置において、
前記導電体層は前記表示領域に設けられるとともに前記複数の画素またはサブ画素の少
なくとも一部を開口する開口部を備えることを特徴とする液晶装置。 A first substrate, a second substrate facing the first substrate, a liquid crystal disposed between the first substrate and the second substrate, and on the liquid crystal side of the first substrate A first electrode for forming an electric field applied to the liquid crystal, a second electrode, and a light-transmitting conductor layer formed on the second substrate; In a liquid crystal device having a display region composed of a plurality of pixels or sub-pixels configured to control the alignment direction of the liquid crystal by forming an electric field between the first electrode and the second electrode.
The liquid crystal device, wherein the conductor layer is provided in the display region and includes an opening that opens at least a part of the plurality of pixels or sub-pixels.
徴とする請求項1に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 1, wherein the conductor layer is disposed on a surface of the second substrate opposite to the liquid crystal.
透過領域に設けられ、前記光反射領域の少なくとも一部には設けられていないことを特徴
とする請求項1又は2に記載の液晶装置。 The pixel or the sub-pixel includes a light transmission region and a light reflection region, and the opening is provided in the light transmission region and is not provided in at least a part of the light reflection region. Item 3. The liquid crystal device according to item 1 or 2.
は前記光反射領域に設けられ、前記光透過領域の少なくとも一部には設けられていないこ
とを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。 The pixel or the sub-pixel region includes a light transmission region and a light reflection region, and the opening is provided in the light reflection region and is not provided in at least a part of the light transmission region. The liquid crystal device according to claim 1 or 2.
項1乃至4のいずれか一項に記載の液晶装置。 The liquid crystal device according to claim 1, wherein the opening is provided for each of the pixels or the sub-pixels.
徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の液晶装置。 5. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the opening is provided integrally over two or more of the pixels or the sub-pixels.
ることを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1 and a control unit for the liquid crystal device.
板の間に配置された液晶と、前記第1の基板の前記液晶側に形成され該液晶に電界を付与
するための第1の電極及び第2の電極と、前記第2の基板に形成された透光性を有する導
電体層と、を具備し、前記第1の電極と前記第2の電極との間に電界を形成することで前
記液晶の配向方向を制御可能に構成された複数の画素またはサブ画素からなる表示領域を
有する液晶装置の製造方法において、
前記第2の基板に前記導電体層を前記表示領域に形成する導電体層形成工程と、
前記導電体層において前記画素またはサブ画素の少なくとも一部に開口部を形成する開
口部形成工程と、
を具備することを特徴とする液晶装置の製造方法。 A first substrate, a second substrate facing the first substrate, a liquid crystal disposed between the first substrate and the second substrate, and on the liquid crystal side of the first substrate A first electrode for forming an electric field applied to the liquid crystal, a second electrode, and a light-transmitting conductor layer formed on the second substrate; In the method of manufacturing a liquid crystal device having a display region composed of a plurality of pixels or sub-pixels configured to control the alignment direction of the liquid crystal by forming an electric field between the first electrode and the second electrode.
A conductor layer forming step of forming the conductor layer on the second substrate in the display region;
An opening forming step of forming an opening in at least a part of the pixel or sub-pixel in the conductor layer;
A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising:
れ、該エッチング剤によって前記導電体層が除去されることを特徴とする請求項8に記載
の液晶装置の製造方法。 9. The liquid crystal device according to claim 8, wherein, in the opening forming step, an etching agent is selectively applied to a predetermined opening portion of the conductor layer, and the conductor layer is removed by the etching agent. Manufacturing method.
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005234547A (en) * | 2004-01-20 | 2005-09-02 | Sharp Corp | Display element and display device |
JP2005321615A (en) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display device |
JP2009229855A (en) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Epson Imaging Devices Corp | Liquid crystal display device and electronic apparatus using the same |
-
2008
- 2008-03-26 JP JP2008079907A patent/JP5357438B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005234547A (en) * | 2004-01-20 | 2005-09-02 | Sharp Corp | Display element and display device |
JP2005321615A (en) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Hitachi Displays Ltd | Liquid crystal display device |
JP2009229855A (en) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Epson Imaging Devices Corp | Liquid crystal display device and electronic apparatus using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5357438B2 (en) | 2013-12-04 |
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