JP2009233927A - Manufacturing method for inkjet head - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電極に保護膜を有するとともにノズルがレーザー加工で形成されたインクジェットヘッドの製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing an inkjet head having a protective film on an electrode and a nozzle formed by laser processing.
特許文献1には、圧電部材のせん断モード変形を利用しノズルからインク滴を吐出させる、所謂せん断モード型インクジェットヘッドが記載されている。図7は、この従来技術のインクジェットヘッドの分解斜視図である。図8は、この従来技術のインクジェットヘッドの要部断面図である。 Patent Document 1 describes a so-called shear mode type ink jet head in which ink droplets are ejected from nozzles by utilizing shear mode deformation of a piezoelectric member. FIG. 7 is an exploded perspective view of this conventional ink jet head. FIG. 8 is a cross-sectional view of the main part of the conventional ink jet head.
このインクジェットヘッド111は、圧電部材に切削加工により形成した複数の溝117を有する圧電セラミックプレート116と、インク供給口125を備えたインク室プレート123と、複数のノズル127が形成されたノズルプレート126とで構成されている。ポリイミド製のノズルプレート126にエキシマレーザによるレーザー加工を施すことによりノズル127を形成することが例示されている。溝117と、インク室プレート123とノズルプレート126とで囲まれる空間は、インク吐出圧力を発生する圧力室を形成している。隣接する圧力室間で共有される圧電部材の側壁118には、電極119が備えられている。電極119に駆動パルスを印加すると、その側壁118はインク吐出圧力を発生する圧力発生手段として動作する。ノズルプレート126は圧電セラミックプレート116とインク室プレート123との接合体150に保護層120が成膜された後にこの接合体150の端面に接合されている。
The
電極119上には、無機材料からなる無機絶縁膜121と有機材料からなる有機絶縁膜122とが順次具備された保護層120が形成されている。無機絶縁膜121の材料として、二酸化シリコン(SiO2)を用い、膜厚は0.5μm以上である。有機絶縁膜122の材料としてモノクロロパラキシレンを用い、膜厚は5μm以上である。
On the
このインクジェットヘッドは、無機絶縁膜121が有機溶媒に対して耐性を有し、有機絶縁膜122が無機薬品に対して耐性を有することから、電気伝導性を有する多種多様の液体をインクとして用いてもインクと電極119との間の絶縁性が維持でき、電極119の溶解等を防止できることが記載されている。
特許文献1には、インクジェットヘッドを製造する工程において、ノズル127が形成されたノズルプレート126を接合体150に接合したのか、あるいはノズル127が形成されていないノズルプレート126を接合体150に接合した後にノズル127を形成したのかについては開示されていない。この異なるノズル形成方法によるインクジェットヘッドは、下記の課題を有する。以下、図9及び図10を用いて説明する。
In Patent Document 1, in the process of manufacturing an inkjet head, the
図9は、既にノズル127が形成されたノズルプレート126を接合体150に接合して製造したインクジェットヘッドの断面図である。ノズルプレート126を圧電セラミックプレート116とインク室プレート123との接合体150に接着剤151を用いて接合する。ノズルプレート126と接合体150を接合する時に、接着剤151が接合体150とノズルプレート126の隙間からはみ出して、ノズル127の溝117側の開口部の一部が塞がれる。ノズル127の一部でも塞がると、インク吐出時にノズル127内のインクの流れが乱れ、インクの吐出速度や吐出方向がばらつき、印字品質が劣化する。
FIG. 9 is a cross-sectional view of an ink jet head manufactured by joining a
図10は、ノズル127が形成されていないノズルプレート126を接合体150に接合した後に、エキシマレーザによってノズル127を形成したインクジェットヘッドの断面図である。ノズル127が形成されていないノズルプレート126と接合体150を接合した時に漏れ出した接着剤151は、エキシマレーザによるノズル127の加工時に除去される。そのため、ノズル127の溝117側の一部が塞がれるために起こる、印字品質の低下は防止できる。
FIG. 10 is a cross-sectional view of the ink jet head in which the
しかし、レーザー加工によってノズル127を形成するときに、レーザー光がノズルプレート126を貫通した直後にレーザー光が保護層120に照射される。そのため、レーザー光が照射される部位152において保護層120がダメージを受ける。保護層120は有機絶縁膜122と無機絶縁膜121との2層で構成されているが、有機絶縁膜122はレーザー光を受けると蒸発して穴があいてしまう。無機絶縁膜121も膜厚が0.5μm程度ではレーザー光に対する耐性が不十分であり、インクと電極119との間の絶縁性を維持することができない。このため、電気伝導性を有するインクを用いた場合、レーザー光が照射された部位152の電極119の溶解等を防止できず、インクジェットヘッドの耐久性を維持できない。
However, when the
以上述べたように、特許文献1に開示されたインクジェットヘッドは、ノズルプレートを接合する前にノズルを形成する場合には印字品質が劣化する課題を有し、ノズルプレートを接合した後にノズルを形成する場合にはインクジェットヘッドの耐久性を維持することができない課題を有する。本発明はこの課題を解消し、電気伝導性のインクを用いても印字品質と耐久性を両立するインクジェットヘッドを提供することを目的とする。 As described above, the inkjet head disclosed in Patent Document 1 has a problem that the print quality deteriorates when the nozzle is formed before the nozzle plate is joined, and the nozzle is formed after the nozzle plate is joined. In this case, there is a problem that the durability of the inkjet head cannot be maintained. An object of the present invention is to solve this problem and to provide an ink jet head that achieves both printing quality and durability even when an electrically conductive ink is used.
本発明は、以上の課題を解決するために、インクを吐出させる複数のノズルが形成されたノズルプレートと、前記ノズルに各々連通する複数の圧力室と、前記圧力室内のインクを前記ノズルから吐出させる圧力発生手段と、前記圧力室にインクを供給するインク供給手段と、前記圧力発生手段の圧力室側の面に形成され、前記圧力発生手段に駆動パルスを供給する電極と、前記電極の圧力室側の面に成膜され、絶縁性を有する無機材料からなる第1の保護膜と、前記第1の保護膜の圧力室側の面に成膜され、絶縁性を有する有機材料からなる第2の保護膜とを有するインクジェットヘッドの製造方法において、前記第1の保護膜を成膜した後に、ノズル形成前のノズルプレートを前記圧力室の一面に接着し、前記第2の保護膜を成膜した後に、レーザー加工により前記ノズル形成前のノズルプレートに前記ノズルを形成するレーザー加工工程を含み、前記レーザー加工工程において前記ノズルが開口した後にレーザー光が照射される部位における前記第1の保護膜の膜厚が1μm以上であることを特徴としたインクジェットヘッドの製造方法とした。 In order to solve the above problems, the present invention provides a nozzle plate in which a plurality of nozzles for ejecting ink are formed, a plurality of pressure chambers communicating with the nozzles, and ejects ink in the pressure chambers from the nozzles. Pressure generating means, ink supply means for supplying ink to the pressure chamber, an electrode formed on the pressure chamber side surface of the pressure generating means, for supplying a driving pulse to the pressure generating means, and pressure of the electrode A first protective film formed on the chamber side surface and made of an insulating inorganic material; and a first protective film made of an insulating organic material formed on the pressure chamber side surface of the first protective film. In the method of manufacturing an ink jet head having two protective films, after forming the first protective film, a nozzle plate before nozzle formation is adhered to one surface of the pressure chamber to form the second protective film. After filming Including a laser processing step of forming the nozzle on a nozzle plate before the nozzle formation by laser processing, and the film thickness of the first protective film in a portion irradiated with laser light after the nozzle is opened in the laser processing step Was 1 μm or more.
本発明によれば、ノズルプレートの接着後にレーザー加工によりノズルを形成するため、ノズルプレート接着時にはみ出た接着剤はノズル加工時のレーザー光により除去される。そのため、接着剤のノズル穴へのはみ出しによる印字品質の劣化を防止することが可能である。また、レーザー加工においてノズルが開通した直後にレーザー光が保護膜に照射され、照射される部位では有機材料からなる第2の保護膜は蒸発するが、無機材料からなる第1の保護膜は1μm以上の膜厚を有するためインクと電極との絶縁性を維持できる。第1の保護膜は無機材料から成るためピンホールの発生を完全に防止することは難しいが、第1の保護膜はレーザー光が照射される部位以外では第2の保護膜で保護されるため、ピンホールにより絶縁性が損なわれる可能性は低い。このため、電気伝導性を有する液体をインクとして用いた場合でも、電極119の溶解等を防止でき、インクジェットヘッドの耐久性を維持することができる。すなわち、本発明によれば、ノズルがレーザー加工により形成されるとともに、圧力室内面に絶縁保護層を有する構造のインクジェットヘッドにおいて、印字品質と電気伝導性のインクに対する耐久性を両立するインクジェットヘッドを提供することができる。
According to the present invention, since the nozzle is formed by laser processing after the nozzle plate is bonded, the adhesive that protrudes when the nozzle plate is bonded is removed by the laser beam at the time of nozzle processing. Therefore, it is possible to prevent deterioration of print quality due to the adhesive protruding into the nozzle hole. Further, immediately after the nozzle is opened in laser processing, the protective film is irradiated with laser light, and the second protective film made of an organic material evaporates at the irradiated portion, but the first protective film made of an inorganic material is 1 μm. Since the film thickness is as described above, the insulation between the ink and the electrode can be maintained. Since the first protective film is made of an inorganic material, it is difficult to completely prevent the generation of pinholes. However, the first protective film is protected by the second protective film except for the portion irradiated with the laser beam. It is unlikely that the insulation will be damaged by the pinhole. For this reason, even when a liquid having electrical conductivity is used as the ink, dissolution of the
本発明の実施形態のインクジェットヘッドの構造と動作について説明する。図1及び図2はインクジェットヘッド1の断面図を示している。 The structure and operation of the inkjet head according to the embodiment of the present invention will be described. 1 and 2 are cross-sectional views of the ink jet head 1.
インクジェットヘッド1は、基板12、天板枠13、天板蓋17、ノズルプレート16で構成されている。基板12には複数の長溝11が平行に形成されている。各々の長溝11の内面には電極4が電気的に独立して形成されており、基板12の上面を経てフレキシブルケーブル7に接続している。フレキシブルケーブル7はインクジェットヘッドを駆動する駆動パルスを発生させる駆動回路20に接続されている。電極4の表面には、絶縁性無機材料からなる第1の保護膜5、絶縁性有機材料からなる第2の保護膜6が順次成膜されている。各々の長溝11は天板枠13で封止され、長溝11と天板枠13で囲まれた部分は圧力室3を形成する。隣接する圧力室3は、圧電部材8、9からなる側壁10を介して分離されている。側壁10は、互いに反対方向に分極された圧電部材8,9で構成され、電極4に印加される駆動パルスによって、剪断モードで変形するアクチュエータとして動作する。圧力室3の端部にはノズルプレート16が設けられ、ノズルプレート16に形成されたノズル2を介して各々の圧力室3と外部が連通している。インクは、天板蓋17に形成されたインク供給口14から共通圧力室15、長溝11、圧力室3、ノズル2の順に供給される。駆動回路20から駆動パルスが供給されると、電極4a、4cと電極4bとの間に電位差が生じ、側壁10a、10bに電界が生じる。この電界により側壁10a、10bが剪断モードで変形し、圧力室3b内のインクに圧力変動が生じてノズル2bからインクが吐出する。電気伝導性を有するインクを用いた場合でも、インクと電極4との間は第1の保護膜及び第2の保護膜により電気的に絶縁されている。したがって、インクに電流が流れることによる電極4の腐食やインクの電気分解や顔料などのインク内の分散体の凝集等が防止される。
The inkjet head 1 includes a
基板12は、アルミナ(Al2O3)、窒化珪素(Si3N4)、炭化珪素(SiC)、窒化アルミニウム(AlN)、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)などを用いることが可能である。圧電部材8、9との膨張係数の差異と誘電率を考慮して、基板12として低誘電率のPZTを用いている。圧電部材8、9は、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT:Pb(Zr,Ti)O3)、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、タンタル酸リチウム(LiTaO3)などである。この実施形態では、圧電定数の高いPZTを用いている。
For the
電極4は、ニッケル(Ni)と金(Au)の2層構造になっている。電極4は長溝の内部にも均一に成膜するために、メッキ法によって形成した。長溝それぞれに個別に電極を形成するために必要なマスキングを行い、メッキ法を行っている。電極4の形成方法として、スパッタ法や、蒸着法を用いることも可能である。長溝11は深さ300μm幅80μmの形状で、169μmピッチで平行に配列されている。
The
ノズルプレート16は、厚さ50μmのポリイミドフィルムで、エキシマレーザ装置によって長溝数に相当するノズル2が形成されている。ノズル2の形状は、吐出側の開口径が30μm、圧力室側の開口径が50μmで、吐出側に狭まった逆テーパになっている。
The
インクジェットヘッド1の製造方法について説明する。図3は実施形態のインクジェットヘッド1の製造工程を示す断面図である。 A method for manufacturing the inkjet head 1 will be described. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the inkjet head 1 of the embodiment.
〔第1の実施の形態〕
図3(a)に示すように、板厚方向に互いに向きが反対方向になるように分極された2枚の圧電部材8、9(PZT)を接着し、それを基板12に埋め込んで接着する。基板1の材料は、前述したように圧電部材2、3に比べ誘電率が低いPZTを用いている。次に、ダイヤモンドカッタによる切削加工で、図3(b)に示すように、基板12端面に平行でかつ圧電部材8、9を横切る方向に、一定間隔の複数の長溝11を形成する。次に、図3(c)に示すように、基板の表面と長溝の内面に無電解Niメッキにより電極パターンを形成し、さらに電極上に金メッキを行う。次に、無機絶縁材料からなる第1の保護膜としてSiO2を長溝内に膜厚1μm以上で成膜する。
[First Embodiment]
As shown in FIG. 3 (a), two
SiO2膜の成膜は、高周波スパッタリングにより膜厚1μm以上に成膜する。なお、成膜時、基板12上面に引き出された電極4の一部をマスキングすることによって、フレキシブルケーブル7と電極4の接続部分には、SiO2膜が成膜されないようにしている。
The SiO 2 film is formed to a thickness of 1 μm or more by high frequency sputtering. During film formation, a part of the
無機絶縁材料としては、Al2O3、SiO2、ZnO、MgO、ZrO2、Ta2O5、Cr2O3、TiO2、Y2O3、YBCO、ムライト(Al2O3・SiO2)、SrTiO3、Si3N4、ZrN、AlNなどを用いることが可能である。 Examples of the inorganic insulating material include Al 2 O 3 , SiO 2 , ZnO, MgO, ZrO 2 , Ta 2 O 5 , Cr 2 O 3 , TiO 2 , Y 2 O 3 , YBCO, mullite (Al 2 O 3 .SiO 2 ), SrTiO 3 , Si 3 N 4 , ZrN, AlN, or the like.
成膜方法としては、前述のスパッタ法、CVD(化学気相成長)法、蒸着法、ゾル−ゲル法、メッキ法、塗布法、印刷法などを用いることが可能である。言い換えれば、真空中又は大気中において、金メッキ電極上で化学反応又は凝縮させることによって無機絶縁材料を堆積させている。SiO2を含む前述の無機絶縁材料を金メッキ電極上に成膜可能な方法であればどの方法を用いてもよい。 As the film forming method, the above-described sputtering method, CVD (chemical vapor deposition) method, vapor deposition method, sol-gel method, plating method, coating method, printing method, or the like can be used. In other words, the inorganic insulating material is deposited by chemical reaction or condensation on the gold-plated electrode in a vacuum or in the atmosphere. Any method may be used as long as the above-described inorganic insulating material containing SiO 2 can be formed on the gold-plated electrode.
次に、図3(d)に示すように、基板12の上面に天板枠13を接着する。次に、図3(e)に示すように、切削加工により基板12を2つのインクジェットヘッド1に分割する。次に、図3(f)に示すように、圧力室3の側面にノズルプレート16となるポリイミドフィルムを接着する。ポリイミドフィルムを圧力室3の側面に接着すると、側壁10とポリイミドフィルムとの間にある接着剤は、圧力室3内にはみ出すことになる。はみ出した接着剤はポリイミドフィルムの圧力室側に薄い膜となって硬化する。
Next, as shown in FIG. 3D, the
次に、図3(g)に示すように、第2の保護膜として有機絶縁材料であるパリレン(ポリパラキシリレン)を長溝内に膜厚3μm以上で成膜する。パリレンの成膜方法を説明する。 Next, as shown in FIG. 3G, parylene (polyparaxylylene), which is an organic insulating material, is formed as a second protective film with a film thickness of 3 μm or more in the long groove. A method for forming a parylene film will be described.
原料であるジパラキシリレンを気化させた後、高温で熱分解をすることによって、反応性の高いラジカルなモノマー(ジラジカルパラキシリレン)にする。そのモノマーが第1の保護膜又は金メッキ電極に吸着すると、そこで重合して高分子膜(パリレン膜)を形成する。 After vaporizing the raw material diparaxylylene, it is thermally decomposed at a high temperature to form a highly reactive radical monomer (diradical paraxylylene). When the monomer is adsorbed on the first protective film or the gold plating electrode, it polymerizes there to form a polymer film (parylene film).
なお、パリレン以外の有機絶縁材料として、ポリイミドやDLC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)などを用いることも可能である。 In addition, as an organic insulating material other than parylene, polyimide, DLC (diamond-like carbon), or the like can be used.
この実施形態では図3(e)(f)で示す2つのインクジェットヘッド1に分割し、ポリイミドフィルムと天板枠13を基板12に接着した後に、図3(g)で示すパリレン膜を形成している。図3(e)で示す2つのインクジェットヘッドに切断したとき、側壁11の切断部近傍で粗面となることがある。この場合であってもポリイミドフィルムを接着後にパリレン膜を成膜するので、図3(g)で示すように長溝11とポリイミドフィルムの境界近傍にも十分に有機絶縁膜が成膜されている。
In this embodiment, the ink jet head 1 is divided into two ink jet heads 1 shown in FIGS. 3E and 3F, and after a polyimide film and a
次に、図3(h)に示すように、エキシマレーザによりポリイミドフィルムのノズルプレート16に逆テーパ形状のノズルを形成する。ポリイミドフィルムを挟んで圧力室3と反対側からエキシマレーザをポリイミドフィルムに照射し、ポリイミドを化学的に分解しノズルを形成する。エキシマレーザの焦点位置をポリイミドフィルムからずらすことで、レーザー光が広がるため吐出口側が狭く圧力室側が広い逆テーパ形状を形成している。
Next, as shown in FIG. 3H, a reverse-tapered nozzle is formed on the
図4に、エキシマレーザによりポリイミドフィルムのノズルプレート16に逆テーパ加工が行なわれた後のノズル2周辺の詳細断面図を示す。圧力室3の側面にノズルプレート16を接着した時にはみ出した接着剤18は、エキシマレーザによるノズル2の形成時に除去される。同時に、側壁10上に照射されたレーザー光により、第2の保護膜である有機絶縁膜の一部も除去されてレーザーダメージ穴19が形成される。しかし、レーザーダメージ穴19の部位において、第1の保護膜5の厚みは1μm以上を有するため、第1の保護膜5はレーザー光が照射されても穴は形成されない。したがって、圧力室3の内部に導電性のインクが注入された場合でも、電極4とインクとは電気的な絶縁が保たれる。そのため、電極4の腐食やインクの電気分解等を防止することが可能である。第1の保護膜5は無機材料から成るためピンホールの発生を完全に防止することは難しいが、レーザーダメージ穴19以外の部分では第1の保護膜は第2の保護膜により保護されるため、ピンホールにより絶縁性が損なわれる可能性は小さい。
FIG. 4 shows a detailed cross-sectional view around the
無機絶縁膜である第1の保護膜5のレーザー加工に対する耐性を確認するため、次の試験を行った。金電極上にSiO2膜を0.5μm、1μm、3μm、5μmの厚みで成膜した4種類の試験片にエキシマレーザ光を10mJの強度で照射した後、これらの試験片の絶縁性を調べた。その結果、膜厚が0.5μmの試験片では絶縁が保たれなかったが、膜厚が1μm以上の試験片では絶縁が維持できていることが確認された。絶縁性の調査には図5に示す装置を用い、フェノールレイン液の赤色反応で導通を確認した。エキシマレーザ光を10mJの強度としたのは、ポリイミドフィルムのノズル穴の加工に要するエネルギと同じ条件にするためである。この試験結果から、1μm以上の厚みの無機絶縁膜であればレーザー光が照射されても絶縁性が維持できることが確認できた。
In order to confirm the resistance of the first
〔第2の実施の形態〕
第2の実施の形態について説明する。図6(a)に示すように、板厚方向に互いに向きが反対方向になるように分極された2枚の圧電部材8、9(PZT)を接着し、それを基板12に埋め込んで接着する。基板12の材料は、前述したように圧電部材8、9に比べ誘電率が低いPZTを用いている。次に、ダイヤモンドカッタによる切削加工で、図6(b)に示すように、基板12端面に平行でかつ圧電部材8、9を横切る方向に、一定間隔の複数の長溝11を形成する。次に、図6(c)に示すように、基板の表面と長溝の内面に無電解Niメッキにより電極パターンを形成し、さらに電極上に電解金メッキを行う。次に、無機絶縁材料からなる第1の保護膜としてSiO2を長溝内に膜厚1μm以上で成膜する。続いて、第2の保護膜として有機絶縁材料であるパリレン(ポリパラキシリレン)を長溝内に膜厚3μm以上で成膜する。SiO2、パリレンの成膜は、第1の実施形態と同様に行った。
[Second Embodiment]
A second embodiment will be described. As shown in FIG. 6A, two
次に、図6(d)に示すように、基板12の上面に天板枠13を接着し、図6(e)に示すように、切削加工により基板12を2つのインクジェットヘッドに分割し、図6(f)に示すように、圧力室3の側面にノズルプレート16となるポリイミドフィルムを接着する。
Next, as shown in FIG. 6 (d), the
次に、図6(g)に示すように、エキシマレーザによりポリイミドフィルムのノズルプレート16に逆テーパ形状のノズルを形成する。ノズル加工は第1の実施形態で説明した加工と同じ条件で行った。
Next, as shown in FIG. 6G, an inversely tapered nozzle is formed on the
第2の実施形態においても、図4に示すレーザーダメージ穴19の部位において、第1の保護膜5の厚みは1μm以上を有するため、第1の保護膜5はレーザー光が照射されても穴は形成されない。したがって、圧力室3の内部に導電性のインクが注入された場合でも、電極4とインクとは電気的な絶縁が保たれる。そのため、電極4の腐食やインクの電気分解等を防止することが可能である。
Also in the second embodiment, since the thickness of the first
1 インクジェットヘッド
2 ノズル
3 圧力室
4 電極
5 第1の保護膜
6 第2の保護膜
7 フレキシブルケーブル
8、9 圧電部材
10 側壁
11 長溝
12 基板
13 天板枠
14 インク供給口
15 共通圧力室
16 ノズルプレート
17 天板蓋
18 接着剤
19 レーザーダメージ穴
1 Inkjet head
2 nozzles
3 Pressure chamber
4 electrodes
5 First protective film
6 Second protective film
7 Flexible cable
8, 9 Piezoelectric member
10 Side wall
11 Long groove
12 Substrate
13 Top plate frame
14 Ink supply port
15 Common pressure chamber
16 Nozzle plate
17 Top cover
18 Adhesive
19 Laser damage hole
Claims (2)
前記第1の保護膜を成膜した後に、ノズル形成前のノズルプレートを前記圧力室の一面に接着し、前記第2の保護膜を成膜した後に、レーザー加工により前記ノズル形成前のノズルプレートに前記ノズルを形成するレーザー加工工程を含み、前記レーザー加工工程において前記ノズルが開口した後にレーザー光が照射される部位における前記第1の保護膜の膜厚が1μm以上であることを特徴としたインクジェットヘッドの製造方法。 A nozzle plate having a plurality of nozzles for discharging ink, a plurality of pressure chambers communicating with the nozzles, pressure generating means for discharging ink in the pressure chambers from the nozzles, and supplying ink to the pressure chambers Formed on the pressure chamber side surface of the pressure generating means, and formed on the pressure chamber side surface of the electrode, and formed from an inorganic insulating material. In the method of manufacturing an ink jet head, comprising: a first protective film comprising: a second protective film made of an organic insulating material and formed on the pressure chamber side surface of the first protective film;
After forming the first protective film, the nozzle plate before forming the nozzle is adhered to one surface of the pressure chamber, and after forming the second protective film, the nozzle plate before forming the nozzle by laser processing Including a laser processing step for forming the nozzle, wherein the thickness of the first protective film in the portion irradiated with laser light after the nozzle is opened in the laser processing step is 1 μm or more. A method for manufacturing an inkjet head.
前記第1および第2の保護膜を成膜した後に、ノズル形成前のノズルプレートを前記圧力室の一面に接着し、レーザー加工により前記ノズル形成前のノズルプレートに前記ノズルを形成するレーザー加工工程を含み、前記レーザー加工工程において前記ノズルが開口した後にレーザー光が照射される部位における前記第1の保護膜の膜厚が1μm以上であることを特徴としたインクジェットヘッドの製造方法。 A nozzle plate having a plurality of nozzles for discharging ink, a plurality of pressure chambers communicating with the nozzles, pressure generating means for discharging ink in the pressure chambers from the nozzles, and supplying ink to the pressure chambers Formed on the pressure chamber side surface of the pressure generating means, and formed on the pressure chamber side surface of the electrode, and formed from an inorganic insulating material. In the method of manufacturing an ink jet head, comprising: a first protective film comprising: a second protective film made of an organic insulating material and formed on the pressure chamber side surface of the first protective film;
After forming the first and second protective films, a laser processing step of adhering a nozzle plate before forming the nozzle to one surface of the pressure chamber and forming the nozzle on the nozzle plate before forming the nozzle by laser processing And a film thickness of the first protective film at a portion irradiated with laser light after the nozzle is opened in the laser processing step is 1 μm or more.
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