JP2009229968A - Liquid crystal panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶パネルに係り、詳しくは表示領域から引出されて非表示領域に配設され
る引回し配線に断線予防対策を施した液晶パネルに関するものである。
The present invention relates to a liquid crystal panel, and more particularly to a liquid crystal panel in which a lead-out preventing measure is taken for a lead-out wiring that is drawn from a display area and disposed in a non-display area.
液晶パネルは、画素電極等を設けた第1基板と、この基板に対向配設される第2基板と
を有する。そして、液晶パネルはこれらの第1、第2基板のいずれか一方の基板周囲の液
晶注入口の形成部分を除く箇所にシール材を塗布し、第1、第2基板を貼合わせて、液晶
注入口から第1、第2基板間に形成された空間内に液晶を注入し、この注入口を封止材で
封止する等の工程を経て製造されている。
The liquid crystal panel includes a first substrate provided with pixel electrodes and the like, and a second substrate disposed to face the substrate. Then, the liquid crystal panel applies a sealing material to a portion around either one of the first and second substrates except for the liquid crystal injection hole forming portion, and bonds the first and second substrates together, so that the liquid crystal injection The liquid crystal is manufactured through steps such as injecting liquid crystal into a space formed between the first and second substrates from the inlet and sealing the inlet with a sealing material.
この液晶パネルは、生産性を向上させるため、通常、大判の2枚のガラス基板、いわゆ
る2枚のマザー基板を貼合せた後に分割することによって製造されている。この工程中に
、個々の液晶パネルには、一方の基板を切断することによって他方の基板に設けられた端
子領域が露出するように形成される。
In order to improve the productivity, this liquid crystal panel is usually manufactured by laminating two large glass substrates, so-called two mother substrates, and then dividing them. During this process, each liquid crystal panel is formed such that a terminal region provided on the other substrate is exposed by cutting one substrate.
ところが、露出された端子領域は、通常、その表面が平坦でなく高低差を有する凸凹面
となっている。このため、基板の切断時等に発生したガラス粉やカレット(破片)等の異
物がこの凸凹面に当たると、端子領域に配設された配線を覆う絶縁膜が破れる等してこの
配線が損傷し断線してしまうことがある。そこで、このような損傷及び断線を防止するた
めに、最上層に樹脂膜を設けて配線を保護するようにした液晶表示装置が提案されている
(例えば、下記特許文献1参照)。
However, the exposed terminal region is usually not a flat surface but an uneven surface having a height difference. For this reason, if foreign matter such as glass powder or cullet (debris) generated when cutting the substrate hits this uneven surface, the insulating film covering the wiring disposed in the terminal area is broken, and this wiring is damaged. It may break. Therefore, in order to prevent such damage and disconnection, a liquid crystal display device has been proposed in which a resin film is provided on the uppermost layer to protect the wiring (for example, see
図12Aは液晶表示装置に設けられた液晶表示パネルの平面図、図12Bは図12Aの
XIIB−XIIB線の断面図、図12Cは図12BのXIIC部分の拡大断面図である。以下に
は、図12を参照して、下記特許文献1に開示された液晶表示装置を説明する。
12A is a plan view of a liquid crystal display panel provided in the liquid crystal display device, and FIG. 12B is a plan view of FIG. 12A.
XIIB-XIIB line sectional view, FIG. 12C is an enlarged sectional view of the XIIC portion of FIG. 12B. Hereinafter, a liquid crystal display device disclosed in
この液晶表示装置20は、シール材24で貼合わされた第1、第2透明基板22、23
を有する液晶パネル21を備えている。第1透明基板22は、第2透明基板23と対向す
る面に、シール材24で囲まれた表示領域25と、配線26が形成された端子領域27と
、を有している。この端子領域27の最上層には、配線26が外部接続される部分以外に
、表面が平坦な樹脂膜30が設けられている。第1透明基板22の端子領域27は、第1
、第2透明基板22、23をシール材24によって貼合わせた後に、第2透明基板23の
表面に設けたスクライブ線23aに沿って切断することによって、外部に露出されるよう
にして作製される。
The liquid
A
After the second
第2透明基板23が切断される箇所の付近においては、第1透明基板22上には配線2
6が形成され、この上に例えばゲート絶縁膜28及び保護絶縁膜29等からなる絶縁層が
形成され、その上に樹脂膜30が積層されている。液晶パネル21は、これらの第1透明
基板22側の積層体の上にシール材24、及び第2透明基板23が位置するようにして第
2透明基板23と貼合わされた後、第2透明基板23が切断されることによって、端子領
域27が露出されるようにする。この構成によると、切断時には、樹脂膜30によって配
線26が保護されるので、ガラス粉やカレット等の異物によって配線26が傷付けられ難
くなり、その結果配線の断線が抑制される。
6 is formed, and an insulating layer made of, for example, a
特にTV用やPCモニター用等の大型の液晶表示装置に搭載される液晶パネルは、配線
の1本1本がある程度の太さを有するので、ガラス粉やカレットによる配線の断線はあま
り発生しない。しかし、携帯電話機に代表される携帯情報端末等に搭載される小型の液晶
パネルは、更なる小型化及び高精細化が求められている。しかし、このような小型の液晶
パネルは、さらに小型化及び高精細化の傾向にあることから、配線の1本1本が極細化さ
れるとともに各配線間の隙間も極小化されてきている。このため、例えば、液晶パネルの
非表示領域に設けられた引回し配線にストレスが加わって配線が断線し易くなったり、ま
た、端子領域においても上記のような異物による配線の損傷、断線及び配線間の短絡事故
が起こり易くなったりしている。したがって、上記特許文献1に開示された液晶表示装置
のように配線の上に樹脂膜を設けただけでは、このような断線や短絡事故の発生を抑制す
ることが難しい。
In particular, in a liquid crystal panel mounted on a large liquid crystal display device such as a TV or a PC monitor, each wiring has a certain thickness, so that disconnection of the wiring due to glass powder or cullet does not occur much. However, a small liquid crystal panel mounted on a portable information terminal or the like typified by a mobile phone is required to be further downsized and high definition. However, since such a small liquid crystal panel tends to be further reduced in size and definition, each wiring is miniaturized and a gap between each wiring is also minimized. For this reason, for example, stress is applied to the lead wiring provided in the non-display area of the liquid crystal panel, so that the wiring is easily disconnected. Also in the terminal area, wiring damage, disconnection, and wiring due to the above foreign matter are also caused. A short circuit accident is likely to occur. Therefore, it is difficult to suppress the occurrence of such disconnection or short-circuit accident only by providing a resin film on the wiring as in the liquid crystal display device disclosed in
また、このような液晶パネルにおいては、パネル全体の形状を大きくすることなく表示
領域だけをできるだけ大きくするために、表示領域周辺部を狭くする狭額縁化が図られて
いる。この狭額縁化に伴い、表示領域周辺に設けられる引回し配線を2層構造にした技術
も知られている(例えば、上記特許文献2参照)。しかし、上記特許文献2に開示された
液晶パネルのように引回し配線を2層配線構造にしたものでも、上層の引回し配線は保護
膜で覆われるだけなので、配線の断線や短絡事故が起こる恐れがある。
Further, in such a liquid crystal panel, a narrow frame is made to narrow the periphery of the display area in order to enlarge only the display area as much as possible without increasing the shape of the entire panel. Along with this narrowing of the frame, there is also known a technique in which routing wiring provided around the display area has a two-layer structure (for example, see Patent Document 2). However, even if the lead wiring has a two-layer wiring structure as in the liquid crystal panel disclosed in
さらに、表示領域内及びこの表示領域周辺の非表示領域にフォトスペーサを配設した液
晶パネルも知られている(例えば、上記特許文献3参照)。なお、上記特許文献3の液晶
パネルは、フォトスペーサをカラーフィルタ基板側に配設したものである。
Furthermore, a liquid crystal panel in which photo spacers are arranged in a display area and in a non-display area around the display area is also known (see, for example, Patent Document 3). Note that the liquid crystal panel of
本発明は、このような従来技術に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、表示
領域から周辺の非表示領域に引出されて配設された引回し配線が断線しないような構造に
することによって信頼性の向上を図った液晶パネルを提供することにある。
The present invention has been made in view of such a conventional technique, and an object of the present invention is a structure in which a lead-out wiring drawn out from a display area to a peripheral non-display area is not disconnected. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal panel with improved reliability.
本発明の他の目的は、表示領域から周辺の非表示領域に引出されて配設される引回し配
線に断線予防を施すだけではなく、表示領域内のセルギャップを均一に保持するようにし
た液晶パネルを提供することにある。
Another object of the present invention is to not only prevent disconnection of the lead-out wiring arranged from the display area to the surrounding non-display area, but also to maintain a uniform cell gap in the display area. It is to provide a liquid crystal panel.
本発明のまた他の目的は、多層配線構造にした引回し配線が断線しないような構造にす
ることによって信頼性の向上を図ると同時に小型化を可能にした液晶パネルを提供するこ
とにある。
Still another object of the present invention is to provide a liquid crystal panel that is improved in reliability and at the same time capable of being miniaturized by adopting a structure in which a routing wiring having a multilayer wiring structure does not break.
上記目的を達成するために、本発明の液晶パネルは、第1基板と、前記第1基板に対向
配設される第2基板とを有し、前記第1基板は、表示領域内に設けられた配線に接続され
、非表示領域に配線されると共に絶縁層で覆われた複数本の引回し配線と、前記引回し配
線が外部制御回路へ接続される端子領域と、を有し、前記第1、第2基板のいずれか一方
の基板の前記非表示領域に対応する箇所にシール材を塗布して貼合せた液晶パネルにおい
て、前記第1基板の前記非表示領域には、前記絶縁層の上に前記引回し配線を保護する突
起形状の保護部材が配設されていることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a liquid crystal panel of the present invention includes a first substrate and a second substrate disposed to face the first substrate, and the first substrate is provided in a display area. A plurality of lead wires connected to the non-display region and covered with an insulating layer, and a terminal region to which the lead wires are connected to an external control circuit, and In a liquid crystal panel in which a sealing material is applied and bonded to a location corresponding to the non-display area of one of the first and second substrates, the non-display area of the first substrate includes the insulating layer. A protrusion-shaped protective member for protecting the routing wiring is disposed on the top.
上記本発明の液晶パネルによれば、第1基板は、引回し配線を覆う絶縁層の上に、突起
形状の保護部材を配設することによって引回し配線を保護した状態で、第2基板と貼合わ
せされているので、引回し配線に掛かるストレスを緩和することができる。その結果、第
2基板と貼合わせた後この第2基板の一部を切除する際に、この保護部材によって引回し
配線が損傷したり、断線したり、さらには配線間の短絡事故が生じたりすることを抑制で
きる。
According to the liquid crystal panel of the present invention, the first substrate is connected to the second substrate in a state in which the routing wiring is protected by disposing a projection-shaped protection member on the insulating layer covering the routing wiring. Since they are bonded together, stress applied to the routing wiring can be reduced. As a result, when a part of the second substrate is cut off after being bonded to the second substrate, the protective member may lead the wiring to be damaged or disconnected, or a short circuit between the wires may occur. Can be suppressed.
また、本発明の液晶パネルにおいて、前記保護部材は、前記シール材の近傍、又は前記
第2基板を切除する切除線から前記端子領域へ延設させるのが好ましい。
In the liquid crystal panel according to the aspect of the invention, it is preferable that the protective member extends from the vicinity of the sealing material or from a cut line for cutting the second substrate to the terminal region.
上記好ましい態様によれば、保護部材をシール材の近傍、又は前記第2基板を切除する
切除線から端子領域へ延設されているので、これらの領域において、引回し配線が損傷し
たり、断線したり、さらには配線間の短絡事故が生じたりすることを効果的に抑制できる
。
According to the preferable aspect, since the protective member is extended to the terminal area from the vicinity of the sealing material or the cut line for cutting the second substrate, the lead wiring is damaged or disconnected in these areas. Or even a short-circuit accident between the wirings can be effectively suppressed.
また、本発明の液晶パネルにおいて、前記保護部材は、突起状スペーサとして形成され
、前記第1基板の表示領域には、柱状フォトスペーサが形成され、前記突起状スペーサは
前記柱状フォトスペーサと同一工程及び同一材料で形成するのが好ましい。
In the liquid crystal panel of the present invention, the protective member is formed as a protruding spacer, a columnar photospacer is formed in the display area of the first substrate, and the protruding spacer is the same step as the columnar photospacer. And the same material.
上記好ましい態様によれば、保護部材を突起状スペーサで形成したために、表示領域内
に配設されるフォトスペーサと協働させてセルギャップを均一に保持することが可能とな
る。特に、非表示領域においても、第1、第2基板との間のギャップを均一に維持するこ
とが可能となり特にシール材付近での表示ムラをなくすことができる。また、突起状スペ
ーサは、フォトスペーサと同一工程、同一材料で形成されるから、保護部材は特別な工数
を増やすことなく簡単に形成できる。
According to the preferable aspect, since the protective member is formed of the protruding spacer, the cell gap can be uniformly maintained in cooperation with the photo spacer disposed in the display area. In particular, even in the non-display area, the gap between the first and second substrates can be maintained uniformly, and display unevenness especially in the vicinity of the sealing material can be eliminated. Further, since the protruding spacer is formed of the same process and the same material as the photo spacer, the protective member can be easily formed without increasing the number of special steps.
また、本発明の液晶パネルにおいて、前記複数本の引回し配線は、前記非表示領域にお
いて間に絶縁膜を介在させて2層構造に配線され、上層に配線された引回し配線の上に前
記保護部材が形成されるのが好ましい。
Further, in the liquid crystal panel of the present invention, the plurality of routing wires are wired in a two-layer structure with an insulating film interposed in the non-display area, and the routing wires arranged on the upper layer are arranged on the routing layer. A protective member is preferably formed.
上記好ましい態様によれば、引回し配線は、非表示領域において2層配線構造に構成さ
れているので、1本分のスペースで2本の引回し配線を配線することができ、パネルサイ
ズを大きくすることなく非表示領域、すなわち表示領域周辺のスペースを狭くすることが
可能となり、表示領域を広げることができる。
According to the preferable aspect, since the lead wiring is configured in a two-layer wiring structure in the non-display region, two lead wirings can be wired in one space, and the panel size is increased. Without this, the non-display area, that is, the space around the display area can be narrowed, and the display area can be widened.
また、本発明の液晶パネルにおいて、前記2層構造の引回し配線は、間に絶縁膜を介在
させた状態で、下層の引回し配線の直上に上層の引回し配線が形成されるか、又は、下層
の引回し配線の斜め上方に上層の引回し配線が形成されるのが好ましい。
Further, in the liquid crystal panel of the present invention, the two-layer routing wiring has an upper routing wiring formed immediately above the lower routing wiring with an insulating film interposed therebetween, or It is preferable that the upper routing wiring is formed obliquely above the lower routing wiring.
上記好ましい態様によれば、引回し配線は、下層の引回し配線の直上に上層の引回し配
線を形成すれば、引回し配線間の距離を最も小さくすることができるので非表示領域のス
ペースを最小にすることが可能となり、下層の引回し配線の斜め上方に上層の引回し配線
を形成すれば、第1基板上に形成される構造物全体の厚みを薄くすることが可能となる。
According to the above preferred embodiment, if the upper wiring line is formed immediately above the lower wiring line, the distance between the wiring lines can be minimized, so that the space of the non-display area is reduced. If the upper routing wiring is formed obliquely above the lower routing wiring, the thickness of the entire structure formed on the first substrate can be reduced.
また、本発明の液晶パネルにおいて、前記第1基板の絶縁層は、前記引回し配線上を覆
う保護絶縁膜、又は、前記引回し配線上を覆う保護絶縁膜とこの保護絶縁膜上に形成され
る層間膜とから構成される積層体であるのが好ましい。
In the liquid crystal panel of the present invention, the insulating layer of the first substrate is formed on the protective insulating film covering the lead wiring or the protective insulating film covering the lead wiring and the protective insulating film. Preferably, it is a laminate composed of an interlayer film.
上記好ましい態様によれば、第1基板の絶縁層が、引回し配線を覆う保護絶縁膜である
タイプと、引回し配線上を覆う保護絶縁膜とこの上に形成された層間膜とから構成される
積層体であるタイプのいずれかの液晶パネルに保護部材を配設できる。
According to the preferable aspect, the insulating layer of the first substrate is composed of a type that is a protective insulating film that covers the routing wiring, a protective insulating film that covers the routing wiring, and an interlayer film formed thereon. A protective member can be disposed on any liquid crystal panel of the type that is a laminated body.
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するための液晶パネルを例示するものであって、本発明を
この液晶パネルに特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれるその
他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。
Hereinafter, the best embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the embodiment described below exemplifies a liquid crystal panel for embodying the technical idea of the present invention, and is not intended to specify the present invention for this liquid crystal panel. Other embodiments within the scope are equally applicable.
図1は本発明の第1の実施形態に係る液晶パネルであって、積層したカラーフィルタ基
板からTFTアレイ基板の配線を透視して見えるように図示した平面図である。図2は図
1のII−II線の断面図である。図3は図1の表示領域内の1画素を拡大した平面図である
。図4は図3のIV−IV線の拡大断面図である。図5は図1のV−V線の断面図である。図
6は図1のVI部分の拡大平面図である。図7は図6のVII−VII線の拡大断面図である。図
8は本発明の第2の実施形態に係る液晶パネルの表示領域内の1画素を拡大した平面図で
ある。図9は図8のIX−IX線の断面図である。図10は第2の実施形態に係る液晶パネル
の図5に対応する断面図である。図11は第2の実施形態に係る液晶パネルの図7に対応
する拡大平面図である。
FIG. 1 is a plan view illustrating a liquid crystal panel according to a first embodiment of the present invention so that the wiring of a TFT array substrate can be seen through from a laminated color filter substrate. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG. FIG. 3 is an enlarged plan view of one pixel in the display area of FIG. 4 is an enlarged sectional view taken along line IV-IV in FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line VV in FIG. FIG. 6 is an enlarged plan view of a portion VI in FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view taken along line VII-VII in FIG. FIG. 8 is an enlarged plan view of one pixel in the display area of the liquid crystal panel according to the second embodiment of the present invention. 9 is a cross-sectional view taken along the line IX-IX in FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view corresponding to FIG. 5 of the liquid crystal panel according to the second embodiment. FIG. 11 is an enlarged plan view corresponding to FIG. 7 of the liquid crystal panel according to the second embodiment.
[第1の実施形態]
まず、図1、図2を参照して、本発明の第1の実施形態に係る液晶パネルを説明する。
この液晶パネル1は、アクティブマトリクス方式を採用した液晶パネルである。なお、こ
の発明は、このタイプの液晶パネルに限定されるものではなく、他のタイプのものにも適
用できるものである。この液晶パネル1は、互いに対向配置される略矩形状の透明材料の
基板、例えばガラス基板からなる本発明の第1基板としてのTFTアレイ基板(以下、単
に「アレイ基板」という)2と、本発明の第2基板としてのカラーフィルタ基板(以下、
単に「CF基板」という)12と、を有している。液晶パネル1は、これらのアレイ基板
2及びCF基板12を、いずれか一方の基板の外周囲にシール材10を塗布して、内部に
所定大きさの空間が形成されるように貼合せ、この空間内部に液晶LCを封入することに
よって構成される。CF基板12は、貼合わせた後にCF基板12に設けられたスクライ
ブ線SCに沿って切断され、これによってアレイ基板2上には端子領域Tが露出される。
この端子領域Tには、液晶を駆動するための液晶駆動用ドライバDrが設けられている。
また、アレイ基板2及びCF基板12の外表面にはそれぞれ偏光板18a、18bが設け
られている。アレイ基板2及びCF基板は、それぞれの対向する面に、各種の電極及び配
線並びにカラーフィルタ等が設けられている。図2では、これらの配線等をそれぞれ構造
物3、13として図示した。
[First Embodiment]
First, a liquid crystal panel according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
The
12) (referred to simply as “CF substrate”). The
The terminal region T is provided with a liquid crystal driving driver Dr for driving the liquid crystal.
Further,
アレイ基板2は、その表面に複数本のゲート配線GW1〜GWn(n=1、2、3…)
(以下、これらを総称したものを「ゲート配線GW」ともいう)と複数本のソース配線S
W1〜SWn(n=1、2、3…)(以下、これらを総称したものを「ソース配線SW」
ともいう)とが表示領域DA内において間にゲート絶縁膜4(図4参照)を介してマトリ
クス状に配設されている。
The
(Hereinafter, the generic term of these is also referred to as “gate wiring GW”) and a plurality of source wirings S
W 1 to SW n (n = 1, 2, 3,...) (Hereinafter collectively referred to as “source wiring SW”)
Are also arranged in a matrix through the gate insulating film 4 (see FIG. 4) in the display area DA.
この表示領域DAの周囲には非表示領域NDAが設けられる。非表示領域NDAには、
複数本の引回し配線GL1〜GLn及びSL1〜SLnが配設されている。これらの引回
し配線GL1〜GLn及びSL1〜SLnは、一端が表示領域DA内の各ゲート配線GW
1〜GWn及びソース配線SW1〜SWnに接続されている。また、これらの引回し配線
GL1〜GLn及びSL1〜SLnの他端は、端子領域Tのドライバ実装領域T1まで延
設されて、この領域に実装された液晶駆動用ドライバDrに接続されている。
A non-display area NDA is provided around the display area DA. In the non-display area NDA,
A plurality of routing lines GL 1 to GL n and SL 1 to SL n are disposed. One end of each of the routing wirings GL 1 to GL n and SL 1 to SL n is each gate wiring GW in the display area DA.
1 to GW n and source wirings SW 1 to SW n are connected. Further, the other ends of the routing wires GL 1 to GL n and SL 1 to SL n are extended to the driver mounting region T 1 in the terminal region T, and are connected to the liquid crystal driving driver Dr mounted in this region. It is connected.
これらの引回し配線GL1〜GLn及びSL1〜SLnは、後述するようにアレイ基板
2上に絶縁膜を介して低位及び高位の引回し配線の2層配線構造になっている。そして高
位の引回し配線上には、絶縁層を介して突起状の保護部材11b(図5参照)が形成され
ている。この突起状の保護部材11bは、所定形状の突起状スペーサで形成するのが好ま
しい。
These routing wires GL 1 to GL n and SL 1 to SL n have a two-layer wiring structure of low and high routing wires on the
高位の引回し配線上に突起状の保護部材11bを配設することよって、従来技術が抱え
ていた課題、例えば引回し配線に掛かるストレスを緩和することができるとともに引回し
配線の損傷、断線及び配線間の短絡事故を抑制できる。また、この突起状の保護部材を突
起状スペーサで形成すると、表示領域DA内に配設するフォトスペーサ11aと協働して
セルギャップを均一に保持することが可能になる。
By disposing the protruding
図1〜図7を参照して、この液晶パネル1の製造プロセスを説明する。液晶パネル1は
、大判のアレイ基板用のマザーガラス基板及びCF基板用のマザーガラス基板(以下、単
に「マザー基板」という)から作製される。すなわち、液晶パネル1は、それぞれ大判の
マザー基板に所定の電極及び配線並びにカラーフィルタ等を形成する工程、これらの基板
上の個々の液晶パネルを形成するセル領域にシール材を塗布した後、両基板を個々のセル
毎に内部に所定大きさの空間が形成されるように貼合わせる工程、この貼合わされた基板
を個々のセルに分割する工程、個々のセルの内部空間に液晶を注入する工程、液晶注入口
を封止材で封止する工程等を経て製作される。さらに、個々の液晶パネル1は、CF基板
12に設けたスクライブ線SCに沿って切断されることによって、アレイ基板2上に端子
領域Tが露出させられるようにされる。
The manufacturing process of the
液晶パネル1は、このようにマザー基板を用いて上記製造プロセスを経て製作されるが
、以下、説明の便宜上、1個の液晶パネルについてその製造プロセスを詳述する。
The
アレイ基板2を構成するガラス基板2aの上面、すなわち、液晶LCと接触する面には
、行方向(横方向)に所定間隔をあけて複数本のゲート配線GW1〜GWn及び補助容量
電極Cが所定の配置に配設される。これらのゲート配線GW1〜GWn及び補助容量電極
Cは酸化シリコン(SiO2)又は窒化シリコン(SiNX)等の無機透明絶縁材料から
なるゲート絶縁膜4によって覆われる。次いで、このゲート絶縁膜4の上には、上記のゲ
ート配線GW1〜GWnと直交するようにマトリクス状にソース配線SW1〜SWnを配
設されるとともに、これらのゲート配線GW1〜GWnとソース配線SW1〜SWnとが
交差する箇所は薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)TFTが設けられ、
これらはSiO2又はSiNX等の無機透明絶縁材料からなるパッシベーション膜(以下
、「保護絶縁膜」ともいう)5で覆われる。このTFTは、ガラス基板2aの上面に形成
されたゲート電極Gを覆うゲート絶縁膜4上に半導体層6を設け、この半導体層6にソー
ス電極S及びドレイン電極Dの一端を接続させることで構成される。なお、ドレイン電極
Dの他端は補助容量電極Cにゲート絶縁膜4を介して平面視で重合している。
On the upper surface of the
These are covered with a passivation film (hereinafter also referred to as “protective insulating film”) 5 made of an inorganic transparent insulating material such as SiO 2 or SiN X. This TFT is configured by providing a
TFTに接続されたソース電極Sはソース配線SWから延在されており、ドレイン電極
Dは画素電極8に接続されている。これらは保護絶縁膜5によって覆われている。また、
ゲート電極Gはゲート配線GWから延在されている。これらのゲート配線GW1〜GWn
とソース配線SW1〜SWnとで囲まれるそれぞれの領域が、いわゆる1画素(サブ画素
)を構成し、これらゲート配線GW1〜GWn、ソース配線SW1〜SWn、及びTFT
から構成される複数の画素が形成されたエリアが表示領域DAとなっている。保護絶縁膜
5の上には所定厚の層間膜7が形成される。この層間膜7の上には画素電極8が形成され
る。また、保護絶縁膜5及び層間膜6の、補助容量電極Cの真上の部分にはコンタクトホ
ールCHが形成されて、このコンタクトホールCHを介して画素電極8とドレイン電極D
とが接続される。さらに、TFTの上方には、柱状スペーサ11aが形成される。柱状ス
ペーサ11aは、感光性樹脂、例えばアクリル系感光剤を所望の厚膜に塗布した後、所定
のマスクを使用して、露光及び現像並びに熱処理等を行うことによって、所定の形状に形
成される。
The source electrode S connected to the TFT extends from the source line SW, and the drain electrode D is connected to the pixel electrode 8. These are covered with a protective
The gate electrode G extends from the gate wiring GW. These gate wirings GW 1 to GW n
Each region surrounded by the source wirings SW 1 to SW n constitutes a so-called one pixel (sub pixel), and these gate wirings GW 1 to GW n , source wirings SW 1 to SW n , and TFTs
The display area DA is an area where a plurality of pixels composed of An
And are connected. Further, a
その後、柱状スペーサ11aを含めて表示領域DA内が配向膜9によって塗布されるこ
とによって覆われる(図4参照)。さらに、この配向膜9にはラビング処理が施される。
Thereafter, the display area DA including the
表示領域DAの周囲は、非表示領域NDAであるが、この非表示領域NDAは、図1に
示すように、表示領域DAの両側部のエリアWA1、WA2及びスクライブ線SCよりも
下側の端子領域Tから構成される。この非表示領域NDAには、引回し配線GL、SLが
配設され、表示領域DA内のゲート配線GW及びソース配線SWにそれぞれ接続される。
The periphery of the display area DA is a non-display area NDA. As shown in FIG. 1, the non-display area NDA is below the areas WA 1 and WA 2 and the scribe lines SC on both sides of the display area DA. Terminal region T. In the non-display area NDA, routing wirings GL and SL are arranged, and are connected to the gate wiring GW and the source wiring SW in the display area DA, respectively.
次に、図1及び図5〜図7を参照して、非表示領域NDAに配設される引回し配線GL
、SLの配線構造を説明する。
表示領域DA内の各ゲート配線GW1〜GWn及び各ソース配線SW1〜SWnは、表
示領域DAから非表示領域NDAへ引出されてそれぞれの引回し配線GL1〜GLn、S
L1〜SLnに接続される。すなわち、各ゲート配線GW1〜GWnは、アレイ基板2の
表示領域DAの外、すなわち表示領域DAの両側のエリアWA1、WA2へ引出されて、
列方向(縦方向)に沿って設けられたゲート配線用の各引回し配線GL1〜GLn(n=
1、2、3…)に接続される。このとき、奇数行のゲート配線、例えばGW1、GW3、
GW5…は、図1の左側のエリアWA1に引出されて、それぞれの引回し配線GL1、G
L2、GL3…GLmに接続される。一方、偶数行のゲート配線、例えばGW2、GW4
、GW6…は、図1の右側のエリアWA2に引出されてそれぞれ引回し配線GLm+1、
GLm+2、GLm+3…GLnに接続される。このように、ゲート配線GWを左右に振
分けて引出すことによって、引回し配線GLを基板上にバランスよく配設することが可能
になる。
Next, referring to FIGS. 1 and 5 to 7, the routing wiring GL disposed in the non-display area NDA.
The wiring structure of SL will be described.
The gate wirings GW 1 to GW n and the source wirings SW 1 to SW n in the display area DA are drawn from the display area DA to the non-display area NDA, and the respective routing wirings GL 1 to GL n , S
L 1 to SL n are connected. That is, each of the gate wirings GW 1 to GW n is drawn out of the display area DA of the
Each routing wiring GL 1 to GL n (n = n ) for the gate wiring provided along the column direction (vertical direction)
1, 2, 3 ...). At this time, gate wirings in odd rows, for example, GW 1 , GW 3 ,
GW 5 ... Is led out to the area WA 1 on the left side of FIG. 1, and the respective routing wirings GL 1 , G
L 2 , GL 3 ... GL m are connected. On the other hand, even-numbered gate wirings, for example, GW 2 and GW 4
,
GL m + 2 , GL m + 3 ... GL n are connected. In this way, by routing the gate wiring GW to the left and right, the routing wiring GL can be arranged on the substrate in a balanced manner.
それぞれの引回し配線GL1〜GLnは、表示領域DA外の両エリアWA1、WA2内
において2層構造に配線される。すなわち奇数番目の引回し配線GL1、GL3…はガラ
ス基板2a上に直接形成され、その上にはゲート絶縁膜4が形成され、さらにその上に、
奇数番目の引回し配線GL1、GL3…に隣接する偶数番目の引回し配線GL2、GL4
…が、奇数番目の引回し配線GL1、GL3…に対して上下方向に重ならないよう、左右
に(水平方向に)若干ずらして配線される。
Each routing wiring GL 1 to GL n is wired in a two-layer structure in both areas WA 1 and WA 2 outside the display area DA. That is, odd-numbered routing wirings GL 1 , GL 3 ... Are directly formed on the
Even-numbered routing lines GL 2 , GL 4 adjacent to odd-numbered routing lines GL 1 , GL 3 .
Are wired slightly shifted left and right (in the horizontal direction) so as not to overlap in the vertical direction with respect to the odd-numbered routing lines GL 1 , GL 3 .
この配線構造を、1つの奇数番目の引回し配線GL1と、この引回し配線GL1に隣接
する1つの偶数番目の引回し配線GL2とを用いて説明すると、図5に示すように、奇数
番目の引回し配線GL1は、アレイ基板2のガラス基板2a上に形成される。ガラス基板
2aと奇数番目の引回し配線GL1はゲート絶縁膜4によって覆われ、この上に偶数番目
の引回し配線GL2が形成される。なお、図5では奇数番目の引回し配線GL1をガラス
基板2a上に形成し、偶数番目の引回し配線GL2をゲート絶縁膜4上に配設した例を示
したが、この順序を逆にして偶数番目の引回し配線GL2をガラス基板2a上に形成し、
奇数番目の引回し配線GL1をゲート絶縁膜4上に配設するようにしてもよい。また、図
5に示されているように、奇数番目の引回し配線GL1とこれに隣接する偶数番目の引回
し配線GL2とは、上下方向に重ならないように配線されているが、上下方向に重ねて配
線してもよい。下位の奇数番目の引回し配線GL1の直上に上位の偶数番目の引回し配線
GL2を形成すれば、引回し配線間の距離を最も小さくすることができるので非表示領域
NDAのスペースを最小にすることが可能となり、奇数番目の引回し配線GL1の斜め上
方に偶数番目の引回し配線GL2を形成すれば、ガラス基板2a上に形成される構造物全
体の厚みを薄くすることが可能となる。ゲート絶縁膜4上に形成された偶数番目の引回し
配線GL2上には、保護絶縁膜5が形成される。さらに、この保護絶縁膜5は、層間膜7
で覆われる。他の引回し配線も同じようにして形成されている。
This wiring structure will be described using one odd-numbered routing wiring GL 1 and one even-numbered routing wiring GL 2 adjacent to this routing wiring GL 1 , as shown in FIG. The odd-numbered routing wiring GL 1 is formed on the
The odd-numbered routing wiring GL 1 may be disposed on the gate insulating film 4. Further, as shown in Figure 5, the even-numbered lead wirings GL 2 adjacent thereto and odd lead wirings GL 1, but are wired so as not to overlap in the vertical direction, the vertical The wiring may be overlapped in the direction. By forming the even-numbered lead wirings GL 2 of the upper right above the lower odd-numbered lead wirings GL 1, the minimum space of the non-display area NDA it is possible to minimize the distance between the lead wirings it is possible to, by forming the even-numbered lead wirings GL 2 obliquely upwardly of the odd-numbered lead wirings GL 1, it is possible to reduce the structure of the entire thickness to be formed on a
Covered with. Other lead wirings are formed in the same manner.
このように奇数番目の引回し配線GL1と偶数番目の引回し配線GL2とをゲート絶縁
膜4を介在して異なる層に形成すると、奇数番目の引回し配線GL1は、アレイ基板2の
ガラス基板2aの表面に接触した低位の引回し配線となり、偶数番目の引回し配線GL2
は、奇数番目の引回し配線GL1に対して上層に位置する高位の引回し配線となる。そし
て、保護絶縁膜5及び層間膜7からなる絶縁層上の、高位の引回し配線の真上の部分に突
起形状の保護部材としての突起状スペーサ11bが形成される。
When the odd-numbered routing lines GL 1 and the even-numbered routing lines GL 2 are formed in different layers with the gate insulating film 4 interposed therebetween, the odd-numbered routing lines GL 1 are connected to the
Is a high-level of lead wirings positioned on the upper layer relative to the odd-numbered routed wires GL 1. Then, a protruding
また、各ソース配線SW1〜SWnは、アレイ基板2の表示領域DAの外、すなわち表
示領域DAの下方の端子領域T方向へ引出されて、ソース配線用の各引回し配線SL1〜
SLn(n=1、2、3…)に接続されている。これらの引回し配線SL1〜SLnも2
層配線構造に形成されている。この2層配線構造の高位の引回し配線の上には、それぞれ
突起状スペーサ11bが形成される。したがって、これらの突起状スペーサ11bは、表
示領域DA外の両エリアWA1、WA2と、ドライバ実装領域T1を除く端子領域Tと、
に形成されている。
Each of the source lines SW 1 to SW n is drawn out of the display area DA of the
It is connected to SL n (n = 1, 2, 3...). These routing lines SL 1 to SL n are also 2
A layer wiring structure is formed. Protruding
Is formed.
端子領域Tにおいては、図7に示すように、高位の引回し配線GL2が表示領域DAか
ら端子領域Tへ延設されて、この延設された配線GL'2の端部に端子tが接続されてい
る。この端子tは、保護絶縁膜5及び層間膜7に形成されたコンタクトホール内に設けら
れる。低位の引回し配線GL1にも、不図示の端子が接続される。この端子も、図示して
いないが、ゲート絶縁膜4、保護絶縁膜5及び層間膜7に形成されたコンタクトホール内
に設けられている。したがって、低位及び高位引回し配線に接続された端子は、深さの異
なるコンタクトホールとして設けられている。
In the terminal region T, as shown in FIG. 7, a high-level lead wiring GL 2 extends from the display region DA to the terminal region T, and the terminal t is connected to the end of the extended wiring GL ′ 2. It is connected. This terminal t is provided in a contact hole formed in the protective
次に、引回し配線及びフォトスペーサの形成方法の一例を説明する。
まず、ゲート配線GW1〜GWnに接続された各引回し配線GL1〜GLn(n=1、
2、3…)について説明する。
Next, an example of a method for forming the lead wiring and the photo spacer will be described.
First, the routing wirings GL 1 to GL n (n = 1, n) connected to the gate wirings GW 1 to GW n .
2, 3, ...) will be described.
図1に示すように、まず、アレイ基板2のガラス基板2a上に、低位の引回し配線GL
1、GL3…が形成される。この低位の引回し配線GL1、GL3…は、表示領域DA外
の各エリアWA1、WA2において、表示領域DA内に配線されるゲート配線GW1〜G
Wnと同一材料を用いてゲート配線を形成するのと同じ工程で形成される。その後、これ
らの低位の引回し配線GL1、GL3…はゲート配線GW1〜GWnとともにゲート絶縁
膜4で覆われる。その後、このゲート絶縁膜4の上に高位の引回し配線GL2、GL4…
が形成される。この高位の引回し配線GL2、GL4…は、表示領域DA内に配線される
ソース配線SW1〜SWnと同一材料を用いてソース配線を形成するのと同じ工程で形成
される。
As shown in FIG. 1, first, a low-order routing wiring GL is formed on the
1 , GL 3 ... Are formed. The lower routing wirings GL 1 , GL 3 ... Are gate wirings GW 1 to G GW wired in the display area DA in the areas WA 1 and WA 2 outside the display area DA.
Using W n of the same material are formed in the same step as forming the gate wirings. After that, these lower routing wirings GL 1 , GL 3 ... Are covered with the gate insulating film 4 together with the gate wirings GW 1 to GW n . Thereafter, high-level routing lines GL 2 , GL 4 ... On the gate insulating film 4 .
Is formed. These high-level routing lines GL 2 , GL 4 ... Are formed in the same process as forming the source lines using the same material as the source lines SW 1 to SW n wired in the display area DA.
これらの各引回し配線は、互いに隣接するものが異なる層に形成された引回し配線とな
っている。すなわち、高位の引回し配線GL2、GL4…と低位の引回し配線GL1、G
L3…との間には高低差が生じる。したがって、同一の層に全ての引回し線GL1〜GL
nを形成する場合よりも配線間の隙間を小さくすることが可能となる。なお、高位の引回
し配線GL2、GL4…とゲート配線GW1〜GWnとの間にはゲート絶縁膜4が介在し
ているため、このままでは電気的な接続を行うことができない。そこで、高位の引回し配
線GL2、GL4…と各ゲート配線GW1〜GWnとは、ゲート絶縁膜4にコンタクトホ
ールを形成することによって接続される。図1においては、その接続点Jaが例示されて
いる。
Each of these routing wirings is a routing wiring formed in a different layer adjacent to each other. That is, the high-level routing lines GL 2 , GL 4 ... And the low-level routing lines GL 1 , G
There is a height difference between L 3 . Therefore, all the lead lines GL 1 to GL are arranged in the same layer.
It is possible to make the gap between the wirings smaller than when n is formed. In addition, since the gate insulating film 4 is interposed between the high-level routing wirings GL 2 , GL 4 ... And the gate wirings GW 1 to GW n , electrical connection cannot be performed as it is. Therefore, the high-level routing wirings GL 2 , GL 4 ... And the gate wirings GW 1 to GW n are connected by forming a contact hole in the gate insulating film 4. In FIG. 1, the connection point Ja is illustrated.
次いで、この高位の引回し配線GL2、GL4…は、保護絶縁膜5によって覆われる。
この保護絶縁膜5はさらに層間膜7によって覆われる。さらに、高位の引回し配線GL2
、GL4…を覆う保護絶縁膜5及び層間膜7からなる絶縁層の真上に突起状スペーサ11
bが形成される。この突起状スペーサ11bは表示領域DA内の柱状スペーサ11aを形
成するのと同じ工程で形成される(図5、図7参照)。
Next, the high-order routing wirings GL 2 , GL 4 ... Are covered with the protective
This protective
, GL 4 ... A protruding spacer 11 directly above the insulating layer composed of the protective
b is formed. The protruding
以上、ゲート配線GW1〜GWn用の各引回し配線GL1〜GLn(n=1、2、3…
)の形成方法について説明したが、ソース配線SW1〜SWnに接続された各引回し配線
SL1〜SLn(n=1、2、3…)も同様の方法によって形成される。特に、高位の引
回し配線(例えばSL2、SL4…)上には、突起状スペーサ11bが形成される。
As described above, the routing wirings GL 1 to GL n (n = 1, 2, 3...) For the gate wirings GW 1 to GW n .
) Has been described, the routing lines SL 1 to SL n (n = 1, 2, 3...) Connected to the source lines SW 1 to SW n are also formed by the same method. In particular, the protruding
なお、本実施形態においては、突起状スペーサ11bを高位の引回し配線GL2、GL
4…あるいはSL2、SL4…上にのみ形成したが、これは高位の引回し配線GL2、G
L4…あるいはSL2、SL4…の方が低位の引回し配線GL1、GL3…あるいはSL
1、SL3…より断線等の危険性が高いためである。すなわち、低位の引回し配線GL1
、GL3…あるいはSL1、SL3…の表面には、ゲート絶縁膜4、保護絶縁膜5及び層
間膜7の3層の絶縁材料が配設されているが、高位の引回し配線GL2、GL4…あるい
はSL2、SL4…の表面には保護絶縁膜5及び層間膜7の2層の絶縁材料しか配設され
ていない。したがって、仮に以降の工程でカレット等により絶縁膜の剥がれが生じた場合
、初めに断線するのは高位の引回し配線GL2、GL4…あるいはSL2、SL4…であ
る。しかしながら、本発明のようにこの高位の引回し配線GL2、GL4…あるいはSL
2、SL4…の表面に突起状スペーサ11bを形成しておけば、高位の引回し配線GL2
、GL4…あるいはSL2、SL4…の断線を良好に防止することが可能となる。
In the present embodiment, the protruding
4 ... or SL 2 , SL 4 ... formed only on the upper wiring lines GL 2 , G
L 4 ... Or SL 2 , SL 4 ... Is lower in routing wiring GL 1 , GL 3 .
This is because the risk of disconnection or the like is higher than 1 , SL 3 . That is, the low-order routing wiring GL 1
,
2 , if the protruding
, GL 4 ... Or SL 2 , SL 4 .
上記に説明したとおり、突起状スペーサ11bは、表示領域DA外の両エリアWA1、
WA2と、ドライバ実装領域T1を除く端子領域Tとに形成されている。また、上記に説
明したとおり、それぞれの引回し配線GL1〜GLn、SL1〜SLnとこれらを覆う絶
縁膜等は、表示領域DA内に設ける配線及び絶縁膜、例えば、ゲート配線GW1〜GWn
、ソース配線SW1〜SWn、ゲート絶縁膜4、保護絶縁膜5及び層間膜7等を形成する
材料を使用して、ほぼ同じ工程で形成される。これにより、これらの引回し配線GL1〜
GLn、SL1〜SLn等を形成するために特別な形成工程を増やす必要がなく、引回し
配線等の形成が簡単にできる。
As described above, the protruding
It is formed in WA 2 and terminal region T excluding driver mounting region T 1 . Further, as described above, each of the routing wirings GL 1 to GL n , SL 1 to SL n and the insulating film that covers them are the wiring and insulating film provided in the display area DA, for example, the gate wiring GW 1. ~ GW n
, The source wirings SW 1 to SW n , the gate insulating film 4, the protective
一方、CF基板12は、図4に示すように、ガラス基板12aの表面にはアレイ基板2
の画素領域に合わせてマトリクス状にブラックマトリクス19が設けられる。このブラッ
クマトリクス19で囲まれた領域には、複数色、例えば赤(R)、緑(G)、青(B)等
のカラーフィルタ14が設けられて、それらは平坦化膜15で覆われる。次いで、この平
坦化膜15の上に共通電極16が形成され、さらにその表面が配向膜17で覆われる。こ
の配向膜17には所定の方向にラビング処理が施される。
On the other hand, as shown in FIG. 4, the
A
アレイ基板2及びCF基板12は、上記のプロセスで作成された後に、アレイ基板2の
表示領域DAにシール材10を塗布することによって互いに貼合わされる。このとき、両
基板2、12の間には所定大きさの空間が形成されるようにする。この貼合せにより、柱
状スペーサ11a及び突起状スペーサ11bは、それらの頂部がCF基板12の表面に接
触した状態になる。次いで、貼合わされた両基板2、12間には、シール材10に設けら
れた液晶注入口から液晶LCが注入される。
The
液晶パネル1は上記の構成によって、シール材10の内側と外側とで両基板2、12間
のギャップ差が生じない。つまり、シール材10の内側すなわち表示領域DAにおける基
板面から柱状スペーサ11aの頂部までの高さに相当するギャップと、表示領域DAの外
側の非表示領域NDAにおける基板面から突起状スペーサ11bの頂部までのセル厚の高
さは等しい。したがって、シール材10近傍を含む液晶パネル1全体に亘り均一なギャッ
プが得られ、特に、シール材10付近での表示ムラを無くすることができる。
The
また、アレイ基板2及びCF基板12が互いに貼合わせられた後、CF基板12はスク
ライブ線SCから切断されて、一部が切除される。この切断は、例えばスクライブ・ブレ
ーク法によって行われる。すなわち、まず、CF基板12の外表面の切断面12bとなる
部分にスクライブ線SCを入れる。その後、切断面12bに対向するアレイ基板2の外表
面を叩いて端材12cをブレークさせる。従来は、この端材12cの除去時に、切断面1
2bの角が保護絶縁膜5と層間膜7とからなる積層体P(図5参照)に接触すると、その
衝撃によってこの積層体Pが剥がれて上位の引回し配線(図5ではGL2)が断線する恐
れがある。また、切断面12bの一部が欠けてカレットとしてこの積層体P上に残ると、
後の工程でカレットが挟まり上位の引回し配線がやはり断線する恐れがある。しかしなが
ら、本実施形態では、高位の引回し配線GL2、GL4…あるいはSL2、SL4…を保
護する突起状スペーサ11bが層間膜7上に更に設けられているので、上記のような損傷
及び断線を防止できる。
In addition, after the
When the corner 2b comes into contact with the laminated body P (see FIG. 5) composed of the protective
There is a risk that the cullet will be caught in a later process, and the upper routing wiring may be disconnected. However, in the present embodiment, since the protruding
このように、CF基板12の端材12cが切除されると、アレイ基板2の表面には、端
子領域Tが露出される。この端子領域Tには、図7に示すように、引回し配線GL及びS
Lが表示領域DAから端子領域Tのドライバ実装領域T1へ延設されて、この延設された
配線GL'の端部に端子tが形成されている。この端子tは、液晶駆動用ドライバDrの
端子に接続される。
Thus, when the
L is the extended from the display area DA to the driver mounting area T 1 of the terminal region T, the terminal t is formed at an end of the extended by the wiring GL '. This terminal t is connected to the terminal of the liquid crystal driving driver Dr.
[第2の実施形態]
図8〜図11を参照して、本発明の第2の実施形態に係る液晶パネル1Aを説明する。
なお、第2の実施形態の液晶パネルは、図8及び図9に示したとおり、上記第1の実施形
態に係る液晶パネル1とは、層間膜7を省いた点を除いてはほぼ同じ構造をしているので
、同一の構成要素については同一の参照符号を付し、詳細な説明は省略する。
[Second Embodiment]
A liquid crystal panel 1A according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
As shown in FIGS. 8 and 9, the liquid crystal panel according to the second embodiment has substantially the same structure as the
第2の実施形態に係る液晶パネル1Aは、図10及び図11に示すように、保護絶縁膜
5の上に層間膜7がなく、保護絶縁膜5の、高位の引回し配線GL2の上方に対応する位
置に突起状スペーサ11bが設けられた構成となっている。液晶パネル1Aは、この構成
によっても、第1の実施形態の液晶パネル1と同様の効果を奏することができる。すなわ
ち、CF基板12をスクライブ線SCに沿って切断し、端材12cを除去する時に、切断
面12bの角が保護絶縁膜5に接触する前に突起状スペーサ11bに接触することによっ
て、保護絶縁膜5が損傷することがなく、高位の引回し配線GL2が保護される。
As shown in FIGS. 10 and 11, the
1:液晶パネル 2:TFTアレイ基板(第1基板) 2a:ガラス基板 4:ゲート絶
縁膜 5:保護絶縁膜 6:半導体層 7:層間膜 8:画素電極 10:シール材 1
1a:柱状スペーサ 11b:突起状スペーサ(突起形状の保護部材) 12:カラーフ
ィルタ基板(第2基板) 12a:ガラス基板 12b:切断面 12c:端材 14:
カラーフィルタ 15:平坦化膜 16:共通電極 17:配向膜 18a、18b:偏
光板 19:ブラックマトリクス C:補助容量電極 D:ドレイン電極 G:ゲート電
極 Ja:接続点 GW1〜GWn:ゲート配線 GL1〜GLn:引回し配線 SW1
〜SWn:ソース配線 SL1〜SLn:引回し配線 S:スクライブ線(切断線) D
A:表示領域 NDA:非表示領域 T:端子領域 T1:ドライバ実装領域 Dr:液
晶駆動用ドライバ
1: Liquid crystal panel 2: TFT array substrate (first substrate) 2a: Glass substrate 4: Gate insulating film 5: Protective insulating film 6: Semiconductor layer 7: Interlayer film 8: Pixel electrode 10:
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a:
Color filter 15: Planarization film 16: Common electrode 17:
To SW n: source lines SL 1 to SL n: lead wirings S: scribe line (cutting line) D
A: Display area NDA: Non-display area T: Terminal area T 1 : Driver mounting area Dr: Liquid crystal drive driver
Claims (6)
領域内に設けられた配線に接続され、非表示領域に配線されると共に絶縁層で覆われた複
数本の引回し配線と、前記引回し配線が外部制御回路へ接続される端子領域と、を有し、
前記第1、第2基板のいずれか一方の基板の前記非表示領域に対応する箇所にシール材を
塗布して貼合せた液晶パネルにおいて、
前記第1基板の前記非表示領域には、前記絶縁層の上に前記引回し配線を保護する突起
形状の保護部材が配設されていることを特徴とする液晶パネル。 A first substrate; and a second substrate disposed opposite to the first substrate, the first substrate being connected to a wiring provided in a display area, being wired in a non-display area and insulated. A plurality of routing wirings covered with a layer, and a terminal region to which the routing wiring is connected to an external control circuit,
In a liquid crystal panel in which a sealing material is applied and pasted to a location corresponding to the non-display area of one of the first and second substrates,
In the non-display area of the first substrate, a projection-shaped protection member for protecting the routing wiring is disposed on the insulating layer.
子領域へ延設させたことを特徴とする請求項1に記載の液晶パネル。 2. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the protection member extends from the vicinity of the sealing material or a cut line for cutting the second substrate to the terminal region.
フォトスペーサが形成され、前記突起状スペーサは前記柱状フォトスペーサと同一工程及
び同一材料で形成したことを特徴とする請求項1に記載の液晶パネル。 The protective member is formed as a projecting spacer, a columnar photospacer is formed in the display area of the first substrate, and the projecting spacer is formed of the same process and the same material as the columnar photospacer. The liquid crystal panel according to claim 1.
に配線され、上層に配線された引回し配線の上に前記保護部材が形成されることを特徴と
する請求項1に記載の液晶パネル。 The plurality of routing wirings are wired in a two-layer structure with an insulating film interposed in the non-display region, and the protective member is formed on the routing wiring wired in an upper layer. The liquid crystal panel according to claim 1.
上に上層の引回し配線が形成されるか、又は、下層の引回し配線の斜め上方に上層の引回
し配線が形成されることを特徴とする請求項4に記載の液晶パネル。 The two-layer routing wiring has an insulating film interposed therebetween, and an upper routing wiring is formed immediately above the lower routing wiring, or obliquely above the lower routing wiring. 5. The liquid crystal panel according to claim 4, wherein an upper layer lead wiring is formed on the liquid crystal panel.
上を覆う保護絶縁膜とこの保護絶縁膜上に形成される層間膜とから構成される積層体であ
ることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の液晶パネル。 The insulating layer of the first substrate includes a protective insulating film that covers the lead wiring, or a stacked layer that includes a protective insulating film that covers the lead wiring and an interlayer film formed on the protective insulating film. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the liquid crystal panel is a body.
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