JP2009229663A - Method of manufacturing color filter substrate with spacer - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an inexpensive color filter substrate with spacers that precisely disposes and form spacer particles of different kinds at the same time at prescribed pattern positions on a color filter formed on a transparent substrate using ink jet printing. <P>SOLUTION: The color filter substrate with the spacers is obtained which has spacer particles with different particle sizes selectively disposed on a light shield layer in the color filter by arranging and drying spacer ink wherein the spacer particles 104 having the different particle sizes are dispersed selectively at fixed points by ink jet printing on a recessed plate 100 where a pattern corresponding to prescribed positions on a light shield film of the color filter formed on the transparent substrate is formed, and then positioning both the color filter substrate side and the recessed plate side and transferring the spacer particles. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、スペーサーをインクジェット印刷によってカラーフィルタ基板の遮光層上に選択的に配置、固定し、スペーサーによる光抜けや表示ムラ等のない高い表示品質の液晶ディスプレイを製造することができるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法に関する。   The present invention provides a spacer-equipped color which can selectively arrange and fix a spacer on a light-shielding layer of a color filter substrate by ink jet printing to produce a liquid crystal display with high display quality without light leakage or display unevenness due to the spacer. The present invention relates to a method for manufacturing a filter substrate.

現在、液晶ディスプレイはパソコン、携帯電子機器等に広く用いられている。
この液晶ディスプレイにおいて液晶層を一定の間隔で保ち、適正な液晶層の厚みを維持する役割を果たすのがスペーサーである。
Currently, liquid crystal displays are widely used in personal computers, portable electronic devices, and the like.
In this liquid crystal display, the spacer plays a role of maintaining the liquid crystal layer at a constant interval and maintaining an appropriate thickness of the liquid crystal layer.

従来の液晶ディスプレイの製造方法においては、画素電極が形成された基板上にスペーサーを散布して配置するため、位置制御は不可能であり、結果、ランダムな配置となるため液晶ディスプレイの表示部にもスペーサーが配置されてしまうという問題があった。スペーサーは一般的に合成樹脂やガラス等からなり、画素電極上にスペーサーが配置されると消偏作用によりスペーサー部分が光り漏れを起こす。また、スペーサー表面での液晶の配向が乱れることにより光抜けが起こり、コントラストや色調が低下し表示品質が悪化する問題がある。   In a conventional liquid crystal display manufacturing method, spacers are dispersed and arranged on a substrate on which pixel electrodes are formed, so position control is impossible, and as a result, random arrangement results in the display part of the liquid crystal display. However, there was a problem that spacers were arranged. The spacer is generally made of synthetic resin, glass, or the like, and when the spacer is disposed on the pixel electrode, the spacer portion causes light leakage due to the depolarizing action. In addition, there is a problem in that the alignment of the liquid crystal on the surface of the spacer is disturbed, light is lost, the contrast and color tone are lowered, and the display quality is deteriorated.

このようなスペーサーのランダム散布に伴う問題を解決するためには、スペーサーを遮光層部位に定点配置することが必要であり、このようにスペーサーを特定の位置にのみ配置する方法としては、フォトリソグラフィ方式やインクジェット印刷方式による形成方法が数多く提案されている。   In order to solve the problems associated with the random dispersion of spacers, it is necessary to place the spacers at fixed points on the light shielding layer. Thus, as a method of arranging the spacers only at specific positions, photolithography can be used. Many forming methods using the ink jet printing method and the ink jet printing method have been proposed.

フォトリソグラフィ方式は、カラーフィルタ基板の形成において主流な製造方法であり、感光性樹脂を基板上に全面塗布し、パターンが描画されたマスクを介して露光、現像することでカラーフィルタパターンを順次形成していく方法である。   The photolithographic method is a main manufacturing method in forming a color filter substrate. A photosensitive resin is applied onto the entire surface of the substrate, and a color filter pattern is sequentially formed by exposure and development through a mask on which a pattern is drawn. It is a way to do.

この方式は、パターン精度や製造安定性に優れているため、数多くの特許出願がなされており、例えば、特許文献1〜4においては感光性樹脂組成物に関して、現像性の向上や変形量の低減などに対応した組成物が提案されている。しかしながら、そもそもフォトリソグラフィ方式は、マスクを介して露光後、現像することにより任意パターンを形成するので、特に、スペーサー形成においては、パターン形成部分が1%にも満たないため、材料のロスが非常に大きいというデメリットがある。   Since this method is excellent in pattern accuracy and manufacturing stability, numerous patent applications have been filed. For example, in Patent Documents 1 to 4, with respect to the photosensitive resin composition, development property is improved and deformation amount is reduced. A composition corresponding to the above has been proposed. However, since the photolithography method forms an arbitrary pattern by developing after exposure through a mask, especially in spacer formation, the pattern formation portion is less than 1%, so material loss is extremely high. There is a disadvantage that it is big.

一方、インクジェット印刷方式は、数十μmの微小ノズルから必要な部分に必要な量を付与することが可能な材料効率に優れた印刷方式である。
この方式は、精密ステージとの組み合わせで任意デザインのマイクロパターンを、塗布することが可能であり、近年、液晶関連技術への展開が盛んである。例えば、特許文献5〜7においてはスペーサーを任意の位置に直接配置する方法が提案されている。
On the other hand, the ink jet printing method is a printing method excellent in material efficiency that can give a necessary amount to a necessary portion from a minute nozzle of several tens of μm.
This method can apply a micropattern of any design in combination with a precision stage, and in recent years, it has been actively applied to liquid crystal related technologies. For example, Patent Documents 5 to 7 propose a method of directly arranging a spacer at an arbitrary position.

しかしながら、数ミクロンのスペーサー粒子を吐出するにはインクジェットノズル径が大きいものを選択しなければならず、基板上で形成される液滴径は50μm程度の大きさとなる。インクジェット印刷で精度良く、遮光層上に配置したとしても、液滴中のスペーサー粒子の乾燥後の位置を制御することが難しいため、線幅が10μm程度の遮光層幅の狭いモバイル用途では、選択的に遮光層上にスペーサー粒子を配置することは困難である。   However, in order to eject spacer particles of several microns, one having a large inkjet nozzle diameter must be selected, and the droplet diameter formed on the substrate is approximately 50 μm. Even if it is placed on the light shielding layer with high accuracy by inkjet printing, it is difficult to control the position of the spacer particles in the droplet after drying, so it is selected for mobile applications with a narrow light shielding layer width of about 10 μm. Therefore, it is difficult to dispose spacer particles on the light shielding layer.

一方、液晶ディスプレイは広く一般に普及し、パネルの大型化やさまざまな環境で利用されてきており、スペーサー材料においても、高い性能が期待されている。
液晶ディスプレイでは、例えば、パネルに過剰な荷重が加わった際のスペーサーの塑性変形、破壊を防ぐために、スペーサー分布の密度を高めなければならない場合がある。しかし、スペーサーの密度を十分に高くすると、塑性変形、破壊は防ぐことができるが、パネル内に真空気泡(低温気泡)が発生するといった問題が生じる。
On the other hand, liquid crystal displays have been widely used and have been used in large-sized panels and various environments, and high performance is also expected for spacer materials.
In a liquid crystal display, for example, in order to prevent plastic deformation and destruction of the spacer when an excessive load is applied to the panel, the density of the spacer distribution may have to be increased. However, if the density of the spacers is sufficiently high, plastic deformation and destruction can be prevented, but there is a problem that vacuum bubbles (low temperature bubbles) are generated in the panel.

真空気泡(低温気泡)の発生は、例えば、パネル組み立ての際に発生する。基板を貼り合わせるときの加熱により液晶、スペーサーなどパネルを構成する部材は、一旦、熱膨張する。そして、貼り合わせ後は、それら構成部材はすべて収縮しようとする。構成する部材のなかでは、液晶の収縮率が最も大きいため、基板間のギャップを小さくする方向に収縮しようとする。このとき、基板間のギャップが収縮しようとする変化量に対し、スペーサーの変形が追従できなくなると、パネル内に真空気泡(低温気泡)が発生することになる。   Generation | occurrence | production of a vacuum bubble (low temperature bubble) generate | occur | produces, for example in the case of panel assembly. The members constituting the panel, such as liquid crystal and spacers, are once thermally expanded by heating when the substrates are bonded together. And after bonding, all those structural members are going to shrink. Among the constituent members, since the contraction rate of the liquid crystal is the largest, it tends to shrink in the direction of reducing the gap between the substrates. At this time, if the deformation of the spacer becomes unable to follow the amount of change in which the gap between the substrates tends to shrink, vacuum bubbles (cold bubbles) are generated in the panel.

或いは、この真空気泡(低温気泡)の問題は、液晶ディスプレイの使用時にも発生する。液晶ディスプレイの使用時の環境が、たとえば−20℃というような低温の環境下では、液晶セルを構成する部材はすべて収縮しようとする。構成する部材の中では液晶の収縮率が最も大きいため、基板間のギャップを小さくする方向に収縮しようとする。従って、上記の例と同様に、パネル内に真空気泡(低温気泡)が発生することになる。このため、スペーサーの密度は、温度による液晶の熱膨張および熱収縮に追従してスペーサーが弾性変形するように、適正な密度に設定されている(特許文献8)。   Alternatively, the problem of this vacuum bubble (low temperature bubble) also occurs when the liquid crystal display is used. When the environment when the liquid crystal display is used is a low temperature environment such as −20 ° C., all members constituting the liquid crystal cell tend to contract. Among the constituent members, the contraction rate of the liquid crystal is the largest, so it tends to shrink in the direction of reducing the gap between the substrates. Therefore, as in the above example, vacuum bubbles (low temperature bubbles) are generated in the panel. For this reason, the density of the spacer is set to an appropriate density so that the spacer elastically deforms following the thermal expansion and contraction of the liquid crystal due to temperature (Patent Document 8).

しかし、パネルに過剰な荷重が加わった際のスペーサーの塑性変形、破壊といった問題が残されている。この真空気泡(低温気泡)の問題を克服し、過剰な荷重による塑性変形や破壊といった問題にも対応した技術としては、基板間のギャップを設定する第1スペーサーと、第1スペーサーより高さが低く過大な荷重が加わった際に、スペーサーの塑性変形や破壊を防ぐ第2スペーサーといった、異なる種類のスペーサーを同時に有する液晶ディスプレイ用カラーフィルタ基板が提案されている(特許文献9、10)。   However, problems remain such as plastic deformation and fracture of the spacer when an excessive load is applied to the panel. As a technique for overcoming the problem of vacuum bubbles (low temperature bubbles) and dealing with problems such as plastic deformation and destruction due to excessive load, the first spacer for setting the gap between the substrates and the height higher than the first spacer are used. There has been proposed a color filter substrate for a liquid crystal display having different types of spacers at the same time, such as a second spacer that prevents plastic deformation and destruction of the spacers when a low and excessive load is applied (Patent Documents 9 and 10).

このような異なる種類のスペーサーを有する液晶ディスプレイ用カラーフィルタ基板の製造方法に関しては、フォトリソグラフィ方式を用いる場合がほとんどであるが、作製するスペーサー種類ごとに露光・現像・加熱硬化を繰り返す方法や、ネガ型の感光性樹脂を用いて断面積に大小差のある柱状パターンを形成し、柱状パターンの高さに差を生じさせる方法(特許文献11)。使用するフォトマスクにハーフトーンマスクを用いて一括して露光を行なう方法が提案されている(特許文献12)。
しかし、露光を繰り返す場合においても、高価なマスクを用いる場合においても、やはり材料のロスが大きい。
特開2007−206328号公報 特開2007−204588号公報 特開2007−65640号公報 特開2006−276496号公報 特開2001−83524号公報 特開2001−188235号公報 特開平9−105946号公報 特開2001−13506号公報 特開2003−84289号公報 特開2005−122150号公報 特開く2003−121857号公報 特開2003−121857号公報
Regarding the method of manufacturing a color filter substrate for a liquid crystal display having such different types of spacers, the photolithography method is mostly used, but the method of repeating exposure, development and heat curing for each type of spacer to be produced, A method of forming a columnar pattern having a difference in cross-sectional area using a negative photosensitive resin and causing a difference in the height of the columnar pattern (Patent Document 11). There has been proposed a method of performing exposure in a lump using a halftone mask as a photomask to be used (Patent Document 12).
However, even when exposure is repeated or when an expensive mask is used, the loss of material is still large.
JP 2007-206328 A JP 2007-204588 A JP 2007-65640 A JP 2006-276696 A JP 2001-83524 A JP 2001-188235 A JP-A-9-105946 JP 2001-13506 A JP 2003-84289 A JP-A-2005-122150 JP 2003-121857 A JP 2003-121857 A

本発明は、インクジェット印刷を用いて、透明基板上に形成されたカラーフィルタ上の所定のパターン位置に精度よく、種類の異なるスペーサー粒子を同時に配置、形成する安価なスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法を提供することを課題とする。   The present invention provides an inexpensive method for producing a color filter substrate with a spacer, in which different kinds of spacer particles are simultaneously arranged and formed at a predetermined pattern position on a color filter formed on a transparent substrate using inkjet printing. It is an issue to provide.

本発明は、スペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、
1)透明基板上に形成されたカラーフィルタ上の所定パターン位置に対応した凹部パターンが設けられた凹版を作製する工程、
2)該凹版の凹部パターンに、スペーサー粒子を溶媒中に分散したスペーサーインクをインクジェット印刷で選択的に定点配置する工程、
3)インクの乾燥過程において凹部パターンへスペーサー粒子が集合する自己配置現象を利用して、凹部パターンへ正確にスペーサー粒子を配置する工程、
4)カラーフィルタ基板側および凹版側のアライメントマークにより双方の位置合わせを行い、カラーフィルタ上の所定パターン位置にスペーサー粒子を転写する工程、を少なくとも具備し、
前記スペーサーインク中に分散したスペーサー粒子として、粒子径及び弾性率の異なる複数種のスペーサー粒子を用いたことを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。
The present invention is a method for producing a color filter substrate with a spacer,
1) a step of producing an intaglio plate provided with a concave pattern corresponding to a predetermined pattern position on a color filter formed on a transparent substrate;
2) A step of selectively placing fixed positions of the spacer ink in which the spacer particles are dispersed in a solvent in the concave pattern of the intaglio by inkjet printing,
3) Using the self-arrangement phenomenon in which spacer particles gather in the recess pattern during the drying process of the ink, accurately placing the spacer particles in the recess pattern;
4) at least a step of aligning both of the alignment marks on the color filter substrate side and the intaglio side and transferring spacer particles to a predetermined pattern position on the color filter;
In the method for producing a color filter substrate with a spacer, a plurality of types of spacer particles having different particle diameters and elastic moduli are used as the spacer particles dispersed in the spacer ink.

また、本発明は、上記発明によるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、前記凹版の版深が、スペーサーインク中に分散したスペーサー粒子の粒子径の内、小さい粒子径の1/2以下であることを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。   In the method for producing a color filter substrate with a spacer according to the present invention, the plate depth of the intaglio is not more than ½ of the small particle diameter of the spacer particles dispersed in the spacer ink. This is a method for producing a color filter substrate with a spacer.

また、本発明は、上記発明によるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、前記凹版の凹部パターン径が、カラーフィルタ上の遮光層幅の30〜100%であることを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。   According to the present invention, in the method for manufacturing a color filter substrate with a spacer according to the above invention, the concave pattern diameter of the intaglio is 30 to 100% of the width of the light shielding layer on the color filter. A method for manufacturing a substrate.

また、本発明は、上記発明によるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、前記凹版の表面におけるスペーサーインクの溶媒の接触角が、100°以上となる表面処理を施したことを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。   Further, the present invention provides a method for producing a color filter substrate with a spacer according to the above invention, wherein a surface treatment is performed such that the contact angle of the solvent of the spacer ink on the surface of the intaglio is 100 ° or more. It is a manufacturing method of a color filter substrate.

また、本発明は、上記発明によるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、前記凹版上におけるスペーサー粒子の密度が、1000〜20000個/cm2であることを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。 Further, the present invention provides the method for producing a color filter substrate with a spacer according to the above invention, wherein the density of the spacer particles on the intaglio is 1000 to 20000 / cm 2. Is the method.

また、本発明は、上記発明によるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、前記凹版が、ガラス基板からなることを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。   The present invention also provides the method for manufacturing a color filter substrate with a spacer according to the above-described invention, wherein the intaglio comprises a glass substrate.

また、本発明は、上記発明によるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、前記凹版からカラーフィルタ基板へ転写を行う際に、凹版側、もしくはカラーフィルタ基板側の少なくとも一方に熱を付与することを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。   Further, the present invention provides a method for producing a color filter substrate with a spacer according to the above invention, wherein, when transferring from the intaglio to the color filter substrate, heat is applied to at least one of the intaglio side or the color filter substrate side. It is a manufacturing method of the color filter substrate with a spacer characterized.

また、本発明は、上記発明によるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、前記スペーサーインクの溶媒が沸点150℃以上の水溶性有機溶剤を主成分とし、スペーサー粒子の粒子径が3〜6μmで、その含有量が異なるスペーサー粒子をあわせて1.0重量%以下であり、スペーサーインクの23℃条件下での粘度が20cps以下、表面張力が40mN/m以下であることを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。   Further, the present invention is the method for producing a color filter substrate with a spacer according to the above invention, wherein the solvent of the spacer ink is mainly composed of a water-soluble organic solvent having a boiling point of 150 ° C. or more, and the particle diameter of the spacer particles is 3 to 6 μm. A spacer-attached color characterized in that the spacer particles having different contents are 1.0% by weight or less, the viscosity of the spacer ink at 23 ° C. is 20 cps or less, and the surface tension is 40 mN / m or less. It is a manufacturing method of a filter substrate.

また、本発明は、上記発明によるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、前記スペーサーインク中に樹脂を主成分とする樹脂接着成分を含み、これらが熱、光、電子線のうちの少なくとも1つ以上のエネルギーで硬化することを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法である。   Further, the present invention is the method for producing a color filter substrate with a spacer according to the above invention, wherein the spacer ink includes a resin adhesive component mainly composed of a resin, and these include at least one of heat, light, and electron beam. It is a manufacturing method of a color filter substrate with a spacer, characterized by curing with the above energy.

本発明は、粒子径や弾性率の異なるスペーサー粒子をインク中に分散したことにより、インクジェット印刷による使用材料の低減と、異なるスペーサー粒子を同時に所定パターン位置へ配置することが可能となる。また、凹版に形成された凹部パターンを含む広域に着弾したスペーサーインクの乾燥過程で作用する自己配置現象を発現しつつ、カラーフィルタ基板側へのスペーサー粒子の転写性を高めることが可能となる。また、凹版のパターン径がカラーフィルタ基板上の遮光層幅の30〜100%であることで、カラーフィルタ基板上の遮光層上に精度よくスペーサー粒子を設置することが可能となる。   In the present invention, spacer particles having different particle diameters and elastic moduli are dispersed in the ink, so that it is possible to reduce the material used by ink jet printing and simultaneously dispose different spacer particles at predetermined pattern positions. In addition, it is possible to improve the transferability of the spacer particles to the color filter substrate side while expressing the self-arrangement phenomenon that acts in the drying process of the spacer ink that has landed in a wide area including the concave pattern formed on the intaglio. In addition, since the pattern diameter of the intaglio is 30 to 100% of the width of the light shielding layer on the color filter substrate, the spacer particles can be accurately placed on the light shielding layer on the color filter substrate.

また、本発明は、スペーサーインクの溶媒の接触角が100°以上となるように表面処理を施したので、着弾したインク滴の乾燥過程で、液膜端面がスペーサー粒子の移動を促すことにより、凹版上に設けられた凹部パターン中への自己配置現象を促進させることが可能となる。また、凹版がガラス基板からなることにより、凹版上に配置したスペーサー粒子の転写工程で加熱や加圧を用いた場合においても基板の収縮・膨張などによる位置ズレを少なくすることが可能となる。   In the present invention, since the surface treatment was performed so that the contact angle of the solvent of the spacer ink is 100 ° or more, the liquid film end face promotes the movement of the spacer particles in the drying process of the landed ink droplets. It becomes possible to promote the self-arrangement phenomenon in the concave pattern provided on the intaglio. Further, since the intaglio plate is made of a glass substrate, it is possible to reduce positional displacement due to shrinkage / expansion of the substrate even when heating or pressurization is used in the transfer process of the spacer particles arranged on the intaglio plate.

また、本発明は、スペーサー粒子の転写工程で、凹版側もしくはカラーフィルタ基板側の少なくとも一方に熱を付与することにより転写性を高めることが可能となる。また、一般的なインクジェットヘッドを用いた場合においても正確で、安定した吐出を行うことが可能となる。また、スペーサー粒子数密度が1000〜20000個/cm2であることにより、パネル化によるセル厚の不均一や、パネル化工程での配向膜や液晶の塗布の際に障害となることなく製品に用いることが可能となる。 Further, according to the present invention, it is possible to improve transferability by applying heat to at least one of the intaglio side or the color filter substrate side in the transfer step of the spacer particles. In addition, even when a general ink jet head is used, accurate and stable ejection can be performed. In addition, since the spacer particle number density is 1000 to 20000 particles / cm 2 , the cell thickness is not uneven due to panelization, and the product does not become an obstacle when applying an alignment film or liquid crystal in the paneling process. It can be used.

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
本発明における凹版の基材としては、ソーダガラスや無アルカリガラス等のガラス基材やプラスチック等の基材を加工し用いることが可能である。さらに、光透過性の基材を用い
ることにより、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすることができる。
Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail.
As the intaglio substrate in the present invention, a glass substrate such as soda glass or non-alkali glass, or a substrate such as plastic can be used. Furthermore, by using a light-transmitting substrate, alignment can be facilitated during pattern superposition.

プラスチック基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができるが、寸法安定性の点からガラス基材が好ましい。
凹版がガラス基板からなることにより、凹版上に配置したスペーサー粒子の転写工程で加熱や加圧を用いた場合においても基板の収縮、膨張などによる位置ズレを少なくすることが可能となる。
As the plastic substrate, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, or other films or sheets are used. However, a glass substrate is preferable from the viewpoint of dimensional stability.
When the intaglio plate is made of a glass substrate, even when heating or pressurization is used in the transfer process of the spacer particles arranged on the intaglio plate, it is possible to reduce positional deviation due to shrinkage or expansion of the substrate.

本発明における凹部パターンの加工方法としては、基材表面に感光性樹脂を塗布し、マスクを介してパターンを形成した後、既存のドライエッチング処理やウエットエッチング処理、もしくはサンドブラスト処理を用いて加工する方法が挙げられる。凹部パターンの版深としては、使用するスペーサー粒子の粒子径や配置密度に応じて、0.3μmから5μmの版深を設けたものを用いることができる。また、同じく基材表面に感光性樹脂を塗布し、マスクを介してパターンを形成し、0.3μmから5μmの厚みのパターンを設けたものを利用することができる。   As a processing method of the concave pattern in the present invention, a photosensitive resin is applied to the surface of the substrate, a pattern is formed through a mask, and then processed using an existing dry etching process, wet etching process, or sand blasting process. A method is mentioned. As the plate depth of the concave pattern, a plate depth of 0.3 μm to 5 μm can be used according to the particle diameter and arrangement density of the spacer particles to be used. Similarly, it is possible to use a substrate in which a photosensitive resin is applied to the substrate surface, a pattern is formed through a mask, and a pattern having a thickness of 0.3 μm to 5 μm is provided.

凹版の凹部パターンの版深は、スペーサーインク中に分散したスペーサー粒子の粒子径の内、小さい粒子径の1/2以下であることが好ましい。これにより、凹版に形成された凹部パターンを含む広域に着弾したスペーサーインクの乾燥過程で作用する自己配置現象を発現しつつ、カラーフィルタ基板側へのスペーサー粒子の転写性を高めることが可能となる。   The plate depth of the concave pattern of the intaglio is preferably ½ or less of the small particle diameter of the spacer particles dispersed in the spacer ink. This makes it possible to improve the transferability of the spacer particles to the color filter substrate side while expressing the self-arrangement phenomenon that acts in the drying process of the spacer ink that has landed in a wide area including the concave pattern formed on the intaglio. .

また、凹版の凹部パターン径は、カラーフィルタ上の遮光層幅の30〜100%であることが好ましい。これにより、カラーフィルタ基板上の遮光層上に精度よくスペーサー粒子を設置することが可能となる。   The concave pattern diameter of the intaglio is preferably 30 to 100% of the light shielding layer width on the color filter. As a result, it is possible to accurately place the spacer particles on the light shielding layer on the color filter substrate.

また、転写層の膜厚は、使用するスペーサー粒子の粒子径や配置密度により2μmから5μmに設けるのが好ましい。   Further, the thickness of the transfer layer is preferably 2 μm to 5 μm depending on the particle diameter and arrangement density of the spacer particles to be used.

凹版上に設ける表面処理層には、シリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を用いても良いし、あるいはシリコーンゴムを薄く設けてもをよい。また同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用され得るし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。   For the surface treatment layer provided on the intaglio, a release agent represented by silicone oil and silicone varnish may be used, or a thin silicone rubber may be provided. For the same purpose, fluorine-based resins and fluorine-based rubbers may be used, or the fluororesin fine powder may be mixed with silicone rubber or ordinary rubber to obtain peelability.

具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。   Specific silicones include dimethylpolysiloxanes with various molecular weights, other methylhydropolysiloxanes, methylphenylsilicone oils, methylchlorinated phenylsilicone oils, or copolymers of these polysiloxanes with organic compounds. Can be used. Silicone rubber is a combination of two-component diorganopolysiloxane and a tri- or higher functional silane as a crosslinking agent, or a combination of siloxane and a curing catalyst, or one-component diorganopolysiloxane, acetone oxime, and various methoxys. Combinations of silane, methyltriacetoxysilane, and the like are used, and other polysiloxanes for adjusting rubber hardness are appropriately used.

上記に示した凹版上に設ける表面処理層を形成する方法としては、インクの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。例えば、スピンコート、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙
げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインクについて均一なインク液膜を形成することができる。
As a method for forming the surface treatment layer provided on the intaglio shown above, a known coating method can be used depending on the viscosity of the ink and the drying property of the solvent. Examples thereof include spin coating, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, die coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method and the like. Among them, the die coat, cap coat, roll coat, and applicator can form a uniform ink liquid film for ink having a wide range of viscosity.

また、凹版の表面にはスペーサーインクの溶媒の接触角が100°以上となる表面処理を施すことが好ましい。これにより、着弾したインク滴の乾燥過程で、液膜端面がスペーサー粒子の移動を促すことにより、凹版上に設けられた凹部パターン中への自己配置現象を促進させることが可能となる。   The surface of the intaglio is preferably subjected to a surface treatment so that the contact angle of the solvent of the spacer ink is 100 ° or more. Thereby, in the drying process of the landed ink droplets, the liquid film end face promotes the movement of the spacer particles, thereby promoting the self-arrangement phenomenon in the concave pattern provided on the intaglio.

本発明におけるスペーサーインクに用いる水溶性有機溶剤としては、沸点150℃以上、好ましくは180℃以上のものが用いられ、1種または2種以上を混合して用いることができる。
本発明に用いられる水溶性有機溶剤としては、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ヘキシレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,2,4−ブタントリオール、2,2‘−チオジエタノール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の高沸点低揮発性の多価アルコール類が用いられ、その他にN−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン、モノエタノールアミン、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,N−ジエチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、N−n−ブチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリエタノールアミン等の水溶性有機溶剤を添加することが出来る。
As the water-soluble organic solvent used in the spacer ink in the invention, those having a boiling point of 150 ° C. or higher, preferably 180 ° C. or higher are used, and one or a mixture of two or more can be used.
Examples of the water-soluble organic solvent used in the present invention include glycerin, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, hexylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1, High boiling point and low volatility polyhydric alcohols such as 2,4-butanetriol, 2,2′-thiodiethanol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, etc. are used, and N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3- Water-soluble organic materials such as dimethylimidazolidinone, monoethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N, N-diethylethanolamine, diethanolamine, Nn-butyldiethanolamine, triisopropanolamine, triethanolamine A solvent can be added.

また、本発明における沸点150℃以上の水溶性有機溶剤の添加量は50〜90%であることが好ましい。添加量が50%以下であるととスペーサー形成インクの揮発性が高くなり、インク安定性を低下させ、また、90%以上であるとスペーサー形成インクの粘度が上昇し、インクジェット印刷時の吐出不良の原因となるため好ましくない。   Moreover, it is preferable that the addition amount of the water-soluble organic solvent whose boiling point is 150 degreeC or more in this invention is 50 to 90%. When the added amount is 50% or less, the volatility of the spacer forming ink is increased and the stability of the ink is lowered. When the added amount is 90% or more, the viscosity of the spacer forming ink is increased, resulting in poor ejection during ink jet printing. This is not preferable.

本発明におけるスペーサーインクに用いるスペーサー粒子としては粒子径3〜6μmの球状粒子を、1種または2種以上を混合して用いることができる。パネルに過剰な荷重が加わった際のスペーサーの塑性変形、破壊といった問題に対する対策を目的とした場合、粒子径の大きいスペーサーの弾性変形の範囲に、粒子径の小さなスペーサーの粒子径が設定されているのが好ましく、通常用いられるスペーサー粒子の範囲から考えると、これらスペーサー粒子の種類間の粒子径の差は0.02μm〜0.5μmが好ましい。   As the spacer particles used in the spacer ink in the present invention, spherical particles having a particle diameter of 3 to 6 μm can be used alone or in combination of two or more. For the purpose of countermeasures against problems such as plastic deformation and fracture of the spacer when an excessive load is applied to the panel, the particle size of the spacer with a small particle size is set within the elastic deformation range of the spacer with a large particle size. In view of the range of commonly used spacer particles, the difference in particle diameter between the types of spacer particles is preferably 0.02 μm to 0.5 μm.

スペーサー粒子の材質としては特に限定されず、例えば、樹脂、有機物、無機物、これらの化合物や混合物等が挙げられる。上記樹脂としては特に限定されず、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール等の線状又は架橋高分子重合体;エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジビニルベンゼン重合体、ジビニルベンゼン−スチレン共重合体、ジビニルベンゼン−アクリル酸エステル共重合体、ジアリルフタレート重合体、トリアリルイソシアヌレート重合体等の架橋構造を有する樹脂等が挙げられる。また、無機物としてはシリカ等が挙げられる。   The material for the spacer particles is not particularly limited, and examples thereof include resins, organic substances, inorganic substances, and compounds and mixtures thereof. The resin is not particularly limited. For example, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polytetrafluoroethylene, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyamide, polyimide, polysulfone, polyphenylene oxide. Linear or cross-linked polymer such as polyacetal; epoxy resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, unsaturated polyester resin, divinylbenzene polymer, divinylbenzene-styrene copolymer, divinylbenzene-acrylate copolymer Examples thereof include resins having a crosslinked structure such as a polymer, diallyl phthalate polymer, and triallyl isocyanurate polymer. Moreover, silica etc. are mentioned as an inorganic substance.

スペーサーインクにおけるスペーサー粒子の固形分濃度は、特に限定されないが、例えば、分散液全体の0.2〜3%であることが好ましい。
スペーサーインクにおけるスペーサー粒子の固形分濃度が0.2%未満であると、吐出された液滴中にスペーサー粒子が含まれなくなり易く、カラーフィルタ基板上のスペーサー粒子の密度が低下し、また3%を超えると、スペーサー粒子同士が凝集し、インクジェットヘッドのノズルが詰まりったり、また、吐出された液滴中のスペーサー粒子の含有量が
過剰となり易くなる傾向があるため好ましくない。
The solid content concentration of the spacer particles in the spacer ink is not particularly limited, but is preferably 0.2 to 3% of the total dispersion, for example.
When the solid content concentration of the spacer particles in the spacer ink is less than 0.2%, the discharged droplets tend not to contain the spacer particles, the density of the spacer particles on the color filter substrate decreases, and 3% Exceeding the amount of spacer particles is not preferable because the spacer particles agglomerate and the nozzles of the inkjet head are clogged, and the content of the spacer particles in the discharged droplets tends to be excessive.

スペーサーインク中の接着樹脂成分の例としては、ポリアクリル酸エステル、ポリメタアクリル酸エステル、ポリエチルアクリル酸エステル、スチレンーブタジエン共重合体、ブタジエン共重合体、アクリロニトリルーブタジエン共重合体、クロロプレン共重合体、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン、ベンゾグアナミン樹脂、フエノール樹脂、ポリオレフィン樹脂、セルロース、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタアクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、スチレン−アクリルアミド共重合体、n−イソブチルアクリレート、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリルアミド、シリコーン樹脂、ポリビニルアセタール、ポリアミド、ロジン系樹脂、ポリエチレン、ポリカーボネート、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール、セルロース系樹脂、エポキシ樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−アクリル共重合体、塩化ビニル樹脂、ポリウレタン、等が挙げられるがこれに限定されるものではない。これら樹脂成分にアクリル基、カルボキシル基、イソシアネート基などの反応性部位を付与したもの、更にはこれらに必要に応じて架橋剤、光開始剤などを添加したものを硬化型樹脂として使用できる。   Examples of adhesive resin components in the spacer ink include polyacrylate, polymethacrylate, polyethylacrylate, styrene-butadiene copolymer, butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, and chloroprene copolymer. Polymer, crosslinked acrylic resin, crosslinked styrene resin, fluororesin, vinylidene fluoride, benzoguanamine resin, phenol resin, polyolefin resin, cellulose, styrene-acrylate copolymer, styrene-methacrylate copolymer, polystyrene, Styrene-acrylamide copolymer, n-isobutyl acrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, acrylamide, silicone resin, polyvinyl acetal, polyamide, rosin resin, polyethylene, polycarbonate , Vinylidene chloride resin, polyvinyl alcohol, cellulose resin, epoxy resin, vinyl acetate resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, vinyl acetate-acrylic copolymer, vinyl chloride resin, polyurethane, etc. Is not to be done. Those obtained by adding a reactive site such as an acrylic group, a carboxyl group or an isocyanate group to these resin components, and those obtained by adding a crosslinking agent, a photoinitiator or the like to these can be used as the curable resin.

また、接着樹脂成分の添加量はスペーサー粒子の添加量に準じて0.2〜10%であり、且つスペーサー粒子と同量以上であることが好ましい。添加量が0.2%以下であるとカラーフィルタ基板上での密着性が乏しくなり、また、10%以上であるとスペーサーインクの粘度が著しく上昇し、インクヘッドがノズル詰まりを起こすため好ましくない。   Further, the addition amount of the adhesive resin component is 0.2 to 10% according to the addition amount of the spacer particles, and is preferably equal to or more than the spacer particles. If the addition amount is 0.2% or less, the adhesion on the color filter substrate is poor, and if it is 10% or more, the viscosity of the spacer ink is remarkably increased, and the ink head causes nozzle clogging, which is not preferable. .

また必要に応じ、カラーフィルタ基板およびインクジェットヘッドとスペーサーインクとの濡れ性を制御する目的でアルコール類や界面活性剤を用いられ、1種または2種以上を混合して用いることができる。   If necessary, alcohols and surfactants are used for the purpose of controlling the wettability between the color filter substrate and the inkjet head and the spacer ink, and one or a mixture of two or more can be used.

アルコール類としてはメチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール等が使用でき、界面活性剤としては、水溶性のアニオン性、カチオン性、両性、ノニオン性の界面活性剤を一種類または複数種を添加できる。   As alcohols, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, etc. can be used, and as the surfactant, one kind of water-soluble anionic, cationic, amphoteric, nonionic surfactant is used. Or multiple types can be added.

スペーサーインクにおいては、スペーサー粒子が単粒子状に分散していることが好ましく、その効果を阻害しない範囲で、各種添加剤、例えば、粘接着性付与剤、粘性調整剤、pH調整剤、界面活性剤、消泡剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤が添加されていても良い。   In the spacer ink, it is preferable that the spacer particles are dispersed in the form of single particles, and various additives such as a tackifier, a viscosity adjuster, a pH adjuster, an interface are used as long as the effect is not impaired. An activator, an antifoaming agent, an antioxidant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, and a colorant may be added.

本発明ではスペーサー粒子をインクジェット印刷で凹版上の所定位置に配置する。インクジェット方式は、インク滴の生成原理により、連続ジェット(コンティヌアス)方式とドロップ・オン・デマンド方式の2方式に分類される。本発明では、いずれの方式も好ましく採用できる。   In the present invention, the spacer particles are arranged at predetermined positions on the intaglio by inkjet printing. Inkjet systems are classified into two systems, a continuous jet system and a drop-on-demand system, depending on the principle of ink droplet generation. In the present invention, any method can be preferably employed.

連続ジェット方式は、インク滴を連続して生成させ、記録信号に応じてインク滴を選択して記録を行う方式であり、Sweet型、マイクロドット型、Herz型、IRIS型などがある。また、ドロップ・オン・デマンド方式は、記録信号に応じてスペーサー分散液を噴出させる方式であり、圧力パルス方式、サーマルジェット方式、ERF方式などがある。   The continuous jet method is a method in which ink droplets are continuously generated and ink droplets are selected according to a recording signal to perform recording, and there are a Sweet type, a microdot type, a Herz type, an IRIS type, and the like. The drop-on-demand method is a method in which a spacer dispersion liquid is ejected according to a recording signal, and includes a pressure pulse method, a thermal jet method, an ERF method, and the like.

本発明の対象基板としては、スペーサー粒子を配置する用途に用いられ、各種表示素子やタッチスイッチ等に使用可能であるが、特に液晶ディスプレイに好適である。この基板は、特に限定されるものではなく、ガラス板や樹脂板等の一般的に液晶ディスプレイとして用いられているものであってよい。   The target substrate of the present invention is used for the purpose of arranging spacer particles and can be used for various display elements, touch switches, and the like, but is particularly suitable for a liquid crystal display. The substrate is not particularly limited, and may be one generally used as a liquid crystal display such as a glass plate or a resin plate.

液晶ディスプレイは2枚の基板を重ね合わせて形成される。このため、通常は一方の基板に本発明におけるスペーサーインクが凹版を介した転写工程にて配置される。そして他方の基板と重ね合わせて液晶表示素子を作製する。スペーサーインクが吐出される凹版は、位置合わせの点からは、カラーフィルタ基板の遮光層に対応した位置に凹部パターンを有することが好ましい。   The liquid crystal display is formed by overlapping two substrates. For this reason, the spacer ink according to the present invention is usually disposed on one substrate in a transfer process via an intaglio. Then, a liquid crystal display element is manufactured by overlapping with the other substrate. The intaglio plate from which the spacer ink is ejected preferably has a concave pattern at a position corresponding to the light shielding layer of the color filter substrate from the viewpoint of alignment.

また必要に応じ、スペーサーを形成するカラーフィルタ基板をスペーサーインクとの濡れ性を制御する目的で表面処理を施してもよい。表面処理の方法としては、コロナ処理、常圧プラズマ処理、UVオゾン処理など任意の方法が選択できる。   If necessary, the color filter substrate on which the spacer is formed may be subjected to a surface treatment for the purpose of controlling the wettability with the spacer ink. As the surface treatment method, any method such as corona treatment, atmospheric pressure plasma treatment, or UV ozone treatment can be selected.

凹部パターンを形成した基板上へのスペーサーインクの吐出は、凹部パターンすべてにスペーサーインクを吐出してもよく、場合によってはスペーサー配置箇所の密度を調節するために、スペーサーインクを吐出しない凹部パターンを選定してもよい。   The spacer ink may be ejected onto the substrate on which the concave pattern is formed. The spacer ink may be ejected to all the concave patterns, and in some cases, a concave pattern that does not eject the spacer ink may be used to adjust the density of the spacer arrangement locations. You may choose.

また、凹部パターンの配置密度が高く、パターン間の幅がスペーサーインクの着弾時の液滴径に対して狭く、一度の連続吐出では液滴同士がくっついてしまう場合には、たとえば凹部パターンの1つ置きに連続吐出を行い、乾燥を待ってから、まだ吐出していない凹部パターンに連続吐出を行ってもよい。   Further, when the arrangement density of the concave patterns is high, the width between the patterns is narrower than the droplet diameter at the time of landing of the spacer ink, and the liquid droplets stick to each other in one continuous discharge, for example, the concave pattern 1 Alternatively, continuous ejection may be performed every other time, and after waiting for drying, continuous ejection may be performed on a concave pattern that has not yet been ejected.

また、凹版上におけるスペーサー粒子の密度は、特に限定されるものではないが、通常1cm平方の領域に1000〜20000個であることが好ましい。これにより、パネル化によるセル厚の不均一や、パネル化工程での配向膜や液晶の塗布の際に障害となることなく製品に用いることが可能となる。   The density of the spacer particles on the intaglio is not particularly limited, but it is usually preferably 1000 to 20000 in a 1 cm square area. Thereby, it becomes possible to use it for a product without causing a non-uniformity in cell thickness due to panelization, or an obstacle when applying an alignment film or liquid crystal in the paneling process.

次に、図を用いて本発明によるスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法を詳細に説明する。まず、図1により、本発明における凹版上へのインクジェット印刷によるスペーサー粒子の配置方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the color filter substrate with a spacer according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, a method for arranging spacer particles by ink jet printing on an intaglio according to the present invention will be described with reference to FIG.

本発明では、スペーサーインク103に含まれるスペーサー粒子104の配置精度を、インクジェット印刷による直接配置を行う場合に比べ飛躍的に向上させるため、まず、スペーサーインク103を、対象となるカラーフィルタ基板203のパターンに合わせて作られた凹版100上に吐出することを特徴としている。これは、スペーサーインク103の着弾液滴が、凹部パターン102を含むように着弾した場合、その乾燥過程(図1A〜C)において、スペーサー粒子104が凹部パターン102に自然に集まってくる自己配置現象を利用している。   In the present invention, in order to dramatically improve the arrangement accuracy of the spacer particles 104 included in the spacer ink 103 as compared with the case of direct arrangement by ink jet printing, first, the spacer ink 103 is applied to the target color filter substrate 203. It discharges on the intaglio 100 made according to the pattern. This is because, when the landing droplets of the spacer ink 103 land so as to include the concave pattern 102, the spacer particles 104 naturally gather in the concave pattern 102 in the drying process (FIGS. 1A to 1C). Is used.

自己配置現象は、スペーサーインク103中の溶剤界面が、乾燥により液滴中央へ移動する際に、スペーサー粒子104も液滴中央へ集めようとする現象と、凹部パターン102に着弾したスペーサーインク103の溶剤膜厚が周囲より厚いために、周囲に比べて乾燥が遅く、周辺の溶剤を牽きつけるためスペーサー粒子104が凹部パターン102に集まり易くなる現象と、一度凹部パターン102に落ちたスペーサー粒子104はそのまま凹部パターン102に滞在するためなど複数の理由で発現する。   The self-arrangement phenomenon includes a phenomenon in which the spacer particles 104 also gather to the center of the droplet when the solvent interface in the spacer ink 103 moves to the center of the droplet by drying, and the spacer ink 103 that has landed on the concave pattern 102. Since the solvent film thickness is thicker than the surroundings, the drying is slower than the surroundings, and the phenomenon that the spacer particles 104 easily gather in the concave pattern 102 in order to keep up the surrounding solvent, and the spacer particles 104 once dropped in the concave pattern 102 are It appears for several reasons, such as staying in the recess pattern 102 as it is.

つぎに、図2により、本発明における凹部パターン102に配置したスペーサー粒子104をカラーフィルタ基板203へ転写する転写方法について説明する。凹部パターン102に配置したスペーサー粒子104の表面には、スペーサーインク103中に含まれる接着樹脂成分201が覆っている。
あらかじめ、カラーフィルタ基板203や凹版100、それぞれに設けられたアライメントマークやパターンを確認し、位置合わせを行った後、凹版100側、もしくは凹版10
0及びカラーフィルタ基板203の両側から加熱処理を行い、加圧後に両基板を剥離することで、カラーフィルタ基板203側にスペーサー粒子104を転写する。スペーサー粒子の転写工程で、凹版側、もしくはカラーフィルタ基板側の少なくとも一方に熱を付与することにより転写性を高めることが可能となる。
Next, a transfer method for transferring the spacer particles 104 arranged in the concave pattern 102 according to the present invention to the color filter substrate 203 will be described with reference to FIG. The adhesive resin component 201 contained in the spacer ink 103 covers the surface of the spacer particles 104 arranged in the concave pattern 102.
The color filter substrate 203 and the intaglio 100 are checked in advance and alignment marks and patterns provided on the color filter substrate 203 and the intaglio 100, respectively, and after alignment, the intaglio 100 side or the intaglio 10
Heat treatment is performed from both sides of 0 and the color filter substrate 203, and both substrates are peeled off after pressurization, whereby the spacer particles 104 are transferred to the color filter substrate 203 side. In the step of transferring the spacer particles, it is possible to improve transferability by applying heat to at least one of the intaglio side or the color filter substrate side.

以下、本発明を更に詳しく説明するため実施例を挙げるが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, examples will be given to describe the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.

<実施例1>
〜スペーサーインクの調製〜
ポリビニルアセタール樹脂(積水化学(株)製、KW−1、固形分20%)を攪拌しながら、エポキシ化合物(ナガセケムテックス製、デナコールEX−521)を固形分比で5%となる添加量で少量ずつ添加し、熱硬化型ポリマー液を調製した。次いでスペーサー粒子(積水化学(株)製、ミクロパールEX004、粒子径4.2μm/4.0μm=1/1.5 (重量比))、前記熱硬化型ポリマー液、エチレングリコール/ブチルセルソルブ/水=65/5/30(重量比)の混合溶媒を、スペーサー粒子/ポリマー液/混合溶媒=0.2/5/94.8(重量比)となるように混合、超音波分散させ、目開き10μmのステンレスメッシュで濾過し、実施例1のスペーサーインクを得た。得られたスペーサーインクの粘度は13.4mPa・s(23℃)であった。
<Example 1>
-Preparation of spacer ink-
While stirring the polyvinyl acetal resin (Sekisui Chemical Co., Ltd., KW-1, solid content 20%), the epoxy compound (manufactured by Nagase ChemteX, Denacol EX-521) is added in an amount of 5% in the solid content ratio. A small amount was added to prepare a thermosetting polymer solution. Next, spacer particles (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Micropearl EX004, particle diameter 4.2 μm / 4.0 μm = 1 / 1.5 (weight ratio)), the thermosetting polymer liquid, ethylene glycol / butyl cellosolve / A mixed solvent of water = 65/5/30 (weight ratio) was mixed and ultrasonically dispersed so that spacer particles / polymer solution / mixed solvent = 0.2 / 5 / 94.8 (weight ratio). The mixture was filtered through a 10 μm stainless steel mesh to obtain the spacer ink of Example 1. The obtained spacer ink had a viscosity of 13.4 mPa · s (23 ° C.).

〜ガラス凹版の作成〜
無アルカリガラス(コーニング社製、1737ガラス、300mm角、1.1mm厚)にポジ型レジスト(シプレイ(株)製、S1813)をスピンコート法で塗布し、カラーフィルタ基板の遮光層上に幅10〜30μmの種々の解像度パターンを配置できるように開口部幅10〜30μmのパターンをデザインしたマスクを介して露光し、アルカリ現像液(シプレイ製、MFCD−26)で現像処理を行うことでパターンを形成した。
~ Creation of glass intaglio ~
A positive resist (Shipley Co., Ltd., S1813) was applied to alkali-free glass (Corning, 1737 glass, 300 mm square, 1.1 mm thickness) by spin coating, and a width of 10 on the light shielding layer of the color filter substrate. It is exposed through a mask designed with a pattern having an opening width of 10 to 30 μm so that various resolution patterns of ˜30 μm can be arranged, and the pattern is obtained by developing with an alkaline developer (manufactured by Shipley, MFCD-26). Formed.

このパターンの開口部分をフッ酸により、版深0.5μmとなるようにエッチング処理をし、レジスト剥膜剤(シプレイ製、リムーバ1165)により、レジストを剥膜してガラス凹版を得た。このガラス凹版上にフッ素系撥水処理剤(3M製、EGC−1720)をディップコーティング、80℃で30分間乾燥処理することにより表面処理層を設けた。   The opening portion of this pattern was etched with hydrofluoric acid to a plate depth of 0.5 μm, and the resist was stripped with a resist stripping agent (manufactured by Shipley, remover 1165) to obtain a glass intaglio. A surface treatment layer was provided on the glass intaglio by dip coating a fluorine-based water repellent treatment agent (manufactured by 3M, EGC-1720) and drying at 80 ° C. for 30 minutes.

〜カラーフィルタ基板上へのスペーサー形成〜
吐出量40plのピエゾ式インクジェットヘッド、およびアライメント機構を有する精密ステージを搭載したインクジェット印刷装置に、上記スペーサーインクを真空脱泡処理した後、充填し、上記ガラス凹版のアライメントを行った後、パターンに相当する位置にスペーサーインク液滴を定点配置し、80℃のホットプレート上で1分間乾燥を行った。この版を上下基板のアライメント機構を有する転写装置に搭載し、カラーフィルタ基板、ガラス凹版の位置合わせを行った後、ガラス凹版側に100℃の熱を加えながらローラーにより転写処理を行った。このスペーサーを形成したカラーフィルタ基板を120℃で30分間硬化処理を行い、異なる粒径を有するスペーサー粒子を形成したカラーフィルタ基板を得た。
-Spacer formation on color filter substrate-
The spacer ink is vacuum defoamed in an ink jet printing apparatus equipped with a 40 pl piezo ink jet head and a precision stage having an alignment mechanism, and then filled and aligned with the intaglio plate. Spacer ink droplets were placed at fixed positions at corresponding positions, and dried on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute. This plate was mounted on a transfer device having an alignment mechanism for upper and lower substrates, and after aligning the color filter substrate and the glass intaglio, transfer processing was performed with a roller while applying heat at 100 ° C. to the glass intaglio side. The color filter substrate on which the spacer was formed was cured at 120 ° C. for 30 minutes to obtain a color filter substrate on which spacer particles having different particle sizes were formed.

<実施例2>
実施例1のガラス凹版の作成を下記の通り実施した以外は実施例1と同様の方法で行った。
<Example 2>
A glass intaglio plate of Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that it was performed as follows.

〜ガラス凹版の作成〜
まず、アルカリ可溶性樹脂として、アクリレート樹脂(ダイセル化学工業(株)社製:商品名「サイクロマーP−ACA200M」)100重量部、光重合性モノマーとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(東亜合成(株)社製:商品名:M400)30重量部、光重合開始剤として、イルガキュア369(チバスペシャルケミカル社製)6重量部、希釈溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート300重量部を、撹拌して希釈することにより、ネガレジスト組成物を調製した。
~ Creation of glass intaglio ~
First, 100 parts by weight of an acrylate resin (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .: trade name “Cyclomer P-ACA200M”) as an alkali-soluble resin, and dipentaerythritol hexaacrylate (Toagosei Co., Ltd.) as a photopolymerizable monomer Company: Trade name: M400) 30 parts by weight, Irgacure 369 (manufactured by Ciba Special Chemicals) as a photopolymerization initiator, 6 parts by weight, and 300 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a diluent solvent are diluted by stirring. Thus, a negative resist composition was prepared.

上記ネガレジスト組成物を無アルカリガラス(コーニング社、1737ガラス、300mm角、1.1mm厚)にスピンコート法により乾燥後膜厚が0.5μmとなるように塗布し、カラーフィルタ基板の遮光層上に幅10〜30μmの種々の解像度パターンを配置できるように開口部幅10〜30μmのパターンをデザインしたマスクを介して露光、現像し、210℃,1hrの条件で硬化させることで、ガラス基材上にパターン形成し、ガラス凹版を得た。このガラス凹版上にフッ素系撥水処理剤(3M製、EGC−1720)をディップコーティング、80℃で30分間乾燥処理することにより表面処理層を設けた。   The negative resist composition is applied to an alkali-free glass (Corning, 1737 glass, 300 mm square, 1.1 mm thickness) by spin coating so that the film thickness after drying is 0.5 μm, and the light shielding layer of the color filter substrate The glass substrate is exposed and developed through a mask designed with a pattern with an opening width of 10 to 30 μm so that various resolution patterns with a width of 10 to 30 μm can be arranged thereon, and cured under conditions of 210 ° C. and 1 hr. A pattern was formed on the material to obtain a glass intaglio. A surface treatment layer was provided on the glass intaglio by dip coating a fluorine-based water repellent treatment agent (manufactured by 3M, EGC-1720) and drying at 80 ° C. for 30 minutes.

<比較例1>
実施例1と同様の方法で調製したスペーサーインクを吐出量40plのピエゾ式インクジェットヘッド、およびアライメント機構を有する精密ステージを搭載したインクジェット印刷装置に、上記スペーサーインクを真空脱泡処理した後、充填し、カラーフィルタ基板のアライメントを行った後、遮光層上の任意位置にスペーサーインク液滴を直接、定点配置し、80℃のホットプレート上で1分間乾燥を行った。このスペーサーを形成したカラーフィルタ基板を120℃で30分間本硬化処理を行い、異なる粒径を有するスペーサー粒子を形成したカラーフィルタ基板を得た。
<Comparative Example 1>
The spacer ink prepared in the same manner as in Example 1 was vacuum degassed and filled into an inkjet printing apparatus equipped with a piezo inkjet head having a discharge amount of 40 pl and a precision stage having an alignment mechanism. After alignment of the color filter substrate, spacer ink droplets were directly placed at fixed positions on the light shielding layer, and dried on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute. The color filter substrate on which the spacers were formed was subjected to a main curing process at 120 ° C. for 30 minutes to obtain color filter substrates on which spacer particles having different particle sizes were formed.

以上のようにして得られたカラーフィルタ基板における遮光層(幅10、20、30μm)上のスペーサー配置の位置精度を顕微鏡観察により下記基準に基づいて評価した。
○;画素部上の存在率が10%以下
△;画素部上の存在率が10%以上、50%未満
×;画素部上の存在率が50%以上
また、形成したスペーサーのカラーフィルタ基板上への固着性をエアブラシにより水を流体とし、0.25MPa、30secの条件下で下記基準に基づいて評価した。
○;剥離箇所が10%以下
△;剥離箇所が10%以上、30%未満
×;剥離箇所が30%以上
上記評価基準に基づく、実施例1〜2、比較例1の評価結果一覧を表1に示す。
The positional accuracy of the spacer arrangement on the light shielding layer (width 10, 20, 30 μm) in the color filter substrate obtained as described above was evaluated based on the following criteria by microscopic observation.
○: Presence rate on the pixel portion is 10% or less Δ; Presence rate on the pixel portion is 10% or more and less than 50% ×; Presence rate on the pixel portion is 50% or more Also, on the color filter substrate of the formed spacer The sticking property to water was evaluated based on the following criteria under conditions of 0.25 MPa and 30 sec using water as a fluid with an air brush.
○: 10% or less of the peeled part Δ; 10% or more of the peeled part and less than 30% ×; 30% or more of the peeled part Shown in

Figure 2009229663
Figure 2009229663

A〜Cは、凹部パターンへのスペーサー粒子を配置する工程の概略図である。AC is the schematic of the process of arrange | positioning the spacer particle | grains to a recessed part pattern. カラーフィルタ基板へのスペーサー粒子の転写工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the transfer process of the spacer particle | grain to a color filter board | substrate.

符号の説明Explanation of symbols

100… 凹部パターンを形成した凹版
101… インクジェットヘッド
102… 凹部パターン
103… スペーサーインク
104… スペーサー粒子
201… 接着樹脂成分
202… 撥水層
203… カラーフィルタ基板
204… 光透過層
205… 遮光層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Intaglio 101 which formed the recessed pattern ... Inkjet head 102 ... Recessed pattern 103 ... Spacer ink 104 ... Spacer particle 201 ... Adhesive resin component 202 ... Water-repellent layer 203 ... Color filter substrate 204 ... Light transmission layer 205 ... Light shielding layer

Claims (9)

スペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法において、
1)透明基板上に形成されたカラーフィルタ上の所定パターン位置に対応した凹部パターンが設けられた凹版を作製する工程、
2)該凹版の凹部パターンに、スペーサー粒子を溶媒中に分散したスペーサーインクをインクジェット印刷で選択的に定点配置する工程、
3)インクの乾燥過程において凹部パターンへスペーサー粒子が集合する自己配置現象を利用して、凹部パターンへ正確にスペーサー粒子を配置する工程、
4)カラーフィルタ基板側および凹版側のアライメントマークにより双方の位置合わせを行い、カラーフィルタ上の所定パターン位置にスペーサー粒子を転写する工程、を少なくとも具備し、
前記スペーサーインク中に分散したスペーサー粒子として、粒子径及び弾性率の異なる複数種のスペーサー粒子を用いたことを特徴とするスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。
In the method of manufacturing a color filter substrate with a spacer,
1) a step of producing an intaglio plate provided with a concave pattern corresponding to a predetermined pattern position on a color filter formed on a transparent substrate;
2) A step of selectively placing fixed positions of the spacer ink in which the spacer particles are dispersed in a solvent in the concave pattern of the intaglio by inkjet printing,
3) Using the self-arrangement phenomenon in which spacer particles gather in the recess pattern during the drying process of the ink, accurately placing the spacer particles in the recess pattern;
4) at least a step of aligning both of the alignment marks on the color filter substrate side and the intaglio side and transferring spacer particles to a predetermined pattern position on the color filter;
A method for producing a color filter substrate with a spacer, wherein a plurality of types of spacer particles having different particle diameters and elastic moduli are used as spacer particles dispersed in the spacer ink.
前記凹版の版深が、スペーサーインク中に分散したスペーサー粒子の粒子径の内、小さい粒子径の1/2以下であることを特徴とする請求項1記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。   2. The method for producing a color filter substrate with a spacer according to claim 1, wherein the intaglio has a plate depth that is 1/2 or less of a small particle size of spacer particles dispersed in spacer ink. 前記凹版の凹部パターン径が、カラーフィルタ上の遮光層幅の30〜100%であることを特徴とする請求項1又は2記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。   The method for producing a color filter substrate with a spacer according to claim 1 or 2, wherein a concave pattern diameter of the intaglio is 30 to 100% of a width of a light shielding layer on the color filter. 前記凹版の表面におけるスペーサーインクの溶媒の接触角が、100°以上となる表面処理を施したことを特徴とする請求項1、2、又は3記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。   The method for producing a color filter substrate with a spacer according to claim 1, 2 or 3, wherein a surface treatment is performed so that the contact angle of the solvent of the spacer ink on the surface of the intaglio is 100 ° or more. 前記凹版上におけるスペーサー粒子の密度が、1000〜20000個/cm2であることを特徴とする請求項1、2、3、又は4記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。 5. The method for producing a color filter substrate with a spacer according to claim 1, wherein the density of spacer particles on the intaglio is 1000 to 20000 particles / cm 2 . 前記凹版が、ガラス基板からなることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。   The method for producing a color filter substrate with a spacer according to any one of claims 1 to 5, wherein the intaglio is made of a glass substrate. 前記凹版からカラーフィルタ基板へ転写を行う際に、凹版側、もしくはカラーフィルタ基板側の少なくとも一方に熱を付与することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。   The spacer-attached color according to any one of claims 1 to 6, wherein when transferring from the intaglio to the color filter substrate, heat is applied to at least one of the intaglio side and the color filter substrate side. Manufacturing method of filter substrate. 前記スペーサーインクの溶媒が沸点150℃以上の水溶性有機溶剤を主成分とし、スペーサー粒子の粒子径が3〜6μmで、その含有量が異なるスペーサー粒子をあわせて1.0重量%以下であり、スペーサーインクの23℃条件下での粘度が20cps以下、表面張力が40mN/m以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。   The solvent of the spacer ink is mainly composed of a water-soluble organic solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher, the spacer particles have a particle diameter of 3 to 6 μm, and the spacer particles having different contents are 1.0% by weight or less, 8. The method for producing a color filter substrate with a spacer according to claim 1, wherein the spacer ink has a viscosity at 23 ° C. of 20 cps or less and a surface tension of 40 mN / m or less. 前記スペーサーインク中に樹脂を主成分とする樹脂接着成分を含み、これらが熱、光、電子線のうちの少なくとも1つ以上のエネルギーで硬化することを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のスペーサー付カラーフィルタ基板の製造方法。   The spacer ink contains a resin adhesive component mainly composed of a resin, and these are cured by at least one energy of heat, light, and electron beam. 2. A method for producing a color filter substrate with a spacer according to item 1.
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