JP2009226557A - Punching die and manufacturing method for film carrier tape - Google Patents

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賢次 田代
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a punching die unit capable of lessening a punched gap of opening sections arranged on both ends of a film tape base material and a manufacturing method for a film carrier tape using the punching die unit. <P>SOLUTION: The punching die unit has an opening section punching area A and a guide hole punching area B and is provided with a front guide pin between the guide hole punching area B and the opening section punching area A and a back guide pin at the back of the opening section punching area A. The film tape base material is positioned using the guide pin at the front and back of the opening section punching area A, and the opening section is accurately positioned and then the opening section is drilled. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、打抜き工程を有するフィルムキャリアテープの製造方法に関し、より具体的には、打抜き工程での打抜き精度の向上を計るための装置及びフィルムテープの加工方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a film carrier tape having a punching process, and more specifically to an apparatus for improving the punching accuracy in the punching process and a film tape processing method.

エレクトロニクス産業の発達に伴い、IC(集積回路)、LSI(大規模集積回路)などの半導体チップをパッケージした電子部品が増加する一方、電子機器の小型軽量化、高機能化、高信頼性、低価格化などが要望されている。
このような要望を実現するための電子部品の実装方法として、例えば、電子部品にマトリックス状に配列した微小な半田ボールを形成し、これらの半田ボールを外部配線基板と接続するBGA(Ball Grid Array)方式が普及している。また、このBGA方式による電子部品のパッケージ材料の中でも、テープを利用したものがあり、TAB(Tape AutomatedBonding)テープ、T-BGA(Tape Ball Grid Array)テープ、CSP(Chip Size Package)テープ、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)テープ)(以下、単に「フィルムキャリアテープ」と言う。)等の利用が増加しつつある。
With the development of the electronics industry, electronic components packaged with semiconductor chips such as ICs (integrated circuits) and LSIs (large scale integrated circuits) are increasing, while electronic devices are becoming smaller and lighter, more functional, more reliable, and lower. There is a demand for pricing.
As an electronic component mounting method for realizing such a demand, for example, a BGA (Ball Grid Array) is used in which minute solder balls arranged in a matrix are formed on an electronic component, and these solder balls are connected to an external wiring board. ) Method is widespread. Among the packaging materials for electronic components using the BGA method, there are materials using tape, such as TAB (Tape Automated Bonding) tape, T-BGA (Tape Ball Grid Array) tape, CSP (Chip Size Package) tape, ASIC ( Application Specific Integrated Circuit (Tape) (hereinafter simply referred to as “film carrier tape”) is increasing.

一方、電子部品のパッケージ自体のサイズを半導体チップのサイズにまで縮小したCSPも採用されつつあるが、このCSPにも、テープタイプCSPと呼ばれるフィルムキャリアテープを用いてパッケージ自体のサイズを、半導体チップのサイズまでに縮小し、その接続方法がBGA方式と同じであるパッケージが出現している。   On the other hand, a CSP in which the size of the electronic component package itself is reduced to the size of a semiconductor chip is also being used. In this CSP, a film carrier tape called a tape type CSP is used to change the size of the package itself to a semiconductor chip. A package having the same connection method as the BGA method has appeared.

半導体チップを実装するフィルムキャリアテープは、ポリイミドフィルム等の絶縁性フィルムの面に直接導電性金属箔を設けた2層基板や、絶縁性フィルムの面に接着剤層を介して導電性金属箔が設けられた3層基板を材料として作製される。
具体的には、フィルムテープ基材の両縁部及び中央部の所定位置に一定の間隔で打抜き加工により開口部を設け、次いで導電性金属箔上に感光性樹脂を塗布し、この感光性樹脂を所望のパターンを有するマスクを用いて露光・現像して所望のエッチングマスクを形成し、エッチングマスクから露出している導電性金属箔をエッチングし、次いでエッチングマスクを除去して導電性金属箔からなる配線パターンを形成し、次いで、形成された配線パターンと半導体チップに形成されたバンプ電極を電気的に接続するためにAuやSnメッキ処理を施し、さらに半導体チップと接続する端子(インナーリード)部分および外部と接続するための端子(アウターリード)部分を残して配線パターン上にソルダーレジストを塗布して製造する。
A film carrier tape for mounting a semiconductor chip is a two-layer substrate in which a conductive metal foil is directly provided on the surface of an insulating film such as a polyimide film, or a conductive metal foil on the surface of the insulating film via an adhesive layer. The three-layer substrate provided is manufactured as a material.
Specifically, openings are formed by punching at predetermined intervals on both edges and the center of the film tape substrate, and then a photosensitive resin is applied onto the conductive metal foil. Is exposed and developed using a mask having a desired pattern to form a desired etching mask, the conductive metal foil exposed from the etching mask is etched, and then the etching mask is removed to remove the conductive metal foil from the conductive metal foil. A wiring pattern is formed, and then Au or Sn plating is performed to electrically connect the formed wiring pattern and the bump electrode formed on the semiconductor chip, and further, a terminal (inner lead) connected to the semiconductor chip It is manufactured by applying a solder resist on the wiring pattern, leaving a portion and a terminal (outer lead) portion for connection to the outside.

前記した打抜き加工により設けられたフィルムテープ基材の両縁部の開口部は、フィルムキャリアテープを搬送するためのスプロケットホールとして使用されるとともに、前述の配線パターン形成時や、ソルダーレジスト塗布時の位置合わせや、半導体チップを実装する際の位置決め用ガイドホールとして使用される。すなわち、フィルムテープ基材に形成された開口部のうち、所定位置の開口部をガイドホールとして用い、これをガイドピンや画像認識装置にて検出し、位置基準として使用してマスクの位置合わせやソルダーレジスト塗布、半導体チップ実装等の際の位置を決定する。高品質のフィルムキャリアテープを形成するには、フィルムテープ基材に対し、予め設定された位置に少しもずれることなく正確な寸法で、スプロケットホールあるいは半田ボール接続用孔などの開口部を形成しなければならない。   The openings on both edges of the film tape substrate provided by the punching process described above are used as sprocket holes for transporting the film carrier tape, and at the time of the above-described wiring pattern formation or solder resist application. It is used as a positioning guide hole for positioning and when mounting a semiconductor chip. That is, out of the openings formed in the film tape substrate, an opening at a predetermined position is used as a guide hole, which is detected by a guide pin or an image recognition device and used as a position reference, The position for solder resist coating, semiconductor chip mounting, etc. is determined. To form a high-quality film carrier tape, an opening such as a sprocket hole or solder ball connection hole is formed on the film tape base material with an accurate dimension without any deviation to a preset position. There must be.

このようなフィルムテープ基材には、例えば、搬送用のスプロケットホール、半田ボール接続用の孔等の必要な開口部が、金型装置を用いたパンチング加工により穿孔される。
パンチング加工用の金型装置の機能を説明すると、パンチまたはパンチと位置決めピンとを一体的に備えた上金型と、このパンチ等に対応してダイ孔を形成した下金型と、その下金型に固定設置された一対のガイドプレートによりフィルムテープ基材搬送路を構成している。
また、上金型の下面には、フィルムテープ基材を押圧するためのストリッパープレートが配設され、上方からストリッパープレートによりフィルムテープ基材の表面を押圧してフィルムテープ基材を固定した後、パンチの先端部によりフィルムテープ基材に所定の開口部が形成される(例えば、特許文献1参照。)。
また、上記のようなパンチング加工を高能率に、位置ズレや欠陥を発生させることなく精度良く行える順送用打抜き装置を使用する技術が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。
In such a film tape substrate, for example, necessary openings such as a sprocket hole for conveyance and a hole for connecting a solder ball are perforated by punching using a mold apparatus.
The function of the punching die apparatus will be described. An upper die integrally provided with a punch or a punch and a positioning pin, a lower die having a die hole corresponding to the punch and the like, and the lower die A pair of guide plates fixedly installed on the mold constitutes a film tape substrate conveyance path.
Further, a stripper plate for pressing the film tape substrate is disposed on the lower surface of the upper mold, and after fixing the film tape substrate by pressing the surface of the film tape substrate with the stripper plate from above, A predetermined opening is formed in the film tape substrate by the tip of the punch (see, for example, Patent Document 1).
In addition, a technique is disclosed that uses a progressive punching device that can perform the punching process as described above with high efficiency and high accuracy without causing a positional shift or a defect (see, for example, Patent Document 2).

順送用打抜き装置では、正確な位置に開口部を形成するために、フィルムテープ基材の開口部の位置決めがより重要になる。特許文献2に開示された装置では、開口部の位置決めの目的のために位置決めピンを設置して、スプロケットホールを使用して位置決めを行っている。
一例として図3に、従来のフィルムテープ基材の打抜き金型装置の構成の概要と機能を説明する図を示す。図3(a)は側面図であって、(b)は打抜き加工したフィルムテープ基材の平面図を示す。
図3に示す打抜き金型装置20は、打抜きパンチ22と位置決め用のガイドピン23とを一体的に備えた上金型21と、打抜きパンチ22に対応したダイ孔24とガイドピン23に対応したガイドピン孔25を形成した下金型26との間に、フィルムテープ基材1が図の矢印方向に搬送される。(ガードプレートは省略。)
In the progressive punching apparatus, in order to form the opening at an accurate position, the positioning of the opening of the film tape substrate becomes more important. In the apparatus disclosed in Patent Document 2, a positioning pin is installed for the purpose of positioning the opening, and positioning is performed using a sprocket hole.
As an example, FIG. 3 is a diagram for explaining the outline and function of the configuration of a conventional film tape substrate punching die apparatus. 3A is a side view, and FIG. 3B is a plan view of a punched film tape substrate.
The punching die apparatus 20 shown in FIG. 3 corresponds to an upper die 21 integrally provided with a punching punch 22 and a guide pin 23 for positioning, and a die hole 24 and a guide pin 23 corresponding to the punching punch 22. The film tape substrate 1 is conveyed in the direction of the arrow between the lower mold 26 having the guide pin holes 25 formed therein. (The guard plate is omitted.)

図3(a)に示したこの打抜き金型装置20では、複数の打抜きパンチ22を有する打抜きエリアAでフィルムテープ基材1に開口部31が設けられ、開口部31が設けられたフィルムテープ基材1が矢印で示す図面右方向に送られ、打抜かれた開口部31の一部をガイドホールとして用いてガイドピン23で支持することが一般的に行われている。打抜きエリアAで穿孔された複数(図では片縁10個)の開口部31のうち、片縁3個の開口部31’(両縁6個)にガイドピン23が挿入される。この開口部打抜きエリア後方支持(位置決め)の金型装置により、特に進行方向のガイドホールの間隔精度が保たれるとされている。
特開2004−207374号公報 特開2003−127093号公報
In this punching die apparatus 20 shown in FIG. 3A, an opening 31 is provided in the film tape substrate 1 in a punching area A having a plurality of punching punches 22, and the film tape base provided with the opening 31 is provided. It is generally performed that the material 1 is fed in the right direction of the drawing indicated by an arrow and supported by the guide pin 23 by using a part of the punched opening 31 as a guide hole. The guide pins 23 are inserted into three openings 31 ′ (six edges) of a plurality (10 edges in the drawing) of the openings 31 punched in the punching area A. It is said that the gap accuracy of the guide holes in the traveling direction is particularly maintained by the mold device for supporting (positioning) rearward of the opening punching area.
JP 2004-207374 A JP 2003-127093 A

しかし、この方法はで打抜きエリアの後方(打抜き加工の終わった領域)にガイドピンを配置して、フィルムテープ基材を支持するのみであり、打抜きエリアの前方(打抜き加工を加える前の領域)においてはフィルムテープ基材は支持されないため自由な状態となっている。図4に図3の装置を使用して穿孔した場合のズレの発生する様子を示す。
図4に示すように、開口部打抜きエリアAの後方のガイドピン23を支点に、フィルムテープ基材は、θ(シータ)ズレと呼ばれる回転方向のズレが発生することがある。
本発明は、このような回転方向のズレを減少させる目的でなされたものであり、フィルムテープ基材両縁部に設けられる開口部の打抜きズレの軽減が可能な打抜き金型装置と、その打抜き金型装置を用いた半導体チップ実装用フィルムキャリアテープの製造方法を提供することを目的としている。
However, this method only supports the film tape substrate by placing guide pins behind the punching area (the area where the punching process has been completed), and in front of the punching area (the area before the punching process is applied). In this case, the film tape substrate is not supported and is in a free state. FIG. 4 shows a state in which a deviation occurs when drilling is performed using the apparatus of FIG.
As shown in FIG. 4, the film tape base material may be displaced in the rotational direction called θ (theta) displacement with the guide pin 23 behind the opening punching area A as a fulcrum.
The present invention was made for the purpose of reducing such a shift in the rotational direction, and a punching die apparatus capable of reducing punching shifts in openings provided at both edges of a film tape substrate, and the punching thereof It aims at providing the manufacturing method of the film carrier tape for semiconductor chip mounting which used the metal mold | die apparatus.

上記課題を解決するため本発明の打抜き金型装置は、ガイドホール打抜きエリアBと開口部打抜きエリアAとを有し、ガイドホール打抜きエリアBと開口部打抜きエリアAとの間に前方ガイドピンが設けられており、開口部打抜きエリアAの後方に後方ガイドピンが設けられた打抜き金型装置であって、開口部打抜きエリアAで穿孔するに際して、開口部打抜きエリアAの前で前方ガイドピンがガイドホールを使用して、開口部打抜きエリアAの後ろで後方ガイドピンがスプロケットホールを使用してフィルムテープ基材を位置決めして穿孔する構造とした。   In order to solve the above problems, the punching die apparatus of the present invention has a guide hole punching area B and an opening punching area A, and a front guide pin is provided between the guide hole punching area B and the opening punching area A. A punching die apparatus provided with a rear guide pin behind the opening punching area A, and a front guide pin is provided in front of the opening punching area A when drilling in the opening punching area A. A guide hole was used, and a rear guide pin was positioned behind the opening punching area A to position and perforate the film tape substrate using a sprocket hole.

すなわち、本発明のフィルムテープ基材用の打抜き金型装置は、ガイドホール打抜きエリアと開口部打抜きエリア、並びに前方ガイドピン及び後方ガイドピンとを有し、上金型に前記ガイドホール打抜きエリアにはガイドホール打抜きパンチが配置され、開口部打抜きエリアにはスプロケットホール打抜きパンチが配置されており、前記ガイドホール打抜きエリアと開口部打抜きエリアとの間に前方ガイドピンが配置されており、開口部打抜きエリアの後方に後方ガイドピンが配置されており、上記各ガイドホール打抜きパンチ、スプロケットホール打抜きパンチ、並びに前方ガイドピン及び後方ガイドピンに対応した孔を有する下金型から構成されてなるフィルムテープ基材用の打抜き金型装置とした。
このように構成した装置とすることにより、スプロケットホールを穿孔するに際して、開口部打抜きエリアAの前で前方ガイドピンがガイドホールを使用して、開口部打抜きエリアAの後ろで後方ガイドピンがスプロケットホールを使用してフィルムテープ基材を位置決めして穿孔できるので、開口部位置のズレが発生せず、正確に開口部を形成することが可能となる。
That is, the punching die device for a film tape substrate of the present invention has a guide hole punching area, an opening punching area, a front guide pin and a rear guide pin, and the upper mold has a guide hole punching area in the guide hole punching area. A guide hole punching punch is disposed, and a sprocket hole punching punch is disposed in the opening punching area. A front guide pin is disposed between the guide hole punching area and the opening punching area, and the opening punching is performed. A rear guide pin is disposed behind the area, and the film tape base is composed of the above-described guide hole punch, sprocket hole punch, and a lower die having holes corresponding to the front guide pin and the rear guide pin. It was set as the punching die apparatus for materials.
With the apparatus configured as described above, when the sprocket hole is drilled, the front guide pin uses the guide hole in front of the opening punching area A, and the rear guide pin is behind the opening punching area A. Since the film tape base material can be positioned and punched using the holes, the opening portion is not displaced and the opening can be formed accurately.

本発明の打抜き金型装置では、前記ガイドホール打抜きパンチは断面形状が円形で、スプロケットホール打抜きパンチは断面形状が方形で、かつガイドホール打抜きパンチの断面積がスプロケットホール打抜きパンチの断面積よりも小さくすることが好ましい。
また、前記ガイドホール打抜きパンチ及びスプロケットホール打抜きパンチが共に複数本からなり、そのピッチ間隔がいずれも穿孔するスプロケットホールのピッチ間隔の整数倍とするのが好ましい。
つまり、穿孔したガイドホールを開口部打抜きエリアでスプロケットホールに穿孔することで、打抜き金型装置から搬出された段階では、ガイドホールが無くスプロケットホールが穿孔されたフィルムテープ基材を得ることができる。
In the punching die device of the present invention, the guide hole punching punch has a circular cross section, the sprocket hole punching punch has a square cross section, and the cross sectional area of the guide hole punching punch is larger than the cross sectional area of the sprocket hole punching punch. It is preferable to make it small.
Further, it is preferable that both the guide hole punch and the sprocket hole punch are composed of a plurality, and the pitch interval thereof is an integral multiple of the pitch interval of the sprocket holes to be drilled.
That is, by punching the drilled guide hole into the sprocket hole in the opening punching area, it is possible to obtain a film tape base material without the guide hole and having the sprocket hole drilled when it is unloaded from the punching die device. .

さらに本発明の打抜き金型装置では、ガイドホール打抜きパンチ、前記前方ガイドピン、スプロケットホール打抜きパンチ及び後方ガイドピンが、共にこの順序で加工すべきフィルムテープ基材の両縁にくるように平行に対向して配列することが好ましい。
フィルムテープ基材の両縁に効率良く開口部を形成するためである。
Furthermore, in the punching die apparatus of the present invention, the guide hole punch, the front guide pin, the sprocket hole punch and the rear guide pin are all parallel to each other on the edges of the film tape substrate to be processed in this order. It is preferable to arrange them facing each other.
This is because the openings are efficiently formed on both edges of the film tape substrate.

本発明のフィルムキャリアテープの製造方法は、打抜き金型装置を使用してフィルムテープ基材の両縁に開口部を形成する方法であって、フィルムテープ基材を上記に記載の打抜き金型装置のガイドホール打抜きエリアに移送してガイドホールを穿孔した後、前方ガイドピンが設けられているところに移送し、次に該フィルムテープ基材を上記に記載の打抜き金型装置の開口部打抜きエリアに移送して、前記開口部打抜きエリアの前後でガイドピンを使用してフィルムテープ基材を位置決めして穿孔位置を決定するとともに、前記ガイドホールに重ねてスプロケットホールを穿孔するフィルムキャリアテープの製造方法を採用した。
本発明のフィルムキャリアテープの製造方法では、前記フィルムテープ基材を1スパン毎に間歇的に順送しながら、ガイドホールとスプロケットホールとを同時に穿孔することができる。
高能率で穿孔加工を施すことができるからである。
The film carrier tape manufacturing method of the present invention is a method of forming openings at both edges of a film tape substrate using a punching die device, wherein the film tape substrate is a punching die device as described above The guide hole is punched into the guide hole punching area, and then transferred to the place where the front guide pin is provided. Next, the film tape substrate is punched into the opening punching area of the punching die apparatus described above The film carrier tape is manufactured by positioning the film tape substrate using guide pins before and after the opening punching area to determine the punching position and punching the sprocket hole over the guide hole. The method was adopted.
In the method for producing a film carrier tape of the present invention, a guide hole and a sprocket hole can be simultaneously drilled while intermittently feeding the film tape base material every span.
This is because drilling can be performed with high efficiency.

本発明では、一般的な開口部打抜きエリア後方支持の金型に比べ、開口部打抜きエリアの前後でフィルムテープ基材を支持(位置決め)するため、開口部の位置をより高精度に決定して維持しながら打抜くことが可能となる。このため、以後の各工程での位置精度が向上し、位置ズレによる不良品の発生を防止することができる。   In the present invention, since the film tape base material is supported (positioned) before and after the opening punching area, the position of the opening is determined with higher accuracy than a general mold for supporting the opening punching area behind. It is possible to punch while maintaining. For this reason, the positional accuracy in each subsequent process can be improved, and the occurrence of defective products due to positional shift can be prevented.

本発明に使用する打抜き金型装置の概略機構と機能を図1に例示する。図1(a)は側面図であって、(b)は打抜き加工したフィルムテープ基材の平面図を示す。
図1に示す打抜き用金型装置10は、スプロケットホール打抜きパンチ4と、ガイドホール打抜きパンチ5と、位置決め用の前方ガイドピン6と後方ガイドピン7とを一体的に備えた上金型2と、ガイドホール打抜きパンチ5及び前方ガイドピン6に対応したダイ孔51とガイド孔52と、スプロケットホール打抜きパンチ4及び後方ガイドピン7に対応したダイ孔41とガイド孔42を形成した下金型3との間に、フィルムテープ基材搬送路11を構成し、フィルムテープ基材1が搬送されるように構成されている。
本発明の打抜き金型装置10では、開口部打抜きエリアAの前後でガイドピン6,7を使用してフィルムテープ基材1を位置決めして、開口部の位置を正確に決定するようにしている。
The schematic mechanism and function of the punching die apparatus used in the present invention are illustrated in FIG. FIG. 1A is a side view, and FIG. 1B is a plan view of a punched film tape substrate.
A punching die device 10 shown in FIG. 1 includes a sprocket hole punching punch 4, a guide hole punching punch 5, an upper die 2 integrally provided with positioning front guide pins 6 and rear guide pins 7. A lower die 3 having a die hole 51 and a guide hole 52 corresponding to the guide hole punching punch 5 and the front guide pin 6, and a die hole 41 and a guide hole 42 corresponding to the sprocket hole punching punch 4 and the rear guide pin 7. The film tape base material conveyance path 11 is comprised between and the film tape base material 1 is comprised so that it may be conveyed.
In the punching die apparatus 10 of the present invention, the film tape substrate 1 is positioned using the guide pins 6 and 7 before and after the opening punching area A to accurately determine the position of the opening. .

図1(b)に示すように、本発明の打抜き金型装置10を使用すると、先ずガイドホール打抜きパンチ5を使用してガイドホール9を穿孔した後、開口部打抜きエリアAの前に2本以上の前方ガイドピン6による位置決めを行い、次に開口部打抜きエリアAにスプロケットホール打抜きパンチ4を配置して、その連続打抜きによりガイドホール9に重ねて連続的なスプロケットホール8を成形し、開口部打抜きエリアAの後ろで2本以上の後方ガイドピン7による位置決めをするものである。この例では、4個のガイドホール9に重ねて、20個のスプロケットホール8を穿孔している。
図1(b)ではフィルムテープ基材1の両縁部にスプロケットホール8となる開口部を形成する例を示しているが、フィルムテープ基材1の中央部に半田ボール接続用の孔や、ICチップを取付けるデバイスホール等の開口部を同時に形成することもできる。
As shown in FIG. 1 (b), when the punching die apparatus 10 of the present invention is used, the guide hole 9 is first drilled using the guide hole punching punch 5, and then two before the opening punching area A. Positioning by the front guide pin 6 is performed, and then the sprocket hole punching punch 4 is disposed in the opening punching area A, and the continuous sprocket hole 8 is formed by overlapping the guide hole 9 by the continuous punching. Positioning by two or more rear guide pins 7 behind the part punching area A is performed. In this example, 20 sprocket holes 8 are drilled so as to overlap the four guide holes 9.
FIG. 1B shows an example in which openings serving as sprocket holes 8 are formed on both edge portions of the film tape substrate 1. In the center portion of the film tape substrate 1, a hole for connecting a solder ball, An opening such as a device hole for attaching an IC chip can be formed at the same time.

ここからはフィルムキャリアテープの製造工程を含めて詳細構造を説明する。
フィルムテープ基材1には、先ずガイドホール打抜きエリアBでガイドホール9を打抜く。ガイドホール9はフィルムテープ基材1の両縁に、フィルムテープ基材移送装置のスプロケットホールのピッチ間隔に合わせて複数個形成する。ガイドホール9のピッチは、後続の開口部打抜きエリアAの長さを考慮して、スプロケットホール3〜5個につき1個の割合で設けておけば良い。
ガイドホール9の大きさは、スプロケットホール8の大きさよりも小さくしておき、位置決め時になるべくズレを生じないようにしておく。ガイドホール9の大きさは、例えば直径が0.6〜1.2mmの円形が好ましく、2個以上の設置が好ましい。
従って、ガイドホール打抜きエリアBに設けるガイドホール穿孔用のガイドホール打抜きパンチ5は、直径が0.6〜1.2mmの円形パンチとするのが好ましい。
From here, detailed structure including the manufacturing process of a film carrier tape is demonstrated.
First, the guide hole 9 is punched into the film tape substrate 1 in the guide hole punching area B. A plurality of guide holes 9 are formed on both edges of the film tape substrate 1 according to the pitch interval of the sprocket holes of the film tape substrate transfer device. The pitch of the guide holes 9 may be set at a ratio of one for every three to five sprocket holes in consideration of the length of the subsequent opening punching area A.
The size of the guide hole 9 is set to be smaller than the size of the sprocket hole 8 so as not to be displaced as much as possible during positioning. The size of the guide hole 9 is preferably, for example, a circle having a diameter of 0.6 to 1.2 mm, and two or more are preferably installed.
Therefore, it is preferable that the guide hole punching punch 5 for punching the guide hole provided in the guide hole punching area B is a circular punch having a diameter of 0.6 to 1.2 mm.

ガイドホール打抜きエリアBと開口部打抜きエリアAとの間には、前方ガイドピン6が設けてある。前方ガイドピン6は、複数のガイドホール9のピッチと一致するように設けてある。前方ガイドピン6もガイドホール9と同じ直径0.6〜1.2mmの円形断面とし、先端の尖ったピンを2個以上設置することが好ましい。   A front guide pin 6 is provided between the guide hole punching area B and the opening punching area A. The front guide pins 6 are provided so as to coincide with the pitch of the plurality of guide holes 9. It is preferable that the front guide pin 6 also has a circular cross section with a diameter of 0.6 to 1.2 mm, which is the same as that of the guide hole 9, and two or more pins with sharp tips are installed.

次に、ガイドホール9を形成したフィルムテープ基材1は開口部打抜きエリアAに送られ、スプロケットホール8となる開口部を穿孔する。
この時、フィルムテープ基材1は開口部打抜きエリアAの前後で前方ガイドピン6と後方ガイドピン7によって位置決めされる。フィルムテープ基材1を開口部打抜きエリアAの前後で位置決めすることにより、開口部打抜き加工時のθ(シータ)ズレと呼ばれるズレの発生を防止することができる。
Next, the film tape substrate 1 in which the guide hole 9 is formed is sent to the opening punching area A, and the opening serving as the sprocket hole 8 is perforated.
At this time, the film tape substrate 1 is positioned by the front guide pins 6 and the rear guide pins 7 before and after the opening punching area A. By positioning the film tape substrate 1 before and after the opening punching area A, it is possible to prevent the occurrence of a shift called θ (theta) shift during the opening punching process.

開口部打抜きエリアAには複数のスプロケットホール打抜きパンチ4が配置してある。スプロケットホール打抜きパンチ4は、先に開口したガイドホール9の位置に重なるようにする。
そのために前記ガイドホール打抜きパンチ及びスプロケットホール打抜きパンチは共に複数本配置し、そのピッチ間隔がいずれも穿孔するスプロケットホールのピッチ間隔の整数倍となるようにする。
ここで穿孔されるスプロケットホール8は、先に形成したガイドホール9よりも大きく、例えば1.42mm四方の角形とし、図示省略のフィルムテープ基材移送装置のスプロケットピッチに合わせて形成する。
従って、スプロケットホール打抜きパンチ4は1.42mm四方の角形パンチとするのが好ましい。
In the opening punching area A, a plurality of sprocket hole punching punches 4 are arranged. The sprocket hole punch 4 is overlapped with the position of the guide hole 9 opened previously.
For this purpose, a plurality of guide hole punches and sprocket hole punches are both arranged so that the pitch interval is an integral multiple of the pitch interval of the sprocket holes to be drilled.
The sprocket hole 8 drilled here is larger than the previously formed guide hole 9 and has a square shape of, for example, 1.42 mm, and is formed in accordance with the sprocket pitch of a film tape substrate transfer device (not shown).
Accordingly, the sprocket hole punch 4 is preferably a 1.42 mm square punch.

開口部打抜きエリアAで穿孔する際には、フィルムテープ基材1を前方ガイドピン6と後方ガイドピン7によって位置決めする。
後方ガイドピン7は、先端の尖った1.405〜1.425mm四方の角型で、2個以上有するものとする。後方ガイドピン7に対応する後方ガイドホール61は、先に形成したスプロケットホール8を1〜2個おきに使用する。
本発明の打抜き金型装置では、ガイドホール打抜きパンチ、前方ガイドピン、スプロケットホール打抜きパンチ及び後方ガイドピンが、共にこの順序で加工すべきフィルムテープ基材の両縁部にくるように平行に対向して配列して、フィルムテープ基材両縁にスプロケットホールを連続して穿孔していく。
When punching in the opening punching area A, the film tape substrate 1 is positioned by the front guide pins 6 and the rear guide pins 7.
The rear guide pins 7 are squares of 1.405 to 1.425 mm square with a sharp tip, and have two or more. The rear guide hole 61 corresponding to the rear guide pin 7 uses one or two sprocket holes 8 formed earlier.
In the punching die apparatus of the present invention, the guide hole punch, the front guide pin, the sprocket hole punch and the rear guide pin face each other in parallel so as to come to both edges of the film tape substrate to be processed in this order. Then, sprocket holes are continuously drilled on both edges of the film tape substrate.

図1に示す左端のガイドホール打抜きパンチ5からその穿孔されたガイドホール9を使って位置決めする前方ガイドピン6までを1スパンとして、フィルムテープ基材1を移送装置により1スパンずつ間歇的に移送しながら開口部を形成する。   The film tape base material 1 is intermittently transferred one span at a time by a transfer device from the leftmost guide hole punching punch 5 shown in FIG. 1 to the front guide pin 6 positioned using the punched guide hole 9 as one span. While forming the opening.

本発明では、開口部の打抜き位置精度をより高精度化するもので、この金型での打抜き加工は特別な制限はなく、連続加工する限りは回転数やストロークに制限はない。但し、一般的製造工程として、回転数は50spm以上が好ましく、ストロークは完全に打抜かれる最低深さより被打抜き材厚み分以上深くすることが望ましい。   In the present invention, the punching position accuracy of the opening is made higher, and the punching process with this die is not particularly limited, and there is no limit on the number of rotations and the stroke as long as continuous processing is performed. However, as a general manufacturing process, the rotation speed is preferably 50 spm or more, and the stroke is desirably deeper than the minimum depth at which punching can be completely performed by the thickness of the punched material.

本発明が対象とする打抜くフィルムテープ基材としては、3層TAB用フィルムキャリアテープ(ポリイミドフィルム厚50〜125μm接着剤厚 12μm/保護フィルム25μm厚)やCOF用2層銅ポリイミドフィルム(ポリイミドフィルム厚 30〜50μm/銅厚8〜15μm/必要時補強フィルム厚50μm)等がある。   As the film tape base material to be punched by the present invention, a film carrier tape for 3-layer TAB (polyimide film thickness: 50 to 125 μm, adhesive thickness: 12 μm / protective film: 25 μm thickness) or COF 2-layer copper polyimide film (polyimide film Thickness 30-50 μm / copper thickness 8-15 μm / reinforcement film thickness 50 μm when necessary).

次に本発明の実施例および比較例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
半導体チップを搭載するフィルムキャリアテープに、補強用裏打ちフィルムをポリイミドフィルムの裏面に貼り合わせた、銅ポリイミドフィルム基板の連続パンチング加工を実施した。ポリイミドフィルムの材質はカプトンENで、銅厚は8μm、ポリイミドフィルムの厚さは38μm、補強用裏打ちフィルムの厚さは50μmで、粘着層の厚さは8μmであった。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples of the present invention, but the present invention is not limited thereto.
A continuous punching process of a copper polyimide film substrate was performed in which a reinforcing backing film was bonded to the back surface of a polyimide film on a film carrier tape on which a semiconductor chip was mounted. The material of the polyimide film was Kapton EN, the copper thickness was 8 μm, the thickness of the polyimide film was 38 μm, the thickness of the reinforcing backing film was 50 μm, and the thickness of the adhesive layer was 8 μm.

この際のプレス機の回転数は75spm、ストロークは、完全打抜き点よりパンチ刃先を0.3mmダイ孔への入り込みとした。使用した打抜き金型装置は、図1に示したものを用いた。開口部打抜きエリアAの後方に設けられたガイドピン7は、片縁にスプロケットホール8の一つおきの間隔となるように3本とし、スプロケットホール8の開口部の大きさは1.42mm四方のものとした。   The number of rotations of the press machine at this time was 75 spm, and the stroke was set so that the punch blade edge entered the 0.3 mm die hole from the complete punching point. The punching die apparatus used was that shown in FIG. There are three guide pins 7 provided behind the opening punching area A so that every other sprocket hole 8 is spaced on one edge, and the size of the opening of the sprocket hole 8 is 1.42 mm square. It was a thing.

また、開口部打抜きエリアAの前方に設けられたガイドホール打抜きエリアBでは、前記スプロケットホール8の片縁10個の開口部の左から4個目と9個目の開口部に対応する位置に、直径0.8mmの円形のガイドホール9を設けるようにし、開口部打抜きエリアAとガイドホール打抜きエリアBとの間に直径0.79mmのガイドピン6を2組(合計4本)設置した。   Further, in the guide hole punching area B provided in front of the opening punching area A, the sprocket hole 8 has positions corresponding to the fourth and ninth openings from the left of the ten openings on one edge. A circular guide hole 9 having a diameter of 0.8 mm was provided, and two sets (four in total) of guide pins 6 having a diameter of 0.79 mm were provided between the opening punching area A and the guide hole punching area B.

こうして連続プレス加工して得られたフィルムキャリアテープの回転方向のθズレ寸法測定を実施したところ、基準値0±0.030mmに対し、20,000m(約350,000スパン分)を超える加工数において、基準外の発生はなかった。測定結果を図2に示した。図2において、横軸はθズレの幅、縦軸は出現頻度である。図2から本実施例で得られたフィルムキャリアテープのθズレは非常に小さく、バラツキも少ないことが判る。   When the θ shift dimension measurement in the rotation direction of the film carrier tape obtained by continuous pressing was performed in this way, the number of processing exceeding 20,000 m (about 350,000 spans) with respect to the reference value 0 ± 0.030 mm. There was no out-of-standard occurrence. The measurement results are shown in FIG. In FIG. 2, the horizontal axis represents the θ shift width, and the vertical axis represents the appearance frequency. It can be seen from FIG. 2 that the θ deviation of the film carrier tape obtained in this example is very small and there is little variation.

(比較例)
実施例1において使用した打抜き金型装置の前方ガイドピンおよびガイドホール打抜きパンチを作動させない状態にして、他条件を実施例1と同様にして連続プレス加工をした。
こうして連続プレス加工したフィルムキャリアテープの回転方向のθズレ寸法を図5に示す。図5において、横軸はθズレの幅、縦軸は出現頻度である。
図5に示すようにθズレは左右に大きく広がっており、比較例ではθズレの幅のバラツキが大きく、20,000mを超える加工数において、約14%が規格外であった。
(Comparative example)
Continuous press working was performed in the same manner as in Example 1 except that the front guide pin and the guide hole punching punch of the punching die apparatus used in Example 1 were not operated.
FIG. 5 shows the θ shift dimension in the rotation direction of the film carrier tape thus continuously pressed. In FIG. 5, the horizontal axis represents the θ shift width, and the vertical axis represents the appearance frequency.
As shown in FIG. 5, the θ deviation greatly spreads to the left and right, and in the comparative example, the variation in the width of the θ deviation is large.

本発明の打抜き金型装置の構成概略と機能を説明する図であって、(a)は側面図を、(b)は加工後のフィルムテープの平面図を示す。It is a figure explaining the structure outline and function of the punching die apparatus of this invention, Comprising: (a) is a side view, (b) shows the top view of the film tape after a process. 本実施例における回転方向のθズレを示す図である。It is a figure which shows (theta) deviation of the rotation direction in a present Example. 従来の打抜き金型装置の構成概略と機能を説明する図であって、(a)は側面図を、(b)は加工後のフィルムテープの平面図を示す。It is a figure explaining the structure outline and function of the conventional punching die apparatus, Comprising: (a) shows a side view, (b) shows the top view of the film tape after a process. 従来の打抜き用金型装置を使用してフィルムテープを加工する際の、回転方向のθズレの発生状態を説明する図である。It is a figure explaining the generation | occurrence | production state of the θ shift | offset | difference of a rotation direction at the time of processing a film tape using the conventional die apparatus for punching. 比較例における回転方向のθズレを示す図である。It is a figure which shows (theta) deviation of the rotation direction in a comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

1 フィルムテープ基材
2、21 上金型
3、26 下金型
4 スプロケットホール打抜きパンチ
5 ガイドホール打抜きパンチ
6 前方ガイドピン
7 後方ガイドピン
8 スプロケットホール
9 ガイドホール
10,20 打抜き金型装置
11,27 フィルムテープ基材搬送路
22 打抜きパンチ
23 ガイドピン
24 ダイ孔
25 ガイドピン孔
31 開口部
41 ダイ孔
42 ガイド孔
51 ダイ孔
52 ガイド孔
61 後方ガイドホール
A 開口部打抜きアリア
B ガイドホール打抜きアリア
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film tape base material 2, 21 Upper die 3, 26 Lower die 4 Sprocket hole punching punch 5 Guide hole punching punch 6 Front guide pin 7 Back guide pin 8 Sprocket hole 9 Guide hole 10, 20 Stamping die apparatus 11, 27 Film Tape Substrate Transport Path 22 Punch Punch 23 Guide Pin 24 Die Hole 25 Guide Pin Hole 31 Opening 41 Die Hole 42 Guide Hole 51 Die Hole 52 Guide Hole 61 Rear Guide Hole A Opening Punching Area B Guide Hole Punching Area

Claims (6)

フィルムテープ基材用の打抜き金型装置であって、ガイドホール打抜きエリアと開口部打抜きエリア、並びに前方ガイドピン及び後方ガイドピンとを有し、上金型に前記ガイドホール打抜きエリアにはガイドホール打抜きパンチが配置され、開口部打抜きエリアにはスプロケットホール打抜きパンチが配置されており、前記ガイドホール打抜きエリアと開口部打抜きエリアとの間に前方ガイドピンが配置されており、開口部打抜きエリアの後方に後方ガイドピンが配置されており、下金型に前記各ガイドホール打抜きパンチ、スプロケットホール打抜きパンチ、並びに前方ガイドピン及び後方ガイドピンに対応した孔を設けて構成されてなることを特徴とするフィルムテープ基材用の打抜き金型装置。   A punching die apparatus for a film tape substrate, which has a guide hole punching area, an opening punching area, a front guide pin and a rear guide pin, and a guide hole punching in the guide hole punching area in the upper die A punch is disposed, and a sprocket hole punching punch is disposed in the opening punching area, a front guide pin is disposed between the guide hole punching area and the opening punching area, and the rear of the opening punching area. A rear guide pin is disposed on the lower die, and the lower mold is provided with holes corresponding to the respective guide hole punches, sprocket hole punches, and front guide pins and rear guide pins. Punching die device for film tape substrate. 前記ガイドホール打抜きパンチは断面形状が円形で、スプロケットホール打抜きパンチは断面形状が方形で、かつガイドホール打抜きパンチの断面積がスプロケットホール打抜きパンチの断面積よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載のフィルムテープ基材用の打抜き金型装置。   2. The guide hole punching punch has a circular cross-sectional shape, the sprocket hole punching punch has a square cross-sectional shape, and the cross-sectional area of the guide hole punching punch is smaller than the cross-sectional area of the sprocket hole punching punch. The punching die apparatus for film tape base materials as described in 2. 前記ガイドホール打抜きパンチ及びスプロケットホール打抜きパンチが共に複数本からなり、そのピッチ間隔がいずれも穿孔するスプロケットホールのピッチ間隔の整数倍となっていることを特徴とする請求項1又は2に記載のフィルムテープ基材用の打抜き金型装置。   The guide hole punching punch and the sprocket hole punching punch are both formed in plural numbers, and the pitch interval is an integral multiple of the pitch interval of the sprocket hole to be drilled. Punching die device for film tape substrate. 前記ガイドホール打抜きパンチ、前方ガイドピン、スプロケットホール打抜きパンチ及び後方ガイドピンが、共にこの順序で加工すべきフィルムテープ基材の両縁にくるように平行に対向して配列されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のフィルムテープ基材用の打抜き金型装置     The guide hole punch, front guide pin, sprocket hole punch and rear guide pin are all arranged in parallel and facing each other so as to come to both edges of the film tape substrate to be processed in this order. The punching die apparatus for film tape base materials of any one of Claim 1 to 3 打抜き金型装置を使用してフィルムテープ基材の両縁に開口部を形成する方法であって、フィルムテープ基材を前記請求項1から4のいずれか1項に記載の打抜き金型装置のガイドホール打抜きエリアに移送してガイドホールを穿孔した後、該フィルムテープ基材を前記請求項1から4のいずれか1項に記載の打抜き金型装置の開口部打抜きエリアに移送して、前記開口部打抜きエリアの前後でガイドピンを使用してフィルムテープ基材を位置決めして穿孔位置を決定するとともに、前記ガイドホールに重ねてスプロケットホールを穿孔することを特徴とするフィルムキャリアテープの製造方法。   It is a method of forming an opening part in the both edges of a film tape base material using a punching die apparatus, Comprising: A film tape base material of the punching die apparatus of any one of the said Claim 1 to 4 After transferring to the guide hole punching area and punching the guide hole, the film tape substrate is transferred to the opening punching area of the punching die device according to any one of claims 1 to 4, A method of manufacturing a film carrier tape, comprising: positioning a film tape substrate using guide pins before and after an opening punching area to determine a punching position; and punching a sprocket hole over the guide hole . 前記フィルムテープ基材を1スパン毎に間歇的に順移送しながら、ガイドホールとスプロケットホールとを同時に穿孔することを特徴とする請求項5に記載のフィルムキャリアテープの製造方法。   6. The method for producing a film carrier tape according to claim 5, wherein the guide hole and the sprocket hole are simultaneously drilled while the film tape base material is intermittently forwardly transferred every one span.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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