JP2009221360A - Anisotropically conductive resin composition, anisotropically conductive member, mounting method therefor, and electronic device - Google Patents

Anisotropically conductive resin composition, anisotropically conductive member, mounting method therefor, and electronic device Download PDF

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勝 中川
Takashi Kobayashi
敬 小林
Taichi Nagashima
太一 長嶋
Shinichi Kawasaki
真一 川崎
Hiroshi Ochiai
博 落合
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropically conductive resin composition can refinement of a connection pitch, and to provide an anisotropically conductive member employing the same. <P>SOLUTION: The anisotropically conductive resin composition contains a rod-shaped and hollow conductive magnetic powder and a binder containing a photopolymerizable composition as a main component, wherein a shrinkage between time points before and after irradiation of the photopolymerizable composition with an active beam is 7% or less when calculated from the following formula 1: shrinkage ratio (%)=100×(dp-dM)/dp (wherein dp represents the density of the photopolymerizable composition after the irradiation with the active beam, and dM represents the density of the photopolymerizable composition before the irradiation with the active beam). <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、異方導電性樹脂組成物に関する。また、異方導電性樹脂組成物により構成される異方導電性部材、及びその実装方法に関する。さらに、前記異方導電性部材を備える電子機器に関する。   The present invention relates to an anisotropic conductive resin composition. Moreover, it is related with the anisotropic conductive member comprised with an anisotropic conductive resin composition, and its mounting method. Furthermore, it is related with an electronic device provided with the said anisotropically conductive member.

近年、電子部品の小型化、高性能化等が進んでおり、各種微細回路接続に、バインダー樹脂中に導電性粒子を分散させた異方導電性フィルムが多用されるようになってきた。近時においては、電子部品の軽薄短小化や高性能化が急速に進む中で、ベアチップをガラス基板上に直接接続するCOG(Chip on Glass)技術、若しくはプリント基板上に直接接続するCOB(Chip on Boad)技術等を、異方導電性部材を用いて行おうとする動きが強まってきている。   In recent years, miniaturization and high performance of electronic parts have progressed, and anisotropic conductive films in which conductive particles are dispersed in a binder resin have been frequently used for various fine circuit connections. In recent years, as electronic components are rapidly becoming lighter, thinner, smaller, and higher in performance, COG (Chip on Glass) technology that directly connects a bare chip on a glass substrate, or COB (Chip that directly connects on a printed circuit board) on Boad) technology, etc., using an anisotropically conductive member is becoming increasingly popular.

異方導電性フィルムは、導電性微粒子をバインダー樹脂中に所定量含有したものであり、相対峙させた電極間に挟持し、加熱圧着(例えば、170℃×5s、50−150MPa)することにより複数の電極を一括接続することが可能である。   An anisotropic conductive film contains a predetermined amount of conductive fine particles in a binder resin, and is sandwiched between electrodes that are relatively wrinkled and subjected to thermocompression bonding (for example, 170 ° C. × 5 s, 50-150 MPa). A plurality of electrodes can be connected together.

従来より、加熱圧着タイプの異方導電性フィルムの特性向上の検討が精力的になされてきた(例えば、特許文献1)。異方導電性部材に使用される導電性微粒子としては、従来から、金属微粉末、めっき等で金属被覆を行った有機系、無機系の粒子などが用いられている。異方導電性部材の特性向上を目的として、表面に磁性及び導電性が付与された繊維を、導電性微粒子として用いることが提案されている(特許文献2、3)。また、本発明者らのグループは、先般、バインダー樹脂中に含有する導電性微粒子として、配向制御しやすく、かつ、金属又は金属合金に由来する導電性と強度を維持したまま、軽量化を実現できる導電性磁性粉体を提案した(特許文献4−6)。なお、特許文献7については、後述する。
特開2006−335926号公報 特開2001−291431号公報 特開2002−124318号公報 特開2005−264214号公報 特開2006−156196号公報 特開2008−21513号公報 WO2005/033061号公報
Conventionally, studies have been vigorously made to improve the characteristics of thermo-compression-type anisotropic conductive films (for example, Patent Document 1). Conventionally, as the conductive fine particles used for the anisotropic conductive member, organic or inorganic particles coated with metal by metal fine powder, plating or the like have been used. For the purpose of improving the characteristics of anisotropic conductive members, it has been proposed to use fibers having magnetism and conductivity on the surface as conductive fine particles (Patent Documents 2 and 3). In addition, the group of the present inventors recently realized weight reduction while maintaining the conductivity and strength derived from the metal or metal alloy as the conductive fine particles contained in the binder resin, which are easy to control the orientation. The electroconductive magnetic powder which can be produced was proposed (patent documents 4-6). Patent Document 7 will be described later.
JP 2006-335926 A JP 2001-291431 A JP 2002-124318 A JP 2005-264214 A JP 2006-156196 A JP 2008-21513 A WO2005 / 033061

微細加工技術の著しい進展に伴って、接続ピッチの微細化や接続の細幅化が急速に進んできている。そのため、接続時の加熱により、各種材料の伸びのために接続部分にずれが生じたり、接続部分が細幅のため接続時の温度で周辺部材が熱的影響を受けたり、また、接続時の加熱により反りが発生したり、配線が断線したりするという問題等が生じてきた。近年においては、異方導電性部材を用いる用途、基材も多様化してきており、COF(Chip on Film)などフィルムに異方導電部材を用いる場合もある。このような場合には、接続時の加熱による反りの問題はより一層深刻となり、接続ピッチの微細化を実現することは困難である。このため、これらの問題を回避可能な技術が切望されている。   With the remarkable progress of microfabrication technology, the connection pitch and connection width are rapidly increasing. For this reason, due to the heating at the time of connection, the connection part is displaced due to the elongation of various materials, the connection part is thin and the peripheral members are thermally affected by the temperature at the time of connection. Problems such as warping due to heating and disconnection of wiring have arisen. In recent years, applications and base materials using anisotropic conductive members have been diversified, and anisotropic conductive members are sometimes used for films such as COF (Chip on Film). In such a case, the problem of warping due to heating at the time of connection becomes more serious, and it is difficult to realize a fine connection pitch. Therefore, a technique that can avoid these problems is eagerly desired.

本発明は、上記背景に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、接続ピッチの微細化に対応可能な異方導電性樹脂組成物、及びこれを用いた異方導電性部材及び異方導電性部材の実装方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above background, and the object of the present invention is an anisotropic conductive resin composition that can cope with refinement of the connection pitch, an anisotropic conductive member using the same, and It is to provide a method for mounting an anisotropic conductive member.

本発明に係る異方導電性樹脂組成物は、棒状、かつ中空の導電性磁性粉体と、光重合性組成物を主成分とするバインダーとを含有し、前記光重合性組成物の活性光線照射前後の収縮率は、下記<数1>により算出した場合に7%以下のものである。
<数1> 収縮率(%)=100×(dp−dM)/dp
式中のdpは、水中置換法(JIS K7232−1982)による活性光線照射後の前記光重合性組成物の密度、dMは、比重瓶法(JIS K7112)による活性光線照射前の前記光重合性組成物の密度ものである。
An anisotropic conductive resin composition according to the present invention contains a rod-shaped and hollow conductive magnetic powder and a binder mainly composed of a photopolymerizable composition, and the active light beam of the photopolymerizable composition. The shrinkage ratio before and after irradiation is 7% or less when calculated by the following <Equation 1>.
<Equation 1> Shrinkage rate (%) = 100 × (dp−dM) / dp
In the formula, dp is the density of the photopolymerizable composition after irradiation with actinic rays by an underwater substitution method (JIS K723-1982), and dM is the photopolymerizability before irradiation with actinic rays by a specific gravity bottle method (JIS K7112). The density of the composition.

本発明に係る異方導電性樹脂組成物によれば、光重合性組成物を主成分としているので、活性光線照射により異方導電性部材を形成することが可能である。このため、従来の加熱硬化型の異方導電性樹脂組成物に比して、加熱により生ずる問題点を解決することができる。すなわち、接続時の加熱により、各種材料の伸びのために接続部分にずれが生じたり、接続部分が細幅のため接続時の温度で周辺部材が熱的影響を受けたり、また、接続時の加熱により反りが発生したり、配線が断線するという問題や、残存した応力歪による経時破断の問題等を解決することができる。また、光重合性組成物の活性光線照射前後の収縮率を上記のものとすることにより寸法安定性に優れる。さらに、上記導電性磁性粉体を用いることにより、配向性を高め、かつ、分散性を高めることが可能となる。これらの結果、接続ピッチの微細化に対応可能な異方導電性樹脂組成物を提供することができる。   According to the anisotropic conductive resin composition of the present invention, since the photopolymerizable composition is a main component, it is possible to form an anisotropic conductive member by actinic ray irradiation. For this reason, the problem which arises by heating can be solved compared with the conventional thermosetting type anisotropically conductive resin composition. In other words, due to the heating at the time of connection, the connection part is displaced due to the elongation of various materials, the connection part is thin and the peripheral members are thermally affected by the temperature at the time of connection. It is possible to solve the problems of warping due to heating, disconnection of wiring, and the problem of breakage with time due to residual stress strain. Moreover, it is excellent in dimensional stability by making the shrinkage rate before and behind irradiation of actinic light of a photopolymerizable composition into the above thing. Furthermore, by using the conductive magnetic powder, it is possible to improve the orientation and the dispersibility. As a result, it is possible to provide an anisotropic conductive resin composition that can cope with a fine connection pitch.

本発明の第1の態様に係る異方導電性部材の実装方法は、上記態様の異方導電性樹脂組成物の塗膜を支持体上に形成させ、前記導電性磁性粉体が所定の方向に配向するように磁場を印加し、前記導電性磁性粉体の配向状態を保持するように、活性光線を照射して前記塗膜を半硬化させ、前記半硬化させた塗膜を前記支持体から剥離して、電極間に挟持させて圧着し、前記塗膜に活性光線を照射するものである。   The method for mounting an anisotropic conductive member according to the first aspect of the present invention includes forming a coating film of the anisotropic conductive resin composition of the above aspect on a support, and the conductive magnetic powder is in a predetermined direction. A magnetic field is applied so as to be oriented, and the coating is semi-cured by irradiating actinic rays so as to maintain the orientation state of the conductive magnetic powder, and the semi-cured coating is applied to the support. The film is peeled from the electrode, sandwiched between the electrodes and pressure-bonded, and the coating film is irradiated with actinic rays.

本発明の第2の態様に係る異方導電性部材の実装方法は、導電性磁性粉体と、光重合性組成物を主成分とするバインダーを含有する異方導電性樹脂組成物の塗膜を支持体上に形成させ、前記導電性磁性粉体が、前記塗膜の面内方向に一軸配向するように磁場を印加し、前記導電性磁性粉体の配向状態を保持するように、活性光線を照射して前記塗膜を半硬化させ、前記半硬化させた塗膜を前記支持体から剥離して、電極間に挟持させて圧着し、前記塗膜に活性光線を照射するものである。   The anisotropic conductive member mounting method according to the second aspect of the present invention is a coating film of an anisotropic conductive resin composition containing conductive magnetic powder and a binder mainly composed of a photopolymerizable composition. On the support, and a magnetic field is applied so that the conductive magnetic powder is uniaxially oriented in the in-plane direction of the coating film, and the active state is maintained so that the orientation state of the conductive magnetic powder is maintained. The coating film is semi-cured by irradiating light, and the semi-cured coating film is peeled off from the support, sandwiched between electrodes, and pressure-bonded, and the coating film is irradiated with actinic rays. .

本発明の第2の態様に係る異方導電性部材の実装方法は、導電性磁性粉体が、相対峙される電極面に対して略水平であって、かつ一軸配向している異方導電性部材を得ることができる。これにより、従来とは異なるニーズや用途への応用展開が可能である。   The anisotropic conductive member mounting method according to the second aspect of the present invention is the anisotropic conductive material in which the conductive magnetic powder is substantially horizontal and uniaxially oriented with respect to the opposed electrode surface. A sex member can be obtained. Thereby, application development to needs and uses different from the conventional one is possible.

本発明の第1の態様に係る異方導電性部材は、上記態様の異方導電性樹脂組成物により構成される異方導電性部材であって、前記導電性磁性粉体は、相対峙される電極面に対して略垂直に、かつ、電極の長軸方向に配向しているものである。   The anisotropic conductive member according to the first aspect of the present invention is an anisotropic conductive member constituted by the anisotropic conductive resin composition of the above aspect, and the conductive magnetic powder is relatively wrinkled. It is oriented substantially perpendicular to the electrode surface and in the major axis direction of the electrode.

本発明の第2の態様に係る異方導電性部材は、上記態様の異方導電性樹脂組成物により構成される異方導電性部材であって、前記導電性磁性粉体は、相対峙される電極面に対して略水平に、かつ、電極の長軸方向に配向しているものである。   An anisotropic conductive member according to a second aspect of the present invention is an anisotropic conductive member constituted by the anisotropic conductive resin composition of the above aspect, wherein the conductive magnetic powder is relatively wrinkled. Oriented substantially horizontally with respect to the electrode surface and in the major axis direction of the electrode.

本発明に係る電子機器は、上記態様の異方導電性部材を用いて、電子部品の接合が行われているものである。   The electronic apparatus according to the present invention is one in which electronic parts are joined using the anisotropic conductive member of the above aspect.

本発明によれば、接続ピッチの微細化に対応可能な異方導電性樹脂組成物、及び異方導電性部材を提供することができるという優れた効果を有する。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it has the outstanding effect that the anisotropic conductive resin composition which can respond to refinement | miniaturization of a connection pitch, and an anisotropic conductive member can be provided.

以下、本発明を適用した実施形態の一例について説明する。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得ることは言うまでもない。また、図中の各部材のサイズは、説明の便宜上のものであり実際とは異なる。   Hereinafter, an example of an embodiment to which the present invention is applied will be described. It goes without saying that other embodiments may also belong to the category of the present invention as long as they match the gist of the present invention. Also, the size of each member in the figure is for convenience of explanation and is different from the actual size.

本実施形態1に係る電子機器は、例えば、半導体装置、プリント回路基板、液晶表示パネル、プラズマ表示パネル、エレクトロルミネッセンスパネル、又はフィールドエミッション表示パネルであり、本実施形態1に係る異方導電性部材を用いて電子部品の接合が行われているものである。本実施形態1においては、電子機器として液晶表示パネルを例として説明する。   The electronic apparatus according to the first embodiment is, for example, a semiconductor device, a printed circuit board, a liquid crystal display panel, a plasma display panel, an electroluminescence panel, or a field emission display panel, and the anisotropic conductive member according to the first embodiment. The electronic parts are joined using the. In the first embodiment, a liquid crystal display panel will be described as an example of an electronic device.

図1は、本実施形態1に係る液晶表示パネルの要部の模式的側面図である。液晶表示パネル100は、図1に示すように、薄膜トランジスタ(TFT)アレイ基板1、対向基板2、偏光板3、シール材4、液晶5、ドライバIC6、異方導電性フィルム10等を備える。   FIG. 1 is a schematic side view of a main part of the liquid crystal display panel according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display panel 100 includes a thin film transistor (TFT) array substrate 1, a counter substrate 2, a polarizing plate 3, a sealing material 4, a liquid crystal 5, a driver IC 6, an anisotropic conductive film 10, and the like.

液晶表示パネル100は、図1に示すように、互いに対向配置されるTFTアレイ基板1及び対向基板2と、両基板を接着するシール材4とで囲まれる空間に、液晶5が封入されている。TFTアレイ基板1及び対向基板2としては、例えば、光透過性のあるガラス、ポリカーボネートなどの絶縁基板が用いられる。TFTアレイ基板1主面の端部近傍には、ドライバIC6が直接実装されている。ドライバIC6の近傍には、FPC(Flexible Printed Circuit)などの配線基板(不図示)が外部配線として配設される。   As shown in FIG. 1, in the liquid crystal display panel 100, a liquid crystal 5 is sealed in a space surrounded by a TFT array substrate 1 and a counter substrate 2 that are arranged to face each other, and a sealing material 4 that bonds the two substrates together. . As the TFT array substrate 1 and the counter substrate 2, for example, an insulating substrate such as light transmissive glass or polycarbonate is used. A driver IC 6 is directly mounted near the end of the main surface of the TFT array substrate 1. In the vicinity of the driver IC 6, a wiring board (not shown) such as an FPC (Flexible Printed Circuit) is disposed as an external wiring.

ドライバIC6は、COG(Chip On Glass)技術により、TFTアレイ基板1上に異方導電性フィルム10を介して直接実装されている。異方導電性フィルム10は、TFTアレイ基板1とドライバIC6とを接着固定するとともに、TFTアレイ基板1に形成された複数の電極と、ドライバIC6に形成された複数の電極とを一括して電気的に接続する役割を担う。なお、COG技術に代えて、TCP(Tape Carrier Package)によりドライバIC6をTFTアレイ基板1に接続してもよい。この場合にも、異方導電性フィルムを用いて、TFTアレイ基板1とTCPとを接続固定することができる。外部からの各種信号は、外部配線を介してドライバIC6に供給され、ドライバIC6は、外部からの制御信号を異方導電性フィルム10を介してTFTアレイ基板1の走査信号線や表示信号線に供給する。   The driver IC 6 is directly mounted on the TFT array substrate 1 via the anisotropic conductive film 10 by COG (Chip On Glass) technology. The anisotropic conductive film 10 adheres and fixes the TFT array substrate 1 and the driver IC 6, and at the same time electrically connects the plurality of electrodes formed on the TFT array substrate 1 and the plurality of electrodes formed on the driver IC 6. The role of connection. The driver IC 6 may be connected to the TFT array substrate 1 by TCP (Tape Carrier Package) instead of the COG technique. Also in this case, the TFT array substrate 1 and the TCP can be connected and fixed using an anisotropic conductive film. Various external signals are supplied to the driver IC 6 via external wiring, and the driver IC 6 sends external control signals to the scanning signal lines and display signal lines of the TFT array substrate 1 via the anisotropic conductive film 10. Supply.

図2に、本実施形態1に係る異方導電性フィルム10の模式的な斜視図を示す。異方導電性フィルム10は、導電性磁性粉体11と、光硬化性樹脂12を備える。導電性磁性粉体11は、異方導電性フィルム10を介して相対峙される電極同士を電気的に接続する役割を担う。一方、光硬化性樹脂12は、導電性磁性粉体11の配向性を維持し、かつ導電性磁性粉体11の異方的な導電性を発現させるための媒体としての役割を担う。また、相対峙する電極間の間隙を保持するスペーサとしての機能を果たす。   In FIG. 2, the typical perspective view of the anisotropic conductive film 10 which concerns on this Embodiment 1 is shown. The anisotropic conductive film 10 includes a conductive magnetic powder 11 and a photocurable resin 12. The conductive magnetic powder 11 plays a role of electrically connecting electrodes facing each other through the anisotropic conductive film 10. On the other hand, the photocurable resin 12 plays a role as a medium for maintaining the orientation of the conductive magnetic powder 11 and developing the anisotropic conductivity of the conductive magnetic powder 11. In addition, it functions as a spacer that holds the gap between the opposing electrodes.

導電性磁性粉体11は、図2に示すように棒状であって、導電性及び磁性を有するものを用いる。本実施形態1に係る導電性磁性粉体11は、異方導電性フィルム10の面に水平な方向に一軸配向している。この一軸配向の向きは、相対峙される電極(TFTアレイ基板1の電極と、ドライバIC6の電極)の長軸方向と一致するように配設する。これにより、異方的導電性を発現することができる。光硬化性樹脂12は、光重合性組成物に活性光線を照射することによって得られる。光硬化性樹脂の体積抵抗率は、10Ωcm以上であることが好ましい。上限値は特に限定されないが、通常1020Ωcm以下であり、より一般的には1015Ωcm以下である。 The conductive magnetic powder 11 has a rod shape as shown in FIG. 2 and has conductivity and magnetism. The conductive magnetic powder 11 according to the first embodiment is uniaxially oriented in a direction horizontal to the surface of the anisotropic conductive film 10. The direction of this uniaxial orientation is arranged so as to coincide with the major axis direction of the electrodes (the electrode of the TFT array substrate 1 and the electrode of the driver IC 6) that are opposed to each other. Thereby, anisotropic conductivity can be expressed. The photocurable resin 12 is obtained by irradiating the photopolymerizable composition with an actinic ray. The volume resistivity of the photocurable resin is preferably 10 9 Ωcm or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 10 20 Ωcm or less, and more generally 10 15 Ωcm or less.

次に、本実施形態1に係る異方導電性フィルム10の製造方法について図3乃至図5の模式的な製造工程図を用いつつ説明する。まず、少なくとも光硬化性樹脂12の前駆体となる光重合性組成物を主成分とするバインダー、導電性磁性粉体11を含有する異方導電性樹脂組成物を用意する。光重合性組成物は、少なくとも、光重合性化合物と、光重合開始剤とを配合、又は混合することにより調製できる。光重合性化合物は、光重合性のモノマー、オリゴマー、又は/及びポリマーである。異方導電性樹脂組成物は、この光重合性組成物に、少なくとも導電性磁性粉体11を配合又は混合することにより調製できる。後述する希釈剤(特に、非反応性希釈剤を含む希釈剤)に溶解(または懸濁)させることにより異方導電性樹脂組成物を調製してもよい。配合方法(混合方法)は、特に限定されず、慣用の方法を利用できる。   Next, a method for manufacturing the anisotropic conductive film 10 according to the first embodiment will be described with reference to schematic manufacturing process diagrams of FIGS. First, an anisotropic conductive resin composition containing at least a binder mainly composed of a photopolymerizable composition serving as a precursor of the photocurable resin 12 and the conductive magnetic powder 11 is prepared. The photopolymerizable composition can be prepared by blending or mixing at least a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator. The photopolymerizable compound is a photopolymerizable monomer, oligomer, and / or polymer. The anisotropic conductive resin composition can be prepared by blending or mixing at least the conductive magnetic powder 11 with this photopolymerizable composition. The anisotropic conductive resin composition may be prepared by dissolving (or suspending) in a diluent described below (in particular, a diluent containing a non-reactive diluent). The blending method (mixing method) is not particularly limited, and a conventional method can be used.

異方導電性樹脂組成物の粘度は、用途、塗布方式に応じて変動し得るが、通常は、100〜10,000mPa・sとすることが好ましく、1000〜4000mPa・sとすることがより好ましい。粘度が100未満の場合には、導電性磁性粉体とバインダーが比重さにより分離する場合があり、10,000を超えると、磁場印加による導電性磁性粉体の配向が抑制される恐れがある。   The viscosity of the anisotropic conductive resin composition may vary depending on the application and coating method, but is usually preferably 100 to 10,000 mPa · s, more preferably 1000 to 4000 mPa · s. . When the viscosity is less than 100, the conductive magnetic powder and the binder may be separated depending on the specific gravity. When the viscosity exceeds 10,000, the orientation of the conductive magnetic powder due to application of a magnetic field may be suppressed. .

異方導電性組成物の塗膜形成を行う直前には、異方導電性樹脂組成物中に混入したゴミや、導電性磁性粉体11の凝集物を除去するために、フィルターを用いて濾過を行うことが好ましい。これにより、異方導電性フィルム10中に導電性磁性粉体11の凝集物が生じたり、ゴミ等が混入したりすることを防ぐことができる。   Immediately before forming the coating film of the anisotropic conductive composition, it is filtered using a filter in order to remove dust mixed in the anisotropic conductive resin composition and aggregates of the conductive magnetic powder 11. It is preferable to carry out. Thereby, it can prevent that the aggregate of the electroconductive magnetic powder 11 arises in the anisotropic conductive film 10, or dust etc. mix.

濾過処理後、支持体21上に異方導電性樹脂組成物の塗膜20を支持体(基材)21上に形成する。支持体21としては、フィルム、シート、板状体等を用いることができる。ここでは、シート状の支持体21を用いる。塗工方法については、公知の方法を利用することができる。例えば、スピンコート法、ローラコート法、バーコート法、ディップコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、ニーダーコート法、フローコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法などが挙げられる。特に、バーコート法、ダイコート法、若しくはグラビアコート法のうちのマイクログラビア法を好適に用いることができる。マイクログラビア法は、ロールを搬送方向に回転する塗工方式であり、回転数に応じて、簡便に膜厚を調整でき、均一な膜厚が得やすいという特徴を有する。グラビアロール径としては、ロールの交換を簡便に実施する観点から、2〜5cm程度のものを好適に用いることができる。   After the filtration treatment, a coating film 20 of the anisotropic conductive resin composition is formed on the support (base material) 21 on the support 21. As the support body 21, a film, a sheet, a plate-like body, or the like can be used. Here, a sheet-like support 21 is used. As the coating method, a known method can be used. For example, spin coating method, roller coating method, bar coating method, dip coating method, gravure coating method, curtain coating method, die coating method, spray coating method, doctor coating method, kneader coating method, flow coating method, screen printing method, cast Law. In particular, a micro gravure method among a bar coat method, a die coat method, or a gravure coat method can be suitably used. The micro gravure method is a coating method in which a roll is rotated in the transport direction, and has a feature that a film thickness can be easily adjusted according to the number of rotations and a uniform film thickness can be easily obtained. As a gravure roll diameter, about 2-5 cm can be used suitably from a viewpoint which implements replacement | exchange of a roll simply.

異方導電性樹脂の塗膜20を形成後、慣用の方法により乾燥処理を行ってもよく、必要に応じて加熱により乾燥させてもよい。乾燥における加熱温度は、重合開始剤や希釈剤(非反応性希釈剤)の種類などに応じて、適宜選択でき、通常、40〜250℃程度である。また、乾燥処理は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気中または空気中において行ってもよく、常圧下または減圧下で行ってもよい。   After forming the anisotropic conductive resin coating film 20, it may be dried by a conventional method, and may be dried by heating as necessary. The heating temperature in drying can be appropriately selected according to the type of polymerization initiator and diluent (non-reactive diluent), and is usually about 40 to 250 ° C. The drying treatment may be performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon or in the air, or may be performed under normal pressure or reduced pressure.

異方導電性樹脂の塗膜20の厚みは、特に限定されないが、1〜50μmとすることが好ましく、2〜25μmとすることがより好ましい。1μm未満とすると導電性磁性粉体の配向が抑制されたり、自己支持性の異方導電性フィルムが得られなかったりする恐れがある。一方、塗膜の膜厚が50μm以上であると、圧着による実装時に配向の乱れが生じる恐れがある。   The thickness of the anisotropic conductive resin coating film 20 is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 μm, and more preferably 2 to 25 μm. If the thickness is less than 1 μm, the orientation of the conductive magnetic powder may be suppressed, or a self-supporting anisotropic conductive film may not be obtained. On the other hand, if the thickness of the coating film is 50 μm or more, the orientation may be disturbed during mounting by pressure bonding.

次いで、塗膜20が形成された支持体21を磁場中に搬送する。磁場の形成方法は、公知の方法を利用することができる。本実施形態1においては、第1の磁石22、第2の磁石23を近接位置に対向配置させることにより磁場を発生させた。本実施形態1においては、第1の磁石22のN極と、第2の磁石23のN極とが互いに対向配置するように設置した。無論、S極同士を対向配置させるようにしてもよい。第1の磁石22と第2の磁石23とは、同極同士を対向配置させているため、磁石の端部においては、磁石の対向面に対して略水平な方向の磁力線が、磁石の中央領域においては、磁石の対向面に対して略垂直な方向の磁力線が発生する。   Next, the support 21 on which the coating film 20 is formed is conveyed into a magnetic field. A known method can be used as a method of forming the magnetic field. In the first embodiment, the magnetic field is generated by disposing the first magnet 22 and the second magnet 23 so as to face each other at close positions. In the first embodiment, the N pole of the first magnet 22 and the N pole of the second magnet 23 are disposed so as to face each other. Of course, the S poles may be arranged to face each other. Since the first magnet 22 and the second magnet 23 are disposed so that the same poles face each other, at the end of the magnet, the magnetic field lines in a direction substantially horizontal to the facing surface of the magnet are at the center of the magnet. In the region, lines of magnetic force in a direction substantially perpendicular to the opposing surface of the magnet are generated.

図4(a)に、塗膜20が形成された支持体21を磁場中に搬送した際の磁力線の方向を説明するための模式図を、図4(b)に、塗膜20中の導電性磁性粉体11の配向方向を説明するための模式図を示す。図4(a)中の符号24は、磁力線を示す。導電性磁性粉体11は、未硬化の光重合性組成物中に分散されているので磁場中に搬送されると、ランダムな配向状態から磁力線の方向と平行に導電性磁性粉体の長軸が配向した状態となる。   FIG. 4A is a schematic diagram for explaining the direction of the lines of magnetic force when the support 21 on which the coating film 20 is formed is conveyed in a magnetic field, and FIG. The schematic diagram for demonstrating the orientation direction of the conductive magnetic powder 11 is shown. The code | symbol 24 in Fig.4 (a) shows a magnetic force line. Since the conductive magnetic powder 11 is dispersed in the uncured photopolymerizable composition, when transported in a magnetic field, the long axis of the conductive magnetic powder is parallel to the direction of the magnetic lines of force from a random orientation state. Is in an oriented state.

第1の磁石22と第2の磁石23とは、磁石の端部においては、図4(a)に示すように磁石の対向面に対して略水平な方向の磁力線が、磁石の中央領域においては、磁石の対向面に対して略垂直な方向の磁力線が発生する。従って、図4(a)に示すように、点線A1で囲まれた図中の磁石左側端部領域と対向する塗膜20の導電性磁性粉体11は、図4(b)に示すように略水平方向に配列し、1点鎖線A2で囲まれた磁石中央領域と対向する塗膜20の導電性磁性粉体11は、磁石面に対して略垂直方向に配列する。さらに、2点鎖線A3で囲まれた図中の磁石右側端部領域と対向する塗膜20の導電性磁性粉体11は、再び略水平方向に配列する。   As shown in FIG. 4 (a), the first magnet 22 and the second magnet 23 have magnetic lines of force in a direction substantially horizontal with respect to the opposing surface of the magnet in the central region of the magnet. Generates magnetic lines of force in a direction substantially perpendicular to the opposing surface of the magnet. Therefore, as shown in FIG. 4 (a), the conductive magnetic powder 11 of the coating film 20 facing the left end region of the magnet in the drawing surrounded by the dotted line A1 is as shown in FIG. 4 (b). The conductive magnetic powders 11 of the coating film 20 arranged in a substantially horizontal direction and opposed to the magnet central region surrounded by the one-dot chain line A2 are arranged in a substantially vertical direction with respect to the magnet surface. Further, the conductive magnetic powders 11 of the coating film 20 facing the magnet right end region in the figure surrounded by the two-dot chain line A3 are arranged in the substantially horizontal direction again.

第1の磁石22と第2の磁石23とを通過した直後の導電性磁性粉体11は、磁石端部の略水平方向の磁力線の影響を受けて、磁石面に対して略水平方向に、かつ搬送方向に配列する。この状態が保持されているタイミング(磁極間を通過中、若しくは通過後)にて活性光線を照射し(図3参照)、導電性磁性粉体11の配向性が保持されるように光重合性組成物を半硬化させる。これにより、異方導電性樹脂組成物からなる半硬化膜30が得られる。   The conductive magnetic powder 11 immediately after passing through the first magnet 22 and the second magnet 23 is affected by the magnetic field lines in the substantially horizontal direction at the end of the magnet, in a substantially horizontal direction with respect to the magnet surface. And it arranges in the conveyance direction. Actinic rays are irradiated at a timing at which this state is maintained (during or after passing between the magnetic poles) (see FIG. 3), and photopolymerization is performed so that the orientation of the conductive magnetic powder 11 is maintained. The composition is semi-cured. Thereby, the semi-hardened film | membrane 30 which consists of an anisotropic conductive resin composition is obtained.

光照射源としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、水素ランプ、重水素ランプ、蛍光灯、ハロゲンランプ、エキシマレーザー、窒素レーザー、色素レーザー、ヘリウム−カドミウムレーザーが例示できる。光照射エネルギー量は、用途、塗膜の膜厚などによって異なるが、通常、0.1〜10000mJ/cm程度、好ましくは0.5〜2000mJ/cm程度である。光照射強度は、通常、1〜1000mW/cm程度である。光照射の波長は、200〜1100nmの範囲であり、250〜400nmの紫外線を好ましく用いることができる。活性光線が400nmを超える可視光領域のものを用いる場合、光重合性組成物の半硬化プロセスや半硬化後の実装プロセスにおいて、暗室下で行う必要が生じる。光照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気中、又は空気中において行ってもよく、また、常圧下、加圧下又は減圧下で行ってもよい。 Examples of the light irradiation source include a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a hydrogen lamp, a deuterium lamp, a fluorescent lamp, a halogen lamp, an excimer laser, a nitrogen laser, a dye laser, and a helium-cadmium laser. . Irradiation energy amount, applications varies depending on the film thickness of the coating film, usually, 0.1~10000mJ / cm 2 or so, preferably 0.5~2000mJ / cm 2 approximately. The light irradiation intensity is usually about 1 to 1000 mW / cm 2 . The wavelength of light irradiation is in the range of 200 to 1100 nm, and an ultraviolet ray of 250 to 400 nm can be preferably used. In the case where an active ray having a visible light region exceeding 400 nm is used, it is necessary to perform it in a dark room in a semi-curing process of the photopolymerizable composition or a mounting process after semi-curing. The light irradiation may be performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon, or in the air, and may be performed under normal pressure, increased pressure, or reduced pressure.

導電性磁性粉体11の一軸配向を良好に得るためには、磁場の大きさ、支持体21の搬送速度、活性光線の照射タイミングが重要なファクターとなる。搬送速度が速すぎたり、活性光線の照射タイミングが遅すぎたりすると、導電性磁性粉体11の配向度の低下を招来する。活性光線の照射タイミングは、磁石間を通過後でなく、磁石間の通過中とすることもできる。なお、「光重合性組成物を半硬化させる」とは、導電性磁性粉体11の配向が保持でき、後述する支持体21の剥離が可能であって、かつ、後述する圧着工程において導電性磁性粉体11が半硬化膜30をつきやぶって露出することができるものであればよい。   In order to satisfactorily obtain the uniaxial orientation of the conductive magnetic powder 11, the magnitude of the magnetic field, the conveyance speed of the support 21, and the irradiation timing of the actinic rays are important factors. If the conveying speed is too fast or the irradiation timing of the actinic ray is too late, the degree of orientation of the conductive magnetic powder 11 is lowered. The irradiation timing of actinic rays can be set not to pass between magnets but to pass between magnets. “Semi-curing the photopolymerizable composition” means that the orientation of the conductive magnetic powder 11 can be maintained, the support 21 to be described later can be peeled off, and the conductivity in the press-bonding step to be described later can be maintained. Any magnetic powder 11 may be used as long as it can expose the semi-cured film 30.

次いで、半硬化膜30が積層された支持体21を所望の大きさにカットする。そして、カットされた支持体21をTFTアレイ基板1の端部近傍のドライバIC6を実装する位置に、半硬化膜30がTFTアレイ基板1のTFT側電極31が形成されている面と接触するように載置する(図5(a)参照)。この際、TFT側電極31の電極の長軸方向と、半硬化膜30の導電性磁性粉体11の一軸配向方向が一致するように載置する。その後、支持体21を剥離する。なお、支持体21は、この剥離工程において、半硬化膜30から良好に剥離可能なものを選定する。例えば、シリコーン樹脂やフッ素樹脂をコートした剥離性フィルム等を好適に用いることができる。   Next, the support 21 on which the semi-cured film 30 is laminated is cut into a desired size. The semi-cured film 30 is brought into contact with the surface of the TFT array substrate 1 on which the TFT side electrode 31 is formed at the position where the driver IC 6 near the end of the TFT array substrate 1 is mounted on the cut support 21. (See FIG. 5A). At this time, the TFT side electrode 31 is placed so that the major axis direction of the electrode coincides with the uniaxial orientation direction of the conductive magnetic powder 11 of the semi-cured film 30. Thereafter, the support 21 is peeled off. In addition, the support body 21 selects what can be favorably peeled from the semi-cured film 30 in this peeling step. For example, a peelable film coated with a silicone resin or a fluororesin can be suitably used.


支持体21を剥離後、半硬化膜30上にドライバIC6を実装する(図5(b)参照)。この際、ドライバIC6のドライバ側電極32と、TFT側電極31とが相対峙される位置に配置する。次いで、図5(c)に示すように、TFTアレイ基板1とドライバIC6との圧着を行う。これにより、半硬化膜30中に埋設されている導電性磁性粉体11が、半硬化膜30をつきやぶり、TFT側電極31若しくはドライバ側電極32と接触する。また、分散されていた導電性磁性粉体11を上下方向に圧縮させ、相互に接触せしめることができる。これにより、導電性磁性粉体11が膜厚方向に導電パスを形成する。そして、相対峙される複数のTFT側電極31と、ドライバ側電極32とを導電性磁性粉体11を介して一括して電気的に接続させることができる。導電性磁性粉体11は、TFT側電極31、ドライバ側電極32の長軸方向と一致させた方向に配向しているので、隣接する電極とは導通しない。
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After the support 21 is peeled off, the driver IC 6 is mounted on the semi-cured film 30 (see FIG. 5B). At this time, the driver-side electrode 32 of the driver IC 6 and the TFT-side electrode 31 are disposed at a position where they face each other. Next, as shown in FIG. 5C, the TFT array substrate 1 and the driver IC 6 are pressure-bonded. As a result, the conductive magnetic powder 11 embedded in the semi-cured film 30 touches the TFT-side electrode 31 or the driver-side electrode 32 with the semi-cured film 30 scattered. Further, the dispersed conductive magnetic powder 11 can be compressed in the vertical direction and brought into contact with each other. Thereby, the conductive magnetic powder 11 forms a conductive path in the film thickness direction. Then, the plurality of TFT side electrodes 31 and the driver side electrodes 32 that are opposed to each other can be collectively electrically connected via the conductive magnetic powder 11. Since the conductive magnetic powder 11 is oriented in a direction that coincides with the major axis direction of the TFT side electrode 31 and the driver side electrode 32, the conductive magnetic powder 11 does not conduct with adjacent electrodes.

圧縮工程により導電性磁性粉体11を介して相対峙される電極間が電気的に接続された状態にて、活性光線をTFTアレイ基板側1から照射する。これにより、半硬化膜30がさらに硬化せしめられる。これにより、TFTアレイ基板1上に形成されたTFT側電極31と、ドライバIC6上に形成されたドライバ側電極32とが電気的に接続されるとともに、TFTアレイ基板1とドライバIC6が異方導電性フィルム10を介して固設される。   Actinic rays are irradiated from the TFT array substrate side 1 in a state where the electrodes facing each other through the conductive magnetic powder 11 are electrically connected through the compression process. Thereby, the semi-cured film 30 is further cured. Thereby, the TFT side electrode 31 formed on the TFT array substrate 1 and the driver side electrode 32 formed on the driver IC 6 are electrically connected, and the TFT array substrate 1 and the driver IC 6 are anisotropically conductive. The fixing film 10 is fixed.

TFT側電極31は、ITO等の透明性導電膜とすることが好ましい。これにより、電極形成部位と、非電極形成部位とで差異なく光重合性組成物の硬化を進行せしめることができる。また、ITO等の透明性導電膜に代えてAl、Cu、Au等の金属膜を電極として用い、電極形成部位をデュアル硬化させてもよい。デュアル硬化とは、バインダー中に、光重合性組成物のみならず、熱重合開始剤、熱重合性組成物を予め添加しておき、光照射工程により発生する塗膜内の熱により熱重合を進行させる方法である。これにより、Al等の非透過性の電極を配設した場合においても、非透過部の光重合性組成物の硬化を進行せしめることができる。特に、電極ピッチが狭ピッチの場合により効果的に利用することができる。   The TFT side electrode 31 is preferably a transparent conductive film such as ITO. Thereby, hardening of a photopolymerizable composition can be advanced without a difference in an electrode formation site | part and a non-electrode formation site | part. Further, instead of the transparent conductive film such as ITO, a metal film such as Al, Cu, Au or the like may be used as an electrode, and the electrode forming portion may be dual-cured. In dual curing, not only a photopolymerizable composition but also a thermal polymerization initiator and a thermal polymerizable composition are added in advance in the binder, and thermal polymerization is performed by heat in the coating film generated by the light irradiation process. It is a method of progress. Thereby, even when non-permeable electrodes, such as Al, are provided, hardening of the photopolymerizable composition of a non-transmissive part can be advanced. In particular, it can be used more effectively when the electrode pitch is narrow.

なお、異方導電性フィルム10中の光硬化性樹脂12は、すべての領域において十分に硬化することは必ずしも必要ではなく、Al等の非透過性の電極にマスクされた光重合性組成物は、半硬化の状態であってもよい。電極が配設されていない光透過領域において、光重合性組成物を十分に硬化せしめることにより、光透過領域がスペーサのように機能して機械的強度を維持することが可能である。   The photocurable resin 12 in the anisotropic conductive film 10 does not necessarily need to be sufficiently cured in all regions, and the photopolymerizable composition masked by an impermeable electrode such as Al is not necessarily used. It may be in a semi-cured state. By sufficiently curing the photopolymerizable composition in the light transmission region where no electrode is disposed, the light transmission region can function as a spacer and maintain mechanical strength.

次に、本実施形態1に好適に用いられる異方導電性樹脂組成物について説明する。本実施形態1に係る異方導電性樹脂組成物は、導電性磁性粉体11と、活性光線の照射により光硬化性樹脂12となる光重合性組成物を主成分とするバインダーを主要構成成分とする。   Next, the anisotropic conductive resin composition suitably used for Embodiment 1 will be described. The anisotropic conductive resin composition according to Embodiment 1 is mainly composed of a conductive magnetic powder 11 and a binder mainly composed of a photopolymerizable composition that becomes a photocurable resin 12 by irradiation with actinic rays. And

導電性磁性粉体11は、棒状であって、磁性、及び導電性が付与されたものである。導電性磁性粉体11のバインダーに対する添加量は、用いる用途、求められる性能により変動し得るが、通常は、バインダー100重量部に対して、5〜40重量部とすることが好ましく、8〜30重量部とすることが更に好ましい。導電性磁性粉体11の添加量が5重量部未満の場合には、導電性磁性粉体が少ないことに起因して、接続電極間の接続不良が生ずる場合があり、40重量部を超える場合には、導電性磁性粉体が多いことに起因して、磁場による配向が起こりにくくなる場合がある。   The conductive magnetic powder 11 has a rod shape and is provided with magnetism and conductivity. The amount of the conductive magnetic powder 11 added to the binder may vary depending on the intended use and required performance, but is usually preferably 5 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder, and 8 to 30. More preferably, parts by weight are used. When the addition amount of the conductive magnetic powder 11 is less than 5 parts by weight, poor connection between the connection electrodes may occur due to the small amount of the conductive magnetic powder. In some cases, orientation due to a magnetic field is less likely to occur due to the large amount of conductive magnetic powder.

導電性磁性粉体11の主成分は、金属、金属合金又は金属酸化物とすることが好ましい。金属としては、特に限定されるものではないが、磁性を有する金属(ニッケル、コバルト、鉄等)が含まれるようにする。ニッケル、コバルト、鉄の他、金、銀、銅、アルミニウム、白金、鈴、鉛、亜鉛、チタン、クロム、マンガン、ジルコニウム、タングステン、インジウム等も好適な例として挙げることができる。上記金属の金属酸化物も好適な例として挙げることができる。上記金属、金属合金又は金属酸化物は、単独で用いてもよく、又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The main component of the conductive magnetic powder 11 is preferably a metal, a metal alloy, or a metal oxide. Although it does not specifically limit as a metal, The metal (Nickel, cobalt, iron, etc.) which has magnetism is included. In addition to nickel, cobalt, and iron, gold, silver, copper, aluminum, platinum, bell, lead, zinc, titanium, chromium, manganese, zirconium, tungsten, indium, and the like can be given as suitable examples. The metal oxide of the said metal can also be mentioned as a suitable example. The said metal, a metal alloy, or a metal oxide may be used independently, or may be used in combination of 2 or more types.

導電性磁性粉体11の特に好ましい金属としては、加工性、導電性に優れ、磁化の保磁力が小さく、価格も安価なニッケルを挙げることができる。Ni化合物としては、Ni−P,Ni−B、Ni−Co,Ni−Fe,Ni−Al、Ni−Sn,Ni−Au等の各種Ni化合物を挙げることができる。中でも、Ni−Pは特に好ましい例として挙げることができる。Ni−Pを用いる場合、導電性磁性粉体中のリン含有量は2〜15重量%とすることが好ましい。   A particularly preferable metal of the conductive magnetic powder 11 is nickel which is excellent in workability and conductivity, has a small magnetization coercive force, and is inexpensive. Examples of the Ni compound include various Ni compounds such as Ni-P, Ni-B, Ni-Co, Ni-Fe, Ni-Al, Ni-Sn, and Ni-Au. Among these, Ni-P can be mentioned as a particularly preferable example. When using Ni-P, the phosphorus content in the conductive magnetic powder is preferably 2 to 15% by weight.

導電性磁性粉体11は、中空形状とすることが好ましい。中空形状とすることにより、金属又は金属合金に由来する導電性と強度を維持したまま軽量化を実現できる。軽量化の実現により、導電性磁性粉体がフィルム内に沈降することを抑制し、分散性を高めることができる。また、配向制御しやすい異方導電材料を得ることができる。中空形状の導電性磁性粉体は、例えば、上記特許文献4〜6に記載の方法により製造することができる。   The conductive magnetic powder 11 is preferably hollow. By adopting a hollow shape, it is possible to reduce the weight while maintaining the conductivity and strength derived from the metal or metal alloy. By realizing weight reduction, the conductive magnetic powder can be prevented from settling in the film, and the dispersibility can be improved. In addition, an anisotropic conductive material that is easy to control the orientation can be obtained. The hollow conductive magnetic powder can be produced, for example, by the methods described in Patent Documents 4 to 6.

導電性磁性粉体11の保磁力は、1〜500Oeの範囲とすることが好ましく、10〜300Oeとすることが更に好ましい。保磁力が1〜500Oeを超えた範囲においては、磁場を印加した際に、導電性磁性粉体の配向方向が不揃いとなる場合がある。導電性磁性粉体11の飽和磁化は、0.1〜55emu/gの範囲とすることが好ましく、5〜30emu/gとすることが更に好ましい。飽和磁化が0.1emu/g未満であると、磁場を印加しても導電性磁性粉体の配向を行うことができない場合がある。一方、55emu/gを超えると、導電性磁性粉体の磁化が大きくなりすぎて、配向した粉体間の距離が大きくなり、異方導電材料の性能を低下させる場合がある。また、導電性磁性粉体11の体積抵抗率は、10−6〜10Ω・cmとすることが好ましく、10-5〜10Ω・cmとすることがより好ましい。体積抵抗率が10Ω・cm未満であると、異方導電材料に電圧を印加すると抵抗加熱が起こる場合がある。 The coercive force of the conductive magnetic powder 11 is preferably in the range of 1 to 500 Oe, and more preferably 10 to 300 Oe. In the range where the coercive force exceeds 1 to 500 Oe, the orientation direction of the conductive magnetic powder may become uneven when a magnetic field is applied. The saturation magnetization of the conductive magnetic powder 11 is preferably in the range of 0.1 to 55 emu / g, more preferably 5 to 30 emu / g. If the saturation magnetization is less than 0.1 emu / g, the conductive magnetic powder may not be oriented even when a magnetic field is applied. On the other hand, if it exceeds 55 emu / g, the magnetization of the conductive magnetic powder becomes too large, and the distance between the oriented powders increases, which may deteriorate the performance of the anisotropic conductive material. The volume resistivity of the conductive magnetic powder 11 is preferably 10 −6 to 10 2 Ω · cm, and more preferably 10 −5 to 10 1 Ω · cm. When the volume resistivity is less than 10 2 Ω · cm, resistance heating may occur when a voltage is applied to the anisotropic conductive material.

導電性磁性粉体11の内径は、0.1〜1μmの範囲とすることが好ましい。また、導電性磁性粉体11の長さは、0.5〜20μmであることが好ましく、1〜10μmであることが更に好ましい。内径が0.1μm未満であると、中空形状として軽量化するという利点が得られにくくなり、一方、1μmを超えると、強度が低下し、異方導電材料作製時に中空形状を維持できなくなる場合がある。また、長さが0.5μm未満であると、電気的な接続にムラができる場合があり、20μmを超えると、配向のモーメントが大きくなるため、大きな印加磁場が必要となる。このため、導電性磁性粉体の配向制御を行うのに必要な電磁石の電力量が多くなり、コストが高くなる場合がある。   The inner diameter of the conductive magnetic powder 11 is preferably in the range of 0.1 to 1 μm. In addition, the length of the conductive magnetic powder 11 is preferably 0.5 to 20 μm, and more preferably 1 to 10 μm. If the inner diameter is less than 0.1 μm, it is difficult to obtain the advantage of reducing the weight as a hollow shape. On the other hand, if it exceeds 1 μm, the strength is reduced, and the hollow shape may not be maintained when the anisotropic conductive material is produced. is there. If the length is less than 0.5 μm, the electrical connection may be uneven. If the length is more than 20 μm, the orientation moment increases, and a large applied magnetic field is required. For this reason, the amount of electric power of the electromagnet necessary for controlling the orientation of the conductive magnetic powder increases, and the cost may increase.

導電性磁性粉体11のアスペクト比(導電性磁性粉体の長さ/導電性磁性粉体の外径)は、2〜100の範囲とすることが好ましく、5〜20とすることが更に好ましい。アスペクト比が2未満であると、球形に近くなり、配向制御が困難となる場合がある。一方、アスペクト比が100を超えると、配向のモーメントが大きくなり、エネルギー的に配向が困難となる場合がある。   The aspect ratio (the length of the conductive magnetic powder / the outer diameter of the conductive magnetic powder) of the conductive magnetic powder 11 is preferably in the range of 2 to 100, and more preferably 5 to 20. . If the aspect ratio is less than 2, it may be nearly spherical and orientation control may be difficult. On the other hand, when the aspect ratio exceeds 100, the moment of orientation increases, and orientation may become difficult in terms of energy.

導電性磁性粉体11の肉厚は、10nm〜200nmの範囲とすることが好ましく、20nm〜150nmとすることが更に好ましい。肉厚が10nm未満であると、強度が低下する場合があり、一方、200nmを超えると、軽量化のメリットが得にくくなる場合がある。また、中空形状材料とするための鋳型除去が行えない場合がある。   The thickness of the conductive magnetic powder 11 is preferably in the range of 10 nm to 200 nm, more preferably 20 nm to 150 nm. If the wall thickness is less than 10 nm, the strength may decrease, whereas if it exceeds 200 nm, it may be difficult to obtain the advantage of weight reduction. Moreover, there is a case where the template for making the hollow material cannot be removed.

バインダーの主成分である光重合性組成物は、前述したように、活性光線の照射により硬化せしめられて光硬化性樹脂となる。光重合性組成物は、光重合性のモノマー、オリゴマー又は/及びポリマーを主成分とする。また、光重合性組成物には、光重合開始剤等の添加剤も含まれる。前述のデュアル重合を行う場合には、バインダー中に熱重合開始剤(熱ラジカル重合剤等)や熱重合性化合物を添加する。   As described above, the photopolymerizable composition that is the main component of the binder is cured by irradiation with actinic rays to become a photocurable resin. The photopolymerizable composition contains a photopolymerizable monomer, oligomer or / and polymer as a main component. The photopolymerizable composition also contains additives such as a photopolymerization initiator. When performing the above-mentioned dual polymerization, a thermal polymerization initiator (thermal radical polymerization agent or the like) or a thermopolymerizable compound is added to the binder.

光重合性組成物としては、活性光線照射前後の収縮率が、下記<数1>により算出した場合に7%以下となるものを用いることが好ましい。
<数1> 収縮率(%)=100×(dp−dM)/dp
式中のdpは、水中置換法(JIS K7232−1982)による活性光線照射後の光重合性組成物の密度、dMは、比重瓶法(JIS K7112)による活性光線照射前の光重合性組成物の密度を示す。なお、ここで言う「活性光線照射後の光重合性組成物」とは、活性光線の照射により、実際に電子機器等において使用可能な状態となった光硬化性樹脂のことである。
As the photopolymerizable composition, it is preferable to use a composition having a shrinkage ratio before and after irradiation with actinic rays of 7% or less when calculated by the following <Equation 1>.
<Equation 1> Shrinkage rate (%) = 100 × (dp−dM) / dp
In the formula, dp is the density of the photopolymerizable composition after irradiation with actinic rays by the underwater substitution method (JIS K7232-1982), and dM is the photopolymerizable composition before irradiation with actinic rays by the specific gravity bottle method (JIS K7112). The density is shown. The term “photopolymerizable composition after irradiation with actinic rays” as used herein refers to a photocurable resin that is actually usable in an electronic device or the like by irradiation with actinic rays.

光重合性組成物の活性光線照射前後の収縮率が7%以下のものを用いることにより、光硬化後に生ずる応力歪を低下させることができる。収縮率は、小さいほど好ましいので特にその下限は限定されないが、入手容易性の観点からは、0.5%以上とすることが好ましい。より好ましい範囲は、1〜4%の範囲のものである。   By using a photopolymerizable composition having a shrinkage ratio of 7% or less before and after irradiation with actinic rays, stress strain generated after photocuring can be reduced. Since the shrinkage rate is preferably as small as possible, the lower limit is not particularly limited. However, from the viewpoint of easy availability, it is preferably 0.5% or more. A more preferred range is in the range of 1-4%.

光重合性組成物は、フルオレン構造を含有する光重合性化合物を主成分とするものを好適な例として挙げることができる。また、アダマンチル基を含有する光重合性化合物も好適な例として挙げることができる。とりわけ、フルオレン構造を含有する光重合性化合物を主成分とする光重合性組成物は、導電性磁性粉体、特に前述した中空形状の導電性磁性粉体との分散性が良好であるので特に好ましい。これらの構造を採用することにより、光硬化前後の収縮率を低減させることができる。   A suitable example of the photopolymerizable composition is a composition containing a photopolymerizable compound containing a fluorene structure as a main component. Moreover, the photopolymerizable compound containing an adamantyl group can also be mentioned as a suitable example. In particular, a photopolymerizable composition containing a photopolymerizable compound containing a fluorene structure as a main component has particularly good dispersibility with the conductive magnetic powder, particularly the above-described hollow conductive magnetic powder. preferable. By adopting these structures, the shrinkage rate before and after photocuring can be reduced.

特に好ましいフルオレン構造を有する光重合性化合物としては、下記一般式(1)で表わされるフルオレン構造を含有する(メタ)アクリレートを挙げることができる。

式中、R1a、R1b、R2a及びR2bは置換基を示し、R3a及びR3bはアルキレン基を示し、R4a及びR4bは水素原子又はメチル基を示す。k1及びk2は0〜4の整数を示し、m1及びm2は0〜4の整数を示し、n1及びn2は0又は1以上の整数を示し、p1及びp2は1〜4の整数を示す。但し、m1+p1及びm2+p2は、1〜5の整数である。上記一般式(1)の化合物は、上記特許文献7に従って製造することができる。
As a photopolymerizable compound having a particularly preferred fluorene structure, (meth) acrylates containing a fluorene structure represented by the following general formula (1) can be exemplified.

In the formula, R 1a , R 1b , R 2a and R 2b represent a substituent, R 3a and R 3b represent an alkylene group, and R 4a and R 4b represent a hydrogen atom or a methyl group. k1 and k2 represent an integer of 0 to 4, m1 and m2 represent an integer of 0 to 4, n1 and n2 represent 0 or an integer of 1 or more, and p1 and p2 represent an integer of 1 to 4. However, m1 + p1 and m2 + p2 are integers of 1-5. The compound of the said General formula (1) can be manufactured according to the said patent document 7.

基R1a及びR1bで表される置換基としては、特に限定されないが、通常、アルキル基である場合が多い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基などのC1−6アルキル基(例えば、C1−4アルキル基、特にメチル基)などが例示できる。基R1a及びR1bは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、基R1a(又はR1b)は、同一のベンゼン環において、異なっていてもよく、同一であってもよい。なお、フルオレン骨格を構成するベンゼン環に対する基R1a(又はR1b)の結合位置(置換位置)は、特に限定されない。好ましい置換数k1及びk2は、0又は1、特に、0である。なお、置換数k1及びk2は、異なっていてもよいが、通常、同一である。 The substituents represented by the groups R 1a and R 1b are not particularly limited, but are usually alkyl groups in many cases. Examples of the alkyl group include C1-6 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a t-butyl group (for example, a C1-4 alkyl group, particularly a methyl group). The groups R 1a and R 1b may be different from each other or the same. Moreover, group R <1a> (or R <1b> ) may differ in the same benzene ring, and may be the same. Note that the bonding position (substitution position) of the group R 1a (or R 1b ) with respect to the benzene ring constituting the fluorene skeleton is not particularly limited. Preferred substitution numbers k1 and k2 are 0 or 1, in particular 0. The substitution numbers k1 and k2 may be different but are usually the same.

置換基R2a及びR2bとしては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基などのC1−20アルキル基、好ましくはC1−8アルキル基、さらに好ましくはC1−6アルキル基など)、シクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのC5−10シクロアルキル基、好ましくはC5−8シクロアルキル基、さらに好ましくはC5−6シクロアルキル基など)、アリール基[フェニル基、アルキルフェニル基(メチルフェニル基(トリル基)、ジメチルフェニル基(キシリル基)など)などのC6−10アリール基、好ましくはC6−8アリール基、特にフェニル基など]、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基などのC6−10アリール−C1−4アルキル基など)などの炭化水素基;アルコキシ基(メトキシ基などのC1−4アルコキシ基など);ヒドロキシル基;ヒドロキシ(ポリ)アルキレンオキシ基(ヒドロキシ(ポリ)C2−4アルキレンオキシ基など);アシル基(アセチル基などのC1−6アシル基など);アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基などのC1−4アルコキシカルボニル基など);ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子など);ニトロ基;シアノ基などが挙げられる。 As the substituents R 2a and R 2b , an alkyl group (C1-20 alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group, t-butyl group, preferably C1-8) An alkyl group, more preferably a C1-6 alkyl group, etc., a cycloalkyl group (C5-10 cycloalkyl group such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, preferably a C5-8 cycloalkyl group, more preferably a C5-6 cycloalkyl group). Etc.), aryl groups [phenyl group, alkylphenyl group (methylphenyl group (tolyl group), dimethylphenyl group (xylyl group), etc.), etc., preferably C6-10 aryl groups, preferably C6-8 aryl groups, especially phenyl groups, etc. ], An aralkyl group (C6-10 aryl-C1-4a such as benzyl group and phenethyl group) A hydrocarbon group such as a kill group); an alkoxy group (such as a C1-4 alkoxy group such as a methoxy group); a hydroxyl group; a hydroxy (poly) alkyleneoxy group (such as a hydroxy (poly) C2-4 alkyleneoxy group); an acyl Group (C1-6 acyl group such as acetyl group); alkoxycarbonyl group (C1-4 alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group); halogen atom (fluorine atom, chlorine atom etc.); nitro group; Can be mentioned.

なお、前記ヒドロキシル基又はヒドロキシ(ポリ)アルキレンオキシ基は、後述する多官能性(メタ)アクリレートの製造方法において、原料となる多価アルコールの残基((メタ)アクリル酸又はその誘導体と反応しなかった基)である場合が多い。   The hydroxyl group or hydroxy (poly) alkyleneoxy group reacts with the residue of polyhydric alcohol ((meth) acrylic acid or a derivative thereof as a raw material in the method for producing a polyfunctional (meth) acrylate described later. In many cases, the group is not.

好ましい置換基R2a(又はR2b)は、アルキル基(C1−6アルキル基)、シクロアルキル基(C5−8シクロアルキル基)、アリール基(C6−10アリール基)、アラルキル基(C6−8アリール−C1−2アルキル基)、ヒドロキシル基、ヒドロキシ(ポリ)アルキレンオキシ基(ヒドロキシ(ポリ)C2−4アルキレンオキシ基)である。これらのうち、特に、C1−4アルキル基、C1−4アルコキシ基、C6−8アリール基が好ましい。置換基R2a(又はR2b)は、単独で又は2種以上組み合わせてベンゼン環に置換していてもよい。また、基R2a及びR2bは互いに同一又は異なっていてもよいが、通常、同一である。また、基R2a(又はR2b)は、同一のベンゼン環において、異なっていてもよく、同一であってもよい。 Preferred substituents R 2a (or R 2b ) are an alkyl group (C 1-6 alkyl group), a cycloalkyl group (C 5-8 cycloalkyl group), an aryl group (C 6-10 aryl group), an aralkyl group (C 6-8). Aryl-C1-2 alkyl group), hydroxyl group, hydroxy (poly) alkyleneoxy group (hydroxy (poly) C2-4 alkyleneoxy group). Among these, a C1-4 alkyl group, a C1-4 alkoxy group, and a C6-8 aryl group are particularly preferable. The substituent R 2a (or R 2b ) may be substituted on the benzene ring alone or in combination of two or more. The groups R 2a and R 2b may be the same or different from each other but are usually the same. Further, the groups R2a (or R2b) may be different or the same in the same benzene ring.

また、置換基R2a(又はR2b)の置換位置は、特に限定されず、(メタ)アクリロイルオキシ基又は(メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシ基(以下、(メタ)アクリロイルオキシ基含有基と総称する場合がある)の置換位置に応じて、フェニル基の2〜6位(例えば、2位、5位、2,5−位など)に置換できる。 The substitution position of the substituent R 2a (or R 2b ) is not particularly limited, and is a (meth) acryloyloxy group or a (meth) acryloyloxy (poly) alkoxy group (hereinafter referred to as a (meth) acryloyloxy group-containing group). Depending on the substitution position (which may be collectively referred to), the phenyl group can be substituted at the 2-6 position (for example, the 2-position, 5-position, 2,5-position, etc.).

好ましい置換数m1及びm2は、(メタ)アクリロイルオキシ基含有基の置換数にもよるが、0〜2、さらに好ましくは0〜1(特に0)である。なお、置換数m1及びm2は、異なっていてもよいが、通常、同一である場合が多い。   Although preferable substitution number m1 and m2 depend on the substitution number of the (meth) acryloyloxy group-containing group, it is 0 to 2, more preferably 0 to 1 (particularly 0). The substitution numbers m1 and m2 may be different but are usually the same in many cases.

3a及びR3bで表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、C2−4アルキレン基(エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−1,2−ジイル基など)などが例示でき、特に、C2−3アルキレン基(特に、エチレン基、プロピレン基)が好ましい。なお、R3a及びR3bは互いに同一の又は異なるアルキレン基であってもよいが、通常、同一のアルキレン基である。 Examples of the alkylene group represented by R 3a and R 3b include, but are not limited to, C2-4 alkylene groups (ethylene group, trimethylene group, propylene group, butane-1,2-diyl group, etc.) and the like. In particular, a C2-3 alkylene group (particularly an ethylene group or a propylene group) is preferable. R 3a and R 3b may be the same or different alkylene groups, but are usually the same alkylene group.

アルコキシ基の置換数(付加数)n1及びn2は、同一又は異なって、0〜15程度の範囲から選択でき、例えば、0〜12(例えば、1〜12)、好ましくは0〜8(例えば、1〜8)、さらに好ましくは0〜6(例えば、1〜6)、特に0〜4(例えば、1〜4)程度であってもよい。また、n1とn2の和(n1+n2)は、0〜30程度の範囲から選択でき、例えば、0〜24(例えば、2〜24)、好ましくは0〜16(例えば、2〜12)、さらに好ましくは0〜12(例えば、2〜10)、特に0〜8(例えば、2〜8)程度であってもよい。なお、n1(又はn2)が2以上の場合、ポリアルコキシ(ポリアルキレンオキシ)基は、同一のアルコキシ基で構成されていてもよく、異種のアルコキシ基(例えば、エトキシ基とプロピレンオキシ基)が混在して構成されていてもよいが、通常、同一のアルコキシ基で構成されている場合が多い。   The substitution number (addition number) n1 and n2 of the alkoxy group is the same or different and can be selected from a range of about 0 to 15, for example, 0 to 12 (for example, 1 to 12), preferably 0 to 8 (for example, 1 to 8), more preferably 0 to 6 (for example, 1 to 6), particularly about 0 to 4 (for example, 1 to 4). Moreover, the sum (n1 + n2) of n1 and n2 can be selected from the range of about 0-30, for example, 0-24 (for example, 2-24), Preferably it is 0-16 (for example, 2-12), More preferably 0 to 12 (for example, 2 to 10), particularly about 0 to 8 (for example, 2 to 8) may be used. When n1 (or n2) is 2 or more, the polyalkoxy (polyalkyleneoxy) group may be composed of the same alkoxy group, and different alkoxy groups (for example, ethoxy group and propyleneoxy group) Although they may be mixed, they are usually composed of the same alkoxy group in many cases.

(メタ)アクリロイルオキシ基含有基の置換数p1及びp2は、1〜2が好ましく、特に1が好ましい。また、p1とp2との和(p1+p2)は、例えば、2〜8、好ましくは2〜4程度(特に2)であってもよい。なお、置換数p1及びp2は、異なっていてもよいが、通常、同一である場合が多い。(メタ)アクリロイルオキシ基含有基の置換位置は、特に限定されず、p1(又はp2)の数に応じて、フルオレンの9位に置換するフェニル基の2〜6位から選択でき、p1(又はp2)が2の場合、例えば、3,4−位、3,5−位などであってもよい。1つの(メタ)アクリロイルオキシ基含有基が、通常、4位に置換していてもよい。   The substitution number p1 and p2 of the (meth) acryloyloxy group-containing group is preferably 1 to 2, and particularly preferably 1. The sum of p1 and p2 (p1 + p2) may be, for example, 2 to 8, preferably about 2 to 4 (particularly 2). The substitution numbers p1 and p2 may be different but are usually the same in many cases. The substitution position of the (meth) acryloyloxy group-containing group is not particularly limited, and can be selected from the 2 to 6 positions of the phenyl group substituted at the 9 position of fluorene according to the number of p1 (or p2), and p1 (or When p2) is 2, it may be, for example, 3,4-position, 3,5-position, etc. One (meth) acryloyloxy group-containing group may usually be substituted at the 4-position.

なお、同一のベンゼン環に置換する複数の(メタ)アクリロイルオキシ基含有基は、同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、複数の(メタ)アクリロイルオキシ基含有基が、(i)n1=0(n2=0)である(メタ)アクリロイルオキシ基単独で構成されていてもよく、(ii)n1=0(n2=0)である(メタ)アクリロイルオキシ基とn1≠0(n2≠0)である(メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシ基(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基など)とで構成されていてもよく、(iii)n1≠0(n2≠0)である同一の(メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシ基単独で構成されていてもよく、(iv)n1≠0(n2≠0)である異なる(メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシ基[例えば、2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基と2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ基]で構成されていてもよい。   In addition, the several (meth) acryloyloxy group containing group substituted by the same benzene ring may be the same, and may differ. For example, a plurality of (meth) acryloyloxy group-containing groups may be composed of (i) a (meth) acryloyloxy group alone with n1 = 0 (n2 = 0), and (ii) n1 = 0 (n2 = 0) and a (meth) acryloyloxy (poly) alkoxy group (such as a 2- (meth) acryloyloxyethoxy group) where n1 ≠ 0 (n2 ≠ 0) (Iii) It may be composed of the same (meth) acryloyloxy (poly) alkoxy group alone where n1 ≠ 0 (n2 ≠ 0), and (iv) n1 ≠ 0 (n2 ≠ 0) Different (meth) acryloyloxy (poly) alkoxy groups [for example, 2- (meth) acryloyloxyethoxy group and 2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy group]. It may be.

前記式(1)で表される代表的な多官能性(メタ)アクリレートとしては、例えば、9,9−ビス(ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類、9,9−ビス(トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類、これらに対応する多価アルコール[9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)フルオレン類]のアルキレンオキシド(C2−4アルキレンオキシド)付加体の(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Typical polyfunctional (meth) acrylates represented by the formula (1) include, for example, 9,9-bis (di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes, 9,9-bis (tri (meta) ) Acryloyloxyphenyl) fluorenes, and the corresponding (meth) acrylates of alkylene oxide (C2-4 alkylene oxide) adducts of the corresponding polyhydric alcohol [9,9-bis (di or trihydroxyphenyl) fluorenes]. Can be mentioned.

9,9−ビス(ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類には、例えば、9,9−ビス(ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,5−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]、置換基を有する9,9−ビス(ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス(アルキル−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ5−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ6−メチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1−4アルキル−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ3,6−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス
(ジC1−4アルキル−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アルコキシ−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−5−メトキシフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1−4アルコキシ−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−5−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6−8アリール−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]など}などが含まれる。
The 9,9-bis (di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes include, for example, 9,9-bis (di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (3,4-di (meth) ) Acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,5-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, etc.], substitution 9,9-bis (di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene having a group {eg, 9,9-bis (alkyl-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (3,4-di (Meth) acryloyloxy 5-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,4-di (meth) acryloyloxy 6-methyl 9,9-bis (C1-4alkyl-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4-di (meth) acryloyloxy 3,6-dimethylphenyl) fluorene, such as phenyl) fluorene 9,9-bis (diC1-4alkyl-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene and the like], 9,9-bis (alkoxy-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [for example, 9,9- 9,9-bis (C1-4alkoxy-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene such as bis (3,4-di (meth) acryloyloxy-5-methoxyphenyl) fluorene], 9,9-bis ( Aryl-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [eg 9,9-bis (3,4-di (meth) Acryloyloxy-5-phenylphenyl) fluorene such as 9,9-bis -, and the like (C6-8 aryl di (meth) acryloyloxy phenyl) fluorene, etc.], etc.}.

9,9−ビス(トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類には、上記9,9−ビス(ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類に対応するフルオレン類、例えば、9,9−ビス(2,4,6−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4,5−トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,4,5−トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなどが含まれる。   The 9,9-bis (tri (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes include fluorenes corresponding to the 9,9-bis (di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes such as 9,9-bis ( 2,4,6- (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4,5-tri (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,4,5-tri 9,9-bis (tri (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene such as (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene is included.

9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン類のアルキレンオキシド付加体の(メタ)アクリレートには、例えば、9,9−ビス[3,4−ジ(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレンなどの9,9−ビス[ジ(2−(メタ)アクリロイルオキシC2−4アルコキシ)フェニル]フルオレン(n1=n2=1)、9,9−ビス{3,4−ジ[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ]フェニル}フルオレンなどの9,9−ビス{ジ[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシC2−4アルコキシ)C2−4アルコキシフェニル]フルオレン}(n1=n2=2)などが含まれる。   Examples of the (meth) acrylate of an alkylene oxide adduct of 9,9-bis (dihydroxyphenyl) fluorene include 9,9-bis [3,4-di (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] fluorene. 9,9-bis [di (2- (meth) acryloyloxyC2-4alkoxy) phenyl] fluorene (n1 = n2 = 1), 9,9-bis {3,4-di [2- (2- 9,9-bis {di [2- (2- (meth) acryloyloxy C2-4alkoxy) C2-4alkoxyphenyl] fluorene} (n1 = n2 =) such as (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy] phenyl} fluorene 2) etc. are included.

9,9−ビス(トリヒドロキシフェニル)フルオレン類のアルキレンオキシド付加体の(メタ)アクリレートには、例えば、9,9−ビス[3,4,5−トリ(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレンなどの9,9−ビス[ジ(2−(メタ)アクリロイルオキシC2−4アルコキシ)フェニル]フルオレン(n1=n2=1)、9,9−ビス{3,4,5−トリ[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ]フェニル}フルオレンなどの9,9−ビス{トリ[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシC2−4アルコキシ)C2−4アルコキシフェニル]フルオレン}(n1=n2=2)などが含まれる。   Examples of the (meth) acrylate of an alkylene oxide adduct of 9,9-bis (trihydroxyphenyl) fluorene include 9,9-bis [3,4,5-tri (2- (meth) acryloyloxyethoxy). 9,9-bis [di (2- (meth) acryloyloxyC2-4alkoxy) phenyl] fluorene (n1 = n2 = 1), 9,9-bis {3,4,5-tri [ 9,9-bis {tri [2- (2- (meth) acryloyloxy C2-4alkoxy) C2-4alkoxyphenyl] fluorene} such as 2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy] phenyl} fluorene} (N1 = n2 = 2) and the like are included.

これらの多官能性(メタ)アクリレートのうち、特に、9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン類のC2−4アルキレンオキサイド付加体の(メタ)アクリレート{例えば、9,9−ビス[ジ(2−(メタ)アクリロイルオキシC2−3アルコキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス{ジ[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシC2−3アルコキシ)C2−3アルコキシ]フェニル}フルオレンなど}、9,9−ビス(トリヒドロキシフェニル)フルオレン類のC2−4アルキレンオキサイド付加体の(メタ)アクリレート{例えば、9,9−ビス[トリ(2−(メタ)アクリロイルオキシC2−3アルコキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス{トリ[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシC2−3アルコキシ)C2−3アルコキシ]フェニル}フルオレンなど}などが好ましい。   Among these polyfunctional (meth) acrylates, in particular, (meth) acrylates of C2-4 alkylene oxide adducts of 9,9-bis (dihydroxyphenyl) fluorenes {for example, 9,9-bis [di (2 -(Meth) acryloyloxy C2-3alkoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis {di [2- (2- (meth) acryloyloxyC2-3alkoxy) C2-3alkoxy] phenyl} fluorene, etc.}, 9 , 9-Bis (trihydroxyphenyl) fluorene C2-4 alkylene oxide adduct (meth) acrylate {eg, 9,9-bis [tri (2- (meth) acryloyloxyC2-3alkoxy) phenyl] fluorene , 9,9-bis {tri [2- (2- (meth) acryloyloxy C2-3 alkoxy) C Such -3 alkoxy] phenyl} fluorene} is preferred.

本発明の多官能性(メタ)アクリレートは、高反応性の(メタ)アクリロイルオキシ基含有基を多数有しているので、重合速度を向上できるとともに、硬化物の架橋密度を著しく大きくでき、高硬度の硬化物を効率よく得ることができる。   Since the polyfunctional (meth) acrylate of the present invention has many highly reactive (meth) acryloyloxy group-containing groups, the polymerization rate can be improved and the crosslinking density of the cured product can be remarkably increased. A hardened product can be obtained efficiently.

光重合性組成物中に含まれる光重合開始剤としては、公知の各種光重合開始剤を用いることができる。例えば、ベンゾイン類(ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル類など)、アセトフェノン類(アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノンなど)、アミノアセトフェノン類{2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノアミノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1など}、アントラキノン類(アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノンなど)、チオキサントン類(2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントンなど)、ケタール類(アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなど)、ベンゾフェノン類(ベンゾフェノンなど)、キサントン類などが例示できる。これらの光重合開始剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Various known photopolymerization initiators can be used as the photopolymerization initiator contained in the photopolymerizable composition. For example, benzoins (benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin alkyl ethers such as benzoin isopropyl ether), acetophenones (acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2 , 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, etc.), aminoacetophenones {2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2 -Morpholinoaminopropanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, etc.}, anthraquinones (anthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, -T-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, etc.), thioxanthones (2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone), ketals (acetophenone dimethyl ketal) And benzyl dimethyl ketal), benzophenones (such as benzophenone), and xanthones. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

また、光重合開始剤は、光増感剤と組み合わせてもよい。光増感剤としては、第3級アミン類{例えば、トリアルキルアミン、トリアルカノールアミン(トリエタノールアミンなど)、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチル[p−(ジメチルアミノ)安息香酸エチルなど]、N,N−ジメチルアミノ安息香酸アミル[p−(ジメチルアミノ)安息香酸アミルなど]などのジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラーズケトン)などのビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン、4−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノンなどのジアルキルアミノベンゾフェノンなど}などの慣用の光増感剤などが挙げられる。光増感剤は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   Moreover, you may combine a photoinitiator with a photosensitizer. As photosensitizers, tertiary amines {eg, trialkylamines, trialkanolamines (such as triethanolamine), ethyl N, N-dimethylaminobenzoate [such as ethyl p- (dimethylamino) benzoate] , N, N-dimethylaminobenzoic acid amyl [p- (dimethylamino) benzoic acid amyl etc.] and other dialkylaminobenzoic acid alkyl esters, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone (Michler's ketone) and other bis (dialkylamino) Conventional photosensitizers such as benzophenone, dialkylaminobenzophenone such as 4- (dimethylamino) benzophenone} and the like. The photosensitizers may be used alone or in combination of two or more.

重合開始剤(及び光増感剤の総量)の使用量は、多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して0.1〜30重量部(例えば、1〜30重量部)、好ましくは1〜20重量部(例えば、5〜25重量部)、さらに好ましくは1.5〜10重量部程度であってもよい。光重合開始剤の使用量は、少なすぎると、組成物の重合性(又は光硬化性)が低下し、一方、多すぎると、光重合開始剤自身の吸収により、厚膜での光硬化性が低下する恐れがある。   The amount of the polymerization initiator (and the total amount of the photosensitizer) used is 0.1 to 30 parts by weight (for example, 1 to 30 parts by weight), preferably 1 with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate. It may be about 20 to 20 parts by weight (for example, 5 to 25 parts by weight), more preferably about 1.5 to 10 parts by weight. When the amount of the photopolymerization initiator used is too small, the polymerizability (or photocuring property) of the composition is lowered. On the other hand, when the amount is too large, photocuring property in a thick film is absorbed by absorption of the photopolymerization initiator itself. May decrease.

また、光増感剤の使用量は、重合開始剤(光重合開始剤)100重量部に対して、5〜200重量部、好ましくは10〜150重量部、さらに好ましくは20〜100重量部程度であってもよい。   Moreover, the usage-amount of a photosensitizer is 5-200 weight part with respect to 100 weight part of polymerization initiators (photoinitiator), Preferably it is 10-150 weight part, More preferably, it is about 20-100 weight part. It may be.

なお、前述したように、光重合開始剤に加えて熱重合開始剤を添加してもよい。熱重合開始剤としては、公知のものを利用することができる。例えば、ジアルキルパーオキサイド類(ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなど)、ジアシルパーオキサイド類[ジアルカノイルパーオキサイド(ラウロイルパーオキサイドなど)、ジアロイルパーオキサイド(ベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルトルイルパーオキサイド、トルイルパーオキサイドなど)など]を挙げることができる。   As described above, a thermal polymerization initiator may be added in addition to the photopolymerization initiator. A well-known thing can be utilized as a thermal-polymerization initiator. For example, dialkyl peroxides (di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, etc.), diacyl peroxides [dialkanoyl peroxide (lauroyl peroxide, etc.), dialoyl peroxide (benzoyl peroxide, benzoyl toluyl peroxide) Oxide, toluyl peroxide, etc.).

反応性希釈剤(重合性希釈剤)としては、単官能性モノマー、多官能性モノマーなどが挙げられる。単官能性モノマーとしては、(メタ)アクリル酸アルキル[(メタ)アクリル酸メチルなどの(メタ)アクリル酸C1−6アルキルなど]、(メタ)アクリル酸シクロアルキル[(メタ)アクリル酸シクロヘキシルなどの(メタ)アクリル酸C5−8シクロアルキル、(メタ)アクリル酸イソボルニルなどの(メタ)アクリル酸ジ乃至テトラシクロアルキルエステルなど]、(メタ)アクリル酸アリール[(メタ)アクリル酸フェニルなど]、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート[(2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシC2−10アルキル(メタ)アクリレートなど]、(ポリ)オキシアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート(ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシテトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートなどの(ポリ)オキシC2−6アルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート)、アルコキシアルキル(メタ)アクリレート[(メタ)アクリル酸2−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸3−メトキシブチルなどの(メタ)アクリル酸C1−4アルコキシアルキルなど]、N−置換(メタ)アクリルアミド(N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミドなどのN,N−ジC1−4アルキル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミドなどのN−ヒドロキシC1−4アルキル(メタ)アクリルアミドなど)、アミノアルキル(メタ)アクリレート(N,N−ジメチルアミノエチルアクリレートなど)、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル系モノマーなどが例示できる。   Examples of the reactive diluent (polymerizable diluent) include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer. Examples of the monofunctional monomer include alkyl (meth) acrylate [C1-6 alkyl (meth) acrylate such as methyl (meth) acrylate], cycloalkyl (meth) acrylate [cyclohexyl (meth) acrylate, etc. (Meth) acrylic acid C5-8 cycloalkyl, (meth) acrylic acid diborn to tetracycloalkyl esters such as isobornyl (meth) acrylic acid], (meth) acrylic acid aryl [(meth) acrylic acid phenyl etc.], hydroxy Alkyl (meth) acrylate [(Hydroxy C2-10 alkyl (meth) acrylate such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate), etc.], (poly) Oxyalkylene glycol mono (Meth) acrylate (diethylene glycol mono (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol mono (meth) acrylate, (poly) oxy C2-6 alkylene glycol mono (meth) acrylate) such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate), alkoxyalkyl (meta ) Acrylate [(meth) acrylic acid 2-methoxyethyl, (meth) acrylic acid 3-methoxybutyl and other (meth) acrylic acid C1-4 alkoxyalkyl, etc.], N-substituted (meth) acrylamide (N, N-dimethyl) N, N-diC1-4 alkyl (meth) acrylamide such as (meth) acrylamide, N-hydroxy C1-4 alkyl (meth) acrylamide such as N-methylol (meth) acrylamide), aminoalkyl (meth) ) Acrylate (N, N-dimethylaminoethyl acrylate), such as glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate such as (meth) acrylic monomers can be exemplified.

多官能性モノマーには、二官能性(メタ)アクリレート、多官能性(メタ)アクリレート、エポキシ基含有化合物(グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレートなどのポリグリシジルエーテル類など)のポリ(例えば、ジ乃至ペンタ)(メタ)アクリレート、メラミンアクリレートなどが含まれる。   Polyfunctional monomers include difunctional (meth) acrylates, polyfunctional (meth) acrylates, epoxy group-containing compounds (glyceryl diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyglycidyl ethers such as triglycidyl isocyanurate) Etc.) (for example, di to penta) (meth) acrylate, melamine acrylate, and the like.

二官能性(メタ)アクリレートとしては、アルキレングリコールジ(メタ)アクリレート[エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートなどのC2−10アルキレングリコールジ(メタ)アクリレートなど]、(ポリ)オキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート[ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの(ポリ)オキシC2−6アルキレングリコールジ(メタ)アクリレートなど]、ビスフェノールA(又はそのC2−3アルキレンオキシド付加体)のジ(メタ)アクリレート、多価アルコール(又はそのC2−3アルキレンオキシド付加体)のジ(メタ)アクリレート[例えば、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレートなどのトリオールのジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートなどのテトラオールのジ(メタ)アクリレートなど]などが例示できる。   Difunctional (meth) acrylates include alkylene glycol di (meth) acrylate [ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di ( C2-10 alkylene glycol di (meth) acrylate such as meth) acrylate and neopentyl glycol di (meth) acrylate], (poly) oxyalkylene glycol di (meth) acrylate [diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (Meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene (Poly) oxy C2-6 alkylene glycol di (meth) acrylates such as recall di (meth) acrylate and polytetramethylene glycol di (meth) acrylate], bisphenol A (or its C2-3 alkylene oxide adduct) di ( (Meth) acrylate, di (meth) acrylate of polyhydric alcohol (or its C2-3 alkylene oxide adduct) [for example, glycerin di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, tris (hydroxyethyl) isocyanurate Examples include triol di (meth) acrylate such as di (meth) acrylate, tetraol di (meth) acrylate such as pentaerythritol di (meth) acrylate, and the like.

多官能性(メタ)アクリレートとしては、多価アルコール(又はそのC2−3アルキレンオキシド付加体)の三官能又は多官能性(メタ)アクリレート、例えば、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレートなどのトリオールのトリ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレートなどのテトラオールのトリ又はテトラ(メタ)アクリレート;ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが例示できる。   As the polyfunctional (meth) acrylate, a trifunctional or polyfunctional (meth) acrylate of a polyhydric alcohol (or its C2-3 alkylene oxide adduct), for example, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylol ethanetri ( Tri (meth) acrylates of triols such as (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethoxytri (meth) acrylate, tris (hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate; pentaerythritol tri (meth) ) Acrylates, triols of tetraols such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate or tetra (meth) acrylates; ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylates; dipentaerythritol te La (meth) acrylate; dipentaerythritol hexa (meth) acrylate can be exemplified.

反応性希釈剤は、単独で又は2種以上を組み合わせてもよい。反応性希釈剤の使用量は、多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、0〜100重量部の範囲から選択でき、例えば、1〜100重量部、好ましくは1〜50重量部、さらに好ましくは1〜30重量部程度であってもよい。   The reactive diluent may be used alone or in combination of two or more. The usage-amount of a reactive diluent can be selected from the range of 0-100 weight part with respect to 100 weight part of polyfunctional (meth) acrylate, for example, 1-100 weight part, Preferably it is 1-50 weight part, More preferably, it may be about 1 to 30 parts by weight.

希釈剤には、非反応性希釈剤も含まれる。非反応性希釈剤を使用すると、重合性組成物の塗布性などを改善できる。非反応性希釈剤(又は溶剤)としては、有機溶剤、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素類;エチルメチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;カルボン酸エステル(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテートなどの酢酸エステル、乳酸ブチルなど)、炭酸エステル(炭酸プロピレンなど)などのエステル類;石油エーテル、石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤などが例示できる。非反応性希釈剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
Diluents also include non-reactive diluents. When a non-reactive diluent is used, the applicability of the polymerizable composition can be improved. Non-reactive diluents (or solvents) include organic solvents such as aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, octane and decane; ketones such as ethyl methyl ketone and cyclohexanone; toluene, xylene, tetramethylbenzene and the like Aromatic hydrocarbons: glycols such as cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether Ethers; carboxylate esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl carbide Ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, acetate esters such as dipropylene glycol monomethyl ether acetate, butyl lactate, etc.), esters such as carbonate esters (propylene carbonate, etc.); petroleum solvents such as petroleum ether, petroleum naphtha, solvent naphtha, etc. Can be illustrated. A non-reactive diluent can be used individually or in combination of 2 or more types.

非反応性希釈剤の使用量(添加量)は、塗布方法などにより異なるが、多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、0〜500重量部の範囲から選択でき、通常、10〜400重量部、好ましくは20〜300重量部、さらに好ましくは30〜200重量部程度であってもよい。   The amount (addition amount) of the non-reactive diluent varies depending on the coating method and the like, but can be selected from the range of 0 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate. It may be 400 parts by weight, preferably 20 to 300 parts by weight, more preferably about 30 to 200 parts by weight.

異方導電性樹脂組成物には、バインダー中において導電性磁性粉体の分散性を向上させる観点から、シリカ粒子を添加することができる。シリカ粒子は、バインダー100重量部に対して、5部以上、30部以下とすることが好ましい。5重量部未満の場合には、分散性向上に効果を示さない場合があり、一方、30重量部を超えると、導電性磁性粉体の磁場による配向を阻害することがある。シリカ粒子の粒子径は、50nm〜2μmの範囲のものを好適に用いることができる。粒子径が50nm未満の場合には、分散性に効果を示さない場合がある。一方、粒子径が2μmを超えると、導電性磁性粉体の磁場による配向を阻害する場合がある。これらは1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。   Silica particles can be added to the anisotropic conductive resin composition from the viewpoint of improving the dispersibility of the conductive magnetic powder in the binder. The silica particles are preferably 5 parts or more and 30 parts or less with respect to 100 parts by weight of the binder. When the amount is less than 5 parts by weight, the effect of improving the dispersibility may not be exhibited. On the other hand, when the amount exceeds 30 parts by weight, the orientation of the conductive magnetic powder due to the magnetic field may be hindered. A silica particle having a particle diameter in the range of 50 nm to 2 μm can be suitably used. When the particle diameter is less than 50 nm, there may be no effect on dispersibility. On the other hand, if the particle diameter exceeds 2 μm, the orientation of the conductive magnetic powder due to the magnetic field may be hindered. These may be used alone or in combination of two or more.

また、異方導電性部材の接着性を向上させるために、接着性向上剤を添加することができる。例えば、有機ケイ素化合物、有機酸アリルエステル、エポキシ開環触媒、又は有機チタン化合物からなるもの等を挙げることができる。これらは1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。   Moreover, in order to improve the adhesiveness of an anisotropically conductive member, an adhesive improvement agent can be added. For example, an organic silicon compound, an organic acid allyl ester, an epoxy ring-opening catalyst, or an organic titanium compound can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

さらに、異方導電性樹脂組成物には、必要に応じて、本来の特性を損なわない範囲で、慣用の添加剤、例えば、着色剤、安定剤(熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤など)、充填剤、帯電防止剤、難燃剤(有機リン化合物、無機リン化合物などのリン含有化合物、ハロゲン含有難燃剤、金属酸化物、金属水酸化物、金属硫化物など)、難燃助剤、レベリング剤、シランカップリング剤、重合禁止剤(又は熱重合禁止剤)などを含んでいてもよい。添加剤は、単独で又は2種以上組み合わせて使用してもよい。   Furthermore, in the anisotropic conductive resin composition, if necessary, conventional additives such as colorants, stabilizers (thermal stabilizers, antioxidants, ultraviolet absorbers) are used as long as the original characteristics are not impaired. Etc.), fillers, antistatic agents, flame retardants (phosphorus-containing compounds such as organic phosphorus compounds and inorganic phosphorus compounds, halogen-containing flame retardants, metal oxides, metal hydroxides, metal sulfides, etc.), flame retardant aids , A leveling agent, a silane coupling agent, a polymerization inhibitor (or a thermal polymerization inhibitor) and the like may be contained. You may use an additive individually or in combination of 2 or more types.

添加剤(難燃剤など)の割合は、添加剤の種類に応じて適宜選択でき、例えば、多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、0.5〜100重量部、好ましくは1〜50重量部、さらに好ましくは1〜20重量部程度であってもよい。   The proportion of the additive (such as a flame retardant) can be appropriately selected depending on the type of the additive. For example, 0.5 to 100 parts by weight, preferably 1 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate. It may be about 50 parts by weight, more preferably about 1 to 20 parts by weight.

本実施形態1によれば、異方導電性部材(異方導電性フィルム10)の製造プロセスに、加熱工程を含まず、光照射によりバインダーを硬化せしめているので、従来の熱圧着により生じていた問題を解決することができる。すなわち、接続時の加熱により、各種材料の伸びのために接続部分にずれが生じたり、接続部分が細幅のため接続時の温度で周辺部材が熱的影響を受けたり、接続時の加熱により反りが発生したり、配線が断線したりするという問題等を解決することができる。また、加熱圧着時に、導電性磁性粉体の配向性が崩れるという問題もない。また、光硬化時に低収縮率なポリマーを用いることにより、寸法安定性の高い異方導電性樹脂組成物を提供することができる。これらの結果、接続ピッチの微細化に対応可能な異方導電性樹脂組成物、異方導電性部材を提供することができる。   According to the first embodiment, the manufacturing process of the anisotropic conductive member (anisotropic conductive film 10) does not include a heating step, and the binder is cured by light irradiation. Problem can be solved. That is, due to the heating at the time of connection, displacement occurs in the connection part due to the elongation of various materials, the peripheral part is thermally affected by the temperature at the time of connection because the connection part is narrow, or the heating at the time of connection Problems such as the occurrence of warping and the disconnection of wiring can be solved. In addition, there is no problem that the orientation of the conductive magnetic powder is lost during thermocompression bonding. Moreover, an anisotropic conductive resin composition having high dimensional stability can be provided by using a polymer having a low shrinkage rate during photocuring. As a result, it is possible to provide an anisotropic conductive resin composition and an anisotropic conductive member that can cope with finer connection pitches.

また、中空形状の導電性磁性粉体を用いることにより、軽量化を実現できる。その結果、異方導電性樹脂組成物中の分散性を高め、かつ、磁場中に異方導電性樹脂組成物の塗膜を搬送した際の配向時間を短縮化することができる。   Moreover, weight reduction is realizable by using a hollow-shaped electroconductive magnetic powder. As a result, the dispersibility in the anisotropic conductive resin composition can be improved, and the orientation time when the anisotropic conductive resin composition coating film is conveyed in a magnetic field can be shortened.

なお、本発明は、加熱工程を行わずに光照射工程により異方導電性部材を提供し得るものであるが、異方導電性フィルムを電子部品に固設する際に一切の加熱工程を排除するものではなく、用途や求められる性能等に応じては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において最小限の加熱工程を行ってもよい。   In addition, although this invention can provide an anisotropic conductive member by a light irradiation process without performing a heating process, when heating an anisotropic conductive film to an electronic component, all heating processes are excluded. However, depending on the application, required performance, etc., a minimum heating step may be performed without departing from the spirit of the present invention.

また、本発明に係る異方導電性部材とは、電極間に挟持して圧着し、硬化工程を経たものに限定されず、圧着工程を行う前の、導電性磁性粉体が所定の方向に配向し、かつその配向が保持される程度に半硬化された状態の半硬化膜も含むものとする。また、本実施形態1においては、導電性磁性粉体が塗膜の面内方向に一軸配向した例について説明したが、これに限定されるものではなく、所定の方向に導電性磁性粉体が一軸配向しているものも含む。   Further, the anisotropic conductive member according to the present invention is not limited to the one that is sandwiched between electrodes and crimped and subjected to a curing process, and the conductive magnetic powder before performing the crimping process is in a predetermined direction. It also includes a semi-cured film that is oriented and semi-cured to such an extent that the orientation is maintained. In the first embodiment, the example in which the conductive magnetic powder is uniaxially oriented in the in-plane direction of the coating film has been described. However, the present invention is not limited to this, and the conductive magnetic powder is formed in a predetermined direction. Includes those that are uniaxially oriented.

また、本実施形態1においては、異方導電性部材としてフィルムとした例について説明したが、シート、塗料、接着材、粘着材、ペースト、インク等の種々の形態としての利用が可能である。また、異方導電性部材を液晶表示パネルの電子部品の接合に利用した例について説明したが、これに限定されるものではなく、電子機器をはじめとした種々の電子部品の接合に利用することができる。   In the first embodiment, an example in which a film is used as the anisotropic conductive member has been described. However, the present invention can be used in various forms such as a sheet, a paint, an adhesive, an adhesive, a paste, and an ink. Moreover, although the example which utilized the anisotropically conductive member for joining the electronic component of a liquid crystal display panel was demonstrated, it is not limited to this, It uses for joining various electronic components including an electronic device. Can do.

[実施形態2]
次に、上記実施形態1とは異なる構造の異方導電性フィルムの一例について説明する。なお、以降の説明において、上記実施形態と同一の要素部材は同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。本実施形態2に係る異方導電性フィルムは、下記に説明する点を除く基本的な構成、及び製造方法は上記実施形態1と同様である。
[Embodiment 2]
Next, an example of the anisotropic conductive film having a structure different from that of the first embodiment will be described. In the following description, the same elements as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate. The anisotropic conductive film according to the second embodiment has the same basic configuration and manufacturing method as those of the first embodiment except for the points described below.

図6に、本実施形態2に係る異方導電性フィルム10aの模式的な斜視図を示す。異方導電性フィルム10aは、導電性磁性粉体11aと、光硬化性樹脂12を備える。本実施形態2に係る導電性磁性粉体11aは、異方導電性フィルム10aの面に垂直な方向に配向している。これにより、異方的導電性を発現することができる。   In FIG. 6, the typical perspective view of the anisotropic conductive film 10a which concerns on this Embodiment 2 is shown. The anisotropic conductive film 10 a includes a conductive magnetic powder 11 a and a photocurable resin 12. The conductive magnetic powder 11a according to the second embodiment is oriented in a direction perpendicular to the surface of the anisotropic conductive film 10a. Thereby, anisotropic conductivity can be expressed.

次に、本実施形態2に係る異方導電性フィルム10aの製造方法について、図7及び図8を用いつつ説明する。まず、上記実施形態1と同様に異方導電性樹脂組成物を用意する。そして、異方導電性樹脂組成物を濾過処理した後、支持体21上に例えばバーコート法により異方導電性樹脂組成物を塗布して、塗膜20aを得る(図7参照)。次いで、塗膜20aが形成された支持体21を磁場中に搬送する。   Next, the manufacturing method of the anisotropic conductive film 10a which concerns on this Embodiment 2 is demonstrated using FIG.7 and FIG.8. First, an anisotropic conductive resin composition is prepared as in the first embodiment. Then, after the anisotropic conductive resin composition is filtered, the anisotropic conductive resin composition is applied onto the support 21 by, for example, a bar coating method to obtain a coating film 20a (see FIG. 7). Next, the support 21 on which the coating film 20a is formed is conveyed into a magnetic field.

本実施形態2においては、第1の磁石22のN極と、第2の磁石23のS極とが互いに対向配置するように設置した。そして、第1の磁石22と第2の磁石23とを、金属製容器25の中に設置した。これにより、横方向の磁力線の染出しを無くし、塗膜20aの法線方向に一致する磁力線を得ることができる。支持体21の搬送は、連続的に行っても、搬送を断続的に行うステップ搬送方式により行ってもよい。ステップ搬送方式によれば、磁場を小さくしても一軸配向性を得ることができる。   In the second embodiment, the N pole of the first magnet 22 and the S pole of the second magnet 23 are disposed so as to face each other. Then, the first magnet 22 and the second magnet 23 were installed in a metal container 25. As a result, it is possible to eliminate magnetic field lines in the lateral direction and obtain magnetic field lines that coincide with the normal direction of the coating film 20a. The support 21 may be transported continuously or by a step transport system in which transport is intermittent. According to the step conveyance system, uniaxial orientation can be obtained even if the magnetic field is reduced.

金属製容器25を通過した直後の導電性磁性粉体11aは、磁石面に対して略垂直方向に配列する。この状態が保持されているタイミングにて活性光線を照射し(図7参照)、導電性磁性粉体11の配向性が保持されるように光重合性組成物を半硬化させる。これにより、異方導電性樹脂組成物からなる半硬化膜30aが得られる。   The conductive magnetic powder 11a immediately after passing through the metal container 25 is arranged in a direction substantially perpendicular to the magnet surface. Actinic rays are irradiated at the timing when this state is maintained (see FIG. 7), and the photopolymerizable composition is semi-cured so that the orientation of the conductive magnetic powder 11 is maintained. Thereby, the semi-hardened film | membrane 30a which consists of an anisotropic conductive resin composition is obtained.

次いで、半硬化膜30aが積層された支持体21を所望の大きさにカットする。そして、カットされた支持体21をTFTアレイ基板1の端部近傍のドライバIC6を実装する位置に、半硬化膜30aがTFTアレイ基板1のTFT側電極31が形成されている面と接触するように載置する。その後、支持体21を剥離する。   Next, the support 21 on which the semi-cured film 30a is laminated is cut into a desired size. The semi-cured film 30a is in contact with the surface of the TFT array substrate 1 on which the TFT side electrode 31 is formed at the position where the driver IC 6 near the end of the TFT array substrate 1 is mounted. Placed on. Thereafter, the support 21 is peeled off.

支持体21を剥離後、半硬化膜30上にドライバIC6を実装する。この際、ドライバIC6のドライバ側電極32と、TFT側電極31とが相対峙される位置に配置する。次いで、TFTアレイ基板1とドライバIC6との圧着を行う。これにより、半硬化膜30中に埋設されている導電性磁性粉体11が、半硬化膜30をつきやぶり、TFT側電極31若しくはドライバ側電極32と接触する。また、分散されていた導電性磁性粉体11を上下方向に圧縮させ、相互に接触せしめることができる。これにより、導電性磁性粉体11が膜面方向に対して垂直方向に導電パスを形成し、相対峙される複数のTFT側電極31と、ドライバ側電極32とを導電性磁性粉体11を介して一括して電気的に接続させることができる(図8参照)。   After peeling off the support 21, the driver IC 6 is mounted on the semi-cured film 30. At this time, the driver-side electrode 32 of the driver IC 6 and the TFT-side electrode 31 are disposed at a position where they face each other. Next, the TFT array substrate 1 and the driver IC 6 are pressure bonded. As a result, the conductive magnetic powder 11 embedded in the semi-cured film 30 touches the TFT-side electrode 31 or the driver-side electrode 32 with the semi-cured film 30 scattered. Further, the dispersed conductive magnetic powder 11 can be compressed in the vertical direction and brought into contact with each other. As a result, the conductive magnetic powder 11 forms a conductive path in a direction perpendicular to the film surface direction, and the plurality of TFT side electrodes 31 and the driver side electrode 32 that are opposed to each other are connected to the conductive magnetic powder 11. And can be electrically connected together (see FIG. 8).

圧縮工程により導電性磁性粉体11を介して相対峙される電極間が電気的に接続された状態にて、活性光線をTFTアレイ基板側1から照射する。これにより、半硬化膜30aがさらに硬化せしめられる。これにより、TFTアレイ基板1上に形成されたTFT側電極31と、ドライバIC6上に形成されたドライバ側電極32とが電気的に接続されるとともに、TFTアレイ基板1とドライバIC6が異方導電性フィルム10を介して固設される。   Actinic rays are irradiated from the TFT array substrate side 1 in a state where the electrodes facing each other through the conductive magnetic powder 11 are electrically connected through the compression process. Thereby, the semi-cured film 30a is further cured. Thereby, the TFT side electrode 31 formed on the TFT array substrate 1 and the driver side electrode 32 formed on the driver IC 6 are electrically connected, and the TFT array substrate 1 and the driver IC 6 are anisotropically conductive. The fixing film 10 is fixed.

本実施形態2に係る異方導電性樹脂組成物は、導電性磁性粉体11と、活性光線の照射により光硬化性樹脂12となる光重合性組成物を主成分とするバインダーを主要構成成分とする。導電性磁性粉体11は、棒状かつ中空であって、磁性、及び導電性が付与されたものである。導電性磁性粉体11の好ましい添加量や特性は、上記実施形態1で説明したとおりである。バインダーの主成分である光重合性組成物は、上記<数1>により算出した場合に7%以下となるものを用いる。これにより、寸法安定性を実現することができる。光重合性組成物は、上記実施形態1と同様にフルオレン構造を含有する光重合性化合物を主成分とするものを好適な例として挙げることができる。好ましい例は、上記実施形態1で説明したとおりである。   The anisotropic conductive resin composition according to Embodiment 2 is composed mainly of a conductive magnetic powder 11 and a binder mainly composed of a photopolymerizable composition that becomes a photocurable resin 12 by irradiation with actinic rays. And The conductive magnetic powder 11 is rod-shaped and hollow, and is provided with magnetism and conductivity. The preferable addition amount and characteristics of the conductive magnetic powder 11 are as described in the first embodiment. As the photopolymerizable composition that is the main component of the binder, a photopolymerizable composition that is 7% or less when calculated by the above <Equation 1> is used. Thereby, dimensional stability is realizable. As the photopolymerizable composition, those having as a main component a photopolymerizable compound containing a fluorene structure as in Embodiment 1 can be mentioned as a suitable example. A preferred example is as described in the first embodiment.

異方導電性樹脂組成物は、希釈剤(反応性希釈剤、非反応性希釈剤)を含んでいてもよい。具体例や、好ましい使用量は、上記実施形態1と同様である。また、バインダー中において導電性磁性粉体の分散性を向上させる観点から、シリカ粒子を添加することができる。また、異方導電性部材の接着性を向上させるために、接着性向上剤を添加することができる。さらに、本実施形態2に係る異方導電性樹脂組成物においても、本来の特性を損なわない範囲で、上記実施形態1と同様に慣用の添加剤を加えることができる。   The anisotropic conductive resin composition may contain a diluent (reactive diluent, non-reactive diluent). Specific examples and preferred use amounts are the same as those in the first embodiment. Silica particles can be added from the viewpoint of improving the dispersibility of the conductive magnetic powder in the binder. Moreover, in order to improve the adhesiveness of an anisotropically conductive member, an adhesive improvement agent can be added. Furthermore, in the anisotropic conductive resin composition according to the second embodiment, a conventional additive can be added as in the first embodiment as long as the original characteristics are not impaired.

本実施形態2によれば、異方導電性フィルム10aの製造プロセスに、加熱工程を含まず、光照射によりバインダーを硬化せしめているので、従来の熱圧着により生じていた問題を解決し、上記実施形態1と同様の効果を得ることができる。   According to the second embodiment, the manufacturing process of the anisotropic conductive film 10a does not include a heating step, and the binder is cured by light irradiation, so that the problem caused by the conventional thermocompression bonding is solved, and The same effect as in the first embodiment can be obtained.

<実施例>
以下、本発明を具体的実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではない。
<Example>
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

(実施例1)
光重合性組成物500mg(100部)にトルエン60mg(12部)を加え、試験管ミキサーを用いて2800rpmの条件下で1分間撹拌した。この溶液に導電性磁性粉体50mg(10部、9.1wt%)を加え、2800rpmの条件下で5分間混合撹拌することにより異方導電性樹脂組成物を得た。光重合性組成物としては、フルオレン骨格を有するアクリレートを主成分とするオグソールEA-F5010(大阪ガスケミカル株式会社製)を用いた。導電性磁性粉体としては、中空形状のNi−Pマイクロロッドを用いた。導電性磁性粉体の長さは、2.6μm、幅は0.35μmのものを用いた。
Example 1
60 mg (12 parts) of toluene was added to 500 mg (100 parts) of the photopolymerizable composition, and the mixture was stirred for 1 minute at 2800 rpm using a test tube mixer. An anisotropic conductive resin composition was obtained by adding 50 mg (10 parts, 9.1 wt%) of conductive magnetic powder to this solution and mixing and stirring for 5 minutes under the condition of 2800 rpm. As the photopolymerizable composition, Ogsol EA-F5010 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) mainly composed of an acrylate having a fluorene skeleton was used. A hollow Ni-P microrod was used as the conductive magnetic powder. The conductive magnetic powder having a length of 2.6 μm and a width of 0.35 μm was used.

導電性磁性粉体の製造方法については、上記特許文献4および特許文献6に記載の方法により調製した。本実施例1においては、導電性磁性粉体として、保磁力160kOe,質量飽和磁化13emu/g、内径0.15μm、肉厚0.1μm、導電性磁性粉体自体の体積抵抗率が10Ωcmのものを用いた。 About the manufacturing method of electroconductive magnetic powder, it prepared by the method of the said patent document 4 and the patent document 6. FIG. In Example 1, as the conductive magnetic powder, the coercive force is 160 kOe, the mass saturation magnetization is 13 emu / g, the inner diameter is 0.15 μm, the wall thickness is 0.1 μm, and the volume resistivity of the conductive magnetic powder itself is 10 1 Ωcm. The thing of was used.

異方導電性樹脂組成物を調製後、目開き20μmのフィルター濾過を行った。その後、9μmの溝深さを有するバーコータにより、剥離性フィルム上に異方導電性樹脂組成物の塗膜を形成した。この塗膜付き剥離性フィルムを、磁場0.3Tのサマコバ磁石間を2.4cm/sの速度で搬送させることにより、導電性磁性粉体を配向させた。磁石配置は、図3で説明したように、第1の磁石22と第2の磁石23とが、互いに同極(N極)が対向配置されるように配置した。   After preparing the anisotropic conductive resin composition, filter filtration with an opening of 20 μm was performed. Then, the coating film of the anisotropic conductive resin composition was formed on the peelable film with a bar coater having a groove depth of 9 μm. Conductive magnetic powder was oriented by conveying this peelable film with a coating film between Sama-Koba magnets having a magnetic field of 0.3 T at a speed of 2.4 cm / s. As described with reference to FIG. 3, the first magnet 22 and the second magnet 23 are arranged such that the same poles (N poles) face each other.

対向配置させた磁石間を通過した直後の塗膜を、2.4cm/sの速度で搬送させつつUV照射(水銀−キセノンランプ(San-ei Super Cure 203S)、40mW/cm@365nm)を行い、塗膜中の光重合性化合物を半硬化させた。これにより、導電性磁性粉体が、塗膜の面内方向、かつ搬送方向に一軸配向した半硬化膜を得た。図9(a)に、搬送方向に切断した半硬化膜の切断面のSEM写真を、図9(b)に、搬送方向に直交する方向に切断した半硬化膜の切断面のSEM写真を示す。同図に示すように、導電性磁性粉体11は、搬送方向に一軸配向していることがわかる。 UV irradiation (mercury-xenon lamp (San-ei Super Cure 203S), 40 mW / cm 2 @ 365 nm) while transporting the coating film immediately after passing between the magnets arranged facing each other at a speed of 2.4 cm / s. The photopolymerizable compound in the coating film was semi-cured. As a result, a semi-cured film in which the conductive magnetic powder was uniaxially oriented in the in-plane direction of the coating film and in the transport direction was obtained. FIG. 9A shows an SEM photograph of the cut surface of the semi-cured film cut in the transport direction, and FIG. 9B shows an SEM photograph of the cut surface of the semi-cured film cut in the direction orthogonal to the transport direction. . As shown in the figure, it can be seen that the conductive magnetic powder 11 is uniaxially oriented in the transport direction.

その後、異方導電性フィルムを剥離性フィルムから剥離し、配線ピッチが100μm(配線幅50μm、配線間隔50μm)のITOパターン電極付基板に挟持した。そして、基板の上下方向から圧着した後に、活性光線を照射した。これにより、異方導電性フィルム(膜厚7.6μm)付基板を作製した。   Thereafter, the anisotropic conductive film was peeled from the peelable film and sandwiched between substrates with ITO pattern electrodes having a wiring pitch of 100 μm (wiring width 50 μm, wiring spacing 50 μm). And after pressing from the up-down direction of a board | substrate, actinic light was irradiated. This produced the board | substrate with an anisotropic conductive film (film thickness of 7.6 micrometers).

(実施例2)
配線ピッチを40μm(配線幅20μm、配線間隔20μm)とした以外は、上記実施例1と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚7.6μm)付基板を作製した。
(Example 2)
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 7.6 μm) was produced in the same manner as in Example 1 except that the wiring pitch was 40 μm (wiring width 20 μm, wiring spacing 20 μm).

(実施例3)
配線ピッチを20μm(配線幅10μm、配線間隔10μm)とした以外は、上記実施例1と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚1.9μm)付基板を作製した。
(Example 3)
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 1.9 μm) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the wiring pitch was 20 μm (wiring width: 10 μm, wiring interval: 10 μm).

(実施例4)
上記実施例1と同様の異方導電性樹脂組成物を用い、上記実施例1と同様の方法にて塗膜を形成した。この塗膜付き剥離性フィルムを、磁場0.3Tのヨーク付キューブ磁石間に搬送し、50s保持した。その後、再び、2.4cm/sの速度で搬送させ、磁石間を通過した直後の塗膜を、2.4cm/sの速度で搬送させつつUV照射((San-ei Super Cure 203S)、40mW/cm@365nm)を行い、塗膜中の光重合性化合物を半硬化させた。その後、異方導電性フィルムを剥離性フィルムから剥離し、配線ピッチが100μm(配線幅50μm、配線間隔50μm)のITOパターン電極付基板に挟持した。そして、基板の上下方向から圧着した後に、活性光線を照射した。これにより、異方導電性フィルム(膜厚9.5μm)付基板を作製した。
Example 4
Using the same anisotropic conductive resin composition as in Example 1, a coating film was formed in the same manner as in Example 1. This peelable film with a coating film was conveyed between cube magnets with a yoke having a magnetic field of 0.3 T and held for 50 s. Thereafter, the film was transported again at a speed of 2.4 cm / s, and UV coating ((San-ei Super Cure 203S), 40 mW while transporting the coating film immediately after passing between the magnets at a speed of 2.4 cm / s. / Cm 2 @ 365 nm), and the photopolymerizable compound in the coating film was semi-cured. Thereafter, the anisotropic conductive film was peeled from the peelable film and sandwiched between substrates with ITO pattern electrodes having a wiring pitch of 100 μm (wiring width 50 μm, wiring spacing 50 μm). And after pressing from the up-down direction of a board | substrate, actinic light was irradiated. This produced the board | substrate with an anisotropic conductive film (film thickness of 9.5 micrometers).

(実施例5)
配線ピッチを40μm(配線幅20μm、配線間隔20μm)とした以外は、上記実施例4と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚11.4μm)付基板を作製した。
(Example 5)
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 11.4 μm) was produced in the same manner as in Example 4 except that the wiring pitch was 40 μm (wiring width 20 μm, wiring spacing 20 μm).

(実施例6)
配線ピッチを20μm(配線幅10μm、配線間隔10μm)とした以外は、上記実施例4と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚9.5μm)付基板を作製した。
(Example 6)
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 9.5 μm) was produced in the same manner as in Example 4 except that the wiring pitch was 20 μm (wiring width 10 μm, wiring interval 10 μm).

(実施例7)
光重合性組成物500mg(100部)にトルエン60mg(12部)、粒径250nmの球形シリカ粒子55.5mg(11.1部)を加え、試験管ミキサーを用いて2800rpmの条件下で1分間撹拌した以外は、上記実施例1と同様に異方導電性樹脂組成物を調製した。そして、上記実施例1と同様の方法にて塗膜を形成させ、上記実施例4と同様に塗膜中の光硬化性化合物を半硬化させた。その後、異方導電シートを剥離性フィルムから剥離し、配線ピッチが100μm(配線幅50μm、配線間隔50μm)のITOパターン電極付基板に挟持した。そして、基板の上下方向から圧着した後に、活性光線を照射した。これにより、異方導電性フィルム(膜厚6.7μm)付基板を作製した。
(Example 7)
To 500 mg (100 parts) of the photopolymerizable composition, 60 mg (12 parts) of toluene and 55.5 mg (11.1 parts) of spherical silica particles having a particle size of 250 nm are added, and the mixture is used for 1 minute at 2800 rpm using a test tube mixer. An anisotropic conductive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except for stirring. And the coating film was formed by the method similar to the said Example 1, and the photocurable compound in a coating film was semi-hardened similarly to the said Example 4. FIG. Thereafter, the anisotropic conductive sheet was peeled from the peelable film and sandwiched between substrates with ITO pattern electrodes having a wiring pitch of 100 μm (wiring width 50 μm, wiring spacing 50 μm). And after pressing from the up-down direction of a board | substrate, actinic light was irradiated. This produced the board | substrate with an anisotropic conductive film (film thickness 6.7 micrometers).

(実施例8)
配線ピッチを40μm(配線幅20μm、配線間隔20μm)とした以外は、上記実施例7と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚8.6μm)付基板を作製した。
(Example 8)
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 8.6 μm) was produced in the same manner as in Example 7 except that the wiring pitch was 40 μm (wiring width 20 μm, wiring spacing 20 μm).

(実施例9)
配線ピッチを20μm(配線幅10μm、配線間隔10μm)とした以外は、上記実施例7と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚9.5μm)付基板を作製した。
Example 9
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 9.5 μm) was prepared in the same manner as in Example 7 except that the wiring pitch was 20 μm (wiring width 10 μm, wiring interval 10 μm).

(実施例10)
導電性磁性粉体134mg(26.8部)を用いる以外は、上記実施例1と同様に異方導電性樹脂組成物を調製し、上記実施例1と同様の方法にて塗膜を形成させ、上記実施例4と同様に塗膜中の光硬化性化合物を半硬化させた。その後、異方導電シートを剥離性フィルムから剥離し、配線ピッチが100μm(配線幅50μm、配線間隔50μm)のITOパターン電極付基板に挟持した。そして、基板の上下方向から圧着した後に、活性光線を照射した。これにより、異方導電性フィルム(膜厚10.5μm)付基板を作製した。
(Example 10)
An anisotropic conductive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that 134 mg (26.8 parts) of conductive magnetic powder was used, and a coating film was formed in the same manner as in Example 1. The photocurable compound in the coating film was semi-cured in the same manner as in Example 4 above. Thereafter, the anisotropic conductive sheet was peeled from the peelable film and sandwiched between substrates with ITO pattern electrodes having a wiring pitch of 100 μm (wiring width 50 μm, wiring spacing 50 μm). And after pressing from the up-down direction of a board | substrate, actinic light was irradiated. This produced the board | substrate with an anisotropic conductive film (film thickness of 10.5 micrometers).

(実施例11)
配線ピッチを40μm(配線幅20μm、配線間隔20μm)とした以外は、上記実施例10と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚11.4μm)付基板を作製した。
(Example 11)
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 11.4 μm) was produced in the same manner as in Example 10 except that the wiring pitch was 40 μm (wiring width 20 μm, wiring spacing 20 μm).

(実施例12)
配線ピッチを20μm(配線幅10μm、配線間隔10μm)とした以外は、上記実施例10と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚6.7μm)付基板を作製した。
Example 12
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 6.7 μm) was produced in the same manner as in Example 10 except that the wiring pitch was 20 μm (wiring width 10 μm, wiring spacing 10 μm).

(実施例13)
上記実施例7と同様にシリカ粒子を含有させた光重合性組成物を調製し、導電性磁性粉体134mg(26.8部)を用いる以外は、上記実施例1と同様に異方導電性樹脂組成物を調製し、上記実施例1と同様の方法にて塗膜を形成させ、上記実施例4と同様に塗膜中の光硬化性化合物を半硬化させた。その後、異方導電シートを剥離性フィルムから剥離し、配線ピッチが100μm(配線幅50μm、配線間隔50μm)のITOパターン電極付基板に挟持した。そして、基板の上下方向から圧着した後に、活性光線を照射した。これにより、異方導電性フィルム(膜厚10.5μm)付基板を作製した。
(Example 13)
A photopolymerizable composition containing silica particles was prepared in the same manner as in Example 7, and the anisotropic conductive property was the same as in Example 1 except that 134 mg (26.8 parts) of conductive magnetic powder was used. A resin composition was prepared, a coating film was formed by the same method as in Example 1, and the photocurable compound in the coating film was semi-cured in the same manner as in Example 4. Thereafter, the anisotropic conductive sheet was peeled from the peelable film and sandwiched between substrates with ITO pattern electrodes having a wiring pitch of 100 μm (wiring width 50 μm, wiring spacing 50 μm). And after pressing from the up-down direction of a board | substrate, actinic light was irradiated. This produced the board | substrate with an anisotropic conductive film (film thickness of 10.5 micrometers).

(実施例14)
配線ピッチを40μm(配線幅20μm、配線間隔20μm)とした以外は、上記実施例13と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚12.4μm)付基板を作製した。
(Example 14)
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 12.4 μm) was produced in the same manner as in Example 13 except that the wiring pitch was 40 μm (wiring width 20 μm, wiring spacing 20 μm).

(実施例15)
配線ピッチを20μm(配線幅10μm、配線間隔10μm)とした以外は、上記実施例13と同様の方法により異方導電性フィルム(膜厚9.5μm)付基板を作製した。
(Example 15)
A substrate with an anisotropic conductive film (film thickness: 9.5 μm) was produced in the same manner as in Example 13 except that the wiring pitch was 20 μm (wiring width 10 μm, wiring interval 10 μm).

(比較例1)
導電性磁性粉体を含有させない以外は、上記実施例1と同様に樹脂組成物を得た。上記実施例1と同様に塗膜を形成させて、上記実施例4と同様に塗膜中の光硬化性化合物を半硬化させた。その後、半硬化させたシートを剥離性フィルムから剥離し、アルミ平板に付着させた。そして、活性光線を照射して、オグソールEA-F5010の光硬化フィルム(膜厚20μm)を作製した。この硬化膜の体積抵抗率を、(株)ダイアインスツルメンツ社製のロレスタGPにより測定した。
(Comparative Example 1)
A resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that no conductive magnetic powder was contained. A coating film was formed in the same manner as in Example 1, and the photocurable compound in the coating film was semi-cured in the same manner as in Example 4. Thereafter, the semi-cured sheet was peeled from the peelable film and adhered to an aluminum flat plate. Then, actinic rays were irradiated to produce a photocured film (film thickness 20 μm) of Ogsol EA-F5010. The volume resistivity of the cured film was measured by Loresta GP manufactured by Dia Instruments Co., Ltd.

(比較例2)
磁場0.3Tのサマコバ磁石を用いない以外は、実施例1と同様に塗膜中の光硬化性化合物を半硬化させることにより、磁場により導電性磁性粉体を配向させていない無配向フィルム(膜厚9.5μm)付基板を作製した。また、別途、半硬化させたシートを剥離性フィルムから剥離し、アルミ平板に付着させて、活性光線を照射して、無配向フィルムを作製し、株式会社ダイアインスツルメンツ社製のロレスタGPによりこの硬化フィルムの体積抵抗率を測定した。
(Comparative Example 2)
A non-oriented film in which the conductive magnetic powder is not oriented by a magnetic field by semi-curing the photo-curable compound in the coating film in the same manner as in Example 1 except that no magnetic field magnet having a magnetic field of 0.3 T is used. A substrate with a film thickness of 9.5 μm was produced. Separately, a semi-cured sheet is peeled off from the peelable film, attached to an aluminum flat plate, irradiated with actinic rays to produce a non-oriented film, and this cured by Loresta GP manufactured by Dia Instruments Co., Ltd. The volume resistivity of the film was measured.

(比較例3)
磁場0.3Tのサマコバ磁石を用いない以外は、実施例10と同様に塗膜中の光硬化性化合物を半硬化させることにより、磁場により導電性磁性粉体を配向させていない無配向フィルム(膜厚9.5μm)付基板を作製した。また、別途、半硬化させたシートを剥離性フィルムから剥離し、アルミ平板に付着させて、活性光線を照射して、無配向フィルムを作製し、(株)ダイアインスツルメンツ社製のロレスタGPによりこの硬化フィルムの体積抵抗率を測定した。
(Comparative Example 3)
A non-oriented film in which the conductive magnetic powder is not oriented by a magnetic field by semi-curing the photo-curable compound in the coating film in the same manner as in Example 10 except that no magnetic field magnet having a magnetic field of 0.3 T is used. A substrate with a film thickness of 9.5 μm was produced. Separately, the semi-cured sheet is peeled off from the peelable film, attached to an aluminum flat plate, irradiated with actinic rays to produce a non-oriented film, and this is done by Loresta GP manufactured by Dia Instruments Co., Ltd. The volume resistivity of the cured film was measured.

[物性評価]
実施例1〜15及び比較例1〜3の異方導電フィルムの膜厚方向の抵抗、膜面方向の抵抗、膜厚方向の体積抵抗率、膜面方向の体積抵抗率、異方性比を求めた結果を図10に示す。実施例1〜15のいずれにおいても、ITOパターン電極において異方導電性を発現することを確認した。膜厚方向の体積抵抗率は、10〜10Ωcmの範囲であり、膜面方向の体積抵抗率は1011Ωcmであり、異方性比は10〜10であった。バインダー樹脂として熱硬化性樹脂に代えて光硬化性樹脂を用いた場合においても、良好な導電性が発現することを確認した。また、配線ピッチ20μmという狭ピッチな電極間においても、異方導電性を発現することができた。
[Evaluation of the physical properties]
Film thickness direction resistance, film surface direction resistance, film thickness direction volume resistivity, film surface direction volume resistivity, anisotropy ratio of anisotropic conductive films of Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 3 The obtained results are shown in FIG. In any of Examples 1 to 15, it was confirmed that anisotropic conductivity was exhibited in the ITO pattern electrode. The volume resistivity in the film thickness direction was in the range of 10 1 to 10 4 Ωcm, the volume resistivity in the film surface direction was 10 11 Ωcm, and the anisotropy ratio was 10 6 to 10 9 . It was confirmed that good conductivity was exhibited even when a photocurable resin was used instead of the thermosetting resin as the binder resin. In addition, anisotropic conductivity could be expressed even between electrodes having a wiring pitch of 20 μm and a narrow pitch.

図11(a)に実施例1、図11(b)に実施例2、図11(c)に実施例3の異方導電シート付基板の光学顕微鏡像を示す。また、図12(a)に実施例4、図12(b)に実施例5、図12(c)に実施例6の異方導電シート付基板の光学顕微鏡像を示す。   FIG. 11A shows an optical microscope image of the substrate with an anisotropic conductive sheet of Example 1, FIG. 11B shows Example 2 and FIG. FIG. 12A shows an optical microscope image of the substrate with an anisotropic conductive sheet of Example 4, FIG. 12B shows Example 5, FIG.

実施形態1に係る液晶表示パネルの構造を説明するための模式図。4 is a schematic diagram for explaining a structure of a liquid crystal display panel according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係る異方導電性フィルムの模式的斜視図。1 is a schematic perspective view of an anisotropic conductive film according to Embodiment 1. FIG. 実施形態1に係る異方導電性フィルムの製造工程を説明するための模式図。The schematic diagram for demonstrating the manufacturing process of the anisotropically conductive film which concerns on Embodiment 1. FIG. (a)は、実施形態1に係る磁場の磁力線を説明するための図であり、(b)は、導電性磁性粉体の配向性を説明するための図。(A) is a figure for demonstrating the magnetic force line of the magnetic field which concerns on Embodiment 1, (b) is a figure for demonstrating the orientation of electroconductive magnetic powder. (a)〜(c)は、実施形態1に係る異方導電性フィルムの製造工程を説明するための模式的な切断部断面図。(A)-(c) is typical cutting part sectional drawing for demonstrating the manufacturing process of the anisotropically conductive film which concerns on Embodiment 1. FIG. 実施形態2に係る異方導電性フィルムの模式的斜視図。3 is a schematic perspective view of an anisotropic conductive film according to Embodiment 2. FIG. 実施形態2に係る異方導電性フィルムの製造工程を説明するための模式図。The schematic diagram for demonstrating the manufacturing process of the anisotropically conductive film which concerns on Embodiment 2. FIG. 実施形態2に係る異方導電性フィルムの切断部断面図。Sectional drawing of the cutting part of the anisotropically conductive film which concerns on Embodiment 2. FIG. (a)及び(b)は、実施例1に係る半硬化膜(異方導電性フィルム)のSEM写真。(A) And (b) is the SEM photograph of the semi-hardened film (anisotropic conductive film) which concerns on Example 1. FIG. 実施例1〜15、比較例1〜3に係る異方導電性フィルムの製造条件、物性測定値を示す表。The table | surface which shows the manufacturing conditions of the anisotropic conductive film which concerns on Examples 1-15 and Comparative Examples 1-3, and a physical-property measured value. (a)は実施例1、(b)は実施例2、(c)は実施例3に係る異方導電性フィルムとITO基板との光学顕微鏡画像。(A) is Example 1, (b) is Example 2, (c) is an optical microscope image of an anisotropic conductive film and an ITO substrate according to Example 3. (a)は実施例4、(b)は実施例5、(c)は実施例6に係る異方導電性フィルムとITO基板との光学顕微鏡画像。(A) is Example 4, (b) is Example 5, (c) is an optical microscope image of an anisotropic conductive film and an ITO substrate according to Example 6.

符号の説明Explanation of symbols

1 TFTアレイ基板
2 対向基板
3 偏光板
4 シール材
5 液晶
6 ドライバIC
10 異方導電性フィルム
11 導電性磁性粉体
12 バインダー
20 塗膜
21 支持体
22 第1の磁石
23 第2の磁石
30 半硬化膜
31 TFT側電極
32 ドライバ側電極
100 液晶表示パネル
1 TFT array substrate 2 Counter substrate 3 Polarizing plate 4 Sealing material 5 Liquid crystal 6 Driver IC
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Anisotropic conductive film 11 Conductive magnetic powder 12 Binder 20 Coating film 21 Support body 22 First magnet 23 Second magnet 30 Semi-cured film 31 TFT side electrode 32 Driver side electrode 100 Liquid crystal display panel

Claims (13)

棒状、かつ中空の導電性磁性粉体と、
光重合性組成物を主成分とするバインダーとを含有し、
前記光重合性組成物の活性光線照射前後の収縮率は、下記<数1>により算出した場合に7%以下である異方導電性樹脂組成物。
<数1> 収縮率(%)=100×(dp−dM)/dp
(式中のdpは、水中置換法(JIS K7232−1982)による活性光線照射後の前記光重合性組成物の密度、dMは、比重瓶法(JIS K7112)による活性光線照射前の前記光重合性組成物の密度)
A rod-shaped and hollow conductive magnetic powder;
Containing a binder mainly composed of a photopolymerizable composition,
The anisotropic conductive resin composition whose shrinkage | contraction rate before and behind irradiation of actinic light of the said photopolymerizable composition is 7% or less when it calculates by following <Equation 1>.
<Equation 1> Shrinkage rate (%) = 100 × (dp−dM) / dp
(Where dp is the density of the photopolymerizable composition after irradiation with actinic light by the underwater substitution method (JIS K723-1982), and dM is the photopolymerization before irradiation with actinic light by the specific gravity bottle method (JIS K7112)). Density of the composition)
前記光重合性組成物は、フルオレン構造を含有する光重合性化合物を主成分とすることを特徴とする請求項1に記載の異方導電性樹脂組成物。   The anisotropic conductive resin composition according to claim 1, wherein the photopolymerizable composition contains a photopolymerizable compound containing a fluorene structure as a main component. 前記フルオレン構造を含有する光重合性化合物は、下記式(1)で表わされるフルオレン構造を含有する(メタ)アクリレートであることを特徴とする請求項2に記載の異方導電性樹脂組成物。

(式中、R1a、R1b、R2a及びR2bは置換基を示し、R3a及びR3bはアルキレン基を示し、R4a及びR4bは水素原子又はメチル基を示す。k1及びk2は0〜4の整数を示し、m1及びm2は0〜4の整数を示し、n1及びn2は0又は1以上の整数を示し、p1及びp2は1〜4の整数を示す。但し、m1+p1及びm2+p2は、1〜5の整数である)
The anisotropically conductive resin composition according to claim 2, wherein the photopolymerizable compound containing a fluorene structure is a (meth) acrylate containing a fluorene structure represented by the following formula (1).

(Wherein R 1a , R 1b , R 2a and R 2b represent a substituent, R 3a and R 3b represent an alkylene group, R 4a and R 4b represent a hydrogen atom or a methyl group, and k 1 and k 2 represent M1 and m2 represent integers of 0 to 4, n1 and n2 represent 0 or an integer of 1 or more, and p1 and p2 represent integers of 1 to 4, provided that m1 + p1 and m2 + p2 Is an integer from 1 to 5)
前記導電性磁性粉体は、Niを主成分とすることを特徴とする請求項1,2又は3に記載の異方導電性樹脂組成物。   The anisotropic conductive resin composition according to claim 1, wherein the conductive magnetic powder contains Ni as a main component. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の異方導電性樹脂組成物の塗膜を支持体上に形成させ、
前記導電性磁性粉体が所定の方向に配向するように磁場を印加し、
前記導電性磁性粉体の配向状態を保持するように、活性光線を照射して前記塗膜を半硬化させ、
前記半硬化させた塗膜を前記支持体から剥離して、電極間に挟持させて圧着し、
前記塗膜に活性光線を照射する異方導電性部材の実装方法。
A coating film of the anisotropic conductive resin composition according to any one of claims 1 to 4 is formed on a support,
Applying a magnetic field so that the conductive magnetic powder is oriented in a predetermined direction,
In order to maintain the orientation state of the conductive magnetic powder, the coating film is semi-cured by irradiation with actinic rays,
The semi-cured coating film is peeled off from the support, and is sandwiched between electrodes and pressure-bonded.
A method for mounting an anisotropic conductive member that irradiates the coating film with an actinic ray.
導電性磁性粉体と、光重合性組成物を主成分とするバインダーを含有する異方導電性樹脂組成物の塗膜を支持体上に形成させ、
前記導電性磁性粉体が、前記塗膜の面内方向に一軸配向するように磁場を印加し、
前記導電性磁性粉体の配向状態を保持するように、活性光線を照射して前記塗膜を半硬化させ、
前記半硬化させた塗膜を前記支持体から剥離して、電極間に挟持させて圧着し、
前記塗膜に活性光線を照射する異方導電性部材の実装方法。
A coating film of an anisotropic conductive resin composition containing a conductive magnetic powder and a binder mainly composed of a photopolymerizable composition is formed on a support,
Applying a magnetic field so that the conductive magnetic powder is uniaxially oriented in the in-plane direction of the coating film,
In order to maintain the orientation state of the conductive magnetic powder, the coating film is semi-cured by irradiation with actinic rays,
The semi-cured coating film is peeled off from the support, and is sandwiched between electrodes and pressure-bonded.
A method for mounting an anisotropic conductive member that irradiates the coating film with an actinic ray.
前記導電性磁性粉体が、前記塗膜の面内方向に一軸配向するように、反発磁極を間隙を持って対向配置させ、
当該磁極間に前記塗膜を搬送し、
前記磁極間を通過中若しくは通過後に、前記導電性磁性粉体の配向状態を保持するように前記光重合性組成物の活性光線を照射することを特徴とする請求項6に記載の異方導電性部材の実装方法。
In order for the conductive magnetic powder to be uniaxially oriented in the in-plane direction of the coating film, the repelling magnetic poles are arranged facing each other with a gap between them,
Transport the coating film between the magnetic poles,
The anisotropic conductive material according to claim 6, wherein the anisotropically conductive material is irradiated with an actinic ray of the photopolymerizable composition so as to maintain the orientation state of the conductive magnetic powder during or after passing between the magnetic poles. Mounting method of the adhesive member.
請求項6、7に記載の異方導電性部材の実装方法において、
前記異方導電性樹脂組成物として、請求項1〜4のいずれか1項に記載の異方導電性樹脂組成物を用いることを特徴とする異方導電性部材の実装方法。
In the mounting method of the anisotropically conductive member according to claim 6 or 7,
A method for mounting an anisotropic conductive member, comprising using the anisotropic conductive resin composition according to claim 1 as the anisotropic conductive resin composition.
前記異方導電性樹脂組成物の塗膜を、前記支持体に連続的にコーティングすることを特徴とする請求項5〜8のいずれか1項に記載の異方導電性部材の実装方法。   The method for mounting an anisotropic conductive member according to claim 5, wherein the support is continuously coated with a coating film of the anisotropic conductive resin composition. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の異方導電性樹脂組成物より構成される異方導電性部材であって、
前記導電性磁性粉体は、相対峙される電極面に対して略垂直に配向している異方導電性部材。
An anisotropic conductive member comprising the anisotropic conductive resin composition according to any one of claims 1 to 4,
An anisotropic conductive member in which the conductive magnetic powder is oriented substantially perpendicularly to the opposed electrode surface.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の異方導電性樹脂組成物より構成される異方導電性部材であって、
前記導電性磁性粉体は、相対峙される電極面に対して略水平に、かつ、電極の長軸方向に配向している異方導電性部材。
An anisotropic conductive member comprising the anisotropic conductive resin composition according to any one of claims 1 to 4,
An anisotropic conductive member in which the conductive magnetic powder is oriented substantially horizontally with respect to the opposed electrode surface and in the major axis direction of the electrode.
請求項10又は11に記載の異方導電性部材を用いて、電子部品の接合が行われている電子機器。   An electronic device in which electronic parts are joined using the anisotropic conductive member according to claim 10. 前記電子部品が半導体素子、半導体装置、プリント回路基板、液晶表示パネル、プラズマ表示パネル、エレクトロルミネッセンスパネル又はフィールドエミッション表示パネルのいずれかである請求項12に記載の電子機器。   The electronic device according to claim 12, wherein the electronic component is any one of a semiconductor element, a semiconductor device, a printed circuit board, a liquid crystal display panel, a plasma display panel, an electroluminescence panel, or a field emission display panel.
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