JP2009220520A - Liquid discharge apparatus and wiping method - Google Patents

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浩志 井上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress scattering of cleaning liquid from a rotating wiping body even when the wiping body is rotated to wipe a nozzle surface. <P>SOLUTION: The cleaning liquid is recovered from the wiping body 32 with a pump 34 after the wiping body 32 applied the cleaning liquid to the nozzle surface 14 before the wiping body 32 wipes the nozzle surface 14. This can prevent scattering of the cleaning liquid because the wiping body 32 can be rotated to wipe the nozzle surface 14 in the state where almost no cleaning liquid is present in the wiping body 32. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液体を吐出する液体吐出装置及びノズル面を払拭する払拭方法に関する。   The present invention relates to a liquid ejecting apparatus that ejects liquid and a wiping method for wiping a nozzle surface.

液体を吐出する液体吐出装置としては、特許文献1に開示されるように、インク吐出部を洗浄する洗浄装置を有するインク吐出装置が公知である。   As a liquid ejecting apparatus that ejects liquid, an ink ejecting apparatus having a cleaning device that cleans an ink ejecting section is known, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-228707.

この洗浄装置は、インク吐出部に対して接触し且つ回転するローラ部を有し、このローラ部の表面には弾性体が配置されており、この弾性体に洗浄液を供給してインク吐出部を洗浄する構成となっている。   This cleaning device has a roller portion that contacts and rotates with respect to the ink discharge portion, and an elastic body is disposed on the surface of the roller portion, and the ink discharge portion is supplied by supplying cleaning liquid to the elastic body. It is configured to be washed.

特開2002−172795号公報JP 2002-172895 A

ここで、特許文献1のように、回転するローラに洗浄液を供給して清掃する場合には、洗浄液が供給された状態でローラを回転させるため洗浄液が飛散してしまうおそれがある。洗浄液が飛散しないようにローラの回転速度を遅くすれば、ローラの払拭力が弱くなり、ノズル面の付着物が除去できない。   Here, as in Patent Document 1, when cleaning liquid is supplied to a rotating roller for cleaning, the cleaning liquid may be scattered because the roller is rotated while the cleaning liquid is supplied. If the rotation speed of the roller is slowed so that the cleaning liquid does not scatter, the wiping force of the roller becomes weak, and deposits on the nozzle surface cannot be removed.

本発明は、上記事実を考慮し、払拭体を回転させてノズル面を払拭する場合でも、回転する払拭体からの洗浄液の飛散を抑制することを目的とする。   In consideration of the above facts, the present invention has an object to suppress scattering of cleaning liquid from a rotating wiping body even when the wiping body is rotated to wipe the nozzle surface.

本発明の請求項1に係る液体吐出装置は、液体を吐出するノズルが形成されたノズル面を有する液体吐出ヘッドと、前記ノズル面に洗浄液を塗布すると共に、回転して前記ノズル面を払拭する払拭体と、前記払拭体に洗浄液を供給する供給手段と、前記払拭体が前記ノズル面に前記洗浄液を塗布した後であって前記払拭体が前記ノズル面を払拭する前に、前記洗浄液を前記払拭体から回収する回収手段と、を備えたことを特徴とする。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid ejection apparatus having a liquid ejection head having a nozzle surface on which a nozzle for ejecting liquid is formed, and applying a cleaning liquid to the nozzle surface and rotating to wipe the nozzle surface. A wiping body, a supply means for supplying a cleaning liquid to the wiping body, and after the wiping body has applied the cleaning liquid to the nozzle surface and before the wiping body wipes the nozzle surface, And a recovery means for recovering from the wiping body.

この構成によれば、払拭体が、液体を吐出するノズルが形成されたノズル面に洗浄液を塗布する。この洗浄液は、供給手段によって払拭体へ供給される。また、払拭体は、回転してノズル面を払拭する。   According to this configuration, the wiping body applies the cleaning liquid to the nozzle surface on which the nozzle for discharging the liquid is formed. This cleaning liquid is supplied to the wiping body by the supply means. Further, the wiping body rotates to wipe the nozzle surface.

ここで、請求項1の構成では、払拭体がノズル面に洗浄液を塗布した後であって払拭体がノズル面を払拭する前に、回収手段が、洗浄液を払拭体から回収する。
これにより、払拭体に洗浄液がほとんどない状態で、払拭体を回転させてノズル面を払拭することができるので、洗浄液の飛散が抑制できる。
Here, in the configuration of claim 1, the recovery means recovers the cleaning liquid from the wiping body after the wiping body has applied the cleaning liquid to the nozzle surface and before the wiping body wipes the nozzle surface.
Thereby, in a state where there is almost no cleaning liquid in the wiping body, the wiping body can be rotated and the nozzle surface can be wiped off, so that scattering of the cleaning liquid can be suppressed.

本発明の請求項2に係る液体吐出装置は、請求項1の構成において、前記払拭体は、回転して前記ノズル面に前記洗浄液を塗布すると共に、前記ノズル面に前記洗浄液を塗布する際の回転速度よりも速い回転速度で前記ノズル面を払拭することを特徴とする。   The liquid ejection device according to a second aspect of the present invention is the liquid ejection device according to the first aspect, wherein the wiping body rotates to apply the cleaning liquid to the nozzle surface and apply the cleaning liquid to the nozzle surface. The nozzle surface is wiped at a rotation speed faster than the rotation speed.

この構成によれば、払拭体は、回転してノズル面に洗浄液を塗布すると共に、ノズル面に洗浄液を塗布する際の回転速度よりも速い回転速度でノズル面を払拭する。これにより、洗浄液の飛散を抑制しつつ、払拭体の払拭性能が向上する。   According to this configuration, the wiping body rotates to apply the cleaning liquid to the nozzle surface, and wipes the nozzle surface at a rotation speed faster than the rotation speed when applying the cleaning liquid to the nozzle surface. Thereby, the wiping performance of the wiping body is improved while suppressing the scattering of the cleaning liquid.

本発明の請求項3に係る液体吐出装置は、請求項1又は請求項2の構成において、前記払拭体の内部に形成され、前記払拭体への前記洗浄液の供給及び前記払拭体からの前記洗浄液の回収を同一経路で可能とする通路を備えたことを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided the liquid ejection device according to the first or second aspect, wherein the liquid ejection device is formed inside the wiping body, and supplies the cleaning liquid to the wiping body and the cleaning liquid from the wiping body. It is characterized by having a passage that enables recovery of the same by the same route.

この構成によれば、払拭体の内部に形成された通路によって、払拭体への洗浄液の供給及び払拭体からの洗浄液の回収が同一経路で行われる。
このため、装置の省スペース化及び部品点数の低減が図れ、装置の小型化及び低コスト化が実現できる。
According to this configuration, the supply of the cleaning liquid to the wiping body and the recovery of the cleaning liquid from the wiping body are performed in the same path by the passage formed inside the wiping body.
For this reason, space saving of an apparatus and reduction of a number of parts can be aimed at, and size reduction and cost reduction of an apparatus are realizable.

本発明の請求項4に係る払拭方法は、液体を吐出するノズルが形成された液体吐出ヘッドのノズル面に払拭体で洗浄液を塗布する第1工程と、前記第1工程において前記洗浄液を塗布した前記払拭体に残存する前記洗浄液を前記払拭体から回収する第2工程と、前記第2工程において前記洗浄液が回収された前記払拭体を回転させて前記ノズル面を払拭する第3工程と、を備えたことを特徴とする。   In the wiping method according to claim 4 of the present invention, the first step of applying the cleaning liquid with the wiping body to the nozzle surface of the liquid discharge head on which the nozzle for discharging the liquid is formed, and the cleaning liquid is applied in the first step. A second step of recovering the cleaning liquid remaining on the wiping body from the wiping body; and a third step of rotating the wiping body from which the cleaning liquid has been recovered in the second step to wipe the nozzle surface. It is characterized by having.

この構成によれば、第1工程において、液体を吐出するノズルが形成された液体吐出ヘッドのノズル面に払拭体で洗浄液を塗布する。
第2工程では、第1工程において洗浄液を塗布した払拭体に残存する洗浄液を払拭体から回収する。第3工程では、第2工程において洗浄液が回収された払拭体を回転させてノズル面を払拭する
According to this configuration, in the first step, the cleaning liquid is applied by the wiping body to the nozzle surface of the liquid discharge head on which the nozzle for discharging the liquid is formed.
In the second step, the cleaning liquid remaining on the wiping body coated with the cleaning liquid in the first step is collected from the wiping body. In the third step, the nozzle surface is wiped by rotating the wiping body from which the cleaning liquid has been collected in the second step.

これにより、払拭体に洗浄液がほとんどない状態で、払拭体を回転させてノズル面を払拭することができるので、洗浄液の飛散が抑制できる。   Thereby, in a state where there is almost no cleaning liquid in the wiping body, the wiping body can be rotated and the nozzle surface can be wiped off, so that scattering of the cleaning liquid can be suppressed.

本発明は、上記構成としたので、払拭体を回転させてノズル面を払拭する場合でも、回転する払拭体からの洗浄液の飛散を抑制することができる。   Since this invention was set as the said structure, even when rotating a wiping body and wiping a nozzle surface, scattering of the washing | cleaning liquid from the rotating wiping body can be suppressed.

以下に、本発明に係る実施形態の一例を図面に基づき説明する。
本実施形態では、液体を吐出する液体吐出装置の一例として、インク滴を吐出して記録媒体に画像を記録するインクジェット記録装置について説明する。
Below, an example of an embodiment concerning the present invention is described based on a drawing.
In the present embodiment, an ink jet recording apparatus that records an image on a recording medium by ejecting ink droplets will be described as an example of a liquid ejecting apparatus that ejects liquid.

なお、液体吐出装置は、インクジェット記録装置に限定されるものではない。液体吐出装置としては、例えば、フィルムやガラス上にインク等を吐出してカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置、有機EL溶液を基板上に吐出してELディスプレイパネルを形成する装置、溶解状態の半田を基板上に吐出して部品実装用のバンプを形成する装置、金属を含む液体を吐出して配線パターンを形成する装置及び液体を吐出して膜を形成する各種の成膜装置であってもよく、液体を吐出するものであればよい。   The liquid ejecting apparatus is not limited to the ink jet recording apparatus. Examples of the liquid discharge device include a color filter manufacturing device for manufacturing a color filter by discharging ink or the like on a film or glass, a device for forming an EL display panel by discharging an organic EL solution onto a substrate, and a dissolved state. An apparatus for forming bumps for component mounting by discharging solder onto a substrate, an apparatus for forming a wiring pattern by discharging a liquid containing metal, and various film forming apparatuses for forming a film by discharging a liquid In other words, any device that discharges liquid may be used.

(本実施形態に係るインクジェット記録装置の構成)
まず、本実施形態に係るインクジェット記録装置の構成を説明する。図1は、本実施形態に係るインクジェット記録装置の構成を示す概略図である。
(Configuration of inkjet recording apparatus according to this embodiment)
First, the configuration of the ink jet recording apparatus according to the present embodiment will be described. FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration of an ink jet recording apparatus according to the present embodiment.

本実施形態に係るインクジェット記録装置10は、図1に示すように、液体を吐出する液体吐出ヘッドの一例として、インク滴を吐出して記録媒体に画像を記録するインクジェット記録ヘッド20を備えている。   As shown in FIG. 1, an inkjet recording apparatus 10 according to the present embodiment includes an inkjet recording head 20 that records an image on a recording medium by ejecting ink droplets as an example of a liquid ejection head that ejects liquid. .

このインクジェット記録ヘッド20は、インク滴を吐出するノズル12が形成されたノズル面14を有している。インクジェット記録ヘッド20は、ノズル面14下に搬送された用紙等の記録媒体にノズル12からインク滴を吐出して、記録媒体に画像を記録するようになっている。   The ink jet recording head 20 has a nozzle surface 14 on which nozzles 12 for discharging ink droplets are formed. The ink jet recording head 20 records an image on a recording medium by ejecting ink droplets from the nozzle 12 onto a recording medium such as paper conveyed under the nozzle surface 14.

また、インクジェット記録装置10は、インクジェット記録ヘッド20のノズル面14を清掃する清掃装置30を備えている。この清掃装置30は、インクジェット記録ヘッド20のノズル面14に対向する対向位置と、インクジェット記録ヘッド20のノズル面14から退避した退避位置との間を相対移動可能に構成されている。   The ink jet recording apparatus 10 includes a cleaning device 30 that cleans the nozzle surface 14 of the ink jet recording head 20. The cleaning device 30 is configured to be relatively movable between a facing position facing the nozzle surface 14 of the inkjet recording head 20 and a retracted position retracted from the nozzle surface 14 of the inkjet recording head 20.

インクジェット記録ヘッド20のノズル面14を清掃する際には、清掃装置30が対向位置に相対移動し、ノズル面14の清掃を行うようになっている。なお、インクジェット記録ヘッド20と清掃装置30とは相対移動すればよいので、インクジェット記録ヘッド20が移動する構成であっても、清掃装置30が移動する構成であってもよい。また、図1は、清掃装置30が対向位置に移動した状態を示す図である。   When cleaning the nozzle surface 14 of the inkjet recording head 20, the cleaning device 30 moves relative to the opposing position to clean the nozzle surface 14. Since the inkjet recording head 20 and the cleaning device 30 only need to move relative to each other, the inkjet recording head 20 may move or the cleaning device 30 may move. Moreover, FIG. 1 is a figure which shows the state which the cleaning apparatus 30 moved to the opposing position.

清掃装置30は、ノズル面14に洗浄液を塗布すると共に回転してノズル面14を払拭する払拭体32と、払拭体32に洗浄液を供給する供給手段の一例としてのポンプ34と、洗浄液を貯留する貯留部としてのタンク33と、を備えている。なお、ポンプ34は、後述のように、洗浄液を払拭体32から回収する回収手段の一例としても機能する。   The cleaning device 30 applies a cleaning liquid to the nozzle surface 14 and rotates to wipe the nozzle surface 14, a pump 34 as an example of a supply unit that supplies the cleaning liquid to the wiping body 32, and stores the cleaning liquid. And a tank 33 as a storage part. The pump 34 also functions as an example of a recovery unit that recovers the cleaning liquid from the wiping body 32 as described later.

払拭体32は、ロール状(円筒状)に形成されると共に回転軸40を有しており、この回転軸40を介して支持部(図示省略)に回転可能に支持されている。また、払拭体32は、ポリウレタン、PVA等で数十μmから数百μmの連続気孔を有する弾性体で形成されており、内部の気孔で液体(洗浄液)を保持可能とされている。   The wiping body 32 is formed in a roll shape (cylindrical shape) and has a rotating shaft 40, and is rotatably supported by a support portion (not shown) via the rotating shaft 40. The wiping body 32 is formed of an elastic body having continuous pores of several tens to several hundreds of μm, such as polyurethane and PVA, and can hold a liquid (cleaning liquid) in the internal pores.

払拭体32には、払拭体32を回転させる回転機構36が設けられている。この回転機構36は、払拭体32を回転駆動するための駆動モータ42と、駆動モータ42の駆動力を払拭体32に伝達するための複数のギア44とを備えている。複数のギア44は、払拭体32の回転軸40に取り付けられたギア44Aと、駆動モータ42の駆動軸に取り付けられたギア44Bとを備えて構成されている。   The wiping body 32 is provided with a rotation mechanism 36 that rotates the wiping body 32. The rotation mechanism 36 includes a drive motor 42 for rotationally driving the wiping body 32 and a plurality of gears 44 for transmitting the driving force of the drive motor 42 to the wiping body 32. The plurality of gears 44 includes a gear 44 </ b> A attached to the rotation shaft 40 of the wiping body 32 and a gear 44 </ b> B attached to the drive shaft of the drive motor 42.

また、清掃装置30には、払拭体32をノズル面14に接触させると共にノズル面14に接触させた払拭体32をノズル面14から離間させることが可能な接離機構38が設けられている。この接離機構38は、ボールねじ、ソレノイド及びカムなどを利用したアクチュエータにより構成されており、払拭体32を上下方向(図1のA方向)に移動させることにより、払拭体32を接離させる。   Further, the cleaning device 30 is provided with a contact / separation mechanism 38 capable of bringing the wiping body 32 into contact with the nozzle surface 14 and separating the wiping body 32 in contact with the nozzle surface 14 from the nozzle surface 14. The contact / separation mechanism 38 is configured by an actuator using a ball screw, a solenoid, a cam, and the like, and moves the wiping body 32 in the up and down direction (A direction in FIG. 1) to bring the wiping body 32 into contact and separation. .

なお、接離機構38は、清掃装置30の装置全体を移動させることにより、払拭体32を接離させる構成であってもよく、また、払拭体32を個別に移動させる構成であってもよい。また、払拭体32とノズル面14とは、相対移動して払拭体32とノズル面14とが接触及び離間すればよいので、払拭体32側でなく、インクジェット記録ヘッド20側を移動させることにより、払拭体32とノズル面14とを接触及び離間させる構成であってもよい。   Note that the contact / separation mechanism 38 may be configured to move the entire wiping body 32 by moving the entire cleaning device 30, or may be configured to move the wiping body 32 individually. . Further, since the wiping body 32 and the nozzle surface 14 only need to move relative to each other so that the wiping body 32 and the nozzle surface 14 are in contact with and away from each other, the wiping body 32 and the nozzle recording head 20 side are moved instead of the wiping body 32 side. The wiping body 32 and the nozzle surface 14 may be configured to contact and separate from each other.

この接離機構38によって払拭体32をノズル面14に接触させた状態で、払拭体32を回転機構36によって回転させることにより、払拭体32はノズル面14を払拭する。   The wiping body 32 wipes the nozzle surface 14 by rotating the wiping body 32 by the rotation mechanism 36 in a state where the wiping body 32 is brought into contact with the nozzle surface 14 by the contact / separation mechanism 38.

なお、払拭体32がノズル面14を払拭する際に、払拭体32をノズル面14に沿って相対移動させる構成であってもよい。   The wiping body 32 may be configured to relatively move along the nozzle surface 14 when the wiping body 32 wipes the nozzle surface 14.

払拭体32の回転軸40は、中空とされており、洗浄液が流通可能な通路26が形成されている。また、回転軸40には、通路26から外周へ貫通する貫通孔(図示省略)が複数形成されており、通路26から払拭体32へ洗浄液の供給が可能となっている。払拭体32の回転軸40の一端部は封止され、他端部にはチューブ48の一端部が接続されている。チューブ48の他端部は、タンク33に接続されており、このチューブ48には、ポンプ34が設けられている。   The rotating shaft 40 of the wiping body 32 is hollow, and a passage 26 through which the cleaning liquid can flow is formed. The rotating shaft 40 is formed with a plurality of through holes (not shown) penetrating from the passage 26 to the outer periphery, and the cleaning liquid can be supplied from the passage 26 to the wiping body 32. One end of the rotating shaft 40 of the wiping body 32 is sealed, and one end of the tube 48 is connected to the other end. The other end of the tube 48 is connected to the tank 33, and a pump 34 is provided in the tube 48.

このポンプ34は、給排液可能なポンプで構成されている。具体的は、ポンプ34は、チューブポンプで構成され、ポンプ34を図1におけるB方向へ正転させると、タンク33の洗浄液が、チューブ48及び通路26を通じて、回転軸40の貫通孔から払拭体32へ供給される。   The pump 34 is a pump capable of supplying and discharging liquid. Specifically, the pump 34 is constituted by a tube pump. When the pump 34 is rotated forward in the direction B in FIG. 1, the cleaning liquid in the tank 33 passes through the tube 48 and the passage 26 and is wiped from the through hole of the rotary shaft 40. 32.

払拭体32に洗浄液が供給され、払拭体32が洗浄液を保持した状態でノズル面14を払拭することにより、洗浄液がノズル面14に塗布される。すなわち、払拭体32は、ノズル面14に洗浄液を塗布する塗布部材としても機能する。   The cleaning liquid is supplied to the wiping body 32, and the cleaning liquid is applied to the nozzle surface 14 by wiping the nozzle surface 14 with the wiping body 32 holding the cleaning liquid. That is, the wiping body 32 also functions as an application member that applies the cleaning liquid to the nozzle surface 14.

また、ポンプ34を図1におけるC方向へ逆転させると、払拭体32が保持する洗浄液が、回転軸40の貫通孔から通路26及びチューブ48を通り、洗浄液の供給の際と同一経路で、タンク33へ回収される。ポンプ34には、ポンプ34の駆動を制御する制御部28が接続されており、制御部28によって、ポンプ34による洗浄液の回収は、払拭体32がノズル面14に洗浄液を塗布した後であって払拭体32がノズル面14を払拭する前に行われるようになっている。   When the pump 34 is reversed in the direction C in FIG. 1, the cleaning liquid held by the wiping body 32 passes through the passage 26 and the tube 48 from the through hole of the rotating shaft 40, and passes through the passage 26 and the tube 48. To 33. The pump 34 is connected to a control unit 28 that controls the driving of the pump 34. The control unit 28 collects the cleaning liquid by the pump 34 after the wiping body 32 applies the cleaning liquid to the nozzle surface 14. This is performed before the wiping body 32 wipes the nozzle surface 14.

この制御部28は駆動モータ42にも接続され、制御部28が駆動モータ42の駆動を制御することにより、払拭体32の回転速度が制御される。払拭体32の回転速度は、例えば、ノズル面14に洗浄液を塗布する際の回転速度よりも、払拭体32がノズル面14を払拭する回転速度が速くされる。   The control unit 28 is also connected to the drive motor 42, and the rotation speed of the wiping body 32 is controlled by the control unit 28 controlling the drive of the drive motor 42. For example, the rotational speed at which the wiping body 32 wipes the nozzle surface 14 is faster than the rotational speed at which the cleaning liquid is applied to the nozzle surface 14.

また、払拭体32の下方には、払拭体32から落下した洗浄液を受けるための受け部46が配置されている。受け部46は、例えば、洗浄液を吸収して保持する材料で形成されている。   A receiving part 46 for receiving the cleaning liquid dropped from the wiping body 32 is disposed below the wiping body 32. The receiving part 46 is made of, for example, a material that absorbs and holds the cleaning liquid.

(本実施形態に係る清掃装置の清掃手順)
次に、本実施形態に係る清掃装置の清掃手順について説明する。図2は、清掃手順(メンテナンス手順)を示すフローチャートである。図3は、清掃動作(メンテナンス動作)と払拭体32の回転速度との関係を示すグラフである。
(Cleaning procedure of the cleaning device according to the present embodiment)
Next, the cleaning procedure of the cleaning device according to the present embodiment will be described. FIG. 2 is a flowchart showing a cleaning procedure (maintenance procedure). FIG. 3 is a graph showing the relationship between the cleaning operation (maintenance operation) and the rotational speed of the wiping body 32.

清掃装置30は、図2に示すように、メンテナンスモードが開始されると、ステップ100において、回転機構36により払拭体32の回転を開始する。このときの払拭体32の回転速度は、図3に示すように、ノズル面14を払拭する際の回転速度よりも低速であって、洗浄液を飛散させない程度の速度である。   As shown in FIG. 2, when the maintenance mode is started, the cleaning device 30 starts the rotation of the wiping body 32 by the rotation mechanism 36 in Step 100. The rotational speed of the wiping body 32 at this time is lower than the rotational speed when the nozzle surface 14 is wiped, as shown in FIG. 3, and is a speed that does not cause the cleaning liquid to scatter.

次に、ステップ102において、清掃装置30は、ポンプ34を正転させて、タンク33の洗浄液を払拭体32へ供給する。   Next, in step 102, the cleaning device 30 rotates the pump 34 in the normal direction and supplies the cleaning liquid in the tank 33 to the wiping body 32.

次に、清掃装置30は、洗浄液を一定時間払拭体32に供給した後、ステップ104において、接離機構38を駆動し、払拭体32の外周面をインクジェット記録ヘッド20のノズル面14に接触させる。払拭体32を回転させながらノズル面14に接触することで、ノズル面14に均一に洗浄液を塗布することができる。このとき、払拭体32は湿潤しているので、払拭体32が回転してノズル面14に接触しても、ノズル面14を傷付けにくい。   Next, after supplying the cleaning liquid to the wiping body 32 for a predetermined time, the cleaning device 30 drives the contact / separation mechanism 38 in step 104 to bring the outer peripheral surface of the wiping body 32 into contact with the nozzle surface 14 of the inkjet recording head 20. . By contacting the nozzle surface 14 while rotating the wiping body 32, the cleaning liquid can be uniformly applied to the nozzle surface 14. At this time, since the wiping body 32 is wet, even if the wiping body 32 rotates and contacts the nozzle surface 14, the nozzle surface 14 is hardly damaged.

なお、払拭体32が湿潤したか否かを検知するための検知手段を設ける構成であってもよい。この検知手段は、例えば、払拭体32の外周に一対の電極を設け、一対の電極を通電させた際の抵抗値の変化によって払拭体32が湿潤したか否かを判断する構成とすることができる。これは、湿度が高くなると抵抗値が高くなることを利用したものである。この検出結果に応じて、ポンプ34の制御を行えば、払拭体32からの液ダレ等が抑制できる。   In addition, the structure which provides the detection means for detecting whether the wiping body 32 was wet may be sufficient. For example, the detection means may be configured to provide a pair of electrodes on the outer periphery of the wiping body 32 and determine whether or not the wiping body 32 is wetted by a change in resistance value when the pair of electrodes are energized. it can. This utilizes the fact that the resistance value increases as the humidity increases. If the pump 34 is controlled according to this detection result, dripping from the wiping body 32 can be suppressed.

次に、清掃装置30は、払拭体32を一定時間ノズル面14に接触させた後、ステップ106において、ポンプ34を停止し、ステップ108において払拭体32の回転を停止する。   Next, the cleaning device 30 brings the wiping body 32 into contact with the nozzle surface 14 for a predetermined time, and then stops the pump 34 in step 106 and stops the rotation of the wiping body 32 in step 108.

次に、ステップ110において、ノズル面14に洗浄液を塗布したまま放置する。放置するのは、洗浄液によりノズル面14の付着物を溶解するためである。ポンプ34を停止することで洗浄液を節約すると共に、払拭体32の回転を停止することで摺動による払拭体32の磨耗を抑制する。   Next, in step 110, the nozzle surface 14 is left with the cleaning liquid applied. The reason for leaving it is to dissolve the deposit on the nozzle surface 14 with the cleaning liquid. The pump 34 is stopped to save the cleaning liquid, and the rotation of the wiping body 32 is stopped to suppress wear of the wiping body 32 due to sliding.

次に、ステップ112において、ポンプ34を逆転させて払拭体32の内部の洗浄液をタンク33へ回収し、ステップ114において、ポンプ34を停止する。これにより、払拭体32内部の気孔の中には、洗浄液がほぼない状態となる。   Next, in step 112, the pump 34 is reversed to collect the cleaning liquid inside the wiping body 32 into the tank 33. In step 114, the pump 34 is stopped. As a result, there is almost no cleaning liquid in the pores inside the wiping body 32.

次に、ステップ116において、回転機構36により払拭体32を回転させてノズル面14を払拭する。このときの払拭体32の回転速度は、図3に示すように、洗浄液をノズル面14に塗布する際の回転速度よりも高速である。払拭体32は、高速で回転するため、洗浄液で溶解できなかった付着物も容易に除去可能となる。   Next, in step 116, the wiping body 32 is rotated by the rotation mechanism 36 to wipe the nozzle surface 14. The rotational speed of the wiping body 32 at this time is higher than the rotational speed when the cleaning liquid is applied to the nozzle surface 14 as shown in FIG. Since the wiping body 32 rotates at a high speed, the deposits that could not be dissolved by the cleaning liquid can be easily removed.

なお、払拭体32にφ30のポリウレタンを用いた場合に、払拭体32の回転速度を洗浄液塗布時に10rpmとし、払拭時に100rpmとしたときにおいて、洗浄液の飛散もなく、払拭性も良好であった。   In addition, when φ30 polyurethane was used for the wiping body 32, when the rotational speed of the wiping body 32 was 10 rpm when applying the cleaning liquid and 100 rpm when wiping, the cleaning liquid was not scattered and the wiping property was good.

次に、ステップ118において、接離機構38を駆動し、払拭体32をノズル面14から離間する。   Next, in step 118, the contact / separation mechanism 38 is driven to separate the wiping body 32 from the nozzle surface 14.

次に、ステップ120において、必要に応じて、払拭体32のクリーニングを行う。これは、払拭体32をノズル面14から離間した状態で、払拭体32を回転させると共に洗浄液を供給する。これにより、払拭体32の表面についた付着物を洗い流すことができ、払拭体32の性能回復が可能である。このときの払拭体32の回転速度は、図3に示すように、洗浄液をノズル面14に塗布する際の回転速度と同程度である。また、このとき、払拭体32の表面から流れ出た洗浄液は、受け部46で受ける。以上により、メンテナンスモードが終了する。   Next, in step 120, the wiping body 32 is cleaned as necessary. In this state, the wiping body 32 is rotated and the cleaning liquid is supplied while the wiping body 32 is separated from the nozzle surface 14. Thereby, the deposits on the surface of the wiping body 32 can be washed away, and the performance of the wiping body 32 can be recovered. The rotational speed of the wiping body 32 at this time is approximately the same as the rotational speed when the cleaning liquid is applied to the nozzle surface 14, as shown in FIG. At this time, the cleaning liquid flowing out from the surface of the wiping body 32 is received by the receiving portion 46. Thus, the maintenance mode ends.

このように、本実施形態では、払拭体32がノズル面14に洗浄液を塗布した後であって払拭体32がノズル面14を払拭する前に、ポンプ34が、洗浄液を払拭体32から回収する。   As described above, in this embodiment, the pump 34 collects the cleaning liquid from the wiping body 32 after the wiping body 32 applies the cleaning liquid to the nozzle surface 14 and before the wiping body 32 wipes the nozzle surface 14. .

これにより、払拭体32に洗浄液がほとんどない状態で、払拭体32を回転させてノズル面14を払拭することができるので、洗浄液の飛散が抑制できる。また、払拭体32を高速で回転させられるので、払拭体32の払拭性能が向上する。   Thereby, since the nozzle surface 14 can be wiped by rotating the wiping body 32 in a state where the wiping body 32 has almost no cleaning liquid, scattering of the cleaning liquid can be suppressed. Moreover, since the wiping body 32 can be rotated at high speed, the wiping performance of the wiping body 32 is improved.

なお、払拭体32による払拭を行った後に、仕上げとして、ブレードによるワイピングを行っても良い。   In addition, after wiping with the wiping body 32, you may perform the wiping by a blade as finishing.

また、上記の実施形態では、払拭体32へ洗浄液を供給する経路と払拭体32から洗浄液を回収する経路を同一経路としたが、これらの経路を別々にしてもよい。経路を別々にする構成としては、例えば、洗浄液を供給するための通路と洗浄液を回収するための通路とそれぞれ形成する構成とすることができる。この構成によれば、回収される洗浄液にインクが混入した場合であっても、払拭体32に供給される洗浄液にインクが混ざる心配がないため、洗浄液保存性、清掃性の向上が見込める。   In the above embodiment, the path for supplying the cleaning liquid to the wiping body 32 and the path for collecting the cleaning liquid from the wiping body 32 are the same path, but these paths may be separated. As a structure which makes a path | route separate, for example, it can be set as the structure which each forms the channel | path for supplying a washing | cleaning liquid, and the channel | path for collect | recovering cleaning liquids. According to this configuration, even when ink is mixed into the recovered cleaning liquid, there is no fear that the ink is mixed into the cleaning liquid supplied to the wiping body 32, and therefore, the cleaning liquid storage property and cleaning property can be improved.

また、上記の実施形態では、ポンプ34は、払拭体32に洗浄液を供給する供給手段及び洗浄液を払拭体32から回収する回収手段として機能していたが、払拭体32に洗浄液を供給する供給手段及び洗浄液を払拭体32から回収する回収手段は、別体で機能する構成であっても良い。例えば、払拭体32に洗浄液を供給する供給手段としてのポンプ及び洗浄液を払拭体32から回収する回収手段としてのポンプをそれぞれに有する構成とすることができる。   In the above embodiment, the pump 34 functions as a supply unit that supplies the cleaning liquid to the wiping body 32 and a recovery unit that recovers the cleaning liquid from the wiping body 32, but a supply unit that supplies the cleaning liquid to the wiping body 32. The recovery means for recovering the cleaning liquid from the wiping body 32 may be configured to function separately. For example, a pump as a supply unit that supplies the cleaning liquid to the wiping body 32 and a pump as a recovery unit that recovers the cleaning liquid from the wiping body 32 may be provided.

さらに、上記の実施形態では、ノズル面14に洗浄液を塗布する際に、払拭体32を回転させたが、図4に示すように、払拭体32の弾性を利用して、払拭体32をノズル面14に押し付けて洗浄液をノズル面14に塗布する構成であっても良い。   Furthermore, in the above embodiment, the wiping body 32 is rotated when the cleaning liquid is applied to the nozzle surface 14. However, as shown in FIG. 4, the wiping body 32 is moved to the nozzle by utilizing the elasticity of the wiping body 32. The structure which presses against the surface 14 and apply | coats a washing | cleaning liquid to the nozzle surface 14 may be sufficient.

この構成では、図4(A)に示すように、払拭体32を上方へ移動させて、図4(B)に示すように、払拭体32をノズル面14に押し付ける。これにより、つぶれた部分の払拭体32の気孔に保持されていた洗浄液が滲み出し、洗浄液がノズル面14に塗布され、ノズル面14が湿潤する。この状態で、接離機構38によって払拭体32をノズル面14からゆっくり離間させると、図4(C)に示すように、ノズル面14の洗浄液が払拭体32に再吸収され、洗浄液がノズル面14に均一に塗布される。この後、払拭体32内の洗浄液を回収して、図4(D)に示すように、払拭体32を回転させてノズル面14を払拭する。   In this configuration, the wiping body 32 is moved upward as shown in FIG. 4 (A), and the wiping body 32 is pressed against the nozzle surface 14 as shown in FIG. 4 (B). As a result, the cleaning liquid held in the pores of the wiping body 32 in the collapsed portion oozes out, the cleaning liquid is applied to the nozzle surface 14, and the nozzle surface 14 is moistened. In this state, when the wiping body 32 is slowly separated from the nozzle surface 14 by the contact / separation mechanism 38, the cleaning liquid on the nozzle surface 14 is reabsorbed by the wiping body 32 as shown in FIG. 14 evenly. Thereafter, the cleaning liquid in the wiping body 32 is collected, and the wiping body 32 is rotated to wipe the nozzle surface 14 as shown in FIG.

この構成によれば、払拭体32のノズル面14に対する摺動を減らすことができるため、ノズル面14の表面(例えば、撥液膜)及び払拭体32の磨耗を抑制できる。   According to this structure, since the sliding with respect to the nozzle surface 14 of the wiping body 32 can be reduced, the surface of the nozzle surface 14 (for example, a liquid repellent film) and the wear of the wiping body 32 can be suppressed.

(本実施形態に係る払拭体の変形例)
次に、上記の実施形態に係る払拭体32を変形した変形例を説明する。
(Modification of wiping body according to this embodiment)
Next, the modification which deform | transformed the wiping body 32 which concerns on said embodiment is demonstrated.

変形例に係る払拭体52は、図5(A)及び図6に示すように、パイプ材52Aと、パイプ材52Aの外周面に積層された弾性層52Bと、弾性層52Bの外周面に積層された不織布52Cと、パイプ材52Aの内部に充填され液体を保持可能な保持体52Dとを有している。なお、図5においては、パイプ材52A、弾性層52B及び不織布52Cを一つの層で図示している。   As shown in FIGS. 5A and 6, the wiping body 52 according to the modification is laminated on the pipe material 52A, the elastic layer 52B laminated on the outer circumferential surface of the pipe material 52A, and the outer circumferential surface of the elastic layer 52B. The non-woven fabric 52C and a holding body 52D that is filled in the pipe material 52A and can hold the liquid. In FIG. 5, the pipe material 52A, the elastic layer 52B, and the nonwoven fabric 52C are illustrated as one layer.

パイプ材52A、弾性層52B及び不織布52Cには、保持体52Dが突出可能な穴54が形成されている。保持体52Dには、洗浄液を吸収することにより膨張するスポンジ等が用いられている。   The pipe material 52A, the elastic layer 52B, and the nonwoven fabric 52C are formed with holes 54 through which the holding body 52D can protrude. A sponge or the like that expands by absorbing the cleaning liquid is used for the holding body 52D.

また、払拭体52は、払拭体32と同様に回転軸40を有している。回転軸40は、中空とされており、洗浄液が流通可能な通路26が形成されている。また、回転軸40には、通路26から外周へ貫通する貫通孔(図示省略)が複数形成されている。   The wiping body 52 has a rotating shaft 40 as with the wiping body 32. The rotating shaft 40 is hollow, and a passage 26 through which the cleaning liquid can flow is formed. The rotating shaft 40 is formed with a plurality of through holes (not shown) penetrating from the passage 26 to the outer periphery.

なお、払拭体32と同様に、払拭体52の回転軸40の一端部は封止され、他端部にはチューブ48の一端部が接続されている。チューブ48の他端部には、タンク33が接続されており、このチューブ48には、ポンプ34が設けられている。図5及び図6においては、チューブ48、タンク33及びポンプ34の図示を省略している。   As with the wiping body 32, one end of the rotating shaft 40 of the wiping body 52 is sealed, and one end of the tube 48 is connected to the other end. A tank 33 is connected to the other end of the tube 48, and a pump 34 is provided in the tube 48. 5 and 6, illustration of the tube 48, the tank 33, and the pump 34 is omitted.

この構成では、ポンプ34によって洗浄液を払拭体52に供給すると、図5(C)に示すように、払拭体52内部の保持体52Dが湿潤して膨張し、穴54から隆起する。さらに洗浄液を払拭体52に供給を続けると、払拭体52の表面の穴54から洗浄液が滲み出し、最外層にある不織布52Cの表面を濡らす。この状態で、払拭体52を回転しながら、穴54から隆起した保持体52Dをノズル面14に接触させると、ノズル面14に洗浄液を塗布することができる。なお、不織布52Cもノズル面14に接触するが、濡れているためノズル面14の表面(例えば、撥液層)を傷つけにくい。   In this configuration, when the cleaning liquid is supplied to the wiping body 52 by the pump 34, the holding body 52 </ b> D inside the wiping body 52 is moistened and expanded as shown in FIG. When the cleaning liquid continues to be supplied to the wiping body 52, the cleaning liquid oozes out from the holes 54 on the surface of the wiping body 52 and wets the surface of the nonwoven fabric 52C in the outermost layer. In this state, when the wiping body 52 is rotated and the holding body 52D raised from the hole 54 is brought into contact with the nozzle surface 14, the cleaning liquid can be applied to the nozzle surface 14. Note that the nonwoven fabric 52C also comes into contact with the nozzle surface 14, but since it is wet, the surface of the nozzle surface 14 (for example, a liquid repellent layer) is hardly damaged.

次に、ポンプ34によって保持体52D内の洗浄液を回収すると、図5(B)に示すように、穴54から隆起した保持体52Dが収縮する。   Next, when the cleaning liquid in the holding body 52D is recovered by the pump 34, the holding body 52D raised from the hole 54 contracts as shown in FIG.

これにより、払拭体52に洗浄液がほとんどない状態で、払拭体52を回転させてノズル面14を払拭することができるので、洗浄液の飛散が抑制できる。また、変形例に係る払拭体52は、保持体52Dが穴54から露出するのみで露出面積が小さく、保持体52Dからの洗浄液の飛散をより効果的に抑制できる。また、払拭体52を高速で回転させられるので、払拭体52の払拭性能が向上する。   Thereby, in a state where there is almost no cleaning liquid in the wiping body 52, the wiping body 52 can be rotated and the nozzle surface 14 can be wiped off, so that scattering of the cleaning liquid can be suppressed. Further, the wiping body 52 according to the modified example has a small exposed area only by the holding body 52D being exposed from the hole 54, and can more effectively suppress scattering of the cleaning liquid from the holding body 52D. Moreover, since the wiping body 52 can be rotated at high speed, the wiping performance of the wiping body 52 is improved.

また、変形例に係る払拭体52では、表面の材質に自由度が増すため、インクジェット記録ヘッド20に合わせた払拭部材を選定できるメリットがある。
本発明は、上記の実施形態に限るものではなく、種々の変形、変更、改良が可能である。
Further, the wiping body 52 according to the modification has an advantage that a wiping member suitable for the ink jet recording head 20 can be selected because the surface material has a higher degree of freedom.
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications, changes, and improvements can be made.

〔参考例〕
次に、本実施形態の参考となる参考例について説明する。
参考例では、液体を吐出する液体吐出装置の一例として、インク滴を吐出して記録媒体に画像を記録するインクジェット記録装置について説明する。
[Reference example]
Next, a reference example serving as a reference for the present embodiment will be described.
In the reference example, an ink jet recording apparatus that ejects ink droplets and records an image on a recording medium will be described as an example of a liquid ejecting apparatus that ejects liquid.

なお、液体吐出装置は、インクジェット記録装置に限定されるものではない。液体吐出装置としては、例えば、フィルムやガラス上にインク等を吐出してカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造装置、有機EL溶液を基板上に吐出してELディスプレイパネルを形成する装置、溶解状態の半田を基板上に吐出して部品実装用のバンプを形成する装置、金属を含む液体を吐出して配線パターンを形成する装置及び液体を吐出して膜を形成する各種の成膜装置であってもよく、液体を吐出するものであればよい。   The liquid ejecting apparatus is not limited to the ink jet recording apparatus. Examples of the liquid discharge device include a color filter manufacturing device for manufacturing a color filter by discharging ink or the like on a film or glass, a device for forming an EL display panel by discharging an organic EL solution onto a substrate, and a dissolved state. An apparatus for forming bumps for component mounting by discharging solder onto a substrate, an apparatus for forming a wiring pattern by discharging a liquid containing metal, and various film forming apparatuses for forming a film by discharging a liquid In other words, any device that discharges liquid may be used.

(参考例に係るインクジェット記録装置の構成)
まず、参考例に係るインクジェット記録装置の構成を説明する。図7〜図12は、参考例に係るインクジェット記録装置の構成を示す概略図である。
(Configuration of inkjet recording apparatus according to reference example)
First, the configuration of the ink jet recording apparatus according to the reference example will be described. 7 to 12 are schematic diagrams illustrating the configuration of an ink jet recording apparatus according to a reference example.

参考例に係るインクジェット記録装置100は、図7に示すように、液体を吐出する液体吐出ヘッドの一例として、インク滴を吐出して記録媒体に画像を記録するインクジェット記録ヘッド120を備えている。   As shown in FIG. 7, the inkjet recording apparatus 100 according to the reference example includes an inkjet recording head 120 that records an image on a recording medium by ejecting ink droplets as an example of a liquid ejection head that ejects liquid.

このインクジェット記録ヘッド120は、インク滴を吐出するノズルが形成されたノズル面114を有している。インクジェット記録ヘッド120は、ノズル面114下に搬送された用紙等の記録媒体にノズルからインク滴を吐出して、記録媒体に画像を記録するようになっている。   The ink jet recording head 120 has a nozzle surface 114 on which nozzles for ejecting ink droplets are formed. The ink jet recording head 120 is configured to record an image on a recording medium by ejecting ink droplets from the nozzle onto a recording medium such as paper conveyed under the nozzle surface 114.

また、インクジェット記録装置100は、インクジェット記録ヘッド120のノズル面114を清掃する清掃装置130を備えている。この清掃装置130は、インクジェット記録ヘッド120のノズル面114に対向する対向位置と、インクジェット記録ヘッド120のノズル面114から退避した退避位置との間を相対移動可能に構成されている。   Further, the ink jet recording apparatus 100 includes a cleaning device 130 that cleans the nozzle surface 114 of the ink jet recording head 120. The cleaning device 130 is configured to be relatively movable between a facing position facing the nozzle surface 114 of the inkjet recording head 120 and a retracted position retracted from the nozzle surface 114 of the inkjet recording head 120.

インクジェット記録ヘッド120のノズル面114を清掃する際には、清掃装置130が対向位置に相対移動し、ノズル面114の清掃を行うようになっている。なお、インクジェット記録ヘッド120と清掃装置130とは相対移動すればよいので、インクジェット記録ヘッド120が移動する構成であっても、清掃装置130が移動する構成であってもよい。また、図7〜図12は、清掃装置130が対向位置に移動した状態を示す図である。   When cleaning the nozzle surface 114 of the inkjet recording head 120, the cleaning device 130 moves relative to the opposing position to clean the nozzle surface 114. Note that since the inkjet recording head 120 and the cleaning device 130 only need to move relative to each other, the inkjet recording head 120 may move or the cleaning device 130 may move. 7-12 is a figure which shows the state which the cleaning apparatus 130 moved to the opposing position.

清掃装置130は、ノズル面114に洗浄液を塗布すると共にノズル面114を払拭する払拭体132と、払拭体132に洗浄液を供給する供給部134と、を備えている。   The cleaning device 130 includes a wiping body 132 that applies a cleaning liquid to the nozzle surface 114 and wipes the nozzle surface 114, and a supply unit 134 that supplies the cleaning liquid to the wiping body 132.

払拭体132は、断面矩形状のブレードで構成されている。また、払拭体132は、ポリウレタン、PVA等で数十μmから数百μmの連続気孔を有する弾性体で形成されており、内部の気孔で液体(洗浄液)を保持可能とされている。   The wiping body 132 is configured by a blade having a rectangular cross section. Further, the wiping body 132 is formed of an elastic body having continuous pores of several tens to several hundreds of μm, such as polyurethane and PVA, and can hold a liquid (cleaning liquid) in the internal pores.

また、払拭体132は、ノズル面114に沿って移動するキャリッジ136に搭載されている。このキャリッジ136は、ボールねじ、ソレノイド及びベルトなどを利用した移動機構より、払拭体132と一体に横方向(図7のD方向及び図11のE方向)へ移動するようになっている。   The wiping body 132 is mounted on a carriage 136 that moves along the nozzle surface 114. The carriage 136 is moved in the lateral direction (D direction in FIG. 7 and E direction in FIG. 11) integrally with the wiping body 132 by a moving mechanism using a ball screw, a solenoid, and a belt.

なお、払拭体132とノズル面114とは、相対移動すればよいので、払拭体132側でなく、インクジェット記録ヘッド120側を移動させることにより、払拭体132をノズル面114に沿って相対移動させる構成であってもよい。   Since the wiping body 132 and the nozzle surface 114 only need to move relative to each other, the wiping body 132 is relatively moved along the nozzle surface 114 by moving not the wiping body 132 side but the ink jet recording head 120 side. It may be a configuration.

また、清掃装置130には、払拭体132をノズル面114に接触させると共にノズル面114に接触させた払拭体132をノズル面114から離間させることが可能な接離機構(図示省略)が設けられている。この接離機構は、ボールねじ、ソレノイド及びカムなどを利用したアクチュエータにより構成されており、払拭体132を上下方向(図7のF方向)に移動させることにより、払拭体132を接離させる。   Further, the cleaning device 130 is provided with a contact / separation mechanism (not shown) capable of bringing the wiping body 132 into contact with the nozzle surface 114 and allowing the wiping body 132 in contact with the nozzle surface 114 to be separated from the nozzle surface 114. ing. This contact / separation mechanism is configured by an actuator using a ball screw, a solenoid, a cam, and the like, and moves the wiping body 132 in the vertical direction (F direction in FIG. 7) to bring the wiping body 132 into contact with and away from it.

なお、接離機構は、清掃装置130の装置全体を移動させることにより、払拭体132を接離させる構成であってもよく、また、キャリッジ136を個別に移動させる構成であってもよい。また、払拭体132とノズル面114とは、相対移動して払拭体132とノズル面114とが接触及び離間すればよいので、払拭体132側でなく、インクジェット記録ヘッド120側を移動させることにより、払拭体132とノズル面114とを接触及び離間させる構成であってもよい。   The contact / separation mechanism may be configured to move the entire wiping device 130 so that the wiping body 132 is contacted / separated, or may be configured to move the carriage 136 individually. Further, the wiping body 132 and the nozzle surface 114 may be moved relative to each other so that the wiping body 132 and the nozzle surface 114 are brought into contact with and separated from each other. Therefore, by moving not the wiping body 132 side but the ink jet recording head 120 side. The wiping body 132 and the nozzle surface 114 may be configured to contact and separate from each other.

この接離機構によって払拭体132をノズル面114に接触させた状態で、払拭体132をキャリッジ136によって横方向へ移動させることにより、払拭体132はノズル面114を払拭する。   The wiping body 132 wipes the nozzle surface 114 by moving the wiping body 132 laterally by the carriage 136 in a state where the wiping body 132 is brought into contact with the nozzle surface 114 by this contact / separation mechanism.

供給部134は、穴134Aが形成された洗浄液供給路134Bを有しており、ポンプ(図示省略)を駆動することにより洗浄液を洗浄液供給路134Bに供給し、穴134Aから洗浄液を落下させ、払拭体132に洗浄液を供給可能とされている。   The supply unit 134 has a cleaning liquid supply path 134B in which a hole 134A is formed. By driving a pump (not shown), the cleaning liquid is supplied to the cleaning liquid supply path 134B, and the cleaning liquid is dropped from the hole 134A and wiped. A cleaning liquid can be supplied to the body 132.

供給部134によって払拭体132に洗浄液が供給され、払拭体132が洗浄液を保持した状態でノズル面114を払拭することにより、洗浄液がノズル面114に塗布される。すなわち、払拭体132は、ノズル面114に洗浄液を塗布する塗布部材としても機能する。   The cleaning liquid is supplied to the wiping body 132 by the supply unit 134, and the cleaning liquid is applied to the nozzle surface 114 by wiping the nozzle surface 114 while the wiping body 132 holds the cleaning liquid. That is, the wiping body 132 also functions as an application member that applies the cleaning liquid to the nozzle surface 114.

また、清掃装置130は、払拭体132がノズル面114に洗浄液を塗布した後であって払拭体132がノズル面114を払拭する前に、洗浄液を払拭体132から回収する回収手段の一例として、払拭体132中の洗浄液を除去する除去部148を備えている。   Further, the cleaning device 130 is an example of a collecting unit that collects the cleaning liquid from the wiping body 132 after the wiping body 132 has applied the cleaning liquid to the nozzle surface 114 and before the wiping body 132 wipes the nozzle surface 114. A removal unit 148 for removing the cleaning liquid in the wiping body 132 is provided.

除去部148は、払拭体132を押し潰すことで払拭体132内の洗浄液を絞り出すように構成されている。具体的には、除去部148は、払拭体132を押し当て可能な押し当て板150と、押し当て板150に図7のG方向及びH方向へ揺動可能に支持されたスクイズロール154とを備えている。スクイズロール154は、リンク部材152により揺動可能に支持されると共に、ばね等の付勢手段(図示省略)により、図7のG方向に付勢されている。   The removing unit 148 is configured to squeeze out the cleaning liquid in the wiping body 132 by crushing the wiping body 132. Specifically, the removing unit 148 includes a pressing plate 150 capable of pressing the wiping body 132 and a squeeze roll 154 supported on the pressing plate 150 so as to be swingable in the G direction and the H direction in FIG. I have. The squeeze roll 154 is swingably supported by the link member 152 and is urged in the G direction in FIG. 7 by urging means (not shown) such as a spring.

これにより、キャリッジ136が除去部148に移動すると、キャリッジ136に設けられたアクチュエータ156がリンク部材152の一端部を押し、リンク部材の他端部に設けられたスクイズロール154が移動して、押し当て板150との間に払拭体132を挟むように構成されている。   As a result, when the carriage 136 moves to the removal unit 148, the actuator 156 provided on the carriage 136 pushes one end of the link member 152, and the squeeze roll 154 provided on the other end of the link member moves and pushes. The wiping body 132 is sandwiched between the contact plate 150 and the contact plate 150.

押し当て板150の下方には、絞り出された洗浄液を受ける受け部158が配置されており、絞り出された洗浄液は、この受け部158を通じて、回収タンクへ回収される。   A receiving portion 158 that receives the squeezed cleaning liquid is disposed below the pressing plate 150, and the squeezed cleaning liquid is collected into the collection tank through the receiving portion 158.

また、供給部134の下方には、払拭体132から落下した洗浄液を受けるための受け部46が配置されている。払拭体132から落下した洗浄液は、この受け部158を通じて、回収タンクへ回収される。   A receiving part 46 for receiving the cleaning liquid dropped from the wiping body 132 is disposed below the supply part 134. The cleaning liquid dropped from the wiping body 132 is collected into the collection tank through the receiving portion 158.

(参考例に係る清掃装置の清掃手順)
次に、参考例に係る清掃装置の清掃手順について説明する。
清掃装置130は、メンテナンスモードが開始されると、まず、図7に示すように、払拭体132を供給部134の直下に移動させる。
(Cleaning procedure of the cleaning device according to the reference example)
Next, the cleaning procedure of the cleaning device according to the reference example will be described.
When the maintenance mode is started, the cleaning device 130 first moves the wiping body 132 directly below the supply unit 134 as shown in FIG.

次に、供給部134のポンプを駆動させ、洗浄液は洗浄液供給路134Bに設けられた穴134Aより払拭体132に供給される。払拭体132に供給された洗浄液は、払拭体132の内部の気孔に蓄えられて払拭体132は湿潤する。払拭体132が十分に湿潤した後、洗浄液の供給を停止する。   Next, the pump of the supply unit 134 is driven, and the cleaning liquid is supplied to the wiping body 132 through the hole 134A provided in the cleaning liquid supply path 134B. The cleaning liquid supplied to the wiping body 132 is stored in the pores inside the wiping body 132 and the wiping body 132 is moistened. After the wiping body 132 is sufficiently wetted, the supply of the cleaning liquid is stopped.

次に、接離機構を駆動して払拭体132をノズル面114に接触させ、図8に示すように、キャリッジ136により払拭体132を移動させて、ノズル面114に対して摺動させる。これにより、払拭体132内の洗浄液がノズル面114に塗布することができる。   Next, the contact / separation mechanism is driven to bring the wiping body 132 into contact with the nozzle surface 114, and the wiping body 132 is moved by the carriage 136 and slid with respect to the nozzle surface 114 as shown in FIG. Thereby, the cleaning liquid in the wiping body 132 can be applied to the nozzle surface 114.

インクジェット記録ヘッド120が長い、即ち払拭距離が長い場合には、払拭開始時と終了時で塗布する洗浄液の差が大きくなる。その場合は、払拭距離に応じて接触量(=払拭体132のつぶし量)を増やすように接離機構を制御すると、塗布量をほぼ均一にすることができる。払拭距離に応じて塗布する速度を遅くしても同様の効果が得られる。   When the inkjet recording head 120 is long, that is, when the wiping distance is long, the difference between the cleaning liquid applied at the start and end of wiping increases. In that case, the application amount can be made substantially uniform by controlling the contact / separation mechanism so as to increase the contact amount (= crush amount of the wiping body 132) according to the wiping distance. The same effect can be obtained even if the coating speed is decreased according to the wiping distance.

洗浄液の塗布が終了すると、払拭体132は、図9に示すように、除去部148へ移動する。払拭体132の移動に伴い、図10に示すように、払拭体132のキャリッジに一体に取り付けられるアクチュエータ156が除去部148のリンク部材152を押す。これにより払拭体132が押し当て板150とスクイズロール154にて挟まれ、払拭体132内の洗浄液が絞られる。これにより、払拭体132内部の洗浄液はなくなり、払拭体132はドライに近い状態となる。また、絞られた液は、押し当て板150直下にある受け部158を経て回収タンクにたまる。   When the application of the cleaning liquid is completed, the wiping body 132 moves to the removing unit 148 as shown in FIG. As the wiping body 132 moves, the actuator 156 that is integrally attached to the carriage of the wiping body 132 pushes the link member 152 of the removing unit 148 as shown in FIG. As a result, the wiping body 132 is sandwiched between the pressing plate 150 and the squeeze roll 154, and the cleaning liquid in the wiping body 132 is squeezed. As a result, the cleaning liquid inside the wiping body 132 disappears, and the wiping body 132 becomes nearly dry. In addition, the squeezed liquid is accumulated in the collection tank through the receiving portion 158 directly below the pressing plate 150.

次に、キャリッジ136は、反対方向に移動する。スクイズロール154は付勢手段の作用で払拭体132から離間する。払拭体132は、図11に示すように、ノズル面114を摺動しながら進み、ノズル面114を払拭する。ノズル面114上の洗浄液や溶解した付着物は、払拭体132に吸収されながら除去される。   Next, the carriage 136 moves in the opposite direction. The squeeze roll 154 is separated from the wiping body 132 by the action of the urging means. As shown in FIG. 11, the wiping body 132 advances while sliding on the nozzle surface 114 and wipes the nozzle surface 114. The cleaning liquid and dissolved deposits on the nozzle surface 114 are removed while being absorbed by the wiping body 132.

払拭体132による払拭が終了すると、図12に示すように、再び供給部134の直下に移動し、払拭体132に洗浄液を供給する。これにより、払拭体132の表面に付着したゴミや洗浄液で溶解できなかった付着物等を洗い流すことができる。以上により、メンテナンスモードが終了する。   When the wiping by the wiping body 132 is completed, as shown in FIG. 12, the wiping body 132 moves again directly below the supply unit 134 to supply the cleaning liquid to the wiping body 132. As a result, dust adhering to the surface of the wiping body 132, deposits that could not be dissolved by the cleaning liquid, and the like can be washed away. Thus, the maintenance mode ends.

このように、参考例では、払拭体132がノズル面114に洗浄液を塗布した後であって払拭体132がノズル面114を払拭する前に、洗浄液を払拭体132から回収する。   As described above, in the reference example, the cleaning liquid is collected from the wiping body 132 after the wiping body 132 applies the cleaning liquid to the nozzle surface 114 and before the wiping body 132 wipes the nozzle surface 114.

これにより、払拭体132に洗浄液がほとんどない状態で、ノズル面114を払拭することができるので、払拭体132の払拭性能が向上する。また、回転する払拭体32を用いる場合より、さらにコンパクトにでき、省スペース低コストで実現できるメリットがある。   Thereby, since the nozzle surface 114 can be wiped in a state where there is almost no cleaning liquid in the wiping body 132, the wiping performance of the wiping body 132 is improved. In addition, there is an advantage that it can be made more compact than the case of using the rotating wiping body 32 and can be realized at a low cost with a small space.

図1は、本発明の実施形態に係るインクジェット記録装置の構成を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration of an ink jet recording apparatus according to an embodiment of the present invention. 図2は、本実施形態に係る清掃装置の清掃手順(メンテナンス手順)を示すフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart showing a cleaning procedure (maintenance procedure) of the cleaning device according to the present embodiment. 図3は、本実施形態に係る清掃装置の清掃動作(メンテナンス動作)と払拭体の回転速度との関係を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing the relationship between the cleaning operation (maintenance operation) of the cleaning device according to this embodiment and the rotational speed of the wiping body. 図4は、本実施形態に係る払拭体をノズル面に押し付けて洗浄液をノズル面に塗布する構成を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a configuration in which the wiping body according to the present embodiment is pressed against the nozzle surface to apply the cleaning liquid to the nozzle surface. 図5は、変形例に係る払拭体を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic view showing a wiping body according to a modification. 図6は、変形例に係る払拭体を示す部分拡大図である。FIG. 6 is a partially enlarged view showing a wiping body according to a modification. 図7は、参考例に係るインクジェット記録装置の構成を示す概略図である。FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a configuration of an ink jet recording apparatus according to a reference example. 図8は、参考例に係るインクジェット記録装置において、洗浄液をノズル面に塗布する動作を示す概略図である。FIG. 8 is a schematic view showing an operation of applying a cleaning liquid to the nozzle surface in the ink jet recording apparatus according to the reference example. 図9は、参考例に係るインクジェット記録装置において、払拭体を除去部へ移動させる動作を示す概略図である。FIG. 9 is a schematic diagram illustrating an operation of moving the wiping body to the removing unit in the ink jet recording apparatus according to the reference example. 図10は、参考例に係るインクジェット記録装置において、払拭体の洗浄液を絞る動作を示す概略図である。FIG. 10 is a schematic view showing an operation of squeezing the cleaning liquid of the wiping body in the ink jet recording apparatus according to the reference example. 図11は、参考例に係るインクジェット記録装置において、払拭体でノズル面に払拭する動作を示す概略図である。FIG. 11 is a schematic diagram illustrating an operation of wiping the nozzle surface with a wiping body in the ink jet recording apparatus according to the reference example. 図12は、参考例に係るインクジェット記録装置において、払拭体を洗浄液で洗浄する動作を示す概略図である。FIG. 12 is a schematic diagram illustrating an operation of cleaning the wiping body with a cleaning liquid in the ink jet recording apparatus according to the reference example.

符号の説明Explanation of symbols

10 インクジェット記録装置(液体吐出装置)
14 ノズル面
20 インクジェット記録ヘッド(液体吐出ヘッド)
26 通路
32 払拭体
34 ポンプ(供給手段、回収手段)
10 Inkjet recording device (liquid ejection device)
14 Nozzle surface 20 Inkjet recording head (liquid ejection head)
26 passage 32 wiping body 34 pump (supply means, recovery means)

Claims (4)

液体を吐出するノズルが形成されたノズル面を有する液体吐出ヘッドと、
前記ノズル面に洗浄液を塗布すると共に、回転して前記ノズル面を払拭する払拭体と、
前記払拭体に洗浄液を供給する供給手段と、
前記払拭体が前記ノズル面に前記洗浄液を塗布した後であって前記払拭体が前記ノズル面を払拭する前に、前記洗浄液を前記払拭体から回収する回収手段と、
を備えたことを特徴とする液体吐出装置。
A liquid discharge head having a nozzle surface on which nozzles for discharging liquid are formed;
A wiping body that applies a cleaning liquid to the nozzle surface and rotates to wipe the nozzle surface;
Supply means for supplying a cleaning liquid to the wiping body;
Recovery means for recovering the cleaning liquid from the wiping body after the wiping body has applied the cleaning liquid to the nozzle surface and before the wiping body wipes the nozzle surface;
A liquid ejection apparatus comprising:
前記払拭体は、回転して前記ノズル面に前記洗浄液を塗布すると共に、前記ノズル面に前記洗浄液を塗布する際の回転速度よりも速い回転速度で前記ノズル面を払拭することを特徴とする請求項1に記載の液体吐出装置。   The wiping body rotates to apply the cleaning liquid to the nozzle surface, and wipes the nozzle surface at a rotation speed faster than a rotation speed when applying the cleaning liquid to the nozzle surface. Item 2. The liquid ejection device according to Item 1. 前記払拭体の内部に形成され、前記払拭体への前記洗浄液の供給及び前記払拭体からの前記洗浄液の回収を同一経路で可能とする通路を備えたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の液体吐出装置。   2. The passage according to claim 1, further comprising a passage formed inside the wiping body and configured to supply the cleaning liquid to the wiping body and collect the cleaning liquid from the wiping body through the same path. 3. The liquid ejection device according to 2. 液体を吐出するノズルが形成された液体吐出ヘッドのノズル面に払拭体で洗浄液を塗布する第1工程と、
前記第1工程において前記洗浄液を塗布した前記払拭体に残存する前記洗浄液を前記払拭体から回収する第2工程と、
前記第2工程において前記洗浄液が回収された前記払拭体を回転させて前記ノズル面を払拭する第3工程と、
を備えたことを特徴とする払拭方法。
A first step of applying a cleaning liquid with a wiping body to a nozzle surface of a liquid discharge head on which a nozzle for discharging liquid is formed;
A second step of recovering from the wiping body the cleaning liquid remaining in the wiping body to which the cleaning liquid is applied in the first step;
A third step of wiping the nozzle surface by rotating the wiping body from which the cleaning liquid has been collected in the second step;
A wiping method characterized by comprising:
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011079196A (en) * 2009-10-06 2011-04-21 Ricoh Co Ltd Cleaning device and image forming apparatus
JP2015009445A (en) * 2013-06-28 2015-01-19 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 Recording mechanism of recording head, inkjet recording device provided with the same and recovery method of recording head
JP6156563B1 (en) * 2016-09-16 2017-07-05 富士ゼロックス株式会社 Image forming apparatus
JP2017144566A (en) * 2016-02-15 2017-08-24 富士フイルム株式会社 Liquid ejection apparatus and head maintenance method
JP2017213823A (en) * 2016-06-02 2017-12-07 株式会社リコー Head wiping method, liquid discharge unit, and apparatus for discharging liquid
JP7456319B2 (en) 2020-07-22 2024-03-27 コニカミノルタ株式会社 Cleaning device and inkjet image forming device equipped with the same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011079196A (en) * 2009-10-06 2011-04-21 Ricoh Co Ltd Cleaning device and image forming apparatus
JP2015009445A (en) * 2013-06-28 2015-01-19 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 Recording mechanism of recording head, inkjet recording device provided with the same and recovery method of recording head
JP2017144566A (en) * 2016-02-15 2017-08-24 富士フイルム株式会社 Liquid ejection apparatus and head maintenance method
JP2017213823A (en) * 2016-06-02 2017-12-07 株式会社リコー Head wiping method, liquid discharge unit, and apparatus for discharging liquid
JP6156563B1 (en) * 2016-09-16 2017-07-05 富士ゼロックス株式会社 Image forming apparatus
JP2018043467A (en) * 2016-09-16 2018-03-22 富士ゼロックス株式会社 Image formation device
JP7456319B2 (en) 2020-07-22 2024-03-27 コニカミノルタ株式会社 Cleaning device and inkjet image forming device equipped with the same

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