JP2009217097A - Manufacturing method of liquid crystal device, and liquid crystal device - Google Patents

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照之 水本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem wherein a shape difference between a part which is cured firstly and a part which is cured secondly is easily generated. <P>SOLUTION: A manufacturing method of a liquid crystal device has: a liquid crystal interposed between a pair of substrates opposed to each other; and a retardation film interposed between one substrate of the pair of substrates and the liquid crystal, wherein the retardation film has: a retardation part 101 imparting retardation to incident light; and an isotropy part showing optical isotropy. The method includes steps of: forming a liquid body film 95b on the liquid crystal side of the one substrate by using a liquid body containing a material which constitutes the retardation film; curing a portion of the liquid body film to form the retardation part 101; and curing at least a portion on the outer side of the retardation part 101 in the liquid body film 95b to form the isotropy part. A bank part 157 enclosing a region where the isotropy part is to be formed is formed before the step of forming the isotropy part. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶装置の製造方法及び液晶装置に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal device and a liquid crystal device.

従来から、反射表示を行う反射領域と、透過表示を行う透過領域とを有する半透過反射型の液晶装置がある。
このような液晶装置では、従来、入射された光に位相差を与える液晶相と、入射された光に対して等方性を示す等方相とがつながった状態で形成された光学素子を有しているものが知られている(例えば、特許文献1参照)。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is a transflective liquid crystal device having a reflective region for performing reflective display and a transmissive region for performing transmissive display.
Conventionally, such a liquid crystal device has an optical element formed by connecting a liquid crystal phase that gives a phase difference to incident light and an isotropic phase that is isotropic with respect to incident light. Is known (for example, see Patent Document 1).

特開2007−121740号公報JP 2007-121740 A

上記特許文献1に記載された液晶装置は、一対の基板間に液晶と光学素子とが介在した構成を有している。この液晶装置では、一対の基板間に介在する液晶の配向状態を変化させることにより、表示が制御される。一対の基板間に介在する光学素子は、液晶材料を硬化させた構成を有している。この光学素子は、液晶相が反射領域に対応して設けられ、等方相が透過領域に対応して設けられる。この光学素子の液晶相と等方相とは、同一の液晶材料から形成されている。   The liquid crystal device described in Patent Document 1 has a configuration in which a liquid crystal and an optical element are interposed between a pair of substrates. In this liquid crystal device, display is controlled by changing the alignment state of the liquid crystal interposed between the pair of substrates. The optical element interposed between the pair of substrates has a configuration in which a liquid crystal material is cured. In this optical element, the liquid crystal phase is provided corresponding to the reflection region, and the isotropic phase is provided corresponding to the transmission region. The liquid crystal phase and the isotropic phase of this optical element are formed from the same liquid crystal material.

この光学素子の製造方法では、まず、基板に設けられた配向膜上に液晶材料を、反射領域及び透過領域間で一連した状態で塗布する。
配向膜上に塗布された液晶材料にフォトマスクを介して光を照射することにより、反射領域に対応する液晶材料を硬化させて液晶相を形成する。
反射領域に対応する液晶相を硬化させた後、液晶材料を等方相転移温度に加熱することにより、透過領域に対応する液晶材料を等方相に転移させる。
そして、等方相に転移した液晶材料を硬化させることにより、透過領域に対応する等方相を形成する。
In this method of manufacturing an optical element, first, a liquid crystal material is applied on an alignment film provided on a substrate in a series of states between a reflective region and a transmissive region.
By irradiating the liquid crystal material applied on the alignment film with light through a photomask, the liquid crystal material corresponding to the reflective region is cured to form a liquid crystal phase.
After the liquid crystal phase corresponding to the reflection region is cured, the liquid crystal material corresponding to the transmission region is changed to the isotropic phase by heating the liquid crystal material to the isotropic phase transition temperature.
And the isotropic phase corresponding to a permeation | transmission area | region is formed by hardening the liquid crystal material which changed to the isotropic phase.

ところで、反射領域に対応する液晶材料を硬化させてから透過領域に対応する液晶材料を硬化させるまでの間において、透過領域に対応する液晶材料は、未硬化の状態である。液晶材料は、未硬化の状態が長く続くと、流れ出しやすくなる。この結果、反射領域と透過領域とで液晶材料の形状差が発生しやすい。
つまり、先に硬化した部位と後に硬化した部位との間に形状差が発生しやすくなるという未解決の課題がある。
Meanwhile, the liquid crystal material corresponding to the transmissive region is in an uncured state after the liquid crystal material corresponding to the reflective region is cured until the liquid crystal material corresponding to the transmissive region is cured. The liquid crystal material tends to flow out when the uncured state continues for a long time. As a result, a difference in shape of the liquid crystal material tends to occur between the reflective region and the transmissive region.
That is, there is an unsolved problem that a shape difference is likely to occur between a portion cured first and a portion cured later.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]互いに対向する一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜とを有し、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有する液晶装置の製造方法であって、前記一方の基板の前記液晶側に、前記位相差膜を構成する材料を含む液状体で液状体膜を形成する工程と、前記液状体膜の一部を硬化させて、前記位相差部位及び前記等方部位のいずれか一方の部位を形成する工程と、前記一方の部位を形成する工程の後に、前記液状体膜のうちで前記一方の部位の外側の少なくとも一部を硬化させて、前記位相差部位及び前記等方部位の他方の部位を形成する工程と、を有し、前記他方の部位を形成する工程の前に、前記一方の部位で前記他方の部位の形成領域を囲む土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。   Application Example 1 A liquid crystal interposed between a pair of substrates facing each other, and a retardation film interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal, the retardation film Is a method of manufacturing a liquid crystal device having a phase difference portion that imparts a phase difference to incident light and an isotropic portion that is optically isotropic, and is disposed on the liquid crystal side of the one substrate. A step of forming a liquid film with a liquid containing a material constituting the phase difference film, and a part of the liquid film is cured to form one of the phase difference portion and the isotropic portion. After the step and the step of forming the one part, at least a part of the liquid film outside the one part is cured, and the other part of the phase difference part and the isotropic part is formed. And before the step of forming the other part, Method of manufacturing a liquid crystal device, and forming a bank portion of at square sites surrounding the formation region of the other sites.

適用例1の製造方法にかかる液晶装置は、液晶と、位相差膜とを有している。液晶は、互いに対向する一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板と液晶との間に介在している。位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。
この液晶装置の製造方法は、一方の基板の液晶側に液状体膜を形成する工程と、位相差部位及び等方部位のいずれか一方の部位を形成する工程と、一方の部位を形成する工程の後に位相差部位及び等方部位の他方の部位を形成する工程とを有している。液状体膜を形成する工程では、位相差膜を構成する材料を含む液状体で液状体膜を形成する。一方の部位を形成する工程では、液状体膜の一部を硬化させて、位相差部位及び等方部位のいずれか一方の部位を形成する。他方の部位を形成する工程では、液状体膜のうちで一方の部位の外側の少なくとも一部を硬化させて、位相差部位及び等方部位の他方の部位を形成する。
The liquid crystal device according to the manufacturing method of Application Example 1 includes a liquid crystal and a retardation film. The liquid crystal is interposed between a pair of substrates facing each other. The retardation film is interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal. The retardation film has a phase difference portion that gives a phase difference to incident light and an isotropic portion that is optically isotropic.
The manufacturing method of the liquid crystal device includes a step of forming a liquid film on the liquid crystal side of one substrate, a step of forming one of a phase difference portion and an isotropic portion, and a step of forming one portion. And a step of forming the other part of the phase difference part and the isotropic part. In the step of forming the liquid film, the liquid film is formed of a liquid material containing a material constituting the retardation film. In the step of forming one part, a part of the liquid film is cured to form one of the phase difference part and the isotropic part. In the step of forming the other part, at least a part of the liquid film outside the one part is cured to form the other part of the phase difference part and the isotropic part.

そして、この液晶装置の製造方法では、他方の部位を形成する工程の前に、一方の部位で他方の部位の形成領域を囲む土手部を形成する。この製造方法では、他方の部位を形成する前に、他方の部位の形成領域を一方の部位で囲むことができる。このため、土手部を形成してから他方の部位を形成するまでの間において、他方の形成領域における液状体を堰き止めることができる。このため、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。   And in this manufacturing method of a liquid crystal device, before the process of forming the other part, the bank part which surrounds the formation field of the other part in one part is formed. In this manufacturing method, before forming the other part, the formation region of the other part can be surrounded by one part. For this reason, it is possible to dam the liquid material in the other formation region between the formation of the bank portion and the formation of the other portion. For this reason, it is possible to easily suppress the shape difference between the phase difference portion and the isotropic portion.

[適用例2]上記の液晶装置の製造方法であって、前記一方の部位を形成する工程において、前記土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。   Application Example 2 A method for manufacturing a liquid crystal device according to the above-described method, wherein the bank portion is formed in the step of forming the one portion.

適用例2では、一方の部位を形成する工程において、土手部を形成するので、一方の部位の形成と土手部の形成との間の時差を少なくすることができる。このため、一方の部位の形成と土手部の形成との間において、他方の形成領域における液状体を堰き止めることができる。この結果、位相差部位と等方部位との形状差を一層抑えやすくすることができる。   In Application Example 2, since the bank portion is formed in the step of forming one portion, the time difference between the formation of one portion and the formation of the bank portion can be reduced. For this reason, the liquid material in the other formation region can be dammed between the formation of one portion and the formation of the bank portion. As a result, it is possible to further suppress the shape difference between the phase difference portion and the isotropic portion.

[適用例3]上記の液晶装置の製造方法であって、前記液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、前記位相差部位の形成では、平面視で各前記反射領域を含む領域内の前記液状体膜を、前記入射光に前記位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、前記位相差部位を形成し、前記等方部位の形成では、平面視で各前記透過領域を含む領域内の前記液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、前記等方部位を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。   Application Example 3 In the above-described method for manufacturing a liquid crystal device, the liquid crystal device has a plurality of pixels set in a display area where an image can be displayed, and each pixel is transmissively displayed. A transmissive region and a reflective region for performing reflective display are set. In the formation of the phase difference portion, the liquid film in the region including each reflective region is given the phase difference to the incident light in a plan view. In the formation of the isotropic portion, the liquid film in the region including each of the transmissive regions in plan view is optically isotropic. A method of manufacturing a liquid crystal device, wherein the isotropic portion is formed while being cured.

適用例3の製造方法にかかる液晶装置は、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されている。各画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。
この液晶装置の製造方法において、位相差部位の形成では、平面視で各反射領域を含む領域内の液状体膜を、入射光に位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、位相差部位を形成する。また、等方部位の形成では、平面視で各透過領域を含む領域内の液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、等方部位を形成する。これにより、位相差部位を反射領域に対応させ、等方部位を透過領域に対応させることができる。このため、入射される光の変調状態を、反射領域と透過領域とで異ならせることができる。これにより、反射表示と透過表示とを実現することができる。
In the liquid crystal device according to the manufacturing method of Application Example 3, a plurality of pixels are set in a display area where an image can be displayed. In each pixel, a transmissive region for transmissive display and a reflective region for reflective display are set.
In this method of manufacturing a liquid crystal device, in the formation of the phase difference portion, the liquid film in the region including each reflection region is cured in a plan view while maintaining the property of imparting the phase difference to the incident light. Form a site. In forming the isotropic portion, the isotropic portion is formed by curing the liquid film in the region including each transmission region in a plan view while keeping the optical isotropic property. Thereby, the phase difference portion can correspond to the reflection region, and the isotropic portion can correspond to the transmission region. For this reason, the modulation state of the incident light can be made different between the reflection region and the transmission region. Thereby, reflective display and transmissive display can be realized.

[適用例4]上記の液晶装置の製造方法であって、前記土手部の形成では、前記他方の部位の形成領域を前記表示領域の外側から前記表示領域ごと囲む前記土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。   Application Example 4 In the manufacturing method of the liquid crystal device described above, in the formation of the bank portion, the bank portion that surrounds the display region of the other part from the outside of the display region together with the display region is formed. A method for manufacturing a liquid crystal device.

適用例4では、土手部の形成において、他方の部位の形成領域を表示領域の外側から表示領域ごと囲む土手部を形成するので、複数の他方の部位のそれぞれを個別に囲む土手部を形成するよりも、効率化を図りやすくすることができる。   In the application example 4, in the formation of the bank portion, the bank portion that surrounds the formation region of the other portion from the outside of the display region together with the display region is formed, so that the bank portion that individually surrounds each of the other other portions is formed. As a result, the efficiency can be easily improved.

[適用例5]上記の液晶装置の製造方法であって、前記位相差膜を構成する材料が液晶化合物を含んでおり、前記位相差部位の形成では、前記液晶化合物の配向状態を前記液晶化合物が前記入射光に前記位相差を付与する位相差配向状態に保ったまま、前記液晶化合物を硬化させて前記位相差部位を形成し、前記等方部位の形成では、前記液晶化合物の配向状態を前記液晶化合物が光学的に等方性を示す等方配向状態に保ったまま、前記液晶化合物を硬化させて前記等方部位を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。   Application Example 5 In the above-described method for manufacturing a liquid crystal device, the material constituting the retardation film includes a liquid crystal compound, and in forming the retardation portion, the alignment state of the liquid crystal compound is changed to the liquid crystal compound. The liquid crystal compound is cured to form the phase difference portion while maintaining the phase difference alignment state that gives the phase difference to the incident light, and in the formation of the isotropic portion, the alignment state of the liquid crystal compound is changed. A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: curing the liquid crystal compound to form the isotropic portion while maintaining the isotropic alignment state in which the liquid crystal compound is optically isotropic.

適用例5では、位相差膜を構成する材料が液晶化合物を含んでいる。この製造方法では、位相差部位の形成において、液晶化合物の配向状態を液晶化合物が入射光に位相差を付与する位相差配向状態に保ったまま、液晶化合物を硬化させて位相差部位を形成する。また、等方部位の形成において、液晶化合物の配向状態を液晶化合物が光学的に等方性を示す等方配向状態に保ったまま、液晶化合物を硬化させて等方部位を形成する。これにより、位相差部位を入射光に位相差を付与する性質にすることができるとともに、等方部位を光学的に等方性にすることができる。   In Application Example 5, the material constituting the retardation film includes a liquid crystal compound. In this manufacturing method, in the formation of the retardation region, the liquid crystal compound is cured to form the retardation region while maintaining the alignment state of the liquid crystal compound in the retardation alignment state in which the liquid crystal compound imparts a phase difference to the incident light. . In forming the isotropic portion, the liquid crystal compound is cured to form the isotropic portion while maintaining the alignment state of the liquid crystal compound in the isotropic alignment state in which the liquid crystal compound is optically isotropic. Thereby, while being able to make a phase difference site | part into the property which gives a phase difference to incident light, an isotropic site | part can be made optically isotropic.

[適用例6]上記の液晶装置の製造方法であって、前記液晶化合物が光重合性を有しており、前記液状体膜を形成する工程の前に、前記液晶化合物の配向状態を前記位相差配向状態に規制する配向膜を、前記一方の基板の前記液晶側に形成する工程を有し、前記液状体膜を形成する工程では、前記液状体で前記配向膜を覆う前記液状体膜を形成し、前記位相差部位の形成では、前記位相差部位を形成すべき領域内の前記液状体膜に光を照射して前記位相差部位を形成し、前記等方部位の形成では、前記液晶化合物を加熱することで前記液晶化合物の配向状態を前記等方配向状態に転移させてから、前記等方部位を形成すべき領域内の前記液状体膜に前記光を照射して前記等方部位を形成し、前記土手部の形成では、前記土手部を形成すべき領域内の前記液状体膜に前記光を照射して前記土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。   Application Example 6 In the method of manufacturing the liquid crystal device, the liquid crystal compound has photopolymerizability, and the alignment state of the liquid crystal compound is changed to the position before the step of forming the liquid film. Forming a liquid crystal film on the liquid crystal side of the one substrate, and in the step of forming the liquid film, the liquid film covering the alignment film with the liquid material is formed. Forming the phase difference portion, irradiating the liquid film in the region where the phase difference portion is to be formed with light to form the phase difference portion; and forming the isotropic portion, the liquid crystal After the compound is heated to shift the alignment state of the liquid crystal compound to the isotropic alignment state, the liquid film in the region where the isotropic portion is to be formed is irradiated with the light to the isotropic portion. In the formation of the bank portion, the area where the bank portion should be formed Method of manufacturing a liquid crystal device by irradiating the light to the liquid film of the inner and forming the bank part.

適用例6では、液晶化合物が光重合性を有している。また、この製造方法は、液状体膜を形成する工程の前に、一方の基板の液晶側に配向膜を形成する工程を有している。配向膜は、液晶化合物の配向状態を位相差配向状態に規制する。
そして、この製造方法では、液状体膜を形成する工程において、液状体で配向膜を覆う液状体膜を形成する。位相差部位の形成では、位相差部位を形成すべき領域内の液状体膜に光を照射して位相差部位を形成する。等方部位の形成では、液晶化合物を加熱することで液晶化合物の配向状態を等方配向状態に転移させてから、等方部位を形成すべき領域内の液状体膜に光を照射して等方部位を形成する。土手部の形成では、土手部を形成すべき領域内の液状体膜に光を照射して土手部を形成する。
これにより、液状体から位相差部位、等方部位及び土手部のそれぞれを形成することができる。
In Application Example 6, the liquid crystal compound has photopolymerizability. Further, this manufacturing method includes a step of forming an alignment film on the liquid crystal side of one substrate before the step of forming the liquid film. The alignment film regulates the alignment state of the liquid crystal compound to the phase difference alignment state.
In this manufacturing method, in the step of forming the liquid film, a liquid film that covers the alignment film with the liquid is formed. In the formation of the phase difference portion, the liquid phase film in the region where the phase difference portion is to be formed is irradiated with light to form the phase difference portion. In the formation of the isotropic region, the alignment state of the liquid crystal compound is changed to the isotropic alignment state by heating the liquid crystal compound, and then the liquid film in the region where the isotropic region is to be formed is irradiated with light, etc. To form a unilateral region. In the formation of the bank portion, the bank portion is formed by irradiating light to the liquid film in the region where the bank portion is to be formed.
Thereby, each of a phase difference part, an isotropic part, and a bank part can be formed from a liquid.

[適用例7]上記の液晶装置の製造方法であって、前記配向膜を形成する工程では、前記一方の基板において平面視で前記表示領域を外側から囲む領域にわたって前記配向膜を形成し、前記一方の部位を形成する工程では、前記位相差部位を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。   Application Example 7 In the method of manufacturing the liquid crystal device, in the step of forming the alignment film, the alignment film is formed over a region surrounding the display region from the outside in a plan view on the one substrate. In the step of forming one part, the phase difference part is formed.

適用例7では、配向膜を形成する工程で、一方の基板において平面視で表示領域を外側から囲む領域にわたって配向膜を形成する。また、一方の部位を形成する工程では、位相差部位を形成する。これにより、等方部位を形成する前に、位相差部位で等方部位の形成領域を囲むことができる。   In Application Example 7, in the step of forming the alignment film, the alignment film is formed over a region surrounding the display region from the outside in a plan view on one substrate. In the step of forming one part, a phase difference part is formed. Thereby, before forming an isotropic part, the formation area of an isotropic part can be enclosed by a phase difference part.

[適用例8]互いに対向する一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜とを有し、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素に対応して、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定された液晶装置の製造方法であって、前記一方の基板の前記液晶側に、前記表示領域を平面視で前記表示領域の外側から囲む土手部を形成する工程と、少なくとも前記土手部の内側に、前記位相差膜を構成する材料を含む液状体で、前記表示領域を覆う液状体膜を形成する工程と、平面視で各前記反射領域を含む領域内の前記液状体膜を、入射光に位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、位相差部位を形成する工程と、平面視で前記位相差部位が形成されるべき領域の外側で各前記透過領域を含む領域内の前記液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、等方部位を形成する工程と、を有し、前記位相差部位を形成する工程及び前記等方部位を形成する工程のうちのいずれか一方の工程の後に、前記位相差部位を形成する工程及び前記等方部位を形成する工程のうちの他方の工程を実施することを特徴とする液晶装置の製造方法。   Application Example 8 An image is displayed having a liquid crystal interposed between a pair of substrates facing each other and a retardation film interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal. A liquid crystal device manufacturing method in which a plurality of pixels are set in a display area to be obtained, and a transmissive area for performing transmissive display and a reflective area for performing reflective display are set corresponding to each of the pixels. Forming a bank part surrounding the display area from the outside of the display area in a plan view on the liquid crystal side of the substrate, and a liquid containing a material constituting the retardation film at least inside the bank part The liquid film covering the display area is formed, and the liquid film in the area including each of the reflection areas in a plan view is cured while maintaining the property of imparting a phase difference to incident light. , The step of forming the phase difference portion, and in plan view Curing the liquid film in the region including each of the transmission regions outside the region where the phase difference site is to be formed, while maintaining optical isotropy, and forming the isotropic site. And the step of forming the phase difference portion and the step of forming the isotropic portion after the step of forming the phase difference portion and the step of forming the isotropic portion. A method for manufacturing a liquid crystal device, wherein the other step of the above is performed.

適用例8の製造方法にかかる液晶装置は、液晶と、位相差膜とを有している。液晶は、互いに対向する一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板及び液晶の間に介在している。また、この液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各画素に対応して、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。
この液晶装置の製造方法は、一方の基板の液晶側に土手部を形成する工程と、少なくとも土手部の内側に液状体膜を形成する工程と、位相差部位を形成する工程と、等方部位を形成する工程とを有している。土手部を形成する工程では、表示領域を平面視で表示領域の外側から囲む土手部を形成する。液状体膜を形成する工程では、位相差膜を構成する材料を含む液状体で液状体膜を形成する。位相差部位を形成する工程では、平面視で各反射領域を含む領域内の液状体膜を、入射光に位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、位相差部位を形成する。等方部位を形成する工程では、平面視で位相差部位が形成されるべき領域の外側で各透過領域を含む領域内の液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、等方部位を形成する。
The liquid crystal device according to the manufacturing method of Application Example 8 includes a liquid crystal and a retardation film. The liquid crystal is interposed between a pair of substrates facing each other. The retardation film is interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal. Further, in this liquid crystal device, a plurality of pixels are set in a display area where an image can be displayed, and a transmissive area for performing transmissive display and a reflective area for performing reflective display are set corresponding to each pixel. Yes.
The manufacturing method of the liquid crystal device includes a step of forming a bank portion on the liquid crystal side of one substrate, a step of forming a liquid film at least inside the bank portion, a step of forming a phase difference portion, and an isotropic portion Forming the step. In the step of forming the bank portion, a bank portion that surrounds the display region from the outside of the display region in plan view is formed. In the step of forming the liquid film, the liquid film is formed of a liquid material containing a material constituting the retardation film. In the step of forming the phase difference portion, the liquid film in the region including each reflection region in a plan view is cured while maintaining the property of imparting the phase difference to the incident light, thereby forming the phase difference portion. In the step of forming the isotropic portion, the liquid film in the region including each transmission region outside the region where the phase difference portion is to be formed in a plan view is cured while being kept optically isotropic. Form an isotropic region.

そして、この製造方法では、位相差部位を形成する工程及び等方部位を形成する工程のうちのいずれか一方の工程の後に、位相差部位を形成する工程及び等方部位を形成する工程のうちの他方の工程を実施する。
この製造方法では、土手部の内側に液状体膜を形成するので、液状体を土手部の内側に堰き止めることができる。液状体を土手部で堰き止めた状態で、液状体膜の一部を硬化させて位相差部位や等方部位を形成するので、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。
And in this manufacturing method, after either one of the process of forming a phase difference part and the process of forming an isotropic part, Of the process of forming a phase difference part and the process of forming an isotropic part The other step is performed.
In this manufacturing method, since the liquid material film is formed inside the bank portion, the liquid material can be dammed inside the bank portion. In a state where the liquid material is dammed up by the bank part, a part of the liquid material film is cured to form a phase difference part or an isotropic part, so that it is easy to suppress a shape difference between the phase difference part and the isotropic part. Can do.

[適用例9]互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、を有し、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有しており、前記位相差部位及び前記等方部位のうち、一方の部位を形成した領域が、他方の部位を形成した領域によって囲まれていることを特徴とする液晶装置。   Application Example 9 A pair of substrates facing each other, a liquid crystal interposed between the pair of substrates, and a retardation film interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal, The retardation film has a phase difference portion that gives a phase difference to incident light and an isotropic portion that is optically isotropic, and the phase difference portion and the isotropic portion Of these, a region in which one part is formed is surrounded by a region in which the other part is formed.

適用例9の液晶装置は、一対の基板と、液晶と、位相差膜とを有している。一対の基板は、互いに対向している。液晶は、一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板及び液晶の間に介在しており、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。そして、位相差部位及び等方部位のうち、一方の部位を形成した領域が、他方の部位を形成した領域によって囲まれている。   The liquid crystal device of Application Example 9 includes a pair of substrates, a liquid crystal, and a retardation film. The pair of substrates are opposed to each other. The liquid crystal is interposed between the pair of substrates. The retardation film is interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal, and includes a phase difference portion that imparts a phase difference to incident light and an isotropic portion that is optically isotropic. Have. And the area | region which formed one site | part among the phase difference site | parts and the isotropic site | part is surrounded by the area | region which formed the other site | part.

ここで、例えば、位相差膜を構成する材料を含む液状体から位相差膜を形成する場合、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの1つを形成してから、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの他の1つを形成することが考えられる。この場合、位相差部位及び等方部位のうちの他の1つを形成する前に、この他の1つの形成領域を位相差部位及び等方部位のうちの1つで囲んでおけば、他の1つの形成領域からの液状体の流れ出しを低く抑えることができる。この結果、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。   Here, for example, when forming a retardation film from a liquid containing a material constituting the retardation film, a part of the liquid is cured to form one of the retardation part and the isotropic part. From this, it is conceivable that a part of the liquid material is cured to form another one of the phase difference part and the isotropic part. In this case, before forming the other one of the phase difference part and the isotropic part, if the other one formation region is surrounded by one of the phase difference part and the isotropic part, the other It is possible to keep the liquid material from flowing out from one formation region. As a result, the shape difference between the phase difference portion and the isotropic portion can be easily suppressed.

この液晶装置では、位相差部位及び等方部位のうち、一方の部位を形成した領域が、他方の部位を形成した領域によって囲まれている。つまり、この液晶装置では、位相差部位と等方部位との形状差が低く抑えられているので、一方の基板から位相差部位の液晶側の面までの距離と、一方の基板から等方部位の液晶側の面までの距離との差が低く抑えられている。このため、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光の変調状態と、位相差部位から射出されてこの一方の基板に向かう光の変調状態とをそろえやすくすることができる。この結果、例えば、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光や、位相差部位から射出されて一方の基板に向かう光の漏れを低減しやすくすることができ、コントラストの向上を図りやすくすることができる。   In this liquid crystal device, a region in which one of the phase difference portion and the isotropic portion is formed is surrounded by a region in which the other portion is formed. That is, in this liquid crystal device, since the difference in shape between the phase difference portion and the isotropic portion is kept low, the distance from one substrate to the liquid crystal side surface of the phase difference portion, and the isotropic portion from one substrate The difference from the distance to the liquid crystal side surface is kept low. For this reason, it is possible to easily align the modulation state of light emitted from the isotropic portion and directed to one substrate and the modulation state of light emitted from the phase difference portion and directed to the one substrate. As a result, for example, it is possible to easily reduce leakage of light that is emitted from an isotropic portion and directed to one substrate, or light that is emitted from a phase difference portion and directed to one substrate, and it is easy to improve contrast. can do.

[適用例10]互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、を有し、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、入射光に対して光学的に等方性を示す等方部位と、を有しており、前記位相差部位は、各前記反射領域に平面視で重なる領域に設けられており、前記等方部位は、各前記透過領域に平面視で重なる領域に設けられており、前記位相差部位又は前記等方部位の一方が、平面視で前記表示領域の外側で前記表示領域を囲む領域にも設けられていることを特徴とする液晶装置。   Application Example 10 A pair of substrates facing each other, a liquid crystal interposed between the pair of substrates, and a retardation film interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal, A plurality of pixels are set in a display area where an image can be displayed, and each pixel has a transmission area for performing transmissive display and a reflective area for performing reflective display, and the retardation film Has a phase difference portion that imparts a phase difference to incident light, and an isotropic portion that is optically isotropic with respect to the incident light, and the phase difference portion is provided in each reflection region. Provided in a region overlapping in plan view, and the isotropic part is provided in a region overlapping each transmission region in plan view, and one of the phase difference part or the isotropic part is provided in plan view. It is also provided in an area surrounding the display area outside the display area. The liquid crystal device to be.

適用例10の液晶装置は、一対の基板と、液晶と、位相差膜とを有している。一対の基板は、互いに対向している。液晶は、一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板及び液晶の間に介在しており、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。この液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されている。各画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。位相差部位は、各反射領域に平面視で重なる領域に設けられている。また、等方部位は、各透過領域に平面視で重なる領域に設けられている。
そして、この液晶装置では、位相差部位又は等方部位の一方が、平面視で表示領域の外側で表示領域を囲む領域にも設けられている。
The liquid crystal device of Application Example 10 includes a pair of substrates, a liquid crystal, and a retardation film. The pair of substrates are opposed to each other. The liquid crystal is interposed between the pair of substrates. The retardation film is interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal, and includes a phase difference portion that imparts a phase difference to incident light and an isotropic portion that is optically isotropic. Have. In this liquid crystal device, a plurality of pixels are set in a display area where an image can be displayed. In each pixel, a transmissive region for transmissive display and a reflective region for reflective display are set. The phase difference portion is provided in a region overlapping each reflection region in plan view. Further, the isotropic portion is provided in a region that overlaps each transmission region in plan view.
In this liquid crystal device, one of the phase difference portion and the isotropic portion is also provided in a region surrounding the display region outside the display region in plan view.

ここで、例えば、位相差膜を構成する材料を含む液状体から位相差膜を形成する場合、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの一方の部位を形成してから、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの他方の部位を形成することが考えられる。この場合、位相差部位及び等方部位のうちの他方の部位を形成する前に、液状体を表示領域の外側から一方の部位で囲んでおけば、表示領域からの液状体の流れ出しを低く抑えることができる。この結果、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。   Here, for example, when the retardation film is formed from a liquid containing the material constituting the retardation film, a part of the liquid is cured to form one of the retardation part and the isotropic part. Then, it is conceivable that a part of the liquid material is cured to form the other part of the phase difference part and the isotropic part. In this case, if the liquid is surrounded by one part from the outside of the display area before the other part of the phase difference part and the isotropic part is formed, the flow of the liquid from the display area is suppressed to a low level. be able to. As a result, the shape difference between the phase difference portion and the isotropic portion can be easily suppressed.

そして、この液晶装置では、位相差部位又は等方部位の一方が、平面視で表示領域の外側で表示領域を囲む領域にも設けられているので、位相差部位と等方部位との形状差が低く抑えられている。これにより、一方の基板から位相差部位の液晶側の面までの距離と、一方の基板から等方部位の液晶側の面までの距離との差が低く抑えられている。このため、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光の変調状態と、位相差部位から射出されてこの一方の基板に向かう光の変調状態とをそろえやすくすることができる。この結果、例えば、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光や、位相差部位から射出されて一方の基板に向かう光の漏れを低減しやすくすることができ、コントラストの向上を図りやすくすることができる。   In this liquid crystal device, since one of the phase difference portion or the isotropic portion is also provided in a region surrounding the display region outside the display region in plan view, the shape difference between the phase difference portion and the isotropic portion is provided. Is kept low. Thereby, the difference between the distance from one substrate to the liquid crystal side surface of the phase difference portion and the distance from the one substrate to the liquid crystal side surface of the isotropic portion is kept low. For this reason, it is possible to easily align the modulation state of light emitted from the isotropic portion and directed to one substrate and the modulation state of light emitted from the phase difference portion and directed to the one substrate. As a result, for example, it is possible to easily reduce leakage of light that is emitted from an isotropic portion and directed to one substrate, or light that is emitted from a phase difference portion and directed to one substrate, and it is easy to improve contrast. can do.

[適用例11]互いに対向する一対の基板と、前記一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、平面視で前記位相差膜を囲む土手部と、を有し、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、入射光に対して光学的に等方性を示す等方部位と、を有しており、前記位相差部位は、各前記反射領域に平面視で重なる領域に設けられており、前記等方部位は、各前記透過領域に平面視で重なる領域に設けられており、前記土手部は、前記位相差膜を平面視で前記表示領域の外側で囲んでいることを特徴とする液晶装置。   Application Example 11 A pair of substrates facing each other, a liquid crystal interposed between the pair of substrates, a retardation film interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal, and a plane And a plurality of pixels are set in a display area where an image can be displayed, and each of the pixels has a transmissive area for performing transmissive display and a reflective display. A reflection region to be set is set, and the retardation film has a phase difference portion that gives a phase difference to incident light and an isotropic portion that is optically isotropic with respect to the incident light. The phase difference portion is provided in a region overlapping each reflection region in plan view, the isotropic portion is provided in a region overlapping each transmission region in plan view, and the bank portion is The retardation film is enclosed outside the display area in plan view. A liquid crystal device.

適用例11の液晶装置は、一対の基板と、液晶と、位相差膜と、土手部とを有している。一対の基板は、互いに対向している。液晶は、一対の基板間に介在している。位相差膜は、一対の基板のうちの一方の基板及び液晶の間に介在しており、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有している。土手部は、平面視で位相差膜を囲んでいる。この液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されている。各画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されている。位相差部位は、各反射領域に平面視で重なる領域に設けられている。また、等方部位は、各透過領域に平面視で重なる領域に設けられている。
そして、この液晶装置では、土手部は、位相差膜を平面視で表示領域の外側で囲んでいる。
The liquid crystal device of Application Example 11 includes a pair of substrates, a liquid crystal, a retardation film, and a bank portion. The pair of substrates are opposed to each other. The liquid crystal is interposed between the pair of substrates. The retardation film is interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal, and includes a phase difference portion that imparts a phase difference to incident light and an isotropic portion that is optically isotropic. Have. The bank surrounds the retardation film in plan view. In this liquid crystal device, a plurality of pixels are set in a display area where an image can be displayed. In each pixel, a transmissive region for transmissive display and a reflective region for reflective display are set. The phase difference portion is provided in a region overlapping each reflection region in plan view. Further, the isotropic portion is provided in a region that overlaps each transmission region in plan view.
In this liquid crystal device, the bank portion surrounds the retardation film outside the display region in plan view.

ここで、例えば、位相差膜を構成する材料を含む液状体から位相差膜を形成する場合、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの一方の部位を形成してから、液状体の一部を硬化させて位相差部位及び等方部位のうちの他方の部位を形成することが考えられる。この場合、位相差部位及び等方部位のうちの他方の部位を形成する前に、液状体を表示領域の外側から土手部で囲んでおけば、表示領域からの液状体の流れ出しを低く抑えることができる。この結果、位相差部位と等方部位との形状差を抑えやすくすることができる。   Here, for example, when the retardation film is formed from a liquid containing the material constituting the retardation film, a part of the liquid is cured to form one of the retardation part and the isotropic part. Then, it is conceivable that a part of the liquid material is cured to form the other part of the phase difference part and the isotropic part. In this case, if the liquid is surrounded by the bank from the outside of the display area before forming the other one of the phase difference part and the isotropic part, the flow of the liquid from the display area can be suppressed to a low level. Can do. As a result, the shape difference between the phase difference portion and the isotropic portion can be easily suppressed.

そして、この液晶装置では、平面視で表示領域の外側で表示領域を囲む領域に土手部が設けられているので、位相差部位と等方部位との形状差が低く抑えられている。これにより、一方の基板から位相差部位の液晶側の面までの距離と、一方の基板から等方部位の液晶側の面までの距離との差が低く抑えられている。このため、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光の変調状態と、位相差部位から射出されてこの一方の基板に向かう光の変調状態とをそろえやすくすることができる。この結果、例えば、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光や、位相差部位から射出されて一方の基板に向かう光の漏れを低減しやすくすることができ、コントラストの向上を図りやすくすることができる。   In this liquid crystal device, since the bank portion is provided in a region surrounding the display region outside the display region in a plan view, the difference in shape between the phase difference portion and the isotropic portion is suppressed low. Thereby, the difference between the distance from one substrate to the liquid crystal side surface of the phase difference portion and the distance from the one substrate to the liquid crystal side surface of the isotropic portion is kept low. For this reason, it is possible to easily align the modulation state of light emitted from the isotropic portion and directed to one substrate and the modulation state of light emitted from the phase difference portion and directed to the one substrate. As a result, for example, it is possible to easily reduce leakage of light that is emitted from an isotropic portion and directed to one substrate, or light that is emitted from a phase difference portion and directed to one substrate, and it is easy to improve contrast. can do.

[適用例12]上記の液晶装置であって、前記一方の基板から前記位相差部位の前記液晶側の面までの距離と、前記一方の基板から前記等方部位の前記液晶側の面までの距離とが略同等であることを特徴とする液晶装置。   Application Example 12 In the above-described liquid crystal device, the distance from the one substrate to the liquid crystal side surface of the phase difference portion, and the distance from the one substrate to the liquid crystal side surface of the isotropic portion A liquid crystal device characterized in that the distance is substantially equal.

適用例12では、一方の基板から位相差部位の液晶側の面までの距離と、一方の基板から等方部位の液晶側の面までの距離とが略同等であるので、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光の変調状態と、位相差部位から射出されてこの一方の基板に向かう光の変調状態とをそろえやすくすることができる。このため、例えば、等方部位から射出されて一方の基板に向かう光や、位相差部位から射出されて一方の基板に向かう光の漏れを低減しやすくすることができ、コントラストの向上を図りやすくすることができる。   In Application Example 12, since the distance from one substrate to the liquid crystal side surface of the phase difference portion is substantially equal to the distance from one substrate to the liquid crystal side surface of the isotropic portion, the light is emitted from the isotropic portion. Thus, it is possible to easily align the modulation state of the light toward one substrate and the modulation state of the light emitted from the phase difference portion and toward the one substrate. For this reason, for example, it is possible to easily reduce leakage of light emitted from an isotropic portion and directed to one substrate, or light emitted from a phase difference portion and directed to one substrate, and the contrast can be easily improved. can do.

実施形態について、液晶装置の1つである表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
第1実施形態における表示装置1は、図1に示すように、表示パネル3と、照明装置5とを有している。
Embodiments will be described with reference to the drawings, taking a display device, which is one of liquid crystal devices, as an example.
As shown in FIG. 1, the display device 1 in the first embodiment includes a display panel 3 and a lighting device 5.

ここで、表示パネル3には、複数の画素7が設定されている。複数の画素7は、表示領域8内で、図中のX方向及びY方向に配列しており、X方向を行方向とし、Y方向を列方向とするマトリクスMを構成している。表示装置1は、照明装置5から表示パネル3に入射された光を、表示パネル3に設定されている複数の画素7から選択的に表示面9を介して表示パネル3の外に射出することで、表示面9に画像を表示することができる。なお、表示領域8とは、画像が表示され得る領域である。図1では、構成をわかりやすく示すため、画素7が誇張され、且つ画素7の個数が減じられている。   Here, a plurality of pixels 7 are set on the display panel 3. The plurality of pixels 7 are arranged in the X direction and Y direction in the drawing within the display area 8, and constitutes a matrix M in which the X direction is the row direction and the Y direction is the column direction. The display device 1 selectively emits light incident on the display panel 3 from the illumination device 5 from the plurality of pixels 7 set on the display panel 3 to the outside of the display panel 3 through the display surface 9. Thus, an image can be displayed on the display surface 9. The display area 8 is an area where an image can be displayed. In FIG. 1, the pixels 7 are exaggerated and the number of the pixels 7 is reduced for easy understanding of the configuration.

表示パネル3は、図1中のA−A線における断面図である図2に示すように、液晶パネル10と、偏光板13a及び13bとを有している。
液晶パネル10は、駆動素子基板15と、対向基板17と、液晶19と、シール材21とを有している。
駆動素子基板15には、表示面9側すなわち液晶19側に、複数の画素7のそれぞれに対応して、後述するスイッチング素子などが設けられている。
The display panel 3 includes a liquid crystal panel 10 and polarizing plates 13a and 13b, as shown in FIG. 2, which is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
The liquid crystal panel 10 includes a drive element substrate 15, a counter substrate 17, a liquid crystal 19, and a sealing material 21.
On the display surface 9 side, that is, the liquid crystal 19 side, the driving element substrate 15 is provided with switching elements and the like to be described later corresponding to the plurality of pixels 7.

対向基板17は、駆動素子基板15よりも表示面9側で駆動素子基板15に対向し、且つ駆動素子基板15との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板17には、表示パネル3における表示面9の裏面に相当する面である底面23側すなわち液晶19側に、後述する位相差膜などが設けられている。   The counter substrate 17 faces the drive element substrate 15 on the display surface 9 side with respect to the drive element substrate 15, and is provided with a gap between the counter substrate 17 and the drive element substrate 15. The counter substrate 17 is provided with a retardation film, which will be described later, on the bottom surface 23 side, that is, the liquid crystal 19 side, which corresponds to the back surface of the display surface 9 in the display panel 3.

液晶19は、駆動素子基板15及び対向基板17の間に介在しており、表示パネル3の周縁よりも内側で表示領域8を囲むシール材21によって、駆動素子基板15及び対向基板17の間に封止されている。なお、本実施形態では、液晶19の駆動方式として、FFS(Fringe Field Switching)型の駆動方式が採用されている。   The liquid crystal 19 is interposed between the drive element substrate 15 and the counter substrate 17, and is interposed between the drive element substrate 15 and the counter substrate 17 by a sealing material 21 that surrounds the display region 8 inside the periphery of the display panel 3. It is sealed. In the present embodiment, an FFS (Fringe Field Switching) type driving method is employed as the driving method of the liquid crystal 19.

偏光板13aは、駆動素子基板15よりも底面23側に設けられている。偏光板13bは、対向基板17よりも表示面9側に設けられている。表示装置1では、偏光板13a及び13bは、偏光板13aにおける光の透過軸の方向と、偏光板13bにおける光の透過軸の方向とが、互いに直交する方向に設定されている。偏光板13a及び13bは、それぞれ、透過軸の方向に偏光軸を有する光を透過させることができる。   The polarizing plate 13 a is provided closer to the bottom surface 23 than the driving element substrate 15. The polarizing plate 13 b is provided closer to the display surface 9 than the counter substrate 17. In the display device 1, the polarizing plates 13a and 13b are set such that the direction of the light transmission axis in the polarizing plate 13a and the direction of the light transmission axis in the polarizing plate 13b are orthogonal to each other. Each of the polarizing plates 13a and 13b can transmit light having a polarization axis in the direction of the transmission axis.

なお、偏光板13aと駆動素子基板15との間や、偏光板13bと対向基板17との間に、光学補償フィルムを設けた構成も採用され得る。光学補償フィルムを設けることで、液晶19を表示面9の法線方向から見たときや、法線方向から傾斜した方向から見たときなどの液晶19の位相差を補償することができる。これにより、光漏れを低減することができ、コントラストの向上が図られる。   In addition, the structure which provided the optical compensation film between the polarizing plate 13a and the drive element board | substrate 15, or between the polarizing plate 13b and the opposing board | substrate 17 can also be employ | adopted. By providing the optical compensation film, it is possible to compensate for the phase difference of the liquid crystal 19 when the liquid crystal 19 is viewed from the normal direction of the display surface 9 or when viewed from the direction inclined from the normal direction. Thereby, light leakage can be reduced and the contrast can be improved.

光学補償フィルムとしては、屈折率異方性が負のディスコティック液晶分子等をハイブリッド配向させた負の一軸性媒体(例えば、富士フィルム製のWVフィルム)などが採用され得る。また、屈折率異方性が正のネマチック液晶分子等をハイブリッド配向させた正の一軸性媒体(例えば、日本石油製のNHフィルム)なども採用され得る。さらに、負の一軸性媒体と正の一軸性媒体とを組み合わせた構成も採用され得る。その他、各方向の屈折率がnx>ny>nzとなる二軸性媒体や、負のC−Plate等も採用され得る。   As the optical compensation film, a negative uniaxial medium (for example, a WV film manufactured by Fuji Film) in which discotic liquid crystal molecules having negative refractive index anisotropy or the like are hybrid-aligned can be used. Also, a positive uniaxial medium (for example, NH film manufactured by Nippon Petroleum) in which nematic liquid crystal molecules having a positive refractive index anisotropy are hybrid-aligned may be employed. Further, a configuration in which a negative uniaxial medium and a positive uniaxial medium are combined may be employed. In addition, a biaxial medium in which the refractive index in each direction satisfies nx> ny> nz, a negative C-Plate, or the like can be employed.

照明装置5は、表示パネル3の底面23側に設けられており、導光板31と、光源33とを有している。導光板31は、図2で見て表示パネル3の下側に設けられており、表示パネル3の底面23に対向する光射出面35bを有している。
光源33は、例えば、LED(Light Emitting Diode)や冷陰極管などが採用され、図2で見て導光板31の側面35aの左方に設けられている。
The illumination device 5 is provided on the bottom surface 23 side of the display panel 3 and has a light guide plate 31 and a light source 33. The light guide plate 31 is provided on the lower side of the display panel 3 as viewed in FIG. 2 and has a light emission surface 35 b facing the bottom surface 23 of the display panel 3.
The light source 33 is, for example, an LED (Light Emitting Diode) or a cold cathode tube, and is provided on the left side of the side surface 35a of the light guide plate 31 as viewed in FIG.

光源33からの光は、導光板31の側面35aに入射される。導光板31に入射された光は、導光板31の中で反射を繰り返しながら光射出面35bから射出される。光射出面35bから射出された光は、表示パネル3の底面23から、偏光板13aを介して表示パネル3に入射される。なお、導光板31には、必要に応じて、光射出面35bに拡散板が設けられ、底面35cに反射板が設けられる。   Light from the light source 33 enters the side surface 35 a of the light guide plate 31. The light incident on the light guide plate 31 is emitted from the light exit surface 35 b while being repeatedly reflected in the light guide plate 31. The light emitted from the light emission surface 35b enters the display panel 3 from the bottom surface 23 of the display panel 3 through the polarizing plate 13a. The light guide plate 31 is provided with a diffuser plate on the light exit surface 35b and a reflector plate on the bottom surface 35c as necessary.

表示パネル3に設定されている複数の画素7は、それぞれ、表示面9から射出する光の色が、図3に示すように、赤系(R)、緑系(G)及び青系(B)のうちの1つに設定されている。つまり、マトリクスMを構成する複数の画素7は、Rの光を射出する画素7rと、Gの光を射出する画素7gと、Bの光を射出する画素7bとを含んでいる。
なお、以下においては、画素7という表記と、画素7r、7g及び7bという表記とが、適宜、使いわけられる。
Each of the plurality of pixels 7 set in the display panel 3 has a red color (R), a green color (G), and a blue color (B) as shown in FIG. ). That is, the plurality of pixels 7 constituting the matrix M include a pixel 7r that emits R light, a pixel 7g that emits G light, and a pixel 7b that emits B light.
In the following, the notation of pixel 7 and the notation of pixels 7r, 7g, and 7b are used appropriately.

ここで、Rの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Gの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑を含む。Bの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Rの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で570nm以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Gの色を呈する光は、光の波長のピークが500nm〜565nmの範囲にある光であると定義され得る。Bの色を呈する光は、光の波長のピークが415nm〜495nmの範囲にある光であると定義され得る。   Here, the color of R is not limited to a pure red hue, and includes orange and the like. The color of G is not limited to a pure green hue, and includes blue-green and yellow-green. The color of B is not limited to a pure blue hue, and includes bluish purple and blue-green. From another viewpoint, light exhibiting the color of R can be defined as light having a light wavelength peak in a range of 570 nm or more in the visible light region. The light exhibiting the color G can be defined as light having a light wavelength peak in the range of 500 nm to 565 nm. Light exhibiting the color B can be defined as light having a light wavelength peak in the range of 415 nm to 495 nm.

マトリクスMでは、Y方向に沿って並ぶ複数の画素7が、1つの画素列41を構成している。1つの画素列41内の各画素7は、光の色がR、G及びBのうちの1つに設定されている。つまり、マトリクスMは、複数の画素7rがY方向に配列した画素列41rと、複数の画素7gがY方向に配列した画素列41gと、複数の画素7bがY方向に配列した画素列41bとを有している。そして、マトリクスMでは、画素列41r、画素列41g及び画素列41bが、この順でX方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、画素列41という表記と、画素列41r、画素列41g及び画素列41bという表記とが、適宜、使いわけられる。
In the matrix M, a plurality of pixels 7 arranged along the Y direction form one pixel column 41. The light color of each pixel 7 in one pixel column 41 is set to one of R, G, and B. That is, the matrix M includes a pixel column 41r in which a plurality of pixels 7r are arranged in the Y direction, a pixel column 41g in which a plurality of pixels 7g are arranged in the Y direction, and a pixel column 41b in which a plurality of pixels 7b are arranged in the Y direction. have. In the matrix M, the pixel column 41r, the pixel column 41g, and the pixel column 41b are arranged repeatedly in this order along the X direction.
In the following, the notation of the pixel column 41 and the notation of the pixel column 41r, the pixel column 41g, and the pixel column 41b are appropriately used.

各画素7は、図3中のC部の拡大図である図4に示すように、透過領域Tと、反射領域Hとを有している。なお、図4では、構成をわかりやすく示すため、反射領域Hにハッチングが施されている。
透過領域Tでは、図2に示す照明装置5から底面23を介して液晶19に入射された光を表示面9側に透過させることによって、透過表示が行われる。
Each pixel 7 has a transmission region T and a reflection region H, as shown in FIG. 4 which is an enlarged view of a portion C in FIG. In FIG. 4, the reflective region H is hatched for easy understanding of the configuration.
In the transmissive region T, transmissive display is performed by transmitting light incident on the liquid crystal 19 from the illumination device 5 illustrated in FIG. 2 through the bottom surface 23 to the display surface 9 side.

反射領域Hでは、表示面9を介して液晶19に入射された外光を、後述する反射膜で表示面9側に反射させて、その反射光を表示面9側に射出することによって、反射表示が行われる。なお、外光とは、表示パネル3の表示面9から入射されるあらゆる光である。外光には、例えば、屋内外の照明光や、太陽光などが含まれる。   In the reflection region H, the external light incident on the liquid crystal 19 through the display surface 9 is reflected by the reflection film described later on the display surface 9 side, and the reflected light is emitted to the display surface 9 side to reflect. Display is performed. The external light is any light incident from the display surface 9 of the display panel 3. The outside light includes, for example, indoor and outdoor illumination light and sunlight.

ここで、液晶パネル10の駆動素子基板15及び対向基板17のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
駆動素子基板15は、図4中のD−D線における断面図である図5に示すように、第1基板51を有している。第1基板51は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面9側に向けられた第1面53aと、底面23側に向けられた第2面53bとを有している。
Here, the configuration of each of the drive element substrate 15 and the counter substrate 17 of the liquid crystal panel 10 will be described in detail.
The drive element substrate 15 has a first substrate 51 as shown in FIG. 5 which is a cross-sectional view taken along the line DD in FIG. The first substrate 51 is made of a light-transmitting material such as glass or quartz, for example, and includes a first surface 53a facing the display surface 9 and a second surface 53b facing the bottom surface 23. have.

第1基板51の第1面53aには、ゲート絶縁膜57が設けられている。ゲート絶縁膜57の表示面9側には、絶縁膜59が設けられている。絶縁膜59の表示面9側には、配向膜61が設けられている。
また、駆動素子基板15には、各画素7に対応して、スイッチング素子の1つであるTFT(Thin Film Transistor)素子63と、反射膜65と、共通電極67と、画素電極69とが、第1基板51の第1面53a側に設けられている。
A gate insulating film 57 is provided on the first surface 53 a of the first substrate 51. An insulating film 59 is provided on the display surface 9 side of the gate insulating film 57. An alignment film 61 is provided on the display surface 9 side of the insulating film 59.
The drive element substrate 15 includes a TFT (Thin Film Transistor) element 63, which is one of the switching elements, a reflective film 65, a common electrode 67, and a pixel electrode 69 corresponding to each pixel 7. The first substrate 51 is provided on the first surface 53a side.

TFT素子63は、ゲート電極71と、半導体層73と、ソース電極75と、ドレイン電極77とを有している。ゲート電極71は、第1基板51の第1面53aに設けられており、ゲート絶縁膜57によって表示面9側から覆われている。なお、ゲート電極71の材料としては、例えば、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。また、ゲート絶縁膜57の材料としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコンなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
半導体層73は、例えばアモルファスシリコンで構成されており、ゲート絶縁膜57を挟んでゲート電極71に対向する位置に設けられている。
The TFT element 63 has a gate electrode 71, a semiconductor layer 73, a source electrode 75, and a drain electrode 77. The gate electrode 71 is provided on the first surface 53 a of the first substrate 51 and is covered with the gate insulating film 57 from the display surface 9 side. In addition, as a material of the gate electrode 71, metals, such as molybdenum, tungsten, and chromium, an alloy containing these, etc. can be employ | adopted, for example. Further, as the material of the gate insulating film 57, for example, a light transmissive material such as silicon oxide or silicon nitride can be employed.
The semiconductor layer 73 is made of, for example, amorphous silicon, and is provided at a position facing the gate electrode 71 with the gate insulating film 57 interposed therebetween.

ソース電極75は、ゲート絶縁膜57の表示面9側に設けられており、一部が半導体層73に重なっている。ドレイン電極77は、ゲート絶縁膜57の表示面9側に設けられており、一部が半導体層73に重なっている。上記の構成を有するTFT素子63は、半導体層73がゲート電極71と、ソース電極75及びドレイン電極77との間に位置する所謂ボトムゲート型である。
そして、TFT素子63は、絶縁膜59によって表示面9側から覆われている。なお、絶縁膜59の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料が採用され得る。
The source electrode 75 is provided on the display surface 9 side of the gate insulating film 57 and partly overlaps the semiconductor layer 73. The drain electrode 77 is provided on the display surface 9 side of the gate insulating film 57 and partly overlaps the semiconductor layer 73. The TFT element 63 having the above configuration is a so-called bottom gate type in which the semiconductor layer 73 is located between the gate electrode 71 and the source electrode 75 and the drain electrode 77.
The TFT element 63 is covered with the insulating film 59 from the display surface 9 side. As the material of the insulating film 59, for example, a light transmissive material such as silicon oxide, silicon nitride, or acrylic resin can be employed.

反射膜65は、第1基板51の第1面53aに設けられており、平面視で反射領域Hに重なっている。反射膜65の材料としては、例えばアルミニウムなどの光反射性を有する材料が採用され得る。
共通電極67は、第1基板51の第1面53a側に設けられており、平面視で透過領域T及び反射領域Hに重なっている。共通電極67は、反射領域Hにおいて、反射膜65の表示面9側に重なっている。共通電極67の材料としては、例えばITO(Indium Tin Oxide)などの光透過性を有する材料が採用され得る。
これらの反射膜65及び共通電極67は、ゲート絶縁膜57によって表示面9側から覆われている。
The reflective film 65 is provided on the first surface 53a of the first substrate 51 and overlaps the reflective region H in plan view. As the material of the reflective film 65, for example, a material having light reflectivity such as aluminum can be adopted.
The common electrode 67 is provided on the first surface 53a side of the first substrate 51 and overlaps the transmission region T and the reflection region H in plan view. The common electrode 67 overlaps the display surface 9 side of the reflective film 65 in the reflective region H. As a material of the common electrode 67, for example, a light transmissive material such as ITO (Indium Tin Oxide) can be adopted.
The reflective film 65 and the common electrode 67 are covered with the gate insulating film 57 from the display surface 9 side.

画素電極69は、絶縁膜59の表示面9側に設けられている。画素電極69は、絶縁膜59に設けられたコンタクトホール79を介して、透過領域T内でドレイン電極77につながっている。画素電極69の材料としては、例えばITOなどの光透過性を有する材料が採用され得る。
配向膜61は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、絶縁膜59及び画素電極69を表示面9側から覆っている。なお、配向膜61には、配向処理が施されている。
The pixel electrode 69 is provided on the display surface 9 side of the insulating film 59. The pixel electrode 69 is connected to the drain electrode 77 in the transmissive region T through a contact hole 79 provided in the insulating film 59. As a material of the pixel electrode 69, for example, a material having optical transparency such as ITO can be adopted.
The alignment film 61 is made of a light-transmitting material such as polyimide, and covers the insulating film 59 and the pixel electrode 69 from the display surface 9 side. The alignment film 61 is subjected to an alignment process.

対向基板17は、第2基板81を有している。第2基板81は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面9側に向けられた外向面83aと、底面23側に向けられた対向面83bとを有している。
第2基板81の対向面83bには、各画素7を区画する光吸収層85が領域86にわたって設けられている。光吸収層85は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有する樹脂などで構成されており、平面視で格子状に設けられている。表示装置1では、各画素7は、光吸収層85によって囲まれた領域であると定義され得る。
The counter substrate 17 has a second substrate 81. The second substrate 81 is made of a light-transmitting material such as glass or quartz, for example, and has an outward surface 83a facing the display surface 9 side and an opposing surface 83b facing the bottom surface 23 side. is doing.
On the facing surface 83 b of the second substrate 81, a light absorption layer 85 that partitions each pixel 7 is provided over the region 86. The light absorption layer 85 is made of, for example, a resin containing a material having a high light absorption property such as carbon black or chromium, and is provided in a lattice shape in plan view. In the display device 1, each pixel 7 can be defined as a region surrounded by the light absorption layer 85.

また、第2基板81の対向面83bには、光吸収層85によって囲まれた各領域、すなわち各画素7の領域を底面23側から覆うカラーフィルタ87が設けられている。
ここで、カラーフィルタ87は、入射された光のうち所定の波長域の光を透過させることができる。カラーフィルタ87は、画素7r、画素7g及び画素7bごとに異なる色に着色された樹脂などで構成されている。画素7rに対応するカラーフィルタ87は、Rの光を透過させることができる。画素7gに対応するカラーフィルタ87はGの光を透過させ、画素7bに対応するカラーフィルタ87はBの光を透過させることができる。なお、以下において、各カラーフィルタ87に対してR、G及びBが識別される場合に、カラーフィルタ87r、87g及び87bという表記が用いられる。
In addition, a color filter 87 is provided on the facing surface 83b of the second substrate 81 so as to cover each region surrounded by the light absorption layer 85, that is, each pixel 7 region from the bottom surface 23 side.
Here, the color filter 87 can transmit light in a predetermined wavelength region of incident light. The color filter 87 is composed of a resin colored in a different color for each of the pixels 7r, 7g, and 7b. The color filter 87 corresponding to the pixel 7r can transmit R light. The color filter 87 corresponding to the pixel 7g can transmit G light, and the color filter 87 corresponding to the pixel 7b can transmit B light. In the following, when R, G, and B are identified for each color filter 87, the notation of color filters 87r, 87g, and 87b is used.

光吸収層85及びカラーフィルタ87の底面23側には、オーバーコート層91が設けられている。オーバーコート層91は、光透過性を有する樹脂などで構成されており、光吸収層85及びカラーフィルタ87を底面23側から覆っている。
オーバーコート層91の底面23側には、第1配向膜93が設けられている。第1配向膜93の底面23側には、位相差膜95が設けられている。位相差膜95の底面23側には、第2配向膜97が設けられている。また、位相差膜95と第2配向膜97との間には、平面視で複数の画素7の各反射領域Hに重なる領域にギャップ調整膜99が設けられている。
An overcoat layer 91 is provided on the bottom surface 23 side of the light absorption layer 85 and the color filter 87. The overcoat layer 91 is made of a light-transmitting resin or the like, and covers the light absorption layer 85 and the color filter 87 from the bottom surface 23 side.
A first alignment film 93 is provided on the bottom surface 23 side of the overcoat layer 91. A retardation film 95 is provided on the bottom surface 23 side of the first alignment film 93. A second alignment film 97 is provided on the bottom surface 23 side of the retardation film 95. In addition, a gap adjusting film 99 is provided between the retardation film 95 and the second alignment film 97 in a region that overlaps each reflective region H of the plurality of pixels 7 in plan view.

第1配向膜93は、例えばポリイミドなどの光透過性を有する材料で構成されており、オーバーコート層91を底面23側から覆っている。第1配向膜93には、底面23側から配向処理が施されている。
位相差膜95は、例えば液晶化合物を含む材料で構成されており、第1配向膜93を底面23側から覆っている。
ギャップ調整膜99は、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されており、位相差膜95の底面23側に設けられている。
各画素7において、位相差膜95及びギャップ調整膜99は、第2配向膜97によって底面23側から覆われている。
The first alignment film 93 is made of, for example, a light-transmitting material such as polyimide, and covers the overcoat layer 91 from the bottom surface 23 side. The first alignment film 93 is subjected to an alignment process from the bottom surface 23 side.
The retardation film 95 is made of, for example, a material containing a liquid crystal compound, and covers the first alignment film 93 from the bottom surface 23 side.
The gap adjusting film 99 is made of a light-transmitting material such as acrylic or epoxy resin, and is provided on the bottom surface 23 side of the retardation film 95.
In each pixel 7, the retardation film 95 and the gap adjustment film 99 are covered with the second alignment film 97 from the bottom surface 23 side.

駆動素子基板15及び対向基板17の間に介在する液晶19は、配向膜61と第2配向膜97との間に介在している。液晶パネル10では、各画素7において、透過領域Tと反射領域Hとで液晶19の厚みが異なる所謂マルチギャップ構造が採用されている。
透過領域Tにおいて、液晶19は、L1なる厚みを有している。これに対し、反射領域Hでは、液晶19の厚みL2が、L1>L2となるように、ギャップ調整膜99の厚みが設定されている。なお、液晶パネル10では、L1は、L2の約2倍に設定されている。
The liquid crystal 19 interposed between the drive element substrate 15 and the counter substrate 17 is interposed between the alignment film 61 and the second alignment film 97. In the liquid crystal panel 10, a so-called multi-gap structure in which the thickness of the liquid crystal 19 is different between the transmissive region T and the reflective region H is adopted in each pixel 7.
In the transmissive region T, the liquid crystal 19 has a thickness of L1. On the other hand, in the reflection region H, the thickness of the gap adjustment film 99 is set so that the thickness L2 of the liquid crystal 19 satisfies L1> L2. In the liquid crystal panel 10, L1 is set to approximately twice L2.

ここで、位相差膜95は、図5中のE部を示す図である図6に示すように、画素7ごとに位相差部位101と等方部位103とを有している。
位相差部位101は、平面視で反射領域Hに重なっている。位相差部位101は、この位相差部位101に入射された光に、1/2波長の位相差を与える。
等方部位103は、平面視で透過領域Tに重なっている。等方部位103は、光学的に等方性を示す部位である。
Here, the phase difference film 95 has a phase difference portion 101 and an isotropic portion 103 for each pixel 7 as shown in FIG. 6 which is a diagram showing an E portion in FIG. 5.
The phase difference portion 101 overlaps the reflection region H in plan view. The phase difference portion 101 gives a half-wave phase difference to the light incident on the phase difference portion 101.
The isotropic portion 103 overlaps the transmission region T in plan view. The isotropic portion 103 is a portion that is optically isotropic.

位相差部位101は、図6中のF−F線における断面図である図7に示すように、X方向に並ぶ複数の画素7間にわたって一連している。つまり、位相差部位101は、X方向に並ぶ複数の反射領域Hに、図3に示すマトリクスMの画素行42単位で重なっている。
同様に、等方部位103も、X方向に並ぶ複数の画素7間にわたって一連しており、X方向に並ぶ複数の透過領域Tに画素行42単位で重なっている。
As shown in FIG. 7 which is a cross-sectional view taken along the line FF in FIG. 6, the phase difference portions 101 are arranged over a plurality of pixels 7 arranged in the X direction. That is, the phase difference portion 101 overlaps the plurality of reflection regions H arranged in the X direction in units of pixel rows 42 of the matrix M shown in FIG.
Similarly, the isotropic portions 103 are also arranged in series between the plurality of pixels 7 arranged in the X direction, and overlap the plurality of transmission regions T arranged in the X direction in units of pixel rows 42.

ここで、各画素7におけるTFT素子63、共通電極67及び画素電極69の配置について説明する。
画素電極69は、平面図である図8に示すように、画素7の領域にわたって設けられており、複数のスリット部111を有している。図8では、構成をわかりやすく示すため、画素電極69にハッチングが施されている。
複数のスリット部111は、各スリット部111がY方向に交差する方向に沿って延びており、Y方向に沿って所定間隔で並んでいる。なお、各スリット部111が延びる方向は、X方向から傾斜している。
Here, the arrangement of the TFT element 63, the common electrode 67, and the pixel electrode 69 in each pixel 7 will be described.
As shown in FIG. 8 which is a plan view, the pixel electrode 69 is provided over the region of the pixel 7 and has a plurality of slit portions 111. In FIG. 8, the pixel electrode 69 is hatched for easy understanding of the configuration.
The plurality of slit portions 111 extend along a direction in which each slit portion 111 intersects the Y direction, and are arranged at a predetermined interval along the Y direction. In addition, the direction in which each slit part 111 extends is inclined from the X direction.

共通電極67は、画素電極69を覆う領域に設けられている。X方向に隣り合う画素7間において、共通電極67同士は、共通線113によって接続されている。
各画素7において、共通電極67及び画素電極69は、それぞれの周縁部が領域86に重なっている。
なお、図5に示す反射膜65は、図8に示す境界部115よりも反射領域H側で、共通電極67に重なっている。従って、反射領域Hは、各画素7と反射膜65とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。また、透過領域Tは、各画素7から反射領域Hを除いた領域と、共通電極67とが、平面視で重なる領域であると定義され得る。
The common electrode 67 is provided in a region that covers the pixel electrode 69. Between the pixels 7 adjacent in the X direction, the common electrodes 67 are connected by a common line 113.
In each pixel 7, the common electrode 67 and the pixel electrode 69 have their peripheral portions overlapping the region 86.
Note that the reflective film 65 shown in FIG. 5 overlaps the common electrode 67 on the reflective region H side with respect to the boundary 115 shown in FIG. Therefore, the reflective region H can be defined as a region where each pixel 7 and the reflective film 65 overlap in plan view. In addition, the transmissive region T can be defined as a region where the region excluding the reflective region H from each pixel 7 and the common electrode 67 overlap in plan view.

TFT素子63は、図8で見て透過領域Tの左側の領域86内に設けられており、ドレイン電極77が領域86内から透過領域T内に及んでいる。X方向に隣り合う画素7間において、ゲート電極71同士は、ゲート線117によって接続されている。また、Y方向に隣り合う画素7間において、ソース電極75同士は、データ線119によって接続されている。
なお、図5におけるTFT素子63、反射膜65、共通電極67及び画素電極69の断面は、図8中のJ−J線における断面に相当している。
The TFT element 63 is provided in a region 86 on the left side of the transmissive region T as viewed in FIG. 8, and the drain electrode 77 extends from the region 86 into the transmissive region T. Between the pixels 7 adjacent to each other in the X direction, the gate electrodes 71 are connected to each other by a gate line 117. Further, between the pixels 7 adjacent in the Y direction, the source electrodes 75 are connected by a data line 119.
Note that the cross sections of the TFT element 63, the reflective film 65, the common electrode 67, and the pixel electrode 69 in FIG. 5 correspond to the cross section along the line JJ in FIG.

共通電極67と画素電極69との間に電圧を印加すると、共通電極67と画素電極69との間に電界が発生する。液晶パネル10では、TFT素子63がOFF状態からON状態に変化すると、共通電極67と画素電極69との間に電界が発生する。この電界によって液晶19の配向状態を変化させることができる。
表示装置1では、照明装置5から表示パネル3に光を照射した状態で、液晶19の配向状態を画素7ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶19の配向状態は、TFT素子63のOFF状態及びON状態を切り替えることによって変化し得る。
When a voltage is applied between the common electrode 67 and the pixel electrode 69, an electric field is generated between the common electrode 67 and the pixel electrode 69. In the liquid crystal panel 10, when the TFT element 63 changes from the OFF state to the ON state, an electric field is generated between the common electrode 67 and the pixel electrode 69. The alignment state of the liquid crystal 19 can be changed by this electric field.
In the display device 1, the display is controlled by changing the alignment state of the liquid crystal 19 for each pixel 7 in a state in which the illumination device 5 irradiates the display panel 3 with light. The alignment state of the liquid crystal 19 can be changed by switching between the OFF state and the ON state of the TFT element 63.

配向膜61及び第2配向膜97のそれぞれには、配向処理が施されている。配向処理が施された配向膜61及び第2配向膜97によって、液晶19の初期的な配向状態が規制される。
図9(a)は、TFT素子63がOFF状態のときの透過領域Tにおける偏光状態を示す図であり、図9(b)は、TFT素子63がON状態のときの透過領域Tにおける偏光状態を示す図である。
表示装置1では、液晶19の初期的な配向方向121は、図9(a)に示すように、偏光板13aの透過軸123aに沿った方向に設定されている。
TFT素子63がON状態に切り替わると、液晶19の配向方向121は、図9(b)に示すように、平面視で偏光板13aの透過軸123aに対してこの図で見て反時計方向に45度の傾きを有する方向に変化する。
Each of the alignment film 61 and the second alignment film 97 is subjected to an alignment process. The initial alignment state of the liquid crystal 19 is regulated by the alignment film 61 and the second alignment film 97 that have been subjected to the alignment treatment.
FIG. 9A is a diagram showing the polarization state in the transmission region T when the TFT element 63 is in the OFF state, and FIG. 9B is the polarization state in the transmission region T when the TFT element 63 is in the ON state. FIG.
In the display device 1, the initial alignment direction 121 of the liquid crystal 19 is set to a direction along the transmission axis 123a of the polarizing plate 13a as shown in FIG.
When the TFT element 63 is switched to the ON state, the alignment direction 121 of the liquid crystal 19 is counterclockwise as viewed in this figure with respect to the transmission axis 123a of the polarizing plate 13a in plan view, as shown in FIG. 9B. It changes in a direction having an inclination of 45 degrees.

図10(a)は、TFT素子63がOFF状態のときの反射領域Hにおける偏光状態を示す図であり、図10(b)は、TFT素子63がON状態のときの反射領域Hにおける偏光状態を示す図である。
反射領域Hにおける液晶19の配向方向121は、図10(a)及び図10(b)のそれぞれに示すように、透過領域Tと同様である。
FIG. 10A is a diagram showing the polarization state in the reflection region H when the TFT element 63 is in the OFF state, and FIG. 10B is the polarization state in the reflection region H when the TFT element 63 is in the ON state. FIG.
The alignment direction 121 of the liquid crystal 19 in the reflective region H is the same as that in the transmissive region T, as shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b).

なお、図9(a)及び図9(b)、並びに図10(a)及び図10(b)において、X'方向及びY'方向は、X'方向が偏光板13aの透過軸123aに沿った方向を示し、Y'方向が偏光板13bの透過軸123bに沿った方向を示している。X'方向及びY'方向は、XY平面内で互いに直交する任意の2方向である。   9A and 9B and FIGS. 10A and 10B, the X ′ direction and the Y ′ direction are along the transmission axis 123a of the polarizing plate 13a. The Y ′ direction indicates the direction along the transmission axis 123b of the polarizing plate 13b. The X ′ direction and the Y ′ direction are arbitrary two directions orthogonal to each other in the XY plane.

透過領域Tでは、底面23側から偏光板13aを経て入射された入射光は、図9(a)及び図9(b)に示すように、偏光板13aの透過軸123aに沿った偏光軸を有する直線偏光125として液晶19に入射される。
液晶19に入射された直線偏光125は、TFT素子63がOFF状態のときに、図9(a)に示すように、偏光軸が液晶19の配向方向121に沿っている。このため、液晶19に入射された直線偏光125は、偏光状態が維持されたまま直線偏光125として位相差膜95の等方部位103に入射される。
In the transmission region T, the incident light that has entered through the polarizing plate 13a from the bottom surface 23 side has a polarization axis along the transmission axis 123a of the polarizing plate 13a, as shown in FIGS. 9 (a) and 9 (b). The linearly polarized light 125 is incident on the liquid crystal 19.
When the TFT element 63 is in the OFF state, the linearly polarized light 125 incident on the liquid crystal 19 has a polarization axis along the alignment direction 121 of the liquid crystal 19 as shown in FIG. For this reason, the linearly polarized light 125 incident on the liquid crystal 19 is incident on the isotropic portion 103 of the retardation film 95 as the linearly polarized light 125 while maintaining the polarization state.

等方部位103に入射された直線偏光125は、偏光状態が維持されたまま等方部位103を透過して、直線偏光125として偏光板13bに入射される。
偏光板13bに入射された直線偏光125は、偏光軸が偏光板13bの透過軸123bに対して直交しているため、偏光板13bによって吸収される。
The linearly polarized light 125 incident on the isotropic portion 103 is transmitted through the isotropic portion 103 while maintaining the polarization state, and is incident on the polarizing plate 13b as the linearly polarized light 125.
The linearly polarized light 125 incident on the polarizing plate 13b is absorbed by the polarizing plate 13b because the polarization axis is orthogonal to the transmission axis 123b of the polarizing plate 13b.

他方で、TFT素子63がON状態のときに、直線偏光125は、図9(b)に示すように、偏光軸が液晶19の配向方向121とは交差している。このため、液晶19に入射された直線偏光125は、液晶19によって1/2波長の位相差が与えられ、直線偏光125の偏光軸に直交する偏光軸を有する直線偏光127として位相差膜95の等方部位103に入射される。   On the other hand, when the TFT element 63 is in the ON state, the polarization axis of the linearly polarized light 125 intersects the alignment direction 121 of the liquid crystal 19 as shown in FIG. For this reason, the linearly polarized light 125 incident on the liquid crystal 19 is given a phase difference of ½ wavelength by the liquid crystal 19, and the linearly polarized light 127 having a polarization axis orthogonal to the polarization axis of the linearly polarized light 125 is used as the linearly polarized light 127. Incident to the isotropic portion 103.

等方部位103に入射された直線偏光127は、偏光状態が維持されたまま等方部位103を透過して、直線偏光127として偏光板13bに入射される。偏光板13bに入射された直線偏光127は、偏光軸が偏光板13bの透過軸123bの方向に沿っているため、偏光板13bを透過する。
このように、透過領域Tでは、TFT素子63のON状態及びOFF状態の切り替えにより、透過表示が制御される。
The linearly polarized light 127 incident on the isotropic portion 103 passes through the isotropic portion 103 while maintaining the polarization state, and is incident on the polarizing plate 13b as the linearly polarized light 127. The linearly polarized light 127 incident on the polarizing plate 13b is transmitted through the polarizing plate 13b because its polarization axis is along the direction of the transmission axis 123b of the polarizing plate 13b.
Thus, in the transmissive region T, transmissive display is controlled by switching the TFT element 63 between the ON state and the OFF state.

反射領域Hでは、表示面9側から偏光板13bを経て入射された入射光は、図10(a)及び図10(b)に示すように、偏光板13bの透過軸123bに沿った偏光軸を有する直線偏光129として位相差膜95の位相差部位101に入射される。
ここで、位相差部位101の遅相軸131は、平面視でX'方向に対してこれらの図で見て反時計方向に67.5度の傾きを有する方向に設定されている。
従って、位相差部位101に入射された直線偏光129は、1/2波長の位相差が与えられ、直線偏光133として液晶19に入射される。直線偏光133の偏光軸は、平面視でX'方向に対して図10(a)及び図10(b)で見て反時計方向に45度の傾きを有する方向に沿っている。
In the reflection region H, the incident light incident from the display surface 9 through the polarizing plate 13b is polarized along the transmission axis 123b of the polarizing plate 13b as shown in FIGS. 10 (a) and 10 (b). Is incident on the phase difference portion 101 of the phase difference film 95 as the linearly polarized light 129 having the above.
Here, the slow axis 131 of the phase difference portion 101 is set in a direction having an inclination of 67.5 degrees counterclockwise as viewed in these drawings with respect to the X ′ direction in plan view.
Accordingly, the linearly polarized light 129 incident on the phase difference portion 101 is given a half-wave phase difference and is incident on the liquid crystal 19 as the linearly polarized light 133. The polarization axis of the linearly polarized light 133 is along a direction having an inclination of 45 degrees counterclockwise as viewed in FIGS. 10A and 10B with respect to the X ′ direction in plan view.

液晶19に入射された直線偏光133は、TFT素子63がOFF状態のときに、図10(a)に示すように、偏光軸が液晶19の配向方向121とは交差している。このため、液晶19に入射された直線偏光133は、1/4波長の位相差が与えられ、この図で見て左回りの円偏光135として反射膜65に向けて射出される。
円偏光135は、反射膜65で反射され、この図で見て右回りすなわち円偏光135とは逆回転の円偏光137として液晶19に入射される。
液晶19に入射された円偏光137は、1/4波長の位相差が与えられ、平面視でX'方向に対してこの図で見て反時計方向に135度の傾きを有する方向に沿った偏光軸を有する直線偏光139として位相差部位101に入射される。
The linearly polarized light 133 incident on the liquid crystal 19 has a polarization axis that intersects the alignment direction 121 of the liquid crystal 19 when the TFT element 63 is in the OFF state, as shown in FIG. For this reason, the linearly polarized light 133 incident on the liquid crystal 19 is given a phase difference of ¼ wavelength, and is emitted toward the reflective film 65 as a counterclockwise circularly polarized light 135 as seen in this figure.
The circularly polarized light 135 is reflected by the reflective film 65, and enters the liquid crystal 19 as circularly polarized light 137 that rotates clockwise as viewed in FIG.
The circularly polarized light 137 incident on the liquid crystal 19 is given a phase difference of ¼ wavelength, and is along a direction having a tilt of 135 degrees counterclockwise as viewed in this figure with respect to the X ′ direction in plan view. The light is incident on the phase difference portion 101 as linearly polarized light 139 having a polarization axis.

位相差部位101に入射された直線偏光139は、1/2波長の位相差が与えられ、平面視でX'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光141として偏光板13bに入射される。
偏光板13bに入射された直線偏光141は、偏光軸が偏光板13bの透過軸123bに対して直交しているため、偏光板13bによって吸収される。
The linearly polarized light 139 incident on the phase difference portion 101 is given a half-wave phase difference, and is incident on the polarizing plate 13b as a linearly polarized light 141 having a polarization axis along the X ′ direction in plan view.
The linearly polarized light 141 incident on the polarizing plate 13b is absorbed by the polarizing plate 13b because the polarization axis is orthogonal to the transmission axis 123b of the polarizing plate 13b.

他方で、TFT素子63がON状態のときに、液晶19に入射された直線偏光133は、図10(b)に示すように、偏光軸が液晶19の配向方向121に沿っているため、偏光状態が維持されたまま直線偏光133として反射膜65に向けて射出される。
反射膜65に向けて射出された直線偏光133は、偏光状態が維持されたまま反射膜65で反射され、液晶19に入射される。
On the other hand, when the TFT element 63 is in the ON state, the linearly polarized light 133 incident on the liquid crystal 19 has a polarization axis along the alignment direction 121 of the liquid crystal 19 as shown in FIG. While maintaining the state, it is emitted toward the reflective film 65 as linearly polarized light 133.
The linearly polarized light 133 emitted toward the reflective film 65 is reflected by the reflective film 65 while maintaining the polarization state, and is incident on the liquid crystal 19.

反射膜65から液晶19に入射された直線偏光133は、偏光状態が維持されたまま位相差部位101に入射される。位相差部位101に入射された直線偏光133は、1/2波長の位相差が与えられ、平面視でY'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光143として偏光板13bに入射される。偏光板13bに入射された直線偏光143は、偏光軸が偏光板13bの透過軸123bの方向に沿っているため、偏光板13bを透過する。
このように、反射領域Hにおいても、透過領域Tと同様にTFT素子63のON状態及びOFF状態の切り替えにより、反射表示が制御される。
The linearly polarized light 133 incident on the liquid crystal 19 from the reflecting film 65 is incident on the phase difference portion 101 while maintaining the polarization state. The linearly polarized light 133 incident on the phase difference portion 101 is given a phase difference of ½ wavelength, and is incident on the polarizing plate 13b as a linearly polarized light 143 having a polarization axis along the Y ′ direction in plan view. The linearly polarized light 143 incident on the polarizing plate 13b passes through the polarizing plate 13b because the polarization axis is along the direction of the transmission axis 123b of the polarizing plate 13b.
As described above, also in the reflective area H, the reflective display is controlled by switching the TFT element 63 between the ON state and the OFF state as in the transmissive area T.

ここで、表示装置1の製造方法について説明する。
表示装置1の製造方法は、基板の製造工程と、液晶パネル10の製造工程と、表示パネル3の製造工程と、表示装置1の製造工程とに大別される。
まず、基板の製造工程について説明する。
基板の製造工程は、駆動素子基板15の製造工程と、対向基板17の製造工程とに大別される。
Here, a method for manufacturing the display device 1 will be described.
The manufacturing method of the display device 1 is roughly divided into a substrate manufacturing process, a liquid crystal panel 10 manufacturing process, a display panel 3 manufacturing process, and a display device 1 manufacturing process.
First, the manufacturing process of a board | substrate is demonstrated.
The manufacturing process of the substrate is roughly divided into a manufacturing process of the drive element substrate 15 and a manufacturing process of the counter substrate 17.

駆動素子基板15の製造工程では、図11(a)に示すように、まず、第1基板51の第1面53aに、ゲート電極71と、反射膜65とを形成する。ゲート電極71や反射膜65は、例えばスパッタリング技術を活用して第1面53aに金属膜を形成してから、金属膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
次いで、第1基板51の第1面53a側に、スパッタリング技術、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、共通電極67を形成する。
In the manufacturing process of the drive element substrate 15, as shown in FIG. 11A, first, the gate electrode 71 and the reflective film 65 are formed on the first surface 53 a of the first substrate 51. The gate electrode 71 and the reflective film 65 are formed by, for example, forming a metal film on the first surface 53a using a sputtering technique and then patterning the metal film using, for example, a photolithography technique or an etching technique. Can be done.
Next, the common electrode 67 is formed on the first surface 53a side of the first substrate 51 using a sputtering technique, a photolithography technique, an etching technique, and the like.

次いで、ゲート電極71及び共通電極67を第1面53a側から覆うゲート絶縁膜57を形成する。ゲート絶縁膜57は、例えば、CVD(Chemical Vapor Deposition)技術、PVD(Physical Vapor Deposition)技術、蒸着技術などを活用することによって、窒化シリコンや酸化シリコンなどで形成され得る。   Next, a gate insulating film 57 that covers the gate electrode 71 and the common electrode 67 from the first surface 53a side is formed. The gate insulating film 57 can be formed of silicon nitride, silicon oxide, or the like by using, for example, a CVD (Chemical Vapor Deposition) technique, a PVD (Physical Vapor Deposition) technique, a vapor deposition technique, or the like.

次いで、図11(b)に示すように、ゲート絶縁膜57上に、半導体層73を形成してから、半導体層73の一部に重なるソース電極75とドレイン電極77とを形成する。これにより、TFT素子63が形成される。
なお、ソース電極75及びドレイン電極77は、例えばスパッタリング技術を活用してゲート絶縁膜57上に金属膜を形成してから、この金属膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
Next, as illustrated in FIG. 11B, the semiconductor layer 73 is formed on the gate insulating film 57, and then the source electrode 75 and the drain electrode 77 that overlap with part of the semiconductor layer 73 are formed. Thereby, the TFT element 63 is formed.
The source electrode 75 and the drain electrode 77 are formed by forming a metal film on the gate insulating film 57 using, for example, a sputtering technique, and then patterning the metal film using, for example, a photolithography technique or an etching technique. Can be formed.

次いで、図11(c)に示すように、TFT素子63及びゲート絶縁膜57を第1面53a側から覆う絶縁膜59を形成する。絶縁膜59は、例えば、CVD技術、PVD技術、蒸着技術などを活用することによって、窒化シリコンや酸化シリコンなどで形成され得る。また、絶縁膜59は、例えば、スピンコート技術を活用することによって、アクリル系の樹脂などによっても形成され得る。
次いで、絶縁膜59に、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、TFT素子63のドレイン電極77に至るコンタクトホール79を形成する。
Next, as shown in FIG. 11C, an insulating film 59 that covers the TFT element 63 and the gate insulating film 57 from the first surface 53a side is formed. The insulating film 59 can be formed of silicon nitride, silicon oxide, or the like by utilizing, for example, CVD technology, PVD technology, vapor deposition technology, or the like. The insulating film 59 can also be formed of an acrylic resin or the like by utilizing, for example, a spin coating technique.
Next, a contact hole 79 reaching the drain electrode 77 of the TFT element 63 is formed in the insulating film 59 by utilizing a photolithography technique and an etching technique.

次いで、絶縁膜59上に、スパッタリング技術などを活用して、ITOの膜を形成する。
次いで、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用して、ITOの膜をパターニングして、図11(d)に示すように、画素電極69を形成する。
Next, an ITO film is formed on the insulating film 59 by utilizing a sputtering technique or the like.
Next, the ITO film is patterned using a photolithography technique, an etching technique, and the like to form a pixel electrode 69 as shown in FIG.

次いで、画素電極69及び絶縁膜59上に、ポリイミドなどの樹脂で画素電極69を覆う樹脂膜を形成する。樹脂膜は、例えば、スピンコート技術を活用することにより形成され得る。
次いで、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施すことにより、図5に示す配向膜61が形成される。これにより、駆動素子基板15が製造され得る。
Next, a resin film that covers the pixel electrode 69 with a resin such as polyimide is formed over the pixel electrode 69 and the insulating film 59. The resin film can be formed by utilizing, for example, a spin coating technique.
Next, the alignment film 61 shown in FIG. 5 is formed by performing an alignment process such as a rubbing process on the resin film. Thereby, the drive element substrate 15 can be manufactured.

対向基板17の製造工程では、図12(a)に示すように、まず、第2基板81の対向面83bに、光吸収層85を、平面視で格子状に形成する。光吸収層85は、カーボンブラックやクロムなどを含有する樹脂膜を形成してから、この樹脂膜を、例えば、フォトリソグラフィ技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。   In the manufacturing process of the counter substrate 17, as shown in FIG. 12A, first, the light absorption layer 85 is formed in a lattice shape on the counter surface 83 b of the second substrate 81 in a plan view. The light absorption layer 85 can be formed by forming a resin film containing carbon black, chromium, or the like and then patterning the resin film using, for example, a photolithography technique.

次いで、光吸収層85によって囲まれる各画素7の領域内に、カラーフィルタ87を形成する。カラーフィルタ87は、R、G及びBの各光に対応する着色剤が含有された樹脂を、各画素7の領域内に配置することによって形成され得る。なお、各画素7の領域内への樹脂の配置は、例えば、インクジェット技術や蒸着技術を活用することにより行われ得る。
次いで、光吸収層85及びカラーフィルタ87上にオーバーコート層91を形成する。オーバーコート層91は、例えばスピンコート技術を活用して、光透過性を有する樹脂で形成され得る。
Next, a color filter 87 is formed in the area of each pixel 7 surrounded by the light absorption layer 85. The color filter 87 can be formed by disposing a resin containing a colorant corresponding to each of R, G, and B light in the region of each pixel 7. In addition, arrangement | positioning of resin in the area | region of each pixel 7 can be performed by utilizing an inkjet technique or a vapor deposition technique, for example.
Next, an overcoat layer 91 is formed on the light absorption layer 85 and the color filter 87. The overcoat layer 91 can be formed of a resin having light transparency by utilizing, for example, a spin coat technique.

次いで、図12(b)に示すように、オーバーコート層91上に第1配向膜93を形成する。第1配向膜93の形成では、例えばスピンコート技術を活用して、ポリイミドなどの樹脂でオーバーコート層91上に樹脂膜を形成してから、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施す。これにより、第1配向膜93が形成され得る。   Next, as shown in FIG. 12B, a first alignment film 93 is formed on the overcoat layer 91. In the formation of the first alignment film 93, for example, a spin coat technique is used to form a resin film on the overcoat layer 91 with a resin such as polyimide, and then an alignment process such as a rubbing process is performed on the resin film. Thereby, the first alignment film 93 can be formed.

次いで、図12(c)に示すように、ネガ型の感光性を有する液晶化合物が含有された液状体95aで、第1配向膜93上に液状体膜95bを形成する。液状体膜95bは、例えばスピンコート技術を活用することにより形成され得る。
なお、液状体95aとしては、液晶化合物と溶媒とを混合したものに光重合開始剤を添加した構成が採用され得る。
液晶化合物としては、例えばBASF社製のLC242などが採用され得る。溶媒としては、例えばシクロペンタノンなどが採用され得る。光重合開始剤としては、例えばチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア907などが採用され得る。
Next, as shown in FIG. 12C, a liquid film 95 b is formed on the first alignment film 93 with the liquid 95 a containing a negative-type liquid crystal compound having photosensitivity. The liquid film 95b can be formed by utilizing, for example, a spin coating technique.
In addition, as the liquid body 95a, the structure which added the photoinitiator to what mixed the liquid crystal compound and the solvent may be employ | adopted.
As the liquid crystal compound, for example, LC242 manufactured by BASF may be employed. As the solvent, for example, cyclopentanone or the like can be employed. As the photopolymerization initiator, for example, Irgacure 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals may be employed.

ここで、液状体膜95bに含まれる液晶化合物は、配向処理が施された第1配向膜93によって分子の配向状態が規制される。これにより、液状体膜95bには、屈折率に異方性が発現する。
なお、屈折率に異方性が発現する配向状態は、位相差配向状態と呼ばれる。
Here, the alignment state of the molecules of the liquid crystal compound contained in the liquid film 95b is regulated by the first alignment film 93 that has been subjected to the alignment treatment. As a result, the liquid film 95b exhibits anisotropy in the refractive index.
An alignment state in which anisotropy is manifested in the refractive index is called a phase difference alignment state.

次いで、図12(d)に示すように、フォトマスク151を介して、液状体膜95bを紫外光153で露光する。ここで、フォトマスク151には、反射領域Hに重なる領域に開口部155が設けられている。液状体膜95bには、開口部155を介して紫外光153が照射される。そして、液状体膜95bのうちで露光された部位が硬化する。
これにより、液状体膜95bに、図6に示す位相差部位101が形成される。
Next, as shown in FIG. 12D, the liquid film 95 b is exposed with ultraviolet light 153 through a photomask 151. Here, the photomask 151 is provided with an opening 155 in a region overlapping the reflective region H. The liquid film 95b is irradiated with ultraviolet light 153 through the opening 155. Then, the exposed portion of the liquid film 95b is cured.
Thereby, the phase difference part 101 shown in FIG. 6 is formed in the liquid film 95b.

ここで、位相差部位101の形成では、平面視で表示領域8(図1)の外側の領域にも紫外光153で露光する。このとき露光する領域は、表示領域8の外側で表示領域8の外側から表示領域8を囲む領域である。つまり、液状体膜95bのうち、表示領域8の外側で表示領域8の外側から表示領域8を囲む領域を硬化させる。
これにより、表示領域8の外側には、液状体膜95bを示す平面図である図13に示すように、表示領域8の外側から表示領域8を囲む土手部157が形成され得る。このとき、各位相差部位101と土手部157とは、一連した状態で形成される。
なお、位相差部位101に対する露光と、土手部157に対する露光とを同一の露光で実施することが、露光工程を効率的に実施できる点で好ましい。しかしながら、位相差部位101に対する露光と、土手部157に対する露光とは、いずれが先でも後でもかまわない。
Here, in the formation of the phase difference portion 101, the region outside the display region 8 (FIG. 1) is exposed to the ultraviolet light 153 in plan view. The area to be exposed at this time is an area surrounding the display area 8 from the outside of the display area 8 outside the display area 8. That is, in the liquid film 95b, the area surrounding the display area 8 from the outside of the display area 8 outside the display area 8 is cured.
As a result, a bank portion 157 surrounding the display region 8 from the outside of the display region 8 can be formed outside the display region 8 as shown in FIG. 13 which is a plan view showing the liquid film 95b. At this time, each phase difference part 101 and the bank part 157 are formed in a series.
In addition, it is preferable that the exposure for the phase difference portion 101 and the exposure for the bank portion 157 are performed with the same exposure because the exposure process can be efficiently performed. However, the exposure for the phase difference portion 101 and the exposure for the bank portion 157 may be either before or after.

これにより、液状体膜95bのうちで等方部位103が形成されるべき領域は、位相差部位101と土手部157とによって囲まれる。
なお、第1配向膜93は、表示領域8内だけに設けられていても、表示領域8内から表示領域8外に及んでいてもよい。第1配向膜93が表示領域8内だけに設けられている場合、土手部157は、第1配向膜93によって分子の配向状態が規制されないので、光学的に等方性を示す状態で硬化する。他方で、第1配向膜93が表示領域8内から表示領域8外に及んでいる場合、土手部157は、位相差配向状態で硬化する。
Thereby, a region where the isotropic portion 103 is to be formed in the liquid film 95b is surrounded by the phase difference portion 101 and the bank portion 157.
The first alignment film 93 may be provided only in the display area 8 or may extend from the display area 8 to the outside of the display area 8. When the first alignment film 93 is provided only in the display region 8, the bank portion 157 is cured in an optically isotropic state because the molecular alignment state is not regulated by the first alignment film 93. . On the other hand, when the first alignment film 93 extends from the inside of the display region 8 to the outside of the display region 8, the bank portion 157 is cured in the phase difference alignment state.

位相差部位101及び土手部157の形成に次いで、図13及び図14(a)に示す液状体膜95bを約100℃に保つ。液状体膜95bを約100℃に保つと、液晶化合物の分子は、配向状態の規制が解かれやすい。これにより、液状体膜95bは、光学的に等方性を示すようになる。なお、光学的に等方性を示す配向状態は、等方配向状態と呼ばれる。
位相差配向状態にある液状体膜95bを約100℃に保つことには、位相差配向状態を等方配向状態に転移させるという意味がある。
Following the formation of the phase difference portion 101 and the bank portion 157, the liquid film 95b shown in FIGS. 13 and 14A is kept at about 100 ° C. When the liquid film 95b is kept at about 100 ° C., the orientation of the molecules of the liquid crystal compound is easily released. Thereby, the liquid film 95b becomes optically isotropic. An alignment state that is optically isotropic is called an isotropic alignment state.
Maintaining the liquid film 95b in the phase difference alignment state at about 100 ° C. means that the phase difference alignment state is transferred to the isotropic alignment state.

次いで、液状体膜95bが等方配向状態のときに、図14(b)に示すように、液状体膜95bを紫外光153で露光する。このとき、液状体膜95bが等方配向状態のままで硬化する。これにより、図6に示す等方部位103が形成され、等方部位103と位相差部位101とを有する位相差膜95が形成され得る。   Next, when the liquid film 95b is in an isotropic orientation state, the liquid film 95b is exposed with ultraviolet light 153 as shown in FIG. At this time, the liquid film 95b is cured in the isotropic orientation state. Thereby, the isotropic part 103 shown in FIG. 6 is formed, and the retardation film 95 having the isotropic part 103 and the retardation part 101 can be formed.

次いで、図14(c)に示すように、例えばアクリル系やエポキシ系の樹脂などで位相差膜95上に樹脂膜99aを形成する。樹脂膜99aは、例えばスピンコート技術を活用することによって形成され得る。
次いで、例えばフォトリソグラフィ技術を活用して、樹脂膜99aをパターニングすることにより、図14(d)に示すギャップ調整膜99を形成する。
Next, as illustrated in FIG. 14C, a resin film 99 a is formed on the retardation film 95 using, for example, an acrylic or epoxy resin. The resin film 99a can be formed by utilizing, for example, a spin coating technique.
Next, the gap adjustment film 99 shown in FIG. 14D is formed by patterning the resin film 99a using, for example, a photolithography technique.

次いで、図5に示すように、表示領域8内においてギャップ調整膜99及び位相差膜95を底面23側から覆う第2配向膜97を形成する。
第2配向膜97の形成では、ポリイミドなどの樹脂で位相差膜95及びギャップ調整膜99上に樹脂膜を形成してから、この樹脂膜にラビング処理などの配向処理を施す。
これにより、第2配向膜97が形成され、対向基板17が製造され得る。
Next, as shown in FIG. 5, a second alignment film 97 that covers the gap adjusting film 99 and the retardation film 95 from the bottom surface 23 side in the display region 8 is formed.
In forming the second alignment film 97, a resin film is formed on the retardation film 95 and the gap adjusting film 99 with a resin such as polyimide, and then an alignment process such as a rubbing process is performed on the resin film.
Thereby, the second alignment film 97 is formed, and the counter substrate 17 can be manufactured.

液晶パネル10の製造工程では、まず、駆動素子基板15と対向基板17とを、駆動素子基板15及び対向基板17のいずれか一方に平面視で環状に設けられたシール材21(図2)を介して接合する。このとき、シール材21は、平面視で環状の輪郭の一部を欠いた状態で設けられる。シール材21の環状の輪郭の一部を欠いた部分は、液晶19の注入口となる。
次いで、液晶19をこの注入口から注入してから、注入口を塞いで液晶19を封入する。これにより、図2に示す液晶パネル10が製造され得る。
In the manufacturing process of the liquid crystal panel 10, first, the drive element substrate 15 and the counter substrate 17 are provided with a sealing material 21 (FIG. 2) provided in an annular shape in plan view on either the drive element substrate 15 or the counter substrate 17. Join through. At this time, the sealing material 21 is provided in a state where a part of the annular contour is missing in a plan view. A portion of the sealing material 21 lacking a part of the annular contour becomes an inlet for the liquid crystal 19.
Next, after the liquid crystal 19 is injected from the injection port, the liquid crystal 19 is sealed by closing the injection port. Thereby, the liquid crystal panel 10 shown in FIG. 2 can be manufactured.

表示パネル3の製造工程では、図2に示す偏光板13a及び13bを液晶パネル10に設ける。偏光板13aは第1基板51の第2面53b(図5)に設けられ、偏光板13bは、第2基板81の外向面83a(図5)に設けられる。これにより、図2に示す表示パネル3が製造され得る。
なお、偏光板13a及び13bは、液晶パネル10を製造する前に、第1基板51及び第2基板81に設けられていてもよい。
表示装置1の製造工程では、表示パネル3と照明装置5とを組み合わせることにより、表示装置1が製造され得る。
In the manufacturing process of the display panel 3, the liquid crystal panel 10 is provided with polarizing plates 13a and 13b shown in FIG. The polarizing plate 13a is provided on the second surface 53b (FIG. 5) of the first substrate 51, and the polarizing plate 13b is provided on the outward surface 83a (FIG. 5) of the second substrate 81. Thereby, the display panel 3 shown in FIG. 2 can be manufactured.
The polarizing plates 13a and 13b may be provided on the first substrate 51 and the second substrate 81 before the liquid crystal panel 10 is manufactured.
In the manufacturing process of the display device 1, the display device 1 can be manufactured by combining the display panel 3 and the illumination device 5.

第1実施形態において、第1基板51及び第2基板81が一対の基板に対応し、第2基板81が一方の基板に対応し、第1基板51が他方の基板に対応し、位相差部位101が一方の部位に対応し、等方部位103が他方の部位に対応し、第1配向膜93が配向膜に対応している。   In the first embodiment, the first substrate 51 and the second substrate 81 correspond to a pair of substrates, the second substrate 81 corresponds to one substrate, the first substrate 51 corresponds to the other substrate, and the phase difference portion 101 corresponds to one part, isotropic part 103 corresponds to the other part, and first alignment film 93 corresponds to the alignment film.

第1実施形態では、対向基板17の製造工程において、等方部位103を形成する前に土手部157を形成するので、液状体膜95bのうちで等方部位103が形成されるべき領域を位相差部位101及び土手部157で囲むことができる。このため、等方部位103が形成されるべき領域における液状体95aを堰き止めることができる。これにより、位相差部位101と等方部位103との形状差を低く抑えやすくすることができる。   In the first embodiment, since the bank portion 157 is formed before the isotropic portion 103 is formed in the manufacturing process of the counter substrate 17, the region where the isotropic portion 103 is to be formed in the liquid film 95b is positioned. It can be surrounded by the phase difference portion 101 and the bank portion 157. For this reason, the liquid 95a in the region where the isotropic portion 103 is to be formed can be blocked. Thereby, it is possible to easily suppress the shape difference between the phase difference portion 101 and the isotropic portion 103.

例えば、等方部位103を形成する前に土手部157を形成しない場合には、位相差部位101と等方部位103との形状差は、図15に示すように、位相差部位101と等方部位103との間の段差として発生することが考えられる。これは、位相差部位101を硬化させてから等方部位103を硬化させるまでに、等方部位103が形成されるべき領域における液状体95aが流れ出ることによって発生し得る。   For example, when the bank portion 157 is not formed before the isotropic portion 103 is formed, the shape difference between the phase difference portion 101 and the isotropic portion 103 is isotropic with the phase difference portion 101 as shown in FIG. It may be generated as a step between the portion 103. This can occur when the liquid material 95a flows out in a region where the isotropic portion 103 is to be formed after the retardation portion 101 is hardened until the isotropic portion 103 is hardened.

位相差部位101と等方部位103との間に段差が生じると、液晶19の厚みL1とL2との間の関係にずれが生じる。このため、等方部位103から射出されて第2基板81に向かう光の変調状態と、位相差部位101から射出されて第2基板81に向かう光の変調状態との間にずれが生じやすくなる。この結果、等方部位103から射出されて第2基板81に向かう光や、位相差部位101から射出されて第2基板81に向かう光が漏れやすくなる。   When a step is generated between the phase difference portion 101 and the isotropic portion 103, a shift occurs in the relationship between the thicknesses L1 and L2 of the liquid crystal 19. For this reason, a deviation is likely to occur between the modulation state of light emitted from the isotropic portion 103 and directed to the second substrate 81 and the modulation state of light emitted from the phase difference portion 101 and directed to the second substrate 81. . As a result, light emitted from the isotropic portion 103 and directed to the second substrate 81 and light emitted from the phase difference portion 101 and directed to the second substrate 81 are likely to leak.

他方で、表示装置1の対向基板17の製造工程では、液状体膜95bのうちで等方部位103が形成されるべき領域を位相差部位101及び土手部157で囲むことができるので、液状体95aの流れ出しによる段差が発生しにくい。つまり、表示装置1では、第2基板81から位相差部位101の液晶19側の面までの距離と、第2基板81から等方部位103の液晶19側の面までの距離とが略同等である。このため、等方部位103から射出されて第2基板81に向かう光の変調状態と、位相差部位101から射出されて第2基板81に向かう光の変調状態とがそろいやすい。この結果、等方部位103から射出されて第2基板81に向かう光や、位相差部位101から射出されて第2基板81に向かう光の漏れが低く抑えられるので、コントラストの向上が図られる。   On the other hand, in the manufacturing process of the counter substrate 17 of the display device 1, the region where the isotropic portion 103 should be formed in the liquid film 95 b can be surrounded by the phase difference portion 101 and the bank portion 157. Steps due to the flow out of 95a hardly occur. That is, in the display device 1, the distance from the second substrate 81 to the surface of the phase difference portion 101 on the liquid crystal 19 side is substantially equal to the distance from the second substrate 81 to the surface of the isotropic portion 103 on the liquid crystal 19 side. is there. For this reason, the modulation state of light emitted from the isotropic portion 103 and directed to the second substrate 81 is easily aligned with the modulation state of light emitted from the phase difference portion 101 and directed to the second substrate 81. As a result, the leakage of the light emitted from the isotropic portion 103 and directed to the second substrate 81 and the light emitted from the phase difference portion 101 and directed to the second substrate 81 can be suppressed low, so that the contrast can be improved.

また、第1実施形態では、対向基板17の製造工程において、位相差部位101を形成するときに土手部157を形成するので、位相差部位101の形成と土手部157の形成との間の時差を少なくすることができる。このため、位相差部位101の形成と土手部157の形成との間において、液状体95aを堰き止めることができる。この結果、位相差部位101と等方部位103との形状差を一層抑えやすくすることができる。
また、位相差部位101に対する露光と、土手部157に対する露光とを同一の露光で実施することができるので、位相差部位101の形成と土手部157の形成との間の時差を抑制することもできる。これにより、位相差部位101と等方部位103との形状差を一層抑えやすくすることができる。
In the first embodiment, since the bank portion 157 is formed when the phase difference portion 101 is formed in the manufacturing process of the counter substrate 17, the time difference between the formation of the phase difference portion 101 and the bank portion 157 is formed. Can be reduced. For this reason, the liquid 95a can be dammed between the formation of the phase difference portion 101 and the formation of the bank portion 157. As a result, the shape difference between the phase difference portion 101 and the isotropic portion 103 can be further suppressed.
Moreover, since the exposure with respect to the phase difference part 101 and the exposure with respect to the bank part 157 can be implemented by the same exposure, the time difference between formation of the phase difference part 101 and formation of the bank part 157 can also be suppressed. it can. Thereby, the shape difference between the phase difference part 101 and the isotropic part 103 can be further suppressed.

また、第1実施形態では、対向基板17の製造工程において、等方部位103が形成されるべき領域における液状体95aを表示領域8の外側から表示領域8ごと囲む土手部157を形成する。このため、例えば等方部位103が形成されるべき液状体95aを画素7ごとに囲む場合に比較して、工程やフォトマスク151などの効率化が図られる。   In the first embodiment, in the manufacturing process of the counter substrate 17, the bank portion 157 that surrounds the liquid material 95 a in the region where the isotropic portion 103 is to be formed from the outside of the display region 8 together with the display region 8 is formed. For this reason, for example, compared with the case where the liquid material 95a in which the isotropic portion 103 is to be formed is surrounded for each pixel 7, the efficiency of the process, the photomask 151, and the like can be improved.

なお、第1実施形態では、位相差部位101を形成してから等方部位103を形成する順序が採用されているが、位相差部位101と等方部位103との形成順序はこれに限定されず、等方部位103を形成してから位相差部位101を形成する順序も採用され得る。   In the first embodiment, the order in which the isotropic portion 103 is formed after the phase difference portion 101 is formed is employed. However, the order in which the phase difference portion 101 and the isotropic portion 103 are formed is limited to this. Alternatively, the order in which the phase difference portion 101 is formed after the isotropic portion 103 is formed may be employed.

この場合、液状体膜95bの形成に次いで、液状体膜95bを約100℃に保って、液状体膜95bの配向状態を位相差配向状態から等方配向状態に転移させる。
次いで、液状体膜95bが等方配向状態のときに、図16(a)に示すように、フォトマスク161を介して、液状体膜95bを紫外光153で露光する。ここで、フォトマスク161には、透過領域Tに重なる領域に開口部163が設けられている。液状体膜95bには、開口部163を介して紫外光153が照射される。そして、液状体膜95bのうちで露光された部位が硬化する。
これにより、液状体膜95bに、図6に示す等方部位103が形成される。
In this case, following the formation of the liquid film 95b, the liquid film 95b is kept at about 100 ° C., and the alignment state of the liquid film 95b is changed from the phase difference alignment state to the isotropic alignment state.
Next, when the liquid film 95b is in an isotropic orientation state, the liquid film 95b is exposed with ultraviolet light 153 through a photomask 161 as shown in FIG. Here, the photomask 161 is provided with an opening 163 in a region overlapping the transmission region T. The liquid film 95 b is irradiated with ultraviolet light 153 through the opening 163. Then, the exposed portion of the liquid film 95b is cured.
Thereby, the isotropic portion 103 shown in FIG. 6 is formed in the liquid film 95b.

ここで、等方部位103の形成では、平面視で表示領域8(図1)の外側の領域にも紫外光153で露光する。このとき露光する領域は、表示領域8の外側で表示領域8の外側から表示領域8を囲む領域である。つまり、液状体膜95bのうち、表示領域8の外側で表示領域8の外側から表示領域8を囲む領域を硬化させる。
これにより、表示領域8の外側には、液状体膜95bを示す平面図である図17に示すように、表示領域8の外側から表示領域8を囲む土手部157が形成され得る。このとき、各等方部位103と土手部157とは、一連した状態で形成される。
なお、等方部位103に対する露光と、土手部157に対する露光とを同一の露光で実施することが、露光工程を効率的に実施できる点で好ましい。しかしながら、等方部位103に対する露光と、土手部157に対する露光とは、いずれが先でも後でもかまわない。
Here, in forming the isotropic portion 103, the region outside the display region 8 (FIG. 1) is also exposed to the ultraviolet light 153 in a plan view. The area to be exposed at this time is an area surrounding the display area 8 from the outside of the display area 8 outside the display area 8. That is, in the liquid film 95b, the area surrounding the display area 8 from the outside of the display area 8 outside the display area 8 is cured.
As a result, a bank portion 157 surrounding the display area 8 from the outside of the display area 8 can be formed outside the display area 8, as shown in FIG. 17 which is a plan view showing the liquid film 95b. At this time, each isotropic part 103 and bank part 157 are formed in a series of states.
In addition, it is preferable that the exposure to the isotropic portion 103 and the exposure to the bank portion 157 are performed with the same exposure because the exposure process can be efficiently performed. However, either the exposure to the isotropic portion 103 or the exposure to the bank portion 157 may be performed first or later.

これにより、液状体膜95bのうちで位相差部位101が形成されるべき領域は、等方部位103と土手部157とによって囲まれる。
等方部位103及び土手部157の形成に次いで、図17及び図16(b)に示す液状体膜95bを位相差配向状態に保つ。
次いで、液状体膜95bが位相差配向状態のときに、図16(c)に示すように、液状体膜95bを紫外光153で露光する。このとき、液状体膜95bが位相差配向状態のままで硬化する。これにより、図6に示す位相差部位101が形成され、等方部位103と位相差部位101とを有する位相差膜95が形成され得る。
Thereby, the region where the phase difference portion 101 is to be formed in the liquid film 95 b is surrounded by the isotropic portion 103 and the bank portion 157.
Subsequent to the formation of the isotropic portion 103 and the bank portion 157, the liquid film 95b shown in FIGS. 17 and 16B is kept in the phase difference alignment state.
Next, when the liquid film 95b is in the phase difference alignment state, the liquid film 95b is exposed with ultraviolet light 153 as shown in FIG. At this time, the liquid film 95b is cured while being in the phase difference alignment state. Thereby, the phase difference part 101 shown in FIG. 6 is formed, and the phase difference film 95 having the isotropic part 103 and the phase difference part 101 can be formed.

なお、第1配向膜93は、表示領域8内だけに設けられていても、表示領域8内から表示領域8外に及んでいてもよい。第1配向膜93が表示領域8内だけに設けられていても、表示領域8内から表示領域8外に及んでいても、土手部157は、等方配向状態で硬化するので、光学的に等方性を示す。
なお、等方部位103を形成してから位相差部位101を形成する場合、等方部位103が一方の部位に対応し、位相差部位101が他方の部位に対応する。
等方部位103を形成してから位相差部位101を形成しても、位相差部位101を形成してから等方部位103を形成する場合と同様の効果が得られる。
The first alignment film 93 may be provided only in the display area 8 or may extend from the display area 8 to the outside of the display area 8. Even if the first alignment film 93 is provided only in the display region 8 or extends from the display region 8 to the outside of the display region 8, the bank portion 157 is hardened in an isotropic alignment state. Isotropic.
When forming the phase difference portion 101 after forming the isotropic portion 103, the isotropic portion 103 corresponds to one portion, and the phase difference portion 101 corresponds to the other portion.
Even if the phase difference portion 101 is formed after the isotropic portion 103 is formed, the same effect as in the case where the isotropic portion 103 is formed after the phase difference portion 101 is formed can be obtained.

第2実施形態について説明する。
第2実施形態における表示装置1は、対向基板17の製造工程において、土手部157を形成してから、平面視でこの土手部157内に液状体膜95bを形成することを除いては、第1実施形態における表示装置1と同様の構成を有している。
従って、以下の第2実施形態では、重複した説明を避けるため、第1実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略し、第1実施形態と異なる点のみについて説明する。
A second embodiment will be described.
The display device 1 according to the second embodiment is the same as the manufacturing method of the counter substrate 17 except that the bank portion 157 is formed and then the liquid film 95b is formed in the bank portion 157 in a plan view. The display device 1 has the same configuration as that of the display device 1 according to one embodiment.
Therefore, in the following second embodiment, in order to avoid redundant description, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof is omitted, and only the differences from the first embodiment are described. Will be described.

第2実施形態では、対向基板17の製造工程において、液状体膜95bを形成する前に土手部157を形成する。土手部157は、平面図である図18に示すように、表示領域8の外側で表示領域8を外側から囲む領域に設けられる。
土手部157の材料としては、例えば、液晶化合物を含む材料や、アクリル系やエポキシ系の樹脂や、これらにカーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を混合したものなど、種々の材料が採用され得る。なお、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を混合することは、土手部157からの光漏れを低く抑える点で好ましい。
In the second embodiment, in the manufacturing process of the counter substrate 17, the bank portion 157 is formed before the liquid film 95b is formed. As shown in FIG. 18 which is a plan view, the bank portion 157 is provided in a region surrounding the display region 8 from the outside outside the display region 8.
Examples of the material of the bank portion 157 include various materials such as a material containing a liquid crystal compound, an acrylic or epoxy resin, and a material mixed with a material having high light absorption such as carbon black or chromium. Can be employed. In addition, it is preferable to mix a material having high light absorption such as carbon black or chromium in order to suppress light leakage from the bank portion 157.

土手部157の形成では、例えばスピンコート技術を活用して樹脂などで第1配向膜93上に樹脂膜を形成してからこの樹脂膜を、例えばフォトリソグラフィ技術を活用してパターニングすることによって形成され得る。
土手部157の形成に次いで、平面視で土手部157に囲まれた領域内に液状体膜95bを形成する。
次いで、フォトマスク151を介して、液状体膜95bを露光する。これにより、液状体膜95bに、図6に示す位相差部位101が形成される。
次いで、液状体膜95bが位相差配向状態から等方配向状態に転移している状態で、液状体膜95bを露光する。これにより、図6に示す等方部位103が形成され、等方部位103と位相差部位101とを有する位相差膜95が形成され得る。
The bank portion 157 is formed by, for example, forming a resin film on the first alignment film 93 with a resin or the like using a spin coat technique and then patterning the resin film using a photolithography technique, for example. Can be done.
Following the formation of the bank portion 157, a liquid film 95b is formed in a region surrounded by the bank portion 157 in plan view.
Next, the liquid film 95 b is exposed through the photomask 151. Thereby, the phase difference part 101 shown in FIG. 6 is formed in the liquid film 95b.
Next, the liquid film 95b is exposed in a state where the liquid film 95b is transitioned from the phase difference alignment state to the isotropic alignment state. Thereby, the isotropic part 103 shown in FIG. 6 is formed, and the retardation film 95 having the isotropic part 103 and the retardation part 101 can be formed.

なお、第2実施形態においても、位相差部位101を形成してから等方部位103を形成する順序に限定されず、等方部位103を形成してから位相差部位101を形成する順序も採用され得る。
第2実施形態においても、第1実施形態と同様の効果が得られる。
さらに、第2実施形態では、土手部157を形成してから、この土手部157に囲まれる領域内に液状体膜95bを形成するので、液状体95aの流れ出しが堰き止められた状態で液状体膜95bに露光を施すことができる。これにより、位相差部位101と等方部位103との形状差を一層抑えやすくすることができる。
In the second embodiment, the order of forming the isotropic portion 103 after forming the phase difference portion 101 is not limited, and the order of forming the phase difference portion 101 after forming the isotropic portion 103 is also adopted. Can be done.
In the second embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
Further, in the second embodiment, since the bank portion 157 is formed and then the liquid film 95b is formed in the region surrounded by the bank portion 157, the liquid body 95a is prevented from flowing out. The film 95b can be exposed. Thereby, the shape difference between the phase difference part 101 and the isotropic part 103 can be further suppressed.

なお、第1実施形態及び第2実施形態では、それぞれ、液晶19の駆動方式としてFFS型の駆動方式が採用されているが、駆動方式はこれに限定されず、IPS(In Plane Switching)型、VA(Vertical Alignment)型等の種々の方式が採用され得る。   In the first embodiment and the second embodiment, the FFS type driving method is adopted as the driving method of the liquid crystal 19, but the driving method is not limited to this, and an IPS (In Plane Switching) type, Various methods such as a VA (Vertical Alignment) type may be employed.

また、第1実施形態及び第2実施形態では、それぞれ、位相差膜95が対向基板17側に設けられている場合を例に説明したが、位相差膜95はこれに限定されず、駆動素子基板15側に設けられていてもよい。   In the first embodiment and the second embodiment, the case where the retardation film 95 is provided on the counter substrate 17 side has been described as an example. However, the retardation film 95 is not limited thereto, and the drive element It may be provided on the substrate 15 side.

また、第1実施形態及び第2実施形態では、それぞれ、入射された光に対して1/2波長の位相差を与える位相差部位101を例に説明したが、位相差部位101が与える位相差はこれに限定されず、1/4波長、1/8波長などの種々の位相差が採用され得る。   In the first embodiment and the second embodiment, the phase difference part 101 that gives a half-wave phase difference to incident light has been described as an example. However, the phase difference given by the phase difference part 101 is described. However, the present invention is not limited to this, and various phase differences such as ¼ wavelength and 1 / wavelength can be adopted.

上述した表示装置1は、例えば、図19に示す電子機器500の表示部510に適用され得る。この電子機器500は、携帯電話機である。この電子機器500は、操作ボタン511を有している。表示部510は、操作ボタン511で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について表示を行うことができる。この電子機器500では、表示部510に表示装置1が適用されているので、表示部510におけるコントラストの向上が図られる。   The display device 1 described above can be applied to, for example, the display unit 510 of the electronic device 500 illustrated in FIG. This electronic device 500 is a mobile phone. This electronic device 500 has operation buttons 511. The display unit 510 can display various information including information input by the operation buttons 511 and incoming call information. In this electronic apparatus 500, since the display device 1 is applied to the display unit 510, the contrast in the display unit 510 can be improved.

なお、電子機器500としては、携帯電話機に限られず、モバイルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム用の表示機器などの車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。また、表示パネル3や液晶パネル10は、プロジェクタ等の投写型表示装置にライトバルブとして適用され得る。   The electronic device 500 is not limited to a mobile phone, and includes various electronic devices such as mobile computers, digital still cameras, digital video cameras, in-vehicle devices such as display devices for car navigation systems, and audio devices. The display panel 3 and the liquid crystal panel 10 can be applied as light valves to a projection display device such as a projector.

第1実施形態における表示装置の主要構成を示す分解斜視図。The disassembled perspective view which shows the main structures of the display apparatus in 1st Embodiment. 図1中のA−A線における断面図。Sectional drawing in the AA in FIG. 第1実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a part of a plurality of pixels in the first embodiment. 図3中のC部の拡大図。The enlarged view of the C section in FIG. 図4中のD−D線における断面図。Sectional drawing in the DD line | wire in FIG. 図5中のE部を示す図。The figure which shows the E section in FIG. 図6中のF−F線における断面図。Sectional drawing in the FF line | wire in FIG. 第1実施形態におけるTFT素子、共通電極及び画素電極の配置を説明する平面図。The top view explaining arrangement | positioning of the TFT element in 1st Embodiment, a common electrode, and a pixel electrode. 第1実施形態における表示パネルの透過領域における偏光状態を説明する図。The figure explaining the polarization state in the transmissive area | region of the display panel in 1st Embodiment. 第1実施形態における表示パネルの反射領域における偏光状態を説明する図。The figure explaining the polarization state in the reflective area | region of the display panel in 1st Embodiment. 第1実施形態における駆動素子基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the drive element board | substrate in 1st Embodiment. 第1実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the opposing board | substrate in 1st Embodiment. 第1実施形態における対向基板の製造工程における液状体膜を示す平面図。The top view which shows the liquid film in the manufacturing process of the opposing board | substrate in 1st Embodiment. 第1実施形態における対向基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the opposing board | substrate in 1st Embodiment. 位相差部位と等方部位との形状差の例を説明する断面図。Sectional drawing explaining the example of the shape difference of a phase difference site | part and an isotropic site | part. 第1実施形態における対向基板の製造工程の他の例を説明する図。The figure explaining the other example of the manufacturing process of the opposing board | substrate in 1st Embodiment. 第1実施形態における対向基板の製造工程の他の例における液状体膜を示す平面図。The top view which shows the liquid film in the other example of the manufacturing process of the opposing substrate in 1st Embodiment. 第2実施形態における土手部を示す平面図。The top view which shows the bank part in 2nd Embodiment. 本実施形態における表示装置が適用された電子機器の斜視図。The perspective view of the electronic device to which the display apparatus in this embodiment was applied.

符号の説明Explanation of symbols

1…表示装置、3…表示パネル、7…画素、8…表示領域、10…液晶パネル、15…駆動素子基板、17…対向基板、19…液晶、51…第1基板、53a…第1面、53b…第2面、81…第2基板、83a…外向面、83b…対向面、93…第1配向膜、95…位相差膜、95a…液状体、95b…液状体膜、101…位相差部位、103…等方部位、151…フォトマスク、153…紫外光、155…開口部、157…土手部、161…フォトマスク、163…開口部、500…電子機器、510…表示部、H…反射領域、T…透過領域、M…マトリクス。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Display apparatus, 3 ... Display panel, 7 ... Pixel, 8 ... Display area, 10 ... Liquid crystal panel, 15 ... Drive element board | substrate, 17 ... Opposite substrate, 19 ... Liquid crystal, 51 ... 1st board | substrate, 53a ... 1st surface 53b ... second surface, 81 ... second substrate, 83a ... outward surface, 83b ... opposite surface, 93 ... first alignment film, 95 ... retardation film, 95a ... liquid, 95b ... liquid film, 101 ... position Phase difference part, 103 ... isotropic part, 151 ... photomask, 153 ... UV light, 155 ... opening, 157 ... bank, 161 ... photomask, 163 ... opening, 500 ... electronic device, 510 ... display, H ... reflective area, T ... transmissive area, M ... matrix.

Claims (12)

互いに対向する一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜とを有し、前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有する液晶装置の製造方法であって、
前記一方の基板の前記液晶側に、前記位相差膜を構成する材料を含む液状体で液状体膜を形成する工程と、
前記液状体膜の一部を硬化させて、前記位相差部位及び前記等方部位のいずれか一方の部位を形成する工程と、
前記一方の部位を形成する工程の後に、前記液状体膜のうちで前記一方の部位の外側の少なくとも一部を硬化させて、前記位相差部位及び前記等方部位の他方の部位を形成する工程と、を有し、
前記他方の部位を形成する工程の前に、前記一方の部位で前記他方の部位の形成領域を囲む土手部を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。
A liquid crystal interposed between a pair of substrates opposed to each other; and a retardation film interposed between the one of the pair of substrates and the liquid crystal; A method of manufacturing a liquid crystal device having a phase difference portion that imparts a phase difference and an isotropic portion that is optically isotropic,
Forming a liquid film with a liquid containing a material constituting the retardation film on the liquid crystal side of the one substrate;
Curing a part of the liquid film to form one of the phase difference portion and the isotropic portion; and
After the step of forming the one portion, at least a part of the liquid film outside the one portion is cured to form the other portion of the phase difference portion and the isotropic portion. And having
Before the step of forming the other part, a bank part surrounding the formation region of the other part is formed at the one part.
前記一方の部位を形成する工程において、前記土手部を形成することを特徴とする請求項1に記載の液晶装置の製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, wherein the bank portion is formed in the step of forming the one portion. 前記液晶装置には、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、
前記位相差部位の形成では、平面視で各前記反射領域を含む領域内の前記液状体膜を、前記入射光に前記位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、前記位相差部位を形成し、
前記等方部位の形成では、平面視で各前記透過領域を含む領域内の前記液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、前記等方部位を形成することを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置の製造方法。
In the liquid crystal device, a plurality of pixels are set in a display area where an image can be displayed, and in each of the pixels, a transmissive area for performing transmissive display and a reflective area for performing reflective display are set.
In the formation of the phase difference portion, the liquid film in the region including each of the reflection regions in a plan view is cured while maintaining the property of imparting the phase difference to the incident light, and the phase difference portion is formed. Forming,
In the formation of the isotropic portion, the isotropic portion is formed by curing the liquid film in a region including each of the transmission regions in a plan view while maintaining optical isotropy. A method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1 or 2.
前記土手部の形成では、前記他方の部位の形成領域を前記表示領域の外側から前記表示領域ごと囲む前記土手部を形成することを特徴とする請求項3に記載の液晶装置の製造方法。   4. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 3, wherein in forming the bank portion, the bank portion is formed so as to surround the formation region of the other part together with the display region from the outside of the display region. 前記位相差膜を構成する材料が液晶化合物を含んでおり、
前記位相差部位の形成では、前記液晶化合物の配向状態を前記液晶化合物が前記入射光に前記位相差を付与する位相差配向状態に保ったまま、前記液晶化合物を硬化させて前記位相差部位を形成し、
前記等方部位の形成では、前記液晶化合物の配向状態を前記液晶化合物が光学的に等方性を示す等方配向状態に保ったまま、前記液晶化合物を硬化させて前記等方部位を形成することを特徴とする請求項3又は4に記載の液晶装置の製造方法。
The material constituting the retardation film contains a liquid crystal compound,
In the formation of the phase difference site, the liquid crystal compound is cured while the liquid crystal compound is maintained in a phase alignment state in which the liquid crystal compound imparts the phase difference to the incident light. Forming,
In the formation of the isotropic portion, the liquid crystal compound is cured to form the isotropic portion while maintaining the alignment state of the liquid crystal compound in an isotropic alignment state in which the liquid crystal compound is optically isotropic. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 3 or 4, wherein:
前記液晶化合物が光重合性を有しており、
前記液状体膜を形成する工程の前に、前記液晶化合物の配向状態を前記位相差配向状態に規制する配向膜を、前記一方の基板の前記液晶側に形成する工程を有し、
前記液状体膜を形成する工程では、前記液状体で前記配向膜を覆う前記液状体膜を形成し、
前記位相差部位の形成では、前記位相差部位を形成すべき領域内の前記液状体膜に光を照射して前記位相差部位を形成し、
前記等方部位の形成では、前記液晶化合物を加熱することで前記液晶化合物の配向状態を前記等方配向状態に転移させてから、前記等方部位を形成すべき領域内の前記液状体膜に前記光を照射して前記等方部位を形成し、
前記土手部の形成では、前記土手部を形成すべき領域内の前記液状体膜に前記光を照射して前記土手部を形成することを特徴とする請求項5に記載の液晶装置の製造方法。
The liquid crystal compound has photopolymerizability;
Before the step of forming the liquid film, the step of forming an alignment film that regulates the alignment state of the liquid crystal compound to the retardation alignment state on the liquid crystal side of the one substrate,
In the step of forming the liquid film, the liquid film covering the alignment film with the liquid is formed,
In the formation of the phase difference part, the liquid film in the region where the phase difference part is to be formed is irradiated with light to form the phase difference part,
In the formation of the isotropic portion, the liquid crystal compound is heated to change the alignment state of the liquid crystal compound to the isotropic alignment state, and then is applied to the liquid film in the region where the isotropic portion is to be formed. Irradiating the light to form the isotropic region;
6. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 5, wherein in forming the bank portion, the bank portion is formed by irradiating the liquid film in a region where the bank portion is to be formed with the light. .
前記配向膜を形成する工程では、前記一方の基板において平面視で前記表示領域を外側から囲む領域にわたって前記配向膜を形成し、
前記一方の部位を形成する工程では、前記位相差部位を形成することを特徴とする請求項6に記載の液晶装置の製造方法。
In the step of forming the alignment film, the alignment film is formed over a region surrounding the display region from the outside in a plan view on the one substrate,
The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 6, wherein the phase difference portion is formed in the step of forming the one portion.
互いに対向する一対の基板間に介在する液晶と、前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜とを有し、画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、各前記画素に対応して、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定された液晶装置の製造方法であって、
前記一方の基板の前記液晶側に、前記表示領域を平面視で前記表示領域の外側から囲む土手部を形成する工程と、
少なくとも前記土手部の内側に、前記位相差膜を構成する材料を含む液状体で、前記表示領域を覆う液状体膜を形成する工程と、
平面視で各前記反射領域を含む領域内の前記液状体膜を、入射光に位相差を付与する性質に保ったまま硬化させて、位相差部位を形成する工程と、
平面視で前記位相差部位が形成されるべき領域の外側で各前記透過領域を含む領域内の前記液状体膜を、光学的な等方性に保ったまま硬化させて、等方部位を形成する工程と、を有し、
前記位相差部位を形成する工程及び前記等方部位を形成する工程のうちのいずれか一方の工程の後に、前記位相差部位を形成する工程及び前記等方部位を形成する工程のうちの他方の工程を実施することを特徴とする液晶装置の製造方法。
A liquid crystal interposed between a pair of substrates facing each other, and a retardation film interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal, and in a display area where an image can be displayed A method of manufacturing a liquid crystal device in which a plurality of pixels are set, and a transmissive region for performing transmissive display and a reflective region for performing reflective display are set corresponding to each of the pixels,
Forming a bank portion surrounding the display area from the outside of the display area in a plan view on the liquid crystal side of the one substrate;
Forming a liquid film covering the display region with a liquid containing a material constituting the retardation film at least inside the bank portion;
Curing the liquid film in a region including each of the reflection regions in a plan view while maintaining the property of imparting a phase difference to incident light to form a phase difference portion;
The liquid film in the region including each of the transmission regions outside the region where the phase difference region is to be formed in plan view is cured while maintaining optical isotropy to form an isotropic region. And a step of
After one of the step of forming the phase difference portion and the step of forming the isotropic portion, the other of the step of forming the phase difference portion and the step of forming the isotropic portion. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising performing the steps.
互いに対向する一対の基板と、
前記一対の基板間に介在する液晶と、
前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、を有し、
前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、光学的に等方性を示す等方部位とを有しており、
前記位相差部位及び前記等方部位のうち、一方の部位を形成した領域が、他方の部位を形成した領域によって囲まれていることを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates facing each other;
A liquid crystal interposed between the pair of substrates;
A retardation film interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal;
The retardation film has a phase difference portion that imparts a phase difference to incident light, and an isotropic portion that is optically isotropic,
The liquid crystal device, wherein a region in which one of the phase difference portion and the isotropic portion is formed is surrounded by a region in which the other portion is formed.
互いに対向する一対の基板と、
前記一対の基板間に介在する液晶と、
前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、を有し、
画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、
各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、
前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、入射光に対して光学的に等方性を示す等方部位と、を有しており、
前記位相差部位は、各前記反射領域に平面視で重なる領域に設けられており、
前記等方部位は、各前記透過領域に平面視で重なる領域に設けられており、
前記位相差部位又は前記等方部位の一方が、平面視で前記表示領域の外側で前記表示領域を囲む領域にも設けられていることを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates facing each other;
A liquid crystal interposed between the pair of substrates;
A retardation film interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal;
Multiple pixels are set in the display area where the image can be displayed,
In each of the pixels, a transmissive region for performing transmissive display and a reflective region for performing reflective display are set.
The retardation film has a phase difference portion that imparts a phase difference to incident light, and an isotropic portion that is optically isotropic with respect to the incident light.
The phase difference portion is provided in a region overlapping each reflection region in plan view,
The isotropic portion is provided in a region overlapping each transmission region in plan view,
One of the phase difference portion or the isotropic portion is also provided in a region surrounding the display region outside the display region in a plan view.
互いに対向する一対の基板と、
前記一対の基板間に介在する液晶と、
前記一対の基板のうちの一方の前記基板と前記液晶との間に介在する位相差膜と、
平面視で前記位相差膜を囲む土手部と、を有し、
画像が表示され得る表示領域内に複数の画素が設定されており、
各前記画素には、透過表示を行う透過領域及び反射表示を行う反射領域が設定されており、
前記位相差膜は、入射光に位相差を付与する位相差部位と、入射光に対して光学的に等方性を示す等方部位と、を有しており、
前記位相差部位は、各前記反射領域に平面視で重なる領域に設けられており、
前記等方部位は、各前記透過領域に平面視で重なる領域に設けられており、
前記土手部は、前記位相差膜を平面視で前記表示領域の外側で囲んでいることを特徴とする液晶装置。
A pair of substrates facing each other;
A liquid crystal interposed between the pair of substrates;
A retardation film interposed between one of the pair of substrates and the liquid crystal;
A bank portion surrounding the retardation film in plan view,
Multiple pixels are set in the display area where the image can be displayed,
In each of the pixels, a transmissive region for performing transmissive display and a reflective region for performing reflective display are set.
The retardation film has a phase difference portion that imparts a phase difference to incident light, and an isotropic portion that is optically isotropic with respect to the incident light.
The phase difference portion is provided in a region overlapping each reflection region in plan view,
The isotropic portion is provided in a region overlapping each transmission region in plan view,
The liquid crystal device, wherein the bank portion surrounds the retardation film outside the display region in a plan view.
前記一方の基板から前記位相差部位の前記液晶側の面までの距離と、前記一方の基板から前記等方部位の前記液晶側の面までの距離とが略同等であることを特徴とする請求項9乃至11のいずれか一項に記載の液晶装置。   The distance from the one substrate to the liquid crystal side surface of the retardation portion is substantially equal to the distance from the one substrate to the liquid crystal side surface of the isotropic portion. Item 12. The liquid crystal device according to any one of Items 9 to 11.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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