JP2009192676A - Method for manufacturing color filter, and color filter - Google Patents

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隆人 稲宮
Eizo Kaida
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a color filter by a nano-inprint process method with excellent productivity and with high precision by using a die having a reversed pattern of a fine projecting and recessing pattern to generate structural colors of R (red), G (green), and B (blue). <P>SOLUTION: The method for manufacturing the color filter includes: (1) a process to form a laminated body with a surface of a transfer layer adhering along the surface of the reversed pattern by mounting a surface of the die having a reversed pattern of a fine projecting and recessing pattern to generate the structural colors of R (red), G (green), and B (blue) on a surface of a photosetting transfer layer of a photosetting transfer sheet having the photosetting transfer layer composed of a pressure-deformable photosetting composition so as to bring the reversed pattern of the die into contact with the surface of the exposed transfer layer of the photosetting transfer sheet and pressurizing it; (2) a process to cure the transfer layer of the laminated body having the die with ultraviolet radiation; and (3) a process to arrange the fine projecting and recessing pattern for generating the structural colors on the surface of the transfer layer by removing the die. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ディスプレイ等に用いられるカラーフィルタ及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a color filter used for a display or the like and a manufacturing method thereof.

液晶ディスプレイ等のディスプレイのカラー化には、一般にカラーフィルタが使用されている。従来のカラーフィルタは、R(赤)、G(緑)、B(青)のそれぞれの色を透過するフィルタを、フォトリソグラフィ技術を用いて数十μmの寸法で配置し、各色を同時に点灯させることで全ての色を表示している。RGBの3色のカラーフィルタを塗り分けるためには、少なくとも4回のフォトリソグラフィが必要であることから、作製工程が複雑になりコスト高となっている。また、このようなカラーフィルタを用いることにより白色光源の透過率が1/3になって、残りの波長は吸収されるため、光の利用効率が低下する。   Color filters are generally used for colorizing displays such as liquid crystal displays. In the conventional color filter, filters that transmit each color of R (red), G (green), and B (blue) are arranged with a size of several tens of μm using a photolithographic technique, and each color is lit simultaneously. All colors are displayed. In order to separately paint the three color filters of RGB, photolithography is required at least four times, so that the manufacturing process is complicated and the cost is high. Also, by using such a color filter, the transmittance of the white light source becomes 1/3 and the remaining wavelengths are absorbed, so that the light utilization efficiency is lowered.

新しいカラーフィルタとして、特許文献1には、ある種の波長の干渉を利用した或いはいわゆる構造色による発色を利用したカラーフィルタが、また特許文献2には、光の波長オーダーの周期を持つサブ波長格子を用いたカラーフィルタが提案されている。サブ波長格子を用いることにより、特定の波長領域のみを透過するフィルタを作製することができる。これまでサブ波長格子の作製には光波長以下の寸法のパターニングが容易な電子線描画装置が使われてきたが、スループットやコスト高が問題であった。近年、安価かつ高スループットでナノパターンを作製する技術としてナノインプリントが注目されている。   As a new color filter, Patent Document 1 discloses a color filter using interference of a certain wavelength or color generation by so-called structural color, and Patent Document 2 discloses a sub-wavelength having a period of the wavelength order of light. A color filter using a lattice has been proposed. By using a subwavelength grating, a filter that transmits only a specific wavelength region can be produced. Until now, electron beam lithography systems that can be easily patterned with sub-wavelength dimensions have been used to fabricate sub-wavelength gratings, but there are problems with throughput and high cost. In recent years, nanoimprint has attracted attention as a technique for producing nanopatterns at low cost and high throughput.

ナノインプリントリソグラフィは、他のリソグラフィ技術に比べて安価でありながらナノオーダーの解像度を有する加工技術として注目されている。ナノインプリント技術は、ナノスケールの微小な凹凸のあるモールド(鋳型)を、樹脂薄膜などの被加工材料に押し付けることにより、型の形状の反転パターンを転写することができる。転写形状としては微細かつ平面的であり、被加工材としてはSi基板にレジスト膜を塗布したものが多い。転写方式は、熱可塑性材料に熱変形を利用して転写する熱式インプリントと、光硬化材料を型に充填したのち硬化させる光硬化式インプリントに大別される。   Nanoimprint lithography is attracting attention as a processing technique having a nano-order resolution while being cheaper than other lithography techniques. The nanoimprint technology can transfer a reversal pattern of the shape of a mold by pressing a mold (mold) having minute irregularities on a nanoscale against a material to be processed such as a resin thin film. The transferred shape is fine and planar, and the processed material is often a Si substrate coated with a resist film. The transfer method is roughly classified into a thermal imprint that transfers a thermoplastic material using thermal deformation and a photocurable imprint that is cured after filling a photocurable material in a mold.

従来カラーフィルタの作製に使われているフォトリソグラフィに替わり、サブ波長格子が用いられたディスプレイ用カラーフィルタを、ナノインプリントリソグラフィを用いて作製した場合、1回の作製工程で3色全てのサブ波長格子を作製することが可能になる。特許文献2では、ナノインプリントリソグラフィによりパターニングされたレジストをマスクとして格子材料をエッチングすることにより作製するか、あるいは、格子材料そのものを、ナノインプリントリソグラフィを用いて格子形状を形成することにより作製することが記載されている。これにより、作製コストの削減が期待できる。   When a color filter for a display using a sub-wavelength grating is manufactured using nanoimprint lithography instead of photolithography conventionally used for manufacturing a color filter, all three colors of sub-wavelength gratings are manufactured in one manufacturing process. Can be produced. Patent Document 2 describes that a lattice material is produced by etching using a resist patterned by nanoimprint lithography as a mask, or that the lattice material itself is produced by forming a lattice shape using nanoimprint lithography. Has been. Thereby, reduction of manufacturing cost can be expected.

特表2006−516108号Special table 2006-516108 特開2007−41555号JP 2007-41555 A

特許文献2では、ナノインプリント技術によりカラーフィルタの作製方法として、ナノスケールの微小な凹凸のあるモールド(鋳型)に、樹脂薄膜などの被加工材料に押し付けることで、型の形状の反転パターンを転写することによる方法が記載されている。樹脂薄膜などの被加工材料として、PMMA(ポリメチルメタクリレート)の熱可塑性樹脂が用いられている。しかしながら、被加工材料として熱可塑性樹脂を用いた場合は、樹脂の溶融、冷却が必要であり、工程として煩雑であり、また溶融の状態によって転写の精度が十分でない場合があるとの問題もある。   In Patent Document 2, as a method for producing a color filter by nanoimprint technology, a reversal pattern of the shape of a mold is transferred by pressing a mold (mold) with minute irregularities on a nanoscale against a work material such as a resin thin film. An optional method is described. As a material to be processed such as a resin thin film, a thermoplastic resin of PMMA (polymethyl methacrylate) is used. However, when a thermoplastic resin is used as a material to be processed, it is necessary to melt and cool the resin, which is complicated as a process, and there is a problem that transfer accuracy may not be sufficient depending on the melted state. .

従って、本発明は、R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型を用いて、ナノインプリントプロセス法によりカラーフィルタを高い生産性で精度良く製造する方法を提供することをその目的とする。   Therefore, the present invention uses a mold having a reversal pattern of fine concavo-convex patterns that generate structural colors of R (red), G (green), and B (blue), and uses a nanoimprint process method to produce a color filter with high productivity and accuracy. The object is to provide a method of producing well.

また、本発明は、高い生産性で得ることができる、R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンを有するカラーフィルタを提供することをその目的とする。   Another object of the present invention is to provide a color filter having a fine concavo-convex pattern that generates a structural color of R (red), G (green), and B (blue), which can be obtained with high productivity.

上記目的は、
下記の工程(1)〜(3):
(1)加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートの当該光硬化性転写層の表面に、R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型の該表面を、光硬化性転写シートの露出した転写層に、該金型の反転パターンが転写層の表面に接触するように裁置、押圧して転写層の表面が反転パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程;
(2)金型を有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させる工程、及び
(3)金型を除去することにより、転写層の表面に構造色生成のための微細凹凸パターンを設ける工程;
を含むカラーフィルタの製造方法;
により達成される。
The above purpose is
The following steps (1) to (3):
(1) R (red) G (green) B (blue) on the surface of the photocurable transfer layer of the photocurable transfer sheet having a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressure. ) Such that the surface of the mold having the reversal pattern of the fine concavo-convex pattern that generates the structural color is brought into contact with the exposed transfer layer of the photocurable transfer sheet, and the reversal pattern of the mold is in contact with the surface of the transfer layer. A step of forming a laminate in which the surface of the transfer layer is closely adhered along the surface of the reverse pattern by placing and pressing;
(2) a step of curing the transfer layer of the laminate having a mold by ultraviolet irradiation; and (3) a step of providing a fine uneven pattern for generating a structural color on the surface of the transfer layer by removing the mold;
A method for producing a color filter comprising:
Is achieved.

上記本発明の光硬化性転写シートの好適態様は以下の通りである。
(1)構造色生成のための微細凹凸パターンが、一定の格子周期で配列された格子である。
(2)構造色生成のための微細凹凸パターンが、有効屈折率の原理および共鳴格子の原理に基づき波長選択が行われ、格子周期又は格子高さを調整することにより所定の色を表現することが可能なパターンである。
(3)格子周期が、770nm以下である。
(4)スタンパが、ニッケル製である。
(5)紫外線照射を少なくとも300mJ/cm2の照射エネルギーで行う。
(6)光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む。
(7)光硬化性組成物が、滑剤として、リン原子含有化合物を含む。リン原子含有化合物が、リン酸エステル系化合物であることが好ましい。
(8)ポリマーのガラス転移温度が80℃以上である。
(9)光硬化性組成物のガラス転移温度が20℃未満である。
(10)ポリマーが、アクリル樹脂である。アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも50質量%含むアクリル樹脂であることが好ましい。アクリル樹脂が、光重合性官能基及び/又はヒドロキシル基を有するアクリル樹脂である。
(11)光硬化性組成物がさらにポリイソシアネート(ジイソシアネートが好ましい)を含む。
(12)メチルメタクリレートを50質量%以上有する。反応性希釈剤との適宜組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。
(13)ガラス転移温度が80℃以上のポリマーの数平均分子量が100000以上、及び/又は重量平均分子量が100000以上である。特に数平均分子量が100000〜300000、重量平均分子量が100000〜300000であることが好ましい。この分子量、アクリル樹脂の組成、及び反応性希釈剤の割合を、後述するように好適にすることにより特に優れた転写性と高い硬化速度を得ることができる。上記数平均分子量は、ポリスチレン標準を用いてGPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ)により測定する。
(14)光硬化性組成物が、光重合開始剤を0.1〜10質量%含む。
(15)光硬化性転写層の厚さが5〜300μmである。
Preferred embodiments of the photocurable transfer sheet of the present invention are as follows.
(1) A fine concavo-convex pattern for generating a structural color is a lattice arranged with a constant lattice period.
(2) The fine concavo-convex pattern for generating the structural color is wavelength-selected based on the principle of the effective refractive index and the principle of the resonant grating, and expresses a predetermined color by adjusting the grating period or the grating height. Is a possible pattern.
(3) The grating period is 770 nm or less.
(4) The stamper is made of nickel.
(5) Ultraviolet irradiation is performed with an irradiation energy of at least 300 mJ / cm 2 .
(6) The photocurable composition contains a polymer and a reactive diluent having a photopolymerizable functional group.
(7) The photocurable composition contains a phosphorus atom-containing compound as a lubricant. The phosphorus atom-containing compound is preferably a phosphate ester compound.
(8) The glass transition temperature of the polymer is 80 ° C. or higher.
(9) The glass transition temperature of the photocurable composition is less than 20 ° C.
(10) The polymer is an acrylic resin. The acrylic resin is preferably an acrylic resin containing at least 50% by mass of repeating units of methyl methacrylate. The acrylic resin is an acrylic resin having a photopolymerizable functional group and / or a hydroxyl group.
(11) The photocurable composition further contains polyisocyanate (preferably diisocyanate).
(12) 50% by mass or more of methyl methacrylate. Appropriate combination with a reactive diluent makes it easy to achieve both good transferability and excellent curability.
(13) The number average molecular weight of the polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher is 100,000 or more and / or the weight average molecular weight is 100,000 or more. In particular, the number average molecular weight is preferably 100,000 to 300,000 and the weight average molecular weight is preferably 100,000 to 300,000. By making the molecular weight, the composition of the acrylic resin, and the ratio of the reactive diluent suitable as described later, particularly excellent transferability and a high curing rate can be obtained. The number average molecular weight is measured by GPC (gel permeation chromatography) using a polystyrene standard.
(14) The photocurable composition contains 0.1 to 10% by mass of a photopolymerization initiator.
(15) The photocurable transfer layer has a thickness of 5 to 300 μm.

本発明は、
上記製造方法により得られるカラーフィルタ;にもある。
The present invention
There is also a color filter obtained by the above production method.

即ち、表面に、R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンを有する、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層の硬化層を有する光硬化性転写シートからなるカラーフィルタ。   That is, a cured layer of a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that is deformable by pressurization and has a fine concavo-convex pattern that generates structural colors of R (red), G (green), and B (blue) on the surface. A color filter comprising a photocurable transfer sheet having

上記製造方法の好適態様も上記本発明のカラーフィルタに適用することができる。   A preferred embodiment of the above manufacturing method can also be applied to the color filter of the present invention.

本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型を用いてナノインプリント技術によりカラーフィルタを製造するために、被成形材料として加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートを用いることにより、高い生産性で、精度の高いカラーフィルタを得ることができる。   According to the method for producing a color filter of the present invention, a color filter is produced by a nanoimprint technique using a mold having a reversal pattern of fine concavo-convex patterns that generate structural colors of R (red), G (green), and B (blue). Therefore, by using a photo-curable transfer sheet having a photo-curable transfer layer made of a photo-curable composition that can be deformed by pressure as a molding material, a color filter with high productivity and high accuracy is obtained. be able to.

上記光硬化性転写シートを用いることにより、微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型(スタンパ)の該パターンを忠実に転写することができ、そして硬化した転写シートの転写層からスタンパの剥離が容易であり、且つその硬化転写層を有するシートが優れた膜自立性を有している。このため、得られたシートの移動、巻き取り等のハンドリング性が極めて優れており、タクト(処理に必要な時間)を短くすることが可能となり、コスト低減も可能となる。   By using the above-mentioned photo-curable transfer sheet, the pattern of the mold (stamper) having a reversal pattern of the fine concavo-convex pattern can be faithfully transferred, and the stamper can be easily peeled off from the transfer layer of the cured transfer sheet. And the sheet having the cured transfer layer has excellent film self-supporting property. For this reason, handling properties such as movement and winding of the obtained sheet are extremely excellent, tact (time required for processing) can be shortened, and cost can be reduced.

本発明のカラーフィルタは、液晶ディスプレイ等のディスプレイのカラーフィルタに特に有用である。   The color filter of the present invention is particularly useful for a color filter of a display such as a liquid crystal display.

以下に図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本発明のカラーフィルタの製造方法について、図面を参照しながら実施の形態を詳細に説明する。この製造方法は、いわゆるナノインプリントプロセス法を利用した製造方法である。   Embodiments of the color filter manufacturing method of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. This manufacturing method is a manufacturing method using a so-called nanoimprint process method.

図1は本発明の製造方法で使用される光硬化性転写シート10の1例を示す断面図である。光硬化性転写層11は、一方の表面に、易接着層12aを有するポリマーフィルム12bからなる易接着フィルム12、及び他方の表面に剥離シート13が設けられている。易接着フィルム12は、易接着層12aにより光硬化性転写層11に強力に接着されている。従って、易接着層12aは、光硬化性転写層11、硬化後の光硬化性転写層11及びポリマーフィルム12bと優れた接着性を示す。また、ポリマーフィルム12bにより、光硬化性転写シート10及び硬化後の光硬化性転写シート10の膜自立性が付与されている。剥離シート13は、保護のためのシートで、通常使用時に除去される。剥離シートは、一般に、プラスチックシート上に剥離層が設けられたものであり、剥離層が光硬化性転写層11の表面と接触するように設けられている。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a photocurable transfer sheet 10 used in the production method of the present invention. The photocurable transfer layer 11 is provided with an easy adhesion film 12 made of a polymer film 12b having an easy adhesion layer 12a on one surface, and a release sheet 13 on the other surface. The easy adhesive film 12 is strongly bonded to the photocurable transfer layer 11 by the easy adhesive layer 12a. Therefore, the easy-adhesion layer 12a exhibits excellent adhesiveness with the photocurable transfer layer 11, the cured photocurable transfer layer 11 and the polymer film 12b. Moreover, the film self-supporting property of the photocurable transfer sheet 10 and the cured photocurable transfer sheet 10 is imparted by the polymer film 12b. The release sheet 13 is a protective sheet and is removed during normal use. The release sheet is generally a release sheet provided on a plastic sheet, and the release layer is provided in contact with the surface of the photocurable transfer layer 11.

図2に、本発明のカラーフィルタの製造方法における代表的な実施の形態の概略を描いた断面図を示す。まず剥離シート13を除去した易接着フィルム12の易接着層12a表面に設けられた光硬化性転写層11上に、R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型14を配置する。金型14は、金型22の微細凹凸パターンの反転パターンが光硬化性転写層11の表面に対向するように配置する(1)。続いて、光硬化性転写層11上に、金型14を押圧する(2)。押圧が可能なように、光硬化性転写層11は必要に応じて加熱される。常温で押圧可能であれば加熱する必要はない。この状態で、光硬化性転写層11を、光(UV)照射することにより硬化させる。その後、金型14を硬化した光硬化性転写層11から除去する(3)。このようにして、R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンを光硬化性転写層11の表面に形成する。   FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an outline of a typical embodiment in the method for producing a color filter of the present invention. First, fine irregularities that generate structural colors of R (red), G (green), and B (blue) on the photocurable transfer layer 11 provided on the surface of the easy-adhesion layer 12a of the easy-adhesion film 12 from which the release sheet 13 has been removed. A mold 14 having a pattern reversal pattern is disposed. The mold 14 is arranged so that the reverse pattern of the fine uneven pattern of the mold 22 faces the surface of the photocurable transfer layer 11 (1). Then, the metal mold | die 14 is pressed on the photocurable transfer layer 11 (2). The photocurable transfer layer 11 is heated as necessary so that pressing is possible. If it can be pressed at room temperature, it is not necessary to heat. In this state, the photocurable transfer layer 11 is cured by irradiation with light (UV). Thereafter, the mold 14 is removed from the cured photocurable transfer layer 11 (3). In this manner, a fine concavo-convex pattern that generates structural colors of R (red), G (green), and B (blue) is formed on the surface of the photocurable transfer layer 11.

本発明では、金型14の微細凹凸パターンの反転パターンを有する表面に載置される光硬化性転写層11は加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層である。このため、金型14の微細凹凸パターンの反転パターンを有する表面に沿って光硬化性転写層11が緊密に追従することができ、微細凹凸パターンを正確に転写することができる。   In the present invention, the photocurable transfer layer 11 placed on the surface of the mold 14 having the reverse pattern of the fine concavo-convex pattern is a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressure. For this reason, the photocurable transfer layer 11 can closely follow the surface of the mold 14 having the reversal pattern of the fine concavo-convex pattern, and the fine concavo-convex pattern can be accurately transferred.

本発明では、上記ナノインプリントによる成形を連続的に行うこともできる。なお本発明の光硬化性転写シートは、光硬化性転写層を易接着層上に形成した後、少なくとも30分程度経過した後使用することが好ましい。これにより、光硬化性転写層と易接着層との優れた密着性を確保することができる。   In the present invention, the molding by the nanoimprint can be continuously performed. The photocurable transfer sheet of the present invention is preferably used after at least about 30 minutes have passed after the photocurable transfer layer is formed on the easy-adhesion layer. Thereby, the outstanding adhesiveness of a photocurable transfer layer and an easily bonding layer is securable.

R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型14、及び光硬化性転写層11上に形成されるR(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンの部分拡大図を、それぞれ図3の(1)及び(2)に示す。図3の(2)のR(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンは、R(赤)の構造色を生成する領域(例、格子周期300nm、格子幅165nm、格子厚さ100、フィルファクタF0.5)、G(緑)の構造色を生成する領域(例、格子周期340nm、格子幅110nm、格子厚さ100、フィルファクタF0.32)、B(青)の構造色を生成する領域(例、格子周期400nm、格子幅200nm、格子厚さ100、フィルファクタF0.5)が形成されている。裏面から光を照射することにより、R領域には赤色光、G領域には緑色光、B領域には青色光が透過する。   R (red) G (green) formed on the mold 14 having a reversal pattern of fine concavo-convex patterns that generate structural colors of R (red) G (green) B (blue), and the photocurable transfer layer 11 Partial enlarged views of the fine concavo-convex pattern that generates the structural color of B (blue) are shown in (1) and (2) of FIG. 3, respectively. The fine concavo-convex pattern that generates the structural color of R (red), G (green), and B (blue) in (2) of FIG. 3 is an area that generates the structural color of R (red) (for example, a grating period of 300 nm, a grating width) 165 nm, lattice thickness 100, fill factor F0.5), regions for generating G (green) structural colors (eg, lattice period 340 nm, lattice width 110 nm, lattice thickness 100, fill factor F0.32), B ( A region (for example, a lattice period of 400 nm, a lattice width of 200 nm, a lattice thickness of 100, and a fill factor of F0.5) for generating a structural color of blue is formed. By irradiating light from the back surface, red light is transmitted through the R region, green light is transmitted through the G region, and blue light is transmitted through the B region.

図3の(1)の金型14には上記の反転パターンが設けられている。   The above-described reversal pattern is provided on the mold 14 shown in FIG.

R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンは、一定の格子周期で配列された格子であることが好ましい。また有効屈折率の原理および共鳴格子の原理に基づき波長選択が行われ、格子周期または格子高さを調整することにより所定の色を表現すること可能なパターンであることが好ましい。格子周期が、770nm以下であることが好ましい。   The fine concavo-convex pattern that generates the structural colors of R (red), G (green), and B (blue) is preferably a lattice arranged with a constant lattice period. Further, it is preferable that the wavelength is selected based on the principle of effective refractive index and the principle of resonant grating, and the pattern can express a predetermined color by adjusting the grating period or the grating height. The grating period is preferably 770 nm or less.

R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンのサブ波長周期格子を作製するにあたって、一般に、その回折効率を計算するためにRigorous Coupled-Wave Analysis (RCWA)法を用いる。RCWA法とは周期構造の厳密的な電磁界解析方法の一つである。RCWA法は回折格子をフーリエ級数展開で表し、電磁場との結合方程式を求め、これを境界条件の下で数値的に解くことで回折効率を算出する計算手法である(Daniel H.Raguin and G.Michael Morris, “Analysis of antireflection-structured surfaces with continuous one-dimensional surface profiles”, Appl.Opt.32(14), (1993) 2582.;金森義明:博士論文、東北大学工学研究科(2001)参照)。この方法は、周期構造を高さ方向に多層分割して、各層の電磁界はMaxwell方程式の固有モードで展開して取り扱うため、マルチレベル格子として解析することができる。また、周期構造における誘電率分布をフーリエ級数展開で表現するため、任意の格子形状に対して適用することができる。   Rigorous Coupled-Wave Analysis (RCWA) method is generally used to calculate the diffraction efficiency of sub-wavelength periodic gratings with fine concavo-convex patterns that generate R (red), G (green), and B (blue) structural colors. Is used. The RCWA method is one of strict electromagnetic field analysis methods for periodic structures. The RCWA method is a calculation method for calculating diffraction efficiency by expressing a diffraction grating by Fourier series expansion, obtaining a coupling equation with an electromagnetic field, and solving this numerically under boundary conditions (Daniel H. Raguin and G. Michael Morris, “Analysis of antireflection-structured surfaces with continuous one-dimensional surface profiles”, Appl. Opt. 32 (14), (1993) 2582 .; Kanamori Yoshiaki: Ph.D. . In this method, the periodic structure is divided into multiple layers in the height direction, and the electromagnetic field of each layer is developed and handled in the eigenmode of the Maxwell equation, so that it can be analyzed as a multilevel lattice. In addition, since the dielectric constant distribution in the periodic structure is expressed by Fourier series expansion, it can be applied to any lattice shape.

このR(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンを形成するためのこの微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型14は、例えば、次のようにして作製される。   A mold 14 having a reversal pattern of the fine concavo-convex pattern for forming the fine concavo-convex pattern for generating the structural colors of R (red), G (green), and B (blue) is produced, for example, as follows. The

基板にはSOQ(Silicon on Quartz)基板を使用する。まず、SOQ基板にレジストを塗布し、EB(Electron Beam)描画装置を用いて、1次元のサブ波長格子をパターニングする。その後、FAB(Fast Atom Beam)を用いてレジストのパターンをSi層に転写する。   An SOQ (Silicon on Quartz) substrate is used as the substrate. First, a resist is applied to the SOQ substrate, and a one-dimensional subwavelength grating is patterned using an EB (Electron Beam) drawing apparatus. Thereafter, the resist pattern is transferred to the Si layer using FAB (Fast Atom Beam).

上記EB描画は集光した電子ビームでレジストを露光することで、微細なパターンを描画することが可能となる。今回描画するパターンは、光学設計の結果を元にR、G、Bの各パターンにおいてそれぞれ格子周期を変化させてEB描画を行う。   In the EB drawing, a fine pattern can be drawn by exposing a resist with a focused electron beam. The pattern drawn this time is EB drawing by changing the grating period in each of R, G, and B patterns based on the result of optical design.

レジストは、EBポジレジストZEP520を使用した。作製するサブ波長格子の厚さが100nmであるため、EB描画後に行うSiエッチングとFABの選択比を考慮すると、レジストの厚さは300nmで十分である。4000rpmでスピンコートにより、厚さ350nmのレジストを塗布するまた、SOQ基板はSi層が100nmと非常に薄いため、チャージアップなどの現象が起き、EB描画をしてもきれいにパターニングできない。そのため、今回はレジストの上に導電性ポリマー(エスペイサー100)を塗布する。これにより、チャージアップの心配なくEB描画が可能になる。現像液はZED-N50を、リンスとしてMIBK(Methyl Isobutyl Ketone)を使用した。現像液とリンスの温度を一定に保つために恒温槽を使用する。   The resist used was EB positive resist ZEP520. Since the thickness of the sub-wavelength grating to be manufactured is 100 nm, considering the selection ratio between Si etching and FAB performed after EB writing, a resist thickness of 300 nm is sufficient. A 350 nm thick resist is applied by spin coating at 4000 rpm. Also, the SOQ substrate has a very thin Si layer of 100 nm, so that a phenomenon such as charge-up occurs and patterning cannot be performed cleanly even with EB drawing. Therefore, this time, a conductive polymer (Espacer 100) is applied on the resist. This enables EB drawing without worrying about charging up. ZED-N50 was used as the developer, and MIBK (Methyl Isobutyl Ketone) was used as the rinse. Use a thermostatic bath to keep the temperature of the developer and rinse constant.

EBで描画したパターンをSi層に転写するために、FABを用いてSiをエッチングする。FABは、電気的に中性の原子あるいは分子からなるビームで、非常に高い指向性を持つ。したがって、従来にICP-RIEなどのイオンビームによるエッチングで問題となるウェハ表面のチャージアップの影響を受けないため、より鋭利で微細なパターンを形成することができる。FABによるエッチングで、Si層にサブ波長格子のパターンが形成される。FABの加工条件は、Siのエッチレートが21nm/minであるため、厚さ100nmの格子を形成するために5分エッチングする。   In order to transfer the pattern drawn by EB to the Si layer, Si is etched using FAB. FAB is a beam consisting of electrically neutral atoms or molecules and has very high directivity. Therefore, since it is not affected by the charge-up of the wafer surface, which has been a problem with conventional etching using an ion beam such as ICP-RIE, a sharper and finer pattern can be formed. Etching with FAB forms a subwavelength grating pattern in the Si layer. The FAB processing conditions are that the etch rate of Si is 21 nm / min, so etching is performed for 5 minutes to form a 100 nm thick grating.

上記の方法を利用して、基板にはSi基板を使用し、R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンを形成するためのこの微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型14を得る。このような金型14の製造方法は、特開2007―42555号公報に記載されている。   Using the above method, an Si substrate is used as the substrate, and an inverted pattern of this fine concavo-convex pattern for forming a fine concavo-convex pattern that generates a structural color of R (red) G (green) B (blue) Is obtained. A method for manufacturing such a mold 14 is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-42555.

ニッケル金型の場合、サブ波長格子のパターンが形成されたSi層に、無電解めっき、電気メッキ(ニッケルめっき)を施して、Si層を除去することにより得られる。   In the case of a nickel mold, the Si layer on which the sub-wavelength grating pattern is formed is obtained by electroless plating or electroplating (nickel plating) and removing the Si layer.

本発明の光硬化性転写層11は、金型(スタンパ)の微細凹凸パターン表面を押圧することにより精確に転写できるように、加圧により変形し易い層であるとともに、硬化後において金型の剥離性にも優れた層である。即ち、光硬化性転写層11は、光硬化性組成物(一般に、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む)からなるものである。光硬化性組成物は、さらに滑剤として特定のリン原子含有化合物を含んでいることが好ましい。特定の滑剤を含むことにより、硬化した転写層の表面が金型と剥離しやすい状態となるため、硬化した転写層の一部が金型に付着することがほとんど無い。また、硬化した転写層は易接着フィルム12が接着されているので、転写層は、易接着フィルム12と一体となって、自立性を有しているため金型の剥離が極めて容易となっている。   The photocurable transfer layer 11 of the present invention is a layer that is easily deformed by pressure so that it can be accurately transferred by pressing the surface of the fine concavo-convex pattern of the mold (stamper). It is a layer with excellent peelability. That is, the photocurable transfer layer 11 is made of a photocurable composition (generally containing a polymer and a reactive diluent having a photopolymerizable functional group). The photocurable composition preferably further contains a specific phosphorus atom-containing compound as a lubricant. By including a specific lubricant, the surface of the cured transfer layer is easily peeled off from the mold, so that a portion of the cured transfer layer hardly adheres to the mold. Further, since the easily transferable film 12 is bonded to the cured transfer layer, the transfer layer is integrated with the easily adhesive film 12 and is self-supporting, so that the mold can be peeled off very easily. Yes.

加えて、上記のように硬化転写層と金型との剥離性が大幅に向上しているので、金型を除去する際の負荷も小さくなっている。従って、金型に硬化転写層の一部が付着することが無いため、硬化転写層の表面の凹凸部分が転写されたまま完全に残ることができ、欠陥のない微細凹凸パターンを得ることができる。   In addition, since the peelability between the cured transfer layer and the mold is significantly improved as described above, the load when removing the mold is also reduced. Accordingly, since a part of the cured transfer layer does not adhere to the mold, the uneven part on the surface of the cured transfer layer can be completely transferred and a fine uneven pattern without defects can be obtained. .

本発明では、光硬化性組成物は、ポリマーとして、ガラス転移温度が80℃以上のポリマーを含むことが好ましい。これにより、金型の微細凹凸パターンが容易に転写でき、その後の硬化も高速で行うことができる。また硬化された形状も高いTg有するのでその形状が変わることなく長期に維持され得る。ガラス転移温度が80℃以上のポリマーとしては、重合性官能基を有することが、反応性希釈剤と反応が可能となり硬化の高速化に有利である。またヒドロキシル基を有することにより、転写層11にジイソシアネートを含ませることで、ポリマーを僅かに架橋させることが可能となり、転写層のしみ出し、層厚変動が大きく抑えられた層とするのに特に有利である。ジイソシアネートは、ヒドロキシル基の無いポリマーでもある程度有効である。   In the present invention, the photocurable composition preferably contains a polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher as the polymer. Thereby, the fine uneven | corrugated pattern of a metal mold | die can be transcribe | transferred easily, and subsequent hardening can also be performed at high speed. Further, since the cured shape also has a high Tg, the shape can be maintained for a long time without changing. A polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher has a polymerizable functional group, which can react with a reactive diluent and is advantageous in increasing the speed of curing. In addition, by including a diisocyanate in the transfer layer 11 by having a hydroxyl group, it is possible to slightly crosslink the polymer, and in particular, a layer in which the transfer layer oozes out and the layer thickness fluctuation is greatly suppressed can be obtained. It is advantageous. Diisocyanates are effective to some extent even in polymers without hydroxyl groups.

本発明で使用される易接着フィルム12は、ポリマーフィルム12b及びその上の易接着層12aからなるものである。   The easy-adhesion film 12 used in the present invention is composed of a polymer film 12b and an easy-adhesion layer 12a thereon.

本発明において、ポリマーフィルム12bは、一般にポリエステルフィルムである。このポリエステルは、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルである。   In the present invention, the polymer film 12b is generally a polyester film. This polyester is a linear saturated polyester synthesized from an aromatic dibasic acid or an ester-forming derivative thereof and a diol or an ester-forming derivative thereof.

このようなポリエステルの例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ(1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート)、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等を挙げることができ、これらの共重合体又はこれと副成分(50モル%未満)としての他樹脂とのブレンドであってもよい。これらのポリエステルのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので好ましい。特に、ポリエチレン−2,6−ナフタレートは機械的強度の大きさ、熱収縮率の小ささ、加熱時のオリゴマー発生量の少なさなどの点でポリエチレンテレフタレートに優っており最も好ましい。   Examples of such polyesters include polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate, poly (1,4-cyclohexylenedimethylene terephthalate), polyethylene-2,6-naphthalate and the like. These copolymers or blends thereof with other resins as subcomponents (less than 50 mol%) may also be used. Among these polyesters, polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate are preferable because of a good balance between mechanical properties and optical properties. In particular, polyethylene-2,6-naphthalate is most preferable because it is superior to polyethylene terephthalate in terms of mechanical strength, low thermal shrinkage, and a small amount of oligomer generated during heating.

ポリエステルは、ホモポリマーでも、第三成分を共重合したコポリマーでもよいが、ホモポリマーが好ましい。ポリエステルがポリエチレンテレフタレートである場合、コポリマーとしてイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレートが最適である。このイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレートは、イソフタル酸が5モル%以下であることが好ましい。ポリエステルにはイソフタル酸以外の共重合成分または共重合アルコール成分が、その特性を損なわない範囲、例えば全酸成分又は全アルコール成分に対して3モル%以下の割合で、共重合されていてもよい。共重合酸成分の例としては、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、1,10−デカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸等を挙げることができ、またアルコール成分としては、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等の脂肪族ジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族ジオール等を挙げることができる。これらは単独または二種以上を使用することができる。   The polyester may be a homopolymer or a copolymer obtained by copolymerizing the third component, but a homopolymer is preferred. When the polyester is polyethylene terephthalate, isophthalic acid copolymerized polyethylene terephthalate is optimal as the copolymer. The isophthalic acid copolymerized polyethylene terephthalate preferably contains 5% by mole or less of isophthalic acid. The polyester may be copolymerized with a copolymer component or copolymer alcohol component other than isophthalic acid in a range that does not impair the properties thereof, for example, in a proportion of 3 mol% or less with respect to the total acid component or the total alcohol component. . Examples of copolymeric acid components include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and 1,10-decanedicarboxylic acid. Examples of the alcohol component include aliphatic diols such as 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and neopentyl glycol, and alicyclic diols such as 1,4-cyclohexanedimethanol. be able to. These can be used alone or in combination of two or more.

ポリエステルが、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートである場合、主たるジカルボン酸成分としてナフタレンジカルボン酸が用いられ、主たるグリコール成分としてエチレングリコールが用いられる。ナフタレンジカルボン酸としては、例えば2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸を挙げることができ、これらの中で2,6−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。ここで「主たる」とは、本発明のフィルムの成分であるポリマーの構成成分において全繰返し単位の少なくとも90モルl%、好ましくは少なくとも95モル%を意味する。   When the polyester is polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate, naphthalenedicarboxylic acid is used as the main dicarboxylic acid component, and ethylene glycol is used as the main glycol component. Examples of naphthalenedicarboxylic acid include 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and 1,5-naphthalenedicarboxylic acid. Among these, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid is preferable. Here, “main” means at least 90 mol%, preferably at least 95 mol%, of all repeating units in the polymer constituting component of the film of the present invention.

コポリマーの場合、コポリマーを構成する共重合成分としては、分子内に2つのエステル形成性官能基を有する化合物を用いることができ、このような化合物としては、例えば、蓚酸、アジピン酸、フタル酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、4,4'−ジフェニルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、テトラリンジカルボン酸、デカリンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等の如きジカルボン酸、p−オキシ安息香酸、p−オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸、或いはプロピレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサンメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、ジエチレングリコール、ポリエチレンオキシドグリコール等の2価アルコールを好ましく用いることができる。   In the case of a copolymer, a compound having two ester-forming functional groups in the molecule can be used as a copolymerization component constituting the copolymer. Examples of such a compound include oxalic acid, adipic acid, phthalic acid, Sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, phenylindanedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, tetralindicarboxylic acid, decalindicarboxylic acid Dicarboxylic acid such as diphenyl ether dicarboxylic acid, oxycarboxylic acid such as p-oxybenzoic acid and p-oxyethoxybenzoic acid, or propylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, cyclohexane Dihydric alcohols such as ethylene glycol, neopentyl glycol, ethylene oxide adduct of bisphenolsulfone, ethylene oxide adduct of bisphenol A, diethylene glycol, polyethylene oxide glycol and the like can be preferably used.

これらの化合物は1種のみ用いてもよく、2種以上を用いることができる。またこれらの中で好ましくは酸成分としては、イソフタル酸、テレフタル酸、4,4'−ジフェニルジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、p−オキシ安息香酸であり、グリコール成分としてはトリメチレングリコール、ヘキサメチレングリコールネオペンチルグリコール、ビスフェノールスルホンのエチレンオキサイド付加物である。   These compounds may be used alone or in combination of two or more. Of these, the acid component is preferably isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, p-oxybenzoic acid, and the glycol component is trimethylene glycol. , An ethylene oxide adduct of hexamethylene glycol neopentyl glycol and bisphenol sulfone.

また、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレートは、例えば安息香酸、メトキシポリアルキレングリコールなどの一官能性化合物によって末端の水酸基および/またはカルボキシル基の一部または全部を封鎖したものであってよく、極く少量の例えばグリセリン、ペンタエリスリトール等の如き三官能以上のエステル形成性化合物で実質的に線状のポリマーが得られる範囲内で共重合したものであってもよい。   The polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate may be one in which a terminal hydroxyl group and / or a carboxyl group is partially or entirely blocked with a monofunctional compound such as benzoic acid or methoxypolyalkylene glycol. Further, it may be one obtained by copolymerizing a very small amount of an ester-forming compound such as glycerin or pentaerythritol within a range in which a substantially linear polymer is obtained.

本発明におけるポリエステルは従来公知の方法で、例えばジカルボン酸とグリコールの反応で直接低重合度ポリエステルを得る方法や、ジカルボン酸の低級アルキルエステルとグリコールとを従来公知のエステル交換触媒である、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ストロンチウム、チタン、ジルコニウム、マンガン、コバルトを含む化合物の一種または二種以上を用いて反応させた後、重合触媒の存在下で重合反応を行う方法で得ることができる。重合触媒としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモンのようなアンチモン化合物、二酸化ゲルマニウムで代表されるようなゲルマニウム化合物、テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラフェニルチタネートまたはこれらの部分加水分解物、蓚酸チタニルアンモニウム、蓚酸チタニルカリウム、チタントリスアセチルアセトネートのようなチタン化合物を用いることができる。   The polyester in the present invention is a conventionally known method, for example, a method of directly obtaining a low polymerization degree polyester by reaction of dicarboxylic acid and glycol, or a lower alkyl ester of dicarboxylic acid and glycol are conventionally known transesterification catalysts, such as sodium It can be obtained by performing a polymerization reaction in the presence of a polymerization catalyst after reacting with one or more of compounds containing potassium, magnesium, calcium, zinc, strontium, titanium, zirconium, manganese, and cobalt. it can. Polymerization catalysts include antimony compounds such as antimony trioxide and antimony pentoxide, germanium compounds represented by germanium dioxide, tetraethyl titanate, tetrapropyl titanate, tetraphenyl titanate or partial hydrolysates thereof, and titanyl ammonium oxalate. , Titanium compounds such as potassium titanyl oxalate and titanium trisacetylacetonate can be used.

エステル交換反応を経由して重合を行う場合は、重合反応前にエステル交換触媒を失活させる目的でトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ−n−ブチルホスフェート、正リン酸等のリン化合物が通常は添加されるが、リン元素としてのポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレート中の含有量が20〜100ppmであることがポリエステルの熱安定性の点から好ましい。   When polymerization is performed via a transesterification reaction, a phosphorus compound such as trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tri-n-butyl phosphate, or normal phosphoric acid is usually added for the purpose of deactivating the transesterification catalyst before the polymerization reaction. However, the content of polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate as the phosphorus element is preferably 20 to 100 ppm from the viewpoint of thermal stability of the polyester.

なお、ポリエステルは、溶融重合後これをチップ化し、加熱減圧下または窒素などの不活性気流中において更に固相重合を施してもよい。   The polyester may be converted into chips after melt polymerization, and further subjected to solid phase polymerization under heating under reduced pressure or in an inert gas stream such as nitrogen.

本発明においてポリエステルは、エチレンテレフタレート単位またはエチレン−2,6−カルボキシレート単位を90モル%以上、好ましくは95%以上、更に好ましくは97%以上有するポリエステルが好ましい。ポリエステルの固有粘度は0.40dl/g以上であることが好ましく、0.40〜0.90dl/gであることが更に好ましい。固有粘度が0.40dl/g未満では工程切断が多発することがある。また0.9dl/gより高いと溶融粘度が高いため溶融押出しが困難になり、重合時間が長く不経済であり好ましくない。本発明におけるポリエステルフィルムは、実質的に粒子を含有していない必要がある。粒子を含有していると高透明性が損なわれたり、表面が粗面化してしまう。   In the present invention, the polyester is preferably a polyester having an ethylene terephthalate unit or an ethylene-2,6-carboxylate unit of 90 mol% or more, preferably 95% or more, more preferably 97% or more. The intrinsic viscosity of the polyester is preferably 0.40 dl / g or more, and more preferably 0.40 to 0.90 dl / g. If the intrinsic viscosity is less than 0.40 dl / g, process cutting may occur frequently. On the other hand, if it is higher than 0.9 dl / g, melt viscosity is high and melt extrusion becomes difficult, and the polymerization time is long and uneconomical. The polyester film in the present invention needs to contain substantially no particles. If the particles are contained, the high transparency is impaired or the surface becomes rough.

本発明におけるポリエステルフィルムは、長手方向の140g/mm2荷重下の200℃での寸法変化率が−2〜+2%である必要がある。−2%未満または+2%を越えると、ポリエステルフィルム上に機能層を積層する際、あるいは積層した後に積層体にひび割れが生じたり、逆にしわが寄ることで積層体が破壊されるなどして充分な機能が発揮できなくなる。140g/mm2荷重下の200℃での寸法変化率は、より好ましくは−1.5〜+1.5%、さらに好ましくは−1〜+1%、特に好ましくは−0.5〜+0.5%である。本発明の高透明性易接着ポリエステルフィルムは、ヘーズ値が1.5%以下であることが好ましい。さらに好ましいヘーズ値は1.0%以下、特に好ましくは0.5%以下である。 The polyester film in the present invention needs to have a dimensional change rate of −2 to + 2% at 200 ° C. under a load of 140 g / mm 2 in the longitudinal direction. If it is less than -2% or exceeds + 2%, it is sufficient when the functional layer is laminated on the polyester film, or after the lamination, the laminate is cracked, or conversely, the laminate is destroyed by wrinkling. Function cannot be demonstrated. The dimensional change rate at 200 ° C. under a load of 140 g / mm 2 is more preferably −1.5 to + 1.5%, further preferably −1 to + 1%, and particularly preferably −0.5 to + 0.5%. It is. The highly transparent and easily adhesive polyester film of the present invention preferably has a haze value of 1.5% or less. A more preferred haze value is 1.0% or less, particularly preferably 0.5% or less.

3次元中心線平均粗さは、両面共に好ましくは0.0001〜0.02μm、さらに好ましくは、0.0001〜0.015μm、さらに好ましくは0.0001〜0.010μmである。特に、少なくとも片面の3次元中心線平均粗さが0.0001〜0.005μmであると、機能層を積層したときの機能層表面が極めて平坦となるので好ましい。少なくとも片面の最も好ましい表面粗さは、0.0005〜0.004μmである。   The three-dimensional centerline average roughness is preferably 0.0001 to 0.02 μm on both sides, more preferably 0.0001 to 0.015 μm, and still more preferably 0.0001 to 0.010 μm. In particular, it is preferable that the three-dimensional centerline average roughness of at least one surface is 0.0001 to 0.005 μm because the functional layer surface when the functional layers are laminated becomes extremely flat. The most preferable surface roughness of at least one surface is 0.0005 to 0.004 μm.

本発明における易接着フィルムのポリマーフィルムの厚さは1〜500μmであることが好ましく、より好ましくは3〜400μm、更に好ましくは6〜300μm、特に好ましくは12〜250μmである。   The thickness of the polymer film of the easy-adhesion film in the present invention is preferably 1 to 500 μm, more preferably 3 to 400 μm, still more preferably 6 to 300 μm, and particularly preferably 12 to 250 μm.

本発明の易接着フィルムのポリエステルフィルムの好ましい製造方法について説明する。なおガラス転位温度をTgと略記する。本発明におけるポリエステルフィルムは、ポリエステルをフィルム状に溶融押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、この未延伸フィルムをTg〜(Tg+60)℃で長手方向に1回もしくは2回以上合計の倍率が3倍〜6倍になるよう延伸し、その後Tg〜(Tg+60)℃で幅方向に倍率が3〜5倍になるように延伸し、必要に応じて更にTm180℃〜255℃で1〜60秒間熱処理を行うことにより得ることができる。   The preferable manufacturing method of the polyester film of the easily bonding film of this invention is demonstrated. The glass transition temperature is abbreviated as Tg. In the polyester film of the present invention, the polyester is melt-extruded into a film form, cooled and solidified with a casting drum to form an unstretched film, and this unstretched film is once or twice or more in the longitudinal direction at Tg to (Tg + 60) ° C. The film is stretched so that the magnification is 3 to 6 times, and then stretched so that the magnification is 3 to 5 times in the width direction at Tg to (Tg + 60) ° C., and further 1 to 1 at Tm 180 ° C. to 255 ° C. if necessary. It can be obtained by performing a heat treatment for 60 seconds.

本発明におけるポリエステルフィルム等のポリマーフィルムの少なくとも一方の表面には、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂の1種又は2種以上の混合物の易接着層が設けられる。ポリエステル樹脂とアクリル樹脂(好ましくは、オキサゾリン基等の官能基を有するもの)との組合せ(A)、ポリエステル樹脂とポリウレタン樹脂(好ましくは水溶性、水分散性ポリウレタン)の組合せ(B)が好ましい。   At least one surface of a polymer film such as a polyester film in the present invention is provided with an easy adhesion layer of one kind or a mixture of two or more kinds of polyester resin, polyurethane resin and acrylic resin. A combination (A) of a polyester resin and an acrylic resin (preferably having a functional group such as an oxazoline group), and a combination (B) of a polyester resin and a polyurethane resin (preferably water-soluble, water-dispersible polyurethane) are preferable.

組合せ(A)における、ポリエステル樹脂とオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の易接着層は、以下の構成を有する。   The easy-adhesion layer of the acrylic resin having a polyester resin, an oxazoline group and a polyalkylene oxide chain in the combination (A) has the following configuration.

組合せ(A)のポリエステル樹脂は、水(多少の有機溶剤を含有していても良い)に可溶性又は分散性のポリエステルが好ましい。   The polyester resin of the combination (A) is preferably a polyester that is soluble or dispersible in water (may contain some organic solvent).

このようなポリエステル樹脂として、以下の多塩基酸又はそのエステル形成誘導体とポリオール又はそのエステル形成誘導体から得られるポリエステルが好ましい。   As such a polyester resin, polyesters obtained from the following polybasic acids or ester-forming derivatives thereof and polyols or ester-forming derivatives thereof are preferable.

上記ポリエステル樹脂の多塩基酸成分としては例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸を挙げることができる。これら酸成分が2種以上の共重合ポリエステルであることが好ましい。尚、ポリエステル樹脂には、若干量であればマレイン酸、イタコン酸等の不飽和多塩基酸成分が、或いはP−ヒドロキシ安息香酸のようなヒドロキシカルボン酸成分が含まれていてもよい。   Examples of the polybasic acid component of the polyester resin include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, dimer acid, and 5-sodium sulfoisophthalic acid. be able to. These acid components are preferably two or more types of copolyester. The polyester resin may contain an unsaturated polybasic acid component such as maleic acid or itaconic acid, or a hydroxycarboxylic acid component such as P-hydroxybenzoic acid, if it is in a slight amount.

ポリエステル樹脂のポリオール成分としては、例えばエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパンや、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコール、あるいはこれらモノマーを挙げることができる。   Examples of the polyol component of the polyester resin include ethylene glycol, 1,4-butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, xylene glycol, dimethylolpropane, poly ( Mention may be made of ethylene oxide) glycol, poly (tetramethylene oxide) glycol, or these monomers.

組合せ(A)のアクリル樹脂は、オキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有することが好ましく、特に水(多少の有機溶剤を含有していても良い)に可溶性又は分散性のアクリル樹脂が好ましい。このようなオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂としては以下に示すようなモノマーを成分として含むものを挙げることができる。   The acrylic resin of the combination (A) preferably has an oxazoline group and a polyalkylene oxide chain, and particularly preferably an acrylic resin that is soluble or dispersible in water (may contain some organic solvent). Examples of the acrylic resin having such an oxazoline group and a polyalkylene oxide chain include those containing the following monomers as components.

オキサゾリン基を有するモノマーとしては、2−ビニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−ビニル−5−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−5−メチル−2−オキサゾリンを挙げることができ、これらの1種又は2種以上の混合物を使用することができる。これらの内、2−イソプロペニル−2−オキサゾリンが工業的に入手しやすく好適である。オキサゾリン基を有するアクリル樹脂を用いることにより塗布層の凝集力が向上し、転写層との密着性がより強固になる。   Examples of the monomer having an oxazoline group include 2-vinyl-2-oxazoline, 2-vinyl-4-methyl-2-oxazoline, 2-vinyl-5-methyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline, 2 -Isopropenyl-4-methyl-2-oxazoline and 2-isopropenyl-5-methyl-2-oxazoline can be mentioned, and one or a mixture of two or more thereof can be used. Of these, 2-isopropenyl-2-oxazoline is preferred because it is easily available industrially. By using an acrylic resin having an oxazoline group, the cohesive force of the coating layer is improved, and the adhesion to the transfer layer is further strengthened.

また、ポリアルキレンオキシド鎖を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸のエステル部にポリアルキレンオキシドを付与させたものを挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖はポリメチレンオキシド、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシド等を挙げることができる。ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位は3〜100であることが好ましい。ポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂を用いることにより、ポリエステル樹脂とアクリル樹脂の相溶性がポリアルキレンオキシド連鎖を含有しないアクリル樹脂と比較して向上し、易接着層の透明性を向上させることができる。なお、ポリアルキレンオキシド鎖の繰り返し単位が3より少ないとポリエステル樹脂とアクリル樹脂との相溶性が低下して易接着層の透明性も低下し、100より大きい場合は易接着層の耐湿熱性が不十分となり、高湿度、高温下で転写層との密着性が悪化する。   Moreover, as a monomer which has a polyalkylene oxide chain | strand, what gave the polyalkylene oxide to the ester part of acrylic acid and methacrylic acid can be mentioned. Examples of the polyalkylene oxide chain include polymethylene oxide, polyethylene oxide, polypropylene oxide, and polybutylene oxide. The number of repeating units of the polyalkylene oxide chain is preferably 3 to 100. By using an acrylic resin having a polyalkylene oxide chain, the compatibility between the polyester resin and the acrylic resin is improved as compared with an acrylic resin not containing a polyalkylene oxide chain, and the transparency of the easy-adhesion layer can be improved. . When the number of repeating units of the polyalkylene oxide chain is less than 3, the compatibility between the polyester resin and the acrylic resin is lowered, and the transparency of the easy adhesion layer is also lowered. It becomes sufficient, and the adhesiveness with the transfer layer deteriorates at high humidity and high temperature.

アクリル樹脂のその他の共重合成分としては、例えば以下のモノマーを挙げることができる。即ち、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等);2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等)等のカルボキシル基又はその塩を有するモノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド、N,N−ジアルキルアクリルアミド、N,N−ジアルキルメタクリレート(アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等)、アクリロイルモルホリン、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー;ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエン等。   Examples of other copolymerization components of the acrylic resin include the following monomers. That is, alkyl acrylate, alkyl methacrylate (alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, 2-ethylhexyl, cyclohexyl, etc.); Hydroxy-containing monomers such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate and 2-hydroxypropyl methacrylate; Epoxy group-containing monomers such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate and allyl glycidyl ether; acrylic acid and methacrylic acid Carboxyl groups such as itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, styrene sulfonic acid and salts thereof (sodium salt, potassium salt, ammonium salt, tertiary amine salt, etc.) Monomers having salts thereof; acrylamide, methacrylamide, N-alkyl acrylamide, N-alkyl methacrylamide, N, N-dialkyl acrylamide, N, N-dialkyl methacrylate (alkoxy groups include methoxy group, ethoxy group, butoxy group, Monomers having an amide group such as isobutoxy group, acryloylmorpholine, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-phenylacrylamide, N-phenylmethacrylamide; acid anhydrides such as maleic anhydride and itaconic anhydride Monomer: Vinyl isocyanate, allyl isocyanate, styrene, α-methyl styrene, vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, vinyl trialkoxysilane, alkyl maleic acid monoester, Alkyl fumaric acid monoester, alkyl itaconic acid monoester, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinylidene chloride, ethylene, propylene, vinyl chloride, vinyl acetate, butadiene and the like.

易接着層を形成するポリエステル樹脂の易接着層中の含有割合は5〜95重量%であることが好ましく、特に50〜90重量%であることが好ましい。易接着層を形成するオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂の塗布層中の含有割合は5〜90重量%であることが好ましく、特に10〜50重量%であることが好ましい。ポリエステル樹脂が95重量%を超え、もしくはオキサゾリン基及びポリアルキレンオキシド鎖を有するアクリル樹脂が5重量%未満になると塗布層の凝集力が低下し、転写層への接着性が不十分となる場合があり、好ましくない。アクリル樹脂が90重量%を超えるとポリエステルフィルムとの密着性が低下し、転写層への接着性が不十分となる場合があり好ましくない。   It is preferable that the content rate in the easily bonding layer of the polyester resin which forms an easily bonding layer is 5-95 weight%, and it is preferable that it is especially 50-90 weight%. The content of the acrylic resin having an oxazoline group and a polyalkylene oxide chain forming the easy-adhesion layer in the coating layer is preferably 5 to 90% by weight, and particularly preferably 10 to 50% by weight. When the polyester resin exceeds 95% by weight, or the acrylic resin having an oxazoline group and a polyalkylene oxide chain is less than 5% by weight, the cohesive force of the coating layer is lowered, and the adhesion to the transfer layer may be insufficient. Yes, not preferred. When the acrylic resin exceeds 90% by weight, the adhesion to the polyester film is lowered, and the adhesion to the transfer layer may be insufficient, which is not preferable.

上記易接着層中には脂肪族ワックスを0.5〜30重量%含まれることが好ましく、1重量%〜10重量%含まれることが更に好ましい。この割合が0.5重量%より少ないとフィルム表面の滑性が得られないことがあり、好ましくない。30重量%を超えるとポリマーフィルムへの密着やハードコートや粘着剤等に対する易接着性が十分でない場合があり好ましくない。   The easy adhesion layer preferably contains 0.5 to 30% by weight of aliphatic wax, more preferably 1% to 10% by weight. If this ratio is less than 0.5% by weight, the film surface slipperiness may not be obtained, which is not preferable. If it exceeds 30% by weight, the adhesion to the polymer film and the easy adhesion to a hard coat or a pressure-sensitive adhesive may not be sufficient.

上記の脂肪族ワックスの例としては、カルナバワックス、キャンデリラワックス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油、パームワックス、ロジン変性ワックス、オウリキュリーワックス、サトウキビワックス、エスバルトワックス、バークワックス等の植物系ワックス、ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ、イボタロウ、セラックワックス等の動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシンワックス等の鉱物系ワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等の石油系ワックス、フィッシャートロプッシュワックス、ポリエチレンワックス、酸化ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、酸化ポリフロピレンワックス等の合成炭化水素系ワックス等を挙げることができる。更に、ハードコートや粘着剤等に対する易接着性と滑性が良好なことから、カルナバワックス、パラフィンワックス、ポリエチレンワックスがより好ましい。特に環境問題や取扱のし易さから水分散体がより好ましい。   Examples of the above-mentioned aliphatic wax include plant systems such as carnauba wax, candelilla wax, rice wax, wood wax, jojoba oil, palm wax, rosin modified wax, cucumber wax, sugar cane wax, esbalt wax and bark wax. Animal waxes such as wax, beeswax, lanolin, whale wax, ibota wax, shellac wax, mineral waxes such as montan wax, ozokerite, ceresin wax, petroleum waxes such as paraffin wax, microcrystalline wax, petrolactam, Fischer Tropu Examples thereof include synthetic hydrocarbon waxes such as wax, polyethylene wax, oxidized polyethylene wax, polypropylene wax and oxidized polyfloprene wax. Furthermore, carnauba wax, paraffin wax, and polyethylene wax are more preferable because they are easy to adhere to hard coats and pressure-sensitive adhesives and have good lubricity. In particular, an aqueous dispersion is more preferable because of environmental problems and ease of handling.

易接着層中には、平均粒子径が0.005〜0.5μmの範囲のフィラーを0.1〜20重量%含ませることが好ましい。塗布層中のフィラーの含有量が0.1重量%より少ないとフィルムの滑り性が不足し、ロール状に巻き取ることが困難になることがあり、20重量%を超えると塗布層の透明性が不足して、ディスプレイ用途に使用できなくなることがあり好ましくない。   The easy-adhesion layer preferably contains 0.1 to 20% by weight of a filler having an average particle size in the range of 0.005 to 0.5 μm. If the content of the filler in the coating layer is less than 0.1% by weight, the slipperiness of the film may be insufficient, and it may be difficult to wind the film into a roll. If the content exceeds 20% by weight, the transparency of the coating layer Is not preferable because it may be insufficient for display applications.

上記のフィラーとしては、例えば炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、ケイ酸ソーダ、水酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化ジルコニウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化錫、三酸化アンチモン、カーボンブラック、二硫化モリブデン等の無機微粒子、アクリル系架橋重合体、スチレン系架橋重合体、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、ナイロン樹脂、ポリエチレンワックス等の有機微粒子等を挙げることができる。これらのうち、水不溶性の固体物質は、水分散液中で沈降するのを避けるため、比重が3を超えない超微粒子を選ぶことが好ましい。   Examples of the filler include calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, silicon oxide, sodium silicate, aluminum hydroxide, iron oxide, zirconium oxide, barium sulfate, titanium oxide, tin oxide, and trioxide. Inorganic fine particles such as antimony, carbon black, molybdenum disulfide, organic fine particles such as acrylic cross-linked polymers, styrene cross-linked polymers, silicone resins, fluororesins, benzoguanamine resins, phenol resins, nylon resins, polyethylene waxes, etc. Can do. Among these, for the water-insoluble solid substance, it is preferable to select ultrafine particles whose specific gravity does not exceed 3 in order to avoid sedimentation in the aqueous dispersion.

上記組合せ(A)の易接着層の塗設に用いられる塗布液は、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。塗膜を形成するために、必要に応じて、前記組成物以外の他の樹脂、例えば帯電防止剤、着色剤、界面活性剤、紫外線吸収剤等を添加することができる。特に、滑剤を添加することで滑性、耐ブロッキング性を更に良好なものにすることができる。   The coating liquid used for coating the easy-adhesion layer of the combination (A) is preferably used in the form of an aqueous coating liquid such as an aqueous solution, an aqueous dispersion, or an emulsion. In order to form a coating film, other resins than the above composition, for example, an antistatic agent, a colorant, a surfactant, an ultraviolet absorber, and the like can be added as necessary. In particular, lubricity and blocking resistance can be further improved by adding a lubricant.

上記塗布液のポリエステルフィルムへの塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステルフィルムの製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステルフィルムに塗布するのが好ましい。ここで、結晶配向が完了する前のポリエステルフィルムとは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向または横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向および横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの(最終的に縦方向また横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム)等を含むものである。なかでも、未延伸フィルムまたは一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸および/または横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。   Application of the coating solution to the polyester film can be carried out at any stage, but it is preferably carried out during the production process of the polyester film, and further applied to the polyester film before completion of orientation crystallization. Is preferred. Here, the polyester film before the crystal orientation is completed is an unstretched film, a uniaxially oriented film in which the unstretched film is oriented in either the longitudinal direction or the transverse direction, and further in two directions, the longitudinal direction and the transverse direction. And the like that have been oriented at a low magnification (biaxially stretched film before being finally re-stretched in the machine direction or the transverse direction to complete orientation crystallization). In particular, it is preferable to apply the aqueous coating liquid of the above composition to an unstretched film or a uniaxially stretched film oriented in one direction, and perform longitudinal stretching and / or lateral stretching and heat setting as it is.

塗布液をフィルムに塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてフィルム表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいは組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。   When the coating solution is applied to the film, as a pretreatment for improving the coating property, the film surface is subjected to physical treatment such as corona surface treatment, flame treatment, plasma treatment, or chemically with the composition. It is preferable to use an inert surfactant in combination.

塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独または組合せて用いることができる。尚、塗膜は、必要に応じ、フィルムの片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。   As a coating method, any known coating method can be applied. For example, a roll coating method, a gravure coating method, a roll brush method, a spray coating method, an air knife coating method, an impregnation method, a curtain coating method and the like can be used alone or in combination. In addition, a coating film may be formed only in the single side | surface of a film as needed, and may be formed in both surfaces.

また、本発明の易接着層は、前記のポリエステル樹脂(好ましくは共重合ポリエステル樹脂)とポリウレタン樹脂(好ましくは水溶性、水分散性ポリウレタン)の組合せ(B)を含むことも好ましい。   The easy-adhesion layer of the present invention preferably contains a combination (B) of the above-mentioned polyester resin (preferably copolymer polyester resin) and polyurethane resin (preferably water-soluble, water-dispersible polyurethane).

上記共重合ポリエステル系樹脂単独では、ポリエステル等のポリマーフィルムとの接着性は十分であるが、転写層との接着性に劣る場合がある。また、ポリウレタン系樹脂単独では転写層とのとの接着性には優れるがポリエステル等のポリマーフィルムとの接着性に劣る場合がある。   The copolyester resin alone has sufficient adhesion to a polymer film such as polyester, but may be inferior to the transfer layer. In addition, the polyurethane resin alone is excellent in adhesion with the transfer layer, but may be inferior in adhesion with a polymer film such as polyester.

上記共重合ポリエステル系樹脂は、ジカルボン酸成分と分岐したグリコール成分を構成成分とする。前記の分岐したグリコール成分としては、例えば、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−イソプロピル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−n−ヘキシル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−n−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−2−n−ヘキシル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジ−n−ブチル−1,3−プロパンジオール、2−n−ブチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、及び2,2−ジ−n−ヘキシル−1,3−プロパンジオールを挙げることができる。   The copolymerized polyester resin includes a dicarboxylic acid component and a branched glycol component as constituent components. Examples of the branched glycol component include 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-ethyl-1,3-propanediol, and 2-methyl-2-butyl-1,3. -Propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-isopropyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-n-hexyl-1,3-propanediol 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-n-butyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-n-hexyl-1,3-propanediol, 2, 2-di-n-butyl-1,3-propanediol, 2-n-butyl-2-propyl-1,3-propanediol, and 2,2-di-n-hexyl-1,3-propanediol It can be mentioned.

上記の分岐したグリコール成分は、全グリコール成分の中に、好ましくは10モル%以上の割合で、さらに好ましくは20モル%以上の割合で含まれる。上記化合物以外のグリコール成分としては、エチレンリコールが最も好ましい。少量であれば、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオールまたは1,4−シクロヘキサンジメタノールなどを用いても良い。   The branched glycol component is contained in the total glycol component in a proportion of preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more. As the glycol component other than the above compounds, ethylene recall is most preferable. If it is a small amount, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol or the like may be used.

共重合ポリエステル系樹脂に構成成分として含有される、ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸及びイソフタル酸が最も好ましい。少量であれば他のジカルボン酸、特に、ジフェニルカルボン酸及び2,6−ナルタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸を加えて共重合させてもよい。前記ジカルボン酸成分の他に、水分散性を付与させるため、5−スルホイソフタル酸を1〜10モル%の範囲で使用するのが好ましく、例えば、スルホテレフタル酸、5−スルホイソフタル酸、4−スルホナフタレンイソフタル酸−2,7−ジカルボン酸及び5−(4−スルフォフェノキシ)イソフタル酸及びその塩類等を挙げることができる。   As the dicarboxylic acid component contained as a constituent component in the copolymer polyester resin, terephthalic acid and isophthalic acid are most preferable. If the amount is small, other dicarboxylic acids, particularly aromatic dicarboxylic acids such as diphenylcarboxylic acid and 2,6-naltalenedicarboxylic acid may be added and copolymerized. In addition to the dicarboxylic acid component, 5-sulfoisophthalic acid is preferably used in the range of 1 to 10 mol% in order to impart water dispersibility. For example, sulfoterephthalic acid, 5-sulfoisophthalic acid, 4- Examples thereof include sulfonaphthalene isophthalic acid-2,7-dicarboxylic acid and 5- (4-sulfophenoxy) isophthalic acid and salts thereof.

組合せ(B)で使用されるポリウレタン樹脂は、例えば、ブロック型イソシアネート基を含有する樹脂であり、末端イソシアネート基を親水性基で封鎖(以下ブロックと言う)した、熱反応型の水溶性ウレタン等を挙げることができる。上記イソシアネート基のブロック化剤としては、重亜硫酸塩類及びスルホン酸基を含有したフェノール類、アルコール類、ラクタム類オキシム類及び活性メチレン化合物類等を挙げることができる。ブロック化されたイソシアネート基はウレタンプレポリマーを親水化あるいは水溶化する。フィルム製造時の乾燥あるいは熱セット過程で、上記樹脂に熱エネルギーが与えられると、ブロック化剤がイソシアネート基からはずれるため、上記樹脂は自己架橋した編み目に混合した水分散性共重合ポリエステル樹脂を固定化するとともに、上記樹脂の末端基等とも反応する。塗布液調整中の樹脂は親水性であるため耐水性が劣るが、塗布、乾燥、熱セットして熱反応が完了すると、ウレタン樹脂の親水基、即ちブロック化剤がはずれるため、耐水性が良好な塗膜が得られる。   The polyurethane resin used in the combination (B) is, for example, a resin containing a block-type isocyanate group, and a thermally reactive water-soluble urethane having a terminal isocyanate group blocked with a hydrophilic group (hereinafter referred to as a block). Can be mentioned. Examples of the isocyanate group blocking agent include bisulfites and phenols, alcohols, lactam oximes and active methylene compounds containing sulfonic acid groups. The blocked isocyanate group makes the urethane prepolymer hydrophilic or water-soluble. When heat energy is applied to the resin during drying or heat setting during film production, the blocking agent is released from the isocyanate group, so the resin fixes a water-dispersible copolyester resin mixed in a self-crosslinked stitch. And reacts with the terminal groups of the resin. The resin being prepared is poor in water resistance because it is hydrophilic. However, when the thermal reaction is completed by coating, drying, and heat setting, the hydrophilic group of the urethane resin, that is, the blocking agent is released, so the water resistance is good. Can be obtained.

上記ブロック化剤の内、熱処理温度、熱処理時間が適当で、工業的に広く用いられるものとして、重亜硫酸塩類が最も好ましい。上記ポリウレタン樹脂において使用される、ウレタンプレポリマーの化学組成としては、(1)分子内に2個以上の活性水素原子を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは分子内に少なくとも2個の活性水素原子を有する分子量が200〜20,000の化合物、(2)分子内に2個以上のイソシアネート基を有する、有機ポリイソシアネート、あるいは(3)分子内に少なくとも2個活性水素原子を有する鎖伸長剤を反応させて得られる末端イソシアネート基を有する化合物である。   Of the above blocking agents, bisulfites are most preferred as those having a suitable heat treatment temperature and heat treatment time and widely used industrially. The chemical composition of the urethane prepolymer used in the polyurethane resin is as follows: (1) Organic polyisocyanate having two or more active hydrogen atoms in the molecule, or at least two active hydrogen atoms in the molecule A compound having a molecular weight of 200 to 20,000, (2) an organic polyisocyanate having two or more isocyanate groups in the molecule, or (3) a chain extender having at least two active hydrogen atoms in the molecule. A compound having a terminal isocyanate group.

上記(1)の化合物として一般に知られているものは、末端又は分子中に2個以上のヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基あるいはメルカプト基を含むものであり、特に好ましい化合物としては、ポリエーテルポリオールおよびポリエーテルエステルポリオール等を挙げることができる。 ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレンオキシド、及びプロピレンオキシド等のアルキレンオキシド類、或いはスチレンオキシドおよびエピクロルヒドリン等を重合した化合物、あるいはそれらのランダム重合、ブロック重合或いは多価アルコールへの付加重合により得られる化合物がある。   What is generally known as the compound of the above (1) is one containing two or more hydroxyl groups, carboxyl groups, amino groups or mercapto groups in the terminal or molecule, and particularly preferred compounds are polyether polyols. And polyether ester polyols. Examples of polyether polyols include compounds obtained by polymerizing alkylene oxides such as ethylene oxide and propylene oxide, or styrene oxide and epichlorohydrin, or compounds obtained by random polymerization, block polymerization, or addition polymerization to polyhydric alcohols. There is.

ポリエステルポリオール及びポリエーテルエステルポリオールは、一般に直鎖状あるいは分岐状である。コハク酸、アジピン酸、フタル酸及び無水マレイン酸等の多価の飽和或いは不飽和カルボン酸、或いはこのカルボン酸無水物等と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール及びトリメチロールプロパン等の多価の飽和及び不飽和のアルコール類、比較的低分子量のポリエチレングリコール及びポリプロピレングリコール等のポリアルキレンエーテルグリコール類、或いはそれらアルコール類の混合物とを縮合させることにより得ることができる。   The polyester polyol and polyether ester polyol are generally linear or branched. Polyvalent saturated or unsaturated carboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, phthalic acid and maleic anhydride, or carboxylic acid anhydrides, and the like, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1 Polyhydrene saturated and unsaturated alcohols such as 1,6-hexanediol and trimethylolpropane, polyalkylene ether glycols such as relatively low molecular weight polyethylene glycol and polypropylene glycol, or a mixture of these alcohols Can be obtained.

さらにポリエステルポリオールとしては、ラクトン及びヒドロキシ酸から得られるポリエステル類、またポリエーテルエステルポリオールとしては、あらかじめ製造されたポリエステル類にエチレンオキシド或いはプロピレンオキシド等を付加させたポリエーテルエステル類も使用することができる。   Furthermore, polyesters obtained from lactones and hydroxy acids can be used as polyester polyols, and polyether esters obtained by adding ethylene oxide, propylene oxide, or the like to polyesters prepared in advance can be used. .

上記(2)の有機ポリイソシアネートとしては、トルイレンジイソシアネートの異性体類、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類、キシリレンジイソシアネート等の芳香族脂肪族ジイソシアネート類、イソホロンジイソシアネート及び4,4−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート類、ヘキサメチレンジイソシアネート、及び2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート類、或いはこれらの化合物を単一又は複数でトリメチロールプロパン等とあらかじめ付加させたポリイソシアネート類を挙げることができる。   Examples of the organic polyisocyanate (2) include isomers of toluylene diisocyanate, aromatic diisocyanates such as 4,4-diphenylmethane diisocyanate, aromatic aliphatic diisocyanates such as xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate and 4,4. -Alicyclic diisocyanates such as dicyclohexylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and aliphatic diisocyanates such as 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, or a single or a plurality of these compounds with trimethylolpropane and the like in advance. The added polyisocyanate can be mentioned.

上記(3)の少なくとも2個の活性水素を有する鎖伸長剤としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、及び1,6−ヘキサンジオール等のグリコール類、グリセリン、トリメチロールプロパン、及びペンタエリスリトール等の多価アルコール類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、及びピペラジン等のジアミン類、モノエタノールアミン及びジエタノールアミン等のアミノアルコール類、チオジエチレングルコール等のチオジグリコール類、或いは水を挙げることができる。   Examples of the chain extender having at least two active hydrogens in (3) above include glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, and 1,6-hexanediol, glycerin, trimethylolpropane, and Examples include polyhydric alcohols such as pentaerythritol, diamines such as ethylenediamine, hexamethylenediamine, and piperazine, amino alcohols such as monoethanolamine and diethanolamine, thiodiglycols such as thiodiethylene glycol, or water. it can.

ウレタンプレポリマーを合成するには通常、上記鎖伸長剤を用いた一段式あるいは多段式イソシアネート重付加方法により、150℃以下、好ましくは70〜120℃の温度において、5分ないし数時間反応させる。活性水素原子に対するイソシアネート基の比は、1以上であれば自由に選べるが、得られるウレタンプレポリマー中に遊離のイソシアネート基が残存することが必要である。さらに、遊離のイソシアネート基の含有量は10重量%以下であればよいが、ブロック化された後のウレタンポリマー水溶液の安定性を考慮すると、7重量%以下であるのが好ましい。   In order to synthesize the urethane prepolymer, the reaction is usually carried out at a temperature of 150 ° C. or lower, preferably 70 to 120 ° C. for 5 minutes to several hours by a single-stage or multi-stage isocyanate polyaddition method using the chain extender. The ratio of isocyanate groups to active hydrogen atoms can be freely selected as long as it is 1 or more, but it is necessary that free isocyanate groups remain in the obtained urethane prepolymer. Furthermore, the content of the free isocyanate group may be 10% by weight or less, but considering the stability of the urethane polymer aqueous solution after being blocked, it is preferably 7% by weight or less.

得られた上記ウレタンプレポリマーは、好ましくは重亜硫酸塩を用いてブロック化を行う。重亜硫酸塩水溶液と混合し、約5分〜1時間、よく攪拌しながら反応を進行させる。反応温度は60℃以下とするのが好ましい。その後、水で希釈して適当な濃度にして、熱反応型水溶性ウレタン組成物とする。該組成物は使用する際、適当な濃度及び粘度に調製するが、通常80〜200℃前後に加熱すると、ブロック剤の重亜硫酸塩が解離し、活性なイソシアネート基が再生するために、プレポリマーの分子内あるいは分子間で起こる重付加反応によってポリウレタン重合体が生成したり、また他の官能基への付加を起こす性質を有するようになる。   The urethane prepolymer obtained is preferably blocked using bisulfite. Mix with an aqueous bisulfite solution and allow the reaction to proceed for about 5 minutes to 1 hour with good stirring. The reaction temperature is preferably 60 ° C. or lower. Thereafter, it is diluted with water to an appropriate concentration to obtain a heat-reactive water-soluble urethane composition. When the composition is used, it is prepared to have an appropriate concentration and viscosity. Usually, when heated to about 80 to 200 ° C., the bisulfite of the blocking agent is dissociated and the active isocyanate group is regenerated. A polyurethane polymer is produced by a polyaddition reaction that occurs within or between the molecules of the polymer, and has the property of causing addition to other functional groups.

上記に説明したブロック型イソシアネート基を含有する樹脂の1例としては、第一工業製薬(株)製の商品名エラストロンが代表的に例示される。エラストロンは、重亜硫酸ソーダによってイソシアネート基をブロックしたものであり、分子末端に強力な親水性を有するカルバモイルスルホネート基が存在するため、水溶性となっている。   As an example of the resin containing a block type isocyanate group described above, trade name Elastron manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. is typically exemplified. Elastolone is an isocyanate group blocked with sodium bisulfite, and is water-soluble because a carbamoylsulfonate group having strong hydrophilicity is present at the molecular end.

上記組合せ(B)で使用される、分岐したグリコール成分を含有する共重合ポリエステル樹脂(a)及びブロック型イソシアネート基を含有する樹脂(b)を混合して塗布液を調製する場合、樹脂(a)と樹脂(b)の重量比は(a):(b)=90:10〜10:90が好ましく、更に好ましくは(a):(b)=80:20〜20:80の範囲である。固形分重量に対する上記樹脂(a)の割合が10重量%未満では、ポリマーフィルムへの塗布性が不良で、表面層とフィルムとの間の接着性が不十分となる。固形分重量に対する上記樹脂(b)の割合が10重量%未満の場合には、転写層に対して実用性のある接着性が得られない。   When the coating liquid is prepared by mixing the copolymerized polyester resin (a) containing a branched glycol component and the resin (b) containing a block type isocyanate group used in the combination (B), the resin (a ) And the resin (b) are preferably (a) :( b) = 90: 10 to 10:90, more preferably (a) :( b) = 80: 20 to 20:80. . When the ratio of the resin (a) to the solid content is less than 10% by weight, the applicability to the polymer film is poor and the adhesion between the surface layer and the film is insufficient. When the ratio of the resin (b) to the solid content weight is less than 10% by weight, practical adhesion to the transfer layer cannot be obtained.

上記組合せ(B)の塗布液は、水性塗布液であることが好ましい。この塗布液を前記のポリマーフィルム表面に塗布する際には、フィルムへの濡れ性を改善させ、塗布液を均一にコートするために、公知のアニオン性活性剤およびノニオン性の界面活性剤を必要量添加して用いることができる。塗布液に用いる溶剤は、水の他にエタノール、イソプロピルアルコール及びベンジルアルコール等のアルコール類を、全塗布液に占める割合が50重量%未満となるまで混合してもよい。さらに、10重量%未満であれば、アルコール類以外の有機溶剤を溶解可能な範囲で混合してもよい。ただし、塗布液中、アルコール類とその他の有機溶剤との合計は、50重量%未満とする。   The coating liquid of the combination (B) is preferably an aqueous coating liquid. When this coating solution is applied to the surface of the polymer film, a known anionic surfactant and nonionic surfactant are required to improve the wettability to the film and coat the coating solution uniformly. An amount can be added and used. The solvent used for the coating solution may be mixed with alcohols such as ethanol, isopropyl alcohol and benzyl alcohol in addition to water until the proportion of the total coating solution is less than 50% by weight. Furthermore, if it is less than 10 weight%, you may mix in the range which can melt | dissolve organic solvents other than alcohol. However, the total of alcohols and other organic solvents in the coating solution is less than 50% by weight.

有機溶剤の添加量が50重量%未満であれば、塗布乾燥時に乾燥性が向上するとともに、水のみの場合と比較して塗布膜の外観向上の効果がある。50重量%以上では、溶剤の蒸発速度が速く塗工中に塗布液の濃度変化が起こり、粘度が上昇して塗工性が低下するために、塗布膜の外観不良を起こす恐れがあり、さらには火災などの危険性も考えられる。   If the addition amount of the organic solvent is less than 50% by weight, the drying property is improved at the time of coating and drying, and the appearance of the coating film is improved as compared with the case of using only water. If it is 50% by weight or more, the evaporation rate of the solvent is high and the concentration of the coating solution changes during coating, and the viscosity increases and the coating property decreases. May also be a fire hazard.

本発明の易接着層の厚さは、0.01〜0.3μmの範囲、特に0.02〜0.2μmの範囲あることが好ましい。   The thickness of the easy-adhesion layer of the present invention is preferably in the range of 0.01 to 0.3 μm, particularly preferably in the range of 0.02 to 0.2 μm.

本発明で使用される光硬化性転写シートは、上記本発明の易接着フィルム上に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有するものである。   The photocurable transfer sheet used in the present invention has a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressure on the easy-adhesive film of the present invention.

本発明の上記光硬化性組成物は、一般に、ポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃以上のポリマー)、光重合性官能基(一般に炭素炭素2重結合基、好ましくは(メタ)アクリロイル基)を有する反応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー)、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。本発明の光硬化性組成物は滑剤としてリン原子含有化合物を含むことが好ましい。    The photocurable composition of the present invention is generally composed of a polymer (preferably a polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher), a photopolymerizable functional group (generally a carbon-carbon double bond group, preferably a (meth) acryloyl group). Reactive diluents (monomers and oligomers) having a photopolymerizable initiator, and optionally other additives. The photocurable composition of the present invention preferably contains a phosphorus atom-containing compound as a lubricant.

リン原子含有化合物としては、金型材料に対して滑剤の機能を示すリン原子含有化合物であればどのようなものでも使用することができる。例えば、リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物及びリン酸アルキルエステル化合物等のリン酸アルキルエステル系化合物、リン酸塩及びリン酸アミド等を挙げることができる。   Any phosphorus atom-containing compound may be used as long as it is a phosphorus atom-containing compound that exhibits the function of a lubricant with respect to the mold material. For example, phosphoric acid alkyl ester compounds such as alkyl phosphate polyoxyalkylene compounds and phosphoric acid alkyl ester compounds, phosphates, and phosphoric acid amides can be used.

リン酸アルキルエステル化合物としては、例えば、リン酸トリアルキルエステル(例、トリオクチルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、トリスクロロエチルホスフェート)、リン酸トリアリールエステル(例、トリクレジルホスフェート、トリトリルホスフェート)等を挙げることができる。リン酸塩としては、例えば、リン酸のナトリウム塩(例、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸ナトリウム、ピロリン酸四ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム)を挙げることができる。またリン酸アミドとしては、例えば、トリス(エチレンイミノ)リン酸アミド、トリス(メチルエチレンイミノ)リン酸アミド、ヘキサメチルリン酸アミド等を挙げることができる。さらにリン脂質界面活性剤(例えばレシチン)、リンの塩素化合物(例、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン)等を挙げることができる。   Examples of phosphoric acid alkyl ester compounds include phosphoric acid trialkyl esters (eg, trioctyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, trischloroethyl phosphate), phosphoric acid triaryl esters (eg, tricresyl phosphate, tolyl phosphate), etc. Can be mentioned. Examples of the phosphate include sodium salt of phosphoric acid (eg, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, sodium phosphate, tetrasodium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, sodium tripolyphosphate). . Examples of phosphoric acid amides include tris (ethyleneimino) phosphoric acid amide, tris (methylethyleneimino) phosphoric acid amide, and hexamethylphosphoric acid amide. Furthermore, phospholipid surfactants (for example, lecithin), chlorine compounds of phosphorus (eg, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride) and the like can be mentioned.

本発明のリン原子含有化合物としては、リン酸アルキルエステル系化合物、特にリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物或いはリン酸エステル型陰イオン界面活性剤が好ましい。   The phosphorus atom-containing compound of the present invention is preferably an alkyl phosphate ester compound, particularly an alkyl phosphate polyoxyalkylene compound or a phosphate ester type anionic surfactant.

上記リン酸アルキルエステル系化合物としては、下記の一般式(I):   Examples of the phosphoric acid alkyl ester compounds include the following general formula (I):

Figure 2009192676
Figure 2009192676

[但し、R1、R2及びR3が、相互に独立してそれぞれ水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基、アリールアルキル基、アルキルポリオキシアルキレン基又はアリールポリオキシアルキレン基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、且つR1、R2及びR3の少なくとも1個は水素原子以外の基を表す。]
で表される化合物を使用することが好ましい。
[However, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group, an arylalkyl group, an alkylpolyoxyalkylene group or an arylpolyoxyalkylene group, Each may have a substituent, and at least one of R 1 , R 2 and R 3 represents a group other than a hydrogen atom. ]
It is preferable to use the compound represented by these.

上記一般式(I)において、アルキル基としては、一般に炭素原子数1〜10のアルキル基であり、アリール基としては一般にフェニル基であり、アルキルアリール基としては一般に炭素原子数1〜3のアルキル基を有するフェニル基であり、アリールアルキル基としては、一般にフェニルアルキル基(アルキル基は炭素原子数1〜3アルキル基)であり、アルキルポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数5〜20のアルキルポリオキシエチレン基又は炭素原子数7〜20のアルキルポリオキシプロピレン基であり、アリールポリオキシアルキレン基としては、一般に炭素原子数10〜30のアルキルフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数12〜30のアルキルフェニルポリオキシプロピレン基、或いは炭素原子数9〜30のフェニルポリオキシエチレン基又は炭素原子数11〜30のフェニルポリオキシプロピレン基である。置換基としては、ハロゲン(特に塩素、臭素)、アルキルアンモニウム塩(特に−N+(CH33)、ビニル基を挙げることができる。R1、R2及びR3の全てが水素原子以外の基であることが好ましく、R1、R2及びR3の全てが同一であることが特に好ましい。 In the above general formula (I), the alkyl group is generally an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, the aryl group is generally a phenyl group, and the alkylaryl group is generally an alkyl having 1 to 3 carbon atoms. A phenyl group having a group, the arylalkyl group is generally a phenylalkyl group (the alkyl group is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms), and the alkylpolyoxyalkylene group is generally a group having 5 to 20 carbon atoms. An alkylpolyoxyethylene group or an alkylpolyoxypropylene group having 7 to 20 carbon atoms, and an arylpolyoxyalkylene group is generally an alkylphenylpolyoxyethylene group having 10 to 30 carbon atoms or 12 to 30 carbon atoms. Alkylphenyl polyoxypropylene group, or 9 to 9 carbon atoms 0 is a polyoxyethylene group or a phenyl polyoxypropylene group having a carbon number of 11-30 in. Examples of the substituent include halogen (particularly chlorine and bromine), alkylammonium salt (particularly —N + (CH 3 ) 3 ), and a vinyl group. It is preferable that all of R 1 , R 2 and R 3 are groups other than hydrogen atoms, and it is particularly preferable that all of R 1 , R 2 and R 3 are the same.

上記リン酸アルキルエステル系化合物(I)は、特に下記の一般式(II):   The phosphoric acid alkyl ester compound (I) particularly has the following general formula (II):

Figure 2009192676
Figure 2009192676

[但し、R4が、アルキル基、アリール基、アルキルアリール基又はアリールアルキル基を表し、それぞれ置換基を有していても良く、
5が、 −CH2CH2−又は−CH(CH3)CH2−を表し、そして
nが1〜20を表す。]
リン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物であることが好ましい。
[However, R 4 represents an alkyl group, an aryl group, an alkylaryl group or an arylalkyl group, each of which may have a substituent,
R 5 represents —CH 2 CH 2 — or —CH (CH 3 ) CH 2 —, and n represents 1 to 20. ]
An alkylpolyoxyalkylene phosphate compound is preferred.

4において、アルキル基としては炭素原子数1〜20のアルキル基(例、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、セチル)、特に炭素原子数4〜18のアルキル基が好ましく、アリール基としてはフェニル基が好ましく、アルキルアリール基としては炭素原子数1〜3のアルキル基を有するフェニル基(特にメチルフェニル)が好ましく、アリールアルキル基としてはフェニルアルキル基(特にアルキル基は炭素原子数1〜3のアルキル基)が好ましい。置換基としては、ハロゲン(特に塩素、臭素)を挙げることができるが、有しないことが好ましい。 In R 4 , the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, propyl, butyl, octyl, cetyl), particularly an alkyl group having 4 to 18 carbon atoms. A phenyl group is preferred, and an alkylaryl group is preferably a phenyl group having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (particularly methylphenyl), and an arylalkyl group is preferably a phenylalkyl group (particularly an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms). Of the alkyl group). Examples of the substituent include halogen (especially chlorine and bromine), but preferably does not have.

またR5は−CH2CH2−が好ましい。nは、1〜10、特に2〜5が好ましい。 R 5 is preferably —CH 2 CH 2 —. n is preferably 1 to 10, particularly 2 to 5.

上記一般式(II)で表されるリン酸アルキルポリオキシアルキレン化合物は、商品名:LTP−2(川研ファインケミカル(株)製)、商品名:N3A及びN10A(クローダジャパン(株)製)が市場で入手可能であり、好ましい。上記N3Aは、式(II)におけるR1:オクチル、R2:−CH2CH2−、n:3である化合物、上記N10Aは、式(II)におけるR1:オクチル、R2:−CH2CH2−、n:10である化合物である。 The alkylpolyoxyalkylene phosphate compound represented by the above general formula (II) has a product name: LTP-2 (manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.), a product name: N3A and N10A (manufactured by Croda Japan Co., Ltd.). It is commercially available and is preferred. N3A is a compound in which R 1 is octyl, R 2 is —CH 2 CH 2 —, and n is 3 in formula (II), and N10A is R 1 is octyl in formula (II), and R 2 is —CH. 2 CH 2 —, n: 10.

リン原子含有化合物は、光硬化性組成物(不揮発分)中に0.01〜1質量%、特に0.01〜0.5質量%、中でも0.02〜0.2質量%の範囲で含まれている。1質量%より多い場合は、反射層への接着性が低下し、0.01質量%より少ない場合は、スタンパからの剥離性が十分に良好とは言えない。   The phosphorus atom-containing compound is contained in the photocurable composition (nonvolatile content) in the range of 0.01 to 1% by mass, particularly 0.01 to 0.5% by mass, especially 0.02 to 0.2% by mass. It is. When the amount is more than 1% by mass, the adhesiveness to the reflective layer is lowered. When the amount is less than 0.01% by mass, the peelability from the stamper is not sufficiently good.

本発明の光硬化性組成物の一般的な構成要件である光重合性官能基を有する反応性希釈剤としては、例えば、(メタ)アクリルモノマーとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、o−フェニルフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、
グリセリンジアクリレート、グリセリンアクリレートメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンアクリレートメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類;
ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等)と、有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2',4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウレタン(メタ)アクリレート、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有する化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。
As the reactive diluent having a photopolymerizable functional group, which is a general constituent requirement of the photocurable composition of the present invention, for example, as a (meth) acrylic monomer, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acrylic Yl morpholine, N- vinylcaprolactam, o- phenylphenyl oxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-acryloyloxy propyl methacrylate,
Neopentyl glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (Meth) acrylate, nonanediol di (meth) acrylate,
Glycerin diacrylate, glycerin acrylate methacrylate, glycerin dimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane acrylate methacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate,
(Meth) such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate Acrylate monomers;
Polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1, Polyols such as 3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc., or their acid anhydrides, and the above-mentioned polyols and ε-capro Polycaprolactone polyols which are reaction products with kuton, reaction products of the above-mentioned polyols with the above-mentioned polybasic acids or ε-caprolactone of these acid anhydrides, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates ( For example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, dicyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2 ′, 4 -Trimethylhexamethylene diisocyanate and the like) and hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxy Roxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) Polyurethane (meth) acrylate, which is a reaction product of
Examples thereof include (meth) acrylate oligomers such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid. These compounds having a photopolymerizable functional group can be used alone or in combination of two or more.

前記ポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃以上)としては、アクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、ビニルアセテート/(メタ)アクリレート共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン及びその共重合体、ポリ塩化ビニル及びその共重合体、ブタジエン/アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体、メタクリレート/アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体、2−クロロブタジエン−1,3−ポリマー、塩素化ゴム、スチレン/ブタジエン/スチレン共重合体、スチレン/イソプレン/スチレンブロック共重合体、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、セルロースエステル、セルロースエーテル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等を挙げることができる。   Examples of the polymer (preferably having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher) include acrylic resins, polyvinyl acetate, vinyl acetate / (meth) acrylate copolymers, ethylene / vinyl acetate copolymers, polystyrene and copolymers thereof, poly Vinyl chloride and its copolymer, butadiene / acrylonitrile copolymer, acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer, methacrylate / acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer, 2-chlorobutadiene-1,3-polymer, chlorinated rubber, Styrene / butadiene / styrene copolymer, styrene / isoprene / styrene block copolymer, epoxy resin, polyamide, polyester, polyurethane, cellulose ester, cellulose ether, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Can.

本発明では、良好な転写性及び優れた硬化性の点から、アクリル樹脂が好ましい。アクリル樹脂は、前述したように、重合性官能基を有するアクリル樹脂又はヒドロキシル基を有するアクリル樹脂であることが特に好ましい。またアクリル樹脂は、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも50質量%(特に60〜90質量%)含むことが、Tg80℃以上のアクリル樹脂を得られやすく、また良好な転写性、高速硬化性も得られやすく好ましい。   In the present invention, an acrylic resin is preferable from the viewpoint of good transferability and excellent curability. As described above, the acrylic resin is particularly preferably an acrylic resin having a polymerizable functional group or an acrylic resin having a hydroxyl group. In addition, when the acrylic resin contains at least 50% by mass (especially 60 to 90% by mass) of methyl methacrylate repeating units, it is easy to obtain an acrylic resin having a Tg of 80 ° C. or more, and good transferability and high-speed curability are also obtained. It is easy and preferable.

上記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、一般に重合性官能基を有するアクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、グリシジル(メタ)アクリレートとの共重合体で、且つ該グリシジル基に重合性官能基を有するカルボン酸が反応したもの、或いはメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、重合性官能基を有するカルボン酸との共重合体で、且つ該カルボン酸基にグリシジル(メタ)アクリレートが反応したものである。
メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、グリシジル(メタ)アクリレートとの共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に50質量%以上(特に60〜90質量%)含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数2〜10個(特に3〜5個)のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルとしては、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましい。またこのような(メタ)アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に5〜30質量%、特に10〜30質量%含まれることが好ましい。グリシジル(メタ)アクリレート又は重合性官能基を有するカルボン酸は、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に5〜25質量%、特に5〜20質量%含まれることが好ましい。得られた共重合体のグリシジル基又はカルボン酸基に、それぞれ重合性官能基を有するカルボン酸又はグリシジル(メタ)アクリレートを反応させる。
The acrylic resin having a polymerizable functional group is generally an acrylic resin having a polymerizable functional group, at least one of methyl methacrylate and an alkyl (meth) acrylate having an alcohol residue of 2 to 10 carbon atoms. And a glycidyl (meth) acrylate copolymer obtained by reacting a carboxylic acid having a polymerizable functional group with the glycidyl group, or methyl methacrylate and an alkyl having 2 to 10 carbon atoms in an alcohol residue. The methacrylic acid ester is a copolymer of at least one (meth) acrylic acid ester and a carboxylic acid having a polymerizable functional group, and the carboxylic acid group is reacted with glycidyl (meth) acrylate.
It is a copolymer of methyl methacrylate, at least one kind of alkyl (meth) acrylate ester having 2 to 10 carbon atoms in the alcohol residue, and glycidyl (meth) acrylate. Methyl methacrylate is preferably contained as a repeating unit in an amount of 50% by mass or more (particularly 60 to 90% by mass) in the polymer. Appropriate combination with the reactive diluent makes it easy to achieve both good transferability and excellent curability. Alkyl (meth) acrylic acid ester having 2 to 10 carbon atoms (especially 3 to 5 carbon atoms) as an alcohol residue includes ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, Examples thereof include n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate and the like. n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate are preferred. Further, such a (meth) acrylic acid ester is preferably contained in the polymer as a repeating unit in general in an amount of 5 to 30% by mass, particularly 10 to 30% by mass. The glycidyl (meth) acrylate or the carboxylic acid having a polymerizable functional group is preferably contained in the polymer in an amount of generally 5 to 25% by mass, particularly 5 to 20% by mass as the repeating unit. The glycidyl group or carboxylic acid group of the obtained copolymer is reacted with a carboxylic acid or glycidyl (meth) acrylate having a polymerizable functional group, respectively.

上記ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂は、一般にメチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個(特に3〜5個)のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数2〜4個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種との共重合体である。メチルメタクリレートは、その繰り返し単位として、ポリマー中に50質量%以上(特に60〜90質量%)含まれることが好ましい。反応性希釈剤との適当な組合せにより、良好な転写性と優れた硬化性の両立が容易となる。アルコール残基が炭素原子数2〜10個(特に3〜5個)のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルとしては、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましい。またこのような(メタ)アクリル酸エステルは、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に5〜30質量%、特に10〜30質量%含まれることが好ましい。アルコール残基がヒドロキシル基を有する炭素原子数2〜4個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートを挙げることができ、その繰り返し単位として、ポリマー中に、一般に5〜25質量%、特に5〜20質量%含まれることが好ましい。   The hydroxyl group-containing acrylic resin is generally methyl methacrylate, at least one alkyl (meth) acrylate ester having 2 to 10 carbon atoms (particularly 3 to 5) alcohol residues, and alcohol residues. Is a copolymer with at least one alkyl (meth) acrylate having 2 to 4 carbon atoms having a hydroxyl group. Methyl methacrylate is preferably contained as a repeating unit in an amount of 50% by mass or more (particularly 60 to 90% by mass) in the polymer. Appropriate combination with the reactive diluent makes it easy to achieve both good transferability and excellent curability. Alkyl (meth) acrylic acid ester having 2 to 10 carbon atoms (especially 3 to 5 carbon atoms) as an alcohol residue includes ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, Examples thereof include n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate and the like. n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate are preferred. Further, such a (meth) acrylic acid ester is preferably contained in the polymer as a repeating unit in general in an amount of 5 to 30% by mass, particularly 10 to 30% by mass. Examples of the alkyl (meth) acrylic acid ester having 2 to 4 carbon atoms in which the alcohol residue has a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl methacrylate and hydroxypropyl methacrylate. In general, it is preferably contained in an amount of 5 to 25% by mass, particularly 5 to 20% by mass.

前記重合性官能基を有するアクリル樹脂は、例えば、以下のように製造することができる。   The acrylic resin having a polymerizable functional group can be produced, for example, as follows.

1種又は複数種の(メタ)アクリルモノマー(好ましくは上述の、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種と、グリシジル基を1個かつ重合性官能基を1個有する化合物(好ましくはグリシジル(メタ)アクリレート)或いは重合性官能基を有するカルボン酸とを、ラジカル重合開始剤と有機溶剤の存在下で溶液重合法などの公知の方法にて反応させて共重合体であるグリシジル基含有アクリル樹脂(a)又はカルボキシル基含有アクリル樹脂(b)を得る。(メタ)アクリルモノマー等のモノマー類の配合割合はグリシジル基含有アクリル樹脂(a)又はカルボキシル基含有アクリル樹脂(b)の固形分換算合計量に対して10〜45質量%とすることが好ましい。   One or a plurality of (meth) acrylic monomers (preferably methyl methacrylate, at least one (meth) acrylic acid ester having an alcohol residue of 2 to 10 carbon atoms, and a glycidyl group). A known method such as solution polymerization of a compound having 1 polymerizable functional group (preferably glycidyl (meth) acrylate) or a carboxylic acid having a polymerizable functional group in the presence of a radical polymerization initiator and an organic solvent. The glycidyl group-containing acrylic resin (a) or the carboxyl group-containing acrylic resin (b), which is a copolymer, is obtained by reacting by the method described above.The mixing ratio of monomers such as (meth) acrylic monomer is the glycidyl group-containing acrylic resin. It shall be 10-45 mass% to solid content conversion total amount of (a) or carboxyl group-containing acrylic resin (b). Preferred.

次いで得られたグリシジル基含有アクリル樹脂(a)に重合性官能基を有するカルボン酸を加え、或いは得られたカルボキシル基含有アクリル樹脂(b)にグリシジル基を1個かつ重合性官能基を1個有する化合物(好ましくはグリシジルメタクリレート)を加え、必要に応じ加熱することによりアクリル系光硬化型樹脂(A)又はアクリル系光硬化型樹脂(B)を得る。この配合比は、グリシジル基とカルボキシル基のモル比が1/0.9〜1/1となるように配合するのが好ましく、より好ましくは1/1である。グリシジル基過剰では長期安定性において増粘、ゲル化のおそれがあり、カルボキシル基過剰では皮膚刺激性が上がり作業性が低下する。さらに1/1の場合は残存グリシジル基がなくなり、貯蔵安定性が顕著に良好になる。反応は塩基性触媒、リン系触媒などの存在下で公知の方法にて行うことができる。   Subsequently, a carboxylic acid having a polymerizable functional group is added to the obtained glycidyl group-containing acrylic resin (a), or one glycidyl group and one polymerizable functional group are added to the obtained carboxyl group-containing acrylic resin (b). An acrylic photocurable resin (A) or an acrylic photocurable resin (B) is obtained by adding a compound (preferably glycidyl methacrylate) having heat and heating as necessary. This blending ratio is preferably blended so that the molar ratio of glycidyl group to carboxyl group is 1 / 0.9 to 1/1, and more preferably 1/1. If the glycidyl group is excessive, viscosity and gelation may occur in long-term stability, and if the carboxyl group is excessive, skin irritation increases and workability decreases. Further, in the case of 1/1, there is no residual glycidyl group, and the storage stability is remarkably improved. The reaction can be carried out by a known method in the presence of a basic catalyst, a phosphorus catalyst or the like.

上記OH又は重合性官能基を有するアクリル樹脂を含み、本発明で用いることができるアクリル樹脂を構成する主成分として使用することができる(メタ)アクリル系モノマーとしては、アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルを挙げることができる。アクリル酸又はメタクリル酸の各種エステルの例として、メチル(メタ)アクリレート((メタ)アクリレートとはアクリレート及びメタクリレートを示す。以下同様)、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート、2−メトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルコキシアルキル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコキシ(ポリ)アルキレングリコール(メタ)アクリレート、ピレノキシド付加物(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。さらに不飽和基を含有する芳香族化合物(例、スチレン)も使用しても良い。   As the (meth) acrylic monomer that can be used as a main component constituting the acrylic resin that includes the above-mentioned acrylic resin having OH or a polymerizable functional group and can be used in the present invention, various kinds of acrylic acid or methacrylic acid can be used. Mention may be made of esters. Examples of various esters of acrylic acid or methacrylic acid include methyl (meth) acrylate ((meth) acrylate means acrylate and methacrylate; the same applies hereinafter), ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n- Alkyl (meta) such as butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and tridecyl (meth) acrylate ) Acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, alkoxyalkyl (meth) acrylate such as butoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethoxyethyl Alkoxyalkoxyalkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, butoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol ( Dialkylamino such as alkoxy (poly) alkylene glycol (meth) acrylate such as (meth) acrylate, pyrenoxide adduct (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate An alkyl (meth) acrylate etc. can be mentioned. Further, an aromatic compound containing an unsaturated group (eg, styrene) may be used.

本発明では、前述のように、アクリル系モノマーの主成分としては、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数2〜10個のアルキルの(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも1種を使用することが好ましい。   In the present invention, as described above, as the main component of the acrylic monomer, at least one of methyl methacrylate and an alkyl (meth) acrylate having 2 to 10 carbon atoms as an alcohol residue is used. Is preferred.

本発明のポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃以上)は、数平均分子量が100000以上、特に100000〜300000、そして重量平均分子量が100000で以上、特に100000〜300000であることが好ましい。   The polymer of the present invention (preferably having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher) preferably has a number average molecular weight of 100,000 or more, particularly 100,000 to 300,000, and a weight average molecular weight of 100,000 or more, particularly 100,000 to 300,000.

さらに本発明では、ポリマー(好ましくはガラス転移温度が80℃以上)として、ヒドロキシル基等の活性水素を有する官能基及び光重合性官能基の両方を有するポリマーも使用することができる。このような反応性ポリマーとしては、例えば、主として前記アクリル系モノマーから得られる単独重合体又は共重合体(即ちアクリル樹脂)で、且つ、主鎖又は側鎖に光重合性官能基及び活性水素を有する官能基を有するものである。従って、このような反応性ポリマーは、例えば、メチルメタクリレートと、前記1種以上の(メタ)アクリレートと、ヒドロキシル基等の官能基を有する(メタ)アクリレート(例、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート)とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナトアルキル(メタ)アクリレートなどの、重合体の官能基と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させることにより得ることができる。その際、ヒドロキシル基が残るようにイソシアナトアルキル(メタ)アクリレートの量を調節して使用することにより、活性水素を有する官能基としてヒドロキシル基及び光重合性官能基を有するポリマーが得られる。   Furthermore, in the present invention, a polymer having both a functional group having an active hydrogen such as a hydroxyl group and a photopolymerizable functional group can also be used as the polymer (preferably having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher). As such a reactive polymer, for example, a homopolymer or a copolymer (that is, an acrylic resin) mainly obtained from the acrylic monomer, and a photopolymerizable functional group and active hydrogen are present in the main chain or side chain. It has a functional group. Therefore, such a reactive polymer includes, for example, methyl methacrylate, the one or more (meth) acrylates, and a (meth) acrylate having a functional group such as a hydroxyl group (eg, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate). ) And the resulting polymer reacts with a functional group of the polymer and a compound having a photopolymerizable group, such as isocyanatoalkyl (meth) acrylate. In that case, the polymer which has a hydroxyl group and a photopolymerizable functional group as a functional group which has active hydrogen is obtained by adjusting and using the amount of isocyanatoalkyl (meth) acrylate so that a hydroxyl group may remain.

或いは上記において、ヒドロキシル基の代わりにアミノ基を有する(メタ)アクリレート(例、2−アミノエチル(メタ)アクリレート)を用いることにより活性水素を有する官能基としてアミノ基を有する、光重合性官能基含有ポリマーを得ることができる。同様に、活性水素を有する官能基としてカルボキシル基等を有する、光重合性官能基含有ポリマーも得ることができる。   Alternatively, in the above, a photopolymerizable functional group having an amino group as a functional group having active hydrogen by using a (meth) acrylate having an amino group instead of a hydroxyl group (eg, 2-aminoethyl (meth) acrylate) A containing polymer can be obtained. Similarly, a photopolymerizable functional group-containing polymer having a carboxyl group or the like as a functional group having active hydrogen can also be obtained.

本発明では、前記光重合性官能基を、ウレタン結合を介して有するアクリル樹脂も好ましい。   In the present invention, an acrylic resin having the photopolymerizable functional group through a urethane bond is also preferable.

上記光重合性官能基を有するポリマーは、光重合性官能基を一般に1〜50モル%、特に5〜30モル%含むことが好ましい。この光重合性官能基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基が好ましく、特にアクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。   The polymer having a photopolymerizable functional group generally contains 1 to 50 mol%, particularly 5 to 30 mol% of the photopolymerizable functional group. As this photopolymerizable functional group, an acryloyl group, a methacryloyl group, and a vinyl group are preferable, and an acryloyl group and a methacryloyl group are particularly preferable.

本発明の光硬化性組成物中に添加され得るジイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート(TDI)、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4’−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2’,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートを挙げることができる。またトリメチロールプロパンのTDI付加体等の3官能以上のイソシアネート化合物等のポリイソシアネートシアネートも使用することができる。これらの中でトリメチロールプロパンのヘキサメチレンジイソシアネート付加体が好ましい。   Diisocyanates that can be added to the photocurable composition of the present invention include tolylene diisocyanate (TDI), isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4-diisocyanate, dicyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2 4,4'-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2,2 ', 4-trimethylhexamethylene diisocyanate. Polyisocyanate cyanates such as trifunctional or higher functional isocyanate compounds such as a TDI adduct of trimethylolpropane can also be used. Of these, a hexamethylene diisocyanate adduct of trimethylolpropane is preferred.

本発明のジイソシアネートは、光硬化性組成物(不揮発分)中に0.2〜4質量%、特に0.2〜2質量%の範囲で含まれていることが好ましい。転写層のしみ出しを防止するために適当な架橋がもたらされると共に、金型の凹凸の良好な転写性も維持される。上記化合物とポリマーとの反応は、転写層形成後、徐々に進行し、常温(一般に25℃)、24時間でかなり反応している。転写層形成用の塗布液を調製した後、塗布するまでの間にも反応は進行するものと考えられる。転写層を形成後、ロール状態で巻き取る前にある程度硬化させることが好ましいので、必要に応じて、転写層を形成時、或いはその後、ロール状態で巻き取る前の間に加熱して反応を促進させても良い。   It is preferable that the diisocyanate of this invention is contained in 0.2-4 mass% in the photocurable composition (nonvolatile content), especially 0.2-2 mass%. Appropriate crosslinking is provided to prevent the transfer layer from exuding, and good transferability of the mold irregularities is also maintained. The reaction between the compound and the polymer proceeds gradually after the transfer layer is formed, and reacts considerably at room temperature (generally 25 ° C.) at 24 hours. It is considered that the reaction proceeds after the coating solution for forming the transfer layer is prepared and before the coating solution is applied. After forming the transfer layer, it is preferable to cure to a certain extent before winding it in the roll state. If necessary, the reaction is promoted by heating during the formation of the transfer layer or before winding in the roll state. You may let them.

本発明の光硬化性組成物は、上述のように、一般に、ガラス転移温度が80℃以上のポリマー、光重合性官能基(好ましくは(メタ)アクリロイル基)を有する反応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー)、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。ポリマーと反応性希釈剤との質量比は、20:80〜80:20、特に30:70〜70:30の範囲が好ましい。   As described above, the photocurable composition of the present invention is generally a polymer having a glass transition temperature of 80 ° C. or higher, and a reactive diluent having a photopolymerizable functional group (preferably a (meth) acryloyl group) (monomer and Oligomer), a photopolymerizable initiator, and optionally other additives. The mass ratio of polymer to reactive diluent is preferably in the range of 20:80 to 80:20, particularly 30:70 to 70:30.

本発明の光硬化性転写層の周波数1Hzにおける貯蔵弾性率は、25℃において1×107Pa以下であることが好ましく、特に1×104〜6×105Paの範囲であることが好ましい。また80℃において8×104Pa以下であることが好ましく、特に1×104〜5×105Paの範囲であることが好ましい。これにより、精確で迅速な転写が可能となる。さらに、本発明の光硬化性転写層は、ガラス転移温度を20℃以下であることが好ましい。これにより、得られる光硬化性転写層がスタンパ等の金型の凹凸面に圧着されたとき、常温においてもその凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特に、ガラス転移温度が15℃〜−50℃、特に15℃〜−10℃の範囲にすることにより追随性がたものとなる。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力及び高圧力が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な高度が得られなくなる。 The storage elastic modulus at a frequency of 1 Hz of the photocurable transfer layer of the present invention is preferably 1 × 10 7 Pa or less at 25 ° C., and particularly preferably in the range of 1 × 10 4 to 6 × 10 5 Pa. . Moreover, it is preferable that it is 8 * 10 < 4 > Pa or less in 80 degreeC, and it is especially preferable that it is the range of 1 * 10 < 4 > -5 * 10 < 5 > Pa. This enables accurate and quick transfer. Furthermore, the photocurable transfer layer of the present invention preferably has a glass transition temperature of 20 ° C. or lower. Thereby, when the obtained photocurable transfer layer is pressure-bonded to the uneven surface of a mold such as a stamper, it can have flexibility to closely follow the uneven surface even at room temperature. In particular, when the glass transition temperature is in the range of 15 ° C. to −50 ° C., particularly 15 ° C. to −10 ° C., the following property is obtained. If the glass transition temperature is too high, a high pressure and a high pressure are required at the time of attachment, leading to a decrease in workability. If it is too low, a sufficient altitude after curing cannot be obtained.

また上記光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、300mJ/cm2の紫外線照射後のガラス転移温度が65℃以上となるように設計されていることが好ましい。短時間の紫外線照射により、転写での残留応力から発生しやすい微細凹凸形状のダレ発生を防止することが容易で、転写された微細凹凸形状を保持することができる。本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性転写層は、主として、上記好ましいポリマー、以下の反応性希釈剤を使用することにより有利に得ることができる。 The photocurable transfer layer made of the photocurable composition is preferably designed so that the glass transition temperature after irradiation with 300 mJ / cm 2 of ultraviolet light is 65 ° C. or higher. By irradiating with ultraviolet rays for a short time, it is easy to prevent the occurrence of sagging of fine irregularities that are likely to occur due to residual stress during transfer, and the transferred fine irregularities can be retained. The photocurable transfer layer comprising the photocurable composition of the present invention can be advantageously obtained mainly by using the above preferred polymer and the following reactive diluent.

光重合開始剤としては、公知のどのような光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、2−4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、4−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系又は、第3級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の1種または2種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの1種または2種以上の混合で使用することができる。光硬化性組成物(不揮発分)中に、光重合開始剤を一般に0.1〜20質量%、特に1〜10質量%含むことが好ましい。   As the photopolymerization initiator, any known photopolymerization initiator can be used, but one having good storage stability after blending is desirable. Examples of such photopolymerization initiators include benzoin series such as acetophenone series and benzyldimethyl ketal, thiophenone series such as benzophenone series, isopropylthioxanthone, and 2-4-diethylthioxanthone, and other special types include methylphenylglycol. Oxylate can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may contain one or two or more kinds of known and commonly used photopolymerization accelerators such as benzoic acid-based or tertiary amine-based compounds such as 4-dimethylaminobenzoic acid as required. Can be mixed and used. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. In general, the photocurable composition (nonvolatile content) preferably contains 0.1 to 20% by mass, particularly 1 to 10% by mass of a photopolymerization initiator.

光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1など、ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンッゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノンなどが使用できる。   Among the photopolymerization initiators, examples of the acetophenone-based polymerization initiator include 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t-butyl-trichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, and 2-hydroxy-2. -Methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl Propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2 As benzophenone polymerization initiators such as morpholinopropane-1, Benzophenone, benzoyl benzoate, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxybenzophenone, 4-Benzzoiru 4'-methyl diphenyl sulfide, etc. 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone may be used.

アセトフェノン系重合開始剤としては、特に、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1が好ましい。ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好ましい。また、第3級アミン系の光重合促進剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、2−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進剤としては、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシルなどが挙げられる。   As the acetophenone-based polymerization initiator, in particular, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2 -Morpholinopropane-1 is preferred. As the benzophenone polymerization initiator, benzophenone, benzoylbenzoic acid, and methyl benzoylbenzoate are preferable. Tertiary amine photopolymerization accelerators include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, ethyl 2-dimethylaminobenzoate. , Ethyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate and the like can be used. Particularly preferably, as the photopolymerization accelerator, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, etc. Is mentioned.

本発明では、上記光重合性官能基を有する反応性希釈剤及び光重合開始剤に加えて、所望により下記の熱可塑性樹脂及び他の添加剤を添加することが好ましい。   In the present invention, in addition to the reactive diluent having a photopolymerizable functional group and the photopolymerization initiator, it is preferable to add the following thermoplastic resin and other additives as required.

他の添加剤として、シランカップリング剤(接着促進剤)を添加することができる。このシランカップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどがあり、これらの1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。これらシランカップリング剤の添加量は、上記ポリマー(固形分)100質量部に対し通常0.01〜5質量部で十分である。   As another additive, a silane coupling agent (adhesion promoter) can be added. As this silane coupling agent, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxy Propyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β There are (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and the like, and one of these can be used alone or two or more of them can be used in combination. As for the addition amount of these silane coupling agents, 0.01-5 mass parts is sufficient normally with respect to 100 mass parts of said polymers (solid content).

また同様に接着性を向上させる目的でエポキシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基含有化合物としては、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート;ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル;1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル;アクリルグリシジルエーテル;2−エチルヘキシルグリシジルエーテル;フェニルグリシジルエーテル;フェノールグリシジルエーテル;p−t−ブチルフェニルグリシジルエーテル;アジピン酸ジグリシジルエステル;o−フタル酸ジグリシジルエステル;グリシジルメタクリレート;ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千から数十万のポリマーを添加することによっても同様の効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量は上記ポリマー(固形分)100質量部に対し0.1〜20質量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくとも1種を単独で又は混合して添加することができる。   Similarly, an epoxy group-containing compound can be added for the purpose of improving adhesiveness. Examples of the epoxy group-containing compound include triglycidyl tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate; neopentyl glycol diglycidyl ether; 1,6-hexanediol diglycidyl ether; acrylic glycidyl ether; 2-ethylhexyl glycidyl ether; Examples thereof include phenol glycidyl ether; pt-butylphenyl glycidyl ether; adipic acid diglycidyl ester; o-phthalic acid diglycidyl ester; glycidyl methacrylate; Further, the same effect can be obtained by adding an oligomer containing an epoxy group having a molecular weight of several hundred to several thousand or a polymer having a weight average molecular weight of several thousand to several hundred thousand. The addition amount of these epoxy group-containing compounds is sufficient to be 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymer (solid content), and at least one of the epoxy group-containing compounds is added alone or in combination. Can do.

さらに他の添加剤として、加工性や貼り合わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加することができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体としてはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることができる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。   As another additive, a hydrocarbon resin can be added for the purpose of improving workability such as workability and bonding. In this case, the added hydrocarbon resin may be either a natural resin type or a synthetic resin type. In natural resin systems, rosin, rosin derivatives, and terpene resins are preferably used. For rosin, gum-based resins, tall oil-based resins, and wood-based resins can be used. As the rosin derivative, rosin obtained by hydrogenation, heterogeneity, polymerization, esterification, or metal chloride can be used. As the terpene resin, a terpene phenol resin can be used in addition to a terpene resin such as α-pinene and β-pinene. In addition, dammar, corbal and shellac may be used as other natural resins. On the other hand, in the synthetic resin system, petroleum resin, phenol resin, and xylene resin are preferably used. As the petroleum resin, aliphatic petroleum resin, aromatic petroleum resin, alicyclic petroleum resin, copolymer petroleum resin, hydrogenated petroleum resin, pure monomer petroleum resin, and coumarone indene resin can be used. As the phenol resin, an alkyl phenol resin or a modified phenol resin can be used. As the xylene-based resin, a xylene resin or a modified xylene resin can be used.

上記炭化水素樹脂等の樹脂の添加量は適宜選択されるが、上記ポリマー(固形分)100質量部に対して1〜20質量部が好ましく、より好ましくは5〜15質量部である。   Although the addition amount of resin, such as the said hydrocarbon resin, is selected suitably, 1-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of said polymers (solid content), More preferably, it is 5-15 mass parts.

以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少量含んでいてもよい。また、場合によってはシリカゲル、炭酸カルシウム、シリコーン共重合体の微粒子等の添加剤を少量含んでもよい。   In addition to the above additives, the photocurable composition of the present invention may contain a small amount of an ultraviolet absorber, an antioxidant, a dye, a processing aid and the like. In some cases, additives such as silica gel, calcium carbonate, and fine particles of silicone copolymer may be included in a small amount.

本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートは、本発明のリン原子含有化合物、ポリマー(好ましくはTg80℃以上)、光重合性官能基を有する反応性希釈剤(モノマー及びオリゴマー)、所望によりジイソシアネートシアネート及び、所望により他の添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Tダイ押出、インフレーション等の製膜法により所定の形状に製膜して用いることができる。一般に易接着フィルムの易接着層に上に製膜する。より好ましい本発明の光硬化性接着剤の製膜方法は、各構成成分を良溶媒に均一に混合溶解し、この溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコートしたセパレーターにフローコート法、ロールコート法、グラビアロール法、マイヤバー法、リップダイコート法等により易接着層上に塗工し、溶媒を乾燥することにより製膜する方法である。   The photocurable transfer sheet comprising the photocurable composition of the present invention comprises a phosphorus atom-containing compound of the present invention, a polymer (preferably Tg of 80 ° C. or higher), and a reactive diluent (monomer and oligomer) having a photopolymerizable functional group. If necessary, diisocyanate cyanate and optionally other additives are mixed uniformly, kneaded with an extruder, roll, etc., and then formed into a predetermined shape by a film forming method such as calendering, roll, T-die extrusion, inflation, etc. It can be used as a film. In general, the film is formed on an easy-adhesion layer of an easy-adhesion film. More preferably, the photocurable adhesive film-forming method of the present invention is obtained by uniformly mixing and dissolving each constituent component in a good solvent, and then applying this solution to a separator precisely coated with silicone or fluororesin. , A gravure roll method, a Myer bar method, a lip die coating method or the like, and a method of forming a film by drying on a solvent and drying a solvent.

また、光硬化性転写シートの厚さは1〜1200μm、特に5〜500μmとすることが好ましい。特に5〜300μm(好ましくは150μm以下)が好ましい。1μmより薄いと封止性が劣り、一方、1000μmより厚いと得られる成形体の厚みが増し、成形体の収納、アッセンブリー等に問題が生じるおそれがある。   The thickness of the photocurable transfer sheet is preferably 1 to 1200 μm, particularly preferably 5 to 500 μm. Particularly preferred is 5 to 300 μm (preferably 150 μm or less). If the thickness is less than 1 μm, the sealing property is inferior. On the other hand, if the thickness is more than 1000 μm, the thickness of the obtained molded body increases, which may cause problems in housing, assembly, and the like of the molded body.

本発明で使用される光硬化性転写シートは、一般に、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層と、易接着性フィルムの無いもう一方の側の表面に剥離シートとを有する。   The photocurable transfer sheet used in the present invention is generally composed of a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressurization, and a release sheet on the surface on the other side without an easily adhesive film. And have.

剥離シートは、一般にプラスチックフィルム上に、シリコーン等の表面張力の低い剥離層を有する。例えば、ヒドロキシル基を有するポリシロキサンと水素化ポリシロキサンとの縮合反応生成物からなる剥離層、或いは不飽和2重結合基(好ましくはビニル基)を有するポリシロキサン(好ましくはジメチルポリシロキサン)と水素化ポリシロキサン(好ましくはジメチルポリシロキサン)から形成される剥離層等を挙げることができる。   The release sheet generally has a release layer having a low surface tension such as silicone on a plastic film. For example, a release layer composed of a condensation reaction product of a polysiloxane having a hydroxyl group and a hydrogenated polysiloxane, or a polysiloxane having an unsaturated double bond group (preferably a vinyl group) (preferably dimethylpolysiloxane) and hydrogen And a release layer formed from a modified polysiloxane (preferably dimethylpolysiloxane).

剥離シートのプラスチックフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン46、変性ナイロン6T、ナイロンMXD6、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂フィルムを用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートのフィルムが好適に用いることができ、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。厚さは10〜200μmが好ましく、特に30〜100μmが好ましい。   Examples of the plastic film for the release sheet include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polycyclohexylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyamide resins such as nylon 46, modified nylon 6T, nylon MXD6, and polyphthalamide, polyphenylene sulfide, and polythioether. In addition to ketone resins such as sulfone, sulfone resins such as polysulfone and polyethersulfone, polyether nitrile, polyarylate, polyetherimide, polyamideimide, polycarbonate, polymethyl methacrylate, triacetyl cellulose, polystyrene, polyvinyl A transparent resin film mainly composed of an organic resin such as chloride can be used. Among these, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polystyrene, and polyethylene terephthalate films can be suitably used, and polyethylene terephthalate films are particularly preferable. The thickness is preferably 10 to 200 μm, particularly preferably 30 to 100 μm.

本発明で使用される光硬化性転写シートは、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層とその一方の表面に易接着フィルム及び他方の表面に剥離シートを有するものであり、この場合、この光硬化性転写シートはアニール処理されていることが好ましい。即ち、アニール処理した光硬化性転写シートを用いて、凹凸パターンの形成に用いることが好ましい。アニール処理は、転写シートを30〜100℃、特に40〜70℃の温度で、1時間〜30日間、特に10時間〜10日間に亘って保管することにより行うことが好ましい。転写シートは、一般にロール状態(巻かれた状態)でアニール処理することが好ましい。このようなアニール処理により、剥離シートの剥離層の剥離を促進する成分(離型成分)が、光硬化性転写層への移行が進み、スタンパの除去が容易になると考えられる。   The photocurable transfer sheet used in the present invention has a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressure, an easy-adhesive film on one surface thereof, and a release sheet on the other surface. In this case, the photocurable transfer sheet is preferably annealed. That is, it is preferable to use a photocurable transfer sheet that has been subjected to an annealing treatment to form a concavo-convex pattern. The annealing treatment is preferably performed by storing the transfer sheet at a temperature of 30 to 100 ° C., particularly 40 to 70 ° C., for 1 hour to 30 days, particularly 10 hours to 10 days. In general, the transfer sheet is preferably annealed in a roll state (a wound state). By such annealing treatment, it is considered that the component (release component) that promotes peeling of the release layer of the release sheet proceeds to the photocurable transfer layer, and the stamper can be easily removed.

本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精度を精密に制御したフィルム状で提供することができるため、スタンパ等の金型との貼り合わせを容易にかつ精度良くおこなうことが可能である。また、この貼り合わせは、圧着ロールや簡易プレスなどの簡便な方法で20〜100℃で仮圧着した後、光により常温、1〜数十秒で硬化できる上、本接着剤特有の自着力によりその積層体にズレや剥離が起き難いため、光硬化まで自由にハンドリングができるという特徴を有している。   The photocurable transfer sheet of the present invention can be provided in the form of a film in which the film thickness accuracy is precisely controlled, so that it can be easily and accurately bonded to a mold such as a stamper. In addition, this bonding can be carried out at 20 to 100 ° C. by a simple method such as a pressure roll or a simple press, and then cured by light at room temperature for 1 to several tens of seconds. Since it is difficult for displacement and peeling to occur in the laminate, it has a feature that it can be handled freely until photocuring.

本発明の光硬化性転写シートを硬化する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、0.1秒〜数十秒程度、好ましくは0.5〜数秒である。紫外線照射量は、300mJ/cm2以上が好ましい。 When the photocurable transfer sheet of the present invention is cured, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible region can be used as the light source, for example, ultrahigh pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, Mercury halogen. A lamp, a carbon arc lamp, an incandescent lamp, a laser beam, etc. are mentioned. The irradiation time is not generally determined depending on the type of the lamp and the intensity of the light source, but is about 0.1 to several tens of seconds, preferably 0.5 to several seconds. The ultraviolet irradiation amount is preferably 300 mJ / cm 2 or more.

また、硬化促進のために、予め積層体を30〜80℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。   In order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 30 to 80 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.

以下に実施例を示し、本発明についてさらに詳述する。   The following examples further illustrate the present invention.

[実施例1]
<光硬化性転写シートの作製>
(ヒドロキシル基を有するポリマー1の作製)
ポリマー配合1
メチルメタクリレート 74.6質量部
n−ブチルメタクリレート 13.2質量部
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 12.1質量部
AIBN 5質量部
トルエン 50質量部
酢酸エチル 50質量部
[Example 1]
<Preparation of photocurable transfer sheet>
(Preparation of polymer 1 having a hydroxyl group)
Polymer blend 1
Methyl methacrylate 74.6 parts by mass n-butyl methacrylate 13.2 parts by mass 2-hydroxyethyl methacrylate 12.1 parts by mass AIBN 5 parts by mass Toluene 50 parts by mass Ethyl acetate 50 parts by mass

上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、70℃に加熱して重合を開始させ、この温度で8時間撹拌し、側鎖にヒドロキシル基を有するヒドロキシル基を有するポリマー1(アクリル樹脂)を得た。固形分を36質量%に調製した(ポリマー溶液1)。   The mixture having the above composition was heated to 70 ° C. with gentle stirring to initiate polymerization, and stirred at this temperature for 8 hours. Obtained. The solid content was adjusted to 36% by mass (polymer solution 1).

得られたポリマー1は、Tgが90℃であり、重量平均分子量が110000であった。   The obtained polymer 1 had a Tg of 90 ° C. and a weight average molecular weight of 110,000.

組成物配合1
ヒドロキシル基を有するポリマー溶液1(固形分) 100質量部
ヘキサンジオールジアクリレート 100質量部
(KS−HDDA;日本化薬(株)製)
トリメチロールプロパントリアクリレート 10質量部
(TMP−A;共栄社化学(株)製)
2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート 20質量部
(G−201P;共栄社化学(株)製)
ジイソシアネート(BXX5627、東洋インキ製造(株)製) 1質量部
イルガキュア651(チバガイギー(株)製) 1質量部
リン酸エステル 0.1質量部
(商品名LTP−2;川研ファインケミカル(株)製)
ヒドロキノンモノメチルエーテル(MEHQ) 0.05質量部
Composition formulation 1
Polymer solution 1 having a hydroxyl group (solid content) 100 parts by mass Hexanediol diacrylate 100 parts by mass (KS-HDDA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
10 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (TMP-A; manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
20 parts by mass of 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl methacrylate (G-201P; manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
Diisocyanate (BXX5627, manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) 1 part by mass Irgacure 651 (manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) 1 part by weight Phosphate ester 0.1 part by mass (trade name LTP-2; manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.)
Hydroquinone monomethyl ether (MEHQ) 0.05 parts by mass

上記配合Aの混合物を均一に溶解、混練し、易接着フィルム(商品名HPE、帝人デュポンフィルム(株)製;幅300mm、長さ300m、厚さ75μm)上に、全面塗布し、乾燥厚さ25μmの光硬化性転写層を形成し、シートの反対側に剥離シート(商品名A31、帝人デュポンフィルム(株)製;幅300mm、長さ300m、厚さ50μm)を貼付し、ロール状に巻き上げ、光硬化性転写シートのフルエッジタイプのロール(直径260mm)を得た。光硬化性転写層のTgは、−20℃であった。   The mixture of the above blend A is uniformly dissolved and kneaded, and coated on the entire surface of an easy-adhesion film (trade name HPE, manufactured by Teijin DuPont Films Ltd .; width 300 mm, length 300 m, thickness 75 μm), and dried thickness A 25 μm photocurable transfer layer is formed, and a release sheet (trade name A31, manufactured by Teijin DuPont Films, Inc .; width 300 mm, length 300 m, thickness 50 μm) is pasted on the opposite side of the sheet and rolled up into a roll A full-edge type roll (diameter 260 mm) of a photocurable transfer sheet was obtained. The Tg of the photocurable transfer layer was −20 ° C.

上記易接着フィルムはPETフィルム(75μm)上に易接着層(ポリエステル/アクリル樹脂混合物、層厚0.2μm)からなるものである。
(1)光硬化性転写シートの評価
(1−1)ガラス転移温度(Tg)の測定
得られた光硬化性転写シートから両側の剥離シートを除去し、長さ20mm、幅4mm(厚さ25μm)に裁断してサンプルとした。
The easy-adhesion film comprises an easy-adhesion layer (polyester / acrylic resin mixture, layer thickness 0.2 μm) on a PET film (75 μm).
(1) Evaluation of photocurable transfer sheet (1-1) Measurement of glass transition temperature (Tg) The release sheets on both sides were removed from the obtained photocurable transfer sheet, and the length was 20 mm and the width was 4 mm (thickness 25 μm). ) To obtain a sample.

サンプルのTgを、TMA (Thermal Mechanical Analysis) 装置SS6100(SIIナノテクノロジー(株)製)を用いて、サンプル温度:30〜120℃、昇温レート:5℃/分、引張張力:4.9×105Paの条件で測定した。 Using a TMA (Thermal Mechanical Analysis) apparatus SS6100 (manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd.), Tg of the sample was sample temperature: 30 to 120 ° C., temperature rising rate: 5 ° C./min, tensile tension: 4.9 × The measurement was performed at 10 5 Pa.

以上の条件で試験を行うと、図4に示すグラフが得られ、安定領域の接線と伸び領域の最大傾斜からの接線との交点をガラス転移温度とした。   When the test was performed under the above conditions, the graph shown in FIG. 4 was obtained, and the intersection of the tangent line of the stable region and the tangent line from the maximum slope of the stretched region was defined as the glass transition temperature.

(2)微細凹凸パターンの作製及び評価
(2−1)微細凹凸パターンの作製
図3(1)に示すRGB微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型を用いてRGB微細凹凸パターン(カラーフィルタ)の作製を行った。このRGB微細凹凸パターンは、R(赤)の構造色を生成する領域(例、格子周期300nm、格子幅165nm、格子厚さ100、フィルファクタF0.5)、G(緑)の構造色を生成する領域(例、格子周期340nm、格子幅110nm、格子厚さ100、フィルファクタF0.32)、B(青)の構造色を生成する領域(例、格子周期400nm、格子幅200nm、格子厚さ100、フィルファクタF0.5)を有するものであった。金型としては、前述のように作製したニッケル金型を用いた。
(2) Production and evaluation of fine concavo-convex pattern (2-1) Production of fine concavo-convex pattern Using a mold having an inverted pattern of RGB fine concavo-convex pattern shown in Fig. 3 (1), an RGB fine concavo-convex pattern (color filter) Fabrication was performed. This RGB fine concavo-convex pattern generates R (red) structural colors (for example, a lattice period of 300 nm, a lattice width of 165 nm, a lattice thickness of 100, a fill factor of F0.5), and a G (green) structural color. Region (eg, lattice period 340 nm, lattice width 110 nm, lattice thickness 100, fill factor F0.32), region for generating B (blue) structural color (eg, lattice period 400 nm, lattice width 200 nm, lattice thickness) 100, fill factor F0.5). As the mold, the nickel mold produced as described above was used.

得られた光硬化性転写シートの一方の表面の剥離シートを除去し、図3(1)に示すRGB微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型(50℃に温調された)の反転パターンとシート表面とが接触するようにして金型で光硬化性転写シートを押圧し、同時に易接着フィルム側から、メタルハライドランプ(600mW/cm)を用いて、積算光量300mJ/cm2の条件でUV照射した。これにより、金型(50℃に温調された)の反転パターンを転写シート表面に転写した転写層を硬化させた。 The release sheet on one surface of the obtained photocurable transfer sheet is removed, and a reversal pattern of a mold (temperature-controlled at 50 ° C.) having a reversal pattern of the RGB fine unevenness pattern shown in FIG. The photocurable transfer sheet is pressed with a mold so as to be in contact with the sheet surface, and at the same time, UV irradiation is performed from the easy adhesive film side using a metal halide lamp (600 mW / cm) under the condition of an integrated light quantity of 300 mJ / cm 2. did. As a result, the transfer layer in which the reverse pattern of the mold (temperature-controlled at 50 ° C.) was transferred to the transfer sheet surface was cured.

これによりカラーフィルタを得た。   As a result, a color filter was obtained.

カラーフィルタに白色灯を通過させた所、透過光としてRGBの3色が得られた。   When a white light was passed through the color filter, three colors of RGB were obtained as transmitted light.

本発明に従う光硬化性転写シートの1例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the photocurable transfer sheet according to this invention. 本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the color filter of this invention. 本発明の、金型の部分拡大図(1)及びカラーフィルタの部分拡大図(2)である。It is the elements on larger scale (1) of a metal mold | die of this invention, and the elements on larger scale (2) of a color filter. ガラス転移温度(Tg)の決定に用いられるグラフである。It is a graph used for determination of a glass transition temperature (Tg).

符号の説明Explanation of symbols

11 光硬化性転写層
12 易接着フィルム
12a 易接着層
12b ポリマーフィルム
13 剥離シート
14 金型
11 Photocurable Transfer Layer 12 Easy Adhesive Film 12a Easy Adhesive Layer 12b Polymer Film 13 Release Sheet 14 Mold

Claims (17)

下記の工程(1)〜(3):
(1)加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートの当該光硬化性転写層の表面に、R(赤)G(緑)B(青)の構造色を生成する微細凹凸パターンの反転パターンを有する金型の該表面を、光硬化性転写シートの露出した転写層に、該金型の反転パターンが転写層の表面に接触するように裁置、押圧して転写層の表面が反転パターン表面に沿って密着した積層体を形成する工程;
(2)金型を有する積層体の転写層を紫外線照射により硬化させる工程、及び
(3)金型を除去することにより、転写層の表面に構造色生成のための微細凹凸パターンを設ける工程;
を含むカラーフィルタの製造方法。
The following steps (1) to (3):
(1) R (red) G (green) B (blue) on the surface of the photocurable transfer layer of the photocurable transfer sheet having a photocurable transfer layer made of a photocurable composition that can be deformed by pressure. ) Such that the surface of the mold having the reversal pattern of the fine concavo-convex pattern that generates the structural color is brought into contact with the exposed transfer layer of the photocurable transfer sheet, and the reversal pattern of the mold is in contact with the surface of the transfer layer. A step of forming a laminate in which the surface of the transfer layer is closely adhered along the surface of the reverse pattern by placing and pressing;
(2) a step of curing the transfer layer of the laminate having a mold by ultraviolet irradiation; and (3) a step of providing a fine uneven pattern for generating a structural color on the surface of the transfer layer by removing the mold;
A method for producing a color filter comprising:
構造色生成のための微細凹凸パターンが、一定の格子周期で配列された格子である請求項1に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the fine concavo-convex pattern for generating the structural color is a lattice arranged at a constant lattice period. 構造色生成のための微細凹凸パターンが、有効屈折率の原理および共鳴格子の原理に基づき波長選択が行われ、格子周期または格子高さを調整することにより所定の色を表現することが可能なパターンである請求項1に記載の製造方法。   The fine concavo-convex pattern for generating the structural color is wavelength-selected based on the principle of effective refractive index and the principle of resonant grating, and can express a predetermined color by adjusting the grating period or grating height. The manufacturing method according to claim 1 which is a pattern. 格子周期が、770nm以下である請求項2又は3に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 2, wherein the grating period is 770 nm or less. スタンパが、ニッケル製である請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 1 to 4, wherein the stamper is made of nickel. 紫外線照射を少なくとも300mJ/cm2の照射エネルギーで行う請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。 The production method according to claim 1, wherein the ultraviolet irradiation is performed with an irradiation energy of at least 300 mJ / cm 2 . 光硬化性組成物が、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤とを含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method of any one of Claims 1-6 in which a photocurable composition contains the reactive diluent which has a polymer and a photopolymerizable functional group. 光硬化性組成物が、滑剤として、リン原子含有化合物を含む請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method of any one of Claims 1-7 in which a photocurable composition contains a phosphorus atom containing compound as a lubricant. リン原子含有化合物が、リン酸エステル系化合物である請求項8に記載の製造方法。   The production method according to claim 8, wherein the phosphorus atom-containing compound is a phosphate ester compound. 光硬化性組成物が、リン原子含有化合物を0.01〜0.5質量%含む請求項8又は9に記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 8 or 9 in which a photocurable composition contains 0.01-0.5 mass% of phosphorus atom containing compounds. ポリマーのガラス転移温度が80℃以上である請求項7〜10のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 7, wherein the glass transition temperature of the polymer is 80 ° C. or higher. 光硬化性組成物のガラス転移温度が20℃未満である請求項1〜11のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method of any one of Claims 1-11 whose glass transition temperature of a photocurable composition is less than 20 degreeC. ポリマーが、アクリル樹脂である請求項7〜12のいずれか1項に記載の製造方法。   The production method according to claim 7, wherein the polymer is an acrylic resin. アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも50質量%含むアクリル樹脂である請求項13に記載の製造方法。   The production method according to claim 13, wherein the acrylic resin is an acrylic resin containing at least 50% by mass of repeating units of methyl methacrylate. アクリル樹脂が、光重合性官能基及び/又はヒドロキシル基を有するアクリル樹脂である請求項13又は14に記載の製造方法。   The method according to claim 13 or 14, wherein the acrylic resin is an acrylic resin having a photopolymerizable functional group and / or a hydroxyl group. 光硬化性組成物がさらにジイソシアネートを含む請求項1〜15のいずれか1項に記載の製造方法。   The manufacturing method of any one of Claims 1-15 in which a photocurable composition contains diisocyanate further. 請求項1〜16のいずれか1項に記載の製造方法により得られるカラーフィルタ。   The color filter obtained by the manufacturing method of any one of Claims 1-16.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102848850A (en) * 2011-06-30 2013-01-02 浜松光子学株式会社 Structural color body
WO2017191839A1 (en) 2016-05-02 2017-11-09 横浜ゴム株式会社 Rubber member, tire, and method of manufacturing rubber member
DE112018005671T5 (en) 2017-10-27 2020-07-16 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Structural color development element and tire
KR20240057942A (en) * 2022-10-25 2024-05-03 울산과학기술원 Multilayered structure using multi-modal wrinkle manipulation by patterning surface material properties for transformative structural coloration and the method for manufacturing the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09230130A (en) * 1996-02-28 1997-09-05 Toppan Printing Co Ltd Color filter and full-color liquid crystal image display device using same
JPH11271516A (en) * 1998-03-26 1999-10-08 Minolta Co Ltd Diffraction type color filter and liquid crystal display device using the same
JP2007041555A (en) * 2005-06-27 2007-02-15 Tohoku Univ Color filter apparatus and its manufacturing method
JP2007291339A (en) * 2006-03-31 2007-11-08 Bridgestone Corp Photocurable transfer sheet, method for forming concavo-convex pattern using the same, method for producing optical information-recording medium, and optical information-recording medium

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09230130A (en) * 1996-02-28 1997-09-05 Toppan Printing Co Ltd Color filter and full-color liquid crystal image display device using same
JPH11271516A (en) * 1998-03-26 1999-10-08 Minolta Co Ltd Diffraction type color filter and liquid crystal display device using the same
JP2007041555A (en) * 2005-06-27 2007-02-15 Tohoku Univ Color filter apparatus and its manufacturing method
JP2007291339A (en) * 2006-03-31 2007-11-08 Bridgestone Corp Photocurable transfer sheet, method for forming concavo-convex pattern using the same, method for producing optical information-recording medium, and optical information-recording medium

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102848850A (en) * 2011-06-30 2013-01-02 浜松光子学株式会社 Structural color body
CN102848850B (en) * 2011-06-30 2016-03-30 浜松光子学株式会社 Structural color body
WO2017191839A1 (en) 2016-05-02 2017-11-09 横浜ゴム株式会社 Rubber member, tire, and method of manufacturing rubber member
DE112018005671T5 (en) 2017-10-27 2020-07-16 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Structural color development element and tire
US11491825B2 (en) 2017-10-27 2022-11-08 The Yokohama Rubber Co., Ltd. Structural color developing member and tire
KR20240057942A (en) * 2022-10-25 2024-05-03 울산과학기술원 Multilayered structure using multi-modal wrinkle manipulation by patterning surface material properties for transformative structural coloration and the method for manufacturing the same
KR102674125B1 (en) * 2022-10-25 2024-06-12 울산과학기술원 Multilayered structure using multi-modal wrinkle manipulation by patterning surface material properties for transformative structural coloration and the method for manufacturing the same

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