JP2009192201A - Production apparatus - Google Patents

Production apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2009192201A
JP2009192201A JP2008036386A JP2008036386A JP2009192201A JP 2009192201 A JP2009192201 A JP 2009192201A JP 2008036386 A JP2008036386 A JP 2008036386A JP 2008036386 A JP2008036386 A JP 2008036386A JP 2009192201 A JP2009192201 A JP 2009192201A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
workpiece
clean
unit
cleaning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008036386A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiko Nakade
俊彦 中出
Kei Kakinuma
圭 柿沼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Corp filed Critical Olympus Corp
Priority to JP2008036386A priority Critical patent/JP2009192201A/en
Publication of JP2009192201A publication Critical patent/JP2009192201A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small and low cost production apparatus capable of carrying out clean work even if a workpiece such as an unclean component is inputted. <P>SOLUTION: The production apparatus 1 is provided with a first chamber 2 having a cover 8 for carrying out clean work with respect to the workpiece W, and a second chamber 3 provided apart from the first chamber 2 by a trestle 4 for feeding the workpiece W to the first chamber 2 and carrying it out from a communication opening 4A. The apparatus is equipped with: a robot 6 installed in the first chamber 2 and carrying out work with respect to the workpiece W; a clean unit 9 attached to the first chamber 2 and supplying clean air into the first chamber 2; washing units 11A, 11B provided in the second chamber 3 for washing the workpiece W; and a conveyance mechanism provided in the second chamber 3 and moving the workpiece W between the first chamber 2 and the second chamber 3 through the communication opening 4A. The clean unit 9 is attached so that at least one part of the supplied clean air flows toward the conveyance mechanism through the communication opening 4A. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、クリーン環境下で部品等に対して作業を行うための生産装置に関する。   The present invention relates to a production apparatus for performing operations on parts and the like in a clean environment.

部材への異物の付着防止や製品内への異物混入防止といった製品品質維持対策のため、クリーン環境化で生産装置を稼働して製品を生産する場合がある。このとき、当該生産装置が設置されている部屋全体をクリーン環境にすることは、スペース面及びコスト面において弊害が多く、また作業者の労働環境の観点からも弊害がある。よって、部屋全体をクリーン化せずに、生産装置周りを局所的にクリーン化して生産が行われることが多い。   In order to maintain product quality such as preventing foreign matter from adhering to members and preventing foreign matter from entering the product, the production equipment may be operated in a clean environment to produce the product. At this time, making the entire room in which the production apparatus is installed a clean environment has many harmful effects in terms of space and cost, and is also harmful from the viewpoint of the worker's working environment. Therefore, production is often performed by locally cleaning around the production apparatus without cleaning the entire room.

局所クリーン化した生産装置内で組立を行う際には、クリーン環境を保つため洗浄された部材(部品)を供給する必要があるが、洗浄後の状態を保ったまま部材を供給するためには、密閉されクリーン化された容器内に入れて搬入し、さらにクリーン化された処理室を介さなければならない。   When assembling in a locally cleaned production device, it is necessary to supply cleaned parts (parts) in order to maintain a clean environment, but in order to supply parts while maintaining the state after cleaning. It must be carried in a sealed and clean container and passed through a clean processing chamber.

例えば特許文献1に記載の装置では、各工程を行う処理室がそれぞれクリーン化された状態で直列に接続されている。そして、洗浄された部品は下流側の処理室に影響を与えないように、供給のためだけの処理室に供給され、各処理室に順次搬送されていき、搬出のためだけの処理室から取り出される。
特開2003−302083号公報
For example, in the apparatus described in Patent Document 1, the processing chambers for performing each process are connected in series in a clean state. The cleaned parts are then supplied to the processing chambers only for supply so as not to affect the downstream processing chamber, and are sequentially transported to the processing chambers, and are taken out of the processing chambers only for unloading. It is.
JP 2003-302083 A

しかしながら、特許文献1に記載の装置では、局所クリーンエリア内の環境を維持し、製品の品質を維持するために、外環境との接点である洗浄された部品供給、および製品搬出用のためだけに独立してクリーン化された処理室を設置する必要があり、スペース面、コスト面、環境面で無駄が多いという問題がある。   However, in the apparatus described in Patent Document 1, in order to maintain the environment in the local clean area and maintain the quality of the product, it is only for supplying the cleaned parts that are the contact points with the outside environment and for carrying out the product. It is necessary to install a clean processing chamber independently, and there is a problem that there is a lot of waste in terms of space, cost, and environment.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、小型かつ低コストで構成でき、清浄でない部品等のワークを投入してもクリーン作業が可能な生産装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a production apparatus that can be configured in a small size and at a low cost and can perform a clean operation even when a work such as an unclean part is introduced. To do.

本発明は、カバーによって外気から遮断され、ワークに対してクリーン作業を行うための第1室と、隔壁によって前記第1室と仕切られて設けられ、前記第1室と前記第2室とを連通させる連通口から前記第1室に前記ワークを供給及び搬出するための第2室とを有する生産装置であって、前記第1室内に設置されて前記ワークに対して作業を行うロボットと、前記第1室に取り付けられ、前記第1室内に清浄な空気を供給するクリーンユニットと、前記第2室内に設けられた、前記ワークを洗浄するための洗浄部と、前記第2室内に設けられ、前記連通口を通って前記第1室と前記第2室との間で前記ワークを移動させる搬送機構とを備え、前記クリーンユニットは、供給された清浄な空気の少なくとも一部が、前記連通口を通って前記搬送機構に向かって流れていることを特徴とする。   The present invention is provided with a first chamber that is shielded from outside air by a cover and performs a clean operation on a workpiece, and is partitioned from the first chamber by a partition wall, and the first chamber and the second chamber are provided. A production apparatus having a second chamber for supplying and unloading the workpiece to and from the first chamber through a communication port to be communicated, the robot being installed in the first chamber and performing work on the workpiece; A clean unit attached to the first chamber for supplying clean air into the first chamber, a cleaning unit for cleaning the workpiece provided in the second chamber, and provided in the second chamber. A transfer mechanism that moves the workpiece between the first chamber and the second chamber through the communication port, and the clean unit is configured so that at least part of the supplied clean air is supplied with the communication. Through the mouth Characterized in that it flows toward the mechanism.

なお、本発明において「ワーク」とは、単独の部品、及び複数の部品が組み合わされた製品又は半製品を含む。   In the present invention, the “workpiece” includes a single part and a product or semi-finished product in which a plurality of parts are combined.

本発明の生産装置によれば、第2室内に供給されたワークが洗浄部で洗浄され、クリーンユニットから供給される清浄な空気が当てられながら搬送機構によって第1室に移動される。   According to the production apparatus of the present invention, the workpiece supplied into the second chamber is cleaned by the cleaning unit, and is moved to the first chamber by the transport mechanism while being applied with clean air supplied from the clean unit.

前記第2室は、前記第1室の下方に設けられており、前記クリーンユニットから前記搬送機構に向かって流れる空気がダウンフローとなっていてもよい。この場合、洗浄部で使用された洗浄液の気化物等がダウンフローによって装置外に排出され、第1室の清浄度をより良好に維持することができる。   The second chamber may be provided below the first chamber, and the air flowing from the clean unit toward the transport mechanism may be a downflow. In this case, the vaporized substance of the cleaning liquid used in the cleaning unit is discharged out of the apparatus by downflow, and the cleanliness of the first chamber can be maintained better.

前記洗浄部には、それぞれ独立して前記ワークの洗浄作業が可能な複数の洗浄ユニットが前記搬送機構に対向して配置されてもよい。この場合、より効率的に第1室へワークを搬送することができる。   In the cleaning unit, a plurality of cleaning units capable of cleaning the workpiece independently of each other may be arranged to face the transport mechanism. In this case, the workpiece can be transported to the first chamber more efficiently.

本発明の生産装置によれば、本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、小型かつ低コストで構成でき、清浄でないワークを投入してもクリーン作業が可能な生産装置を提供することができる。   According to the production apparatus of the present invention, the present invention has been made in view of the above problems, and a production apparatus that can be configured in a small size and at low cost and can perform a clean operation even when an unclean work is introduced. Can be provided.

本発明の一実施形態の生産装置について、図1から図4を参照して説明する。
図1は、本実施形態の生産装置1を示す斜視図である。図1に示すように、生産装置1は、上側の第1室2と、平坦な架台(隔壁)4で第1室2と仕切られた下側の第2室3と、生産装置1全体の動作制御を行なう制御部5とを備えている。
A production apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a perspective view showing a production apparatus 1 according to this embodiment. As shown in FIG. 1, the production apparatus 1 includes an upper first chamber 2, a lower second chamber 3 partitioned from the first chamber 2 by a flat frame (partition) 4, and the entire production apparatus 1. And a control unit 5 that performs operation control.

第1室2はワークWに対して組立、半田付け等の各種作業をクリーン環境下で行うための領域であり、ワークWに対して搬送や作業等を行うためのロボット6と、上記各種作業に必要な機構が搭載された複数の作業ユニット7とが、いずれも架台4上に設けられている。   The first chamber 2 is an area for performing various operations such as assembly and soldering on the workpiece W in a clean environment. The robot 6 for carrying the workpiece W and performing operations on the workpiece W and the above various operations. A plurality of work units 7 on which necessary mechanisms are mounted are all provided on the gantry 4.

ロボット6は公知の構成からなり、多関節型の作業アーム6Aを有する。作業アーム6Aの先端には、ワークWの搬送を行う作業ハンド6Bが着脱自在に装着されている。作業ハンド6Bは異なる形状のものが複数用意されており(不図示)、ワークWに対する作業内容に応じて、交換可能となっている。   The robot 6 has a known configuration and has an articulated work arm 6A. A work hand 6B for transporting the workpiece W is detachably attached to the tip of the work arm 6A. A plurality of work hands 6B having different shapes are prepared (not shown), and can be exchanged according to the work content of the work W.

作業ユニット7は、図示しないコネクタ等の接続部を有し、接続部を介して制御部5に接続されることによって、ワークWに対して自動で所定の作業を行う。接続部は着脱自在に構成されており、行う作業に応じて、架台4上の作業ユニット7を交換することができる。
なお、図1において、架台4上の作業ユニット7は、実際にはそれぞれ異なる形状を有するが、説明を理解しやすくするため、すべて同一形状に簡略化して示している。
The work unit 7 has a connection portion such as a connector (not shown) and is connected to the control portion 5 through the connection portion, thereby automatically performing a predetermined work on the workpiece W. The connecting portion is configured to be detachable, and the work unit 7 on the gantry 4 can be exchanged according to the work to be performed.
In FIG. 1, the work units 7 on the gantry 4 actually have different shapes, but all are simplified in the same shape for easy understanding of the description.

ロボット6及び作業ユニット7が設置された架台4上の空間は、カバー8で覆われている。すなわち、カバー8、架台4、及び背面側の制御部5によって、外気から遮断された第1室2が形成されている。カバー8の材料としては、樹脂やガラス等を作用することができ、中でも透明なものが第1室2の内部が視認できるためより好ましい。   A space on the gantry 4 where the robot 6 and the work unit 7 are installed is covered with a cover 8. That is, the first chamber 2 that is shielded from the outside air is formed by the cover 8, the gantry 4, and the control unit 5 on the back side. As a material of the cover 8, resin, glass, or the like can be used, and a transparent one is more preferable because the inside of the first chamber 2 can be visually recognized.

カバー8には、公知のクリーンユニット9が取り付けられており、第1室2内に清浄な空気を供給して第1室2内をクリーン環境に保持している。クリーンユニット9から供給される清浄な空気は、一部は後述する搬送機構10の移動経路である搬送経路に流れ込み、残りは、図示しない排気口から第1室2の外部に排出される。   A known clean unit 9 is attached to the cover 8, and clean air is supplied into the first chamber 2 to keep the first chamber 2 in a clean environment. Part of the clean air supplied from the clean unit 9 flows into a transfer path that is a transfer path of the transfer mechanism 10 described later, and the rest is discharged outside the first chamber 2 through an exhaust port (not shown).

図2は、第2室3の内部を破断して示す図であり、図3は、後述する洗浄ユニットの高さにおける第2室3の水平断面図である。図2に示すように、第2室3には、第1室2との間でワークWのやり取りを行うための搬送機構10と、搬送機構10に搬送される前にワークWの洗浄を行う洗浄ユニット(洗浄部)11A、11Bと、洗浄を行う前にワークWに対して前加工を行う加工ユニット12A、12Bとを備えている。   FIG. 2 is a diagram showing the interior of the second chamber 3 in a broken state, and FIG. 3 is a horizontal sectional view of the second chamber 3 at the height of the cleaning unit described later. As shown in FIG. 2, in the second chamber 3, the transfer mechanism 10 for exchanging the workpiece W with the first chamber 2, and the workpiece W is cleaned before being transferred to the transfer mechanism 10. Cleaning units (cleaning units) 11A and 11B and processing units 12A and 12B that perform pre-processing on the workpiece W before cleaning are provided.

搬送機構10は、ワークWが載置されるステージ13と、図示しないモータ等の駆動源とを備え、制御部5と接続されている。搬送機構10は、架台4に対して略垂直に上下移動を行って第1室2と第2室3との間でワークWの搬送を行う。   The transport mechanism 10 includes a stage 13 on which the workpiece W is placed and a drive source such as a motor (not shown), and is connected to the control unit 5. The transfer mechanism 10 moves up and down substantially vertically with respect to the gantry 4 to transfer the workpiece W between the first chamber 2 and the second chamber 3.

図1に示すように、搬送機構10は、ステージ13が架台4と同じ高さになったときにロボット6付近の架台4に設けられた連通口4Aに位置するように設置されている。そして、搬送機構10の周囲を囲むように設けられた側壁19(図3参照)によって、搬送機構10が第1室2と第2室3との間でワークWのやり取りを行う搬送経路が、架台4上の連通口4Aから略垂直下方に向かって形成されている。
クリーンユニット9はステージ13の上方に取り付けられており、クリーンユニット9からの清浄な空気がダウンフローとなって、上記搬送経路に流れ込むようになっている。
なお、図3を除く各図においては、図を見やすくするため、側壁19を示していない。
As shown in FIG. 1, the transport mechanism 10 is installed so as to be positioned at a communication port 4 </ b> A provided in the gantry 4 near the robot 6 when the stage 13 is at the same height as the gantry 4. And the conveyance path | route in which the conveyance mechanism 10 exchanges the workpiece | work W between the 1st chamber 2 and the 2nd chamber 3 by the side wall 19 (refer FIG. 3) provided so that the circumference | surroundings of the conveyance mechanism 10 might be enclosed, It is formed substantially vertically downward from the communication port 4A on the gantry 4.
The clean unit 9 is attached above the stage 13 so that clean air from the clean unit 9 flows down into the transport path.
In each drawing excluding FIG. 3, the side wall 19 is not shown in order to make the drawing easy to see.

図2及び図3に示すように、洗浄ユニット11A、11Bは、搬送機構10及び搬送経路に対向するように第2室3内に設置されている。洗浄ユニット11A、11Bは洗浄機構及び制御部5と接続されるための接続部(いずれも不図示)を有し、それぞれ独立してワークの洗浄作業を行うことが可能に構成されている。そして、制御部5の制御を受けて、それぞれ加工ユニット12A及び12Bから送られてきたワークWを溶剤等の洗浄液を用いて洗浄し、クリーン作業可能な状態にする。洗浄後のワークWは、ベルトコンベア等の移動機構14によって側壁19に設けられた穴(不図示)を通って搬送機構10のステージ13上に移動される。   As shown in FIGS. 2 and 3, the cleaning units 11 </ b> A and 11 </ b> B are installed in the second chamber 3 so as to face the transport mechanism 10 and the transport path. The cleaning units 11A and 11B have a connection portion (both not shown) for connection to the cleaning mechanism and the control unit 5, and are configured to be able to perform work cleaning work independently of each other. Then, under the control of the control unit 5, the workpieces W respectively sent from the processing units 12 </ b> A and 12 </ b> B are cleaned using a cleaning liquid such as a solvent so that a clean work can be performed. The cleaned workpiece W is moved onto the stage 13 of the transport mechanism 10 through a hole (not shown) provided in the side wall 19 by a moving mechanism 14 such as a belt conveyor.

なお、洗浄ユニット11A、11Bは、同一のものでもよいし、異なる洗浄機構や洗浄液を備えてそれぞれ異なるワークに対応する構成でもよい。また、各洗浄ユニットの接続部をコネクタ等の着脱自在な構造とすることによって、洗浄ユニットをワークに応じて交換可能な構成としてもよい。   The cleaning units 11A and 11B may be the same, or may have different cleaning mechanisms and cleaning liquids and correspond to different works. Moreover, it is good also as a structure which can replace | exchange a washing | cleaning unit according to a workpiece | work by making the connection part of each washing | cleaning unit a detachable structure, such as a connector.

加工ユニット12A、12Bは、図示しない前加工用の加工機構及び洗浄ユニットと同様の接続部を有し、制御部5と接続されて制御部5の制御を受けながら、投入されたワークWに対して所定の前加工を行う。前加工終了後のワークWは、図示しない移動機構によって洗浄ユニット11A、11Bに送られる。
なお、加工ユニット12A、12Bも、洗浄ユニット11A、11Bと同様に、同一のものでも、それぞれ異なる構成を有して異なる前加工を行うものでもよく、交換可能な構成とされても良い。
The processing units 12A and 12B have the same connecting portions as a pre-processing processing mechanism and a cleaning unit (not shown), and are connected to the control unit 5 and controlled by the control unit 5, Predetermined pre-processing. The workpiece W after completion of the pre-processing is sent to the cleaning units 11A and 11B by a moving mechanism (not shown).
The processing units 12A and 12B may be the same as the cleaning units 11A and 11B, or may have different configurations and perform different pre-processing, or may have a replaceable configuration.

図2に示すように、第2室3の外壁には、ワークWを投入するための第1扉15及び第2扉16と、第1室2での作業が終了した後のワークWが運び出されるためのワーク搬出口17が設けられている。   As shown in FIG. 2, the first door 15 and the second door 16 for loading the workpiece W and the workpiece W after the work in the first chamber 2 is carried out are carried to the outer wall of the second chamber 3. A work carry-out port 17 is provided.

図3に示すように、2箇所に設けられた第1扉15は、それぞれ加工ユニット12A、12Bにアクセスできる位置に設けられており、洗浄前に前加工が必要とされるワークの投入時に用いられる。同様に第2扉16はそれぞれ洗浄ユニット11A、11Bにつながる通路に設けられており、前加工を必要としないワークの投入時に用いられる。また、加工ユニットや洗浄ユニットを交換可能な構成とする場合は、それぞれ第1扉15及び第2扉16からユニットを挿入して第2室3内に設置しても良い。   As shown in FIG. 3, the first doors 15 provided at two locations are provided at positions where the processing units 12A and 12B can be accessed, respectively, and are used when a work that requires pre-processing before cleaning is loaded. It is done. Similarly, the second door 16 is provided in a passage connected to each of the cleaning units 11A and 11B, and is used when a workpiece that does not require pre-processing is loaded. When the processing unit and the cleaning unit are configured to be replaceable, the units may be inserted from the first door 15 and the second door 16 and installed in the second chamber 3, respectively.

ワーク搬出口17は、加工ユニット12A、12B及び洗浄ユニット12A、12Bとは異なる高さに設けられており、ワークWの搬出時以外は第3扉18によって閉じられている。第1室2での作業終了後のワークWは、搬送機構10によって搬出口17と同じ高さまで運ばれ、側壁19に設けられた穴(不図示)を通って図示しない移動機構によってワーク搬出口17に移動されて生産装置1の外部に搬出される。
なお、第3扉18を取り付けるのに代えて、次工程の作業を行う他の生産装置のワーク投入部とワーク搬出口17とが直接接続されてもよい。
The workpiece unloading port 17 is provided at a height different from that of the processing units 12A and 12B and the cleaning units 12A and 12B, and is closed by the third door 18 except when the workpiece W is unloaded. The work W after the completion of the work in the first chamber 2 is carried to the same height as the carry-out port 17 by the transport mechanism 10 and passes through a hole (not shown) provided in the side wall 19 by a moving mechanism (not shown). It is moved to 17 and carried out of the production apparatus 1.
In addition, it replaces with attaching the 3rd door 18, and the workpiece input part and the workpiece carry-out port 17 of the other production apparatus which perform the operation | work of a next process may be directly connected.

制御部5には、複数種類の製品及び部品の生産プログラムが格納されている。また、制御部5には、ユーザがワークの種類や指示する作業内容等の各種情報を制御部5に入力するための図示しない入力部が接続されている。制御部5は、図1に示すように、生産装置1に一体に組み込まれてもよいし、生産装置1に接続されたパソコン等の外部機器に格納されてもよい。   The control unit 5 stores production programs for a plurality of types of products and parts. The control unit 5 is connected to an input unit (not shown) for inputting various types of information such as the type of work and the work content instructed by the user to the control unit 5. As shown in FIG. 1, the control unit 5 may be integrated into the production apparatus 1 or may be stored in an external device such as a personal computer connected to the production apparatus 1.

上記のように構成された生産装置1の使用時の動作について、以下に説明する。
まず、ユーザは、作業に応じた作業ユニット7を第1室2内の架台4上に設置し、接続部を介して制御部5と接続する。同様に、洗浄ユニット11A、11B、及び加工ユニット12A、12Bについても適宜選択して第2室3内に設置し、接続部を介して制御部5と接続する。
The operation at the time of using the production apparatus 1 configured as described above will be described below.
First, the user installs the work unit 7 corresponding to the work on the gantry 4 in the first chamber 2 and connects to the control unit 5 through the connection unit. Similarly, the cleaning units 11A and 11B and the processing units 12A and 12B are also appropriately selected and installed in the second chamber 3, and connected to the control unit 5 through the connection unit.

接続が終わったら、ユーザは生産装置1を起動する。クリーンユニット9が作動し、第1室2内の空気を清浄にして作業の準備をする。クリーンユニット9はワークWに対する作業中も動作を継続し、クリーン環境を保持する。また、クリーンユニット9から下方に向かって供給されるダウンフローの一部は直接搬送機構10のステージ13に向かって流れ、搬送経路にそって第2室3内にも流れ込む。   When the connection is completed, the user activates the production apparatus 1. The clean unit 9 operates to clean the air in the first chamber 2 and prepare for work. The clean unit 9 continues to operate during work on the workpiece W and maintains a clean environment. A part of the downflow supplied downward from the clean unit 9 flows directly toward the stage 13 of the transport mechanism 10 and also flows into the second chamber 3 along the transport path.

並行して、制御部5は、接続された作業ユニット7、洗浄ユニット11A、11B、及び加工ユニット12A、12Bの種別及び位置を認識する。ユーザは、各ユニットを使用して行う工程の順番等の作業に必要な各種情報を、入力部(不図示)を介して制御部5に入力する。   In parallel, the control unit 5 recognizes the types and positions of the connected work unit 7, cleaning units 11A and 11B, and processing units 12A and 12B. The user inputs various information necessary for work such as the order of steps performed using each unit to the control unit 5 via an input unit (not shown).

各種情報の入力後、ユーザはワークWを第1扉15又は第2扉16から加工ユニット12A、12B又は洗浄ユニット11A、11Bに投入する。第1扉15、第2扉16のいずれから投入するか、及びそれぞれ2箇所ある扉のいずれから投入するかは、前加工の有無や、前加工の内容、及び洗浄方法等によって適宜選択される。
また、これに代えて、ワークWを入れた加工ユニット又は洗浄ユニットを第2室3内に設置することによって、これらのユニットの設置とワークWの投入を同じタイミングで行ってもよい。
After inputting various information, the user inputs the workpiece W from the first door 15 or the second door 16 into the processing units 12A and 12B or the cleaning units 11A and 11B. Which of the first door 15 and the second door 16 is to be inserted and which of the two doors is to be inserted are appropriately selected depending on the presence or absence of the pre-processing, the content of the pre-processing, the cleaning method, and the like. .
Alternatively, by installing a processing unit or a cleaning unit containing the workpiece W in the second chamber 3, the installation of these units and the loading of the workpiece W may be performed at the same timing.

加工ユニット12A、12Bに投入されたワークWは、ユニット内で制御部5の制御に基づいて所定の前加工を施され、図示しない移動機構によって隣接する洗浄ユニット11A、11Bに送られる。   The workpiece W input into the processing units 12A and 12B is subjected to predetermined pre-processing based on the control of the control unit 5 in the unit, and is sent to the adjacent cleaning units 11A and 11B by a moving mechanism (not shown).

加工ユニット12A、12Bから送られて来たワークW、及び直接洗浄ニット11A、11Bに投入されたワークWは、洗浄ユニット11A、11B内で、制御部5の制御に基づいて所定の洗浄を施され、第1室2内のクリーン環境を汚染しない程度に清浄な状態となる。そして、移動機構14によって、図2に示すように、搬送機構10のステージ13上に移動される。   The workpiece W sent from the processing units 12A and 12B and the workpiece W directly fed to the cleaning units 11A and 11B are subjected to predetermined cleaning in the cleaning units 11A and 11B based on the control of the control unit 5. As a result, the clean environment in the first chamber 2 is clean enough not to be contaminated. Then, it is moved onto the stage 13 of the transport mechanism 10 by the moving mechanism 14 as shown in FIG.

ステージ13上にワークWが載置されると、搬送機構10は制御部5の制御によって上方に移動し、ワークWが第1室2に向かって移動する。移動中、ステージ13上のワークWには、クリーンユニット9からのダウンフローが絶えず当たるため、ワークWの表面に洗浄ユニット内で付着した洗浄液等が残留していても、迅速に乾燥される。また、ワークW周囲の気化した洗浄液等もダウンフローによって搬送経路の下方に押し流され、第1室2内に進入することが防止される。   When the workpiece W is placed on the stage 13, the transport mechanism 10 moves upward under the control of the control unit 5, and the workpiece W moves toward the first chamber 2. During the movement, since the down flow from the clean unit 9 is constantly applied to the work W on the stage 13, even if the cleaning liquid or the like adhering in the cleaning unit remains on the surface of the work W, it is quickly dried. Further, the vaporized cleaning liquid and the like around the work W are prevented from flowing into the first chamber 2 by being downflowed by the downflow.

図4に示すように、ワークWが載置されたステージ13が架台4上まで移動してくると、ロボット6は、制御部5の制御によって、図1に示すように、作業ハンド6Bを用いてワークWを把持する。そして、入力部から入力された情報にもとづいて、適宜作業ハンド6Bを交換しながら、所定の順序で各作業ユニット7を用いて、ワークWに対して各工程における作業を行う。   As shown in FIG. 4, when the stage 13 on which the workpiece W is placed moves to the gantry 4, the robot 6 uses the work hand 6 </ b> B as shown in FIG. 1 under the control of the control unit 5. To grip the workpiece W. Then, based on the information input from the input unit, work in each process is performed on the work W using the work units 7 in a predetermined order while appropriately replacing the work hands 6B.

第1室における工程が終了した後、ロボット6はワークWを把持してステージ13に載置する。ステージ13はワーク搬出口17と略同等の高さまで下降し、ワークWは図示しない移動機構によって移動させられてワーク搬出口17から搬出される。
なお、これに代えて、第3扉18付近に内部のクリーン環境を保持できる搬出用容器を設置し、移動機構が当該搬出用容器内にワークWを移動させ、ユーザが第3扉18を開けて搬出用容器を取り出すように生産装置1が構成されてもよい。
After the process in the first chamber is completed, the robot 6 grips the workpiece W and places it on the stage 13. The stage 13 is lowered to a height substantially equal to the workpiece carry-out port 17, and the workpiece W is moved by a moving mechanism (not shown) and carried out from the workpiece carry-out port 17.
Instead of this, an unloading container capable of maintaining an internal clean environment is installed near the third door 18, the moving mechanism moves the workpiece W into the unloading container, and the user opens the third door 18. The production apparatus 1 may be configured to take out the unloading container.

また、多数のワークWに対して作業が行われる場合は、2つの洗浄ユニット11A、11Bを用いてワークWの洗浄を行い、洗浄後のワークWを交互に搬送機構10に移動させて作業を行ってもよい。このようにすると、あるワークWが第1室2内で作業を施されている間に、次のワークWの洗浄を行うことができるので、多数のワークに対してより効率よく作業を行うことができる。   When work is performed on a large number of workpieces W, the workpieces W are cleaned using the two cleaning units 11A and 11B, and the cleaned workpieces W are alternately moved to the transport mechanism 10 to perform the operations. You may go. In this way, the next workpiece W can be cleaned while a certain workpiece W is being worked in the first chamber 2, so that a larger number of workpieces can be worked more efficiently. Can do.

本実施形態の生産装置1によれば、清浄状態でないワークWを投入すると、洗浄ユニット11A、11Bで第1室2内のクリーン環境を汚染しない程度に洗浄が行われ、クリーンユニット9から供給される清浄な空気のダウンフローを受けながら、搬送機構10によってクリーン環境である第1室2内に移動される。したがって、ワーク搬出入のためのクリーン環境等を別に設ける必要がなく、低コスト、低スペースでクリーン作業が行える生産装置を構成することができる。   According to the production apparatus 1 of this embodiment, when a workpiece W that is not in a clean state is input, the cleaning units 11A and 11B perform cleaning to such an extent that the clean environment in the first chamber 2 is not contaminated, and are supplied from the clean unit 9. While being subjected to a downflow of clean air, the transfer mechanism 10 moves the first chamber 2 into a clean environment. Therefore, it is not necessary to provide a separate clean environment for loading and unloading workpieces, and a production apparatus that can perform clean work at low cost and in a small space can be configured.

また、クリーンユニット9が搬送経路の開口部である連通口4Aの上方に設置されているので、クリーンユニット9に風向を調節するための特別な機構を設けなくても、清浄な空気がダウンフローとなって連通口4Aから第2室3内に流れ込む。したがって、簡素な構成で、第2室3の汚れ等が第1室2内に進入することを防止し、第1室2内のクリーン環境を良好に保持することができる。   In addition, since the clean unit 9 is installed above the communication port 4A that is the opening of the transport path, clean air can flow down without providing a special mechanism for adjusting the air direction in the clean unit 9. And flows into the second chamber 3 from the communication port 4A. Therefore, it is possible to prevent dirt and the like in the second chamber 3 from entering the first chamber 2 with a simple configuration, and to keep the clean environment in the first chamber 2 well.

さらに、クリーンユニット9から供給される清浄な空気が、第1室2及び第2室3に流れるので、1つのクリーンユニット9で第1室2及び第2室3の清浄度管理を行うことができる。したがって、クリーン作業が可能な生産装置1をより低コストで構成することができる。   Furthermore, since clean air supplied from the clean unit 9 flows into the first chamber 2 and the second chamber 3, the cleanliness management of the first chamber 2 and the second chamber 3 can be performed by one clean unit 9. it can. Therefore, the production apparatus 1 capable of performing a clean operation can be configured at a lower cost.

さらに、第2室3内には前加工を行う加工ユニット12A、12Bが配置されているので、クリーン環境に影響を与えるために第1室2内では行えないような前加工(例えば、ワークの稜部のバリ除去で粉塵が発生する研磨加工や、ワークへの印字や模様の刻印の際にガスが発生するレーザ加工等)を必要とするワークWであっても、投入するだけで前加工に続いて洗浄が行われ、クリーン作業可能な状態で第1室に送られる。したがって、生産工程をスムーズに進めることができる。   Furthermore, since the processing units 12A and 12B for performing the pre-processing are arranged in the second chamber 3, pre-processing (for example, workpieces that cannot be performed in the first chamber 2 in order to affect the clean environment). Even workpiece W that requires grinding processing that generates dust when removing burrs from the edge, laser processing that generates gas when printing or engraving patterns on the workpiece, etc., is simply pre-processed Subsequently, cleaning is performed, and the product is sent to the first chamber in a state where it can be cleaned. Therefore, the production process can proceed smoothly.

以上、本発明の一実施形態を説明したが、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。   Although one embodiment of the present invention has been described above, the technical scope of the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

例えば、上述の実施形態においては、ロボット6として多関節ロボットが使用される例を説明したが、ワークWの搬送やワークWに対する作業を直交する動きのみによって構成すれば、多関節ロボットに代えて、xyzの直交ロボットを用いてもよい。またロボットの台数も1台に限定されず、複数台用いてもよい。   For example, in the above-described embodiment, an example in which an articulated robot is used as the robot 6 has been described. Xyz orthogonal robots may be used. The number of robots is not limited to one, and a plurality of robots may be used.

また、上述の実施形態においては、搬送経路が開口する連通口4Aの上方にクリーンユニット9が取り付けられた例を説明したが、クリーンユニット9と搬送経路との位置関係はこれには限定されず、クリーンユニット9から供給される清浄な空気の流れの下流に搬送経路が位置していればよい。
例えば、第1室と第2室が隔壁で仕切られて水平に並んでおり、当該隔壁に搬送経路の端部が連通口として開通している生産装置であれば、当該連通口に向かってクリーンユニットからの清浄な空気が流れ込むようにさえすれば、クリーンユニットの設置位置は特に限定されない。このような場合は、第1室内における全体的な空気循環もあわせて考慮した上でクリーンユニットの設置位置を適宜決定すればよい。
In the above-described embodiment, the example in which the clean unit 9 is attached above the communication port 4A where the transport path opens is described. However, the positional relationship between the clean unit 9 and the transport path is not limited to this. The transport path only needs to be positioned downstream of the flow of clean air supplied from the clean unit 9.
For example, if the production chamber has a first chamber and a second chamber that are partitioned by a partition wall and are arranged horizontally, and the end of the transport path is opened as a communication port in the partition wall, clean toward the communication port. As long as clean air from the unit flows in, the installation position of the clean unit is not particularly limited. In such a case, the installation position of the clean unit may be appropriately determined in consideration of the overall air circulation in the first chamber.

さらに、上述の実施形態では、生産装置の使用時に洗浄ユニットが取り付けられる例を説明したが、洗浄方式等が多岐にわたらない場合は、予め制御部と接続された状態で第2室内に設置されたいわゆる据付の状態であってもよい。   Furthermore, in the above-described embodiment, the example in which the cleaning unit is attached when the production apparatus is used has been described. However, when the cleaning method is not diverse, it is installed in the second chamber in a state of being connected to the control unit in advance. It may be in a so-called installation state.

本発明の一実施形態の生産装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the production apparatus of one Embodiment of this invention. 同生産装置を一部破断して示す図である。It is a figure which shows the production apparatus partially broken. 同生産装置の第2室の、洗浄ユニットの高さにおける水平断面図である。It is a horizontal sectional view in the height of a washing unit of the 2nd chamber of the same production device. 同生産装置を一部破断して示す図である。It is a figure which shows the production apparatus partially broken.

符号の説明Explanation of symbols

1 生産装置
2 第1室
3 第2室
4 架台(隔壁)
4A 連通口
6 ロボット
8 カバー
9 クリーンユニット
10 搬送機構
11A、11B 洗浄ユニット(洗浄部)
W ワーク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Production apparatus 2 1st chamber 3 2nd chamber 4 Stand (partition wall)
4A Communication port 6 Robot 8 Cover 9 Clean unit 10 Transport mechanism 11A, 11B Cleaning unit (cleaning unit)
W Work

Claims (3)

カバーによって外気から遮断され、ワークに対してクリーン作業を行うための第1室と、隔壁によって前記第1室と仕切られて設けられ、前記第1室と前記第2室とを連通させる連通口から前記第1室に前記ワークを供給及び搬出するための第2室とを有する生産装置であって、
前記第1室内に設置されて前記ワークに対して作業を行うロボットと、
前記第1室に取り付けられ、前記第1室内に清浄な空気を供給するクリーンユニットと、
前記第2室内に設けられた、前記ワークを洗浄するための洗浄部と、
前記第2室内に設けられ、前記連通口を通って前記第1室と前記第2室との間で前記ワークを移動させる搬送機構と、
を備え、
前記クリーンユニットは、供給された清浄な空気の少なくとも一部が、前記連通口を通って前記搬送機構に向かって流れるように取り付けられていることを特徴とする生産装置。
A first chamber that is shielded from outside air by a cover and performs a clean operation on a work, and a communication port that is provided to be separated from the first chamber by a partition and communicates the first chamber and the second chamber A production apparatus having a second chamber for feeding and unloading the workpiece from the first chamber,
A robot installed in the first chamber and performing work on the workpiece;
A clean unit attached to the first chamber for supplying clean air into the first chamber;
A cleaning unit provided in the second chamber for cleaning the workpiece;
A transport mechanism that is provided in the second chamber and moves the workpiece between the first chamber and the second chamber through the communication port;
With
The production apparatus, wherein the clean unit is attached so that at least a part of supplied clean air flows toward the transport mechanism through the communication port.
前記第2室は、前記第1室の下方に設けられており、前記クリーンユニットから前記搬送機構に向かって流れる空気がダウンフローとなっていることを特徴とする請求項1に記載の生産装置。   2. The production apparatus according to claim 1, wherein the second chamber is provided below the first chamber, and air flowing from the clean unit toward the transfer mechanism is downflowed. . 前記洗浄部には、それぞれ独立して前記ワークの洗浄作業が可能な複数の洗浄ユニットが、前記搬送機構に対向して配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の生産装置。   The production apparatus according to claim 1, wherein a plurality of cleaning units capable of cleaning the workpiece independently of each other are disposed in the cleaning unit so as to face the transport mechanism. .
JP2008036386A 2008-02-18 2008-02-18 Production apparatus Pending JP2009192201A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008036386A JP2009192201A (en) 2008-02-18 2008-02-18 Production apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008036386A JP2009192201A (en) 2008-02-18 2008-02-18 Production apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009192201A true JP2009192201A (en) 2009-08-27

Family

ID=41074377

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008036386A Pending JP2009192201A (en) 2008-02-18 2008-02-18 Production apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009192201A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT511898A1 (en) * 2011-09-12 2013-03-15 Tms Transport Und Montagesysteme Gmbh CLEANING MACHINE FOR CLEANING INDUSTRIALALLY CREATED COMPONENTS
CN103681247A (en) * 2013-12-30 2014-03-26 上海集成电路研发中心有限公司 Wafer reaction chamber cleaning device

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63267612A (en) * 1987-04-24 1988-11-04 Shin Meiwa Ind Co Ltd Elevating device
JPH03177732A (en) * 1989-12-07 1991-08-01 N M B Semiconductor:Kk Dust-free manufacturing system for semiconductor
JPH07180871A (en) * 1993-12-22 1995-07-18 Sony Corp Multi-storied clean room
JPH09264575A (en) * 1996-03-28 1997-10-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacturing device and cleaning method
JP2000085963A (en) * 1998-09-16 2000-03-28 Shin Meiwa Ind Co Ltd Clean working device
JP2000159459A (en) * 1998-11-24 2000-06-13 Mitsubishi Electric Corp Loading device and loading method for clean room
JP2000161735A (en) * 1998-11-24 2000-06-16 Sharp Corp Cleaning device
JP2003130413A (en) * 2001-10-26 2003-05-08 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Clean room device
JP2007333300A (en) * 2006-06-15 2007-12-27 Ricoh Co Ltd Micro-part manufacturing device and manufacturing method, and liquid spray head manufactured thereby

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63267612A (en) * 1987-04-24 1988-11-04 Shin Meiwa Ind Co Ltd Elevating device
JPH03177732A (en) * 1989-12-07 1991-08-01 N M B Semiconductor:Kk Dust-free manufacturing system for semiconductor
JPH07180871A (en) * 1993-12-22 1995-07-18 Sony Corp Multi-storied clean room
JPH09264575A (en) * 1996-03-28 1997-10-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacturing device and cleaning method
JP2000085963A (en) * 1998-09-16 2000-03-28 Shin Meiwa Ind Co Ltd Clean working device
JP2000159459A (en) * 1998-11-24 2000-06-13 Mitsubishi Electric Corp Loading device and loading method for clean room
JP2000161735A (en) * 1998-11-24 2000-06-16 Sharp Corp Cleaning device
JP2003130413A (en) * 2001-10-26 2003-05-08 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Clean room device
JP2007333300A (en) * 2006-06-15 2007-12-27 Ricoh Co Ltd Micro-part manufacturing device and manufacturing method, and liquid spray head manufactured thereby

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT511898A1 (en) * 2011-09-12 2013-03-15 Tms Transport Und Montagesysteme Gmbh CLEANING MACHINE FOR CLEANING INDUSTRIALALLY CREATED COMPONENTS
WO2013037709A1 (en) 2011-09-12 2013-03-21 Tms Transport- Und Montagesysteme Gmbh Cleaning machine for cleaning industrially produced components
AT15316U1 (en) * 2011-09-12 2017-06-15 Tms Transport- Und Montagesysteme Gmbh Cleaning machine for cleaning industrially manufactured components
CN103681247A (en) * 2013-12-30 2014-03-26 上海集成电路研发中心有限公司 Wafer reaction chamber cleaning device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7226701B2 (en) container handling system
US20170297196A1 (en) Working robot and working system
JPWO2016027325A1 (en) Machining system
JP2009131908A (en) Automatic manufacturing system
JP2009172689A (en) Production device and production system
CN101663098B (en) Working apparatus, and cover for the working apparatus
CN105935793A (en) Engraving and milling machine and control method thereof
JP6312717B2 (en) Substrate transport device and substrate-to-substrate working system including the same
JP2018118351A (en) Processing system comprising robot for carrying out article after processing, and method for carrying out article
JP2009192201A (en) Production apparatus
KR20190063949A (en) rotor assembly manufacturing and welding device
TW201347074A (en) Carrier device
KR20200001116U (en) Washing machine, and method of washing and drying object
JP2008289988A (en) Gantry type working apparatus
JP2010101526A (en) Production equipment
TWI514456B (en) Substrate processing apparatus
JP3852570B2 (en) Clean room equipment
CN206939874U (en) Clamping device
JPWO2016027327A1 (en) Machining center
JP2019102571A (en) Substrate transfer system, substrate processing apparatus, and hand position adjustment method
JP6601360B2 (en) Goods transport equipment
JP2022062858A (en) Setup station
EP4078664B1 (en) Core module for semiconductor production facility machinery
CN205733344U (en) A kind of cleaning device on Full-automatic tin soldering machine
JP2007171730A (en) Reticle cleaning device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101208

A977 Report on retrieval

Effective date: 20120308

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120410

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120814