JP2009188344A - ミリング装置及びミリング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板Sには、基板Sの加工面に対して略直交する方向に沿って、ラジカル源3からラジカルが供給され、基板Sの加工面に対して略並行な方向に沿って、中性粒子ビーム源4から中性粒子ビームNBが照射される。これにより、複数の材料から構成されている基板Sを加工する際に、基板Sのうち物理エッチングに対する耐性が低い材料が用いられている箇所を、ラジカルによって基板Sの加工面から略直交する方向に削りすぎることなく、物理エッチングに対する耐性が高い材料を削ることができる。さらに、化学的に安定した材料が用いられている箇所を中性粒子ビームNBによる物理エッチングによって補助的に加工することができる。よって、ラジカルによる加工量の偏りを中性ネオンビームNBによって補完し、基板Sの加工面を平らにすることができる。
【選択図】図4(b)
Description
2 処理室
3 ラジカル源
4 中性粒子ビーム源
7 制御装置
21 真空ポンプ
21A 排気バルブ
22 基板ホルダ
22A 本体部
22B ホルダ軸
22C 基板保持部
22D ホルダモータ
22E、32A、42A 高周波電源
22F、32B、42B 整合器
31、41 放電容器
31a、41a 開口
31b、41b 原料ガス供給口
32、42 コイル
33 グリッド
33A、44A、45A、49A、50A、51A 直流電源
41 放電容器
43 引出電極
44 スクリーングリッド
45 加速グリッド
46 減速グリッド
47 中性化容器
47a 入口側開口
47b 出口側開口
48 リターディング電極
49 減速防止グリッド
50 反発グリッド
51 調整グリッド
61 希ガス供給装置
62 分子ガス供給装置
63A、63B、64A、64B バルブ
IP イオン粒子
NB 中性粒子ビーム
PN、PR プラズマ
R ラジカル
S 基板
Claims (8)
- 処理室と、
前記処理室内に配置され、被加工物を保持する被加工物ホルダと、
前記被加工物の加工面に対して略直交する方向に沿って、ラジカルを前記被加工物の加工面へ供給可能なラジカル源と、
前記被加工物の加工面に対して略平行な方向に沿って、中性粒子ビームを前記被加工物に照射可能な中性粒子ビーム源と、を備えることを特徴とするミリング装置。 - 前記中性粒子ビーム源は、前記被加工物の加工面に対して平行な方向に沿って、中性粒子ビームを前記被加工物に照射することを特徴とする請求項1に記載のミリング装置。
- 前記中性粒子ビームは、アルゴンよりも原子量の小さい不活性元素を原料とすることを特徴とする請求項1又は2に記載のミリング装置。
- 前記中性粒子ビームは、イオン粒子と中性粒子とを混合させたビームであることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれかに記載のミリング装置。
- 前記ラジカル源は、
プラズマを生成するイオン源と、
前記処理室と前記イオン源との間に配置され、前記イオン源において生成されたプラズマからイオン粒子を放出するグリッドとを備えることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれかに記載のミリング装置。 - 請求項1に記載のミリング装置において、
被加工物を処理室内に配置する配置工程と、
前記被加工物の加工面に対して略直交する方向に沿って、前記ラジカル源から前記被加工物の加工面へラジカルを供給し、同時に、前記被加工物の加工面に対して略平行な方向に沿って、前記中性粒子ビーム源から前記被加工物へ中性粒子ビームを照射する加工工程と、を備えることを特徴とするミリング方法。 - 請求項1に記載のミリング装置において、
被加工物を処理室内に配置する配置工程と、
前記被加工物の加工面に対して略直交する方向に沿って、前記ラジカル源から前記被加工物の加工面へラジカルを供給するラジカル供給工程と、
前記ラジカル供給工程の後に、前記被加工物の加工面に対して略平行な方向に沿って、前記中性粒子ビーム源から前記被加工物へ中性粒子ビームを照射するビーム照射工程と、を備えることを特徴とするミリング方法。 - 請求項1に記載のミリング装置において、
被加工物を処理室内に配置する配置工程と、
前記被加工物の加工面に対して略平行な方向に沿って、前記中性粒子ビーム源から前記被加工物へ中性粒子ビームを照射するビーム照射工程と、
前記ビーム照射工程の後に、前記被加工物の加工面に対して略直交する方向に沿って、前記ラジカル源から前記被加工物の加工面へラジカルを供給するラジカル供給工程と、を備えることを特徴とするミリング方法。
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